KR102207765B1 - Sample plate and method of fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 금속 나노 입자 및 금속 나노섬이 광반응 촉매층 상에 코팅된 복합 매트릭스를 이용한 샘플 플레이트에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 샘플 플레이트는 금속 기판, 상기 금속 기판 상에 형성된 광반응 촉매층 및 상기 광반응 촉매층에 코팅된 서로 이격된 금속 나노 구조체를 포함하는 복합 매트릭스를 포함한다. 상기 광반응 촉매층은 금속 산화물 나노선을 포함할 수 있고, 상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노 입자 또는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노섬을 포함할 수 있다. The present invention relates to a sample plate using a composite matrix in which metal nanoparticles and metal nanoislets are coated on a photoreaction catalyst layer. A sample plate according to an embodiment of the present invention includes a metal substrate, a photoreaction catalyst layer formed on the metal substrate, and a composite matrix including metal nanostructures spaced apart from each other coated on the photoreaction catalyst layer. The photoreaction catalyst layer may include metal oxide nanowires, and the metal nanostructures spaced apart from each other may include metal nanoparticles coated on the metal oxide nanowires or metal nanoislands coated on the metal oxide nanowires. have.

Description

샘플 플레이트 및 이의 제조 방법 {Sample plate and method of fabricating the same}Sample plate and method of fabricating the same}

본 발명은 피분석 샘플의 질량 분석 기술에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 질량 분석을 위한 샘플 플레이트 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a technique for mass spectrometry of a sample to be analyzed, and more particularly, to a sample plate for mass spectrometry and a method of manufacturing the same.

일반적으로 질량 분석 장치는 분석 대상 화합물의 질량을 측정하는 분석 기기로서 상기 분석 대상 화합물을 하전시켜 이온화한 후 질량 대 전하량(mass-to-charge: m/z)을 측정하여 화합물의 분자량을 결정한다. 상기 분석 대상 화합물을 이온화하는 방법으로는 전자빔을 이용하는 전자이온화법, 고속의 원자를 충돌시키는 방법, 레이저를 이용하는 방법 및 시료를 전기장 속에서 분사하는 방법등이 알려져 있다.In general, a mass spectrometer is an analysis device that measures the mass of a compound to be analyzed. After charging and ionizing the compound to be analyzed, the molecular weight of the compound is determined by measuring mass-to-charge (m/z). . As a method of ionizing the compound to be analyzed, an electron ionization method using an electron beam, a method of colliding atoms at a high speed, a method using a laser, and a method of spraying a sample in an electric field are known.

대표적인 질량 분석 장치로서 말디톱 질량 분석 장치(Matrix-Assisted Laser Desorption Ionization Time of Flight Mass Spectroscopy; MALDI-TOF MS Apparatus)는 피분석 샘플의 이온화를 돕는 유기 매트릭스를 상기 샘플과 혼합하여 상기 분석 장치의 타겟에 배치한 후, 레이저를 상기 피분석 샘플에 조사하면 상기 피분석 샘플이 상기 유기 매트릭스의 도움을 받아 쉽게 이온화되는 성질을 이용하여 질량 분석을 수행한다. 상기 말디톱 질량 분석 방법은 감도가 높아 펩토몰 수준의 피분석 샘플도 분석이 가능하며, 이온화시 분석하고자 하는 화합물이 조각나는 현상을 크게 줄일 수 있는 이점이 있다. 단백질 및 핵산과 같이 분자량이 큰 생화학 물질의 질량 분석에는 레이저를 이용하는 질량 분석법이 효과적이어서 상기 말디톱 질량 분석법이 최근 활발히 적용되고 있다. 일반적으로 상기 말디톱 질량 분석법에서 상기 피분석 샘플을 이온화하는 경우 상기 피분석 샘플의 이온이 가지는 전하수 (valent number)는 +1 혹은 +2이므로 이온화 전 샘플 분자의 분자량을 측정하는데 용이한 방법이다. As a representative mass spectrometer, the Malditop mass spectrometer (Matrix-Assisted Laser Desorption Ionization Time of Flight Mass Spectroscopy; MALDI-TOF MS Apparatus) is a target of the analyte by mixing an organic matrix that helps ionization of a sample to be analyzed with the sample. After being placed in, when a laser is irradiated onto the sample to be analyzed, mass spectrometry is performed using the property that the sample to be analyzed is easily ionized with the help of the organic matrix. The malditop mass spectrometry method has an advantage in that it is possible to analyze a sample to be analyzed at a level of peptomol due to its high sensitivity, and it is possible to greatly reduce the phenomenon that the compound to be analyzed is fragmented during ionization. Mass spectrometry using a laser is effective for mass spectrometry of biochemical substances having a high molecular weight such as proteins and nucleic acids, and thus the malditop mass spectrometry has been actively applied in recent years. In general, in the case of ionizing the sample to be analyzed in the malditop mass spectrometry method, since the valent number of the ion of the sample to be analyzed is +1 or +2, it is an easy method to measure the molecular weight of the sample molecule before ionization. .

그러나, 상기 말디톱 질량 분석 방법은 유기 매트릭스를 사용하여 상기 피분석 샘플을 이온화시키므로 상기 피분석 샘플의 종류에 따라서 각각 다른 유기 매트릭스 물질을 결정해야 하는 단점이 있다. 또한, 통상적으로 사용되는 유기 매트릭스 물질은 수백 Da 정도의 분자량을 가지는데, 상기 피분석 샘플의 분자량이 상기 유기 매트릭스 물질의 분자량과 유사하거나 작은 경우 상기 유기 매트릭스 분해물이 질량 분석 스펙트럼의 질량 피크에 반영되기 때문에, 수백 Da 수준의 피분석 샘플을 대상으로 하는 질량 분석에는 사용하기 어려운 한계를 갖는다. 또한, 종래의 유기 매트릭스 물질을 이용한 질량 분석 방법은, 이온화 효율이 낮다는 문제점이 있다.However, since the malditop mass spectrometry method ionizes the sample to be analyzed using an organic matrix, there is a disadvantage in that different organic matrix materials must be determined according to the type of the sample to be analyzed. In addition, a commonly used organic matrix material has a molecular weight of several hundred Da, and when the molecular weight of the sample to be analyzed is similar to or less than the molecular weight of the organic matrix material, the organic matrix decomposition product is reflected in the mass peak of the mass spectrometry spectrum. Therefore, it has a limitation that is difficult to use for mass spectrometry targeting samples to be analyzed at a level of several hundred Da. In addition, the conventional mass spectrometry method using an organic matrix material has a problem in that ionization efficiency is low.

본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는 질량 분석법에 적용 가능한 샘플 플레이트로서 샘플의 이온화를 위한 매트릭스의 분해 물질로 인한 질량 분석 스펙트럼의 노이즈가 제거 또는 감소될 수 있으며, 샘플의 이온화 효율이 높고 시료의 탈착을 효율적으로 수행하는 샘플 플레이트를 제공하는 것이다.The technical problem to be solved by the present invention is a sample plate applicable to mass spectrometry, and noise in the mass spectrometry spectrum due to decomposition substances in the matrix for ionization of the sample can be removed or reduced, the ionization efficiency of the sample is high, and the desorption of the sample It is to provide a sample plate that efficiently performs.

또한, 본 발명이 해결하고자 하는 다른 기술적 과제는, 상기 이점을 갖는 샘플 플레이트를 용이하게 제조할 수 있는 샘플 플레이트의 제조 방법을 제공하는 것이다. In addition, another technical problem to be solved by the present invention is to provide a method of manufacturing a sample plate capable of easily manufacturing a sample plate having the above advantages.

상기의 과제를 해결하기 위한, 본 발명에 따른 복합 매트릭스를 이용한 샘플 플레이트는, 금속 기판, 상기 금속 기판 상에 형성된 광반응 촉매층 및 상기 광반응 촉매층에 코팅된 서로 이격된 금속 나노 구조체를 포함할 수 있다. 선택적으로는, 상기 금속 나노섬은, 상기 금속 나노섬의 지름이 34.6 nm 내지 123.5 nm일 수 있다. In order to solve the above problems, the sample plate using the composite matrix according to the present invention may include a metal substrate, a photoreaction catalyst layer formed on the metal substrate, and a metal nanostructures spaced apart from each other coated on the photoreaction catalyst layer. have. Optionally, the metal nano-islands may have a diameter of 34.6 nm to 123.5 nm.

