KR102217687B1 - Quantum dot and method for preparing the same - Google Patents

Quantum dot and method for preparing the same Download PDF

Info

Publication number
KR102217687B1
KR102217687B1 KR1020190145186A KR20190145186A KR102217687B1 KR 102217687 B1 KR102217687 B1 KR 102217687B1 KR 1020190145186 A KR1020190145186 A KR 1020190145186A KR 20190145186 A KR20190145186 A KR 20190145186A KR 102217687 B1 KR102217687 B1 KR 102217687B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
reaction
meth
acrylate
group
Prior art date
Application number
KR1020190145186A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20210001843A (en
Inventor
홍승모
송진한
최성훈
이형원
이인원
Original Assignee
주식회사 신아티앤씨
(주)유니암
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 신아티앤씨, (주)유니암 filed Critical 주식회사 신아티앤씨
Priority to KR1020190145186A priority Critical patent/KR102217687B1/en
Publication of KR20210001843A publication Critical patent/KR20210001843A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102217687B1 publication Critical patent/KR102217687B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09D133/08Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/56Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing sulfur
    • C09K11/562Chalcogenides
    • C09K11/565Chalcogenides with zinc cadmium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/70Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/88Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing selenium, tellurium or unspecified chalcogen elements
    • C09K11/881Chalcogenides
    • C09K11/883Chalcogenides with zinc or cadmium
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y20/00Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures

Abstract

본 발명은 양자점 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 상기 양자점의 표면에는, 카르복실기와 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 폴리머가 리간드 결합되어 있어, 상기 양자점의 안정성과 광학 특성이 향상될 수 있다.The present invention relates to a quantum dot and a method of manufacturing the same, and more particularly, a polymer including a carboxyl group and a (meth)acrylate group is ligand-bonded on the surface of the quantum dot, so that the stability and optical properties of the quantum dot will be improved. I can.

Description

양자점 및 이의 제조방법 {QUANTUM DOT AND METHOD FOR PREPARING THE SAME} Quantum dot and its manufacturing method {QUANTUM DOT AND METHOD FOR PREPARING THE SAME}

본 발명은 양자점 및 이의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a quantum dot and a method of manufacturing the same.

양자점(quantum dot, QD)이란 3차원적으로 반도체성 나노 크기 입자로서, 우수한 광학적, 전기적 특성을 나타낸다. 예를 들면, 양자점은 같은 물질로 만들어지더라도 입자의 크기에 따라서 방출하는 빛의 색상이 달라질 수 있다. 이와 같은 특성에 의하여 양자점은 발광 다이오드(light emitting diode, LED), 바이오센서(bio sensor), 레이저(laser), 태양전지(solar battery) 분야에서 활용이 가능한 나노 소재로 주목받고 있다. 또한, 양자점은 크기 조절에 의한 양자제한 효과를 통하여 동일 조성의 양자점에서 다양한 스펙트럼을 방출할 수 있으며, 높은 양자효율과 색순도가 매우 우수한 발광 스펙트럼의 확보가 가능할 뿐만 아니라 무기물 계열의 반도체 조성이므로 유기물 계열의 형광 염료와 비교하여 매우 우수한 광안정성을 가질 수 있다.Quantum dots (QD) are three-dimensional semiconducting nano-sized particles and exhibit excellent optical and electrical properties. For example, even if a quantum dot is made of the same material, the color of light emitted may vary depending on the size of the particle. Due to such characteristics, quantum dots are attracting attention as nanomaterials that can be used in the fields of light emitting diodes (LEDs), bio sensors, lasers, and solar batteries. In addition, quantum dots can emit various spectra from quantum dots of the same composition through the quantum limiting effect by adjusting the size, and it is possible to secure a luminous spectrum with very excellent quantum efficiency and color purity. Compared to the fluorescent dye of, it may have very excellent photostability.

일반적으로, 주기율표상에서 II족의 원소와 VI 족의 원소들로 구성되는 II-VI족 화합물 반도체 조성을 이용한 양자점은 높은 발광효율과 광안정성, 가시영역의 빛을 낼 수 있는 소재로서 현재까지 가장 많은 연구가 진행되어 왔다. 그러나 Cd 및 Hg 등을 함유하고 있어 환경 유해성 및 독성 차원에서 심각한 문제를 야기시킬 수 있을 뿐 아니라 바이오 분야로 이용할 경우 인체에 유해한 영향을 미칠 수 가 있어서 최근에는 II-VI족 양자점을 대체할 수 있는 III-VI족의 이성분계 및 I-III-VI족의 삼성분계 양자점이 많이 연구되고 있다.In general, quantum dots using the II-VI compound semiconductor composition composed of Group II and VI elements on the periodic table are materials capable of high luminous efficiency, light stability, and light in the visible region. Has been going on. However, since it contains Cd and Hg, it can cause serious problems in terms of environmental hazards and toxicity, and can have a harmful effect on the human body when used in the bio field. In recent years, it can replace II-VI quantum dots. A large number of studies are being conducted on the binary system of group III-VI and the ternary system of group I-III-VI.

이중, III-V족 양자점 중의 하나인 InP 양자점은 II-VI족 화합물 반도체와 비교하여 무독성의 장점과 CdSe 양자점과 유사한 발광 영역 및 양호한 발광 효율로 인해 가장 광범위하게 연구되고 있고 있으며, InP 양자점은 가시광선에서 근적외선 영역까지 광범위한 발광영역을 갖는 대표적인 III-V족 양자점이다. 하지만, 일반적으로 InP 양자점은 CdSe 계열의 양자점과 비교해서, 다소 낮은 발광효율과 비교적 넓은 발광 반폭 값을 나타낸다. 이러한 이유로 향상된 발광 효율을 갖는 InP 양자점을 합성하기 위해 많은 연구가 진행되어 왔다. 이러한 단점을 해결하고자 InP 양자점 표면에 존재하는 인(P)의 결합하지 않은 결합손(daling bond)을 불화수소 에칭(HF etching)과 자외선 조사를 통해 효과적으로 제거함으로써 안정한 표면 상태로 인해 30-40%의 향상된 발광 효율을 갖는 InP 양자점을 합성하기도 하였다. 또한 불화수소 에칭을 이용하여 InP 양자점 표면을 안정하게 변환시켜 향상된 발광 효율을 얻는 방법 외에도 II-VI족 양자점과 마찬가지로 코어/쉘 구조에 의한 표면의 봉지(passivation)를 통해 향상된 발광 효율을 얻은 연구도 보고되고 있다.Among them, InP quantum dots, one of group III-V quantum dots, are being studied the most extensively due to their non-toxic advantages compared to group II-VI compound semiconductors, a light-emitting area similar to CdSe quantum dots, and good luminous efficiency, and InP quantum dots are visible. It is a representative III-V group quantum dot having a wide emission range from light rays to near infrared rays. However, in general, InP quantum dots exhibit a somewhat lower luminous efficiency and a relatively wide luminous half-width value compared to CdSe-based quantum dots. For this reason, many studies have been conducted to synthesize InP quantum dots having improved luminous efficiency. In order to solve these shortcomings, by effectively removing the unbonded bonding bond of phosphorus (P) on the surface of the InP quantum dot through HF etching and UV irradiation, 30-40% due to the stable surface condition. InP quantum dots with improved luminous efficiency of were also synthesized. In addition, in addition to the method of obtaining improved luminous efficiency by stably converting the surface of InP quantum dots using hydrogen fluoride etching, studies have also obtained improved luminous efficiency through passivation of the surface by a core/shell structure like II-VI quantum dots. Is being reported.

미국등록특허 제9,260,655호에서는 양자점 결합 리간드로 알킬 골격과 함께 복수의 카르복실기 결합을 가지는 중합제를 리간드로 사용하여 복수의 카르복실 결합기를 이용하여 양자점 입자의 안정성을 확보하고자 하였다. 그러나, 상기 복수의 카르복실기의 결합으로 양자점 입자를 보호하기 위해서는 상기 폴리머수지가 양자점 입자의 표면에 효과적으로 표면처리가 되어야 하지만 상기 폴리머만으로는 양자점 입자의 표면과의 결합이 어려운점이 있다.In US Patent No. 9,260,655, a polymerizer having a plurality of carboxyl group bonds together with an alkyl skeleton as a quantum dot binding ligand is used as a ligand, and a plurality of carboxyl linkage groups are used to secure the stability of quantum dot particles. However, in order to protect the quantum dot particles by bonding of the plurality of carboxyl groups, the polymer resin must be effectively surface-treated on the surface of the quantum dot particles, but the polymer alone has difficulty in bonding to the surface of the quantum dot particles.

이에, 양자점 입자의 안정성을 확보할 수 있는 기술 개발이 필요하다.Accordingly, there is a need to develop a technology capable of securing the stability of quantum dot particles.

미국등록특허 제9,260,655호U.S. Patent No. 9,260,655

이에 본 발명자들은 상기 문제점을 해결하기 위해 다각적으로 연구를 수행한 결과, 양자점 입자의 표면에 카르복실기와 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 폴리머를 결합시켜 상기 양자점 입자의 표면을 개질하되, 상기 폴리머의 중량평균분자량이 5,000 내지 15,000 이고, 유리전이온도가 0℃ 이하이며, 산값이 30 내지 90 mg·KOH/g 일 경우, 상기 폴리머의 유연성이 향상되고 입체장해(steric hindrance) 효과를 억제하여, 상기 폴리머 내의 카르복실기가 효과적으로 상기 양자점 입자의 표면에 결합하여 안정성과 광학적 특성이 개선된다는 것을 확인하였다.Accordingly, the inventors of the present invention have conducted various studies to solve the above problems, and as a result of modifying the surface of the quantum dot particles by bonding a polymer containing a carboxyl group and a (meth)acrylate group to the surface of the quantum dot particle, the weight of the polymer When the average molecular weight is 5,000 to 15,000, the glass transition temperature is 0°C or less, and the acid value is 30 to 90 mgKOH/g, the flexibility of the polymer is improved and the steric hindrance effect is suppressed. It was confirmed that the inner carboxyl group was effectively bonded to the surface of the quantum dot particle to improve stability and optical properties.

따라서, 본 발명은 안정성과 광학적 특성을 개선시킬 수 있는 구조를 가지는 양자점 입자 및 이의 제조방법을 제공하는 것이다.Accordingly, the present invention is to provide a quantum dot particle having a structure capable of improving stability and optical properties and a method of manufacturing the same.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 코어-쉘 구조를 가지는 양자점에 있어서, 상기 양자점은 상기 쉘의 표면에 형성된 아크릴계 수지층을 포함하고, 상기 아크릴계 수지는 하기 (1) 내지 (3)의 조건을 만족하는 것인, 양자점을 제공한다:In order to achieve the above object, the present invention is a quantum dot having a core-shell structure, wherein the quantum dot includes an acrylic resin layer formed on the surface of the shell, and the acrylic resin is the following conditions (1) to (3) Is to satisfy, provides a quantum dot:

(1) 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000;(1) a weight average molecular weight of 5,000 to 15,000;

(2) 유리전이온도가 -30℃ 내지 0℃; 및 (2) the glass transition temperature is -30 ℃ to 0 ℃; And

(3) 산값이 30 내지 90 mg·KOH/g. (3) The acid value is 30 to 90 mgKOH/g.

본 발명은 또한, 상기 양자점의 제조방법을 제공하며, 상기 양자점의 제조방법은, (A)지방족 산(aliphatic acid); 및 인듐 원소 함유 화합물 또는 상기 인듐 원소 함유 화합물과 아연 원소 함유 화합물의 혼합물;을 용매에서 혼합시키는, 코어 형성용 제1 전구체 용액 제조단계; The present invention also provides a method for manufacturing the quantum dot, the method for manufacturing the quantum dot, (A) aliphatic acid (aliphatic acid); And an indium element-containing compound or a mixture of the indium element-containing compound and a zinc element-containing compound in a solvent to prepare a first precursor solution for forming a core;

(B) 하기 화학식 6으로 표시되는 코어 형성용 제2 전구체를 용매에 용해시켜, 코어 형성용 제2 전구체 용액 제조단계;(B) preparing a second precursor solution for forming a core by dissolving a second precursor for forming a core represented by the following Chemical Formula 6 in a solvent;

(C) 상기 코어 형성용 제1 전구체 용액과 비배위 용매(Non-Coordination Solvent)를 혼합하여 가열한 후, 상기 코어 형성용 제2 전구체 용액을 투입하고 반응시켜 양자점의 코어를 형성하는 단계;(C) mixing and heating the first precursor solution for core formation and a non-coordination solvent, and then adding and reacting the second precursor solution for core formation to form a core of quantum dots;

(D) 지방족 산과 아연 원소 함유 화합물을 용매에서 혼합하여 용액을 형성하는 단계;(D) forming a solution by mixing an aliphatic acid and a zinc element-containing compound in a solvent;

(E) 황 및 셀레늄 중 1종 이상을 용매에 용해시켜 용액을 형성하는 단계;(E) dissolving at least one of sulfur and selenium in a solvent to form a solution;

(F) 상기 (C) 단계에서 얻은 양자점의 코어, 비배위 용매 및 상기 (D) 단계에서 얻은 용액 및 상기 (E) 단계에서 얻은 용액을 순차적으로 혼합한 후 가열하여 상기 코어 상에 쉘이 형성된 양자점 입자를 제조하는 단계; 및 (F) The core of the quantum dots obtained in the step (C), the non-coordinating solvent, the solution obtained in the (D) step, and the solution obtained in the (E) step were sequentially mixed and heated to form a shell on the core. Preparing quantum dot particles; And

(G) 상기 양자점 입자와 아크릴계 수지를 반응시켜, 상기 양자점 입자의 쉘 상에 아크릴계 수지층이 형성된 양자점을 제조하는 단계를 포함하는 양자점의 제조방법을 제공한다;(G) by reacting the quantum dot particles with an acrylic resin, it provides a method for producing a quantum dot comprising the step of preparing a quantum dot having an acrylic resin layer formed on the shell of the quantum dot particle;

[화학식 6] [Formula 6]

Figure 112019116534981-pat00001
Figure 112019116534981-pat00001

상기 화학식 6에서 n은 0 내지 3의 정수이고, R1 내지 R3는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, t-부틸, iso-부틸, 페닐, C1 내지 C20의 알킬기를 포함하는 페닐이다.In Formula 6, n is an integer of 0 to 3, and R 1 to R 3 are each independently hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, t-butyl, iso-butyl, phenyl, It is a phenyl containing a C 1 to C 20 alkyl group.

본 발명에 따른 양자점 입자의 표면은, 카르복실기와 (메타)아크릴레이트기를 포함하는 폴리머와 리간드 결합되어 표면이 개질됨으로써, 안정성이 향상되고, 양자수율이 높아지며, 반치폭도 소폭 줄어들어 광학 특성이 향상될 수 있다.The surface of the quantum dot particles according to the present invention is modified by bonding with a polymer and a ligand including a carboxyl group and a (meth)acrylate group to modify the surface, thereby improving stability, increasing quantum yield, and slightly reducing the half width, thereby improving optical properties. have.

또한, 상기 폴리머에 포함된 (메타)아크릴레이트기로 인하여, 양자점 입자의 매트릭스 수지와의 상용성이 좋고, 경화 후 신뢰성이 개선될 수 있다. In addition, due to the (meth)acrylate group contained in the polymer, the compatibility of the quantum dot particles with the matrix resin may be good, and reliability after curing may be improved.

또한, 본 발명에서는 폴리머 리간드로 사용된 아크릴계 수지의 유리전이온도를 0℃ 이하로 낮추고 분자량을 5,000 내지 15,000 수준으로 조정하면 폴리머 수지의 유연성 높이고 입체장해 효과를 최대한 억제하여, 효과적으로 양자점 입자 표면에 폴리머 수지내에 복수의 카르복실산이 결합될 수 있다. In addition, in the present invention, if the glass transition temperature of the acrylic resin used as the polymer ligand is lowered to 0°C or less and the molecular weight is adjusted to 5,000 to 15,000, the flexibility of the polymer resin is increased and the steric hindrance effect is suppressed as much as possible. A plurality of carboxylic acids may be bonded in the resin.

이와 같은 폴리머 리간드를 양자점의 표면에 결합시킴으로써, 표면개질된 양자점 입자는 보관안정성이 향상되고, 양자수율이 높아지며 반치폭도 소폭 줄어들어 광학적인 특성이 향상되는 효과가 있다. 또한 매트릭스 수지와의 결합을 위하여 상기 폴리머 수지내에 복수의 (메타)아크릴레이트 관능기를 도입하면, 메트릭스 수지와의 상용성 및 경화후 신뢰성이 상승되는 효과가 있다.By binding such a polymer ligand to the surface of the quantum dot, the surface-modified quantum dot particles have improved storage stability, increased quantum yield, and slightly reduced half width, thereby improving optical properties. In addition, when a plurality of (meth)acrylate functional groups are introduced into the polymer resin for binding to the matrix resin, compatibility with the matrix resin and reliability after curing are increased.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 양자점의 구조를 나타낸 모식도이다.
도 2a 내지 도 2f는 각각 제조예 1,2,3,4,6,7에서 제조된 아크릴계 수지의 중량평균분자량 측정 그래프이다
도 3a 내지 도 3d는 각각 제조예 1 내지 제조예 4에서 제조된 아크릴계 수지의 유리전이온도 측정 그래프이다.
도 4a 내지 도 4c는 실시예 1, 3 및 비교예 3에서 각각 제조된 양자점의 양자수율 평가 결과를 나타낸 사진이다.
1 is a schematic diagram showing the structure of a quantum dot according to an embodiment of the present invention.
2A to 2F are graphs for measuring weight average molecular weights of acrylic resins prepared in Preparation Examples 1,2,3,4,6,7, respectively.
3A to 3D are graphs for measuring glass transition temperatures of acrylic resins prepared in Preparation Examples 1 to 4, respectively.
4A to 4C are photographs showing the results of evaluating quantum yields of the quantum dots prepared in Examples 1 and 3 and Comparative Example 3, respectively.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 명세서에서 사용된 용어 "글리시딜기"는 에폭시기와 동일한 의미이다.The term "glycidyl group" as used herein has the same meaning as an epoxy group.

양자점Quantum dots

본 발명은 양자점에 관한 것으로, 상기 표면에 아크릴계 수지층이 형성되어 안정성이 향상된 양자점에 관한 것이다. The present invention relates to quantum dots, and to a quantum dot with improved stability by forming an acrylic resin layer on the surface.

본 명세서에서, "InP계 양자점"이란 인듐(In)과 인(P)을 포함하는 양자점을 의미한다. InP계 양자점은 예를 들어, 인듐포스파이트(InP) 양자점 뿐만 아니라, 인듐(In), 인(P) 및 아연(Zn)을 포함하는 인듐징크포스파이트(InZnP)양자점을 포함할 수 있으며, 코어로서 InP 양자점을 포함하고 상기 코어를 둘러싸는 ZnS, ZnSe 또는 ZnS/ZnSe 쉘을 포함하는 InP/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS/ZSe, InZnP/ZnS , InZnP/ZnSe 및 InZnP/ZnS/ZSe 양자점 입자를 포함할 수 있다.In the present specification, "InP-based quantum dots" means quantum dots including indium (In) and phosphorus (P). InP-based quantum dots may include, for example, indium phosphite (InP) quantum dots, as well as indium zinc phosphite (InZnP) quantum dots including indium (In), phosphorus (P) and zinc (Zn), and InP/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS/ZSe, InZnP/ZnS, InZnP/ZnSe and InZnP/ZnS/ZSe quantum dots including InP quantum dots and including ZnS, ZnSe or ZnS/ZnSe shells surrounding the core It may contain particles.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따른 양자점의 구조를 나타낸 모식도이다.1 is a schematic diagram showing the structure of a quantum dot according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 양자점(1)은 코어(10), 쉘(20) 및 아크릴계 수지층(30)이 순차적으로 적층된 구조를 가지며, 아크릴계 수지층(30)에는 리간드(31)가 포함되어 있어, 쉘(20)과의 리간드 결합을 통해 아크릴계 수지층(30)이 쉘(20)의 표면에 형성된 것일 수 있다. Referring to FIG. 1, the quantum dot 1 according to the present invention has a structure in which a core 10, a shell 20, and an acrylic resin layer 30 are sequentially stacked, and a ligand 31 is formed on the acrylic resin layer 30. ) Is included, so that the acrylic resin layer 30 may be formed on the surface of the shell 20 through ligand bonding with the shell 20.

예를 들어, 본 발명의 실시예에 따른 양자점은 InP 양자점을 둘러싸는 ZnS(징크설파이드) 쉘을 포함하는 InP/ZnS 양자점에 아크릴계 수지가 리간드 결합된 구조를 가지는 것일 수 있다.For example, a quantum dot according to an embodiment of the present invention may have a structure in which an acrylic resin is ligand-bonded to an InP/ZnS quantum dot including a ZnS (zinc sulfide) shell surrounding the InP quantum dot.

이하, 본 발명의 양자점에 대하여, 코어, 쉘 및 아크릴계 수지층으로 구분으로 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the quantum dots of the present invention will be described in more detail into a core, a shell, and an acrylic resin layer.

[코어][core]

본 발명의 양자점에 있어서, 상기 코어는 III-V족 화합물을 포함할 수 있다.In the quantum dot of the present invention, the core may include a III-V group compound.

상기 III-V족 화합물은 GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb 또는 이들의 혼합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InZnP, InPAs, InPSb 또는 이들의 혼합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, GaAlNP, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs 또는 이들의 혼합물;로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다.The group III-V compound is GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, or a mixture thereof; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InZnP, InPAs, InPSb or mixtures thereof; And GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, GaAlNP, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, or mixtures thereof; may include one or more selected from the group consisting of.

또는, 상기 코어는 In, Zn 및 P 원소를 포함하는 화합물일 수 있으며, 바람직하게는, 상기 코어는 InP 및/또는 InZnP 를 포함하는 것일 수 있다.Alternatively, the core may be a compound containing In, Zn and P elements, and preferably, the core may contain InP and/or InZnP.

