KR102159294B1 - Processing method of secondary battery separator using line-beam - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a technique for processing a separator for a secondary battery to change the mechanical strength and thermal deformation characteristics of a separator by irradiating a beam to have a direction angle to a separator material of a porous polymer material in a vacuum environment and crosslinking a certain portion of a separator. A method for processing a separator for a secondary batter using a line beam according to the present invention comprises: a first step of generating processing control information for controlling electron beams emitted from first and second electron beam generators so that a separator material is disposed between the first electron beam generator and the second electron beam generator provided in a chamber and the beam generator corresponds to the material of the separator material and a position of a processing layer; and a second step of forming an electron beam density higher than an electron beam density of a surrounding area in a processing layer area since a beam control device controls the first and second electron beam generators based on the processing control information to irradiate first and second electron beams generated from the first and second electron beam generators to an inner layer of the separator material, respectively, and the first and second electron beams are irradiated to overlap each other in the processing layer area while focal positions of the first and second electron beams penetrate a processing layer set in the separator material and are located in the inner layer of the separator material.

Description

라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법{Processing method of secondary battery separator using line-beam}Processing method of secondary battery separator using line-beam}

본 발명은 이차전지용 분리막 가공 기술에 관한 것으로, 진공환경내에서 다공성 고분자 재료의 분리막 소재에 방향각을 갖도록 집중화된 라인빔을 조사하여 분리막 내의 일정 부분을 가교시킴으로써, 분리막의 기계적 강도 및 열변형 특성을 변화시키는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a separator processing technology for a secondary battery, by irradiating a concentrated line beam so as to have a direction angle to a separator material of a porous polymer material in a vacuum environment to crosslink a certain portion of the separator, thereby providing mechanical strength and thermal deformation characteristics of the separator. It's about technology that changes things.

21세기에 들어오면서 무선 가전기기, 정보통신 장비의 급속한 고성능화에 따라 이차전지의 시장 수요가 급증하고 있으며, 전기 자동차 및 전력 저장 등에 적용될 수 있는 대용량 이차전지 개발이 전세계적으로 활발히 진행되고 있다.As the 21st century enters, the market demand for secondary batteries is rapidly increasing due to the rapid high performance of wireless home appliances and information and communication equipment, and the development of large-capacity secondary batteries that can be applied to electric vehicles and power storage is actively progressing worldwide.

이차전지에 일반적으로 요구되는 특성은, 첫째 소형화에 따른 한정된 공간에 전지를 장착해야 하므로 부피당 에너지 밀도가 커야하고, 둘째 고출력, 충방전도 면에서 우수한 가역성을 보여야한다. 또한, 고온에서 안정성 문제와 수명의 단축 문제가 해결되어야 한다.The characteristics generally required for a secondary battery are: First, since the battery must be installed in a limited space due to miniaturization, the energy density per volume must be large, and second, it must show excellent reversibility in terms of high power and charge/discharge. In addition, stability problems and shortening of lifespan at high temperatures must be solved.

특히, 리튬 이차전지는 긴 충방전 수명과 높은 에너지 밀도 및 자가 방전율이 낮기 때문에 이차전지의 주류를 이루던 니켈 수소전지를 제치고 현재 소형 이차전기 시장을 주도하고 있다.In particular, lithium secondary batteries have a long charge/discharge life, high energy density, and low self-discharge rate, leading the market of small-sized secondary electricity, overtaking nickel hydride batteries, which were the mainstream of secondary batteries.

이차전지는 도1에 도시된 바와 같이 양극(1)과, 음극(2) 및, 분리막(3)으로 구성되고, 내부는 전해액(4)으로 채워져 있다. As shown in FIG. 1, the secondary battery is composed of an anode (1), a cathode (2), and a separator (3), and the inside is filled with an electrolyte (4).

이러한 이차전지는 전기화학 반응을 이용하여 충전과 방전을 반복하여 반영구적으로 사용이 가능하며, 분리막(3)은 이차전지내 두 전극을 격리시켜 물리적 접촉에 의한 전기적 단락을 차단함과 더불어, 미공기공내에 담지된 전해액을 통해 이온이 두전극 사이로 이동하는 통로를 제공한다.This secondary battery can be used semi-permanently by repeating charging and discharging using an electrochemical reaction, and the separator 3 isolates the two electrodes in the secondary battery to block electrical short-circuit caused by physical contact, and A passage through which ions move between the two electrodes is provided through the electrolyte carried therein.

그리고, 분리막(3)은 이차전지의 내구성 확보를 위해 우수한 기계적 강도 및 과충전, 내부 단락 등의 이상 구동시 전지의 안전성을 확보하기 위한 높은 열적 안정성이 요구된다.In addition, the separator 3 is required to have excellent mechanical strength to ensure durability of the secondary battery and high thermal stability to ensure the safety of the battery during abnormal driving such as overcharge or internal short circuit.

일반적으로 분리막(3)은 1μm 이하의 기공을 갖는 다기공 막으로서, 특히 리튬이온 전지용 분리막은 10-30μm의 두께와, 30-60%의 기공도 및, 100 MPa 수준의 인장강도가 필요된다.In general, the separator 3 is a porous membrane having pores of 1 μm or less, and in particular, a separator for lithium-ion batteries requires a thickness of 10-30 μm, a porosity of 30-60%, and a tensile strength of 100 MPa level.

또한, 분리막(3) 재료로 폴리올레핀 고분자막이 사용되는데, 분리막은 폴리에틸렌(PE)으로 이루어져 이차전지내 급격한 온도 상승시 이온의 이동을 막는 셧다운 (shut down) 기능을 수행하고, 폴리 프로필렌(PP)으로 이루어져 높은 내열특성을 갖는 것이 요구된다. In addition, a polyolefin polymer membrane is used as the material for the separator 3, and the separator is made of polyethylene (PE) to perform a shutdown function that prevents the movement of ions when the temperature rises rapidly in the secondary battery, and is made of polypropylene (PP). It is required to have high heat resistance.

이에, 미국 cell gard 사의 제품 2325 는 PP/PE /PP 구조의 다층으로 구성되여 기계적 강도는 PP 에 부여하고 shut down 온도는 PE 를 이용하여 조절하는 기능을 수행하는 분리막을 제안하였다. Accordingly, the product 2325 of Cell Gard in the United States is composed of multi-layers of PP/PE/PP structure, so that mechanical strength is imparted to PP and the shut down temperature is controlled using PE.

또한 이와 관련하여, 선행문헌 1(한국공개특허 제10-2017-0045438호)에는 폴리올레핀계 다공성 기재에 내열성 무기 필러와 전극과의 접착을 위한 히트씰용 유기 고분자를 함유하는 코팅층을 추가로 형성하여 내열 및 전극 접착기능이 향상된 이차전지용 분리막을 제공하는 구성이 개시되어 있다.In addition, in this regard, in Prior Document 1 (Korean Patent Publication No. 10-2017-0045438), a heat-resistant coating layer containing a heat-resistant inorganic filler and an organic polymer for heat sealing for adhesion between the electrode and the heat-resistant inorganic filler was additionally formed on a polyolefin-based porous substrate. And a separator for a secondary battery having an improved electrode adhesion function is disclosed.

또한, 선행문헌 2(한국등록특허 제10-1027120호)에는 다공성 분리막에 무기물 입자, 고분자 전해질 및 가교제를 포함하는 유/무기 슬러리를 코팅시키고, 방사선 조사를 이용하여 다공성 유/무기 코팅층과 다공성 분리막과의 화학적인 결합력을 증가시켜 내박리성 및 열적 안정성을 향상시키고, 유/무기 복합막에 적절한 기공을 형성시킴으로써 전해액의 이온 전도도가 향상된 특성의 유/무기 복합막을 제공하는 구성이 개시되어 있다. In addition, in Prior Document 2 (Korean Patent No. 10-1027120), an organic/inorganic slurry containing inorganic particles, a polymer electrolyte, and a crosslinking agent is coated on a porous separator, and a porous organic/inorganic coating layer and a porous separator are used by irradiation with radiation. There is disclosed a configuration for providing an organic/inorganic composite membrane having an improved ionic conductivity of an electrolyte by increasing the chemical bonding strength with and improving peeling resistance and thermal stability, and forming appropriate pores in the organic/inorganic composite membrane.

즉, 상기한 미국 cell gard 사의 제품 2325 과 선행문헌1 및 선행문헌2는 모두 서로 다른 기능을 제공하기 위하여 다층구조로 이루어지도록 구성된다. That is, the product 2325 of cell gard in the United States, and Prior Document 1 and Prior Document 2 are all configured to have a multi-layered structure to provide different functions.

그러나, 이와 같이 기능 부여를 위해 서로 다른 층을 결합하거나 코팅층을 형성하는 경우, 서로 다른 재료와 접착하기 위해 고온 공정을 수행하여야 하고, 이로 인해 분리막 재료에 열적 변형이 발생할 수 있다. However, in the case of combining different layers or forming a coating layer to impart a function as described above, a high-temperature process must be performed to adhere to different materials, which may cause thermal deformation of the separator material.

이에, 기존 전자빔 가속기를 이용하여 전자재료의 물성을 변화시키고자 하는 노력이 시도되고 있다. Accordingly, efforts are being made to change the physical properties of electronic materials by using the existing electron beam accelerator.

그러나, 기존 전자빔 가속기는 hot filament를 이용하여 30-50 μm 두께의 타이타늄 윈도우(Ti window)를 통해 대기중으로 전자빔을 방출함으로써, 분리막을 가공하게 되는데, 이는 전자빔의 가속 에너지가 30-50 μm 의 타이타늄 윈도우를 통과하여 대기중으로 방출하기 위해 일정 이상의 에너지(전자 가속 에너지)를 가져야 한다. 이에 따라 전압 조절에 의한 미세한 두께 조절이 불가하여 10-50 μm 의 얇은 분리막에 대한 부분가공이 불가능하게 되고, 이로 인해 shut down 온도조절이 불가하여 이차전지의 안전한 작동이 보장되지 않는다. 또한, 이러한 공정이 대기압에서 진행되므로, 고분자 표면에 산화가 발생할 수 있으며, 전자빔이 일정 이상의 에너지(전자밀도)를 가지므로 고분자에 대해 가교 작용보다는 분해하는 작용을 유발하여 오히려 열적, 기계적 물성치를 낮추는 역기능을 제공하게 되는 문제가 있다. However, conventional electron beam accelerators use hot filament to emit electron beams into the atmosphere through a 30-50 μm-thick titanium window, thereby processing the separation membrane, which has an acceleration energy of 30-50 μm titanium. It must have more than a certain amount of energy (electron acceleration energy) to emit it through the window and into the atmosphere. As a result, fine thickness control by voltage control is not possible, making it impossible to partially process a 10-50 μm thin separator, and thus shut down temperature control is not possible, so safe operation of the secondary battery is not guaranteed. In addition, since this process is carried out at atmospheric pressure, oxidation may occur on the surface of the polymer, and since the electron beam has a certain energy (electron density), it causes a decomposition action rather than a crosslinking action on the polymer, thereby lowering the thermal and mechanical properties. There is a problem that provides dysfunction.

