KR102177543B1 - Apparatus for producing ultra-pure water production - Google Patents
Apparatus for producing ultra-pure water production Download PDFInfo
- Publication number
- KR102177543B1 KR102177543B1 KR1020140055627A KR20140055627A KR102177543B1 KR 102177543 B1 KR102177543 B1 KR 102177543B1 KR 1020140055627 A KR1020140055627 A KR 1020140055627A KR 20140055627 A KR20140055627 A KR 20140055627A KR 102177543 B1 KR102177543 B1 KR 102177543B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- module
- ultrapure water
- pure water
- information
- purity
- Prior art date
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 96
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 23
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 claims description 9
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 8
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 3
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/008—Control or steering systems not provided for elsewhere in subclass C02F
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/44—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
- C02F1/441—Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis by reverse osmosis
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
- C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/20—Total organic carbon [TOC]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/04—Flow arrangements
- C02F2301/046—Recirculation with an external loop
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
본 발명은, 초순수 제조 과정 중 초순수의 농도가 설정치 이하가 되는 경우, 사용자가 초순수 제조 장치의 설정을 제어하여 자체적으로 여과 순환시켜 초순수의 농도를 적정치로 유지시킬 수 있는 효과가 있다.In the present invention, when the concentration of ultrapure water is less than or equal to a set value during the ultrapure water production process, the user can control the setting of the ultrapure water production device and circulate by itself to maintain the concentration of ultrapure water at an appropriate value.
Description
본 발명은 초순수 제조 시스템에 관한 것으로, 보다 상세하게는 초순수의 생성 과정에서 초순수의 순도가 설정치 이하로 떨어지는 경우 내부 여과 순환을 통해 적정 순도로 유지하고, 순수와 초순수를 용도에 따라 적절하게 사용할 수 있는 초순수 제조 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an ultrapure water production system, and more particularly, when the purity of ultrapure water falls below a set value during the production of ultrapure water, it is maintained at an appropriate purity through internal filtration circulation, and pure water and ultrapure water can be appropriately used according to the purpose. It relates to a device for producing ultrapure water.
반도체소자는 패턴(Pattern)의 미세화와 고집적화가 되어감에 따라 공정 중에 발생하는 불순 파티클이나 각종 오염물에 의한 미세오염으로 제품수율이나 신뢰성에 상당한 영향을 받게 된다. 이에 대부분의 반도체 소자를 제조하기 위한 공정진행 전후에는 웨이퍼를 매우 청결한 상태로 세정하는 세정공정을 진행하게 되며, 이러한 세정 공정에서 주로 사용되는 것이 바로 초순수이다. 더욱이, 이러한 초순수는 화학, 바이오, 제약 등의 제조 공정상에서도 광범위하게 이용되고 있다.As semiconductor devices become finer and more highly integrated, product yield and reliability are significantly affected by micro-contamination caused by impurity particles or various contaminants generated during the process. Therefore, before and after the process for manufacturing most semiconductor devices, a cleaning process is performed to clean the wafer in a very clean state, and ultrapure water is mainly used in this cleaning process. Moreover, such ultrapure water is widely used in manufacturing processes such as chemical, bio, and pharmaceutical.
종래에 일반적으로 사용되는 초순수 제조 장치에서는 초순수 제조 과정에서 초순수의 농도가 설정치 이하인 경우, 이를 발견한 사용자가 초순수 제조 장치의 설정을 제어하여 자체적으로 여과 순환을 시킬 수 있는 기능이 부재한 문제점이 있었다.In the conventional ultrapure water production device, when the concentration of ultrapure water is less than the set value in the ultrapure water production process, there is a problem in that the user who finds it does not have the ability to self-circulate filtration by controlling the setting of the ultrapure water production device. .
또한, 오로지 초순수의 생성에 치우쳐서 용도에 맞게 순수와 초순수를 각기선택적으로 이용하는 것이 용이하지 못한 문제점이 있었다.In addition, there is a problem in that it is not easy to selectively use pure and ultrapure water according to the purpose because it is only biased toward the generation of ultrapure water.
따라서, 사용자가 용이하게 초순수의 순도를 관리하고 사용 목적에 알맞게 초순수와 순수를 사용하기 어려운 단점을 가진다.Therefore, it is difficult for a user to easily manage the purity of ultrapure water and to use ultrapure water and pure water suitable for the purpose of use.
본 발명은, 초순수의 생성 과정에서 초순수의 순도가 설정치 이하로 떨어지는 경우 내부 여과 순환을 통해 적정 순도로 유지하고, 순수와 초순수를 용도에 따라 적절하게 사용할 수 있는 초순수 제조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide an ultrapure water production apparatus capable of appropriately using pure water and ultrapure water according to a purpose, while maintaining an appropriate purity through internal filtration circulation when the purity of ultrapure water falls below a set value in the process of producing ultrapure water. do.
본 발명은, 초순수 제조 장치에 있어서, 공급된 원수를 여과하여 입자를 제거하는 1차 필터와, 상기 1차 필터에서 여과된 여과 원수의 불순물을 여과하여 순수를 생성하는 역삼투압 필터와, 상기 순수의 전도도를 감지하여 제 1 순도 정보를 생성하는 제 1 순도 정보 생성부를 포함하는 순수 생성 모듈과, 상기 생성된 순수를 공급받아 저장하는 저장 탱크 모듈과, 상기 저장 탱크 모듈 내의 순수를 순수 공급펌프로 공급받아 살균하는 살균부와, 상기 살균된 순수의 불순물을 여과하여 초순수를 생성하는 2차 필터와, 상기 2차 필터에서 여과된 초순수의 저항을 감지하여 제 2 순도 정보를 생성하는 제 2 순도 정보 생성부를 포함하는 초순수 생성 모듈과, 사용자의 입력 정보를 입력받는 메인 입력부와, 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하는 메인 디스플레이부를 구비하는 메인 입출력 모듈과, 상기 제 1 순도 정보 및 상기 제 2 순도 정보를 기반으로, 상기 메인 디스플레이부에 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하며, 상기 메인 입력부로부터 입력받은 입력 정보에 기반하여 상기 초순수 생성장치를 제어하는 제어 모듈과, 상기 초순수를 외부로 토출하는 로컬 디스펜서 모듈과, 상기 로컬 디스펜서 모듈로부터 상기 초순수를 상기 순수 공급 펌프와 상기 저장 탱크 모듈 사이로 재순환시키는 재순환 라인과, 상기 재순환된 상기 초순수가 상기 저장 탱크 모듈로 역류되는 것을 방지하기 위하여 설치되는 체크 밸브 및 상기 재순환 라인 상에 설치되어, 상기 재순환되는 초순수의 압력을 감소시크는 감압밸브를 포함하되, 상기 제어 모듈은, 상기 초순수의 상기 제 2 순도 정보에 포함된 순도치가 기 설정된 수준의 이하가 되면, 상기 순도치가 기 설정된 수준에 도달할 때까지 상기 로컬 디스펜서 모듈의 초순수를 재순환시키는 초순수 제조 장치를 제공한다.The present invention provides an apparatus for producing ultrapure water, comprising: a primary filter for removing particles by filtering supplied raw water; a reverse osmosis filter for generating pure water by filtering impurities of the filtered raw water filtered by the primary filter; and A pure water generation module including a first purity information generation unit that detects the conductivity of and generates first purity information, a storage tank module receiving and storing the generated pure water, and pure water in the storage tank module to a pure water supply pump. A sterilization unit that receives and sterilizes it, a secondary filter that generates ultrapure water by filtering impurities of the sterilized pure water, and second purity information that generates second purity information by sensing resistance of the ultrapure water filtered by the secondary filter A main input/output module including an ultrapure water generation module including a generation unit, a main input unit receiving user input information, a main display unit displaying information on the ultrapure water generation module, the first purity information and the second purity information Based on, a control module that displays information of the ultrapure water generation module on the main display unit, controls the ultrapure water generation device based on input information received from the main input unit, and a local dispenser that discharges the ultrapure water to the outside. A module, a recirculation line for recirculating the ultrapure water from the local dispenser module between the pure water supply pump and the storage tank module, a check valve installed to prevent the recirculated ultrapure water from flowing back to the storage tank module, and the A pressure reducing valve installed on the recirculation line to reduce the pressure of the recirculated ultrapure water, wherein the control module includes, when the purity value included in the second purity information of the ultrapure water is below a preset level, the It provides an ultrapure water production apparatus for recirculating the ultrapure water of the local dispenser module until the purity level reaches a preset level.
본 발명에 따른 초순수 제조 장치는 다음과 같은 효과를 가진다.The ultrapure water production apparatus according to the present invention has the following effects.
첫째, 초순수 제조 과정 중 초순수의 농도가 설정치 이하가 되는 경우, 사용자가 초순수 제조 장치의 설정을 제어하여 자체적으로 여과 순환시켜 초순수의 농도를 적정치로 유지시킬 수 있다.First, when the concentration of ultrapure water becomes less than the set value during the ultrapure water production process, the user can control the setting of the ultrapure water production apparatus and circulate by itself to maintain the concentration of ultrapure water at an appropriate value.
둘째, 사용자가 용이하게 순수와 초순수를 각기 용도에 따라 사용할 수 있다.Second, users can easily use pure and ultrapure water according to their intended use.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 초순수 제조 장치의 구성들을 개략적으로 나타낸 구성도이다.
도 2는 도 1에 도시된 초순수 제조 장치의 개략적인 사시도이다.
도 3은 도 1에 도시된 초순수 제조 장치의 구성들 중 메인 입출력 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.1 is a block diagram schematically showing the configurations of an ultrapure water production apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a schematic perspective view of the ultrapure water manufacturing apparatus shown in FIG. 1.
3 is a diagram schematically illustrating a main input/output module among the configurations of the ultrapure water manufacturing apparatus shown in FIG. 1.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 순수 생성 모듈(110)은, 공급된 원수를 여과하여 입자를 제거하는 1차 필터(111)와, 상기 1차 필터(111) 에서 여과된 여과 원수의 불순물을 가압 및 여과하여 순수를 생성하는 역삼투압 필터(112)와, 상기 순수의 상태 정보를 감지하여 제 1 순도 정보를 생성하는 제 1 순도 정보 생성부(113)를 포함한다.1 to 3, the pure
상기 1차 필터(111)는 인입 밸브(114)를 거쳐 원수 공급원으로부터 공급되는 원수에 함유된 고입자를 여과시키는 역할을 하며, 고입자가 제거된 여과 원수는 여과 원수 가압 펌프(115)에 의하여 상기 역삼투압 필터(112)로 공급된다. 여기서 여과 원수 가압 펌프(115)는 역삼투압 필터(112)에서 여과가 원활하게 이루어지는데 필요한 압력을 제공한다.The
상기 순수의 순도를 측정할 경우 전기 전도도 측정 방식을 사용하여 이물질의 함유를 파악하는 방식이 사용될 수 있다. 그러나, 순도를 측정하는 방식에 있어서, 통상의 기술자라면 전기 전도도 측정방식에 한정되지 않고 여러 가지 다양한 방식들이 사용가능함은 충분히 알 수 있을 것이다. 또한, 상기 제 1 순수 정보 생성부는 상기 순수의 산도를 측정하기 위하여 PH센서(미도시)를 포함한다.When measuring the purity of the pure water, a method of determining the content of foreign substances using an electrical conductivity measurement method may be used. However, in the method of measuring purity, those of ordinary skill in the art are not limited to the method of measuring electrical conductivity, and it will be sufficiently appreciated that various methods can be used. In addition, the first pure water information generation unit includes a PH sensor (not shown) to measure the acidity of the pure water.
상기 역삼투압 필터(112) 에는 필요한 경우 언제든지 상기 순수를 배출시키기 위하여 드레인 밸브(116)(Drain valve)가 구비된다. 후술하는 저장 탱크 모듈(120)에도 드레인 밸브(124) 가 구비된다. 상기 제 1 순도 정보 생성부(113)와 후술하는 저장 탱크 모듈(120) 사이에는 3로 밸브(117)가 구비되어, 상기 제 1 순도 정보 생성부(113)의 순도가 기준치 이하인 경우 이를 드레인 할 수 있다.The
상기 저장 탱크 모듈(120)은 상기 생성된 순수를 공급받아 내부에 저장하고 필요량만큼 사용할 수 있다. 이러한 저장 탱크 모듈(120) 에는 내부에 저장된 순수의 수위를 감지하기 위하여 수위 자동 감지 센서(미도시)가 구비될 수 있다. The
상기 저장 탱크 모듈(120)에는 외부로부터 유입되는 공기에 함유된 오염물질을 여과하는 에어벤트 필터(Air vent filter)(미도시)가 구비됨으로써 내부에 저장된 상기 순수가 오염되는 것을 방지할 수 있다. 그리고 상기 순수를 외부로 토출하여 사용하기 위한 토출구(121)가 형성되며, 상기 순수의 드레인을 위한 드레인 밸브(124)가 구비된다.The
초순수 생성 모듈(130)은 상기 저장 탱크 모듈(120) 내의 순수를 순수 가압 펌프(123) 로 공급받아 상기 순수를 살균시키는 살균부(131)와, 상기 살균된 순수의 불순물을 여과하여 초순수를 생성하는 2차 필터(132) 와, 상기 2차 필터(132)에서 여과된 초순수의 저항을 감지하여 제 2 순도정보를 생성하는 제 2 순도 정보 생성부(133)를 포함한다.The ultrapure
상기 살균부(131)는 UV 램프(Lamp)를 사용하여 상기 순수에 대하여 자외선 살균처리를 한다. 다만, 살균처리를 위해서는 상기 자외선 살균에 한정되지 않을 것이다. 상기 살균부(131)와 상기 저장 탱크 모듈(120) 사이에는 후술하는 체크 밸브(122)(Check valve)가 구비되어 순수 또는 후술하는 초순수가 다시 상기 저장 탱크 모듈(120)로 역류하는 것을 방지할 수 있다.The
상기 2 차 필터는 상기 살균부(131)를 거친 순수에 잔류하는 분순물을 제거하여 상기 순수를 초순수로 여과시키며, 상기 제 2 순도 정보 생성부(133)는 상기 초순수에 대하여 저항을 감지함으로써 제 2 순도 정보를 생성한다. 이러한 제 2 순도 정보 생성부는 전술한 제 1 순도 정보 생성부와 마찬가지로 PH센서가 구비되어 초순수의 산도측정이 가능하다.The secondary filter removes impurities remaining in the pure water that has passed through the
상기 제 2 순도 정보 생성부(133)는 총유기탄소량(TOC, Total organc carbon)을 측정하는 TOC 센서를 포함하여 상기 제 2 순도 정보에 포함된 총유기탄소량 농도를 기준으로 순도치를 측정하게 된다. 하지만, 상기 순도치는 총유기탄소량에 한정되지 않고, 다양한 수질 평가 지표가 하나 또는 복수개 조합되어 순도치로 이용될 수도 있다.The second purity
상기 2 차 필터에서 여과되어 생성된 초순수는 로컬 디스펜서 모듈(140)에 의해 외부로 토출된다. 그리고, 이러한 로컬 디스펜서 모듈(140)에는 금속 성분 필터링 기능이 구비되어 상기 초순수에 존재할 수 있는 금속 성분을 여과 시킨다.The ultrapure water generated by filtering in the secondary filter is discharged to the outside by the
메인 입출력 모듈(160)은 사용자의 입력 정보를 입력받는 메인 입력부(162)와, 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하는 메인 디스플레이부(161)를 포함한다. 상기 메인 디스플레이부(161)는 본원 발명인 초순수 제조 장치와 관련된 정보를 화면상에 디스플레이함으로써 사용자가 현재 순수와, 초순수 등과 관련된 정보(예: 순수, 초순수의 순도치 정보, 저장 탱크 모듈의 수위 정보, 순수 및 초순수의 PH 농도 정보, 온도 정보 등)를 한눈에 파악할 수 있게 해준다.The main input/
상기 메인 디스플레이부(161)는 디스플레이 화면 상에 상기 순수와, 초순수 등에 관련된 정보를 수치, 그래프 등으로 출력할 수 있다. 또한 상기 메인 입출력 모듈을 제어하기 위한 기능 메뉴(예: 밝기, 폰트 등)도 출력한다. The
제어 모듈(미도시)은 상기 제 1 순도 정보 및 상기 제 2 순도 정보를 기반으로, 상기 메인 디스플레이부(161)에 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하며, 상기 메인 입력부(162)로부터 입력받은 입력 정보에 기반하여 상기 초순수 제조 장치를 제어한다.A control module (not shown) displays the information of the ultrapure water generation module on the
상기 메인 입력부(162)는 사용자가 상기 메인 디스플레이부(161)에서 출력되는 항목들을 토대로 상기 초순수 제조 장치에 대한 제어를 위한 제어 명령(예: 상기 초순수의 순도가 기준치 이하인 경우 재순환 라인(150)으로의 초순수 재순환 등)을 입력할 수 있게 해준다.The
상기 메인 디스플레이부(161)에 디스플레이된 정보에서 순수 또는 초순수의 순도가 기준치를 만족하지 못하는 것으로 표시되는 경우, 사용자는 상기 메인 입력부(162)를 통해 상기 드레인 밸브(124)를 개폐하여 상기 순수를 외부로 드레인 시킨다. 상기 초순수의 경우 전술한 것처럼 기준치를 만족하는 순도를 얻기 위해서 재순환 라인(150)으로 상기 초순수를 재순환 시킨다.When the information displayed on the
상기 순수 생성 모듈(110)과, 상기 초순수 생성 모듈(130) 및 상기 제어 모듈은 소정의 메인 하우징(118) 내부에 배치된다. 그리고, 상기 저장 탱크 모듈(120) 및 로컬 디스펜서 모듈은 상기 메인 하우징(118)의 외부에 별도로 배치된다.The pure
로컬 입출력 모듈(170)은 사용자의 입력 정보를 입력받는 로컬 입력부와(미도시), 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하는 로컬 디스플레이부(미도시)가 구비고, 상기 메인 입출력 모듈(160)과 연동되어, 상기 메인 입출력 모듈(160)과 동일하게 작동된다. The local input/
상기 로컬 입출력 모듈(170)은 상기 메인 입출력 모듈(160)과 연동되어 동일한 기능을 수행할 수 있으므로, 사용자는 상기 메인 입출력 모듈(160)과 상기 로컬 입출력 모듈(170) 양쪽 중 어느 곳에서든지 상기 메인 입출력 모듈(160)이 제공하는 기능을 사용할 수 있는 것이다. 상기 로컬 디스펜서 모듈(140)과 상기 로컬 입출력 모듈(170)은 소정의 로컬 하우징(141) 에 장착되어 구비된다.Since the local input/
상기 재순환 라인(150)은 상기 로컬 디스펜서 모듈(140)로부터 상기 초순수를 상기 순수 가압 펌프(123)와 상기 저장 탱크 모듈(120) 사이로 재순환시킨다. 이러한 재순환 라인(150) 에는 재순환된 상기 초순수가 상기 저장 탱크 모듈(120)로 역류되는 것을 방지하기 위하여 체크 밸브(122)가 구비된다. 또한, 상기 재순환 라인(150) 상에는 상기 초순수의 재순환을 위해 상기 초순수의 압력을 감소시키는 감압 밸브(151)가 구비된다.The
전술한 상기 제어부는 상기 초순수의 상기 제 2 순도 정보에 포함된 상기 순도치가 기 설정된 수준 이하가 되면, 상기 순도치가 기 설정 수준에 도달할 때가지 상기 로컬 디스펜서 모듈(140)의 초순수를 상기 재순환 라인(150)을 통해 재순환 시킨다.
When the purity value included in the second purity information of the ultrapure water falls below a preset level, the control unit supplies the ultrapure water of the
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.
The present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but these are merely exemplary, and those of ordinary skill in the art will appreciate that various modifications and equivalent other embodiments are possible therefrom. Therefore, the true technical scope of the present invention should be determined by the technical spirit of the appended claims.
110 : 순수 생성 모듈 111 : 1차 필터
112 : 역삼투압 필터 113 : 제 1 순도 정보 생성부
114 : 인입 밸브 115 : 여과 원수 가압 펌프
116 : 드레인 밸브 117 : 3로 밸브
118 : 메인 하우징 120 : 저장 탱크 모듈
121 : 토출구 122 : 체크 밸브
123 : 순수 가압 펌프 124 : 드레인 밸브
130 : 초순수 생성 모듈 131 : 살균부
132 : 2차 필터 133 : 제 2 순도 정보 생성부
140 : 로컬 디스펜서 모듈 141 : 로컬 하우징
150 : 재순환 라인 151 : 감압 밸브
160 : 메인 입출력 모듈 161 : 메인 디스플레이부
162 : 메입 입력부 170 : 로컬 입출력 모듈 110: pure water generation module 111: first filter
112: reverse osmosis filter 113: first purity information generation unit
114: inlet valve 115: filtered raw water pressure pump
116: drain valve 117: 3 low valve
118: main housing 120: storage tank module
121: discharge port 122: check valve
123: pure water pressure pump 124: drain valve
130: ultrapure water generation module 131: sterilization unit
132: second filter 133: second purity information generation unit
140: local dispenser module 141: local housing
150: recirculation line 151: pressure reducing valve
160: main input/output module 161: main display unit
162: plug input unit 170: local input/output module
Claims (4)
공급된 원수를 여과하여 입자를 제거하는 1차 필터와, 상기 1차 필터에서 여과된 여과 원수의 불순물을 여과하여 순수를 생성하는 역삼투압 필터와, 상기 순수의 전도도를 감지하여 제 1 순도 정보를 생성하는 제 1 순도 정보 생성부를 포함하는 순수 생성 모듈;
상기 생성된 순수를 공급받아 저장하는 저장 탱크 모듈;
상기 저장 탱크 모듈 내의 순수를 순수 공급펌프로 공급받아 살균하는 살균부와, 상기 살균된 순수의 불순물을 여과하여 초순수를 생성하는 2차 필터와, 상기 2차 필터에서 여과된 초순수의 저항을 감지하여 제 2 순도 정보를 생성하는 제 2 순도 정보 생성부를 포함하는 초순수 생성 모듈;
사용자의 입력 정보를 입력받는 메인 입력부와, 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하는 메인 디스플레이부를 구비하는 메인 입출력 모듈;
상기 제 1 순도 정보 및 상기 제 2 순도 정보를 기반으로, 상기 메인 디스플레이부에 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하며, 상기 메인 입력부로부터 입력받은 입력 정보에 기반하여 상기 초순수 생성모듈를 제어하는 제어 모듈;
상기 초순수를 외부로 토출하는 로컬 디스펜서 모듈;
상기 로컬 디스펜서 모듈로부터 상기 초순수를 상기 순수 공급 펌프와 상기 저장 탱크 모듈 사이로 재순환시키는 재순환 라인;
상기 재순환된 상기 초순수가 상기 저장 탱크 모듈로 역류되는 것을 방지하기 위하여 설치되는 체크 밸브;
상기 재순환 라인 상에 설치되어, 상기 재순환되는 초순수의 압력을 감소시크는 감압밸브; 및
상기 순수 생성 모듈, 상기 초순수 생성 모듈 및 상기 제어 모듈이 내부에 배치되는 메인 하우징을 포함하고,
상기 저장 탱크 모듈 및 상기 로컬 디스펜서 모듈은, 상기 메인 하우징의 외부에 배치되고,
상기 저장 탱크 모듈에는 상기 저장된 순수를 외부로 토출하여 사용하기 위한 토출구와, 상기 저장된 순수의 드레인을 위한 드레인 밸브가 설치되고,
상기 제어 모듈은,
상기 초순수의 상기 제 2 순도 정보에 포함된 순도치가 기 설정된 수준의 이하가 되면, 상기 순도치가 기 설정된 수준에 도달할 때까지 상기 로컬 디스펜서 모듈의 초순수를 재순환시키고,
사용자의 입력 정보를 입력 받는 로컬 입력부와, 상기 초순수 생성모듈의 정보를 디스플레이하는 로컬 디스플레이부가 구비되고, 상기 메인 입출력 모듈과 연동되어, 상기 메인 입출력 모듈과 동일하게 작동되는 로컬 입출력 모듈을 더 포함하는,
초순수 제조 장치.In the ultrapure water production apparatus,
A first filter for removing particles by filtering the supplied raw water, a reverse osmosis filter for generating pure water by filtering impurities of the filtered raw water filtered by the first filter, and a first purity information by sensing the conductivity of the pure water. A pure water generating module including a generating first purity information generating unit;
A storage tank module receiving and storing the generated pure water;
A sterilization unit that receives and sterilizes pure water in the storage tank module by a pure water supply pump, a secondary filter that filters impurities of the sterilized pure water to generate ultrapure water, and detects the resistance of the ultrapure water filtered by the secondary filter An ultrapure water generation module including a second purity information generation unit that generates second purity information;
A main input/output module including a main input unit for receiving user input information and a main display unit for displaying information on the ultrapure water generation module;
A control module configured to display information of the ultrapure water generation module on the main display unit based on the first purity information and the second purity information, and control the ultrapure water generation module based on input information received from the main input unit;
A local dispenser module for discharging the ultrapure water to the outside;
A recirculation line for recirculating the ultrapure water from the local dispenser module between the pure water supply pump and the storage tank module;
A check valve installed to prevent the recirculated ultrapure water from flowing back to the storage tank module;
A pressure reducing valve installed on the recirculation line to reduce the pressure of the recirculated ultrapure water; And
The pure water generating module, the ultra-pure water generating module and the control module comprises a main housing disposed therein,
The storage tank module and the local dispenser module are disposed outside the main housing,
The storage tank module is provided with a discharge port for discharging and using the stored pure water, and a drain valve for draining the stored pure water,
The control module,
When the purity value included in the second purity information of the ultrapure water falls below a preset level, the ultrapure water of the local dispenser module is recycled until the purity value reaches a preset level,
A local input unit for receiving input information from a user, and a local display unit for displaying information on the ultrapure water generation module, and a local input/output module interlocked with the main input/output module and operated in the same manner as the main input/output module. ,
Ultrapure water production device.
상기 로컬 디스펜서 모듈 및 상기 로컬 입출력 모듈이 장착되는 로컬 하우징을 더 포함하는 초순수 제조 장치.The method according to claim 1,
Ultrapure water production apparatus further comprising a local housing in which the local dispenser module and the local input/output module are mounted.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140055627A KR102177543B1 (en) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | Apparatus for producing ultra-pure water production |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020140055627A KR102177543B1 (en) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | Apparatus for producing ultra-pure water production |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150128350A KR20150128350A (en) | 2015-11-18 |
KR102177543B1 true KR102177543B1 (en) | 2020-11-11 |
Family
ID=54838961
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020140055627A KR102177543B1 (en) | 2014-05-09 | 2014-05-09 | Apparatus for producing ultra-pure water production |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102177543B1 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105797587B (en) * | 2016-05-09 | 2020-05-05 | 佛山市云米电器科技有限公司 | Water purification system and automatic working pressure adjusting method thereof |
JP7032381B2 (en) | 2016-09-15 | 2022-03-08 | エヴォクア ウォーター テクノロジーズ エルエルシー | Methods and systems for treating ultrapure water |
CN108793529A (en) * | 2018-06-11 | 2018-11-13 | 合肥格美电器有限责任公司 | A kind of ultrafiltration water treatment device |
GB2585176B (en) * | 2019-04-03 | 2023-12-06 | Vws Uk Ltd | Apparatus and method for providing purified water |
GB2584988B (en) * | 2019-04-03 | 2023-11-29 | Vws Uk Ltd | Apparatus and method for providing purified water |
EP4251575A1 (en) * | 2020-11-26 | 2023-10-04 | Merck Patent GmbH | Water purification system with inline measurement of total organic carbon and method of operating such system |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100462897B1 (en) * | 2003-01-20 | 2004-12-18 | 삼성전자주식회사 | Water cleaning apparatus and method |
KR100987646B1 (en) * | 2008-02-11 | 2010-10-18 | (주)비바젠 | Control method of water purifying divice for manufacturing pure water and ultra-pure water |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100191234B1 (en) | 1996-08-23 | 1999-06-15 | 윤종용 | Dissolved oxygen measuring system for pure water |
KR101487334B1 (en) * | 2014-01-14 | 2015-01-28 | 정하익 | Water providing apparatus having external interface and diagnosis system for the water providing apparatus |
-
2014
- 2014-05-09 KR KR1020140055627A patent/KR102177543B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100462897B1 (en) * | 2003-01-20 | 2004-12-18 | 삼성전자주식회사 | Water cleaning apparatus and method |
KR100987646B1 (en) * | 2008-02-11 | 2010-10-18 | (주)비바젠 | Control method of water purifying divice for manufacturing pure water and ultra-pure water |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150128350A (en) | 2015-11-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102177543B1 (en) | Apparatus for producing ultra-pure water production | |
EP2572739B1 (en) | Device for producing ultra-pure water | |
US8650935B2 (en) | Method of TOC monitoring | |
KR102573112B1 (en) | Gas solution manufacturing apparatus | |
US20220194816A1 (en) | Apparatus and method for providing purified water | |
JP2019535549A (en) | Method and printing device for operating a printing device | |
JP2009195804A (en) | Method and device for cleaning reverse osmosis membrane module | |
KR101772558B1 (en) | Management System and Method for A Swimming Pool | |
CN208370699U (en) | A kind of changing water in fish tank and water purification system | |
KR101439948B1 (en) | Water treatment apparatus and water treatment method | |
TWI656100B (en) | Hydrogen peroxide-containing drainage treatment device and treatment method | |
KR20150077086A (en) | Water treating apparatus including water quality detecting means | |
EP3544930B1 (en) | Sensor system for a system allowing for purification and recycling of water or separation of water | |
JP2000342936A (en) | Method and device for detecting membrane damage of hollow fiber membrane filter apparatus | |
JP4894316B2 (en) | Membrane damage detection method for membrane filtration process | |
US8540872B1 (en) | Portable water treatment plant | |
KR20170005264A (en) | Water treatment apparatus | |
US20220162108A1 (en) | Apparatus and method for providing purified water | |
KR101459001B1 (en) | Water treatment apparatus and water treatment method | |
KR101849078B1 (en) | water providing apparatus and water providing method thereof | |
TWM562160U (en) | Purifying system of filter | |
KR20160103826A (en) | Filter of ultra-pure water production system and ultra-pure water production system using the same | |
US20110217788A1 (en) | Chemical reagent for measuring the level of halogen agents, in particular in swimming-pool water and associated measurement method | |
JP2007253022A (en) | Filtration system and its operation method | |
KR20110081482A (en) | Apparatus for supplying cleaning liquid |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |