KR102220141B1 - Thermosetting adhesive composition, laminated film having the cured product of the composition, and printed wiring board having the laminated film - Google Patents

Thermosetting adhesive composition, laminated film having the cured product of the composition, and printed wiring board having the laminated film Download PDF

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Abstract

열경화성 접착제 조성물, 그의 경화물을 포함하는 적층필름, 및 상기 적층필름을 채용한 프린트 배선판이 개시된다. 개시된 열경화성 접착제 조성물은 방향족 테트라카르복실산 무수물 및 디아민을 포함하는 모노머군의 반응물인 변성 폴리이미드 수지 100중량부, 탄소수 10 이상의 알킬렌쇄를 포함하는 주쇄와, 상기 알킬렌쇄에 결합된 알킬기를 포함하는 측쇄를 갖는 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 5~20중량부, 및 에폭시 수지 3~10중량부를 포함한다.A thermosetting adhesive composition, a laminated film containing a cured product thereof, and a printed wiring board employing the laminated film are disclosed. The disclosed thermosetting adhesive composition includes 100 parts by weight of a modified polyimide resin that is a reactant of a monomer group including an aromatic tetracarboxylic anhydride and a diamine, a main chain including an alkylene chain having 10 or more carbon atoms, and an alkyl group bonded to the alkylene chain. 5 to 20 parts by weight of a long-chain alkyl bismaleimide resin having a side chain, and 3 to 10 parts by weight of an epoxy resin.

Description

열경화성 접착제 조성물, 그의 경화물을 포함하는 적층필름, 및 상기 적층필름을 채용한 프린트 배선판{Thermosetting adhesive composition, laminated film having the cured product of the composition, and printed wiring board having the laminated film}A thermosetting adhesive composition, a laminated film including a cured product thereof, and a printed wiring board employing the laminated film TECHNICAL FIELD [0002] A thermosetting adhesive composition, laminated film having the cured product of the composition, and printed wiring board having the laminated film

열경화성 접착제 조성물, 그의 경화물을 포함하는 적층필름, 및 상기 적층필름을 채용한 프린트 배선판이 개시된다. 보다 상세하게는, 변성 폴리이미드 수지, 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 및 에폭시 수지를 주성분으로 포함하는 열경화성 접착제 조성물, 그의 경화물을 포함하는 적층필름, 및 상기 적층필름을 채용한 프린트 배선판이 개시된다.A thermosetting adhesive composition, a laminated film containing a cured product thereof, and a printed wiring board employing the laminated film are disclosed. More specifically, a thermosetting adhesive composition comprising a modified polyimide resin, a long-chain alkylbismaleimide resin, and an epoxy resin as main components, a laminated film comprising a cured product thereof, and a printed wiring board employing the laminated film are disclosed.

최근, 전자제품의 집적화, 소형화, 박막화, 고밀도화 및 고굴곡화 추세에 따라 보다 협소한 공간에서도 내장이 용이한 인쇄 회로 기판(PCB: Printed Circuit Board)의 필요성이 증대되고 있으며, 이러한 시장의 요구에 따라, 소형화와 고밀도화가 가능하고, 반복적인 굴곡성을 갖는 연성 인쇄 회로 기판(FPCB: Flexible Printed Circuit Board)이 개발되었다. 이러한 FPCB는 휴대폰, DVD, 디지털 카메라 또는 PDP 등의 기술적 발전으로 인해 사용량이 급격하게 증가하면서, 그 요구는 더욱 더 증가하고 있는 실정이다.In recent years, the need for a printed circuit board (PCB) that is easy to embed in a narrower space is increasing according to the trend of integration, miniaturization, thin film, high density and high bending of electronic products. Accordingly, a flexible printed circuit board (FPCB), which is capable of miniaturization and high density, and has repetitive flexibility, has been developed. As the usage of FPCBs increases rapidly due to technological developments such as mobile phones, DVDs, digital cameras or PDPs, the demand for such FPCBs is increasing even more.

최근에는 연성 인쇄 회로 기판 기술분야(FPCB; Flexible Printed Circuits Board)에서 전송신호의 고속화, 대용량화 요구가 커지면서, 전송신호의 고주파화가 진행되고 있다. 고주파수 영역대에서는 기존 대비 신호의 손실이 상대적으로 크기 때문에, FPCB에서도 전송 손실을 억제하는 특성이 요구되고 있으며, 그와 관련된 기재필름 및 이러한 기재필름에 적용되는 접착제에도 우수한 전기적 특성, 저유전율 및 우수한 내마이그레이션(anti-migration) 특성 등이 요구되고 있는 실정이다.In recent years, in the field of flexible printed circuit board technology (FPCB), demand for high-speed and large-capacity transmission signals is increasing, and thus, high-frequency transmission signals are in progress. Since the signal loss is relatively large in the high frequency region compared to the previous one, the characteristics of suppressing transmission loss are also required in the FPCB, and excellent electrical properties, low dielectric constant and excellent in the related base film and the adhesive applied to such base film. It is a situation in which anti-migration characteristics and the like are required.

이러한 요구를 만족하는 것으로서 연성 인쇄 회로 기판의 제조를 위해 기재필름에 사용되는 접착제 조성물로는 일반적으로 열경화성 수지, 열가소성 수지, 고강도 및 고유연성 엘라스토머로부터 선택된 다양한 조합이 사용되어 왔다.As an adhesive composition used in a base film for manufacturing a flexible printed circuit board as satisfying these requirements, various combinations selected from thermosetting resins, thermoplastic resins, high strength and highly flexible elastomers have been generally used.

대표적인 접착제 조성물로는 에폭시 수지와 아크릴로니트릴 부타디엔 고무(이한 'NBR'이라 한다)의 배합물, 에폭시 수지와 폴리에스테르의 배합물, 에폭시 수지와 아크릴 수지의 배합물 등이 있다. 이들 중 에폭시 수지 및 NBR의 배합물인 접착제 조성물이 FPCB의 제조에 적합한 수준의 접착 강도와 내열성을 갖기 때문에 가장 널리 사용되고 있다. Typical adhesive compositions include a blend of an epoxy resin and an acrylonitrile butadiene rubber (hereinafter referred to as'NBR'), a blend of an epoxy resin and a polyester, and a blend of an epoxy resin and an acrylic resin. Among them, the adhesive composition, which is a blend of an epoxy resin and NBR, is most widely used because it has an adhesive strength and heat resistance at a level suitable for the manufacture of FPCB.

그러나, 종래의 접착제 조성물은 수산기, 카르복실기 및 니트릴기 등의 많은 관능기를 가지기 때문에, 기재필름에 대한 밀착성은 높일 수 있지만, 반대로 유전율 및 유전정접(dielectric dissipation factor)을 모두 증가시키는 경향이 있다. However, since the conventional adhesive composition has many functional groups such as hydroxyl group, carboxyl group and nitrile group, the adhesion to the base film can be improved, but on the contrary, both dielectric constant and dielectric dissipation factor tend to be increased.

또한, 주로 사용되는 NBR 내에는 이온성 불순물이 다량 함유되어 있는데, 이러한 불순물은 이온 마이그레이션 현상을 유발하는 주요 인자이기 때문에, 일반적으로 정제 과정을 거친 고가의 고순도 제품을 사용할 수 밖에 없었다.In addition, a large amount of ionic impurities are contained in the NBR, which is mainly used, and since these impurities are a major factor causing ion migration, it is inevitable to use expensive, high-purity products that have been generally purified.

본 발명의 일 구현예는 변성 폴리이미드 수지, 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 및 에폭시 수지를 주성분으로 포함하는 열경화성 접착제 조성물을 제공한다.One embodiment of the present invention provides a thermosetting adhesive composition comprising a modified polyimide resin, a long chain alkyl bismaleimide resin, and an epoxy resin as main components.

본 발명의 다른 구현예는 상기 열경화성 수지 제조용 조성물의 경화물을 포함하는 적층필름을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a laminated film comprising a cured product of the composition for producing a thermosetting resin.

본 발명의 또 다른 구현예는 상기 적층필름을 채용한 프린트 배선판을 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a printed wiring board employing the laminated film.