[쉘][Shell]

본 발명의 양자점에 있어서, 상기 쉘은 Al, Si, Ti, Mg, Zn, Se 및 S로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것일 수 있다.In the quantum dots of the present invention, the shell may include one or more selected from the group consisting of Al, Si, Ti, Mg, Zn, Se, and S.

또는, 상기 쉘은 Zn, Se 및 S로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있으며, 바람직하게는, 상기 쉘은 ZnS, ZnSe 또는 ZnS/ZnSe를 포함하는 것일 수 있다.Alternatively, the shell may include at least one selected from the group consisting of Zn, Se and S, and preferably, the shell may include ZnS, ZnSe or ZnS/ZnSe.

또한, 상기 쉘은 상기 코어의 표면에 레이어(layer) 형태로 형성될 수 있으며, 그 두께는 2 내지 10 nm, 바람직하게는 3 내지 8 nm 일 수 있다. 상기 쉘은 이와 같은 두께 범위로 형성될 때, 상기 코어에 대한 보호층 역할을 하여 양자점의 안정성을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 양자점의 발광효율이 향상될 수 있다.In addition, the shell may be formed in the form of a layer on the surface of the core, and the thickness may be 2 to 10 nm, preferably 3 to 8 nm. When the shell is formed in such a thickness range, it serves as a protective layer for the core, thereby improving the stability of the quantum dots and improving the luminous efficiency of the quantum dots.

[아크릴계 수지층][Acrylic resin layer]

본 발명의 양자점에 있어서, 상기 아크릴계 수지층은 양자점의 표면에 형성됨으로써, 상기 양자점의 보관안정성과 양자수율을 향상시키고, 반치폭을 감소시켜 광학 특성을 향상시킬 수 있다.In the quantum dots of the present invention, the acrylic resin layer is formed on the surface of the quantum dots, thereby improving the storage stability and quantum yield of the quantum dots, and reducing the half width to improve optical properties.

본 발명에 있어서, 상기 아크릴계 수지층에 포함된 아크릴계 수지(A)는 하기 (1) 내지 (3)의 조건을 만족하며, 추가로 하기 (4)의 조건을 만족시킬 수 있다:In the present invention, the acrylic resin (A) contained in the acrylic resin layer satisfies the following conditions (1) to (3), and may further satisfy the following conditions (4):

(1) 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000;(1) a weight average molecular weight of 5,000 to 15,000;

(2) 유리전이온도가 -30℃ 내지 0℃; (2) the glass transition temperature is -30 ℃ to 0 ℃;

(3) 산값이 30 내지 90 mg·KOH/g: 및 (3) an acid value of 30 to 90 mgKOH/g: and

(4)(메타)아크릴레이트 당량이 150 내지 500 g/eq.(4) (meth)acrylate equivalent is 150 to 500 g/eq.

상기 아크릴계 수지는 카르복실 관능기에 의하여 상기 쉘의 표면에 쉽게 결합할 수 있고, (메타)아크릴레이트 관능기에 의하여 양자점 제조 공정에서 매트릭스 수지와의 결합이 용이하고, 경화 후 신뢰성이 향상될 수 있다.The acrylic resin can be easily bonded to the surface of the shell by a carboxyl functional group, and can be easily bonded to the matrix resin in the quantum dot manufacturing process by the (meth)acrylate functional group, and reliability after curing can be improved.

상기 아크릴계 수지는 상기 양자점 전체 중량을 기준으로 3 내지 50 중량%, 바람직하게는 4 내지 40 중량%로 포함될 수 있다. 상기 범위 미만이면 양자점의 안정성 강화 효과가 저하되고, 상기 범위 초과이면 오히려 양자점의 발광 효율이 저하될 수 있다.The acrylic resin may be included in 3 to 50% by weight, preferably 4 to 40% by weight, based on the total weight of the quantum dots. If it is less than the above range, the effect of enhancing the stability of the quantum dot may be lowered, and if it exceeds the above range, the luminous efficiency of the quantum dot may be reduced.

본 발명에 따른 아크릴계 수지는 낮은 유리전이온도와 중량평균 분자량을 가지고, 높은 (메타)아크릴레이트 당량을 가지는 것을 특징으로 한다.The acrylic resin according to the present invention is characterized by having a low glass transition ion degree and a weight average molecular weight, and a high (meth)acrylate equivalent.

또한, 상기 아크릴계 수지의 중량평균 분자량은 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량(Mw)으로 정의될 수 있으며, 상기 폴리스티렌 환산 중량평균 분자량은 5,000 내지 15,000, 바람직하게는 7,000 내지 12,000, 보다 바람직하게는 9,000 내지 11,000 일 수 있다. 상기 범위 미만이면, 양자점 입자를 충분하게 보호하기 어렵고, 상기 범위 이상이면 양자점 입자와 결합이 어려워 양자점 입자 분산성에 문제가 발생할 수 있다.In addition, the weight average molecular weight of the acrylic resin may be defined as a weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene, and the weight average molecular weight in terms of polystyrene is 5,000 to 15,000, preferably 7,000 to 12,000, more preferably 9,000 to 11,000 days. I can. If it is less than the above range, it is difficult to sufficiently protect the quantum dot particles, and if it is more than the above range, it is difficult to bond with the quantum dot particles, so that a problem may occur in dispersibility of the quantum dot particles.

상기 아크릴계 수지의 유리전이온도(Tg)는 -30℃ 내지 0℃, 바람직하게는 -25℃ 내지 -5℃, 보다 바람직하게는 -20℃ 내지 -10℃일 수 있다. 상기 범위 미만이면 접착력이 저하될 수 있고, 상기 범위 초과이면 코팅성 및 현상성이 저하될 수 있다. The glass transition temperature (Tg) of the acrylic resin may be -30°C to 0°C, preferably -25°C to -5°C, and more preferably -20°C to -10°C. If it is less than the above range, adhesion may be reduced, and if it is more than the above range, coatability and developability may be reduced.

또한, 상기 아크릴계 수지의 (메타)아크릴레이트 당량은, 아크릴레이트 당량과 메타크릴 당량의 합을 의미하는 것일 수 있다. 상기 (메타)아크릴레이트 당량은 150 내지 500 g/eq, 바람직하게는 200 내지 400 g/eq, 보다 바람직하게는 250 내지 350 g/eq 일 수 있다. 상기 범위 미만이면 노광 후 경화 밀도가 저하되어 내열성이 약화될 수 있고, 상기 범위 초과이면 코팅성 및 현상성이 저하될 수 있다.In addition, the (meth)acrylate equivalent of the acrylic resin may mean the sum of the acrylate equivalent and the methacrylic equivalent. The (meth)acrylate equivalent may be 150 to 500 g/eq, preferably 200 to 400 g/eq, more preferably 250 to 350 g/eq. If it is less than the above range, the curing density after exposure is lowered and heat resistance may be weakened, and if it exceeds the above range, coating properties and developability may be reduced.

또한, 상기 아크릴계 수지의 고형분 환산 산값은 30 내지 90 mg·KOH/g, 바람직하게는 40 내지 80 mg·KOH/g, 보다 바람직하게는 50 내지 70 mg·KOH/g 일 수 있다. 상기 범위에 포함될 경우, 양자점 표면에 결합하여 안정성을 향상시키는데 유리할 수 있다.In addition, the acid value in terms of solid content of the acrylic resin may be 30 to 90 mg·KOH/g, preferably 40 to 80 mg·KOH/g, more preferably 50 to 70 mg·KOH/g. When included in the above range, it may be advantageous in improving stability by bonding to the surface of the quantum dot.

본 발명에 따른 아크릴계 수지는, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다:The acrylic resin according to the present invention may include a compound represented by the following Formula 1:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019116534981-pat00002
Figure 112019116534981-pat00002

상기 화학식 1에서 Y는 수소 또는 메틸이고, Q는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알킬 또는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알콕시 알킬이며, Z는

Figure 112019116534981-pat00003
,
Figure 112019116534981-pat00004
,
Figure 112019116534981-pat00005
,
Figure 112019116534981-pat00006
,
Figure 112019116534981-pat00007
,
Figure 112019116534981-pat00008
,
Figure 112019116534981-pat00009
,
Figure 112019116534981-pat00010
Figure 112019116534981-pat00011
중 선택되는 1종 이상을 포함하며, o, p, q는 각각 독립적으로 동일 또는 상이하며, o는 0 내지 0.2의 실수이고, p는 0.3 내지 0.9의 실수이며, q는 0.1 내지 0.5의 실수이고, o+p+q=1 이다.In Formula 1, Y is hydrogen or methyl, Q is a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkyl or a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkoxy alkyl, and Z is
Figure 112019116534981-pat00003
,
Figure 112019116534981-pat00004
,
Figure 112019116534981-pat00005
,
Figure 112019116534981-pat00006
,
Figure 112019116534981-pat00007
,
Figure 112019116534981-pat00008
,
Figure 112019116534981-pat00009
,
Figure 112019116534981-pat00010
And
Figure 112019116534981-pat00011
Includes at least one selected from among, o, p, and q are each independently the same or different, o is a real number from 0 to 0.2, p is a real number from 0.3 to 0.9, and q is a real number from 0.1 to 0.5 , o+p+q =1.

본 발명에 따른 아크릴계 수지는 하기 화학식 1-1 내지 1-12 중 선택되는 화학식으로 표시되는 화합물을 포함하는 것일 수 있다:The acrylic resin according to the present invention may include a compound represented by a formula selected from Formulas 1-1 to 1-12:

[화학식 1-1] [화학식 1-2][Formula 1-1] [Formula 1-2]

Figure 112019116534981-pat00012
Figure 112019116534981-pat00013
Figure 112019116534981-pat00012
Figure 112019116534981-pat00013

[화학식 1-3] [화학식 1-4][Formula 1-3] [Formula 1-4]

Figure 112019116534981-pat00014
Figure 112019116534981-pat00015
Figure 112019116534981-pat00014
Figure 112019116534981-pat00015

[화학식 1-5] [화학식 1-6][Formula 1-5] [Formula 1-6]

Figure 112019116534981-pat00016
Figure 112019116534981-pat00017
Figure 112019116534981-pat00016
Figure 112019116534981-pat00017

[화학식 1-7] [화학식 1-8][Formula 1-7] [Formula 1-8]

Figure 112019116534981-pat00018
Figure 112019116534981-pat00019
Figure 112019116534981-pat00018
Figure 112019116534981-pat00019

[화학식 1-9] [화학식 1-10][Formula 1-9] [Formula 1-10]

Figure 112019116534981-pat00020
Figure 112019116534981-pat00021
Figure 112019116534981-pat00020
Figure 112019116534981-pat00021

[화학식 1-11] [화학식 1-12][Formula 1-11] [Formula 1-12]

Figure 112019116534981-pat00022
Figure 112019116534981-pat00023
Figure 112019116534981-pat00022
Figure 112019116534981-pat00023

상기 화학식 1-1 내지 1-12의 o, p, q, o 1 , o 2, p 1, p 2 는 각각 독립적으로 동일 또는 상이하며, o 1 , o 2 o는 각각 0 내지 0.2의 실수, p 1, p 2 p는 각각 0.3 내지 0.9의 실수, q는 0.1 내지 0.5의 실수, o=o 1 +o 2 , p=p 1 +p 2 , o+p+q=1 이다. O, p, q, o 1 , o 2, p 1, p 2 of Formulas 1-1 to 1-12 are each independently the same or different, and o 1 , o 2 and o are each real number of 0 to 0.2 , p 1, p 2 and p are each a real number of 0.3 to 0.9, q is a real number of 0.1 to 0.5, o=o 1 +o 2 , p=p 1 +p 2 , o+p+q =1.

본 발명에 있어서, 상기 아크릴계 수지의 고형분 함량은 30 내지 50 중량%, 바람직하게는 32 내지 48 중량%, 보다 바람직하게는 35 내지 45 중량%일 수 있다. 상기 범위 미만이면 접착력이 저하될 수 있고, 상기 범위 초과이면 코팅성 및 현상성이 저하될 수 있다.In the present invention, the solid content of the acrylic resin may be 30 to 50% by weight, preferably 32 to 48% by weight, more preferably 35 to 45% by weight. If it is less than the above range, adhesion may be reduced, and if it is more than the above range, coatability and developability may be reduced.

본 발명에 있어서, 상기 아크릴계 수지의 점도는 30 내지 100 cPs, 바람직하게는 40 내지 90 cPs, 보다 바람직하게는 50 내지 80 cPs일 수 있다. 상기 범위 미만이면 접착력이 저하될 수 있고, 상기 범위 초과이면 코팅성 및 현상성이 저하될 수 있다. 이때, 상기 점도는 상기 아크릴계 수지의 고형분 함량 25℃에서의 점도, 보다 구체적으로는 고형분 함량 38 중량% 및 25℃에서의 점도를 의미하는 것일 수 있다. In the present invention, the viscosity of the acrylic resin may be 30 to 100 cPs, preferably 40 to 90 cPs, more preferably 50 to 80 cPs. If it is less than the above range, adhesion may be reduced, and if it is more than the above range, coatability and developability may be reduced. In this case, the viscosity may mean the viscosity at 25° C. of the solid content of the acrylic resin, more specifically 38 wt% of the solid content and the viscosity at 25° C.

양자점 입자의 제조방법Method for producing quantum dot particles

본 발명은 또한, 양자점의 제조방법에 관한 것으로, 상기 양자점의 제조방법은 (A)지방족 산(aliphatic acid); 및 인듐 원소 함유 화합물 또는 상기 인듐 원소 함유 화합물과 아연 원소 함유 화합물의 혼합물;을 용매에서 혼합시키는, 코어 형성용 제1 전구체 용액 제조단계; (B) 하기 화학식 6으로 표시되는 코어 형성용 제2 전구체를 용매에 용해시켜, 코어 형성용 제2 전구체 용액 제조단계; (C) 상기 코어 형성용 제1 전구체 용액과 비배위 용매(Non-Coordination Solvent)를 혼합하여 가열한 후, 상기 코어 형성용 제2 전구체 용액을 투입하고 반응시켜 양자점의 코어를 형성하는 단계; (D) 지방족 산과 아연 원소 함유 화합물을 용매에서 혼합하여 용액을 형성하는 단계; (E) 황 및 셀레늄 중 1종 이상을 용매에 용해시켜 용액을 형성하는 단계; (F) 상기 (C) 단계에서 얻은 양자점의 코어, 비배위 용매 및 상기 (D) 단계에서 얻은 용액 및 상기 (E) 단계에서 얻은 용액을 순차적으로 혼합한 후 가열하여 상기 코어 상에 쉘이 형성된 양자점 입자를 제조하는 단계; 및 (G) 상기 양자점 입자와 아크릴계 수지를 반응시켜, 상기 양자점 입자의 쉘 상에 아크릴계 수지층이 형성된 양자점을 제조하는 단계;를 포함할 수 있다:The present invention also relates to a method of manufacturing a quantum dot, the method of manufacturing the quantum dot (A) aliphatic acid (aliphatic acid); And an indium element-containing compound or a mixture of the indium element-containing compound and a zinc element-containing compound in a solvent to prepare a first precursor solution for forming a core; (B) preparing a second precursor solution for forming a core by dissolving a second precursor for forming a core represented by the following Chemical Formula 6 in a solvent; (C) mixing and heating the first precursor solution for core formation and a non-coordination solvent, and then adding and reacting the second precursor solution for core formation to form a core of quantum dots; (D) forming a solution by mixing an aliphatic acid and a zinc element-containing compound in a solvent; (E) dissolving at least one of sulfur and selenium in a solvent to form a solution; (F) The core of the quantum dots obtained in the step (C), the non-coordinating solvent, the solution obtained in the (D) step, and the solution obtained in the (E) step were sequentially mixed and heated to form a shell on the core. Preparing quantum dot particles; And (G) reacting the quantum dot particles with an acrylic resin to prepare a quantum dot in which an acrylic resin layer is formed on the shell of the quantum dot particles; may include:

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112019116534981-pat00024
Figure 112019116534981-pat00024

상기 화학식 6에서 n은 0 내지 3의 정수이고, R1 내지 R3는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, t-부틸, iso-부틸, 페닐, C1 내지 C20의 알킬기를 포함하는 페닐이다.In Formula 6, n is an integer of 0 to 3, and R 1 to R 3 are each independently hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, t-butyl, iso-butyl, phenyl, It is a phenyl containing a C 1 to C 20 alkyl group.

이하, 각 단계별로 상기 양자점의 제조방법을 보다 상세히 설명한다. 하기 제조되는 코어-쉘 구조의 양자점은 코어에 InP이 포함되고, 쉘에 ZnS이 포함된, 코어-쉘 구조의 InP/ZnS 양자점일 수 있으며, 상기 양자점의 쉘 표면에 아크릴계 수지층이 형성된 것일 수 있다.Hereinafter, a method of manufacturing the quantum dot will be described in more detail for each step. The core-shell structured quantum dots produced below may be core-shell InP/ZnS quantum dots containing InP and ZnS in the shell, and an acrylic resin layer formed on the shell surface of the quantum dots. have.

[(A) 단계][Step (A)]

(A) 지방족 산(aliphatic acid); 및 인듐 원소 함유 화합물 또는 상기 인듐 원소 함유 화합물과 아연 원소 함유 화합물의 혼합물;을 용매에서 혼합시키는, 코어 형성용 제1 전구체 용액을 제조할 수 있다.(A) aliphatic acid; And an indium element-containing compound or a mixture of the indium element-containing compound and a zinc element-containing compound in a solvent, to prepare a first precursor solution for forming a core.

상기 지방족 산은 라우릭산(lauric acid) 및 올레익산(Oleic acid) 중 선택되는 1종 이상일 수 있다.The aliphatic acid may be at least one selected from lauric acid and oleic acid.

상기 인듐 원소 함유 화합물은 인듐 아세테이트(Indium Acetate)일 수 있다.The indium element-containing compound may be Indium Acetate.

상기 아연 원소 함유 화합물은 아연 아세테이트(Zinc Acetate)일 수 있다.The zinc element-containing compound may be zinc acetate.

상기 용매는 1-옥타데센(octadecene), 도데센(dodecene), 테트라데칸(tetradecane), 옥틸에테르(octyl ether), 페닐에테르(phenyl ether), 트리옥틸아민, 올레일 아민(oleyl amine), 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 올레일 알코올(oleyl alcohol), 글리세린, 디에틸렌 글리콜, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸 카르비톨 아세테이트(ethyl carbitol acetate) 및 부틸 카르비톨 아세테이트(butyl carbitol acetate)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The solvent is 1-octadecene, dodecene, tetradecane, octyl ether, phenyl ether, trioctylamine, oleyl amine, di Selected from the group consisting of ethanolamine, triethanolamine, oleyl alcohol, glycerin, diethylene glycol, tripropylene glycol methyl ether, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol acetate It may be one or more.

상기 인듐 원소 함유 화합물 또는 상기 인듐 원소 함유 화합물과 아연 원소 함유 화합물의 혼합물; 및 지방족 산;의 몰비는 1:2 ~ 1:5일 수 있다. 상기 몰비는 생성되는 InP/ZnS 양자점 의 크기 및 흡광특성과 관련이 있으며, 상기 범위를 벗어나는 경우 생성된 InP/ZnS 양자점의 흡광 특성이 떨어질 수 있다.The indium element-containing compound or a mixture of the indium element-containing compound and a zinc element-containing compound; And an aliphatic acid; may have a molar ratio of 1:2 to 1:5. The molar ratio is related to the size and light absorption characteristics of the generated InP/ZnS quantum dots, and out of the above range, the light absorption characteristics of the generated InP/ZnS quantum dots may deteriorate.

또한, 상기 혼합 후 80 내지 180℃의 온도로 가열 후 부산물을 제거함으로써, 원료 물질의 물성을 잘 나타낼 수 있도록 균일하게 혼합될 수 있다.In addition, by removing by-products after heating at a temperature of 80 to 180° C. after mixing, the raw materials may be uniformly mixed so as to show the physical properties of the raw material well.

[(B) 단계][Step (B)]

(B) 단계에서는, 하기 화학식 6으로 표시되는 코어 형성용 제2 전구체를 용매에 용해시켜, 코어 형성용 제2 전구체 용액을 제조할 수 있으며, 상기 용매는 트리옥틸 포스핀일 수 있다:In step (B), a second precursor solution for forming a core may be prepared by dissolving a second precursor for forming a core represented by the following Formula 6 in a solvent, and the solvent may be trioctyl phosphine:

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112019116534981-pat00025
Figure 112019116534981-pat00025

상기 화학식 6에서 n은 0 내지 3의 정수이고, R1 내지 R3는 각각 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, iso-프로필, n-부틸, t-부틸, iso-부틸, 페닐, C1 내지 C20의 알킬기를 포함하는 페닐이다.In Formula 6, n is an integer of 0 to 3, and R 1 to R 3 are each independently hydrogen, methyl, ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, t-butyl, iso-butyl, phenyl, It is a phenyl containing a C 1 to C 20 alkyl group.

[(C) 단계] [Step (C)]

(C) 단계에서는, 상기 코어 형성용 제1 전구체 용액과 비배위 용매(Non-Coordination Solvent)를 혼합하여 가열한 후, 상기 코어 형성용 제2 전구체 용액을 투입하고 반응시켜 양자점의 코어를 형성할 수 있다.In step (C), the first precursor solution for core formation and the non-coordination solvent are mixed and heated, and then the second precursor solution for core formation is added and reacted to form a core of quantum dots. I can.

상기 비배위 용매는 배위결합이 불가능한 용제로서, 양자점 제조시 반응에 영향을 주지 않는 용매라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들어, 상기 비배위 용매는 알킬계 용매, 아로마틱계 용매 및 에테르계 용매 중 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 비배위 용매는 1-옥타데센(octadecene), 도데센(dodecene), 테트라데칸(tetradecane), 옥틸에테르(octyl ether), 페닐에테르(phenyl ether) 등일 수 있다.The non-coordinating solvent is a solvent in which coordination bonding is impossible, and is not particularly limited as long as it is a solvent that does not affect the reaction during the production of quantum dots. For example, the non-coordinating solvent may include at least one selected from an alkyl-based solvent, an aromatic solvent, and an ether-based solvent. Specifically, the non-coordinating solvent may be 1-octadecene, dodecene, tetradecane, octyl ether, phenyl ether, or the like.

