KR102150515B1 - Sic structure using cvd method - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a component for manufacturing a semiconductor by using a CVD method. According to one aspect of the present invention, an SiC structure formed by using the CVD method and used to be exposed to plasma in a chamber includes a grain structure in which a length in a first direction is longer than a length in a second direction when defining a direction perpendicular to a surface that is most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to a surface that is most exposed to the plasma as the second direction. According to the present invention, grains are arranged in a specific direction to improve plasma resistance and uniform etching is performed on a surface where etching is performed without generating particles even when a part of the structure is etched by plasma during an etching process.

Description

CVD 방식으로 형성된 SIC 구조체 {SIC STRUCTURE USING CVD METHOD}SIC structure formed by CVD method {SIC STRUCTURE USING CVD METHOD}

본 발명은, SiC 소재를 포함하는 반도체 제조용 부품에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 SiC 소재를 포함하는 건식 식각장치에 이용 가능한 구조체에 관한 것이다. The present invention relates to a component for semiconductor manufacturing comprising a SiC material, and more specifically, to a structure usable in a dry etching apparatus comprising a SiC material.

반도체 제조장비에 사용되는 부품 중 플라즈마에 노출되는 부품은 단결정 및 주상정 Silicon을 사용하고 있다. 500mm 내외 제품의 경우, 단결정 Silicon을 사용하고 있고, 600mm 이상 제품의 경우 단결정 Silicon이 없는 관계로 결정립을 크게 성장시킨 주상정 Silicon을 사용하고 있으며, 이 경우 그 순도는 99.99999%(6N) 정도를 나타낸다. Among the parts used in semiconductor manufacturing equipment, single crystal and columnar silicon are used for parts exposed to plasma. For products around 500mm, single crystal silicon is used, and for products over 600mm, columnar silicon with large crystal grains is used because there is no single crystal silicon. In this case, the purity is 99.99999% (6N). .

최근에는, 반도체 공정의 발전에 따라 증착되는 층의 개수가 급격히 증가하였으며, 많은 층을 한번에 에칭하고 에칭된 형태가 수직이 되도록 하기 위해 high power를 사용한다. 이와 같이 high power를 사용하기 때문에 기존에 사용하였던 Silicon은 급격한 식각이 이루어지는 문제가 발생하였다. 또한, Silicon 제품의 소모에 소요되는 시간이 줄어들게 되면서 장비 내의 빈번한 내부 cleaning 문제 및 소모된 부품의 교체에 많은 시간이 소요되었다. 이는, 그대로 생산량의 손실로 이어지는 문제가 있었다. Recently, with the development of semiconductor processes, the number of deposited layers has rapidly increased, and high power is used to etch many layers at once and make the etched shape vertical. Since high power is used in this way, a problem of rapid etching occurred in the previously used silicon. In addition, as the time required to consume silicon products is reduced, a lot of time has been taken for frequent internal cleaning problems in the equipment and replacement of consumed parts. This, as it is, has a problem leading to loss of production.

이러한 문제를 해결하기 위해 내플라즈마 소재로서 SiC와 같은 내플라즈마 특성이 우수한 소재를 이용하는 방법이 도입된 바 있다.In order to solve this problem, a method of using a material having excellent plasma resistance such as SiC as a plasma-resistant material has been introduced.

종래에는 부품의 사용시간의 증가를 위해 산화물이나 질화물, 탄화물 소재 중 내플라즈마 우수한 소재의 적용을 추진하였으나 에칭과정에서 나오는 성분들과 공정 가스와의 반응으로 발생하는 파티클(particle)이 문제가 되었고 대부분의 소재가 적용될 수 없었다. CVD 방식으로 제조된 SiC의 경우 상기와 같은 파티클 문제가 없었으며 6N 수준의 초고순도 소재 생산이 가능해짐에 따라 기존 Silicon 부품을 대체하고 있었다.Conventionally, the application of a material having excellent plasma resistance among oxides, nitrides, and carbides was promoted to increase the use time of parts, but particles generated by the reaction of components from the etching process and the process gas became a problem. The material of could not be applied. In the case of SiC manufactured by the CVD method, there was no particle problem as described above, and as it became possible to produce an ultra-high purity material at the level of 6N, it was replacing the existing silicon parts.

최근에는 CVD-SiC 의 소재 특성에 대한 연구가 계속되어, 결정립의 배향에 따라 플라즈마를 맞는 면의 설계를 달리하여 제품의 내플라즈마 특성을 증대하기 위한 노력이 계속되고 있었다.In recent years, research on the material properties of CVD-SiC has been continued, and efforts have been made to increase the plasma resistance of products by varying the design of the surface that meets the plasma according to the orientation of the crystal grains.

본 발명은 상술한 문제를 인식하고, 독자적인 물성을 보유한 SiC 구조체를 제조하겠다는 발명자의 연구 끝에 도출된 결론을 바탕으로 한 것이다. The present invention is based on the conclusion drawn after the inventor's research to recognize the above-described problem and to manufacture a SiC structure having its own physical properties.

본 발명의 목적은 종래 SiC 소재를 도입하기에 급급했던 SiC 구조체 제조방식에 새로운 개념을 도입하여, 특정 방향으로 결정립이 배열되어 내플라즈마 특성이 좋아질 뿐만 아니라 구조체의 일부가 플라즈마에 의해 식각되더라도 식각 공정중에 파티클이 발생하지 않고 식각이 진행되는 면에 균일한 식각이 일어날 수 있도록 하기 위한 구조체를 제공하기 위함이다.The object of the present invention is to introduce a new concept to the SiC structure manufacturing method, which has been urgent to introduce SiC materials, so that not only the crystal grains are arranged in a specific direction to improve plasma resistance, but also the etching process even if a part of the structure is etched by plasma. It is to provide a structure to allow uniform etching to occur on a surface where no particles are generated and etching is performed.

또한, 본 발명의 목적은 XRD 분석 상 결정면의 성장을 제어하고 배열방향에 따른 물성을 조정하여 보다 우수한 내식성을 가지도록 하여 에칭설비에 최적화된 SiC 구조체를 제공하기 위한 것이다. In addition, it is an object of the present invention to provide a SiC structure optimized for etching equipment by controlling the growth of crystal planes in XRD analysis and adjusting physical properties according to the arrangement direction to have better corrosion resistance.

본 발명의 일 측에 따르는 CVD 방식으로 형성된 SiC 구조체는, 챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때, 상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3인 것이다.In the SiC structure formed by the CVD method according to one aspect of the present invention, in the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber, the direction perpendicular to the plane exposed to the plasma is the first direction, and the plasma is maximized. When the direction horizontal to the exposed surface is defined as the second direction, the first direction includes a grain structure in which the length in the second direction is longer than the length in the second direction, and a resistivity in the first direction / a resistivity value in the second direction Is 0.05 to 3.3.

일 실시예에 따르면, 상기 결정립은 상기 제1 방향을 기준으로 -45° 내지 +45° 방향으로 최대 길이를 가지도록 배열된 것일 수 있다.According to an embodiment, the crystal grains may be arranged to have a maximum length in a direction of -45° to +45° with respect to the first direction.

일 실시예에 따르면, 상기 결정립의 제1 방향 길이 / 상기 결정립의 제2 방향 길이 값(종횡비)은, 1.2 내지 20인 것일 수 있다. According to an embodiment, the length of the crystal grains in the first direction / the length of the grains in the second direction (aspect ratio) may be 1.2 to 20.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1 면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하는 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and is perpendicular to the first surface, and is perpendicular to the second direction. It may include a second surface extending in the direction.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 평균 강도는 133 Mpa 내지 200 Mpa 이고, 상기 제2 방향의 평균 강도는 225 Mpa 내지 260 Mpa 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the average strength in the first direction may be 133 Mpa to 200 Mpa, and the average strength in the second direction may be 225 Mpa to 260 Mpa.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 평균 강도 / 상기 제2 방향의 평균 강도 값은 0.55 내지 0.9 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the average intensity in the first direction / the average intensity in the second direction may be 0.55 to 0.9.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 3.0 * 10-3 Ωcm 내지 25 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4 * 10-3 Ωcm내지 40 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction may be 3.0 * 10 -3 Ωcm to 25 Ωcm, and the resistivity in the second direction may be 1.4 * 10 -3 Ωcm to 40 Ωcm.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be 0.05 to 3.3.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 10 Ωcm 내지 20 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 21 Ωcm내지 40 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction is 10 Ωcm to 20 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 21 It may be Ωcm to 40 Ωcm.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.25 내지 0.95인 것일 수 있다.According to an embodiment, a resistivity value in the first direction / a resistivity value in the second direction may be 0.25 to 0.95.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 0.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 2.5 Ωcm내지 25 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction is 0.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction may be 2.5 Ωcm to 25 Ωcm.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.04 내지 0.99 인 것일 수 있다.According to an embodiment, a resistivity value in the first direction / a resistivity value in the second direction may range from 0.04 to 0.99.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 1.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 0.8 Ωcm내지 1.7 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction is 1.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 0.8 It may be Ωcm to 1.7 Ωcm.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.15 내지 3.2 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be in the range of 1.15 to 3.2.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 3.0*10-3 Ωcm 내지 5.0*10-3 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4*10-3 Ωcm내지 3.0*10-3 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction is 3.0*10 -3 Ωcm to 5.0*10 -3 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 1.4*10 -3 Ωcm to 3.0*10 -3 Ωcm. I can.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.1 내지 3.3 인 것일 수 있다.According to an embodiment, a resistivity value in the first direction / a resistivity value in the second direction may be in the range of 1.1 to 3.3.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체의 경도는 방향과 무관하게, 2800 kgf/mm2내지 3300 kgf/mm2인 것일 수 있다.According to an embodiment, the hardness of the SiC structure may be 2800 kg f /mm 2 to 3300 kg f /mm 2 regardless of the direction.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 경도 / 상기 제2 방향의 경도 값은, 0.85 내지 1.15 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the hardness value in the first direction / the hardness value in the second direction may be 0.85 to 1.15.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서, [(200+220+311)]/(111) 값은, 각각, 제1 방향으로 0.7 내지 2.1 이고, 제2 방향으로 0.4 내지 0.75 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the crystal plane direction in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the value of [(200+220+311)]/(111) is 0.7 in the first direction, respectively. To 2.1, and may be 0.4 to 0.75 in the second direction.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서, [(200+220+311)]/(111) 값의, 제1 방향에 대한 값 / 제2 방향에 대한 값은 1.0 내지 4.4 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the crystal plane direction in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the value of the [(200+220+311)]/(111) value in the first direction / The value for the second direction may be 1.0 to 4.4.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서, (111) 결정면 방향 피크강도는, 제1 방향으로는 3200 내지 10000 이고, 제2 방향으로는 10500 내지 17500 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the peak intensity in the (111) crystal plane direction is 3200 to 10000 in the first direction, and 10500 in the second direction. To 17500.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서, 상기 제1 방향의 (111) 결정 면 방향 피크강도 / 상기 제2 방향의 (111) 결정면 방향 피크강도 값은, 0.2 내지 0.95인 것일 수 있다. According to an embodiment, for the peak intensity in the first direction and the second direction in XRD analysis, the peak intensity in the (111) crystal plane direction in the first direction / the (111) crystal plane direction peak in the second direction The strength value may be 0.2 to 0.95.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수는 4.0 * 10-6 /℃ 내지 4.6 * 10-6 /℃이고, 상기 제2 방향의 열팽창계수는 4.7 * 10-6 /℃ 내지 5.4 * 10-6 /℃ 인 것일 수 있다. According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction is 4.0 * 10 -6 / ℃ to 4.6 * 10 -6 / ℃, and the coefficient of thermal expansion in the second direction is 4.7 * 10 -6 / ℃ to 5.4 * 10 It may be -6 /℃.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction may be less than 1.0.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 0.7 이상 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction may be 0.7 or more and less than 1.0.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도는 215 W/mk 내지 260 W/mk 이고, 상기 제2 방향의 열전도도는 280 W/mk 내지 350 W/mk 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction may be 215 W/mk to 260 W/mk, and the thermal conductivity in the second direction may be 280 W/mk to 350 W/mk.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction may be less than 1.0.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 0.65 내지 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction may be between 0.65 and less than 1.0.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1 면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고, 상기 SiC 구조체는 제1면의 적어도 일부(일 예에 따르면 SiC 구조체의 하면)가 지지부와 접촉하는 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and is perpendicular to the first surface, and is perpendicular to the second direction. A second surface extending in a direction may be included, and in the SiC structure, at least a part of the first surface (according to an example, a lower surface of the SiC structure) may contact the support.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC구조체는, 엣지 링, 서셉터 및 샤워헤드 중 하나인 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure may be one of an edge ring, a susceptor, and a shower head.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고, 제1면의 면적의 총 합이 제2면의 면적의 총 합보다 넓은 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface developed in a direction perpendicular to the first direction, and a second surface developed in a direction perpendicular to the second direction, and the total area of the first surface The sum may be greater than the total sum of the areas of the second surface.

