KR102190762B1 - Anti-static composition and released film comprising the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실리콘 화합물에 대전방지제의 혼합물을 포함하는 대전방지 이형성 조성물 및 이를 포함하는 이형 필름에 관한 것이다. 본 발명은 이형성 조성물에 대전방지제가 내첨화됨으로써 기재필름상에 실리콘 이형층과 대전방지층이 각각 적층된 이형필름과 비교하여 낮은 표면저항과 박리력을 가지면서도 우수한 투명성과 코팅성을 나타낼 수 있다. 또한 제조공정도 단순화되어 산업 생산성도 우수하다.The present invention relates to an antistatic release composition comprising a mixture of an antistatic agent in a silicone compound and a release film comprising the same. The present invention can exhibit excellent transparency and coating properties while having low surface resistance and peeling force compared to a release film in which a silicone release layer and an antistatic layer are each laminated on a base film by internally adding an antistatic agent to the release composition. In addition, the manufacturing process is also simplified, and industrial productivity is also excellent.

Description

대전방지 조성물 및 이를 포함하는 이형필름{Anti-static composition and released film comprising the same}Anti-static composition and release film comprising the same {Anti-static composition and released film comprising the same}

본 명세서는 이형성과 코팅성이 개선된 대전방지제 조성물과 이를 포함하는 이형필름에 관하여 기술한다.The present specification describes an antistatic agent composition with improved releasability and coating properties, and a release film including the same.

이형필름은 일반적으로 점착제층(또는 점착층)의 보호를 주 목적으로 사용되며, 구체적으로는 일반 산업용 점착 테이프, 아크릴계 점착제 보호필름, 반도체 보호용 필름 등의 전자 재료 분야 등에서 사용되고 있다. 전자 재료 분야에 합성수지 또는 합성섬유의 사용이 증가하면서, 점착제 층을 보호하는 기능이 주목적인 이형필름 분야에서도 대전방지 기능이 요구되고 있다.The release film is generally used for the main purpose of protecting an adhesive layer (or adhesive layer), and specifically, it is used in the field of electronic materials such as general industrial adhesive tape, acrylic adhesive protective film, and semiconductor protective film. As the use of synthetic resins or synthetic fibers increases in the field of electronic materials, antistatic functions are also required in the release film field, where the function of protecting an adhesive layer is the main purpose.

이형필름에 대전방지 기능을 부여하기 위하여 이형층에 대전방지층을 적층한 이형필름이 개발되었으나, 대전방지층과 이형층을 이루는 물질, 예를 들어 실리콘 화합물과의 결합력, 기재 필름과 대전 방지층 간의 결합력 또는 밀착력이 떨어진다는 문제가 있었다. 또한 전자소재 분야에서 요구하는 투명성의 구현하기 어렵고 대전방지층의 코팅 공정과 실리콘 화합물 코팅 공정이 부가되어 제품의 상용성과 생산성이 낮다는 문제가 있다. In order to impart an antistatic function to the release film, a release film was developed in which an antistatic layer was laminated on the release layer, but the antistatic layer and the material constituting the release layer, for example, the bonding force with the silicone compound, the bonding force between the base film and the antistatic layer, or There was a problem of poor adhesion. In addition, it is difficult to implement the transparency required in the field of electronic materials, and there is a problem that the compatibility and productivity of the product are low due to the addition of the antistatic layer coating process and the silicone compound coating process.

대한민국 등록특허공보 제10-1927851호Republic of Korea Patent Publication No. 10-1927851

일 관점에서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 표면저항, 경화도, 밀착성과 투명성이 우수한 대전방지 이형성 조성물 및 이를 포함하는 이형필름을 제공하는 것이다.In one aspect, the problem to be solved by the present invention is to provide an antistatic releasable composition having excellent surface resistance, curing degree, adhesion and transparency, and a release film including the same.

일 측면에서, 본 발명은 실리콘 화합물; 및 대전 방지제의 혼합물을 포함하고, 상기 대전 방지제는 양이온과 음이온이 결합된 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하며,In one aspect, the present invention is a silicone compound; And a mixture of an antistatic agent, wherein the antistatic agent comprises a compound represented by the following Formula 1 in which a cation and an anion are combined,

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019006441100-pat00001
Figure 112019006441100-pat00001

상기 식에서 R, R' 및 R"은 독립적으로 C1∼C15 의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, X- 는 염을 형성할 수 있는 음이온인,대전방지 이형성 조성물을 제공한다.In the above formula, R, R'and R" are independently a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group, or a tertiary alkyl group, and X - is an anion capable of forming a salt, providing an antistatic releasable composition. .

다른 일 측면에서, 본 발명은 기재 필름층; 및 상기 기재 필름층상에 코팅된, 상기 대전방지 이형성 조성물을 포함하는 실리콘 이형층을 포함하는 이형 필름을 제공한다.In another aspect, the present invention is a base film layer; And it provides a release film comprising a silicone release layer comprising the antistatic release composition, coated on the base film layer.

일 관점에서, 본 발명에 따른 이형성 조성물은 실리콘 화합물에 특정 대전방지제를 함께 혼합하여 포함함으로써, 이형필름에 적용시 기재필름상에 실리콘 이형층과 대전방지층이 각각 적층된 이형필름과 비교하여 낮은 표면저항과 박리력을 가지면서도 우수한 투명성과 코팅성, 즉 경화도와 밀착성을 나타낼 수 있다. 또한 제조공정도 단순화되어 산업 생산성도 우수하다.In one aspect, the releasable composition according to the present invention contains a specific antistatic agent mixed with a silicone compound, so that when applied to a release film, a lower surface surface compared to a release film in which a silicone release layer and an antistatic layer are respectively laminated on a base film. It can exhibit excellent transparency and coating properties, that is, hardenability and adhesion, while having resistance and peeling power. In addition, the manufacturing process is also simplified, and industrial productivity is also excellent.

도 1은 본 발명의 일 구현예에 따라 기재 필름층(100)의 상부에 실리콘 화합물(110)와 대전방지제(120)가 혼합된 실리콘 이형층(110+120)이 코팅된 이형필름을 나타낸 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a release film coated with a silicone release layer (110+120) in which a silicone compound 110 and an antistatic agent 120 are mixed on an upper portion of a base film layer 100 according to an embodiment of the present invention to be.

이하, 본 발명의 구현예들을 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

본 발명의 일 구현예는 실리콘 화합물; 및 이미다졸륨을 포함하는 대전방지제의 혼합물을 포함하는 대전방지 이형성 조성물을 제공한다. One embodiment of the present invention is a silicone compound; And it provides an antistatic release composition comprising a mixture of an antistatic agent containing imidazolium.