상기 가열 온도는 200℃~300℃일 수 있으며, 이와 같은 가열 온도에서 가열시 양자점 형성 반응이 원활히 이루어질 수 있도록 하는 최적의 반응 상태를 조성해 혼합되어 우수한 발광 효율 및 균일도를 가지는 양자점의 코어를 제조할 수 있다.The heating temperature may be 200° C. to 300° C., and when heated at such a heating temperature, an optimum reaction state is formed and mixed to produce a core of quantum dots having excellent luminous efficiency and uniformity. I can.

상기 (C) 단계의 반응 후의 용액을 상기 냉각시킬 수 있으며, 상기 냉각은 상기 (C) 단계에서의 가열에 의해 높아진 온도를 상온 수준으로 낮출 정도로 수행하는 것이라면 특별히 제한되는 것은 아니다.The solution after the reaction in step (C) may be cooled, and the cooling is not particularly limited as long as the temperature raised by the heating in step (C) is lowered to a room temperature level.

또한, 상기 냉각된 용액에서 양자점의 코어를 침전 및 정제함으로써, 순도를 향상시킬 수 있다.In addition, purity may be improved by precipitating and purifying the core of the quantum dots in the cooled solution.

[(D) 단계][Step (D)]

(D) 단계에서는, 지방족 산과 아연 원소 함유 화합물을 용매에서 혼합하여 용액을 형성할 수 있다.In step (D), the aliphatic acid and the zinc element-containing compound may be mixed in a solvent to form a solution.

상기 지방족 산은 라우릭산(lauric acid) 및 올레익산(Oleic acid) 중 선택되는 1종 이상일 수 있다.The aliphatic acid may be at least one selected from lauric acid and oleic acid.

상기 아연 원소 함유 화합물은 아연 아세테이트일 수 있다.The zinc element-containing compound may be zinc acetate.

상기 용매는 1-옥타데센(octadecene), 도데센(dodecene), 테트라데칸(tetradecane), 옥틸에테르(octyl ether), 페닐에테르(phenyl ether), 트리옥틸아민, 올레일 아민(oleyl amine), 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 올레일 알코올(oleyl alcohol), 글리세린, 디에틸렌 글리콜, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸 카르비톨 아세테이트(ethyl carbitol acetate) 및 부틸 카르비톨 아세테이트(butyl carbitol acetate)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The solvent is 1-octadecene, dodecene, tetradecane, octyl ether, phenyl ether, trioctylamine, oleyl amine, di Selected from the group consisting of ethanolamine, triethanolamine, oleyl alcohol, glycerin, diethylene glycol, tripropylene glycol methyl ether, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol acetate It may be one or more.

또한, 상기 혼합 후 80 내지 180℃의 온도로 가열 후 부산물을 제거함으로써, 원료 물질의 물성을 잘 나타낼 수 있도록 균일하게 혼합될 수 있다.In addition, by removing by-products after heating at a temperature of 80 to 180° C. after mixing, the raw materials may be uniformly mixed so as to show the physical properties of the raw material well.

[(E) 단계][Step (E)]

(E) 단계에서는, 황 및 셀레늄 중 1종 이상을 용매에 용해시켜 용액을 형성할 수 있다.In step (E), at least one of sulfur and selenium may be dissolved in a solvent to form a solution.

상기 용매는 트리옥틸포스핀일 수 있다.The solvent may be trioctylphosphine.

[(F) 단계][Step (F)]

(F) 단계에서는, 상기 (C) 단계에서 얻은 양자점의 코어, 비배위 용매 및 상기 (D) 단계에서 얻은 용액 및 상기 (E) 단계에서 얻은 용액을 순차적으로 혼합한 후 가열하여 상기 코어 상에 쉘이 형성된 양자점 입자를 제조할 수 있다.In step (F), the core of the quantum dots obtained in step (C), the non-coordinating solvent, the solution obtained in step (D), and the solution obtained in step (E) are sequentially mixed and heated to form the core. It is possible to manufacture the quantum dot particles in which the shell is formed.

상기 비배위 용매는 1-옥타데센(octadecene), 도데센(dodecene), 테트라데칸(tetradecane), 옥틸에테르(octyl ether), 페닐에테르(phenyl ether), 트리옥틸아민, 올레일 아민(oleyl amine), 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 올레일 알코올(oleyl alcohol), 글리세린, 디에틸렌 글리콜, 트리프로필렌글리콜메틸에테르, 에틸 카르비톨 아세테이트(ethyl carbitol acetate) 및 부틸 카르비톨 아세테이트(butyl carbitol acetate)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The non-coordinating solvent is 1-octadecene, dodecene, tetradecane, octyl ether, phenyl ether, trioctylamine, oleyl amine. , Diethanolamine, triethanolamine, oleyl alcohol, glycerin, diethylene glycol, tripropylene glycol methyl ether, ethyl carbitol acetate, and butyl carbitol acetate It may be one or more selected from.

구체적으로는, 상기 (C) 단계에서 얻은 양자점의 코어, 비배위 용매 및 상기 (D) 단계에서 얻은 용액을 먼저 혼합하여 가열할 수 있다. 이때, 상기 가열 온도는 80 내지 200℃일 수 있으며, 상기 가열 온도로 가열시, 혼합 물질들의 물성을 저하시키지 않으면서 계속되는 반응들에서의 반응성을 향상시킬 수 있다.Specifically, the core of the quantum dots obtained in step (C), the non-coordinating solvent, and the solution obtained in step (D) may be first mixed and heated. In this case, the heating temperature may be 80 to 200°C, and when heated to the heating temperature, reactivity in continuous reactions may be improved without deteriorating the physical properties of the mixed materials.

그 후, 상기 (E) 단계에서 얻은 용액을 추가로 혼합하여 가열할 수 있으며, 이때, 가열 온도는 200℃~350℃일 수 있다.Thereafter, the solution obtained in step (E) may be further mixed and heated, at this time, the heating temperature may be 200°C to 350°C.

제조된 양자점 입자는 InP 또는 InZnP을 코어로서 포함하고 상기 코어를 둘러싸는 ZnS,ZnSe,ZnS/ZnSe 쉘을 포함하는 InP/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS/ZSe, InZnP/ZnS, InZnP/ZnSe 및 InZnP/ZnS/ZSe 양자점 입자일 수 있다. The manufactured quantum dot particles include InP or InZnP as a core, and InP/ZnS, InP/ZnSe, InP/ZnS/ZSe, InZnP/ZnS, InZnP/ZnSe including ZnS, ZnSe, and ZnS/ZnSe shells surrounding the core. And InZnP/ZnS/ZSe quantum dot particles.

상기 양자점 입자를 냉각, 침전 및 정제시켜 코어-쉘 구조의 양자점 입자를 제조할 수 있다.The quantum dot particles may be cooled, precipitated, and purified to prepare a core-shell structured quantum dot particle.

[(G) 단계][Step (G)]

(G) 단계에서는, 상기 (F) 단계에서 얻은 양자점 입자와 아크릴계 수지를 반응시켜, 상기 양자점 입자의 쉘 상에 아크릴계 수지층이 형성된 양자점을 제조할 수 있다.In step (G), by reacting the quantum dot particles obtained in step (F) with an acrylic resin, a quantum dot having an acrylic resin layer formed on the shell of the quantum dot particles may be prepared.

상기 아크릴계 수지의 제조방법은 후술하는 바와 같다.The manufacturing method of the acrylic resin is as described later.

아크릴계 수지(A)의 제조방법Manufacturing method of acrylic resin (A)

본 발명은 또한, 상술한 바와 같은 아크릴계 수지(A)의 제조방법에 관한 것으로, 하기와 같은 1단계 반응, 2단계 반응 및 3단계 반응에 의해 제조될 수 있다.The present invention also relates to a method for preparing an acrylic resin (A) as described above, and may be prepared by a one-step reaction, a two-step reaction, and a three-step reaction as follows.

상기 1단계 반응은 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지를 제조하는 반응 단계이고, 상기 2단계 반응은 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지를 제조하는 반응 단계이며, 상기 3단계 반응은 2급 알코올의 산변성에 의한 아크릴계 수지를 제조하는 반응 단계이다.The first step reaction is a reaction step of preparing a vinyl or acrylic copolymer resin containing a glycidyl group, and the second step reaction is a reaction step of preparing a vinyl or acrylic copolymer resin containing a (meth)acrylate functional group. , The three-step reaction is a reaction step of preparing an acrylic resin by acid modification of a secondary alcohol.

본 발명에 따른 아크릴계 수지의 제조방법은 (S1) 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제1 단량체(1m) 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제3 단량체(3m)의 중합에 의해 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P)를 형성하는 1단계 반응;The manufacturing method of the acrylic resin according to the present invention comprises (S1) a glycidyl group by polymerization of a first monomer (1m) containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group and a third monomer (3m) containing an ethylenically unsaturated group. One step reaction to form a vinyl or acrylic copolymer resin (1P);

(S2) 상기 1단계 반응에서 형성된, 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P) 및 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 제4 단량체(4m)를 반응시켜 수산기 및 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(2P)를 형성하는 2단계 반응; 및 (S2) By reacting a vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing a glycidyl group and a fourth monomer (4m) containing a (meth)acrylate and a carboxyl group formed in the first step reaction, a hydroxyl group and (meth) A two-step reaction of forming a vinyl or acrylic copolymer resin (2P) containing an acrylate functional group; And

(S3) 상기 2단계 반응에서 형성된, 수산기 및 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(2P)의 수산기와 산무수물의 반응에 의해, 카르복실산을 포함하는 아크릴계 수지를 형성하는 3단계 반응;을 포함할 수 있다.(S3) The reaction of a hydroxyl group and an acid anhydride of a vinyl or acrylic copolymer resin (2P) including a hydroxyl group and a (meth)acrylate functional group formed in the two-step reaction to form an acrylic resin containing a carboxylic acid It may include a three-step reaction.

추가로, 상기 (S1) 단계에서는 (메타)아크릴레이트인 제2 단량체(2m)를 동시에 중합시키는 것일 수 있다.In addition, in the step (S1), the second monomer (2m), which is a (meth)acrylate, may be simultaneously polymerized.

이하, 각 단계별로 아크릴계 수지(A)의 제조방법을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing the acrylic resin (A) in each step will be described in more detail.

[1단계 반응][Step 1 reaction]

본 발명에 따른 아크릴계 수지(A)의 제조방법에 있어서, 상기 1단계 반응은 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P)를 제조하는 반응 단계이다.In the method for producing an acrylic resin (A) according to the present invention, the first-step reaction is a reaction step of preparing a vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing a glycidyl group.

하기 반응식 1은 상기 1단계 반응의 일 예를 나타낸 것이다. 하기 반응식 1은 상기 1단계 반응에 대한 하나의 예시일 뿐, 상기 1단계 반응이 이에 제한되는 것은 아니다.Reaction Scheme 1 below shows an example of the one-step reaction. Reaction Scheme 1 below is only an example of the first step reaction, and the first step reaction is not limited thereto.

상기 1단계 반응에서 사용된 단량체 몰수의 합을 1몰을 기준으로 하여 상기 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제1 단량체(1m) 0.3 내지0.9몰; (메타)아크릴레이트인 제2 단량체(2m) 0 내지 0.2 몰; 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제3 단량체(3m) 0.3 내지 0.9 몰;을 중합시키는 것일 수 있다.0.3 to 0.9 moles of the first monomer (1m) containing the epoxy group and the ethylenically unsaturated group based on 1 mole of the total number of moles of the monomers used in the first step reaction; 0 to 0.2 moles of the second monomer (2m) which is a (meth)acrylate; And 0.3 to 0.9 mol of a third monomer (3m) including an ethylenically unsaturated group; may be polymerized.

<반응식 1><Reaction Scheme 1>

Figure 112019116534981-pat00026
Figure 112019116534981-pat00026

상기 반응식 1에서, Y는 수소 또는 메틸이고, Q는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알킬 또는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알콕시 알킬이며, Z는

Figure 112019116534981-pat00027
,
Figure 112019116534981-pat00028
,
Figure 112019116534981-pat00029
,
Figure 112019116534981-pat00030
,
Figure 112019116534981-pat00031
,
Figure 112019116534981-pat00032
,
Figure 112019116534981-pat00033
,
Figure 112019116534981-pat00034
Figure 112019116534981-pat00035
중 선택되는 1종 이상을 포함하며, o는 0 내지 0.2의 실수이고, p는 0.3 내지 0.9의 실수이며, q는 0.1 내지 0.5의 실수이고, o+p+q=1 이다.In the above Scheme 1, Y is hydrogen or methyl, Q is a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkyl or a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkoxy alkyl, and Z is
Figure 112019116534981-pat00027
,
Figure 112019116534981-pat00028
,
Figure 112019116534981-pat00029
,
Figure 112019116534981-pat00030
,
Figure 112019116534981-pat00031
,
Figure 112019116534981-pat00032
,
Figure 112019116534981-pat00033
,
Figure 112019116534981-pat00034
And
Figure 112019116534981-pat00035
It includes at least one selected from among, o is a real number from 0 to 0.2, p is a real number from 0.3 to 0.9, q is a real number from 0.1 to 0.5, and o+p+q =1.

상기 반응식 1을 참조하면, 상기 1단계 반응은 제1 단량체(1m), 제2 단량체(2m) 및 제3 단량체(3m)를 공중합시켜 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P)를 제조할 수 있다.Referring to Scheme 1, the first-step reaction is a vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing a glycidyl group by copolymerizing a first monomer (1m), a second monomer (2m), and a third monomer (3m). Can be manufactured.

상기 제1 단량체(1m)는 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체일 수 있다.The first monomer (1m) may be a monomer including an epoxy group and an ethylenically unsaturated group.

상기 제1 단량체로 정의되는 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체는 함량 p로 전체 단량체의 합을 1로 하였을 때, 0.3 내지 0.9일 수 있으며, 바람직하게는 0.4 내지 0.8일 수 있다. 상기 제 1단량체인 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체의 양은 후술하는 바와 같은 2단계 반응시의 (메타)아크릴레이트 도입양 및 3단계 반응의 2급 알코올의 산변성을 통한 산값 조절에 주요한 인자이므로 상기 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P)의 분자량 및 유리전이온도에 따라 적절하게 함량을 조절하는 것이 바람직하다. The monomer containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group defined as the first monomer may be 0.3 to 0.9, preferably 0.4 to 0.8, when the sum of all monomers is 1 based on the content p . The amount of the monomer containing the epoxy group and the ethylenically unsaturated group, which is the first monomer, is a major factor in controlling the acid value through the amount of (meth)acrylate introduced in the second-stage reaction as described below and acid modification of the secondary alcohol in the third-stage reaction. Therefore, it is preferable to appropriately adjust the content according to the molecular weight and glass transition temperature of the vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing the glycidyl group.

상기 p가 상기 범위 미만이면 추후 산값을 조절하는데 문제가 생기고, 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P)에 충분한 (메타)아크릴레이트를 도입하기 어려워 (메타)아크릴레이트 당량이 높아지는 문제가 발생하여, 내열성에 문제가 발생할 수 있으며, 상기 범위 초과이면 유리전이온도 조절이 불가능 할 수 있다. If the p is less than the above range, there is a problem in adjusting the acid value later, and it is difficult to introduce sufficient (meth)acrylate to the vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing a glycidyl group, and the (meth)acrylate equivalent is increased. A problem may occur, and a problem may occur in heat resistance, and if it exceeds the above range, it may be impossible to control the glass transition temperature.

상기 제1 단량체로 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체 의 예로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 글리시딜 부틸(메타)아크릴레이트, 2-{[(4-비닐벤질)옥시]메틸}옥시란, 2-(4-비닐페닐)옥시란, 3,4-에폭시-사이클로헥실 메틸 (메타)아크릴레이트 등을 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 하기 화학식 2 또는 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용할 수도 있다:Examples of monomers containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group as the first monomer include glycidyl (meth)acrylate, glycidyl butyl (meth)acrylate, 2-{[(4-vinylbenzyl)oxy]methyl} One or more types of oxirane, 2-(4-vinylphenyl) oxirane, 3,4-epoxy-cyclohexyl methyl (meth)acrylate, and the like may be selected and used. Preferably, a compound represented by the following Formula 2 or Formula 3 may be used:

[화학식 2] [화학식 3][Chemical Formula 2] [Chemical Formula 3]

Figure 112019116534981-pat00036
Figure 112019116534981-pat00037
Figure 112019116534981-pat00036
Figure 112019116534981-pat00037

상기 화학식 2 또는 화학식 3에서, Y는 수소 또는 메틸이다.In Formula 2 or Formula 3, Y is hydrogen or methyl.

상기 제2 단량체(2m)는 호모 폴리머로 중합시 유리전이온도가 -40

Figure 112019116534981-pat00038
이하인 (메타)아크릴레이트 단량체일 수 있다.When the second monomer (2m) is polymerized as a homopolymer, the glass transition temperature is -40
Figure 112019116534981-pat00038
It may be the following (meth) acrylate monomer.

상기 제2 단량체는 호모 폴리머로 중합시 유리 전이온도가 -40

Figure 112019116534981-pat00039
이하인 것을 특징으로 한다. 호모 폴리머로 중합시 유리전이온도는 "Polymer Handbook" 4판 John Wiley and Sons, Inc.의 VI/193~268를 참조할 수 있다. When the second monomer is polymerized with a homopolymer, the glass transition temperature is -40
Figure 112019116534981-pat00039
It is characterized by the following. For the glass transition temperature during polymerization with a homopolymer, refer to VI/193~268 of John Wiley and Sons, Inc., 4th edition of "Polymer Handbook".

또한, 상기 제2 단량체는 (메타)아크릴레이트 단량체로 정의 될수 있으며, 대부분 지방족 알킬을 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물일 수 있다. 그 예로는 2-에틸부틸 아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 헵틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, 3-메톡시부틸아크릴레이트, 2-메톡시에틸아크릴레이트, 3-메톡시프로필아크릴레이트, 3-메틸부틸아크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, 노닐아크릴레이트, 옥틸아크릴레이트, 2-옥틸아크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, 프로필아크릴레이트, 데실메타아크릴레이트, 라우릴메타아크릴레이트, 도데실메타아크릴레이트, 옥타데실메타아크릴레이트, 옥틸메타아크릴레이트 화합물 군에서 1종 이상을 선택하여 사용할 수 있다. In addition, the second monomer may be defined as a (meth) acrylate monomer, and may be a (meth) acrylate compound containing mostly aliphatic alkyl. Examples include 2-ethylbutyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, heptyl acrylate, hexyl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, 3-meth Toxoxypropyl acrylate, 3-methylbutyl acrylate, lauryl acrylate, nonyl acrylate, octyl acrylate, 2-octyl acrylate, n-pentyl acrylate, propyl acrylate, decyl methacrylate, lauryl methacrylic Rate, dodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, octyl methacrylate may be used by selecting one or more compounds from the group.

상기 제3 단량체(3m)는 호모 폴리머로 중합시 유리전이온도가 -40℃ 이상이고, 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체일 수 있다.The third monomer (3m) may be a monomer having a glass transition temperature of -40°C or higher when polymerized with a homopolymer, and including an ethylenically unsaturated group.

상기 제3 단량체(3m)의 호모 폴리머로 중합시 유리전이온도는 -40℃ 이상, 바람직하게는 0℃ 이상, 보다 바람직하게는 50℃ 이상일 수 있다.When polymerized with the homopolymer of the third monomer (3m), the glass transition temperature may be -40°C or higher, preferably 0°C or higher, and more preferably 50°C or higher.

또한, 상기 제3 단량체(3m)는 에틸렌성 불포화기를 포함하는 동시에 유리전이온도를 높일 수 있는 구조도 함께 포함할 수 있다. 상기 유리전이온도를 높일 수 있는 구조는 아로마틱기, 환형알킬 등일 수 있다.In addition, the third monomer (3m) may include an ethylenically unsaturated group and a structure capable of increasing the glass transition temperature. A structure capable of increasing the glass transition temperature may be an aromatic group, a cyclic alkyl, or the like.

또한, 상기 제3 단량체(3m)는 스타이렌, 비닐톨루엔, 페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 티오페닐 에틸 (메타)아크릴레이트, 사이클로헥실 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜틸 (메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜텐닐옥시에틸(메타)아크릴레이트 등일 수 있다.In addition, the third monomer (3m) is styrene, vinyltoluene, phenoxy ethyl (meth) acrylate, thiophenyl ethyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentyl (meth) acrylate , Dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, and the like.

상기 제3 단량체의 경우 상기 글리시딜(에폭시)기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(1P)의 유리전이온도에 따라 투입하거나 투입하지 않아도 된다. 상기 제3의 단량체의 함량 q는 전체 모노머의 함량을 1로 하였을 때 0.1 내지 0.5 바람직하게는 0.2 내지 0.4를 투입하는 것이 좋다.In the case of the third monomer, it may not be added or added according to the glass transition temperature of the acrylic binder resin 1P containing the glycidyl (epoxy) group. The content q of the third monomer is 0.1 to 0.5, preferably 0.2 to 0.4 when the total monomer content is 1.

또한, 상기 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제3 단량체(3m) 중, 그 호모 폴리머의 유리전이온도가 -40℃ 이하인 제3 단량체(3m_SM)와 그 호모폴리머의 유리전이온도가 -40℃ 초과인 제3 단량체(3m_HM)의 중량비(3m_HM/3m_SM)가 0 내지 1/5일 수 있다.In addition, among the third monomers (3m) containing ethylenically unsaturated groups, a third monomer (3m_SM) having a glass transition temperature of -40°C or less of the homopolymer and a material having a glass transition temperature of the homopolymer exceeding -40°C. The weight ratio (3m_HM/3m_SM) of 3 monomers (3m_HM) may be 0 to 1/5.

