KR102127006B1 - Monomer compounds comprising uracil group, Organic layers comprising the cross-linked of the monomer compounds, and Organic electronic device comprising the organic layers - Google Patents

Monomer compounds comprising uracil group, Organic layers comprising the cross-linked of the monomer compounds, and Organic electronic device comprising the organic layers Download PDF

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Abstract

본 발명에서는 하기 화학식 I로 표시되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 유기전자소자의 유기물층 소재로 제공되며, 상기 화합물은 상온에서의 광경화에 의해 짧은 시간에 유기물층으로 형성될 수 있다:
[화학식 I]
Ar-(R1-R2-Py)n
상기 화학식 I에서,
n은 2 내지 10이고,
Ar은 n차 연결기를 갖는 치환 또는 비치환된 C6-C60아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C3-C60헤테로아릴기이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로, 단순결합, -O-, 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알콕실렌기, 치환 또는 비치환된 아미드기, 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고,
Py은 피리미딘계 작용기로부터 유래된 1가 연결기이다.
In the present invention, a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group represented by the following formula (I) is provided as an organic material layer material of an organic electronic device, and the compound can be formed into an organic material layer in a short time by photocuring at room temperature:
[Formula I]
Ar-(R 1 -R 2 -Py)n
In the formula (I),
n is 2 to 10,
Ar is a substituted or unsubstituted C 6 -C 60 aryl group having an n-order linking group or a substituted or unsubstituted C 3 -C 60 heteroaryl group,
R 1 and R 2 are each independently a simple bond, -O-, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 arylene group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkoxy group, a substituted or unsubstituted amide group, or a substituted or unsubstituted amine group,
Py is a monovalent linking group derived from a pyrimidine-based functional group.

Description

피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물, 상기 화합물의 광가교물을 포함한 유기물층 및 이를 포함하는 유기전자소자{Monomer compounds comprising uracil group, Organic layers comprising the cross-linked of the monomer compounds, and Organic electronic device comprising the organic layers}A monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group, an organic compound layer including the photo-crosslinked product of the compound, and an organic electronic device comprising the same {Monomer compounds comprising uracil group, Organic layers comprising the cross-linked of the monomer compounds, and Organic electronic device comprising the organic layers}

본 발명은 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물, 상기 화합물의 광가교물을 포함한 유기물층 및 이를 포함하는 유기전자소자에 관한 것이다.The present invention relates to a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group, an organic material layer containing a photocrosslinked product of the compound, and an organic electronic device including the same.

일반적으로, 액정표시장치(LCD), 유기 EL 디스플레이 등의 ITO 전극 형성용을 위한 레지스트 재료나 층간 절연막, 회로 보호막, 액정 디스플레이의 컬러 필터 제조용 착색 안료 분산 레지스트, 유기 EL 디스플레이용 격벽재 등의 영구 막형성 재료로서 광경화성 수지 조성물이 폭넓게 사용되고 있다. 이러한 수지 조성물은 종래 증착 방식으로 유기전자소자의 일 예인 유기발광소자(Organic Light-Emitting Diode, OLED) 에 적용되었나, 이러한 증착 방식에 의해서는 대형 디스플레이의 제작에 어려움이 있고 고가의 장비가 사용되는 문제점이 있다. In general, permanent materials such as resist materials for forming ITO electrodes, such as liquid crystal displays (LCDs), organic EL displays, interlayer insulating films, circuit protection films, colored pigment dispersion resists for color filter production of liquid crystal displays, and bulkheads for organic EL displays A photocurable resin composition is widely used as a film-forming material. Such a resin composition was applied to an organic light-emitting diode (OLED), which is an example of an organic electronic device by a conventional deposition method, but it is difficult to manufacture a large display by this deposition method and expensive equipment is used. There is a problem.

이에, 최근에는 대형 디스플레이의 제작을 위해 잉크젯과 같은 용액공정을 사용하는 방안이 대두되고 있다. 그러나. 용액 공정을 이용한 OLED 디스플레이의 경우에는 다층 박막의 형성이 어렵고, 이로 인하여 소자의 효율이 낮은 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 에폭시, 아크릴레이트 등 경화가 가능한 작용기를 가진 물질을 합성하여 유기전자소자의 소재로 사용하고자 하는 연구가 진행되고 있으나, 이러한 작용기를 가진 물질은 경화에 고온을 요구하거나 또는 경화과정에서 부산물(byproduct)을 형성하는 문제점을 갖고 있다.Accordingly, recently, a method of using a solution process such as inkjet has emerged for the production of a large display. But. In the case of an OLED display using a solution process, it is difficult to form a multi-layer thin film, and thus there is a problem that the efficiency of the device is low. In order to solve this problem, studies have been conducted to synthesize materials having functional groups capable of curing such as epoxy and acrylate and use them as materials for organic electronic devices, but materials having such functional groups require high temperature for curing or It has a problem of forming a byproduct in the curing process.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로, 상온에서 광경화에 의해 고분자 필름을 형성할 수 있는 화합물 및 상기 화합물의 광경화물을 포함한 유기층을 제공하는 것을 일 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and an object thereof is to provide an organic layer containing a compound capable of forming a polymer film by photocuring at room temperature and a photocured product of the compound.

본 발명은 또한 상기 유기물층을 포함하는 유기전자소자를 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide an organic electronic device including the organic material layer.

본 발명의 제1 양태에 따르면, 하기 화학식 I로 표시되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다:According to the first aspect of the present invention, there is provided a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group represented by the following formula (I):

[화학식 I][Formula I]

Ar-(R1-R2-Py)nAr-(R 1 -R 2 -Py)n

상기 화학식 I에서, In the formula (I),

n은 2 내지 10이고, n is 2 to 10,

Ar은 n차 연결기를 갖는 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴기이고, Ar is a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl group having an n-order linking group or a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroaryl group,

R1 및 R2는 각각 독립적으로, -O-, 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알콕실렌기, 치환 또는 비치환된 아미드기, 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고, R 1 and R 2 are each independently -O-, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 arylene group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkoxy group, a substituted or unsubstituted amide group, or a substituted or unsubstituted amine group,

상기 치환은 상기 아릴렌기, 헤테로아릴렌기, 알킬렌기, 알콕실렌기, 아미드기 또는 아민기의 탄소원자에 결합된 1개 이상의 수소원자가 C6-C30아릴, C3-C30헤테로아릴 또는 C1-C10 알킬기로 치환되어 이루어질 수 있으며,The substitution is C 6 -C 30 aryl, C 3 -C 30 heteroaryl or C1 at least one hydrogen atom bonded to a carbon atom of the arylene group, heteroarylene group, alkylene group, alkoxyl group, amide group or amine group. -C10 may be substituted with an alkyl group,

Py은 피리미딘계 작용기로부터 유래된 1가 연결기이다.Py is a monovalent linking group derived from a pyrimidine-based functional group.

본 발명의 제2 양태에 따르면, 상기 제1 양태에서 상기 피리미딘계 작용기가 피리미딘기, 우라실기 또는 티민기인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다.According to the second aspect of the present invention, in the first aspect, there is provided a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group wherein the pyrimidine-based functional group is a pyrimidine group, a uracil group or a thymine group.

본 발명의 제3 양태에 따르면, 상기 제1 양태 또는 제2 양태에서 상기 n은 바람직하게 2 내지 6인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다.According to the third aspect of the present invention, in the first aspect or the second aspect, a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group wherein n is preferably 2 to 6 is provided.

본 발명의 제4 양태에 따르면, 상기 제1 양태 내지 제3 양태 중 어느 하나의 양태에서 상기 Ar은 벤젠, 트리페닐아민, 트리아졸, 카바졸, 트리페닐벤젠, 테트라페닐실란, 펜타렌, 인덴, 나프틸렌, 플루오렌, 페나렌(phenarene), 아줄렌(azulene), 헵타렌(heptalene), 인다센(indacene), 아세나프틸렌(acenaphthylene), 플루오렌(fluorene), 페나렌(phenalene), 페난트렌(phenanthrene), 페릴렌(perylene), 펜타펜(pentaphene), 헥사센(hexacene), 티오펜(thiophene), 피롤(pyrrole), 피라졸(pyrazole), 피라졸리딘(pyrazolidine), 이미다졸(imidazole), 이미다졸리딘(imidazoline), 피라진(pyrazine), 피리미딘(pyrimidine), 인돌(indolye), 벤즈이미다졸(benzimidazole) 또는 퀴놀린(quinoline)으로부터 유래되는 연결기인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다.According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, Ar is benzene, triphenylamine, triazole, carbazole, triphenylbenzene, tetraphenylsilane, pentarene, indene , Naphthylene, fluorene, phenarene, azulene, heptalene, indacene, acenaphthylene, fluorene, pheneneene, Phenanthrene, perylene, pentaphene, hexacene, thiophene, pyrrole, pyrazole, pyrazolidine, imidazole A group containing a pyrimidine-based functional group that is a linking group derived from (imidazole), imidazoline, pyrazine, pyrimidine, indolye, benzimidazole, or quinoline Molecular compounds are provided.

본 발명의 제5 양태에 따르면, 상기 제1 양태 내지 제4 양태 중 어느 하나의 양태에서 상기 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 하기 화합물 1 내지 7 중 어느 하나인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다:According to the fifth aspect of the present invention, in the aspect of any one of the first to fourth aspects, the pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound is any of the following compounds 1 to 7: This is provided:

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018122553865-pat00001
Figure 112018122553865-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018122553865-pat00002
Figure 112018122553865-pat00002

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018122553865-pat00003
Figure 112018122553865-pat00003

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018122553865-pat00004
Figure 112018122553865-pat00004

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112018122553865-pat00005
Figure 112018122553865-pat00005

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112018122553865-pat00006
Figure 112018122553865-pat00006

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112018122553865-pat00007
Figure 112018122553865-pat00007

본 발명의 제5 양태에 따르면, 상기 제1 양태 내지 제4 양태중 어느 하나의 양태의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물을 포함하는 광경화 조성물이 제공된다.According to the fifth aspect of the present invention, there is provided a photocurable composition comprising a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group of any one of the first aspect to the fourth aspect.

본 발명의 제6 양태에 따르면, 제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 상기 제1 양태 내지 제4 양태 중 어느 하나의 양태의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물을 포함한 유기물층을 구비한 유기전자소자가 제공된다.According to a sixth aspect of the present invention, a first electrode; A second electrode; And an organic material layer including a photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine functional group according to any one of the first to fourth aspects between the first electrode and the second electrode.

본 발명의 제7 양태에 따르면, 상기 제6 양태에서 상기 유기물층이 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 정공 저지층, 전자 주입층, 전자 수송층, 또는 이들 중 2 이상의 층인 유기전자소자가 제공된다.According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect, an organic electronic device is provided in which the organic material layer is a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, an electron transport layer, or two or more of them.

본 발명의 제8 양태에 따르면, 제 1 기판과; 상기 제 1 기판에 위치하는 구동 박막트랜지스터와; 상기 제 1 기판에 위치하며 상기 구동 박막트랜지스터에 연결되는 발광다이오드로서, 상기 제1 양태 내지 제4 양태 중 어느 하나의 양태의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물을 적어도 하나의 유기물층에 포함하는 유기전자소자와; 상기 유기전자소자를 덮고 상기 제 1 기판과 합착되는 제 2 기판을 포함하는 표시 장치가 제공된다.According to an eighth aspect of the present invention, there is provided a first substrate; A driving thin film transistor positioned on the first substrate; A light-emitting diode located on the first substrate and connected to the driving thin film transistor, wherein the photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine functional group of any one of the first to fourth aspects is included in at least one organic layer An organic electronic device; A display device including a second substrate covering the organic electronic device and bonding to the first substrate is provided.

본 발명에 따른 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물을 포함하는 광경화성 조성물은 상온에서 짧은 시간에 경화되어 광경화되어 유기물층을 형성하는 이점을 갖는다.The photocurable composition comprising a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group according to the present invention has the advantage of being cured in a short time at room temperature and photocured to form an organic layer.

또한, 종래 고분자 화합물이 가교, 경화되는 경우에 벤조페논, AIBN, EDMAB와 같은 촉매가 사용된 것과 달리, 본 발명에 따른 광경화성 조성물은 촉매를 사용하지 않고 경화되기 때문에 경화후에 잔존한 촉매가 불순물로 작용할 가능성이 없거나 감소하게 된다. In addition, unlike conventional catalysts such as benzophenone, AIBN, and EDMAB, when the polymer compound is crosslinked and cured, the photocurable composition according to the present invention is cured without using a catalyst, so the catalyst remaining after curing is an impurity It is unlikely or will decrease.

또한, 종래 고분자 화합물이 가교, 경화되어 형성된 유기물층이 용매에 의해 스웰링되어 형태 안정성이 불량하였던 것과 달리, 본 발명에 따른 광경화성 조성물로부터 형성된 유기물층은 용매에 전혀 용해되지 않는 불용성이기 때문에, 다층 박막 및 정교한 패턴의 형성이 가능하게 되는 이점이 있다. In addition, unlike the conventional polymer compound crosslinked and cured, the organic layer formed by swelling with a solvent was poor in form stability, whereas the organic layer formed from the photocurable composition according to the present invention was insoluble in not being soluble in the solvent at all. And it is possible to form an elaborate pattern.

도 1a는 종래 피리미딘계 작용기를 함유한 고분자 화합물의 구조를 나타낸 것이고, 도 1b는 본 발명에 따른 피리미딘계 작용기를 함유한 단분자 화합물(좌측) 및 상기 화합물이 광경화에 의해 가교된 형태(우측)를 나타낸 것이다.
도 2는 실시예 9의 광경화성 조성물의 UV 스펙트럼을 경시적으로 나타낸 그래프이다.
도 3 내지 도 5 각각은 실시예 10 내지 12의 광경화성 조성물의 경화도를 경시적으로 나타낸 그래프이다.
도 6은 본 발명에 따라 제조된 실시예 13의 OLED 소자의 전압-전류 특성을 나타낸 그래프이다.
도 7은 본 발명에 따라 제조된 실시예 13의 OLED 소자의 전류 밀도-전류 효율 특성을 나타낸 그래프이다.
Figure 1a shows the structure of a polymer compound containing a conventional pyrimidine-based functional group, Figure 1b is a monomolecular compound containing the pyrimidine-based functional group according to the present invention (left) and the compound is crosslinked by photocuring (Right).
2 is a graph showing the UV spectrum of the photocurable composition of Example 9 over time.
3 to 5 are graphs showing the curing degree of the photocurable compositions of Examples 10 to 12 over time.
6 is a graph showing the voltage-current characteristics of the OLED device of Example 13 manufactured according to the present invention.
7 is a graph showing the current density-current efficiency characteristics of the OLED device of Example 13 manufactured according to the present invention.

본 명세서에서 사용된 모든 기술적 및 과학적 용어들은, 달리 정의되지 않는 한, 본 발명이 속하는 기술분야에서 숙련된 전문가에 의해서 통상적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적으로, 본 명세서에서 사용된 명명법은 본 기술분야에서 잘 알려져 있고 통상적으로 사용되는 것이다.All technical and scientific terms used in this specification, unless defined otherwise, have the same meaning as commonly understood by a person skilled in the art to which the present invention pertains. In general, the nomenclature used herein is well known and commonly used in the art.