본 발명의 일 측면은,One aspect of the present invention,

방향족 테트라카르복실산 무수물 및 디아민을 포함하는 모노머군의 반응물인 변성 폴리이미드 수지 100중량부;100 parts by weight of a modified polyimide resin that is a reactant of a monomer group containing an aromatic tetracarboxylic anhydride and a diamine;

탄소수 10 이상의 알킬렌쇄를 포함하는 주쇄와, 상기 알킬렌쇄에 결합된 알킬기를 포함하는 측쇄를 갖는 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 5~20중량부; 및5 to 20 parts by weight of a long-chain alkylbismaleimide resin having a main chain including an alkylene chain having 10 or more carbon atoms and a side chain including an alkyl group bonded to the alkylene chain; And

에폭시 수지 3~10중량부를 포함하는 열경화성 접착제 조성물을 제공한다.It provides a thermosetting adhesive composition comprising 3 to 10 parts by weight of an epoxy resin.

상기 방향족 테트라카르복실산 무수물은 하기 화학식 1로 표시될 수 있다:The aromatic tetracarboxylic anhydride may be represented by the following Formula 1:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018074577070-pat00001
Figure 112018074577070-pat00001

식 중, X는 단결합, -SO2-, -CO-, -O-, -O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O- 또는 -COO-X1-OCO-(X1은 -(CH2)l-(l=1~20) 또는 -H2C-HC(-O-C(=O)-CH3)-CH2-를 나타낸다)를 나타낸다.In the formula, X is a single bond, -SO 2 -, -CO-, -O-, -OC 6 H 4 -C(CH 3 ) 2 -C 6 H 4 -O- or -COO-X 1 -OCO- (X 1 represents -(CH 2 ) 1 -(l=1 to 20) or -H 2 C-HC(-OC(=O)-CH 3 )-CH 2 -).

상기 디아민은 불포화 지방산의 이량체인 다이머산, 불포화 지방산의 삼량체인 트리머산 또는 이들의 혼합물 중의 모든 카르복실기를 1급 아미노기로 치환한 것일 수 있다.The diamine may be one obtained by substituting all carboxyl groups in a dimer acid of an unsaturated fatty acid, a trimer acid of an unsaturated fatty acid, or a mixture thereof with a primary amino group.

상기 변성 폴리이미드 수지는 폴리디메틸실록산을 포함할 수 있다.The modified polyimide resin may include polydimethylsiloxane.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 말레이미드기, 적어도 2개의 이미드 결합을 갖는 2가의 기, 및 포화 또는 불포화의 2가의 탄화수소기를 갖는 화합물을 포함할 수 있다.The long-chain alkylbismaleimide resin may include a maleimide group, a divalent group having at least two imide bonds, and a compound having a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group.

상기 에폭시 화합물은 에폭시기가 3개 이상인 다관능성 에폭시 수지를 포함할 수 있다.The epoxy compound may include a polyfunctional epoxy resin having three or more epoxy groups.

상기 열경화성 접착제 조성물은 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 반응 개시제 2중량부 이하를 더 포함할 수 있다.The thermosetting adhesive composition may further include 2 parts by weight or less of a reaction initiator based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin.

상기 열경화성 접착제 조성물은 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 경화촉진제 2중량부 이하를 더 포함할 수 있다.The thermosetting adhesive composition may further include 2 parts by weight or less of a curing accelerator based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin.

상기 모노머군은 디아미노폴리실록산을 더 포함할 수 있다.The monomer group may further include diaminopolysiloxane.

상기 열경화성 접착제 조성물은 유기용매를 더 포함하고, 상기 유기용매의 함량은 상기 유기용매를 포함하는 열경화성 접착제 조성물의 총중량 100중량부에 대하여 40~90중량부일 수 있다.The thermosetting adhesive composition further includes an organic solvent, and the content of the organic solvent may be 40 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the thermosetting adhesive composition including the organic solvent.

본 발명의 다른 측면은,Another aspect of the invention,

기재필름; 및Base film; And

상기 기재필름상에 배치된 접착층을 포함하고,Including an adhesive layer disposed on the base film,

상기 접착층은 상기 열경화성 접착제 조성물의 경화물을 포함하는 적층필름을 제공한다.The adhesive layer provides a laminated film comprising a cured product of the thermosetting adhesive composition.

상기 적층필름은 커버레이 필름일 수 있다.The laminated film may be a coverlay film.

본 발명의 또 다른 측면은,Another aspect of the invention,

상기 적층 필름을 포함하는 프린트 배선판을 제공한다.It provides a printed wiring board including the laminated film.

상기 프린트 배선판은 85%의 상대습도 및 85℃의 온도 조건 하에서 100V의 전압이 인가되었을 때, 1,000hr 이내에 회로의 단락이 발생하지 않는 내마이그래이션 특성을 가질 수 있다.When a voltage of 100V is applied under 85% relative humidity and 85°C temperature conditions, the printed wiring board may have a migration resistance that does not cause a short circuit within 1,000 hr.

상기 프린트 배선판은 연성 인쇄 회로 기판일 수 있다.The printed wiring board may be a flexible printed circuit board.

본 발명의 구현예에 따른 열경화성 접착제 조성물은 낮은 유전율, 낮은 유전손실률, 우수한 내마이그레이션 효과, 우수한 접착성(박리강도) 및 우수한 내열성을 갖는 적층필름 및 프린트 배선판을 제공할 수 있다.The thermosetting adhesive composition according to the embodiment of the present invention can provide a laminated film and a printed wiring board having low dielectric constant, low dielectric loss factor, excellent migration resistance, excellent adhesiveness (peel strength) and excellent heat resistance.

또한, 본 발명의 구현예에 따른 프린트 배선판은 스마트폰이나 휴대 전화로 대표되는 모바일형 통신 기기 및 그 기지국 장비 등 네트워크 관련 전자기기에 적용시 높은 전기적 신뢰성을 제공할 수 있다.In addition, the printed wiring board according to an embodiment of the present invention can provide high electrical reliability when applied to a network-related electronic device such as a mobile communication device and its base station equipment represented by a smart phone or a mobile phone.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 적층필름을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 프린트 배선판을 개략적으로 나타낸 단면도이다.
1 is a cross-sectional view schematically showing a laminated film according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a printed wiring board according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 본 발명의 일 구현예에 따른 열경화성 접착제 조성물을 상세히 설명한다.Hereinafter, a thermosetting adhesive composition according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 구현예에 따른 열경화성 접착제 조성물은 변성 폴리이미드 수지 100중량부, 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 5~20중량부 및 에폭시 수지 3~10중량부를 포함한다.The thermosetting adhesive composition according to an embodiment of the present invention includes 100 parts by weight of a modified polyimide resin, 5 to 20 parts by weight of a long-chain alkyl bismaleimide resin, and 3 to 10 parts by weight of an epoxy resin.

상기 변성 폴리이미드 수지, 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 및 상기 에폭시 수지의 함량이 상기 각 범위를 벗어나는 경우에는, 낮은 유전율, 낮은 유전손실률, 우수한 내마이그레이션 효과, 우수한 접착성(박리강도) 및 우수한 내열성 중 적어도 하나의 특성을 충족하지 못하는 적층필름, 금속박 적층판 및 프린트 배선판이 얻어질 수 있다.When the contents of the modified polyimide resin, the long-chain alkyl bismaleimide resin, and the epoxy resin are outside the above ranges, low dielectric constant, low dielectric loss rate, excellent migration resistance, excellent adhesion (peel strength) and excellent heat resistance A laminated film, a metal foil laminate, and a printed wiring board that do not satisfy at least one of the characteristics may be obtained.

상기 변성 폴리이미드 수지는 방향족 테트라카르복실산 무수물 및 디아민을 포함하는 모노머군의 반응물일 수 있다.The modified polyimide resin may be a reactant of a monomer group including an aromatic tetracarboxylic anhydride and a diamine.

상기 방향족 테트라카르복실산 무수물은 하기 화학식 1로 표시될 수 있다:The aromatic tetracarboxylic anhydride may be represented by the following Formula 1:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018074577070-pat00002
Figure 112018074577070-pat00002

식 중, X는 단결합, -SO2-, -CO-, -O-, -O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O- 또는 -COO-X1-OCO-(X1은 -(CH2)l-(l=1~20) 또는 -H2C-HC(-O-C(=O)-CH3)-CH2-를 나타낸다)를 나타낸다.In the formula, X is a single bond, -SO 2 -, -CO-, -O-, -OC 6 H 4 -C(CH 3 ) 2 -C 6 H 4 -O- or -COO-X 1 -OCO- (X 1 represents -(CH 2 ) 1 -(l=1 to 20) or -H 2 C-HC(-OC(=O)-CH 3 )-CH 2 -).