상기 1단계 반응의 글리시딜기를 포함하는 비닐 또는 아크릴계 공중합체 수지(1P) 제조는 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있으나, 바람직 하게는 용액 중합 방법이 좋다. 또, 얻어지는 아크릴계 바인더 수지는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 중 어느 것이어도 되며, 일반 적으로는 랜덤 공중합체로 제조되어 진다. 또한, 용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어, 아세트산에틸, 톨루엔, 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트(PGMEA), 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 이소프로필 알코올, 아세톤 등이 사용된다. 특히 본 발명에서는 비교적 낮은 산값에서 현상이 가능한 구조로 설계되어 있는 알카리 가용성 바인더 구성을 특징으로 하므로 상기 언급된 용제중 알코올계 용제 이소프로필 알코올, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 등의 용제를 사용하지 않아도 후술의 3단계 반응에서 상용성 문제로 침전물이 발생하는 문제를 해결할 수 있다. 알코올계 용제는 희석력이 낮아 아크릴계 수지 및 이를 이용한 조성물의 점도를 높이며, 조성물의 점도가 높은 경우 코팅시 평탄화도가 저하되는 문제점이 있다. For the production of a vinyl or acrylic copolymer resin (1P) containing a glycidyl group in the one-step reaction, known manufacturing methods such as solution polymerization, bulk polymerization, emulsion polymerization, and various radical polymerizations may be appropriately selected, but preferably solution The polymerization method is good. Moreover, any of a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer, etc. may be sufficient as the acrylic binder resin obtained, and is generally manufactured with a random copolymer. In addition, in solution polymerization, as a polymerization solvent, ethyl acetate, toluene, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), propylene glycol methyl ether, isopropyl alcohol, acetone, etc. are used as a polymerization solvent. In particular, the present invention is characterized by an alkali-soluble binder structure that is designed in a structure capable of developing at a relatively low acid value.Thus, it is not necessary to use a solvent such as isopropyl alcohol or propylene glycol methyl ether among the aforementioned solvents. It is possible to solve the problem of generating a precipitate due to a compatibility problem in the step reaction. Alcohol-based solvents have a low dilution power to increase the viscosity of acrylic resins and compositions using the same, and when the viscosity of the composition is high, there is a problem that the flatness degree is lowered during coating.

본 발명의 아크릴계 수지의 용제 중 알코올계 용제를 사용하지 않아도, 침전물 발생등 상용성에 문제없는 것을 특징으로 한다. 구체적인 용액 중합예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서, 중합 개시제를 첨가하고, 통상적으로 50 ~ 12 ℃ 정도에서, 5 ~ 30 시간 정도의 반응 조건으로 행해진다. 상기 라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, 상기 글리시딜(에폭시)기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 의해 제어 가능하고, 이들 종류에 따라 적절히 그 사용량이 조정된다. 중합 개시제로는, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트 (상품명:VA-057, 코와 순약 공업 (주) 제조) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨,과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트,디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트,1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 레독스계 개시제 등을 들 수 있는데, 이들에 한정되는 것은 아니다. 상기 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용할 수 있으며, 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여 1 내지 15 중량부인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 3 내지 10 중량부인 것이 좋다. 상기 중합 개시제의 양에 따라 상기 글리시딜(에폭시)기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지의 중량평균 분자량(Mw)를 조절할 수 있으며, 상기 중합개시제의 양이 많아 지면 중량평균 분자량이 낮아지고, 반대로 상기 중합개시제의 양이 줄어 들면 중량평균 분자량이 높아지는 특성을 보인다. 본 발명에서 효과를 보이는 착색감광성 수지 조성물 및 투명화소 형성용 감광성 수지 조성물에 사용되는 바인더의 중량평균 분자량은 5,000 내지 15,000 이며, 상기 중량평균 분자량의 바인더를 제조하려면 중합 개시제의 양은 상기 범위 내에서 사용하는 것이 바람직하다.Among the solvents of the acrylic resin of the present invention, even if an alcohol-based solvent is not used, there is no problem in compatibility such as occurrence of precipitates. As a specific example of solution polymerization, the reaction is carried out under a flow of an inert gas such as nitrogen, a polymerization initiator is added, and reaction conditions are usually performed at about 50 to 12°C for about 5 to 30 hours. The polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier, and the like used in the radical polymerization are not particularly limited and may be appropriately selected and used. In addition, the weight average molecular weight of the acrylic binder resin containing a glycidyl (epoxy) group can be controlled by the amount of the polymerization initiator and the chain transfer agent used, and the reaction conditions, and the amount thereof is appropriately adjusted according to these types. As the polymerization initiator, for example, 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis(2-amidinopropane)dihydrochloride, 2,2'-azobis[2-( 5-methyl-2-imidazolin-2-yl)propane]dihydrochloride, 2,2'-azobis (2-methylpropionamidine) disulfate, 2,2'-azobis (N,N' -Dimethyleneisobutylamidine), 2,2'-azobis[N-(2-carboxyethyl)-2-methylpropionamidine]hydrate (trade name: VA-057, manufactured by Kowa Pure Chemical Industries, Ltd.) Azo initiators such as, potassium persulfate, persulfates such as ammonium persulfate, di(2-ethylhexyl)peroxydicarbonate, di(4-t-butylcyclohexyl)peroxydicarbonate, di-sec-butylperoxydi Carbonate, t-butylperoxyneodecanoate, t-hexylperoxypivalate, t-butylperoxypivalate, dilauroyl peroxide, di-n-octanoyl peroxide, 1,1,3,3 -Tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, di(4-methylbenzoyl)peroxide, dibenzoylperoxide, t-butylperoxyisobutylate, 1,1-di(t-hexylperoxy) Peroxide-based initiators such as cyclohexane, t-butyl hydroperoxide, and hydrogen peroxide, redox initiators in which a peroxide and a reducing agent such as a combination of persulfate and sodium hydrogen sulfite, and a combination of peroxide and sodium ascorbate, and the like are mentioned. , Is not limited to these. The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, and is preferably 1 to 15 parts by weight, more preferably 3 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer component. It is good. Depending on the amount of the polymerization initiator, the weight average molecular weight (Mw) of the acrylic binder resin containing the glycidyl (epoxy) group can be adjusted, and as the amount of the polymerization initiator increases, the weight average molecular weight decreases. As the amount of the initiator decreases, the weight average molecular weight increases. The weight average molecular weight of the binder used in the colored photosensitive resin composition and the photosensitive resin composition for forming transparent pixels showing the effect in the present invention is 5,000 to 15,000, and to prepare the binder of the weight average molecular weight, the amount of polymerization initiator is used within the above range. It is desirable to do.

[2단계 반응][2-step reaction]

본 발명에 따른 아크릴계 수지(A)의 제조방법에 있어서, 상기 2단계 반응은 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지를 제조 하는 반응 단계이다. 구체적으로, 상기 2단계 반응은, 상기 1단계 반응에서 제조된 글리시딜기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(1P) 및 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체를 반응시켜, (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지를 제조할 수 있다. In the method for producing an acrylic resin (A) according to the present invention, the two-step reaction is a reaction step of preparing an acrylic binder resin containing a (meth)acrylate functional group. Specifically, in the two-step reaction, an acrylic binder resin (1P) containing a glycidyl group prepared in the first step reaction, and a monomer containing a (meth)acrylate and a carboxyl group are reacted, and a (meth)acrylate functional group It is possible to prepare an acrylic binder resin containing.

하기 반응식 2는 상기 2단계 반응의 일 예를 나타낸 것이다. 하기 반응식 2는 상기 2단계 반응에 대한 하나의 예시일 뿐, 상기 2단계 반응이 이에 제한되는 것은 아니다.Reaction Scheme 2 below shows an example of the two-step reaction. Scheme 2 below is only an example of the two-step reaction, and the two-step reaction is not limited thereto.

<반응식 2><Reaction Scheme 2>

Figure 112019116534981-pat00040
Figure 112019116534981-pat00040

상기 반응식 2에서, Y, Q, Z, o, p, q 는 반응식 1과 동일하다.In Scheme 2, Y, Q, Z, o, p, and q are the same as in Scheme 1.

상기 반응식 2를 참조하면, 상기 1단계 반응에서 제조된 글리시딜기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(1P)로부터 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(2P)를 얻을 수 있다.Referring to Scheme 2, it is possible to obtain an acrylic binder resin (2P) containing a (meth)acrylate functional group from the acrylic binder resin (1P) containing a glycidyl group prepared in the first step reaction.

상기 반응식 2에서, 상기 글리시딜기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(1P)는, (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체(미도시)와 반응시킬 수 있다. 이때, 상기 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체는 제4 단량체(4m)라고 지칭할 수 있다.In Reaction Scheme 2, the acrylic binder resin (1P) containing a glycidyl group may be reacted with a monomer (not shown) containing a (meth)acrylate and a carboxyl group. In this case, the monomer including the (meth)acrylate and carboxyl group may be referred to as a fourth monomer (4m).

상기 제4 단량체(4m)는 상기 1단계 반응에서 사용된 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제1 단량체(1m) 1몰에 대하여 0.8 내지 1.2몰 사용될 수 있으며, 이 경우, 제조되는 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(2P)의 수율이 좋을 수 있다.The fourth monomer (4m) may be used in 0.8 to 1.2 moles per 1 mole of the first monomer (1m) containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group used in the first step reaction, and in this case, the prepared (meth)acrylic The yield of the acrylic binder resin (2P) containing a rate functional group may be good.

상기 제4 단량체(4m)인 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 5로 표시되는 화합물일 수 있다: The fourth monomer (4m), a monomer including a (meth)acrylate and a carboxyl group, may be a compound represented by the following Formula 4 or a compound represented by the following Formula 5:

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112019116534981-pat00041
Figure 112019116534981-pat00041

상기 화학식 4에서, R1는 하기 화학식 4-1 내지 4-5 중에서 선택되고, R2는 불포화기를 포함하거나 포함하지 않는 선형(linear), 가지(branched) 또는 시클릭(cyclic)의 탄소수 1~20개의, 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족 또는 방향족 탄화수소이며, R3는 수소 또는 메틸이다:In Formula 4, R 1 is selected from the following Formulas 4-1 to 4-5, and R 2 is a linear, branched, or cyclic carbon number of 1 to without or including an unsaturated group. 20 aliphatic or aromatic hydrocarbons with or without heteroatoms, R 3 is hydrogen or methyl:

<화학식 4-1> <Formula 4-1>

Figure 112019116534981-pat00042
Figure 112019116534981-pat00042

<화학식 4-2><Formula 4-2>

Figure 112019116534981-pat00043
Figure 112019116534981-pat00043

<화학식 4-3><Formula 4-3>

Figure 112019116534981-pat00044
Figure 112019116534981-pat00044

<화학식 4-4><Formula 4-4>

Figure 112019116534981-pat00045
Figure 112019116534981-pat00045

<화학식 4-5><Formula 4-5>

Figure 112019116534981-pat00046
Figure 112019116534981-pat00046

상기 화학식 4-1 내지 4-5에서 x는 각각 독립적으로 같거나 다를 수 있으며, 0 내지 10의 정수이고, a 및 b는 각각 1내지 9의 정수이다.In Formulas 4-1 to 4-5, x may each independently be the same or different, and are integers of 0 to 10, and a and b are integers of 1 to 9, respectively.

[화학식5][Chemical Formula 5]

Figure 112019116534981-pat00047
Figure 112019116534981-pat00047

상기 화학식 5에서, (메타)아크릴산 평균 중합도 n은 0 내지 9의 정수이며, Y는 수소 또는 메틸이다.In Formula 5, (meth)acrylic acid average degree of polymerization n is an integer of 0 to 9, and Y is hydrogen or methyl.

하기 반응식 3은 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 제조하는 다양한 반응들을 나타낸 것이다.Scheme 3 below shows various reactions for preparing the compound represented by Chemical Formula 4.

<반응식 3><Reaction Scheme 3>

Figure 112019116534981-pat00048
Figure 112019116534981-pat00048

상기 반응식 3에서, 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물의 R2는 불포화기를 포함하거나 포함하지 않는 선형(linear), 가지(branched) 또는 시클릭(cyclic)의 탄소수 1~20개의, 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족 또는 방향족 탄화수소이다.In Reaction Scheme 3, R 2 of the (meth)acrylate compound containing a hydroxyl group is a linear, branched or cyclic C1-C20, hetero It is an aliphatic or aromatic hydrocarbon with or without atoms.

상기 반응식 3을 참조하면, 상기 화학식 4의 화합물은 산무수물과 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트의 반응에 의해 제조될 수 있다.Referring to Scheme 3, the compound of Formula 4 may be prepared by reaction of an acid anhydride and a (meth)acrylate containing a hydroxyl group.

상기 산무수물과 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물의 반응은, 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물 1몰에 대하여, 상기 산무수물 0.8 몰 내지 1.2몰, 바람직하게는 0.9몰 내지 1.0몰을 사용하는 것이 좋다. 특히 산무수물이 과량인 경우에는 반응 후에도 산무수물이 잔존할 수도 있다. 잔존 산무수물은 착색 감광성 수지 조성물 및 투명화소 형성용 감광성 수지 조성물의 감도를 저해시킬 수 있어, 잔존 산무수물을 최소화하는 것이 바람직하다. The reaction of the acid anhydride with the (meth)acrylate compound containing the hydroxyl group is from 0.8 mol to 1.2 mol of the acid anhydride, preferably from 0.9 mol to 1 mol of the (meth) acrylate compound containing the hydroxyl group. It is recommended to use 1.0 mole. In particular, when the acid anhydride is excessive, the acid anhydride may remain even after the reaction. The residual acid anhydride may inhibit the sensitivity of the colored photosensitive resin composition and the photosensitive resin composition for forming a transparent pixel, so it is preferable to minimize the residual acid anhydride.

본 발명에서 화학식 4의 화합물 제조시 잔존 산무수물은 FT-IR상 확인할 수 있는 산무수물 특성 피크 1710cm-1, 1920cm-1의 산무수물 특성 피크가 완전히 소멸된 것을 확인하고 반응을 종결하여 화학식 4의 화합물, 즉, 카르복실산을 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물을 제조할 수 있다. In the present invention, when preparing the compound of Formula 4, the remaining acid anhydride was confirmed that the acid anhydride characteristic peaks of 1710cm -1 and 1920cm -1 were completely disappeared, and the reaction was terminated. A compound, that is, a (meth)acrylate compound containing a carboxylic acid can be prepared.

상기 산무수물은 통상적으로 당업자가 쉽게 구입하여 사용할 수 있는 산무수물이면 상관없이 사용할 수 있으며, 그 예로는 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 글루타르산 무수물, 수베르산 무수물, 프탈산 무수물, 4수소무수프탈산,6수소무수프탈산, 트라이멜리트산 무수물, n-도데실닐 숙신산 무수물, n-테트라데실 숙신산 무수물, n-헥사데실 숙신산 무수물, n-옥타데실 숙신산무수물, n-옥테닐 숙신산무수물, n-테트라데실 숙신산 무수물 및 테트라프로페닐 숙신산 무수물 군에서 1종이상을 선택하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 숙신산 무수물, 프탈산 무수물, 말레산 무수물, 4수소무수프탈산, 6수소무수프탈산 군에서 1종이상을 선택하여 사용할 수 있다. The acid anhydride can be used regardless of any acid anhydride that can be easily purchased and used by a person skilled in the art, examples of which include succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, suberic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride. , Hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, n-dodecyl succinic anhydride, n-tetradecyl succinic anhydride, n-hexadecyl succinic anhydride, n-octadecyl succinic anhydride, n-octenyl succinic anhydride, n-tetradecyl One or more types of succinic anhydride and tetrapropenyl succinic anhydride may be selected and used, preferably one or more selected from the group of succinic anhydride, phthalic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride. Can be used.

하기 반응식 4는 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물을 제조하기 위한 반응을 나타낸 예시이다.Reaction Scheme 4 below is an example showing a reaction for preparing a (meth)acrylate compound containing the hydroxyl group.

<반응식 4> <Reaction Scheme 4>

Figure 112019116534981-pat00049
Figure 112019116534981-pat00049

상기 반응식 4에서, R3는 수소 또는 메틸이고, n은 1 내지 10의 정수이다.In Scheme 4, R 3 is hydrogen or methyl, and n is an integer from 1 to 10.

상기 반응식 4를 참조하면, 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물(OH-MAet)은 (메타)아크릴산으로부터 유도될 수 있으며, 구체적으로는, (메타)아크릴산(MAA)과, 에틸렌옥사이드(EO), 프로필렌옥사이드(PO) 또는 테트라하이드로 퓨란(THF)의 반응을 통해 제조될 수 있다. 이때, 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물(OH-MAet)은 에테르기를 포함할 수 있다.Referring to Scheme 4, the (meth)acrylate compound (OH-MAet) containing a hydroxyl group may be derived from (meth)acrylic acid, specifically, (meth)acrylic acid (MAA), and ethylene oxide ( EO), propylene oxide (PO), or tetrahydrofuran (THF). In this case, the (meth)acrylate compound (OH-MAet) containing a hydroxyl group may include an ether group.

또한, 상기 반응에 의해 제조된 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물 내에 생성된 에테르기는 극성을 높일 수 있어, 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시킬 수 있으므로, 반복단위와 알킬기의 구조를 적절하여 조정하여 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물의 구조를 제어할 수 있다.In addition, since the ether group generated in the (meth)acrylate compound containing a hydroxyl group prepared by the above reaction can increase the polarity, the sensitivity of the photosensitive resin composition can be improved, the structure of the repeating unit and the alkyl group is appropriately adjusted. Thus, the structure of the (meth)acrylate compound containing the hydroxyl group can be controlled.

상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물은 2-하이드록시 에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시 프로필(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트 및 폴리테트라메틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상일 수 있다.The (meth)acrylate compound containing the hydroxyl group is 2-hydroxy ethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy propyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) ) It may be one or more selected from the group consisting of acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and polytetramethylene glycol mono (meth) acrylate.

하기 반응식 5는 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물을 제조하기 위한 반응을 나타낸 다른 예시이다.Reaction Scheme 5 below is another example showing a reaction for preparing a (meth)acrylate compound containing the hydroxyl group.

<반응식 5> <Reaction Scheme 5>

Figure 112019116534981-pat00050
Figure 112019116534981-pat00050

상기 반응식 5에서, R2는 불포화기를 포함하거나 포함하지 않는 선형(linear), 가지(branched) 또는 시클릭(cyclic)의 탄소수 1~20개의, 헤테로 원자를 포함하거나 포함하지 않는 지방족 또는 방향족 탄화수소이고, R3는 수소 또는 메틸이며, n은 1 내지 5의 정수이다.In Scheme 5, R 2 is a linear, branched or cyclic aliphatic or aromatic hydrocarbon containing or not containing an unsaturated group having 1 to 20 carbon atoms, or not containing a hetero atom. , R 3 is hydrogen or methyl, and n is an integer of 1 to 5.

상기 반응식 5에서, 상기 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트(OH-MA) 1몰에 대하여 ε-카프로락톤 n 몰을 사용하면 n개의 에스테르기를 갖는 알킬체인의 반복단위를 수득할 수 있다.In Reaction Scheme 5, when n moles of ε-caprolactone are used per 1 mole of the (meth)acrylate (OH-MA) containing a hydroxyl group, a repeating unit of an alkyl chain having n ester groups can be obtained.

또한, 상기 n은, 반응효율이나 극성을 고려하여, 1 내지 5, 바람직하게는 1 내지 3일 수 있다. 상기 범위 초과이면 결정성이 높아져 투명성이 낮아지고, 분자량이 높아져 아크릴계 수지 내에서 충분한 (메타)아크릴레이트 당량을 부여하기가 어려울 수 있다.In addition, n may be 1 to 5, preferably 1 to 3, in consideration of reaction efficiency or polarity. If it exceeds the above range, it may be difficult to provide a sufficient (meth)acrylate equivalent in the acrylic resin due to high crystallinity and low transparency and high molecular weight.

상기 반응식 5를 참조하면, 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물(OH-MA)와 ε-카프로락톤(CL)의 반응에 의해 에스테르계의 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물(OH-MAes)을 제조할 수 있다.Referring to Reaction Scheme 5, a (meth)acrylate compound (OH-) containing an ester-based hydroxyl group by reaction of a (meth)acrylate compound (OH-MA) containing a hydroxyl group and ε-caprolactone (CL) MAes) can be prepared.

상기 에스테르계의 수산기를 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물(OH-MAes)은 반응을 통해 직접 제조하는 것도 가능하며, 상업적으로 생산되어 판매되어지는 다이셀사의 Placcel-FA1D(n=1), Placcel-FA2D(n=2), Placcel-FA3(n=3), Placcel-FA4(n=4), Placcel-FA5(n=5), Placcel-FM1D(n=1), Placcel-FM2D(n=2), Placcel-FM3(n=3), Placcel-FM4(n=4), Placcel-FM5(n=5) 미원스페샬리티 케미칼사의 Miramer M-100(n=2), 아케마사의 SR-495(n=2)등을 구입하여 사용할 수도 있다. The (meth)acrylate compound (OH-MAes) containing the ester-based hydroxyl group can also be prepared directly through reaction, and Daicel's Placcel-FA1D (n=1), Placcel, which is commercially produced and sold -FA2D(n=2), Placcel-FA3(n=3), Placcel-FA4(n=4), Placcel-FA5(n=5), Placcel-FM1D(n=1), Placcel-FM2D(n= 2), Placcel-FM3 (n=3), Placcel-FM4 (n=4), Placcel-FM5 (n=5) Miramer M-100 (n=2) by Miwon Specialty Chemicals, SR-495 by Akema You can also purchase and use (n=2).

또한, 상기 화학식 4 화합물 제조시 촉매를 사용할 수도 있다. 상기 촉매는 산무수물과 반응하지 않고, 산무수물과 수산기의 반응을 촉진할 수 있는 촉매이면 제한없이 사용할 수 있다. In addition, a catalyst may be used when preparing the compound of Formula 4 above. The catalyst may be used without limitation as long as it does not react with the acid anhydride and can accelerate the reaction between the acid anhydride and the hydroxyl group.

