KR102221419B1 - Continuous electro-polishing apparatus - Google Patents

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KR102221419B1
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인하대학교 산학협력단
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Abstract

본 발명에 따른 전해가공장치는, 전원공급부로부터 양의 전압을 인가받는 가공물을 전해액에 침지시켜 가공하는 전해 가공장치에 있어서, 상기 가공물의 일측에 이격되어 설치되고, 상기 전원공급부로부터 음의 전압을 인가받아 상기 가공물을 가공하는 전극부; 상기 전극부의 일측에 연결되고, 상기 전극부를 상기 가공물의 일측면에 맞닿도록 이송시키는 이송부; 및 상기 이송부의 일측에 설치되어, 상기 이송부를 통해 상기 전극부와 연결되며, 상기 전극부를 상기 가공물로부터 기 설정된 가공간극 만큼 이격시키는 간극제어부를 포함한다.
본 발명에 따른 연속 전해연마장치에 의하면, 롤투롤 방식으로 금속박판이 이송되어 기계가공, 전해연마, 세정, 건조공정을 하나의 장치에서 연속적으로 수행할 수 있어, 공정효율을 향상시킬 수 있다. 또한 펀칭 가공된 금속박판을 전해가공함으로써 발생된 미세 버를 효과적으로 제거 가능하며 금속박판의 표면상태가 개선되어 제품의 품질이 향상될 수 있으며, 금속박판이 이송되는 과정 중에 전해연마가 가능하여 가공효율이 향상될 수 있다. 더불어 전극이송부가 속도제어부와 길이제어부 통하여 제어됨으로써, 금속박판의 전해연마 공정이 최적시간동안 유지되도록 조절가능하여 가공효율을 증대시킬 수 있다. In the electrolytic processing apparatus according to the present invention, in the electrolytic processing apparatus for processing by immersing a workpiece to which a positive voltage is applied from a power supply unit in an electrolyte solution, An electrode unit that receives the application and processes the workpiece; A transfer part connected to one side of the electrode part and transferring the electrode part to abut one side surface of the workpiece; And a gap control part installed on one side of the transfer part, connected to the electrode part through the transfer part, and spaced apart the electrode part by a preset machining gap from the workpiece.
According to the continuous electrolytic polishing apparatus according to the present invention, the metal thin plate is transferred in a roll-to-roll manner to continuously perform machining, electrolytic polishing, cleaning, and drying processes in one apparatus, thereby improving process efficiency. In addition, the fine burrs generated by electrolytic processing of the punched metal sheet can be effectively removed, the surface condition of the metal sheet is improved, and the quality of the product can be improved. This can be improved. In addition, since the electrode transfer unit is controlled through the speed control unit and the length control unit, it is possible to adjust the electrolytic polishing process of the metal thin plate to be maintained for an optimum time, thereby increasing the processing efficiency.

Figure R1020180157100
Figure R1020180157100

Description

연속 전해연마장치{Continuous electro-polishing apparatus} Continuous electro-polishing apparatus

본 발명은 전기분해를 이용하여 연마하는 전해연마장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 금속박판을 기계 가공 후 전해연마하여 미세 버를 제거하고, 표면상태를 개선시킬 수 있는 연속 전해연마장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electrolytic polishing apparatus for polishing using electrolysis, and more particularly, to a continuous electrolytic polishing apparatus capable of removing fine burrs by electrolytic polishing after machining a thin metal plate and improving the surface condition. .

일반적으로 전기화학가공(Electrochemical Machining)은 전기 화학적 용해를 이용하여 금속재료를 가공하는 방법으로, 전기화학가공에는 전해가공, 전해연마 등이 있다. In general, electrochemical machining is a method of processing metal materials using electrochemical dissolution, and electrochemical processing includes electrolytic processing and electropolishing.

상기한 전기화학가공 중, 전해연마는 전기분해를 이용한 금속연마방법으로, 전도체인 가공물에 양의 전압을 인가하고, 전극부에 음의 전압을 인가하며, 가공물과 전극부 사이에 전해액을 유입하여 가공물을 표면 연마한다. 즉 가공물과 전극부 사이에 전해액을 유입시키고, 전극부와 가공물 사이에 전해액이 유입된 상태에서 전극부와 가공물에 전압을 인가하면, 전기화학적 작용을 통해 가공물의 미소 돌출부위를 우선적으로 용해시킴으로써 가공물의 연마면에 평활과 광택을 부여되도록 표면연마가능하다. Among the electrochemical processing described above, electrolytic polishing is a metal polishing method using electrolysis. A positive voltage is applied to a workpiece that is a conductor, a negative voltage is applied to the electrode, and an electrolyte is introduced between the workpiece and the electrode. Polish the surface of the workpiece. In other words, if an electrolyte is introduced between the workpiece and the electrode, and voltage is applied to the electrode and the workpiece while the electrolyte is flowing between the electrode and the workpiece, the workpiece is preferentially dissolved through the electrochemical action to dissolve the microprotrusions of the workpiece. The surface can be polished to give smoothness and gloss to the polished surface.

한편, 일반적으로 금속 박판은 기계적 가공방식인 펀칭가공으로 홀 및 형상을 제작한다. 하지만, 펀칭가공 후 금속 박판에는 펀칭 금형의 반대측에 미세 버가 발생하게 되며, 상기한 미세 버는 제품의 품질저하를 야기시킨다. 상기 금속박판에 발생한 미세 버는 상기한 전해연마 또는 화학적 식각 방식 등을 통하여 제거할 수 있다.On the other hand, in general, a thin metal plate is made of holes and shapes by punching, which is a mechanical processing method. However, after the punching process, fine burrs are generated on the opposite side of the punching mold on the thin metal plate, and the above-described fine burrs cause deterioration in product quality. The fine burr generated on the metal thin plate may be removed through the electrolytic polishing or chemical etching method described above.

상기한 바와 같은 전해연마를 이용한 표면처리장치에 관한 기술로는 대한민국 등록특허 제 10-1696144호가 개시되어 있다.Korean Patent Registration No. 10-1696144 is disclosed as a technology related to a surface treatment apparatus using electrolytic polishing as described above.

