KR102169286B1 - Method for manufacturing minute pipe and minute pipe manufactured by this method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프에 관한 것으로서, (A) 미세 파이프의 구조를 갖게 하기 위한 베이스부재로서 금속재 또는 합성수지재의 선형 소재를 구비하는 단계; (B) 상기 소재의 오염원 제거 및 미세 파이프의 형성을 위한 도금 처리시 도금물질의 균일증착을 위해 표면을 세정하는 단계; (C) 상기 소재에 전기도금 또는 무전해도금을 실시하거나 무전해도금과 전기도금을 혼합 실시하는 공정을 통해 소재의 표면으로 금속 도금층을 형성하되, 단층도금 또는 다층도금을 실시하는 단계; (D) 상기 (C)단계를 거친 결과물을 소재용해용 분리수용액에 침적시켜 베이스부재인 소재만을 용해시킴에 의해 도금층을 분리해냄으로써 금속성의 미세 파이프를 제조하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 미세 제조방법과, 이러한 제조방법에 의해 단층도금 구조로 형성되거나 또는 다층도금 구조로 형성되는 파이프 형상의 몸체로서, 0.01mm ~ 1cm의 길이와 0.1㎛ ~ 1cm의 두께로 형성되는 미세 파이프를 특징으로 한다.The present invention relates to a method of manufacturing a fine pipe and a fine pipe manufactured thereby, comprising: (A) providing a linear material of a metal material or a synthetic resin material as a base member for having a structure of a fine pipe; (B) cleaning the surface for uniform deposition of the plating material during plating treatment for removing contaminants from the material and forming fine pipes; (C) forming a metal plating layer on the surface of the material through a process of performing electroplating or electroless plating on the material or mixing electroless plating and electroplating, but performing single-layer plating or multi-layer plating; (D) manufacturing a metallic fine pipe by separating the plating layer by immersing the resultant obtained through step (C) in a separation aqueous solution for material dissolution to dissolve only the material as the base member; A fine manufacturing method comprising, and a pipe-shaped body formed in a single-layer plating structure or formed in a multi-layer plating structure by this manufacturing method, and is formed with a length of 0.01mm to 1cm and a thickness of 0.1㎛ to 1cm. It features a pipe.

Description

미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프{METHOD FOR MANUFACTURING MINUTE PIPE AND MINUTE PIPE MANUFACTURED BY THIS METHOD} A method for manufacturing a fine pipe, and a fine pipe manufactured by the method TECHNICAL FIELD [Method FOR MANUFACTURING MINUTE PIPE AND MINUTE PIPE MANUFACTURED BY THIS METHOD}

본 발명은 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 미세한 규격의 금속 파이프를 도금공정을 이용하여 제조할 수 있도록 하고, 다양한 크기와 두께 및 다양한 금속 소재로 제조할 수 있도록 하며, 각종 산업분야에서 다양하게 사용할 수 있는 미세 파이프를 제조할 수 있도록 한 새로운 구성의 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a fine pipe and a fine pipe manufactured thereby, and more particularly, a metal pipe of a fine standard can be manufactured using a plating process, and can be manufactured with various sizes and thicknesses and various metal materials. The present invention relates to a method for manufacturing a fine pipe of a new configuration and a method of manufacturing a fine pipe that is capable of manufacturing a fine pipe that can be used in various fields in various industries, and a fine pipe manufactured thereby.

종래 금속 소재의 파이프를 제조하기 위한 방법에는 크게 3가지 방법이 사용되고 있는데, 회전하는 거푸집에 끓는 쇳물을 부어 주물을 만드는 원심 주조가 가장 많이 쓰이고 있으며, 연철 파이프는 이러한 원심 주조방식으로 제조된다.In the conventional method for manufacturing a pipe made of a metal material, three methods are largely used, and centrifugal casting, which makes a casting by pouring boiling iron water into a rotating formwork, is most often used, and a soft iron pipe is manufactured by such a centrifugal casting method.

이러한 종래 금속 소재의 파이프는 주로 강(steel) 소재로 이루어지고 있는데, 1970년대 이후에는 이음매가 없는 심레스(seamless) 파이프를 대체하여 용접을 이용한 용접 파이프가 만들어지고 있다.Such conventional metal pipes are mainly made of steel, and since the 1970s, welded pipes using welding have been made by replacing seamless pipes.

보통 큰 지름(25cm 이상)의 파이프는 전기저항용접(ERW; Electric Resistance Welded) 방식과 전기융해용접(EFW; Electric Fusion Welded) 방식 및 서브머지드 아크용접(SAW; Submerged Arc Welded) 방식 등을 사용하여 제조하고 있으며, 이보다 더 큰 사이즈의 파이프 제조에는 LSAW(Longitudinal Submerged Arc Welded) 방식 및 SSAW(Spiral Submerged Arc Welded) 방식 등이 사용되고 있다.Usually, pipes with a large diameter (more than 25cm) use Electric Resistance Welded (ERW) method, Electric Fusion Welded (EFW) method, and Submerged Arc Welded (SAW) method. In order to manufacture pipes of larger sizes, LSAW (Longitudinal Submerged Arc Welded) method and SSAW (Spiral Submerged Arc Welded) method are used.

하지만, 종래 금속 파이프의 제조에 있어서는 파이프를 구성하는 금속 성분에 제한이 있는 단점이 있었고, 파이프의 내경의 크기와 두께를 조절하는데 많은 어려움과 비용이 소요되고 있으며, 특히 파이프의 크기를 초소형으로 하여 제조하는 데에는 거의 불가능하다.However, in the manufacture of conventional metal pipes, there is a disadvantage in that the metal components constituting the pipe are limited, and it takes a lot of difficulty and cost to control the size and thickness of the inner diameter of the pipe, and in particular, the size of the pipe is made very small. It is almost impossible to manufacture.

한편, 금속 소재의 파이프는 최근 전기전자분야에도 많이 활용되고 있는데, 일반적인 파이프 보다는 그 크기가 매우 작은 형태의 미세 파이프가 적용되고 있다.Meanwhile, pipes made of metal are widely used in the electric and electronic field in recent years, and fine pipes having a very small size than a general pipe are being applied.

예를 들면, 상기 미세 파이프는 회로기판의 패턴이나 반도체소자 등의 전기적 특성을 검사하기 위한 BBT(Bare Board Test) 검사기 등을 포함하는 테스트장치의 포고핀(Pogo Pin) 제조에 사용되고 있다.For example, the fine pipe is used to manufacture a pogo pin of a test apparatus including a Bare Board Test (BBT) tester for inspecting a pattern of a circuit board or an electrical characteristic of a semiconductor device.

도 1은 종래 포고핀의 구조를 설명하기 위해 나타낸 일 예시도로서, 반도체패키지의 외부단자와 PCB 상의 회로패턴 사이를 연결하는 수단으로 포고핀을 사용한 예를 나타내었으며, 도시한 바와 같이 포고핀(6)은 금속체의 파이프 구조로 된 관체 상의 케이싱(11)과; 상기 케이싱(11)의 상측에 결합되어 반도체패키지(3)의 외부단자(3a)에 접촉되는 금속체로 된 상부 핀(12)과; 상기 케이싱(11)의 하측에 결합되어 PCB(5)의 회로패턴(5a)에 접촉되는 금속체로 된 하부 핀(13)과; 상기 상부 핀(12)에 상단부가 접촉되고 하부 핀(13)에 하단부가 접촉되도록 상기 케이싱(11)의 내부에 배치되고 전기적 특성 검사시 상부 핀(12)이 반도체패키지(3)의 외부단자(3a)에 접촉되고 하부 핀(13)이 PCB(5)의 회로패턴(5a)에 접촉될 때 탄력적으로 접촉될 수 있도록 하기 위한 스프링(14);으로 구성된다.1 is an exemplary view shown to explain the structure of a conventional pogo pin, showing an example of using a pogo pin as a means for connecting an external terminal of a semiconductor package and a circuit pattern on a PCB, and as shown in FIG. 6) is a casing 11 on the tubular body made of a metal pipe structure; An upper pin 12 made of a metal body coupled to the upper side of the casing 11 and in contact with the external terminal 3a of the semiconductor package 3; A lower pin 13 made of a metal body coupled to the lower side of the casing 11 and contacting the circuit pattern 5a of the PCB 5; It is disposed inside the casing 11 so that the upper end is in contact with the upper pin 12 and the lower end is in contact with the lower pin 13, and the upper pin 12 is an external terminal of the semiconductor package 3 ( 3a) and a spring 14 for resilient contact when the lower pin 13 contacts the circuit pattern 5a of the PCB 5;

이러한 구성의 포고핀(6)은 다수가 조밀한 간격으로 배열되고, 포고핀들은 변형이나 외부의 물리적인 충격으로부터 보호하기 위해 절연체(1)에 의해 지지되도록 구비되며, 회로기판이나 반도체소자 등의 전기적 특성을 검사하는데 사용된다.A number of pogo pins 6 of this configuration are arranged at dense intervals, and the pogo pins are provided to be supported by an insulator 1 to protect from deformation or external physical impact, and It is used to check electrical properties.