다른 실시예에서, 상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는, 금속 나노 입자 및 금속 나노섬을 포함할 수 있다. 또한, 상기 금속 기판은, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir), 철(Fe, 스테인레스 스틸) 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있다.In another embodiment, the metal nanostructures spaced apart from each other may include metal nanoparticles and metal nanoislets. In addition, the metal substrate is titanium (Ti), tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium (Ir), iron (Fe , Stainless steel) may include at least one or more.

일 실시예에서, 상기 광반응 촉매층은, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir) 및 철(Fe)의 산화물 중 적어도 하나 이상을 포함할 수 있고, 다른 실시예에서는, 상기 광반응 촉매층은, TiO2 나노선인 것을 포함할 수 있다.In one embodiment, the photoreaction catalyst layer is titanium (Ti), tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium (Ir) And at least one of oxides of iron (Fe). In another embodiment, the photoreaction catalyst layer may include TiO 2 nanowires.

상기의 과제를 해결하기 위한, 본 발명에 따른 샘플 플레이트의 제조 방법은, 금속 기판을 형성하는 단계, 상기 금속 기판의 표면을 부식시키고, 세정액 내에 노출시켜 세정하고, 열처리하여 상기 광반응 촉매층을 형성하는 단계 및 상기 광반응 촉매층 위에 상기 서로 이격된 금속 나노 구조체를 형성하는 단계를 포함할 수 있고, 선택적으로, 상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는, 금속 나노 입자 및 금속 나노섬을 포함할 수 있으며, 다른 실시예에서는, 상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는, 비산화성 금속을 포함할 수 있다.In order to solve the above problems, the method of manufacturing a sample plate according to the present invention comprises the steps of forming a metal substrate, corroding the surface of the metal substrate, cleaning it by exposing it in a cleaning solution, and heat treatment to form the photoreaction catalyst layer. And forming the metal nanostructures spaced apart from each other on the photoreaction catalyst layer, and optionally, the metal nanostructures spaced apart from each other may include metal nanoparticles and metal nanoislets, In another embodiment, the metal nanostructures spaced apart from each other may include a non-oxidizing metal.

일 실시예에서, 상기 비산화성 금속은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti)을 포함할 수 있고, 선택적으로는, 상기 금속 나노 입자를 형성하는 단계는, 상기 금속 나노 입자의 콜로이드 용액을 상기 광반응 촉매층 상에 점적하는 단계를 포함할 수 있으며, 다른 실시예에서, 상기 금속 나노섬을 형성하는 단계는, 상기 광반응 촉매층 위에 금속 박막을 증착하는 단계 및 상기 금속 박막을 열처리하는 단계를 포함할 수 있다.In one embodiment, the non-oxidizing metal may include gold (Au), platinum (Pt), silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), titanium (Ti), and optionally, the Forming the metal nanoparticles may include dropping a colloidal solution of the metal nanoparticles onto the photoreaction catalyst layer, and in another embodiment, forming the metal nanoislets includes the photoreaction It may include depositing a metal thin film on the catalyst layer and heat treating the metal thin film.

일 실시예에서, 상기 금속 박막의 두께는, 1~15 nm인 것을 포함할 수 있으며, 선택적으로, 상기 열처리하는 단계는, 나노섬을 효과적으로 생성하기 위하여 200 ℃ 내지 1200 ℃에서 2시간동안 열처리하는 것을 포함할 수 있으며, 다른 실시예에서, 상기 금속 나노섬은, 금(Au) 나노섬을 포함하고, 상기 금속 박막은, 금(Au) 박막을 포함하고, 상기 금 박막의 두께는, 1nm 내지 15nm이며, 타클로리무스, 사이클로스포린 에이, 시롤리무스 및 에버로리무스 중 적어도 하나 이상을 포함하는 시료를 점적한 후 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다.In an embodiment, the thickness of the metal thin film may include that of 1 to 15 nm, and optionally, the heat treatment step is heat-treated at 200° C. to 1200° C. for 2 hours to effectively generate nano islands. In another embodiment, the metal nano-islands include gold (Au) nano-islands, the metal thin film includes a gold (Au) thin film, and the thickness of the gold thin film is 1 nm to 15 nm, and may further include a step of dripping and drying a sample including at least one of taclolimus, cyclosporine A, sirolimus, and everolimus.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 복합 매트릭스를 이용한 샘플 플레이트는 금속 산화물의 나노선을 포함하는 광반응 촉매층 및 상기 광반응 촉매층 상에 상기 금속 나노 구조체가 코팅된 무기 기반의 입체적 복합 구조를 형성함으로써, 레이저 조사에 따른 상기 광반응 촉매층에 의한 샘플의 이온화 작용을 촉진 및 강화시켜 종래의 유기 매트릭스와 달리 노이즈가 없고, 단순한 광반응 촉매층을 갖는 샘플 플레이트 대비 질량 피크의 세기를 증폭시킴으로써 상기 질량 분석의 측정 감도와 측정 한계를 크게 향상시킨 샘플 플레이트가 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a sample plate using a composite matrix is formed by forming a photoreaction catalyst layer including nanowires of metal oxide and an inorganic-based three-dimensional composite structure coated with the metal nanostructure on the photoreaction catalyst layer. , Unlike the conventional organic matrix by promoting and enhancing the ionization action of the sample by the photoreaction catalyst layer according to laser irradiation, there is no noise, and by amplifying the intensity of the mass peak compared to the sample plate having a simple photoreaction catalyst layer, A sample plate can be provided that greatly improves the measurement sensitivity and measurement limits.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 금속 나노 입자의 콜로이드 용액을 상기 광반응 촉매층 상에 점적하는 간단한 공정에 의하여 단일 구조의 무기 매트릭스와 차별화된 상기 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트의 제조 방법이 제공될 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, a method of manufacturing a sample plate coated with the metal nanoparticles differentiated from the inorganic matrix having a single structure by a simple process of dropping a colloidal solution of metal nanoparticles on the photoreaction catalyst layer Can be provided.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 광반응 촉매층 위에 금속 박막을 증착하고, 상기 중간 생성물을 열처리함으로써, 금속 나노섬을 형성하고, 상기 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트의 경우보다도 질량 피크의 크기가 크게 향상되고, 측정 감도와 측정 한계가 개선된 샘플 플레이트를 제공할 수 있다. 이를 통해 종래 유기 매트릭스의 문제점이었던 노이즈를 제거하고, 신뢰도 높은 질량 분석이 가능하다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by depositing a metal thin film on the photoreaction catalyst layer and heat-treating the intermediate product, metal nanoislets are formed, and a mass peak than that of the sample plate coated with the metal nanoparticles It is possible to provide a sample plate whose size is greatly improved, and measurement sensitivity and measurement limit are improved. Through this, noise, which has been a problem of the conventional organic matrix, can be removed and mass analysis with high reliability is possible.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100)의 제조 방법을 개략적으로 설명하는 도면이며, 도 1b는 다른 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 제조 방법을 설명하는 도면이며, 도 1c는 또 다른 실시예에 따른 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)의 제조 방법을 설명하는 도면이다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200) 표면의 주사전자현미경(scanning electron microscope; SEM) 이미지이며, 도 2b는 다른 실시예에 따른 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300) 표면의 주사전자현미경 이미지이며, 도 2c는 상기 금속 박막 두께에 따른 상기 금속 나노섬의 크기를 나타낸 주사전자현미경 이미지이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 TiO2 나노선으로 구성된 광반응 촉매층(CL)을 상기 금 나노섬으로 코팅하는 경우, 상기 금 박막의 두께에 따른 질랑 피크의 세기를 나타내는 그래프이다.
도 4는 본 발명의 실시예에 따른 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100) 및 상기 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 질량 분석 결과 그래프이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 금 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)를 이용하여 상기 4종의 면역억제제를 분석한 질량분석도이며, 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 상기 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)를 이용하여 상기 4종의 면역억제제를 분석한 질량분석도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200) 및 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)를 이용한 상기 4종의 면역억제제의 분석 결과의 감도와 분석 한계(limit of detection)를 비교한 그래프이다.
1A is a diagram schematically illustrating a method of manufacturing a sample plate 100 including a photoreaction catalyst layer CL according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is A diagram illustrating a method of manufacturing the sample plate 200, and FIG. 1C is a diagram illustrating a method of manufacturing the sample plate 300 coated with metal nanoislets according to another exemplary embodiment.
FIG. 2A is a scanning electron microscope (SEM) image of a surface of a sample plate 200 coated with metal nanoparticles according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a metal nano-island coating according to another embodiment. It is a scanning electron microscope image of the surface of the sample plate 300, and FIG. 2C is a scanning electron microscope image showing the size of the metal nanoislets according to the thickness of the metal thin film.
FIG. 3 is a graph showing the intensity of a gyrirang peak according to the thickness of the gold thin film when the photoreaction catalyst layer CL composed of TiO 2 nanowires according to an embodiment of the present invention is coated with the gold nano islands.
4 is a graph showing the results of mass analysis of the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer CL and the sample plate 200 coated with the metal nanoparticles according to an exemplary embodiment of the present invention.
Figure 4a is a mass spectrometry diagram of the four immunosuppressants analyzed using a sample plate 200 coated with gold nanoparticles according to an embodiment of the present invention, and Figure 4b is a mass spectrometry diagram according to an embodiment of the present invention. It is a mass spectrometry diagram analyzing the four types of immunosuppressants using the sample plate 300 coated with the metal nanoislets.
5 is a sensitivity and analysis limit of the analysis results of the four immunosuppressants using a sample plate 200 coated with metal nanoparticles and a sample plate 300 coated with metal nanoislets according to an embodiment of the present invention. This is a graph comparing (limit of detection).