상기 촉매는 3급 아민, 염기성 금속 및 4급 암모늄염으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 3급 아민은 트리메틸아민, 트리에틸아민 및 트리부틸아민 중 선택되고, 상기 염기성 금속은 수산화나트륨, 수산화칼슘, 탄산나드륨등 염기성 금속, 트리메틸암모늄클로라이드, 트리메틸 암모늄 브로마이드, 트리에틸암모늄브로마이드 및 트리에틸암모늄크로라이드 중 선택되며, 상기 4급 암모늄염은 트리메틸암모늄클로라이드, 트리메틸 암모늄 브로마이드, 트리에틸암모늄브로마이드 및 트리에틸암모늄크로라이드 중 선택되는 것일 수 있다.The catalyst may include at least one selected from the group consisting of tertiary amines, basic metals, and quaternary ammonium salts. The tertiary amine is selected from trimethylamine, triethylamine and tributylamine, and the basic metal is a basic metal such as sodium hydroxide, calcium hydroxide, and sodium carbonate, trimethylammonium chloride, trimethyl ammonium bromide, triethylammonium bromide, and triethyl It is selected from ammonium chromide, and the quaternary ammonium salt may be selected from trimethyl ammonium chloride, trimethyl ammonium bromide, triethyl ammonium bromide, and triethyl ammonium chromide.

상기 촉매는 화학식 4 화합물 100 중량부에 대하여 0.1 내지 2 중량부만큼 사용될 수 있으며, 상기 사용량은 반응 속도에 따라 적절히 조절될 수 있다.The catalyst may be used in an amount of 0.1 to 2 parts by weight based on 100 parts by weight of the compound of Formula 4, and the amount may be appropriately adjusted according to the reaction rate.

상기 화학식 5로 표시되는 화합물은, (메타)아크릴산의 마이클 축합 반응(Michael addition Reaction)을 통해 얻어질 수 있고, 반복단위 1 내지 10의 (메타)아크릴산 올리고머인 것일 수 있으며, 하기의 문헌을 참고로 제조할 수 있다:The compound represented by Formula 5 may be obtained through a Michael addition reaction of (meth)acrylic acid, and may be a (meth)acrylic acid oligomer having 1 to 10 repeating units, see the following documents. Can be manufactured with:

USP 3,888,912;USP 3,888,912;

USP 4,359,564; USP 4,359,564;

Polymer Latters Edition Vol.14, p277~281, 1976; 및 Polymer Latters Edition Vol. 14, p277-281, 1976; And

Marcromolecule Vol.7 p256~258, 1974.Marcromolecule Vol. 7 p256~258, 1974.

상기 문헌을 참고하면 거대 고리 폴리 에테르, 즉 크라운 에테르는 "알칼리성 음이온"의 형성에 의해 친핵체를 활성화시키는 것으로 알려져 있다. 크라운 에테르의 존재 하에 카르복실산 나트륨 또는 칼륨의 사용에 의해 (메타)아크릴산으로부터 고 분자량 폴리 에스테르가 제조될 수 있는 것을 확인할 수 있다:Referring to this document, macrocyclic polyethers, ie crown ethers, are known to activate nucleophiles by formation of “alkaline anions”. It can be seen that high molecular weight polyesters can be prepared from (meth)acrylic acid by the use of sodium or potassium carboxylates in the presence of crown ethers:

<반응식 6> <Reaction Scheme 6>

Figure 112019116534981-pat00051
Figure 112019116534981-pat00051

상기 반응식 6에서 원으로 표시되는 K+는 크라운 에테르에 포획된 양이온이다. 상기 반응에서 "알칼리성 음이온"으로써의 카르복실산 나트륨 또는 칼륨염 보다 (메타)아크릴레이트산이 친핵성 첨가반응에 있어서의 반응성이 높으며, 카르복실산 칼륨 1몰에 대하여 (메타)아크릴레이트산이 n몰 투입되면, n개의 반복단위를 형성하게 되며, 일반적으로 n이 1 내지 9인 (메타)아크릴산 올리고머를 제조할 수 있다. 상기 염 형태의 카르복실산 나트륨 또는 칼륨 화합물은 알킬 카르복실산 염, 특히 아세트산 나트륨, 아세트산 칼륨 등의 아세트산 염의 화합물을 사용할 수 있으나, 바람직하게는 (메타)아크릴산 나트륨, (메타)아크릴산 칼륨의 염 화합물을 사용하여 반응에 이용하면, 순도 높은 [화학식2]의 화합물을 제조할 수 있다. 상기 고리 폴리 에테르, 즉 크라운 에테르는 1,2-에테인다이올을 기본 단위로 하여서 연결된 형태이다. 크라운 에테르의 한 예로 18-크라운-6을 들면, 여기서 18은 고리를 구성하는 총 원자수를 의미하고, 6은 고리를 구성하는 원자중 산소 원자의 수를 의미한다. 고리의 안쪽은 전자가 풍부하여 강한 음전하를 띤다. 이는 고리를 구성하는 산소 원자가 비공유전자쌍을 가지기 ??문이다. 이러한 음전하 때문에 크라운 에테르는 쉽게 루이스 염기(전자를 주는 물질)로 작용하여서, 전자가 부족한 금속 이온과 배위결합을 할 수 있다. 특히 아래 반응식과 같이 "알칼리성 음이온"으로써의 카르복실산 나트륨 또는 칼륨염의 금속이온과 배위 결합하여 착물을 형성하여 금속이온을 포확 할 수 있어, 쉽게 (메타)아크릴산과 (메타)아크릴산 금속염을 액상으로 혼합물 수 있고, 반응을 원할 하게 유도할 수 있다. K + represented by a circle in Scheme 6 is a cation trapped in the crown ether. In the above reaction, (meth)acrylate acid has higher reactivity in the nucleophilic addition reaction than sodium or potassium carboxylic acid as the "alkaline anion", and n moles of (meth)acrylate acid per 1 mole of potassium carboxylic acid When added, n repeating units are formed, and generally n is 1 to 9 (meth)acrylic acid oligomers can be prepared. The sodium or potassium carboxylic acid compound in the salt form may be an alkyl carboxylic acid salt, in particular, an acetic acid salt such as sodium acetate or potassium acetate, but preferably a salt of sodium (meth)acrylate or potassium (meth)acrylate. When a compound is used in the reaction, a compound of [Chemical Formula 2] with high purity can be prepared. The cyclic polyether, i.e., the crown ether, is a form linked with 1,2-ethanidiol as a basic unit. As an example of a crown ether, for 18-crown-6, where 18 means the total number of atoms constituting the ring, and 6 means the number of oxygen atoms in the atoms constituting the ring. The inside of the ring is rich in electrons and has a strong negative charge. This is because the oxygen atom constituting the ring has an unshared electron pair. Because of this negative charge, the crown ether can easily act as a Lewis base (a substance that gives electrons) and coordination with metal ions lacking electrons. In particular, it is possible to capture metal ions by coordinating with metal ions of sodium carboxylate or potassium salt as "alkaline anion" to form a complex as shown in the following reaction formula, so that (meth)acrylic acid and (meth)acrylic acid metal salt can be easily converted into liquid. It can be a mixture and can induce a reaction smoothly.

<반응식 7><Reaction Scheme 7>

Figure 112019116534981-pat00052
Figure 112019116534981-pat00052

상기 크라운 에테르로는 1,4-다이옥산, 9-크라운-3,12-크라운-4, 15-크라운-5, 18-크라운-6, 21-크라운7및 디벤조-18-크라운-6 등의 화합물을 사용하여 금속이온을 포확 할 수 있으며, 금속이온의 결합력에 따라 상기 크라운 에테르 화합물을 선정하는 것이 좋고, 본발명에서 사용되는 (메타)아크릴산 금속염의 경우에는, 15-크라운-5, 18-크라운-6, 21-크라운7 군에서 선정하는 것이 바람직 하다. The crown ethers include 1,4-dioxane, 9-crown-3,12-crown-4, 15-crown-5, 18-crown-6, 21-crown 7, and dibenzo-18-crown-6. A compound can be used to capture metal ions, and it is better to select the crown ether compound according to the binding strength of the metal ions. In the case of the (meth)acrylic acid metal salt used in the present invention, 15-crown-5, 18- It is desirable to select from Crown-6 and 21-Crown 7.

상기 화학식 5의 (메타)아크릴산 올리고머를 제조하는 또다른 방법으로는 마이크로레티큘러(Maroreticular) 이온교환수지 중 설폰산기를 함유한 음이온교환수지를 이용하여 (메타)아크릴산의 올리고머 형태를 제조할 수 있다. 마이크로레티큘러(Maroreticular) 이온교환수지는 스타일렌 모노머와 다이비닐벤젠의 공중합체로 구성된 입자로 현탁 중합(Suspension polymerization)을 통해 공극을 함유한 구형입자로 제조될 수 있으며, 이렇게 제조된 공극을 함유한 구형입자는 일반적인 아로마틱 설폰화 기술(Aromatic sulfonation Technic)로 설폰산기를 함유한 음이온 교환수지를 제조할 수 있다. 상기 설폰산기를 함유한 음이온교환수지는 별도의 용제 없이 (메타)아크릴산과 상기 이온교환수지로 간단하게 상기 화학식 5의 (메타)아크릴산 올리고머를 제조할 수 있으며 별도의 정제공정 없이 상기 이온교환수지를 필터를 통해 제거할 수 있어 제조가 용이한 장점이 있다. 본 발명에서는 다우케미칼사의 설폰산기를 함유한 음이온 교환수지인 AMBERLYST?? 15DRY를 사용하여 화학식 5의 (메타)아크릴산 올리고머를 제조하였다. 상기 제조방법에서 n값은 실험적으로 반응시간과 설폰산기를 함유한 음이온 교환수지의 양, 반응온도로 결정될 수 있으나, 그 범위를 한정하지 않는다. 설폰산기를 함유한 음이온 교환수지는 (메타)아크릴산 100중량부에 대하여 3 내지 30중량부를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 5내지 20중량부를 사용할 수 있다. 설폰산기를 함유한 음이온 교환수지의 양이 3중량부보다 작으면, 반응속도가 느리거나 일부 경우에는 반응이 잘 진행되지 않아, 반응시간이 길어지고 반응온도가 높아져 불순물이 생성되는 단점이 있고, 30중량부 이상이면, 반응속도가 지나치게 빨라져, 반응을 조절하기 힘들고 올리고머가 겔화가 진행되는 경우도 발생할 수 있다. As another method of preparing the (meth)acrylic acid oligomer of Formula 5, an oligomer form of (meth)acrylic acid may be prepared using an anion exchange resin containing a sulfonic acid group among microreticular (Maroreticular) ion exchange resins. . Microreticular (Maroreticular) ion exchange resin is a particle composed of a copolymer of styrene monomer and divinylbenzene, and can be manufactured into spherical particles containing pores through suspension polymerization. Spherical particles can be prepared with an anion exchange resin containing a sulfonic acid group using a general aromatic sulfonation technique. The anion exchange resin containing the sulfonic acid group can be prepared simply by using (meth)acrylic acid and the ion exchange resin without a separate solvent, and the ion exchange resin can be prepared without a separate purification process. Since it can be removed through a filter, it has the advantage of being easy to manufacture. In the present invention, AMBERLYST??, an anion exchange resin containing a sulfonic acid group from Dow Chemical Co., Ltd. 15DRY was used to prepare a (meth)acrylic acid oligomer of Formula 5. In the above manufacturing method, the n value may be experimentally determined by the reaction time, the amount of the anion exchange resin containing the sulfonic acid group, and the reaction temperature, but the range is not limited. The anion exchange resin containing a sulfonic acid group may be used in an amount of 3 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of (meth)acrylic acid, and preferably 5 to 20 parts by weight. If the amount of the anion exchange resin containing a sulfonic acid group is less than 3 parts by weight, the reaction rate is slow or in some cases the reaction does not proceed well, the reaction time is lengthened and the reaction temperature is increased, resulting in impurities being generated. If it is more than 30 parts by weight, the reaction rate becomes too fast, it is difficult to control the reaction, and the oligomer may be gelled.

상기 제조된 화학식 5의 (메타)아크릴산 올리고머의 n 값은 말단기 분석법으로 습식 적정법인 산값으로 계산되어 질 수 있다. 산값은 상기 (메타)아크릴산 올리고머 1g 속에 함유된 카르복실산을 중화하는데 필요한 수산화 칼륨의 mg수로 정의할 수 있으며, n의 수가 커질수록 산값은 낮아진다. 하기 수학식 1으로 n 값을 확인할 수 있다. The n value of the prepared (meth)acrylic acid oligomer of Chemical Formula 5 may be calculated as an acid value by wet titration by an end group analysis method. The acid value can be defined as the number of mg of potassium hydroxide required to neutralize the carboxylic acid contained in 1 g of the (meth)acrylic acid oligomer, and the acid value decreases as the number of n increases. The n value can be confirmed by Equation 1 below.

<수학식 1><Equation 1>

Figure 112019116534981-pat00053
Figure 112019116534981-pat00053

상기 화학식 4 또는 화학식 5의 카르복실산을 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물의 제조시에는 (메타)아크릴레이트의 라디칼 중합반응을 억제하기위한 중합 억제제를 사용할수 있다. In the preparation of the (meth)acrylate compound containing the carboxylic acid of Formula 4 or Formula 5, a polymerization inhibitor for suppressing radical polymerization of (meth)acrylate may be used.

상기 중합 억제제는 바람직하게는 페놀계 라디칼 중합 억제제를 사용할 수 있으며 그 예로는, 하이드로퀴논, 메톡시 하이드로퀴논, p-벤조퀴논, 톨루하이드로퀴논, 모노-t-부틸하이드로 퀴논, 디-t-부틸하이드로퀴논 등을 사용할 수 있다. 상기 중합 억제제는 반응온도나 조건에 따라 종류와 함량을 적절하게 선택하여 사용할 수 있다. The polymerization inhibitor may preferably be a phenolic radical polymerization inhibitor, examples of which include hydroquinone, methoxy hydroquinone, p-benzoquinone, toluhydroquinone, mono-t-butylhydroquinone, di-t-butyl Hydroquinone or the like can be used. The polymerization inhibitor can be used by appropriately selecting the type and content according to the reaction temperature or conditions.

상기 중합 억제제는 상기 화학식 4 또는 화학식 5의 카르복실산을 포함하는 (메타)아크릴레이트 화합물 전체 100 중량부에 대하여 10 내지 1500 ppm, 바람직하게는 50 내지 1000ppm, 더욱 바람직 하게는 100 내지 500ppm을 사용하는 것이 좋다. 상기 범위 이상으로 사용할 경우 경화성이 저하되는 문제점이 있고, 상기 범위 이하로 사용하는 경우에는 반응중 라디칼 중합으로 제품 순도가 낮아지고 점도가 높아져 바인더 수지에 적용이 어려울 수 있다. The polymerization inhibitor is 10 to 1500 ppm, preferably 50 to 1000 ppm, more preferably 100 to 500 ppm, based on 100 parts by weight of the total (meth)acrylate compound containing the carboxylic acid of Formula 4 or Formula 5 It is good to do. When used above the above range, there is a problem that curability is deteriorated, and when used below the above range, the product purity is lowered due to radical polymerization during the reaction and the viscosity is increased, so that application to the binder resin may be difficult.

상기 2단계 반응에 있어서, 상기 1단계 반응으로부터 얻은 글리시딜기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(1P)와 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체(제4 단량체, 4m)의 반응시, 상기 4m의 사용량은 상기 1단계 반응시 사용된 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 단량체(제1 단량체, 1m) 1몰에 대하여 0.8 내지 1.2몰, 바람직하게는 0.9 내지 1.1몰일 수 있다. 상기 범위 미만이면 아크릴계 수지 내에 글리시딜기가 다량 잔존하여 후술하는 3단계 반응의 산무수물과의 반응시 글리시딜기와 중합반응이 진행되어 분자량이 급격하게 커지거나 아크릴계 수지가 겔화되는 문제점이 있다. 상기 범위 초과이면 상기 (메타)아크릴레이트와 카르복실기를 포함하는 단량체(제4 단량체, 4m)이 잔존하게 되어 추후 착색 감광성 수지 조성물 또는 투명화소 형성용 감광성 수지 조성물을 컬러필터에 적용시 고온 공정에서 아웃가스 발생 등으로 공정 오염의 원인이 될 수 있다.In the two-stage reaction, when reacting the acrylic binder resin (1P) containing a glycidyl group obtained from the first-stage reaction and a monomer containing a (meth)acrylate and a carboxyl group (fourth monomer, 4m), the 4m The amount of used may be 0.8 to 1.2 moles, preferably 0.9 to 1.1 moles, per 1 mole of the monomer (first monomer, 1m) containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group used in the first step reaction. If it is less than the above range, a large amount of glycidyl groups remain in the acrylic resin, and the polymerization reaction with the glycidyl group proceeds when reacting with the acid anhydride in the three-step reaction described later, resulting in a rapid increase in molecular weight or the acrylic resin gelation. If the above range is exceeded, the monomer (the fourth monomer, 4m) containing the (meth)acrylate and carboxyl group remains, so that when the colored photosensitive resin composition or the photosensitive resin composition for forming a transparent pixel is applied to the color filter, it is out of the high-temperature process. It can be a cause of process pollution due to gas generation.

또한, 상기 2단계 반응에서, (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 포함하는 아크릴계 바인더 수지 제조시에 반응을 원활하게 진행하기 위하여, 촉매를 사용할 수 있다. 촉매는 참고문헌"Chemistry & Technology of UV&EB Formulation for Coatins, Inks & Paints"Volume2, "Prepolymers and Reactive Diluents for UV and EB Curable Formulations"p.43의 에폭시 (메타)아크릴레이트 반응 촉매를 참고할 수 있다. 상기 촉매로는 무기 알카리염(수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 탄산나트륨), 유기금속염(리튬옥타노레이트, 틴크로라이드, 디부틸틴디라울레이트), 삼급아민(N, N-디메틸아닐린, 트리에틸아민), 4급암모늄 (트리에틸 벤질 암모늄 하이드록사이드, 트리에틸암모늄 클로라이드, 트리에틸암모늄 브로마이드, 트리메틸 암모늄 클로라이드, 트리메틸 암모늄브로마이드), 포스파인(트리페닐포스파인, 트리(o-토닐)포스파인, 트리(p-토닐)포스파인, 트리(o-메톡시페닐)포스파인 군에서 선택적으로 사용할 수 있으며, 상기 촉매의 양은 반응물의 고형분 100 중량부에 대하여 0.1 내지 5 중량부 바람직하게는 0.2 내지 3중량부를 사용하는 것이 좋으나 반응물의 화학적 구조나 반응속도에 따라 그 양을 조절할 수 있으므로 그 양을 한정하지는 않는다. In addition, in the two-step reaction, in order to smoothly proceed the reaction when preparing an acrylic binder resin containing a (meth)acrylate functional group, a catalyst may be used. As the catalyst, reference may be made to the epoxy (meth)acrylate reaction catalyst of References "Chemistry & Technology of UV&EB Formulation for Coatins, Inks & Paints" Volume2, "Prepolymers and Reactive Diluents for UV and EB Curable Formulations" p.43. Examples of the catalyst include inorganic alkali salts (sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate), organometallic salts (lithium octanorate, tinchromide, dibutyltindiraulate), tertiary amines (N, N-dimethylaniline, triethylamine). , Quaternary ammonium (triethyl benzyl ammonium hydroxide, triethyl ammonium chloride, triethyl ammonium bromide, trimethyl ammonium chloride, trimethyl ammonium bromide), phosphine (triphenylphosphine, tri(o-tonyl) phosphine, tri (p-tonyl) phosphine and tri(o-methoxyphenyl) phosphine may be optionally used in the group, and the amount of the catalyst is 0.1 to 5 parts by weight, preferably 0.2 to 3 parts by weight, based on 100 parts by weight of the solid content of the reactant. Although it is recommended to use part, the amount can be adjusted according to the chemical structure or reaction rate of the reactant, so the amount is not limited.

또한, 상기 2단계 반응시 중합 반응을 억제하기 위하여 화학식 4 화합물 또는 화학식 5 화합물 제조에 사용되는 중합 억제제를 다시 추가할 수도 있다.In addition, in order to suppress the polymerization reaction during the two-step reaction, a polymerization inhibitor used for preparing the compound of Formula 4 or 5 may be added again.

상기 2단계 반응 후에는, 아크릴계 수지의 측쇄에 (메타)아크릴레이트 관능기 이외에 글리시딜기의 링 개환반응으로 생성되는 2급 수산기가 (메타)아크릴레이트 관능기의 수와 동일하게 생성될 수 있다.After the two-step reaction, in addition to the (meth)acrylate functional group in the side chain of the acrylic resin, secondary hydroxyl groups generated by the ring-opening reaction of the glycidyl group may be generated equal to the number of the (meth)acrylate functional groups.

[3단계 반응][3 step reaction]

본 발명에 따른 아크릴계 수지(A)의 제조방법에 있어서, 상기 3단계 반응은 2급 알코올의 산변성에 의한 아크릴계 수지를 제조하는 반응 단계이다.In the method for producing an acrylic resin (A) according to the present invention, the three-step reaction is a reaction step of preparing an acrylic resin by acid modification of a secondary alcohol.

상기 3단계 반응에서는, 상기 2단계 반응에서 생성된 2급 수산기와 산무수물의 반응으로 카르복실산을 생성시켜 아크릴계 수지를 제조할 수 있다.In the three-step reaction, an acrylic resin may be prepared by producing a carboxylic acid by reaction of a secondary hydroxyl group and an acid anhydride generated in the two-step reaction.

하기 반응식 8은 상기 3단계 반응의 일 예를 나타낸 것이다. 하기 반응식 3은 상기 3단계 반응에 대한 하나의 예시일 뿐, 상기 3단계 반응이 이에 제한되는 것은 아니다.Reaction Scheme 8 below shows an example of the three-step reaction. Scheme 3 below is only an example of the three-step reaction, and the three-step reaction is not limited thereto.

<반응식 8><Reaction Scheme 8>

Figure 112019116534981-pat00054
Figure 112019116534981-pat00054

상기 반응식 8에서, Y, Q, Z, o, p, q 는 반응식 1과 동일하다.In Scheme 8, Y, Q, Z, o, p, and q are the same as in Scheme 1.