본 발명에 따르면, 내플라즈마 특성이 개선되고 교체 주기가 길어지는 SiC 구조체를 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에서 제안하는 SiC 구조체는, 플라즈마에 의한 식각률이 낮아 크랙이나 홀의 발생 빈도를 낮추고, 챔버 내를 오염시켜 불량품 제조의 원인이 되는 소재의 비산율을 줄일 수 있다. According to the present invention, a SiC structure with improved plasma resistance and a longer replacement cycle can be manufactured. In addition, the SiC structure proposed in the present invention can reduce the frequency of occurrence of cracks or holes due to a low etch rate by plasma, and reduce the scattering rate of a material that causes the manufacture of defective products by contaminating the interior of the chamber.

본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체는 특정 방향으로 결정립이 배열되어, 구조체의 일부가 플라즈마에 의해 식각되더라도 균일한 저항율을 유지할 수 있으며, 저항에 의한 전하축적 현상의 방지가 가능하여 에칭 공정 중 폴리머 등 이종소재의 부착현상이 개선되는 효과가 있다.In the SiC structure according to an embodiment of the present invention, crystal grains are arranged in a specific direction, so that even if a part of the structure is etched by plasma, a uniform resistivity can be maintained, and charge accumulation due to resistance can be prevented during the etching process. There is an effect of improving the adhesion phenomenon of different materials such as polymers.

또한, 목적에 따라 특정 방향의 저항률이 적절한 수준으로 제어된 SiC 구조체를 제공할 수 있는 효과가 있고, 또한 XRD 분석 상 결정면 제어를 통하여 내식성이 증가하고, 에칭 균일성이 확보된 SiC 구조체를 제공할 수 있는 효과가 있다. In addition, it has the effect of providing a SiC structure in which the resistivity in a specific direction is controlled to an appropriate level depending on the purpose.In addition, it is possible to provide a SiC structure with increased corrosion resistance and etching uniformity through control of the crystal plane in XRD analysis. It can have an effect.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 특정 방향으로의 낮은 저항율 값으로 인하여 SiC 구조체의 플라즈마 노출 면에의 전하 축적을 방지할 수 있고, SiC 구조체의 대전 현상이 개선되어 에칭 공정 중 폴리머 부착 현상이 개선되는 효과를 기대할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, due to a low resistivity value in a specific direction, it is possible to prevent the accumulation of charge on the exposed surface of the plasma of the SiC structure, and the charging phenomenon of the SiC structure is improved, so that the polymer adhesion phenomenon during the etching process. This improved effect can be expected.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 특정 방향으로의 열전도도 값 및 열팽창계수 값을 제어함으로써 챔버 내에서 특정 방향으로의 효율적인 열 전달 효율을 향상시킬 수 있고, 또한 온도가 올라간 상태에서 수행되는 식각 공정 과정에서도 정확한 정도로 플라즈마 에칭 깊이를 조절할 수 있다.In addition, according to an embodiment of the present invention, by controlling the thermal conductivity value and the thermal expansion coefficient value in a specific direction, it is possible to improve the efficient heat transfer efficiency in a specific direction in the chamber, and also performed while the temperature is increased. The plasma etching depth can be adjusted to an exact degree even during the etching process.

본 발명에서 제안하는 내용들로 인해, 본 발명에서 제안하는 SiC 구조체를 이용하여 반도체 제조장치의 부품을 설계할 수 있고, 해당 부품들의 교체 주기가 증가하고, 그로부터 제조되는 반도체 부품들의 품질이 향상됨으로써 고품질의 반도체 디바이스를 제조 가능하게 되는 효과도 있다.Due to the contents proposed in the present invention, a component of a semiconductor manufacturing apparatus can be designed using the SiC structure proposed in the present invention, the replacement cycle of the corresponding components is increased, and the quality of the semiconductor components manufactured therefrom is improved. There is also an effect of making it possible to manufacture high-quality semiconductor devices.

도1(a)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체가 장착되는 통상적인 플라즈마 챔버 내부의 구조를 개략적으로 도시한 단면도이며, 도 1(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예로서, 또 다른 통상적인 플라즈마 챔버 내 엣지 링에 웨이퍼가 장착되는 구조를 나타낸 단면도이며, 도 1(c)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예에 해당하는 엣지 링에 있어서 정의되는 제1면 및 제2 면을 표시한 개략도이다.
도 2(a) 및 도 2(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향으로 절단한 단면(도 2(a)) 및 제2 방향으로 절단한 단면(도 2(b)에 포함된 결정립 형태를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 2(c) 및 도 2(d)는 도 2(a) 및 도 2(b)에 대응되는 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 SEM 사진이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향으로 절단된 단면에 있어서 결정립의 제1 방향 및 제2 방향 크기를 측정한 과정을 나타내는 SEM 사진이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 강도 값 분포를 나타내는 그래프이다.
도 5(a) 내지 도 5(d)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 저항율 값 분포(제2 방향이 30 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 10 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 1 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 1 Ωcm 이하인 구조체)를 나타내는 그래프이다.
도 6은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 경도 값 분포를 나타내는 그래프이다.
도 7은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 XRD 분석 값 중 (111) 결정면의 회절강도 값 분포를 나타내는 그래프이다.
도 8(a) 및 도 8(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 8(a)) 및 제2 방향(도 8(b))으로 강도를 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 9(a) 및 도 9(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 9(a)) 및 제2 방향(도 9(b))으로 저항율을 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 10(a) 및 도 10(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 10(a)) 및 제2 방향(도 10(b))으로 경도를 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 11(a) 및 도 11(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 11(a)) 및 제2 방향(도 11(b))으로 XRD 회절 분석을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 12(a) 및 도 12(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 12(a)) 및 제2 방향(도 12(b))으로 열팽창률 분석을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 13(a) 및 도 13(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 13(a)) 및 제2 방향(도 13(b))으로 열전도도 분석을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.
도 14는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향 단면과 제2 방향 단면의 미세조직(결정립 구조) 사진과, 해당 미세조직이 플라즈마에 노출되었을 경우 식각되는 형태를 나타내는 SEM 사진이다.
도 15는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향 플라즈마 식각량과 제2 방향 플라즈마 식각량을 분석한 그래프이다.Figure 1 (a) is a cross-sectional view schematically showing a structure inside a typical plasma chamber in which a SiC structure according to an embodiment of the present invention is mounted, and Figure 1 (b) is, according to an embodiment of the present invention. As an example of a SiC structure, it is a cross-sectional view showing a structure in which a wafer is mounted on an edge ring in another conventional plasma chamber, and FIG. 1(c) is an example of a SiC structure according to an embodiment of the present invention. It is a schematic diagram showing the 1st surface and the 2nd surface defined in the edge ring.
2(a) and 2(b) show a cross section cut in a first direction (Fig. 2(a)) and a cross section cut in a second direction (Fig. 2 (Fig. 2)) of a SiC structure according to an embodiment of the present invention. b) is a cross-sectional view schematically showing the shape of the crystal grains included in, and FIGS. 2(c) and 2(d) are SiC according to an embodiment of the present invention corresponding to FIGS. 2(a) and 2(b) This is an SEM picture of the structure.
3 is a SEM photograph showing a process of measuring the size of a crystal grain in a first direction and a second direction in a cross section cut in the first direction of the SiC structure according to an embodiment of the present invention.
4 is a graph showing distribution of intensity values measured in a first direction and a second direction in a SiC structure according to an embodiment of the present invention.
5(a) to 5(d) show the distribution of resistivity values measured in the first direction and the second direction in the SiC structure according to an embodiment of the present invention (a structure having a second direction of about 30 Ωcm, It is a graph showing a structure in which the 2nd direction is within 10 Ωcm, the structure in the second direction is within 1 Ωcm, and the structure in which the second direction is 1 Ωcm or less).
6 is a graph showing a distribution of hardness values measured in a first direction and a second direction in a SiC structure according to an embodiment of the present invention.
7 is a graph showing the distribution of diffraction intensity values of a (111) crystal plane among XRD analysis values measured in a first direction and a second direction in a SiC structure according to an embodiment of the present invention.
Figures 8(a) and 8(b) measure the strength in the first direction (Fig. 8(a)) and the second direction (Fig. 8(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to do this is shown.
9(a) and 9(b) show resistivity in a first direction (FIG. 9(a)) and a second direction (FIG. 9(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to do this is shown.
10 (a) and 10 (b), in the SiC structure according to an embodiment of the present invention, the hardness is measured in the first direction (Fig. 10 (a)) and the second direction (Fig. 10 (b)) A schematic diagram of how to do this is shown.
11(a) and 11(b) are XRD diffraction analysis in the first direction (FIG. 11(a)) and the second direction (FIG. 11(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to perform is shown.
12(a) and 12(b) are analysis of the coefficient of thermal expansion in the first direction (FIG. 12(a)) and the second direction (FIG. 12(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to perform is shown.
13(a) and 13(b) show thermal conductivity analysis in a first direction (FIG. 13(a)) and a second direction (FIG. 13(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to perform is shown.
14 is a photograph of a microstructure (crystal grain structure) of a cross section in a first direction and a cross section in the second direction of a SiC structure according to an embodiment of the present invention, and an SEM photograph showing a form etched when the microstructure is exposed to plasma. to be.
15 is a graph showing an amount of plasma etching in a first direction and an amount of plasma etching in a second direction of a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. Hereinafter, exemplary embodiments will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

아래 설명하는 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있다. 아래 설명하는 실시예들은 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 이들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.Various changes may be made to the embodiments described below. The embodiments described below are not intended to be limited to the embodiments, and should be understood to include all changes, equivalents, and substitutes thereto.

실시예에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 실시예를 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the examples are used only to describe specific embodiments, and are not intended to limit the embodiments. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, terms such as "comprises" or "have" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts, or combinations thereof, does not preclude in advance the possibility.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the embodiment belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조 부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, in the description with reference to the accompanying drawings, the same reference numerals are assigned to the same components regardless of the reference numerals, and redundant descriptions thereof will be omitted. In describing the embodiments, when it is determined that a detailed description of related known technologies may unnecessarily obscure the subject matter of the embodiments, the detailed description thereof will be omitted.

일반적으로 CVD 방식으로 성장한 SiC 소재는 β-SiC의 cubic 구조를 가지고 있다고 알려져 있는데, 그 결정상은 silicon과 유사한 zinc blande 구조를 가지고 있다. 따라서 silicon의 결정 구조에 있어서 결정 방향이 (111)면을 보면, 단위면적당 원자 수가 가장 많이 나타나게 된다. 이와 같이, CVD SiC 소재도 같은 (111) 면 방향에서 가장 많은 원자 수(coordinate number, 3)를 가지게 될 수 있다. In general, SiC materials grown by CVD are known to have a cubic structure of β-SiC, and the crystal phase has a zinc blande structure similar to that of silicon. Therefore, in the crystal structure of silicon, when the crystal direction is (111), the number of atoms per unit area is the largest. As such, the CVD SiC material may have the largest number of atoms (coordinate number, 3) in the same (111) plane direction.

