KR102151482B1 - Liquid Crystal Display Panel and Manufacturing Method thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정 표시 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 감광 경화성 모노머 성분을 포함하는 액정 재료를 이용하여 표시패널을 구성하는 양 기판의 가장자리 영역에 외곽 지지 격벽을 형성하고 실런트에 의한 실링영역 중 일부 또는 전부를 제거함으로써, 액정 표시장치의 베젤을 최소화할 수 있다. The present invention relates to a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same, wherein an outer supporting partition is formed in the edge regions of both substrates constituting the display panel using a liquid crystal material including a photosensitive monomer component, and a part of the sealing region by a sealant Or, by removing all, the bezel of the liquid crystal display can be minimized.

Description

액정 표시패널 및 그 제조방법 {Liquid Crystal Display Panel and Manufacturing Method thereof}Liquid Crystal Display Panel and Manufacturing Method thereof

본 발명은 액정 표시 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 특히 감광 경화특성의 모노머(monomer) 성분이 포함된 액정 재료를 이용하는 액정 표시 장치 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a liquid crystal display panel and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a liquid crystal display device using a liquid crystal material containing a monomer component having photosensitive curing properties, and a method of manufacturing the same.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있으며, 근래에는 액정표시장치(LCD: Liquid Crystal Display), 플라즈마표시장치(PDP: Plasma Display Panel), 유기전계발광표시장치(OLED: Organic Light Emitting Diode Display Device)와 같은 여러 가지 표시장치가 활용되고 있다.As the information society develops, demands for display devices for displaying images are increasing in various forms, and in recent years, liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), organic electric fields Various display devices such as an OLED (Organic Light Emitting Diode Display Device) are being used.

이러한 표시장치 중 액정 표시장치(LCD)는 화소영역 각각을 온(on)/오프(off) 제어하기 위한 스위칭 소자인 박막 트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 컬러필터 및/또는 블랙매트릭스 등을 구비한 상부기판과, 그 사이에 형성되는 액정물질층을 포함하는 표시패널과, 박막 트랜지스터를 제어하기 위한 구동부를 포함하여 구성되며, 화소 영역의 양 전극 사이에 인가되는 전계에 따라 액정층의 배열 상태가 조절되고 그에 따라 광의 투과도가 조절되어 화상이 표시되는 장치이다.Among these display devices, a liquid crystal display (LCD) includes an array substrate including a thin film transistor, which is a switching element for controlling on/off each pixel region, and a color filter and/or a black matrix. A display panel including an upper substrate, a liquid crystal material layer formed therebetween, and a driving unit for controlling the thin film transistor, and the arrangement of the liquid crystal layers according to the electric field applied between both electrodes of the pixel area It is a device in which an image is displayed by adjusting and adjusting the transmittance of light accordingly.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.1 is a schematic plan view of a general liquid crystal display device.

도 1에 도시된 바와 같이, 액정표시장치는 박막트랜지스터(T)가 형성된 어레이기판(11)과 컬러필터(미도시)가 형성된 컬러필터기판(12)이 액정층(미도시)을 사이에 두고 서로 마주하며 대향하고 있으며, 어레이기판(11)과 컬러필터기판(12)은 서로 이격되어 이의 가장자리부를 실패턴(seal pattern : 20)을 통해 실링(봉지)되어 합착된다.As shown in FIG. 1, in the liquid crystal display, an array substrate 11 on which a thin film transistor T is formed and a color filter substrate 12 on which a color filter (not shown) is formed have a liquid crystal layer (not shown) therebetween. They face and face each other, and the array substrate 11 and the color filter substrate 12 are spaced apart from each other, and their edges are sealed (sealed) through a seal pattern 20 and bonded together.

어레이기판에는 화상을 표시하는 표시영역(AA)과 비표시영역(NA)이 정의되는데, 통상 하부기판이라 불리는 어레이기판(11)의 표시영역(AA) 내면에는 다수의 게이트배선(GL)과 데이터배선(DL)이 교차하여 화소(pixel : P)가 정의되고, 각각의 교차점마다 박막트랜지스터(Thin Film Transistor : T)가 구비되어 각 화소(P)에 형성된 투명 화소전극(미도시)과 일대일 대응 연결되어 있다.A display area AA and a non-display area NA for displaying an image are defined on the array substrate, and a plurality of gate wirings GL and data are provided on the inner surface of the display area AA of the array substrate 11, which is usually called a lower substrate. A pixel (P) is defined by crossing the wiring (DL), and a thin film transistor (T) is provided at each intersection point to correspond one-to-one with a transparent pixel electrode (not shown) formed in each pixel (P) It is connected.

이때, 게이트 및 데이터배선(GL, DL)이 배치된 어레이기판(11) 일측의 비표시영역(NA)에는 게이트 및 데이터배선(GL, DL)과 각각 연결되는 게이트 및 데이터패드전극(미도시)이 형성된 패드부(DPA, GPA)가 형성되어, 게이트 및 데이터배선(GL, DL)을 외부 구동회로 기판(printed circuit board : 미도시)과 연결시킨다.At this time, in the non-display area NA of one side of the array substrate 11 on which the gate and data lines GL and DL are disposed, a gate and data pad electrode (not shown) connected to the gate and data lines GL and DL, respectively. The formed pad portions DPA and GPA are formed to connect the gate and data wirings GL and DL to an external driving circuit board (not shown).

한편, 상부기판 또는 제2기판이라 불리는 컬러필터기판(12) 내면으로는 각 화소(P)에 대응되는 일례로 적(R), 녹(G), 청(B)컬러의 컬러필터(color filter : 미도시)가 배치되며, 이들 컬러필터 각각을 구분하도록 둘러싸면서 게이트배선(GL)과 데이터배선(DL) 그리고 박막 트랜지스터(T) 등과 대응되는 위치에 배치되어 광차단을 위하여 사용되는 블랙매트릭스(black matrix : 미도시)가 구비된다.On the other hand, as an example corresponding to each pixel (P) on the inner surface of the color filter substrate 12 called the upper substrate or the second substrate, a color filter of red (R), green (G), and blue (B) colors : Not shown) is disposed, and is disposed in a position corresponding to the gate line (GL), the data line (DL), and the thin film transistor (T) while surrounding to distinguish each of these color filters, and is used for light blocking. black matrix (not shown) is provided.

그리고 컬러필터기판(12)에는 컬러필터 및 블랙매트릭스 이외에, 컬러필터 및 블랙매트릭스 상부에 배치되어 픽셀에 공통전압을 인가하는 투명 공통전극(미도시)이 포함될 수 있다. In addition to the color filter and the black matrix, the color filter substrate 12 may include a transparent common electrode (not shown) disposed on the color filter and the black matrix to apply a common voltage to the pixels.

여기서, 어레이기판(11)과 컬러필터기판(12)의 합착은 기판(11, 12)들 중 어느 하나의 가장자리에 UV(자외선) 경화성 또는 열경화성 실런트를 도포한 상태로 기판(11, 12)들 간을 압착시키고, 실런트에 적정한 파장을 갖는 지외선광(UV광)을 일정 시간동안 조사하거나 또는 적정온도로 일정시간 동안 가열하여 실런트를 경화하면 경화된 실런트가 실패턴(20)을 형성함으로써 양 기판이 서로 합착될 수 있다.Here, the bonding of the array substrate 11 and the color filter substrate 12 is performed by applying a UV (ultraviolet ray) curable or thermosetting sealant to any one edge of the substrates 11 and 12. When the sealant is pressed by pressing the liver and irradiated with ultraviolet light (UV light) having an appropriate wavelength to the sealant for a certain period of time or heated at an appropriate temperature for a certain period of time to cure the sealant, the cured sealant forms a spool turn 20 to form a These can be cemented together.

이러한, 실패턴(20)은 표시영역(AA)의 가장자리를 두르는 비표시영역(NA)에 형성되어, 봉지제로서의 역할을 하게 된다.
The spool turn 20 is formed in the non-display area NA surrounding the edge of the display area AA, and serves as an encapsulant.

한편, 이러한 액정표시장치는 공정단축 내지는 수율향상의 효과를 위하여 복수의 셀 영역이 포지션별로 구분된 제 1 및 제 2 대면적 기판(bare or mother glass)을 대상으로 진행된다. 이때, 제 1 또는 제 2 대면적 기판 중 어느 하나의 셀 영역에 각각 합착을 위한 실패턴(20)을 형성한 다음 액정층(미도시)을 사이에 두고 양 기판을 대면 합착시킨 후 각각의 셀 영역 별로 절단해서 복수의 액정패널(10)을 얻는다.On the other hand, such a liquid crystal display device is performed on first and second large-area substrates (bare or mother glass) in which a plurality of cell regions are divided for each position in order to shorten the process or improve the yield. At this time, a failure turn 20 for bonding is formed in either the cell region of the first or second large-area substrate, and then the two substrates are bonded to each other with a liquid crystal layer (not shown) therebetween, and then each cell A plurality of liquid crystal panels 10 are obtained by cutting for each area.

이중 특히 셀 공정의 절단공정은 레이저를 이용하여 셀 영역별로 스크라이빙해서 선 모양의 흠집을 내는 스크라이빙공정 후, 브레이크바(break bar)를 이용하여 충격을 주어 실질적으로 기판을 절단하는 브레이크 또는 커팅공정을 통해 이루어진다.In particular, the cutting process in the cell process is a scribing process in which a laser is used to scribing each cell area to create a line-shaped scratch, and then a brake that substantially cuts the substrate by applying an impact using a break bar. Or through a cutting process.

이러한 종래의 액정표시장치 또는 표시패널의 경우, 양 기판의 합착을 위한 실패턴(20)이 일정 크기 이상의 폭을 유지하여야 하므로, 표시패널의 내로우 베젤(Narrow Bezel) 달성에 장애가 되고 있다.
In the case of such a conventional liquid crystal display or display panel, since the spool turns 20 for bonding both substrates must maintain a width of a predetermined size or more, it is an obstacle to achieving a narrow bezel of the display panel.

이러한 배경에서, 본 발명의 목적은, 액정 표시패널의 외곽부 비표시영역인 베젤의 크기를 감소시킬 수 있는 액정 표시패널 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Against this background, it is an object of the present invention to provide a liquid crystal display panel capable of reducing the size of a bezel, which is a non-display area of a liquid crystal display panel, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 감광성 단량체(모노머)를 포함하는 액정재료를 이용하여 표시영역내의 셀구분 격벽 및/또는 비표시영역의 외곽 지지격벽을 형성함으로써 베젤의 크기를 감소시킬 수 있는 표시패널 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is a display panel capable of reducing the size of a bezel by forming a cell division barrier in a display area and/or an outer supporting barrier of a non-display area using a liquid crystal material containing a photosensitive monomer (monomer), and It is to provide a manufacturing method.