구체적으로, 상기 방향족 테트라카르복실산 무수물은 피로멜리트산 이무수물, 4, 4’-옥시디프탈산 이무수물, 3, 3’, 4, 4’-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3, 3’, 4, 4’-디페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 3, 3’, 4, 4'-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 1, 2, 3, 4-벤젠테트라카르복실산 무수물, 1, 4, 5, 8-나프탈렌테트라카르복실산 무수물, 2, 3, 6, 7-나프탈렌테트라카르복실산 무수물, 3, 3’, 4, 4’-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2, 2’, 3, 3’-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2, 3, 3’, 4’-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2, 3, 3’, 4’-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2, 3, 3’, 4’-디페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 2, 3, 3', 4’-디페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 2, 2-비스(3, 3’, 4, 4’-테트라카복시페닐)테트라플루오로프로판 이무수물, 2, 2’-비스(3, 4-디카복시페녹시페닐)술폰 이무수물, 2, 2-비스(2, 3-디카복시페닐)프로판 이무수물, 2, 2-비스(3, 4-디카복시페닐)프로판 이무수물, 4, 4’-[프로판-2, 2-디일비스(1, 4-페닐 렌옥시)]디프탈산 이무수물 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.Specifically, the aromatic tetracarboxylic anhydride is pyromellitic dianhydride, 4, 4'-oxydiphthalic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4'-diphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, 3, 3', 4, 4'-diphenyl sulfone tetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 3, 4-benzenetetracarboxylic acid Anhydride, 1, 4, 5, 8-naphthalenetetracarboxylic anhydride, 2, 3, 6, 7-naphthalenetetracarboxylic anhydride, 3, 3', 4, 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride , 2, 2', 3, 3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 3', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 3', 4'-benzo Phenonetetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 3', 4'-diphenylethertetracarboxylic dianhydride, 2, 3, 3', 4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2, 2-bis (3, 3', 4, 4'-tetracarboxyphenyl) tetrafluoropropane dianhydride, 2, 2'-bis (3, 4-dicarboxyphenoxyphenyl) sulfone dianhydride, 2, 2- Bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4, 4'-[propane-2, 2-diylbis(1, 4 -Phenyleneoxy)] diphthalic acid dianhydride or a combination thereof.

상기 디아민은 불포화 지방산(예를 들어, 올레산)의 이량체인 다이머산(일본공개특허공보 제1997-12712호 참조), 불포화 지방산(예를 들어, 올레산)의 삼량체인 트리머산(일본공개특허공보 제2013-505345호 참조) 또는 이들의 혼합물 중의 모든 카르복실기를 1급 아미노기로 치환한 것일 수 있다.The diamine is a dimer acid (refer to Japanese Laid-Open Patent Publication No. 1997-12712), which is a dimer of an unsaturated fatty acid (e.g., oleic acid), and a trimer acid (manufactured by Japanese Unexamined Patent Publication), a trimer of an unsaturated fatty acid (e.g. 2013-505345) or all carboxyl groups in a mixture thereof may be substituted with a primary amino group.

구체적으로, 상기 디아민은 하기 화학식 2 내지 화학식 8로 표시되는 적어도 1종의 화합물을 포함할 수 있다.Specifically, the diamine may include at least one compound represented by Formulas 2 to 8 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018074577070-pat00003
Figure 112018074577070-pat00003

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018074577070-pat00004
Figure 112018074577070-pat00004

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018074577070-pat00005
Figure 112018074577070-pat00005

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112018074577070-pat00006
Figure 112018074577070-pat00006

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112018074577070-pat00007
Figure 112018074577070-pat00007

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112018074577070-pat00008
Figure 112018074577070-pat00008

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112018074577070-pat00009
Figure 112018074577070-pat00009

상기 각 식 중, m+n=6~17이고, p+q=8~19이고, 파선부는 탄소-탄소 단결합 또는 탄소-탄소 이중 결합을 의미하고, R은 에틸렌기(-CH2CH2-) 또는 에텐일렌기(-CH=CH-)를 의미한다.In each of the above formulas, m+n=6 to 17, p+q=8 to 19, the broken line means a carbon-carbon single bond or a carbon-carbon double bond, and R is an ethylene group (-CH 2 CH 2 -) or It means a tenylene group (-CH=CH-).

상기 디아민의 시판품으로는, 예를 들어, 바사민 551(BASF저팬(주)제), 바사민 552(코그닉스저팬(주)제; 바사민 551의 수첨물), PRIAMINE 1075, PRIAMINE 1074(모두 쿠로다저팬(주)제) 등을 들 수 있다. 또한, 이들 시판품의 성분은 다이머산에서 유래된 성분이 통상 95~98질량% 정도이고, 잔부로서 트리머산에서 유래된 성분이 통상 2질량% 이하의 범위로 포함되어 있다.As a commercial item of the said diamine, for example, Basamine 551 (manufactured by BASF Japan Co., Ltd.), Basamine 552 (manufactured by Kognix Japan; Hydrogenated product of Vasamine 551), PRIAMINE 1075, PRIAMINE 1074 (all Kuroda Japan Co., Ltd. product) etc. are mentioned. In addition, the components of these commercially available products are usually about 95 to 98% by mass of the component derived from dimer acid, and the component derived from the trimer acid is usually contained in the range of 2% by mass or less.

상기 디아민의 다른 시판품으로는, PRIAMINE 1071(쿠로다저팬(주)제) 등을 들 수 있다. 또한, 이 시판품의 성분은 트리머산에서 유래된 성분이 통상 15~20질량% 정도이고, 잔부로서 다이머산에서 유래된 성분이 80질량%를 초과하여 포함되어 있다.As another commercial item of the said diamine, PRIAMINE 1071 (Kuroda Japan Co., Ltd. product) etc. are mentioned. In addition, as for the component of this commercial item, the component derived from trimer acid is usually about 15 to 20% by mass, and the balance contains more than 80% by mass of the component derived from dimer acid.

상기 디아민 중 다이머산에서 유래된 성분의 함량은 30몰% 이상일 수 있다.The content of the component derived from dimer acid in the diamine may be 30 mol% or more.

상기 모노머군은 디아미노폴리실록산을 더 포함할 수 있다.The monomer group may further include diaminopolysiloxane.

상기 디아미노폴리실록산이 포함될 경우, 상기 열경화성 접착제 조성물로부터 제조된 접착층의 유연성과 도막의 표면 평활성이 양호하게 되어, 상기 접착층의 금속박에 대한 밀착력이 향상될 수 있다.When the diaminopolysiloxane is included, the flexibility of the adhesive layer prepared from the thermosetting adhesive composition and the surface smoothness of the coating film become good, so that the adhesion of the adhesive layer to the metal foil can be improved.

상기 디아미노폴리실록산은 α, ω-비스(2-아미노에틸)폴리디메틸실록산, α, ω-비스(3-아미노프로필)폴리디메틸실록산, α, ω-비스(4-아미노부틸)폴리디메틸실록산, α, ω-비스(5-아미노펜틸)폴리디메틸실록산, α, ω-비스[3-(2-아미노페닐)프로필]폴리디메틸실록산, α, ω-비스[3-(4-아미노페닐)프로필]폴리디메틸실록산, 1, 3-비스(3-아미노프로필) 테트라메틸디실록산, 1, 3-비스(4-아미노부틸)테트라메틸디실록산 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. The diaminopolysiloxane is α, ω-bis (2-aminoethyl) polydimethylsiloxane, α, ω-bis (3-aminopropyl) polydimethylsiloxane, α, ω-bis (4-aminobutyl) polydimethylsiloxane, α,ω-bis(5-aminopentyl)polydimethylsiloxane, α,ω-bis[3-(2-aminophenyl)propyl]polydimethylsiloxane, α,ω-bis[3-(4-aminophenyl)propyl] ] Polydimethylsiloxane, 1, 3-bis(3-aminopropyl) tetramethyldisiloxane, 1, 3-bis(4-aminobutyl) tetramethyldisiloxane, or a combination thereof.

상기 디아민 중 상기 디아미노폴리실록산의 함량은 0.1~10몰%일 수 있다.The content of the diaminopolysiloxane in the diamine may be 0.1 to 10 mol%.