상기 반응식 8을 참조하면, 상기 2단계 반응에서 제조된 (메타)아크릴레이트 관능기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지(2P)에 포함된 2급 알코올이 산무수물(AAH)과 반응하여 카르복실산이 생성되어, 아크릴계 수지가 제조될 수 있다.Referring to Scheme 8, the secondary alcohol contained in the acrylic binder resin (2P) containing the (meth)acrylate functional group prepared in the two-step reaction reacts with an acid anhydride (AAH) to produce a carboxylic acid, Acrylic resins can be prepared.

상기 산무수물(AAH)은 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 글루타르산 무수물, 수베르산 무수물, 프탈산 무수물, 4수소무수프탈산,6수소무수프탈산, 트라이멜리트산 무수물, n-도데실닐 숙신산 무수물, n-테트라데실 숙신산 무수물, n-헥사데실 숙신산 무수물, n-옥타데실 숙신산무수물, n-옥테닐 숙신산무수물, n-테트라데실 숙신산 무수물 및 테트라프로페닐 숙신산 무수물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The acid anhydride (AAH) is succinic anhydride, maleic anhydride, glutaric anhydride, suberic anhydride, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, n-dodecylyl succinic anhydride, n -Tetradecyl succinic anhydride, n-hexadecyl succinic anhydride, n-octadecyl succinic anhydride, n-octenyl succinic anhydride, n-tetradecyl succinic anhydride, and tetrapropenyl succinic anhydride and at least one selected from the group consisting of I can.

또한, 상기 2급 알코올과 산무수물의 반응시에는 반응을 원활하게 촉진시킬 수 있는 촉매을 사용할 수 있다. 상기 촉매는 상기 화학식 4 또는 화학식 5 화합물을 제조할 때 사용하는 촉매와 동일한 촉매를 동일한 범위에서 사용할 수 있으며, 상기 촉매의 종류와 양은 반응물의 화학적 구조에 따라 달라질 수 있으므로 반응을 원활하게 진행할 수 있다면, 제한하지 않는다. In addition, in the reaction of the secondary alcohol and the acid anhydride, a catalyst capable of smoothly promoting the reaction may be used. The catalyst may be used in the same range as the catalyst used to prepare the compound of Formula 4 or Formula 5, and the type and amount of the catalyst may vary depending on the chemical structure of the reactant, so if the reaction can proceed smoothly , Do not limit.

상기 3단계 반응은 바람직하게는 60℃ 이상, 바람직 하게는 70℃ 이상에서 반응을 진행하며, 적어도 1단계 반응에서 사용된 용제의 비점보다 낮은 온도에서 반응을 진행할 수 있다. 잔존 산무수물은 FT-IR상 확인할 수 있는 산무수물 특성 피트 1710cm-1, 1920cm-1의 산무수물 특성 피크가 완전히 소멸된 것을 확인하고 반응을 종결할 수 있다.In the three-step reaction, the reaction is preferably carried out at 60° C. or higher, preferably 70° C. or higher, and the reaction may proceed at a temperature lower than the boiling point of the solvent used in the at least one step reaction. The remaining acid anhydride can be confirmed that the acid anhydride characteristic peaks of 1710cm -1 and 1920cm -1 of the acid anhydride characteristic pits that can be identified on FT-IR have completely disappeared, and the reaction can be terminated.

상기 산무수물은 상기 1단계 반응에서 사용된 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 제1 단량체(1m) 1몰에 대하여 0.1몰 내지 1.0몰, 바람직하게는 0.5몰 내지 1.0몰, 보다 바람직하게는 0.7몰 내지 1.0몰을 사용할 수 있다. 상기 산무수물은 아크릴계 수지의 유리전이온도와 중량평균 분자량을 고려하여 사용량을 결정할 수 있으므로 그 양을 한정하지는 않지만, 산무수물 양이 상기 범위 미만이면 2단계 반응에서 생성된 2급 알코올이 알카리 가용성 바인더에 남아 있을 수 있다. 그러나 2급 알코올이 양자점 입자의 특성에 큰 영향을 주지는 않는다. The acid anhydride is 0.1 mol to 1.0 mol, preferably 0.5 mol to 1.0 mol, more preferably 0.7 mol based on 1 mol of the first monomer (1 m) containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group used in the first step reaction. To 1.0 mole may be used. The amount of the acid anhydride is not limited because the amount of the acid anhydride can be determined in consideration of the glass transition ion and the weight average molecular weight of the acrylic resin. Can remain on. However, secondary alcohol does not significantly affect the properties of the quantum dot particles.

상기 아크릴계 수지의 산값은 상기 3단계 반응의 산무수물의 양에 의해 결정된다. 상기 산값은 고형분 환산 산값으로 용제를 제외한 고형분의 산값을 의미하며 30 내지 90 mg·KOH/g 가 바람직하며, 고형분 환산 산값이 상기 범위 이하인 경우에는 양자점 입자의 안정성을 향상시킬 수 있을 만큼 충분히 결합되지 않을 수 있고, 상기 범위 이상이면 공정 효율이 저하될 수 있다.The acid value of the acrylic resin is determined by the amount of the acid anhydride in the three-step reaction. The acid value is an acid value in terms of solid content, meaning the acid value of the solid content excluding the solvent, and is preferably 30 to 90 mgKOH/g, and when the acid value in terms of solid content is less than the above range, it is not sufficiently bound to improve the stability of the quantum dot particles. Otherwise, if it is more than the above range, process efficiency may decrease.

이하 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변경 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연한 것이다.Hereinafter, preferred embodiments are presented to aid the understanding of the present invention, but the following examples are only illustrative of the present invention, and it is obvious to those skilled in the art that various changes and modifications are possible within the scope and spirit of the present invention. It is natural that changes and modifications fall within the scope of the appended claims.

합성예 : 카르복실산을 포함하는 (메타)아크릴레이트 제조Synthesis Example: Preparation of (meth)acrylate containing carboxylic acid

합성예1 : 석신산 모노-(4-아크릴로일옥시-부틸)에테르 합성Synthesis Example 1: Synthesis of succinic acid mono-(4-acryloyloxy-butyl) ether

4-넥 1000mL 재킷반응기에 기계식 교반기, 온도계, 환류 냉각관을 장착하고 4-하이드록시 부틸 아크릴레이트 144.2중량부 (1.0 mol, 바스프사)에 대하여, 숙신산 무수물 (0.95mol, 용산화학사) 95중량부, 트리에틸아민 0.5중량부, 메톡시 하이드로퀴논 0.01 중량부(이스트만사, 상품명 HQMME)를 투입하고 반응 온도 80℃에서 4시간 반응을 진행하여 하기 반응식 9처럼 석신산 모노-(4-아크릴로일옥시-부틸)에테르를 합성하였다.Equipped with a mechanical stirrer, thermometer, and reflux condenser in a 4-neck 1000 mL jacketed reactor, based on 144.2 parts by weight of 4-hydroxybutyl acrylate (1.0 mol, BASF), 95 parts by weight of succinic anhydride (0.95 mol, Yongsan Chemical Co., Ltd.) , 0.5 parts by weight of triethylamine, 0.01 parts by weight of methoxy hydroquinone (Eastman, brand name HQMME) was added and the reaction was carried out at a reaction temperature of 80° C. for 4 hours, and succinic acid mono-(4-acryloyl oxide) as shown in Scheme 9 below. Cy-butyl) ether was synthesized.

합성된 석신산 모노-(4-아크릴로일옥시-부틸)에테르에 대해서, FT-IR 측정을 실시하였으며, 산무수물 특성 피크인 1710cm-1, 1920cm-1의 피크가 완전히 소멸된 것을 확인하고 반응을 종결하였다. 이때, 산값은 222.1 mg·KOH/g 이였다. For the synthesized succinic acid mono-(4-acryloyloxy-butyl) ether, FT-IR measurement was performed, and it was confirmed that the peaks of 1710cm -1 and 1920cm -1 , which are the peaks of acid anhydride characteristics, completely disappeared, and the reaction Was terminated. At this time, the acid value was 222.1 mg·KOH/g.

<반응식 9>

Figure 112019116534981-pat00055
<Reaction Scheme 9>
Figure 112019116534981-pat00055

[FT-IR] [FT-IR]

2900~ 3400cm-1 COOH 신축피크, 2900~ 3400cm -1 COOH expansion peak,

1730cm-1 C=O 신축피크, 1730cm- 1 C=O expansion peak,

1610~1640cm-1 C=C-C=O 신축피크, 1610~1640cm- 1 C=C -C=O expansion peak,

1290cm-1 O=C-O- 신축피크1290cm- 1 O= CO -Expansion peak

1025cm-1 -C-O-C=O 신축피크 1025cm- 1 - CO -C=O expansion peak

합성예2: 아크릴산 반응체 제조Synthesis Example 2: Preparation of acrylic acid reactant

4-넥 500mL 재킷반응기에 기계식 교반기, 온도계, 환류 냉각관을 장착하고 100 중량부의 아크릴산(LG화학사)에 대하여, 18 중량부의 18-크라운-6 에테르(알드리치사), 7.6 중량부의 나트륨 아크릴산 (알드리치사, Sodium Acrylate), 메톡시하이드로 퀴논(이스트만사, 상품명 HQMME) 0.8중량부를 투입하고, 80℃에서 300시간 반응을 진행하여 반응을 종료하였다. 반응기 내부온도를 60℃를 통해, 감압 증류를 통해 18-크라운-6 에테르를 제거하고, 반응물내에 존재하는 나트륨 이온을 제거하기 위해, 톨루엔 300중량부를 혼합하고, 상기 혼합물을 분별 깔대기에서 증류수로 수회 세정하고 톨루엔을 60℃에서 감압 증류하여 카르복실산을 포함하는 아크릴레이트 올리고머를 제조하였다. A 4-neck 500 mL jacketed reactor was equipped with a mechanical stirrer, a thermometer, and a reflux condenser, and based on 100 parts by weight of acrylic acid (LG Chemical), 18 parts by weight of 18-crown-6 ether (Aldrich), 7.6 parts by weight of sodium acrylic acid (Aldrich Co., Sodium Acrylate), 0.8 parts by weight of methoxyhydroquinone (Eastman, brand name HQMME) was added, and the reaction was performed at 80° C. for 300 hours to complete the reaction. 18-Crown-6 ether was removed through reduced pressure distillation through 60°C of the reactor internal temperature, and 300 parts by weight of toluene were mixed to remove sodium ions present in the reaction product, and the mixture was mixed with distilled water several times in a separatory funnel. After washing, toluene was distilled under reduced pressure at 60° C. to prepare an acrylate oligomer containing carboxylic acid.

이때 제조된 상기 화합물의 산값은 185.5 mg·KOH/g 이였으며, 상기 산값으로 계산된 [수학식 1]에서의 n값은 3.2 였다.At this time, the acid value of the prepared compound was 185.5 mg·KOH/g, and the n value in [Equation 1] calculated as the acid value was 3.2.

제조예 1: 아크릴계 수지 제조Preparation Example 1: Preparation of acrylic resin

하기 1 단계 내지 3 단계 반응에 따라 아크릴계 수지를 제조하였다. 1 단계 반응에서 사용된 단량체, 용제 및 개시제와, 2 단계 반응의 모노머 당량비와 3 단계 반응의 모노머 당량비는 표 1에 기재된 바와 같다.An acrylic resin was prepared according to the following step 1 to step 3 reaction. The monomers, solvents, and initiators used in the first step reaction, and the monomer equivalent ratio of the second step reaction and the monomer equivalent weight ratio of the third step are as described in Table 1.

(1) 1단계 반응(1) Step 1 reaction

전자식 교반기, 온도계, 환류냉각관, 적하용 드로핑 퍼넬, 질소 투입관이 구비된 4구 유리플라스크에 사이클로헥실 메타아크릴레이트(이하 CHMA, 오사카유기화학사) 3 중량부, 글리시딜메타아크릴레이트(이하 GMA,다우케이칼사) 70 중량부, 2-에틸헥실 아크릴레이트(이하 2-EHA,다우케미칼사) 27 중량부를 포함하는 단량체 100 중량부를 투입하고, 상기 단량체 100 중량부에 대하여 중합 개시제인 t-부틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노레이트(이하 HOPO,아케마사) 5 중량부를 용제인 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트(이하 PGMEA,에스케이에너지사) 250 중량부에 녹여 적하용 드로핑 퍼넬 투입하고, 질소 분위기에서 교반하면서 온도를 90℃ 승온하였다. 상기 적하용 드로핑 퍼넬의 혼합물을 분당 2g의 속도로 천천히 적가하여 중합반응을 진행하였다. 적가 완료 후 온도를 110℃로 승온하고, 3시간 반응 및 숙성진행하고 반응을 종결하였다.In a 4-neck glass flask equipped with an electronic stirrer, thermometer, reflux cooling tube, dropping funnel, and nitrogen inlet tube, 3 parts by weight of cyclohexyl methacrylate (hereinafter referred to as CHMA, Osaka Organic Chemical), glycidyl methacrylate ( 100 parts by weight of a monomer including hereinafter GMA, Dow Chemical Co.) 70 parts by weight and 27 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (hereinafter 2-EHA, Dow Chemical Co., Ltd.) was added, and t, a polymerization initiator based on 100 parts by weight of the monomer -Dissolve 5 parts by weight of butyl peroxy-2-ethyl hexanorate (hereinafter referred to as HOPO, Akema Corporation) in 250 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as PGMEA, SK Energy Corporation) as a solvent, and put in a dropping funnel for dropping, The temperature was raised by 90°C while stirring in a nitrogen atmosphere. The mixture of the dropping funnel for dropping was slowly added dropwise at a rate of 2 g per minute to proceed with polymerization. After the dropwise addition was completed, the temperature was raised to 110°C, and the reaction and aging proceeded for 3 hours, and the reaction was terminated.

(2) 2단계 반응(2) two-step reaction

상기 1단계 반응이 완료된 후 반응기 내부 온도를 25℃로 낮추고 추가로 메톡시 하이드로 퀴논(HQMME, 이스트만사) 0.1 중량부, 트리페닐 포스핀 (알드리치사) 0.2 중량부, 아크릴산(이하 AA,엘지화학사) 35.5 중량부를 투입하고, 천천히 반응온도를 승온하여 90℃에서 5시간 동안 반응을 진행하였다. 이때 고용분 환산 산값이 1.1 mg·KOH/g 로 아크릴산이 대부분 에폭시 관능기와 반응된 것을 확인하고 반응을 종결하였다.After the completion of the first step reaction, the temperature inside the reactor was lowered to 25°C, and additionally 0.1 parts by weight of methoxy hydroquinone (HQMME, Eastman), 0.2 parts by weight of triphenyl phosphine (Aldrich), acrylic acid (hereinafter referred to as AA, LG Chem. ) 35.5 parts by weight was added, and the reaction temperature was slowly raised to carry out the reaction at 90°C for 5 hours. At this time, the acid value in terms of solid solution was 1.1 mg·KOH/g, confirming that most of the acrylic acid reacted with the epoxy functional group, and the reaction was terminated.

(3) 3단계 반응(3) 3-step reaction

상기 2단계 반응물이 완료 한후, 반응기 내부 온도를 25℃로 낮추고 추가로 숙신산 무수물(이하 SuAn, 용산화학사) 13 중량부, 트리에틸 아민 0.1중량부를 투입하고, 천천히 반응온도를 승온하여 75℃에서 3시간 추가로 반응을 진행하였다. 반응물을 FT-IR을 통해 산무수물 특성 피크인 1710cm-1, 1920cm-1 가 완전히 소멸된 것을 확인하고 반응을 종결하여 아크릴계 수지를 제조하였다. After the completion of the second step reaction, the temperature inside the reactor was lowered to 25°C, and 13 parts by weight of succinic anhydride (hereinafter, SuAn, Yongsan Chemical Co., Ltd.) and 0.1 parts by weight of triethylamine were added, and the reaction temperature was slowly raised to 3 at 75°C. The reaction proceeded further over time. Through FT-IR, the reaction product confirmed that the acid anhydride characteristic peaks of 1710cm -1 and 1920cm -1 were completely disappeared, and the reaction was terminated to prepare an acrylic resin.

제조된 아크릴계 수지의 고형분 함량은 38 중량%이다.The solid content of the prepared acrylic resin is 38% by weight.

제조예 2 내지 10 및 비교 제조예 1 내지 4Preparation Examples 2 to 10 and Comparative Preparation Examples 1 to 4

제조예 1과 동일하게 실시하되, 상기 1 단계 반응에서 사용된 단량체, 용제 및 개시제와, 2 단계 반응의 모노머 당량비와 3 단계 반응의 모노머 당량비를 표 1 내지 표 3에 기재된 바에 따라 실시하여, 아크릴계 수지를 제조하였다. Conducted in the same manner as in Preparation Example 1, but the monomers, solvents, and initiators used in the first-stage reaction, and the monomer equivalents ratio of the two-stage reaction and the monomer equivalents ratio of the three-stage reaction were carried out as described in Tables 1 to 3, The resin was prepared.

이때, 비교 제조예 3 내지 4는 3단계 반응 없이 아크릴계 수지를 제조한 것이다.At this time, Comparative Preparation Examples 3 to 4 were prepared acrylic resin without a three-step reaction.

단위: 중량부Unit: parts by weight 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 2Manufacturing Example 2 제조예 3Manufacturing Example 3 제조예 4Manufacturing Example 4 제조예 5Manufacturing Example 5 1단계 반응Step 1 reaction 단량체Monomer CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
CHMA/GMA/2-EHA
(3/70/27)
VT/GMA/n-BA
(9/53/38)
VT/GMA/n-BA
(9/53/38)
용제solvent PGMEA (250)PGMEA (250) PGMEA (250)PGMEA (250) PGMEA (250)PGMEA (250) PGMEA (250)PGMEA (250) PGMEA (366)PGMEA (366) 개시제Initiator HOPO (5)HOPO (5) HOPO (8)HOPO (8) HOPO (5)HOPO (5) HOPO (8)HOPO (8) HOPO (3)HOPO (3) 2단계
반응
Step 2
reaction
모노머
당량비
(I)
Monomer
Equivalent ratio
(I)
AA (35.5)
1
AA (35.5)
One
AA (35.5)
1
AA (35.5)
One
AA (35.5)
1
AA (35.5)
One
AA (35.5)
1
AA (35.5)
One
합성예1(91)
1
Synthesis Example 1 (91)
One
3단계반응 3-step reaction 모노머
당량비
(II)
Monomer
Equivalent ratio
(II)
SuAn (13)
0.26
SuAn (13)
0.26
SuAn (13)
0.26
SuAn (13)
0.26
SuAn (23)
0.47
SuAn (23)
0.47
SuAn (23)
0.47
SuAn (23)
0.47
SuAn (30.2)
0.81
SuAn (30.2)
0.81
o: p: q 비율o: p: q ratio 0.03:0.75:0.220.03:0.75:0.22 0.03:0.75:0.220.03:0.75:0.22 0.03:0.75:0.220.03:0.75:0.22 0.03:0.75:0.220.03:0.75:0.22 0.10:0.50:0.400.10:0.50:0.40 (메타)아크릴당량(Meth)acrylic equivalent 202.8202.8 202.8202.8 202.8202.8 202.8202.8 270.2270.2 분자량(g/mol)Molecular weight (g/mol) 9,7069,706 7,2497,249 11,49011,490 8,1528,152 14,60814,608 유리전이온도(

Figure 112019116534981-pat00056
Glass transition temperature (
Figure 112019116534981-pat00056
-17.1-17.1 -27.3-27.3 -12.6-12.6 -16.2-16.2 -10.2-10.2 산값(mg·KOH/g)Acid value (mg · KOH/g) 56.756.7 57.257.2 87.787.7 88.388.3 81.681.6 점도(cPs)Viscosity (cPs) 4343 3333 6060 3535 6868 CHMA: 사이클로 헥실 메타 아크릴레이트(오사카유키사),
GMA: 글리시딜 메타 아크릴레이트(다우케미칼사)
2-EHA: 2-에틸헥실 아크릴레이트(다우케미칼사),
PGMEA: 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트(에스케이에너지사)
HOPO: t-부틸 퍼옥시-2-에틸 헥사노레이트(아케마사),
AA: 아크릴산(엘지화학사) SuAn : 숙신산 무수물
VT: 비닐톨루엔 (델테크사),
n-BA: n-부틸아크릴레이트(엘지화학사),
PAn: 프탈산 무수물(애경화학사)
TCDMA: 트리시이클로데실 메타아크릴레이트(히타치 케미칼사, FA-513M)
MAn: 말레익산 무수물 (용산화학사)
PGME: 프로필렌 글리콜 메틸 에테르(다우케미칼사)
CHMA: cyclohexyl metaacrylate (Osaka Yuki Co., Ltd.),
GMA: Glycidyl methacrylate (Dow Chemical)
2-EHA: 2-ethylhexyl acrylate (Dow Chemical),
PGMEA: Propylene glycol mono methyl ether acetate (SK Energy)
HOPO: t-butyl peroxy-2-ethyl hexanoate (Akema Corporation),
AA: Acrylic acid (LG Chemical) SuAn: Succinic anhydride
VT: vinyl toluene (Deltech),
n-BA: n-butyl acrylate (LG Chemical Co.),
PAn: Phthalic anhydride (Aekyung Chemical)
TCDMA: Tricyclodecyl methacrylate (Hitachi Chemical, FA-513M)
MAn: Maleic anhydride (Yongsan Chemical Co.)
PGME: Propylene glycol methyl ether (Dow Chemical)