일 구현예로서 상기 이미다졸륨은 양이온과 음이온이 결합된 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함할 수 있다. As an embodiment, the imidazolium may include a compound represented by the following Formula 1 in which a cation and an anion are combined.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112019006441100-pat00002
Figure 112019006441100-pat00002

상기 식에서 R, R' 및 R"은 독립적으로 C1 내지 C15 의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, X- 는 염을 형성할 수 있는 음이온이다. 일 구현예로서 상기 X-는 MAn - 또는 RaQ-일 수 있다. 여기서 M은 주기율표(CAS version)상의 VIIIB, IB, IIB, IIIA, VA 족의 원소이고, A는 할라이드(n은 2~15의 정수)이며, 보다 구체적으로는 불소이다. 구체적으로 RaQ-는 알킬술포닐, 할로알킬술포닐, 포스포릴, 메티드, 이미드 또는 카르보닐기일 수 있으며, 보다 구체적으로 -O(SO2R), -N(SO2R)2, 또는 -C(SO2R)3일 수 있다.. Wherein R, R 'and R "are independently C 1 to C 15 primary alkyl group of 1, a secondary alkyl group or tertiary alkyl group, X- is an anion capable of forming a salt thereof wherein one embodiment X - May be MA n - or R a Q - where M is an element of group VIIIB, IB, IIB, IIIA, VA on the periodic table (CAS version), and A is a halide (n is an integer of 2 to 15), more specifically a fluorine specifically R a Q - is alkylsulfonyl, haloalkylsulfonyl, phosphoryl, methide, imide, or be a carbonyl group and, more specifically - O (SO 2 R), - N (SO 2 R) 2 , or - C(SO 2 R) 3 may be.

일 구현예로서, 상기 화학식 1의 X 양이온은 이미다졸륨, 피리디늄 또는 피롤리디늄일 수 있다. 일 구현예에 따른 상기 대전방지제는 유기용제 내에서 실리콘 화합물과의 상용성이 우수하다.As an embodiment, the X cation of Formula 1 may be imidazolium, pyridinium, or pyrrolidinium. The antistatic agent according to one embodiment has excellent compatibility with a silicone compound in an organic solvent.

일 구현예로서 상기 조성물은 대전방지제를 조성물 총 중량에 대하여 0.5 내지 40 중량%, 보다 구체적으로는 3 내지 40 중량%로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 조성물은 대전방지제를 조성물 총 중량에 대하여, 0.5 중량% 이상, 1 중량% 이상, 3 중량% 이상, 5 중량% 이상, 8 중량% 이상, 10 중량% 이상, 12 중량% 이상, 15 중량% 이상, 17 중량% 이상, 20 중량% 이상, 22 중량% 이상, 25 중량% 이상, 27 중량% 이상, 30 중량% 이상, 32 중량% 이상, 35 중량% 이상 또는 37 중량% 이상으로 포함할 수 있으며, 대전방지제를 조성물 총 중량에 대하여, 40 중량% 이하, 38 중량% 이하, 35 중량% 이하, 33 중량% 이하, 30 중량% 이하, 28 중량% 이하, 25 중량% 이하, 23 중량% 이하, 20 중량% 이하, 18 중량% 이하, 15 중량% 이하, 13 중량% 이하, 10 중량% 이하, 8 중량% 이하, 5 중량% 이하, 3 중량% 이하 또는 1 중량% 이하로 포함할 수 있다. 40중량%를 초과할 경우 조성물의 반응성을 저하시켜 경화도 및 밀착성능이 저하되며, 0.5중량% 미만일 경우 대전성능이 구현되지 않는 문제가 있다. As an embodiment, the composition may contain an antistatic agent in an amount of 0.5 to 40% by weight, more specifically 3 to 40% by weight, based on the total weight of the composition. Specifically, the composition contains an antistatic agent based on the total weight of the composition, at least 0.5% by weight, at least 1% by weight, at least 3% by weight, at least 5% by weight, at least 8% by weight, at least 10% by weight, at least 12% by weight, 15% or more, 17% or more, 20% or more, 22% or more, 25% or more, 27% or more, 30% or more, 32% or more, 35% or more, or 37% or more It may contain an antistatic agent based on the total weight of the composition, 40% by weight or less, 38% by weight or less, 35% by weight or less, 33% by weight or less, 30% by weight or less, 28% by weight or less, 25% by weight or less, 23 Included in wt% or less, 20 wt% or less, 18 wt% or less, 15 wt% or less, 13 wt% or less, 10 wt% or less, 8 wt% or less, 5 wt% or less, 3 wt% or less, or 1 wt% or less can do. If it exceeds 40% by weight, the reactivity of the composition is lowered, thereby reducing the degree of curing and adhesion performance, and if it is less than 0.5% by weight, there is a problem that the charging performance is not implemented.

일 구현 예로서 상기 실리콘 화합물은 제한되지 않으나, 하기 화학식 2로 표시되는 반복구조를 포함하는 화합물일 수 있다. As an exemplary embodiment, the silicone compound is not limited, but may be a compound having a repeating structure represented by Formula 2 below.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112019006441100-pat00003
Figure 112019006441100-pat00003

상기 식에서 R'은 C1 내지 C15의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, n은 1 이상의 정수이다.In the above formula, R'is a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group, or a tertiary alkyl group, and n is an integer of 1 or more.

일 구현예로서 상기 실리콘 화합물은 직쇄상, 분지상 또는 직쇄와 분지가 함께 있는 구조의 폴리실록산일 수 있으며, 예를 들어 상기 식에서 R'는 C1 내지 C6의 퍼플루오로알킬기(CnF2n+1, n=1~6)를 포함할 수 있다. 일 구현예로서, 상기 실리콘 화합물은 상기 화학식 2로 표시되는 반복구조를 포함하는 화합물과 폴리디메틸실록산의 중합체를 포함할 수 있다.As an embodiment, the silicone compound may be a linear, branched, or polysiloxane having a structure in which both linear and branched chains are present. For example, in the above formula, R'is a C 1 to C 6 perfluoroalkyl group (C n F 2n +1 , n=1-6) may be included. In one embodiment, the silicone compound may include a polymer of polydimethylsiloxane and a compound having a repeating structure represented by Chemical Formula 2.

