KR102161430B1 - Anisotropic conductive film, connecting method, and joined structure - Google Patents

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Abstract

제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름으로서, 막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 도전성 입자를 함유하고, 상기 막형성 수지가, 결정성 수지와 비정성 수지를 함유하는 이방성 도전 필름이다.An anisotropic conductive film for anisotropic conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component, comprising a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, and conductive particles, wherein the film-forming resin is a crystalline resin It is an anisotropic conductive film containing and an amorphous resin.

Description

이방성 도전 필름, 접속 방법, 및 접합체{ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTING METHOD, AND JOINED STRUCTURE}An anisotropic conductive film, a connection method, and a bonded body TECHNICAL FIELD [ANISOTROPIC CONDUCTIVE FILM, CONNECTING METHOD, AND JOINED STRUCTURE]

본 발명은 이방성 도전 필름, 접속 방법, 및 접합체에 관한 것이다. The present invention relates to an anisotropic conductive film, a connection method, and a bonded body.

종래부터 전자 부품을 기판과 접속하는 수단으로서, 도전성 입자가 분산된 열경화성 수지를 박리 필름에 도포한 테이프상의 접속 재료 (예를 들어, 이방성 도전 필름 (ACF ; Anisotropic Conductive Film)) 가 사용되고 있다.Conventionally, as a means for connecting an electronic component to a substrate, a tape-like connection material (for example, an anisotropic conductive film (ACF)) in which a thermosetting resin in which conductive particles are dispersed is applied to a release film has been used.

이 이방성 도전 필름은, 예를 들어, 플렉시블 프린트 기판 (FPC) 이나 IC 칩의 단자와, LCD 패널의 유리 기판 상에 형성된 전극을 접속하는 경우를 비롯하여, 여러 가지 단자끼리를 접착시킴과 함께 전기적으로 접속하는 경우에 사용되고 있다.This anisotropic conductive film, for example, when connecting a terminal of a flexible printed circuit board (FPC) or an IC chip to an electrode formed on a glass substrate of an LCD panel, and bonding various terminals to each other and electrically It is used when connecting.

그런데, 최근, 전자 부품끼리의 접속에는, 저온에서의 접속이 요구되고 있다. 저온에서의 접속은, 전자 부품의 열적 데미지를 저감시키는 점, 접속시의 가열 온도의 편차 (전극부에 접속한 배선의 끝에 부품이 연결되어 있는지 여부에 따라, 전극부에 있어서의 가열 온도가 바뀌어 편차가 된다. 실장 밀도가 고밀도가 되면 편차는 특히 현저해진다) 를 방지하는 점, 및 실장 설비에 대한 부하의 저감 면에서 요구되고 있다.However, in recent years, connection at a low temperature is required for connection between electronic components. Connection at low temperatures reduces thermal damage to electronic components, and variations in heating temperature during connection (depending on whether or not a component is connected to the end of the wiring connected to the electrode, the heating temperature in the electrode portion changes. When the mounting density becomes high, the deviation becomes particularly remarkable) and is required in terms of reducing the load on the mounting equipment.

그러나, 저온에서의 접속에 있어서, 종래의 이방성 도전 필름은, 충분히 용융되지 않아 유동성이 낮다. 그 때문에, 충분한 접속을 할 수 없고, 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐이 불충분해진다는 문제가 있다.However, in connection at a low temperature, the conventional anisotropic conductive film is not sufficiently melted and has low fluidity. Therefore, there is a problem that sufficient connection cannot be made, and conduction resistance and crushing of the conductive particles become insufficient.

한편, 저온에서의 접속에 있어서의 유동성을 양호하게 하고자 하여, 이방성 도전 필름에 있어서 저온에서 용융되는 저분자 재료 등을 증가시키면, 상기 이방성 도전 필름을 릴에 권취하였을 때에, 단부 (端部) 로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나온다는 문제가 있다.On the other hand, in order to improve the fluidity in connection at low temperature, and increase the low molecular weight material that melts at low temperature in the anisotropic conductive film, when the anisotropic conductive film is wound on a reel, the above There is a problem that the anisotropic conductive film protrudes.

그런데, 이방성 도전 접속에 사용하는 액상의 이방성 도전 접착제로서, 사용전 및 접속시의 유동성을 제어하기 위하여, 결정성 폴리에스테르 수지를 사용하는 이방성 도전 접착제가 제안되어 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).By the way, as a liquid anisotropic conductive adhesive used for anisotropic conductive connection, in order to control fluidity before use and during connection, an anisotropic conductive adhesive using a crystalline polyester resin has been proposed (for example, Patent Document 1 Reference).

그러나, 이 제안의 기술을 이방성 도전 필름에 적용해도, 저온에서의 접속에 있어서 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐이 불충분해진다는 문제, 및 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나온다는 문제의 전부를 해결할 수 없다.However, even if the technique of this proposal is applied to an anisotropic conductive film, the problem of insufficient conduction resistance and crushing of conductive particles in connection at low temperature, and the anisotropic conduction from the end when the anisotropic conductive film is wound on a reel. It can't solve the whole problem of film escaping.

따라서, 저온에서의 접속에 있어서 충분한 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐을 얻을 수 있으며, 또한 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나오는 것을 방지할 수 있는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체의 제공이 요구되고 있는 것이 현 상황이다.Therefore, sufficient conduction resistance and crushing of the conductive particles can be obtained in connection at low temperature, and an anisotropic conductive film capable of preventing the anisotropic conductive film from protruding from the end when the anisotropic conductive film is wound on a reel And the present situation is that the provision of a connection method using the anisotropic conductive film and a bonded body using the anisotropic conductive film is required.

일본 공개특허공보 2006-152233호Japanese Patent Application Publication No. 2006-152233

본 발명은, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 이하의 목적을 달성하는 것을 과제로 한다. 즉, 본 발명은, 저온에서의 접속에 있어서 충분한 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐을 얻을 수 있으며, 또한 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나오는 것을 방지할 수 있는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention makes it a subject to solve the aforementioned various problems in the prior art and achieve the following objects. That is, in the present invention, sufficient conduction resistance and crushing of the conductive particles can be obtained in connection at low temperatures, and when the anisotropic conductive film is wound on a reel, the anisotropic conductive film can be prevented from protruding from the end. It aims at providing a present anisotropic conductive film, a connection method using the anisotropic conductive film, and a bonded body using the anisotropic conductive film.

상기 과제를 해결하기 위한 수단으로는, 이하와 같다. 즉,As a means for solving the said subject, it is as follows. In other words,

<1> 제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름으로서,<1> As an anisotropic conductive film for anisotropically conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,

막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 도전성 입자를 함유하고,It contains a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, and conductive particles,

상기 막형성 수지가, 결정성 수지와 비정성 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름이다.The film-forming resin is an anisotropic conductive film comprising a crystalline resin and an amorphous resin.

<2> 결정성 수지와 비정성 수지의 질량 비율 (결정성 수지 : 비정성 수지) 이, 90 : 10 ∼ 10 : 90 인 상기 <1> 에 기재된 이방성 도전 필름이다.It is the anisotropic conductive film as described in said <1> whose mass ratio (crystalline resin: amorphous resin) of <2> crystalline resin and amorphous resin is 90:10-10:90.

<3> 결정성 수지가, 결정성 폴리에스테르 수지이고,<3> Crystalline resin is a crystalline polyester resin,

비정성 수지가, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지, 비정성 페녹시 수지, 및 비정성 폴리우레탄 수지 중 적어도 어느 것인 상기 <1> 내지 <2> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.An amorphous resin is an anisotropic conductive film in any one of said <1> to <2> which is at least any one of amorphous polyester urethane resin, amorphous phenoxy resin, and amorphous polyurethane resin.

<4> 비정성 수지가, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지인 상기 <1> 내지 <3> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름이다.A <4> amorphous resin is the anisotropic conductive film in any one of said <1>-<3> which is an amorphous polyester urethane resin.

<5> 제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법으로서,<5> As a connection method for anisotropically conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,

상기 제 2 전자 부품의 단자 상에 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제 1 배치 공정과,A first arrangement step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of <1> to <4> on the terminal of the second electronic component, and

상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제 1 전자 부품을, 상기 제 1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제 2 배치 공정과,A second arrangement step of disposing the first electronic component on the anisotropic conductive film so that a terminal of the first electronic component is in contact with the anisotropic conductive film,

상기 제 1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법이다.A connection method comprising a heating and pressing step of heating and pressing the first electronic component by a heating and pressing member.

<6> 단자를 갖는 제 1 전자 부품과, 단자를 갖는 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품과 상기 제 2 전자 부품 사이에 개재하여 상기 제 1 전자 부품의 단자와 상기 제 2 전자 부품의 단자를 전기적으로 접속하는 이방성 도전 필름의 경화물을 갖고,<6> A first electronic component having a terminal, a second electronic component having a terminal, and the terminal of the first electronic component and the second electronic component interposed between the first electronic component and the second electronic component. Having a cured product of an anisotropic conductive film electrically connecting terminals,

상기 이방성 도전 필름이, 상기 <1> 내지 <4> 중 어느 하나에 기재된 이방성 도전 필름인 것을 특징으로 하는 접합체이다.It is a bonded body characterized in that the said anisotropic conductive film is the anisotropic conductive film in any one of said <1>-<4>.

본 발명에 의하면, 종래에 있어서의 상기 여러 문제를 해결하고, 상기 목적을 달성할 수 있고, 저온에서의 접속에 있어서 충분한 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐을 얻을 수 있으며, 또한 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나오는 것을 방지할 수 있는 이방성 도전 필름, 그리고 그 이방성 도전 필름을 사용한 접속 방법, 및 상기 이방성 도전 필름을 사용한 접합체를 제공할 수 있다.Advantageous Effects of Invention According to the present invention, it is possible to solve the above-described problems in the prior art, achieve the above object, obtain sufficient conduction resistance and crushing of conductive particles in connection at low temperature, and transfer an anisotropic conductive film to a reel. When wound up, an anisotropic conductive film capable of preventing the anisotropic conductive film from protruding from an end portion, a connection method using the anisotropic conductive film, and a bonded body using the anisotropic conductive film can be provided.

(이방성 도전 필름)(Anisotropic conductive film)

본 발명의 이방성 도전 필름은, 막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 도전성 입자를 적어도 함유하고, 추가로 필요에 따라, 그 밖의 성분을 함유한다.The anisotropic conductive film of the present invention contains at least a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, and an electroconductive particle, and further contains other components as necessary.

상기 이방성 도전 필름은, 제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름이다.The said anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film which anisotropically connects a terminal of a 1st electronic component to a terminal of a 2nd electronic component.

<막형성 수지><Film-forming resin>

상기 막형성 수지는, 결정성 수지와 비정성 수지를 함유한다.The film-forming resin contains a crystalline resin and an amorphous resin.

-결정성 수지--Crystalline resin-

상기 결정성 수지로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 결정성 폴리에스테르 수지, 결정성 폴리우레탄 수지, 결정성 폴리올레핀 수지, 결정성 폴리아미드 수지, 결정성 폴리스티렌 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 접착성 및 전기 절연성 면에서, 결정성 폴리에스테르 수지가 바람직하다.The crystalline resin is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, and for example, crystalline polyester resin, crystalline polyurethane resin, crystalline polyolefin resin, crystalline polyamide resin, crystalline polystyrene Resin, etc. are mentioned. Among these, a crystalline polyester resin is preferable from the viewpoint of adhesiveness and electrical insulation.

이들은, 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

여기서, 상기 결정성 수지란, 결정 영역을 갖는 수지를 말하고, 상기 결정성 수지인지 여부는, 예를 들어, 시차주사 열량 분석에 있어서, 승온 과정에서 흡열 피크가 관찰됨으로써 확인할 수 있다.Here, the crystalline resin refers to a resin having a crystalline region, and whether the crystalline resin is, for example, in differential scanning calorimetry, can be confirmed by observing an endothermic peak during the heating process.

상기 결정성 수지의 수평균 분자량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 8,000 ∼ 50,000 이 바람직하고, 10,000 ∼ 40,000 이 보다 바람직하고, 15,000 ∼ 30,000 이 특히 바람직하다.The number average molecular weight of the crystalline resin is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 8,000 to 50,000, more preferably 10,000 to 40,000, and particularly preferably 15,000 to 30,000.

상기 수평균 분자량은, 예를 들어, 겔 침투 크로마토그래피 측정 (GPC, 폴리스티렌 환산) 에 의해 구할 수 있다.The said number average molecular weight can be calculated|required, for example by gel permeation chromatography measurement (GPC, polystyrene conversion).

상기 결정성 수지의 융점으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 80 ℃ ∼ 110 ℃ 가 바람직하고, 90 ℃ ∼ 105 ℃ 가 보다 바람직하다.The melting point of the crystalline resin is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 80°C to 110°C, and more preferably 90°C to 105°C.

상기 융점은, 예를 들어, 시차주사 열량 분석 (DSC) 에 의해 측정할 수 있다.The melting point can be measured, for example, by differential scanning calorimetry (DSC).

상기 이방성 도전 필름에 있어서의 상기 결정성 수지의 함유량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 7 질량% ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 15 질량% ∼ 35 질량% 가 특히 바람직하다.The content of the crystalline resin in the anisotropic conductive film is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 3% by mass to 50% by mass, and more preferably 7% by mass to 50% by mass. And, 15 mass%-35 mass% are especially preferable.

-비정성 수지--Amorphous resin-

상기 비정성 수지로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 도전성 입자의 찌부러짐 면, 및 상기 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나오는 것을 방지하는 점에서, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지, 비정성 페녹시 수지, 및 비정성 폴리우레탄 수지 중 적어도 어느 것이 바람직하고, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지가 보다 바람직하다.The amorphous resin is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, and the anisotropic conductive film protrudes from the end when the crushed surface of the conductive particles and the anisotropic conductive film are wound on a reel. From the viewpoint of preventing, at least any of an amorphous polyester urethane resin, an amorphous phenoxy resin, and an amorphous polyurethane resin is preferable, and an amorphous polyester urethane resin is more preferable.

상기 비정성 폴리에스테르우레탄 수지로는, 예를 들어, 우레탄 변성된 비정성 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다.Examples of the amorphous polyester urethane resin include urethane-modified amorphous polyester resins.

상기 비정성 수지의 수평균 분자량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 1,000 ∼ 70,000 이 바람직하고, 20,000 ∼ 60,000 이 보다 바람직하고, 30,000 ∼ 50,000 이 특히 바람직하다.The number average molecular weight of the amorphous resin is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 1,000 to 70,000, more preferably 20,000 to 60,000, and particularly preferably 30,000 to 50,000.

상기 수평균 분자량은, 예를 들어, 겔 침투 크로마토그래피 측정 (GPC, 폴리스티렌 환산) 에 의해 구할 수 있다.The said number average molecular weight can be calculated|required, for example by gel permeation chromatography measurement (GPC, polystyrene conversion).

상기 비정성 수지의 유리 전이 온도로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 60 ℃ ∼ 110 ℃ 가 바람직하고, 70 ℃ ∼ 100 ℃ 가 보다 바람직하다.The glass transition temperature of the amorphous resin is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably from 60°C to 110°C, and more preferably from 70°C to 100°C.

상기 유리 전이 온도는, 예를 들어, 시차주사 열량 분석 (DSC) 에 의해 측정할 수 있다.The glass transition temperature can be measured, for example, by differential scanning calorimetry (DSC).

상기 이방성 도전 필름에 있어서의 상기 비정성 수지의 함유량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 3 질량% ∼ 50 질량% 가 바람직하고, 7 질량% ∼ 50 질량% 가 보다 바람직하고, 15 질량% ∼ 35 질량% 가 특히 바람직하다.The content of the amorphous resin in the anisotropic conductive film is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 3% by mass to 50% by mass, and more preferably 7% by mass to 50% by mass. And, 15 mass%-35 mass% are especially preferable.

상기 결정성 수지와 상기 비정성 수지의 질량 비율 (결정성 수지 : 비정성 수지) 로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 90 : 10 ∼ 10 : 90 이 바람직하고, 90 : 10 ∼ 20 : 80 이 보다 바람직하고, 60 : 40 ∼ 40 : 60 이 특히 바람직하다.The mass ratio of the crystalline resin and the amorphous resin (crystalline resin: amorphous resin) is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, but 90:10 to 10:90 is preferable, and 90:10 -20:80 is more preferable, and 60:40-40:60 is particularly preferable.

상기 막형성 수지는, 열가소성 수지로서, 상기 경화성 수지와는 상이한 것이다.The film-forming resin is a thermoplastic resin and is different from the curable resin.

<경화성 수지><curable resin>

상기 경화성 수지로는 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 에폭시 수지, 아크릴레이트 등을 들 수 있다.The curable resin is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include an epoxy resin and an acrylate.

-에폭시 수지--Epoxy resin-

상기 에폭시 수지로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 비스페놀 A 형 에폭시 수지, 비스페놀 F 형 에폭시 수지, 노볼락형 에폭시 수지, 그들의 변성 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The epoxy resin is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, for example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, novolac epoxy resin, modified epoxy resins thereof, alicyclic epoxy resins And the like. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

-아크릴레이트--Acrylate-

상기 아크릴레이트에는, 메타크릴레이트도 포함된다.Methacrylate is also contained in the said acrylate.

상기 아크릴레이트로는 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 이소프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 인산아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 디메틸올트리시클로데칸디아크릴레이트, 테트라메틸렌글리콜테트라아크릴레이트, 2-하이드록시-1,3-디아크릴옥시프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시메톡시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(아크릴옥시에톡시)페닐]프로판, 디시클로펜테닐아크릴레이트, 트리시클로데카닐아크릴레이트, 트리스(아크릴옥시에틸)이소시아누레이트, 우레탄아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 이들 아크릴레이트를 메타크릴레이트로 한 것도 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The acrylate is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, and, for example, methyl acrylate, ethyl acrylate, isopropyl acrylate, isobutyl acrylate, phosphate acrylate, epoxy acrylate, ethylene glycol Diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, dimethylol tricyclodecane diacrylate, tetramethylene glycol tetraacrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2, 2-bis[4-(acryloxymethoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(acryloxyethoxy)phenyl]propane, dicyclopentenylacrylate, tricyclodecanylacrylate, tris( Acryloxyethyl) isocyanurate, urethane acrylate, etc. are mentioned. Moreover, what made these acrylates a methacrylate is mentioned. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의 상기 경화성 수지의 함유량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 30 질량% ∼ 80 질량% 가 바람직하고, 40 질량% ∼ 55 질량% 가 보다 바람직하다.The content of the curable resin in the anisotropic conductive film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 30 to 80% by mass, more preferably 40 to 55% by mass. .

<경화제><hardener>

상기 경화제로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 이미다졸류, 유기 과산화물, 아니온계 경화제, 카티온계 경화제 등을 들 수 있다.The curing agent is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include imidazoles, organic peroxides, anionic curing agents, and cationic curing agents.

상기 이미다졸류로는, 예를 들어, 2-에틸 4-메틸이미다졸 등을 들 수 있다.As said imidazoles, 2-ethyl 4-methylimidazole, etc. are mentioned, for example.

상기 유기 과산화물로는, 예를 들어, 라우로일퍼옥사이드, 부틸퍼옥사이드, 벤질퍼옥사이드, 디라우로일퍼옥사이드, 디부틸퍼옥사이드, 퍼옥시디카보네이트, 벤조일퍼옥사이드 등을 들 수 있다.Examples of the organic peroxide include lauroyl peroxide, butyl peroxide, benzyl peroxide, dilauroyl peroxide, dibutyl peroxide, peroxydicarbonate, and benzoyl peroxide.

상기 아니온계 경화제로는, 예를 들어, 유기 아민류 등을 들 수 있다.As said anionic hardening agent, organic amines etc. are mentioned, for example.

상기 카티온계 경화제로는, 예를 들어, 술포늄염, 오늄염, 알루미늄 킬레이트제 등을 들 수 있다.Examples of the cationic curing agent include a sulfonium salt, an onium salt, an aluminum chelating agent, and the like.

상기 경화성 수지와 상기 경화제의 조합으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 상기 에폭시 수지와 상기 이미다졸류의 조합, 상기 아크릴레이트와 상기 유기 과산화물의 조합이 바람직하다.The combination of the curable resin and the curing agent is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, and a combination of the epoxy resin and the imidazoles, and a combination of the acrylate and the organic peroxide are preferable.

상기 이방성 도전 필름에 있어서의 상기 경화제의 함유량으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 1 질량% ∼ 10 질량% 가 바람직하고, 3 질량% ∼ 7 질량% 가 보다 바람직하다.The content of the curing agent in the anisotropic conductive film is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 3 to 7% by mass.

<도전성 입자><Conductive particles>

상기 도전성 입자로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 금속 입자, 금속 피복 수지 입자 등을 들 수 있다.It does not specifically limit as said electroconductive particle, It can select suitably according to the objective, For example, metal particle, metal-coated resin particle, etc. are mentioned.

상기 금속 입자로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 니켈, 코발트, 은, 구리, 금, 팔라듐, 땜납 등을 들 수 있다. 이들은 1 종 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.The metal particles are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include nickel, cobalt, silver, copper, gold, palladium, solder, and the like. These may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

이들 중에서도 니켈, 은, 구리가 바람직하다. 이들 금속 입자는, 표면 산화를 방지할 목적으로, 그 표면에 금, 팔라듐을 입히고 있어도 된다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다.Among these, nickel, silver, and copper are preferable. These metal particles may be coated with gold or palladium on their surface for the purpose of preventing surface oxidation. Further, you may use a metal protrusion or an organic material coated with an insulating film on the surface.

상기 금속 피복 수지 입자로는, 수지 입자의 표면을 금속으로 피복한 입자이면, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 수지 입자의 표면을 니켈, 은, 땜납, 구리, 금, 및 팔라듐 중 적어도 어느 금속으로 피복한 입자 등을 들 수 있다. 또한, 표면에 금속 돌기나 유기물로 절연 피막을 입힌 것을 사용해도 된다. 저저항을 고려한 접속의 경우, 수지 입자의 표면을 은으로 피복한 입자가 바람직하다.The metal-coated resin particle is not particularly limited as long as it is a particle coated with a metal on the surface of the resin particle, and may be appropriately selected according to the purpose. For example, the surface of the resin particle is nickel, silver, solder, copper, And particles coated with at least any metal of gold and palladium. Further, you may use a metal protrusion or an organic material coated with an insulating film on the surface. In the case of connection considering low resistance, particles in which the surface of the resin particles are coated with silver are preferred.

상기 수지 입자에 대한 금속의 피복 방법으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 무전해 도금법, 스퍼터링법 등을 들 수 있다.The method of coating the metal to the resin particles is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, and examples thereof include an electroless plating method, a sputtering method, and the like.

상기 수지 입자의 재질로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 스티렌-디비닐벤젠 공중합체, 벤조구아나민 수지, 가교 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 스티렌-실리카 복합 수지 등을 들 수 있다.The material of the resin particles is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, for example, styrene-divinylbenzene copolymer, benzoguanamine resin, crosslinked polystyrene resin, acrylic resin, styrene-silica composite resin And the like.

상기 도전성 입자는, 이방성 도전 접속시에 도전성을 갖고 있으면 된다. 예를 들어, 금속 입자의 표면에 절연 피막을 입힌 입자여도, 이방성 도전 접속시에 상기 입자가 변형되고, 상기 금속 입자가 노출되는 것이면, 상기 도전성 입자이다.The said electroconductive particle should just have electroconductivity at the time of anisotropic electroconductive connection. For example, even if it is a particle|grain coated with an insulating film on the surface of a metal particle, if the said particle|grain is deformed at the time of anisotropic conductive connection, and the said metal particle is exposed, it is the said electroconductive particle.

상기 도전성 입자의 평균 입자경으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 1 ㎛ ∼ 50 ㎛ 가 바람직하고, 2 ㎛ ∼ 25 ㎛ 가 보다 바람직하고, 2 ㎛ ∼ 10 ㎛ 가 특히 바람직하다.The average particle diameter of the conductive particles is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 1 µm to 50 µm, more preferably 2 µm to 25 µm, and particularly preferably 2 µm to 10 µm. .

상기 평균 입자경은, 임의로 10 개의 도전성 입자에 대해 측정한 입자경의 평균치이다.The said average particle diameter is an average value of the particle diameters arbitrarily measured about 10 electroconductive particle.

상기 입자경은, 예를 들어, 주사형 전자현미경 관찰에 의해 측정할 수 있다.The particle diameter can be measured, for example, by observation with a scanning electron microscope.

<그 밖의 성분><Other ingredients>

상기 그 밖의 성분으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 실란 커플링제, 충전제, 연화제, 촉진제, 노화 방지제, 착색제 (안료, 염료), 유기 용제, 이온 캐처제 등을 들 수 있다. 상기 그 밖의 성분의 첨가량은, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The other components are not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose, and for example, a silane coupling agent, a filler, a softener, an accelerator, an anti-aging agent, a colorant (pigment, dye), an organic solvent, an ion catcher And the like. The amount of the other components to be added is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose.

<제 1 전자 부품 및 제 2 전자 부품><The first electronic component and the second electronic component>

상기 제 1 전자 부품 및 상기 제 2 전자 부품으로는, 상기 이방성 도전 필름을 사용한 이방성 도전 접속의 대상이 되는, 단자를 갖는 전자 부품이면, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 유리 기판, 플렉시블 기판, 리지드 기판, IC (Integrated Circuit) 칩, TAB (Tape Automated Bonding), 액정 패널 등을 들 수 있다. 상기 유리 기판으로는, 예를 들어, Al 배선 형성 유리 기판, ITO (산화인듐주석) 배선 형성 유리 기판 등을 들 수 있다. 상기 IC 칩으로는, 예를 들어, 플랫 패널 디스플레이 (FPD) 에 있어서의 액정 화면 제어용 IC 칩 등을 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited as long as it is an electronic component having a terminal to be subjected to anisotropic conductive connection using the anisotropic conductive film, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, a glass substrate, a flexible substrate, a rigid substrate, an IC (Integrated Circuit) chip, a TAB (Tape Automated Bonding), a liquid crystal panel, etc. are mentioned. Examples of the glass substrate include an Al wiring formed glass substrate, an ITO (indium tin oxide) wiring formed glass substrate, and the like. As said IC chip, an IC chip for liquid crystal screen control in a flat panel display (FPD), etc. is mentioned, for example.

상기 이방성 도전 필름의 평균 두께로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 5 ㎛ ∼ 100 ㎛ 가 바람직하고, 10 ㎛ ∼ 60 ㎛ 가 보다 바람직하고, 20 ㎛ ∼ 50 ㎛ 가 특히 바람직하다.The average thickness of the anisotropic conductive film is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 5 µm to 100 µm, more preferably 10 µm to 60 µm, and particularly preferably 20 µm to 50 µm. Do.

상기 이방성 도전 필름의 제조 방법으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 상기 결정성 수지와 상기 비정성 수지와 상기 경화성 수지와 상기 경화제와 상기 도전성 입자를 혼합하여 얻은 이방성 도전 조성물을, 박리 처리한 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 필름 상에 도포하는 방법 등을 들 수 있다.The method for producing the anisotropic conductive film is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose, for example, by mixing the crystalline resin, the amorphous resin, the curable resin, the curing agent, and the conductive particles A method of applying the obtained anisotropic conductive composition onto a peel-treated polyethylene terephthalate (PET) film, etc. are mentioned.

(접속 방법)(Connection method)

본 발명의 접속 방법은, 제 1 배치 공정과 제 2 배치 공정과 가열 가압 공정을 적어도 포함하고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 공정을 포함한다.The connection method of the present invention includes at least a first batching step, a second batching step, and a heating and pressing step, and further includes other steps as necessary.

상기 접속 방법은, 제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 방법이다.The connection method is a method of anisotropically conductively connecting the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component.

상기 제 1 전자 부품, 및 상기 제 2 전자 부품으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 제 1 전자 부품, 및 상기 제 2 전자 부품을 각각 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, for example, the first electronic component exemplified in the description of the anisotropic conductive film of the present invention, And the second electronic component, respectively.

<제 1 배치 공정><1st batch process>

상기 제 1 배치 공정으로는, 상기 제 2 전자 부품의 단자 상에 본 발명의 상기 이방성 도전 필름을 배치하는 공정이면, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The first arrangement step is not particularly limited as long as it is a step of disposing the anisotropic conductive film of the present invention on the terminal of the second electronic component, and may be appropriately selected according to the purpose.

<제 2 배치 공정><2nd batch process>

상기 제 2 배치 공정으로는, 상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제 1 전자 부품을, 상기 제 1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 공정이면, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The second arrangement step is not particularly limited as long as it is a step of arranging the first electronic component on the anisotropic conductive film so that the terminal of the first electronic component is in contact with the anisotropic conductive film. You can choose.

<가열 가압 공정><Heating and pressing process>

상기 가열 가압 공정으로는, 상기 제 1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 공정이면, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다.The heating and pressing step is not particularly limited as long as it is a step of heating and pressing the first electronic component with a heating and pressing member, and may be appropriately selected according to the purpose.

상기 가열 가압 부재로는, 예를 들어, 가열 기구를 갖는 가압 부재 등을 들 수 있다. 상기 가열 기구를 갖는 가압 부재로는, 예를 들어, 히트 툴 등을 들 수 있다.Examples of the heating pressing member include a pressing member having a heating mechanism. Examples of the pressing member having the heating mechanism include a heat tool.

상기 가열의 온도로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 100 ℃ ∼ 140 ℃ 가 바람직하다.The heating temperature is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably from 100°C to 140°C.

상기 가압의 압력으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 0.5 ㎫ ∼ 10 ㎫ 이 바람직하다.The pressure for pressurization is not particularly limited, and can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 0.5 MPa to 10 MPa.

상기 가열 및 가압의 시간으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있는데, 0.5 초간 ∼ 10 초간이 바람직하다.The heating and pressurizing time is not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, and 0.5 seconds to 10 seconds are preferable.

(접합체)(Conjugate)

본 발명의 접합체는, 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품과 이방성 도전 필름의 경화물을 적어도 갖고, 추가로 필요에 따라 그 밖의 부재를 갖는다.The bonded body of the present invention has at least a cured product of a first electronic component, a second electronic component, and an anisotropic conductive film, and further has other members as necessary.

상기 제 1 전자 부품, 및 상기 제 2 전자 부품으로는, 특별히 제한되지 않고, 목적에 따라 적절히 선택할 수 있고, 예를 들어, 본 발명의 상기 이방성 도전 필름의 설명에서 예시한 상기 제 1 전자 부품, 및 상기 제 2 전자 부품을 각각 들 수 있다.The first electronic component and the second electronic component are not particularly limited, and can be appropriately selected according to the purpose, for example, the first electronic component exemplified in the description of the anisotropic conductive film of the present invention, And the second electronic component, respectively.

상기 이방성 도전 필름은, 본 발명의 상기 이방성 도전 필름이다.The said anisotropic conductive film is the said anisotropic conductive film of this invention.

상기 이방성 도전 필름의 경화물은, 상기 제 1 전자 부품과 상기 제 2 전자 부품 사이에 개재하여 상기 제 1 전자 부품의 단자와 상기 제 2 전자 부품의 단자를 전기적으로 접속하고 있다.The cured product of the anisotropic conductive film is interposed between the first electronic component and the second electronic component to electrically connect the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component.

상기 접합체는, 예를 들어, 본 발명의 상기 접속 방법에 의해 제조할 수 있다.The said conjugate can be manufactured by the said connection method of this invention, for example.

실시예Example

이하, 본 발명의 실시예를 설명하는데, 본 발명은, 이들 실시예에 전혀 한정되지 않는다.Hereinafter, examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples at all.

(실시예 1)(Example 1)

<이방성 도전 필름의 제작><Production of anisotropic conductive film>

결정성 폴리에스테르 수지 (상품명 : SP-185, 닛폰 합성 화학 공업 주식회사 제조, 막형성 수지) 45 질량부, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지 (상품명 : UR-1400, 토요보 주식회사 제조, 막형성 수지) 5 질량부, 우레탄아크릴레이트 (상품명 : M-1600, 토아 합성 주식회사 제조, 경화성 수지) 28 질량부, 다관능 아크릴레이트 (상품명 : M-315, 토아 합성 주식회사 제조, 경화성 수지) 20 질량부, 인산아크릴레이트 (상품명 : PM-2, 닛폰 화약 주식회사 제조, 경화성 수지) 2 질량부, 디라우로일퍼옥사이드 (상품명 : 퍼로일 L, 니치유 주식회사 제조, 경화제) 5 질량부, Ni 금속 입자 (파레인코사 제조, 평균 입자경 : 4 ㎛, 도전성 입자) 2 질량부, 및 톨루엔을 혼합하여, 고형분 50 질량% 의 이방성 도전 조성물을 얻었다.Crystalline polyester resin (brand name: SP-185, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industries, Ltd., film-forming resin) 45 parts by mass, amorphous polyester urethane resin (brand name: UR-1400, manufactured by Toyobo Corporation, film-forming resin) 5 Parts by mass, urethane acrylate (trade name: M-1600, manufactured by Toa Synthetic Corporation, curable resin) 28 parts by mass, multifunctional acrylate (trade name: M-315, manufactured by Toa Synthesis Corporation, curable resin) 20 parts by mass, acrylic phosphate Rate (trade name: PM-2, manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd., curable resin) 2 parts by mass, dilauroyl peroxide (trade name: Peroyl L, manufactured by Nichiyu Corporation, hardener) 5 parts by mass, Ni metal particles (Parrainco) Production, average particle diameter: 4 µm, electroconductive particle) 2 parts by mass and toluene were mixed to obtain an anisotropic conductive composition having a solid content of 50% by mass.

얻어진 이방성 도전 조성물을, 50 ㎛ 두께의 PET (폴리에틸렌테레프탈레이트) 필름 상에 건조 후의 평균 두께가 20 ㎛ 가 되도록 도포하고, 80 ℃ 에서 10 분간 건조시켜, 이방성 도전 필름을 제작하였다.The obtained anisotropic conductive composition was applied onto a 50 µm-thick PET (polyethylene terephthalate) film so that the average thickness after drying was 20 µm, and dried at 80° C. for 10 minutes to prepare an anisotropic conductive film.

<비어져 나옴의 유무><Presence or absence of protrusion>

이방성 도전 필름이 형성된 PET 필름을 폭 2.0 ㎜×길이 100 m 로 슬릿하고, 코어의 직경이 2.54 ㎜ 인 릴에 0.2 N/㎟ 의 텐션으로 권취하고, 실온에서 1 일 방치하였다. 외관 관찰에 의해 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.The PET film on which the anisotropic conductive film was formed was slit to a width of 2.0 mm x a length of 100 m, wound up on a reel having a core diameter of 2.54 mm with a tension of 0.2 N/mm 2, and allowed to stand at room temperature for 1 day. It evaluated by the following evaluation criteria by external appearance observation. Table 1 shows the results.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 이방성 도전 필름의 비어져 나옴이 확인되지 않는다.(Double-circle): Protrusion of an anisotropic conductive film is not confirmed.

○ : 이방성 도전 필름의 비어져 나옴이 있지만, 평균 0.5 층 미만○: There is protrusion of the anisotropic conductive film, but less than 0.5 layer on average

△ : 이방성 도전 필름의 비어져 나옴이 평균 0.5 층 이상 평균 1.0 층 미만△: Protrusion of the anisotropic conductive film is 0.5 layer or more and less than 1.0 layer on average

× : 이방성 도전 필름의 비어져 나옴이 평균 1. 0 층 이상X: Protrusion of the anisotropic conductive film is an average of 1.0 or more layers

또한, 비어져 나옴의 평균 층수란, 비어져 나옴이 보이는 평균의 층수를 나타내고, 릴에 있어서의 비어져 나옴의 수를, 권취했을 때의 층수로 나누어 산출하였다. 비어져 나옴의 평균 층수가 적을수록, 비어져 나옴이 적어 우수한 것을 나타낸다. 예를 들어, 층수가 10 층이고, 비어져 나옴이 10 개 지점인 경우, 비어져 나옴의 평균 층수는 1.0 층이고, 층수가 10 층이고 비어져 나옴이 5 개 지점인 경우, 비어져 나옴의 평균 층수는 0.5 층이다.In addition, the average number of protruding layers represents the average number of protruding layers, and the number of protruding protrusions on the reel was calculated by dividing the number of protruding layers by the number of layers when wound. The smaller the average number of protruding layers is, the less protruding is, indicating superiority. For example, if the number of floors is 10 and there are 10 protruding points, the average number of protruding layers is 1.0, and if the number of layers is 10 and protruding is 5 points, The average number of layers is 0.5 layers.

<접합체의 제조, 및 접합체의 평가><Preparation of conjugate and evaluation of conjugate>

이하의 방법에 의해 접합체를 제조하고, 이하에 나타내는 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.A conjugated body was produced by the following method, and evaluation shown below was performed. Table 1 shows the results.

제 2 전자 부품으로서, 프린트 배선판 [0.4 ㎜ 피치 (라인/스페이스=0.2 ㎜/0.2 ㎜), 구리 패턴 두께 35 ㎛, 니켈/금 도금 처리, 기재 두께 1.0 ㎜] 을 사용하였다.As the second electronic component, a printed wiring board [0.4 mm pitch (line/space = 0.2 mm/0.2 mm), copper pattern thickness 35 µm, nickel/gold plating treatment, substrate thickness 1.0 mm] was used.

제 1 전자 부품으로서, 플렉시블 프린트 기판 [0.4 ㎜ 피치 (라인/스페이스=0.2 ㎜/0.2 ㎜), 폴리이미드 두께 25 ㎛, 구리 패턴 두께 12 ㎛, 니켈/금 도금 처리] 을 사용하였다.As the first electronic component, a flexible printed circuit board [0.4 mm pitch (line/space = 0.2 mm/0.2 mm), polyimide thickness 25 µm, copper pattern thickness 12 µm, nickel/gold plating treatment] was used.

상기 제 2 전자 부품의 단자 상에, 상기에서 얻어진 이방성 도전 필름 (필름 폭 2.0 ㎜) 을 배치하였다. 계속해서, 상기 이방성 도전 필름 상에, 상기 제 1 전자 부품을 배치하였다. 계속해서, 완충재 (실리콘 러버, 두께 0.2 ㎜) 를 개재하여, 가열 툴 (폭 2.0 ㎜) 에 의해 130 ℃, 4 ㎫, 5 초간의 조건에서, 상기 제 1 전자 부품을 가열 및 가압하여, 접합체를 얻었다.On the terminal of the second electronic component, the anisotropic conductive film (film width 2.0 mm) obtained above was disposed. Subsequently, the first electronic component was disposed on the anisotropic conductive film. Subsequently, through a buffer material (silicon rubber, thickness 0.2 mm), the first electronic component is heated and pressurized by a heating tool (width 2.0 mm) at 130°C for 4 MPa for 5 seconds, thereby forming Got it.

<<도통 저항>><<conduction resistance>>

얻어진 접합체의 초기 저항값을 이하의 방법으로 측정하여, 평가를 실시하였다.The initial resistance value of the obtained bonded body was measured by the following method and evaluated.

디지털 멀티미터 (품번 : 디지털 멀티미터 34401A, 애질런트사 제조) 를 사용하여 4 단자법으로 전류 1 ㎃ 를 흘렸을 때의 저항값을 측정하였다. 30 채널에 대해 저항값을 측정하고, 최대의 저항값을 이하의 평가 기준으로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.Using a digital multimeter (article number: digital multimeter 34401A, manufactured by Agilent Corporation), the resistance value when a current of 1 mA was passed through the 4-terminal method was measured. The resistance value was measured for 30 channels, and the maximum resistance value was evaluated by the following evaluation criteria. Table 1 shows the results.

[평가 기준][Evaluation standard]

○ : 저항값이 2 Ω 미만○: Resistance value is less than 2 Ω

△ : 저항값이 2 Ω 이상 10 Ω 미만△: Resistance value is 2 Ω or more and less than 10 Ω

× : 저항값이 10 Ω 이상×: resistance value is 10 Ω or more

<<외관 (도전성 입자의 찌부러짐 상태)>><<Appearance (conductive particle crushed state)>>

이방성 도전 필름에 함유되는 도전성 입자에 대해, 금속 현미경 (올림푸스 주식회사 제조, 상품명 : MX51) 을 사용하여, 이방성 도전 접속전의 상기 도전성 입자의 직경을 측정하고, 다음으로 이방성 도전 접속 후의 상기 도전성 입자의 폭 방향의 길이를 측정하고, 하기 식 (1) 로부터 도전성 입자의 찌부러짐 상태를 구하였다.With respect to the conductive particles contained in the anisotropic conductive film, the diameter of the conductive particles before anisotropic conductive connection is measured using a metal microscope (Olympus Corporation make, brand name: MX51), and then the width of the conductive particles after anisotropic conductive connection The length of the direction was measured, and the crushed state of the electroconductive particle was calculated|required from the following formula (1).

도전성 입자의 찌부러짐 상태 (%)=(이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 폭 방향의 길이/이방성 도전 접속 전의 도전성 입자의 직경)×100 … 식 (1)The crushed state of the electroconductive particle (%) = (length in the width direction of the electroconductive particle after anisotropic electroconductive connection/diameter of electroconductive particle before anisotropic electroconductive connection) x 100. Equation (1)

또한, 이방성 도전 접속 후의 도전성 입자의 폭 방향의 길이는, 이방성 도전 접속시에 있어서의 제 1 전자 부품과 제 2 전자 부품에 직교하는 방향 (접속 방향) 의 상기 도전성 입자의 길이로 하였다.In addition, the length in the width direction of the electroconductive particle after anisotropically conductive connection was made into the length of the said electroconductive particle in the direction (connection direction) orthogonal to the 1st electronic component and the 2nd electronic component at the time of anisotropically conductive connection.

그리고, 제 1 전자 부품의 단자 및 제 2 전자 부품의 단자가 접속된 접속 지점 100 개 지점에 대해, 모든 도전성 입자의 찌부러짐 상태를 측정하고, 찌부러짐 상태가 50% 를 초과하는 (상기 식 (1) 로 얻어지는 「도전성 입자의 찌부러짐 상태 (%)」가 50 % 미만이 되는) 도전성 입자를 찌부러진 도전성 입자로 하여, 그 비율을 구하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.And, with respect to 100 connection points to which the terminals of the first electronic component and the terminals of the second electronic component are connected, the crushing state of all the conductive particles is measured, and the crushing state exceeds 50% (the above formula ( 1) The electroconductive particle obtained by "the crushed state (%) of the electroconductive particle becomes less than 50%" was used as the crushed electroconductive particle, the ratio was calculated|required, and it evaluated by the following evaluation criteria.

[평가 기준][Evaluation standard]

◎ : 찌부러진 도전성 입자의 수가 90 % 이상◎: 90% or more of the number of crushed conductive particles

○ : 찌부러진 도전성 입자의 수가 80 % 이상 90 % 미만(Circle): The number of crushed electroconductive particles is 80% or more and less than 90%

△ : 찌부러진 도전성 입자의 수가 50 % 이상 80 % 미만△: The number of crushed electroconductive particles is 50% or more and less than 80%

× : 찌부러진 도전성 입자의 수가 50 % 미만×: the number of crushed electroconductive particles is less than 50%

(실시예 2 ∼ 12, 비교예 1 ∼ 3)(Examples 2 to 12, Comparative Examples 1 to 3)

실시예 1 에 있어서, 막형성 수지, 경화성 수지, 및 경화제의 조성, 및 배합량 (함유량과 동일) 을, 표 1 ∼ 표 3 에 기재된 조성 및 배합량으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 이방성 도전 필름을 제작하고, 평가에 제공하였다. 결과를, 표 1 ∼ 표 3 에 나타낸다.In Example 1, in the same manner as in Example 1, except that the composition and compounding amount (same as the content) of the film-forming resin, curable resin, and curing agent were changed to the composition and compounding amount shown in Tables 1 to 3 , An anisotropic conductive film was produced, and it was provided for evaluation. The results are shown in Tables 1 to 3.

Figure 112013104543656-pat00001
Figure 112013104543656-pat00001

Figure 112013104543656-pat00002
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Figure 112013104543656-pat00003
Figure 112013104543656-pat00003

표 1 ∼ 표 3 중의 배합량 (함유량) 의 단위는 질량부이다.The unit of the blending amount (content) in Tables 1 to 3 is parts by mass.

상기 배합량 (함유량) 은, 상품에 용제가 함유되어 있는 경우에는, 용제분을 제외한 배합량 (함유량) 이다.The blending amount (content) is the blending amount (content) excluding the solvent component when the product contains a solvent.

표 1 ∼ 표 3 에 기재된 각종 품명의 상세한 것은 이하와 같다.The details of the various product names described in Tables 1 to 3 are as follows.

SP-185 : 결정성 폴리에스테르 수지, 닛폰 합성 화학 공업 주식회사 제조, 수평균 분자량 20,000, 융점 95 ℃ SP-185: Crystalline polyester resin, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., number average molecular weight 20,000, melting point 95°C

아론멜트 PES-111 : 결정성 폴리에스테르 수지, 토아 합성 주식회사 제조, 융점 110 ℃, 유리 전이 온도 0 ℃ Aaron Melt PES-111: Crystalline polyester resin, manufactured by Toa Synthesis, Inc., melting point 110°C, glass transition temperature 0°C

UR-1400 : 비정성 폴리에스테르우레탄 수지, 토요보 주식회사 제조, 수평균 분자량 40,000, 유리 전이 온도 83 ℃ UR-1400: Amorphous polyester urethane resin, manufactured by Toyobo Corporation, number average molecular weight 40,000, glass transition temperature 83 ℃

YP-50 : 비정성 페녹시 수지, 신닛테츠 화학 주식회사 제조, 수평균 분자량 10,000, 유리 전이 온도 100 ℃ YP-50: Amorphous phenoxy resin, manufactured by Shinnittetsu Chemical Co., Ltd., number average molecular weight 10,000, glass transition temperature 100 ℃

닛폴란 5196 : 비정성 폴리우레탄 수지, 닛폰 폴리우레탄 공업 주식회사 제조, 수평균 분자량 20,000, 유리 전이 온도 -27 ℃ Nippolan 5196: amorphous polyurethane resin, manufactured by Nippon Polyurethane Industrial Co., Ltd., number average molecular weight 20,000, glass transition temperature -27 ℃

M-1600 : 우레탄아크릴레이트, 토아 합성 주식회사 제조M-1600: Urethane acrylate, manufactured by Toa Synthesis Co., Ltd.

M-315 : 다관능 아크릴레이트, 토아 합성 주식회사 제조M-315: Multifunctional acrylate, manufactured by Toa Synthesis Co., Ltd.

PM-2 : 인산아크릴레이트, 닛폰 화약 주식회사 제조PM-2: Phosphoric acid acrylate, manufactured by Nippon Explosives Co., Ltd.

지환식 에폭시 수지 : CEL2021P, 주식회사 다이셀 제조Alicyclic epoxy resin: CEL2021P, manufactured by Daicel Co., Ltd.

퍼로일 L : 디라우로일퍼옥사이드, 니치유 주식회사 제조Peroyl L: Dilauroyl peroxide, manufactured by Nichiyu Corporation

카티온계 경화제 : SI-60L, 산신 화학 공업 주식회사 제조Cationic hardener: SI-60L, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.

Ni 금속 입자 : 도전성 입자, 바레인코사 제조, 평균 입자경 4 ㎛ Ni metal particle: electroconductive particle, manufactured by Bahrainco, average particle diameter 4 µm

실시예 1 ∼ 12 에서는, 130 ℃ 라는 저온에서 압착한 경우라도, 도통 저항, 및 외관 (입자 찌부러짐) 이 양호하였다. 또, 릴 권취에 있어서도 비어져 나옴이 적어 양호하였다.In Examples 1 to 12, conduction resistance and appearance (particle crushing) were good even in the case of compression bonding at a low temperature of 130°C. Moreover, even when winding up a reel, there was little protrusion and it was favorable.

결정성 수지와 비정성 수지의 질량비 (결정성 수지 : 비정성 수지) 가, 90 : 10 ∼ 20 : 80 에서는, 도통 저항 및 외관 (입자 찌부러짐) 이 보다 양호해지고, 60 : 40 ∼ 40 : 60 에서는, 또한 비어져 나옴이 보다 감소되었다 (예를 들어, 실시예 1 ∼ 7 참조).When the mass ratio of the crystalline resin and the amorphous resin (crystalline resin: amorphous resin) is 90:10 to 20:80, conduction resistance and appearance (particle crushing) become better, and 60:40 to 40:60 Also, the protrusion was further reduced (see, for example, Examples 1 to 7).

비정성 수지로는, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지가, 비정성 페녹시 수지, 및 비정성 폴리우레탄 수지보다, 외관 (입자 찌부러짐) 및 비어져 나옴 면에서 보다 우수하였다 (예를 들어, 실시예 3, 8, 및 9 참조).As the amorphous resin, the amorphous polyester urethane resin was superior to the amorphous phenoxy resin and the amorphous polyurethane resin in terms of appearance (particle crushing) and protrusion (e.g., Examples 3, 8, and 9).