상기 변성 폴리이미드 수지는 폴리디메틸실록산을 포함할 수 있다.The modified polyimide resin may include polydimethylsiloxane.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 상기 열경화성 접착제 조성물의 완전 경화물의 유전율 및 유전손실률을 충분히 낮워주는 역할을 수행한다.The long-chain alkyl bismaleimide resin serves to sufficiently lower the dielectric constant and dielectric loss factor of the completely cured product of the thermosetting adhesive composition.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 말레이미드기, 적어도 2개의 이미드 결합을 갖는 2가의 기, 및 포화 또는 불포화의 2가의 탄화수소기를 갖는 화합물을 포함할 수 있다.The long-chain alkylbismaleimide resin may include a maleimide group, a divalent group having at least two imide bonds, and a compound having a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 1분자 중에 2군데 이상의 말레이미드에 의한 열경화부와, 알킬렌쇄에 의한 저유전 특성 발현부를 갖고 있으며, 또한 알킬렌쇄가 직쇄가 아니라 측쇄를 가짐으로써, 기타 유기 성분의 배합량에 비례해서 소정의 유전 특성이 얻어진다. 상기 말레이미드기는, 방향환에 결합될 수 있고, 지방족쇄에 결합될 수도 있지만, 유전 특성의 관점에서는, 지방족쇄에 결합되어 있는 것이 바람직하다.The long-chain alkyl bismaleimide resin has a thermosetting part by two or more maleimides in one molecule, and a low-dielectric property expression part by an alkylene chain, and the alkylene chain has a side chain instead of a straight chain. A predetermined dielectric property is obtained in proportion to the blending amount. The maleimide group may be bonded to an aromatic ring or to an aliphatic chain, but from the viewpoint of dielectric properties, it is preferable that it is bonded to an aliphatic chain.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지를 구성하는 주쇄는 탄소수 10 내지 102의 알킬렌쇄, 탄소수 12 내지 52의 알킬렌쇄, 탄소수 14 내지 22의 알킬렌쇄를 포함할 수 있다. 또한, 측쇄는, 탄소수 2 내지 50의 알킬기, 탄소수 3 내지 25의 알킬기, 탄소수 4 내지 10의 알킬기를 포함할 수 있다.The main chain constituting the long-chain alkylbismaleimide resin may include an alkylene chain having 10 to 102 carbon atoms, an alkylene chain having 12 to 52 carbon atoms, and an alkylene chain having 14 to 22 carbon atoms. In addition, the side chain may include an alkyl group having 2 to 50 carbon atoms, an alkyl group having 3 to 25 carbon atoms, and an alkyl group having 4 to 10 carbon atoms.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)의 하한값은 500 이상, 1000 이상, 1500 이상 또는 1700일 수 있고, 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지의 Mw의 상한값은 10,000 이하, 9,000 이하, 7,000 이하 또는 5,000일 수 있다. 취급성, 유동성 및 회로 매립성의 관점에서 (상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지의 Mw는 500 내지 10,000, 1,000 내지 9,000, 1,500 내지 9,000, 1,500 내지 7,000, 1,700 내지 5,000일 수 있다.The lower limit of the weight average molecular weight (Mw) of the long-chain alkyl bismaleimide resin may be 500 or more, 1000 or more, 1500 or more, or 1700, and the upper limit of Mw of the long-chain alkyl bismaleimide resin is 10,000 or less, 9,000 or less, 7,000 It may be less than or equal to 5,000. From the viewpoint of handleability, fluidity and circuit embedding (Mw of the long-chain alkylbismaleimide resin may be 500 to 10,000, 1,000 to 9,000, 1,500 to 9,000, 1,500 to 7,000, 1,700 to 5,000.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 하기 화학식 9로 표시될 수 있다.The long-chain alkylbismaleimide resin may be represented by the following formula (9).

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112018074577070-pat00010
Figure 112018074577070-pat00010

식 중, R 및 Q는 각각 독립된 2가의 유기기를 나타낸다. 구체적으로, R은 탄소수 8 내지 100의 분지를 갖는 알킬렌기, 탄소수 10 내지 70의 분지를 갖는 알킬렌기, 탄소수 15 내지 50의 분지를 갖는 알킬렌기를 나타내고, Q는 방향족, 예를 들어, 무수 피로멜리트산으로부터 2개의 산 무수물기를 제거한 기를 나타내고, n은 1 내지 10의 정수를 나타낸다.In the formula, R and Q each represent an independent divalent organic group. Specifically, R represents an alkylene group having a branch of 8 to 100 carbon atoms, an alkylene group having a branch of 10 to 70 carbon atoms, an alkylene group having a branch of 15 to 50 carbon atoms, and Q is an aromatic, for example, anhydrous pyrolysis. Represents a group in which two acid anhydride groups have been removed from melitic acid, and n represents an integer of 1 to 10.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지로는 시판되고 있는 화합물을 사용할 수 있다. 시판되고 있는 화합물로는, 예를 들어, Designer Molecules Inc.제 제품을 들 수 있고, 구체적으로는, BMI-1500, BMI-1700, BMI-3000, BMI-5000, BMI-9000(모두 상품명) 등을 들 수 있다. 보다 양호한 고주파 특성을 얻는 관점에서, 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지로서 BMI-3000을 사용하는 것이 보다 바람직하다.As the long-chain alkyl bismaleimide resin, a commercially available compound can be used. As a commercially available compound, a product made by Designer Molecules Inc. is mentioned, for example, specifically, BMI-1500, BMI-1700, BMI-3000, BMI-5000, BMI-9000 (all brand names), etc. Can be mentioned. From the viewpoint of obtaining better high-frequency characteristics, it is more preferable to use BMI-3000 as the long-chain alkylbismaleimide resin.

상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지의 함량이 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 5중량부 미만이면 유전율을 낮추는 효과가 미미하고, 20중량부를 초과하면 분자 사슬간 공간이 넓어지는 현상으로 인해 내열성을 저하시키는 문제점이 있다.If the content of the long-chain alkyl bismaleimide resin is less than 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin, the effect of lowering the dielectric constant is insignificant. There is a problem of lowering.

상기 에폭시 수지는 에폭시기가 3개 이상인 다관능성 에폭시 화합물을 포함할 수 있다.The epoxy resin may include a polyfunctional epoxy compound having three or more epoxy groups.

예를 들어, 상기 에폭시 수지는 페놀노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 비스페놀 S형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 스틸벤형 에폭시 화합물, 트리아진 골격 함유 에폭시 화합물, 플루오렌 골격함유 에폭시 화합물, 선상 지방족 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 글리시딜아민형 에폭시 화합물, 트리페놀메탄형 에폭시 화합물, 알킬 변성 트리페놀메탄형 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔 골격 함유 에폭시 화합물, 나프탈렌 골격 함유 에폭시 화합물, 아릴알킬렌형 에폭시 화합물, 테트라글리시딜자일릴렌디아민, 이들 에폭시 화합물을 다이머산으로 변성하여 이루어지는 변성 에폭시 화합물, 다이머산디글리시딜 에스테르 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. For example, the epoxy resin is a phenol novolak type epoxy compound, a cresol novolak type epoxy compound, a bisphenol A type epoxy compound, a bisphenol F type epoxy compound, a bisphenol S type epoxy compound, a hydrogenated bisphenol A type epoxy compound, a hydrogenated bisphenol F Type epoxy compound, stilbene type epoxy compound, triazine skeleton-containing epoxy compound, fluorene skeleton-containing epoxy compound, linear aliphatic epoxy compound, alicyclic epoxy compound, glycidylamine type epoxy compound, triphenolmethane type epoxy compound, alkyl modified Triphenolmethane type epoxy compound, biphenyl type epoxy compound, dicyclopentadiene skeleton containing epoxy compound, naphthalene skeleton containing epoxy compound, arylalkylene type epoxy compound, tetraglycidyl xylylenediamine, these epoxy compounds are modified with dimer acid The resulting modified epoxy compound, dimer acid diglycidyl ester, or a combination thereof may be included.