하지만, 이와 같은 포고핀 등의 케이싱으로 사용되는 파이프 구조의 관체는 미세한 크기를 갖는 것으로서, 현재 초정밀 드릴링 가공을 통해 제조하여 사용하고 있으나 내경의 크기를 줄이는데 기술적 한계에 도달하고 있으며, 업계에서는 전자기기의 고성능 및 기능 확대와 초소형 및 슬림화를 구현하기 위한 노력들을 강구하고 있다.However, such a pipe structure used as a casing such as a pogo pin has a fine size, and is currently manufactured and used through ultra-precision drilling, but it is reaching technical limits in reducing the size of the inner diameter. Efforts are being made to realize the high-performance and functional expansion and miniaturization and slimming of the product.

이에, 입출력 정보라인 및 접속을 위한 핀 수도 급격히 증가하고 있고, 배선을 위한 회로패턴의 폭과 간격을 줄이는 등 미세화를 추진하고 있는 추세이므로 전기적 특성 검사를 위한 포고핀의 접촉핀이 더욱 가늘어질 수밖에 없으며, 이를 위해 케이싱의 내경을 축소하는 등 미세화를 구현해야 하는 문제점이 대두되고 있다.Accordingly, the number of pins for input/output information lines and connection is rapidly increasing, and the trend is to reduce the width and spacing of circuit patterns for wiring.Therefore, the contact pin of the pogo pin for electrical characteristic inspection is inevitably thinner. For this purpose, there is a problem of miniaturization such as reducing the inner diameter of the casing.

대한민국 공개특허공보 제10-2004-0068842호Korean Patent Application Publication No. 10-2004-0068842

본 발명은 상술한 문제점 등을 개선 및 이를 감안하여 안출된 것으로서, 미세한 규격의 금속 파이프를 도금공정을 이용하여 제조할 수 있도록 하고, 다양한 크기와 두께 및 다양한 금속 소재로 제조할 수 있도록 하며, 각종 산업분야에서 다양하게 사용할 수 있는 미세 파이프를 제조할 수 있도록 한 새로운 구성의 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been devised in consideration of and improving the above-described problems, and allows a metal pipe of a fine standard to be manufactured using a plating process, and to be manufactured with various sizes and thicknesses and various metal materials. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a fine pipe having a new configuration and a fine pipe manufactured by the method capable of manufacturing a fine pipe that can be used in various ways in the industrial field.

본 발명은 내외경의 크기와 두께를 조절하여 제조할 수 있도록 하되 회로패턴이나 반도체소자 등의 미세화에 따른 전기적 특성 검사에 적합한 금속 소재의 미세 파이프를 제조할 수 있도록 하며, 다양한 금속 성분을 갖는 미세 파이프의 제조를 통해 다양한 분야에 적용할 수 있도록 하는 등 응용분야를 확대할 수 있도록 한 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention makes it possible to manufacture by controlling the size and thickness of the inner and outer diameters, but makes it possible to manufacture a fine pipe made of a metal material suitable for electrical characteristics inspection according to miniaturization of circuit patterns or semiconductor devices, etc., and fine pipes having various metal components It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a fine pipe that can be applied to various fields, such as to be applied to various fields, and a fine pipe manufactured thereby.

본 발명은 내경 평탄도를 높여 제조할 수 있도록 함으로써 제조품질과 내구성을 향상시킬 수 있도록 함은 물론 사용 수명을 연장시킬 수 있도록 한 미세 파이프 제조방법 및 이에 의해 제조된 미세 파이프를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to provide a method for manufacturing a fine pipe and a method for manufacturing a fine pipe that is capable of extending the service life as well as improving the manufacturing quality and durability by increasing the inner diameter flatness to be manufactured. have.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 미세 파이프의 제조방법은, (A) 미세 파이프의 구조를 갖게 하기 위한 베이스부재로서 금속재 또는 합성수지재의 선형 소재를 구비하는 단계; (B) 상기 소재의 오염원 제거 및 미세 파이프의 형성을 위한 도금 처리시 도금물질의 균일증착을 위해 표면을 세정하는 단계; (C) 상기 소재에 전기도금 또는 무전해도금을 실시하거나 무전해도금과 전기도금을 혼합 실시하는 공정을 통해 소재의 표면으로 금속 도금층을 형성하되, 단층도금 또는 다층도금을 실시하는 단계; (D) 상기 (C)단계를 거친 결과물을 소재용해용 분리수용액에 침적시켜 베이스부재인 소재만을 용해시킴에 의해 소재를 분리하고 도금층만을 남김으로써 금속성의 미세 파이프를 제조하는 단계; 를 포함하여 이루어지는 것을 구성상의 기본 특징으로 한다.The method of manufacturing a fine pipe according to the present invention for achieving the above object comprises the steps of: (A) providing a linear material of a metal material or a synthetic resin material as a base member for giving a structure of a fine pipe; (B) cleaning the surface for uniform deposition of the plating material during plating treatment for removing contaminants from the material and forming fine pipes; (C) forming a metal plating layer on the surface of the material through a process of performing electroplating or electroless plating on the material or mixing electroless plating and electroplating, but performing single-layer plating or multi-layer plating; (D) separating the material by immersing the resultant obtained through the step (C) in a separation aqueous solution for dissolving the material to dissolve only the material as the base member, thereby producing a metallic fine pipe by leaving only the plating layer; It is a basic feature of the configuration that is made, including.

여기에서, (B1) 상기 (B)단계와 (C)단계의 사이에 개재되어 실시될 수 있으며, 소재 표면에 금속촉매를 부여하여 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 소재의 표면에 금속촉매를 전처리 및 분포시킴으로써 활성화 처리하는 활성단계; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.Here, (B1) can be carried out interposed between steps (B) and (C), and is a process for increasing plating efficiency by imparting a metal catalyst to the surface of the material. An activation step of pretreating and distributing the catalyst for activation treatment; It characterized in that it comprises a.

여기에서, 상기 (B1)단계에서는, 상기 소재에 대해 팔라듐(Pd2+)과 주석(Sn2+) 및 염소 이온에서 만들어진 콜로이드 분자를 산성용액에 혼합시킨 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 침적시킴에 의해 콜로이드 분자인 팔라듐(Pd)과 주석(Sn)을 소재 표면에 부착시킴으로써 금속촉매를 전처리하여 금속촉매에 의한 활성화 경향을 갖게 하기 위한 제1 활성화단계; 상기 제1 활성화단계를 거친 소재에 대해 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 용액을 산성용액에 혼합시킨 활성화용액에 침적시킴에 의해 소재 표면에 부착된 주석(Sn)의 환원작용으로 팔라듐(Pd) 금속을 석출 및 소재 표면에 분포시킴으로써 무전해도금이 가능하도록 금속촉매를 부여하기 위한 제2 활성화단계; 로 나누어 실시하는 것을 특징으로 한다.Here, in the step (B1), colloid molecules made from palladium (Pd 2+ ), tin (Sn 2+ ), and chlorine ions are immersed in the Pd/Sn colloidal catalyst filtrate mixed with an acidic solution. A first activation step for pre-treating the metal catalyst by attaching colloid molecules such as palladium (Pd) and tin (Sn) to the surface of the material to have an activation tendency by the metal catalyst; The palladium chloride (PdCl 2 ·2H 2 O) solution is immersed in an activating solution mixed with an acidic solution for the material that has undergone the first activation step, thereby reducing palladium (Pd) by the reduction action of tin (Sn) attached to the material surface. ) A second activation step for imparting a metal catalyst to enable electroless plating by depositing and distributing the metal on the material surface; It is characterized by dividing into.

여기에서, 상기 제1 활성화단계에서는, 상기 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 대해 산성용액에 팔라듐 10∼500ppm과 주석 1∼50g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 10∼50℃의 온도 조건에서 1~10분 동안 침적 처리하며; 상기 제2 활성화단계에서는, 상기 활성화용액에 대해 산성용액 1~5ml/L에 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 0.2~1.0g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 2.5~3.5 pH 조건과 20~30℃의 온도 조건에서 1~3분 동안 침적 처리하는 것을 특징으로 한다.Here, in the first activation step, the Pd/Sn colloidal catalyst imparting solution is formulated to contain 10 to 500 ppm palladium and 1 to 50 g/L of tin in an acidic solution, and the material is immersed at 10 to 50°C. Immersion treatment for 1 to 10 minutes under temperature conditions; In the second activation step, the activating solution is formulated to contain 0.2 to 1.0 g/L of palladium chloride (PdCl 2 ·2H 2 O) in 1 to 5 ml/L of the acidic solution, and the material is immersed therein, but 2.5 to 3.5 It is characterized in that the immersion treatment is performed for 1 to 3 minutes in the pH condition and the temperature condition of 20 ~ 30 ℃.

여기에서, 상기 (A)단계에서 구비되는 베이스부재로서의 소재는, 금속재인 경우, Mg, Al, Cr, Zn, Nb, Sn 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합금된 상태의 소재이며; 합성수지재인 경우, polycarbonate, polypropylene, nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC(poly vinyl chloride), SAN(styrene acrylonitrile copolymer), PMMA(polymethyl methacrylate), styrene계(PS, GPPS, HIPS), polyethylene, polyamide 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합성된 상태의 소재인 것을 특징으로 한다.Here, the material as the base member provided in step (A) is, in the case of a metal material, a material in which one or two or more selected from Mg, Al, Cr, Zn, Nb, and Sn are alloyed; For synthetic resin materials, polycarbonate, polypropylene, nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC (poly vinyl chloride), SAN (styrene acrylonitrile copolymer), PMMA (polymethyl methacrylate), styrene-based (PS, GPPS, HIPS), polyethylene, polyamide, it is characterized in that the material in a state in which any one or two or more selected from the synthetic state.