제조예 6Manufacturing Example 6 제조예 7Manufacturing Example 7 제조예 8Manufacturing Example 8 제조예 9Manufacturing Example 9 제조예 10Manufacturing Example 10 1단계 반응Step 1 reaction 단량체Monomer TCDMA/GMA/2-EHA
(4/64/32)
TCDMA/GMA/2-EHA
(4/64/32)
GMA/2-EHA
(85/15)
GMA/2-EHA
(85/15)
TCDMA/GMA/n-BA (27/30/43)TCDMA/GMA/n-BA (27/30/43) TCDMA/GMA/n-BA (30/30/45)TCDMA/GMA/n-BA (30/30/45) CHMA/GMA/2-EHA
(20/65/15)
CHMA/GMA/2-EHA
(20/65/15)
용제solvent PGMEA (278)PGMEA (278) PGMEA (257)PGMEA (257) PGMEA (227)PGMEA (227) PGMEA (317)PGMEA (317) PGMEA (271)PGMEA (271) 개시제Initiator HOPO (9)HOPO (9) HOPO (8)HOPO (8) HOPO (5)HOPO (5) HOPO (4)HOPO (4) HOPO (8)HOPO (8) 2단계
반응
Step 2
reaction
모노머
당량비
(I)
Monomer
Equivalent ratio
(I)
AA (32.4)
1
AA (32.4)
One
AA (38.8)
0.9
AA (38.8)
0.9
AA (15.2)
1
AA (15.2)
One
합성예2(70.2)
1.1
Synthesis Example 2 (70.2)
1.1
MAA (39.4)
1
MAA (39.4)
One
3단계반응 3-step reaction 모노머
당량비
(II)
Monomer
Equivalent ratio
(II)
SuAn (23.4)
0.52
SuAn (23.4)
0.52
PAn (10.6)
0.12
PAn (10.6)
0.12
SuAn (19)
0.9
SuAn (19)
0.9
SuAn (20.7)
0.98
SuAn (20.7)
0.98
MAn (18.8)
0.42
MAn (18.8)
0.42
o: p: q 비율o: p: q ratio 0.03:0.70:0.270.03:0.70:0.27 0:0.88:0.120:0.88:0.12 0.18:0.32:0.500.18:0.32:0.50 0.20:0.30:0.500.20:0.30:0.50 0.18:0.70:0.120.18:0.70:0.12 (메타)아크릴당량(Meth)acrylic equivalent 222.2222.2 185.2185.2 476.2476.2 430.8430.8 218.3218.3 분자량(g/mol)Molecular weight (g/mol) 5,9805,980 6,3366,336 10,71510,715 14,49114,491 9,4769,476 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (℃) -13.8-13.8 -15.0-15.0 -1.1-1.1 -0.5-0.5 -10.4-10.4 산값(mg·KOH/g)Acid value (mg · KOH/g) 87.687.6 32.532.5 83.783.7 65.665.6 80.780.7 점도(cPs)Viscosity (cPs) 3636 4646 4343 7878 6060

비교 제조예 1Comparative Preparation Example 1 비교 제조예 2Comparative Preparation Example 2 1단계 반응Step 1 reaction 단량체Monomer CHMA/GMA
(60/40)
CHMA/GMA
(60/40)
CHMA/GMA/2-EHA
(80/10/10)
CHMA/GMA/2-EHA
(80/10/10)
용제solvent PGMEA (173)
PGME (74)
PGMEA (173)
PGME (74)
PGMEA (100)
PGME (87)
PGMEA (100)
PGME (87)
개시제Initiator HOPO (5)HOPO (5) HOPO (3)HOPO (3) 2단계
반응
Step 2
reaction
모노머
당량비
(I)
Monomer
Equivalent ratio
(I)
AA (20.3)
1
AA (20.3)
One
AA (5.1)
1
AA (5.1)
One
3단계반응 3-step reaction 모노머
당량비
(II)
Monomer
Equivalent ratio
(II)
SuAn (25.3)
0.90
SuAn (25.3)
0.90
SuAn (6.9)
0.98
SuAn (6.9)
0.98
o: p: q 비율o: p: q ratio 0.56:0.44:0.000.56:0.44:0.00 0.79:0.12:0.090.79:0.12:0.09 (메타)아크릴당량(Meth)acrylic equivalent 374.5374.5 1408.81408.8 분자량(g/mol)Molecular weight (g/mol) 9,5359,535 15,60815,608 유리전이온도(℃)Glass transition temperature (℃) 67.267.2 7.67.6 산값(mg·KOH/g)Acid value (mg · KOH/g) 95.795.7 40.740.7 점도(cPs)Viscosity (cPs) 201201 152152

상기 표 1 내지 표 3은 제조예 1 내지 10 및 비교 제조예 1 내지 2의 아크릴계 수지 제조 공정에서 사용된 물질, 사용량 및 제조된 아크릴계 수지의 물성을 나타낸 것이다. 이때, 상기 아크릴계 수지의 물성은 o,p,q 비율(o:p:q), (메타)아크릴레이트 당량, 분자량, 유리전이온도, 산값 및 점도를 포함한다. Tables 1 to 3 show the materials used in the acrylic resin manufacturing process of Preparation Examples 1 to 10 and Comparative Preparation Examples 1 to 2, the amount used, and the physical properties of the prepared acrylic resin. At this time, the physical properties of the acrylic resin include o,p,q ratio (o:p:q), (meth)acrylate equivalent, molecular weight, glass transition temperature, acid value, and viscosity.

상기 표 1 내지 표 3에서, 2단계 반응의 모노머 당량비, 3단계 반응의 모노머 당량비, 아크릴계 수지의 o,p,q 비율(o:p:q), (메타)아크릴레이트 당량, 분자량, 유리전이온도, 산값 및 점도 측정 방법은 하기와 같다.In Tables 1 to 3, the monomer equivalent ratio of the two-step reaction, the monomer equivalent ratio of the three-step reaction, the o,p,q ratio (o:p:q) of the acrylic resin, (meth)acrylate equivalent, molecular weight, glass transition Temperature, acid value, and viscosity measurement methods are as follows.

(1)2단계 반응의 모노머 당량비(I)(1) Monomer equivalent ratio of two-stage reaction (I)

2단계 반응의 모노머 당량비(I)는 1단계 반응에서 사용된 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 화합물 1몰에 대한 카르복실기와 (메타) 아크릴레이트를 포함하는 화합물의 몰수를 의미한다.The monomer equivalent ratio (I) of the two-step reaction refers to the number of moles of the compound containing a carboxyl group and (meta) acrylate with respect to 1 mole of the compound containing an epoxy group and an ethylenically unsaturated group used in the first step reaction.

(2)3단계 반응의 모노머 당량비(II)(2) Monomer equivalent ratio of 3-step reaction (II)

3단계 반응의 모노머 당량비(II)는 1단계 반응에 사용된 에폭시기 및 에틸렌성 불포화기를 포함하는 화합물 1몰에 대한 산무수물의 몰수를 의미한다.The monomer equivalent ratio (II) of the three-step reaction refers to the number of moles of the acid anhydride with respect to 1 mole of the compound containing the epoxy group and ethylenically unsaturated group used in the first step reaction.

(4) o,p,q 비율(o:p:q) 측정(4) o,p,q ratio (o:p:q) measurement

상기 아크릴계 수지(A)에 대하여, o, p, q의 비율(o:p:q)은 1단계 반응의 불포화 이중결합을 포함하는 단량체의 몰비로 계산되어 질 수 있다. With respect to the acrylic resin (A), the ratio of o, p, and q (o:p:q) may be calculated as a molar ratio of a monomer containing an unsaturated double bond in a one-step reaction.

2단계 반응과 3단계 반응은 상기 o, p, q의 비율과는 상관이 없으며, 2단계 반응과 3단계 반응은 상기 p부분의 불포화 이증결합과 에폭시관능기를 동시에 함유하고 있는 단량체의 화학구조가 변하는 것으로 설명할 수 있다. 2단계 반응을 통하여, (메타)아크릴레이트 및 수산기를 포함하는 아크릴계 바인더 수지를 제조할 수 있고, 3단계 반응을 통하여 수산기를 카르복실산으로 변성함으로서 최종적으로 아크릴계 수지(A)를 제조할 수 있다. The two-stage reaction and the three-stage reaction are independent of the ratio of o, p, and q, and the two-stage reaction and the three-stage reaction have the chemical structure of the monomer containing the unsaturated double bond and the epoxy functional group at the same time It can be explained as changing. Through a two-step reaction, an acrylic binder resin containing (meth)acrylate and a hydroxyl group can be prepared, and an acrylic resin (A) can be finally prepared by modifying a hydroxyl group into a carboxylic acid through a three-step reaction. .

(5)(메타)아크릴레이트 당량 측정 (5) (meth)acrylate equivalent measurement

상기 카르복실기와 (메타) 아크릴레이트를 동시에 포함하는 화합물의 양에 따라 상기 아크릴계 수지(A)의 (메타)아크릴레이트 당량이 결정될 수 있다. (메타)아크릴레이트 당량은 하기 수학식 2로 결정할 수 있다.The (meth)acrylate equivalent of the acrylic resin (A) may be determined according to the amount of the compound including the carboxyl group and the (meth) acrylate at the same time. The (meth)acrylate equivalent can be determined by Equation 2 below.

<수학식 2><Equation 2>

(메타)아크릴레이트당량(g/eq.)(Meth)acrylate equivalent (g/eq.)

Figure 112019116534981-pat00057
Figure 112019116534981-pat00057

상기 수학식 2에서 상기 2단계 반응에 사용된 (메타)아크릴레이트 당량은 하기 수학식 3으로 계산될 수 있다.In Equation 2, the (meth)acrylate equivalent used in the two-step reaction can be calculated by Equation 3 below.

<수학식3><Equation 3>

2단계 반응에 사용된(메타) 아크릴레이트 당량(g/eq.)The (meta) acrylate equivalent used in the two-step reaction (g/eq.)

Figure 112019116534981-pat00058
Figure 112019116534981-pat00058

(6)분자량 측정 (6) Molecular weight measurement

상기 아크릴계 수지(A)의 중량평균 분자량은 겔크로파토그래피(GPC)법을 이용하여 이하의 조건으로 측정하였다. The weight average molecular weight of the acrylic resin (A) was measured under the following conditions by using a gel chromophorography (GPC) method.

장치: HLC-8120GPC(도소사)Device: HLC-8120GPC (Dosoh Corporation)

칼럼: TSK-GELG4000HXL+ TSK-GELG2000HXL 직렬연결Column: TSK-GELG4000HXL+ TSK-GELG2000HXL serial connection

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40°C

이동상 용제: 테트라히드로 퓨란(THF)Mobile phase solvent: tetrahydrofuran (THF)

유속: 1.0 ml/분Flow rate: 1.0 ml/min

검출기: R.I 디텍더Detector: R.I detector

측정 시료 농도: 0.6 wt% in THFMeasurement sample concentration: 0.6 wt% in THF

교정용 표준 물질: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (도소사 제조)Standard material for calibration: TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

또한, 제조예 1,2,3,4,6,7에서 각각 제조된 아크릴계 수지의 중량평균분자량 측정 그래프는 도 2a 내지 도 2f에도 나타내었다.In addition, the graphs for measuring the weight average molecular weight of the acrylic resins prepared in Preparation Examples 1,2,3,4,6,7 are also shown in FIGS. 2A to 2F.

(7)유리전이온도 측정(7) Glass transition temperature measurement

상기 아크릴계 수지(A)의 유리전이온도는 제조된 아크릴계 수지(A)을 유리판에 10㎛ 두께로 도포 후 40℃, 감압조건에서 24시간 동안 아크릴계 수지(A) 내의 용제를 완전히 제거하여 시료를 준비하였다. 준비된 시료를 20 mg 내외로 취하여 밀봉하고 시차주사열량분석기(Differential Scanning Calorimetry, DSC)인 TA사 DSC Q200를 이용하여 질소를 분당 50 ml의 속도로 퍼징하면서, 분당 10℃의 승온 속도로 -50℃ 에서 100℃의 온도 범위로 측정하여 변곡점의 온도를 자동으로 계산하여 표시하였다. The glass transition temperature of the acrylic resin (A) is to prepare a sample by applying the prepared acrylic resin (A) to a glass plate in a thickness of 10 μm and then completely removing the solvent in the acrylic resin (A) for 24 hours at 40° C. I did. The prepared sample was taken around 20 mg and sealed, and nitrogen was purged at a rate of 50 ml per minute using a differential scanning calorimetry (DSC) DSC Q200 of -50°C at a temperature rising rate of 10°C per minute. The temperature of the inflection point was automatically calculated and displayed by measuring in a temperature range of 100°C.

또한, 제조예 1 내지 제조예 4에서 각각 제조된 아크릴계 수지의 유리전이온도 측정 그래프는, 도 3a 내지 도 3d에도 나타내었다.In addition, graphs for measuring the glass transition temperature of the acrylic resins each prepared in Preparation Examples 1 to 4 are also shown in FIGS. 3A to 3D.

(8)산값 측정(8) Acid value measurement

상기 아크릴계 수지(A)의 산값은 상기 3단계 반응에서 사용된 산무수물의 양에 따라 결정된다. 상기 산값은 용제를 제외한 고형분 환산 산값이며 KOH 수용액을 이용한 산염기 적정법으로 아래와 같은 방법으로 측정하고 하기 수학식 3으로 계산할 수 있다. 시료를 1.0 ± 0.1 g 까지 무게를 달아 300 mL 삼각 플라스크에 넣고, 메틸알코올과 톨루엔 혼합용매 50 mL를 넣은 후 시료를 완전히 녹인다. (필요하면 가열하여 녹이고 냉각한다.) 페놀프탈렌 용액 3 ~ 5 방울을 넣고 0.1N-에탄올 수산화칼륨 표준용액으로 적정하여 지시약의 분홍색이 30초 동안 지속될 때를 종말점으로 한다.The acid value of the acrylic resin (A) is determined according to the amount of the acid anhydride used in the three-step reaction. The acid value is an acid value in terms of solid content excluding a solvent, and can be measured by the following method by the acid base titration method using an aqueous KOH solution and calculated by Equation 3 below. Weigh the sample to 1.0 ± 0.1 g and place it in a 300 mL Erlenmeyer flask, add 50 mL of a mixed solvent of methyl alcohol and toluene, and dissolve the sample completely. (If necessary, heat to dissolve and cool.) Add 3 to 5 drops of phenolphthalene solution and titrate with 0.1N-ethanol potassium hydroxide standard solution, and the end point is when the pink color of the indicator lasts for 30 seconds.

<수학식 4><Equation 4>

Figure 112019116534981-pat00059
Figure 112019116534981-pat00059

A: 적정에 소요된 0.1N 수산화칼륨 표준용액의 양(mL)A: Amount of 0.1N potassium hydroxide standard solution required for titration (mL)

N: 사용한 표준 용액의 노르말 농도N: Normal concentration of the standard solution used

f: 0.1N 수산화칼륨 용액의 농도계수f: concentration coefficient of 0.1N potassium hydroxide solution

S: 시료의 무게(g)S: weight of sample (g)

NV: 고형분함량 (%)NV: solid content (%)

(9)점도 측정(9) Viscosity measurement

상기 아크릴계 수지(A)의 점도는 브룩필드사 UL Adaptor를 브룩필드 DV2TLV 점도계에 부착하여 25℃에서의 점도를 cPs 단위로 측정하여 표시하였다.The viscosity of the acrylic resin (A) was indicated by attaching a Brookfield UL Adapter to a Brookfield DV2TLV viscometer and measuring the viscosity at 25°C in cPs.

실시예 1: 아크릴계 수지층이 형성된 InP/ZnS 양자점 제조 Example 1: Preparation of InP/ZnS quantum dots with acrylic resin layer formed

(1-1)(1-1) 양자점의Quantum dot 코어( core( InPInP ) 형성) formation

InP 코어 나노입자를 합성하기 위해서, 삼구 플라스크(3-neck flask)에 인듐아세테이트(Indium Acetate) 0.05839g(0.2 mmol), 라우릭 산(Lauric Acid) 0.12019g(0.6mmol), 및 1-옥타데센(1-octadecene) 10 mL를 넣었다. 이 플라스크를 교반하면서 동시에 110℃, 100 mTorr 하에서 30분동안 휘발성 성분을 제거하는 과정을 거친 후, 용액이 투명해질 때까지 질소 분위기에서 270℃의 온도를 유지하여 반응을 진행하였다. In order to synthesize InP core nanoparticles, indium acetate 0.05839 g (0.2 mmol), lauric acid 0.12019 g (0.6 mmol), and 1-octadecene in a 3-neck flask (1-octadecene) 10 mL was added. The flask was stirred while simultaneously removing volatile components at 110° C. and 100 mTorr for 30 minutes, and the reaction was carried out by maintaining a temperature of 270° C. in a nitrogen atmosphere until the solution became transparent.

0.02435g(0.05mmol) 트리스(트리메틸실릴)포스핀과 트리옥틸포스핀(1 ml)을 혼합하고 교반하여 질소 분위기에서 270℃로 가열된 앞의 플라스크에 빠르게 주입하였다. 1시간 반응시킨 후 빠르게 냉각시켜 반응을 종결시켰다. 이후 플라스크의 온도가 100℃에 도달하였을 때, 10mL의 톨루엔(Toluene)을 주입한 후 50 mL 원심분리 튜브에 옮겨 담았다. 에탄올(Ethanol) 10 mL를 첨가한 후, 침전 및 재분산 방법을 활용하여 두 차례 반복하여 정제하고, 톨루엔 13g에 분산시켜 InP 코어의 양자점 입자 분산액을 제조하였으며 이때 첫번째 엑시톤의 흡수에 대한 광학밀도(Optical density of 1st excitonic absorption)는 0.3이었다.0.02435g (0.05mmol) tris(trimethylsilyl)phosphine and trioctylphosphine (1 ml) were mixed and stirred, and then rapidly injected into the flask in front heated to 270°C in a nitrogen atmosphere. After reacting for 1 hour, the reaction was terminated by rapidly cooling. Thereafter, when the temperature of the flask reached 100° C., 10 mL of toluene was injected and transferred to a 50 mL centrifuge tube. After adding 10 mL of ethanol, it was repeatedly purified twice using a precipitation and redistribution method, and dispersed in 13 g of toluene to prepare a dispersion of quantum dot particles of an InP core. At this time, the optical density for absorption of the first exciton ( Optical density of 1 st excitonic absorption) was 0.3.

(1-2)(1-2) 양자점의Quantum dot 쉘(ZnS Shell (ZnS xx SeSe 1-x1-x ) 형성) formation

InP/ZnS나노입자를 합성하기 위해서, 삼구 플라스크(3-neck flask)에 징크아세테이트 5.5044g(30 mmol), 올레익 산 16.944g(60mmol), 1-옥타데센 30 mL를 넣었다. 이 플라스크를 교반과 동시에 140℃, 100 mTorr 하에서 30분 동안 휘발성 성분을 제거하는 과정을 통해 만들어진 1-옥타데센에 의해 분산되어져 있는 제1 화합물을 포함하는 혼합물을 100℃ 비활성 기체 하에서 보관하였다. 100mL 삼구 플라스크에 황 0.9612g(30mmol), 트리옥틸포스핀 15mL를 넣고 질소분위기 하에서 교반하면서 80℃로 가열하여 트리옥틸포스핀에 황이 결합된 제2 화합물을 준비하였다. 100mL 삼구 플라스크에 셀레늄 2.3691g(30mmol), 트리옥틸포스핀 15mL를 넣고 질소분위기 하에서 교반하면서 80

Figure 112019116534981-pat00060
로 가열하여 트리옥틸포스핀에 셀레늄이 결합된 제3 화합물을 준비하였다. 상기 제조예 1에서 제조된 InP코어의 톨루엔 분산액 2.5mL 준비하여 1-옥타데센(15ml)과 위에서 제조한 제1 화합물을 포함하는 혼합물(2.4mL)을 함께 삼구 플라스크에 넣고 교반과 동시에 110℃, 200 mTorr 하에서 30분동안 휘발성 성분을 제거하는 과정을 거쳤다. 이후 비활성 기체 분위기하에서 위에서 제조한 제2 화합물(0.3 mL) 및 제3 화합물(0.3 mL)을 넣고 270℃로 가열하였다. 1시간 반응시킨 후 냉각하여, 제4 화합물인 InP/ZnSxSe1 -x 양자점을 합성하였다.To synthesize InP/ZnS nanoparticles, zinc acetate 5.5044 g (30 mmol), oleic acid 16.944 g (60 mmol), and 1-octadecene 30 mL were added to a 3-neck flask. The flask was stirred and a mixture containing the first compound dispersed by 1-octadecene made through a process of removing volatile components at 140°C and 100 mTorr for 30 minutes at the same time as stirring was stored under an inert gas at 100°C. Into a 100 mL three-necked flask, 0.9612g (30mmol) of sulfur and 15 mL of trioctylphosphine were added and heated to 80°C while stirring under a nitrogen atmosphere to prepare a second compound in which sulfur is bound to trioctylphosphine. In a 100 mL three-necked flask, 2.3691 g (30 mmol) of selenium and 15 mL of trioctylphosphine were added and stirred under a nitrogen atmosphere.
Figure 112019116534981-pat00060
By heating to prepare a third compound in which selenium is bound to trioctylphosphine. Prepare 2.5 mL of the toluene dispersion of the InP core prepared in Preparation Example 1, and add 1-octadecene (15 mL) and a mixture (2.4 mL) containing the first compound prepared above into a three-necked flask and stirred at 110° C., Volatile components were removed under 200 mTorr for 30 minutes. Then, the second compound (0.3 mL) and the third compound (0.3 mL) prepared above were added under an inert gas atmosphere and heated to 270°C. After reacting for 1 hour, cooling was performed to synthesize a fourth compound, InP/ZnS x Se 1 -x quantum dots.