상기 에폭시 수지로는 시판되고 있는 화합물을 사용할 수 있다. 시판되고 있는 화합물로는, 예를 들어, 미츠비시화학(주)제의 jER603, jER828 이나 jER834, jER807, 신일철화학(주)제의 ST-3000, 다이셀화학공업(주)제의 세록사이드 2021P, 신일철화학(주)제의 YD-172-X75, 미츠비시가스화학(주)제의 TETRAD-X 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 본 발명의 접착제의 상용성, 그리고 저유전특성, 동밀착성 및 땜납 내열성의 밸런스 등의 점에서 비스페놀 A형 에폭시 화합물, 비스페놀 F형 에폭시 화합물, 수첨 비스페놀 A형 에폭시 화합물 및 지환식에폭시 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 바람직하고, 트리글리시딜-P-아미노페놀이 바람직하다.As the epoxy resin, a commercially available compound can be used. Commercially available compounds include, for example, jER603, jER828, jER834, jER807 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, ST-3000 manufactured by Shinil Iron Chemical Corporation, Seroxide 2021P manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd., YD-172-X75 made by Shinil Iron Chemical Co., Ltd., TETRAD-X made by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. are mentioned. Among these, in terms of compatibility of the adhesive of the present invention, low dielectric properties, copper adhesion and solder heat resistance balance, etc., bisphenol A type epoxy compound, bisphenol F type epoxy compound, hydrogenated bisphenol A type epoxy compound and alicyclic epoxy compound At least one selected from the group consisting of is preferable, and triglycidyl-P-aminophenol is preferable.

상기 에폭시 수지의 함량이 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 3중량부 미만이면 상기 변성 폴리이미드 수지의 경화가 충분하게 이루어지지 않아 내열성 및 접착력이 하락하는 문제가 있고, 10중량부를 초과하면 경화 반응에 참여하지 않은 에폭시기가 유전율을 높이는 문제를 발생시킨다.If the content of the epoxy resin is less than 3 parts by weight based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin, there is a problem that heat resistance and adhesion are deteriorated because the modified polyimide resin is not sufficiently cured, and if it exceeds 10 parts by weight, curing An epoxy group that does not participate in the reaction raises the dielectric constant.

상기 열경화성 접착제 조성물은 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 반응 개시제 2중량부 이하, 예를 들어, 0.1 내지 2중량부를 더 포함할 수 있다.The thermosetting adhesive composition may further include 2 parts by weight or less, for example, 0.1 to 2 parts by weight of a reaction initiator based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin.

상기 반응 개시제는 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지의 열경화를 촉진시키는 역할을 수행한다.The reaction initiator serves to accelerate the thermal curing of the long-chain alkylbismaleimide resin.

상기 반응 개시제는, 이에 한정되는 것은 아니지만, 과산화물을 포함할 수 있다. The reaction initiator is not limited thereto, but may include a peroxide.

상기 과산화물은 디쿠밀퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, 2-부타논퍼옥사이드, tert-부틸퍼벤조에이트, 디-tert-부틸퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산, 비스(tert-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠, tert-부틸히드로퍼옥시드 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The peroxide is dicumyl peroxide, dibenzoyl peroxide, 2-butanone peroxide, tert-butyl perbenzoate, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butyl peroxy ) Hexane, bis(tert-butylperoxyisopropyl)benzene, tert-butylhydroperoxide, or combinations thereof.

상기 열경화성 접착제 조성물은 상기 변성 폴리이미드 수지 100중량부에 대하여 경화촉진제 2중량부 이하, 예를 들어, 0.1 내지 1중량부를 더 포함할 수 있다.The thermosetting adhesive composition may further include 2 parts by weight or less, for example, 0.1 to 1 part by weight of a curing accelerator based on 100 parts by weight of the modified polyimide resin.

상기 경화촉진제는 상기 변성 폴리이미드 수지, 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 및 상기 에폭시 수지가 서로 뒤엉킨 상태로 결합되어 있는 상호 침투 폴리머 네트워크(Interpenetrating Polymer Network)를 형성하는 역할을 수행한다.The curing accelerator serves to form an interpenetrating polymer network in which the modified polyimide resin, the long-chain alkylbismaleimide resin, and the epoxy resin are entangled with each other.

상기 경화촉진제는 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 트리페닐포스핀 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The curing accelerator may include 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, triphenylphosphine, or a combination thereof. I can.

상기 열경화성 접착제 조성물은 상기 변성 폴리이미드 수지, 상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 및 상기 에폭시 수지와 같은 고형물을 용해시키는 유기용매를 더 포함할 수 있다.The thermosetting adhesive composition may further include an organic solvent for dissolving a solid material such as the modified polyimide resin, the long-chain alkyl bismaleimide resin, and the epoxy resin.

상기 유기용매는 메탄올, 에탄올, 부탄올, 부틸셀로솔브, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소류; 메톡시에틸아세테이트, 에톡시에틸아세테이트, 부톡시에틸아세테이트, 아세트산에틸 등의 에스테르류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈 등의 질소 함유류; 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The organic solvent includes alcohols such as methanol, ethanol, butanol, butyl cellosolve, ethylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; Aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, and mesitylene; Esters such as methoxyethyl acetate, ethoxyethyl acetate, butoxyethyl acetate, and ethyl acetate; Nitrogen-containing compounds such as N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone; Or a combination thereof.

상기 유기용매의 함량은 상기 유기용제를 포함하는 열경화성 접착제 조성물의 총중량 100중량부에 대하여 40~90중량부일 수 있다.The content of the organic solvent may be 40 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the thermosetting adhesive composition including the organic solvent.

상기 열경화성 접착제 조성물은 필요에 본 발명의 목적을 벗어나지 않는 범위에서 산화방지제, 이온 보충제, 멜라민 및 그 유도체, 각종 인산 에스테르 등의 인(燐) 화합물, 포스파젠계 화합물 등의 인(燐) 질소 함유 화합물, 실리콘계 화합물의 유기 및 무기 성분, 또는 이들의 조합을 더 포함할 수 있다. The thermosetting adhesive composition contains phosphorus nitrogen such as antioxidants, ion supplements, melamine and its derivatives, phosphorus compounds such as various phosphoric acid esters, and phosphazene compounds within the scope of the present invention, if necessary. It may further include a compound, organic and inorganic components of a silicon-based compound, or a combination thereof.

각종 인산 에스테르 등의 인(燐) 화합물의 시판품으로 아데카스타부 PFR, FP-600, FP-700(이상 (주)ADEKA제), SP-703, SP-670(이상 시코쿠화성공업(四國化成工業)(주)제), PX-200, CR-733S, CR 20-741(이상 다이하치화학공업(大八化學工業)(주)제), 클라리안트저팬주식회사제의 Exolit OP935 등이 있다. 성분의 사용량은 특히 한정되지 않지만, 통상 수지 부분 100중량부에 대해 1~30중량부 정도이다.Adecastaboo PFR, FP-600, FP-700 (above made by ADEKA Co., Ltd.), SP-703, SP-670 (above Shikoku Chemical Industry Co., Ltd.) as a commercial product of phosphorus compounds such as various phosphoric acid esters. Industrial Co., Ltd.), PX-200, CR-733S, CR 20-741 (manufactured by Daihachi Chemical Co., Ltd.), and Exolit OP935 manufactured by Clariant Japan Co., Ltd. Although the amount of the component is not particularly limited, it is usually about 1 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the resin part.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 일 구현예에 따른 열경화성 접착제 조성물은 할로겐 물질 및 이온성 불순물을 포함하지 않으므로, 전기 절연성 기재에 적용시 저유전율 및 내마이그레이션 특성을 지닌 전기적 신뢰성이 개선된 커버레이 필름 및 접착시트를 제공할 수 있다.Since the thermosetting adhesive composition according to an embodiment of the present invention having the above configuration does not contain halogen substances and ionic impurities, the coverlay with improved electrical reliability having low dielectric constant and migration resistance when applied to an electrically insulating substrate Films and adhesive sheets can be provided.

이하, 본 발명의 일 구현예에 따른 적층필름을 상세히 설명한다.Hereinafter, a laminated film according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 구현예에 따른 적층필름은 기재필름 및 상기 기재필름상에 배치된 접착층을 포함한다.A laminated film according to an embodiment of the present invention includes a base film and an adhesive layer disposed on the base film.

상기 적층필름은 커버레이 필름일 수 있다.The laminated film may be a coverlay film.

상기 기재필름은 절연성 필름 또는 이형필름일 수 있다.The base film may be an insulating film or a release film.

상기 절연성 필름은 폴리이미드, 폴리에스테르, 폴리페닐렌술페이트, 폴리에스테르술폰, 폴리에틸케톤, 아라미드, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.The insulating film may include polyimide, polyester, polyphenylene sulfate, polyester sulfone, polyethyl ketone, aramid, polycarbonate, polyarylate, or a combination thereof.

상기 기재필름의 두께는 3∼50㎛일 수 있다.The thickness of the base film may be 3 to 50 μm.