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.  오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.The embodiments of the present invention are provided to more completely describe the present invention to those of ordinary skill in the art, and the following examples may be modified in various other forms, and the scope of the present invention is It is not limited to the following examples. Rather, these embodiments are provided to make the present disclosure more faithful and complete, and to completely convey the spirit of the present invention to those skilled in the art.

또한, 이하의 도면에서 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는" 는 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.In addition, in the following drawings, the thickness or size of each layer is exaggerated for convenience and clarity of description, and the same reference numerals refer to the same elements in the drawings. As used herein, the term “and/or” includes any and all combinations of one or more of the corresponding listed items.

본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다.  본 명세서에서 사용된 바와 같이, 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있다.  또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다.The terms used in this specification are used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. As used herein, the singular form may include the plural form unless the context clearly indicates another case. Further, as used herein, "comprise" and/or "comprising" specifies the presence of the mentioned shapes, numbers, steps, actions, members, elements and/or groups thereof. And does not exclude the presence or addition of one or more other shapes, numbers, actions, members, elements, and/or groups.

본 명세서에서 제 1, 제 2 등의 용어가 다양한 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부분들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다.  이들 용어는 하나의 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 다른 영역, 층 또는 부분과 구별하기 위하여만 사용된다.  따라서, 이하 상술할 제 1 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분은 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제 2 부재, 부품, 영역, 층 또는 부분을 지칭할 수 있다.In the present specification, terms such as first and second are used to describe various members, parts, regions, layers and/or parts, but these members, parts, regions, layers and/or parts are limited by these terms. It is self-evident. These terms are only used to distinguish one member, component, region, layer or portion from another region, layer or portion. Accordingly, a first member, part, region, layer or part to be described below may refer to a second member, part, region, layer or part without departing from the teachings of the present invention.

본 명세서에서, 피분석 샘플은 광반응 촉매층 상에 배치, 코팅 또는 결합되어 자외선을 인가하면 상기 복합 매트릭스 층에 의해 유효하게 이온화 및 탈착되어 탐지기로 비행가능한 여하의 물질을 지칭한다. 피분석 샘플은 대표적 예로서 유기분자 화합물, 단백질 또는 펩티드일 수 있다.In the present specification, a sample to be analyzed refers to any material that is disposed, coated, or bonded on a photoreaction catalyst layer to be effectively ionized and desorbed by the composite matrix layer when UV is applied to fly with a detector. The sample to be analyzed may be an organic molecular compound, protein or peptide as a representative example.

도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100)의 제조 방법을 개략적으로 설명하는 도면이며, 도 1b는 다른 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 제조 방법을 설명하는 도면이며, 도 1c는 또 다른 실시예에 따른 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)의 제조 방법을 설명하는 도면이다. 1A is a diagram schematically illustrating a method of manufacturing a sample plate 100 including a photoreaction catalyst layer CL according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is A diagram illustrating a method of manufacturing the sample plate 200, and FIG. 1C is a diagram illustrating a method of manufacturing the sample plate 300 coated with metal nanoislets according to another exemplary embodiment.

도 1a를 참조하면, 광반응 촉매층(CL)이 형성된 샘플 플레이트(100)의 제조를 위해, 우선 광반응 촉매층이 형성될 기판(SS)을 준비한다. 일 실시예에서, 기판(SS)은 그 일부 또는 전부가 광반응 촉매층을 구성하는 금속 원자를 포함할 수 있다. 도 1a에서는 광반응 촉매층을 구성하는 금속 원자를 포함하는 기판(SS)이 예시되며, 이 경우, 기판(SS)의 표면으로부터 직접 반응층을 형성하여 광반응 촉매층을 형성할 수 있다. 예를 들면, 광반응 촉매층(CL)이 금속 산화물을 포함하는 경우, 기판(SS)의 표면 또는 전체가 상기 금속 산화물의 금속을 포함할 수 있으며, 이의 표면 일부를 산화시켜 상기 광반응 촉매층(CL)을 형성할 수 있다. Referring to FIG. 1A, in order to manufacture the sample plate 100 on which the photoreaction catalyst layer CL is formed, first, a substrate SS on which the photoreaction catalyst layer is formed is prepared. In one embodiment, the substrate SS may include a part or all of metal atoms constituting the photoreaction catalyst layer. In FIG. 1A, a substrate SS including metal atoms constituting the photoreaction catalyst layer is illustrated. In this case, a photoreaction catalyst layer may be formed by directly forming a reaction layer from the surface of the substrate SS. For example, when the photoreaction catalyst layer CL includes a metal oxide, the surface or the whole of the substrate SS may include the metal of the metal oxide, and a part of the surface thereof is oxidized to form the photoreaction catalyst layer CL. ) Can be formed.

기판(SS)은 예로서 티타늄 플레이트(Ti plate)를 연마하여 제공되는 티타늄 기판이다. 다른 실시예에서, 기판(SS)은 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir), 철(Fe, 스테인레스 스틸) 또는 이들의 합금을 포함하는 기판일 수 있다.The substrate SS is, for example, a titanium substrate provided by polishing a titanium plate. In another embodiment, the substrate SS is tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium (Ir), iron (Fe, stainless steel). Steel) or an alloy thereof.

일 실시예에서, 산화성 용매(OS)에 기판(SS)의 표면을 노출시켜 기판(SS)의 표면을 부식시킨다. 예를 들면, 기판(SS)을 산화성 용매(OS) 내에 침지시키고, 상온에서 약 24 시간 동안 유지하여 표면을 부식시킨다. 일 실시예에서, 기판(SS)을 산화성 용매(OS) 내에 침지시키기 전에 기판(SS)의 표면을 연마하는 단계가 더 수행될 수도 있다. 산화성 용매(OS)는, 예를 들면, KOH, NaOH 등 금속에 부식을 일으키는 알카리 용액이다. 산화성 용매(OS)의 농도는 2 M 내지 20 M의 농도 범위에 속하는 10 M일 수 있다(도 1a의 단계 1 참조). 산화성 용매(OS)의 농도에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니며 질량 분석을 위한 피분석 샘플의 종류와 특성에 따라 다양하게 선택될 수 있다. 산화성 용매(OS)에 의해 기판(SS) 표면의 부식이 일어나는 동안 기판(SS)의 표면에서 산화 반응이 진행되어 산화층(OL)이 형성될 수 있다. In one embodiment, the surface of the substrate SS is corroded by exposing the surface of the substrate SS to the oxidizing solvent OS. For example, the substrate SS is immersed in the oxidizing solvent OS and maintained at room temperature for about 24 hours to corrode the surface. In an embodiment, before immersing the substrate SS in the oxidizing solvent OS, a step of polishing the surface of the substrate SS may be further performed. The oxidizing solvent (OS) is an alkaline solution that causes corrosion to metals such as KOH and NaOH. The concentration of the oxidizing solvent (OS) may be 10 M in the concentration range of 2 M to 20 M (see step 1 of FIG. 1A ). The present invention is not limited by the concentration of the oxidizing solvent (OS), and may be variously selected according to the type and characteristics of the sample to be analyzed for mass spectrometry. While corrosion of the surface of the substrate SS occurs by the oxidizing solvent OS, an oxidation reaction proceeds on the surface of the substrate SS to form the oxide layer OL.