기타, 여러 가지 제조방법을 특징으로 할 수 있다.In addition, it can be characterized by various manufacturing methods.

또한, 상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 미세 파이프는, 상기한 제조방법에 의해 단층도금 구조로 형성되거나 또는 다층도금 구조로 형성되는 파이프 형상의 몸체로서, 0.01mm ~ 1cm의 길이와 0.1㎛ ~ 1cm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 한다.In addition, the fine pipe according to the present invention for achieving the above object is a pipe-shaped body formed in a single-layer plating structure or a multi-layer plating structure by the above-described manufacturing method, and has a length of 0.01 mm to 1 cm and a length of 0.1 It is characterized in that it is formed to a thickness of ㎛ ~ 1cm.

본 발명에 따르면, 미세한 규격의 금속 파이프를 도금공정을 이용하여 용이하게 제조할 수 있고, 특히 다양한 크기와 두께 및 다양한 금속 소재로 파이프를 제조할 수 있어 아주 미세함을 요구하는 전기전자분야 및 반도체분야를 비롯하여 각종 산업분야에서 요구되는 미세 파이프를 제조하여 공급할 수 있는 유용한 효과를 달성할 수 있다.According to the present invention, metal pipes of fine specifications can be easily manufactured using a plating process, and in particular, pipes can be manufactured from various sizes and thicknesses and various metal materials, so that the electric and electronic fields and semiconductor fields that require very fineness Including, it is possible to achieve useful effects that can be supplied by manufacturing and supplying fine pipes required in various industrial fields.

본 발명은 드릴 등의 기계적 가공으로 제조할 수 없는 미세 규격의 파이프를 용이하게 제조할 수 있고, 내외경의 크기와 두께를 자유롭게 조절하여 제조할 수 있으며, 특히 회로패턴이나 반도체소자 등의 미세화에 따른 전기적 특성 검사에 적합한 금속 소재의 미세 파이프를 용이하게 제조할 수 있음은 물론 다양한 금속 성분을 갖는 미세 파이프의 제조를 통해 다양한 분야에 적용할 수 있게 하는 등 응용분야를 확대시킬 수 있는 유용한 효과를 달성할 수 있다.The present invention can easily manufacture pipes of fine specifications that cannot be manufactured by mechanical processing such as a drill, and can be manufactured by freely adjusting the size and thickness of the inner and outer diameters. In particular, according to the miniaturization of circuit patterns or semiconductor devices, etc. In addition to being able to easily manufacture fine pipes made of metal materials suitable for electrical property inspection, it is possible to apply them to various fields through the manufacture of fine pipes having various metal components. can do.

본 발명은 BBT 검사기용 포고핀 등에 사용되는 관체 구조의 미세 파이프를 용이하게 제조할 수 있는 유용함을 달성할 수 있으며, 내경 평탄도를 높여 제조할 수 있어 제조품질과 내구성을 향상시킬 수 있음은 물론 사용 수명을 연장시킬 수 있는 유용함을 달성할 수 있다.The present invention can achieve the usefulness of easily manufacturing a fine pipe of a tubular structure used for a pogo pin for a BBT tester, etc., and can be manufactured by increasing the flatness of the inner diameter, thereby improving manufacturing quality and durability. Usefulness that can extend the service life can be achieved.

도 1은 미세 파이프가 적용되는 종래 포고핀의 구조를 나타낸 일 예시도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 미세 파이프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 미세 파이프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 4는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 미세 파이프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 미세 파이프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 미세 파이프 제조방법을 나타낸 흐름도이다.
도 7은 본 발명에 따른 미세 파이프 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 개략적 공정도이다.
도 8은 본 발명에 따른 릴투릴 설비를 이용한 미세 파이프 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 개략적 설비 구성도이다.
도 9는 본 발명에 따른 릴투릴 설비를 이용한 미세 파이프 제조방법을 설명하기 위해 나타낸 도금조의 단면 구성도이다.
도 10은 본 발명에 따른 미세 파이프 제조방법에 의해 제조된 미세 파이프를 나타낸 현미경 사진이다.
1 is an exemplary view showing the structure of a conventional pogo pin to which a fine pipe is applied.
2 is a flowchart showing a method of manufacturing a fine pipe according to an embodiment of the present invention.
3 is a flow chart showing a method of manufacturing a fine pipe according to another embodiment of the present invention.
4 is a flow chart showing a method for manufacturing a fine pipe according to another embodiment of the present invention.
5 is a flow chart showing a method for manufacturing a fine pipe according to another embodiment of the present invention.
6 is a flowchart showing a method of manufacturing a fine pipe according to another embodiment of the present invention.
7 is a schematic process diagram illustrating a method for manufacturing a fine pipe according to the present invention.
8 is a schematic diagram of a facility configuration showing a method for manufacturing a fine pipe using a reel-to-reel facility according to the present invention.
9 is a cross-sectional view of a plating bath shown to explain a method for manufacturing a fine pipe using a reel-to-reel facility according to the present invention.
10 is a photomicrograph showing a fine pipe manufactured by the method for manufacturing a fine pipe according to the present invention.

본 발명에 대해 첨부한 도면을 참조하여 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같으며, 이와 같은 상세한 설명을 통해서 본 발명의 목적과 구성 및 그에 따른 특징들을 보다 잘 이해할 수 있게 될 것이다.A preferred embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings, and it will be possible to better understand the objects and configurations of the present invention, and features thereof, through such detailed description.

본 발명의 실시예에 따른 미세 파이프(100)는 주로 회로기판의 패턴이나 반도체소자 등의 전기적 특성을 검사하기 위한 테스트장치의 포고핀(Pogo Pin)용 케이싱 몸체로 사용하기 위한 구성이나, 이러한 미세 규격의 관체가 요구되는 기타 다양한 분야에 적용할 수 있다 할 것이다.The fine pipe 100 according to the embodiment of the present invention is mainly configured for use as a casing body for a pogo pin of a test device for inspecting electrical characteristics of a circuit board or semiconductor device. It can be applied to a variety of other fields that require standard pipe bodies.

이러한 미세 파이프(100)를 제조하기 위한 본 발명에 따른 미세 파이프 제조방법은 도 2 내지 도 7에 나타낸 바와 같이, 미세 파이프의 구조를 갖게 하기 위한 베이스부재로서 금속재 또는 합성수지재의 선형 소재를 구비한다(S10).The method for manufacturing a fine pipe according to the present invention for manufacturing such a fine pipe 100 includes a linear material of a metal or synthetic resin as a base member for having a structure of a fine pipe, as shown in FIGS. 2 to 7 ( S10).

이때, 상기 베이스부재로 구비되는 소재는 도 7의 (a)에서 보여주는 바와 같이, 선형 소재(1)로서, 원형이 바람직하나 때로는 필요에 따라 사각형을 비롯한 다각형 몸체로 구비할 수 있다 할 것이다.At this time, the material provided as the base member is a linear material 1, as shown in Fig. 7(a), which is preferably circular, but may be provided as a polygonal body including a quadrangle as needed.

상기 소재는 금속재인 경우, Mg, Al, Cr, Zn, Nb, Sn 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합금된 금속재로 구성할 수 있다.When the material is a metal material, it may be composed of a metal material in which one or two or more selected from Mg, Al, Cr, Zn, Nb, and Sn are alloyed.

또한, 합성수지재인 경우에는, polycarbonate(PC), polypropylene(PP), nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC(poly vinyl chloride), SAN(styrene acrylonitrile copolymer), PMMA(polymethyl methacrylate), styrene계(PS, GPPS, HIPS), polyethylene(PE), polyamide(PA) 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합성된 합성수지재로 구성할 수 있다.In addition, in the case of synthetic resin materials, polycarbonate (PC), polypropylene (PP), nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC (poly vinyl chloride), SAN (styrene acrylonitrile copolymer), PMMA ( Polymethyl methacrylate), styrene (PS, GPPS, HIPS), polyethylene (PE), polyamide (PA) can be composed of one or two or more synthetic resins.

여기에서, 상기 베이스부재로 구비되는 금속재 또는 합성수지재 소재는 0.01mm ~ 1m의 길이와, 0.01mm ~ 1cm의 지름을 갖는 선형 소재로 구비할 수 있으며, 원하는 길이를 위해 도금층 형성 이후에 절단작업이 이루어질 수 있다. Here, the metal or synthetic resin material provided as the base member may be provided as a linear material having a length of 0.01mm to 1m and a diameter of 0.01mm to 1cm, and the cutting operation is performed after forming the plating layer for the desired length. Can be done.

여기에서, 상기 베이스부재로 구비되는 선형 소재는 그 길이에 따라 지그나 래크 등에 고정한 다음에 후공정들을 실시할 수 있다.Here, the linear material provided as the base member may be fixed to a jig or rack according to its length, and then post-processes may be performed.

때로는, 도 8 및 도 9에 나타낸 예시에서와 같이, 릴투릴 설비를 이용하여 선형 소재를 릴에 감아 연속 공정으로 미세 파이프 제조를 위한 여러 공정들을 실시할 수도 있다 할 것이며, 이때에는 소재의 길이 제한 없이 공정을 실시할 수 있는 장점을 제공할 수 있다.Sometimes, as in the example shown in Figs. 8 and 9, it is possible to perform various processes for manufacturing fine pipes in a continuous process by winding a linear material on a reel using a reel-to-reel facility, and in this case, the length of the material is limited. It can provide the advantage of being able to perform the process without.

상기 금속재 또는 합성수지재 소재에 대해 오염원 제거 및 미세 파이프의 형성을 위한 도금 처리시 도금물질의 균일증착을 수행할 수 있도록 하기 위하여 소재 표면을 세정 처리한다(S20).The surface of the metal or synthetic resin material is cleaned in order to be able to uniformly deposit the plating material during the plating treatment for removing the pollutant source and forming a fine pipe (S20).

이때, 상기 세정단계는 탈지 처리하는 공정을 실시하는 것으로서, 구비하는 소재에 따라 초음파침적탈지만을 실시하거나 또는 초음파침적탈지와 전해탈지를 연속하여 혼합 실시하는 공정을 실시할 수 있다.In this case, the cleaning step is a process of degreasing treatment, and depending on the material provided, only ultrasonic deposition and degreasing may be performed, or a process of continuously mixing ultrasonic deposition and degreasing with electrolytic degreasing may be performed.

여기에서, 상기 초음파침적탈지는 가성나트륨, 탄산나트륨, 규산나트륨, 인산나트륨, 시안화나트륨, 계면활성제 중에서 어느 1종 또는 2가지 이상이 용해된 알칼리탈지액 35~65g/L에 소재를 침적하되 초음파 발진을 갖는 조건과 45~65℃의 온도 조건에서 1~5분 동안 탈지 처리함이 바람직하다.Here, the ultrasonic deposition degreasing is immersed in an alkaline degreasing solution 35 to 65 g/L in which any one or two or more of caustic sodium, sodium carbonate, sodium silicate, sodium phosphate, sodium cyanide, and surfactant is dissolved, but ultrasonic oscillation It is preferable to perform the degreasing treatment for 1 to 5 minutes at a temperature condition of 45 to 65° C.

이때, 상기 알칼리탈지액은 강한 탈지 작용을 위해 pH 수치를 크게 하는 것이 좋다 할 수 있으나 구비되는 소재에 따라 알칼리에 침식당할 수 있기 때문에 pH를 적절하게 조절하여 사용하는 것이 좋다 할 것이다.At this time, the alkaline degreasing liquid may be said to be good to increase the pH value for a strong degreasing action, but it is better to properly adjust the pH since it may be eroded by alkali depending on the material provided.

여기에서, 상기 전해탈지는 시안화나트륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 정규산나트륨, 제3인산나트륨, 계면활성제 중에서 어느 1종 또는 2가지 이상이 용해된 전해탈지액 0.1~150g/L에 소재를 침적하되, 전류밀도 2~10A/dm2와 40~60℃의 온도 조건에서 1~5분 동안 음극 또는 양극 전해하여 탈지 처리함이 바람직하다.Here, the electrolytic degreasing is a material in 0.1 to 150 g/L of an electrolytic degreasing solution in which one or two or more of sodium cyanide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, regular sodium, trisodium phosphate, and surfactant are dissolved. However, it is preferable to perform degreasing treatment by electrolyzing a cathode or an anode for 1 to 5 minutes at a current density of 2 to 10 A/dm 2 and a temperature of 40 to 60°C.

이때, 전류밀도에 대해서는 음극 탈지시 5~10A/dm2, 양극 탈지시 2~5A/dm2가 바람직하다 할 것이다.At this time, for the current density, 5 to 10 A/dm 2 for degreasing the cathode and 2 to 5 A/dm 2 for degreasing the anode would be preferable.

또한, 상기 전해탈지액에 사용되는 각 성분들은 구비되는 소재 및 그 특성에 따라 조성되는 량을 달리하여 사용한다 할 것이다.In addition, each component used in the electrolytic degreasing solution will be used in a different amount according to the material provided and its properties.

상기 세정단계를 거친 소재에 전기도금 또는 무전해도금을 실시하거나 또는 무전해도금과 전기도금을 혼합 실시하는 공정을 통해 소재의 표면으로 금속 도금층을 형성하되, 단층도금 또는 다층도금을 실시한다(S30).A metal plating layer is formed on the surface of the material through electroplating or electroless plating on the material that has undergone the cleaning step, or a process of mixing electroless plating and electroplating, but single-layer plating or multi-layer plating is performed (S30). ).

여기에서, 무전해도금과 전기도금을 함께 할 경우에는 무전해도금을 먼저 실시하고 외부마감층 형성을 위해 전기도금을 수행함이 바람직한데, 이는 다량의 제품을 고정하여 다수 제품을 도금할 시 각 제품들의 고정된 위치에 따라 도금조 내에 흐르는 전류량 차이로 인해 도금 두께 규격이 일정하지 않게 되는 것을 방지하기 위함이며, 이를 위해 도금두께가 일정하게 되도록 무전해도금을 먼저 실시하고 표면거칠기에서 유리한 전기도금을 나중에 수행하여 표면을 마감처리 하도록 함이 바람직하다.Here, in the case of electroless plating and electroplating together, it is desirable to perform electroless plating first and then electroplating to form the outer finish layer. This is when a large number of products are fixed and multiple products are plated. This is to prevent the plating thickness standard from becoming uneven due to the difference in the amount of current flowing in the plating bath depending on the fixed location of the wires. For this purpose, electroless plating is first performed so that the plating thickness is constant, and an advantageous electroplating is performed in the surface roughness. It is desirable to perform it later to finish the surface.

여기에서, 무전해도금으로만 실시할 경우에는 상술한 무전해도금과 전기도금을 함께하는 공정에 비해 공정수를 줄일 수 있고 다량 생산시에 도금 두께의 규격 균일도를 높일 수 있으며, 전기도금에 비해 약하기는 하나 유용한 도금 평탄도를 맞출 수 있다.Here, in the case of performing only electroless plating, the number of processes can be reduced compared to the above-described process of combining electroless plating and electroplating, and standard uniformity of the plating thickness can be increased when producing large quantities, and it is weak compared to electroplating. One useful plating flatness can be matched.

이때, 포고핀의 케이싱 등에 적용할 미세 파이프의 제조시에는 내부 스프링이 내입되는 부분의 매끈함을 위해 평탄도를 유지함이 바람직한데, 베이스부재가 갖는 소재의 평탄도와 도금 전처리 공정을 통해 유용한 수준의 도금 평탄도를 만들어낼 수 있다.At this time, when manufacturing a fine pipe to be applied to the pogo pin casing, it is desirable to maintain the flatness for the smoothness of the part into which the inner spring is inserted, but the flatness of the material of the base member and the useful level of plating through the plating pretreatment process Flatness can be created.

또한, 전기도금으로만 실시할 경우에는 한 번에 소량을 생산하는 경우나 도금조 내에서 도금 처리시 공정수를 줄일 수 있다.In addition, when only electroplating is performed, the number of processes can be reduced when a small amount is produced at a time or when plating is processed in a plating bath.

나아가, 상기의 도금을 실시하는 경우에는 릴투릴 도금설비를 사용하여 도금 두께를 균일하게 하면서 연속적인 제조생산을 이끌어낼 수도 있다 할 것이다.Furthermore, in the case of performing the above-described plating, it is possible to lead to continuous manufacturing and production while making the plating thickness uniform by using a reel-to-reel plating facility.

상술한 구성에서, 상기 도금단계에서는 상기 소재의 표면에 Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf 중에서 선택된 어느 1종을 석출하거나 2가지 이상을 동시 석출시켜 도금층을 형성할 수 있으며, 하나의 금속물질을 단층으로 도금하여 단층도금층을 형성할 수 있고, 때로는 필요에 따라 서로 다른 성분을 갖는 다수의 금속물질을 다층으로 연속 도금하여 다층도금층을 형성할 수 있다.In the above configuration, in the plating step, among Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf on the surface of the material. A plating layer can be formed by depositing any one selected or two or more simultaneously, and a single-layer plating layer can be formed by plating one metal material as a single layer, and sometimes multiple metals having different components as needed. A multilayer plating layer can be formed by continuously plating a material in multiple layers.

이때, 상기 도금층은 단층도금 또는 다층도금에 따라 0.1㎛ ~ 1cm의 두께로 형성할 수 있으며, 내경과 외경의 사이즈를 사용자 요구 및 필요에 따라 조절하여 형성할 수 있다.At this time, the plating layer may be formed to a thickness of 0.1 μm to 1 cm according to single-layer plating or multi-layer plating, and may be formed by adjusting the sizes of the inner diameter and the outer diameter according to user requirements and needs.

예를 들어, 상기 도금층에 있어서는 Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf 중에서 선택된 어느 1종을 석출하거나 2가지 이상을 동시 석출시켜 소재의 표면에 단층도금층을 형성할 수 있다.For example, in the plating layer, any one selected from Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf is deposited. Alternatively, two or more can be simultaneously precipitated to form a single layer plating layer on the surface of the material.

예를 들어, 상기 도금층에 있어서는 소재의 표면에 금도금→제1니켈도금→동도금→제2니켈도금→금도금 또는 은도금의 순서로 다층 도금하여 다층도금층을 형성할 수 있으며, 사용자의 요구 또는 필요에 따라 2층 이상의 다층도금층을 다양하게 형성할 수 있다.For example, in the plating layer, a multilayer plating layer can be formed by plating on the surface of the material in the order of gold plating → first nickel plating → copper plating → second nickel plating → gold plating or silver plating. Two or more multilayer plating layers can be formed in various ways.

부연하여, 상기 도금층은 도 7의 (b)에 나타낸 바와 같이, 구비되는 소재(1)의 외표면에 단층(2)으로 형성할 수 있고, 다층(2)(3)(4) 구조로 형성할 수도 있다.Incidentally, the plating layer can be formed as a single layer (2) on the outer surface of the provided material (1), as shown in Fig. 7 (b), and is formed in a multilayer (2) (3) (4) structure. You may.

이에 따라, 본 발명에서는 적용분야에 아주 적합한 용도로 사용할 수 있는 다양한 두께 및 다양한 금속층으로 소재의 표면에 도금할 수 있으며, 또한 도금을 이용하여 파이프의 형상을 갖게 하므로 내외경의 크기를 원하는 형태로 조절하여 형성할 수 있는 등 많은 장점을 제공할 수 있다.Accordingly, in the present invention, the surface of the material can be plated with various thicknesses and various metal layers that can be used for a very suitable use in the application field, and since the pipe shape is formed by using plating, the size of the inner and outer diameters can be adjusted to a desired shape. It can provide many advantages, such as that it can be formed.

상기 도금단계까지 거친 결과물(소재에 도금층을 형성시킨 결과물)을 소재용해용 분리수용액에 침적시켜 베이스부재인 소재만을 용해 또는 산화, 부식 등의 알려진 방법으로 분해시킴에 의해 소재를 분리하고 도금층만을 남김으로써 금속성의 미세 파이프를 제조한다(S40).The resulting product (the result of forming a plating layer on the material) that has gone through the plating step is immersed in a separation aqueous solution for material dissolution to dissolve only the material as the base member, or decompose it by known methods such as oxidation, corrosion, etc. to separate the material and leave only the plating layer. As a result, a metallic fine pipe is manufactured (S40).

여기에서, 상기 소재 분리단계(S40)에서는 상기 소재가 금속재인 경우, NaOH이 1~500g/L 용해된 용액, HCl 1~100% 용액, H2SO4 1~100% 용액 중에서 어느 1종을 선택하여 소재용해용 분리수용액으로 사용함이 바람직하며, 상기 소재용해용 분리수용액에 소재를 침적 처리함에 의해 소재만을 녹여 도금층을 분리해낸다.Here, in the material separation step (S40), when the material is a metal material, any one of a solution in which NaOH is dissolved in 1 to 500 g/L, HCl 1 to 100% solution, and H 2 SO 4 1 to 100% solution It is preferable to select and use it as a separation aqueous solution for material dissolution, and by immersion treatment of the material in the separation aqueous solution for material dissolution, only the material is dissolved to separate the plating layer.

이때에는 초음파 발진을 통해 소재용해용 분리수용액의 침투효과를 높일 수 있도록 하며, 20~90℃의 온도 조건에서 소재가 녹을 때까지 실시한다.In this case, it is possible to increase the penetration effect of the separated aqueous solution for dissolving the material through ultrasonic oscillation, and it is carried out until the material is dissolved in a temperature condition of 20~90℃.

예를 들어, 소재가 알루미늄(Al)인 경우에는 NaOH 용액을 사용하고, 아연(Zn)인 경우에는 HCl 용액 또는 H2SO4 용액을 사용할 수 있다.For example, when the material is aluminum (Al), a NaOH solution may be used, and when the material is zinc (Zn), a HCl solution or H 2 SO 4 solution may be used.

또한, 상기 소재 분리단계(S40)에서는 상기 소재가 합성수지재인 경우, 20~50% 농도의 KOH 또는 NaOH 용액, 20~50% NaOH에 5~50% 에탄올을 혼합한 용액, 개미산(formic acid) 10~100% 용액 중에서 어느 1종을 선택하여 소재용해용 분리수용액으로 사용함이 바람직하며, 상기 소재용해용 분리수용액에 소재를 침적 처리함에 의해 소재만을 녹여 도금층을 분리해낸다.In addition, in the material separation step (S40), when the material is a synthetic resin material, a 20-50% concentration of KOH or NaOH solution, a solution in which 5-50% ethanol is mixed with 20-50% NaOH, and formic acid 10 It is preferable to select any one of ~100% solution and use it as a separation aqueous solution for material dissolution, and dissolve only the material by immersing the material in the separation aqueous solution for material dissolution to separate the plating layer.

이때에는 초음파 발진을 통해 소재용해용 분리수용액의 침투효과를 높일 수 있도록 하며, 20~90℃의 온도 조건에서 소재가 녹을 때까지 실시한다.In this case, it is possible to increase the penetration effect of the separated aqueous solution for dissolving the material through ultrasonic oscillation, and it is carried out until the material is dissolved in a temperature condition of 20~90℃.

예를 들어, 소재가 Polycarbonate, Polyethylene인 경우에는 KOH 용액이나 NaOH 용액 또는 NaOH와 에탄올을 혼합한 용액을 사용할 수 있으며, Polyamide인 경우에는 개미산(formic acid)을 사용할 수 있다.For example, if the material is polycarbonate or polyethylene, a KOH solution, NaOH solution, or a mixture of NaOH and ethanol can be used, and for polyamide, formic acid can be used.

즉, 상기 소재 분리단계(S40)를 통해서는 도 7의 (c)에 나타낸 바와 같이, 단층 또는 다층에 의한 두께를 갖되 내외경의 두께를 조절하여 형성할 수 있는 관체의 미세 파이프(100)를 제조할 수 있다.That is, through the material separation step (S40), as shown in Fig. 7(c), a fine pipe 100 of a tubular body that can be formed by adjusting the thickness of the inner and outer diameters having a thickness of a single layer or multiple layers is manufactured. can do.

여기에서, 상기 베이스부재인 소재만을 용해시킴에 의해 소재를 분리하고 도금층만을 남긴 다음에 소재 길이에 따라 절단공정을 거쳐 필요 길이를 맞춤으로써 금속성의 미세 파이프를 제조할 수 있다 할 것이다.Here, by dissolving only the material as the base member, the material is separated, and only the plating layer is left, and then the metal fine pipe can be manufactured by adjusting the required length through a cutting process according to the material length.

나아가, 본 발명에서는 구비되는 소재의 종류 및 성분에 따라 상기 도금단계(S30)에 있어서의 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 소재의 표면을 활성화 처리하는 활성단계(S22)를 실시할 수 있으며, 소재의 표면 전체에 걸쳐 균일한 금속층을 형성시킬 수 있어 제조되는 미세 파이프의 내경 평탄도를 높일 수 있고 이를 통해 미세 파이프의 제조품질 및 내구성을 향상시킬 수 있다.Further, in the present invention, as a process for increasing the plating efficiency in the plating step (S30) according to the kind and composition of the material provided, between the cleaning step (S20) and the plating step (S30) The activation step (S22) of activating the surface of the material can be performed, and a uniform metal layer can be formed over the entire surface of the material, thereby increasing the flatness of the inner diameter of the manufactured fine pipe, thereby manufacturing the fine pipe It can improve quality and durability.

여기에서, 상기 활성단계(S22)는 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 개재하여 실시할 수 있는 공정으로서, 제1 활성화단계(S22A)와 제2 활성화단계(S22B)로 나누어 실시할 수 있다.Here, the activation step (S22) is a process that can be performed intervening between the cleaning step (S20) and the plating step (S30), the first activation step (S22A) and the second activation step (S22B) It can be divided into and carried out.

여기에서, 상기 제1 활성화단계(S22A)는 상기 소재에 대해 팔라듐(Pd2+)과 주석(Sn2+) 및 염소 이온에서 만들어진 콜로이드 분자를 염산을 비롯한 산성용액에 혼합시킨 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 침적시킴에 의해 콜로이드 분자인 팔라듐(Pd)과 주석(Sn)을 소재 표면에 부착시킴으로써 금속촉매를 전처리하여 금속촉매에 의한 활성화 경향을 갖게 하기 위한 공정이다.Here, the first activation step (S22A) is a Pd/Sn colloidal catalyst in which colloid molecules made from palladium (Pd 2+ ), tin (Sn 2+ ) and chlorine ions are mixed in an acidic solution including hydrochloric acid for the material. This is a process for pre-treating a metal catalyst by attaching colloid molecules, palladium (Pd) and tin (Sn) to the surface of the material by immersion in the imparting solution, thereby giving the tendency to be activated by the metal catalyst.

여기에서, 상기 산성용액은 염산뿐만 아니라 황산, 질산, 아세트산, 타르타르산 등이 사용될 수 있다.Here, as the acidic solution, as well as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, and tartaric acid may be used.

이때, 상기 제1 활성화단계에서는 상기 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 대해 염산 등의 산성용액에 팔라듐 10∼500ppm과 주석 1∼50g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 10∼50℃의 온도 조건에서 1~10분 동안 침적 처리함이 바람직하다.At this time, in the first activation step, 10 to 500 ppm of palladium and 1 to 50 g/L of tin are contained in an acidic solution such as hydrochloric acid with respect to the Pd/Sn colloidal catalyst imparting solution, and the material is immersed at 10 to 50°C. It is preferable to immerse for 1 to 10 minutes at the temperature condition of.

더욱 바람직하게는 팔라듐 150~300ppm과 주석 10~30g/L을 포함되게 조성하고, 25∼45℃의 온도 조건에서 2~5분 동안 처리하는 좋다.More preferably, 150 to 300 ppm of palladium and 10 to 30 g/L of tin are included, and treatment is performed for 2 to 5 minutes at a temperature of 25 to 45°C.

여기에서, 상기 제2 활성화단계(S22B)는 상기 제1 활성화단계를 거친 소재에 대해 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 용액을 염산을 비롯한 산성용액에 혼합시킨 활성화용액에 침적시킴에 의해 소재 표면에 부착된 주석(Sn)의 환원작용으로 팔라듐(Pd) 금속을 석출 및 소재 표면에 분포시킴으로써 무전해도금이 가능하도록 금속촉매를 부여하기 위한 공정이다.Here, the second activation step (S22B) is a material by immersing a palladium chloride (PdCl 2 · 2H 2 O) solution in an activation solution mixed with an acidic solution including hydrochloric acid for the material that has passed the first activation step. This is a process for imparting a metal catalyst to enable electroless plating by depositing and distributing palladium (Pd) metal on the surface of the material through the reduction action of tin (Sn) attached to the surface.

여기에서도, 상기 산성용액은 염산뿐만 아니라 황산, 질산, 아세트산, 타르타르산 등이 사용될 수 있다.Here, as the acidic solution, as well as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, acetic acid, and tartaric acid may be used.

이때, 상기 제2 활성화단계에서는 상기 활성화용액에 대해 염산 등의 산성용액 1~5ml/L에 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 0.2~1.0g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 2.5~3.5 pH 조건과 20~30℃의 온도 조건에서 1~3분 동안 침적 처리하는 것이 바람직하다.At this time, in the second activation step, 0.2 to 1.0 g/L of palladium chloride (PdCl 2 ·2H 2 O) is contained in 1 to 5 ml/L of an acidic solution such as hydrochloric acid, and the material is deposited therein. However, it is preferable to immerse for 1 to 3 minutes at a pH condition of 2.5 to 3.5 and a temperature of 20 to 30°C.

나아가, 본 발명에서는 구비되는 소재의 종류 및 성분에 따라 상기 도금단계(S30)에 있어서의 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 상기 베이스부재로서 구비되는 소재가 알루미늄(Al)인 경우, 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 에칭(Etching) 공정과 징케이트(Zincate) 공정을 연속하여 실시하는 도금전처리단계(S24)를 수행할 수 있으며, 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 개재하여 실시할 수 있다.Further, in the present invention, as a process for increasing the plating efficiency in the plating step (S30) according to the type and component of the material provided, when the material provided as the base member is aluminum (Al), the Between the cleaning step (S20) and the plating step (S30), a pre-plating treatment step (S24) in which an etching process and a Zincate process are continuously performed may be performed, and the cleaning step (S20) And the plating step (S30) may be interposed between.

여기에서, 상기 도금전처리단계(S24)의 에칭 공정은 알루미늄(Al) 소재의 표면을 부식시켜 소재와 징케이트 처리에 의해 형성되는 산화피막 사이의 밀착성을 향상시키기 위한 공정이다.Here, the etching process of the pre-plating treatment step (S24) is a process for improving the adhesion between the material and the oxide film formed by zincate treatment by corroding the surface of the aluminum (Al) material.

이때, 상기 에칭 공정은 NaOH 5~100g/L에 알루미늄(Al) 소재를 침적시키되, 20~60℃의 온도 조건에서 30초~1분 동안 처리함으로써 알루미늄(Al) 소재 표면을 부식시킴이 바람직하다.At this time, in the etching process, the aluminum (Al) material is immersed in NaOH 5 to 100 g/L, but it is preferable to corrode the surface of the aluminum (Al) material by treating it for 30 seconds to 1 minute at a temperature condition of 20 to 60°C. .

또한, 상기 징케이트 공정은 상기 에칭공정 후 알루미늄(Al) 소재를 징케이트 처리액에 침적시켜 소재의 표면에 산화피막을 형성하기 위한 공정으로서, 알루미늄 표면에 형성되는 산화막을 용해하여 아연 등의 산화피막을 형성시켜 밀착 저해요인을 제거하기 위한 공정이다.In addition, the zincate process is a process for forming an oxide film on the surface of the material by immersing an aluminum (Al) material in the zincate treatment solution after the etching process. The oxide film formed on the aluminum surface is dissolved to oxidize zinc, etc. This is a process for removing factors that inhibit adhesion by forming a film.

이때, 징케이트 공정은 ATOTECH社의 Alumseal W-2000을 550ml/L 용량으로 물과 희석하여 사용하되 상온(20~30℃)에서 30초~90초 동안 처리함이 바람직하다.At this time, the zincate process is used by diluting ATOTECH's Alumseal W-2000 with water at 550ml/L capacity, but it is preferable to treat it at room temperature (20~30℃) for 30 seconds to 90 seconds.

나아가, 본 발명에서는 구비되는 소재의 종류 및 성분에 따라 상기 도금단계(S30)에 있어서의 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 상기 베이스부재로서 구비되는 소재가 아연(Zn)인 경우 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 동도금을 형성하는 동도금단계(S26)를 실시할 수 있다.Further, in the present invention, as a process for increasing the plating efficiency in the plating step (S30) according to the type and component of the material provided, the cleaning is performed when the material provided as the base member is zinc (Zn). A copper plating step (S26) of forming a copper plating between the step (S20) and the plating step (S30) may be performed.

여기에서, 상기 동도금단계(S26)는 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 개재되어 실시될 수 있으며, 아연(Zn) 소재의 표면에 동도금을 형성하는 공정이다.Here, the copper plating step (S26) may be interposed between the cleaning step (S20) and the plating step (S30), and is a process of forming a copper plating on the surface of a zinc (Zn) material.

더불어, 본 발명에서는 구비되는 소재의 종류에 따라 상기 도금단계(S30)에 있어서의 도금효율은 물론 제조되는 미세 파이프의 내경 평탄도를 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 상기 세정단계(S20)와 상기 도금단계(S30)와의 사이에 개재하여 실시할 수 있으며, 소재의 표면에 물리기상증착(PVD) 또는 화학기상증착(CVD)에 의한 금속 증착을 실시하는 증착단계(S28)를 실시할 수 있다.In addition, in the present invention, as a process for increasing the plating efficiency in the plating step (S30) as well as the inner diameter flatness of the manufactured fine pipe according to the type of material provided, the cleaning step (S20) and the It may be carried out intervening between the plating step (S30) and the deposition step (S28) of performing metal deposition by physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD) on the surface of the material may be performed.

여기에서, 상기 증착단계(S28)는 도금 전처리 단계로서 소재의 표면 전체에 걸쳐 균일한 증착층을 형성시킬 수 있어 제조되는 미세 파이프의 내경 평탄도를 높일 수 있으며, 이는 제조되는 미세 파이프의 제조품질 및 내구성을 향상시킬 수 있다.Here, the deposition step (S28) is a plating pretreatment step that can form a uniform deposition layer over the entire surface of the material, thereby increasing the flatness of the inner diameter of the manufactured fine pipe, which is the manufacturing quality of the manufactured fine pipe. And durability.

이와 같이, 본 발명에서는 활성단계(S22), 에칭과 징케이트를 실시하는 도금 전처리단계(S24), 동도금단계(S26), 증착단계(S28) 등을 선택적으로 실시함으로써 도금단계(S30)에서의 도금효율을 높일 수 있으며, 제조되는 미세 파이프의 내경 평탄도를 높이는 작업을 실시할 수 있는데, 이러한 단계가 접목되어 제조되는 미세 파이프에 대해 회로기판의 패턴이나 반도체소자 등의 전기적 특성을 검사하기 위한 BBT(Bare Board Test) 검사기 등을 포함하는 테스트장치의 포고핀(Pogo Pin)용 케이싱(금속 관체)으로 사용하면 우수한 내경 평탄도에 의해 핀 동작에 관여하는 스프링의 탄성작용력을 저해하지 않게 되므로 전체적으로 검사효율을 높일 수 있으면서 포고핀의 사용 수명을 높일 수 있는 장점을 제공할 수 있다.As described above, in the present invention, in the plating step (S30), by selectively performing the activation step (S22), the plating pretreatment step (S24), the copper plating step (S26), the deposition step (S28), etc. Plating efficiency can be improved, and the work of increasing the flatness of the inner diameter of the manufactured fine pipes can be performed.This step is used to inspect the electrical characteristics of the circuit board pattern or semiconductor device for the manufactured fine pipes. When used as a pogo pin casing (metal tube) of a test device including a BBT (Bare Board Test) tester, the overall flatness of the inner diameter does not impede the elastic force of the spring involved in the pin operation. It can provide an advantage of increasing the service life of the pogo pin while improving inspection efficiency.

나아가, 본 발명에서는 릴투릴 설비를 이용한 연속 공정으로 상술한 제조방법의 공정들을 실시할 수 있는데, 소재 구비단계(S10), 세정단계(S20), 활성단계(S22), 도금 전처리단계(S24), 동도금단계(S26), 도금단계(S30), 소재 분리단계(S40)를 구비되는 소재의 종류에 따라 선택적으로 실시 및 연속 공정으로 실시할 수 있다.Further, in the present invention, the processes of the above-described manufacturing method can be carried out as a continuous process using a reel-to-reel facility, a material preparation step (S10), a cleaning step (S20), an activation step (S22), and a plating pretreatment step (S24). , The copper plating step (S26), the plating step (S30), the material separation step (S40) may be selectively carried out according to the type of material provided and carried out in a continuous process.

한편, 본 발명에 따른 미세 파이프 제조방법에 있어 실시예를 들어 설명하면 다음과 같다.On the other hand, in the method of manufacturing a fine pipe according to the present invention, an example will be described as follows.

(실시예 1)(Example 1)

소재를 알루미늄으로 구비하고 이에 무전해도금을 이용하여 단층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When the material is made of aluminum and single-layer plating is performed using electroless plating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

알루미늄 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지)→도금전처리단계(에칭과 징케이트)→도금단계(무전해도금, 단층도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Aluminum material preparation step → cleaning step (ultrasonic deposition and degreasing) → plating pretreatment step (etching and zincate) → plating step (electroless plating, single layer plating) → material separation step.

(실시예 2)(Example 2)

소재를 아연으로 구비하고 이에 전기도금을 이용하여 단층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When the material is made of zinc and single-layer plating is performed using electroplating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

아연 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지와 전해탈지)→동도금단계→도금단계(전기도금, 단층도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Zinc material preparation step → cleaning step (ultrasonic deposition degreasing and electrolytic degreasing) → copper plating step → plating step (electroplating, single layer plating) → material separation step.

(실시예 3)(Example 3)

합성수지재를 소재로 구비하고, 이에 무전해도금을 이용하여 단층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When a synthetic resin material is used as a material and single-layer plating is performed using electroless plating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

합성수지 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지)→활성단계(제1활성화단계와 제2활성화단계)→도금단계(무전해도금, 단층도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Synthetic resin material preparation step → washing step (ultrasonic deposition and degreasing) → activation step (first activation step and second activation step) → plating step (electroless plating, single layer plating) → material separation step.

(실시예 4)(Example 4)

소재를 알루미늄으로 구비하고 이에 전기도금을 이용하여 다층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When the material is made of aluminum and multi-layer plating is performed using electroplating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

알루미늄 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지)→도금전처리단계(에칭과 징케이트)→도금단계(전기도금, 다층도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Aluminum material preparation step → washing step (ultrasonic deposition and degreasing) → plating pre-treatment step (etching and zincate) → plating step (electroplating, multi-layer plating) → material separation step.

(실시예 5)(Example 5)

소재를 아연으로 구비하고 이에 전기도금을 이용하여 다층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When the material is made of zinc and multi-layer plating is performed using electroplating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

아연 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지와 전해탈지)→동도금단계→도금단계(전기도금, 다층도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Zinc material preparation step → cleaning step (ultrasonic deposition degreasing and electrolytic degreasing) → copper plating step → plating step (electroplating, multi-layer plating) → material separation step.

(실시예 6)(Example 6)

합성수지재를 소재로 구비하고, 이에 전기도금을 이용하여 다층도금을 실시하는 경우, 아래의 단계를 거쳐 미세 파이프를 제조할 수 있다.When a synthetic resin material is used as a material and multilayer plating is performed using electroplating, a fine pipe can be manufactured through the following steps.

합성수지 소재 구비단계→세정단계(초음파침적탈지)→활성단계(제1활성화단계와 제2활성화단계)→도금단계(무전해도금과 다층 전기도금)→소재 분리단계로 순차 처리한다.Synthetic resin material preparation step → washing step (ultrasonic deposition and degreasing) → activation step (first activation step and second activation step) → plating step (electroless plating and multi-layer electroplating) → material separation step.

이에 따라, 본 발명에서는 상술한 단계들을 거치는 제조방법에 의해 단층도금 구조로 형성되거나 또는 다층도금 구조로 형성되는 파이프 형상의 몸체로서, 0.01mm ~ 1cm의 길이와 0.1㎛ ~ 1cm의 두께로 형성되는 미세 파이프(100)를 도금공정을 이용하는 방식을 통해 용이하게 제조할 수 있다.Accordingly, in the present invention, as a pipe-shaped body formed in a single-layer plating structure or formed in a multi-layer plating structure by the manufacturing method through the above-described steps, the length of 0.01mm ~ 1cm and the thickness of 0.1㎛ ~ 1cm The fine pipe 100 can be easily manufactured through a method using a plating process.

한편, 도 10은 본 발명의 미세 파이프 제조방법에 의해 제조된 단층도금 몸체를 갖는 제품의 현미경 사진이다.On the other hand, Figure 10 is a micrograph of a product having a single-layer plated body manufactured by the method of manufacturing a fine pipe of the present invention.

이상에서 설명한 실시예는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명한 것에 불과하고, 이러한 실시예에 극히 한정되지 않는다 할 것이며, 본 발명의 기술적 사상과 청구범위 내에서 이 기술분야의 당업자에 의하여 이루어지는 다양한 수정과 변형 또는 치환은 본 발명의 기술적 범주 내에 해당한다 할 것이다.The embodiments described above are only to describe preferred embodiments of the present invention, and are not limited to these embodiments, and various modifications made by those skilled in the art within the spirit and scope of the present invention Modification or substitution will be said to fall within the technical scope of the present invention.

S10: 소재 구비단계
S20: 세정단계
S22: 활성단계
S24: 도금전처리단계
S26: 동도금단계
S28: 증착단계
S30: 도금단계
S40: 소재 분리단계
S10: material preparation step
S20: washing step
S22: active stage
S24: plating pretreatment step
S26: Copper plating step
S28: deposition step
S30: plating step
S40: material separation step

Claims (14)