하지만, 종래의 전해연마 장치는, 금속박판을 전해연마하기 위하여 금속박판을 전해조에 침지시킨 후 일정시간이 지난 뒤 꺼내는 과정을 수행하게 되며, 전해연마가 완료된 금속박판은 세정 및 건조과정을 위하여 각각의 공정단계로 이동하게 된다. 즉 종래의 전해연마장치는 기계가공공정, 전해연마공정, 세정공정 및 건조공정이 각각의 개별적인 장치에서 수행되도록 구성된 바, 금속박판을 각각의 공정기계로 전달시키는 과정을 필요로 하여 이송과정에 시간이 소요되어 공정효율이 저하된다는 단점이 있다.However, in the conventional electrolytic polishing apparatus, the metal thin plate is immersed in an electrolytic bath in order to electrolytically polish the metal thin plate and then removed after a certain period of time. It moves to the process stage of. That is, the conventional electrolytic polishing apparatus is configured to perform the machining process, electropolishing process, cleaning process, and drying process in each individual apparatus. As it requires the process of transferring the thin metal plate to each process machine, the transfer process is time-consuming. There is a disadvantage in that the process efficiency is lowered due to the consumption.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창출된 것으로, 기계가공, 전해연마, 세정, 건조공정을 하나의 장치에서 연속적으로 수행함으로써 공정효율이 향상된 연속 전해연마장치를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention was created to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a continuous electrolytic polishing apparatus with improved process efficiency by continuously performing machining, electrolytic polishing, cleaning, and drying processes in one apparatus. .

상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 연속 전해연마장치는 금속박판에 펀칭가공하는 펀칭가공부; 상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 롤러를 통해 전해조로 이송시키며, 상기 롤러에 양극이 연결되고 전해조에 음극이 연결되어 금속박판을 전해연마하는 전해연마부; 상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 세정하는 초음파세정부; 및 상기 초음파세정부로부터 금속박판을 전달받아 건조시키는 건조부를 포함한다.The continuous electrolytic polishing apparatus according to the present invention for achieving the above object comprises: a punching processing unit for punching a metal thin plate; An electrolytic polishing unit receiving the metal thin plate from the punching processing unit and transferring the metal sheet to the electrolytic bath through a roller, and an anode connected to the roller and a cathode connected to the electrolytic bath to electrolytically polish the metal sheet; An ultrasonic cleaning unit receiving and cleaning the metal thin plate from the electrolytic polishing unit; And a drying unit receiving and drying the thin metal plate from the ultrasonic cleaning unit.

여기서 상기 전해연마부는, 내부공간이 형성되어 전해액이 수용되는 전해조와, 상기 전해조 내에 침지되어 음극에 연결되는 음극재와, 상기 음극재와 이격되어 배치되고, 상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 내부로 이동시키며, 양극에 연결되는 전극이송부를 포함할 수 있다.Herein, the electrolytic polishing unit includes an electrolytic bath in which an internal space is formed to receive an electrolyte, a negative electrode material immersed in the electrolytic bath and connected to a negative electrode, and a negative electrode material disposed spaced apart from the negative electrode material, and receiving a metal thin plate from the punching part. It moves to the inside of the electrolytic cell and may include an electrode transfer unit connected to the anode.

또한 상기 전극이송부는, 일측에서 상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 내부로 이송하는 제 1이송롤러와, 상기 전해조 내에 구비되어, 상기 제 1이송롤러로부터 금속박판을 전달받고 양극에 연결되는 제 1전극롤러와, 상기 전해조 내에 구비되고 상기 제 1전극롤러와 이격되어 구비되며, 상기 제 1전극롤러로부터 금속박판을 전달받고 양극에 연결되는 제 2전극롤러와, 일측에서 상기 제 2전극롤러로부터 전해연마된 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 외부로 이송하는 제 2이송롤러를 포함할 수 있다.In addition, the electrode transfer unit includes a first transfer roller that receives the metal thin plate from the punching processing unit from one side and transfers the metal thin plate to the inside of the electrolytic cell, and is provided in the electrolytic cell, and receives the metal thin plate from the first transfer roller to the anode. A first electrode roller to be connected, a second electrode roller provided in the electrolytic bath and spaced apart from the first electrode roller, and a second electrode roller receiving a metal thin plate from the first electrode roller and connected to the anode, and the second electrode roller at one side. It may include a second transfer roller that receives the electrolytically polished metal thin plate from the electrode roller and transfers it to the outside of the electrolyzer.

또한 상기 전해연마부는, 상기 전극이송부와 연결되어, 상기 전극이송부의 속도를 제어하는 속도제어부와, 상기 전극이송부와 연결되어, 상기 전극이송부의 길이를 제어하는 길이제어부를 더 포함하는 것이 바람직하다. In addition, the electropolishing unit further comprises a speed control unit connected to the electrode transfer unit to control the speed of the electrode transfer unit, and a length control unit connected to the electrode transfer unit to control the length of the electrode transfer unit. It is desirable.

또한 상기 초음파세정부는, 내부공간이 형성되어 증류수가 수용되는 세정조와, 상기 세정조에 구비되어 초음파진동을 유발하는 초음파진동자와, 상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 내부로 이동시키는 세정이송부를 포함할 수 있다.In addition, the ultrasonic cleaning unit includes a cleaning tank in which an internal space is formed to receive distilled water, an ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank to induce ultrasonic vibration, and a metal thin plate received from the electrolytic polishing unit to move into the cleaning tank. It may include a cleaning transfer unit.

여기서 상기 세정이송부는, 일측에서 상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 내부로 이동시키는 제 3이송롤러와, 상기 세정조 내에 구비되어, 상기 제 3이송롤러로부터 금속박판을 전달받는 제 1세정롤러와, 상기 세정조 내에 구비되고, 상기 제 1세정롤러와 이격되어 구비되며, 상기 제 1세정롤러로부터 금속박판을 전달받는 제 2세정롤러와, 일측에서 상기 제 2세정롤러로부터 세정된 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 외부로 이동시키는 제 4이송롤러를 포함할 수 있다.Here, the cleaning and transfer unit includes a third transfer roller that receives the metal thin plate from the electrolytic polishing unit from one side and moves it into the cleaning tank, and is provided in the cleaning tank to receive the metal thin plate from the third transfer roller. A first cleaning roller, a second cleaning roller provided in the cleaning tank, spaced apart from the first cleaning roller, and receiving a metal thin plate from the first cleaning roller, and cleaning from the second cleaning roller at one side It may include a fourth transfer roller that receives the metal thin plate and moves it to the outside of the cleaning tank.