이후, 알코올 또는 증류수(DW)와 같은 세정액(CW)을 이용하여, 기판(SS)을 세정한다. 예를 들면, 세정액(CW) 내에서 기판(SS)을, 예를 들면, 약 48 시간 정도 침지시켜 부식된 기판(SS)의 표면 층 내로 세정액(CS)을 흡수시킬 수 있으며, 이러한 과정은 적어도 1회 이상, 예를 들면 3 번 반복될 수 있다(도 1a의 단계 2 참조). 이 과정에서, 티타늄 기판(SS)의 표면에 잔류하는 산화성 용매(OS)가 세정액으로 치환된다.Thereafter, the substrate SS is cleaned using a cleaning solution (CW) such as alcohol or distilled water (DW). For example, the substrate SS may be immersed in the cleaning solution CW, for example, for about 48 hours to absorb the cleaning solution CS into the surface layer of the corroded substrate SS, and this process is at least It may be repeated more than once, for example 3 times (see step 2 in FIG. 1A). In this process, the oxidizing solvent OS remaining on the surface of the titanium substrate SS is replaced with a cleaning solution.

상기 산화성 용매에 의해 부식된 기판(SS)의 표면은 나노 스케일의 기공을 갖는 다공성을 갖기 때문에 이러한 치환 과정이 완전히 이루어지기 위해서는 세정액(CW) 내에 충분한 시간 동안 부식된 기판(SS)이 노출될 필요가 있다. 일 실시예에서, 기판(SS)을 세정액(CW)에 상온(RT)에서 48시간 동안 침지시키고, 3 번 정도로 세정 공정을 수행할 수 있다(도 1a의 단계 2 참조). Since the surface of the substrate (SS) corroded by the oxidizing solvent has nano-scale pores, the corroded substrate (SS) needs to be exposed in the cleaning solution (CW) for a sufficient time in order to complete this replacement process. There is. In one embodiment, the substrate SS is immersed in the cleaning solution CW for 48 hours at room temperature RT, and the cleaning process may be performed about 3 times (see step 2 of FIG. 1A ).

이후, 세정 처리된 기판을 열처리할 수 있다(도 1a의 단계 3 참조). 상기 열처리는 약 200 ℃ 내지 1,200 ℃의 범위 내에서 수행될 수 있으며, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 열처리의 온도는 부식된 기판(SS)의 표면 층이 소정 주파수의 광 조사에 대해 광촉매 반응을 유도하기에 적합한 결정 구조나 미세 구조를 갖도록 조절될 수 있다. 일 실시예에서, 불활성 가스 분위기, 예를 들면, Ar 가스 분위기에서, 약 600 ℃에서 소정 시간(예를 들면 2 시간)동안 기판(SS)을 열처리할 수 있다.Thereafter, the cleaned substrate may be heat treated (see step 3 of FIG. 1A ). The heat treatment may be performed within a range of about 200° C. to 1,200° C., and the present invention is not limited thereto, and the temperature of the heat treatment is a photocatalyst for light irradiation of a predetermined frequency of the corroded surface layer of the substrate SS. It can be adjusted to have a crystal structure or microstructure suitable for inducing a reaction. In one embodiment, the substrate SS may be heat-treated at about 600° C. for a predetermined time (eg, 2 hours) in an inert gas atmosphere, for example, an Ar gas atmosphere.

이에 의해, 기판(SS)의 표면 상에 광반응 촉매층(CL)이 형성된 샘플 플레이트(100)가 제공될 수 있다. 기판(SS)이 티타늄 기판인 경우, 광반응 촉매층(CL)으로서 TiO2 나노어레이 층이 형성될 수 있다. Accordingly, the sample plate 100 in which the photoreaction catalyst layer CL is formed on the surface of the substrate SS may be provided. When the substrate SS is a titanium substrate, a TiO 2 nanoarray layer may be formed as the photoreaction catalyst layer CL.

전술한 실시예는 기판(SS)의 표면을 개질시켜 광반응 촉매층(CL)을 얻는다. 다른 실시예에서, 기판(SS)이 광반응 촉매층(CL)의 원소를 포함하지 않거나 이와 무관한 경우에는, 기판(SS)의 표면 상에 광반응 촉매층(CL)의 금속 원소를 포함하는 금속 층을 형성하고 도 1a에 도시된 단계 1 내지 3 단계를 수행하여 상기 금속 층으로부터 광반응 촉매층(CL)을 형성할 수도 있다. In the above-described embodiment, the photoreaction catalyst layer CL is obtained by modifying the surface of the substrate SS. In another embodiment, when the substrate SS does not contain or is not related to the element of the photoreaction catalyst layer CL, a metal layer containing the metal element of the photoreaction catalyst layer CL on the surface of the substrate SS And performing steps 1 to 3 shown in FIG. 1A to form a photoreaction catalyst layer CL from the metal layer.

또 다른 예에서, 광반응 촉매층(CL)은 나노 스케일 구조의 형성을 위해 도트 어레이 형태의 금속 촉매층이 형성된 기판(SS) 상에 화학기상증착, 물리기상증착 또는 원자층 증착과 같은 건식 기상 증착이나 졸겔법과 같은 습식 성막 방법을 통해 합성될 수도 있다. 합성을 위한 전구체 물질과 관련하여서는 공지의 기술이 참작될 수 있으며 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. 그러나, 바람직하게는, 도 1a를 참조하여 설명한 습식 부식법에 의한 광반응 촉매층(CL)을 형성하는 경우, 상기 금속 촉매층의 형성 없이도 부식에 의해 다공성 표면층을 얻음으로써 나노 스케일 구조체 형상의 광반응 촉매층(CL)을 용이하게 형성할 수 있다.In another example, the photoreaction catalyst layer CL is a dry vapor deposition method such as chemical vapor deposition, physical vapor deposition, or atomic layer deposition on the substrate SS on which the metal catalyst layer in the form of a dot array is formed to form a nano-scale structure. It may also be synthesized through a wet film formation method such as a sol-gel method. With respect to the precursor material for synthesis, known techniques may be taken into account, and the present invention is not limited thereto. However, preferably, in the case of forming the photoreaction catalyst layer CL by the wet corrosion method described with reference to FIG. 1A, the photoreaction catalyst layer in the shape of a nanoscale structure is obtained by obtaining a porous surface layer by corrosion without the formation of the metal catalyst layer. (CL) can be formed easily.

전술한 광반응 촉매층(CL)은 피분석 물질인 유기분자 화합물의 광분해 반응에 직접 참여하여 소모되지 않지만 상기 유기분자 화합물의 광분해를 가속시키는 물질로 형성될 수 있다. 일 실시예에서, 광반응 촉매층(CL)은, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir) 및 철(Fe) 중 적어도 어느 하나의 금속의 산화물을 포함할 수 있다. 광반응 촉매층(CL)은 상기 금속 산화물 상에 또는 내부에 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 실리콘(Si), 저머늄(Ge), 및 갈륨(Ga) 중 적어도 어느 하나를 더 포함할 수도 있다. 이러한 불순물의 도핑은 유기분자 화합물의 광반응을 위한 광원의 주파수를 조절하는데 효과적일 수 있다.The above-described photoreaction catalyst layer CL is not consumed by directly participating in the photolysis reaction of the organic molecular compound as an analyte, but may be formed of a material that accelerates the photolysis of the organic molecular compound. In one embodiment, the photoreaction catalyst layer CL is titanium (Ti), tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium ( Ir) and iron (Fe) may contain an oxide of at least one metal. The photoreaction catalyst layer CL is at least one of gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), silicon (Si), germanium (Ge), and gallium (Ga) on or inside the metal oxide. It may further include. Doping of such impurities may be effective in controlling the frequency of a light source for photoreaction of the organic molecular compound.

바람직하게는, 광반응 촉매층(CL)은 아나타제(anatase) 결정 구조를 갖는 티타늄 산화물(TiO2)을 포함할 수 있다. 상기 티타늄 산화물(TiO2)은 다른 금속 산화물에 비하여 비교적 저가이고, 공급이 원활하며 광부식성이 없고, 밴드갭이 3.2 eV로 약 380 nm 이하의 자외선을 포함하는 단파장 광 조사를 통하여 광활성화됨으로써 광분해 반응의 효율을 증가시키는 이점이 있다. Preferably, the photoreaction catalyst layer CL may include titanium oxide (TiO 2 ) having an anatase crystal structure. The titanium oxide (TiO 2 ) is relatively inexpensive compared to other metal oxides, has a smooth supply, has no photocorrosion, and has a band gap of 3.2 eV and is photodecomposed by photoactivation through short-wavelength light irradiation including ultraviolet rays of about 380 nm or less. There is an advantage of increasing the efficiency of the reaction.