미세 파이프를 제조하기 위한 제조방법에 있어서,
(A) 미세 파이프의 구조를 갖게 하기 위한 베이스부재로서 금속재 또는 합성수지재의 선형 소재를 구비하는 단계;
(B) 상기 소재의 오염원 제거 및 미세 파이프의 형성을 위한 도금 처리시 도금물질의 균일증착을 위해 표면을 세정하는 단계;
(C) 상기 소재에 전기도금 또는 무전해도금을 실시하거나 무전해도금과 전기도금을 혼합 실시하는 공정을 통해 소재의 표면으로 금속 도금층을 형성하되, 단층도금 또는 다층도금을 실시하는 단계;
(D) 상기 (C)단계를 거친 결과물을 소재용해용 분리수용액에 침적시켜 베이스부재인 소재만을 용해시킴에 의해 소재를 분리하고 도금층만을 남김으로써 금속성의 미세 파이프를 제조하는 단계;를 포함하되,
상기 제조방법을 릴투릴 설비를 이용하여 연속 공정으로 실시하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
In the manufacturing method for manufacturing a fine pipe,
(A) providing a linear material of a metal material or a synthetic resin material as a base member for giving a structure of a fine pipe;
(B) cleaning the surface for uniform deposition of the plating material during plating treatment for removing contaminants from the material and forming fine pipes;
(C) forming a metal plating layer on the surface of the material through a process of performing electroplating or electroless plating on the material or mixing electroless plating and electroplating, but performing single-layer plating or multi-layer plating;
(D) separating the material by immersing the resultant obtained through step (C) in a separate aqueous solution for dissolving the material to dissolve only the material as the base member, and preparing a metallic fine pipe by leaving only the plating layer; including,
A method for manufacturing a fine pipe, characterized in that the manufacturing method is carried out in a continuous process using a reel-to-reel facility.
제 1항에 있어서,
(B1) 상기 (B)단계와 (C)단계의 사이에 개재되어 실시될 수 있으며, 소재 표면에 금속촉매를 부여하여 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서, 소재의 표면에 금속촉매를 전처리 및 분포시킴으로써 활성화 처리하는 활성단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
(B1) It can be carried out intervening between steps (B) and (C), and is a process to increase plating efficiency by imparting a metal catalyst to the surface of the material, and pretreat the metal catalyst on the surface of the material. And an activation step of performing activation by distributing. Fine pipe manufacturing method comprising a.
제 2항에 있어서,
상기 (B1)단계에서는,
상기 소재에 대해 팔라듐(Pd2+)과 주석(Sn2+) 및 염소 이온에서 만들어진 콜로이드 분자를 산성용액에 혼합시킨 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 침적시킴에 의해 콜로이드 분자인 팔라듐(Pd)과 주석(Sn)을 소재 표면에 부착시킴으로써 금속촉매를 전처리하여 금속촉매에 의한 활성화 경향을 갖게 하기 위한 제1 활성화단계;
상기 제1 활성화단계를 거친 소재에 대해 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 용액을 산성용액에 혼합시킨 활성화용액에 침적시킴에 의해 소재 표면에 부착된 주석(Sn)의 환원작용으로 팔라듐(Pd) 금속을 석출 및 소재 표면에 분포시킴으로써 무전해도금이 가능하도록 금속촉매를 부여하기 위한 제2 활성화단계; 로 나누어 실시하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 2,
In step (B1),
The material was immersed in a Pd/Sn colloidal catalytic solution mixed with colloidal molecules made from palladium (Pd 2+ ), tin (Sn 2+ ) and chlorine ions in an acidic solution to obtain palladium (Pd) and colloidal molecules. A first activation step for pretreating the metal catalyst by attaching tin (Sn) to the material surface to have an activation tendency by the metal catalyst;
The palladium chloride (PdCl 2 ·2H 2 O) solution is immersed in an activating solution mixed with an acidic solution for the material that has undergone the first activation step, thereby reducing palladium (Pd) by the reduction action of tin (Sn) attached to the material surface. ) A second activation step for imparting a metal catalyst to enable electroless plating by depositing and distributing the metal on the material surface; Fine pipe manufacturing method, characterized in that carried out by dividing into.
제 3항에 있어서,
상기 제1 활성화단계에서는,
상기 Pd/Sn 콜로이드 촉매부여액에 대해 산성용액에 팔라듐 10∼500ppm과 주석 1∼50g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 10∼50℃의 온도 조건에서 1~10분 동안 침적 처리하며;
상기 제2 활성화단계에서는,
상기 활성화용액에 대해 산성용액 1~5ml/L에 염화팔라듐(PdCl2·2H2O) 0.2~1.0g/L을 포함되게 조성하고, 이에 소재를 침적시키되 2.5~3.5 pH 조건과 20~30℃의 온도 조건에서 1~3분 동안 침적 처리하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 3,
In the first activation step,
For the Pd/Sn colloidal catalyst imparting solution, the acidic solution contains 10 to 500 ppm of palladium and 1 to 50 g/L of tin, and the material is immersed in it, but immersion treatment for 1 to 10 minutes at a temperature of 10 to 50°C. And;
In the second activation step,
Palladium chloride (PdCl 2 ·2H 2 O) 0.2 to 1.0 g/L is contained in 1 to 5 ml/L of the activating solution, and the material is immersed therein, but at 2.5 to 3.5 pH conditions and at 20 to 30°C. Fine pipe manufacturing method, characterized in that the immersion treatment for 1 to 3 minutes at the temperature condition of.
제 1항에 있어서,
(B2) 상기 (A)단계에서 구비되는 소재가 금속재로서 알루미늄(Al)인 경우, 상기 (B)단계와 (C)단계의 사이에 개재되어 실시될 수 있으며, 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위한 공정으로서,
알루미늄(Al) 소재의 표면을 부식시켜 소재와 징케이트 처리에 의해 형성되는 산화피막 사이의 밀착성을 향상시키기 위한 에칭(Etching) 공정과, 상기 에칭공정 후 알루미늄(Al) 소재를 징케이트 처리액에 침적시켜 소재의 표면에 산화피막을 형성하기 위한 징케이트(Zincate) 공정을 연속 실시하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
(B2) When the material provided in step (A) is aluminum (Al) as a metal material, it may be interposed between steps (B) and (C) to increase plating efficiency. As a process,
An etching process to improve the adhesion between the material and the oxide film formed by zincate treatment by corroding the surface of the aluminum (Al) material, and after the etching process, the aluminum (Al) material is added to the zincate treatment solution. Continuously performing a Zincate process for forming an oxide film on the surface of the material by immersion; Fine pipe manufacturing method comprising a.
제 1항에 있어서,
상기 (B)단계에서는,
가성나트륨, 탄산나트륨, 규산나트륨, 인산나트륨, 시안화나트륨, 계면활성제 중에서 어느 1종 또는 2가지 이상이 용해된 알칼리탈지액 35~65g/L에 소재를 침적하되 초음파 발진 및 45~65℃의 온도 조건에서 1~5분 동안 탈지 처리하는 초음파침적탈지를 실시하거나;
또는 상기 초음파침적탈지 공정과 전해탈지 공정을 연속 실시하되, 상기 전해탈지는 시안화나트륨, 수산화나트륨, 탄산나트륨, 중탄산나트륨, 정규산나트륨, 제3인산나트륨, 계면활성제 중에서 어느 1종 또는 2가지 이상이 용해된 전해탈지액 0.1~150g/L에 소재를 침적하되, 전류밀도 2~10A/dm2와 40~60℃의 온도 조건에서 1~5분 동안 음극 또는 양극 전해하여 탈지 처리하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
In step (B),
Material is immersed in 35~65g/L of alkaline degreasing solution in which any one or two or more of caustic sodium, sodium carbonate, sodium silicate, sodium phosphate, sodium cyanide, surfactant is dissolved, but ultrasonic oscillation and temperature condition of 45~65℃ Ultrasonic deposition degreasing is performed for 1 to 5 minutes in the degreasing process;
Alternatively, the ultrasonic deposition and degreasing process and the electrolytic degreasing process are continuously performed, and the electrolytic degreasing is performed by one or two or more of sodium cyanide, sodium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium regular acid, trisodium phosphate, and surfactant. The material is immersed in 0.1 to 150 g/L of the dissolved electrolytic degreasing solution, characterized in that the degreasing treatment is performed by electrolyzing the cathode or the anode for 1 to 5 minutes at a current density of 2 to 10 A/dm 2 and a temperature of 40 to 60°C. Fine pipe manufacturing method.
제 1항에 있어서,
상기 (C)단계에서는,
상기 소재의 표면에 Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf 중에서 선택된 어느 1종을 석출하거나 2가지 이상을 동시 석출시켜 도금층을 형성하되, 단층도금층 또는 다층도금층을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
In step (C),
On the surface of the material, any one selected from Cu, Ni, Cr, Sn, Zn, Au, Ag, Rh, Pt, Pd, Ti, Co, Cd, V, Nb, Mo, W, Hf or two A method for manufacturing a fine pipe, characterized in that the above is simultaneously precipitated to form a plating layer, and a single-layer plating layer or a multi-layer plating layer is formed.
제1 항에 있어서,

상기 (D)단계에서는,
상기 소재가 금속재인 경우,
상기 소재용해용 분리수용액은 NaOH이 1~500g/L 용해된 용액, HCl 1~100% 농도의 용액, H2SO4 1~100% 농도의 용액 중에서 어느 1종을 선택 사용하여 소재만을 녹여 도금층을 분리해내되, 초음파 발진 및 20~90℃의 온도 조건에서 소재가 녹을 때까지 실시하며;

상기 소재가 합성수지재인 경우,
상기 소재용해용 분리수용액은 20~50% 농도의 KOH 또는 NaOH 용액, 20~50% 농도의 NaOH에 5~50% 농도의 에탄올을 혼합한 용액, 개미산(formic acid) 10~100% 농도의 용액 중에서 어느 1종을 선택 사용하여 소재만을 녹여 도금층을 분리해내되, 초음파발진 및 20~90℃의 온도 조건에서 소재가 녹을 때까지 실시하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.

The method of claim 1,

In step (D),
If the material is a metal material,
The separation aqueous solution for material dissolution is one of a solution in which NaOH is dissolved in 1 to 500 g/L, a solution in HCl concentration of 1 to 100%, and a solution in concentration of H2SO4 of 1 to 100% to separate the plating layer by dissolving only the material. It is carried out until the material is melted under ultrasonic oscillation and temperature conditions of 20 ~ 90 ℃;

If the material is a synthetic resin material,
The separated aqueous solution for dissolving the material is a solution of 20-50% concentration of KOH or NaOH, a solution of 20-50% concentration of NaOH and 5-50% concentration of ethanol, and a 10-100% concentration of formic acid solution A method for manufacturing a fine pipe, characterized in that by selecting any one of them and melting only the material to separate the plating layer, and performing ultrasonic oscillation and until the material is melted in a temperature condition of 20 to 90°C.

제 1항에 있어서,
(B3) 상기 (B)단계와 (C)단계의 사이에 개재되어 실시될 수 있는 도금 전처리단계로서, (A)단계에서 구비되는 소재가 금속재로서 아연(Zn)인 경우, 도금효율을 높일 수 있도록 하기 위하여 소재의 표면에 동도금을 실시하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
(B3) As a plating pretreatment step that can be carried out interposed between steps (B) and (C), when the material provided in step (A) is zinc (Zn) as a metal material, plating efficiency can be improved. Performing copper plating on the surface of the material to ensure that it is; Fine pipe manufacturing method comprising a.
제 1항에 있어서,
(B4) 상기 (B)단계와 (C)단계의 사이에 개재되어 실시될 수 있는 도금 전처리단계로서, 도금효율 및 제조되는 미세 파이프의 내경 평탄도를 높일 수 있도록 하기 위하여 소재의 표면에 물리기상증착 또는 화학기상증착에 의한 금속 증착을 실시하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
(B4) As a plating pretreatment step that can be carried out intervening between steps (B) and (C), physical vaporization on the surface of the material to increase plating efficiency and inner diameter flatness of the manufactured fine pipes. Performing metal deposition by vapor deposition or chemical vapor deposition; Fine pipe manufacturing method comprising a.
제 1항에 있어서,
상기 (A)단계에서 구비되는 베이스부재로서의 소재는,
금속재인 경우,
Mg, Al, Cr, Zn, Nb, Sn 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합금된 상태의 소재이며;
합성수지재인 경우,
polycarbonate, polypropylene, nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS(acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC(poly vinyl chloride), SAN(styrene acrylonitrile copolymer), PMMA(polymethyl methacrylate), styrene계(PS, GPPS, HIPS), polyethylene, polyamide 중에서 선택된 어느 1종 또는 2가지 이상이 합성된 상태의 소재인 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1,
The material as the base member provided in step (A),
For metal,
It is a material in which one or two or more selected from Mg, Al, Cr, Zn, Nb, and Sn are alloyed;
For synthetic resin materials,
polycarbonate, polypropylene, nylon, polyacetal, polysulfone, noryl, ABS (acrylonitrile-butadiene-styrene), PVC (poly vinyl chloride), SAN (styrene acrylonitrile copolymer), PMMA (polymethyl methacrylate), styrene (PS, GPPS, HIPS) , polyethylene, polyamide, any one or two or more selected from the method of manufacturing a fine pipe, characterized in that the material in a state of being synthesized.
제 1항 또는 제 7항에 있어서,
상기 도금층은,
0.1㎛ ~ 1cm의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 파이프 제조방법.
The method of claim 1 or 7,
The plating layer,
Fine pipe manufacturing method, characterized in that formed to a thickness of 0.1㎛ ~ 1cm.
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