일 구현예로서 상기 조성물은 실리콘 화합물을 조성물 총 중량에 대하여 3 내지 30 중량%로 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 조성물은 실리콘 화합물을 조성물 총 중량에 대하여, 3 중량% 이상, 6 중량% 이상, 8 중량% 이상, 10 중량% 이상, 12 중량% 이상, 14 중량% 이상, 16 중량% 이상, 18 중량% 이상, 20 중량% 이상, 22 중량% 이상, 24 중량% 이상, 26 중량% 이상 또는 28 중량% 이상으로 포함할 수 있으며, 30중량% 이하, 28 중량% 이하, 26 중량% 이하, 24 중량% 이하, 22 중량% 이하, 20 중량% 이하, 18 중량% 이하, 16 중량% 이하, 14 중량% 이하, 12 중량% 이하, 10 중량% 이하, 8 중량% 이하, 6 중량% 이하 또는 4 중량% 이하로 포함할 수 있다. 30중량%를 초과할 경우 점도가 매우 높아져 작업성능이 떨어지며, 3중량% 미만일 경우 실리콘 용액의 코팅성 저하의 문제가 있다. As an embodiment, the composition may include 3 to 30% by weight of a silicone compound based on the total weight of the composition. Specifically, the composition contains a silicone compound based on the total weight of the composition, 3% by weight or more, 6% by weight or more, 8% by weight or more, 10% by weight or more, 12% by weight or more, 14% by weight or more, 16% by weight or more, 18 wt% or more, 20 wt% or more, 22 wt% or more, 24 wt% or more, 26 wt% or more, or 28 wt% or more, 30 wt% or less, 28 wt% or less, 26 wt% or less, 24% or less, 22% or less, 20% or less, 18% or less, 16% or less, 14% or less, 12% or less, 10% or less, 8% or less, 6% or less, or It may contain up to 4% by weight. If it exceeds 30% by weight, the viscosity becomes very high and work performance is deteriorated, and if it is less than 3% by weight, there is a problem of deterioration of the coating properties of the silicone solution.

일 구현예로서 상기 조성물은 상기 실리콘 화합물 100 중량%에 대하여 상기 대전방지제를 3 내지 40 중량%, 보다 구체적으로는 25 내지 35중량%의 중량비로 포함할 수 있다. 대전방지제가 실리콘 화합물 100 중량%에 대하여 40중량%를 초과하여 포함될 경우, 코팅층의 경화도, 밀착성능이 떨어지며, 3중량% 미만으로 포함될 경우 대전 성능이 나타나지 않을 수 있다.As an embodiment, the composition may include 3 to 40% by weight of the antistatic agent, more specifically 25 to 35% by weight, based on 100% by weight of the silicone compound. When the antistatic agent is included in excess of 40% by weight based on 100% by weight of the silicone compound, the curing degree and adhesion performance of the coating layer are deteriorated, and when it is included in less than 3% by weight, the charging performance may not appear.

일 구현예로서 상기 조성물은 경화 타입에 따라 경화제를 더 포함할 수 있으며, 상기 경화제는 백금을 포함할 수 있다. 상기 경화제의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량%를 기준으로, 1 내지 10 중량%일 수 있고, 보다 구체적으로는 1 내지 5 중량부일 수 있다. 함량이 1 중량부 미만이면 이형성 조성물의 형성이 어려우며, 10 중량부를 초과하는 경우, 박리력 안정성이 낮아진다는 문제가 발생할 수 있다.In one embodiment, the composition may further include a curing agent according to a curing type, and the curing agent may include platinum. The content of the curing agent may be 1 to 10% by weight, more specifically 1 to 5 parts by weight, based on 100% by weight of the silicone compound. If the content is less than 1 part by weight, it is difficult to form the releasable composition, and if it exceeds 10 parts by weight, there may be a problem that the peel strength stability is lowered.

일 구현예로서 상기 조성물은 공정속도 향상을 위하여 촉매를 더 포함할 수 있으며, 상기 촉매는 백금을 포함할 수 있다. 상기 촉매의 함량은 상기 실리콘 화합물 100 중량%를 기준으로, 1 내지 10 중량%일 수 있고, 보다 구체적으로는 1 내지 5 중량부일 수 있다. 함량이 1 중량부 미만이면 반응속도가 느려 경화가 제대로 되지 않으며, 10 중량부를 초과하는 경우, Pot-Life가 저하되어 양산성능이 저하될 수 있다.As an embodiment, the composition may further include a catalyst to improve process speed, and the catalyst may include platinum. The content of the catalyst may be 1 to 10% by weight, more specifically 1 to 5 parts by weight, based on 100% by weight of the silicone compound. If the content is less than 1 part by weight, the reaction rate is slow and hardening is not performed properly. If the content exceeds 10 parts by weight, the Pot-Life may be deteriorated and mass production performance may be deteriorated.

일 구현예에서, 상기 조성물에서 상기 실리콘 화합물 및 대전방지제는 유기 용제에 분산된 것일 수 있다. 상기 유기용제는, 예를 들어 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소계 용제, 헥산, 헵탄, 옥탄, 이소옥탄, 데칸, 사이클로헥산, 메틸 사이클로헥산, 이소파라핀 등의 지방족 탄화수소계 용제, 공업용 가솔린(고무휘발유 등), 석유 벤젠, 솔벤트 나프타 등의 탄화수소계 용제, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 2-펜타논,3-펜타논,2-헥산온,2-헵타논,4-헵타논, 메틸 이소부틸 케톤, 디이소부틸케톤, 아세토닐아세톤, 사이클로헥사논 등의 케톤계 용제, 초산에틸, 초산 프로필, 초산 이소프로필, 초산 부틸, 초산 이소부틸 등의 에스테르계 용제, 디에틸에테르, 디프로필 에테르, 디이소프로필 에테르, 디부틸에테르, 1,2-디메톡시 에탄, 1,4-디옥산 등의 에테르계 용제, 2-메톡시에틸 아세테이트, 2-에톡시에틸 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노 메틸에테르 아세테이트, 2-부톡시에틸아세테이트 등의 에스테르와 에테르 부분을 가지는 용제, 헥사메틸디실록산, 옥타메틸트리실록산, 옥타메틸 사이클로테트라실록산, 데칸메틸 사이클로펜타실록산, 트리스(트리메틸실록시) 메틸실란, 테트라키스(트리메틸실록시) 실란 등의 실록산계 용제, 트리플루오로톨루엔, 헥사플루오로 크실렌, 메틸 노나플루오로부틸 에테르, 에틸 노나플루오로부틸 에테르 등의 불소계 용제, 또는 이들 중 하나 이상의 혼합 용제를 포함할 수 있다. 일 구현예로서 상기 유기 용제는 상기 실리콘 화합물 100 중량%에 대하여 200 내지 1500 중량%일 수 있다. 일 구현예에서, 상기 유기 용제는 톨루엔 및 헵탄의 혼합물일 수 있으며, 상기 혼합비율은 1:5 내지 1:15일 수 있다. 상기 유기 용제의 혼합비가 1:5 미만인 경우 코팅성이 좋지 않을 수 있고, 1: 15 초과인 경우, 도막 두께가 불균일할 수 있다.In one embodiment, in the composition, the silicone compound and the antistatic agent may be dispersed in an organic solvent. The organic solvents are, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, octane, isooctane, decane, cyclohexane, methyl cyclohexane, isoparaffin, and industrial gasoline ), hydrocarbon solvents such as petroleum benzene and solvent naphtha, acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 3-pentanone, 2-hexanone, 2-heptanone, 4-heptanone, methyl isobutyl ketone, di Ketone solvents such as isobutyl ketone, acetonyl acetone and cyclohexanone, ester solvents such as ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, and isobutyl acetate, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl Ether solvents such as ether, dibutyl ether, 1,2-dimethoxy ethane, and 1,4-dioxane, 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 2-part Solvents having esters and ether moieties such as oxyethyl acetate, hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, octamethyl cyclotetrasiloxane, decanemethyl cyclopentasiloxane, tris(trimethylsiloxy)methylsilane, tetrakis(trimethylsiloxy) ) Siloxane-based solvents such as silane, trifluorotoluene, hexafluoroxylene, methyl nonafluorobutyl ether, and fluorine-based solvents such as ethyl nonafluorobutyl ether, or a mixed solvent of at least one of them. As an embodiment, the organic solvent may be 200 to 1500% by weight based on 100% by weight of the silicone compound. In one embodiment, the organic solvent may be a mixture of toluene and heptane, and the mixing ratio may be 1:5 to 1:15. If the mixing ratio of the organic solvent is less than 1:5, coating properties may be poor, and if it is greater than 1:15, the coating film thickness may be non-uniform.