1. 한국공개특허 제10-2017-0045438호 (명칭 : 이차전지용 전극 접착성 코팅 분리막 및 그 제조방법)1. Korean Patent Laid-Open Patent No. 10-2017-0045438 (Name: electrode adhesive coating separator for secondary battery and its manufacturing method) 2. 한국등록특허 제10-1027120호 (명칭 : 방사선 조사를 이용한 유/무기 복합막의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유/무기 복합막)2. Korean Patent Registration No. 10-1027120 (Name: manufacturing method of organic/inorganic composite membrane using irradiation and organic/inorganic composite membrane manufactured accordingly)

이에, 본 발명은 상기한 사정을 감안하여 창출된 것으로, 진공환경내에서 다공성 고분자 재료의 분리막 소재에 방향각을 갖도록 전자빔을 조사하여 분리막 내의 일정 부분을 가교시킴으로써, 해당 부분에서의 기계적 강도를 향상시킴과 더불어, 셧다운 기능을 향상시킬 수 있도록 해 주는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법을 제공함에 그 기술적 목적이 있다.Accordingly, the present invention was created in view of the above circumstances, and by irradiating an electron beam so as to have a direction angle to the separator material of a porous polymer material in a vacuum environment to crosslink a certain part in the separator, thereby improving the mechanical strength in that part. In addition to the sikim, there is a technical purpose to provide a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam that enables the shutdown function to be improved.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일측면에 따르면, 진공환경의 챔버 내에서 수십μm 두께를 갖는 다공성 재료의 분리막 소재에 전자빔을 조사하여 분리막 소재 내층에 전리특성이 다른 가공층을 형성하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법에 있어서, 챔버 내에 구비된 제1 전자빔 발생장치와 제2 전자빔 발생장치 사이에 분리막 소재가 배치되고, 빔 발생장치에서 상기 분리막 소재의 재료 및 가공층 위치에 대응하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치로부터 방출되는 전자빔을 제어하기 위한 가공 제어정보를 생성하는 제1 단계와, 빔 제어장치에서 상기 가공 제어정보를 근거로 제1 및 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 전자빔 발생장치에서 발생되는 제1 및 제2 전자빔을 분리막 소재 내층으로 각각 조사하되, 제1 및 제2 전자빔의 초점위치가 분리막 소재에 설정된 가공층을 관통하여 분리막 소재 내층에 위치하면서, 제1 및 제2 전자빔이 가공층 영역에서 중첩되도록 조사함으로써, 가공층 영역에서 주변 영역보다 높은 전자빔 밀도가 형성되도록 하는 제2 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.According to an aspect of the present invention for achieving the above object, a line beam for forming a processed layer having different ionization properties on the inner layer of the separator material by irradiating an electron beam to a separator material of a porous material having a thickness of several tens of μm in a chamber in a vacuum environment In the method of processing a separator for a secondary battery using, a separator material is disposed between a first electron beam generator and a second electron beam generator provided in a chamber, and the beam generator is prepared to correspond to the material of the separator material and the position of the processed layer. A first step of generating processing control information for controlling electron beams emitted from the first and second electron beam generating devices, and controlling the first and second electron beam generating devices based on the processing control information in the beam control device And irradiating the first and second electron beams generated by the second electron beam generating device to the inner layer of the separation membrane material, respectively, wherein the focal positions of the first and second electron beams penetrate the processed layer set in the separation membrane material and are positioned in the inner layer of the separation membrane material, Processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it comprises a second step of forming an electron beam density higher than the surrounding area in the processed layer area by irradiating the first and second electron beams to overlap in the processed layer area A method is provided.

또한, 상기 제1 단계에서 가공층은 상기 분리막 소재의 내측 중앙 또는 일측 영역으로 설정되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, in the first step, there is provided a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the processed layer is set to an inner center or one side region of the separator material.

또한, 진공환경의 챔버 내에서 수십μm 두께를 갖는 다공성 재료의 분리막 소재에 전자빔을 조사하여 분리막 소재 내층에 전리특성이 다른 가공층을 형성하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법에 있어서, 챔버 내에 구비된 제1 전자빔 발생장치와 제2 전자빔 발생장치 사이에 분리막 소재가 배치되고, 빔 발생장치에서 상기 분리막 소재의 재료 및 가공층 위치에 대응하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치로부터 방출되는 전자빔을 제어하기 위한 가공 제어정보를 생성하는 제1 단계와, 빔 제어장치에서 상기 가공 제어정보를 근거로 제1 및 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 전자빔 발생장치에서 발생되는 제1 및 제2 전자빔을 분리막 소재의 양측 표면 내층으로 각각 조사하되, 제1 및 제2 전자빔의 초점위치가 분리막 소재에 설정된 가공층을 관통하여 분리막 소재 내층에 위치하도록 조사함으로써, 분리막 소재의 일측에 설정된 제1 가공층은 제1 전자빔 밀도에 대응하여 가교시키고 분리막 소재의 타측에 설정된 제2 가공층은 제2 전자빔 밀도에 대응하여 가교시키는 제2 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, in a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam in which an electron beam is irradiated to a separator material of a porous material having a thickness of several tens of μm in a chamber in a vacuum environment to form a processed layer having different ionization properties on the inner layer of the separator material, A separator material is disposed between the provided first electron beam generator and the second electron beam generator, and electron beams emitted from the first and second electron beam generators are transmitted from the beam generator to correspond to the material of the separator material and the position of the processed layer. A first step of generating processing control information for controlling, and first and second electron beam generating devices generated by the first and second electron beam generating devices by controlling the first and second electron beam generating devices based on the processing control information in the beam control device. The second electron beam is irradiated to the inner layers of both surfaces of the separator material, respectively, but the focal positions of the first and second electron beams penetrate the processed layer set in the separator material and are irradiated to be located in the inner layer of the separator material. 1 The processed layer is crosslinked in response to the first electron beam density, and the second processed layer set on the other side of the separator material is crosslinked in response to the second electron beam density. A method of processing a separator for a battery is provided.

또한, 상기 챔버의 일측에는 적어도 둘 이상의 제1 전자빔 발생장치가 배치되고, 제1 전자빔 발생장치의 대향측에는 적어도 둘 이상의 제2 전자빔 발생장치가 배치된 상태에서, 상기 제1 단계에서 가공층은 상기 분리막 소재 내의 양측의 제1 영역과 제2 영역으로 설정되고, 상기 제2 단계에서 빔 제어장치는 둘 이상의 제1 전자빔 발생장치를 제어하여 분리막 소재의 제1 영역에서 서로 다른 방향각을 갖는 둘 이상의 제1 전자빔이 중첩되도록 조사함과 더불어, 둘 이상의 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 분리막 소재의 제2 영역에서 서로 다른 방향각을 갖는 둘 이상의 제2 전자빔이 중첩되도록 조사하는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, at least two first electron beam generators are disposed on one side of the chamber, and at least two second electron beam generators are disposed on opposite sides of the first electron beam generator, and in the first step, the processed layer is It is set as a first region and a second region on both sides of the separator material, and in the second step, the beam control device controls two or more first electron beam generators to obtain two or more regions having different direction angles in the first region of the separator material. A line beam, characterized in that irradiation so that the first electron beams overlap, and by controlling two or more second electron beam generating devices to irradiate two or more second electron beams having different direction angles in a second region of the separator material to overlap each other. A method of processing a separator for a secondary battery is provided.

또한, 상기 제1 단계는, 분리막 재료의 기계적 강도 변화를 위한 가교 조건에 대응되는 도스량을 결정하는 제11 단계와, 상기 제11 단계에서 결정된 도스량에 대응되는 전자빔 발생을 위한 전압레벨을 설정하는 제12 단계, 상기 제12 단계에서 설정된 전압 레벨에 대응되는 전자빔 초점 거리를 획득하는 제13 단계, 상기 제13 단계에서 획득된 전자빔 초점 거리에 따른 전자빔의 초점 위치가 가공층 영역을 관통하면서 분리막 소재 내층에 위치하도록 전자빔의 방향각을 설정하는 제14 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, the first step includes an eleventh step of determining a dose corresponding to a crosslinking condition for a change in mechanical strength of a separator material, and a voltage level for generating an electron beam corresponding to the dose determined in the eleventh step. Step 12, Step 13 of obtaining an electron beam focal length corresponding to the voltage level set in Step 12, The focal position of the electron beam according to the focal length of the electron beam obtained in Step 13 passes through the processed layer area There is provided a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it comprises a fourteenth step of setting a direction angle of an electron beam so as to be positioned on an inner layer of a material.

또한, 상기 전자빔은 그 중심축이 분리막 표면과 45°이하의 방향각을 갖도록 분리막 소재로 조사되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, there is provided a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, wherein the electron beam is irradiated with a separator material such that a central axis thereof has a direction angle of 45° or less with the surface of the separator.

또한, 상기 전자빔은 그 중심축이 분리막 표면과 45°이하의 방향각을 갖도록 분리막 소재로 조사되되, 상기 방향각은 분리막 소재의 두께가 작을수록 보다 작게 설정되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, the electron beam is irradiated with a separator material such that its central axis has a direction angle of 45° or less with the surface of the separator, and the direction angle is set smaller as the thickness of the separator material decreases. A method of processing a separator for a battery is provided.

또한, 상기 분리막 소재의 일측의 표면 내층으로 제1 전자빔을 조사하여 분리막 소재의 표면에 웨팅(wetting)층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되고, 웨팅층이 형성된 부분은 이차전지의 전해액과 접촉되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, it is configured to further include the step of forming a wetting layer on the surface of the separation membrane material by irradiating a first electron beam to the inner surface layer of one side of the separation membrane material, and the part where the wetting layer is formed is the electrolyte solution of the secondary battery and There is provided a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the contact is made.

또한, 상기 분리막 소재의 일측의 표면에 TiO2, Al2O3, SiO2를 포함하는 나노 파티클을 에어졸 방식으로 증착하여 나노층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되고, 나노층이 형성된 부분은 음극재와 접속되어 음극재 표면의 덴트라이트(dentrite) 형성을 방지하는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, it is configured to further include the step of forming a nano layer by depositing nanoparticles including TiO 2 , Al 2 O 3 , and SiO 2 on the surface of one side of the separator material in an aerosol method, and the nano layer is formed. There is provided a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it is connected to a silver negative electrode material to prevent the formation of dentrite on the surface of the negative electrode material.

또한, 상기 분리막 소재의 양측 표면에는 전자빔을 이용한 ALD 증착 또는 에어졸 방식을 이용하여 Al2O3, SiO2 를 포함하는 무기재료를 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, a line beam, characterized in that it further comprises the step of forming an inorganic material including Al 2 O 3 and SiO 2 using an ALD deposition using an electron beam or an aerosol method on both surfaces of the separator material. A method for processing a separator for a secondary battery using is provided.

또한, 상기 챔버의 내부에는 분리막 소재의 양측으로 제1 및 제2 이온빔 발생장치가 추가로 배치되어 구성되고, 상기 빔 제어장치는 상기 제1 및 제2 이온빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 이온빔을 분리막 소재의 양측 표면으로 조사함으로써, 분리막 소재의 양측 표면에 러프니스(roughness)층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법이 제공된다.In addition, in the interior of the chamber, first and second ion beam generators are additionally disposed on both sides of the separation membrane material, and the beam control device controls the first and second ion beam generators to control the first and second ion beam generators. There is provided a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it further comprises forming a roughness layer on both surfaces of the separator material by irradiating an ion beam to both surfaces of the separator material. .

본 발명에 의하면, 다공성 고분자 재료의 분리막 소재에 방향각을 갖도록 전자빔을 조사하여 분리막 내의 일정 부분을 가교시킴으로써, 해당 부분에서의 기계적 강도 특성을 향상시켜 이차전지의 안정성과 효율성을 증대시킬 수 있다. According to the present invention, by irradiating an electron beam so as to have an directional angle on the separator material of a porous polymer material to crosslink a certain part in the separator, it is possible to improve the stability and efficiency of the secondary battery by improving the mechanical strength characteristics in the part.

또한, 진공환경의 챔버 내에서 분리막 가공 공정을 수행함으로써, 분리막 공정에 따른 열수축율을 낮출 수 있다.In addition, by performing the separation membrane processing process in a chamber in a vacuum environment, it is possible to lower the heat shrinkage rate according to the separation membrane process.

또한, 전극과 접촉하는 면에 대해 웨팅 처리를 수행하여 친수성,소수성을 향상시킬 수 있음은 물론, 음극재와 접촉하는 면에 대해 나노층을 형성하여 음극재 표면으로부터의 덴트라이트의 형성을 방지할 수 있다.In addition, by performing a wetting treatment on the surface in contact with the electrode, hydrophilicity and hydrophobicity can be improved, as well as forming a nano layer on the surface in contact with the negative electrode material to prevent the formation of dentrite from the surface of the negative electrode material. I can.

또한, 분리막 표면에 러프니스를 형성하여 양극재와 음극재의 접착력을 향상시킬 수 있다. In addition, roughness may be formed on the surface of the separator to improve adhesion between the positive electrode material and the negative electrode material.

도1은 이차전지의 내부구성을 개략적으로 도시한 도면.
도2는 본 발명에 적용되는 제1 실시예에 따른 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템의 구성을 설명하기 위한 도면.
도3은 도2에 도시된 제1 전자빔 발생장치(100)의 구성을 설명하기 위한 도면.
도4는 본 발명에 따른 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공방법을 설명하기 위한 도면.
도5는 도4에 도시된 가공 제어정보 생성 과정(ST200)을 보다 상세히 설명하기 위한 도면.
도6 내지 도9는 도4에 도시된 분리막 가공 과정(ST300)을 보다 상세히 설명하기 위한 도면.
도10과 도11은 본 발명에 적용되는 제2 실시예에 따른 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템의 구성을 설명하기 위한 도면.
1 is a view schematically showing the internal configuration of a secondary battery.
2 is a view for explaining the configuration of a separator processing system for a secondary battery using a line beam according to the first embodiment applied to the present invention.
3 is a view for explaining the configuration of the first electron beam generating apparatus 100 shown in FIG.
4 is a view for explaining a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam according to the present invention.
5 is a view for explaining in more detail the process control information generation process (ST200) shown in FIG.
6 to 9 are views for explaining in more detail the separation membrane processing process (ST300) shown in FIG.
10 and 11 are diagrams for explaining the configuration of a separator processing system for a secondary battery using a line beam according to a second embodiment applied to the present invention.

본 발명에 기재된 실시예 및 도면에 도시된 구성은 본 발명의 바람직한 실시예에 불과할 뿐이고, 본 발명의 기술적 사상을 모두 표현하는 것은 아니므로, 본 발명의 권리범위는 본문에 설명된 실시예 및 도면에 의하여 제한되는 것으로 해석되어서는 아니 된다. 즉, 실시예는 다양한 변경이 가능하고 여러 가지 형태를 가질 수 있으므로 본 발명의 권리범위는 기술적 사상을 실현할 수 있는 균등물들을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 발명에서 제시된 목적 또는 효과는 특정 실시예가 이를 전부 포함하여야 한다거나 그러한 효과만을 포함하여야 한다는 의미는 아니므로, 본 발명의 권리범위는 이에 의하여 제한되는 것으로 이해되어서는 아니 될 것이다.Since the embodiments described in the present invention and the configurations shown in the drawings are only preferred embodiments of the present invention, and do not represent all the technical spirit of the present invention, the scope of the present invention is limited to the embodiments and drawings described in the text. Should not be construed as limited by That is, since the embodiments can be variously changed and have various forms, the scope of the present invention should be understood to include equivalents capable of realizing the technical idea. In addition, since the object or effect presented in the present invention does not mean that a specific embodiment should include all of them or only those effects, the scope of the present invention should not be understood as being limited thereto.

여기서 사용되는 모든 용어들은 다르게 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 것으로 해석되어야 하며, 본 발명에서 명백하게 정의하지 않는 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미를 지니는 것으로 해석될 수 없다.All terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the field to which the present invention belongs, unless otherwise defined. Terms defined in a commonly used dictionary should be construed as having the meaning of the related technology in context, and cannot be interpreted as having an ideal or excessively formal meaning that is not clearly defined in the present invention.

도2는 본 발명에 적용되는 제1 실시예에 따른 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템의 구성을 설명하기 위한 도면으로, 도2에는 이차전지 분리막의 내층을 가공하기 위한 빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템의 주요 부분에 대한 구성이 개략적으로 도시되어 있다.2 is a view for explaining the configuration of a separator processing system for a secondary battery using a line beam according to a first embodiment applied to the present invention. FIG. 2 is a separator for a secondary battery using a beam for processing the inner layer of the secondary battery separator. The configuration of the main parts of the processing system is schematically shown.

도2를 참조하면, 본 발명에 적용되는 빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템은, 가공대상인 이차전지용 분리막(10)의 일측에 일정 거리 이격되게 배치되어 이차전지용 분리막(10)의 일측으로 방향성을 갖는 라인형태의 제1 전자빔을 조사하는 제1 전자빔 발생장치(100)와, 상기 이차전지용 분리막(10)의 타측에 상기 제1 전자빔 발생장치(100)와 마주보면서 이차전지용 분리막(10)과 일정 거리 이격되게 배치되어 이차전지용 분리막(10)측으로 방향성을 갖는 라인형태의 제2 전자빔을 조사하는 제2 전자빔 발생장치(200) 및, 상기 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)에서 이차전지용 분리막(10)측으로 조사되는 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)의 초점위치가 이차전지용 분리막(10)을 관통하지 않고 내측의 가공층 영역에 위치하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)를 제어하는 라인빔 제어장치(300)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 2, the separation membrane processing system for secondary batteries using a beam applied to the present invention is disposed at a certain distance apart from one side of the separation membrane 10 for secondary batteries to be processed, and has directionality toward one side of the separation membrane 10 for secondary batteries. A first electron beam generator 100 for irradiating a line-shaped first electron beam, and a predetermined distance from the separator 10 for secondary batteries while facing the first electron beam generator 100 on the other side of the separator 10 for secondary batteries. A second electron beam generator 200 that is disposed to be spaced apart and irradiates a second electron beam in a line shape toward the separator 10 for a secondary battery, and a separator for a secondary battery in the first and second electron beam generators 100 and 200 ( 10) The first and second electron beam generators 100 and 200 are provided so that the focal positions of the first and second electron beams E1 and E2 irradiated to the side are located in the inner processed layer region without penetrating the separator 10 for secondary batteries. It is configured to include a line beam control device 300 to control.

상기 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)는 전자빔을 이차전지용 분리막(10)으로 조사하여 이차전지용 분리막(10) 내측의 일정 영역에서의 가교를 진행시킴으로써, 해당 영역에서의 물성을 변화시키는 가공처리를 수행한다.The first and second electron beam generators 100 and 200 irradiate an electron beam to the separator 10 for secondary batteries to perform crosslinking in a certain area inside the separator 10 for secondary batteries, thereby changing physical properties in the corresponding region. Carry out processing.

이때, 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)와 이차전지용 분리막(10)은 진공 상태의 챔버(C) 내에 설치되어 이차전지용 분리막(10)에 대한 가공처리를 수행하며, 챔버(C)에는 가스를 주입하는 가스 주입관과 가스를 배기하는 가스 배기관이 구비된다. 또한, 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)는 별도의 전자빔 챔버내에 구성될 수 있으며, 상기 전자빔 챔버는 챔버(C)에 형성된 홀과 연결되어 공정가스를 주입하거나 배기하는 가스 주입관 및 가스 배기관을 구비할 수 있다. At this time, the first and second electron beam generators 100 and 200 and the separator 10 for secondary batteries are installed in the chamber C in a vacuum state to perform processing on the separator 10 for secondary batteries, and the chamber C has A gas injection pipe for injecting gas and a gas exhaust pipe for exhausting the gas are provided. In addition, the first and second electron beam generators 100 and 200 may be configured in separate electron beam chambers, and the electron beam chamber is connected to a hole formed in the chamber C to inject or exhaust a process gas. An exhaust pipe may be provided.

또한, 상기 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)는 동일한 구성으로 이루어지는 것으로, 도3에 도시된 제1 전자빔 발생장치(100)의 주요 구성을 이용하여 도2에 도시된 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)의 구성을 설명한다.In addition, the first and second electron beam generators 100 and 200 have the same configuration, and the first and second electron beam generators shown in FIG. 2 are shown in FIG. 2 by using the main configuration of the first electron beam generator 100 shown in FIG. The configuration of the electron beam generators 100 and 200 will be described.

도3 (A)를 참조하면, 제1 전자빔 발생장치(100)는 캐소드(110)와 애노드(120), 캐소드(110)로 전원을 공급하는 캐소드 전원 공급부(130) 및, 애노드(120)로 전원을 공급하는 애노드 전원 공급부(140)를 포함하여 구성되고, 캐소드(110)의 하측에 애노드(120)가 일정 거리 이격되게 배치되어 구성된다.Referring to FIG. 3A, the first electron beam generator 100 includes a cathode 110 and an anode 120, a cathode power supply unit 130 supplying power to the cathode 110, and an anode 120. It is configured to include an anode power supply unit 140 for supplying power, and the anode 120 is disposed below the cathode 110 to be separated by a predetermined distance.

이때, 공정가스가 유입된 상태에서 캐소드(110)와 애노드(120) 사이의 전압차에 의해 공정가스가 이온화되어 캐소드(110)와 애노드(120) 사이에 플라즈마를 형성하거나 또는 캐소드(110) 충돌에 의해 전자를 생성한다. 예컨대, 캐소드 전원 공급부(130)는 캐소드(110)로 제1 음전압을 인가하고, 애노드 전원 공급부(140)는 애노드(120)로 제1 음전압보다 낮은 제2 음전압을 인가할 수 있다. 또한, 캐소드 전원 공급부(130)는 캐소드(110)로 RF 전원을 인가하고, 애노드 전원 공급부(140)는 애노드(120)로 양의 전원을 인가할 수 있다.At this time, the process gas is ionized by the voltage difference between the cathode 110 and the anode 120 while the process gas is introduced to form a plasma between the cathode 110 and the anode 120 or collide with the cathode 110 Generates electrons by For example, the cathode power supply 130 may apply a first negative voltage to the cathode 110, and the anode power supply 140 may apply a second negative voltage lower than the first negative voltage to the anode 120. In addition, the cathode power supply unit 130 may apply RF power to the cathode 110, and the anode power supply unit 140 may apply positive power to the anode 120.

그리고, 캐소드(110)와 애노드(120) 사이 공간에 형성된 전자는 애노드(120)의 홀(H)을 통해 하부로 방출되는데, 상기 애노드(120)는 다수의 홀(H)이 형성된 판 형상이면서 전자재료(10)측으로 초점 위치가 형성되도록 중앙라인이 일정 곡률반경을 갖도록 구성되고, 판의 중앙라인 기준으로 중심부에서 전기장의 세기가 가장 높고 중심부에서 외측으로 갈수록 전기장의 세기가 보다 작아지도록 구성된다. 즉, 도3 (D)에 도시된 바와 같이 일정 길이의 라인형상을 갖는 전자빔(E1)이 전자재료(10)측으로 방출된다.In addition, electrons formed in the space between the cathode 110 and the anode 120 are emitted downward through the hole H of the anode 120, and the anode 120 has a plate shape in which a plurality of holes H are formed. The central line is configured to have a certain radius of curvature so that the focal position toward the electronic material 10 is formed, and the intensity of the electric field is configured such that the intensity of the electric field is highest in the center and the intensity of the electric field decreases from the center to the outside based on the center line of the plate . That is, as shown in Fig. 3D, an electron beam E1 having a line shape of a certain length is emitted toward the electronic material 10 side.

이때, 애노드(120)의 전기장 세기를 위치에 따라 다르게 구성하는 방법으로는, 도3 (B)에 도시된 바와 같이 중심 라인의 홀(H)의 크기를 보다 작게하고, 중심 라인에서 외측으로 갈수록 홀(H)의 크기를 보다 크게 설정할 수 있다. 이외에 본 발명자가 2018년 10월 8일차 특허출원한 특허출원번호 10-2018-019875호(라인형태의 전자빔 방출장치)에서 실시된 각종 형태의 애노드 구조가 적용될 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. In this case, as a method of configuring the electric field strength of the anode 120 differently depending on the location, as shown in Fig. 3(B), the size of the hole H of the center line is made smaller, and as it goes outward from the center line, The size of the hole H can be set to be larger. In addition, various types of anode structures implemented in patent application No. 10-2018-019875 (line-type electron beam emission device) for which the inventors applied for a patent on October 8, 2018 may be applied, and detailed descriptions thereof will be omitted. .

즉, 캐소드(110)의 고전압에 의한 전리된 가스 이온은 애노드(120)의 하부의 상대적으로 넓은 공간에 분포하고 있으며 이를 중앙 라인을 따라 보다 작은 홀(H)이 형성되어 전극 영역이 넓어지는 바, 전기장의 세기에 따라 애노드(120)의 홀(H)을 통과하면서 전기장의 세기가 큰 중심 라인을 향하도록 방향성을 갖게 됨으로써, 캐소드(110)에서 이차전자 발생시 중앙 라인으로 전자를 보다 집중시킬 수 있다. That is, the gas ions ionized by the high voltage of the cathode 110 are distributed in a relatively wide space under the anode 120, and a smaller hole H is formed along the center line, thereby widening the electrode area. , As it passes through the hole (H) of the anode 120 according to the strength of the electric field, the direction is directed toward the center line having a large electric field strength, so that when secondary electrons are generated in the cathode 110, electrons can be more concentrated to the center line. have.

또한, 도3 (A)에는 도시되지 않았지만, 애노드(120)의 하측에는 애노드(120)로부터 방출되는 제1 전자빔(E1)을 보다 고속화하기 위한 그리드 전극과 이 그리드 전극으로 전압을 공급하기 위한 그리드 전압공급부가 추가로 구비될 수 있다.In addition, although not shown in FIG. 3(A), a grid electrode for speeding up the first electron beam E1 emitted from the anode 120 and a grid for supplying voltage to the grid electrode under the anode 120 A voltage supply may be additionally provided.

또한, 챔버(C)의 일측에는 IR lamp 등의 열매체를 구비하여 고분자 분해를 촉진하도록 구성될 수 있다.In addition, a heat medium such as an IR lamp may be provided on one side of the chamber C to promote polymer decomposition.

이어, 상기한 구성으로 된 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법을 설명한다.Next, a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam having the above configuration will be described.

도4는 본 발명에 따른 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법을 설명하기 위한 도면이다.4 is a view for explaining a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam according to the present invention.

도4를 참조하면, 챔버(C)내에 배치된 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200) 사이에 하나의 소재로 이루어지는 50μm 이하의 두께, 예컨대 10~30μm 두께의 분리막 소재(11)를 위치시킴과 더불어, 라인빔 제어장치(300)는 분리막 소재(11)의 재료와 두께, 가공층 영역(위치 및 두께)를 포함하는 분리막 기본 정보를 수신한다(ST100). 분리막 기본 정보는 관리자를 통해 입력되거나 외부 단말을 통해 라인빔 제어장치(300)로 제공될 수 있다. 가공층 영역에 대한 정보는 외부로부터 인가되는 분리막 소재(11)의 일면으로부터 가공층 영역 일측 표면까지의 깊이와, 분리막 소재(12)의 타면으로부터의 가공층 영역 타측 표면까지의 깊이를 근거로 가공층의 위치 및 두께를 산출하여 얻어질 수 있다. Referring to FIG. 4, a separator material 11 having a thickness of 50 μm or less, for example 10 to 30 μm thick, is positioned between the first and second electron beam generators 100 and 200 disposed in the chamber C. In addition, the line beam control apparatus 300 receives basic information of the separation membrane including the material and thickness of the separation membrane material 11 and the processed layer region (position and thickness) (ST100). The basic information of the separation membrane may be input through an administrator or may be provided to the line beam control device 300 through an external terminal. Information on the processed layer area is processed based on the depth from one surface of the separation membrane material 11 applied from the outside to the surface of the processed layer area and the depth from the other surface of the separation membrane material 12 to the other surface of the processed layer area. It can be obtained by calculating the location and thickness of the layer.

라인빔 제어장치(300)는 분리막 기본 정보를 기초로 해당 분리막 소재(11)의 재료 및 가공층(12) 위치에 대응하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)로부터 방출되는 전자빔을 제어하기 위한 가공 제어정보를 생성한다(ST200). The line beam control device 300 controls electron beams emitted from the first and second electron beam generators 100 and 200 to correspond to the material of the separator material 11 and the position of the processed layer 12 based on the basic information of the separator. For generating processing control information (ST200).

상기한 가공 제어정보 생성과정(ST200)은 도5에 도시된 바와 같이, 분리막 소재(11)의 재료에 대응하여 해당 분리막 소재(11)의 가공층(12)에 대해 요구되는 가교 조건에 해당하는 도스량을 결정하는 단계(ST210)와, 도스량에 대응되는 전자빔을 방출하기 위한 전압레벨을 설정하는 단계(ST220), 전압레벨에 대응되는 전자빔의 초점 거리를 획득하는 단계(ST230) 및, 전자빔의 초점 위치가 분리막 소재(11) 내의 가공층(12)을 통과하면서 분리막 소재(11)의 내층에 적정하게 도즈(dose)되도록 전자빔의 방향각을 설정하는 단계(ST240)을 포함한다.As shown in FIG. 5, the process control information generation process (ST200) corresponds to the material of the separation membrane material 11 and corresponds to the crosslinking condition required for the processed layer 12 of the separation membrane material 11. Determining a dose (ST210), setting a voltage level for emitting an electron beam corresponding to the dose (ST220), acquiring a focal length of an electron beam corresponding to the voltage level (ST230), and an electron beam And setting the direction angle of the electron beam so that the focal position of is properly dosed to the inner layer of the separation membrane material 11 while passing through the processed layer 12 in the separation membrane material 11 (ST240).

이때, 라인빔 제어장치(300)에는 서로 다른 분리막 기본 정보에 대응하여 가공 제어정보가 미리 저장될 수 있다. 예컨대, 분리막 소재(11)를 구성하는 분리막 재료별 도스량에 대응되는 전자빔 세기(전압레벨)가 설정될 수 있다. In this case, processing control information may be stored in advance in the line beam control device 300 in correspondence with basic information of different separation membranes. For example, an electron beam intensity (voltage level) corresponding to a dose amount for each separator material constituting the separator material 11 may be set.

그리고, 라인빔 제어장치(300)는 상기 ST200 단계에서 설정된 가공 제어정보를 근거로 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)를 제어함으로써, 분리막 소재(11)에 설정된 가공층(12)으로 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)을 조사하여 분리막 소재(11) 내측의 가공층(12)에 대한 특성을 원 분리막 소재(1)의 재료 특성과 다르게 되도록 가공한다(ST300).In addition, the line beam control device 300 controls the first and second electron beam generators 100 and 200 based on the processing control information set in the ST200 step, thereby forming the processed layer 12 set in the separator material 11. By irradiating the first and second electron beams E1 and E2, the characteristics of the processed layer 12 inside the separation membrane material 11 are processed to be different from the material properties of the original separation material 1 (ST300).

즉, 라인빔 제어장치(300)는 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)에서 발생되는 제1 및 제2 전자빔의 중심축이 상기 분리막 소재의 표면과 45°이하의 방향각을 갖도록 제1 및 제2 전자빔을 조사하도록 제어하되, 제1 및 제2 전자빔의 초점위치는 분리막 소재(11)에 설정된 가공층(12)을 관통하면서 분리막 소재 내층에 위치하도록 설정하여 전자빔에 의해 해당 가공층(12) 영역을 가교시킨다.That is, the line beam control device 300 is configured such that the central axes of the first and second electron beams generated by the first and second electron beam generators 100 and 200 have a direction angle of 45° or less with the surface of the separator material. And control to irradiate the second electron beam, wherein the focal positions of the first and second electron beams pass through the processed layer 12 set in the separation membrane material 11 and are set to be located in the inner layer of the separation membrane material. 12) Crosslink the area.

이때, 분리막 소재(11)는 다공이 형성된 고분자 소재인 폴리올레핀계의 폴리에틸렌(PE)이나 폴리프로필렌(PP)으로 이루어질 수 있고, 가공층(12)으로 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)을 조사하여 도스량에 대응하여 가공층(12)을 가교(cross linking)시킴으로써, 해당 가공층(12) 영역의 열적, 기계적 강도를 강화시킨다. At this time, the separator material 11 may be made of polyolefin-based polyethylene (PE) or polypropylene (PP), which is a polymer material having a porous structure, and the first and second electron beams E1 and E2 are applied to the processed layer 12. By irradiating and crosslinking the processed layer 12 in response to the dose amount, the thermal and mechanical strength of the area of the processed layer 12 is enhanced.

또한, 도스량을 증가시키기 위해서는 보다 전자빔의 세기가 커져야 하며, 전자빔의 세기를 크게 하기 위해서는 전자빔 생성을 위한 전압 레벨을 높게 설정하여야 한다. In addition, in order to increase the dose, the intensity of the electron beam must be increased, and in order to increase the intensity of the electron beam, the voltage level for generating the electron beam must be set higher.

이어, 도4에 도시된 분리막 가공 과정(ST300)을 도6 내지 도9를 참조하여 보다 상세히 설명한다.Next, the separation membrane processing process (ST300) shown in FIG. 4 will be described in more detail with reference to FIGS. 6 to 9.

본 실시예에서는 도6 (C)에 도시된 바와 같이 분리막 소재(11)의 내층 중앙부분에 가공층(12)을 형성하여 이차전지용 분리막(10)을 완성하는 공정에 대해 설명한다. 예컨대, 20 ~ 50μm 두께의 분리막 소재(11)에 20 ~ 100 KGY 전자빔을 분리막 소재(11)의 중심부 5μm 영역에서 중첩시킨다. In this embodiment, a process of forming the processed layer 12 in the center of the inner layer of the separator material 11 as shown in Fig. 6C to complete the separator 10 for a secondary battery will be described. For example, 20 to 100 KGY electron beams are superimposed on the separator material 11 having a thickness of 20 to 50 μm in the central 5 μm region of the separator material 11.

도6을 참조하면, 제1 전자빔 발생장치(100) 및 제2 전자빔 발생장치(200)로부터 발생되는 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)이 가공층(12) 영역에서 중첩됨으로 인해 중첩된 전자빔 밀도에 대응하여 가교가 진행된다. 이에 따라 분리막 내의 중앙 부위가 가교되어 기계적, 열적 특성이 강화된다.Referring to FIG. 6, the first and second electron beams E1 and E2 generated from the first electron beam generator 100 and the second electron beam generator 200 overlap in the processed layer 12 area. Crosslinking proceeds in response to the electron beam density. Accordingly, the central region in the separator is crosslinked, thereby enhancing mechanical and thermal properties.

이때, 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)는 분리막 소재(11)의 재료 및 두께와, 가공 종류에 대응하여 공정가스 및 전자빔의 특성(빔 방향각, 도스량, 초점 위치, 전압 레벨 등)을 다르게 설정할 수 있다. 예컨대, 분리막 소재(11) 내의 가공층(12)의 위치(깊이)에 따라 빔 전압은 10kV ~200kV 범위로 설정되고, 빔 전류는 10mA ~ 300mA 범위로 설정될 수 있다. 그리고, 공정가스는 CF4 , SF6 ,O2 와 Cl2 중 하나와 함께 사용될 수 있다.At this time, the first and second electron beam generating apparatuses 100 and 200 correspond to the material and thickness of the separator material 11 and the processing type, and the characteristics of the process gas and the electron beam (beam direction angle, dose, focus position, voltage level, etc. ) Can be set differently. For example, depending on the position (depth) of the processed layer 12 in the separation membrane material 11, the beam voltage may be set in the range of 10 kV to 200 kV, and the beam current may be set in the range of 10 mA to 300 mA. In addition, the process gas may be used with one of CF 4 , SF 6 , O 2 and Cl 2 .

여기서, 전자빔(E1/E2)은 초점 위치(F)가 분리막 소재(11)의 내층에 설정된 상태에서, 도6의 (D)에 도시된 바와 같이 이차전지용 분리막 소재(11)의 표면으로부터의 깊이에 따라 분리막 재료에 영향을 주는 전자빔 밀도 즉, 도스(DOSE)양에 차이가 발생되며, 전자빔의 초점 위치(F)에서 가장 큰 도스량을 갖는다. 다시 말해, 전자빔의 초점 위치(F)에 가까울수록 도스량이 많아지는 바, 중첩영역인 가공층(12)에서는 제1 전자빔의 도스량과 제2 전자빔의 도스량이 중첩되므로 주변층에 비해 많은 도스량이 분포하게 된다. 예컨대, 도6 (C)에서 제1 및 제2 전자빔 방출장치(100,200)에서 발생된 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)의 초점위치 최대 도스량이 "10"인 경우, 중첩부분인 가공층(12)에서는 대략 제1 및 제2 전자빔의 도스량 합산된 약 "18"의 도스량이 분포되고, 가공층(12) 양 표면은 각각 대략 "3~4"의 도스량이 분포될 수 있다. 따라서, 분리막 소재(11)의 가공층(12)에만 높은 도스량이 분포되어 가공층(12)의 화학적 체인 구조를 변형시킴으로써, 물성을 주변층과 다르게 변화시킬 수 있다. 또한, 가공층(12) 주변에 분포된 도스량에 따라 전자빔이 중첩되는 않는 주변층에 대해서는 가공층(12) 보다 낮은 도스량이 분포됨으로 인해 재료 자체의 shut down 온도 특성을 유지 혹은 변화시키는 것이 가능하다. Here, the electron beam (E1/E2) is the depth from the surface of the separator material 11 for secondary batteries as shown in (D) of FIG. 6, with the focal position (F) set on the inner layer of the separator material 11 As a result, a difference occurs in the electron beam density, that is, the amount of dose (DOSE) that affects the material of the separator, and has the largest dose at the focal position (F) of the electron beam. In other words, the closer to the focal position (F) of the electron beam, the greater the dose. Since the dose of the first electron beam and the dose of the second electron beam are overlapped in the processed layer 12, which is an overlapping region, the dose is larger than that of the surrounding layer. Distribution. For example, when the maximum dose at the focal position of the first and second electron beams E1 and E2 generated by the first and second electron beam emitting devices 100 and 200 in FIG. 6C is "10", the processed layer as an overlapping portion In (12), a dose amount of about "18", which is approximately the sum of the dose amounts of the first and second electron beams, may be distributed, and a dose amount of approximately "3 to 4" may be distributed on both surfaces of the processed layer 12, respectively. Accordingly, a high dose is distributed only in the processed layer 12 of the separation membrane material 11 to modify the chemical chain structure of the processed layer 12, thereby changing the physical properties differently from the surrounding layers. In addition, it is possible to maintain or change the shut down temperature characteristic of the material itself because the dose amount lower than that of the processed layer 12 is distributed in the peripheral layer where the electron beam does not overlap according to the dose distributed around the processed layer 12. Do.

또한, 가공층(12)에 제1 및 제2 전자빔을 중첩하여 오버 도즈하게 되면, 이차전지 셀내의 전해액과의 반응으로 스웰(SWELL) 현상이 발생되며, 추후 이차전지 내부의 열화에 의해 젤(GEL)상태로 변화된다. In addition, when the first and second electron beams are superimposed on the processed layer 12 and overdosed, a swell phenomenon occurs due to a reaction with the electrolyte in the secondary battery cell, and the gel ( GEL) state.

또한, 본 발명에서는 도6 (C)에 도시된 바와 같이 전자빔이 분리막 소재(11)의 표면에 대해 전자빔의 중심축(C1, C2)이 일정 방향각(θ)을 가지면서 투입된다. In addition, in the present invention, as shown in Fig. 6C, the electron beam is injected with the central axes C1 and C2 of the electron beam with a predetermined direction angle θ with respect to the surface of the separation membrane material 11.

이는 전자빔의 특성상 많은 도스량을 위해서는 전자빔의 세기가 커져야 하고, 전자빔의 세기를 크게 하기 위해서는 전자빔 생성을 위한 전압을 높게 설정해야하며, 전압이 높아지게 되면 전자빔의 초점 거리가 길어져 결과적으로 분리막 소재(11)로의 침투깊이가 깊어지게 되는 바, 본 발명에서는 분리막 소재(11)로 45°이하, 바람직하게는 30°∼45°범위의 빔 방향각(θ)을 갖도록 전자빔을 분리막 소재(11) 내층으로 투입함으로써, 보다 긴 초점 거리의 전자빔을 허용하는 것을 가능하도록 한다. 따라서, 동일 조건에서 보다 많은 도스량을 갖는 전자빔을 이용하여 분리막 소재(11)를 가공하는 것이 가능하다. Due to the characteristics of the electron beam, the intensity of the electron beam must be increased for a large dose, and the voltage for generating the electron beam must be set high in order to increase the intensity of the electron beam, and when the voltage is increased, the focal length of the electron beam is lengthened. ), the depth of penetration is increased, and in the present invention, the electron beam is transferred to the inner layer of the separation membrane material 11 so that the separation membrane material 11 has a beam direction angle θ of 45° or less, preferably in the range of 30° to 45°. By injecting, it makes it possible to allow longer focal length electron beams. Therefore, it is possible to process the separation membrane material 11 using an electron beam having a larger dose under the same conditions.

또한, 10 ~ 20μm 두께의 분리막 소재(11) 내측에 존재하는 가공층(12)에 분포하는 전자빔의 침투 범위를 보다 길게 설정하여 원하는 가공층(12)에 대한 초점 위치의 설정을 용이하게 할 수 있다. 이때, 분리막 소재(11)의 두께가 작을수록 이차전지용 분리막 소재(11)로 투입되는 전자빔의 빔 방향각(θ)은 보다 작게 설정한다.In addition, by setting a longer penetration range of the electron beam distributed in the processed layer 12 existing inside the separation membrane material 11 having a thickness of 10 to 20 μm, it is possible to easily set the focal position for the desired processed layer 12. have. In this case, as the thickness of the separator material 11 decreases, the beam direction angle θ of the electron beam injected into the separator material 11 for secondary batteries is set to be smaller.

또한, 도7 (E)에 도시된 바와 같이, 동일 초점 위치를 갖는 전자빔이 분리막 소재(11)에 대해 수직으로 침투하는 경우, 가공층(12)에서 전자빔 영역은 D1에 해당하나, 도7 (F)에 도시된 바와 같이 전자빔이 분리막 소재(12)에 대해 일정 빔 방향각을 가지면서 침투하는 경우에는 빔 방향각이 낮을 수록 가공층(12)에서 전자빔 영역은 D2로서 D1보다 넓어지게 된다. 이에 따라, 50μm 이하, 바람직하게는 20μm 이하의 박막을 가공함에 있어서, 보다 효율적으로 박막에 전자빔을 낮은 두께로 조사할수 있다. 이는 전자빔 주사 밀도를 높이기 위해서는 전압을 동시에 높여야 하는데 5-10 um 미만의 얇은 표면에 분리막 가교시 수직으로 전자빔 입사하는 방식은 정밀한 전자빔 투과 깊이를 조절하기가 난해하다. 특히 이차전자를 이용하는 콜드 캐소드 방식에서는 특히 전자빔의 투과 깊이 조절이 어려운데, 본 발명에서는 이러한 문제를 해결할 수 있다.
In addition, as shown in Fig. 7 (E), when the electron beam having the same focal position penetrates perpendicularly to the separation membrane material 11, the electron beam region in the processed layer 12 corresponds to D1, but Fig. 7 ( As shown in F), when an electron beam penetrates with a certain beam direction angle to the separation membrane material 12, as the beam direction angle is lower, the electron beam region in the processed layer 12 becomes D2, which is wider than D1. Accordingly, in processing a thin film of 50 μm or less, preferably 20 μm or less, it is possible to more efficiently irradiate the thin film with an electron beam with a low thickness. In order to increase the electron beam scanning density, the voltage must be increased at the same time. However, it is difficult to precisely control the electron beam transmission depth when the electron beam is vertically incident on a thin surface of less than 5-10 um when the separator is crosslinked. In particular, in the cold cathode method using secondary electrons, it is particularly difficult to control the transmission depth of the electron beam, but this problem can be solved in the present invention.

또한, 분리막 소재(11)의 가공층(12)을 높은 도스량으로 가공해야 하는 경우, 열적 변형을 최소화하기 위해 다수회로 나누어 가공처리를 중복 수행하도록 실시할 수 있다. 즉, 상기 라인빔 제어장치(300)는 분리막 소재(11)의 가공을 위해 요구되는 빔의 세기를 일정 수로 나누고, 다수의 빔 세기로 분할하여 조사하도록 전자빔 발생장치(100,200)의 전압레벨을 제어한다. 예컨대, 가공을 위해 100KGY 전자빔이 요구되는 경우, 50KGY 전자빔 가공처리를 2회 수행하거나, 30KGR, 30KGY, 40KGY의 전자빔으로 3회 가공처리를 수행할 수 있다. 그리고, 라인라인빔 제어장치(300)는 전자빔 조사시마다 전자빔의 초첨 위치가 동일하도록 전자빔의 조사각을 다르게 설정한다. 이는 이차전지용 분리막(10)이 50μm 이하의 두께를 갖는 바, 전압레벨에 대응하여 전자빔의 초점위치까지의 길이가 길어지고, 초점 위치까지의 길이가 길어지는 만큼 챔버의 크기가 커져야하는 문제를 해결할 수 있다.In addition, when the processed layer 12 of the separation membrane material 11 needs to be processed with a high dose, it may be divided into multiple times to minimize thermal deformation, and the processing may be repeatedly performed. That is, the line beam control device 300 divides the intensity of the beam required for processing the separation membrane material 11 by a predetermined number, and controls the voltage level of the electron beam generators 100 and 200 to irradiate it by dividing it into a plurality of beam intensities. do. For example, when a 100KGY electron beam is required for processing, 50KGY electron beam processing may be performed twice, or 3 times processing may be performed with an electron beam of 30KGR, 30KGY, and 40KGY. In addition, the line line beam control device 300 sets the irradiation angle of the electron beam differently so that the focal position of the electron beam is the same every time the electron beam is irradiated. This solves the problem that the size of the chamber must be increased as the length to the focal position of the electron beam increases in response to the voltage level, and the length to the focal position increases as the separator 10 for secondary batteries has a thickness of 50 μm or less. I can.

이때, 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)의 위치를 상하좌우로 이동시키거나 분리막 소재(11)를 상하좌우로 이동시키기 위한 이동수단을 추가적으로 구비하여 전자빔의 초점 위치 및 조사각을 자동으로 변경시킴으로써, 분리막 소재(11)에서 목적하는 가공층(12) 영역에 대한 가공처리를 수행할 수 있다.At this time, by additionally providing a moving means for moving the positions of the first and second electron beam generators 100, 200 up, down, left, and right or moving the separator material 11 up, down, left and right, the focal position and irradiation angle of the electron beam are automatically adjusted. By changing, it is possible to perform a processing treatment on the region of the desired processing layer 12 in the separation membrane material 11.

도8에는 본 발명의 제1 실시예에 대한 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법을 예시한 도면으로, 제1 및 제2 전자빔을 이용하여 가공층(12)을 가공하는 방법이 도시되어 있다. FIG. 8 is a diagram illustrating a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam according to the first embodiment of the present invention, and illustrates a method of processing the processed layer 12 using first and second electron beams.

도8을 참조하면, 가공층(12)은 다공성 소재의 분리막 소재(11)의 중앙 내층에 형성되거나(G), 또는 분리막 소재(11)의 내층 일측 영역에 형성되거나(H), 또는 분리막 소재(11)의 내층 양측 영역에 형성될 수 있다(I,J).Referring to FIG. 8, the processed layer 12 is formed on the central inner layer of the separator material 11 made of a porous material (G), or is formed in one region of the inner layer of the separator material 11 (H), or the separator material It may be formed on both sides of the inner layer of (11) (I,J).

이때, 도8에서 (G)와 (H)는 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)이 하나의 가공층(12) 영역에서 중첩되어 해당 영역에서의 전자빔 밀도를 주변 영역보다 높게 형성함으로써, 가공층(12)의 재료 특성과 온도 특성 및 기계적 강도를 증가시킨다. In this case, (G) and (H) in FIG. 8 show that the first and second electron beams E1 and E2 are overlapped in one processed layer 12 area to form an electron beam density higher than that of the surrounding area, It increases the material properties, temperature properties, and mechanical strength of the processed layer 12.

즉, 도8에서 (G) 구조에서 분자 다공성 재료인 고분자 소재인 폴리올레핀계의 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP) 재료로 이루어지는 10~50μm 두께의 분리막 소재(11)를 가공하는 경우, 예컨대, 20~100KGY 전자빔을 분리막 소재(11)의 중심부 5μm 영역에서 중첩시킴으로써, 전자빔의 밀도(도스량)를 높여 중심부에서만 중점적으로 가교가 진행되도록 함으로써, 분리막 중심부에 인장강도를 부여함과 동시에 분리막의 열적변형 온도를 높이며, 분리막 표면층에는 변형을 최소화하여 이차전지 내부에서 외부로부터의 충격 및 과도한 전류와 급격한 온도상승시 이차전지를 차단(shut down) 하여 단락되는 것을 방지할 수 있다.That is, in the case of processing the separator material 11 having a thickness of 10 to 50 μm made of a polyolefin-based polyethylene (PE) and polypropylene (PP) material, which is a polymer material that is a molecular porous material in the structure (G) in FIG. 8, for example, By overlapping the 20~100KGY electron beam in the 5μm area of the center of the separator material 11, the density (dosage) of the electron beam is increased so that crosslinking is carried out intensively only at the center, thereby imparting tensile strength to the center of the separator and at the same time thermal By increasing the deformation temperature and minimizing the deformation on the surface layer of the separator, it is possible to prevent a short circuit by shutting down the secondary battery in the event of an external shock and excessive current and a sudden temperature increase inside the secondary battery.

또한, 도8에서 (I)와 (J)는 분리막 소재(11)의 양측 표면 내층에 가공층(12-1,12-2)를 형성한 것으로, 분리막(10)의 양측면의 기계적 강도를 향상시킨 구조이다. 이는 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)을 이용하여 서로 다른 가공층(12-1, 12-2)을 동시에 가공할 수 있다.In addition, (I) and (J) in FIG. 8 are processed layers (12-1, 12-2) formed on the inner layers of both sides of the separation membrane material 11, improving the mechanical strength of both sides of the separation membrane 10 It is the structure that I made. This may simultaneously process different processed layers 12-1 and 12-2 using the first and second electron beams E1 and E2.

도8에서 (I)는 제1 전자빔(E1)과 제2 전자빔(E2)을 분리막 소재(11)의 양측 표면 내층으로 각각 조사함으로써, 분리막 소재(11)의 일측에 설정된 제1 가공층 영역(12-1)은 제1 전자빔 밀도에 대응하여 가교시키고, 분리막 소재(11)의 타측에 설정된 제2 가공층 영역(12-2)은 제2 전자빔 밀도에 대응하여 가교시킬 수 있다. 이때, 제1 및 제2 전자빔(E1,E2)은 서로 다른 가교 조건을 만족하도록 조사되어 제 및 제2 가공층 영역(12-1,12-2)의 내열성 및 기계적 강도 특성을 서로 다르게 형성하는 것이 가능하다.In FIG. 8, (I) shows a first processed layer region set on one side of the separator material 11 by irradiating the first electron beam E1 and the second electron beam E2 to the inner layers of both surfaces of the separator material 11 respectively. 12-1) may be crosslinked corresponding to the first electron beam density, and the second processed layer region 12-2 set on the other side of the separator material 11 may be crosslinked corresponding to the second electron beam density. At this time, the first and second electron beams E1 and E2 are irradiated to satisfy different crosslinking conditions to form different heat resistance and mechanical strength characteristics of the first and second processed layer regions 12-1 and 12-2. It is possible.

도8에서 (J)는 서로 다른 방향각을 갖는 다수개, 예컨대 두 개의 제1 전자빔(E1-1,E1-2)이 동시에 제1 가공층(12-1) 영역에서 중첩되어 제1 가공층 영역(12-1)의 전자빔 밀도를 주변층(11) 보다 높게 형성함과 더불어, 서로 다른 방향각을 갖는 다수개, 예컨대 두 개의 제2 전자빔(E2-1,E2-2)이 동시에 제2 가공층(12-2) 영역에서 중첩되어 제2 가공층(12-2)의 전자빔 밀도를 주변층(11) 보다 높게 형성할 수 있다. 이때, 챔버(C)에는 분리막 소재(11)의 일측에 적어도 둘 이상의 제1 전자빔 발생장치가 일정 거리 이격되게 배치되고, 분리막 소재(11)의 타측에는 적어도 둘 이상의 제2 전자빔 발생장치가 일정 거리 이격되게 배치된다. In Fig. 8, (J) is a first processed layer in which a plurality of, for example, two first electron beams E1-1 and E1-2 having different directional angles are simultaneously overlapped in the area of the first processed layer 12-1. In addition to forming the electron beam density of the region 12-1 higher than that of the peripheral layer 11, a plurality of, for example, two second electron beams E2-1 and E2-2 having different directional angles are simultaneously second By overlapping in the processed layer 12-2 region, the electron beam density of the second processed layer 12-2 may be formed higher than that of the peripheral layer 11. At this time, in the chamber (C), at least two or more first electron beam generators are disposed on one side of the separator material 11 to be spaced apart by a predetermined distance, and at least two or more second electron beam generators are disposed on the other side of the separator material 11 They are arranged spaced apart.

한편, 본 발명에 있어서는 도8에 도시된 바와 같이 가공층(12)이 가공 형성된 이차전지용 분리막 구조에서 전자빔을 이용하여 분리막 특성 향상을 위한 추가 공정을 실시할 수 있다.Meanwhile, in the present invention, as shown in FIG. 8, an additional process for improving the characteristics of the separator may be performed using an electron beam in the separator structure for a secondary battery in which the processed layer 12 is processed.

도9에는 가공층(12)이 형성된 이차전지용 분리막(10)에 대한 추가 공정이 예시되어 있다. 도9에는 분리막 소재(11)의 중간부분에 가공층(12)이 형성된 구조의 이차전지용 분리막(10)이 예시되어 있으나, 도8의 (H)와 (I) 및 (J)에 도시된 바와 같이 기 분리막 소재(11)의 일측 또는 양측에 가공층(12)이 형성된 이차전지용 분리막(10) 구조에 대해서도 동일하게 실시할 수 있음은 물론이다. 9 illustrates an additional process for the separator 10 for a secondary battery in which the processed layer 12 is formed. 9 illustrates a separator 10 for a secondary battery having a structure in which a processed layer 12 is formed in the middle of the separator material 11, but as shown in (H), (I) and (J) of FIG. As a matter of course, the same can be performed for the structure of the separator 10 for a secondary battery in which the processed layers 12 are formed on one or both sides of the separator material 11.

도9 (K)에는 양극재와 접촉하는 분리막 소재(11)의 일측 표면 내층에 전자빔을 이용하여 친수성 및 소수성 특성을 갖도록 표면을 개질 처리를 수행함으로써, 웨팅(WETTING)층(13)이 형성된 이차전지용 분리막(10)이 도시되어 있다. In Figure 9 (K), a secondary wetting layer 13 is formed by modifying the surface to have hydrophilic and hydrophobic properties by using an electron beam on the inner layer of one surface of the separator material 11 in contact with the cathode material. A separator 10 for a battery is shown.

예컨대, 친수성 개질 처리는 수소연료전지에서 일측 표면을 수소 이온의 전달효율을 향상시키기 위해 이루어질 수 있으며, 20 ~ 100 KGy 범위의 전자빔을 일정 빔 방향각을 갖도록 조사하여 불소계수지로 이루어지는 분리막 소재(11)의 일측 표면의 일정부분에 분자변화를 유도함으로써, 해당 영역을 친수성/소수성으로 개질할 수 있다. 본 발명자가 불소계수지로 이루어지는 이차전지용 분리막에 대한 친수성 테스트를 수행한 결과, 불소수지의 C-F 계의 절단으로 contact angle 이 82 도 에서 55 도로 개선 되어 친수성이 증가함을 알 수 있었다. 특히, 진공상태에서 O2를 공정가스로 이용하여 친수성 개질 처리를 수행하는 경우, 분리막 소재(11) 표면의 탄소 성분과 O2가 반응하여 "C-O-" 그룹(체인)을 형성함으로써, 친수성 개질이 보다 용이하다. 이는 분리막에 전해액에서의 이온의 흡수 및 통과를 용이하게 하여 이온의 전도도를 높임으로써, 결과적으로 이차전지의 효율을 향상시킬 수 있다.For example, the hydrophilic reforming treatment may be performed to improve the transfer efficiency of hydrogen ions on one surface of a hydrogen fuel cell, and a separation membrane material made of a fluorine-based resin by irradiating an electron beam in the range of 20 to 100 KGy to have a predetermined beam direction angle (11 ) By inducing a molecular change in a certain portion of the surface of one side of the), the corresponding region can be modified to be hydrophilic/hydrophobic. As a result of performing a hydrophilicity test on a separator for secondary batteries made of a fluorine resin, the present inventors found that the contact angle was improved from 82 degrees to 55 degrees by cutting of the CF system of the fluorine resin, thereby increasing the hydrophilicity. In particular, in the case of performing hydrophilic reforming treatment using O 2 as a process gas in a vacuum, the carbon component on the surface of the separation membrane material 11 and O 2 react to form a "CO-" group (chain), thereby hydrophilic modification It is easier than this. This increases the conductivity of ions by facilitating absorption and passage of ions in the electrolyte solution through the separator, thereby improving the efficiency of the secondary battery.

도9 (L)에는 분리막 소재(11)의 양측 표면에 무기층(14)이 추가 형성된 이차전지용 분리막(10)이 도시되어 있다.9(L) shows a separator 10 for a secondary battery in which inorganic layers 14 are additionally formed on both surfaces of the separator material 11.

무기층(14)은 Al2O3 또는 SiO2 를 포함하는 세라믹 성분의 무기재료를 코팅하여 이루어지며, 전자빔을 이용한 ALD(atomic layer deposition) 증착 방법 또는 에어졸 방식을 이용하여 세라믹 특히 Al2O3를 증착할 수 있다. The inorganic layer 14 is formed by coating an inorganic material of a ceramic component including Al 2 O 3 or SiO 2 , and using an ALD (atomic layer deposition) deposition method using an electron beam or an aerosol method is used to form ceramics, especially Al 2 O 3. Can be deposited.

여기서, ALD 증착 방법은 전자빔을 이용하여 TMA 또는 H2O 등의 공정가스를 분해하는 것으로, 낮은 온도에서 증착 공정이 진행됨으로써, 분리막 표면에 열적 부담이 없게 된다. 즉, ALD 증착 방법은 TMA 또는 H2O 를 이용하여 다수의 증착 및 퍼지(PURGE) 공정을 반복수행함으로써, 1∼2 μm 의 두께를 확보할 수 있다.Here, the ALD deposition method decomposes a process gas such as TMA or H 2 O using an electron beam, and the deposition process proceeds at a low temperature, thereby eliminating a thermal burden on the surface of the separator. That is, the ALD deposition method can secure a thickness of 1 to 2 μm by repeatedly performing a number of deposition and purging processes using TMA or H 2 O.

이는 종래 진공 환경에서 plasma 혹은 열원을 이용하여 분리막 소재의 양측 표면에 수 나노 (nm) 에서 수십 나노(nm)의 Al2O3 를 증착하는 경우 TMA 또는 H2O 분해를 위해 높은 온도 환경이 요구되어 분리막 소재의 열적 변형의 문제가 있으나, 본 발명에서는 전자빔을 이용하여 공정 가스의 가스분자를 분해함으로써, 수십 nm 의 두께의 Al2O3 를 낮은 온도에서 증착시키는 것이 가능하다. 이에 따라 분리막의 표면에 열적 부담이 없는 Al2O3 ALD 증착이 가능함은 물론, 전자빔을 분리막으로 동시 조사함으로써, 박막과 분리막과의 결합력을 증대시킬 수 있다. This requires a high temperature environment for TMA or H 2 O decomposition in the case of depositing a few nano (nm) to tens of nano (nm) Al 2 O 3 on both surfaces of a separator material using a plasma or heat source in a conventional vacuum environment. As a result, there is a problem of thermal deformation of the separator material, but in the present invention, it is possible to deposit Al 2 O 3 having a thickness of several tens of nm at a low temperature by decomposing gas molecules of the process gas using an electron beam. Accordingly, Al 2 O 3 ALD deposition without a thermal burden on the surface of the separation membrane is possible, and by simultaneously irradiating an electron beam to the separation membrane, the bonding strength between the thin film and the separation membrane can be increased.

그리고, 에어졸 방식은 100nm 이하의 미세 세라막을 진공 챔버(C)내에서 진공압을 이요하여 분리막 표면에 세라믹을 코팅한다. 무기층(14) 코팅시에는 TMA, H2O, SnO2, TiO2 등이 될 수 있으며, 이들 중 적어도 하나의 재료가 이용될 수 있다. In the aerosol method, a fine ceramic film of 100 nm or less is applied in the vacuum chamber C by applying vacuum pressure to coat ceramic on the surface of the separator. When the inorganic layer 14 is coated, it may be TMA, H 2 O, SnO 2 , TiO 2 or the like, and at least one of these materials may be used.

또한, 본 발명에서는 전자빔을 이차전지용 분리막(10) 측으로 조사하여 세라믹 및, 전구체(PRECUSOR)와 분리막간의 접착력을 높이고, 미량의 폴리비닐리덴 플로우라이드(Polyvinylidene fluoride), SBR(styrene butadiene rubber) 등의 바인더를 첨가하여 유기층을 추가로 증착할 수 있다.In addition, in the present invention, the electron beam is irradiated toward the separator 10 for secondary batteries to increase the adhesion between the ceramic and the precursor (PRECUSOR) and the separator, and a trace amount of polyvinylidene fluoride, styrene butadiene rubber (SBR), etc. An organic layer may be further deposited by adding a binder.

이때, 서로 다른 초점 위치를 갖는 서로 다른 전자빔을 이용하여 분리막의 가공층과 표면층에 동시에 조사함으로써, 낮은 온도에 가교 공정과 접착공정을 동시에 수행하는 것도 가능하다. At this time, it is possible to simultaneously perform the crosslinking process and the bonding process at a low temperature by simultaneously irradiating the processed layer and the surface layer of the separation membrane using different electron beams having different focal positions.

도9 (M)에는 분리막 소재(11)의 양측 표면에 러프니스층(15)이 추가 형성된 이차전지용 분리막(10)이 도시되어 있다.9(M) shows a separator 10 for a secondary battery in which roughness layers 15 are additionally formed on both surfaces of the separator material 11.

일반적으로 이차전지용 분리막(10)은 양극재와 음극재 사이에 배치되는 바, 양극재 및 음극재와 접촉하는 표면에 대해서는 러프니스 가공처리를 추가로 수행하여 할 수 있다. In general, since the separator 10 for a secondary battery is disposed between a positive electrode material and a negative electrode material, roughness processing may be additionally performed on surfaces in contact with the positive electrode material and the negative electrode material.

즉, 이차전지용 분리막(10) 표면을 거칠게 만들어 접촉면적을 증가시킴으로써, 분리막의 양측에 양극재와 음극재 접착시 접착력을 키움과 더불어 접촉저항을 감소시킬 수 있다.That is, by increasing the contact area by making the surface of the separator 10 for a secondary battery rough, it is possible to increase adhesion and reduce contact resistance when bonding the positive electrode material and the negative electrode material to both sides of the separator.

도10 (N)에는 분리막 소재(11)의 음극재와 접촉하는 측면에 나노층(16)이 추가 형성된 이차전지용 분리막(10)이 도시되어 있다.FIG. 10(N) shows a separator 10 for a secondary battery in which a nano-layer 16 is additionally formed on a side of the separator material 11 in contact with the negative electrode material.

즉, 타이타늄 옥사이드(TiO2) 혹은 Al2O3, SiO2 등의 nano particle을 에어졸 방식으로 진공 챔버내에서 분리막 소재(11)의 일측 표면에 도포한다. 이러한 TiO2 , Al2O3, SiO2 등 의 nano particle이 증착된 나노층(16)을 리튬 금속의 음극층과 마주하게 배치함으로써, 음극층 표면의 덴트라이트(dentrite) 형성을 방지하여 이차전지의 효율 유지 및 안정성을 확보할 수 있다. 또한, Mg nano particle 를 분리막 소재(11)의 일측 표면에 증착(deposition)하여 친리튬( lithiophilic)상태로 변화시킴으로써, 리튬 메탈의 이온(ion)재분배 층을 형성하여 전극에서 litum 이온의 분배차이에서 기인하는 덴트라이트의 형성을 방해할 수 있다.That is, nanoparticles such as titanium oxide (TiO 2 ) or Al 2 O 3 , SiO 2 are coated on one surface of the separator material 11 in a vacuum chamber in an aerosol method. By arranging the nano-layer 16 on which nanoparticles such as TiO 2 , Al 2 O 3 and SiO 2 are deposited to face the cathode layer of lithium metal, the formation of dentrite on the surface of the anode layer is prevented and secondary battery The efficiency and stability of the product can be secured. In addition, Mg nanoparticles are deposited on one surface of the separator material 11 to change to a lithiophilic state, thereby forming an ionic redistribution layer of lithium metal, thereby reducing the distribution of litum ions at the electrode. It may interfere with the formation of the resulting dentrite.

이때, Glassy , Garnet 형상의 무기물(inorganic)에 고체 세라믹 전해질 ( solid ceramic electrolyte)를 함께 적용함으로써, 전해질 전 혹은 후에 위치하여 고체전해질에서 dendrite 의 성장을 방지함과 더불어, 갤상태의 분리막 부분은 충방전시 수축 팽창하는 전극과의 접촉을 보장하여 접촉저항 및 이온전도성을 높일 수 있다.At this time, by applying a solid ceramic electrolyte to glassy and garnet-shaped inorganic materials, it is located before or after the electrolyte to prevent dendrite from growing in the solid electrolyte, and the galvanized separator part is filled. It is possible to increase contact resistance and ion conductivity by ensuring contact with an electrode that contracts and expands during discharge.

여기서, 상기한 러프니스층(15)은 도9의 (K) 또는 (L) 또는 (N)과 같은 이차전지용 분리막(10) 구조에 추가로 적용될 수 있으며, 또한, 웨팅층(13)과 무기층(14) 및 나노층(16) 중 적어도 둘 이상의 층이 형성된 이차전지용 분리막(10)에도 러프니스층(15)을 추가 형성하도록 적용할 수 있다. Here, the roughness layer 15 may be additionally applied to the structure of the separator 10 for a secondary battery such as (K) or (L) or (N) of FIG. 9, and also, the wetting layer 13 and the inorganic The roughness layer 15 may also be applied to the separator 10 for secondary batteries in which at least two or more layers of the layer 14 and the nano layer 16 are formed.

또한, 본 발명에서 상기한 러프니스층(15) 공정은 이차전지용 분리막(10)의 표면에 대한 가공으로, 전자빔을 이용하는 것에 한정되지 않고, 이온빔을 이용하여 실시하는 것이 가능하다.In addition, the roughness layer 15 process described above in the present invention is not limited to using an electron beam, and may be performed using an ion beam, as a process on the surface of the separator 10 for a secondary battery.

즉, 이온빔은 전자빔에 비해 그 크기가 크기 때문에 분리막 소재(11)의 내층으로 투입되지 못하기 때문에, 분리막 소재(11)의 표면층에 대한 공정에 이용될 수 있다. That is, since the ion beam cannot be injected into the inner layer of the separator material 11 because its size is larger than that of the electron beam, it can be used in a process for the surface layer of the separator material 11.

또한, 본 발명에서는 분리막 표면을 고분자 polymer인 폴리비닐이데인 플로라이드 (polyvinylidene fluoride ), 폴리에틸렌 옥사이드(poly ethylene oxide , PEO), 폴리프로필렌 옥사이드 (PPO), 폴리메틸 그릴레이트(PMMA) 등을 코팅한 후 전자빔 처리하여 강도를 증가시키는 공정을 추가할 수 있다. In addition, in the present invention, the separator surface is coated with a polymer polymer such as polyvinylidene fluoride, polyethylene oxide (PEO), polypropylene oxide (PPO), polymethyl grate (PMMA), etc. After the electron beam treatment, a process of increasing the intensity may be added.

도10은 분리막 소재(11)의 표면층 가공을 수행하는 이온빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템의 구성을 설명하는 도면으로, 도2와 동일한 기능을 수행하는 구성에 대해서는 동일한 참조번호를 부여하고, 그 상세한 설명은 생략한다. 바람직하게, 제1 및 제2 이온빔 발생장치(500,600)는 도2에 도시된 제1 및 제2 전자빔 발생장치(100,200)가 구비된 챔버(C) 내에 구비되고, 하나의 라인빔 제어장치(300)를 통해 전자빔 및 이온빔 발생이 제어될 수 있다. FIG. 10 is a view for explaining the configuration of a separation membrane processing system for a secondary battery using an ion beam that performs surface layer processing of the separation membrane material 11, and the same reference numerals are assigned to configurations that perform the same functions as in FIG. Description is omitted. Preferably, the first and second ion beam generators 500 and 600 are provided in the chamber C in which the first and second electron beam generators 100 and 200 shown in FIG. 2 are provided, and one line beam control device 300 ) Through the electron beam and ion beam generation can be controlled.

도10을 참조하면, 이온빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공시스템은, 이차전지용 분리막(10)측으로 제1 이온빔(I1)을 조사하는 제1 이온빔 발생장치(500)와, 상기 제1 이온빔 발생장치(500)와 마주하면서 이차전지용 분리막(10)측으로 라인형태의 제2 이온빔(I2)을 조사하는 제2 이온빔 발생장치(600) 및, 상기 제1 및 제2 이온빔 발생장치(500,600)에서 이차전지용 분리막(10)측으로 조사되는 제1 및 제2 이온빔(I1,I2)을 제어하기 위한 라인빔 제어장치(300)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 10, a system for processing a separator for a secondary battery using an ion beam includes a first ion beam generator 500 for irradiating a first ion beam I1 toward the separator 10 for a secondary battery, and the first ion beam generator 500. ) And irradiating a second ion beam (I2) in the form of a line toward the separator 10 for a secondary battery while facing the second ion beam generator 600, and a separator for a secondary battery ( It is configured to include a line beam control device 300 for controlling the first and second ion beams (I1, I2) irradiated to the side 10).

그리고, 상기한 제1 및 제2 이온빔 발생장치(500,600)는 동일한 구성으로 이루어지고, 도10에 도시된 제1 이온빔 발생장치(500)의 주요 구성을 이용하여 제1 및 제2 이온빔 발생장치의 구성을 설명한다.In addition, the first and second ion beam generators 500 and 600 have the same configuration, and by using the main configuration of the first ion beam generator 500 shown in FIG. Describe the configuration.

도11 (O)을 참조하면, 제1 이온빔 발생장치(500)는 캐소드(510)와 캐소드(510)의 하측에 일정 이격되는 위치에 배치되는 애노드(520), 캐소드(510)로 전원을 공급하는 캐소드 전원 공급부(530) 및, 애노드(520)로 전원을 공급하는 애노드 전원 공급부(540)를 포함하여 구성된다. Referring to FIG. 11(O), the first ion beam generator 500 supplies power to the cathode 510 and the anode 520 and cathode 510 disposed at a predetermined distance from the lower side of the cathode 510 A cathode power supply unit 530 and an anode power supply unit 540 supplying power to the anode 520 are included.

상기 캐소드 전원 공급부(530)는 캐소드(510)로 RF 전원을 인가하고, 상기 애노드 전원 공급부(540)는 애노드(520)로 음 전압을 인가한다. 예컨대, 캐소드 전원 공급부(530)는 0.5 ~ 20kW 의 RF 전원을 캐소드(510)로 인가하고, 애노드 전원 공급부(540)는 100 ~ 1,000 kV의 음 전압을 애노드(520)로 인가한다. The cathode power supply 530 applies RF power to the cathode 510, and the anode power supply 540 applies a negative voltage to the anode 520. For example, the cathode power supply unit 530 applies 0.5 to 20 kW of RF power to the cathode 510, and the anode power supply unit 540 applies a negative voltage of 100 to 1,000 kV to the anode 520.

즉, 제1 이온빔 발생장치(500)는 공정가스가 유입된 상태에서 캐소드(510)로 일정 레벨의 RF 전원이 인가됨과 더불어, 애노드(520)로 음 전압이 인가되면, 캐소드(510)와 애노드(520) 사이에서 공정가스가 전리되어 플라즈마를 형성하고, 캐소드(510)와 애노드(520)간의 전압차에 의해 플라즈마상의 이온이 애노드(520)에 이끌려 애노드(520)에 형성된 애노드 홀(H)을 통해 전자재료(10)측으로 방출된다.That is, when the first ion beam generator 500 is supplied with a certain level of RF power to the cathode 510 in a state in which the process gas is introduced, and when a negative voltage is applied to the anode 520, the cathode 510 and the anode The process gas is ionized between 520 to form a plasma, and ions on the plasma are drawn by the anode 520 due to the voltage difference between the cathode 510 and the anode 520, and an anode hole H formed in the anode 520 It is emitted to the electronic material 10 side through.

이때, 상기 애노드(520)는 도11의 (P)에 도시된 바와 같이, 캐소드(510)에 대응되는 크기의 판형상으로 제1 및 제2 메탈층(521,522) 사이에 일정 두께를 갖는 절연층(523)을 형성하도록 구성되면서, 전자재료(10)측으로 초점 위치가 형성되도록 중앙라인이 일정 곡률반경을 갖도록 구성됨으로써, 플라즈마상의 이온을 중심 라인에 대응되는 라인형태로 집중화하여 방출하도록 구성된다. 상기 애노드(520)는 이외에 본 발명자가 2018년 12월 14일자 특허출원한 특허출원번호 10-2018-0161915호(라인형태의 이온빔 방출장치)에서 실시된 각종 형태의 애노드 구조가 적용될 수 있으며, 이에 대한 상세한 설명은 생략한다. At this time, the anode 520 is an insulating layer having a predetermined thickness between the first and second metal layers 521 and 522 in a plate shape having a size corresponding to the cathode 510, as shown in FIG. 11P. While being configured to form 523, the central line is configured to have a predetermined radius of curvature so that the focal position toward the electronic material 10 is formed, so that ions on the plasma are concentrated and released in a line shape corresponding to the center line. In addition to the anode 520, various types of anode structures implemented in Patent Application No. 10-2018-0161915 (line type ion beam emission device) for which the inventor applied for a patent on December 14, 2018 may be applied. Detailed description of this will be omitted.

또한, 도11 (O)에는 도시되지 않았지만, 애노드(520)의 하측에는 애노드(520)로부터 방출되는 제1 이온빔(I1)을 보다 고속화하기 위한 그리드 전극과 이 그리드 전극으로 전압을 공급하기 위한 그리드 전압공급부가 추가로 구비될 수 있다.In addition, although not shown in FIG. 11(O), a grid electrode for speeding up the first ion beam I1 emitted from the anode 520 and a grid for supplying a voltage to the grid electrode under the anode 520 A voltage supply may be additionally provided.