본 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함" 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout this specification, when a part “includes” a certain component, it means that the component may further include other components, not to exclude other components, unless otherwise stated.

이하, 본 발명을 더욱 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따르면, 하기 화학식 I로 표시되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 제공된다:According to the present invention, a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group represented by the following formula (I) is provided:

[화학식 I][Formula I]

Ar-(R1-R2-Py)n Ar-(R 1 -R 2 -Py) n

상기 화학식 I에서, In the formula (I),

n은 2 내지 10이고, n is 2 to 10,

Ar은 n차 연결기를 갖는 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴기이고, Ar is a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aryl group having an n-order linking group or a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroaryl group,

R1 및 R2는 각각 독립적으로, -O-, 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알콕실렌기, 치환 또는 비치환된 아미드기, 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고, R 1 and R 2 are each independently -O-, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 arylene group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkoxy group, a substituted or unsubstituted amide group, or a substituted or unsubstituted amine group,

Py은 피리미딘계 작용기로부터 유래된 1가 연결기이다.Py is a monovalent linking group derived from a pyrimidine-based functional group.

상기 치환은 상기 아릴렌기, 헤테로아릴렌기, 알킬렌기, 알콕실렌기, 또는 아미드기의 탄소원자에 결합된 1개 이상의 수소원자가 C6-C30아릴, C3-C30헤테로아릴 또는 C1-C10 알킬기로 치환되어 이루어질 수 있으며, 아미드기 또는 아민기의 질소원자에 결합된 1개 이상의 수소원자가 C6-C30아릴, C3-C30헤테로아릴 또는 C1-C10 알킬기로 치환되어 이루어질 수 있으며, 또한, 상기 아릴렌기, 헤테로아릴렌기, 알킬렌기, 알콕실렌기, 아미드기의 탄소원자, 또는 아미드기 또는 아민기의 질소원자 중 적어도 1개 이상이 산소로 치환될 수 있다.The substitution is at least one hydrogen atom bonded to the carbon atom of the arylene group, heteroarylene group, alkylene group, alkoxyl group, or amide group is C 6 -C 30 aryl, C 3 -C 30 heteroaryl or C1-C10 It may be substituted with an alkyl group, one or more hydrogen atoms bonded to a nitrogen atom of an amide group or an amine group may be substituted with a C 6 -C 30 aryl, a C 3 -C 30 heteroaryl or a C1-C10 alkyl group, Further, at least one of the arylene group, heteroarylene group, alkylene group, alkoxyl group, carbon atom of the amide group, or nitrogen atom of the amide group or amine group may be substituted with oxygen.

또한, 상기 아릴렌기 또 헤테로아릴렌기는 단일 벤젠고리 구조(제1 구조), 또는 2개 이상의 벤젠고리가 서로 단순결합으로 연결된 구조(제2 구조), 융합된 구조(제3 구조), 질소 원자, 또는 규소 원자 등에 2 이상의 벤젠고리가 연결되어 있는 구조(제4 구조)일 수 있다. 또한, 상기 제1 내지 제4 구조 중 적어도 2 이상이 혼합되어 연결된 구조일 수도 있다.In addition, the arylene group or heteroarylene group is a single benzene ring structure (first structure), or a structure in which two or more benzene rings are connected to each other by a simple bond (second structure), fused structure (third structure), nitrogen atom Or, it may be a structure (fourth structure) in which two or more benzene rings are connected to a silicon atom. Also, at least two or more of the first to fourth structures may be mixed and connected.

상기에서, n은 바람직하게 2 내지 10이고, 더욱 바람직하게는 2 내지 6이다.In the above, n is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6.

상기에서 Ar은 벤젠, 트리페닐아민, 트리아졸, 카바졸, 트리페닐벤젠, 테트라페닐실란, 펜타렌, 인덴, 나프틸렌, 플루오렌, 페나렌(phenarene), 아줄렌(azulene), 헵타렌(heptalene), 인다센(indacene), 아세나프틸렌(acenaphthylene), 플루오렌(fluorene), 페나렌(phenalene), 페난트렌(phenanthrene), 페릴렌(perylene), 펜타펜(pentaphene), 헥사센(hexacene), 티오펜(thiophene), 피롤(pyrrole), 피라졸(pyrazole), 피라졸리딘(pyrazolidine), 이미다졸(imidazole), 이미다졸리딘(imidazoline), 피라진(pyrazine), 피리미딘(pyrimidine), 인돌(indolye), 벤즈이미다졸(benzimidazole) 또는 퀴놀린(quinoline)으로부터 유래되는 연결기이다.Wherein Ar is benzene, triphenylamine, triazole, carbazole, triphenylbenzene, tetraphenylsilane, pentarene, indene, naphthylene, fluorene, phenarene, azulene, heptane ( heptalene, indacene, acenaphthylene, fluorene, phenalene, phenanthrene, perylene, pentaphene, hexacene ), thiophene, pyrrole, pyrazole, pyrazolidine, imidazole, imidazoline, pyrazine, pyrimidine , It is a linking group derived from indolye, benzimidazole or quinoline.

더욱 바람직하게, 상기에서 Ar은 벤젠, 트리페닐아민, 트리아졸, 카바졸, 트리페닐벤젠 또는 테트라페닐실란이다.More preferably, Ar is benzene, triphenylamine, triazole, carbazole, triphenylbenzene or tetraphenylsilane.

상기에서, R1 또는 R2는 각각 독립적으로 페닐일 수 있다. In the above, R 1 or R 2 may be each independently phenyl.

Py은 피리미딘기, 우라실기 또는 티민기이다.Py is a pyrimidine group, uracil group or thymine group.

상기에서, 헤테로원자는 O 또는 N일 수 있다.In the above, the hetero atom may be O or N.

본 발명의 일 양태에서, 상기 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 비제한적인 예에는 하기 화합물 1 내지 7 중 어느 하나인 우라실기 함유 단분자 화합물이 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In one embodiment of the present invention, a non-limiting example of the pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound includes a uracil group-containing monomolecular compound of any one of the following compounds 1 to 7, but is not limited thereto.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112018122553865-pat00008
Figure 112018122553865-pat00008

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112018122553865-pat00009
Figure 112018122553865-pat00009

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112018122553865-pat00010
Figure 112018122553865-pat00010

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112018122553865-pat00011
Figure 112018122553865-pat00011

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112018122553865-pat00012
Figure 112018122553865-pat00012

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112018122553865-pat00013
Figure 112018122553865-pat00013

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112018122553865-pat00014
Figure 112018122553865-pat00014

상기 화학식 I의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물은 유기물층 형성을 위한 광경화성 조성물에 포함된다. The pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound of Formula I is included in the photocurable composition for forming an organic layer.

상기 광경화성 조성물에 사용되는 용매로는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물을 용해시킬 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적인 예로서, 클로로벤젠, N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아마이드, 디메틸술폭사이드, N,N-디에틸아세트아마이드, 감마-부티로락톤, 감마-발레로락톤, m-크레졸, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르, 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르, 프로필렌글리콜 모노부틸에테르 아세테이트, 프로필렌글리콜 디메틸에테르, 프로필렌글리콜 디에틸에테르, 프로필렌글리콜 디프로필틸에테르, 프로필렌글리콜 디부틸에테르, 젖산에틸, 젖산부틸, 시클로헥사논 및 시클로펜타논으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다.The solvent used in the photocurable composition is not particularly limited as long as it can dissolve the pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound. As specific examples, chlorobenzene, N-methyl-2-pyrrolidone, N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, N,N-diethylacetamide, gamma-butyro Lactone, gamma-valerolactone, m-cresol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate , Propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether acetate, Propylene glycol monopropyl ether, Propylene glycol monopropyl ether acetate, Propylene glycol monobutyl ether, Propylene glycol monobutyl Ether acetate, propylene glycol dimethyl ether, propylene glycol diethyl ether, propylene glycol dipropyl tyl ether, propylene glycol dibutyl ether, ethyl lactate, butyl lactate, cyclohexanone and cyclopentanone. Can be used.

상기 광경화성 조성물은 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물 100 중량부를 기준으로 2 내지 60 중량부의 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 용매의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우에, 적절한 점도가 되어 코팅시 매끄러운 표면을 얻을 수 있고, 원하는 두께 구현이 용이하며, 조액시 고른 혼합을 형성하는 것이 가능해 미세 패턴 형성을 위한 물성 구현이 가능하고, 기판과의 밀착력이 개선되며, 균일한 코팅성 및 원하는 막 두께를 얻을 수 있다. It is preferable that the photocurable composition uses 2 to 60 parts by weight of a solvent based on 100 parts by weight of a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group. When the content of the solvent satisfies the above range, it becomes an appropriate viscosity to obtain a smooth surface when coated, it is easy to implement a desired thickness, and it is possible to form an even mixture in the crude liquid, thereby realizing physical properties for fine pattern formation. It is possible, the adhesion to the substrate is improved, and a uniform coating property and a desired film thickness can be obtained.

상기 광경화성 조성물은 일 실시양태에서 광개시제, 아크릴 중합체, 그 밖에 당업계에서 통상적으로 사용되는 첨가제를 더 포함할 수 있다.In one embodiment, the photocurable composition may further include a photoinitiator, an acrylic polymer, and other additives commonly used in the art.

상기 광개시제가 본 발명의 광경화성 조성물에 포함되는 경우, 상기 광개시제는 본 발명의 광경화성 조성물 100 중량부를 기준으로 0. 내지 10 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 광개시제가 상기 함량으로 포함되는 경우에 광경화 시간 측면에서 만족스러운 효과를 기대할 수 있다. 사용가능한 광개시제의 비제한적인 예로는 페닐비페닐케톤, 치오잔톤(thioxanthone), 이소프로필치오잔톤, 디에틸치오잔톤, 벤조페논, 1-벤질-1-디메틸아미노-1-(4-모폴리노-벤조일)프로판, 1-히드록시-1-벤조일시클로헥산, 2-모폴릴-2-(4-메틸머캅토) 벤조일프로판, 에틸안트라퀴논, 4-벤조일-4-메틸디페닐설파이드, 벤조인부틸에테르, 2-히드록시-2-벤조일프로판, 2-히드록시-2-(4-이소프로필)벤조일프로판, 4-부틸벤조일트리클로로메탄, 4-페녹시벤조일디클로로메탄, 디페닐-2,4,6-트리메틸벤조일포스핀옥사이드, 벤조일포름산메틸, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 2-메틸-4,6-비스 (트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-페닐-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-나프틸-4,6-비스 (트리클로로메틸)-s-트리아진, 1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카바졸-3-일]-에타논-1-(O-아세틸옥심), 1-(o-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온 및 2-(o-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온 군으로부터 선택된 어느 하나 이상을 포함할 수 있다.When the photoinitiator is included in the photocurable composition of the present invention, the photoinitiator may be included in an amount of 0. to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition of the present invention. When the photoinitiator is included in the above content, a satisfactory effect can be expected in terms of photocuring time. Non-limiting examples of photoinitiators that can be used include phenylbiphenylketone, thioxanthone, isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzophenone, 1-benzyl-1-dimethylamino-1-(4-morpholino -Benzoyl)propane, 1-hydroxy-1-benzoylcyclohexane, 2-morpholinyl-2-(4-methylmercapto) benzoylpropane, ethyl anthraquinone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylsulfide, benzoin Butyl ether, 2-hydroxy-2-benzoylpropane, 2-hydroxy-2-(4-isopropyl)benzoylpropane, 4-butylbenzoyltrichloromethane, 4-phenoxybenzoyldichloromethane, diphenyl-2, 4,6-trimethylbenzoylphosphine oxide, methyl benzoyl formate, 1,7-bis(9-acridinyl)heptane, 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2- Phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-naphthyl-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 1-[9-ethyl-6-(2 -Methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-ethanone-1-(O-acetyloxime), 1-(o-acetyloxime)-1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl )-9H-carbazol-3-yl]ethanone and 2-(o-benzoyloxime)-1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione. Can.

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 광경화성 조성물은 패턴 특성 조절과 내열성 등의 박막물성을 부여하기 위하여 아크릴 중합체 또는 측쇄에 아크릴 불포화 결합을 갖는 아크릴 중합체를 더 포함할 수 있다. 아크릴 중합체가 본 발명의 광경화성 조성물에 포함되는 경우, 상기 아크릴 중합체는 본 발명의 광경화성 조성물 100 중량부를 기준으로 5 내지 70 중량부의 양으로 포함될 수 있다. 아크릴 중합체가 상기 함량으로 포함되는 경우에 광경화 시간 측면에서 만족스러운 효과를 기대할 수 있다. 사용가능한 아크릴 중합체는 하기에 기재된 단량체들을 포함하는 단량체들의 공중합체로서 단량체의 예로는, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 데실(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 도데실(메타)아크릴레이트 및 헥사데실(메타)아크릴레이트,이소보닐(메타)아크릴레이트, 다만틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 메타아크릴산, 스틸렌, 아세톡시스틸렌, 글리시딜아크릴레이트, 글리시딜 메타아크릴레이트, 이타코닉산, 말레익산무수물, 말레익산모노알킬 에스터, 모노알킬 퓨말레이트, 3,4-에폭시부틸(메타)아크릴레이트,2,3-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트,3,4-에폭시시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 3-에틸옥세탄-3-메틸(메타)아크릴레이트, N-메틸말레이미드, N-부틸말레이미드, N-페닐말레이미드, (메타)아크릴아미드 등을 들 수 있으며, 이들을 각각 단독으로 또는 2종 이상을 중합하여 사용할 수 있다.The photocurable composition according to an embodiment of the present invention may further include an acrylic polymer or an acrylic polymer having an acrylic unsaturated bond in a side chain in order to impart thin film properties such as control of pattern characteristics and heat resistance. When the acrylic polymer is included in the photocurable composition of the present invention, the acrylic polymer may be included in an amount of 5 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition of the present invention. When the acrylic polymer is included in the above content, a satisfactory effect can be expected in terms of photocuring time. Acrylic polymers that can be used are copolymers of monomers including the monomers described below. Examples of the monomers include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, and butyl (meth)acrylate, Hexyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate and hexadecyl (meth)acrylate, isobornyl (meth) )Acrylate, damantyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, 2-methoxyethyl (meth)acrylate, 2-ethoxyethyl (meth)acrylate, Acrylic acid, methacrylic acid, styrene, acetoxystyrene, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, itaconic acid, maleic anhydride, maleic acid monoalkyl ester, monoalkyl fumarate, 3,4-epoxybutyl ( Meth)acrylate,2,3-epoxycyclohexyl(meth)acrylate,3,4-epoxycyclohexylmethyl(meth)acrylate, 3-ethyloxetane-3-methyl(meth)acrylate, N-methyl Maleimide, N-butyl maleimide, N-phenyl maleimide, (meth)acrylamide, etc. are mentioned, These can be used individually or by polymerizing 2 or more types.

본 발명의 일 구현예에 따른 상기 광경화성 조성물은 필요에 따라, 적색, 녹색, 청색 및 블랙으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 색재 안료를 더 포함할 수 있다. The photocurable composition according to an embodiment of the present invention may further include at least one colorant pigment selected from the group consisting of red, green, blue, and black, if necessary.

이때 첨가되는 컬러 색재 안료의 함량은 유기물층의 사용 조건에 적절하게 선택될 수 있으며, 예를 들면 상기 광경화성 조성물 100 중량부를 기준으로 1 내지 50 중량부, 더 바람직하게는 1 내지 20 중량부일 수 있다. 상기 색재 안료의 함량이 이러한 범위를 만족하는 경우, 얻어지는 컬러필터의 색순도 및 휘도 특성이 매우 우수할 수 있다. At this time, the content of the color colorant pigment added may be appropriately selected according to the conditions of use of the organic layer, for example, 1 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the photocurable composition, more preferably 1 to 20 parts by weight . When the content of the colorant pigment satisfies this range, the color purity and luminance characteristics of the obtained color filter may be very excellent.

본 발명에 따른 광경화성 조성물은 유리 기판 등의 기재상에 스핀코팅, 슬릿 스핀코팅, 롤 코팅, 다이 코팅, 커튼코팅과 같은 통상의 용액공정 방법을 이용하여 코팅될 수 있다. 이어서, 코팅물은 UV광에 노광된 후 및 현상 공정을 거쳐 필름으로 형성될 수 있다. The photocurable composition according to the present invention may be coated using a conventional solution processing method such as spin coating, slit spin coating, roll coating, die coating, curtain coating on a substrate such as a glass substrate. Subsequently, the coating may be formed into a film after exposure to UV light and through a development process.

상기 노광 공정에 있어서, 광조사 수단으로 조사되는 광원으로는 자외선광, 예를 들면 250 nm 내지 400 nm 파장 범위의 자외선광을 들 수 있다. 또한, 광원의 조사방법으로는 고압수은등, 크세논등, 카본아크등, 할로겐램프, 복사기용 냉음극관, LED, 반도체 레이저 등 공지의 수단을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 광조사는 상온, 바람직하게는 20 내지 25 ℃에서 5 분 내지 120 분, 바람직하게는 5 분 내지 50 분동안 수행될 수 있다. 상기 광조사 시간이 상기 범위에 있는 경우에 광경화 측면에서 만족스러운 효과를 기대할 수 있다.In the exposure process, ultraviolet light, for example, ultraviolet light in a wavelength range of 250 nm to 400 nm, may be used as the light source irradiated by the light irradiation means. Further, as a method of irradiating the light source, a known means such as a high pressure mercury lamp, xenon lamp, carbon arc lamp, halogen lamp, cold cathode tube for copier, LED, semiconductor laser, etc. can be used, but is not limited thereto. The light irradiation may be performed at room temperature, preferably 20 to 25 ℃ for 5 minutes to 120 minutes, preferably 5 minutes to 50 minutes. When the light irradiation time is in the above range, a satisfactory effect can be expected in light curing.

상기 현상 공정은 노광 공정을 거친 광경화성 필름으로부터 노광된 영역을 현상액을 이용해 제거함으로써 패턴을 형성하는 공정으로, 여기에 사용되는 현상액으로는 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속의 수산화물, 탄산염, 탄산수소염, 암모니아수 4급 암모늄염과 같은 염기성 수용액을 사용할 수 있다. 테트라메틸 암모늄 수용액과 같은 암모니아 4급 암모늄 수용액이 특히 바람직하다.The developing process is a process of forming a pattern by removing an exposed area from a photocurable film that has been subjected to an exposure process using a developer. Examples of the developer used therein are hydroxides, carbonates, hydrogen carbonates and ammonia water of alkali metals or alkaline earth metals. A basic aqueous solution such as a quaternary ammonium salt can be used. Particularly preferred is an aqueous ammonia quaternary ammonium solution, such as an aqueous tetramethyl ammonium solution.

본 발명에 따른 일 실시양태의 전체적인 공정은 본 발명의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물을 포함하는 광경화성 조성물을 기판에 용액공정에 의해 코팅하는 단계; 및 자외선광을 조사하는 단계;를 포함할 수 있으며, 이후, 선택적으로, 현상 공정을 거쳐 70 내지 200 ℃에서 약 30 분 내지 2시간동안 후열처리할 수 있다. The overall process of one embodiment according to the present invention comprises the steps of coating a photocurable composition comprising a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group of the present invention by a solution process; And irradiating ultraviolet light; afterwards, optionally, a post-treatment may be performed at 70 to 200° C. for about 30 minutes to 2 hours through a development process.

상기로부터 형성된 유기물층은 유기전자소자에 사용될 수 있다. The organic material layer formed from the above can be used in an organic electronic device.

본 발명에서 제공되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물을 피리미딘계 작용기 함유 고분자 화합물과 비교하면 하기와 같다:The monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group provided in the present invention is compared with a pyrimidine-based functional group-containing high molecular compound:

(1) 피리미딘계 작용기 함유 고분자 화합물은 유기용매에 용해가 잘 되는 물질이지만, 정확한 분자량으로 제조할 수 없고, 제조 과정에서 촉매와 같은 불순물을 제거하기가 어려워 항상 일정한 성능의 소자를 제작하는 데 어려움이 있을 뿐 아니라 소자의 수명도 줄어들어 상업화하기가 곤란한 소재이다. 특히, 고분자의 곁가지에 피리미딘계 작용기가 결합된 경우에는 광가교 후에 용매 저항성을 갖는 문제점이 발생한다. (1) A pyrimidine-based functional group-containing polymer compound is a substance that dissolves well in an organic solvent, but cannot be manufactured with an accurate molecular weight, and it is difficult to remove impurities such as catalysts in the manufacturing process. It is a material that is difficult to commercialize due to the reduced lifespan of the device as well as difficulties. In particular, when a pyrimidine-based functional group is bonded to a side branch of the polymer, a problem with solvent resistance occurs after photocrosslinking.

(2) 단분자는 종래 용매에 용해되지 않아 용액공정에 의해 다층 박막의 제조에 사용될 수 없는 것으로 알려졌으나, 본 발명에 따르면 상기 단분자에 피리미딘계 작용기를 포함하는 곁가지를 부가시켜 용매에 용해가능됨으로써 용액공정에 사용할 수 있다. 또한, 상기 피리미딘계 작용기가 광가교에 의해 가교된 후에는 용매에 용해되지 않게 된다.(2) Monomolecules are known to be insoluble in a conventional solvent and therefore cannot be used for the production of a multi-layer thin film by a solution process, but according to the present invention, the monomole containing a pyrimidine-based functional group is added to the monomolecule to dissolve in the solvent. If possible, it can be used in solution processing. In addition, after the pyrimidine-based functional group is crosslinked by photocrosslinking, it does not dissolve in the solvent.

(3) 또한, 피리미딘계 작용기 함유 고분자 화합물과 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물은 박막 형성 후에 박막을 이루는 구조에서 차이를 갖게 되는데, 피리미딘계 작용기 함유 고분자 화합물은 도 1a에 도시된 바와 같이 주사슬 구조를 그대로 유지하는 단순한 구조를 가지고 있으나, 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물은 도 1b에 도시된 바와 같이 결합 후 주사슬 자체가 결합을 이루는 형태를 가지고 있어 박막의 구조가 완전히 상이하다. 또한, 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 사용되는 경우에는 포함되는 피리미딘기의 수에 따라 선형으로부터 방사형까지 다양한 형태로 박막의 구조를 만들 수 있어 활용도가 큰 이점이 있다.(3) In addition, the pyrimidine-based functional group-containing polymer compound and the pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound have a difference in the structure forming a thin film after formation of the thin film, and the pyrimidine-based functional group-containing polymer compound is shown in FIG. 1A. Although it has a simple structure that maintains the main chain structure, the monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group has a form in which the main chain itself forms a bond after binding as shown in FIG. 1B, so that the structure of the thin film is completely different. In addition, when a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group is used, the structure of the thin film can be made in a variety of forms from linear to radial depending on the number of pyrimidine groups included.

(4) 또한, 피리미딘계 작용기 함유 고분자 화합물은 유기 용매에 용해되더라도 분자량이 커서 점도가 높은 상태를 유지하여 잉크젯과 같은 공정에 사용하기 어려운 반면, 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물은 낮은 점도를 형성하여 잉크젯과 같은 공정에 사용이 유리한 이점을 갖는다.(4) In addition, even if the pyrimidine-based functional group-containing polymer compound is dissolved in an organic solvent, it has a high molecular weight and maintains a high viscosity, making it difficult to use in processes such as inkjet, while the pyrimidine-based functional group-containing polymer compound has a low viscosity. Forming has the advantage of being advantageous for use in processes such as inkjet.

본 발명의 일 측면에 따르는 유기전자소자는, 제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 상기 유기물층을 구비한 것이다. An organic electronic device according to an aspect of the present invention, the first electrode; A second electrode; And the organic material layer between the first electrode and the second electrode.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 상기 유기전자소자는 유기발광소자(OLED), 유기태양전지, 유기광다이오드(OPD, Organic Photodiode), 광센서, 유기감광체(OPC) 및 유기트랜지스터(OTFT)로 이루어진 군으로부터 선택될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the organic electronic device is an organic light emitting device (OLED), an organic solar cell, an organic photodiode (OPD), an optical sensor, an organic photoreceptor (OPC), and an organic transistor (OTFT). It can be selected from the group consisting.

상기 유기물층은 전자 수송층일 수 있다. 한편, 상기 유기전자소자는, 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 저지층, 발광층, 정공 저지층, 전자수송층 및 전자 주입층 중 하나 이상을 더 포함할 수 있으며, 본 발명에 따르는 유기물층이 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 저지층, 발광층, 정공 저지층, 전자수송층 및 전자 주입층 중 하나 이상으로 사용될 수 있다.The organic material layer may be an electron transport layer. Meanwhile, the organic electronic device may further include at least one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, and the organic material layer according to the present invention is a hole injection layer , A hole transport layer, an electron blocking layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, and an electron injection layer.

보다 구체적으로, 본 발명을 따르는 유기전자소자의 일 실시양태는 제1전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/제2전극의 구조를 갖는다. 또는, 본 발명을 따르는 유기전자소자는 제1전극/정공 주입층/발광층/전자 수송층/전자 주입층/제2전극으로 이루어진 구조를 갖거나, 제1전극/정공 주입층/정공 수송층/발광층/정공 저지층/전자 수송층/전자 주입층/제2전극으로 이루어진 구조를 가질 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. More specifically, one embodiment of the organic electronic device according to the present invention has a structure of a first electrode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/electron transport layer/electron injection layer/second electrode. Alternatively, the organic electronic device according to the present invention has a structure consisting of a first electrode/hole injection layer/light emitting layer/electron transport layer/electron injection layer/second electrode, or a first electrode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/ A hole blocking layer/electron transport layer/electron injection layer/second electrode may have a structure, but is not limited thereto.

본 발명을 따르는 유기전자소자의 발광층은 적색, 녹색, 청색 또는 백색을 포함하는 인광 또는 형광 도펀트를 포함할 수 있다. 이 중, 상기 인광 도펀트는 Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb 및 Tm으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 원소를 포함하는 유기금속화합물일 수 있다.The light emitting layer of the organic electronic device according to the present invention may include a phosphorescent or fluorescent dopant including red, green, blue or white. Among them, the phosphorescent dopant may be an organometallic compound containing one or more elements selected from the group consisting of Ir, Pt, Os, Ti, Zr, Hf, Eu, Tb and Tm.

또한, 본 발명에서는 제 1 기판과; 상기 제 1 기판에 위치하는 구동 박막트랜지스터와; 상기 제 1 기판에 위치하며 상기 구동 박막트랜지스터에 연결되는 발광다이오드로서, 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물을 적어도 하나의 유기물층에 포함하는 유기전자소자와; 상기 유기전자소자를 덮고 상기 제 1 기판과 합착되는 제 2 기판을 포함하는 표시 장치가 제공된다. In addition, in the present invention, the first substrate; A driving thin film transistor positioned on the first substrate; An organic electronic device positioned on the first substrate and connected to the driving thin film transistor, the organic electronic device including a photocured product of a pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound in at least one organic material layer; A display device including a second substrate covering the organic electronic device and bonding to the first substrate is provided.

이하, 유기전자소자의 제조 방법의 일 실시양태를 살펴보기로 한다.Hereinafter, an embodiment of a method for manufacturing an organic electronic device will be described.

먼저 기판 상부에 높은 일함수를 갖는 제1전극용 물질을 증착법 또는 스퍼터링법 등에 의해 형성하여 제1전극을 형성한다. First, a first electrode having a high work function is formed on a substrate by a vapor deposition method or a sputtering method to form a first electrode.

상기 제1전극은 애노드(Anode) 또는 캐소드(cathode)일 수 있다. 여기에서 기판으로는 통상적인 유기전자소자에서 사용되는 기판을 사용하는데 기계적 강도, 열적 안정성, 투명성, 표면 평활성, 취급용이성 및 방수성이 우수한 유리 기판 또는 투명 플라스틱 기판이 바람직하다. The first electrode may be an anode or a cathode. Here, as a substrate, a substrate used in a conventional organic electronic device is used. A glass substrate or a transparent plastic substrate having excellent mechanical strength, thermal stability, transparency, surface smoothness, handling ease, and waterproof property is preferable.

제1전극용 물질로는 전도성이 우수한 산화인듐주석(ITO), 산화인듐아연(IZO), 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO), Al, Mg, Ag 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 제1전극은 투명 전극, 반투명 전극 또는 반사 전극으로 구비될 수 있다.As the material for the first electrode, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), tin oxide (SnO 2 ), zinc oxide (ZnO), Al, Mg, Ag, etc. having excellent conductivity may be used. It does not work. The first electrode may be provided as a transparent electrode, a translucent electrode, or a reflective electrode.

다음으로, 상기 제1전극 상부에 정공 주입층(HIL)을 형성할 수 있다. 상기 정공 주입층은 본 발명에 따른 광경화성 조성물을 용액 공정에 의해 코팅하여 형성된 유기물층일 수 있다.Next, a hole injection layer (HIL) may be formed on the first electrode. The hole injection layer may be an organic material layer formed by coating the photocurable composition according to the present invention by a solution process.

상기 정공 주입층의 두께는 약 100Å 내지 10000Å, 바람직하게는 100Å 내지 1000 Å일 수 있다. 상기 정공 주입층의 두께가 100Å 미만인 경우, 정공주입 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공 주입층의 두께가 10000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole injection layer may have a thickness of about 100 mm to 10000 mm, preferably 100 mm to 1000 mm. This is because when the thickness of the hole injection layer is less than 100 mA, hole injection characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the hole injection layer exceeds 10000 MPa, the driving voltage may increase.

다음으로 상기 정공주입층 상부에 정공 수송층(HTL)을 형성할 수 있다. 상기 정공수송층은 본 발명에 따른 광경화성 조성물을 용액 공정에 의해 코팅하여 형성된 유기물층일 수 있다.Next, a hole transport layer (HTL) may be formed on the hole injection layer. The hole transport layer may be an organic material layer formed by coating the photocurable composition according to the present invention by a solution process.

상기 정공 수송층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 정공 수송층의 두께가 50Å 미만인 경우, 정공수송 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공 수송층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole transport layer may have a thickness of about 50 mm2 to 1000 mm2, preferably 100 mm2 to 600 mm2. This is because when the thickness of the hole transport layer is less than 50 Å, hole transport characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the hole transport layer exceeds 1000 Å, the driving voltage may increase.

다음으로 상기 정공 수송층 상부에 발광층(EML)을 형성할 수 있다. 상기 발광층은 공지된 다양한 발광 물질을 이용하여 형성할 수 있다. 한편, 상기 발광층은 공지의 호스트 및 도펀트를 이용하여 형성할 수도 있으며, 도펀트의 경우, 공지의 형광 도펀트 및 공지의 인광 도펀트를 모두 사용할 수 있다.Next, an emission layer (EML) may be formed on the hole transport layer. The light emitting layer can be formed using various known light emitting materials. Meanwhile, the light emitting layer may be formed using a known host and dopant, and in the case of a dopant, both a known fluorescent dopant and a known phosphorescent dopant may be used.

예를 들어, 호스트로서는 Alq3, CBP(4,4'-N,N'-디카바졸-비페닐), PVK(폴리(n-비닐카바졸)) 또는 DSA(디스티릴 아릴렌) 등을 사용할 수 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.For example, Alq3, CBP (4,4'-N,N'-dicarbazole-biphenyl), PVK (poly(n-vinylcarbazole)) or DSA (distyryl arylene) can be used as the host. However, it is not limited thereto.

도펀트의 경우, Ir(ppy)3 (ppy는 페닐피리딘의 약어임)(녹색), (4,6-F2ppy)2Irpic, PtOEP(platinum(II)octaethylporphyrin), 하기 구조식을 갖는 화합물, Firpric, TBPe 등을 사용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.For dopants, Ir(ppy)3 (ppy is an abbreviation for phenylpyridine) (green), (4,6-F2ppy)2Irpic, PtOEP(platinum(II)octaethylporphyrin), compound having the following structural formula, Firpric, TBPe, etc. It can be used, but is not limited thereto.

Figure 112018122553865-pat00015
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Figure 112018122553865-pat00016
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Figure 112018122553865-pat00017
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상기 도펀트의 함량은 발광층 형성재료 100 중량부 (즉, 호스트와 도펀트의 총중량은 100중량부로 함)를 기준으로 하여 0.1 내지 20 중량부, 특히 0.5 ~ 12 중량부인 것이 바람직하다. 도펀트의 함량이 0.1 중량부 미만이면 도펀트 부가에 따른 효과가 미미하고 20 중량부를 초과하면 인광이나 형광 모두 다 농도 켄칭(quenching)과 같은 농도 소광이 일어나 바람직하지 못하다.The content of the dopant is preferably 0.1 to 20 parts by weight, particularly 0.5 to 12 parts by weight, based on 100 parts by weight of the light emitting layer forming material (that is, the total weight of the host and the dopant is 100 parts by weight). If the content of the dopant is less than 0.1 part by weight, the effect of adding dopant is insignificant, and if it exceeds 20 parts by weight, concentration quenching such as phosphorescent or fluorescence is unfavorable.

상기 발광층의 두께는 약 100Å 내지 1000Å, 바람직하게는 200Å 내지 600Å일 수 있다. 상기 발광층의 두께가 100Å 미만인 경우, 발광 특성이 저하될 수 있으며, 상기 발광층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The thickness of the light emitting layer may be about 100 mm 2 to 1000 mm 2, preferably 200 mm 2 to 600 mm 2. This is because when the thickness of the light emitting layer is less than 100 mV, light emission characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the light emitting layer exceeds 1000 mV, the driving voltage may increase.

발광층이 인광 도펀트를 포함할 경우, 삼중항 여기자 또는 정공이 전자 수송층으로 확산되는 현상을 방지하기 위하여 정공 저지층(HBL)을 발광층 상부에 형성할 수 있다. 이 때 사용할 수 있는 정공 저지층 물질은 본 발명에 따른 광경화성 조성물을 용액 공정에 의해 코팅하여 형성된 유기물층일 수 있다.When the light emitting layer includes a phosphorescent dopant, a hole blocking layer (HBL) may be formed on the light emitting layer to prevent the triplet excitons or holes from diffusing into the electron transport layer. The hole blocking layer material that can be used at this time may be an organic material layer formed by coating the photocurable composition according to the present invention by a solution process.

상기 정공 저지층의 두께는 약 50Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 300Å일 수 있다. 상기 정공저지층의 두께가 50Å 미만인 경우, 정공저지 특성이 저하될 수 있으며, 상기 정공저지층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The hole blocking layer may have a thickness of about 50 mm2 to 1000 mm2, preferably 100 mm2 to 300 mm2. This is because when the thickness of the hole blocking layer is less than 50 mV, hole blocking characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the hole blocking layer exceeds 1000 mV, the driving voltage may increase.

다음으로 전자수송층(ETL)을 형성한다. 상기 전자수송층은 본 발명에 따른 광경화성 조성물을 용액 공정에 의해 코팅하여 형성된 유기물층일 수 있다.Next, an electron transport layer (ETL) is formed. The electron transport layer may be an organic material layer formed by coating the photocurable composition according to the present invention by a solution process.

상기 전자수송층의 두께는 약 100Å 내지 1000Å, 바람직하게는 100Å 내지 500Å일 수 있다. 상기 전자수송층의 두께가 100Å 미만인 경우, 전자수송 특성이 저하될 수 있으며, 상기 전자수송층의 두께가 1000Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The thickness of the electron transport layer may be about 100 mm 2 to 1000 mm 2, preferably 100 mm 2 to 500 mm 2. This is because when the thickness of the electron transport layer is less than 100 Å, electron transport characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the electron transport layer exceeds 1000 Å, the driving voltage may increase.

또한 전자수송층 상부에 음극으로부터 전자의 주입을 용이하게 하는 기능을 가지는 물질인 전자주입층(EIL)이 적층될 수 있다.In addition, an electron injection layer (EIL), which is a material having a function of facilitating injection of electrons from the cathode, may be stacked on the electron transport layer.

전자 주입층으로서는 LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO 등과 같은 전자주입층 형성 재료로서 공지된 임의의 물질을 이용할 수 있다. 상기 전자주입층의 증착조건 및 코팅조건은 사용하는 화합물에 따라 다르지만, 일반적으로 정공주입층의 형성과 거의 동일한 조건범위 중에서 선택된다.As the electron injection layer, any material known as an electron injection layer forming material such as LiF, NaCl, CsF, Li2O, BaO, or the like can be used. The deposition conditions and the coating conditions of the electron injection layer vary depending on the compound used, but are generally selected from the same condition ranges as the formation of the hole injection layer.

상기 전자주입층의 두께는 약 1Å 내지 100Å, 바람직하게는 5Å 내지 90Å 일 수 있다. 상기 전자주입층의 두께가 1Å 미만인 경우, 전자주입 특성이 저하될 수 있으며, 상기 전자주입층의 두께가 100Å를 초과하는 경우, 구동전압이 상승할 수 있기 때문이다.The thickness of the electron injection layer may be about 1 mm to 100 mm, preferably 5 mm to 90 mm. This is because when the thickness of the electron injection layer is less than 1 Å, the electron injection characteristics may be deteriorated, and when the thickness of the electron injection layer exceeds 100 구동, the driving voltage may increase.

마지막으로 전자주입층 상부에 진공증착법이나 스퍼터링법 등의 방법을 이용하여 제2전극을 형성할 수 있다.Finally, a second electrode may be formed on the electron injection layer using a method such as a vacuum deposition method or a sputtering method.

상기 제2전극은 캐소드 또는 애노드로 사용될 수 있다. 상기 제2전극 형성용 금속으로는 낮은 일함수를 가지는 금속, 합금, 전기전도성 화합물 및 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 구체적인 예로서는 리튬(Li), 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al), 알루미늄-리튬(Al-Li), 칼슘(Ca), 마그네슘-인듐(Mg-In), 마그네슘-은(Mg-Ag)등을 들 수 있다. 또한, 전면 발광 소자를 얻기 위하여 ITO, IZO를 사용한 투명 캐소드를 사용할 수도 있다.The second electrode may be used as a cathode or anode. As the metal for forming the second electrode, a metal having low work function, an alloy, an electrically conductive compound, and a mixture thereof may be used. Specific examples include lithium (Li), magnesium (Mg), aluminum (Al), aluminum-lithium (Al-Li), calcium (Ca), magnesium-indium (Mg-In), and magnesium-silver (Mg-Ag). Can be lifted. In addition, a transparent cathode using ITO and IZO may be used to obtain a front light emitting device.

본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다. The present invention will be described in more detail based on examples as follows. However, the present invention is not limited to this.

실시예Example 1: 화학식 1의 화합물 1: Compound of Formula 1

Figure 112018122553865-pat00018
Figure 112018122553865-pat00018

화합물 1의 제조Preparation of compound 1

질소 분위기 하에서 250mL 2-목 플라스크(two-neck flask)에 소듐 하이드라이드(0.4 g, 0.016 mol)를 넣고 1시간동안 교반시켰다. 반응 플라스크에 우라실(0.9 g, 0.008 mol)을 각각 다이메틸 설폭사이드(dimethyl sulfoxide: DMSO)(50 ml)에 녹인 후 천천히 첨가하고, 이어서, 4-브로모다이페닐아민(2 g, 0.008 mol)을 DMSO (50 mL)에 녹인 후에 첨가하였다. 상온에서 48시간 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후, ??칭(quenching)하고 유기용매를 모두 감압제거하였다. 고체상태의 혼합물을 컬럼크로마토그래피로 정제하여 (에틸 아세테이트:헥산 = 1:7 체적비) 하여 화합물 1을 수득하였으며, 화합물 1의 수율 및 NMR 데이터를 하기에 기재하였다.Sodium hydride (0.4 g, 0.016 mol) was added to a 250 mL two-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Uracil (0.9 g, 0.008 mol) was dissolved in dimethyl sulfoxide (DMSO) (50 ml) in a reaction flask, and then slowly added, followed by 4-bromodiphenylamine (2 g, 0.008 mol). It was added after dissolving in DMSO (50 mL). The reaction was allowed to proceed at room temperature for 48 hours. After completion of the reaction, quenching was performed and all the organic solvent was removed under reduced pressure. The mixture in the solid state was purified by column chromatography (ethyl acetate:hexane = 1:7 volume ratio) to obtain Compound 1, and the yield and NMR data of Compound 1 are described below.

수율: 1.7 g (77 %)Yield: 1.7 g (77%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.2 (d, -H), 7.3~7.22 (m, -CH-), 7.02 (t,-CH-), 6.83 (t, -CH-), 6.6 (d, -CH-), 5.73 (d, -H), 4.0 (s, -NH-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.2 (d, -H), 7.3~7.22 (m, -CH-), 7.02 (t,-CH-), 6.83 (t, -CH-), 6.6 ( d, -CH-), 5.73 (d, -H), 4.0 (s, -NH-)

화학식 1의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 1

1-목 플라스크에, 상기와 같이 제조된 화합물 1 (1 g, 0.00367 mol), 트리스(4-브로모페닐)아민 (0.6 g, 0.0012 mol), 요오드화 구리(copper iodide) (0.07 g, 0.000367 mol), 인산칼륨 (2 g, 0.0147 mol), 1,2-트랜스-시클로헥산 다이아민 (0.4 mL, 0.00367 mol)을 넣고, 1,4-다이옥산 (100 mL)을 넣어 교반시켰다. 110 ℃ 에서 48시간 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후에, 상온에서 식히고 메틸렌 클로라이드와 증류수로 work-up하여 유기층을 분리하였다. 이어서, 유기층의 용매를 모두 증발시키고 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 =1:10 체적비)하여 최종 물질인 화학식 1의 화합물을 수득하였다. 수득된 화학식 1의 화합물의 수율 및 NMR 데이터를 하기에 기재하였다.In a 1-neck flask, compound 1 (1 g, 0.00367 mol), tris(4-bromophenyl)amine (0.6 g, 0.0012 mol), copper iodide (0.07 g, 0.000367 mol) prepared as above ), potassium phosphate (2 g, 0.0147 mol), 1,2-trans-cyclohexane diamine (0.4 mL, 0.00367 mol) was added, and 1,4-dioxane (100 mL) was added and stirred. The reaction was allowed to proceed at 110°C for 48 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled at room temperature, and the organic layer was separated by work-up with methylene chloride and distilled water. Subsequently, all of the solvent of the organic layer was evaporated and subjected to column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:10 volume ratio) to obtain the final compound of formula (1). The yield and NMR data of the obtained compound of Formula 1 are described below.

수율: 1 g (77%)Yield: 1 g (77%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.25 (d, -H), 7.0~6.61 (m, -CH-), 5.67 (d, -H)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.25 (d, -H), 7.0 to 6.61 (m, -CH-), 5.67 (d, -H)

실시예Example 2: 화학식 2의 화합물 2: Compound of Formula 2

Figure 112018122553865-pat00019
Figure 112018122553865-pat00019

화합물 2-1의 제조Preparation of compound 2-1

질소 분위기 하에서 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드(0.2 g, 0.008 mol)를 넣고 1시간동안 교반시켰다. 상기 반응 플라스크에 우라실(3 g, 0.027 mol)을 DMSO(50 mL)에 녹인 후, 천천히 적가하였다. 우라실을 모두 넣은 후, 3-브로모-1-프로판올 (3.8 mL, 0.027 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹인 후 천천히 첨가하였다. 상온에서 48시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후, ??칭하고 유기용매를 모두 감압제거하였다. 고체상태의 혼합물을 (에틸 아세테이트:헥산 = 1:4 체적비)로 세척하여 화합물 2-1을 얻었다. 화합물 2-1의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Sodium hydride (0.2 g, 0.008 mol) was added to a 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Uracil (3 g, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 mL) in the reaction flask, and then slowly added dropwise. After adding all of uracil, 3-bromo-1-propanol (3.8 mL, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and then slowly added. The reaction was allowed to proceed for 48 hours at room temperature. After the reaction was completed, ?? and the organic solvent were all removed under reduced pressure. The solid mixture was washed with (ethyl acetate:hexane = 1:4 volume ratio) to obtain compound 2-1. The yield and NMR data of Compound 2-1 are as follows.

수율: 1.8 g (39 %)Yield: 1.8 g (39%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.95 (d, -H), 5.7 (d, -H) 4.99 (d, -CH-), 4.5 (m, -CH2-), 3.6 (s, -OH), 3.5(m, -CH2-), 1.99 (s, -CH2-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.95 (d, -H), 5.7 (d, -H) 4.99 (d, -CH-), 4.5 (m, -CH2-), 3.6 (s, -OH ), 3.5(m, -CH2-), 1.99 (s, -CH 2 -)

화합물 2-2의 제조Preparation of compound 2-2

질소분위기 하에서 100 mL 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.1 g, 0.04 mol)를 넣고 1시간동안 교반시켰다. 여기에 화합물 2-1 (1.5 g, 0.0088 mol)을 넣고 DMSO (50 mL)에 녹인 후에, 천천히 적가하였다. 화합물 2-1을 모두 넣은 후에 2-브로모카바졸(2.2 g, 0.0088 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹여 첨가하였다. 상온에서 72시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후에 침전물을 필터하고, 여과액을 받아 용매를 감압제거하였다. 조질(crude)의 혼합물을 컬럼크로마토그래피(에틸 아세테이트:헥산 = 1: 20)로 정제하여 화합물 2-2을 수득하였다. 화합물 2-2의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Sodium hydride (0.1 g, 0.04 mol) was added to a 100 mL 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Compound 2-1 (1.5 g, 0.0088 mol) was added thereto, dissolved in DMSO (50 mL), and slowly added dropwise. After adding compound 2-1, 2-bromocarbazole (2.2 g, 0.0088 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and added. The reaction was allowed to proceed at room temperature for 72 hours. After completion of the reaction, the precipitate was filtered, and the filtrate was received to remove the solvent under reduced pressure. The crude mixture was purified by column chromatography (ethyl acetate:hexane = 1: 20) to give compound 2-2. The yield and NMR data of Compound 2-2 are as follows.

수율: 2 g (68 %)Yield: 2 g (68%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (d, -NH-), 9.95 (d, -H), 8.12 (m, -CH-), 8.01~ 6.9 (m, -CH-), 5.7 (d, -H), 4.5 (m,-CH2-), 1.99 (m, -CH2-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (d, -NH-), 9.95 (d, -H), 8.12 (m, -CH-), 8.01 to 6.9 (m, -CH-), 5.7 (d, -H), 4.5 (m ,-CH2-), 1.99 (m, -CH2-)

화학식 2의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 2

질소분위기 하에서 250 mL 1-목 플라스크에 화합물 2-2 (2 g, 0.006 mol), 트리스(4-브로모페닐)아민 (1 g, 0.002 mol), 인산칼륨 (5 g, 0.024 mol), CuI (0.2 g, 0.0015 mol), 트랜스-1,2-다이아미노시클로헥산 (0.68 mL, 0.006 mol), 1,4-다이옥산 (100 mL)을 넣었다. 80 ℃에서 48시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후, ??칭하고 유기용매를 감압 제거하였다. 고체상태의 혼합물을 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산= 1:7 체적비)로 정제하여 최종 물질인 화학식 2의 화합물을 수득하였다. 화학식 2의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Compound 2-2 (2 g, 0.006 mol), tris(4-bromophenyl)amine (1 g, 0.002 mol), potassium phosphate (5 g, 0.024 mol), CuI in a 250 mL 1-neck flask under nitrogen atmosphere (0.2 g, 0.0015 mol), trans-1,2-diaminocyclohexane (0.68 mL, 0.006 mol), 1,4-dioxane (100 mL) was added. The reaction was allowed to proceed at 80° C. for 48 hours. After completion of the reaction, ?? and the organic solvent was removed under reduced pressure. The mixture in the solid state was purified by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:7 volume ratio) to obtain the final compound of Formula 2. Yield and NMR data of the compound of Formula 2 are as follows.

수율: 0.8 g (32 %)Yield: 0.8 g (32%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (d, -NH-), 9.95 (d, -H), 7.98~7.13 (m, -CH-), 5.7 (d, -H), 4.5 (m, -CH2-), 1.99 (m, -CH2-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (d, -NH-), 9.95 (d, -H), 7.98 to 7.13 (m, -CH-), 5.7 (d, -H), 4.5 (m, -CH 2 -), 1.99 ( m, -CH 2 -)

실시예Example 3: 화학식 3의 화합물 3: Compound of Formula 3

Figure 112018122553865-pat00020
Figure 112018122553865-pat00020

화합물 3-1의 제조 Preparation of compound 3-1

질소 분위기 하에 500 mL 둥근 바닥 플라스크에, 1,3,5-트리브로모벤젠 (7 g, 0.022 mol), 비스(피나콜라토)다이보론 (11.3 g, 0.044 mol), 아세트산 칼륨 (6.4 g, 0.066 mol), Pd(pph3)4 (0.2g, 0.0002 mol)을 넣고 1,4-다이옥산 (200 mL)을 넣고 교반시켰다. 110 ℃에서 24시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에 상온에서 식히고 에틸 아세테이트로 세척하였다. 여과액을 받아 용매를 모두 날린 후에, 컬럼 크로마토그래피로 (에틸 아세테이트: 헥산=1:20 체적비)하여 화합물 3-1을 수득하였다. 화합물 3-1의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같았다.In a 500 mL round bottom flask under nitrogen atmosphere, 1,3,5-tribromobenzene (7 g, 0.022 mol), bis(pinacolato)diboron (11.3 g, 0.044 mol), potassium acetate (6.4 g, 0.066 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.2 g, 0.0002 mol) was added and 1,4-dioxane (200 mL) was added and stirred. The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 24 hours. After the reaction was completed, it was cooled to room temperature and washed with ethyl acetate. After receiving the filtrate and blowing off all of the solvent, compound 3-1 was obtained by column chromatography (ethyl acetate: hexane=1:20 volume ratio). The yield and NMR data of compound 3-1 were as follows.

수율: 6.8g (76 %)Yield: 6.8 g (76%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 7.8 (s, -CH-), 7.45 (s, -CH-), 1.8 (s, -CH3)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 7.8 (s, -CH-), 7.45 (s, -CH-), 1.8 (s, -CH 3 )

화합물 3-2의 제조 Preparation of compound 3-2

질소 분위기 하에 250 mL 2-목 플라스크에, 화합물 3-1 (5 g, 0.012 mol), 1,4-다이브로모벤젠 (5.8 g, 0.024 mol), Pd(pph3)4 (0.6 g, 0.0001 mol)를 넣고, THF (100 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안에 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액 (2N, 100 mL)을 넣었다. 80 ℃ 에서 12시간 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에, 상온에서 식히고 에틸 아세테이트/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후, 컬럼크로마토그래피 (에틸 아세테이트: 헥산 = 1:8 체적비)로 정제하여 화합물 3-2을 얻는다. 화합물 3-2의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 250 mL 2-neck flask under nitrogen atmosphere, compound 3-1 (5 g, 0.012 mol), 1,4-dibromobenzene (5.8 g, 0.024 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.6 g, 0.0001 mol ) And THF (100 mL) was added and stirred. Potassium carbonate solution (2N, 100 mL) was added to the flask when the material was all dissolved. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After the reaction, the organic layer was separated by cooling at room temperature and extracting with ethyl acetate/distilled water. After washing off the solvent of the separated organic layer, purification was performed by column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1:8 volume ratio) to obtain compound 3-2. The yield and NMR data of compound 3-2 are as follows.

수율: 3.4 g (61 %)Yield: 3.4 g (61%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 7.86 (m, -CH-), 7.6 (d, -CH-), 7.54 (s, -CH-)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 7.86 (m, -CH-), 7.6 (d, -CH-), 7.54 (s, -CH-)

화합물 3-3의 제조Preparation of compound 3-3

250 mL 2-목 플라스크에 질소 퍼징(purging)해주고, 소듐 하이드라이드 (2.2 g, 0.09 mol)를 넣고 1시간동안 교반시키면서 질소 분위기를 유지시켰다. 충분히 질소 퍼징해준 후에, 반응 플라스크에 우라실 (3 g, 0.027 mol)을 DMSO (50 mL)에 녹인 후에 천천히 첨가하고, 화합물 3-2 (6.2 g, 0.013 mol)를 DMSO (50 mL)에 녹인 후에 첨가하였다. 상온에서 48시간동안 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에, ??칭하고 유기용매를 모두 감압제거한 후에, 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 = 1: 5 체적비)로 정제하여 화합물 3-3을 얻는다. 화합물 3-3의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Nitrogen purging was performed in a 250 mL 2-neck flask, sodium hydride (2.2 g, 0.09 mol) was added, and the mixture was stirred for 1 hour to maintain a nitrogen atmosphere. After sufficiently purging with nitrogen, uracil (3 g, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 mL) in a reaction flask and then added slowly, and compound 3-2 (6.2 g, 0.013 mol) was dissolved in DMSO (50 mL). Was added. The reaction proceeded at room temperature for 48 hours. After the completion of the reaction, the organic solvent was removed under reduced pressure, and then purified by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1: 5 volume ratio) to obtain compound 3-3. The yield and NMR data of compound 3-3 are as follows.

수율: 2.8 g (54 %)Yield: 2.8 g (54%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-) 9.2 (d, -H), 8.4~7.78 (d, -CH-), 7.5~7.36 (d, -CH-), 5.5 (d, -H)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-) 9.2 (d, -H), 8.4 to 7.58 (d, -CH-), 7.5 to 7.36 (d, -CH-), 5.5 (d, -H)

화합물 3-4의 제조Preparation of compound 3-4

질소 분위기하에서 250 mL 둥근바닥 플라스크에 3,6-다이브로모카바졸 (5 g, 0.015 mol), 브로모벤젠 (2.4 g, 0.015 mol), 요오드화 제일구리 (0.57 g, 0.003 mol), 인산칼륨 (6.4 g, 0.03), 트랜스-1,2-시클로헥산 다이아민 (1.7 mL, 0.015 mol)을 넣고 1,4-다이옥산 (200 mL)을 넣고 교반시켰다. 110 ℃에서 19시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에, 상온에서 식힌 후, 메틸렌 클로라이드/증류수로 추출하여 유기층을 분리시켰다. 유기층의 용매를 모두 날리고 에틸 아세테이트로 세척하였다. 여과액을 받아 에틸 아세테이트를 감압제거한 후에, 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 = 1: 10 체적비)로 화합물 (a)를 얻는다. 화합물 3-4의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.3,6-dibromocarbazole (5 g, 0.015 mol), bromobenzene (2.4 g, 0.015 mol), cuprous iodide (0.57 g, 0.003 mol), potassium phosphate in a 250 mL round-bottom flask under nitrogen atmosphere ( 6.4 g, 0.03), trans-1,2-cyclohexane diamine (1.7 mL, 0.015 mol) was added and 1,4-dioxane (200 mL) was added and stirred. The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 19 hours. After completion of the reaction, after cooling at room temperature, the organic layer was separated by extraction with methylene chloride/distilled water. The solvent in the organic layer was blown off and washed with ethyl acetate. After receiving the filtrate and removing ethyl acetate under reduced pressure, compound (a) is obtained by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1: 10 volume ratio). The yield and NMR data of compound 3-4 are as follows.

수율: 5.8 g (78%)Yield: 5.8 g (78%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 8.0~7.8 (d, -CH-), 7.64~7.4 (m, -CH-), 7.32 (d,-CH-)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 8.0~7.8 (d, -CH-), 7.64~7.4 (m, -CH-), 7.32 (d,-CH-)

화합물 3-5의 제조Preparation of compound 3-5

질소 분위기 하에서 250 mL 둥근 바닥 플라스크에, 화합물 3-4 (2 g, 0.005 mol), 비스(피나콜라토)다이보론 (2.5 g, 0.01 mol), 아세트산 칼륨 (0.5 g, 0.015 mol), Pd(pph3)4 (0.34g, 0.0005 mol) 을 넣고 1,4-다이옥산 (100 mL)를 넣어 교반시켰다.In a 250 mL round bottom flask under nitrogen atmosphere, compound 3-4 (2 g, 0.005 mol), bis(pinacolato)diboron (2.5 g, 0.01 mol), potassium acetate (0.5 g, 0.015 mol), Pd ( pph 3 ) 4 (0.34 g, 0.0005 mol) was added and 1,4-dioxane (100 mL) was added and stirred.

110 ℃ 에서 24시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에 상온에서 식혀 에틸 아세테이트로 세척하였다. 여과액을 받아 용매를 모두 날린 후에, 컬럼 크로마토그래피(에틸 아세테이트: 헥산 =1:10 체적비) 화합물 3-5를 수득하였다. 화합물 3-5의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 24 hours. After the reaction, the mixture was cooled to room temperature and washed with ethyl acetate. After receiving the filtrate and blowing off all of the solvent, column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1:10 volume ratio) to obtain compound 3-5. Yield and NMR data for Compound 3-5 are as follows.

수율: 1.73 g (68%)Yield: 1.73 g (68%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 8.0 (m, -CH-), 7.6~7.55 (m, -CH-), 1.8 (s, -CH3)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 8.0 (m, -CH-), 7.6 to 7.55 (m, -CH-), 1.8 (s, -CH 3 )

화학식 3의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 3

질소 분위기 하에서 500 mL 2-목 플라스크에, 화합물 3-5 (1 g, 0.002 mol), 화합물 3-3 (2.1 g, 0.004 mol), Pd(pph3)4 (0.2 g, 0.0002 mol)를 넣고, 테트라하이드로푸란(tetrahydrofuran: THF) (100 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안의 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 100 mL)을 넣었다. 80 ℃ 에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에, 상온에서 식히고 에틸 아세테이트/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후에, 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 = 1:4 체적비)로 정제하여 최종물질인 화학식 3의 화합물을 수득하였다. 화학식 3의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 500 mL 2-neck flask under nitrogen atmosphere, add compound 3-5 (1 g, 0.002 mol), compound 3-3 (2.1 g, 0.004 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.2 g, 0.0002 mol) , Tetrahydrofuran (THF) (100 mL) was added and stirred. When all the substances in the flask were dissolved, a potassium carbonate solution (2N, 100 mL) was added. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After the reaction, the organic layer was separated by cooling at room temperature and extracting with ethyl acetate/distilled water. After the solvent of the separated organic layer was all blown off, purification was performed by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:4 volume ratio) to obtain the final compound of formula (3). Yield and NMR data of the compound of Formula 3 are as follows.

수율: 0.7 g (32 %)Yield: 0.7 g (32%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.23 (d, -CH-), 8.1~ 7.66 (m, -CH-), 7.55~7.32 (m, -CH-), 5.5(d, -H)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 9.23 (d, -CH-), 8.1 to 7.66 (m, -CH-), 7.55 to 7.32 (m, -CH-), 5.5 (d, -H)

실시예Example 4: 화학식 4의 화합물의 제조 4: Preparation of compound of formula 4

Figure 112018122553865-pat00021
Figure 112018122553865-pat00021

질소분위기 하에서 2-목 플라스크에 인산칼륨(0.8 g, 0.006 mol), 반응물 4-1(0.3 g, 0.0017 mol)을 넣고 DMSO (80 mL)를 넣어 교반시켰다. 혼합물을 약 1시간동안 교반시킨 후, 반응물 4-2 (0.4 g, 0.0009 mol)을 DMSO (30 ml)에 녹여 첨가하였다. 이어서, 상온에서 72시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후에 침전물을 필터하고, 여과액을 받아 용매를 감압제거 하였다. 조질의(Crude) 혼합물을 컬럼크로마토그래피(메틸렌 클로라이드:헥산 = 1: 10 체적비)로 정제하여 최종물질인 화학식 4의 화합물(0.32 g)을 수득하였다. Potassium phosphate (0.8 g, 0.006 mol) and reactant 4-1 (0.3 g, 0.0017 mol) were added to a 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred with DMSO (80 mL). After the mixture was stirred for about 1 hour, reactant 4-2 (0.4 g, 0.0009 mol) was dissolved in DMSO (30 ml) and added. Subsequently, the reaction was allowed to proceed for 72 hours at room temperature. After the reaction was completed, the precipitate was filtered, and the filtrate was collected to remove the solvent under reduced pressure. The crude mixture was purified by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1: 10 volume ratio) to obtain the final compound of formula 4 (0.32 g).

실시예Example 5: 화학식 5의 화합물 5: compound of formula 5

Figure 112018122553865-pat00022
Figure 112018122553865-pat00022

화합물 5-1의 제조Preparation of compound 5-1

질소 분위기 하에서 500 mL 둥근 바닥 플라스크에 3-피리딘보론산 피나콜 에스테르 (10 g, 0.048 mol), 1,3,5-트리브로모벤젠(15 g, 0.024 mol), Pd(pph3)4 (2.7 g, 0.0024 mol)을 넣고 THF(200 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안의 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 200 mL)을 넣어 함께 교반시켰다. 80 ℃에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에 컬럼 크로마토그래피(에틸 아세테이트: 헥산=1:20 체적비)하여 순수한 화합물 5-1을 얻는다. 화합물 5-1의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.3-pyridineboronic acid pinacol ester (10 g, 0.048 mol), 1,3,5-tribromobenzene (15 g, 0.024 mol), Pd (pph 3 ) 4 ( 2.7 g, 0.0024 mol) was added and THF (200 mL) was added and stirred. When all the substances in the flask were dissolved, potassium carbonate solution (2N, 200 mL) was added and stirred together. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After completion of the reaction, column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1:20 volume ratio) yields pure compound 5-1. The yield and NMR data of compound 5-1 are as follows.

수율: 5.6 g (37 %)Yield: 5.6 g (37%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 9.2 (d, -CH-), 8.77 (d, -CH-), 8.48 (t, -CH-), 8.0 (s,-CH-), 7.62 (m,-CH-), 7.35 (s, -CH-)1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 9.2 (d, -CH-), 8.77 (d, -CH-), 8.48 (t, -CH-), 8.0 (s,-CH-), 7.62 (m,-CH-), 7.35 (s , -CH-)

화합물 5-2의 제조Preparation of compound 5-2

질소 분위기 하에서 1000 mL 둥근 바닥 플라스크에, 1,3,5-트리브로모벤젠 (15 g, 0.047 mol), 비스(피나콜라토)다이보론(36 g, 0.14 mol), 아세트산 칼륨 (13 g, 0.14 mol), Pd(pph3)4 (2.7 g, 0.0023 mol)을 넣고 1,4-다이옥산 (500 mL)를 넣어 교반시켰다. 110 ℃에서 24시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후 상온에서 식혀 에틸 아세테이트로 세척하였다. 여과액을 받아 용매를 모두 날린 후, 컬럼 크로마토그래피(메틸렌 클로라이드:헥산 =1:15 체적비)하여 화합물 5-2를 수득하였다. 화합물 5-2의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.To a 1000 mL round bottom flask under nitrogen atmosphere, 1,3,5-tribromobenzene (15 g, 0.047 mol), bis(pinacolato)diboron (36 g, 0.14 mol), potassium acetate (13 g, 0.14 mol), Pd(pph 3 ) 4 (2.7 g, 0.0023 mol) was added, and 1,4-dioxane (500 mL) was added and stirred. The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 24 hours. After the reaction, the mixture was cooled to room temperature and washed with ethyl acetate. After receiving the filtrate and blowing off all of the solvent, column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:15 volume ratio) gave compound 5-2. The yield and NMR data of compound 5-2 are as follows.

수율: 6.8 g (30 %)Yield: 6.8 g (30%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 7.48 (s, -CH-), 1.25(s,-CH3)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 7.48 (s, -CH-), 1.25(s,-CH 3 )

화합물 5-3의 제조 Preparation of compound 5-3

질소 분위기 하에서 500 mL 2-목 플라스크에, 화합물 5-2 (2 g, 0.004 mol), 화합물 5-1 (4.2 g, 0.013 mol), Pd(pph3)4 (0.23 g, 0.0002 mol)를 넣고, THF (80 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안의 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 80 mL)을 넣었다. 80 ℃에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후, 상온에서 식히고 에틸 아세테이트/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후, 컬럼크로마토그래피(에틸 아세테이트: 헥산 = 1:20 체적비)로 정제하여 화합물 5-3을 수득하였다. 화합물 5-3의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 500 mL 2-neck flask under nitrogen atmosphere, add compound 5-2 (2 g, 0.004 mol), compound 5-1 (4.2 g, 0.013 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.23 g, 0.0002 mol) , THF (80 mL) was added and stirred. Potassium carbonate solution (2N, 80 mL) was added when all the materials in the flask were dissolved. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled at room temperature and extracted with ethyl acetate/distilled water to separate the organic layer. After the solvent of the separated organic layer was blown away, it was purified by column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1:20 volume ratio) to obtain compound 5-3. The yield and NMR data of compound 5-3 are as follows.

수율: 1.8 g (52.6 %)Yield: 1.8 g (52.6 %)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 9.2 (d, -CH-), 8.77 (d, -CH-), 8.48 (t, -CH-), 7.7~7.35 (m, -CH-)1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 9.2 (d, -CH-), 8.77 (d, -CH-), 8.48 (t, -CH-), 7.7 to 7.35 (m, -CH-)

화합물 5-4의 제조 Preparation of compound 5-4

질소 분위기 하에서 250 mL 2-목 플라스크에, 화합물 5-3(1.5 g, 0.002 mol), 3-아미노피리딘-5-보론산 피나콜 에스테르 (1.3 g, 0.006 mol), Pd(pph3)4 (0.42 g, 0.00005 mol)를 넣고, THF (50 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안의 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 50 mL)을 넣었다. 80 ℃에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후, 상온에서 식히고 메틸렌 클로라이드/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후, 컬럼크로마토그래피(메틸렌 클로라이드:헥산 = 1: 15 체적비)로 정제하여 화합물 5-4를 수득하였다. 화합물 5-4의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.To a 250 mL 2-neck flask under a nitrogen atmosphere, compound 5-3 (1.5 g, 0.002 mol), 3-aminopyridine-5-boronic acid pinacol ester (1.3 g, 0.006 mol), Pd(pph 3 ) 4 ( 0.42 g, 0.00005 mol) was added, and THF (50 mL) was added and stirred. Potassium carbonate solution (2N, 50 mL) was added when all the materials in the flask were dissolved. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled at room temperature and extracted with methylene chloride/distilled water to separate the organic layer. After the solvent of the separated organic layer was blown off, purification was performed by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1: 15 volume ratio) to obtain compound 5-4. The yield and NMR data of compound 5-4 are as follows.

수율: 1 g (67 %)Yield: 1 g (67%)

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 9.2(d, -CH-), 8.9 (s, -CH-), 8.75 (d, -CH-), 8.42 (t, -CH-), 8.02 (s, -CH-), 7.05~6.95 (m, -CH-), 6.25 (s, -NH2)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 9.2(d, -CH-), 8.9 (s, -CH-), 8.75 (d, -CH-), 8.42 (t, -CH-), 8.02 (s, -CH-), 7.05-6.95 (m, -CH-), 6.25 (s, -NH 2 )

화학식 5의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 5

1.250 mL 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.4 g, 0.0016 mol)를 넣고 1시간동안 교반시키면서 질소분위기를 유지시켰다. 오르트산(orotic acid) (1.85 g, 0.012 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹인 후 반응 플라스크에 천천히 첨가하였다. 모둔 첨가한 후에 30분동안 교반하였다. 반응 플라스크에 화합물 5-4 (1 g, 0.004 mol)을 DMSO (10 ml)에 녹인 후 천천히 첨가하였다. 상온에서 6시간동안 반응시킨 후, 40 ℃에서 12 시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후 ??칭하고, 유기 용매층을 받아 용매를 모두 감압제거하였다. 에틸 아세테이트로 세척한 후에 조질의(crude) 물질을 컬럼크로마토그래피(에틸 아세테이트:헥산 = 1 : 20 체적비)로 정제하여 최종 물질인 화학식 5의 화합물을 수득하였다. 화학식 5의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Sodium hydride (0.4 g, 0.0016 mol) was added to a 1.250 mL 2-neck flask, and the nitrogen atmosphere was maintained while stirring for 1 hour. Orotic acid (1.85 g, 0.012 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and then slowly added to the reaction flask. After adding all, the mixture was stirred for 30 minutes. To the reaction flask, compound 5-4 (1 g, 0.004 mol) was dissolved in DMSO (10 ml) and then slowly added. After reacting at room temperature for 6 hours, the reaction was performed at 40°C for 12 hours. After the completion of the reaction, ?? was called, and the organic solvent layer was received to remove all of the solvent under reduced pressure. After washing with ethyl acetate, the crude material was purified by column chromatography (ethyl acetate:hexane = 1: 20 volume ratio) to obtain the final compound of formula (5). Yield and NMR data of the compound of Formula 5 are as follows.

수율: 0.9 g (20 %) Yield: 0.9 g (20%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11.48 (s, -NH-), 11.0 (s, -NH-), 8.33 (d, -CH-), 7.9 (s, -CH-), 7.75~7.22 (m, -CH-), 6.81 (d, -CH-), 6.25 (s, -NH-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11.48 (s, -NH-), 11.0 (s, -NH-), 8.33 (d, -CH-), 7.9 (s, -CH-), 7.75 to 7.22 (m, -CH-), 6.81 (d, -CH-), 6.25 (s, -NH-)

실시예Example 6: 화학식 6의 화합물 6: Compound of Formula 6

Figure 112018122553865-pat00023
Figure 112018122553865-pat00023

화합물 6-1의 제조Preparation of compound 6-1

질소 분위기 하에서 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.2 g, 0.008 mol)를 넣고 한시간 교반시켰다. 반응 플라스크에 우라실(3 g, 0.027 mol)을 DMSO (50 mL)에 녹인 후, 천천히 적가하였다. 우라실을 모두 넣은 뒤, 3-브로모-1-프로판올 (3.8 mL, 0.027 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹인 후 천천히 첨가하였다. 상온에서 48시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후에, ??칭하고 유기용매를 모두 감압제거하였다. 고체상태의 혼합물을 (에틸 아세테이트:헥산 = 1:4 체적비)로 세척하여 화합물 6-1을 수득하였다. 화학식 6-1의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.Sodium hydride (0.2 g, 0.008 mol) was added to a 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Uracil (3 g, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 mL) in a reaction flask, and then slowly added dropwise. After adding uracil, 3-bromo-1-propanol (3.8 mL, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and then slowly added. The reaction was allowed to proceed for 48 hours at room temperature. After the completion of the reaction, ?? and the organic solvent were all removed under reduced pressure. The solid mixture was washed with (ethyl acetate:hexane = 1:4 volume ratio) to give compound 6-1. Yield and NMR data of the compound of Formula 6-1 are as follows.

수율: 1.8 g (39 %)Yield: 1.8 g (39%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 8.97 (d, -CH-), 4.99 (d, -CH-), 4.5 (t,-CH2-), 3.6 (s, -OH), 1.99 (s, -CH3)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 11 (s, -NH-), 8.97 (d, -CH-), 4.99 (d, -CH-), 4.5 (t,-CH2-), 3.6 (s, -OH), 1.99 (s, -CH 3 )

화합물 6-2의 제조Preparation of compound 6-2

질소 분위기 하에서 250 mL 1-목 플라스크에, 1-(4-bromophenyl)2-phenylbenzimidazole (5 g, 0.014 mol), Bis (Pinacolato)diboron (3.6 g, 0.014 mol), potassium acetate (4.1 g, 0.042 mol), Pd(pph3)4 (0.8 g, 0.0007 mol) 을 넣고 1,4-다이옥산 (100 mL)를 넣어 교반시킨다. 110 ℃에서 24시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에 상온에서 식혀 에틸 아세테이트/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 감압제거한 후에, 컬럼 크로마토그래피(에틸 아세테이트:헥산 =1:20 체적비) 화합물 6-2을 수득하였다. 화학식 6-2의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.To a 250 mL 1-neck flask under a nitrogen atmosphere, 1-(4-bromophenyl)2-phenylbenzimidazole (5 g, 0.014 mol), Bis (Pinacolato)diboron (3.6 g, 0.014 mol), potassium acetate (4.1 g, 0.042 mol ), Pd(pph 3 ) 4 (0.8 g, 0.0007 mol) is added and 1,4-dioxane (100 mL) is added and stirred. The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 24 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled at room temperature and extracted with ethyl acetate/distilled water to separate the organic layer. After removing the solvent of the separated organic layer under reduced pressure, column chromatography (ethyl acetate:hexane = 1:20 volume ratio) to obtain compound 6-2. Yield and NMR data of the compound of Formula 6-2 are as follows.

수율: 4.3 g (78 %)Yield: 4.3 g (78%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-), 1.25 (s, -CH3)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-), 1.25 (s, -CH 3 )

화합물 6-3의 제조Preparation of compound 6-3

질소 분위기 하에서 200 mL 2-목 플라스크에, 화합물 6-2(4.3 g, 0.011 mol), 9,10-다이브로모안트라센(3.7 g, 0.011 mol), Pd(pph3)4 (0.6 g, 0.0005 mol)를 넣고, THF (100 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안의 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 100 mL)을 넣었다. 80 ℃에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후, 상온에서 식히고 에틸 아세테이트/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후, 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 = 1:5 체적비)로 정제하여 화합물 6-3을 수득하였다. 화학식 6-3의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 200 mL 2-neck flask under nitrogen atmosphere, compound 6-2 (4.3 g, 0.011 mol), 9,10-dibromoanthracene (3.7 g, 0.011 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.6 g, 0.0005 mol ) And THF (100 mL) was added and stirred. When all the substances in the flask were dissolved, a potassium carbonate solution (2N, 100 mL) was added. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled at room temperature and extracted with ethyl acetate/distilled water to separate the organic layer. After washing off the solvent of the separated organic layer, the compound was purified by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:5 volume ratio) to obtain compound 6-3. Yield and NMR data of the compound of Formula 6-3 are as follows.

수율: 5.5 g (95 %)Yield: 5.5 g (95%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-)

화합물 6-4의 제조Preparation of compound 6-4

질소 분위기 하에서 250 mL 1-목 플라스크에, 정제한 화합물 6-3 (5 g, 0.0095 mol), 비스(피나콜라토)다이보론 (2.4 g, 0.0095 mol), 아세트산 칼륨 (2.7 g, 0.028 mol), Pd(pph3)4 (0.5 g, 0.00048 mol)을 넣고 1,4-다이옥산(100 mL)을 넣어 교반시켰다. 110 ℃에서 24시간동안 환류시켜 반응을 진행하였다. 반응 종료 후에 상온에서 식혀 MC/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 감압제거한 후, 컬럼 크로마토그래피(에틸 아세테이트:헥산 =1:7 체적비)하여 화합물 6-4를 수득하였다. 화학식 6-4의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 250 mL 1-neck flask under a nitrogen atmosphere, purified compound 6-3 (5 g, 0.0095 mol), bis(pinacolato)diboron (2.4 g, 0.0095 mol), potassium acetate (2.7 g, 0.028 mol) , Pd(pph 3 ) 4 (0.5 g, 0.00048 mol) was added and 1,4-dioxane (100 mL) was added and stirred. The reaction was conducted by refluxing at 110° C. for 24 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled at room temperature and extracted with MC/distilled water to separate the organic layer. The solvent of the separated organic layer was removed under reduced pressure, and then subjected to column chromatography (ethyl acetate:hexane = 1:7 volume ratio) to obtain compound 6-4. Yield and NMR data of the compound of Formula 6-4 are as follows.

수율: 4.3 g (80 %)Yield: 4.3 g (80%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-), 1.25 (s, -CH3)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43 to 7.13 (m, -CH-), 1.25 (s, -CH 3 )

화합물 6-5의 제조Preparation of compound 6-5

질소 분위기 하에서 500 mL 2-목 플라스크에, 화합물 6-4 (4 g, 0.0052 mol), 1,3,5-트리브로모벤젠 (1.6 g, 0.0052 mol), Pd(pph3)4 (0.4 g, 0.00026 mol)를 넣고, THF (80 mL)를 넣어 교반시켰다. 플라스크 안에 물질이 모두 녹으면 탄산칼륨 용액(2N, 80 mL)을 넣었다. 80 ℃에서 12시간동안 환류시켜 반응을 진행 하였다. 반응 종료 후에, 상온에서 식히고 메틸렌 클로라이드/증류수로 추출하여 유기층을 분리하였다. 분리한 유기층의 용매를 모두 날린 후, 컬럼크로마토그래피 (메틸렌 클로라이드:헥산 = 1:4 체적비)로 정제하여 화합물 6-5를 수득하였다. 화학식 6-5의 화합물의 수율 및 NMR 데이터는 하기와 같다.In a 500 mL 2-neck flask under nitrogen atmosphere, compound 6-4 (4 g, 0.0052 mol), 1,3,5-tribromobenzene (1.6 g, 0.0052 mol), Pd(pph 3 ) 4 (0.4 g , 0.00026 mol) and THF (80 mL) was added and stirred. Potassium carbonate solution (2N, 80 mL) was added to the flask when all of the material was dissolved. The reaction was conducted by refluxing at 80° C. for 12 hours. After completion of the reaction, the mixture was cooled at room temperature and extracted with methylene chloride/distilled water to separate the organic layer. After the solvent of all the separated organic layers was blown off, purification was performed by column chromatography (methylene chloride:hexane = 1:4 volume ratio) to obtain compound 6-5. Yield and NMR data of the compound of Formula 6-5 are as follows.

수율: 1.1 g (31 %)Yield: 1.1 g (31%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = 7.68 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-)

화학식 6의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 6

질소분위기 하에서 100 mL 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.1 g, 0.04 mol)를 넣고 1시간동안 교반시켰다. 화합물 6-1 (0.5 g, 0.003 mol)을 넣고 DMSO (50 mL)에 녹인 후, 천천히 적가하였다. 화합물 6-1을 모두 넣은 후, 화합물 6-5) (1 g, 0.0015 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹여 첨가하였다. 상온에서 72시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후 침전물을 필터하고, 여과액을 받아 용매를 감압제거하였다. 조질의(Crude) 혼합물을 컬럼크로마토그래피(에틸 아세테이트: 헥산 = 1: 20 체적비)로 정제하여 최종 물질인 화학식 6의 화합물을 수득하였다. 수율: 0.65 g (51 %)Sodium hydride (0.1 g, 0.04 mol) was added to a 100 mL 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Compound 6-1 (0.5 g, 0.003 mol) was added, dissolved in DMSO (50 mL), and slowly added dropwise. After adding compound 6-1, compound 6-5) (1 g, 0.0015 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and added. The reaction was allowed to proceed at room temperature for 72 hours. After the reaction was completed, the precipitate was filtered, and the filtrate was received to remove the solvent under reduced pressure. The crude mixture was purified by column chromatography (ethyl acetate: hexane = 1: 20 volume ratio) to obtain the final compound of formula (6). Yield: 0.65 g (51%)

1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = δ = 11 (s, -NH-), 8.97 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-), 4.99 (d, -CH-), 4.5 (t,-CH2-), 3.6 (s, -OH), 1.99 (s, -CH3)1H NMR (DMSO, 300 MHz); δ = δ = 11 (s, -NH-), 8.97 (d, -CH-), 7.52 (d, -CH-), 7.48 (t, -CH-), 7.43~7.13 (m, -CH-) , 4.99 (d, -CH-), 4.5 (t,-CH2-), 3.6 (s, -OH), 1.99 (s, -CH 3 )

실시예Example 7: 화학식 7의 화합물 7: Compound of Formula 7

Figure 112018122553865-pat00024
Figure 112018122553865-pat00024

화합물 7-1의 제조Preparation of compound 7-1

1,3-다이브로모-5-헥실벤젠 (5g, 15.6mmol)을 탈수 다이에틸 에테르(dehydrated diethyl ether) (20mL)에 녹인 후 질소를 흘려 준다. 0 ℃에서 n-부틸 리튬 (10.75mL, 17.2mmol)을 넣어 준 후에 3시간 정도 반응시켰다. 2시간 후에 다이클로로다이페닐실란(1.97g, 7.8mmol)을 넣고 실온에서 12시간동안 계속 반응시켰다. 물을 첨가하여 반응을 종료시킨 후에 다이에틸 에테르로 추출하였다. 헥산을 사용하여 컬럼 크로마토그래피로 정제하였다. 수득한 화합물 7-1의 NMR은 하기와 같다.Dissolve 1,3-dibromo-5-hexylbenzene (5 g, 15.6 mmol) in dehydrated diethyl ether (20 mL), and then flow nitrogen. After adding n-butyl lithium (10.75mL, 17.2mmol) at 0°C, the reaction was performed for about 3 hours. After 2 hours, dichlorodiphenylsilane (1.97 g, 7.8 mmol) was added, and reaction was continued at room temperature for 12 hours. After completion of the reaction by adding water, extraction was performed with diethyl ether. Purified by column chromatography using hexane. The NMR of the obtained compound 7-1 is as follows.

1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ7.55 (d, 4H, J = 6.0 Hz), 7.40 - 7.49 (m, 10H), 7.30 (s, 2H), 2.57 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.58 (t, 4H, J = 6 Hz), 1.30 (m, 12H), 0.90 (t, 6H, J = 6 Hz).1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ7.55 (d, 4H, J = 6.0 Hz), 7.40-7.49 (m, 10H), 7.30 (s, 2H), 2.57 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.58 (t, 4H, J = 6 Hz), 1.30 (m, 12H), 0.90 (t, 6H, J = 6 Hz).

화합물 7-2의 제조Preparation of compound 7-2

화합물 7-11. (1) (3.9g, 5.9mmol)을 THF (25mL)에 녹인후, 5-(4,4,5,5-테트라메틸-1,3,2-다이옥사보롤란-2-일)피리딘-2-아민 (3g, 135.mmol)을 넣어준다. 그후에 4M K2CO3 수용액과 에탄올을 넣어주고 충분히 질소를 흘려주면서 Pd(PPh3)4 (0.54g, 0.47mmol)를 맨 마지막으로 첨가하였다. 12 시간동안 80 ℃에서 반응을 돌리고 반응 종료 후 물과 메틸렌 클로라이드로 추출하였다. 이어서, 에틸 아세테이트와 헥산을 1 : 8 체적비로 사용하여 컬럼 크로마토그래피로 정제하였다. 수득한 화합물 7-2의 NMR은 하기와 같다.Compound 7-11. (1) (3.9 g, 5.9 mmol) was dissolved in THF (25 mL), followed by 5-(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)pyridine-2 -Add amine (3g, 135.mmol). After that, 4M K2CO3 aqueous solution and ethanol were added and Pd(PPh 3 ) 4 (0.54g, 0.47mmol) was finally added while sufficiently flowing nitrogen. The reaction was run at 80°C for 12 hours, and after the reaction was completed, it was extracted with water and methylene chloride. Then, ethyl acetate and hexane were purified by column chromatography using a 1:8 volume ratio. The NMR of the obtained compound 7-2 is as follows.

1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ8.25 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.58 - 7.66 (m, 6H), 7.54 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.38 - 7.46 (m, 10H,), 6.53 (d, 2H, J = 9.0 Hz), 5.54 (s, 4H), 2.65 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.63 (t, 4H, J = 7.5 Hz), 1.29 - 1.37 (m, 12H,), 0.89 (t, 6H, J = 6 Hz).1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ8.25 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.58-7.66 (m, 6H), 7.54 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.38-7.46 (m, 10H ,), 6.53 (d, 2H, J = 9.0 Hz), 5.54 (s, 4H), 2.65 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.63 (t, 4H, J = 7.5 Hz), 1.29-1.37 (m , 12H,), 0.89 (t, 6H, J = 6 Hz).

화학식 7의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 7

화합물 7-2 2.2 g을 DMF 50 ml에 용해시켰다. 여기에 오로트산 1.5 g, 1-하이드록시벤조티아졸 하이드레이트(HOBt) 2 g 및 그리고 N,N-dicyclohexylcarbodiimide (DCC) 0.5 g의 혼합물을 첨가하였다. 질소를 흘려준 후에 12 시간동안 실온에서 반응시키고, 반응 종료 후 물:메틸렌 클로라이드 1 : 1 체적비로 추출하였다. 1 : 5 체적비의 에틸 아세테이트와 헥산을 사용하여 컬럼 크로마토그래피로 정제하였다. 수득된 화학식 7의 화합물은 하기 NMR 데이터를 가졌다. 2.2 g of compound 7-2 was dissolved in 50 ml of DMF. To this was added a mixture of 1.5 g orotic acid, 2 g 1-hydroxybenzothiazole hydrate (HOBt) and 0.5 g N,N-dicyclohexylcarbodiimide (DCC). After flowing nitrogen, the mixture was reacted at room temperature for 12 hours, and after completion of the reaction, water:methylene chloride 1:1 was extracted at a volume ratio. It was purified by column chromatography using 1:5 volume ratio of ethyl acetate and hexane. The obtained compound of Formula 7 had the following NMR data.

1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ10.00 (s, 2H), δ8.40 (d, 2H, J = 3.9 Hz), 8.26 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 8.02 (s, 2H), 7.84 (d, 2H, J = 6.3 Hz), 7.62 - 7.66 (m, 4H), 7.57 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.40 - 7.50 (m, 12H), 6.01 (s, 2H), 2.65 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.63 (t, 4H, J = 7.5 Hz), 1.29 - 1.37 (m, 12H,), 0.89 (t, 6H, J = 6 Hz).1H NMR (300 MHz, CDCl3) δ10.00 (s, 2H), δ8.40 (d, 2H, J = 3.9 Hz), 8.26 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 8.02 (s, 2H), 7.84 (d, 2H, J = 6.3 Hz), 7.62-7.66 (m, 4H), 7.57 (d, 2H, J = 3.0 Hz), 7.40-7.50 (m, 12H), 6.01 (s, 2H), 2.65 (t, 4H J = 7.5 Hz), 1.63 (t, 4H, J = 7.5 Hz), 1.29-1.37 (m, 12H,), 0.89 (t, 6H, J = 6 Hz).

실시예Example 8: 화학식 8의 화합물 8: Compound of Formula 8

Figure 112018122553865-pat00025
Figure 112018122553865-pat00025

화합물 8-1의 제조Preparation of compound 8-1

질소 분위기 하에 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.2 g, 0.008 mol)를 첨가하고 1시간동안 교반시켰다. 반응 플라스크에 우라실(3 g, 0.027 mol)을 DMSO (50 mL)에 녹인 후, 천천히 적가하였다. 우라실을 모두 첨가한 뒤, 3-브로모-1-프로판올(3.8 mL, 0.027 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹인 후 천천히 첨가하였다. 상온에서 48시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후에, ??칭하고 유기용매를 모두 감압제거하였다. 고체상태의 혼합물을 1:4 체적비의 에틸 아세테이트:헥산으로 세척하여 화합물 8-1을 수득하였다.Sodium hydride (0.2 g, 0.008 mol) was added to a 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Uracil (3 g, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 mL) in a reaction flask, and then slowly added dropwise. After adding all of uracil, 3-bromo-1-propanol (3.8 mL, 0.027 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and then slowly added. The reaction was allowed to proceed for 48 hours at room temperature. After the completion of the reaction, ?? and the organic solvent were all removed under reduced pressure. The solid mixture was washed with a 1:4 volume ratio of ethyl acetate:hexane to give compound 8-1.

화합물 8-2의 제조Preparation of compound 8-2

질소 분위기 하에 100 mL 2-목 플라스크에 소듐 하이드라이드 (0.1 g, 0.04 mol)를 넣고 1시간동안 교반시켰다. 화합물 8-1(1.5 g, 0.0088 mol)을 넣고 DMSO (50 mL) 에 녹인 후, 천천히 적가하였다. 화합물 8-1을 모두 첨가한 후에 1,4-다이브로모벤젠 (2.1 g, 0.0088 mol)을 DMSO (50 ml)에 녹여 첨가하였다. 상온에서 72시간동안 반응을 진행시켰다. 반응 종료 후 침전물을 필터하고, 여과액을 받아 용매를 감압제거하였다. 조질의(crude) 혼합물을, 1:20 체적비의 에틸 아세테이트:헥산을 사용하여 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 8-2를 수득하였다.Sodium hydride (0.1 g, 0.04 mol) was added to a 100 mL 2-neck flask under a nitrogen atmosphere and stirred for 1 hour. Compound 8-1 (1.5 g, 0.0088 mol) was added, dissolved in DMSO (50 mL), and slowly added dropwise. After all of compound 8-1 was added, 1,4-dibromobenzene (2.1 g, 0.0088 mol) was dissolved in DMSO (50 ml) and added. The reaction was allowed to proceed at room temperature for 72 hours. After the reaction was completed, the precipitate was filtered, and the filtrate was received to remove the solvent under reduced pressure. The crude mixture was purified by column chromatography using 1:20 volume ratio of ethyl acetate:hexane to give compound 8-2.

화합물 8-3의 제조Preparation of compound 8-3

질소분위기 하에서 250 mL 1-목 플라스크에 화합물 8-2 (2 g, 0.006 mol), 비스(4-브로모페닐)아민 (1.97 g, 0.006 mol), 인산칼륨 (1.8 g, 0.018 mol), CuI (0.1 g, 0.0006 mol), 트랜스-1,2-다이아미노시클로헥산 (0.68 mL, 0.006 mol), 1,4-다이옥산 (50 mL)을 첨가하였다. 80 ℃에서 48시간동안 반응시켰다. 반응 종료 후, ??칭하고 유기용매를 감압제거하였다. 고체상태의 혼합물을, 1:7 체적비의 메틸렌 클로라이드:헥산을 사용하여 컬럼크로마토그래피로 정제하여 화합물 8-3을 수득하였다Compound 8-2 (2 g, 0.006 mol), bis(4-bromophenyl)amine (1.97 g, 0.006 mol), potassium phosphate (1.8 g, 0.018 mol), CuI in a 250 mL 1-neck flask under nitrogen atmosphere (0.1 g, 0.0006 mol), trans-1,2-diaminocyclohexane (0.68 mL, 0.006 mol), 1,4-dioxane (50 mL) was added. The reaction was carried out at 80°C for 48 hours. After completion of the reaction, ?? and the organic solvent was removed under reduced pressure. The solid mixture was purified by column chromatography using a 1:7 volume ratio of methylene chloride:hexane to obtain compound 8-3.

화학식 8의 화합물의 제조Preparation of compound of formula 8

질소분위기 하에서 250 mL 1-목 플라스크에 화합물 8-3 (1.5 g, 0.0026 mol), 2,7-비스(4,4,5,5-테트라메틸-1,3,2-다이옥사보롤란-2-일)-9,9-다이-n-옥틸플루오렌(1.7 g, 0.0026 mol), 인산칼륨 (0.9 g, 0.0091 mol), CuI (0.05 g, 0.00026 mol), 트랜스-1,2-다이아미노시클로헥산 (0.72 mL, 0.0026 mol), 1,4-다이옥산 (30 mL)을 첨가하였다. 80 ℃에서 48시간동안 반응시켰다. 반응 종료 후에, ??칭하고 유기용매를 감압 제거하였다. 고체상태의 혼합물을, 1:10 체적비의 메틸렌 클로라이드:헥산을 사용하여 컬럼크로마토그래피로 정제하여 최종물질인 화학식 8의 화합물을 수득하였다. 수득된 화학식 8의 화합물의 NMR은 하기와 같다.Compound 8-3 (1.5 g, 0.0026 mol), 2,7-bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2 in a 250 mL 1-neck flask under a nitrogen atmosphere -Yl)-9,9-di-n-octylfluorene (1.7 g, 0.0026 mol), potassium phosphate (0.9 g, 0.0091 mol), CuI (0.05 g, 0.00026 mol), trans-1,2-diamino Cyclohexane (0.72 mL, 0.0026 mol), 1,4-dioxane (30 mL) was added. The reaction was carried out at 80°C for 48 hours. After completion of the reaction, ?? and the organic solvent was removed under reduced pressure. The solid mixture was purified by column chromatography using 1:10 volume ratio of methylene chloride:hexane to obtain the final compound of formula (8). The NMR of the obtained compound of Formula 8 is as follows.

1H NMR (CDCl3, 300 MHz); δ = 10 (s, -NH-), 9.62 (d, -H), 7.93 (d, -CH-), 7.15 (d, -CH-), 7.63~7.15 (m ,-CH-), 7.18(d, -CH-), 6.98 (d,-CH-), 6.87~6.74 (m,-CH-), 5.76 (d ,-H), 4.06~4.08 (t, -CH2-), 2.34(s, -CH3), 1.87 (d, -CH2-), 1.29 (s, -CH2-), 0.88 (t, -CH3)1H NMR (CDCl 3 , 300 MHz); δ = 10 (s, -NH-), 9.62 (d, -H), 7.93 (d, -CH-), 7.15 (d, -CH-), 7.63~7.15 (m,-CH-), 7.18( d, -CH-), 6.98 (d,-CH-), 6.87~6.74 (m,-CH-), 5.76 (d,-H), 4.06~4.08 (t, -CH 2 -), 2.34(s , -CH 3 ), 1.87 (d, -CH 2 -), 1.29 (s, -CH 2 -), 0.88 (t, -CH 3 )

실시예Example 9: 9: 광경화성Photocurable 조성물 1의 제조 Preparation of composition 1

실시예 1에서 수득된 화학식 1의 화합물 0.5 g을 용매 클로로벤젠 2 ml에 첨가하여 광경화성 조성물 1을 제조하였다. Photocurable composition 1 was prepared by adding 0.5 g of the compound of formula 1 obtained in Example 1 to 2 ml of solvent chlorobenzene.

실시예Example 10: 10: 광경화성Photocurable 조성물 2의 제조 Preparation of composition 2

실시예 2에서 수득된 화학식 2의 화합물을 사용하는 것을 제외하고 광경화 조성물 1의 제조와 동일한 방식으로, 광경화성 조성물 2를 제조하였다.A photocurable composition 2 was prepared in the same manner as in the preparation of the photocurable composition 1, except that the compound of formula 2 obtained in Example 2 was used.

실시예Example 11: 11: 광경화성Photocurable 조성물 3의 제조 Preparation of composition 3

실시예 3에서 수득된 화학식 3의 화합물을 사용하는 것을 제외하고 광경화 조성물 1의 제조와 동일한 방식으로, 광경화성 조성물 3을 제조하였다.Photocurable composition 3 was prepared in the same manner as in preparation of photocurable composition 1, except that the compound of formula 3 obtained in Example 3 was used.

실시예Example 12: 12: 광경화성Photocurable 조성물 4의 제조 Preparation of composition 4

실시예 5에서 수득된 화학식 5의 화합물을 사용하는 것을 제외하고 광경화 조성물 1의 제조와 동일한 방식으로, 광경화성 조성물 4을 제조하였다.Photocurable composition 4 was prepared in the same manner as in the preparation of photocurable composition 1, except that the compound of formula 5 obtained in Example 5 was used.

평가예Evaluation example 1: One: 용매에 대한 용해도 평가Solubility evaluation for solvents

용매에 대한 용해도 저항성을 평가하기 위하여 상기 광경화 조성물 1을 ITO 소재의 재질에 스핀 코팅 방법으로 약 40 nm 두께로 코팅하였다. 코팅후 UV 광경화를 실시하지 않은 예를 reference로 기재하였고, 코팅한 박막을 각각 5분, 10분, 20분, 30분, 60분 광조사 후에 사용한 용매인 클로로벤제에 약 1분간 담근 후에 다시 UV 스펙트럼을 측정하여 초기 reference 스펙트럼과 비교하여 도 2에 도시하였다. 도 2의 UV 스펙트럼의 비교로부터 UV 광원을 약 60분 이상 조사한 후에 광경화가 완전히 진행되었음을 알 수 있다. In order to evaluate the solubility resistance to the solvent, the photocurable composition 1 was coated with a material of ITO to a thickness of about 40 nm by spin coating. An example in which UV photocuring was not performed after coating was described as a reference, and the coated thin film was soaked in chlorobenze, a solvent used after light irradiation for 5 minutes, 10 minutes, 20 minutes, 30 minutes, and 60 minutes for about 1 minute, and then again. The UV spectrum was measured and compared to the initial reference spectrum, and shown in FIG. 2. It can be seen from the comparison of the UV spectrum of FIG. 2 that the photocuring has progressed completely after irradiating the UV light source for about 60 minutes or more.

실시예Example 13: 유기발광소자( 13: organic light emitting device ( OLEDOLED ) 제작 ) Production

ITO 위에 PEDOT:PSS를 코팅하여 정공 주입층(hole injection layer)을 형성시켰다. 그 위에 실시예 1에서 제조한 화학식 1의 화합물을 클로로벤젠에 녹여 스핀 방법으로 코팅한 후에 375 nm 파장범위의 UV 광하에서 60분간 광경화시켜 정공 수송층(hole transporting layer: HTL)을 형성시켰다. HTL 위에, 실시예 3에서 제조한 화학식 3의 화합물과 도펀트로 Ir(mppy)3를 섞어 클로로벤젠에 용해시킨 후 스핀코팅 방법으로 코팅하고 60분간 광경화시켜 발광층을 형성하였다. 또한, 발광층 위에, 실시예 5에서 제조한 화학식 5의 화합물을 포함한 광경화성 조성물 5을 준비한 후, 스핀코팅 방법으로 코팅하고 광경화시켜 전자수송층을 형성하였다. ETL 층위에 LiF와 Al을 진공 증착하여 전극을 형성하고 유기발광소자를 제작하였다. PEDOT:PSS was coated on ITO to form a hole injection layer. On top of that, the compound of Formula 1 prepared in Example 1 was dissolved in chlorobenzene and coated by a spin method, followed by photocuring for 60 minutes under UV light in a wavelength range of 375 nm to form a hole transporting layer (HTL). On HTL, Ir(mppy)3 was mixed with a compound of Formula 3 prepared in Example 3 and a dopant, dissolved in chlorobenzene, coated with a spin coating method, and photocured for 60 minutes to form a light emitting layer. In addition, after preparing the photocurable composition 5 containing the compound of formula 5 prepared in Example 5 on the light emitting layer, and coated with a spin coating method and photocured to form an electron transport layer. LiF and Al were vacuum-deposited on the ETL layer to form electrodes, and an organic light emitting device was fabricated.

평가예Evaluation example : 소자 구동: Device driving

전류 밀도 (I), 전압 (V), 발광세기 (L)는 Keithley 236 source measurement에 의해 측정되었다. 그 결과, 도 6과 도 7의 그래프가 수득되었다. 도 6의 그래프로부터 전압-전류 밀도 특성을 확인할 수 있고, 도 7의 그래프로부터 소자 효율을 확인할 수 있어, 본 발명의 유기발광소자가 정상 동작하는 것을 확인할 수 있으며, 이로부터 유기발광소자 내의 각 유기물층이 역할을 제대로 수행하고 있음을 알 수 있다.Current density (I), voltage (V), and luminescence intensity (L) were measured by Keithley 236 source measurement. As a result, graphs of FIGS. 6 and 7 were obtained. The voltage-current density characteristics can be confirmed from the graph of FIG. 6, and the device efficiency can be confirmed from the graph of FIG. 7, confirming that the organic light emitting device of the present invention operates normally, from which each organic material layer in the organic light emitting device You can see that it is performing this role properly.

Claims (9)

하기 화학식 I로 표시되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물:
[화학식 I]
Ar-(R1-R2-Py)n
상기 화학식 I에서,
n은 2 내지 10이고,
Ar은 n차 연결기를 갖는 치환 또는 비치환된 C6-C60아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C3-C60헤테로아릴기이고,
R1 및 R2는 각각 독립적으로, 단순결합, -O-, 치환 또는 비치환된 C6-C30아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C3-C30헤테로아릴렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 C1-C10 알콕실렌기, 치환 또는 비치환된 아미드기, 또는 치환 또는 비치환된 아민기이고,
Py은 피리미딘기, 우리실기 또는 티민기이다.
A photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group represented by the following formula (I):
[Formula I]
Ar-(R 1 -R 2 -Py)n
In the formula (I),
n is 2 to 10,
Ar is a substituted or unsubstituted C 6 -C 60 aryl group having an n-order linking group or a substituted or unsubstituted C 3 -C 60 heteroaryl group,
R 1 and R 2 are each independently a simple bond, -O-, a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 arylene group, a substituted or unsubstituted C 3 -C 30 heteroarylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkylene group, a substituted or unsubstituted C 1 -C 10 alkoxy group, a substituted or unsubstituted amide group, or a substituted or unsubstituted amine group,
Py is a pyrimidine group, a uryl group, or a thymine group.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 n은 2 내지 6인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물.
According to claim 1,
The n is a photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group of 2 to 6.
제1항에 있어서,
상기 Ar은 벤젠, 트리페닐아민, 트리아졸, 카바졸, 트리페닐벤젠, 테트라페닐실란, 펜타렌, 인덴, 나프틸렌, 플루오렌, 페나렌(phenarene), 아줄렌(azulene), 헵타렌(heptalene), 인다센(indacene), 아세나프틸렌(acenaphthylene), 플루오렌(fluorene), 페나렌(phenalene), 페난트렌(phenanthrene), 페릴렌(perylene), 펜타펜(pentaphene), 헥사센(hexacene), 티오펜(thiophene), 피롤(pyrrole), 피라졸(pyrazole), 피라졸리딘(pyrazolidine), 이미다졸(imidazole), 이미다졸리딘(imidazoline), 피라진(pyrazine), 피리미딘(pyrimidine), 인돌(indolye), 벤즈이미다졸(benzimidazole) 또는 퀴놀린(quinoline)으로부터 유래되는 연결기인 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물.
According to claim 1,
The Ar is benzene, triphenylamine, triazole, carbazole, triphenylbenzene, tetraphenylsilane, pentarene, indene, naphthylene, fluorene, phenarene, azulene, heptalene ), indacene, acenaphthylene, fluorene, phenalene, phenanthrene, perylene, pentaphene, hexacene , Thiophene, pyrrole, pyrazole, pyrazolidine, imidazole, imidazoline, pyrazine, pyrimimidine, A photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine-based functional group, which is a linking group derived from indolye, benzimidazole or quinoline.
제1항에 있어서,
상기 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물이 하기 화학식 1 내지 7 중 어느 하나로 표시되는 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물.
[화학식 1]
Figure 112020053843403-pat00026

[화학식 2]
Figure 112020053843403-pat00027

[화학식 3]
Figure 112020053843403-pat00028

[화학식 4]
Figure 112020053843403-pat00029

[화학식 5]
Figure 112020053843403-pat00030

[화학식 6]
Figure 112020053843403-pat00031

[화학식 7]
Figure 112020053843403-pat00032

According to claim 1,
A photocured product of a pyrimidine-based functional group-containing monomolecular compound represented by any one of the formulas 1 to 7 below.
[Formula 1]
Figure 112020053843403-pat00026

[Formula 2]
Figure 112020053843403-pat00027

[Formula 3]
Figure 112020053843403-pat00028

[Formula 4]
Figure 112020053843403-pat00029

[Formula 5]
Figure 112020053843403-pat00030

[Formula 6]
Figure 112020053843403-pat00031

[Formula 7]
Figure 112020053843403-pat00032

삭제delete 제1전극; 제2전극; 및 상기 제1전극과 상기 제2전극 사이에 제1항, 및 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물을 포함한 유기물층을 구비한 유기전자소자.
A first electrode; A second electrode; And an organic material layer including a photocured product of a monomolecular compound containing a pyrimidine functional group according to any one of claims 1 and 3 to 5, between the first electrode and the second electrode.
제7항에 있어서,
상기 유기물층이 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층, 정공 저지층, 전자 주입층, 전자 수송층, 또는 이들 중 2 이상의 층인 유기전자소자.
The method of claim 7,
An organic electronic device wherein the organic material layer is a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron injection layer, an electron transport layer, or two or more of them.
제 1 기판과;
상기 제 1 기판에 위치하는 구동 박막트랜지스터와;
상기 제 1 기판에 위치하며 상기 구동 박막트랜지스터에 연결되는 발광다이오드로서, 제1항, 및 제3항 내지 제5항 중 어느 한 항의 피리미딘계 작용기 함유 단분자 화합물의 광경화물을 적어도 하나의 유기물층에 포함하는 유기전자소자와;
상기 유기전자소자를 덮고 상기 제 1 기판과 합착되는 제 2 기판을 포함하는 표시 장치.
A first substrate;
A driving thin film transistor positioned on the first substrate;
A light-emitting diode located on the first substrate and connected to the driving thin film transistor, wherein the photocured product of the monomolecular compound containing the pyrimidine-based functional group of any one of claims 1 and 3 to 5 is at least one organic layer. An organic electronic device included in the;
A display device comprising a second substrate covering the organic electronic device and bonding to the first substrate.
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