(1-3)(1-3) 아크릴계 수지층 형성Formation of acrylic resin layer

상기 (1-2) 에서 제조된 제4 화합물 InP/ZnSxSe1 -x 양자점이 포함된 혼합물과 리간드로서, 상기 제조예 1에서 제조된 아크릴계 수지 30mg을 첨가하고 90

Figure 112019116534981-pat00061
에서 5시간 반응을 진행하여 양자점 입자의 표면의 리간드를 교환하여 제5 화합물이 포함된 혼합물을 제조하였으며 이 때, 부피를 확인하였다. 상기 제5 화합물이 포함된 혼합물에 과량의 에탄올을 넣고 원심 분리하여 상기 양자점에 존재하는 여분의 유기물을 제거하였다. 원심 분리 후 상층액은 버리고, 원심 분리된 침전물을 건조하여 중량을 측정하고 톨루엔에 분산시켜 유기용제에 안정한 양자점을 제조하였다.As a mixture and ligand containing the fourth compound InP/ZnS x Se 1 -x quantum dots prepared in (1-2), 30 mg of the acrylic resin prepared in Preparation Example 1 was added, and 90
Figure 112019116534981-pat00061
The reaction was carried out at for 5 hours to exchange the ligand on the surface of the quantum dot particles to prepare a mixture containing the fifth compound. At this time, the volume was confirmed. Excess ethanol was added to the mixture containing the fifth compound, followed by centrifugation to remove excess organic matter present in the quantum dots. After centrifugation, the supernatant was discarded, and the centrifuged precipitate was dried, weighed, and dispersed in toluene to prepare quantum dots stable in an organic solvent.

실시예 2 내지 10: 아크릴계 수지층이 형성된 InP/ZnS 양자점 제조 Examples 2 to 10: Preparation of InP/ZnS quantum dots with acrylic resin layer formed

제조예 2 내지 10에서 각각 제조된 아크릴계 수지를 리간드로서 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 양자점을 제조하였다.Quantum dots were prepared in the same manner as in Example 1, except that the acrylic resins each prepared in Preparation Examples 2 to 10 were used as a ligand.

비교예 1 및 2: 아크릴계 수지층이 형성된 InP/ZnS 양자점 제조 Comparative Examples 1 and 2: Preparation of InP/ZnS quantum dots with acrylic resin layer formed

비교 제조예 1 및 2에서 각각 제조된 아크릴계 수지를 리간드로서 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 양자점을 제조하였다.Quantum dots were prepared in the same manner as in Example 1, except that the acrylic resin prepared in Comparative Preparation Examples 1 and 2, respectively, was used as a ligand.

비교예 3 및 4: 아크릴계 수지층이 형성된 InP/ZnS 양자점 제조 Comparative Examples 3 and 4: Preparation of InP/ZnS quantum dots with acrylic resin layer formed

올레익산(OA, oleic acid) 및 도데실 머캅탄(DDM, dodecyl mercaptan)을 리간드로서 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 양자점을 제조하였다.Quantum dots were prepared in the same manner as in Example 1, except that oleic acid (OA, oleic acid) and dodecyl mercaptan (DDM) were used as ligands.

실험예: 양자점의 물성 평가 Experimental Example: Evaluation of physical properties of quantum dots

실시예 1 내지 10 및 비교예 1 내지 4에서 제조된 양자점에 대하여, 하기와 같은 방법으로 물성을 측정한 후, 그 결과를 표 4 및 표 5에 나타내었다.For the quantum dots prepared in Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4, physical properties were measured in the following manner, and the results are shown in Tables 4 and 5.

상기에서 제조된 양자점 입자의 물성은 다음의 방법으로 측정되고, 그 결과는 하기 표 1에 나타내었다.The physical properties of the quantum dot particles prepared above were measured by the following method, and the results are shown in Table 1 below.

(1) 양자수율(Quantum Yield, QY) (1) Quantum Yield (QY)

Williams et al. “Relative fluorescence quantum yields using a computer luminescence spectrometer”1983, Analyst 108:1067. 의 문헌을 참고로, 하기 <수학식 5>를 기초로 하여, 양자점의 상대적인 양자 수율을 프루오레세인 염료(440nm 여기 파장에서 녹색 방출 도트에 대한 참고치)를 사용하여 계산하였다.Williams et al. “Relative fluorescence quantum yields using a computer luminescence spectrometer” 1983, Analyst 108:1067. Based on the following <Equation 5>, with reference to the literature of, the relative quantum yield of the quantum dot was calculated using a fruorecein dye (a reference value for a green emission dot at an excitation wavelength of 440 nm).

<수학식 5> <Equation 5>

Figure 112019116534981-pat00062
Figure 112019116534981-pat00062

상기 아래 첨자의 dot는 톨루엔에 분산된 양자점 용액, st는 톨루엔에 분산된 플루오레세인 염료를 의미한다. The dot in the subscript refers to a quantum dot solution dispersed in toluene, and st refers to a fluorescein dye dispersed in toluene.

QY: 양자수율, I: 방출피크의 면적, A: 여기 파장의 흡광도, QY: quantum yield, I: area of emission peak, A: absorbance at excitation wavelength,

RI: 용매중 굴절률RI: refractive index in solvent

상기 양자수율은 용제 분산 후 측정하고 1일후, 2일후, 5일후, 10일후 측정하였으며, 표에는 10일후 양자수율을 표시하였다. The quantum yield was measured after dispersion of the solvent and measured after 1, 2, 5, and 10 days, and the quantum yield after 10 days is indicated in the table.

(2) 반치폭(FWHD)(2) Half width (FWHD)

OTSUKA 社의 QE-2100를 이용하여 톨루엔에 분산된 양자점 입자의 흡수 및 광발광 스펙트럼을 이용하여 반치율을 확인하였다.Using OTSUKA's QE-2100, the half-value rate was confirmed using the absorption and photoluminescence spectra of the quantum dot particles dispersed in toluene.

(3) 원액 100mL당 수득률(g)(3) Yield per 100 mL of stock solution (g)

리간드 교환반응이 완료된 양자점 입자 분산용액 100mL에 대해, 상기 리간드 교환반응이 완료된 양자점 입자 분산용액을 과량의 에탄올을 넣고 원심 분리하여 상기 양자점에 존재하는 여분의 유기물을 제거하고, 원심 분리 후 상층액은 버리고, 원심 분리된 침전물을 건조한 후 측정한 질량(g)을 비례식으로 확인하여 표시하였다.For 100 mL of the quantum dot particle dispersion solution after the ligand exchange reaction is completed, the quantum dot particle dispersion solution on which the ligand exchange reaction is completed is added to excess ethanol and centrifuged to remove excess organic matter present in the quantum dots, and the supernatant after centrifugation is After discarding and drying the centrifuged precipitate, the measured mass (g) was confirmed and displayed in a proportional formula.

(4) 매트릭스 수지 상용성(4) Matrix resin compatibility

미원스페샬리티 케미칼사 M300 (트리메틸올 프로판 트리아크릴레이트)40 중량부, 오사카유끼사 IBOA (이소보네올 아크릴레이트) 30 중량부, 브르노박사 PETMP 26중량부 (펜타에리스티록 메캅토프로피오네이트) 와 광개시제 아이지엠사 이가큐어 184 2중량부, 다로큐어 TPO 2중량부를 혼합하여 제조하였으며, 상기 혼합된 메트릭스 수지에 100중량부에 대하여 실시예1내지 10 및 비교예 1내지 4의 양자점 입자 1중량부를 초음파 분산 30분 시행하여 분산성을 확인하였다. Miwon Specialty Chemicals M300 (trimethylol propane triacrylate) 40 parts by weight, Osaka Yuki Co., Ltd. IBOA (isoborneol acrylate) 30 parts by weight, Brno Ph.D. PETMP 26 parts by weight (Pentaerystyroc mecaptopropionate) And 2 parts by weight of the photoinitiator IGACure 184 and 2 parts by weight of Darocure TPO, and 1 part by weight of the quantum dot particles of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 based on 100 parts by weight of the mixed matrix resin The dispersion was confirmed by performing ultrasonic dispersion for 30 minutes.

분산성평가 결과는 하기와 같이 표시하였다. The dispersibility evaluation results were expressed as follows.

◎ : 완벽히 용해되어 투명한상태 ◎: Completely dissolved and transparent

○ : 액상은 투명하나 미 용해된 입자가 관찰되는 상태○: Liquid is transparent, but undissolved particles are observed

△ : 다량의 미용해된 입자가 관찰 되거나, 액상이 불투명한 상태△: A large amount of undissolved particles are observed or the liquid phase is opaque.

X : 입자가 용해되지 않고 침전되어 있는 상태X: A state in which particles are not dissolved and precipitated

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 실시예 5Example 5 실시예 6Example 6 실시예7Example 7 교환된 리간드Exchanged ligand 제조예 1Manufacturing Example 1 제조예 2Manufacturing Example 2 제조예 3Manufacturing Example 3 제조예 4Manufacturing Example 4 제조예5Manufacturing Example 5 제조예6Manufacturing Example 6 제조예7Manufacturing Example 7 원액100mL당 수득률(g)Yield per 100 mL of stock solution (g) 2.24g2.24g 2.19g2.19g 2.54g2.54g 2.41g2.41g 2.53g2.53g 2.46g2.46g 1.98g1.98g 초기 양자수율 QYI(%)Initial quantum yield QY I (%) 88%88% 87%87% 88%88% 86%86% 87%87% 84%84% 85%85% 10일 후 양자수율 QY10d(%)Quantum yield QY 10d after 10 days (%) 73%73% 77%77% 79%79% 78%78% 76%76% 79%79% 75%75% 반치폭(FWHD)Half Width (FWHD) 4141 4242 4242 4141 4343 4040 4545 메트릭스 수지 상용성Matrix resin compatibility

실시예 8Example 8 실시예 9Example 9 실시예10Example 10 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 비교예3Comparative Example 3 비교예4Comparative Example 4 교환된 리간드Exchanged ligand 제조예 8Manufacturing Example 8 제조예9Manufacturing Example 9 제조예10Manufacturing Example 10 제조예11Manufacturing Example 11 제조예12Manufacturing Example 12 OAOA DDMDDM 원액100mL당 수득률(g)Yield per 100 mL of stock solution (g) 2.44g2.44g 2.19g2.19g 2.52g2.52g 1.81g1.81g 1.72g1.72g 1.16g1.16g 1.52g1.52g 초기 양자수율 QYI(%)Initial quantum yield QY I (%) 88%88% 86%86% 84%84% 81%81% 77%77% 83%83% 74%74% 10일 후 양자수율 QY10d(%)Quantum yield QY 10d after 10 days (%) 75%75% 77%77% 76%76% 54%54% 53%53% 13%13% 42%42% 반치폭(FWHD)Half Width (FWHD) 4141 4242 4242 4141 4343 4444 4444 메트릭스 수지 상용성Matrix resin compatibility XX XX

상기 표 4을 참조하면, 측정된 물성 전체적으로, 실시예 1 내지 10이 비교예 1 내지 4에 비해 우수한 것을 알 수 있으며, 이 중 대표적인 예들에 대한 구체적인 실험결과를 도면을 통해 나타내었다.Referring to Table 4, as a whole, it can be seen that Examples 1 to 10 are superior to Comparative Examples 1 to 4, and specific experimental results for representative examples are shown through the drawings.

도 4a 내지 도 4c는 실시예 1, 3 및 비교예 3에서 각각 제조된 양자점의 양자수율 평가 결과를 나타낸 사진이다.4A to 4C are photographs showing the results of evaluating quantum yields of quantum dots prepared in Examples 1 and 3 and Comparative Example 3, respectively.

도 4a 내지 도 4c를 참조하면, 실시예 1과 2는 비교예 3에 비해 시간 경과에 따른 양자 수율의 저하현상이 최소화된 것을 알 수 있다.Referring to FIGS. 4A to 4C, it can be seen that the decrease in quantum yield over time is minimized in Examples 1 and 2 compared to Comparative Example 3.

이상에서 본 발명은 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.In the above, although the present invention has been described by limited embodiments and drawings, the present invention is not limited thereto, and the technical idea of the present invention and the following description by those of ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It goes without saying that various modifications and variations are possible within the equivalent range of the claims to be made.

Claims (6)

코어-쉘 구조를 가지는 양자점에 있어서,
상기 양자점은 상기 쉘의 표면에 형성된 아크릴계 수지층을 포함하고,
상기 아크릴계 수지는 하기 (1) 내지 (3)의 조건을 만족하며,
상기 아크릴계 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하고,
상기 쉘의 두께는 2 내지 10 nm인, 양자점:
(1) 중량평균 분자량이 5,000 내지 15,000;
(2) 유리전이온도가 -30℃ 내지 0℃; 및
(3) 산값이 30 내지 90 mg·KOH/g,
[화학식 1]
Figure 112019116534981-pat00063

상기 화학식 1에서 Y는 수소 또는 메틸이고, Q는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알킬 또는 직쇄 및 분쇄기의 C4 내지 C20의 알콕시 알킬이며, Z는
Figure 112019116534981-pat00064
,
Figure 112019116534981-pat00065
,
Figure 112019116534981-pat00066
,
Figure 112019116534981-pat00067
,
Figure 112019116534981-pat00068
,
Figure 112019116534981-pat00069
,
Figure 112019116534981-pat00070
,
Figure 112019116534981-pat00071
Figure 112019116534981-pat00072
중 선택되는 1종 이상을 포함하며, o, p, q는 각각 독립적으로 동일 또는 상이하며, o는 0 내지 0.2의 실수이고, p는 0.3 내지 0.9의 실수이며, q는 0.1 내지 0.5의 실수이고, o+p+q=1 이다.
In the quantum dot having a core-shell structure,
The quantum dot includes an acrylic resin layer formed on the surface of the shell,
The acrylic resin satisfies the conditions of the following (1) to (3),
The acrylic resin includes a compound represented by Formula 1 below,
The thickness of the shell is 2 to 10 nm, quantum dots:
(1) a weight average molecular weight of 5,000 to 15,000;
(2) the glass transition temperature is -30 ℃ to 0 ℃; And
(3) the acid value is 30 to 90 mgKOH/g,
[Formula 1]
Figure 112019116534981-pat00063

In Formula 1, Y is hydrogen or methyl, Q is a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkyl or a straight chain and pulverized C 4 to C 20 alkoxy alkyl, and Z is
Figure 112019116534981-pat00064
,
Figure 112019116534981-pat00065
,
Figure 112019116534981-pat00066
,
Figure 112019116534981-pat00067
,
Figure 112019116534981-pat00068
,
Figure 112019116534981-pat00069
,
Figure 112019116534981-pat00070
,
Figure 112019116534981-pat00071
And
Figure 112019116534981-pat00072
Includes at least one selected from among, o, p, and q are each independently the same or different, o is a real number from 0 to 0.2, p is a real number from 0.3 to 0.9, and q is a real number from 0.1 to 0.5 , o+p+q =1.
제1항에 있어서,
상기 아크릴계 수지는 하기 (4)의 조건을 더 만족하는 것인, 양자점:
(4)(메타)아크릴레이트 당량이 150 내지 500 g/eq.
The method of claim 1,
The acrylic resin is to further satisfy the conditions of the following (4), quantum dots:
(4) (meth)acrylate equivalent is 150 to 500 g/eq.
제1항에 있어서,
상기 아크릴계 수지는 하기 화학식 1-1 내지 1-12 중 선택되는 화학식으로 표시되는 랜덤 공중합체인, 양자점:
[화학식 1-1] [화학식 1-2]
Figure 112019116534981-pat00073
Figure 112019116534981-pat00074

[화학식 1-3] [화학식 1-4]
Figure 112019116534981-pat00075
Figure 112019116534981-pat00076

[화학식 1-5] [화학식 1-6]
Figure 112019116534981-pat00077
Figure 112019116534981-pat00078

[화학식 1-7] [화학식 1-8]
Figure 112019116534981-pat00079
Figure 112019116534981-pat00080

[화학식 1-9] [화학식 1-10]
Figure 112019116534981-pat00081
Figure 112019116534981-pat00082

[화학식 1-11] [화학식 1-12]
Figure 112019116534981-pat00083
Figure 112019116534981-pat00084

상기 화학식 1-1 내지 1-12의 o, p, q, o 1 , o 2, p 1, p 2 는 각각 독립적으로 동일 또는 상이하며, o 1 , o 2 o는 각각 0 내지 0.2의 실수, p 1, p 2 p는 각각 0.3 내지 0.9의 실수, q는 0.1 내지 0.5의 실수, o=o 1 +o 2 , p=p 1 +p 2 , o+p+q=1 이다.
The method of claim 1,
The acrylic resin is a random copolymer represented by a formula selected from Formulas 1-1 to 1-12, quantum dots:
[Formula 1-1] [Formula 1-2]
Figure 112019116534981-pat00073
Figure 112019116534981-pat00074

[Formula 1-3] [Formula 1-4]
Figure 112019116534981-pat00075
Figure 112019116534981-pat00076

[Formula 1-5] [Formula 1-6]
Figure 112019116534981-pat00077
Figure 112019116534981-pat00078

[Formula 1-7] [Formula 1-8]
Figure 112019116534981-pat00079
Figure 112019116534981-pat00080

[Formula 1-9] [Formula 1-10]
Figure 112019116534981-pat00081
Figure 112019116534981-pat00082

[Formula 1-11] [Formula 1-12]
Figure 112019116534981-pat00083
Figure 112019116534981-pat00084

O, p, q, o 1 , o 2, p 1, p 2 of Formulas 1-1 to 1-12 are each independently the same or different, and o 1 , o 2 and o are each real number of 0 to 0.2 , p 1, p 2 and p are each a real number of 0.3 to 0.9, q is a real number of 0.1 to 0.5, o=o 1 +o 2 , p=p 1 +p 2 , o+p+q =1.
제1항에 있어서,
상기 코어는 III-V족 화합물을 포함하고, 상기 쉘은 Al, Si, Ti, Mg, Zn, Se 및 S으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 양자점.
The method of claim 1,
The core comprises a III-V group compound, and the shell comprises at least one selected from the group consisting of Al, Si, Ti, Mg, Zn, Se and S, quantum dots.
제4항에 있어서,
상기 코어에 포함된 III-V족 화합물은, GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb 또는 이들의 혼합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs AlPSb, InNP, InZnP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb 또는 이들의 혼합물; 및 GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, GaAlNP, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs 또는 이들의 혼합물;로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인, 양자점.
The method of claim 4,
Group III-V compounds contained in the core may include GaN, GaP, GaAs, GaSb, AlN, AlP, AlAs, AlSb, InN, InP, InAs, InSb, or a mixture thereof; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs AlPSb, InNP, InZnP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, or mixtures thereof; And GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, GaAlNP, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, or mixtures thereof; that includes at least one selected from the group consisting of, quantum dots.
제4항에 있어서,
상기 코어는 InP 및 InZnP 중 선택되는 1종 이상을 포함하고,
상기 쉘은 ZnS, ZnSe 및 ZnS/ZnSe 중 선택되는 1종 이상을 포함하는, 양자점.
The method of claim 4,
The core includes at least one selected from InP and InZnP,
The shell comprises at least one selected from ZnS, ZnSe and ZnS/ZnSe, quantum dots.
KR1020190145186A 2019-11-13 2019-11-13 Quantum dot and method for preparing the same KR102217687B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190145186A KR102217687B1 (en) 2019-11-13 2019-11-13 Quantum dot and method for preparing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020190145186A KR102217687B1 (en) 2019-11-13 2019-11-13 Quantum dot and method for preparing the same

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190076092A Division KR102047361B1 (en) 2019-06-26 2019-06-26 Quantum dot and method for preparing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20210001843A KR20210001843A (en) 2021-01-06
KR102217687B1 true KR102217687B1 (en) 2021-02-19

Family

ID=74128898

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190145186A KR102217687B1 (en) 2019-11-13 2019-11-13 Quantum dot and method for preparing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102217687B1 (en)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105189584A (en) 2013-03-14 2015-12-23 纳米系统公司 Alkyl-acid ligands for nanocrystals
EP3163372B1 (en) * 2015-10-26 2020-04-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Quantum dot having polymeric outer layer, photosensitive compositions including the same, and quantum dot polymer composite pattern produced therefrom
KR20180076386A (en) * 2016-12-27 2018-07-06 주식회사 파워로직스 Polymer coating quantem dot and method of manufacturing light emitting diode phosphor sealant using the same
KR102085718B1 (en) * 2017-04-26 2020-03-06 단국대학교 천안캠퍼스 산학협력단 Surface treatment method of quantum dots using light
KR20190055390A (en) * 2017-11-15 2019-05-23 한국세라믹기술원 MANUFACTURING METHOD OF InP/ZnS CORE/SHELL QUATUM DOTS

Also Published As

Publication number Publication date
KR20210001843A (en) 2021-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102047361B1 (en) Quantum dot and method for preparing the same
KR101900056B1 (en) Methods for Fabricating Quantum Dot Polymer Films
CN110691836B (en) Composition comprising semiconductor luminescent nanoparticles with thiol-functional surface ligands
US20070197718A1 (en) Photofunctional optical material comprising fluorine-containing acrylate polymer
KR102217687B1 (en) Quantum dot and method for preparing the same
KR102217686B1 (en) Quantum dot and method for preparing the same
JP2003183414A (en) Formed body of crosslinked resin composition containing super fine particle
CN114127229B (en) Semiconductor nanoparticle composite, semiconductor nanoparticle composite dispersion, semiconductor nanoparticle composite composition, and semiconductor nanoparticle composite cured film
CN111886239A (en) Bismuth compound, curable composition, and cured product
KR102286274B1 (en) Compounds for quantum dot ligand comprising a (meth)acrylate structure having carboxyl group, quantum dot particles comprising quantum dot ligands formed by the compounds, and composition comprising the quantum dot particles, and preparation method of the compounds
KR102207331B1 (en) Compounds for quantum dot ligand comprising a (meth)acrylate structure having carboxyl group, quantum dot particles comprising quantum dot ligands formed by the compounds, and composition comprising the quantum dot particles, and preparation method of the compounds
KR102121055B1 (en) Compounds for quantum dot ligand comprising a (meth)acrylate structure having carboxyl group, quantum dot particles comprising quantum dot ligands formed by the compounds, and composition comprising the quantum dot particles, and preparation method of the compounds
JP6687689B2 (en) Method for producing quantum dot polymer film
WO2023100934A1 (en) Ink composition
KR20200140733A (en) Compounds for quantum dot ligand comprising a (meth)acrylate structure having carboxyl group, quantum dot particles comprising quantum dot ligands formed by the compounds, and composition comprising the quantum dot particles, and preparation method of the compounds
JP2023081339A (en) ink composition
WO2021064530A1 (en) Dicarboxylic acid compounds. inorganic particles treated with the dicarboxylic acid compounds, and compositions thereof

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant