KR102119009B1 - Method of preparing the stretchable substrate and method of preparing the flexible electronic device comprising the same - Google Patents

Method of preparing the stretchable substrate and method of preparing the flexible electronic device comprising the same Download PDF

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Abstract

본 발명은 (a) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계; (b) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계;를 포함하는 신축성 기판의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 신축성 기판을 형성할 고분자 용액의 특정영역에 경화제를 삽입함으로써, 상기 기판을 경화시켜 형성된 하드한 패턴부를 포함하는 신축성 기판을 사용할 때, 반복되는 신축 후에도 기판과 소자 간의 분리가 발생하지 않아 소자의 효율을 유지할 수 있다. 또한, 이와 같은 신축성 기판을 적용하여 다양한 신축성 전자기기에 응용할 수 있다.The present invention comprises the steps of: (a) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate; (b) a first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution Forming a second portion comprising; And (c) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate including a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate. . In the present invention, when a stretchable substrate including a hard pattern portion formed by curing the substrate is inserted by inserting a curing agent into a specific region of a polymer solution to form a stretchable substrate, separation between the substrate and the device does not occur even after repeated stretching. The efficiency of the device can be maintained. In addition, the flexible substrate can be applied to various flexible electronic devices.

Description

신축성 기판의 제조방법 및 그를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법{METHOD OF PREPARING THE STRETCHABLE SUBSTRATE AND METHOD OF PREPARING THE FLEXIBLE ELECTRONIC DEVICE COMPRISING THE SAME}Manufacturing method of stretchable substrate and manufacturing method of stretchable electronic device including the same{METHOD OF PREPARING THE STRETCHABLE SUBSTRATE AND METHOD OF PREPARING THE FLEXIBLE ELECTRONIC DEVICE COMPRISING THE SAME}

본 발명은 신축성 기판의 제조방법 및 그를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 신축성 기판을 형성할 고분자 용액의 특정 영역에 경화제를 삽입함으로써, 상기 기판을 경화시켜 하드하게 형성된 패턴부를 포함하는 신축성 기판의 제조방법 및 그를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법에 관한 것이다. The present invention relates to a method of manufacturing a stretchable substrate and a method of manufacturing a stretchable electronic device comprising the same, and more specifically, by inserting a curing agent in a specific region of a polymer solution to form a stretchable substrate, the substrate is cured to be hardly formed. It relates to a method of manufacturing a stretchable substrate including a pattern portion and a method of manufacturing a stretchable electronic device comprising the same.

스트레처블 전자기기는 신축 하에서도 기능을 유지할 수 있는 장치로서, 기존의 딱딱한 전자기기와 부드러운 곡선형 시스템간의 기계적 부조화를 해소하기 위한 유망한 해결책으로서 각광받고 있다. 스트레처블 전자기기의 발전을 위해 기계적으로 내구성이 있는 새로운 재료, 변형 가능한 도체 및 회로, 새로운 가공 방법, 그리고 스트레처블 기판을 위한 탄성 재료의 개발에 대해 학계와 산업계로부터 집중적인 연구가 진행되고 있다. 그 중에서도, 신축성의 기판은 가해진 변형을 견디는 요소를 구성하고, 그렇게 함으로써 소자에 신축성을 부여하여 스트레처블 전자기기의 전체적인 성능에 중요한 특성을 부여한다. Stretchable electronic devices are devices that can maintain their function even under new construction, and have been spotlighted as a promising solution to resolve mechanical mismatch between existing rigid electronic devices and soft curved systems. In order to develop stretchable electronic devices, intensive research has been conducted from academia and industry to develop new materials that are mechanically durable, deformable conductors and circuits, new processing methods, and elastic materials for stretchable substrates. have. Among them, the stretchable substrate constitutes an element that withstands the applied strain, thereby giving the device elasticity, thereby giving important properties to the overall performance of the stretchable electronic device.

현재까지의 연구들에서는 스트레처블 장치를 구현하기 위해 신축성 기판 재료로서 실리콘 기반의 탄성 중합체를 많이 이용해왔다. 하지만 기존의 탄성 중합체 재료들로 제작한 기판은 소자 제작 공정에서 딱딱한 소자 부분과 연한 기판 부분 간 기계적 물성의 불균형으로 인해 서로 분리되는 문제가 발생하기 때문에 새로운 신축성 기판을 제작하기 위한 기술 개발이 필수적이다. 또한, 기존의 기판 재료를 이용한 공정은 복잡하고, 여러 단계의 공정을 거쳐야 하므로 스트레처블 전자기기의 상용화를 위해서 간단하고 짧은 공정을 통한 제조 기술 개발이 요구되고 있다.To date, studies have used silicon-based elastomers as a stretchable substrate material to implement stretchable devices. However, since substrates made of existing elastomeric materials have a problem of being separated from each other due to imbalance of mechanical properties between the rigid element portion and the soft substrate portion in the element fabrication process, it is essential to develop a technique for manufacturing a new flexible substrate. . In addition, since the process using the existing substrate material is complicated and requires a multi-step process, the development of manufacturing technology through a simple and short process is required for commercialization of stretchable electronic devices.

본 발명의 목적은 상기 문제점을 해결하기 위한 것으로, 신축성 기판을 형성할 고분자 용액의 특정 영역에 경화제를 삽입함으로써, 상기 기판을 경화시켜 하드하게 형성된 패턴부를 포함하는 신축성 기판의 제조방법을 제공하는 데 있다. An object of the present invention is to solve the above problems, and by inserting a curing agent into a specific region of a polymer solution to form a stretchable substrate, to provide a method for manufacturing a stretchable substrate including a hardly formed pattern portion by curing the substrate. have.

또한, 이와 같은 신축성 기판이 반복되는 신축 후에도 기판과 소자 간의 분리가 발생하지 않아 소자의 성능이 유지되는 신축성 전자기기의 제조방법을 제공하는 데 있다.In addition, it is to provide a method for manufacturing a stretchable electronic device in which the performance of the device is maintained because separation between the substrate and the device does not occur even after the stretchable substrate is repeatedly stretched.

또한 경화시 커버를 사용함으로써 신축 영역과 비신축 영역의 경계의 부분의 높이 차이가 없어 높은 평평도를 갖는 신축성 기판을 제공하는 데 있다.Also, by using a cover during curing, there is no difference in height between a portion of the boundary between the stretchable region and the non-stretchable region, thereby providing a stretchable substrate having high flatness.

본 발명의 일 측면에 따르면, (a) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계; (b) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계;를 포함하는 신축성 기판의 제조방법이 제공된다. According to an aspect of the present invention, (a) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate; (b) a first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution Forming a second portion comprising; And (c) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate including a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate. .

상기 제1 경화제 및 제2 경화제의 투입량을 각각 조절하여 상기 제1 경화 고분자부와 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수를 제어할 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be controlled to control the elastic modulus of the first curing polymer part and the second curing polymer part by adjusting the input amounts of the first curing agent and the second curing agent, respectively.

상기 제2 경화제의 투입이 주사 탐침 방법, 잉크젯 프린팅 방법, 임프린팅 방법, 3D 프린팅 방법, 슬롯-다이 코팅 방법 및 스프레이 코팅 방법 중에서 선택된 1종 이상의 방법으로 수행될 수 있다.The injection of the second curing agent may be performed by one or more methods selected from a scanning probe method, an inkjet printing method, an imprinting method, a 3D printing method, a slot-die coating method, and a spray coating method.

상기 제2 경화제가 상기 소정부분에 50 내지 500μm 간격으로 투입될 수 있다.The second curing agent may be introduced at 50 to 500 μm intervals to the predetermined portion.

상기 단계 (b)와 (c) 사이에 (b') 상기 제1 부분 및 제2 부분 상에 상기 제1 부분 및 제2 부분의 일부 또는 전부의 표면에 접하도록 커버를 위치시키는 단계;를 추가로 포함할 수 있다. (B') between the steps (b) and (c), placing the cover on the first part and the second part so as to abut the surface of some or all of the first part and the second part; It can contain as.

상기 커버가 유리, 고분자, 금속, 세라믹 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The cover may include at least one selected from the group consisting of glass, polymer, metal, ceramic and mixtures thereof.

상기 제2 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density)가 제1 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density) 보다 클 수 있다.The crosslinking density of the second cured polymer portion may be greater than the crosslinking density of the first cured polymer portion.

상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(modulus)가 제1 경화 고분자부의 탄성계수(modulus) 보다 클 수 있다.The modulus of the second cured polymer portion may be greater than the modulus of the first cured polymer portion.

상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)가 0.8 내지 3.0 MPa이고, 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)가 15 내지 110 Mpa일 수 있다.The elastic modulus (Ms) of the first cured polymer portion may be 0.8 to 3.0 MPa, and the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer portion may be 15 to 110 Mpa.

상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)의 비(Mp/ Ms)가 5.0 내지 137.5일 수 있다.The ratio (Mp/Ms) of the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer portion to the elastic modulus (Ms) of the first cured polymer portion may be 5.0 to 137.5.

상기 신축성 기판의 신장 변형 시 상기 제1 경화 고분자부의 스트레인에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 스트레인의 비가 0 내지 1%일 수 있다.When stretching the stretchable substrate, the ratio of the strain of the second cured polymer portion to the strain of the first cured polymer portion may be 0 to 1%.

상기 기재가 유리, 세라믹, 및 고분자 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate may include any one selected from glass, ceramic, and polymer.

상기 올리고머가 주사슬과 상기 주사슬에 공유결합된 작용기를 포함하고, 상기 작용기가 비닐기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 히드록시기, 티올기, 카르복실기 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고, 상기 주사슬이 실리콘, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리우레탄, 폴리스타이렌, 폴리아크릴레이트, 폴리아릴레이트, 폴리에스터, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고, 상기 올리고머는 상기 주사슬에 복수개의 상기 작용기가 공유결합된 것일 수 있다.The oligomer includes a functional group covalently bonded to the main chain and the main chain, and the functional group includes at least one selected from a vinyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a hydroxyl group, a thiol group, and a carboxyl group, and the main chain is silicone, Polydimethylsiloxane, polytetrafluoroethylene, polyurethane, polystyrene, polyacrylate, polyarylate, polyester, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyimide, polyamide, acrylic resin, epoxy resin, amino It may include one or more selected from resins and phenolic resins, and the oligomer may be a plurality of functional groups covalently attached to the main chain.

상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH)n(OR)4 -n(n은 1 내지 4의 정수, R은 C1-C10 알킬기), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa(ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4,6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di(ethylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether,Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2-dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimethanol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′-Dithiodipropionic acid ester), 및 Suberic acid bis(3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be the same or different from each other, each independently orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH) n (OR) 4 -n (n is an integer from 1 to 4, R is a C1-C10 alkyl group ), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa( ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer (maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4, 6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H) -trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di( ethylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3 ,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether, Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2 ′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2 -dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimetha nol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′-Dithiodipropionic acid ester), and Suberic acid bis (3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester).

상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 구조식 1로 표시되는 화합물일 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be the same as or different from each other, and each independently may be a compound represented by Structural Formula 1.

[구조식 1][Structural Formula 1]

Figure 112019024054256-pat00001
Figure 112019024054256-pat00001

상기 구조식 1에서, In the structural formula 1,

A는 탄소원자 또는 규소원자이고,A is a carbon atom or a silicon atom,

R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, C1-C10 알콕시기, 에폭시기, 또는 글리시딜기이고,R 1 to R 4 may be the same or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, a C1-C10 alkoxy group, an epoxy group, or a glycidyl group,

R1 내지 R4는 동시에 수소원자가 아니다.R 1 to R 4 are not hydrogen atoms at the same time.

상기 R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, 또는 C1-C10 알콕시기일 수 있다.R 1 to R 4 may be the same or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, or a C1-C10 alkoxy group.

단계 (c) 후에 상기 신축성 기판을 상기 기재에서 분리하는 단계 (d)를 추가로 포함할 수 있다.After step (c), the step (d) of separating the stretchable substrate from the substrate may be further included.

본 발명의 다른 측면에 따르면, (1) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계; (2) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계; (3) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계; 및 (4) 상기 제2 경화 고분자부 상에 전자소자 또는 전극을 위치시키는 단계;를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법이 제공된다. According to another aspect of the invention, (1) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate; (2) A first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution. Forming a second portion comprising; (3) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate comprising a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate; And (4) positioning an electronic device or an electrode on the second cured polymer part. A method of manufacturing a stretchable electronic device is provided.

상기 신축성 전자기기의 제조방법이 상기 단계 (3)와 (4) 사이에, 상기 제2 경화 고분자부 상에 접착층을 위치시키는 단계 (3')를 추가로 포함할 수 있다. The method for manufacturing the stretchable electronic device may further include a step (3') of placing an adhesive layer on the second cured polymer portion between steps (3) and (4).

상기 전자소자가 박막트랜지스터, 태양전지, 유기발광다이오드 및 디스플레이 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The electronic device may include at least one selected from a thin film transistor, a solar cell, an organic light emitting diode, and a display.

본 발명의 신축성 기판의 제조방법은 신축성 기판을 형성할 고분자 용액의 특정 영역에 경화제를 삽입함으로써, 상기 기판을 경화시켜 하드하게 형성된 패턴부를 포함하는 신축성 기판을 사용할 때, 기판과 소자 간의 분리가 발생하지 않는 효과가 있다. In the method of manufacturing the stretchable substrate of the present invention, when a stretchable substrate including a hardly formed pattern portion is cured by inserting a curing agent into a specific region of a polymer solution to form a stretchable substrate, separation between the substrate and the device occurs There is an effect that does not.

또한, 상기 신축성 기판의 제조방법을 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법은 반복되는 신축 후에도 소자의 성능이 유지되는 효과가 있다.In addition, the method of manufacturing a stretchable electronic device including the method of manufacturing the stretchable substrate has an effect that the performance of the device is maintained even after repeated stretching.

또한 신축성 기판의 제조방법은 경화시 커버를 사용함으로써 신축 영역과 비신축 영역의 경계의 부분의 높이 차이가 없어 신축성 기판이 높은 평평도를 갖는 효과가 있다. In addition, the method of manufacturing the stretchable substrate has an effect that the stretchable substrate has a high flatness because there is no difference in height between the boundary between the stretchable region and the non-stretchable region by using a cover during curing.

도 1은 본 발명에 따른 신축성 기판의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 2a 및 2b는 실시예 2 및 실시예 1에 따른 신축성 기판의 구조도이다.
도 3은 실시예 1에 따른 신축성 기판에서 위치에 따른 탄성계수 변화를 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 실시예 1 및 비교예 4에 따라 제조된 신축성 기판의 내구성을 비교한 그래프이다.
도 5는 실시예 1에 따른 신축성 기판에서 신축 영역과 비신축 영역의 변형율을 나타낸 도면이다.
도 6은 두께에 따른 신축성 기판의 스트레스(stress)-스트레인(strain) 곡선이다.
1 is a flow chart for explaining a method of manufacturing a stretchable substrate according to the present invention.
2A and 2B are structural views of the stretchable substrate according to Example 2 and Example 1.
3 is a view for explaining a change in the elastic modulus depending on the position in the stretchable substrate according to the first embodiment.
4 is a graph comparing the durability of the stretchable substrate prepared according to Example 1 and Comparative Example 4.
5 is a view showing strain rates of stretchable and non-stretchable regions in the stretchable substrate according to the first embodiment.
6 is a stress-strain curve of a stretchable substrate according to thickness.

이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하도록 한다. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains may easily practice.

그러나, 이하의 설명은 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.However, the following description is not intended to limit the present invention to specific embodiments, and when it is determined that a detailed description of known technologies related to the present invention may obscure the subject matter of the present invention, the detailed description will be omitted. .

본원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used herein are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, terms such as “include” or “have” are intended to indicate that a feature, number, step, operation, component, or combination thereof described in the specification exists, or that one or more other features or It should be understood that the existence or addition possibilities of numbers, steps, actions, elements, or combinations thereof are not excluded in advance.

또한, 어떤 구성요소가 다른 구성요소 상에 "형성되어" 있다거나 "적층되어" 있다고 언급된 때에는, 그 다른 구성요소의 표면 상의 전면 또는 일면에 직접 부착되어 형성되어 있거나 적층되어 있을 수도 있지만, 중간에 다른 구성요소가 더 존재할 수도 있다고 이해되어야 할 것이다.Also, when a component is referred to as being “formed” or “stacked” on another component, it may be formed or stacked directly attached to the front or one side of the surface of the other component, but may be intermediate. It should be understood that there may be other components in the.

도 1은 본 발명에 따른 신축성 기판의 제조방법을 설명하기 위한 순서도이다. 1 is a flow chart for explaining a method of manufacturing a stretchable substrate according to the present invention.

이하, 도 1을 참조하여, 본 발명의 신축성 기판의 제조방법에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Hereinafter, a method for manufacturing the stretchable substrate of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1. However, this is presented as an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of claims to be described later.

본 발명은 (a) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계; (b) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계; 및 (c) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계;를 포함하는 신축성 기판의 제조방법을 제공한다.The present invention comprises the steps of: (a) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate; (b) a first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution Forming a second portion comprising; And (c) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate including a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate. .

상기 제1 경화제 및 제2 경화제의 투입량을 각각 조절하여 상기 제1 경화 고분자부와 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수를 제어할 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be controlled to control the elastic modulus of the first curing polymer part and the second curing polymer part by adjusting the input amounts of the first curing agent and the second curing agent, respectively.

상기 제2 경화제의 투입이 주사 탐침 방법, 잉크젯 프린팅 방법, 임프린팅 방법, 3D 프린팅 방법, 슬롯-다이 코팅 방법 및 스프레이 코팅 방법 중에서 선택된 1종 이상의 방법으로 수행될 수 있다. The injection of the second curing agent may be performed by one or more methods selected from a scanning probe method, an inkjet printing method, an imprinting method, a 3D printing method, a slot-die coating method, and a spray coating method.

상기 제2 경화제가 상기 소정부분에 50 내지 500μm 간격으로 투입될 수 있다.The second curing agent may be introduced at 50 to 500 μm intervals to the predetermined portion.

상기 단계 (b)와 (c) 사이에 (b') 상기 제1 부분 및 제2 부분 상에 상기 제1 부분 및 제2 부분의 일부 또는 전부의 표면에 접하도록 커버를 위치시키는 단계;를 추가로 포함할 수 있다. (B') between the steps (b) and (c), placing the cover on the first part and the second part so as to abut the surface of some or all of the first part and the second part; It can contain as.

상기 커버가 유리, 고분자, 금속, 세라믹 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The cover may include at least one selected from the group consisting of glass, polymer, metal, ceramic and mixtures thereof.

상기 제2 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density)가 제1 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density) 보다 클 수 있다.The crosslinking density of the second cured polymer portion may be greater than the crosslinking density of the first cured polymer portion.

상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(modulus)가 제1 경화 고분자부의 탄성계수(modulus) 보다 클 수 있다.The modulus of the second cured polymer portion may be greater than the modulus of the first cured polymer portion.

상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)가 0.8 내지 3.0 MPa이고, 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)가 15 내지 110 MPa일 수 있다.The elastic modulus (Ms) of the first cured polymer part may be 0.8 to 3.0 MPa, and the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer part may be 15 to 110 MPa.

상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)의 비(Mp/ Ms)가 5.0 내지 137.5일 수 있다.The ratio (Mp/Ms) of the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer portion to the elastic modulus (Ms) of the first cured polymer portion may be 5.0 to 137.5.

상기 신축성 기판의 신장 변형 시 상기 제1 경화 고분자부의 스트레인에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 스트레인의 비가 0 내지 1%일 수 있다.When stretching the stretchable substrate, the ratio of the strain of the second cured polymer portion to the strain of the first cured polymer portion may be 0 to 1%.

상기 기재가 유리, 세라믹, 및 고분자 중에서 선택된 어느 하나를 포함할 수 있다.The substrate may include any one selected from glass, ceramic, and polymer.

상기 올리고머가 주사슬과 상기 주사슬에 공유결합된 작용기를 포함하고, 상기 작용기가 비닐기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 히드록시기, 티올기, 카르복실기 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고, 상기 주사슬이 실리콘, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리우레탄, 폴리스타이렌, 폴리아크릴레이트, 폴리아릴레이트, 폴리에스터, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지 중에서 선택된 1종 이상 포함하고, 상기 올리고머는 상기 주사슬에 복수개의 상기 작용기가 공유결합된 것 일 수 있다.The oligomer includes a functional group covalently bonded to the main chain and the main chain, and the functional group includes at least one selected from a vinyl group, an epoxy group, an isocyanate group, a hydroxyl group, a thiol group, and a carboxyl group, and the main chain is silicone, Polydimethylsiloxane, polytetrafluoroethylene, polyurethane, polystyrene, polyacrylate, polyarylate, polyester, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyimide, polyamide, acrylic resin, epoxy resin, amino It may include one or more selected from resins and phenolic resins, and the oligomer may be a covalent bond of a plurality of the functional groups to the main chain.

여기서 올리고머는 소중합체이며 분자량이 200 내지 10,000 이하의 것을 말한다. 올리고머는 중합 정도가 높은 고분자 화합물 같은 수지상(樹脂狀) 물질이 아니며, 보통의 유기물과 마찬가지로 증류 및 분리할 수 있고 용액으로 존재할 수 있다. 또한 1종 또는 여러 종의 원자 혹은 원자단(구성 단위)이 수 개에서 수십개 서로 반복 연결되어 형성된 분자로, 그 물리적 성질이 1 내지 수 개의 구성 단위의 증감에 따라 변화할 수 있다.Here, the oligomer is an oligomer and has a molecular weight of 200 to 10,000 or less. The oligomer is not a dendritic material such as a polymer compound having a high degree of polymerization, and can be distilled and separated and can be present as a solution like ordinary organic materials. In addition, one or several types of atoms or atomic groups (structural units) are molecules formed by repeatedly connecting dozens to dozens of each other, and their physical properties may change according to the increase or decrease of 1 to several structural units.

상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH)n(OR)4 -n(n은 1 내지 4의 정수, R은 C1-C10 알킬기), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa(ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4,6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di(ethylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether,Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2-dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimethanol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide ester, 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide ester, 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide ester, 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide ester, Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′-Dithiodipropionic acid ester), 및 Suberic acid bis(3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester) 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be the same or different from each other, each independently orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH) n (OR) 4 -n (n is an integer from 1 to 4, R is a C1-C10 alkyl group ), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa( ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer (maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4, 6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H) -trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di( ethylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3 ,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether, Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2 ′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2 -dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimetha nol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide ester, 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide ester, 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide ester, 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide ester, Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′ -Dithiodipropionic acid ester), and Suberic acid bis (3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester).

상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 구조식 1로 표시되는 화합물일 수 있다.The first curing agent and the second curing agent may be the same as or different from each other, and each independently may be a compound represented by Structural Formula 1.

[구조식 1] [Structural Formula 1]

Figure 112019024054256-pat00002
Figure 112019024054256-pat00002

상기 구조식 1에서, In the structural formula 1,

A는 탄소원자 또는 규소원자이고,A is a carbon atom or a silicon atom,

R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, C1-C10 알콕시기, 에폭시기, 또는 글리시딜기이고,R 1 to R 4 may be the same or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, a C1-C10 alkoxy group, an epoxy group, or a glycidyl group,

R1 내지 R4는 동시에 수소원자가 아니다.R 1 to R 4 are not hydrogen atoms at the same time.

상기 R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, 또는 C1-C10 알콕시기일 수 있다.R 1 to R 4 may be the same or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, or a C1-C10 alkoxy group.

단계 (c) 후에 상기 신축성 기판을 상기 기재에서 분리하는 단계 (d)를 추가로 포함할 수 있다.After step (c), the step (d) of separating the stretchable substrate from the substrate may be further included.

본 발명의 다른 측면에 따르면, (1) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계; (2) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계; (3) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계; 및 (4) 상기 제2 경화 고분자부 상에 전자소자 또는 전극을 위치시키는 단계;를 포함하는 신축성 전자기기의 제조방법이 제공된다. According to another aspect of the invention, (1) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate; (2) A first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution. Forming a second portion comprising; (3) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate comprising a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate; And (4) positioning an electronic device or an electrode on the second cured polymer part. A method of manufacturing a stretchable electronic device is provided.

상기 신축성 전자기기의 제조방법이 상기 단계 (3)와 (4) 사이에, 상기 제2 경화 고분자부 상에 접착층을 위치시키는 단계 (3')를 추가로 포함할 수 있다. The method for manufacturing the stretchable electronic device may further include a step (3') of placing an adhesive layer on the second cured polymer portion between steps (3) and (4).

상기 전자소자가 박막트랜지스터, 태양전지, 유기발광다이오드 및 디스플레이 중에서 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다.The electronic device may include at least one selected from a thin film transistor, a solar cell, an organic light emitting diode, and a display.

[실시예][Example]

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 설명하도록 한다. 그러나 이는 예시를 위한 것으로서 이에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described. However, this is for illustrative purposes, and the scope of the present invention is not limited thereby.

실시예 1: 경화제 주입 방법을 통해 제조된 신축성 기판 1Example 1: Stretchable substrate 1 prepared through a curing agent injection method

본 실시예에서는 신축성 기판을 구성하기 위해 실리콘 고무인 PDMS(Sylgard184, Dow corning)를 사용하였는데, 이는 초기에 두가지 용액으로 구성되어 있다. 첫번째 용액은 기본 PDMS 올리고머로서 vinyl 작용기를 가진 실리콘 수지에 용해된 소량의 유기-플래티넘 촉매, 즉 Karstedt 촉매로 구성되어 있으며, 두번째 용액은 경화제로서 말단에 vinyl 작용기를 갖는 PDMS 고분자와 trimethylsiloxy 작용기 말단을 갖는 poly(methylhydrosiloxane) 고분자로 구성되어 있다. 상기 두가지 용액이 서로 섞이면 플래티넘 촉매의 존재 하에 vinyl 작용기와 hydrosilane의 수소가 수소화규소첨가 반응 (hydrosilylation)을 통해 가교 결합이 일어나면서 신축성 기판을 형성하게 된다.In this embodiment, a silicone rubber PDMS (Sylgard184, Dow corning) was used to construct a stretchable substrate, which was initially composed of two solutions. The first solution is a basic PDMS oligomer consisting of a small amount of an organo-platinum catalyst dissolved in a silicone resin having a vinyl function, that is, a Karstedt catalyst, and the second solution has a PDMS polymer having a vinyl function at the end and a trimethylsiloxy function end as a curing agent. It is composed of poly(methylhydrosiloxane) polymer. When the two solutions are mixed with each other, in the presence of a platinum catalyst, hydrogen of the vinyl functional group and hydrosilane is crosslinked through a hydrogenation reaction to form a stretchable substrate.

상기 두가지 용액을 20:1의 무게 비율로 혼합하여 완전히 섞이도록 5분 동안 저어주었다. 이어서 상기 PDMS 혼합 용액 내의 기포를 제거하기 위해 5분 동안 진공 처리를 한 후, 평평한 플라스틱 또는 유리 용기 상에 혼합 용액을 일정한 속도로 부었다. 용기 표면에 상기 PDMS 혼합 용액이 완전히 퍼진 후 경화시키기 전에 추가 경화제로서 orthosilicic acid 용액을 전체 기판 면적의 20% 내지 30% 해당하는 면적에, 주사 탐침을 이용하여 원형 형상으로 정밀하게 주입하였다. 상기 추가 경화제로 이용된 orthosilicic acid는 PDMS 고분자 주사슬과 hydrosilylation 반응을 하여 더 높은 밀도의 가교 결합을 유도하여, 상기 신축성 기판 내에 비신축 영역(hard)을 형성할 수 있다. 이후 신축 영역(soft)과 비신축 영역(hard)간 경계의 높이 차이를 조절하기 위하여 평평한 플라스틱 또는 유리 용기로 혼합 용액 층에 접하게 덮어주고, 70℃ 오븐에서 2시간 동안 경화시켰다. 이후 전체 신축성 기판 층을 상부(혼합용액층을 덮어주는 용기) 및 하부(혼합용액이 부어진 용기)에 위치한 두 용기로부터 떼어내어 하드한 패턴부(비신축 영역)가 형성된 신축성 기판을 제작하였다.The two solutions were mixed at a weight ratio of 20:1 and stirred for 5 minutes to mix thoroughly. Then, after vacuuming for 5 minutes to remove air bubbles in the PDMS mixed solution, the mixed solution was poured at a constant rate on a flat plastic or glass container. After the PDMS mixed solution was completely spread on the container surface, orthosilicic acid solution as an additional curing agent was precisely injected into a circular shape using a scanning probe in an area corresponding to 20% to 30% of the total substrate area before curing. The orthosilicic acid used as the additional curing agent may undergo a hydrosilylation reaction with the PDMS polymer main chain to induce higher density crosslinking, thereby forming a non-stretchable region (hard) in the stretchable substrate. Thereafter, in order to control the height difference between the boundary between the soft region and the soft region (hard), the mixture solution layer was covered with a flat plastic or glass container and cured in an oven at 70° C. for 2 hours. Thereafter, the entire stretchable substrate layer was separated from the two containers located at the top (the container covering the mixed solution layer) and the bottom (the container where the mixed solution was poured) to produce a stretchable substrate having a hard pattern portion (non-stretched area).