상기 접착층은 상기 열경화성 접착제 조성물의 경화물을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 접착층은 상기 열경화성 접착제 조성물의 반경화물(semi-cured product) 또는 완전 경화물(completely cured product)을 포함할 수 있다.The adhesive layer may include a cured product of the thermosetting adhesive composition. Specifically, the adhesive layer may include a semi-cured product or a completely cured product of the thermosetting adhesive composition.

상기 적층필름이 커버레이 필름인 경우, 상기 접착층은 상기 열경화성 접착제 조성물의 반경화물을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 적층필름은 상기 열경화성 접착제 조성물의 완전 경화물을 포함하는 접착층을 포함하는 합성수지 필름일 수 있다.When the laminated film is a coverlay film, the adhesive layer may include a semi-finished product of the thermosetting adhesive composition. However, the present invention is not limited thereto, and the laminated film may be a synthetic resin film including an adhesive layer including a fully cured product of the thermosetting adhesive composition.

본 명세서에서, “반경화물”이란 최대 경화도(즉, 100%의 경화도)보다 작은 경화도를 갖는 경화물을 의미하고, “완전 경화물”이란 최대 경화도(즉, 100%의 경화도)를 갖는 경화물을 의미한다.In the present specification, “semi-cured product” refers to a cured product having a degree of curing less than the maximum curing degree (ie, 100% curing degree), and “completely cured product” refers to the maximum curing degree (ie, 100% curing degree) It means a cured product having.

또한 본 명세서에서, “최대 경화도”란 추가적인 열을 가하더라도 더 이상의 경화가 일어나지 않는 수준의 경화도를 의미한다.In addition, in the present specification, “maximum curing degree” means a degree of curing at a level at which further curing does not occur even when additional heat is applied.

상기 적층필름은 커버레이 필름일 수 있다.The laminated film may be a coverlay film.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 적층필름(100)을 개략적으로 나타낸 단면도이다. 1 is a schematic cross-sectional view of a laminated film 100 according to an embodiment of the present invention.

도 1의 적층필름(100)은 커버레이 필름으로 지칭될 수 있다.The laminated film 100 of FIG. 1 may be referred to as a coverlay film.

도 1의 적층필름(100)은 기재필름(111), 접착층(112) 및 이형필름(120)을 포함한다.The laminated film 100 of FIG. 1 includes a base film 111, an adhesive layer 112 and a release film 120.

기재필름(111) 및 이에 적층된 접착층(112)은 커버레이(110)로 지칭될 수 있다.The base film 111 and the adhesive layer 112 stacked thereon may be referred to as a coverlay 110.

도 1의 적층필름(100)은 하기와 같은 방법으로 제조될 수 있다. 즉, 상기 열경화성 접착제 조성물을 연속 주행하는 기재필름(111)에 도포 후, 상기 열경화성 접착제 조성물이 도포된 기재필름(111)을 인라인 드라이어에 통과시켜, 100 내지 170℃에서 2 내지 10분간 유기용매를 제거함으로써 건조시켜 반경화 상태의 접착층(112)을 형성하고, 상기 접착층(112)을 롤 라미네이터를 이용하여 이형필름(120)과 압착시켜 적층하여 적층필름(100)을 제조할 수 있다. 그 후, 40 내지 60℃ 컨벡션 오븐에서 12시간 내지 48시간의 숙성을 통하여 접착층(112)의 경화도를 조절할 수 있다. 상기 열경화성 접착제 조성물을 기재필름(111)에 도포하는 방식으로는 콤마(comma) 코팅, 립(Lip) 코팅, 롤(Roll) 코팅, 그라비어(Gravure) 코팅, 블레이드(Blade) 코팅, 와이어 바(Wire bar) 코팅, 리버스(Reverse) 코팅 등을 사용할 수 있다.The laminated film 100 of FIG. 1 may be manufactured by the following method. That is, after applying the thermosetting adhesive composition to the base film 111 on which the thermosetting adhesive composition is continuously running, the base film 111 on which the thermosetting adhesive composition is applied is passed through an in-line dryer, and an organic solvent is applied at 100 to 170°C for 2 to 10 minutes. It is dried by removing to form the adhesive layer 112 in a semi-cured state, and the adhesive layer 112 is compressed and laminated with the release film 120 using a roll laminator to prepare the laminated film 100. Thereafter, the degree of curing of the adhesive layer 112 may be adjusted through aging for 12 to 48 hours in a 40 to 60° C. convection oven. Methods of applying the thermosetting adhesive composition to the base film 111 include comma coating, lip coating, roll coating, gravure coating, blade coating, wire bar bar) coating, reverse coating, etc. can be used.

이형필름(120)은 이형지일 수 있다.The release film 120 may be a release paper.

이하, 본 발명의 일 구현예에 따른 프린트 배선판을 상세히 설명한다.Hereinafter, a printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described in detail.

도 2는 본 발명의 일 구현예에 따른 프린트 배선판(300)을 개략적으로 나타낸 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view of a printed wiring board 300 according to an embodiment of the present invention.

도 2의 프린트 배선판(300)은 기재필름(311), 접착층(312) 및 금속박 적층판(320)을 포함한다.The printed wiring board 300 of FIG. 2 includes a base film 311, an adhesive layer 312, and a metal foil laminate 320.

금속박 적층판(320)은 회로패턴으로 에칭된 금속박(320a)을 포함할 수 있다.The metal foil laminate 320 may include a metal foil 320a etched with a circuit pattern.

금속박(320a)으로는 구리, 알루미늄, 철, 금, 은, 니켈, 팔라듐, 크롬, 몰리브덴 또는 이들 합금의 박이 적합하게 사용되고, 가공성, 굴곡성, 전기 전도율 등의 관점에서 구리박이 바람직하다.As the metal foil 320a, copper, aluminum, iron, gold, silver, nickel, palladium, chromium, molybdenum, or a foil of these alloys is suitably used, and copper foil is preferable from the viewpoints of workability, flexibility, electrical conductivity, and the like.

기재필름(311) 및 이에 적층된 접착층(312)은 커버레이(310)로 지칭될 수 있다.The base film 311 and the adhesive layer 312 stacked thereon may be referred to as a coverlay 310.

도 2의 프린트 배선판(300)은 85%의 상대습도 및 85℃의 온도 조건 하에서 100V의 전압이 인가되었을 때, 1,000hr 이내에 회로의 단락이 발생하지 않는 내마이그래이션 특성을 가질 수 있다.The printed wiring board 300 of FIG. 2 may have a migration resistance that does not cause a short circuit within 1,000 hr when a voltage of 100V is applied under 85% relative humidity and 85°C temperature conditions.

프린트 배선판(300)은 연성 인쇄 회로 기판일 수 있다.The printed wiring board 300 may be a flexible printed circuit board.

이하, 실시예들을 들어 본 발명에 관하여 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명이 이러한 실시예들에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

실시예Example

실시예 1~5 및 비교예 1~4Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4

(열경화성 접착제 조성물의 제조)(Preparation of thermosetting adhesive composition)

변성 폴리이미드 수지(A)(아라카와 화학공업(주)제, 상품명 PIAD 시리즈), 장쇄 알킬비스말레이미드 수지(B)(Designer Molecules Inc.제, 상품명 「BMI-3000」), 에폭시 수지(C)(트리글리시딜-P-아미노페놀, 국도화학, 상품명 「PA-805」), 경화촉진제(D)(2-메틸이미다졸) 및 반응 개시제(E)(2,5-디메틸-2,5-디(t-부틸퍼옥시)헥산)를 톨루엔 중에서 하기 표 1의 비율로 혼합하여 35중량%의 불휘발분을 갖는 열경화성 접착제 조성물을 제조하였다. 이때, 변성 폴리이미드 수지로는 PIAD100H, PIAD100L 및 PIAD200을 각각 2:1:2의 중량비로 실온(25℃)에서 교반하면서 혼합한 것을 사용하였다. 또한, 상기 제조된 열경화성 접착제 조성물 중 톨루엔의 함량은 65중량%이었다. 하기 표 1에서, 각 수치의 단위는 중량부이다.Modified polyimide resin (A) (manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., brand name PIAD series), long-chain alkyl bismaleimide resin (B) (manufactured by Designer Molecules Inc., brand name “BMI-3000”), epoxy resin (C) (Triglycidyl-P-aminophenol, Kukdo Chemical, brand name "PA-805"), curing accelerator (D) (2-methylimidazole) and reaction initiator (E) (2,5-dimethyl-2,5 -Di(t-butylperoxy)hexane) was mixed in toluene in the ratio shown in Table 1 to prepare a thermosetting adhesive composition having a nonvolatile content of 35% by weight. At this time, the modified polyimide resin was a mixture of PIAD100H, PIAD100L and PIAD200 in a weight ratio of 2:1:2 while stirring at room temperature (25°C). In addition, the content of toluene in the prepared thermosetting adhesive composition was 65% by weight. In Table 1 below, the units of each numerical value are parts by weight.

성분ingredient 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 AA 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 100100 BB 55 1515 2020 1515 1515 33 2222 1515 1515 CC 55 55 55 33 1010 55 55 22 1515 DD 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One EE 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One 1One

(커버레이 필름의 제조)(Manufacture of coverlay film)

상기 실시예 1~5 및 비교예 1~4에서 제조된 각각의 열경화성 접착제 조성물을 전기 절연성 기재(두께: 12.5㎛)에 코팅한 후 150℃에서 2분간 건조하여 20㎛의 두께를 갖는 접착층을 형성한 다음, 상기 접착층 위에 이형지(율촌화학사 제품명: YC-7, 두께: 125㎛)를 라미네이트딩하여 커버레이 필름을 제조하였다.Each thermosetting adhesive composition prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on an electrically insulating substrate (thickness: 12.5 μm) and dried at 150° C. for 2 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 20 μm. Then, a release paper (Yulchon Chemical Co., Ltd. product name: YC-7, thickness: 125 μm) was laminated on the adhesive layer to prepare a coverlay film.

(접착시트의 제조)(Manufacture of adhesive sheet)

상기 실시예 1~5 및 비교예 1~4에서 제조된 각각의 열경화성 접착제 조성물을 PET 재질의 이형필름(TAK사, 제품명: RPK201, 두께: 38㎛)에 코팅한 후 150℃에서 2분간 건조하여 20㎛의 두께를 갖는 접착층을 형성한 다음, 상기 접착층 위에 이형지(율촌화학사, 제품명: YC-7, 두께: 125㎛)를 라미네이트딩하여 접착시트를 제조하였다.Each of the thermosetting adhesive compositions prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 was coated on a PET release film (TAK, product name: RPK201, thickness: 38 μm) and dried at 150° C. for 2 minutes. After forming an adhesive layer having a thickness of 20 μm, a release paper (Yulchon Chemical Co., Ltd., product name: YC-7, thickness: 125 μm) was laminated on the adhesive layer to prepare an adhesive sheet.

평가예Evaluation example

평가예 1: 유전율 및 유전손실률 평가Evaluation Example 1: Evaluation of dielectric constant and dielectric loss factor

상기 실시예 1~5 및 비교예 1~4에서 제조된 각각의 접착시트를 150℃에서 1시간 동안 경화시켜 총 500㎛ 두께의 경화물 시트를 얻었다. 이후, 상기 각 경화물 시트에 대하여 유전율 측정장치(RF 임피던스 분석기, Agilent사, 모델명: E4991A)를 이용하여 ASTM D150에 따라 1GHz에 있어서의 유전율 및 유전정접을 3회 측정한 후, 그 평균값을 하기 표 2에 유전율 및 유전손실률로 표기하였다.Each of the adhesive sheets prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 were cured at 150° C. for 1 hour to obtain a cured sheet having a total thickness of 500 μm. Thereafter, the dielectric constant and dielectric loss tangent at 1 GHz were measured three times in accordance with ASTM D150 using a dielectric constant measuring device (RF impedance analyzer, Agilent, model name: E4991A) for each of the cured sheets, and the average value In Table 2, they are expressed as dielectric constant and dielectric loss factor.

평가예 2: 내마이그레이션 특성 평가Evaluation Example 2: Evaluation of migration resistance properties

상기 실시예 1~5 및 비교예 1~4에서 제조된 각각의 커버레이 필름을 사용하여 도 3의 프린트 배선판(300)과 같은 단면 구조를 갖는 단층판 평가용 시험편을 제조하였다. 구체적으로, 연성 동박 적층판에 라인 폭 대 스페이스 폭이 50㎛:50㎛인 회로 패턴을 형성하고, 그 회로 패턴 형성면에 상기 각 커버레이 필름을 프레스 장치를 사용하여, 온도 160℃, 압력 45Kgf/cm2 및 가압 시간 60분의 조건 하에서 접합하여 단층판 평가용 시험편을 제조하였다. 이후, 상기 각 단층판 평가용 시험편에 대하여 온도 85℃ 및 상대습도 85%의 조건 하에서 회로의 양극에 100V의 직류전압을 가하여 내마이그레이션 특성을 측정하였으며, 1,000시간 경과 후 도체간에 단락이 발생하거나, 덴트라이트가 발생한 경우에는 하기 표 2에 X로 표기하고, 그렇지 않은 경우에는 ○로 표기하였다.Using each of the coverlay films prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4, a test piece for evaluating a single layer plate having the same cross-sectional structure as the printed wiring board 300 of FIG. 3 was prepared. Specifically, a circuit pattern having a line width vs. space width of 50 µm: 50 µm was formed on the flexible copper clad laminate, and each of the coverlay films was pressed on the circuit pattern formation surface using a press device, at a temperature of 160° C. and a pressure of 45 Kgf/ A test piece for evaluation of a single-layer plate was prepared by bonding under the conditions of cm 2 and a pressing time of 60 minutes. Thereafter, the migration resistance was measured by applying a DC voltage of 100V to the anode of the circuit under conditions of a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% for each of the single-layer plate evaluation specimens, and a short circuit occurred between conductors after 1,000 hours, or When dentrite occurs, it is indicated by X in Table 2 below, and when it is not, indicated by ○.

평가예 3: 접착강도 평가Evaluation Example 3: Evaluation of adhesive strength

상기 실시예 1~5 및 비교예 1~4에서 제조된 각각의 커버레이 필름의 접착강도를 하기와 같은 방법으로 측정하였다. 즉, 상기 각 커버레이 필름의 이형지를 제거한 다음, 상기 각 커버레이 필름의 접착제 면을 1oz(두께: 약 35um)의 압연 동박(니꼬금속(日鑛金屬)(주)제, 전해박(箔))의 광택면에 160℃Х7.7MPaХ60분의 조건 하에서 프레스하여 커버레이 접착 동박을 제조하였다. 이후, 전기 절연성 기재를 제거하고 이렇게 제조한 커버레이 접착 동박에 커터를 사용해서 커버레이 필름 측에서 2mm 폭의 칼 자국을 넣었다. 이 칼 자국을 인장속도 50mm/분의 조건으로 90도 방향으로 동박으로부터 박리할 때의 박리강도를 측정하여, 그 결과를 하기 표 2에 표기하였다.The adhesive strength of each of the coverlay films prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 was measured by the following method. That is, after removing the release paper of each of the coverlay films, the adhesive side of each of the coverlay films is 1oz (thickness: about 35um) rolled copper foil (manufactured by Nikko Metal Co., Ltd., electrolytic foil). ) Was pressed on the glossy surface of 160°C for 7.7 MPa for 60 minutes to prepare a coverlay adhesive copper foil. Thereafter, the electrically insulating substrate was removed, and a 2 mm wide cut was put on the coverlay adhesive copper foil prepared in this way by using a cutter. The peel strength when peeling this cut from the copper foil in the 90 degree direction under the condition of a tensile speed of 50 mm/min was measured, and the results are shown in Table 2 below.

평가예 4: 납땜 내열성 평가Evaluation Example 4: Evaluation of soldering heat resistance

상기 평가예 3의 접착강도 평가를 위한 시료 준비와 동일한 방법으로 시료를 제작하여, 상기 각 시편을 가로 50mm 및 세로 50mm가 되도록 자르고, 온도 23℃ 및 상대습도 55%의 분위기 하에서 24시간 처리한 후, 신속하게 280℃ 온도의 납땜조 위로 커버레이 필름이 액상물질과 접촉하도록 1분간 띄우고, 접착층 내부에 박리가 발생할 경우에는 하기 표 2에 X로 표기하고, 그렇지 않은 경우에는 ○로 표기하였다.A sample was prepared in the same manner as the sample preparation for the evaluation of the adhesive strength of Evaluation Example 3, and each of the specimens was cut to be 50 mm in width and 50 mm in length, and treated for 24 hours in an atmosphere at a temperature of 23°C and a relative humidity of 55%. , Quickly float the coverlay film on a soldering bath at a temperature of 280° C. for 1 minute so that the coverlay film contacts the liquid material, and when peeling occurs inside the adhesive layer, it is indicated by X in Table 2, and otherwise indicated by ○.