다른 구현예에 따르면, 본 발명은 상기 대전방지 이형성 조성물을 포함하는 이형 필름에 관한 것으로, 이하, 본 발명의 구현예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.According to another embodiment, the present invention relates to a release film comprising the antistatic releasable composition. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

첨부된 도 1은 본 발명의 예시적인 형태를 도시한 것이다. 도 1을 참조하여 설명하면, 일 구현예에 따른 이형 필름은 기재 필름층(100); 및 상기 기재 필름층(100) 상에 코팅된 실리콘 화합물(110)와 대전방지제(120) 혼합물이 포함된 이형성 조성물을 포함하는 실리콘 이형층(110+120)을 포함할 수 있다. 1 shows an exemplary form of the present invention. Referring to Figure 1, the release film according to an embodiment includes a base film layer 100; And a silicone release layer (110+120) comprising a release composition including a mixture of the silicone compound 110 and the antistatic agent 120 coated on the base film layer 100.

일 구현예로서 상기 이형층은 "이형층" 또는 "이형필름층"이라고도 하며, 이물로부터 상기 접착제 조성물층을 보호하기 위한 역할을 한다. 일 구현예로서, 상기 이형층이 포함하는 상기 이형성 조성물은 상술된 본 발명의 구현예들에 따른 대전방지 이형성 조성물을 포함할 수 있으며, 상기 이형 필름에 경화된 상태로 포함된 것일 수 있다. 일 구현예로서 상기 이형층의 두께는 0.01 내지 1㎛일 수 있다. 이형층의 두께가 0.01㎛ 미만일 경우 코팅층이 균일하지 않으며, 두께가 1㎛ 이상일 경우 블로킹 발생의 문제가 있다.In one embodiment, the release layer is also referred to as "release layer" or "release film layer", and serves to protect the adhesive composition layer from foreign matter. As an embodiment, the release composition included in the release layer may include the antistatic release composition according to embodiments of the present invention described above, and may be included in the release film in a cured state. As an embodiment, the thickness of the release layer may be 0.01 to 1㎛. When the thickness of the release layer is less than 0.01 μm, the coating layer is not uniform, and when the thickness is 1 μm or more, there is a problem of occurrence of blocking.

일 구현예로서, 상기 기재필름은 광학용 필름일 수 있으며, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분차폐성, 등방성 등에서 우수한 필름이라면 제한하지 않고 사용될 수 있다. 예를 들어, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리 에틸렌 나프탈레이트 또는 폴리 부틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스터 수지를 포함하는 시트 또는 필름일 수 있다. 상기 기재 필름은 실리콘 화합물과의 밀착성을 향상시키기 위해 코로나 또는 프라이머 처리가 된 것일 수 있다. 일 구현예에서 상기 기재필름층의 두께는 25 내지 250 μm일 수 있다. 상기 기재필름의 두께가 25㎛ 미만인 경우 스크래치 등의 외부 충격으로부터 손상의 위험이 있고, 250㎛ 초과인 경우 박리력이 낮아질 수 있다. 상기 기재필름은 이형층 또는 배면의 후가공을 위해 높은 표면장력이 요구된다. 예를 들어, 상기 기재필름의 표면장력은 40 내지 70 dyne/cm일 수 있고, 더욱 구체적으로는 45 내지 65 dyne/cm 일 수 있다. 상기 표면장력이 40 dyne/cm 미만이면, 이형필름과의 밀착성이 떨어질 수 있고, 70 dyne/cm 초과이면 상기 기재필름과 이형필름 사이에 뭉침 현상이 생길 수 있다.As an embodiment, the base film may be an optical film, and any film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding property, isotropic property, etc. may be used without limitation. For example, it may be a sheet or film comprising a polyester resin such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, or polybutylene terephthalate. The base film may be corona or primer treated to improve adhesion with the silicone compound. In one embodiment, the thickness of the base film layer may be 25 to 250 μm. If the thickness of the base film is less than 25 μm, there is a risk of damage from external impacts such as scratches, and if it exceeds 250 μm, peeling force may be lowered. The base film requires high surface tension for post-processing of the release layer or the back surface. For example, the surface tension of the base film may be 40 to 70 dyne/cm, more specifically 45 to 65 dyne/cm. If the surface tension is less than 40 dyne/cm, adhesion to the release film may be deteriorated, and if it exceeds 70 dyne/cm, agglomeration phenomenon may occur between the base film and the release film.

표면저항은 대전성능을 나타내는 지표로서, 일 구현예에서 상기 이형성 조성물을 포함하는 이형필름의 표면저항은 108 내지 1012Ω/cm2일 수 있다. 표면저항이 1012Ω/cm2 초과이면 대전성능이 없는 것으로 볼 수 있다.Surface resistance is an index indicating charging performance, and in one embodiment, the surface resistance of the release film including the releasable composition may be 10 8 to 10 12 Ω/cm 2 . If the surface resistance exceeds 10 12 Ω/cm 2, it can be seen that there is no charging performance.