실시예 2: 경화제 주입 방법을 통해 제조된 신축성 기판 2Example 2: Stretchable substrate 2 prepared through curing agent injection method

실시예 1에서 평평한 플라스틱 또는 유리 용기로 혼합 용액 층에 접하게 덮어주고 경화시키는 대신에 평평한 플라스틱 또는 유리 용기로 혼합 용액 층을 덮지 않고 경화시키는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.It was prepared in the same manner as in Example 1, except that instead of covering and curing the mixed solution layer with a flat plastic or glass container in Example 1, without curing the mixed solution layer with a flat plastic or glass container.

비교예 1: Sylgard 184를 이용한 PDMS 기판Comparative Example 1: PDMS substrate using Sylgard 184

현재까지 사용되고 있는 신축성 기판을 비교예로 제작하기 위해 실리콘 고무인 PDMS를 사용하였고, 이는 실시예 1에서 사용한 두가지 용액과 동일한 용액으로 구성되어 있다. PDMS, which is a silicone rubber, was used to fabricate a stretchable substrate used as a comparative example, and it is composed of the same solution as the two solutions used in Example 1.

상기 두가지 용액을 20:1의 무게 비율로 혼합하여 완전히 섞이도록 5분 동안 저어주었다. 이어서 상기 PDMS 혼합 용액 내의 기포를 제거하기 위해 5분 동안 진공 처리를 한 후, 평평한 플라스틱 또는 유리 용기 상에 혼합 용액을 일정한 속도로 부었다. 용기 표면에 상기 PDMS 혼합 용액이 완전히 퍼진 후, 70℃ 오븐에서 2시간 동안 경화시켰다. 이후 형성된 투명한 필름 층을 용기로부터 떼어내어 신축성 기판을 제작하였다.The two solutions were mixed at a weight ratio of 20:1 and stirred for 5 minutes to mix thoroughly. Then, after vacuuming for 5 minutes to remove air bubbles in the PDMS mixed solution, the mixed solution was poured at a constant rate on a flat plastic or glass container. After the PDMS mixed solution was completely spread on the surface of the container, it was cured in an oven at 70° C. for 2 hours. Thereafter, the formed transparent film layer was removed from the container to produce a stretchable substrate.

비교예 2: Ecoflex 00-30을 이용한 실리콘 고무 기판Comparative Example 2: Silicon rubber substrate using Ecoflex 00-30

백금 촉매 반응을 통한 silicone rubber로서 Ecoflex 00-30(Smooth-On)은 1A(실리콘 수지와 백금 촉매 함유)와 1B(경화제), 두 가지 액체로 구성되어 있으며, 이 둘을 무게 비율 1:1로 혼합하여 완전히 섞이도록 5분 동안 저어주었다. 이어서 혼합 용액 내의 기포를 제거하기 위해 5분 동안 진공 처리를 하였다. 이후 평평한 플라스틱 또는 유리 용기 상에 혼합 용액을 일정한 속도로 부었다. 용기 표면에 상기 혼합 용액이 완전히 퍼진 후, 70 ℃ 오븐에서 2 시간 동안 경화시켰다. 이후 형성된 반투명한 필름 층을 떼어내어 신축성 기판을 제작하였다.As a silicone rubber through platinum catalytic reaction, Ecoflex 00-30 (Smooth-On) is composed of two liquids: 1A (containing silicone resin and platinum catalyst) and 1B (curing agent). Mix and stir for 5 minutes to mix thoroughly. It was then vacuumed for 5 minutes to remove air bubbles in the mixed solution. The mixed solution was then poured on a flat plastic or glass container at a constant rate. After the mixture solution was completely spread on the surface of the container, it was cured in an oven at 70° C. for 2 hours. Thereafter, the formed translucent film layer was removed to produce a stretchable substrate.