광반응 촉매층(CL)의 표면은 상기 부식 방법에 따른 나노 스케일 구조를 가질 수 있다. 상기 나노 스케일 구조는 다공성을 가지며, 섬유상, 와이어상, 침상, 막대상, 기둥상, 또는 이들이 조합된 형상을 가질 수 있으며, 포토리소그래피 또는 쉐도우 마스킹 방법 등에 의해 패터닝될 수도 있다. The surface of the photoreaction catalyst layer CL may have a nanoscale structure according to the above corrosion method. The nano-scale structure may have a porosity, and may have a shape in which a fibrous, wire, needle, rod, column, or combination thereof is combined, and may be patterned by photolithography or a shadow masking method.

도 1a에서는 광반응 촉매층(CL)이 기판(SS) 상에 어레이 형태로 형성된 것을 예시한다. 도 1a에 도시된 광반응 촉매층(CL)을 구성하는 티타늄 산화물(TiO2)의 나노 스케일 구조체들은 직경 1 mm의 스팟 형태로 패터닝될 수 있다. 예를 들면, 기판(SS)의 크기는 약 3 cm x 3 cm의 크기를 가지며, 기판(SS) 상에 형성된 티타늄 산화물(TiO2)의 나노 스케일 구조체들의 스팟은 복수개일 수 있다. 1A illustrates that the photoreaction catalyst layer CL is formed in an array on the substrate SS. Nanoscale structures of titanium oxide (TiO 2 ) constituting the photoreaction catalyst layer CL shown in FIG. 1A may be patterned in the form of spots having a diameter of 1 mm. For example, the size of the substrate SS may be about 3 cm x 3 cm, and there may be a plurality of spots of nanoscale structures of titanium oxide (TiO 2 ) formed on the substrate SS.

기판(SS)에 형성되는 광반응 촉매층(CL)의 나노 스케일 구조체는 전술한 다공성 구조를 갖는다. 상기 다공성 구조에 의하여 표면적을 확장함으로써 시료와의 접촉면적이 증가하고, 상기 시료의 이온화에 효과적일 수 있다.The nanoscale structure of the photoreaction catalyst layer CL formed on the substrate SS has the aforementioned porous structure. By expanding the surface area by the porous structure, the contact area with the sample is increased, and the ionization of the sample may be effective.

도 1b를 참조하면, 광반응 촉매층(도 1a의 CL)에 금속 나노 입자 용액이 제공될 수 있다. 일 실시예에서는, 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함하고, 상기 금속 나노 입자는 금(Au) 나노 입자를 포함할 수 있다. 예를 들면, TiO2 광반응 촉매층(CL)의 나노 스케일 구조체 스폿에 금(Au) 나노 입자 분산 용액이 점적될 수 있다. 다른 실시예에서, 상기 금속 나노 입자 용액은 서스펜션 용액일 수 있으며, 상기 금속 나노 입자 용액의 농도는 0.5 mg/ml 내지 3 mg/ml 일 수 있다. 그러나, 예시된 금속 나노 입자 용액의 농도 범위는 광반응 촉매층의 이온화 증폭효과를 최대화시키도록 상기 금속의 종류, 나노 입자의 크기, 분석 대상물의 종류와 같은 요인들에 의해 결정될 수 있으므로, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 금속 나노 입자 용액의 농도가 하한 임계 농도 값 미만일 때는 상기 코팅된 금속 나노 입자의 밀도가 낮아져 광반응 촉매층의 이온화 증폭 효과를 충분히 얻을 수 없으며, 반대로 상기 농도가 상한 임계 농도 값 이상일 때는 상기 코팅된 금속 나노 입자들 사이의 뭉침(aggregation)에 의해 상기 이온화 증폭 효과가 감소될 수 있다. Referring to FIG. 1B, a metal nanoparticle solution may be provided in the photoreaction catalyst layer (CL of FIG. 1A ). In one embodiment, the photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, and the metal nanoparticles may include gold (Au) nanoparticles. For example, a dispersion solution of gold (Au) nanoparticles may be deposited on the nanoscale structure spot of the TiO 2 photoreaction catalyst layer CL. In another embodiment, the metal nanoparticle solution may be a suspension solution, and the concentration of the metal nanoparticle solution may be 0.5 mg/ml to 3 mg/ml. However, the concentration range of the exemplified metal nanoparticle solution may be determined by factors such as the type of the metal, the size of the nanoparticle, and the type of analyte to maximize the ionization amplification effect of the photoreaction catalyst layer. It is not. When the concentration of the metal nanoparticle solution is less than the lower limit critical concentration value, the density of the coated metal nanoparticles decreases, so that the ionization amplification effect of the photoreaction catalyst layer cannot be sufficiently obtained. Conversely, when the concentration is higher than the upper limit critical concentration value, the coated The ionization amplification effect may be reduced by aggregation between metal nanoparticles.

또한, 상기 금속 나노 입자는 비산화성 금속을 포함할 수 있다. 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti)과 같이 비열이 작은 물질을 포함할 수 있다. 그러나 이들 재료에 한정되는 것은 아니며, 예컨대, 비열이 낮고 열 전도도가 상당히 높은 금속의 경우 모두 적용 가능하다. 일 실시예에서는, 상기 금속 나노 입자의 비열은 0.1 J/gK 내지 0.3 J/gK일 수 있고, 예를 들면, 상기 금 나노 입자의 비열은 0.129 J/gK일 수 있다. 또한, 상기 금속 나노 입자의 열 전도도는 280 W/mK 내지 350 W/mK일 수 있고, 예를 들면 상기 금 나노 입자의 경우 318 W/mK일 수도 있다. 본 실시예에서, 비열 및 열 전도도는 Perkin Elmer 사의 DSC 8500에 의하여 측정될 수 있다. 이는, 비열이 작고 열 전도도가 높은 물질의 경우 분석 대상 시료에 열 전달이 많아져 상기 분석 대상 시료의 이온화 및 탈착을 촉진하기 때문이며, 후술할 금속 나노섬의 경우도 동일하다.In addition, the metal nanoparticles may contain a non-oxidizing metal. It may contain a material having a low specific heat such as gold (Au), platinum (Pt), silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), and titanium (Ti). However, it is not limited to these materials, and for example, it is applicable to all metals having low specific heat and considerably high thermal conductivity. In one embodiment, the specific heat of the metal nanoparticles may be 0.1 J/gK to 0.3 J/gK, for example, the specific heat of the gold nanoparticles may be 0.129 J/gK. Further, the thermal conductivity of the metal nanoparticles may be 280 W/mK to 350 W/mK, and for example, the gold nanoparticles may be 318 W/mK. In this example, specific heat and thermal conductivity can be measured by Perkin Elmer's DSC 8500. This is because, in the case of a material having low specific heat and high thermal conductivity, heat transfer to the sample to be analyzed increases, thereby promoting ionization and desorption of the sample to be analyzed, and the case of metal nanoislets, which will be described later, is the same.

도 1c를 참조하면, 일 실시예에서, 광반응 촉매층(도 1a의 CL)에 금속 박막을 형성한다. 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함할 수 있으며, 상기 금속 박막은 금(Au) 박막을 포함할 수 있다. 여기서, 광반응 촉매층(CL)위에 코팅되는 상기 금속 나노섬은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti)과 같이 비열이 작은 물질을 포함할 수 있다. 상기 금속 박막을 형성하기 위해서, 일 실시예에서는, 스퍼터를 이용하여 증착하며, 상기 스퍼터의 작동 조건은 상기 금속 박막을 100W 파워로 5초 내지 70초 동안 30nm이하의 두께로 증착하도록 설정될 수 있고, 바람직하게는, 상기 증착 두께는 1 nm 내지 15 nm일 수 있으며, 시료에 따라 상기 금속 박막 두께를 조절하여 금속 나노섬의 크기와 분포를 조절할 수 있다.Referring to FIG. 1C, in an embodiment, a metal thin film is formed on the photoreaction catalyst layer (CL in FIG. 1A ). The photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, and the metal thin film may include a gold (Au) thin film. Here, the metal nano-islets coated on the photoreaction catalyst layer (CL) have a small specific heat such as gold (Au), platinum (Pt), silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), and titanium (Ti). It may contain substances. In order to form the metal thin film, in one embodiment, deposition is performed using sputtering, and the operating conditions of the sputtering may be set to deposit the metal thin film to a thickness of 30 nm or less for 5 to 70 seconds with 100W power, and , Preferably, the deposition thickness may be 1 nm to 15 nm, and the size and distribution of the metal nanoislets may be controlled by adjusting the thickness of the metal thin film according to the sample.