본 발명의 또다른 목적은 감광성 단량체 성분을 포함하는 액정재료를 이용하여 표시패널의 테두리 영역에 외곽 지지 격벽을 형성하고, 종래의 실링 영역의 전부 또는 일부를 제거함으로써 내로우 베젤(Narrow Bezel)을 가지는 표시패널을 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to form an outer supporting partition wall in an edge area of a display panel using a liquid crystal material containing a photosensitive monomer component, and remove all or part of the conventional sealing area, thereby forming a narrow bezel. The branch is to provide a display panel.

전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일실시예는, 다수의 화소영역과 상기 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 블랙매트릭스 및 다수의 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판을 형성하는 단계와, 상기 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이의 각 단위 표시패널 가장자리 영역에 실런트를 도포하는 단계와, 상기 실런트 도포 영역 내부의 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이에 감광 경화 모노머를 포함하는 액정 혼합 재료를 주입하는 단계와, 상기 실런트를 경화하여 실링영역을 형성하는 실런트 경화 단계와, 상기 액정 혼합 재료에 포함되는 모노머를 경화함으로써 상기 실링 영역 내측에서 비표시영역의 가장자리 지지부인 외곽 지지 격벽을 형성하는 모노머 경화단계, 및 상기 실링영역의 전체 또는 일부가 제거되도록 절단하여 외곽 지지 격벽을 포함하는 단위 표시패널을 형성하는 단계를 포함하는 액정 표시패널 제조방법을 제공한다. In order to achieve the above object, an embodiment of the present invention provides an array substrate including a plurality of pixel regions and a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions, and a color including a black matrix and a plurality of color filters. Forming a filter substrate, applying a sealant to an edge region of each unit display panel between the array substrate and the color filter substrate, and including a photosensitive curing monomer between the array substrate and the color filter substrate in the sealant application region Injecting a liquid crystal mixed material to form a sealing area, curing the sealant to form a sealing area, and curing a monomer included in the liquid crystal mixed material to support the outer edge of the non-display area inside the sealing area. There is provided a method for manufacturing a liquid crystal display panel comprising: a monomer curing step of forming a partition wall, and a step of forming a unit display panel including an outer supporting partition wall by cutting to remove all or part of the sealing area.

본 발명의 다른 실시예에서는, 다수의 화소영역과 상기 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 블랙매트릭스 및 다수의 컬러필터를 포함하고 상기 어레이 기판과 합착되는 컬러필터 기판, 및 In another embodiment of the present invention, an array substrate including a plurality of pixel regions and a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions, and a color filter substrate including a black matrix and a plurality of color filters and bonded to the array substrate , And

표시패널의 가장자리에서 양 기판에 합착력을 제공하기 위하여, 상기 어레이 기판과 상기 컬러필터 기판 사이에 주입되는 액정 혼합 재료에 포함된 감광 경화 모노머가 경화되어 형성되는 외곽 지지 격벽을 포함하는 액정 표시 패널을 제공한다.
A liquid crystal display panel including an outer supporting partition formed by curing a photosensitive curing monomer included in a liquid crystal mixture material injected between the array substrate and the color filter substrate to provide adhesion to both substrates at the edge of the display panel Provides.

본 발명의 일실시예에 의하면, 감광 경화성 모노머 성분을 포함하는 액정 재료를 이용하여 표시패널을 구성하는 양 기판의 가장자리 영역에 외곽 지지 격벽을 형성하고 실런트에 의한 실링영역 중 일부 또는 전부를 제거함으로써, 액정 표시장치의 베젤을 최소화하는 효과를 가진다.According to an embodiment of the present invention, by using a liquid crystal material including a photosensitive monomer component to form an outer supporting partition wall in the edge regions of both substrates constituting the display panel and removing some or all of the sealing regions by the sealant. , It has the effect of minimizing the bezel of the liquid crystal display.

또한, 본 발명의 일실시예에 의하면, 감광성 모노머(monomer)를 포함하는 액정재료를 2개의 기판 사이에 주입한 후, 소정의 차광 패턴이 배치된 상태에서 광을 조사하여 감광성 모노머를 경화시켜, 셀구분용 격벽과 함께 패널 외곽에 실링기능을 가지는 외곽 지지 격벽을 형성함으로써, 표시패널의 베젤의 크기를 감소시킬 수 있는 효과가 있다. In addition, according to an embodiment of the present invention, after injecting a liquid crystal material containing a photosensitive monomer between two substrates, light is irradiated with a predetermined light-shielding pattern arranged to cure the photosensitive monomer, By forming an outer supporting partition having a sealing function on the outer side of the panel together with the cell division partition, there is an effect of reducing the size of the bezel of the display panel.

또한, 외곽 지지 격벽 외부의 실링영역 중 일부를 패널 내에 잔존시킴으로써 기판간 접착력을 증대시킬 수 있으며, 결과적으로 액정 표시패널의 사양, 필요한 기판 접착력, 베젤의 크기 등의 요구조건에 따라, 폴리머 형태의 외곽 지지 격벽 이외에, 셀구분 격벽 및 패널내의 잔존 실링영역의 존재여부, 크기 등을 조절함으로써 다양한 형태의 액정 표시패널의 생산에 최적화할 수 있는 효과도 있다.
In addition, a part of the sealing area outside the outer support partition wall can remain in the panel to increase the adhesion between substrates. As a result, according to the requirements such as the specifications of the liquid crystal display panel, the required substrate adhesion, and the size of the bezel, In addition to the outer supporting partition walls, there is also an effect of optimizing the production of various types of liquid crystal display panels by controlling the existence and size of the cell division partition and the remaining sealing area in the panel.

도 1은 일반적인 액정표시장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 일반적인 액정표시패널의 제조공정을 도시한다.
도 3은 일반적인 공정에 의하여 제조된 단위 액정표시패널의 단면을 도시한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시패널 제조방법의 흐름도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시패널 제조과정에서의 표시패널 단면도를 시계열적으로 도시한다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 의하여 제조된 단위 표시패널의 단면도이다.
도 7은 격벽 형성을 위하여 별도의 마스크가 사용되는 매커니즘을 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 표시패널 및 그 제조방법을 도시한다.
도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 의한 표시패널을 도시한다.1 is a schematic plan view of a general liquid crystal display device.
2 shows a manufacturing process of a general liquid crystal display panel.
3 is a cross-sectional view of a unit liquid crystal display panel manufactured by a general process.
4 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a time series diagram illustrating a cross-sectional view of a display panel in a process of manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.
6 is a cross-sectional view of a unit display panel manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention.
7 is a view for explaining a mechanism in which a separate mask is used to form a partition wall.
8 illustrates a display panel and a method of manufacturing the same according to another embodiment of the present invention.
9 illustrates a display panel according to another embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 일부 실시예들을 예시적인 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략할 수 있다.Hereinafter, some embodiments of the present invention will be described in detail with reference to exemplary drawings. In adding reference numerals to elements of each drawing, the same elements may have the same numerals as possible even if they are indicated on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that a detailed description of a related known configuration or function may obscure the subject matter of the present invention, a detailed description thereof may be omitted.

또한, 본 발명의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제 1, 제 2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질, 차례, 순서 또는 개수 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 또는 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 다른 구성 요소가 "개재"되거나, 각 구성 요소가 다른 구성 요소를 통해 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.In addition, in describing the constituent elements of the present invention, terms such as first, second, A, B, (a), (b) may be used. These terms are only for distinguishing the component from other components, and the nature, order, order, or number of the component is not limited by the term. When a component is described as being "connected", "coupled" or "connected" to another component, the component may be directly connected or connected to that other component, but other components between each component It is to be understood that is "interposed", or that each component may be "connected", "coupled" or "connected" through other components.

도 2는 일반적인 액정표시패널의 제조공정을 도시한다.2 shows a manufacturing process of a general liquid crystal display panel.

도 2의 (a)와 같이, 일반적으로 액정표시패널은 다수의 화소와 박막트랜지스터가 형성된 어레이 기판으로서의 제1기판(11)을 형성한 후, 실 디스펜서(Seal Dispenser)를 이용하여 그 상부에 단위 표시패널별로 구분하기 위한 실런트(Sealant; 20)를 도포한다. As shown in (a) of FIG. 2, in general, a liquid crystal display panel forms a first substrate 11 as an array substrate on which a plurality of pixels and thin film transistors are formed, and then uses a seal dispenser to form a unit on the upper side thereof. A sealant (20) is applied to classify each display panel.

다음으로 도 2의 (b)과 같이 표시패널 내부에 액정을 주입한 후 그 위에 컬러필터 기판으로서의 제2기판(12)을 정렬하여 합착하고, 가열 또는 자외광(UV) 조사 등을 이용하여 실런트를 경화시킨다. 즉, 실런트 재료가 광경화성 재료이면 전술한 실런트 경화 단계에서는 자외선 광과 같은 빛을 조사하고, 실런트 재료가 열경화성 재료이면 일정 온도 이상으로 실런트 영역을 가열하게 된다.Next, after injecting liquid crystal into the display panel as shown in Fig. 2(b), the second substrate 12 as a color filter substrate is aligned and bonded thereon, and a sealant is applied by heating or ultraviolet (UV) irradiation. Cure That is, if the sealant material is a photocurable material, light such as ultraviolet light is irradiated in the above-described sealant curing step, and if the sealant material is a thermosetting material, the sealant region is heated above a certain temperature.

이후, 실런트 영역 주위의 기판을 스크라이빙(Scribing)하고 브레이킹(Breaking)함으로써 단위 표시패널별로 절단하게 된다. (도 2의 (c))Thereafter, the substrates around the sealant area are scribed and broken to cut each unit display panel. (Fig. 2(c))

도 3은 일반적인 공정에 의하여 제조된 단위 액정표시패널의 단면을 도시한다.3 is a cross-sectional view of a unit liquid crystal display panel manufactured by a general process.

도 3과 같이, 도 2와 같은 공정으로 완성된 단위 액정표시패널은 하부기판으로서의 어레이기판(310)과 상부기판으로서의 컬러필터 기판(340)이 합착되어 형성된다.As shown in FIG. 3, the unit liquid crystal display panel completed by the process of FIG. 2 is formed by bonding an array substrate 310 as a lower substrate and a color filter substrate 340 as an upper substrate.

양 기판은 표시패널의 외곽부에 형성된 실링영역(330)에 의하여 합착되어 있으며, 양 기판 사이에는 액정재료가 주입된다.Both substrates are bonded to each other by the sealing region 330 formed on the outer periphery of the display panel, and a liquid crystal material is injected between the two substrates.

더 구체적으로 살펴보면, 어레이기판(310)과 컬러필터기판(340)의 일부로써, 도시한 바와 같이, 어레이기판(310) 상의 표시영역의 내면으로는 게이트배선(미도시)과 데이터배선(미도시)이 교차하여 화소(P)가 정의되는데, 이들 각 화소(P)에는 화소전극(324)이 형성된다.More specifically, as a part of the array substrate 310 and the color filter substrate 340, as shown, a gate wiring (not shown) and a data wiring (not shown) are in the inner surface of the display area on the array substrate 310. ) Cross each other to define a pixel P, and a pixel electrode 324 is formed in each of the pixels P.

또한 이들 게이트배선(미도시)과 데이터배선(미도시)의 교차지점에는 게이트전극(312), 게이트절연막(314), 반도체층(316), 소스 및 드레인전극(318, 320), 보호층(322)으로 이루어진 스위칭 소자인 박막트랜지스터(T)가 구비되어 있다.In addition, the gate electrode 312, the gate insulating film 314, the semiconductor layer 316, the source and drain electrodes 318 and 320, and the protective layer at the intersection of the gate line (not shown) and the data line (not shown) A thin film transistor (T) which is a switching element made of 322 is provided.

이때, 반도체층(316)은 순수 비정질 실리콘의 액티브층과 불순물을 포함하는 비정질 실리콘의 오믹콘택층으로 구성될 수 있으며, 이때, 박막트랜지스터(T)는 도면에서는 순수 및 불순물의 비정질질실리콘으로 이루어진 보텀 케이트(bottom gate) 타입을 예로써 보이고 있으며, 이의 변형예로써 폴리실리콘 반도체층을 포함하여 탑 게이트(top gate) 타입으로 형성될 수도 있다.In this case, the semiconductor layer 316 may be composed of an active layer of pure amorphous silicon and an ohmic contact layer of amorphous silicon including impurities. In this case, the thin film transistor T is made of pure and impurity amorphous silicon. A bottom gate type is shown as an example, and as a modified example, it may be formed in a top gate type including a polysilicon semiconductor layer.

그리고, 컬러필터기판(340)과 동일 또는 더 큰 면적으로 형성되는 어레이기판(310)의 비표시영역(NA)에는 게이트 및 데이터배선(미도시)과 연결되는 게이트링크배선(362) 및 데이터링크배선(미도시)과 게이트 패드 전극(364) 및 데이터 패드 전극, 게이트 및 데이터 패드 단자 전극 등이 구비되는 게이트 및 데이터패드부가 구비된다.In the non-display area NA of the array substrate 310 formed in the same or larger area as the color filter substrate 340, a gate link wiring 362 and a data link connected to the gate and data wiring (not shown) A gate and data pad unit including a wire (not shown), a gate pad electrode 364, a data pad electrode, a gate and data pad terminal electrode, and the like are provided.

이러한 어레이기판(310)과 마주보는 컬러필터기판(340)의 내면으로는 박막트랜지스터(T) 및 게이트배선(미도시)과 데이터배선(미도시)을 비롯하여 화소전극(324)의 가장자리와 같이 액정구동과 무관한 비표시영역을 가리면서 화소전극(324) 만을 노출시키도록 화소(P)를 둘러싸는 격자 형상의 차광막으로서의 블랙 매트릭스(342)가 구비된다.The inner surface of the color filter substrate 340 facing the array substrate 310 includes a thin film transistor (T), a gate wiring (not shown), a data wiring (not shown), and a liquid crystal such as the edge of the pixel electrode 324. A black matrix 342 is provided as a grid-shaped light-shielding film surrounding the pixel P so as to expose only the pixel electrode 324 while covering a non-display area irrelevant to driving.

블랙매트릭스(342)의 격자 내부에서 각 화소(P)에 대응되게 순차적으로 반복 배열되는 다수의 컬러필터(344)들, 더 구체적으로 R(red), G(green), B(blue) 컬러필터(133)이 배치되며, 이들 블랙매트릭스(342)와 컬러필터(344)를 덮으며 공통전극(346)이 형성되어 있다.A plurality of color filters 344 sequentially and repeatedly arranged to correspond to each pixel P in the grid of the black matrix 342, more specifically R(red), G(green), B(blue) color filters 133 is disposed, and a common electrode 346 is formed covering the black matrix 342 and the color filter 344.

그리고, 어레이기판(310)과 컬러필터기판(340)의 가장자리로는 실런트가 도포되어 액정층의 누설을 방지하는데, 실런트란 에폭시수지와 경화촉진제 등이 혼합된 고분자 혼합물로서, 가열 내지는 UV광 조사에 의해 경화되어 두 기판(310, 340)의 합착 상태를 유지시키는 접착제 역할의 실링영역(330)을 이루게 된다.In addition, a sealant is applied to the edges of the array substrate 310 and the color filter substrate 340 to prevent leakage of the liquid crystal layer. The sealant is a polymer mixture in which an epoxy resin and a curing accelerator are mixed, and is heated or irradiated with UV light. The sealing region 330 is formed as an adhesive that is cured by and maintains the bonding state of the two substrates 310 and 340.

이와 같이 일반적으로 양 기판의 합착을 위하여 표시패널 외곽의 비표시영역을 둘러싸는 실링영역(330)을 이용하게 되면, 도 3의 “S”와 같이 실링영역(330)이 비교적 넓게 형성되며 따라서 표시패널의 비표시 가장자리 영역인 베젤(bezel)의 크기가 증가하게 된다.In this way, when the sealing area 330 surrounding the non-display area outside the display panel is used for bonding both substrates, the sealing area 330 is formed relatively wide as shown in “S” in FIG. The size of the bezel, which is the non-display edge area of the panel, increases.

그러나, 최근 모바일 기기등에 사용되는 액정표시패널이나 대형 TV를 위한 액정표시패널 등 모든 종류의 표시패널에서 가장자리 비표시 영역인 베젤의 크기가 작은 형태가 선호되고 있으며, 도 2 및 3과 같은 방식으로 제조되는 표시패널의 경우 이러한 내로우 베젤(Narrow Bezel)의 요구를 충족시키기 힘들어진다.However, in all types of display panels, such as liquid crystal display panels used in mobile devices and liquid crystal display panels for large TVs, a shape with a small size of a bezel, which is an edge non-display area, is preferred, and in the same manner as in FIGS. 2 and 3 In the case of a manufactured display panel, it is difficult to meet the demand for such a narrow bezel.

즉, 셀 외곽에 실런트를 도포하여 경화하는 방식은 실링 영역의 선폭으로 인하여 내로우 베젤 구현에 한계가 있다는 것이다. In other words, the method of curing by applying a sealant to the outside of the cell has a limitation in implementing a narrow bezel due to the line width of the sealing area.

특히, 실런트 도포시 퍼짐 현상이 발생하고, 양 기판을 합착할 때 실런트가 눌려서 퍼지는 등의 현상이 발생하므로 실링영역의 폭을 줄이는 데 한계가 있으며, 상하 기판가 최소한의 접착력 기준을 만족하기 위해서는 일정 크기 이상의 최소한의 선폭을 가지는 실링영역이 필수적으로 확보되어야 한다.In particular, there is a limit to reducing the width of the sealing area because spreading occurs when the sealant is applied and spreading occurs when the sealant is pressed when bonding both substrates.In order for the upper and lower substrates to meet the minimum adhesion standard, a certain size A sealing area with the minimum line width above must be secured.

또한, 최근 플렉시블 디스플레이와 같이 휨 특성을 가지는 디스플레이가 개발되고 있는 바, 이러한 플렉시블 디스플레이의 경우 유리와 같은 강성 재료의 기판 대신 플라스틱과 같은 휨 특성을 가지는 기판을 사용하게 되며, 이런 경우 종래의 고정식 디스플레이에 비하여 기판 사이의 합착 방식이나 합착 강도에 대한 다변화가 요구되고 있다.In addition, recently, displays having bending properties such as flexible displays have been developed. In the case of such flexible displays, a substrate having bending characteristics such as plastic is used instead of a substrate made of a rigid material such as glass. In this case, a conventional fixed display Compared to that, there is a demand for diversification of bonding methods and bonding strength between substrates.

이에 본 발명의 일 실시예에서는 좁은 베젤을 달성하기 위하여 기존의 실런트 재료에 의한 기판 합착 방식을 대체하거나 그에 추가하여, 감광 경화 특성을 가지는 모노머(Monomer; 단량체) 성분을 포함하는 액정 혼합 재료를 양 기판 사이에 주입한 후 광경화시킴으로써 셀구분 격벽을 형성함과 동시에 양 기판의 합착기능을 가지는 외곽 지지 격벽을 형성하는 구성을 포함한다.Accordingly, in an embodiment of the present invention, in order to achieve a narrow bezel, a liquid crystal mixture material including a monomer (monomer) component having photosensitive curing properties is used in addition to or replacing the substrate bonding method using the existing sealant material. Injecting between the substrates and then photocuring to form the cell division barrier ribs, and at the same time forming the outer supporting barrier ribs having a bonding function of both substrates.

아래에서는 본 발명에 일 실시예에 의한 액정 표시패널 제조방법과 그에 의하여 제조된 액정 표시패널의 구체적인 구성에 대하여 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention and a specific configuration of the liquid crystal display panel manufactured thereby will be described.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시패널 제조방법의 흐름도이다.4 is a flowchart of a method of manufacturing a liquid crystal display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4와 같이, 본 발명의 일실시예에 의한 표시패널 제조방법은 다수의 화소영역과 상기 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 블랙매트릭스 및 다수의 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판을 형성하는 단계(S410)와, 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이의 각 단위 표시패널 가장자리 영역에 실런트를 도포하는 단계(S420)와, 실런트 도포 영역 내부의 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이에 감광 경화 특성을 가지는 모노머를 포함하는 액정 혼합 재료를 주입하는 단계(S430)와, 실런트를 경화하여 실링영역을 형성하는 실런트 경화 단계(S450)와, 액정 혼합 재료에 포함되는 모노머를 경화함으로써 상기 실링 영역 내측에서 비표시영역의 가장자리 지지부를 형성하는 외곽 지지 격벽을 형성하는 모노머 경화단계(S460)와, 실링영역의 전체 또는 일부가 제거되도록 절단하여 외곽 지지 격벽을 포함하는 단위 표시패널을 형성하는 단계(S470)을 포함하여 구성될 수 있다.As shown in FIG. 4, a method of manufacturing a display panel according to an embodiment of the present invention includes a plurality of pixel regions and an array substrate including a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions, a black matrix, and a plurality of color filters. The step of forming a color filter substrate (S410), applying a sealant to the edge region of each unit display panel between the array substrate and the color filter substrate (S420), and between the array substrate and the color filter substrate inside the sealant application area Injecting a liquid crystal mixed material containing a monomer having photosensitive curing properties into the liquid crystal mixture (S430), curing the sealant to form a sealing region (S450), and curing the monomer contained in the liquid crystal mixed material. A monomer curing step (S460) of forming an outer support partition wall forming an edge support portion of a non-display region inside the sealing region (S460), and forming a unit display panel including the outer support partition wall by cutting to remove all or part of the sealing region. It may be configured including a step (S470).