성분ingredient 실시예Example 비교예Comparative example 1One 22 33 44 55 1One 22 33 44 접착
강도(N/cm)
adhesion
Strength (N/cm)
1111 88 77 99 1313 1212 66 55 1414
납땜내열성(℃)Soldering heat resistance (℃) XX XX 유전율permittivity 2.42.4 2.42.4 2.52.5 2.42.4 2.52.5 2.62.6 2.32.3 2.42.4 2.42.4 유전손실률Dielectric loss factor 0.0050.005 0.0040.004 0.0030.003 0.0030.003 0.0050.005 0.0060.006 0.0030.003 0.0030.003 0.0070.007 내마이그레이션특성Resistance to migration XX

상기 표 2를 참조하면, 실시예 1~5에서 제조된 각각의 열경화성 접착제 조성물을 사용하는 경우에는 납땜 내열성 및 내마이그레이션 특성이 모두 우수하고, 접착강도, 유전율 및 유전손실률도 각각의 정해진 스펙(접착강도: 7N/m 이상, 유전율: 2.5 이하, 유전손실률: 0.005 이하)을 모두 충족하는 것으로 나타났다. 반면에, 비교예 1~4에서 제조된 각각의 열경화성 접착제 조성물을 사용하는 경우에는 납땜 내열성 및 내마이그레이션 특성 중 적어도 하나가 열악하거나, 및/또는 접착강도, 유전율 및 유전손실률 중 적어도 하나가 각각의 정해진 스펙(접착강도: 7N/m 이상, 유전율: 2.5 이하, 유전손실률: 0.005 이하)을 충족하지 못하는 것으로 나타났다.Referring to Table 2, when each thermosetting adhesive composition prepared in Examples 1 to 5 is used, both soldering heat resistance and migration resistance are excellent, and the adhesive strength, dielectric constant, and dielectric loss factor are also specified in each specified specification (adhesion Strength: 7N/m or more, dielectric constant: 2.5 or less, dielectric loss factor: 0.005 or less) were all satisfied. On the other hand, when each thermosetting adhesive composition prepared in Comparative Examples 1 to 4 is used, at least one of soldering heat resistance and migration resistance is poor, and/or at least one of adhesive strength, dielectric constant and dielectric loss factor is each It was found that it did not meet the specified specifications (adhesive strength: 7N/m or more, dielectric constant: 2.5 or less, dielectric loss factor: 0.005 or less).

본 발명은 도면 및 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 구현예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다. The present invention has been described with reference to the drawings and embodiments, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.

100: 적층필름 111, 311: 기재필름
112, 312: 접착층 110, 310: 커버레이
120: 이형필름 300: 프린트 배선판
320: 금속박 적층판 320a: 금속박
100: laminated film 111, 311: base film
112, 312: adhesive layer 110, 310: coverlay
120: release film 300: printed wiring board
320: metal foil laminate 320a: metal foil

Claims (15)

방향족 테트라카르복실산 무수물 및 디아민을 포함하는 모노머군의 반응물인 변성 폴리이미드 수지 100중량부;
탄소수 10 이상의 알킬렌쇄를 포함하는 주쇄와, 상기 알킬렌쇄에 결합된 알킬기를 포함하는 측쇄를 갖는 장쇄 알킬비스말레이미드 수지 5~20중량부;
에폭시 수지 3~10중량부;
반응 개시제 2중량부 이하; 및
경화촉진제 2중량부 이하를 포함하는 열경화성 접착제 조성물.
100 parts by weight of a modified polyimide resin which is a reactant of a monomer group containing an aromatic tetracarboxylic anhydride and a diamine;
5 to 20 parts by weight of a long-chain alkylbismaleimide resin having a main chain including an alkylene chain having 10 or more carbon atoms and a side chain including an alkyl group bonded to the alkylene chain;
3 to 10 parts by weight of an epoxy resin;
2 parts by weight or less of a reaction initiator; And
A thermosetting adhesive composition comprising 2 parts by weight or less of a curing accelerator.
제1항에 있어서,
상기 방향족 테트라카르복실산 무수물은 하기 화학식 1로 표시되는 열경화성 접착제 조성물:
[화학식 1]
Figure 112018074577070-pat00011

식 중, X는 단결합, -SO2-, -CO-, -O-, -O-C6H4-C(CH3)2-C6H4-O- 또는 -COO-X1-OCO-(X1은 -(CH2)l-(l=1~20) 또는 -H2C-HC(-O-C(=O)-CH3)-CH2-를 나타낸다)를 나타낸다.
The method of claim 1,
The aromatic tetracarboxylic anhydride is a thermosetting adhesive composition represented by the following formula (1):
[Formula 1]
Figure 112018074577070-pat00011

In the formula, X is a single bond, -SO 2 -, -CO-, -O-, -OC 6 H 4 -C(CH 3 ) 2 -C 6 H 4 -O- or -COO-X 1 -OCO- (X 1 represents -(CH 2 ) 1 -(l=1 to 20) or -H 2 C-HC(-OC(=O)-CH 3 )-CH 2 -).
제1항에 있어서,
상기 디아민은 불포화 지방산의 이량체인 다이머산, 불포화 지방산의 삼량체인 트리머산 또는 이들의 혼합물 중의 모든 카르복실기를 1급 아미노기로 치환한 것인 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The diamine is a dimer acid that is a dimer of an unsaturated fatty acid, a trimer acid that is a trimer of an unsaturated fatty acid, or all carboxyl groups in a mixture thereof with a primary amino group.
제1항에 있어서,
상기 변성 폴리이미드 수지는 폴리디메틸실록산을 포함하는 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The modified polyimide resin is a thermosetting adhesive composition comprising polydimethylsiloxane.
제1항에 있어서,
상기 장쇄 알킬비스말레이미드 수지는 말레이미드기, 적어도 2개의 이미드 결합을 갖는 2가의 기, 및 포화 또는 불포화의 2가의 탄화수소기를 갖는 화합물을 포함하는 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The long-chain alkyl bismaleimide resin is a thermosetting adhesive composition comprising a compound having a maleimide group, a divalent group having at least two imide bonds, and a saturated or unsaturated divalent hydrocarbon group.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 에폭시기가 3개 이상인 다관능성 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The epoxy resin is a thermosetting adhesive composition comprising a multifunctional epoxy resin having three or more epoxy groups.
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 모노머군은 디아미노폴리실록산을 더 포함하는 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
The monomer group is a thermosetting adhesive composition further comprising diaminopolysiloxane.
제1항에 있어서,
유기용매를 더 포함하고, 상기 유기용매의 함량은 상기 유기용매를 포함하는 열경화성 접착제 조성물의 총중량 100중량부에 대하여 40~90중량부인 열경화성 접착제 조성물.
The method of claim 1,
A thermosetting adhesive composition further comprising an organic solvent, wherein the content of the organic solvent is 40 to 90 parts by weight based on 100 parts by weight of the total weight of the thermosetting adhesive composition including the organic solvent.
기재필름; 및
상기 기재필름상에 배치된 접착층을 포함하고,
상기 접착층은 제1항 내지 제6항, 제9항 및 제10항 중 어느 한 항에 따른 열경화성 접착제 조성물의 반경화물을 포함하는 적층필름.
Base film; And
Including an adhesive layer disposed on the base film,
The adhesive layer is a laminated film comprising a semi-finished product of the thermosetting adhesive composition according to any one of claims 1 to 6, 9 and 10.
제11항에 있어서,
상기 적층필름은 커버레이 필름인 적층필름.
The method of claim 11,
The laminated film is a laminated film that is a coverlay film.
제11항에 따른 적층필름을 포함하는 프린트 배선판.A printed wiring board comprising the laminated film according to claim 11. 제13항에 있어서,
상기 프린트 배선판은 85%의 상대습도 및 85℃의 온도 조건 하에서 100V의 전압이 인가되었을 때, 1,000hr 이내에 회로의 단락이 발생하지 않는 내마이그래이션 특성을 갖는 프린트 배선판.
The method of claim 13,
The printed wiring board has migration resistance characteristics in which a circuit short circuit does not occur within 1,000 hours when a voltage of 100V is applied under 85% relative humidity and 85°C temperature conditions.
제13항에 있어서,
상기 프린트 배선판은 연성 인쇄 회로 기판인 프린트 배선판.
The method of claim 13,
The printed wiring board is a printed wiring board which is a flexible printed circuit board.
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