한편, 본 발명에 있어서는 이차전지용 분리막(10)의 양측에 각각 적어도 둘 이상의 복수의 라인빔 발생장치를 구비하여 구성하는 것도 가능하다. On the other hand, in the present invention, it is also possible to include at least two or more line beam generating devices on both sides of the separator 10 for secondary batteries.

예컨대, 이차전지용 분리막(10)을 기준으로 일측에 제1 및 제2 전자빔 발생장치를 구비하고, 타측에 제3 및 제4 전자빔 발생장치를 구비하여, 서로 다른 위치에서 서로 다른 빔 방향각을 갖도록 전자빔을 발생시킴으로써, 가공층(12)에 대한 가교 공정 및 추가 공정(도9 참조)을 동시에 수행하도록 구성될 수 있다. For example, first and second electron beam generators are provided on one side of the separator 10 for secondary batteries, and third and fourth electron beam generators are provided on the other side of the separator 10 to have different beam direction angles at different positions. By generating an electron beam, it can be configured to simultaneously perform a crosslinking process and an additional process (see Fig. 9) for the processed layer 12.

또한, 이차전지용 분리막(10)을 기준으로 일측에 제1 전자빔 발생장치와 제1 이온빔 발생장치를 구비하고, 타측에 제2 전자빔 발생장치와 제2 이온빔 발생장치를 구비하여, 가공층(12)에 대한 가교 공정 및 러프니스 공정을 동시에 수행하도록 구성될 수 있다. In addition, based on the separator 10 for a secondary battery, a first electron beam generator and a first ion beam generator are provided on one side, and a second electron beam generator and a second ion beam generator are provided on the other side, and the processed layer 12 It may be configured to simultaneously perform a crosslinking process and a roughness process for.

100, 200 : 전자빔 발생장치, 500, 600 : 이온빔 발생장치,
300 : 라인빔 제어장치,
10 : 이차전지용 분리막, 11 : 분리막 소재,
12 : 가공층, 13 : 웨팅층,
14 : 무기층, 15 : 러프니스층,
16 : 나노층,
C : 챔버, E : 전자빔,
I : 이온빔, F : 초점 위치,
θ : 방향각.
100, 200: electron beam generator, 500, 600: ion beam generator,
300: line beam control device,
10: separator for secondary battery, 11: separator material,
12: processed layer, 13: wetting layer,
14: inorganic layer, 15: roughness layer,
16: nano layer,
C: chamber, E: electron beam,
I: ion beam, F: focal position,
θ: direction angle.

Claims (11)

진공환경의 챔버 내에서 수십μm 두께를 갖는 다공성 재료의 분리막 소재에 전자빔을 조사하여 분리막 소재 내층에 전리특성이 다른 가공층을 형성하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법에 있어서,
챔버 내에 구비된 제1 전자빔 발생장치와 제2 전자빔 발생장치 사이에 분리막 소재가 배치되고, 빔 발생장치에서 상기 분리막 소재의 재료 및 가공층 위치에 대응하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치로부터 방출되는 전자빔을 제어하기 위한 가공 제어정보를 생성하는 제1 단계와,
빔 제어장치에서 상기 가공 제어정보를 근거로 제1 및 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 전자빔 발생장치에서 발생되는 제1 및 제2 전자빔을 분리막 소재 내층으로 각각 조사하되, 제1 및 제2 전자빔의 초점위치가 분리막 소재에 설정된 가공층을 관통하여 분리막 소재 내층에 위치하면서, 제1 및 제2 전자빔이 가공층 영역에서 중첩되도록 조사함으로써, 가공층 영역에서 주변 영역보다 높은 전자빔 밀도가 형성되도록 하는 제2 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
In a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam in which an electron beam is irradiated to a separator material of a porous material having a thickness of several tens of μm in a chamber in a vacuum environment to form a processed layer having different ionizing properties on the inner layer of the separator material,
A separator material is disposed between the first electron beam generator and the second electron beam generator provided in the chamber, and the beam generator is emitted from the first and second electron beam generators so as to correspond to the position of the material and the processed layer of the separator material. A first step of generating processing control information for controlling the electron beam,
The beam control device controls the first and second electron beam generators based on the processing control information to irradiate the first and second electron beams generated by the first and second electron beam generators to the inner layer of the separation membrane material, respectively, And an electron beam density higher in the processed layer area than in the surrounding area by irradiating the first and second electron beams to overlap in the processed layer area while the focal position of the second electron beam penetrates the processed layer set in the separation material and is located in the inner layer of the separation material. Method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it comprises a second step to form a.
제1항에 있어서,
상기 제1 단계에서 가공층은 상기 분리막 소재의 내측 중앙 또는 일측 영역으로 설정되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method of claim 1,
In the first step, the processing layer is set to an inner center or one side region of the separator material. A method of processing a separator for a secondary battery using a line beam.
진공환경의 챔버 내에서 수십μm 두께를 갖는 다공성 재료의 분리막 소재에 전자빔을 조사하여 분리막 소재 내층에 전리특성이 다른 가공층을 형성하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법에 있어서,
챔버 내에 구비된 제1 전자빔 발생장치와 제2 전자빔 발생장치 사이에 분리막 소재가 배치되고, 빔 발생장치에서 상기 분리막 소재의 재료 및 가공층 위치에 대응하도록 제1 및 제2 전자빔 발생장치로부터 방출되는 전자빔을 제어하기 위한 가공 제어정보를 생성하는 제1 단계와,
빔 제어장치에서 상기 가공 제어정보를 근거로 제1 및 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 전자빔 발생장치에서 발생되는 제1 및 제2 전자빔을 분리막 소재의 양측 표면 내층으로 각각 조사하되, 제1 및 제2 전자빔의 초점위치가 분리막 소재에 설정된 가공층을 관통하여 분리막 소재 내층에 위치하도록 조사함으로써, 분리막 소재의 일측에 설정된 제1 가공층은 제1 전자빔 밀도에 대응하여 가교시키고 분리막 소재의 타측에 설정된 제2 가공층은 제2 전자빔 밀도에 대응하여 가교시키는 제2 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
In a method for processing a separator for a secondary battery using a line beam in which an electron beam is irradiated to a separator material of a porous material having a thickness of several tens of μm in a chamber in a vacuum environment to form a processed layer having different ionizing properties on the inner layer of the separator material,
A separator material is disposed between the first electron beam generator and the second electron beam generator provided in the chamber, and the beam generator is emitted from the first and second electron beam generators so as to correspond to the position of the material and the processed layer of the separator material. A first step of generating processing control information for controlling the electron beam,
The beam control device controls the first and second electron beam generators based on the processing control information to irradiate the first and second electron beams generated from the first and second electron beam generators to the inner layers of both surfaces of the separation membrane material, respectively. , By irradiating so that the focal positions of the first and second electron beams penetrate the processed layer set in the separation membrane material and are located in the inner layer of the separation membrane material, the first processed layer set on one side of the separation membrane material is crosslinked corresponding to the first electron beam density, and the separation membrane A method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the second processed layer set on the other side of the material comprises a second step of crosslinking in response to a second electron beam density.
제3항에 있어서,
상기 챔버의 일측에는 적어도 둘 이상의 제1 전자빔 발생장치가 배치되고, 제1 전자빔 발생장치의 대향측에는 적어도 둘 이상의 제2 전자빔 발생장치가 배치된 상태에서,
상기 제1 단계에서 가공층은 상기 분리막 소재 내의 양측의 제1 영역과 제2 영역으로 설정되고,
상기 제2 단계에서 빔 제어장치는 둘 이상의 제1 전자빔 발생장치를 제어하여 분리막 소재의 제1 영역에서 서로 다른 방향각을 갖는 둘 이상의 제1 전자빔이 중첩되도록 조사함과 더불어, 둘 이상의 제2 전자빔 발생장치를 제어하여 분리막 소재의 제2 영역에서 서로 다른 방향각을 갖는 둘 이상의 제2 전자빔이 중첩되도록 조사하는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method of claim 3,
At least two first electron beam generators are disposed on one side of the chamber, and at least two second electron beam generators are disposed on opposite sides of the first electron beam generator,
In the first step, the processed layer is set as a first region and a second region on both sides of the separator material,
In the second step, the beam control device controls two or more first electron beam generators to irradiate two or more first electron beams having different directional angles to overlap each other in the first region of the separation membrane material, and at least two second electron beams. A method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that by controlling a generator to irradiate two or more second electron beams having different direction angles to overlap in a second region of the separator material.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 단계는, 분리막 재료의 기계적 강도 변화를 위한 가교 조건에 대응되는 도스량을 결정하는 제11 단계와,
상기 제11 단계에서 결정된 도스량에 대응되는 전자빔 발생을 위한 전압레벨을 설정하는 제12 단계,
상기 제12 단계에서 설정된 전압 레벨에 대응되는 전자빔 초점 거리를 획득하는 제13 단계,
상기 제13 단계에서 획득된 전자빔 초점 거리에 따른 전자빔의 초점 위치가 가공층 영역을 관통하면서 분리막 소재 내층에 위치하도록 전자빔의 방향각을 설정하는 제14 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The first step includes an eleventh step of determining a dose corresponding to a crosslinking condition for a change in mechanical strength of the separator material,
A twelfth step of setting a voltage level for generating an electron beam corresponding to the dose determined in the eleventh step,
A thirteenth step of obtaining an electron beam focal length corresponding to the voltage level set in the 12th step,
And a 14th step of setting the direction angle of the electron beam so that the focal position of the electron beam according to the focal length of the electron beam obtained in the 13th step passes through the processed layer region and is positioned in the inner layer of the separation membrane material. Separator processing method for secondary batteries using.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자빔은 그 중심축이 분리막 표면과 45°이하의 방향각을 갖도록 분리막 소재로 조사되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The electron beam is irradiated with a separator material such that a central axis thereof has a direction angle of 45° or less with the surface of the separator. A method of processing a separator for a secondary battery using a line beam.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자빔은 그 중심축이 분리막 표면과 45°이하의 방향각을 갖도록 분리막 소재로 조사되되,
상기 방향각은 분리막 소재의 두께가 작을수록 보다 작게 설정되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
The electron beam is irradiated with a separator material so that its central axis has a direction angle of 45° or less with the surface of the separator,
The direction angle is a method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the smaller the thickness of the separator material is set to be smaller.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리막 소재의 일측의 표면 내층으로 제1 전자빔을 조사하여 분리막 소재의 표면에 웨팅(wetting)층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되고,
웨팅층이 형성된 부분은 이차전지의 전해액과 접촉되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
And forming a wetting layer on the surface of the separator material by irradiating a first electron beam to the inner surface layer of one side of the separator material,
A method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the part where the wetting layer is formed is in contact with the electrolyte solution of the secondary battery.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리막 소재의 일측의 표면에 TiO2, Al2O3, SiO2를 포함하는 나노 파티클을 에어졸 방식으로 증착하여 나노층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되고,
나노층이 형성된 부분은 음극재와 접속되어 음극재 표면의 덴트라이트(dentrite) 형성을 방지하는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
And depositing nanoparticles including TiO 2 , Al 2 O 3 , and SiO 2 on the surface of one side of the separator material in an aerosol method to form a nano layer,
A method of processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that the portion where the nano-layer is formed is connected to the negative electrode material to prevent the formation of dentrite on the surface of the negative electrode material.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 분리막 소재의 양측 표면에는 전자빔을 이용한 ALD 증착 또는 에어졸 방식을 이용하여 Al2O3, SiO2 를 포함하는 무기재료를 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Secondary using a line beam, characterized in that it further comprises the step of forming an inorganic material including Al 2 O 3 and SiO 2 using an ALD deposition using an electron beam or an aerosol method on both surfaces of the separator material. Battery separator processing method.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 챔버의 내부에는 분리막 소재의 양측으로 제1 및 제2 이온빔 발생장치가 추가로 배치되어 구성되고,
상기 빔 제어장치는 상기 제1 및 제2 이온빔 발생장치를 제어하여 제1 및 제2 이온빔을 분리막 소재의 양측 표면으로 조사함으로써, 분리막 소재의 양측 표면에 러프니스(roughness)층을 형성하는 단계를 추가로 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 라인빔을 이용한 이차전지용 분리막 가공 방법.

The method according to any one of claims 1 to 4,
Inside the chamber, first and second ion beam generators are additionally disposed on both sides of the separation membrane material,
The beam control device controls the first and second ion beam generators to irradiate the first and second ion beams to both surfaces of the separation membrane material, thereby forming a roughness layer on both surfaces of the separation membrane material. Method for processing a separator for a secondary battery using a line beam, characterized in that it is configured to further include.

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