이후, 상기 증착된 금속 박막을 열처리한다. 상기 열처리는 금(Au) 박막의 경우에 나노섬을 효과적으로 생성하기 위하여 약 2시간 동안, 약 200 ℃ 내지 1200 ℃의 범위 내에서 수행될 수 있고, 예를 들면, 600 ℃에서 처리될 수 있다. 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 열처리의 온도는 상기 금속 나노섬이 골고루 분포될 수 있도록 조절될 수 있다.Thereafter, the deposited metal thin film is heat treated. In the case of a gold (Au) thin film, the heat treatment may be performed within a range of about 200° C. to 1200° C. for about 2 hours in order to effectively generate nano islands, and, for example, may be processed at 600° C. The present invention is not limited thereto, and the temperature of the heat treatment may be adjusted so that the metal nanoislets are evenly distributed.

도 2a는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200) 표면의 주사전자현미경 이미지이고, 도 2b는 다른 실시예에 따른 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300) 표면의 주사전자현미경 이미지이며, 도 2c는 금속 박막 두께에 따른 금속 나노섬의 크기를 나타낸 주사전자현미경 이미지이다. 도 2a 및 도 2b에서 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함할 수 있고, 상기 금속 나노 입자는 금 나노 입자를 포함할 수 있으며, 상기 금속 나노섬은 금 나노 섬을 포함할 수 있다. 상기 주사전자현미경 분석 시에, 분석된 4곳의 면적은 0.484 μm2로 설정될 수 있으며, 상기 주사전자현미경 이미지를 통하여 금속 나노 입자 및 금속 나노섬이 고르게 분포되었는지 확인할 수 있다.2A is a scanning electron microscope image of a surface of a sample plate 200 coated with metal nanoparticles according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2B is a surface of a sample plate 300 coated with metal nanoislets according to another embodiment. Is a scanning electron microscope image of, and FIG. 2C is a scanning electron microscope image showing the size of a metal nanoislet according to the thickness of a metal thin film. 2A and 2B, the photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, the metal nanoparticles may include gold nanoparticles, and the metal nanoislands may include gold nanoislands. . During the scanning electron microscope analysis, the area of the four analyzed locations may be set to 0.484 μm 2 , and it can be confirmed whether the metal nanoparticles and the metal nanoislets are evenly distributed through the scanning electron microscope image.

도 2a를 참조하면, 상기 금속 나노 입자는 뭉쳐진 상태로 고르지 않게 광반응 촉매층(CL)에 결합되어 있는 것으로 관찰되었다. 이때 광반응 촉매층(CL)중 상기 금속 나노 입자와 결합하지 않고 노출된 부분이 관찰되었으며, 상기 금속 나노 입자는 서로 뭉쳐진(aggregate) 형태로 관찰되었다. 또한, 일 실시예에서 상기 금속 나노 입자는 금(Au) 나노 입자일 수 있고, 상기 금 나노 입자 용액의 농도는 1.23 mg/ml일 수 있으며, 상기 금 나노 입자의 평균 지름은 13 nm 내지 15 nm일 수 있다.Referring to FIG. 2A, it was observed that the metal nanoparticles were unevenly bonded to the photoreaction catalyst layer CL in a clustered state. At this time, a portion of the photoreaction catalyst layer CL that was exposed without being bonded to the metal nanoparticles was observed, and the metal nanoparticles were observed in an aggregated form. In addition, in one embodiment, the metal nanoparticles may be gold (Au) nanoparticles, the concentration of the gold nanoparticle solution may be 1.23 mg/ml, and the average diameter of the gold nanoparticles is 13 nm to 15 nm Can be

도 2b를 참조하면, 상기 금속 나노섬의 크기와 분포는 광반응 촉매층(CL)에 스퍼터로 증착한 금속 박막의 두께에 따라 결정된다. 일 실시예에서는, 금속 박막의 두께를 1 nm, 5 nm, 10 nm 및 15 nm로 조절하였다. 상기 금 박막의 두께가 증가함에 따라 코팅된 금 나노섬의 크기가 증가하며, 상기 코팅된 금 나노섬 입자가 고르게 분포되었다.Referring to FIG. 2B, the size and distribution of the metal nanoislets are determined according to the thickness of the metal thin film deposited on the photoreaction catalyst layer CL by sputtering. In one embodiment, the thickness of the metal thin film was adjusted to 1 nm, 5 nm, 10 nm and 15 nm. As the thickness of the gold thin film increases, the size of the coated gold nanoislets increases, and the coated gold nanoislets particles are evenly distributed.

도 2c를 참조하면, 일 실시예에서는, 상기 금속 나노섬은 금 나노섬을 포함할 수 있고, 상기 금 박막의 두께가 1 nm, 5 nm, 10 nm, 15 nm로 형성된 경우 상기 금 나노섬의 평균 지름은 각각 34.6 nm, 40.7 nm, 91.5 nm, 123.4 nm일 수 있다. 상기 금속 박막의 두께는 1 nm 내지 15 nm일 수 있으며, 바람직하게는 4 nm 내지 6 nm일 수 있다. 이는, 샘플 플레이트의 표면적이 넓을수록 분석 대상 시료의 이온화가 촉진되고, 상기 표면적은 상기 나노섬의 크기가 작을수록 커지는 경향성을 보이면서도 임계 하한 크기보다 작은 경우에는 다시 작아지기 때문이다. 본 실시예의 수치는 예시적인 것이며, 상기 실시예에 한정되는 것은 아니다. Referring to Figure 2c, in one embodiment, the metal nano-islands may include gold nano-islets, and when the gold thin film has a thickness of 1 nm, 5 nm, 10 nm, and 15 nm, Average diameters may be 34.6 nm, 40.7 nm, 91.5 nm, and 123.4 nm, respectively. The thickness of the metal thin film may be 1 nm to 15 nm, preferably 4 nm to 6 nm. This is because ionization of the sample to be analyzed is promoted as the surface area of the sample plate increases, and the surface area tends to increase as the size of the nanoislets decreases, but decreases again when it is smaller than the lower critical size. The numerical values in this example are illustrative and are not limited to the above examples.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 TiO2 나노선으로 구성된 광반응 촉매층(CL)을 금속 나노섬으로 코팅하는 경우, 금속 박막의 두께에 따른 질랑 피크의 세기를 나타내는 그래프이다. 도 3에서 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함할 수 있고, 상기 금속 나노 입자는 금 나노 입자를 포함하고, 상기 금속 나노섬은 금 나노 섬을 포함할 수 있다.FIG. 3 is a graph showing the intensity of a mass peak according to the thickness of a metal thin film when the photoreaction catalyst layer CL composed of TiO 2 nanowires according to an embodiment of the present invention is coated with a metal nano island. In FIG. 3, the photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, the metal nanoparticles may include gold nanoparticles, and the metal nanoislands may include gold nanoislets.

도 3을 참조하면, 상기 금 박막의 두께는 1 nm, 5 nm, 15 nm 및 20 nm로 설정되었으며, 본 실시예에서, 시료는 타클로리무스, 사이클로스포린 에이, 시롤리무스 및 에버로리무스를 포함하는 4종의 면역억제제일 수 있다. 본 발명의 질량 분석에서, 상기 면역억제제 샘플의 농도는 100 μg/ml이며, 금 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)에 1 μl를 점적한 후 건조하여 샘플 플레이트를 준비하였다.3, the thickness of the gold thin film was set to 1 nm, 5 nm, 15 nm, and 20 nm, and in this example, samples included taclolimus, cyclosporine A, sirolimus, and everolimus. It can be four types of immunosuppressants. In the mass spectrometry of the present invention, the concentration of the immunosuppressant sample was 100 μg/ml, and 1 μl was dropped on the sample plate 200 coated with gold nanoparticles and dried to prepare a sample plate.

상기 건조된 샘플 플레이트의 광분해 반응이 완료된 이후에는, 예를 들면, Bruker사의 Microflex 기종의 질량 분석기를 이용하여 레이저 탈착/이온화 질량 분석이 수행될 수 있다. 상기 질량 분석기는 말디톱 분석을 위한 질량 분석기일 수 있다. 일 실시예에서, 상기 질량 분석기의 리플렉터는 포지티브 모드로 설정되고 레이저의 파워 세기는 최고출력을 기준으로 수 내지 수십 %의 수준으로 조절되었으며, 디텍터의 게인값이 적절히 조절될 수 있다. After the photolysis reaction of the dried sample plate is completed, laser desorption/ionization mass analysis may be performed using, for example, a mass analyzer of Bruker's Microflex type. The mass spectrometer may be a mass spectrometer for malditop analysis. In one embodiment, the reflector of the mass spectrometer is set to a positive mode, the power intensity of the laser is adjusted to a level of several to tens of% based on the maximum output, and the gain value of the detector can be appropriately adjusted.