이 때 본 발명의 일실시예에서 사용되는 액정 혼합 재료는 일반 액정 재료 이외에 특정 광, 예를 들면 자외광(UV)에 노출시 경화되는 특성(감광 경화 특성)을 가지는 모노머(Monomer) 또는 단량체 성분을 포함하며, 추가적으로 모노머가 액정 재료와 함께 중합 반응을 시작하기 위한 광개시제 또는 광촉매도 더 포함할 수 있다.In this case, the liquid crystal mixture material used in an embodiment of the present invention is a monomer or a monomer component that has a property (photosensitive curing property) that is cured when exposed to a specific light, for example, ultraviolet light (UV), in addition to a general liquid crystal material. It includes, and in addition, the monomer may further include a photoinitiator or a photocatalyst for starting a polymerization reaction with the liquid crystal material.

더 구체적으로, 액정 혼합 재료는 일반 액정 재료 80~90 중량%, 감광 경화 특성의 모노머 10~20중량% 및 광개시제(광촉매) 0.1~0.4 중량%를 포함하는 혼합 조성물일 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. 일반 액정 재료에 대한 모노머의 조성비는 외곽 지지 격벽 형성의 면적비 및 격벽 형성 균일도 등에 따라 임의적으로 선택될 수 있다.More specifically, the liquid crystal mixed material may be a mixed composition including 80 to 90% by weight of a general liquid crystal material, 10 to 20% by weight of a photosensitive curing monomer, and 0.1 to 0.4% by weight of a photoinitiator (photocatalyst), but is not limited thereto. . The composition ratio of the monomer to the general liquid crystal material may be arbitrarily selected according to the area ratio of forming the outer supporting partition wall and the uniformity of forming the partition wall.

일반 액정물질은 네마틱(Nematic) 액정 재료고, 감광 경화 모노머는 감광성 단량체(Reactive Mesogen)라 불리는 것으로서 일반 액정재료와 유사한 물질이면서, 빛에 반응하여 경화되는 성질을 갖고 있다.The general liquid crystal material is a nematic liquid crystal material, and the photosensitive curing monomer is called a photosensitive monomer, and is a material similar to a general liquid crystal material, and has a property of being cured in response to light.

감광 경화 모노머는 액정물질과 상분리를 일으키면서 소정 주파수의 자외선 등에 노출된 경우 폴리머(중합체)화되어 경화될 수 있는 특성을 가지는 한 특정 물질에 제한되는 것은 아니며, 예를 들면, 불소치환된 아크릴말단, 스티렌말단 및 말레이미드 말단의 자외선 경화형 단량체 또는 그 혼합물일 수 있다. 이러한 감광 경화 모노머는 경화시 일정 정도 이상의 균일성(Uniformity), 강도(hardness), 가교도 및 접착력 특성을 가지는 물질인 한 특별한 제한은 없을 것이다. The photosensitive curing monomer is not limited to a specific material as long as it has a property that can be polymerized and cured when exposed to ultraviolet rays of a predetermined frequency while causing phase separation from a liquid crystal material. For example, a fluorine-substituted acrylic terminal , It may be an ultraviolet-curable monomer at the styrene end and the maleimide end, or a mixture thereof. There will be no particular limitation on the photosensitive curing monomer as long as it is a material having uniformity, hardness, crosslinking degree, and adhesion properties of a certain degree or more upon curing.

또는 감광 경화 모노머는 친수성 또는 소수성을 가지는 아크릴레이트(Acrylate) 단량체 또는 둘 이상의 아크릴레이트 단량체가 혼합된 혼합물일 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다.Alternatively, the photosensitive curing monomer may be a hydrophilic or hydrophobic acrylate monomer or a mixture of two or more acrylate monomers, but is not limited thereto.

예를 들어, 감광 경화 모노머는 아크릴레이트 계열의 화합물일 수 있고, 일 예로서, EHA(ethylhexyl acrylate), 트라이메틸 아크릴레이트(trimethylhexyl acrylate), 에톡시에틸 아크릴레이트(ethoxylethyl acrylate), 아이소부틸 아크릴레이트(isobutyl acrylate), 아이소옥틸 아크릴레이트(isooctyl acrylate), 아이소데실 아크릴레이트(isodecyl acrylate), 옥타데실 아크릴레이트 (octadecyl acrylate), 터트 부틸 아크릴레이트(tert-buthyl acrylate) , 에틸 아크릴레이트(ethyl acrylate), 메틸 아크릴레이트(methyl acrylate), 부틸 아크릴레이트(buthyl acrylate), 로울리 아크릴레이트(lauryl acrylate), 로울리 메타크릴레이트(lauryl methacrylate), 펜타플루오로프로필 아크릴레이트(pentafluoropropyl acrylate), 헥사플루오로아이소프로필 아크릴레이트(hexafluoroisopropyl acrylate), 트라이플루오로에틸 아크릴레이트(trifluoroethyl acrylate), 비스페놀 에이 다이메틸 아크릴레이트(bisphenol A dimeth acrylate), 비스페놀 에이 프로폭실레이트 아크릴레이트(bisphenol A propoxylate diacrylate), 트라이메틸프로판 프록실레이트 트라이아크릴레이트(trimethylpropane propoxylate triAcrylate), 트라이메틸헥실 아크릴레이트(trimethylhexyl acrylate) 중 적어도 하나 이상의 화합물일 수 있다.For example, the photosensitive curing monomer may be an acrylate-based compound, for example, EHA (ethylhexyl acrylate), trimethylhexyl acrylate, ethoxylethyl acrylate, isobutyl acrylate (isobutyl acrylate), isooctyl acrylate, isodecyl acrylate, octadecyl acrylate, tert-buthyl acrylate, ethyl acrylate ), methyl acrylate, butyl acrylate, lauryl acrylate, lauryl methacrylate, pentafluoropropyl acrylate, hexafluoro Hexafluoroisopropyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, bisphenol A dimeth acrylate, bisphenol A propoxylate diacrylate, trimethyl It may be a compound of at least one or more of trimethylpropane propoxylate triAcrylate and trimethylhexyl acrylate.

광개시제(Photoinitiator) 또는 광촉매는 광반응하여 모노머의 상분리를 촉진하며 격벽의 중합도 및 반응속도를 제어하기 위한 촉매물질로서, 광 개시제는, Darcour 4265(

Figure 112014015139064-pat00001
), Darcour 1173(
Figure 112014015139064-pat00002
), Darcour BP(
Figure 112014015139064-pat00003
), Diphenyl(2,4,6-Trimethylbenzoyl)Phosphine Oxide, Darcour MBF(
Figure 112014015139064-pat00004
), IRGACURE 907(
Figure 112014015139064-pat00005
) 등을 사용할 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. 또한, 도시하지는 않았지만, 모노머 경화단계 이전에 상기 컬러필터 중 일부를 덮는 차폐 패턴을 포함하는 추가 마스크(Mask)를 하는 상기 컬러필터 기판 상부에 배치하는 단계를 추가로 포함할 수 있다. 이러한 추가 마스크는 컬러필터를 통하여 광이 일부 투과되어 격벽 이외의 공간에 불완전 경화체를 형성하는 것을 방지하기 위한 것으로서, 그에 대해서는 도 7을 참고로 더 상세하게 설명한다.A photoinitiator or a photocatalyst is a catalyst material for promoting the phase separation of monomers by photoreacting and controlling the polymerization degree and reaction rate of the partition wall, and the photoinitiator is Darcour 4265 (
Figure 112014015139064-pat00001
), Darcour 1173(
Figure 112014015139064-pat00002
), Darcour BP(
Figure 112014015139064-pat00003
), Diphenyl(2,4,6-Trimethylbenzoyl)Phosphine Oxide, Darcour MBF(
Figure 112014015139064-pat00004
), IRGACURE 907(
Figure 112014015139064-pat00005
) Can be used, but is not limited thereto. In addition, although not shown, prior to the monomer curing step, a step of disposing on the color filter substrate having an additional mask including a shielding pattern covering some of the color filters may be additionally included. This additional mask is for preventing the formation of an incompletely cured body in a space other than the partition wall by partially transmitting light through the color filter, which will be described in more detail with reference to FIG. 7.

실런트는 종래의 일반적인 실런트 재료를 사용할 수 있으며, 예를 들면 자외선 광(UV)에 의하여 경화되는 감광성 경화물질일 수 있다. 또한 실런트 경화 단계를 위한 광 조사 공정은 주파수 약365nm의 자외선 광을 60~120mW/cm2의 강도로 30~50초 정도 조사하는 것으로 구성될 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니다. The sealant may be a conventional sealant material, and may be, for example, a photosensitive curing material that is cured by ultraviolet light (UV). In addition, the light irradiation process for the sealant curing step may consist of irradiating ultraviolet light with a frequency of about 365 nm at an intensity of 60 to 120 mW/cm 2 for about 30 to 50 seconds, but is not limited thereto.

한편, 모노머 경화단계는 상분리 및 모노머 응집을 위한 1차 경화 단계와, 외곽 지지 격벽이 필요한 물성, 즉, 일정 정도 이상의 강도(Hardness), 가교력 또는 접착력 등의 물성을 가지도록 하기 위한 2차 경화 단계를 포함할 수 있다.On the other hand, the monomer curing step is a first curing step for phase separation and monomer aggregation, and a secondary curing to have physical properties such as a certain degree of strength, crosslinking force, or adhesion, etc. It may include steps.

한편, 1차 경화 단계와 2차 경화 단계 사이에는 일정한 기간의 대기시간을 둘 수 있으며, 2차 경화 단계에서의 2차 광조사 강도 및 2차 광조사 시간이 상기 1차 경화 단계의 1차 광조사 강도 및 1차 광조사 시간보다 2배 이상 더 크도록 할 수 있다.On the other hand, a waiting time of a certain period can be provided between the first curing step and the second curing step, and the second light irradiation intensity and the second light irradiation time in the second curing step are It can be made to be more than two times greater than the irradiation intensity and the first light irradiation time.

1차 및 2차 경화 단계의 세부 구성을 설명하면 다음과 같다.The detailed configuration of the first and second hardening steps is as follows.

상분리 및 모노머 응집을 위한 1차 경화 단계는 300~400nm의 주파수, 바람직하게는 약365nm 주파수의 자외선 광을 5~10 mW/cm2, 바람직하게는 8.5 mW/cm2의 1차 광조사 강도로, 7~12분, 바람직하게는 약10분의 1차 광조사 시간동안 조사할 수 있다. In the first curing step for phase separation and monomer aggregation, ultraviolet light at a frequency of 300 to 400 nm, preferably at a frequency of about 365 nm, is 5 to 10 mW/cm 2 , preferably at a first light irradiation intensity of 8.5 mW/cm 2 , It can be irradiated during the first light irradiation time of 7-12 minutes, preferably about 10 minutes.

이러한 1차 경화 단계 이후에 약9~15시간 정도의 대기시간이 경화한 후에 2차 경화 단계로 진행할 수 있으며, 외곽 지지 격벽이 필요한 물성(강도, 가교력 또는 접착력) 완성을 위한 2차 경화 단계는 300~400nm의 주파수, 바람직하게는 약365nm 주파수의 자외선 광을 20~40 mW/cm2, 바람직하게는 약 30mW/cm2의 2차 광조사 강도로, 15~25분, 바람직하게는 약20분 정도의 2차 광조사 시간동안 조사하는 것이 바람직하다. 이러한 2차 경화 단계에서 총 조사되는 광에너지가 30~40J(Joule)이 되는 것이 바람직하다.After the first curing step, a waiting time of about 9 to 15 hours can be cured and then proceed to the second curing step, and the second curing step to complete the physical properties (strength, crosslinking force, or adhesion) required for the outer supporting partition wall Is a secondary light irradiation intensity of 20 to 40 mW/cm 2 , preferably about 30 mW/cm 2 , for 15 to 25 minutes, preferably about 365 nm of ultraviolet light at a frequency of 300 to 400 nm, preferably about 365 nm. It is preferable to irradiate for a second light irradiation time of about 20 minutes. In this secondary curing step, it is preferable that the total irradiated light energy is 30 to 40J (Joule).

또한, 모노머 경화 단계에서는 액정 혼합 재료 내에 포함된 감광 경화 모노머가 경화되어 전술한 외곽 지지 격벽을 형성함과 동시에, 각 화소 또는 화소내의 색상별 서브화소를 구분하기 위한 셀구분 격벽이 추가로 형성될 수 있다.In addition, in the monomer curing step, the photosensitive curing monomer included in the liquid crystal mixture material is cured to form the aforementioned outer supporting barrier rib, and at the same time, a cell division barrier for dividing each pixel or subpixel for each color within the pixel is additionally formed. I can.

또한, 이러한 셀구분 격벽 또는 외곽 지지 격벽을 특정 영역에 선택적으로 형성하기 위하여, 모노머 경화를 위한 광을 선택적으로 차단하기 위하여 상기 컬러필터 기판에 포함된 블랙매트릭스 패턴을 이용할 수 있으며, 전술한 바와 같이 별도의 마스크를 추가로 이용할 수도 있다.In addition, in order to selectively form such cell division barriers or outer supporting barriers in a specific region, a black matrix pattern included in the color filter substrate may be used to selectively block light for monomer curing, as described above. It is also possible to use additional masks.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시패널 제조과정에서의 표시패널 단면도를 시계열적으로 도시한다.5 is a time series diagram illustrating a cross-sectional view of a display panel in a process of manufacturing a liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention.

도 5의 (a)는 도 4의 S410 내지 S450의 실런트 경화 단계까지 수행한 이후의 단면을 도시하는 바, 실런트 경화 단계까지 수행되고 나면 하부기판 또는 제1기판으로서의 어레이 기판(510)이 배치되고, 상부에는 다수의 블랙매트릭스 패턴(552, 554)과 다수의 컬러필터(556, 557, 558)를 포함하는 상부기판 또는 컬러필터 기판(550)이 배치되며, 표시패널의 가장자리에는 실런트가 경화되어 형성된 실링영역(590)이 배치된다.FIG. 5A shows a cross section after performing the sealant curing step of S410 to S450 of FIG. 4, and after the sealant curing step is performed, the lower substrate or the array substrate 510 as the first substrate is disposed. , An upper substrate or a color filter substrate 550 including a plurality of black matrix patterns 552, 554 and a plurality of color filters 556, 557, 558 is disposed on the upper side, and a sealant is cured at the edge of the display panel. The formed sealing area 590 is disposed.

한편, 어레이 기판과 컬러필터 기판의 형성단계(S410), 단위 표시패널로 실런트를 도포하는 단계(S420), 감광 경화 모노머 포함 액저어 혼합 재료 주입 공정(S430), 기판 합착(S440) 및 실런트 경화 단계(S450) 등은 기존의 방식을 이용할 수 있으므로 상세한 설명은 생략한다.On the other hand, forming an array substrate and a color filter substrate (S410), applying a sealant to a unit display panel (S420), injecting a solution mixed material containing a photosensitive curing monomer (S430), bonding a substrate (S440), and curing the sealant. Since step S450 and the like can use an existing method, a detailed description will be omitted.

어레이 기판(510)과 컬러필터 기판(550) 및 실링영역(590)으로 둘러싸인 밀폐 영역에는 감광 경화 모노머를 포함하는 액정 혼합 재료층(570)이 형성된다.A liquid crystal mixed material layer 570 including a photosensitive curing monomer is formed in the enclosed region surrounded by the array substrate 510, the color filter substrate 550 and the sealing region 590.

한편, 어레이 기판(510)에는 각 화소 또는 각 화소에 포함되는 컬러별 서브 화소를 구동하기 위한 박막 트랜지스터 또는 배선 등과 같은 불투명 금속 패턴(512)이 형성되며, 컬러필터 기판(550)에는 화소 또는 서브화소를 구분하여 빛샘을 방지하기 위한 광차단 패턴으로서 다수의 블랙매트릭스 패턴이 포함되어 있다.Meanwhile, an opaque metal pattern 512 such as a thin film transistor or wiring for driving each pixel or sub-pixels for each color included in each pixel is formed on the array substrate 510, and the color filter substrate 550 A number of black matrix patterns are included as a light blocking pattern to separate pixels and prevent light leakage.

블랙 매트릭스 패턴은 각 (서브) 화소 사이를 구별하기 위한 셀구분 블랙매트릭스 패턴(554)과 표시패널의 최외곽 가장자리를 따라 비표시영역에 배치되는 최외곽 블랙매트릭스(552)를 포함할 수 있으며, 블랙매트릭스 패턴 사이에는 각각 하나의 서브 화소별로 특정 색상의 컬러 필터(556~558)가 형성되어 있다.The black matrix pattern may include a cell division black matrix pattern 554 for distinguishing between each (sub) pixel and an outermost black matrix 552 disposed in a non-display area along the outermost edge of the display panel. Between the black matrix patterns, color filters 556 to 558 of a specific color are formed for each sub-pixel.

컬러필터는 예를 들면 R(Red) 컬러필터, G(Green) 컬러필터, B(blue) 컬러필터 등을 포함할 수 있으나 그에 한정되는 것은 아니며, 이하 설명에서는 R 컬러필터(556), G 컬러필터(557), B 컬러필터(558)이 순차적으로 형성된 것으로 예시한다.The color filter may include, for example, an R (Red) color filter, a G (Green) color filter, a B (blue) color filter, etc., but is not limited thereto. In the following description, the R color filter 556 and the G color It is exemplified that the filter 557 and the B color filter 558 are sequentially formed.

한편, 블랙매트릭스 패턴들(552, 554)에는 아래 설명되는 모노머 경화를 위한 광이 투과할 수 있는 개구 슬롯부(553, 553’)가 형성되어 있을 수 있으며, 이러한 개구 슬롯부를 통해 입사된 광에 의하여 모노머(단량체)가 폴리머(Polymer; 중합체)로 경화됨으로써 셀구분 격벽(572)이 형성될 수 있다.On the other hand, the black matrix patterns 552 and 554 may have opening slots 553 and 553' through which light for monomer curing described below can pass, and the light incident through the opening slots As a result, the cell division barrier 572 may be formed by curing the monomer (monomer) into a polymer (polymer).

또한, 최외곽 블랙매트릭스 패턴(552)은 실링영역(590)까지 연장되지 않음으로써, 실링영역(590) 및 최외곽 블랙매트릭스 패턴(552) 사이로 입사되는 광에 의하여 외곽 지지 격벽(580)이 형성된다.In addition, since the outermost black matrix pattern 552 does not extend to the sealing area 590, the outer support partition wall 580 is formed by light incident between the sealing area 590 and the outermost black matrix pattern 552. do.

도 5의 (a)와 같은 상태에서, 본 발명에 의한 외곽 지지 격벽을 형성하기 위하여 모노머 경화단계가 도 5의 (b)에 도시된다.In a state as shown in (a) of FIG. 5, a step of curing a monomer to form an outer supporting partition wall according to the present invention is shown in (b) of FIG.

도 5의 (b)와 같은 모노머 경화단계에서는 컬러필터 기판 방향에서 전술한 1차 경화 단계 및 2차 경화 단계에 따른 자외선 조사가 이루어지며, 셀구분 격벽(572) 및 외곽 지지 격벽(580)을 형성하기 위하여 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴들(552, 554)을 광차단 패턴으로 이용하는 것에 추가하여, 컬러필터 기판 상에 배치되는 별도의 마스크(560)를 이용할 수 있다.In the monomer curing step as shown in FIG. 5B, ultraviolet irradiation is performed according to the aforementioned first and second curing steps in the direction of the color filter substrate, and the cell division partition 572 and the outer supporting partition 580 are formed. To form, in addition to using the black matrix patterns 552 and 554 of the color filter substrate 550 as a light blocking pattern, a separate mask 560 disposed on the color filter substrate may be used.

마스크(560)는 기판(562)과 기판 상에 형성된 광차단 패턴을 포함할 수 있으며, 광차단 패턴은 컬러필터 기판(550) 상의 블랙매트릭스 패턴들(552, 554)와 동일한 위치에 형성되되, 컬러필터 기판의 컬러필터 영역을 광차단하는 컬러필터 차단패턴도 동시에 형성된다.The mask 560 may include a substrate 562 and a light blocking pattern formed on the substrate, and the light blocking pattern is formed at the same position as the black matrix patterns 552 and 554 on the color filter substrate 550, A color filter blocking pattern for light blocking the color filter region of the color filter substrate is also formed at the same time.

즉, 마스크(560)는 컬러필터 기판(550)의 최외곽 블랙매트릭스(552)와 대응되는 영역을 차폐하는 제1차폐부(564)와, 컬러필터 기판의 셀구분 블랙매트릭스(554)의 일부와 컬러필터(556~558) 영역을 동시에 차폐하는 제2차폐부(566)를 포함할 수 있으며, 제1차폐부와 제2차폐부 사이에는 셀구분 격벽(572) 형성을 위한 광이 통과할 수 있도록, 컬러필터 기판(550)의 개구 슬롯부(553)에 대응되는 개구부를 포함할 수 있다.That is, the mask 560 includes a first shielding part 564 that shields a region corresponding to the outermost black matrix 552 of the color filter substrate 550, and a part of the cell division black matrix 554 of the color filter substrate. And a second shielding portion 566 for simultaneously shielding the regions of the and color filters 556 to 558, and light for forming the cell division barrier 572 may pass between the first shielding portion and the second shielding portion. The color filter substrate 550 may include an opening corresponding to the opening slot 553 of the color filter substrate 550.

이와 같이, 모노머 경화를 위하여 자외선 광을 선별적으로 차단하기 위하여 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴들 이외에 별도의 마스크(560)를 이용하는 것은, 컬러필터 영역이 색상에 따라서 일부 광을 투과하는 성질이 있기 때문에 그로 인하여 격벽 이외에 불필요한 불완전 경화체가 액정 층에 형성되는 것을 방지하기 위한 것이다.In this way, using a separate mask 560 other than the black matrix patterns of the color filter substrate 550 in order to selectively block ultraviolet light for curing the monomer, the color filter region transmits some light according to the color. This is to prevent unnecessary incompletely cured bodies other than the partition walls from being formed in the liquid crystal layer because of their properties.

또한, 도 5의 (b)에서와 같이 컬러필터 기판(550)의 최외곽 블랙매트릭스 패턴(552) 및 별도 마스크(560)의 제1차폐부(564)가 실링영역(590)까지 연장되지 않음으로써, 실링영역(590) 및 최외곽 블랙매트릭스 패턴(552) 사이로 입사되는 광에 의하여 외곽 지지 격벽(580)이 형성될 수 있는 것이다.In addition, as shown in FIG. 5B, the outermost black matrix pattern 552 of the color filter substrate 550 and the first shielding portion 564 of the separate mask 560 do not extend to the sealing region 590. As a result, the outer supporting partition wall 580 may be formed by light incident between the sealing region 590 and the outermost black matrix pattern 552.

또한, 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴과 마스크(560)의 차폐부에 형성된 개구 슬롯부(553) 및 개구부를 통하여 입사되는 자외선 광에 의하여 모노머가 경화됨으로써 셀구분 격벽(572)가 형성된다.In addition, the black matrix pattern of the color filter substrate 550 and the opening slot 553 formed in the shielding portion of the mask 560 and the monomer is cured by ultraviolet light incident through the opening, thereby forming the cell division barrier 572 do.

한편, 이때 어레이 기판(510) 상에 형성된 불투명 금속 패턴(512)은 블랙매트릭스의 개구 슬롯부(553)의 직하방에 형성되어 있어서, 결과적으로 셀구분 격벽(572)이 불투명 금속 패턴(512)의 상부에 형성되는 것이 바람직하다. 이로써, 불투명 금속 패턴(512)이 액정표시장치의 백라이트 유닛(미도시)으로부터의 빛을 차단함으로써 블랙매트릭스에 형성된 개구 슬롯부(553)을 통한 상부로의 빛샘 현상을 방지할 수 있게 된다.On the other hand, at this time, the opaque metal pattern 512 formed on the array substrate 510 is formed directly under the opening slot 553 of the black matrix, and as a result, the cell division barrier 572 is the opaque metal pattern 512 It is preferably formed on top of. Accordingly, the opaque metal pattern 512 blocks light from a backlight unit (not shown) of the liquid crystal display device, thereby preventing light leakage to the top through the opening slot 553 formed in the black matrix.

도 5의 (b)의 모노너 경화 과정을 통해서 셀구분 격벽(572) 및 외곽 지지 격벽(580)이 형성된 이후, 도 5의 (c)와 같이 실링영역(590)의 전부 또는 일부 영역을 스크라이빙(Scribing) 및 브레이킹(Breaking)하여 절단(Cutting)하여 제거하는 공정이 수행된다.After the cell division partition 572 and the outer support partition 580 are formed through the mononer hardening process of FIG. 5(b), all or part of the sealing area 590 is swept as shown in FIG. 5(c). The process of removing by cutting by scribing and breaking is performed.

이 때, 도 5의 (c)와 같이, 실링영역(590)의 전부가 제거되도록 절단공정이 수행될 수도 있지만, 그에 한정되는 것은 아니며 실링영역(590)의 일부분이 표시패널 내에 잔존할 수 있도록, 실링영역 내부에 커팅 라인(Cutting Line)을 둘 수도 있을 것이다.In this case, the cutting process may be performed so that all of the sealing area 590 is removed, as shown in FIG. 5(c), but it is not limited thereto, and a part of the sealing area 590 may remain in the display panel. , It may be possible to put a cutting line inside the sealing area.

이상과 같이, 모노머 경화 과정에 의하여 폴리머 격벽형태로 형성된 외곽 지지 격벽(580)은 각 단위 표시패널의 상하 기판 사이의 지지체 역할 및 접착구조 역할을 함으로써 실링영역의 전부 또는 일부를 제거하여 결과적으로 내로우 베젤을 달성할 수 있게 되는 것이다.As described above, the outer supporting partition 580 formed in the form of a polymer partition by the monomer curing process serves as a support between the upper and lower substrates of each unit display panel and an adhesive structure, thereby removing all or part of the sealing area. The low bezel can be achieved.

또한, 함께 형성되는 셀구분 격벽(572)은 각 화소 또는 각 서브화소 영역을 구분하는 기능을 가짐은 물론, 양 기판의 지지체 및 접착구조로 사용할 수 있음으로써, 외곽 지지 격벽의 폭을 최소화하더라도 충분한 기판간 접착력을 유지하는데 도움이 될 수 있다.In addition, the cell division barrier 572 formed together has a function of dividing each pixel or each sub-pixel region, and can be used as a support and an adhesive structure for both substrates, so even if the width of the outer support barrier is minimized, it is sufficient. It can be helpful in maintaining adhesion between substrates.

물론, 외곽 지지 격벽 외부의 실링영역(590) 전부를 반드시 제거해야 하는 것은 아니고, 일부의 실링영역을 잔존시킴으로써 기판간 접착력을 증대시킬 수 있으며, 결과적으로 액정 표시패널의 사양, 필요한 기판 접착력, 베젤의 크기 등의 파라미터를 고려하여 실링영역(590) 및 외곽 지지 격벽(580)의 존재여부, 크기 등을 조절함으로써 다양한 형태의 액정 표시패널의 생산이 가능하다.Of course, it is not necessary to remove all of the sealing areas 590 outside the outer supporting partition wall, but by remaining some sealing areas, the adhesion between substrates can be increased, and as a result, the specifications of the liquid crystal display panel, required substrate adhesion, and bezel Various types of liquid crystal display panels can be manufactured by adjusting the existence and size of the sealing area 590 and the outer supporting partition wall 580 in consideration of parameters such as the size of the panel.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 의하여 제조된 단위 표시패널의 단면도이다.6 is a cross-sectional view of a unit display panel manufactured according to an exemplary embodiment of the present invention.

단위 표시패널은 어레이기판(510) 및 컬러필터기판(550)과, 그 사이에 형성된 기판간 지지체 및 접합구조로서의 외곽 지지 격벽(580)을 포함하며, 이러한 외곽 지지 격벽은 액정 혼합 재료에 포함된 감광 경화 모노머의 경화에 의하여 형성된 것이다.The unit display panel includes an array substrate 510 and a color filter substrate 550, and an inter-substrate support formed therebetween and an outer support partition wall 580 serving as a bonding structure, and the outer support partition wall is included in the liquid crystal mixture material. It is formed by curing a photosensitive curing monomer.

더 구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시패널은 다수의 화소영역과 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판(510)과, 블랙매트릭스(552, 554) 및 다수의 컬러필터(556, 557, 558)를 포함하고 어레이 기판(510)과 합착되는 컬러필터 기판(550)과, 어레이 기판과 컬러필터 기판 사이에 주입되는 감광 경화 모노머 포함 액정 재료층(570)과, 표시패널의 가장자리에서 양 기판에 합착력을 제공하기 위하여, 감광 경화 모노머가 경화되어 형성되는 외곽 지지 격벽(580)을 포함하여 구성될 수 있다.More specifically, the liquid crystal display panel according to an embodiment of the present invention includes an array substrate 510 including a plurality of pixel regions and a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions, and the black matrix 552 and 554 and a plurality of The color filter substrate 550 including the color filters 556, 557, and 558 of the array substrate 510 and bonded to the array substrate 510, and a liquid crystal material layer 570 containing a photosensitive curing monomer injected between the array substrate and the color filter substrate , In order to provide adhesion to both substrates at the edge of the display panel, the photosensitive curing monomer may be cured to form an outer supporting partition wall 580.

또한, 외곽 지지 격벽(580) 이외에 역시 액정 혼합 재료에 포함된 감광 경화 모노머가 경화되어 형성되는 다수의 셀구분 격벽(572)을 추가로 포함할 수 있다.In addition, in addition to the outer supporting partition wall 580, a plurality of cell division partition walls 572 formed by curing the photosensitive curing monomer included in the liquid crystal mixed material may be additionally included.

한편, 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴들(552, 554)에는 셀구분 지지 격벽(572) 형성을 위하여 모노머 경화용 자외선 광이 투과될 수 있도록 형성된 1 이상의 개구 슬롯부(553)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the black matrix patterns 552 and 554 of the color filter substrate 550 include one or more opening slots 553 formed to transmit ultraviolet light for monomer curing in order to form the cell division supporting partition 572 can do.

도 6의 (b)와 같이, 본 발명의 일 실시에 의하여 제조된 단위 표시패널은 패널의 가장자리에 얇은 폭을 가지는 외곽 지지 격벽(580)이 형성되어 양 기판 사이의 지지력 및 접착력을 유지하게 되고, 추가로 표시영역에도 모노머가 경화된 셀구분 지지 격벽(572)이 양 기판 사이의 지지력을 증대시킴으로써, 결과적으로 표시패널의 내로우 베젤을 달성할 수 있게 된다.As shown in (b) of FIG. 6, in the unit display panel manufactured according to an embodiment of the present invention, an outer support partition wall 580 having a thin width is formed at the edge of the panel to maintain support and adhesion between both substrates. In addition, the cell division support partition wall 572 in which the monomer is cured in the display area increases the supporting force between both substrates, and as a result, a narrow bezel of the display panel can be achieved.

도 7은 격벽 형성을 위하여 별도의 마스크가 사용되는 매커니즘을 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining a mechanism in which a separate mask is used to form a partition wall.

도 7의 (a)는, 어레이기판(510)과 컬러필터 기판(550) 및 그 사이의 실링영역(590)이 형성되고, 그 내부에 감광 경화 모노머가 포함된 액정 혼합 재료를 주입한 후, 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴들만을 모노머 경화용 광차단부로 이용하여 자외선 광을 조사하는 경우를 도시한다. 즉, 도 7의 (a)는 별도의 마스크(560) 없이 모노머 경화 단계를 수행하는 경우이다.7A shows, after the array substrate 510, the color filter substrate 550, and the sealing region 590 therebetween are formed, and a liquid crystal mixed material containing a photosensitive curing monomer is injected therein, A case in which ultraviolet light is irradiated using only the black matrix patterns of the color filter substrate 550 as a light blocking portion for curing a monomer is illustrated. That is, Figure 7 (a) is a case of performing the monomer curing step without a separate mask 560.

이 경우, 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴은 각 컬러필터 영역에서는 개구되어 있기 때문에, 모노머 경화용 자외광(UV)이 컬러필터 영역, 즉 R 컬러필터(556), G 컬러필터(557) 및 B 컬러필터(558)에도 조사된다.In this case, since the black matrix pattern of the color filter substrate 550 is open in each color filter region, the ultraviolet light (UV) for monomer curing is in the color filter region, that is, the R color filter 556 and the G color filter 557. ) And the B color filter 558 are also irradiated.

그런데, 컬러필터는 광을 완전히 차단하는 것이 아니라 일부 광을 투과하게 되며, 색상별로 광투과율이 상이하다. However, the color filter does not completely block the light, but transmits some light, and the light transmittance is different for each color.

구체적으로, 적색(R) 및 청색(B) 컬러필터의 경우 녹색(G) 컬러필터에 비해서 광투과율이 상대적으로 높아서, 더 많은 광을 통과시키게 되는데, 통상 365nm의 자외광에 대한 R, G, B 컬러필터의 광투과율은 각각 약8.38%, 약0.55%, 약7.38%정도이다.Specifically, in the case of the red (R) and blue (B) color filters, the light transmittance is relatively higher than that of the green (G) color filter, so that more light is passed. In general, R, G, and The light transmittance of the B color filter is about 8.38%, about 0.55%, and about 7.38%, respectively.

즉, G 컬러필터(557)의 경우에는 자외선 광을 거의 차단하는 반면, R 컬러필터(556) 및 B 컬러필터(558)의 경우 자외선 광의 일부가 액정 층으로 투과된다는 것이다.That is, in the case of the G color filter 557, the ultraviolet light is almost blocked, whereas in the case of the R color filter 556 and the B color filter 558, part of the ultraviolet light is transmitted through the liquid crystal layer.

따라서, 도 7의 (a)에 도시한 바와 같이, G 컬러필터(557) 하부 액정 층과는 달리, R 컬러필터(556) 및 B 컬러필터(558)의 하부 액정 층에는 일부 모노머가 불완전하게 경화된 불완전 경화체(574)가 다수 형성될 수 있으며, 이러한 불완전 경화체는 액정 표시장치의 개구율을 낮추는 문제가 발생될 수 있다.Therefore, as shown in (a) of FIG. 7, unlike the liquid crystal layer under the G color filter 557, some monomers are incompletely in the lower liquid crystal layer of the R color filter 556 and the B color filter 558. A plurality of cured incomplete cured bodies 574 may be formed, and such incomplete cured bodies may cause a problem of lowering the aperture ratio of the liquid crystal display.

따라서, 이와 같은 문제를 해결하기 위하여, 도 7의 (b)와 같이 컬러필터 기판(550) 상부에 추가적인 마스크(560)를 배치한 후 모노머 경화를 수행하게 되며, 이러한 마스크(560)는 기본적으로 모든 화소의 컬러필터 영역을 차단하는 차폐패턴을 가지는 것이 바람직하다.Therefore, in order to solve such a problem, monomer curing is performed after an additional mask 560 is disposed on the color filter substrate 550 as shown in FIG. 7B, and this mask 560 is basically It is desirable to have a shielding pattern that blocks the color filter regions of all pixels.

도 7의 (b)에서는 마스크(560)가 컬러필터 영역을 차폐하는 제2차폐부(566)와 컬러필터 기판(550)의 최외곽 블랙매트릭스(552)에 대응되는 영역을 차폐하는 제1차폐부(564)를 포함하는 것으로 도시되어 있다.In (b) of FIG. 7, the mask 560 shields the second shielding portion 566 for shielding the color filter region and the first shielding for the region corresponding to the outermost black matrix 552 of the color filter substrate 550. It is shown as including portion 564.

그러나, 마스크(560)가 이러한 제1 및 제2차폐부를 모두 포함하여야 하는 것은 아니지만, 컬러필터 영역을 차폐하는 제2차폐부는 반드시 포함하여야 하며, 특히 제2차폐부(566)는 모든 색상의 컬러필터 영역 상부에 형성될 수도 있지만, 광투과율이 일정 값 이상인 컬러필터 영역, 예를 들면, R 컬러필터 및 B 컬러필터 영역에만 형성되어 있을 수도 있다. However, the mask 560 does not have to include all of these first and second shielding portions, but the second shielding portion shielding the color filter area must be included. In particular, the second shielding portion 566 is a color of all colors. Although it may be formed above the filter area, it may be formed only in the color filter area having a light transmittance of a predetermined value or more, for example, the R color filter and the B color filter area.

이와 같이, 컬러필터 영역의 전부 또는 일부를 차폐하는 추가적인 마스크(560)를 이용하게 되면, 도 7의 (a)에서와 같이 모노머 경화 과정에서 불완전 경화체가 발생하는 문제를 해결할 수 있는 것이다.In this way, if the additional mask 560 that shields all or part of the color filter region is used, it is possible to solve the problem that an incompletely cured product occurs during the monomer curing process as shown in FIG. 7A.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 의한 표시패널 및 그 제조방법을 도시한다.8 illustrates a display panel and a method of manufacturing the same according to another embodiment of the present invention.

도 5 내지 도 7까지의 실시예에서는 모노머 경화 과정 이후에, 커팅 과정에서 외곽 지지 격벽(580) 외측에 형성된 실링영역(590)을 모두 제거하였으나, 도 8의 실시예에서는 실링영역(590)의 일부 영역을 잔존하도록 한다.In the embodiments of FIGS. 5 to 7, after the monomer curing process, all the sealing areas 590 formed outside the outer support partition wall 580 are removed during the cutting process, but in the embodiment of FIG. 8, the sealing area 590 Let some areas remain.

즉, 도 8의 (a)에서와 같이, 모노머 경화 단계를 거친 후 단위 표시패널을 제조하기 위하여 대기판을 커팅하는 과정에서 커팅 라인을 실링영역(590) 내부에 위치하도록 함으로써, 실링영역 중 일부인 제1실링영역(590’)은 표시패널에 잔존하도록 하고, 제2실링영역(590”)을 제거시킬 수 있다.That is, as shown in (a) of FIG. 8, in the process of cutting the standby plate to manufacture the unit display panel after the monomer curing step, the cutting line is positioned inside the sealing area 590, which is part of the sealing area. The first sealing area 590 ′ may remain on the display panel and the second sealing area 590 ″ may be removed.

이러한 실시예에서서는, 도 8의 (b)와 같이, 제조된 단위 표시패널이 맨 가장자리에는 얇은 폭의 제1실링영역(590’)이 있고, 그 내측으로 모노머가 경화되어 형성된 외곽 지지 격벽(580)이 배치된다. 이로써, 양 기판 사이의 지지력 또는 접착력을 더 증대시킬 수 있게 된다.In this embodiment, as shown in (b) of FIG. 8, the unit display panel has a thin first sealing area 590' at the far edge, and an outer support partition wall formed by curing a monomer inside the unit display panel ( 580) is placed. As a result, it is possible to further increase the supporting force or adhesive force between both substrates.

이와 같이, 외곽 지지 격벽 외부의 실링영역(590)의 일부가 잔존하도록 절단함으로써 기판간 접착력을 증대시킬 수 있으며, 결과적으로 액정 표시패널의 사양, 필요한 기판 접착력, 베젤의 크기 등의 파라미터를 고려하여 실링영역(590) 및 외곽 지지 격벽(580)의 존재여부, 크기 등을 조절함으로써 다양한 형태의 액정 표시패널의 생산이 가능하다는 장점을 가진다.In this way, by cutting a part of the sealing area 590 outside the outer support partition to remain, the adhesion between the substrates can be increased.As a result, in consideration of parameters such as the specifications of the liquid crystal display panel, the required substrate adhesion, and the size of the bezel. It has the advantage that it is possible to produce various types of liquid crystal display panels by adjusting the presence or size of the sealing area 590 and the outer supporting partition wall 580.

도 9는 본 발명의 또다른 실시예에 의한 표시패널을 도시한다.9 illustrates a display panel according to another embodiment of the present invention.

이전까지의 실시예에서는 모두 외곽 지지 격벽(580) 이외에 각 화소 또는 서브화소 사이에 형성되는 셀구분 격벽(572)를 포함하지만, 도 9의 실시예에서는 셀구분 격벽 없이 표시패널 가장자리의 외곽 지지 격벽(580)만을 포함할 수 있다.In the previous embodiments, all of the cell division barriers 572 formed between each pixel or subpixel in addition to the outside support barrier 580 were included, but in the embodiment of FIG. 9, the outside support barrier wall at the edge of the display panel without the cell division barrier. It may contain only 580.

즉, 각 화소 또는 서브화소 사이에 형성되는 셀구분 격벽(572)이 양 기판 사이의 지지력 또는 접착력을 증대시키기는 하지만, 본 발명의 사상에서 반드시 필요한 것은 아니며, 만일 양 기판사이에 요구되는 접착력이 상대적으로 낮은 경우에는 도 9의 실시예와 같이 외곽 지지 격벽(580)만을 형성할 수도 있다는 것이다.That is, although the cell division barrier 572 formed between each pixel or sub-pixel increases the supporting force or adhesion between both substrates, it is not necessary in the spirit of the present invention, and if the required adhesion between both substrates is When it is relatively low, it is possible to form only the outer supporting partition wall 580 as in the embodiment of FIG. 9.

이를 위하여, 도 9의 실시예에서는 컬러필터 기판(550)의 블랙매트릭스 패턴에 형성되는 개구 슬롯부(도 6의 553)가 없으며, 추가적인 마스크(560)에도 셀구분 격벽 형성을 위한 슬롯부 또는 개구부가 없이 컬러필터 영역 전체를 차폐하는 차폐부(568)가 넓게 일체로 형성되어 있다.(도 9의 (a) 참고)To this end, in the embodiment of FIG. 9, there is no opening slot (553 of FIG. 6) formed in the black matrix pattern of the color filter substrate 550, and the additional mask 560 also has a slot or opening for forming a cell division barrier. A shielding part 568 that shields the entire color filter area is integrally formed in a wide area (refer to FIG. 9(a)).

또한, 도 9의 (b)와 같이 마스크(560)의 차폐부(568)가 컬러필터 영역 전체에 걸쳐 형성되지 않고, 광투과율이 높아서 불완전 경화체가 형성될 가능성이 있는 컬러필터 영역에만 차폐부가 형성될 수도 있을 것이다. 도 9의 (b)에서는 상대적으로 광투과율이 높은 R 컬러필터 및 B 컬러필터 영역에만 차폐부(568)가 형성된 예를 도시한다.In addition, as shown in (b) of FIG. 9, the shielding portion 568 of the mask 560 is not formed over the entire color filter area, and the shielding portion is formed only in the color filter area where there is a possibility that an incomplete cured body may be formed due to high light transmittance. It could be. 9B shows an example in which the shielding portion 568 is formed only in R color filter and B color filter regions having relatively high light transmittance.

이상과 같이, 본 발명의 여러 실시예에 의하면, 감광 경화 특성을 가지는 모노머가 포함된 액정 혼합 재료를 이용하고, 일정 조건 및 특정 영역에 대한 자외선 광 조사를 통한 모노머 경화 과정에 의하여 폴리머 격벽형태로 형성된 외곽 지지 격벽을 표시패널 가장자리에 형성하여 단위 표시패널의 상하 기판 사이의 지지체 역할 및 접착구조 역할을 함으로써 실링영역의 전부 또는 일부를 제거하여 결과적으로 내로우 베젤(Narrow Bezel)을 달성할 수 있는 효과를 가진다.As described above, according to various embodiments of the present invention, a liquid crystal mixture material containing a monomer having photosensitive curing properties is used, and a polymer partition wall is formed by a monomer curing process through irradiation of ultraviolet light to a certain condition and a specific region. The formed outer support partition wall is formed at the edge of the display panel to serve as a support body and an adhesive structure between the upper and lower substrates of the unit display panel, thereby removing all or part of the sealing area, resulting in a narrow bezel. Has an effect.

또한, 외곽 지지 격벽과 함께 셀구분 격벽을 추가로 형성하여 양 기판의 지지체 및 접착구조로 사용할 수 있음으로써, 외곽 지지 격벽의 폭을 최소화하더라도 충분한 기판간 접착력을 유지하는데 도움이 될 수 있다는 효과도 있다.In addition, since the cell division barrier can be additionally formed together with the outer support barrier and can be used as a support and an adhesive structure for both substrates, even if the width of the outer support barrier is minimized, it can help maintain sufficient adhesion between substrates. have.

또한, 외곽 지지 격벽 외부의 실링영역 중 일부를 패널 내에 잔존시킴으로써 기판간 접착력을 증대시킬 수 있으며, 결과적으로 액정 표시패널의 사양, 필요한 기판 접착력, 베젤의 크기 등의 요구조건에 따라, 폴리머 형태의 외곽 지지 격벽 이외에, 셀구분 격벽 및 패널내의 잔존 실링영역의 존재여부, 크기 등을 조절함으로써 다양한 형태의 액정 표시패널의 생산에 최적화할 수 있는 효과도 있다.In addition, a part of the sealing area outside the outer support partition wall can remain in the panel to increase the adhesion between substrates. As a result, according to the requirements such as the specifications of the liquid crystal display panel, the required substrate adhesion, and the size of the bezel, In addition to the outer supporting partition walls, there is also an effect of optimizing the production of various types of liquid crystal display panels by controlling the existence and size of the cell division partition and the remaining sealing area in the panel.

이상에서의 설명 및 첨부된 도면은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 나타낸 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 구성의 결합, 분리, 치환 및 변경 등의 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
The description above and the accompanying drawings are merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those of ordinary skill in the technical field to which the present invention pertains, combinations of configurations without departing from the essential characteristics of the present invention Various modifications and variations such as separation, substitution and alteration will be possible. Accordingly, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention, but to explain the technical idea, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The scope of protection of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

510 : 어레이 기판 512 : 불투명 금속 패턴
550 : 컬러필터 기판 552, 554 : 블랙매트릭스 (패턴)
553 : 개구 슬롯부 556, 557, 558 : 컬러필터(C/F)
560 : 마스크(mask) 564, 566 : 제1, 2 차폐부
570 : 감광 경화 모노머 포함 액정 재료층
572 : 셀구분 격벽 580 : 외곽 지지 격벽
590 : 실링영역510: array substrate 512: opaque metal pattern
550: color filter substrate 552, 554: black matrix (pattern)
553: opening slot portions 556, 557, 558: color filter (C/F)
560: mask 564, 566: first and second shielding parts
570: liquid crystal material layer containing photosensitive curing monomer
572: cell division bulkhead 580: outer support bulkhead
590: sealing area

Claims (10)

다수의 화소영역과 상기 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판과, 블랙매트릭스 및 다수의 컬러필터를 포함하는 컬러필터 기판을 형성하는 단계;
상기 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이의 각 단위 표시패널 가장자리 영역에 실런트를 도포하는 단계;
상기 실런트 도포 영역 내부의 어레이 기판 및 컬러필터 기판 사이에 감광 경화 모노머를 포함하는 액정 혼합 재료를 주입하는 단계;
상기 실런트를 경화하여 실링영역을 형성하는 실런트 경화 단계;
상기 액정 혼합 재료에 포함되는 모노머를 경화함으로써 상기 실링 영역 내측에서 비표시영역의 가장자리 지지부인 외곽 지지 격벽을 형성하는 모노머 경화단계;
상기 실링영역의 전체 또는 일부가 제거되도록 절단하여 외곽 지지 격벽을 포함하는 단위 표시패널을 형성하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.Forming an array substrate including a plurality of pixel regions and a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions, and a color filter substrate including a black matrix and a plurality of color filters;
Applying a sealant to an edge region of each unit display panel between the array substrate and the color filter substrate;
Injecting a liquid crystal mixture material including a photosensitive curing monomer between the array substrate and the color filter substrate in the sealant application region;
A sealant curing step of curing the sealant to form a sealing region;
A monomer curing step of forming an outer supporting partition wall, which is an edge support portion of a non-display area, inside the sealing area by curing a monomer included in the liquid crystal mixture material;
Forming a unit display panel including an outer supporting partition wall by cutting the sealing area to be completely or partially removed;
Method for manufacturing a liquid crystal display panel comprising a. 제1항에 있어서,
상기 모노머 경화단계는 상분리 및 모노머 응집을 위한 1차 경화 단계와, 외곽 지지 격벽의 물성을 완성하기 위한 2차 경화 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 1,
The monomer curing step includes a first curing step for phase separation and agglomeration of the monomer, and a second curing step for completing physical properties of the outer supporting partition wall. 제2항에 있어서,
상기 2차 경화 단계에서의 2차 광조사 강도 및 2차 광조사 시간이 상기 1차 경화 단계의 1차 광조사 강도 및 1차 광조사 시간보다 2배 이상 더 큰 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 2,
Manufacturing a liquid crystal display panel, characterized in that the second light irradiation intensity and the second light irradiation time in the secondary curing step are more than twice the first light irradiation intensity and the first light irradiation time in the first curing step Way. 제1항에 있어서,
상기 모노머 경화단계 이전에 상기 컬러필터 중 일부 영역을 광차단하는 차폐부를 포함하는 추가 마스크(Mask)를 상기 컬러필터 기판 상부에 배치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 1,
And prior to the monomer curing step, disposing an additional mask including a shielding part for light-blocking a portion of the color filter on the color filter substrate. 제1항에 있어서,
상기 컬러필터 기판의 블랙매트릭스는 각 화소를 구분하기 위한 셀구분 블랙매트릭스 패턴과 상기 외곽 지지 격벽 형성을 위한 최외곽 블랙매트릭스 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 1,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein the black matrix of the color filter substrate includes a cell division black matrix pattern for classifying each pixel and an outermost black matrix pattern for forming the outer supporting partition wall. 제5항에 있어서,
상기 셀구분 블랙매트릭스 패턴에는 셀구분 격벽 형성을 위한 개구 슬롯부가 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 5,
A method of manufacturing a liquid crystal display panel, wherein an opening slot for forming a cell division barrier is formed in the cell division black matrix pattern. 제5항에 있어서,
상기 최외곽 블랙매트릭스 패턴은 상기 실링영역까지 연장되지 않음으로써, 상기 실링영역 및 상기 최외곽 블랙매트릭스 패턴 사이로 입사되는 광에 의하여 상기 외곽 지지 격벽이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 5,
Wherein the outermost black matrix pattern does not extend to the sealing area, so that the outer supporting partition is formed by light incident between the sealing area and the outermost black matrix pattern. 제1항에 있어서,
상기 액정 혼합 재료는 일반 액정 재료 80~89.9 중량%, 감광 경화 특성의 모노머 10~19.9 중량% 및 광개시제(광촉매) 0.1~0.4 중량%를 포함하는 혼합 조성물인 것을 특징으로 하는 액정 표시패널 제조방법.The method of claim 1,
The liquid crystal mixture material is a mixed composition comprising 80 to 89.9% by weight of a general liquid crystal material, 10 to 19.9% by weight of a monomer having a photosensitive curing property, and 0.1 to 0.4% by weight of a photoinitiator (photocatalyst). 다수의 화소영역과 상기 화소영역을 스위칭하기 위한 다수의 박막트랜지스터를 포함하는 어레이 기판;
블랙매트릭스 및 다수의 컬러필터를 포함하고 상기 어레이 기판과 합착되는 컬러필터 기판; 및,
표시패널의 가장자리에서 양 기판에 합착력을 제공하기 위하여, 상기 어레이 기판과 상기 컬러필터 기판 사이에 주입되는 액정 혼합 재료에 포함된 감광 경화 모노머가 경화되어 형성되는 외곽 지지 격벽을 포함하되,
상기 액정 혼합 재료는 일반 액정 재료 80~89.9 중량%, 감광 경화 특성의 모노머 10~19.9 중량% 및 광개시제(광촉매) 0.1~0.4 중량%를 포함하는 혼합 조성물인 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.An array substrate including a plurality of pixel regions and a plurality of thin film transistors for switching the pixel regions;
A color filter substrate including a black matrix and a plurality of color filters and bonded to the array substrate; And,
In order to provide adhesion to both substrates at the edge of the display panel, the photosensitive curing monomer included in the liquid crystal mixture material injected between the array substrate and the color filter substrate is cured to form an outer support partition wall,
The liquid crystal mixture material is a mixed composition comprising 80 to 89.9% by weight of a general liquid crystal material, 10 to 19.9% by weight of a photosensitive monomer, and 0.1 to 0.4% by weight of a photoinitiator (photocatalyst). 제9항에 있어서,
상기 표시패널의 표시영역에는 각 화소 또는 셀 사이에 있는 감광 경화 모노머가 경화됨으로써 형성되는 셀구분 격벽을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 패널.The method of claim 9,
And a cell division barrier formed by curing a photosensitive curing monomer between each pixel or cell in the display area of the display panel.
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