본 발명에 따른 연속 전해연마장치에 의하면, 롤투롤 방식으로 금속박판이 이송되어 기계가공, 전해연마, 세정, 건조공정을 하나의 장치에서 연속적으로 수행할 수 있어, 공정효율을 향상시킬 수 있다. According to the continuous electrolytic polishing apparatus according to the present invention, the metal thin plate is transferred in a roll-to-roll manner to continuously perform machining, electrolytic polishing, cleaning, and drying processes in one apparatus, thereby improving process efficiency.

또한 펀칭 가공된 금속박판을 전해가공함으로써 발생된 미세 버를 효과적으로 제거 가능하며 금속박판의 표면상태가 개선되어 제품의 품질이 향상될 수 있으며, 금속박판이 이송되는 과정 중에 전해연마가 가능하여 가공효율이 향상될 수 있다.In addition, the fine burrs generated by electrolytic processing of the punched metal sheet can be effectively removed, the surface condition of the metal sheet is improved, and the quality of the product can be improved. This can be improved.

더불어 전극이송부가 속도제어부와 길이제어부 통하여 제어됨으로써, 금속박판의 전해연마 공정이 최적시간동안 유지되도록 조절가능하여 가공효율을 증대시킬 수 있다. In addition, since the electrode transfer unit is controlled through the speed control unit and the length control unit, it is possible to adjust the electrolytic polishing process of the metal thin plate to be maintained for an optimum time, thereby increasing the processing efficiency.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 연속 전해연마장치를 개략적으로 도시한 개략도,
도 2는, 도 1에 도시한 연속 전해연마장치의 전극이송부가 길이제어부에 의하여 제어되는 상태를 도시한 상태도이다.1 is a schematic diagram schematically showing a continuous electrolytic polishing apparatus according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a state diagram showing a state in which the electrode transfer unit of the continuous electrolytic polishing apparatus shown in FIG. 1 is controlled by the length control unit.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니 되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여, 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, terms or words used in the specification and claims should not be construed as being limited to their usual or dictionary meanings, and the inventors appropriately explain the concept of terms in order to explain their own invention in the best way. Based on the principle that it can be defined, it should be interpreted as a meaning and concept consistent with the technical idea of the present invention.

따라서 본 명세서에 기재된 실시 예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들은 대체할 수 있는 균등한 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Therefore, the embodiments described in the present specification and the configurations shown in the drawings are only the most preferred embodiments of the present invention, and do not represent all the technical ideas of the present invention. It should be understood that there may be variations.

이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 본 발명은 전기분해를 이용하여 연마하는 전해연마장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 금속박판을 기계 가공 후 전해연마하여 표면상태를 개선시키고, 미세 버를 제거할 수 있는 연속 전해연마장치에 관한 것이다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention relates to an electrolytic polishing apparatus for polishing using electrolysis, and more particularly, to a continuous electrolytic polishing apparatus capable of improving the surface condition and removing fine burrs by electrolytic polishing after machining a thin metal plate. .

도 1을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 연속 전해연마장치(10)는 전기분해를 이용하여 금속박판(M)을 표면가공하기 위한 것으로, 상기 금속박판(M)은 30-100(μm)의 두께를 갖는 것이 바람직하다. 상기 연속 전해연마장치(10)는 펀칭가공부(100), 전해연마부(200), 초음파세정부(300), 건조부(400)를 포함한다.1, a continuous electrolytic polishing apparatus 10 according to an embodiment of the present invention is for surface processing a metal thin plate M by using electrolysis, and the metal thin plate M is 30-100 (μm). It is desirable to have a thickness of ). The continuous electrolytic polishing apparatus 10 includes a punching processing unit 100, an electrolytic polishing unit 200, an ultrasonic cleaning unit 300, and a drying unit 400.

상기 펀칭가공부(100)는 금속박판(M)에 펀칭가공하기 위한 것으로, 상기 펀칭가공부(100)는 상부펀치(110) 및 하부금형(120)이 구비된다. 즉 상기 상부펀치(110)와 상기 하부금형(120) 사이에 금속박판(M)이 이동하며 상기 상부펀치(110)와 상기 하부금형(120) 사이에 금속박판(M)이 이동하는 과정 중에 상기 상부펀치(110)가 상기 하부금형(120) 측으로 이동함으로써, 금속박판(M)에 펀칭가공을 수행할 수 있다. 도 1에서 상기 펀칭가공은 금속박판(M)에 홀(h)을 형성시키는 것으로 도시하였으나, 이에 한정하는 것은 아니며, 펀치가공을 이용하여 금속박판(M)의 형상을 형성시키는 등의 다른 형태로 적용시킬 수도 있을 것이다. 이 때 펀칭가공된 상기 금속박판(M)에는 펀칭 가공된 홀(h)의 하면에 미세 버(Burr;B)가 발생될 수 있다.The punching part 100 is for punching the metal thin plate M, and the punching part 100 is provided with an upper punch 110 and a lower mold 120. That is, the metal thin plate M is moved between the upper punch 110 and the lower mold 120 and the metal thin plate M is moved between the upper punch 110 and the lower mold 120. As the upper punch 110 moves toward the lower mold 120, punching may be performed on the thin metal plate M. In FIG. 1, the punching process is illustrated as forming a hole h in the metal thin plate M, but is not limited thereto, and the punching process is used in other forms such as forming the shape of the metal thin plate M. You could also apply it. In this case, fine burrs (B) may be generated on the lower surface of the punched hole h in the punched metal thin plate M.

상기 전해연마부(200)는 상기 펀칭가공부(100)로부터 펀칭가공된 금속박판(M)을 전달받아 전해연마 하기위한 것으로, 상기 펀칭가공부(100)의 일측에 구비된다. 상기 전해연마부(200)는 금속박판(M)을 롤러를 통해 전해조(210)로 이송시키며, 상기 롤러에 양극이 연결되고 전해조(210)에 음극이 연결되어 금속박판(M)을 전해연마한다. 상기 전해연마부(200)는 전해조(210), 음극재(220), 전극이송부(230), 속도제어부(240)를 포함할 수 있다.The electrolytic polishing unit 200 is for electrolytic polishing by receiving the punched metal thin plate M from the punching processing unit 100, and is provided on one side of the punching processing unit 100. The electrolytic polishing unit 200 transfers the metal thin plate M to the electrolytic bath 210 through a roller, and the anode is connected to the roller and the cathode is connected to the electrolytic bath 210 to electrolytically polish the metal thin plate M. . The electrolytic polishing unit 200 may include an electrolytic bath 210, a negative electrode material 220, an electrode transfer unit 230, and a speed control unit 240.