다시 도 3을 참조하면, 상기 샘플 플레이트로 분석한 결과 질량 피크는 potassium adduct로 얻어졌으며 기존 유기 매트릭스를 사용할 때 발생하는 매트릭스 노이즈는 발견되지 않았다. 또한, 상기 질량 피크는 상기 금 박막 두께가 5 nm인 경우 가장 큰 세기를 보였다. 이에 따라, 상기 4종의 면역억제제의 질량 분석에서 상기 샘플 플레이트 제작 시 최적의 금 박막 두께는 5 nm임을 알 수 있다.Referring to FIG. 3 again, as a result of analysis with the sample plate, the mass peak was obtained as a potassium adduct, and no matrix noise generated when using an existing organic matrix was found. In addition, the mass peak showed the greatest intensity when the gold thin film thickness was 5 nm. Accordingly, in mass spectrometry of the four immunosuppressants, it can be seen that the optimum gold thin film thickness is 5 nm when the sample plate is prepared.

도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100) 및 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 질량 분석 결과 그래프이다. 도 4a에서 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함할 수 있고, 상기 금속 나노 입자는 금 나노 입자를 포함할 수 있으며, 상기 금속 나노섬은 금 나노섬을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 광반응 촉매층(CL)은 상기 TiO2 나노선으로 구성될 수 있다. 기존 유기 매트릭스 혹은 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100)를 사용하는 경우에 비하여 질량 피크의 세기를 최대화할 수 있음을 알 수 있다. 질량 분석 샘플은 상기 4종의 면역억제제를 이용하여 제작되었으나 실험의 결과는 상기 샘플에 한정되지 않을 수 있다. 상기 4종의 면역억제제의 농도는 1 μg/ml로 제조될 수 있고, 상기 기존 유기 매트릭스에 해당하는 CHCA, DHB, 상기 금 나노 입자, 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100) 및 금 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)를 이용하여 측정하였다. 시료는 상기 4종의 면역억제제일 수 있으며, potassium adduct의 질량 피크가 측정될 수 있다.4A is a graph showing the results of mass analysis of the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer CL and the sample plate 200 coated with metal nanoparticles according to an exemplary embodiment of the present invention. In FIG. 4A, the photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, the metal nano particles may include gold nano particles, and the metal nano islands may include gold nano islands. In one embodiment, the photoreaction catalyst layer CL may be formed of the TiO 2 nanowires. It can be seen that the intensity of the mass peak can be maximized compared to the case of using the conventional organic matrix or the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer CL. Mass spectrometry samples were prepared using the four immunosuppressants, but the results of the experiment may not be limited to the samples. The concentration of the four immunosuppressants may be prepared at 1 μg/ml, and the sample plate 100 including CHCA, DHB, the gold nanoparticles, and a photoreaction catalyst layer (CL) corresponding to the existing organic matrix, and The measurement was made using a sample plate 200 coated with gold nanoparticles. The sample may be the above four immunosuppressants, and the mass peak of potassium adduct may be measured.

상기 기존 유기 매트릭스의 분석 결과에서는 기존 질량분석기의 문제점인 노이즈 피크만 관찰되었으며 상기 시료의 질량 피크는 관찰되지 않았다. 또한, 상기 금 나노 입자의 경우에도 상기 시료의 질량 피크가 관찰되지 않았다. 이와 달리, 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100) 및 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 경우 질량 피크가 관찰되었으며, 노이즈 피크는 발견되지 않았다.In the analysis results of the conventional organic matrix, only the noise peak, which is a problem of the conventional mass spectrometer, was observed and the mass peak of the sample was not observed. In addition, in the case of the gold nanoparticles, the mass peak of the sample was not observed. In contrast, in the case of the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer CL and the sample plate 200 coated with metal nanoparticles, a mass peak was observed, and no noise peak was found.

또한, 금속 나노 입자가 코팅된 광반응 촉매층(CL) 또는 금속 나노섬이 코팅된 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 복합 매트릭스를 이용하는 경우의 질량 피크의 세기가 상기 기존 유기 매트릭스에 이용되는 유기물, 상기 금 나노 입자 또는 광반응 촉매층(CL)만을 포함하는 단일 매트릭스를 이용하는 경우에 비해 증가하는 것을 알 수 있다. 이와 같은 결과는 상기 4종의 면역억제제 각각에서 관찰되었다. 전술한 바와 같은 질량 피크 세기의 차이가 발생하는 이유는 첫째로, 상기 복합 매트릭스의 경우 상기 금속 나노 입자 및 상기 금속 나노섬에 의해 접촉 면적이 증가하기 때문이다. 둘째는, 상기 금속과 TiO2 나노선의 상호 작용에 의한 쇼트키 배리어(Schttky barrier)의 형성으로 전자와 홀(hole)의 재결합을 방해하여 상기 금속의 광촉매 반응성이 향상되기 때문이다. 셋째는, 상기 금(Au)의 낮은 비열과 높은 열 전도도로 인하여 상기 시료에 많은 열 에너지를 전달하기 때문이다.In addition, the intensity of the mass peak in the case of using a composite matrix including a photoreaction catalyst layer (CL) coated with metal nanoparticles or a photoreaction catalyst layer (CL) coated with metal nanoislets is an organic material used in the existing organic matrix, It can be seen that the increase is increased compared to the case of using a single matrix including only the gold nanoparticles or the photoreaction catalyst layer CL. These results were observed for each of the four immunosuppressants. The reason why the difference in mass peak intensity as described above occurs is, first, that in the case of the composite matrix, the contact area is increased by the metal nanoparticles and the metal nanoislets. Second, it is because the photocatalytic reactivity of the metal is improved by interfering with the recombination of electrons and holes due to the formation of a Schottky barrier by the interaction of the metal and the TiO 2 nanowire. Third, because of the low specific heat and high thermal conductivity of the gold (Au), a large amount of thermal energy is transferred to the sample.

도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)를 이용하여 상기 4종의 면역억제제를 분석한 질량분석도이다. 상기 면역 억제제, 상기 기존 유기 매트릭스, 분석 대상 원소(potassium adduct) 및 상기 금속 나노 입자에 대한 것은 전술한 바와 같다. FIG. 4B is a mass spectrometry diagram analyzing the four types of immunosuppressants using the sample plate 300 coated with metal nanoislets according to an embodiment of the present invention. The immunosuppressant, the existing organic matrix, the element to be analyzed (potassium adduct), and the metal nanoparticles are as described above.

금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)를 이용하는 경우 상기 기존 유기 매트릭스에서 발생하는 노이즈는 발견되지 않았으며, 상기 단일 매트릭스를 이용하는 경우에 비하여 질량 피크의 세기가 증가하였다. 또한 상기 질량 피크 세기의 증가량이 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)의 경우에 비하여 크게 상승된 것을 알 수 있다. 예컨대, 상기 단일 매트릭스를 이용하는 경우에 비하여 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)의 경우 S/N비가 17.94 배 내지 391.20 배 증가한 것을 알 수 있다.In the case of using the sample plate 300 coated with metal nanoislets, noise generated in the existing organic matrix was not found, and the intensity of the mass peak increased compared to the case in which the single matrix was used. In addition, it can be seen that the increase in the mass peak intensity is significantly increased compared to the case of the sample plate 200 coated with metal nanoparticles. For example, it can be seen that the S/N ratio increased by 17.94 times to 391.20 times in the case of the sample plate 300 coated with metal nanoislets compared to the case of using the single matrix.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200) 및 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)를 이용한 상기 4종의 면역억제제의 분석 결과의 감도와 분석 한계(limit of detection)를 비교한 그래프이다. 광반응 촉매층(CL)은 TiO2 나노선을 포함할 수 있고, 상기 금속 나노 입자는 금 나노 입자를 포함할 수 있으며, 상기 금속 나노섬은 금 나노섬을 포함할 수 있다. 상기 분석 결과의 비교는 상기 4종의 면역억제제의 농도가 10 ng/ml 내지 10000 ng/ml인 범위에서 이루어질 수 있다. 5 is a sensitivity and analysis limit of the analysis results of the four immunosuppressants using a sample plate 200 coated with metal nanoparticles and a sample plate 300 coated with metal nanoislets according to an embodiment of the present invention. This is a graph comparing (limit of detection). The photoreaction catalyst layer CL may include TiO 2 nanowires, the metal nanoparticles may include gold nanoparticles, and the metal nanoislands may include gold nanoislands. The comparison of the analysis results may be made in the range of 10 ng/ml to 10000 ng/ml of the concentration of the four immunosuppressants.