결정성 수지의 융점은, 90 ℃ ∼ 105 ℃ 의 범위 내인 쪽이 105 ℃ 를 초과하는 경우보다, 외관 (입자 찌부러짐) 면에서 우수하였다 (예를 들어, 실시예 3, 및 10 참조).The melting point of the crystalline resin was superior in terms of appearance (particle crushing) than in the case where the one in the range of 90°C to 105°C exceeded 105°C (see, for example, Examples 3 and 10).

경화성 수지로는, 에폭시 수지보다 아크릴레이트 쪽이, 외관 (입자 찌부러짐) 및 비어져 나옴 면에서 우수하였다 (예를 들어, 실시예 3, 및 11 참조).As the curable resin, the acrylate was superior to the epoxy resin in terms of appearance (particle crushing) and protrusion (see, for example, Examples 3 and 11).

경화성 수지의 함유량은, 이방성 도전 필름 100 질량부에 대해, 40 질량부 ∼ 55 질량부의 범위 내인 쪽이, 55 질량부를 초과하는 경우보다, 외관 (입자 찌부러짐) 및 비어져 나옴 면에서 우수하였다 (예를 들어, 실시예 3, 및 12 참조).The content of the curable resin was superior in appearance (particle crushing) and protrusion compared to the case in which the content in the range of 40 parts by mass to 55 parts by mass exceeded 55 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the anisotropic conductive film ( See, for example, Examples 3, and 12).

결정성 수지를 함유하지 않는 비교예 1 에서는, 압착시의 용융 점도의 저하가 느리고, 도통 저항, 및 외관 (입자 찌부러짐) 이 불충분하였다.In Comparative Example 1 not containing a crystalline resin, the decrease in melt viscosity during compression was slow, and the conduction resistance and appearance (particle crushing) were insufficient.

비정성 수지를 함유하지 않는 경우에는, 비어져 나옴 시험이 나쁜 결과가 되었다 (비교예 3 참조).In the case of not containing an amorphous resin, the bulging test resulted in a bad result (refer to Comparative Example 3).

본 발명의 이방성 도전 필름은, 저온에서의 접속에 있어서 충분한 도통 저항 및 도전성 입자의 찌부러짐을 얻을 수 있으며, 또한 이방성 도전 필름을 릴에 권취했을 때에, 단부로부터 상기 이방성 도전 필름이 비어져 나오는 것을 방지할 수 있기 때문에, 저온에서의 접속에 바람직하게 사용할 수 있다.The anisotropic conductive film of the present invention can obtain sufficient conduction resistance and crushing of conductive particles in connection at low temperature, and prevents the anisotropic conductive film from protruding from the end when the anisotropic conductive film is wound on a reel. Since it can, it can be used suitably for connection at low temperature.

Claims (10)

제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 이방성 도전 필름으로서,
막형성 수지와, 경화성 수지와, 경화제와, 도전성 입자를 함유하고,
상기 막형성 수지가, 융점이 90 ℃ ∼ 110 ℃ 인 결정성 수지와 비정성 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 이방성 도전 필름.
An anisotropic conductive film for anisotropically conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,
It contains a film-forming resin, a curable resin, a curing agent, and conductive particles,
The anisotropic conductive film, wherein the film-forming resin contains a crystalline resin and an amorphous resin having a melting point of 90°C to 110°C.
제 1 항에 있어서,
상기 결정성 수지와 상기 비정성 수지의 질량 비율 (상기 결정성 수지 : 상기 비정성 수지) 이, 90 : 10 ∼ 10 : 90 인, 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The anisotropic conductive film in which the mass ratio of the crystalline resin and the amorphous resin (the crystalline resin: the amorphous resin) is 90:10 to 10:90.
제 1 항에 있어서,
상기 결정성 수지가, 결정성 폴리에스테르 수지이고,
상기 비정성 수지가, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지, 비정성 페녹시 수지, 및 비정성 폴리우레탄 수지 중 적어도 어느 것인, 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The crystalline resin is a crystalline polyester resin,
The anisotropic conductive film, wherein the amorphous resin is at least any of an amorphous polyester urethane resin, an amorphous phenoxy resin, and an amorphous polyurethane resin.
제 1 항에 있어서,
비정성 수지가, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지인, 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The anisotropic conductive film in which the amorphous resin is an amorphous polyester urethane resin.
제 1 항에 있어서,
상기 결정성 수지와 상기 비정성 수지의 질량 비율 (결정성 수지 : 비정성 수지) 이, 90 : 10 ∼ 40 : 60 인 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The anisotropic conductive film having a mass ratio of the crystalline resin and the amorphous resin (crystalline resin: amorphous resin) is 90:10 to 40:60.
제 1 항에 있어서,
상기 비정성 수지가, 비정성 폴리에스테르우레탄 수지, 및 비정성 폴리우레탄 수지 중 적어도 어느 것인 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
The anisotropic conductive film in which the amorphous resin is at least any of an amorphous polyester urethane resin and an amorphous polyurethane resin.
제 1 항에 있어서,
릴에 100 m 이상 권취하여, 비어져 나옴이 1 층 미만인 이방성 도전 필름.
The method of claim 1,
An anisotropic conductive film having less than one layer of protrusion by winding 100 m or more on a reel.
제 1 전자 부품의 단자와 제 2 전자 부품의 단자를 이방성 도전 접속시키는 접속 방법으로서,
상기 제 2 전자 부품의 단자 상에 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 배치하는 제 1 배치 공정과,
상기 이방성 도전 필름 상에 상기 제 1 전자 부품을, 상기 제 1 전자 부품의 단자가 상기 이방성 도전 필름과 접하도록 배치하는 제 2 배치 공정과,
상기 제 1 전자 부품을 가열 가압 부재에 의해 가열 및 가압하는 가열 가압 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 접속 방법.
As a connection method for anisotropically conductive connection between a terminal of a first electronic component and a terminal of a second electronic component,
A first arrangement step of disposing the anisotropic conductive film according to any one of claims 1 to 7 on the terminal of the second electronic component, and
A second arrangement step of disposing the first electronic component on the anisotropic conductive film so that a terminal of the first electronic component is in contact with the anisotropic conductive film,
And a heating and pressing step of heating and pressing the first electronic component by a heating and pressing member.
단자를 갖는 제 1 전자 부품과, 단자를 갖는 제 2 전자 부품과, 상기 제 1 전자 부품과 상기 제 2 전자 부품 사이에 개재하여 상기 제 1 전자 부품의 단자와 상기 제 2 전자 부품의 단자를 전기적으로 접속하는 이방성 도전 필름의 경화물을 갖고,
상기 이방성 도전 필름이, 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름인 것을 특징으로 하는 접합체.
A first electronic component having a terminal, a second electronic component having a terminal, and the terminal of the first electronic component and the terminal of the second electronic component are electrically connected between the first electronic component and the second electronic component. Having a cured product of an anisotropic conductive film to be connected by
The bonded body characterized in that the said anisotropic conductive film is an anisotropic conductive film in any one of Claims 1-7.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 기재된 이방성 도전 필름을 권취한 릴체.The reel body which wound up the anisotropic conductive film in any one of Claims 1-7.
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