이형 필름으로서의 기능과 관련하여, 일 구현예에서 상기 이형성 조성물을 포함하는 이형필름의 박리력은 TESA 7475 tape을 사용하여 FINAT test no10.의 방법으로 평가하였을 때 5 내지 200g/inch일 수 있다. 이는 이형성 조성물에 사용 된 실리콘 배합의 한계가 5 내지 200g이기 때문이다.With regard to the function as a release film, in one embodiment, the peeling force of the release film including the release composition may be 5 to 200 g/inch as evaluated by the method of FINAT test no10. using TESA 7475 tape. This is because the limit of the silicone formulation used in the releasable composition is 5 to 200 g.

일 구현예에서 상기 이형필름은 대전방지제로 상기 화학식 1의 이미다졸륨을 포함함으로써 실리콘 화합물에 대전방지제를 내첨화하기 전과 후의 투명도의 차이가 거의 없다. 상기 관점에서 상기 이형성 조성물을 포함하는 이형필름의 투명도는 기재 필름의 투명도에 따라 달라질 수 있으며, 예를 들어 3 내지 99%일 수 있다. 투명도가 3% 미만이면 블로킹이 발생할 수 있다.In one embodiment, the release film contains the imidazolium of Formula 1 as an antistatic agent, so that there is little difference in transparency before and after the antistatic agent is added to the silicone compound. From the above point of view, the transparency of the release film including the release composition may vary depending on the transparency of the base film, and may be, for example, 3 to 99%. If the transparency is less than 3%, blocking may occur.

일 구현예에서, 상기 이형필름은 기재필름 상에 상기 이형성 조성물을 도포 후, 건조 및 가열 처리하여 경화피막의 실리콘 이형층을 형성하는 단계에 의해 제조될 수 있다. 일 구현예로서 상기 도포는 바코트법,닥터 블레이드법,리버스롤코트법 또는 그라비어롤 코트법 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다. 또한, 이형필름의 건조 및 열경화 또는 자외선경화 등의 경화공정은 개별 또는 동시에 실시할 수 있다. 동시에 실시할 때에는 100℃ 이상에서 실시할 수 있다. 건조 및 열경화는 100℃ 이상에서 50초 이상의 시간 동안 할 수 있다. 건조온도 100℃ 미만 및 경화시간 50초 이하의 조건에서 실시할 경우는 이형성 조성물의 경화가 불완전하며, 내구성에 문제가 생길 수 있다. In one embodiment, the release film may be prepared by applying the release composition on a base film, followed by drying and heat treatment to form a silicone release layer of the cured film. As an embodiment, the coating may use a known method such as a bar coating method, a doctor blade method, a reverse roll coating method, or a gravure roll coating method. In addition, curing processes such as drying and thermal curing or ultraviolet curing of the release film may be performed individually or simultaneously. When it is carried out at the same time, it can be carried out at 100℃ or higher. Drying and heat curing may be performed at 100° C. or higher for 50 seconds or longer. If the drying temperature is less than 100°C and the curing time is less than 50 seconds, the curing of the releasable composition may be incomplete and a problem may occur in durability.

이하, 실시예, 비교예 및 시험예를 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들은 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이 실시예, 비교예 및 시험예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, Comparative Examples and Test Examples. These are only illustratively presented to explain the present invention in more detail, and that the scope of the present invention is not limited by these Examples, Comparative Examples, and Test Examples, for those of ordinary skill in the art. It will be self-evident.

[실시예 1][Example 1]

본 발명의 일 구현예에 따른 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다.A release film according to an embodiment of the present invention was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산 공중합체(제품명: KS-847H, 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여, 대전방지제로 화학식 1의 이미다졸륨(제품명: X-62-262K, 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 30 중량%, 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고, 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 10배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. Silicone compound and polydimethylsiloxane copolymer (product name: KS-847H, manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) with respect to 100% by weight, as an antistatic agent imidazolium (product name: X-62-262K, manufacturer: Shin-Etsu) Silicone Co., Ltd.) 30% by weight, 2% by weight of a curing agent containing platinum, and 2% by weight of a catalyst containing platinum are mixed, and prepared with an organic solvent in which toluene and methyl ethyl ketone are mixed in a weight ratio of 1:1. A releasable composition solution was prepared by preparing 10 times the diluent compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane.

기재필름으로 코로나 처리된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(평량 100g/m2)을 준비하고, 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1 g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. Prepare a corona-treated polyethylene terephthalate (PET) film (basis weight 100 g/m 2 ) with a base film, and apply 0.1 g/m 2 as a solid content on the base film using a bar coater with the prepared releasable composition solution Thereafter, a cured film (release layer) was formed by sufficiently heat treatment for 50 seconds at a temperature of 140° C. in a hot air circulation dryer. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[비교예 1][Comparative Example 1]

본 발명의 비교예로서 PEDOT-PSS공중합체를 대전방지제로 포함하는 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다.As a comparative example of the present invention, a release film containing a PEDOT-PSS copolymer as an antistatic agent was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체(제품명: KS-847H, 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여 대전방지제로 하기 화학식 3의 PEDOT-PSS 공중합체를 30 중량%, 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 10배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. A copolymer of a silicone compound and polydimethylsiloxane (product name: KS-847H, manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), based on 100% by weight of PEDOT-PSS copolymer of the following formula (3) as an antistatic agent, containing 30% by weight, platinum Prepared with an organic solvent in which 2% by weight of a curing agent and 2% by weight of a catalyst containing platinum are mixed, and toluene and methyl ethyl ketone are mixed in a weight ratio of 1:1, and the diluent is increased by 10 times compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane. Prepared to prepare a releasable composition solution.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112019006441100-pat00004
Figure 112019006441100-pat00004

기재필름으로 코로나 처리된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(평량 100g/m2)을 준비하고, 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. Prepare a corona-treated polyethylene terephthalate (PET) film (basis weight 100 g/m 2 ) with a base film, and apply 0.1 g/m 2 as a solid content on the base film using a bar coater with the prepared releasable composition solution Thereafter, a cured film (release layer) was formed by sufficiently heat treatment for 50 seconds at a temperature of 140° C. in a hot air circulation dryer. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[비교예 2][Comparative Example 2]

본 발명의 비교예로서 본 발명과 다른 화학식을 갖는 이미다졸륨을 대전방지제로 포함하는 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다.As a comparative example of the present invention, a release film containing imidazolium having a different formula from the present invention as an antistatic agent was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체(제품명: KS-847H, 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여 대전방지제로 하기 화학식 4의 이미다졸륨 30 중량% 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 10배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. Copolymer of silicone compound and polydimethylsiloxane (product name: KS-847H, manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) with respect to 100% by weight of a curing agent containing 30% by weight of imidazolium represented by the following formula 4 as an antistatic agent 2% by weight And 2% by weight of a catalyst containing platinum, and prepared with an organic solvent in which toluene and methyl ethyl ketone are mixed in a weight ratio of 1:1, and a diluent is prepared 10 times as compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane. The solution was prepared.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112019006441100-pat00005
Figure 112019006441100-pat00005

상기 식에서 R, R' 및 R"은 독립적으로 C1∼C15 의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, X-는 염을 형성할 수 있는 음이온이다.In the above formula, R, R'and R" are independently a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group, or a tertiary alkyl group, and X - is an anion capable of forming a salt.