상기 전해조(210)는 내부공간이 형성되어 내부공간에 전해액(211)이 수용된다. The electrolyzer 210 has an internal space, and the electrolyte 211 is accommodated in the internal space.

상기 음극재(220)는 상기 전해조(210) 내에 침지되어 음극에 연결된다. The negative electrode material 220 is immersed in the electrolyzer 210 and connected to the negative electrode.

상기 전극이송부(230)는 금속박판(M)을 이송시키기 위한 것으로, 상기 음극재(220)와 이격되어 배치되고, 상기 펀칭가공부(100)로부터 금속박판(M)을 전달받아 상기 전해조(210)의 내부로 이동시킨다. 상기 전극이송부(230)는 제 1이송롤러(231), 제 1전극롤러(232), 제 2전극롤러(233), 제 2이송롤러(234)를 포함할 수 있다. The electrode transfer part 230 is for transferring the metal thin plate M, is disposed to be spaced apart from the negative electrode material 220, receives the metal thin plate M from the punching part 100, and receives the electrolytic cell 210 ) To the inside. The electrode transfer unit 230 may include a first transfer roller 231, a first electrode roller 232, a second electrode roller 233, and a second transfer roller 234.

상기 제 1이송롤러(231)는 일측에서 상기 펀칭가공부(100)로부터 금속박판(M)을 전달받아 금속박판(M)을 상기 전해조(210)의 내부로 이송한다. 즉 상기 제 1이송롤러(231)는 상기 펀칭가공부(100)의 일측에 구비되며, 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)을 상기 전해조(210) 내부로 이동시킬 수 있다. 따라서 금속박판(M)은 상기 제 1이송롤러(231)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 1 이송롤러(231)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 전해조(210) 내부로 이동할 수 있다.The first transfer roller 231 receives the metal thin plate M from the punching part 100 from one side and transfers the metal thin plate M into the electrolytic cell 210. That is, the first transfer roller 231 is provided on one side of the punching part 100 and is provided to rotate to move the metal thin plate M into the electrolyzer 210 by rotating. Accordingly, the thin metal plate M is provided along the outer circumferential surface of the first transfer roller 231, and the metal thin plate M can move into the electrolytic cell 210 by rotating the first transfer roller 231.

상기 제 1전극롤러(232)는 상기 전해조(210) 내에 구비되어 상기 제 1이송롤러(231)로부터 금속박판(M)을 전달받는다. 상기 제 1전극롤러(232)는 상기 음극재(220)에 이격배치되며 양극에 연결되어 금속박판(M)을 양극에 연결시킬 수 있다. 즉, 상기 제 1전극롤러(232)는 상기 전해조(210) 내에 구비되어 일측에서 상기 제 1이송롤러(231)로부터 금속박판(M)을 전달받아 금속박판(M)을 전해액(211)에 침지시키며, 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)을 상기 전해조(210) 내에서 이동시킨다. 즉 상기 금속박판(M)은 상기 제 1 전극롤러(232)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 1 전극롤러(232)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 전해조(210) 내부에서 이동하고, 동시에 양극에 연결될 수 있다. The first electrode roller 232 is provided in the electrolytic bath 210 to receive the metal thin plate M from the first transfer roller 231. The first electrode roller 232 is spaced apart from the negative electrode material 220 and is connected to the positive electrode to connect the thin metal plate M to the positive electrode. That is, the first electrode roller 232 is provided in the electrolyzer 210 and receives the thin metal plate M from the first transfer roller 231 at one side, and immerses the thin metal plate M in the electrolyte 211 It is provided to rotate and rotates to move the thin metal plate (M) in the electrolyzer (210). That is, the metal thin plate M is provided along the outer circumferential surface of the first electrode roller 232, and the metal thin plate M moves inside the electrolyzer 210 as the first electrode roller 232 rotates, It can be connected to the anode at the same time.

상기 제 2전극롤러(233)는 상기 전해조(210) 내에 구비되고 상기 제 1전극롤러(232)와 이격되어 구비되고, 같은 수평상에 배치되는 것이 바람직하다. 상기 제 2전극롤러(233)는 상기 제 1전극롤러(232)로부터 금속박판(M)을 전달받는다. 상기 음극재(220)에 이격배치되며 양극에 연결되어 금속박판(M)을 양극에 연결시킬 수 있다. 즉, 상기 제 2전극롤러(233)는 상기 전해조(210) 내에 구비되어 일측에서 상기 제 2이송롤러(233)로부터 금속박판(M)을 전달받으며, 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)을 이동시킬 수 있다. 즉 상기 금속박판(M)은 상기 제 2 전극롤러(233)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 2 전극롤러(233)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 전해조(210) 내부에서 이동하고, 동시에 양극에 연결될 수 있다.It is preferable that the second electrode roller 233 is provided in the electrolytic bath 210, is provided spaced apart from the first electrode roller 232, and disposed on the same level. The second electrode roller 233 receives the metal thin plate M from the first electrode roller 232. It is spaced apart from the negative electrode material 220 and is connected to the positive electrode to connect the thin metal plate M to the positive electrode. That is, the second electrode roller 233 is provided in the electrolyzer 210 and receives the metal thin plate M from the second transfer roller 233 from one side, and is provided to rotate, thereby rotating the metal thin plate M. Can be moved. That is, the metal thin plate M is provided along the outer circumferential surface of the second electrode roller 233, and the metal thin plate M moves inside the electrolyzer 210 as the second electrode roller 233 rotates, It can be connected to the anode at the same time.

상기 제 1전극롤러(232) 및 제 2전극롤러(233)가 양극에 연결됨으로써 금속박판(M)이 양극에 연결되고, 일측에 이격배치된 상기 음극재(220)가 음극에 연결되어 상기 제 1전극롤러(232) 및 제 2전극롤러(233)를 따라 이동하는 금속박판(M)이 전해연마되어 상기 펀치가공으로 발생된 미세 버(B)가 제거될 수 있으며 표면상태가 개선될 수 있다. 부연하면 상기 제 1전극롤러(232), 제 2전극롤러(233) 및 상기 음극재(220)의 전류의 세기를 조정함으로써, 금속박판(M)의 전해연마를 제어할 수도 있을 것이다. 상기 금속박판(M)은 상기 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)에 의하여 이송되는 과정 중에 전해연마가 가능하여 가공효율이 향상될 수 있다.The first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 are connected to the positive electrode, so that the metal thin plate M is connected to the positive electrode, and the negative electrode material 220 spaced apart from one side is connected to the negative electrode. The metal thin plate M moving along the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 is electrolytically polished so that the fine burrs B generated by the punching process can be removed, and the surface condition can be improved. . In other words, by adjusting the current intensity of the first electrode roller 232, the second electrode roller 233, and the negative electrode material 220, the electrolytic polishing of the metal thin plate M may be controlled. The metal thin plate M may be electrolytically polished while being transferred by the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233, thereby improving processing efficiency.

상기 제 2이송롤러(234)는 일측에서 상기 제 2전극롤러(233)로부터 전해연마된 금속박판(M)을 전달받아 금속박판(M)을 상기 전해조(210)의 외부로 이송시킨다. 즉 상기 제 2이송롤러(234)는 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 전해조(210)의 외부로 이동될 수 있다.The second transfer roller 234 receives the electrolytically polished metal thin plate M from the second electrode roller 233 from one side and transfers the metal thin plate M to the outside of the electrolytic cell 210. That is, the second transfer roller 234 is provided to rotate so that the thin metal plate M may be moved to the outside of the electrolytic bath 210 by rotating.

상기 속도제어부(240)는 상기 전극이송부(230)와 연결되어, 상기 전극이송부(230)의 속도를 제어한다. 부연하면 상기 속도제어부(240)는 제 1이송롤러(231), 제 1전극롤러(232), 제 2전극롤러(233), 제 2이송롤러(234)의 회전속도를 제어함으로써, 금속박판(M)의 이송속도를 제어하여 금속박판(M)가 전해연마되는 시간을 최적으로 제어가능하다. 상기 속도제어부(240)는 상기 금속박판(M)이 상기 전해액(211)에 침지되어 전해연마되는 시간이 20(초) 내지 30(초)가 되도록 제어하는 것이 바람직하나, 이에 한정하는 것은 아니며 금속박판(M)의 두께나 펀칭가공의 형상 등에 대응하여 적절하게 변경 가능할 것이다. 상기 속도제어부(240)를 통하여 상기 전극이송부(230)의 회전속도를 조정하여 전해연마시간을 제어함으로써 가공효율이 증대될 수 있다.The speed control unit 240 is connected to the electrode transfer unit 230 and controls the speed of the electrode transfer unit 230. In other words, the speed control unit 240 controls the rotational speed of the first transfer roller 231, the first electrode roller 232, the second electrode roller 233, and the second transfer roller 234, By controlling the transfer speed of M), it is possible to optimally control the time during which the thin metal plate (M) is electrolytically polished. The speed control unit 240 is preferably controlled so that the time during which the metal thin plate M is immersed in the electrolyte 211 and electrolytically polished is 20 (seconds) to 30 (seconds), but is not limited thereto. It may be appropriately changed in response to the thickness of the thin plate M or the shape of the punching process. Processing efficiency may be increased by controlling the electrolytic polishing time by adjusting the rotational speed of the electrode transfer unit 230 through the speed control unit 240.

상기 길이제어부(250)는 상기 전극이송부(230)와 연결되어, 상기 전극이송부(230)의 길이를 제어한다. 부연하면 상기 길이제어부(250)는 제 1전극롤러(232)와 제 2전극롤러(233) 사이의 간격을 조절함으로써 금속박판(M)이 전해연마되는 시간을 최적으로 제어할 수 있다. 상기 길이제어부(250)는 롤러구동부(251)를 더 포함할 수 있다.The length control unit 250 is connected to the electrode transfer unit 230 and controls the length of the electrode transfer unit 230. In other words, the length control unit 250 may optimally control a time during which the metal thin plate M is electrolytically polished by adjusting the distance between the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233. The length control unit 250 may further include a roller driving unit 251.

도 2를 참조하면 상기 롤러구동부(251)는 상기 제 1전극롤러(232) 및 제 2전극롤러(233)를 이동시키기 위한 것으로, 상기 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)와 연결되어 상기 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)를 수평이동시킨다. 더욱 구체적으로 상기 롤러구동부(251)는 리니어모터(Linear motor)인 것으로 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)가 가이드레일에 결합되고 리니어모터의 구동에 의하여 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)가 가이드레일을 따라 이동함으로써 각각 수평이동이 가능하다. 부연하면 상기 길이제어부(250)의 제어에 의하여 상기 롤러구동부(251)가 구동되어 상기 제 1전극롤러(232)는 상기 제 2전극롤러(233)측으로 수평이동가능하고, 상기 제 2전극롤러(233)는 상기 제 1전극롤러(232)측으로 수평이동이동가능하여 상기 제 1전극롤러(232)와 상기 제 2전극롤러(233)의 사이 간격이 조정될 수 있다.2, the roller driving part 251 is for moving the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233, and the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 ) To move the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 horizontally. More specifically, the roller driving unit 251 is a linear motor, and the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 are coupled to a guide rail, and the first electrode roller is driven by the linear motor. By moving the 232 and the second electrode roller 233 along the guide rail, horizontal movement is possible, respectively. In addition, the roller drive unit 251 is driven by the control of the length control unit 250 so that the first electrode roller 232 can be horizontally moved toward the second electrode roller 233, and the second electrode roller ( The 233 is horizontally movable toward the first electrode roller 232 so that the distance between the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 may be adjusted.

한편 상기 롤러구동부(251)의 다른 실시예로, 상기 롤러구동부(251)는 자력을 이용하여 상기 제 1전극롤러(232)와 제 2전극롤러(233)를 이동시킬 수 있다. 상기 제 1전극롤러(232)와 제 2전극롤러(233)에 각각 자석이 구비되고, 상기 롤러구동부(251)가 자력을 갖도록 구성되어 상기 제 1전극롤러(232)와 제 2전극롤러(233)의 자석에 각각 연결된다. 따라서 상기 롤러구동부(251)가 수평이동함으로써, 상기 롤러구동부(251)의 자력에 의하여 상기 제 1전극롤러(232) 및 상기 제 2전극롤러(233)가 수평이동가능하다. 즉, 상기 길이제어부(250)의 제어에 의하여 상기 롤러구동부(251)가 이동하고, 상기 롤러구동부(251)의 자력에 의하여 상기 제 1전극롤러(232)와 상기 제 2전극롤러(233)가 각각 수평이동하여 상기 제 1전극롤러(232)와 상기 제 2전극롤러(233)의 사이간격이 조정될 수 있다.Meanwhile, as another embodiment of the roller driving part 251, the roller driving part 251 may move the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 using magnetic force. Each of the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 is provided with a magnet, and the roller driving unit 251 is configured to have a magnetic force, so that the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 ) Is connected to each of the magnets. Therefore, when the roller driving part 251 moves horizontally, the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 can be moved horizontally by the magnetic force of the roller driving part 251. That is, the roller driving unit 251 is moved by the control of the length control unit 250, and the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 are moved by the magnetic force of the roller driving unit 251. Each of the first electrode rollers 232 and the second electrode rollers 233 may be moved horizontally to adjust a distance between the first electrode rollers 232 and the second electrode rollers 233.

즉 상기 제 1전극롤러(232)와 상기 제 2전극롤러(233)의 사이 간격이 좁아지면 전해연마되는 시간이 단축되고, 상기 제 1전극롤러(232)와 상기 제 2전극롤러(233)의 사이 간격이 넓어지면 상기 전해연마되는 시간이 연장되어, 금속박판(M)이 전해연마되는 시간을 최적으로 제어할 수 있다. 상기 길이제어부(250)는 상기 금속박판(M)이 상기 전해액(211)에 침지되어 전해연마되는 시간이 20(초) 내지 30(초)가 되도록 제어하는 것이 바람직하나, 이에 한정하는 것은 아니며 금속박판(M)의 두께나 펀칭가공의 형상 등에 대응하여 적절하게 변경가능할 것이다. 상기 길이제어부(250)를 통하여 상기 전극이송부(230)의 길이를 조정하여 전해연마시간을 제어할 수 있어 가공효율이 증대될 수 있다.That is, when the distance between the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 is narrowed, the electrolytic polishing time is shortened, and the first electrode roller 232 and the second electrode roller 233 When the interval is widened, the electrolytic polishing time is extended, so that the time during which the metal thin plate M is electrolytically polished can be optimally controlled. The length control unit 250 is preferably controlled so that the time during which the thin metal plate M is immersed in the electrolyte 211 and electrolytically polished is 20 (seconds) to 30 (seconds), but is not limited thereto. It may be appropriately changed in response to the thickness of the thin plate M or the shape of the punching process. The length of the electrode transfer unit 230 can be adjusted through the length control unit 250 to control the electrolytic polishing time, so that processing efficiency can be increased.

상기 초음파세정부(300)는 상기 전해연마부(200)로부터 전해연마된 금속박판(M)을 전달받아 세정시키기 위한 것으로, 상기 전해연마부(200)의 일측에 구비된다. 상기 초음파세정부(300)는 세정조(310), 초음파진동자(320), 세저이송부(330)를 포함할 수 있다.The ultrasonic cleaning unit 300 is for cleaning by receiving the electrolytically polished metal thin plate M from the electrolytic polishing unit 200 and is provided on one side of the electrolytic polishing unit 200. The ultrasonic cleaning unit 300 may include a cleaning tank 310, an ultrasonic vibrator 320, and a detergent transfer unit 330.

상기 세정조(310)는 내부공간이 형성되어 증류수(311)가 수용된다. The washing tank 310 has an internal space to accommodate distilled water 311.

상기 초음파진동자(320)는 상기 세정조(310)에 구비되어 초음파진동을 유발한다. 즉, 상기 초음파진동자(320)는 증류수(311)에 침지되어 초음파진동을 유발함으로써, 증류수(311)에 초음파진동을 제공가능하다.The ultrasonic vibrator 320 is provided in the cleaning tank 310 to induce ultrasonic vibration. That is, the ultrasonic vibrator 320 is immersed in distilled water 311 to induce ultrasonic vibration, so that ultrasonic vibration can be provided to the distilled water 311.

상기 세정이송부(330)는 금속박판(M)을 이송시키기 위한 것으로, 상기 전해연마부(200)로부터 금속박판(M)을 전달받아 상기 세정조(310)의 내부로 이동시킨다. 상기 세정이송부(330)는 제 3이송롤러(331), 제 1세정롤러(332), 제 2세정롤러(333), 제 4이송롤러(334)를 포함할 수 있다. The cleaning transfer unit 330 is for transferring the metal thin plate M, and receives the metal thin plate M from the electrolytic polishing unit 200 and moves it into the cleaning tank 310. The cleaning transfer unit 330 may include a third transfer roller 331, a first cleaning roller 332, a second cleaning roller 333, and a fourth transfer roller 334.

상기 제 3이송롤러(331)는 일측에서 상기 전해연마부(200)로부터 금속박판(M)을 전달받아 금속박판(M)을 상기 세정조(310)의 내부로 이송시킨다. 부연하면 상기 제 3이송롤러(331)는 상기 제 2이송롤러(324)의 타측에 구비되어, 상기 제 2이송롤러(324)로부터 금속박판(M)을 전달받는 것이 바람직하다. 상기 제 3이송롤러(331)는 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)을 상기 세정조(310) 내부로 이동시킬 수 있다. 즉 금속박판(M)은 상기 제 3이송롤러(331)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 3이송롤러(331)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(210) 내부로 이동가능하다.The third transfer roller 331 receives the thin metal plate M from the electrolytic polishing unit 200 from one side and transfers the thin metal plate M into the cleaning tank 310. In addition, it is preferable that the third transfer roller 331 is provided on the other side of the second transfer roller 324 to receive the thin metal plate M from the second transfer roller 324. The third transfer roller 331 is provided to rotate and rotates to move the thin metal plate M into the cleaning tank 310. That is, the thin metal plate M is provided along the outer circumferential surface of the third transfer roller 331, and the thin metal plate M can be moved into the cleaning tank 210 by rotating the third transfer roller 331. .

상기 제 1세정롤러(332)는 상기 세정조(310) 내에 구비되어, 일측에서 상기 제 3이송롤러(331)로부터 금속박판(M)을 전달받는다. 상기 제 1세정롤러(332)는 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)을 상기 세정조(310) 내에서 이동시킨다. 즉 금속박판(M)은 상기 제 1세정롤러(332)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 1세정롤러(332)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(210) 내부에서 이동할 수 있다.The first cleaning roller 332 is provided in the cleaning tank 310 and receives the metal thin plate M from the third transfer roller 331 from one side. The first cleaning roller 332 is provided to rotate and rotates to move the metal thin plate M in the cleaning tank 310. That is, the thin metal plate M is provided along the outer circumferential surface of the first cleaning roller 332, and the metal thin plate M can move inside the cleaning tank 210 by rotating the first cleaning roller 332. .

상기 제 2세정롤러(333)는 상기 세정조(310) 내에 구비되어, 상기 제 1세정롤러(332)와 이격되어 구비되어 일측에서 상기 제 1세정롤러(332)로부터 금속박판(M)을 전달받는다. 즉 상기 제 2세정롤러(333)는 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(310) 내에서 이동시킬 수 있다. 금속박판(M)은 상기 제 2세정롤러(333)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 2세정롤러(333)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(210) 내부에서 이동가능하다. The second cleaning roller 333 is provided in the cleaning tank 310 and provided to be spaced apart from the first cleaning roller 332 to transfer the metal thin plate M from the first cleaning roller 332 at one side. Receive. That is, the second cleaning roller 333 is provided to rotate and rotates so that the thin metal plate M can be moved in the cleaning tank 310. The metal thin plate M is provided along the outer circumferential surface of the second cleaning roller 333, and the metal thin plate M is movable inside the cleaning tank 210 by rotating the second cleaning roller 333.

상기 제 4이송롤러(334)는 일측에서 상기 제 2세정롤러(333)로부터 세정된 금속박판(M)을 전달받아 금속박판(M)을 상기 세정조(310)의 외부로 이동시킨다. 상기 제 4이송롤러(334)는 회전하도록 구비되어 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(210) 외부로 이동할 수 있다. 즉 금속박판(M)은 상기 제 4이송롤러(334)의 외주면을 따라 구비되며, 상기 제 4이송롤러(334)가 회전함으로써 금속박판(M)이 상기 세정조(210) 외부로 이동가능하다.The fourth transfer roller 334 receives the cleaned metal thin plate M from the second cleaning roller 333 from one side and moves the metal thin plate M to the outside of the cleaning tank 310. The fourth transfer roller 334 is provided to rotate so that the thin metal plate M may move outside the cleaning tank 210 by rotating. That is, the thin metal plate M is provided along the outer circumferential surface of the fourth transfer roller 334, and the thin metal plate M can be moved outside the cleaning tank 210 by rotating the fourth transfer roller 334. .

상기 건조부(400)는 세정된 금속박판(M)을 건조시키기 위한 것으로, 상기 초음파세정부(300)의 일측에 구비된다. 즉, 상기 건조부(400)는 상기 초음파세정부(330)로부터 금속박판(M)을 전달받아 건조시킬 수 있다. 상기 건조부(400)는 핫에어(Hot-air)건조기인 것이 바람직하나, 이에 한정하는 것은 아니며, 금속박판(M)을 건조하는 다른 건조기를 적용시킬 수도 있을 것이다.The drying unit 400 is for drying the cleaned thin metal plate M, and is provided on one side of the ultrasonic cleaning unit 300. That is, the drying unit 400 may receive and dry the metal thin plate M from the ultrasonic cleaning unit 330. The drying unit 400 is preferably a hot-air dryer, but is not limited thereto, and another dryer for drying the metal thin plate M may be applied.

본 발명에 따른 연속 전해연마장치에 의하면, 롤투롤 방식으로 금속박판이 이송되어 기계가공, 전해연마, 세정, 건조공정을 하나의 장치에서 연속적으로 수행할 수 있어, 공정효율을 향상시킬 수 있다. According to the continuous electrolytic polishing apparatus according to the present invention, the metal thin plate is transferred in a roll-to-roll manner to continuously perform machining, electrolytic polishing, cleaning, and drying processes in one apparatus, thereby improving process efficiency.

또한 펀칭 가공된 금속박판을 전해가공함으로써 발생된 미세 버를 효과적으로 제거 가능하며 금속박판의 표면상태가 개선되어 제품의 품질이 향상될 수 있으며, 금속박판이 이송되는 과정 중에 전해연마가 가능하여 가공효율이 향상될 수 있다.In addition, the fine burrs generated by electrolytic processing of the punched metal sheet can be effectively removed, the surface condition of the metal sheet is improved, and the quality of the product can be improved. This can be improved.

더불어 전극이송부가 속도제어부와 길이제어부 통하여 제어됨으로써, 금속박판의 전해연마 공정이 최적시간동안 유지되도록 조절가능하여 가공효율을 증대시킬 수 있다. In addition, since the electrode transfer unit is controlled through the speed control unit and the length control unit, it is possible to adjust the electrolytic polishing process of the metal thin plate to be maintained for an optimum time, thereby increasing the processing efficiency.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

10 : 연속 전해연마장치 100 : 펀칭가공부
200 : 전해연마부 210 : 전해조
211 : 전해액 220 : 음극재
230 : 전극이송부 231 : 제 1이송롤러
232 : 제 1전극롤러 233 : 제 2전극롤러
234 : 제 2이송롤러 240 : 속도제어부
250 : 길이제어부 300 : 초음파세정부
310 : 세정조 311 : 증류수
320 : 초음파진동자 330 : 세정이송부
331 : 제 3이송롤러 332 : 제 1세정롤러
333 : 제 2세정롤러 334 : 제 4이송롤러
400 : 건조부 B : 버
h : 홀 M : 금속박판 10: continuous electrolytic polishing device 100: punching processing unit
200: electrolytic polishing unit 210: electrolyzer
211: electrolyte 220: negative electrode material
230: electrode transfer unit 231: first transfer roller
232: first electrode roller 233: second electrode roller
234: second transfer roller 240: speed control unit
250: length control unit 300: ultrasonic cleaning unit
310: washing tank 311: distilled water
320: ultrasonic vibrator 330: cleaning transfer unit
331: 3rd feed roller 332: 1st cleaning roller
333: second cleaning roller 334: fourth conveying roller
400: drying part B: bur
h: hole M: metal sheet

Claims (7)