단위 부피당 원자 수가 많아진다는 것은, 해당 면 방향으로 플라즈마에 노출될 경우 상대적으로 내플라즈마 특성(플라즈마 대항력)이 증가되는 것을 의미하게 된다. 따라서 동일한 소재에서도 단위 면적당 원자 수가 많은 방향으로 결정면을 배열하는 것은 내플라즈마 소재에 있어서는 품질을 향상시킬 수 있는 중요한 원리가 된다. CVD 방식으로 성장하게 된 SiC소재의 경우에는, (111) 방향의 결정립이 많은 쪽이 플라즈마에 많이 노출되는 면으로 설계함으로써 SiC 구조체의 표면이 높은 내플라즈마 특성을 가지도록 설계할 수 있다.The increase in the number of atoms per unit volume means that the plasma resistance (plasma resistance force) is relatively increased when exposed to plasma in the corresponding plane direction. Therefore, even in the same material, arranging crystal planes in a direction with a large number of atoms per unit area is an important principle that can improve quality in plasma-resistant materials. In the case of the SiC material grown by the CVD method, the surface of the SiC structure can be designed to have high plasma resistance characteristics by designing the side with more crystal grains in the (111) direction as the side exposed to the plasma.

또한, CVD 방식으로 성장한 SiC소재에 있어서, 내플라즈마 특성은 결정립의 배향과 균일한 배열에도 영향을 받게 된다. 결정립 중 큰 결정립과 상대적으로 작은 결정립이 형성된 경우를 비교해 보면, 플라즈마에 노출될 때 작은 결정립이 형성된 경우가 먼저 결정립이 이탈하게 되거나 식각되어, 소재 내부로 파고 들어가는 형태의 식각이 나타나게 된다. 더 강한 플라즈마에 노출되거나, 플라즈마에 더 오래 노출될 경우에는 큰 결정립도 이탈하게 되는데, 이 경우에는 급속하게 식각의 두께가 증가하는 현상이 나타나게 된다. 따라서 결정립의 배향 및 크기 분포는 SiC 구조체의 식각 특성에 영향을 주는 중요한 요소가 된다. In addition, in the SiC material grown by the CVD method, the plasma resistance characteristics are affected by the orientation and uniform arrangement of crystal grains. Comparing the case in which large grains and relatively small grains are formed among crystal grains, when small grains are formed when exposed to plasma, the grains are first separated or etched, resulting in etching in the form of digging into the material. When exposed to a stronger plasma or exposed to the plasma for a longer period of time, large crystal grains are also released, and in this case, a phenomenon in which the thickness of the etching increases rapidly occurs. Therefore, the grain orientation and size distribution become important factors affecting the etching characteristics of the SiC structure.

한편, SiC 구조체에 있어서, 플라즈마가 주로 도달되는 특정 면을 기준으로 SiC 구조체의 물성을 디자인하고, 가공하는 것이 내플라즈마 특성을 높이는 하나의 요소가 될 수 있다. On the other hand, in the SiC structure, designing and processing the physical properties of the SiC structure based on a specific surface to which the plasma mainly reaches may be one factor to increase the plasma resistance.

본 발명에서는 SiC 구조체에서 플라즈마에 가장 많이 노출되는 면을 SiC 구조체의 제1면(100a)이라고 정의한다. 상기 플라즈마에 최대로 노출되는 제1면에 수직한 방향(플라즈마가 SiC 구조체로 다가오는 방향)을 제1 방향이라고 정의한다. 상기 제1 방향은 일 예로서, 챔버의 높이 방향, 엣지 링의 높이 방향에 해당할 수 있다. 이 때, 만약 위에서 상정된 제1방향이 아닌 다른 방향에서 플라즈마가 SiC 구조체로 가장 많이 진입하도록 제품을 설계할 경우에는, 플라즈마가 도달하자마자 작은 결정립의 이탈을 통한 급격한 식각이 일어나게 되며, 불균일한 식각이 발생할 수 있다. 또한, 심한 경우에는 큰 결정립 까지도 이탈하게 되어 비산 입자들로 인한 문제가 발생하는 경우도 발생할 수 있다. In the present invention, the surface of the SiC structure that is most exposed to plasma is defined as the first surface 100a of the SiC structure. A direction perpendicular to the first surface exposed to the plasma (a direction in which the plasma approaches the SiC structure) is defined as a first direction. As an example, the first direction may correspond to a height direction of a chamber and a height direction of an edge ring. At this time, if the product is designed so that the plasma enters the SiC structure most frequently in a direction other than the first direction assumed above, as soon as the plasma arrives, rapid etching occurs through the separation of small grains, and non-uniform etching. This can happen. In addition, in severe cases, even large crystal grains may be separated, resulting in a problem due to scattering particles.

이와 같이 이러한 소재를 가지고 부품을 제조할 경우에 어떤 면을 어떠한 배향으로 설계할 것인지는 소재의 내플라즈마 특성을 강화하는데 있어서 중요한 문제일 수 있다. In the case of manufacturing a component with such a material as described above, which surface to be designed in which orientation may be an important issue in enhancing the plasma resistance of the material.

본 발명은 SiC 구조체에 있어서, 내플라즈마 특성이 우수하여 교체 주기가 길어져 생산성이 향상되고, 안정적으로 고품질의 반도체 제조용 부품을 생산할 수 있는 엣지 링, 샤워헤드 등의 SiC 구조체를 제안하기 위한 것이다. 본 발명에서 제안하는 SiC 구조체는, 상부에서 내리 쬐는 플라즈마에 노출되는 환경의 건식 식각장치에 적용될 경우 식각되는 양이 적어 비산량이 줄어들도록 하는 장점이 있다. 또한, 본 발명의 SiC 구조체는, 종래의 구조체에 비해 교체 주기가 길어지는 등 생산 비용을 절감하면서 동시에 우수한 품질의 반도체 제조용 부품을 제조할 수 있게 되는 이점이 있다.The present invention is to propose a SiC structure such as an edge ring and a showerhead capable of stably producing a high-quality semiconductor manufacturing component with excellent plasma resistance and a longer replacement cycle to improve productivity. When the SiC structure proposed in the present invention is applied to a dry etching apparatus in an environment exposed to the plasma exposed from the top, the amount to be etched is small, so that the amount of scattering is reduced. In addition, the SiC structure of the present invention has the advantage of being able to manufacture a component for manufacturing a semiconductor of excellent quality while reducing production costs such as a longer replacement cycle compared to the conventional structure.

도1(a)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체가 장착되는 통상적인 플라즈마 챔버 내부의 구조를 개략적으로 도시한 단면도이며, 도 1(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예로서, 또 다른 통상적인 플라즈마 챔버 내 엣지 링에 웨이퍼가 장착되는 구조를 나타낸 단면도이며, 도 1(c)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예에 해당하는 엣지 링에 있어서 정의되는 제1면(100a) 및 제2 면(100b)을 표시한 개략도이다.Figure 1 (a) is a cross-sectional view schematically showing a structure inside a typical plasma chamber in which a SiC structure according to an embodiment of the present invention is mounted, and Figure 1 (b) is, according to an embodiment of the present invention. As an example of a SiC structure, it is a cross-sectional view showing a structure in which a wafer is mounted on an edge ring in another conventional plasma chamber, and FIG. 1(c) is an example of a SiC structure according to an embodiment of the present invention. It is a schematic diagram showing the first surface 100a and the second surface 100b defined in the edge ring.

도 1(a) 를 통하여 본 발명에서 제안하는 SiC 구조체가 쓰이는 플라즈마 챔버에 대하여 확인할 수 있으며, 도 1(b) 및 도 1(c)를 통해서, 일 실시예로서 제안하는 SiC 구조체에 대해서 제1 방향 및 제2 방향, 제1 면 및 제2 면이 어떻게 정의되는지를 확인할 수 있다.The plasma chamber in which the SiC structure proposed in the present invention is used can be confirmed through FIG. 1(a), and through FIGS. 1(b) and 1(c), the first SiC structure proposed as an embodiment You can see how the direction and the second direction, and the first and second sides are defined.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체 중 하나인 엣지 링은 구체적으로는 웨이퍼가 안착되는 위치에 따라 다양한 형태로 구현될 수 있지만, 기본적으로는 도 1(c)과 같은 편평한 링형 구조 또는 원통형 구조를 가지고서 도 1(a) 및 도 1(b)와 같은 형태로 장착될 수 있다. 그러나 기본적으로 엣지 링은 높이에 비해 폭이 더 넓은 형태를 가지는 것이 일반적이므로, 링형 구조라고 칭하는 것이 보다 바람직하다.The edge ring, which is one of the SiC structures proposed in the present invention, can be implemented in various forms depending on the position where the wafer is specifically mounted, but basically, it has a flat ring-shaped structure or a cylindrical structure as shown in FIG. 1(c). It can be mounted in the same form as in 1(a) and 1(b). However, basically, since the edge ring generally has a wider shape than its height, it is more preferable to call it a ring-shaped structure.

이 때, 엣지 링의 제1 방향으로 측정되는 물성과 제2 방향으로 측정되는 물성 간에는 차이가 존재하도록, 또는 그 비율이 적절한 수준으로 제어되도록 SiC 구조체를 제작할 수 있다. At this time, the SiC structure may be fabricated so that there is a difference between the physical properties measured in the first direction and the physical properties measured in the second direction of the edge ring, or the ratio thereof is controlled to an appropriate level.

이는, 플라즈마가 모든 방향에서 고르게 SiC 구조체를 식각하는 것이 아니기 때문에, 많은 양의 플라즈마가 접근, 진입하는 방향에는 높은 수준의 물성을, 상대적으로 적은 양의 플라즈마가 접근하는 방향에는 비교적 낮은 수준의 물성을 보유하면 되는 것이기 때문이다. 또한, 플라즈마 챔버 내에서 구조적, 열적, 전기적으로 우수한 성능을 효율적으로 구현할 수 있는 물성을 가지도록 부품을 설계할 수 있기 때문이다.This is because the plasma does not etch the SiC structure evenly in all directions, so a large amount of plasma approaches and enters a high level of physical properties, and a relatively small amount of plasma approaches a relatively low level of physical properties. This is because you just need to have. In addition, this is because components can be designed to have physical properties that can efficiently implement excellent structural, thermal, and electrical performance in the plasma chamber.

소재 개발에 있어서 요구 수준의 물성을 달성하도록 개발하는 것은 수치로 확인하는 것 보다 대단히 많은 노력과 비용을 요구한다. 전 방향으로 높은 수준의 물성(강도, 경도, 결정립 크기, 열전도도, 열팽창계수 등)을 구현하도록 제조할 경우 물론 우수한 SiC 구조체가 제조될 수 있을 것이나, 이러한 물성 수준을 만족하도록 SiC 구조체를 설계하는 것은 대단히 높은 비용과 기술이 요구되는 문제가 있다.In material development, developing to achieve the required level of physical properties requires a lot more effort and cost than confirming numerical values. When manufactured to implement high-level physical properties (strength, hardness, grain size, thermal conductivity, thermal expansion coefficient, etc.) in all directions, of course, excellent SiC structures can be manufactured, but SiC structures are designed to satisfy these physical properties. It has a problem that requires very high cost and skill.

본 발명은 건식 식각 장치에 장착될 경우 우수한 수준의 내플라즈마 특성을 유지하면서도 공정 생산성을 높이고 비용을 절감할 수 있는 SiC 소재의 증착 방법에 대한 연구를 수행한 결과에 관한 것이다.The present invention relates to a result of a study on a deposition method of a SiC material capable of increasing process productivity and reducing cost while maintaining excellent plasma resistance when mounted in a dry etching apparatus.

하기에서는 본 발명에서 설계한 SiC 구조체에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, the SiC structure designed in the present invention will be described in detail.

도 2(a) 및 도 2(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향으로 절단한 단면(도 2(a)) 및 제2 방향으로 절단한 단면(도 2(b)에 포함된 결정립 형태를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 2(c) 및 도 2(d)는 도 2(a) 및 도 2(b)에 대응되는 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 SEM 사진이다.2(a) and 2(b) show a cross section cut in a first direction (Fig. 2(a)) and a cross section cut in a second direction (Fig. 2 (Fig. 2) of the SiC structure according to an embodiment of the present invention) b) is a cross-sectional view schematically showing the shape of the crystal grains included in, and FIGS. 2(c) and 2(d) are SiC according to an embodiment of the present invention corresponding to FIGS. 2(a) and 2(b) This is an SEM picture of the structure.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예는, 도 2(a) 내지 도 2(d)를 참고하여 설명하면, 상기 SiC 구조체의 결정립은 제2 방향보다 제1 방향으로 절단한 면에서 상대적으로 더 긴 형태로 형성될 수 있다. 이와 같이 특정 방향으로 더 길게 형성되는 결정립을 포함할 경우, 결함이나 식각이 발생할 때에 결정립 방향성으로 인한 제품에 유리한 효과를 설계하고 구현할 구현할 수 있다.An example of the SiC structure proposed by the present invention will be described with reference to FIGS. 2(a) to 2(d), wherein the grains of the SiC structure are relatively larger in the surface cut in the first direction than in the second direction. It can be formed in a long shape. In the case of including crystal grains that are formed longer in a specific direction as described above, it is possible to design and implement an advantageous effect on a product due to grain orientation when defects or etching occur.

본 발명의 일 측에 따르는 CVD 방식으로 형성된 SiC 구조체는, 챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때, 상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3인 것이다.In the SiC structure formed by the CVD method according to one aspect of the present invention, in the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber, the direction perpendicular to the plane exposed to the plasma is the first direction, and the plasma is maximized. When the direction horizontal to the exposed surface is defined as the second direction, the first direction includes a grain structure in which the length in the second direction is longer than the length in the second direction, and a resistivity in the first direction / a resistivity value in the second direction Is 0.05 to 3.3.

상기 SiC 구조체는, 제1 방향으로 상대적으로 길게 형성된 결정립 구조를 포함하는 것이며, 이러한 구조는 SEM, 편광 현미경 등을 확인하여 쉽게 육안으로 확인할 수 있다. The SiC structure includes a crystal grain structure formed relatively long in the first direction, and this structure can be easily confirmed with the naked eye by checking an SEM or a polarizing microscope.

일 실시예에 따르면, 상기 결정립은 상기 제1 방향을 기준으로 -45° 내지 +45° 방향으로 최대 길이를 가지도록 배열된 것일 수 있다. 상기 결정립은 제1 방향과 완벽 하게 일치하는 방향으로 모두 배열되는 것은 아닐 수 있으나, 결정립의 긴 길이가 형성되는 방향은 제1 방향과 가까운 방향일 수 있고, 일 예로서, 제1 방향을 기준으로 -30° 내지 +30° 내의 각도로 성장하는 결정립들을 포함하는 것일 수 있다.According to an embodiment, the crystal grains may be arranged to have a maximum length in a direction of -45° to +45° with respect to the first direction. The crystal grains may not all be arranged in a direction perfectly coincident with the first direction, but the direction in which the long length of the crystal grains is formed may be a direction close to the first direction. As an example, based on the first direction It may include crystal grains growing at an angle within -30° to +30°.

일 실시예에 따르면, 상기 결정립의 제1 방향 길이 / 상기 결정립의 제2 방향 길이 값(종횡비)은, 1.2 내지 20인 것일 수 있다. According to an embodiment, the length of the crystal grains in the first direction / the length of the grains in the second direction (aspect ratio) may be 1.2 to 20.

상기 결정립의 제1 방향 크기 / 제2 방향 크기의 비는, 일 예로서 2.5 이상인 것일 수 있고, 또한 바람직하게는 17.5 이하인 것일 수 있다. 상기 크기의 비는 일 예로서, 1.25 이상일 수 있고, 9.0 이하인 것일 수 있다. 상기 결정립은 제1 방향 길이가 길면 길어질수록 침상형과 같은 형태로 구현될 수 있다. The ratio of the size of the crystal grains in the first direction / the size in the second direction may be, for example, 2.5 or more, and preferably 17.5 or less. As an example, the ratio of the size may be 1.25 or more and 9.0 or less. As the length of the crystal grains in the first direction increases, the crystal grains may be implemented in a shape like a needle shape.

상기 SiC 구조체는, 결정립의 제1 방향 길이가 제2 방향 길이에 비해 1.2 배 내지 최대 약 20배 수준인 것일 수 있다. 일 예로서, 상기 크기는 평균 크기인 것일 수 있다. In the SiC structure, the length of the crystal grains in the first direction may be 1.2 times to about 20 times the length in the second direction. As an example, the size may be an average size.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체에 대해서 20 mm x 10 mm x 5 mm 크기로 시편을 준비하여 총 175개의 포인트에 대하여 결정립의 제1 방향 및 제2 방향의 크기를 SEM장비를 활용하여 500배율 기준으로 측정하고 그 결과를 분석하였다.For the SiC structure proposed in the present invention, a specimen was prepared in a size of 20 mm x 10 mm x 5 mm, and the size of the first direction and the second direction of the grains for a total of 175 points were determined at 500 magnification using the SEM equipment. Measured and analyzed the results.

도 3은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예로서 SiC구조체의 제1 방향 단면에 있어서 결정립 크기를 측정한 과정을 나타내는 SEM 사진이다.3 is a SEM photograph showing a process of measuring a grain size in a cross section of the SiC structure in a first direction as an example of a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

도 3에서 나타내는 것과 같이, 본 발명에서 결정립이라고 지칭하는 부분은 SiC 구조체의 단면에서 미세조직 사진 상, 상대적으로 진한 색으로 나타나는 부분을 의미한다. 도 3을 통해 상술한 것과 같이 제1 방향을 중심으로 결정립들이 배열되어 있음을 확인할 수 있다.As shown in FIG. 3, a portion referred to as a crystal grain in the present invention refers to a portion that appears in a relatively dark color on a microstructure photograph in a cross-section of the SiC structure. It can be seen through FIG. 3 that crystal grains are arranged around the first direction as described above.

하기 표 1은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 175회에 걸쳐 각 방향으로 측정한 결정립의 크기와 비를 측정한 값이다.Table 1 below is a value obtained by measuring the size and ratio of crystal grains measured in each direction over a total of 175 times using the SiC structure of the present invention as described above.

[표 1] 결정립 크기 분석[Table 1] Analysis of grain size

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Figure 112019064016326-pat00001

Figure 112019064016326-pat00002
Figure 112019064016326-pat00002

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1 면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하는 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and is perpendicular to the first surface, and is perpendicular to the second direction. It may include a second surface extending in the direction.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서, SiC 구조체에 대해서 1 mm(세로) * 2 mm(가로) * 10 mm(높이) 크기로 시편을 10개 준비하여 제1 방향 및 제2 방향의 강도 값을 측정하고 그 결과를 분석하였다.As an example of the SiC structure proposed by the present invention, for the SiC structure, 10 specimens in the size of 1 mm (length) * 2 mm (horizontal) * 10 mm (height) were prepared to provide strength in the first direction and the second direction. The values were measured and the results were analyzed.

도 8(a) 및 도 8(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 8(a)) 및 제2 방향(도 8(b))으로 강도를 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다. Figures 8(a) and 8(b) measure the strength in the first direction (Fig. 8(a)) and the second direction (Fig. 8(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to do this is shown.

만능재료분석기(UTM, 제조사 UNITECH)를 이용하여 측정하였고, 시편은 Ring 소재 분석을 위해 최대한 작게 제작하였으며, 분석은 3곡점 굽힘강도 측정을 기준으로 측정을 진행하였다.Measurement was made using a universal material analyzer (UTM, manufacturer UNITECH), and the specimen was made as small as possible to analyze the ring material, and the analysis was performed based on the measurement of the 3-point bending strength.

자간 거리는 2mm로 조정하고 cross head speed 05mm/min., span 11mm로 하여 측정하였으며, 이외의 시편제작 및 측정은 KSL 1591 규정으로 측정하였다. 측정 시 측정하고자 하는 제1면에 수직한 방향으로, 제2면 수직한 방향으로 직접 힘을 가해 각각의 강도값을 측정하였다.The distance between the rulers was adjusted to 2mm and measured with a cross head speed of 05mm/min., and a span of 11mm. Other specimen preparation and measurement were measured according to KSL 1591. During measurement, each intensity value was measured by directly applying a force in a direction perpendicular to the first surface to be measured and in a direction perpendicular to the second surface.

하기 표 2는, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체의 일 예로서 SiC 구조체를 이용하여 10개 시편에 대하여 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 강도의 크기와 그 비를 측정한 값이다.Table 2 below shows the magnitude of the strength measured in the first direction and the second direction with respect to 10 specimens using the SiC structure as an example of the SiC structure of the present invention as described above, and a value obtained by measuring the ratio.

[표 2] 강도 분석[Table 2] Strength analysis

Figure 112019064016326-pat00003
Figure 112019064016326-pat00003

도 4는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 강도 값 분포를 나타내는 그래프이다.4 is a graph showing distribution of intensity values measured in a first direction and a second direction in a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 평균 강도는 133 Mpa 내지 200 Mpa 이고, 상기 제2 방향의 평균 강도는 225 Mpa 내지 260 Mpa 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the average strength in the first direction may be 133 Mpa to 200 Mpa, and the average strength in the second direction may be 225 Mpa to 260 Mpa.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 평균 강도 / 상기 제2 방향의 평균 강도 값은 0.55 내지 0.9 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the average intensity in the first direction / the average intensity in the second direction may be 0.55 to 0.9.

상기 SiC 구조체의 일 예로서, 상기 제1 방향의 평균 강도에 비해 제2 방향의 평균 강도 값이 더 높은 특징을 가지는 것일 수 있다. 이는 반도체 공정에서 사용하는 SiC 구조체의 형상이 대부분 제1방향으로 얇기 때문에 제2방향에서 측정한 강도가 높아야 고객공정 중 운반 및 장착과정에서는 운영이 용이해지게 된다.As an example of the SiC structure, the average strength value in the second direction may be higher than the average strength in the first direction. This is because the shape of the SiC structure used in the semiconductor process is mostly thin in the first direction, so that the strength measured in the second direction must be high to facilitate operation during the transportation and installation process during the customer process.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서, SiC 구조체를 제조하고 그에 대해서 20 mm(가로) x 4 mm(세로) x 4 mm(두께) 크기로 시편을 제2방향으로 30Ωcm내외인 구조체, 10Ωcm내외인 구조체, 1Ωcm 내외인 구조체 및 1Ωcm 미만인 구조체를 준비하여 각각 40EA, 60EA, 30EA, 20EA를 준비하여 제 1방향 및 제2방향의 저항율 값을 각각 측정하여 그 값을 분석하였다. 저항측정기로는 넵슨 코티라의 EC-80P, Ts7D, 4-Prob를 이용하여 비저항을 측정하였다. 측정시 제1 면 및 제2 면에 각각 4-Prob를 접촉하여 저항율을 측정하였다. 4-Prob는 탐침 길이가 최소인 NSCP 타입을 이용하였다.As an example of the SiC structure proposed in the present invention, a SiC structure is manufactured and the specimen is placed in a size of 20 mm (width) x 4 mm (length) x 4 mm (thickness) in the second direction, and a structure having a size of about 30 Ωcm, 10 Ωcm Internal and external structures, 1 Ωcm internal and external structures, and structures less than 1 Ωcm were prepared, and 40EA, 60EA, 30EA, and 20EA were prepared, respectively, and the resistivity values in the first direction and the second direction were measured, respectively, and the values were analyzed. As a resistance tester, the specific resistance was measured using the EC-80P, Ts7D, and 4-Prob of Nepson Cortira. During measurement, the resistivity was measured by contacting 4-Prob with each of the first and second surfaces. For 4-Prob, the NSCP type with the minimum probe length was used.

도 5(a) 내지 도 5(d)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 저항율 값 분포(제2 방향이 30 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 10 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 1 Ωcm 내외인 구조체, 제2 방향이 1 Ωcm 이하인 구조체)를 나타내는 그래프이다.5(a) to 5(d) show the distribution of resistivity values measured in the first direction and the second direction in the SiC structure according to an embodiment of the present invention (a structure having a second direction of about 30 Ωcm, It is a graph showing a structure in which the 2nd direction is within 10 Ωcm, the structure in the second direction is within 1 Ωcm, and the structure in which the second direction is 1 Ωcm or less).

도 9(a) 및 도 9(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 9(a)) 및 제2 방향(도 9(b))으로 저항율을 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.9(a) and 9(b) show resistivity measurements in a first direction (FIG. 9(a)) and a second direction (FIG. 9(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to do this is shown.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 3.0 * 10-3 Ωcm 내지 25 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4 * 10-3 Ωcm내지 40 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction may be 3.0 * 10 -3 Ωcm to 25 Ωcm, and the resistivity in the second direction may be 1.4 * 10 -3 Ωcm to 40 Ωcm.

일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3인 것일 수 있다.According to an embodiment, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be 0.05 to 3.3.

하기 표 3은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 40 EA 시편을 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 저항율의 크기와 그 비를 측정한 값을 제시한 것이다. 하기 표 3은 제2 방향의 저항율이 30 Ωcm 내외로 형성되는 본 발명의 일 실시예에 다르는 SiC 구조체에 대하여 분류한 저항율의 크기 데이터이다. 저항율 값은 SiC 구조체의 용도에 따라 도펀트를 제어함으로써 다양하게 변화시킬 수 있다.Table 3 below shows the magnitude of the resistivity measured in the first direction and the second direction for a total of 40 EA specimens using the SiC structure of the present invention as described above, and a value obtained by measuring the ratio. Table 3 below shows the size data of the resistivity classified for SiC structures different from the one embodiment of the present invention in which the resistivity in the second direction is formed within 30 Ωcm. The resistivity value can be variously changed by controlling the dopant according to the use of the SiC structure.

[표 3] 저항율의 크기[Table 3] Size of resistivity

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Figure 112019064016326-pat00004

위의 표 3은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 40EA 시편을 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 저항율의 크기와 그 비를 측정한 값을 제시한 것이다. 하기 표 3은 제2 방향의 저항율이 30 Ωcm 내외로 형성되는 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 대하여 분류한 저항율의 크기 데이터이다. 제2 방향의 저항율 값은 SiC 구조체의 용도에 따라 도펀트를 제어함으로써 다양하게 변화시킬 수 있다.Table 3 above shows the magnitude of the resistivity measured in the first direction and the second direction for a total of 40EA specimens using the SiC structure of the present invention as described above, and a value obtained by measuring the ratio. Table 3 below shows the size data of the resistivity classified for the SiC structure according to an embodiment of the present invention in which the resistivity in the second direction is about 30 Ωcm. The resistivity value in the second direction can be variously changed by controlling the dopant according to the use of the SiC structure.

상기 표 3의 실험 결과에 따르는 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 제1방향의 저항율은 10 Ωcm 내지 20 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 21 Ωcm내지 40 Ωcm인 것일 수 있다.In an embodiment of the present invention according to the experimental results of Table 3, the resistivity in the first direction is 10 Ωcm to 20 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 21 It may be Ωcm to 40 Ωcm.

상기 표 3의 실험 결과에 따르는 본 발명의 일 실시예에서는, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.25 내지 0.95인 것일 수 있다.In an embodiment of the present invention according to the experimental results of Table 3, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be 0.25 to 0.95.

하기 표 4는, 상술한 것과 동일한 방법으로 또 다른 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 60EA 시편을 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 저항율의 크기와 그 비를 측정한 값을 제시한 것이다. 하기 표 4는 제2 방향의 저항율이 10 Ωcm 내외로 형성되는 본 발명의 일 실시예에 다르는 SiC 구조체에 대하여 분류한 저항율의 크기 데이터이다. Table 4 below shows the magnitude of the resistivity measured in the first direction and the second direction for a total of 60EA specimens using the SiC structure of the present invention in the same manner as described above, and a value obtained by measuring the ratio. Table 4 below is data on the magnitude of resistivity classified for SiC structures different from one embodiment of the present invention in which the resistivity in the second direction is formed to be around 10 Ωcm.

[표 4] 저항율의 분석[Table 4] Analysis of resistivity

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Figure 112019064016326-pat00005

상기 표 4의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 0.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 2.5 Ωcm내지 25 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment according to the experimental results of Table 4, the resistivity in the first direction is 0.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 2.5 It may be between Ωcm and 25 Ωcm.

상기 표 4의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.04 내지 0.99 인 것일 수 있다.According to an exemplary embodiment according to the experimental results of Table 4, according to an exemplary embodiment, a resistivity value in the first direction / a resistivity value in the second direction may be from 0.04 to 0.99.

하기 표 5는, 상술한 것과 동일한 방법으로 또 다른 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 30 EA 시편을 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 저항율의 크기와 그 비를 측정한 값을 제시한 것이다. 하기 표 5는 제2 방향의 저항율이 1 Ωcm 내외로 형성되는 본 발명의 일 실시예에 다르는 SiC 구조체에 대하여 분류한 저항율의 크기 데이터이다. Table 5 below shows the magnitude of the resistivity measured in the first direction and the second direction for a total of 30 EA specimens using another SiC structure of the present invention in the same manner as described above, and a value obtained by measuring the ratio. . Table 5 shows data on the magnitude of resistivity classified for SiC structures different from one embodiment of the present invention in which the resistivity in the second direction is formed within 1 Ωcm.

[표 5] 저항율의 분석[Table 5] Analysis of resistivity

Figure 112019064016326-pat00006
Figure 112019064016326-pat00006

상기 표 5의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 1.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 0.8 Ωcm내지 1.7 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment according to the experimental results of Table 5, the resistivity in the first direction is 1.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 0.8 It may be Ωcm to 1.7 Ωcm.

상기 표 5의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.15 내지 3.2 인 것일 수 있다.According to an embodiment according to the experimental results of Table 5, according to an embodiment, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be 1.15 to 3.2.

하기 표 6은, 상술한 것과 동일한 방법으로 또 다른 본 발명의 SiC 구조체를 이용하여 총 20EA 시편을 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 저항율의 크기와 그 비를 측정한 값을 제시한 것이다. 하기 표 6은 제2 방향의 저항율이 1 Ωcm 미만으로 형성되는 본 발명의 일 실시예에 다르는 SiC 구조체에 대하여 분류한 저항율의 크기 데이터이다. Table 6 below shows the magnitude of the resistivity measured in the first direction and the second direction for a total of 20 EA specimens using the SiC structure of another present invention in the same manner as described above, and a value obtained by measuring the ratio. Table 6 below is data on the magnitude of resistivity classified for SiC structures different from one embodiment of the present invention in which the resistivity in the second direction is less than 1 Ωcm.

[표 6] 저항율의 분석[Table 6] Analysis of resistivity

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상기 표 6의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율은 3.0*10-3 Ωcm 내지 5.0*10-3 Ωcm 이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4*10-3 Ωcm내지 3.0*10-3 Ωcm인 것일 수 있다.According to an embodiment according to the experimental results in Table 6, the resistivity in the first direction is 3.0*10 -3 Ωcm to 5.0*10 -3 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 1.4*10 -3 Ωcm It may be 3.0*10 -3 Ωcm.

상기 표 6의 실험 결과에 따르는 일 실시예에 따르면, 상기 제1방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.1 내지 3.3 인 것일 수 있다.According to an embodiment according to the experimental results of Table 6, the resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction may be 1.1 to 3.3.

SiC 구조체는 필요로 되는 용도에 따라 원료가스 내에 도펀트를 첨가하여 SiC 소재 저항율을 조절할수 있으며, 그에 따라 제2방향의 저항율과 제 1방향의 저항율을 도펀트의 첨가량에 따라 조절이 가능하다. 일 예로서, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체는 저항율 제어를 위하여 첨가되는 도펀트의 농도가 1 * 1018 atoms/cc 이하인 것일 수 있다.The SiC structure can adjust the resistivity of the SiC material by adding a dopant in the raw material gas according to the required use, and accordingly, the resistivity in the second direction and the resistivity in the first direction can be adjusted according to the amount of dopant added. As an example, the SiC structure according to an embodiment of the present invention may have a dopant concentration of 1 * 10 18 atoms/cc or less for resistivity control.

결정립의 배향은 특정 방향으로의 저항율을 결정하는데도 중요한 역할을 수행할 수 있다. 일 예로서, 구형 결정립의 경우에는 어떠한 방향으로도 많은 계면이 존재하므로, 전자가 결정립과 결정립 사이의 디펙 등을 통해 이동할 수 있다. 다만 이경우에도 다수의 도펀트를 첨가하여 전자수가 포화되면 터널링 효과에 의해 다수의 전자가 결정립과 결정립 사이의 계면을 투과하듯이 통과할 수 있다. 따라서, 도펀트의 농도가 1* 1018 atoms/cc 이하인 SiC 구조체에서 특정 방향으로 길게 형성된 침상형과 같은 결정구조를 포함할 경우, 경계면이 많지 않아지게 됨에 따라 전자는 결정을 따라 이동할 수 있다. The orientation of crystal grains can also play an important role in determining the resistivity in a specific direction. As an example, in the case of a spherical crystal grain, since many interfaces exist in any direction, electrons may move through a defect between the grain and the grain. However, even in this case, when the number of electrons is saturated by adding a plurality of dopants, the plurality of electrons can pass through the interface between the crystal grains and the grains as if they are through the tunneling effect. Therefore, when a SiC structure having a dopant concentration of 1*10 18 atoms/cc or less includes a needle-like crystal structure formed elongated in a specific direction, electrons can move along the crystal as there are not many interfaces.

상기 SiC 구조체의 저항율이 상대적으로 높은 수치를 나타내거나 낮은 수치를 나타낼 때, 각각에 적용되는 메커니즘은 서로 상이하다고 알려진 바 있다. 저항율이 1.7 Ωcm 을 초과하는 영역대의 SiC 구조체는 자유전자의 입자 내 이동 속도가 빨라 제1 방향 의 저항율이 낮아지게 되는 효과가 있으나, 저항율이 1.7 Ωcm 이하의 SiC 구조체는 자유전자의 입계 이동속도가 빨라 제2방향의 저항율이 낮아지게 되는 효과가 있다. 따라서, 공정 중 SiC 구조체의 일부 표면의 전하 축적을 방지하기 위해 챔버의 구조와 장비 설계를 고려하여 전자의 이동경로로 선호하는 방향을 결정하고 적절한 저항율 값을 설계하여 사용할 수 있다.When the resistivity of the SiC structure shows a relatively high value or a low value, it has been known that the mechanisms applied to each are different from each other. The SiC structure in the region where the resistivity exceeds 1.7 Ωcm has the effect of lowering the resistivity in the first direction due to the fast movement speed of free electrons, but the SiC structure with a resistivity of 1.7 Ωcm or less has the effect of lowering the intergranular movement speed of free electrons. As it is fast, there is an effect that the resistivity in the second direction is lowered. Therefore, in order to prevent the accumulation of charge on some surfaces of the SiC structure during the process, it is possible to determine a preferred direction as a movement path of electrons in consideration of the structure and equipment design of the chamber, and design and use an appropriate resistivity value.

일 예에 따르면, 제1 방향의 저항이 상대적으로 작을 수 있기 때문에 제1 방향으로의 전하의 이동이 용이해진다. 이로 인해, 제1 방향으로 진입하는 플라즈마가 많은 환경에 본 발명의 SiC 구조체가 놓일 경우, SiC 구조체 표면에서 전하가 축적되는 현상을 방지할 수 있다. 따라서, SiC 구조체 표면의 전하 축적에 의해 발생하는 arcing문제의 개선이 가능하다. According to an example, since the resistance in the first direction may be relatively small, the transfer of electric charges in the first direction is facilitated. For this reason, when the SiC structure of the present invention is placed in an environment where there are many plasmas entering the first direction, it is possible to prevent a phenomenon in which charges are accumulated on the surface of the SiC structure. Therefore, it is possible to improve the arcing problem caused by charge accumulation on the surface of the SiC structure.

만약 플라즈마가 상대적으로 저항율 값이 높은 제2방향으로 SiC 구조체에 대량 진입할 경우, SiC 구조체의 표면에서 높은 전하축적이 일어나 공정 중 arcing 의 문제가 생길 수 있다. 이는 제조되는 부품의 불량을 야기하는 가장 큰 원인이 될 수 있다.If a large amount of plasma enters the SiC structure in the second direction having a relatively high resistivity value, high charge accumulation occurs on the surface of the SiC structure, and arcing may occur during the process. This can be the biggest cause of defects in manufactured parts.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서 4 mm(가로) x 4 mm(세로) x 4 mm(높이) 크기로 시편을 2개 준비하여 비커스 경도기를 이용하고, KS B 0811 기준으로 측정하였으며, 측정면이 도 10(a) 및 도 10(b) 그림과 같이 제1방향 / 제2방향의 직접 압입하여 측정하였다. 측정 후 아래의 수식에 의해 경도값을 산출하고, 총 10개 포인트에서 제1 방향 및 제2 방향의 비커스 경도 값을 측정하고 그 결과를 분석하였다.As an example of the SiC structure proposed in the present invention, two specimens were prepared with a size of 4 mm (width) x 4 mm (length) x 4 mm (height), using a Vickers hardness tester, and measured based on KS B 0811, The measurement surface was measured by direct press-fitting in the first direction / the second direction as shown in Figs. 10(a) and 10(b). After the measurement, the hardness value was calculated by the following equation, and Vickers hardness values in the first direction and the second direction were measured at a total of 10 points, and the results were analyzed.

Figure 112019064016326-pat00008
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도 6은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 일 예로서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 경도 값 분포를 나타내는 그래프이다.6 is a graph showing a distribution of hardness values measured in a first direction and a second direction as an example of a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

도 10(a) 및 도 10(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 10(a)) 및 제2 방향(도 10(b))으로 경도를 측정하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.10 (a) and 10 (b), in the SiC structure according to an embodiment of the present invention, the hardness is measured in the first direction (Fig. 10 (a)) and the second direction (Fig. 10 (b)) A schematic diagram of how to do this is shown.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서, 제1 방향과 제2 방향의 경도 값은 타 물성지표에 비해 거의 대등한 값을 나타내는 것을 확인할 수 있다.As an example of the SiC structure proposed in the present invention, it can be seen that the hardness values in the first direction and the second direction represent almost the same values as compared to other physical property indices.

하기 표 7은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체의 일 예로서 2개 시편에 대하여 총 10개의 포인트에서 제1 방향과 제2 방향에서 측정한 경도 크기와 그 비를 측정한 값이다.Table 7 below, as an example of the SiC structure of the present invention, as described above, is a value obtained by measuring the hardness magnitude measured in the first direction and the second direction at a total of 10 points for two specimens and a ratio thereof.

[표 7] 경도 분석[Table 7] Hardness Analysis

Figure 112019064016326-pat00009
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일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체의 경도는 방향과 무관하게, 2800 kgf/mm2내지 3300 kgf/mm2인 것일 수 있다.According to an embodiment, the hardness of the SiC structure may be 2800 kg f /mm 2 to 3300 kg f /mm 2 regardless of the direction.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 경도 / 상기 제2 방향의 경도 값은, 0.85 내지 1.15 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the hardness value in the first direction / the hardness value in the second direction may be 0.85 to 1.15.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서 4 mm(가로) * 4 mm(세로) * 2 mm(높이) 크기로 시편을 8개 준비하여 제1 방향 및 제2 방향의 XRD 분석을 수행하였다. 분석 방법으로는 Regaku Dmax2000 장비를 이용하여 측정각도 10~80°이며, scan step은 0.05, scan speed 10, 측정 power는 40KV, 40mA로 측정하고, 확보한 그래프를 분석하였다.As an example of the SiC structure proposed by the present invention, 8 specimens with a size of 4 mm (horizontal) * 4 mm (length) * 2 mm (height) were prepared, and XRD analysis in the first direction and the second direction was performed. As an analysis method, the measurement angle was 10~80° using the Regaku Dmax2000 equipment, the scan step was measured at 0.05, the scan speed was 10, and the measurement power was measured at 40KV and 40mA, and the obtained graph was analyzed.

도 7은, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향 및 제2 방향으로 측정한 XRD 분석 값 중 (111) 결정면의 회절강도 값 분포를 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the distribution of diffraction intensity values of a (111) crystal plane among XRD analysis values measured in a first direction and a second direction in a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

도 11(a) 및 도 11(b)는, 본 발명 의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 11(a)) 및 제2 방향(도 11(b))으로 XRD 회절 분석을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.11(a) and 11(b) are XRD diffraction analysis in the first direction (FIG. 11(a)) and the second direction (FIG. 11(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to perform is shown.

또한, 하기 표 8은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체의 일 예로서, 8개 시편에 대하여 제1 방향과 제2 방향에서 XRD 분석을 수행한 결과 값이다.In addition, Table 8 below is an example of the SiC structure of the present invention as described above, and shows the results of XRD analysis in the first direction and the second direction for eight specimens.

[표 8] XRD 분석[Table 8] XRD analysis

Figure 112019064016326-pat00010
Figure 112019064016326-pat00010

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서, [(200+220+311)]/(111) 값은, 각각, 제1 방향으로 0.7 내지 2.1 이고, 제2 방향으로 0.4 내지 0.75 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the crystal plane direction in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the value of [(200+220+311)]/(111) is 0.7 in the first direction, respectively. To 2.1, and may be 0.4 to 0.75 in the second direction.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서, [(200+220+311)]/(111) 값의, 제1 방향에 대한 값 / 제2 방향에 대한 값은 1.0 내지 4.4 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the crystal plane direction in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the value of the [(200+220+311)]/(111) value in the first direction / The value for the second direction may be 1.0 to 4.4.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서, (111) 결정면 방향 피크강도는, 제1 방향으로는 3200 내지 10000 이고, 제2 방향으로는 10500 내지 17500 인 것일 수 있다.According to an embodiment, for the peak intensity in the first direction and the second direction in the XRD analysis, the peak intensity in the (111) crystal plane direction is 3200 to 10000 in the first direction, and 10500 in the second direction. To 17500.

일 실시예에 따르면, XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서, 상기 제1 방향의 (111) 결정 면 방향 피크강도 / 상기 제2 방향의 (111) 결정면 방향 피크강도 값은, 0.2 내지 0.95인 것일 수 있다. According to an embodiment, for the peak intensity in the first direction and the second direction in XRD analysis, the peak intensity in the (111) crystal plane direction in the first direction / the (111) crystal plane direction peak in the second direction The strength value may be 0.2 to 0.95.

SiC 결정상에서 (111)면으로 형성된 결정은 단위면적당 원자개수가 다른 (200), (220), (311) 면에 비해 많아서 물리적인 플라즈마 입자들의 충격에 보다 잘견디게 되어 내플라즈마 특성이 우수한 SiC 구조체를 제조할 수 있다. 따라서 peak ratio에서 낮은 값을 가지며, 높은 (111) 회절 강도를 가지게 되면 상대적으로 우수한 내플라즈마 특성을 가지는 제품이 되어 플라즈마 에칭 장비 내에서 사용하는데 있어서 사용시간을 증가시킬 수 있다. In SiC crystal phase, the number of atoms per unit area is larger than that of the other (200), (220), (311) planes, so it is more resistant to the impact of physical plasma particles, and has excellent plasma resistance. Can be manufactured. Therefore, if it has a low value in the peak ratio and a high (111) diffraction intensity, it becomes a product having relatively excellent plasma resistance and can increase the usage time in use in the plasma etching equipment.

일 예에 따라 제조된 SiC 구조체의 경우, 제1 방향의 (111) 결정면 방향 피크 강도에 비해 제2 방향의 (111) 결정면 방향 피크 강도가 훨씬 높은 값이 구현될 수 있다. 이 때, SiC 부품을 제작할 때, 플라즈마가 조사되는 방향(주 식각 방향)을 상기 제2 방향에 가까운 방향으로 설계할 경우 제품의 수명을 향상시키는 효과를 기대할 수 있다.In the case of the SiC structure manufactured according to an example, a value in which the peak intensity in the (111) crystal plane direction in the second direction is much higher than that in the (111) crystal plane direction in the first direction may be realized. In this case, when manufacturing a SiC component, if the direction in which the plasma is irradiated (main etching direction) is designed in a direction close to the second direction, an effect of improving the life of the product can be expected.

도 14는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향 단면과 제2 방향 단면의 미세조직(결정립 구조) 사진과, 해당 미세조직이 플라즈마에 노출되었을 경우 식각되는 형태를 나타내는 SEM 사진이다.14 is a photograph of a microstructure (crystal grain structure) of a cross section in a first direction and a cross section in a second direction of a SiC structure according to an embodiment of the present invention, and an SEM photograph showing a form etched when the microstructure is exposed to plasma. to be.

도 14의 제1 방향 단면과 제2 방향 단면을 동일한 조건에서 플라즈마에 노출시켰다. 일 예로서, SiC 구조체가 엣지 링일 경우 제1 방향에 수직인 면인 1면은 엣지링의 상면일 수 있고, 제2방향의 수직면인 2면은 엣지리의 측면일 수 있다.제1 방향 단면은 엣지 링의 상면일 수 있고, 제2 방향 단면은 엣지 링의 측면일 수 있다. 도 13의 오른 쪽 표면 미세구조 SEM 사진을 통해 플라즈마에 노출되는 방향에 따라 식각의 정도가 크게 상이함을 확인할 수 있다.The cross section in the first direction and the cross section in the second direction of FIG. 14 were exposed to plasma under the same conditions. As an example, when the SiC structure is an edge ring, one surface perpendicular to the first direction may be an upper surface of the edge ring, and a second surface perpendicular to the second direction may be a side surface of the edge. The first direction cross-section is an edge ring. It may be an upper surface of the ring, and a cross section in the second direction may be a side surface of the edge ring. It can be seen from the SEM image of the microstructure of the right surface of FIG. 13 that the degree of etching is significantly different depending on the direction exposed to the plasma.

상기 효과를 고려해보면, (111) 회절강도가 높은 제2방향은 보다 우수한 내플라즈마 특성을 가지게 되는 것일 수 있다. 즉, 제2방향을 플라즈마가 맞는 면으로 설계하였을 경우, 우수한 내플라즈마 특성을 가지는 제품을 구현할 수 있다.Considering the above effect, the second direction having a high (111) diffraction intensity may have more excellent plasma resistance characteristics. That is, when the second direction is designed to be a surface where plasma fits, a product having excellent plasma resistance can be implemented.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서, 온도를 상온에서 1000 ℃ 까지 승온하며 열팽창율을 측정하고 열팽창계수를 확보하였다. TMA 장비(NETZSC사의 TMA402F1 Hyperion 기종)를 이용하여 측정하였다. 4 mm(가로) * 4 mm(세로) * 4 mm(높이) 크기로 제1 방향 및 제2 방향에 따라 3 개의 시편을 측정하였다. 온도는 상온으로부터 1000 도에 이르기까지 측정한 후, 500 도 내지 1000도에서 100도 단위의 측정 값들 만을 산출하고 분석하였다(저온 구간의 오차로 저온 구간은 제외하고 측정하였다.).As an example of the SiC structure proposed by the present invention, the temperature was raised from room temperature to 1000°C, the coefficient of thermal expansion was measured, and the coefficient of thermal expansion was secured. It was measured using a TMA equipment (NETZSC's TMA402F1 Hyperion model). Three specimens were measured along the first direction and the second direction with a size of 4 mm (width) * 4 mm (length) * 4 mm (height). The temperature was measured from room temperature to 1000 degrees, and then only measured values in units of 500 degrees to 1000 degrees were calculated and analyzed (measured excluding the low temperature section due to the error of the low temperature section).

도 12(a) 및 도 12(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 2(a)) 및 제2 방향(도 12(b))으로 열팽창률 분석(후술됨)을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.12(a) and 12(b) are analysis of thermal expansion coefficient in a first direction (FIG. 2(a)) and a second direction (FIG. 12(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. It is a figure showing a schematic method of carrying out (to be described later).

플라즈마 챔버 내에서 이용되는 SiC 구조체에서 특정 방향의 열팽창계수는 정밀한 식각량을 결정하는데 대단히 중요한 요소일 수 있다. 플라즈마 챔버 내부는 공정 중에 대단히 고온으로 온도가 증가하게 된다. 이 때, 제1 방향의 열팽창계수가 제2 방향의 열팽창계수에 비해 상대적으로 클 경우에는, 최초 해당 부품의 높이를 고려하여 정밀하게 세팅해 놓은 챔버 내 플라즈마 식각 대상체(웨이퍼 등)의 높이에 변동이 생길 수 있다. 이로 인해 플라즈마 소스로 부터의 거리가 변경되어 식각 대상체의 식각방향을 정밀하게 제어하지 못하고 결국 불량품이 생기는 문제가 생길 수 있다. 따라서 챔버의 설계와 적용되는 부품에 따라 일부 실시예의 경우에는 제1 방향의 열팽창계수가 낮을수록 바람직하고 불량품 생산을 줄이며 부품 수명이 더 길어지는 효과를 기대할 수 있다.In the SiC structure used in the plasma chamber, the coefficient of thermal expansion in a specific direction may be a very important factor in determining the precise etching amount. The temperature inside the plasma chamber is very high during the process, and the temperature increases. At this time, if the coefficient of thermal expansion in the first direction is relatively large compared to the coefficient of thermal expansion in the second direction, the height of the plasma etched object (wafer, etc.) in the chamber that is precisely set in consideration of the height of the first component is changed. This can happen. As a result, the distance from the plasma source is changed, so that the etching direction of the object to be etched cannot be precisely controlled, and thus defective products may be generated. Therefore, depending on the design of the chamber and the components to be applied, in some embodiments, the lower the coefficient of thermal expansion in the first direction is, the more desirable, the production of defective products is reduced, and the life of the parts can be expected to be longer.

하기 표 9는, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체의 일 예로서, 4 mm(가로) * 4 mm(세로) * 4 mm(두께) 크기로 제작된 두 개의 시편에 대하여 제1 방향과 제2 방향에서 열팽창율 분석을 수행한 결과 값이다.Table 9 below is an example of the SiC structure of the present invention, as described above, for two specimens manufactured in 4 mm (horizontal) * 4 mm (length) * 4 mm (thickness) size. This is the result of performing the thermal expansion coefficient analysis in 2 directions.

[표 9] 열팽창율 분석[Table 9] Analysis of thermal expansion coefficient

Figure 112019064016326-pat00011
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일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수는 4.0 * 10-6 /℃ 내지 4.6 * 10-6 /℃이고, 상기 제2 방향의 열팽창계수는 4.7 * 10-6 /℃ 내지 5.4 * 10-6 /℃ 인 것일 수 있다. According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction is 4.0 * 10 -6 / ℃ to 4.6 * 10 -6 / ℃, and the coefficient of thermal expansion in the second direction is 4.7 * 10 -6 / ℃ to 5.4 * 10 It may be -6 /℃.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction may be less than 1.0.

상술한 것과 같이 제1방향의 열팽창계수 값이 제 2방향의 열팽창계수 값보다 상대적으로 작도록 설계함으로써, 정밀한 식각에 이용가능한 부품으로 제조될 수 있다.As described above, by designing such that the value of the coefficient of thermal expansion in the first direction is relatively smaller than the value of the coefficient of thermal expansion in the second direction, it can be manufactured as a component usable for precise etching.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 0.7 이상 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction may be 0.7 or more and less than 1.0.

도 13(a) 및 도 13(b)는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체에 있어서 제1 방향(도 13(a)) 및 제2 방향(도 13(b))으로 열전도도 분석을 실시하는 개략적인 방법이 도시되어 있는 그림이다.13(a) and 13(b) show thermal conductivity analysis in a first direction (FIG. 13(a)) and a second direction (FIG. 13(b)) in the SiC structure according to an embodiment of the present invention. A schematic diagram of how to perform is shown.

본 발명에서 제안하는 SiC 구조체의 일 예로서, 4 mm(가로) x 4 mm(세로) x 1 mm(두께) 크기로 시편을 2개 준비하여 제1 방향 및 제2 방향에서 열전도도를 측정하였다. NETZSCH사의 LFA 447 NanoFlash 장비를 이용하여 레이저 방식의 측정방식에 따라 열전도도 분석을 진행하였다. 방향에 따라 열전도도를 측정하기 위해 제1방향의 측정 시 제1면(제1 방향에 수직한 면)에 측정기를 접촉하고 반대편에 레이저를 주사하여 제1방향의 열전도도를 측정하였다. 제2방향의 측정 또한 동일한 방식으로 열확산도를 측정하였다. 이러한 열확산도(mm2/s))와 비열(Cp), 밀도를 각각 0.67J/g/K, 3.21g/cm3값을 기준으로 다음의 계산식으로 계산하여 열전도도를 측정하였다.As an example of the SiC structure proposed by the present invention, two specimens were prepared in a size of 4 mm (width) x 4 mm (length) x 1 mm (thickness), and thermal conductivity was measured in the first direction and the second direction. . The thermal conductivity analysis was conducted according to the laser method using the LFA 447 NanoFlash equipment of NETZSCH. In order to measure the thermal conductivity according to the direction, when measuring in the first direction, the measuring device was contacted to the first surface (a surface perpendicular to the first direction) and a laser was scanned on the opposite side to measure the thermal conductivity in the first direction. Thermal diffusivity was also measured in the same way as the measurement in the second direction. Thermal conductivity was measured by calculating the thermal diffusivity (mm 2 /s)), specific heat (Cp), and density based on the values of 0.67 J/g/K and 3.21 g/cm 3 , respectively, by the following calculation formula.

열전도도[W/mK] = 열환산도(mm2/s) * 비열(J/g/K) * 밀도(g/cm3)Thermal conductivity [W/mK] = Thermal conversion (mm 2 /s) * Specific heat (J/g/K) * Density (g/cm 3 )

하기 표 10은, 상술한 것과 같이 본 발명의 SiC 구조체의 일 예로서, 8 EA 시편에 대하여 제1 방향과 제2 방향에서 열전도도 분석을 수행한 결과 값이다.Table 10 below, as an example of the SiC structure of the present invention, as described above, is a result of performing thermal conductivity analysis in the first direction and the second direction for an 8 EA specimen.

[표 10] 열전도도 분석[Table 10] Thermal conductivity analysis

Figure 112019064016326-pat00012
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일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도는 215 W/mk 내지 260 W/mk 이고, 상기 제2 방향의 열전도도는 280 W/mk 내지 350 W/mk 인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction may be 215 W/mk to 260 W/mk, and the thermal conductivity in the second direction may be 280 W/mk to 350 W/mk.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction may be less than 1.0.

일 실시예에 따르면, 상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 0.65 내지 1.0 미만인 것일 수 있다.According to an embodiment, the thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction may be between 0.65 and less than 1.0.

플라즈마 챔버 내부는 공정 중에 대단히 고온으로 온도가 증가하게 된다. 플라즈마 챔버 내에서 이용되는 SiC 구조체에서 특정 방향의 열전도도 값은 설비 내의 냉각가스 배치와도 관계가 있을 수 있다. 이 때, SiC 구조체는 지지부(정전척을 비롯한 하부 지지체 또는 서셉터나 상부 전극판을 지지하는 상부 지지체)에 수직 방향으로 얹어지거나 장착되어 사용될 수 있는데, 이 때, 챔버의 구조에 따라 일부 지지부에는 냉각수단(냉각가스 통로 등의 설비)을 구비할 수 있다.The temperature inside the plasma chamber is very high during the process, and the temperature increases. In the SiC structure used in the plasma chamber, the value of the thermal conductivity in a specific direction may be related to the arrangement of the cooling gas in the facility. At this time, the SiC structure may be mounted or mounted in a vertical direction on the support (lower support including electrostatic chuck or upper support that supports susceptor or upper electrode plate). Cooling means (equipment such as a cooling gas passage) can be provided.

이 경우, 챔버 내 냉각수단의 구조를 고려할 때, 제1 방향의 열 전도도가 낮을수록 SiC 구조체의 높이 방향으로의 열 전달이 쉽게 되지 않게 되어 wafer의 온도 균일성을 확보할 수 있어 제품의 생산성을 높일 수 있다. In this case, when considering the structure of the cooling means in the chamber, the lower the thermal conductivity in the first direction, the more difficult the heat transfer to the height direction of the SiC structure, and thus the temperature uniformity of the wafer can be secured, thereby increasing the productivity of the product. You can increase it.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1 면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고, 상기 SiC 구조체는 제1면(일 예에 따르면 구조체의 하부 면)의 적어도 일부가 지지부와 접촉하는 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and is perpendicular to the first surface, and is perpendicular to the second direction. A second surface extending in a direction may be included, and in the SiC structure, at least a part of the first surface (according to an example, a lower surface of the structure) may be in contact with the support part.

일 실시예에 따르면, 상기 SiC구조체는, 엣지 링, 서셉터 및 샤워헤드 중 하나인 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure may be one of an edge ring, a susceptor, and a shower head.

본 발명에 의한 SiC 구조체는, 본 발명의 기술 분야에서 적용되는 방법으로 제조될 수 있고, 예를 들어, CVD를 이용하여 형성되며, Si 소스 가스, C 소스 가스, 및 수소, 질소, 헬륨, 아르곤 등과 같은 통상적인 운반가스 등을 적용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, 상기 CVD는, 본 발명의 기술 분야에 적용되는 공정 조건으로 수행될 수 있으며, 예를 들어, SiC 소재는, 본 발명의 기술 분야에서 이용되는 증착 장치를 이용하여 제조될 수 있다. The SiC structure according to the present invention may be manufactured by a method applied in the technical field of the present invention, and is formed using, for example, CVD, and a Si source gas, a C source gas, and hydrogen, nitrogen, helium, and argon It may be formed by applying a conventional carrier gas, such as. For example, the CVD may be performed under process conditions applied to the technical field of the present invention. For example, a SiC material may be manufactured using a vapor deposition apparatus used in the technical field of the present invention.

일 예로서, 본 발명의 SiC 구조체는, CVD 증착 챔버에서, Si 소스 가스와 C 소스 가스가 개별 및/또는 동시적으로 분사되는 도입구를 통해 타겟에 분사되는 것일 수 있고, 이 때, 하나 이상의 도입구에서 상기 Si 소스 가스와 C 소스 가스가 분사되도록 설계할 수 있다.As an example, the SiC structure of the present invention may be one that is injected to the target through an inlet through which the Si source gas and the C source gas are individually and/or simultaneously injected in a CVD deposition chamber, and in this case, at least one The Si source gas and C source gas may be designed to be injected at the inlet port.

일 예로서, SiC 구조체는, Si 및 C 이외에도 추가적인 도펀트를 포함하여 제조될 수도 있다. 이 때에도, 본 발명의 기술 분야에서 적용되는 방법으로 제조될 수 있고, 예를 들어, CVD를 이용하여 형성되며, Si 소스 가스, C 소스 가스, 및 수소, 질소, 헬륨, 아르곤 등과 같은 통상적인 운반가스 등을 적용하여 형성될 수 있다. 예를 들어, SiC 의 증착 시 성장 속도를 조절하여 SiC 코팅막의 우선성장 결정방향을 변경하여 회절 강도비(I)를 변화시킬 수 있다. 성장 속도 조절에 의해서 주성장 결정방향과 결정립 크기를 조절할 수 있다. 성장 속도의 조절은 분사 속도의 제어를 통하여도 가능하고, 노 내 온도를 조절함으로써도 가능하다. 한편으로는 성장 속도를 낮추면 보다 조밀한 SiC 층이 생성되므로, 강도 및 경도가 증가하는 효과를 기대할 수 있다.As an example, the SiC structure may be prepared by including an additional dopant in addition to Si and C. Even at this time, it can be manufactured by a method applied in the technical field of the present invention, and is formed using, for example, CVD, and is a Si source gas, a C source gas, and a conventional transport such as hydrogen, nitrogen, helium, argon, etc. It can be formed by applying gas or the like. For example, during the deposition of SiC, the diffraction intensity ratio (I) may be changed by controlling the growth rate to change the crystal direction of preferential growth of the SiC coating film. The main growth crystal direction and grain size can be controlled by controlling the growth rate. The growth rate can be controlled by controlling the spraying rate or by controlling the temperature in the furnace. On the one hand, when the growth rate is lowered, a more dense SiC layer is generated, and thus an effect of increasing strength and hardness can be expected.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 CVD 방식으로 형성된 SiC구조체는, SiC를 포함하는 엣지 링, 서셉터 및 샤워헤드와 같이 내플라즈마 특성이 요구되는 반도체 제조장치의 부품일 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the SiC structure formed by the CVD method may be a component of a semiconductor manufacturing apparatus requiring plasma resistance, such as an edge ring including SiC, a susceptor, and a showerhead.

도 15는, 본 발명의 일 실시예에 따르는 SiC 구조체의 제1 방향 플라즈마 식각량과 제2 방향 플라즈마 식각량을 분석한 그래프이다.15 is a graph showing an amount of plasma etching in a first direction and an amount of plasma etching in a second direction of a SiC structure according to an embodiment of the present invention.

도 15를 통해 본 발명에서 제안하는 SiC 구조체를 사용할 경우 제1면과 제2면에서의 플라즈마에 대한 식각은 2면 대비 1면이 14%내외 개선되는 것으로 확인되었다. 이는 결정성 측면에서 (111) 우선성장이 보다 1면이 2면에 비해 우수하기 때문이며, 따라서 엣지링 등의 SiC 구조체 제작 시 플라즈마를 주로 맞는 면을 제1면으로 하여 제작하는 것이 제품 사용에 수명에 유리할 수 있다Referring to FIG. 15, it was confirmed that when the SiC structure proposed in the present invention is used, the etching of plasma on the first and second surfaces is improved by about 14% on one surface compared to the second surface. This is because (111) preferential growth is better than the second side in terms of crystallinity. Therefore, when manufacturing SiC structures such as edge ring, it is recommended that the surface that mainly fits plasma is used as the first side. Can be beneficial to

일 실시예에 따르면, 상기 SiC 구조체는 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고, 제1면의 면적의 총 합이 제2면의 면적의 총 합보다 넓은 것일 수 있다.According to an embodiment, the SiC structure includes a first surface developed in a direction perpendicular to the first direction, and a second surface developed in a direction perpendicular to the second direction, and the total area of the first surface The sum may be greater than the total sum of the areas of the second surface.

상기 SiC 구조체는 일 예로서, 제1 면의 면적의 총 합이 제2 면의 면적의 총 합의 두 배 이상인 엣지 링인 것일 수 있다.As an example, the SiC structure may be an edge ring in which the total sum of the areas of the first surface is twice or more of the total area of the second surface.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described by the limited embodiments and drawings, various modifications and variations are possible from the above description by those of ordinary skill in the art. For example, even if the described techniques are performed in a different order from the described method, and/or the described components are combined or combined in a form different from the described method, or are replaced or substituted by other components or equivalents. Appropriate results can be achieved.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and claims and equivalents fall within the scope of the claims to be described later.

100: 엣지 링
2: 상부 전극판
3: 가대
4: 웨이퍼
5: 관통 세공
6: 고주파 전원
7: 에칭 가스
8: 플라즈마 챔버
9: 정전 척
10: 플라즈마
11: 확산 부재
12: 실드 링
13: 절연체
14: 유전체100: edge ring
2: upper electrode plate
3: trestle
4: wafer
5: piercing work
6: high frequency power
7: etching gas
8: plasma chamber
9: electrostatic chuck
10: plasma
11: diffuse absence
12: shield ring
13: insulator
14: dielectric

Claims (30)

챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 결정립은 상기 제1 방향을 기준으로 -45° 내지 +45° 방향으로 최대 길이를 가지도록 배열된 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The crystal grains are arranged to have a maximum length in a direction of -45° to +45° with respect to the first direction,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 결정립의 제1 방향 길이 / 상기 결정립의 제2 방향 길이 값(종횡비)은, 1.2 내지 20인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The length of the crystal grains in the first direction / the length of the grains in the second direction (aspect ratio) is 1.2 to 20,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 SiC 구조체는,
상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과,
상기 제1면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하는 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The SiC structure,
A first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction,
It includes a second surface perpendicular to the first surface and developed in a direction perpendicular to the second direction,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 제1 방향의 평균 강도 / 상기 제2 방향의 평균 강도 값은 0.55 내지 0.9 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The average strength in the first direction / the average strength in the second direction is 0.55 to 0.9,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 제1 방향의 경도 / 상기 제2 방향의 경도 값은, 0.85 내지 1.15 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The hardness in the first direction / the hardness in the second direction is 0.85 to 1.15,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서,
[(200+220+311)]/(111) 값의, 제1 방향에 대한 값 / 제2 방향에 대한 값은 1.0 내지 4.4 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
For the peak intensity in the crystal plane direction for the first direction and the second direction of the XRD analysis,
The value of [(200+220+311)]/(111) value for the first direction / value for the second direction is 1.0 to 4.4,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서,
상기 제1 방향의 (111) 결정 면 방향 피크강도 / 상기 제2 방향의 (111) 결정면 방향 피크강도 값은, 0.2 내지 0.95인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
For the peak intensity in the first direction and the second direction of the XRD analysis,
The peak intensity in the (111) crystal plane direction in the first direction / the peak intensity in the (111) crystal plane direction in the second direction is 0.2 to 0.95,
SiC structure formed by CVD method.
챔버 내부에서 플라즈마에 노출되도록 이용되는 SiC 구조체에 있어서,
플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수직한 방향을 제1 방향으로, 플라즈마에 최대로 노출되는 면에 수평한 방향을 제2 방향으로 정의할 때,
상기 제1 방향 길이가 상기 제2 방향 길이보다 길게 형성된 결정립 구조를 포함하고,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.05 내지 3.3이고,
상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 1.0 미만인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
In the SiC structure used to be exposed to plasma inside the chamber,
When defining a direction perpendicular to the surface most exposed to the plasma as the first direction and a direction horizontal to the surface most exposed to the plasma as the second direction,
Including a crystal grain structure in which the length in the first direction is longer than the length in the second direction,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 0.05 to 3.3,
The coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction is less than 1.0,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 평균 강도는 133 Mpa 내지 200 Mpa 이고, 상기 제2 방향의 평균 강도는 225 Mpa 내지 260 Mpa 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The average strength in the first direction is 133 Mpa to 200 Mpa, and the average strength in the second direction is 225 Mpa to 260 Mpa,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율은 3.0 * 10-3 Ωcm 내지 25 Ωcm이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4 * 10-3 Ωcm 내지 40 Ωcm인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction is 3.0 * 10 -3 Ωcm to 25 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 1.4 * 10 -3 Ωcm to 40 Ωcm,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율은 10 Ωcm 내지 20 Ωcm이고, 상기 제2 방향의 저항율은 21 Ωcm 내지 40 Ωcm인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction is 10 Ωcm to 20 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 21 Ωcm to 40 Ωcm,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 0.25 내지 0.95인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction / the resistivity in the second direction is 0.25 to 0.95,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율은 0.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm이고, 상기 제2 방향의 저항율은 2.5 Ωcm 내지 25 Ωcm인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction is 0.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 2.5 Ωcm to 25 Ωcm,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율은 1.8 Ωcm 내지 3.0 Ωcm이고, 상기 제2 방향의 저항율은 0.8 Ωcm 내지 1.7 Ωcm인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction is 1.8 Ωcm to 3.0 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 0.8 Ωcm to 1.7 Ωcm,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.15 내지 3.2 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is 1.15 to 3.2,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율은 3.0*10-3 Ωcm 내지 5.0*10-3 Ωcm이고, 상기 제2 방향의 저항율은 1.4*10-3 Ωcm 내지 3.0*10-3 Ωcm인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity in the first direction is 3.0*10 -3 Ωcm to 5.0*10 -3 Ωcm, and the resistivity in the second direction is 1.4*10 -3 Ωcm to 3.0*10 -3 Ωcm,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 저항율 / 상기 제2 방향의 저항율 값은, 1.1 내지 3.3 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The resistivity value in the first direction / the resistivity value in the second direction is from 1.1 to 3.3,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 SiC 구조체의 경도는 방향과 무관하게, 2800 kgf/mm2 내지 3300 kgf/mm2인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The hardness of the SiC structure is 2800 kg f /mm 2 to 3300 kg f /mm 2 regardless of the direction,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 결정면 방향 피크강도에 대해서,
[(200+220+311)]/(111) 값은, 각각, 상기 제1 방향으로 0.7 내지 2.1 이고, 상기 제2 방향으로 0.4 내지 0.75 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
For the peak intensity in the crystal plane direction for the first direction and the second direction of the XRD analysis,
[(200+220+311)]/(111) values are, respectively, 0.7 to 2.1 in the first direction and 0.4 to 0.75 in the second direction,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
XRD 분석의 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 대한 피크강도에 대해서,
(111) 결정면 방향 피크강도는, 상기 제1 방향으로는 3200 내지 10000 이고, 상기 제2 방향으로는 10500 내지 17500 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
For the peak intensity in the first direction and the second direction of the XRD analysis,
(111) The peak intensity in the crystal plane direction is 3200 to 10000 in the first direction, and 10500 to 17500 in the second direction,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 열팽창계수는 4.0 * 10-6/℃ 내지 4.6 * 10-6/℃이고, 상기 제2 방향의 열팽창계수는 4.7 * 10-6/℃ 내지 5.4 * 10-6/℃ 인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The coefficient of thermal expansion in the first direction is 4.0 * 10 -6 /℃ to 4.6 * 10 -6 /℃, and the coefficient of thermal expansion in the second direction is 4.7 * 10 -6 /℃ to 5.4 * 10 -6 /℃ sign,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 열팽창계수 / 상기 제2 방향의 열팽창계수 값은 0.7 이상 1.0 미만인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The coefficient of thermal expansion in the first direction / the coefficient of thermal expansion in the second direction is 0.7 or more and less than 1.0,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 열전도도는 215 W/mk 내지 260 W/mk이고,
상기 제2 방향의 열전도도는 280 W/mk 내지 350 W/mk인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The thermal conductivity in the first direction is 215 W/mk to 260 W/mk,
The thermal conductivity in the second direction is 280 W/mk to 350 W/mk,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 1.0 미만인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction is less than 1.0,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 방향의 열전도도 / 상기 제2 방향의 열전도도 값은 0.65 내지 1.0 미만인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The thermal conductivity in the first direction / the thermal conductivity in the second direction is 0.65 to less than 1.0,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고,
상기 SiC 구조체는 제1면의 적어도 일부가 지지부와 접촉하는 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and a second surface that is perpendicular to the first surface and developed in a direction perpendicular to the second direction. Including cotton,
The SiC structure is that at least a portion of the first surface is in contact with the support,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 SiC구조체는, 엣지 링, 서셉터 및 샤워헤드 중 하나인 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.
The method according to any one of claims 1 to 8,
The SiC structure is one of an edge ring, a susceptor, and a shower head,
SiC structure formed by CVD method.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 SiC 구조체는, 상기 플라즈마에 최대로 노출되고, 상기 제1 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제1면과, 상기 제1면과 수직하고, 상기 제2 방향에 수직한 방향으로 전개되는 제2면을 포함하고,
제1면의 면적의 총 합이 제2면의 면적의 총 합보다 넓은 것인,
CVD 방식으로 형성된 SiC구조체.The method according to any one of claims 1 to 8,
The SiC structure includes a first surface that is maximally exposed to the plasma and developed in a direction perpendicular to the first direction, and a second surface that is perpendicular to the first surface and developed in a direction perpendicular to the second direction. Including cotton,
The total sum of the areas of the first side is greater than the total sum of the areas of the second side,
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WO2017038555A1 (en) * 2015-09-03 2017-03-09 住友大阪セメント株式会社 Focus ring and method for producing focus ring
WO2018151294A1 (en) * 2017-02-20 2018-08-23 京セラ株式会社 Silicon carbide member and member for semiconductor manufacturing device

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