기재필름으로 코로나 처리된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(평량 100g/m2)을 준비하고, 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. Prepare a corona-treated polyethylene terephthalate (PET) film (basis weight 100 g/m 2 ) with a base film, and apply 0.1 g/m 2 as a solid content on the base film using a bar coater with the prepared releasable composition solution Thereafter, a cured film (release layer) was formed by sufficiently heat treatment for 50 seconds at a temperature of 140° C. in a hot air circulation dryer. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[비교예 3][Comparative Example 3]

본 발명의 비교예로서 본 발명과 다른 화학식을 갖는 이미다졸륨을 대전방지제로 포함하는 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다.As a comparative example of the present invention, a release film containing imidazolium having a different formula from the present invention as an antistatic agent was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체(제품명: KS-847H 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여, 대전방지제로 하기 화학식 5의 이미다졸륨 30 중량%, 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고, 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 8배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. Copolymer of a silicone compound and polydimethylsiloxane (product name: KS-847H manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.), based on 100% by weight, 30% by weight of imidazolium represented by the following formula (5) as an antistatic agent, 2% by weight of a curing agent containing platinum % And 2% by weight of a catalyst containing platinum, and prepared with an organic solvent in which toluene and methyl ethyl ketone are mixed in a weight ratio of 1:1, and a diluent was prepared in an amount of 8 times compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane. A releasable composition solution was prepared.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112019006441100-pat00006
Figure 112019006441100-pat00006

상기 식에서 R, R' 및 R"은 독립적으로 C1 내지 C15 의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, X-는 염을 형성할 수 있는 음이온이다.In the above formula, R, R'and R" are independently a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group or a tertiary alkyl group, and X - is an anion capable of forming a salt.

기재필름으로 코로나 처리된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름(평량 100g/m2)을 준비하고, 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1 g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. Prepare a corona-treated polyethylene terephthalate (PET) film (basis weight 100 g/m 2 ) with a base film, and apply 0.1 g/m 2 as a solid content on the base film using a bar coater with the prepared releasable composition solution Thereafter, a cured film (release layer) was formed by sufficiently heat treatment for 50 seconds at a temperature of 140° C. in a hot air circulation dryer. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[비교예 4][Comparative Example 4]

본 발명의 비교예로서 대전방지제를 포함하지 않는 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다.As a comparative example of the present invention, a release film containing no antistatic agent was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산 공중합체(제품명: KS-847H 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여, 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고, 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 10배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. A silicone compound and a polydimethylsiloxane copolymer (product name: KS-847H manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) were mixed with 2% by weight of a curing agent containing platinum and 2% by weight of a catalyst containing platinum, and toluene And methyl ethyl ketone were prepared in an organic solvent mixed in a weight ratio of 1:1, and a diluent was prepared 10 times as compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane to prepare a releasable composition solution.

기재필름으로 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1 g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. After coating the prepared releasable composition solution as a base film as a solid content on the base film using a bar coater, 0.1 g/m 2 was applied to the base film, and then sufficiently heat-treated at a temperature of 140° C. for 50 seconds in a hot-air circulation drying device, Release layer) was formed. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[비교예 5][Comparative Example 5]

본 발명의 또 다른 비교예로서 대전방지제를 실리콘 이형층에 내첨화하지 않고, 실리콘 이형층과 대전방지층이 각각 적층 된 이형필름을 하기의 방법에 따라 제조하였다. As another comparative example of the present invention, a release film in which an antistatic agent was not internally added to a silicone release layer, and a silicone release layer and an antistatic layer were laminated, was prepared according to the following method.

실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산 공중합체(제품명: KS-847H, 제조사: 신에츠 실리콘(주)) 100 중량%에 대하여 백금을 포함하는 경화제 2중량% 및 백금을 포함하는 촉매 2중량%를 혼합하고, 톨루엔과 메틸에틸케톤이 1:1의 중량비로 혼합된 유기용제로 제조, 상기 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산의 공중합체 대비 희석제를 10배로 제조하여 이형성 조성물 용액을 제조하였다. A silicone compound and a polydimethylsiloxane copolymer (product name: KS-847H, manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) were mixed with 2% by weight of a curing agent containing platinum and 2% by weight of a catalyst containing platinum, and toluene And methyl ethyl ketone were prepared in an organic solvent mixed in a weight ratio of 1:1, and a diluent was prepared 10 times as compared to the copolymer of the silicone compound and polydimethylsiloxane to prepare a releasable composition solution.

기재필름으로는 대전방지제로 화학식 1의 이미다졸륨(제품명: X-62-262K, 제조사: 신에츠 실리콘(주))을 포함하는 대전방지제가 이미 적층된 기재를 사용하여 상기 제조한 이형성 조성물 용액을 바코터를 이용하여 상기 기재필름상에 고형분으로 0.1 g/m2 도포한 후, 열풍 순환식 건조장치에서 140℃ 온도에서 50 초간 충분히 가열처리하여 경화피막(이형층)을 형성시켰다. 이때 기 기재필름의 두께는 50μm, 이형층의 두께는 0.4μm였다. As the base film, the prepared releasable composition solution was prepared using a base material on which an antistatic agent including imidazolium of Formula 1 (product name: X-62-262K, manufacturer: Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) as an antistatic agent was already stacked. After coating 0.1 g/m 2 as a solid content on the base film using a bar coater, a cured film (release layer) was formed by sufficiently heat treatment at a temperature of 140° C. for 50 seconds in a hot air circulation dryer. At this time, the thickness of the base film was 50 μm, and the thickness of the release layer was 0.4 μm.

[시험예 1][Test Example 1]

상기 실시예 1 및 비교예 1 내지 5의 각 이형필름의 박리력, 투명도, 표면저항 및 항온항습을 하기의 방법으로 측정하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.Peeling force, transparency, surface resistance, and constant temperature and humidity of each release film of Example 1 and Comparative Examples 1 to 5 were measured by the following method, and the results are shown in Table 1.

박리력 평가Peel force evaluation

각 이형필름의 처리면에 TESA7475 tape(1 inch)를 접합시켜 2 kg 롤러로 1 왕복 압착하고, 25℃에서 20 시간 숙성시킨 후, 인장 시험기를 이용하여 180°의 각도로 박리 속도 0.3 m/분으로 접합시킨 종이를 인장, 박리하는 데 요구되는 힘(N)을 측정하였다. TEST 방법은 FINAT test method no.10을 사용하였다.TESA7475 tape (1 inch) is bonded to the treated surface of each release film, and compressed once with a 2 kg roller, aged at 25°C for 20 hours, and then peeled at an angle of 180° using a tensile tester of 0.3 m/min. The force (N) required to pull and peel the bonded paper was measured. FINAT test method no.10 was used as the test method.

투명도 측정Transparency measurement

투명도는 UV 포토메터(Simazu Co.)를 이용하여 가시광선(550nm) 영역에서 측정하였다.Transparency was measured in the visible light (550nm) region using a UV photometer (Simazu Co.).

표면저항(대전방지성) 측정Surface resistance (antistatic property) measurement

ASTM D257 측정방법에 의거하여 55% RH, 23℃, 인가전압 500V의 조건으로 측정하였다. According to the ASTM D257 measurement method, it was measured under conditions of 55% RH, 23°C, and an applied voltage of 500V.

경화도 측정Hardness measurement

실리콘 장갑을 낀 상태에서 한 방향으로 10회 정도 일정한 힘을 가하여 문질러 준다. 1~3회만에 코팅층이 뿌옇게 변하면 경화가 덜된 것(나쁨)으로, 10회 정도 문질러도 변화가 없는 경우 경화가 잘된 것(양호)으로, 상기 나쁨과 양호 사이를 보통으로 나타내었다.While wearing silicone gloves, rub with constant force 10 times in one direction. If the coating layer became cloudy after 1 to 3 times, the curing was less (bad), and if there was no change even after rubbing about 10 times, the curing was well (good), and the difference between the bad and the good was usually indicated.

밀착성 측정Adhesion measurement

실리콘 장갑을 낀 상태에서 한 방향으로 10회 정도 일정한 힘을 가하여 문질러 준다. 그 안에 코팅층이 벗겨지면 밀착성이 나쁜 것(나쁨)으로, 10회 이상 문질러도 코팅층이 벗겨지지 않으면 밀착성이 좋은 것(양호)으로, 상기 나쁨과 양호 사이를 보통으로 나타내었다.While wearing silicone gloves, rub with constant force 10 times in one direction. If the coating layer is peeled therein, the adhesion is poor (bad), and if the coating layer does not come off even after rubbing 10 times or more, the adhesion is good (good), and the above-mentioned poor and good are indicated as normal.

아크릴 테이프 박리력 (g/inch)Acrylic tape peeling force (g/inch) 표면저항(Ω/cm2)Surface resistance (Ω/cm 2 ) 투명도(%)transparency(%) 경화도Hardness 밀착성Adhesion 실시예 1Example 1 15~1715~17 10E9~1010E9~10 9393 양호Good 양호Good 비교예 1Comparative Example 1 70~8070~80 Spec outSpec out 6464 나쁨Bad 나쁨Bad 비교예 2Comparative Example 2 38~5338~53 Spec outSpec out 9292 보통usually 보통usually 비교예 3Comparative Example 3 20~2220~22 Spec outSpec out 9393 보통usually 보통usually 비교예 4Comparative Example 4 14~1614~16 NoneNone 9393 양호Good 양호Good 비교예 5Comparative Example 5 15~1715~17 10E9~1010E9~10 9393 양호Good 양호Good

위의 결과에서 본 발명의 일 구현예인 실시예 1이 대전방지제를 포함하지 않는 비교예 4와 동일한 박리력을 갖는 것으로 나타나, 양호한 표면 저항성을 가지면서도 기존 실리콘 화합물을 포함하는 이형필름의 높은 박리력을 유지고 있음을 알 수 있다. From the above results, it was found that Example 1, which is an embodiment of the present invention, has the same peeling force as Comparative Example 4, which does not contain an antistatic agent, and has good surface resistance and high peeling force of the release film containing the existing silicone compound. It can be seen that it is maintained.

또한, 실시예 1은 높은 표면저항값을 나타낸데 반해, 다른 화합물을 대전방지제로 내첨화한 비교예 2 내지 4는 표면저항값이 기준치를 초과하여 대전방지능이 없어 대전방지제로서 적합하지 않으며, 다른 화학식을 갖는 이미다졸륨을 대전방지제로 내첨화한 비교예 3 및 4도 실시예 1보다 경화도 및 밀착성이 낮아 코팅성이 떨어지는 것으로 나타났다. 또한, 실시예 1은 화학식 1의 이미다졸륨을 대전방지제로 실리콘 화합물에 내첨화시킴으로써, PEDOT-PSS 공중합체를를 실리콘 화합물에 내첨화한 필름보다 투명도를 약 30% 이상 현저히 개선시킨 것으로 확인되었다.In addition, while Example 1 exhibited a high surface resistance value, Comparative Examples 2 to 4 in which other compounds were internalized as an antistatic agent had a surface resistance value exceeding the reference value and thus did not have an antistatic ability, and thus were not suitable as an antistatic agent. Comparative Examples 3 and 4 in which imidazolium having a chemical formula was internalized as an antistatic agent were also found to have lower curing degree and adhesion than Example 1, resulting in poor coating properties. In addition, Example 1 was confirmed to significantly improve the transparency of about 30% or more than the film in which the PEDOT-PSS copolymer was internalized with the silicone compound by internalizing the imidazolium of Formula 1 to the silicone compound as an antistatic agent.

실시예 1과 달리 화학식 1의 이미다졸륨을 내첨화하지 않고 별도 대전방지층으로 적층한 비교예 4의 경우에는 실시예 1과 유사한 표면저항성은 나타내었으나, 비교예 4는 공정상 추가적인 코팅(또는 적층) 공정이 더 요구되므로 여러 공정을 거치면서 제품이 오염될 확률이 더 높아 최종 제품의 성능에 저하가 있을 수 있는데 반해, 본 발명의 경우 공정이 보다 단순화된다는 이점 뿐만 아니라 단순화된 공정을 통해 공정과정에서 발생할 수 있는 성능 저하요인도 줄여줄 수 있다는 이점을 갖는다.Unlike Example 1, in the case of Comparative Example 4 in which imidazolium of Formula 1 was not internalized and laminated as a separate antistatic layer, the surface resistance similar to Example 1 was shown, but Comparative Example 4 was an additional coating (or laminated layer) in the process. ) Since the process is more required, there is a higher probability that the product will be contaminated through several processes, and thus the performance of the final product may be deteriorated. It has the advantage that it can reduce the factors of performance degradation that may occur in the system.

[시험예 2][Test Example 2]

본 발명의 일 구현예에서 실리콘 화합물 및 폴리디메틸실록산 공중합체와 대전방지제의 배합비에 따른 표면 저항, 경화도 및 및착성을 비교 평가하였다. 이때 이형필름은 상기 실시예 1과 상기 배합비만을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하였으며, 하기 각 항목의 평가방법은 시험예 1에 기재된 것과 동일하다. In one embodiment of the present invention, surface resistance, curing degree, and adhesion were compared and evaluated according to the mixing ratio of the silicone compound and the polydimethylsiloxane copolymer and the antistatic agent. At this time, the release film was prepared in the same manner as in Example 1 except for the blending ratio, and the evaluation method of each of the following items was the same as described in Test Example 1.

구분division 실리콘 화합물
(중량%)
Silicone compound
(weight%)
대전방지제(중량%)Antistatic agent (% by weight) 표면저항(Ω/cm2)Surface resistance (Ω/cm 2 ) 경화도Hardness 밀착성Adhesion
실시예 2Example 2 100100 22 10E12↑10E12↑ 양호Good 양호Good 실시예 3Example 3 100100 33 10E11.810E11.8 양호Good 양호Good 실시예 4Example 4 100100 55 10E11.010E11.0 양호Good 양호Good 실시예 5Example 5 100100 1010 10E10.410E10.4 양호Good 양호Good 실시예 6Example 6 100100 2020 10E9.110E9.1 양호Good 양호Good 실시예 1Example 1 100100 3030 10E9~1010E9~10 양호Good 양호Good 실시예 7Example 7 100100 4040 10E9.210E9.2 보통usually 보통usually 실시예 8Example 8 100100 4545 10E9.110E9.1 나쁨Bad 나쁨Bad

그 결과, 실리콘 화합물 100중량%에 대하여 대전방지제가 40중량%를 초과하는 경우 경화도와 밀착성이 나쁨으로 나타났으며, 대전방지제가 3중량% 미만으로 포함될 경우 표면저항이 1012Ω/cm2를 초과하여, 대전방지성능이 없는 것으로 나타났다.As a result, when the antistatic agent exceeds 40% by weight with respect to 100% by weight of the silicone compound, the hardening and adhesion were poor, and when the antistatic agent was included in less than 3% by weight, the surface resistance was 10 12 Ω/cm 2 In excess, it was found that there was no antistatic performance.

110: 실리콘 화합물
120: 대전 방지제
100: 기재 필름층
110: silicone compound
120: antistatic agent
100: base film layer

Claims (13)

실리콘 화합물; 및 대전 방지제의 혼합물을 포함하고,
상기 대전 방지제는 양이온과 음이온이 결합된 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하고,
상기 대전방지제는 실리콘 화합물 100 중량%에 대하여 20 내지 40 중량%로 포함되는 것이며,
유기용매로 톨루엔과 메틸에틸케톤의 혼합물을 포함하는, 대전방지 이형성 조성물:
[화학식 1]
Figure 112020124192173-pat00010

상기 식에서 R은 독립적으로 C1 내지 C15 의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, X- 는 염을 형성할 수 있는 음이온이다.
Silicone compounds; And a mixture of antistatic agents,
The antistatic agent includes a compound represented by the following formula 1 in which a cation and an anion are combined,
The antistatic agent is included in 20 to 40% by weight based on 100% by weight of the silicone compound,
Antistatic releasable composition comprising a mixture of toluene and methyl ethyl ketone as an organic solvent:
[Formula 1]
Figure 112020124192173-pat00010

In the above formula, R is independently a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group, or a tertiary alkyl group, and X - is an anion capable of forming a salt.
제1항에 있어서, 상기 실리콘 화합물은 조성물 총 중량에 대하여 3 내지 30 중량%로 포함되는, 대전방지 이형성 조성물.The antistatic releasable composition of claim 1, wherein the silicone compound is contained in an amount of 3 to 30% by weight based on the total weight of the composition. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 실리콘 화합물은 하기 화학식 2로 표시되는 반복구조를 포함하는 화합물인, 대전방지 이형성 조성물:
[화학식 2]
Figure 112019006441100-pat00008

상기 식에서 R'은 C1 내지 C15의 1차 알킬기, 2차 알킬기 또는 3차 알킬기이고, n은 1 이상의 정수이다.
The antistatic releasable composition of claim 1, wherein the silicone compound is a compound comprising a repeating structure represented by the following formula (2):
[Formula 2]
Figure 112019006441100-pat00008

In the above formula, R'is a C 1 to C 15 primary alkyl group, a secondary alkyl group, or a tertiary alkyl group, and n is an integer of 1 or more.
제5항에 있어서, 상기 실리콘 화합물은 상기 화학식 2로 표시되는 반복구조를 포함하는 화합물과 폴리디메틸실록산의 공중합체를 포함하는, 대전방지 이형성 조성물.The antistatic releasable composition according to claim 5, wherein the silicone compound comprises a copolymer of polydimethylsiloxane and a compound having a repeating structure represented by Formula 2 above. 기재 필름층; 및
상기 기재 필름층상에 코팅된, 제1항, 제2항, 제5항 및 제6항 중 어느 한 항의 대전방지 이형성 조성물을 포함하는 실리콘 이형층;
을 포함하는 이형필름.
Base film layer; And
A silicone release layer comprising the antistatic release composition of any one of claims 1, 2, 5 and 6 coated on the base film layer;
Release film comprising a.
제7항에 있어서, 상기 기재 필름층은 폴리에스터 수지를 포함하는, 이형필름.The release film according to claim 7, wherein the base film layer comprises a polyester resin. 제7항에 있어서, 상기 실리콘 이형층의 두께는 0.01 내지 1㎛인, 이형필름.The release film according to claim 7, wherein the thickness of the silicon release layer is 0.01 to 1 µm. 제7항에 있어서, 상기 기재 필름층의 두께는 25 내지 250 ㎛인, 이형필름.The release film according to claim 7, wherein the thickness of the base film layer is 25 to 250 µm. 제7항에 있어서, 상기 이형필름의 표면저항은 108 내지 1012 Ω/cm2인, 이형 필름.The release film of claim 7, wherein the release film has a surface resistance of 10 8 to 10 12 Ω/cm 2 . 제7항에 있어서, 상기 이형필름의 박리력은 5 내지 200 g/inch인, 이형필름.The release film according to claim 7, wherein the release film has a peel force of 5 to 200 g/inch. 제7항에 있어서, 상기 이형필름의 투명도는 3 내지 99%인, 이형필름.The release film according to claim 7, wherein the release film has a transparency of 3 to 99%.
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