금속박판에 펀칭가공하는 펀칭가공부;
상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 롤러를 통해 전해조로 이송시키며, 상기 롤러에 양극이 연결되고 전해조에 음극이 연결되어 금속박판을 전해연마하는 전해연마부;
상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 세정하는 초음파세정부; 및
상기 초음파세정부로부터 금속박판을 전달받아 건조시키는 건조부를 포함하되,
상기 전해연마부는,
내부공간이 형성되어 전해액이 수용되는 전해조와,
상기 전해조 내에 침지되어 음극에 연결되는 음극재와,
상기 음극재와 이격되어 배치되고, 상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 내부로 이동시키며, 양극에 연결되는 전극이송부를 포함하며,
상기 전극이송부는,
일측에서 상기 펀칭가공부로부터 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 내부로 이송하는 제 1이송롤러와,
상기 전해조 내에 구비되어, 상기 제 1이송롤러로부터 금속박판을 전달받고 양극에 연결되는 제 1전극롤러와,
상기 전해조 내에 구비되고 상기 제 1전극롤러와 이격되어 구비되며, 상기 제 1전극롤러로부터 금속박판을 전달받고 양극에 연결되는 제 2전극롤러와,
일측에서 상기 제 2전극롤러로부터 전해연마된 금속박판을 전달받아 상기 전해조의 외부로 이송하는 제 2이송롤러를 포함하고,
상기 전해연마부는,
상기 전극이송부와 연결되어, 상기 전극이송부의 길이를 제어하는 길이제어부를 더 포함하며,
상기 길이제어부는,
상기 제1전극롤러와 제2전극롤러와 연결되어 상기 제1전극롤러 및 상기 제2전극롤러를 수평으로 이동시키는 롤러구동부를 더 포함하는 연속 전해연마장치.A punching part for punching the metal thin plate;
An electrolytic polishing unit receiving the metal thin plate from the punching processing unit and transferring the metal sheet to the electrolytic bath through a roller, and an anode connected to the roller and a cathode connected to the electrolytic bath to electrolytically polish the metal sheet;
An ultrasonic cleaning unit receiving and cleaning the metal thin plate from the electrolytic polishing unit; And
Including a drying unit for drying by receiving the thin metal plate from the ultrasonic cleaning unit,
The electrolytic polishing unit,
An electrolytic cell in which an internal space is formed to accommodate an electrolyte solution,
A negative electrode material immersed in the electrolyzer and connected to the negative electrode,
It is disposed to be spaced apart from the negative electrode material, receives the metal thin plate from the punching part and moves it into the inside of the electrolyzer, and includes an electrode transfer part connected to the positive electrode,
The electrode transfer unit,
At one side, a first transfer roller receiving the thin metal plate from the punching part and transferring it to the inside of the electrolyzer,
A first electrode roller provided in the electrolyzer and connected to the anode by receiving the metal thin plate from the first transfer roller;
A second electrode roller provided in the electrolyzer and provided to be spaced apart from the first electrode roller, receiving the metal thin plate from the first electrode roller, and connected to the anode,
A second transfer roller receiving the electrolytically polished metal thin plate from the second electrode roller from one side and transferring it to the outside of the electrolyzer,
The electrolytic polishing unit,
It is connected to the electrode transfer unit, further comprising a length control unit for controlling the length of the electrode transfer unit,
The length control unit,
A continuous electrolytic polishing apparatus further comprising a roller driving unit connected to the first electrode roller and the second electrode roller to horizontally move the first electrode roller and the second electrode roller. 청구항 1에 있어서,
상기 롤러구동부는, 리니어모터이며,
상기 제1전극롤러와 제2전극롤러는, 가이드레일에 결합되고, 상기 롤러구동부의 구동에 의하여 상기 가이드레일을 따라 수평 이동하는 연속 전해연마장치.The method according to claim 1,
The roller drive unit is a linear motor,
The first electrode roller and the second electrode roller are coupled to a guide rail, and the continuous electrolytic polishing apparatus moves horizontally along the guide rail by driving the roller drive unit. 청구항 1에 있어서,
상기 제1전극롤러와 제2전극롤러에는, 각각 자석이 구비되며,
상기 롤러구동부는, 자력을 갖도록 구성되어 상기 제1전극롤러와 제2전극롤러의 자석에 각각 연결되고, 수평 이동을 통해 상기 제1전극롤러와 상기 제2전극롤러를 수평이동시키는 연속 전해연마장치.The method according to claim 1,
Each of the first electrode roller and the second electrode roller is provided with a magnet,
The roller drive unit is configured to have a magnetic force, is connected to the magnets of the first electrode roller and the second electrode roller, respectively, the continuous electrolytic polishing device for horizontally moving the first electrode roller and the second electrode roller through horizontal movement . 청구항 1에 있어서,
상기 전해연마부는,
상기 전극이송부와 연결되어, 상기 전극이송부의 속도를 제어하는 속도제어부를 더 포함하는 연속 전해연마장치.The method according to claim 1,
The electrolytic polishing unit,
The continuous electrolytic polishing apparatus further comprises a speed control unit connected to the electrode transfer unit to control the speed of the electrode transfer unit. 삭제delete 청구항 1에 있어서,
상기 초음파세정부는,
내부공간이 형성되어 증류수가 수용되는 세정조와,
상기 세정조에 구비되어 초음파진동을 유발하는 초음파진동자와,
상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 내부로 이동시키는 세정이송부를 포함하는 연속 전해연마장치.The method according to claim 1,
The ultrasonic cleaning unit,
A washing tank in which distilled water is accommodated by forming an internal space,
An ultrasonic vibrator provided in the cleaning tank to induce ultrasonic vibration,
A continuous electrolytic polishing apparatus comprising a cleaning transfer unit receiving the metal thin plate from the electrolytic polishing unit and moving it into the cleaning tank. 청구항 6에 있어서,
상기 세정이송부는,
일측에서 상기 전해연마부로부터 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 내부로 이동시키는 제 3이송롤러와,
상기 세정조 내에 구비되어, 상기 제 3이송롤러로부터 금속박판을 전달받는 제 1세정롤러와,
상기 세정조 내에 구비되고, 상기 제 1세정롤러와 이격되어 구비되며, 상기 제 1세정롤러로부터 금속박판을 전달받는 제 2세정롤러와,
일측에서 상기 제 2세정롤러로부터 세정된 금속박판을 전달받아 상기 세정조의 외부로 이동시키는 제 4이송롤러를 포함하는 연속 전해연마장치.The method of claim 6,
The cleaning transfer unit,
At one side, a third transfer roller receiving the thin metal plate from the electrolytic polishing unit and moving it into the cleaning tank,
A first cleaning roller provided in the cleaning tank and receiving the metal thin plate from the third transfer roller,
A second cleaning roller provided in the cleaning tank, provided spaced apart from the first cleaning roller, and receiving a thin metal plate from the first cleaning roller,
A continuous electrolytic polishing apparatus comprising a fourth transfer roller receiving the cleaned metal thin plate from the second cleaning roller from one side and moving it to the outside of the cleaning tank.
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