상기 4종의 면역억제제 각각의 경우에서, 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200)는 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100)에 비하여 향상된 질량 피크 세기를 보이며, 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300)는 그보다 크게 향상된 질량 피크 세기를 보인다. 또한, 상기 분석 한계는 광반응 촉매층(CL)을 포함하는 샘플 플레이트(100), 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트(200), 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트(300) 순으로 작아지는 것을 알 수 있다. 상기 질량 피크 세기의 차이로부터 상기 금속 나노 구조체를 코팅한 상기 복합 매트릭스 샘플의 경우 상기 기존 유기 매트릭스 및 상기 단일 매트릭스를 사용한 샘플 플레이트와 비교하여 질량 피크의 크기가 크게 향상되었으며 측정 감도와 측정 한계가 크게 향상되었음을 알 수 있다.In each of the four immunosuppressants, the sample plate 200 coated with the metal nanoparticles exhibits an improved mass peak intensity compared to the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer CL, and the metal nanoislets are The coated sample plate 300 exhibits a significantly improved mass peak intensity. In addition, the analysis limit is found to decrease in the order of the sample plate 100 including the photoreaction catalyst layer (CL), the sample plate 200 coated with metal nanoparticles, and the sample plate 300 coated with metal nanoislets. I can. From the difference in the mass peak intensity, in the case of the composite matrix sample coated with the metal nanostructure, the size of the mass peak was greatly improved compared to the sample plate using the conventional organic matrix and the single matrix, and the measurement sensitivity and measurement limit were significantly You can see that it has improved.

전술한 것과 같이, 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 시료 플레이트, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 질량 분석 방법을 상세하게 설명하였다. 하지만, 본 발명이 속한 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 범위 내에서 상기 구성에 대한 다양한 수정 및 변형이 가능하다는 것을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 오직 하기의 특허청구범위에 의해서만 한정된다.As described above, a sample plate according to various embodiments of the present invention, a manufacturing method thereof, and a mass spectrometry method using the same have been described in detail. However, those of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains will understand that various modifications and variations to the configuration are possible within the scope of the present invention. Accordingly, the scope of the present invention is limited only by the following claims.

SS: 기판
OS: 산화성 용매
OL: 산화층
CW: 세정액
100: 광반응 촉매층이 형성된 샘플 플레이트
200: 금속 나노 입자가 코팅된 샘플 플레이트
300: 금속 나노섬이 코팅된 샘플 플레이트
SS: Substrate
OS: oxidizing solvent
OL: oxide layer
CW: cleaning liquid
100: a sample plate on which a photoreaction catalyst layer was formed
200: sample plate coated with metal nanoparticles
300: sample plate coated with metal nanoislets

Claims (15)

금속 기판;
상기 금속 기판 상에 형성된 광반응 촉매층; 및
상기 광반응 촉매층에 코팅된 서로 이격된 금속 나노 구조체를 포함하고,
상기 광반응 촉매층은 금속 산화물 나노선을 포함하고,
상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노 입자 또는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노섬을 포함하는,
복합 매트릭스를 이용한 샘플 플레이트.
Metal substrate;
A photoreaction catalyst layer formed on the metal substrate; And
Including metal nanostructures spaced apart from each other coated on the photoreaction catalyst layer,
The photoreaction catalyst layer includes metal oxide nanowires,
The metal nanostructures spaced apart from each other include metal nanoparticles coated on the metal oxide nanowires or metal nanoislands coated on the metal oxide nanowires,
Sample plate using a composite matrix.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 금속 기판은, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir), 철(Fe, 스테인레스 스틸) 중 적어도 하나 이상을 포함하는 샘플 플레이트.
The method of claim 1,
The metal substrate is titanium (Ti), tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium (Ir), iron (Fe, stainless steel). Steel) sample plate comprising at least one or more.
제 1 항에 있어서,
상기 광반응 촉매층은, 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta), 주석(Sn), 텅스텐(W), 아연(Zn), 바나듐(V), 루테늄(Ru), 이리듐(Ir) 및 철(Fe)의 산화물 중 적어도 하나 이상을 포함하는 샘플 플레이트.
The method of claim 1,
The photoreaction catalyst layer is titanium (Ti), tantalum (Ta), tin (Sn), tungsten (W), zinc (Zn), vanadium (V), ruthenium (Ru), iridium (Ir) and iron (Fe) A sample plate comprising at least one or more of oxides of.
제 1 항에 있어서,
상기 광반응 촉매층은, TiO2 나노선인 것을 포함하는 샘플 플레이트.
The method of claim 1,
The photoreaction catalyst layer is a sample plate comprising TiO 2 nanowires.
제 1 항에 있어서,
상기 금속 나노섬은, 상기 금속 나노섬의 지름이 34.6nm 내지 123.5nm인 샘플 플레이트.
The method of claim 1,
The metal nano-islands are sample plates having a diameter of 34.6 nm to 123.5 nm.
금속 기판을 형성하는 단계;
상기 금속 기판의 표면을 부식시키고, 세정액 내에 노출시켜 세정하고, 열처리하여 광반응 촉매층을 형성하는 단계; 및
상기 광반응 촉매층 위에 서로 이격된 금속 나노 구조체를 형성하는 단계를 포함하고,
상기 광반응 촉매층은 금속 산화물 나노선을 포함하고,
상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노 입자 또는 상기 금속 산화물 나노선에 코팅된 금속 나노섬을 포함하는,
샘플 플레이트의 제조 방법.
Forming a metal substrate;
Forming a photoreaction catalyst layer by corroding the surface of the metal substrate, cleaning by exposure to a cleaning solution, and heat treatment; And
Including the step of forming metal nanostructures spaced apart from each other on the photoreaction catalyst layer,
The photoreaction catalyst layer includes metal oxide nanowires,
The metal nanostructures spaced apart from each other include metal nanoparticles coated on the metal oxide nanowires or metal nanoislands coated on the metal oxide nanowires,
Method of making a sample plate.
삭제delete 제 7항에 있어서,
상기 서로 이격된 금속 나노 구조체는, 비산화성 금속을 포함하는 샘플 플레이트의 제조 방법.
The method of claim 7,
The metal nanostructures spaced apart from each other are a method of manufacturing a sample plate containing a non-oxidizing metal.
제 9 항에 있어서,
상기 비산화성 금속은 금(Au), 백금(Pt), 은(Ag), 팔라듐(Pd), 알루미늄(Al), 티타늄(Ti)을 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 9,
The non-oxidizing metal is a method of manufacturing a sample plate containing gold (Au), platinum (Pt), silver (Ag), palladium (Pd), aluminum (Al), and titanium (Ti).
제 7 항에 있어서,
상기 금속 나노 입자를 형성하는 단계는, 상기 금속 나노 입자의 콜로이드 용액을 상기 광반응 촉매층 상에 점적하는 단계를 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 7,
The forming of the metal nanoparticles comprises dropping a colloidal solution of the metal nanoparticles on the photoreaction catalyst layer.
제 7 항에 있어서,
상기 금속 나노섬을 형성하는 단계는, 상기 광반응 촉매층 위에 금속 박막을 증착하는 단계; 및
상기 금속 박막을 열처리하는 단계를 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 7,
The forming of the metal nano-island may include depositing a metal thin film on the photoreaction catalyst layer; And
Method of manufacturing a sample plate comprising the step of heat-treating the metal thin film.
제 12 항에 있어서,
상기 금속 박막의 두께는, 1~15nm인 것을 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 12,
The thickness of the metal thin film, a method of manufacturing a sample plate comprising that 1 ~ 15nm.
제 12 항에 있어서,
상기 열처리하는 단계는, 나노섬을 효과적으로 생성하기 위하여 200℃ 내지 1200℃에서 2시간동안 열처리하는 것을 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 12,
The step of heat-treating includes heat-treating at 200°C to 1200°C for 2 hours to effectively generate nano islands.
제 12 항에 있어서,
상기 금속 나노섬은, 금(Au) 나노섬을 포함하고,
상기 금속 박막은, 금(Au) 박막을 포함하고,
상기 금 박막의 두께는, 1nm 내지 15nm이며,
타클로리무스, 사이클로스포린 에이, 시롤리무스 및 에버로리무스 중 적어도 하나 이상을 포함하는 시료를 점적한 후 건조하는 단계를 더 포함하는 샘플 플레이트의 제조방법.
The method of claim 12,
The metal nano-islets include gold (Au) nano-islets,
The metal thin film includes a gold (Au) thin film,
The thickness of the gold thin film is 1 nm to 15 nm,
Taclolimus, cyclosporine A, sirolimus, and a method of manufacturing a sample plate further comprising the step of drying after dripping a sample containing at least one or more of everolimus.
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