비교예Comparative example 3: Polystyrene-block- 3: Polystyrene-block- polypoly (ethylene-ran-(ethylene-ran- butylenebutylene )-block-polystyrene (SEBS) 기판 Tuftec H1062)-block-polystyrene (SEBS) substrate Tuftec H1062

SEBS는 탄성을 보이는 블록 공중합체로서 Tuftec H1062는 poly(ethylene-co- butylene)의 부피분율이 82 %로 구성되어 있으며, pellet 형태의 제품을 toluene에 200mg/ml의 농도로 용해시켜 기판을 제작하였다. 이후 플라스틱 용기 상에 SEBS 용액을 일정한 속도로 부었다. 용기 표면에 상기 혼합 용액이 완전히 퍼진 후, toluene 용매 증발을 위해 70 ℃ 오븐에서 2 시간 동안 보관하였다. 이후 형성된 투명한 필름 층을 떼어내어 신축성 기판을 제작하였다.SEBS is an elastic block copolymer. Tuftec H1062 has a poly(ethylene-co-butylene) volume fraction of 82%, and a pellet-type product is dissolved in toluene at a concentration of 200mg/ml to produce a substrate. . The SEBS solution was then poured on a plastic container at a constant rate. After the mixture solution was completely spread on the surface of the container, it was stored in an oven at 70° C. for 2 hours to evaporate the toluene solvent. Thereafter, the formed transparent film layer was removed to produce a stretchable substrate.

비교예 4: PDMS 완전 경화 후 경화제를 주입하여 제조된 신축성 기판Comparative Example 4: Stretchable substrate prepared by injecting a curing agent after complete curing of PDMS

실시예 1에서 용기 표면에 PDMS 혼합 용액이 완전히 퍼진 후 경화시키기 전에 추가 경화제로서 orthosilicic acid 용액을 주입하는 대신에, 용기 표면에 PDMS 혼합 용액이 완전히 퍼지고 완전히 경화시킨 후 추가 경화제로서 orthosilicic acid 용액을 전체 기판 면적의 20% 내지 30% 해당하는 면적에, 주사 탐침을 이용하여 원형 형상으로 주입하는 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하였다.In Example 1, instead of injecting the orthosilicic acid solution as an additional curing agent before curing after the PDMS mixed solution was completely spread on the container surface, the PDMS mixed solution was completely spread on the container surface and completely cured orthosilicic acid solution as an additional curing agent It was prepared in the same manner as in Example 1, except that 20% to 30% of the substrate area was injected into a circular shape using a scanning probe.

[시험예][Test Example]

시험예 1: 신축성 기판의 경도 비교Test Example 1: Comparison of the hardness of the stretchable substrate

표 1은 실시예 1에 따라 제조된 신축성 기판에서 하드한 패턴부(비신축 영역)의 경도와 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 신축성 기판의 경도를 측정하여 비교한 경도 시험 결과이다. 경도는 Shore durometer type A를 통해 측정하였는데, 이는 주로 고분자 또는 탄성중합체의 경도를 측정하는데 이용한다. Durometer 기기의 indentor로 샘플 표면의 특정 부위에 load를 가했을 시, indentation의 깊이에 따라 추산하여 샘플의 경도 값을 얻을 수 있다. 또한, 이 값을 탄성계수 값으로 환산하여 비교할 수 있다. Table 1 shows the hardness test results obtained by measuring and comparing the hardness of the hard pattern portion (non-stretch region) and the hardness of the stretchable substrate prepared according to Comparative Examples 1 to 3 in the stretchable substrate prepared according to Example 1. Hardness was measured through Shore durometer type A, which is mainly used to measure the hardness of polymers or elastomers. When a load is applied to a specific part of the sample surface with the indentor of the Durometer device, the hardness value of the sample can be obtained by estimating according to the depth of the indentation. In addition, this value can be converted into an elastic modulus value and compared.

기판Board Shore HardnessShore Hardness ModulusModulus 실시예 1Example 1 9898 109.9109.9 비교예 1Comparative Example 1 4141 1.81.8 비교예 2Comparative Example 2 2222 0.80.8 비교예 3Comparative Example 3 5757 3.23.2

표 1을 참조하면, 실시예 1에 따라 제조된 신축성 기판에서 패턴부의 탄성계수가 109.9 MPa로 가장 높으며, 비교예 2에 따라 제조된 신축성 기판의 탄성계수가 0.8 MPa로 가장 낮았다. 따라서, 신축성 기판의 특정영역에 경화제를 주입함으로써 형성된 하드한 패턴부의 경도(hardness)가 경화제가 주입되지 않은 신축영역의 경도보다 5배 내지 137.5배 증가한 것을 알 수 있었다.Referring to Table 1, in the stretchable substrate prepared according to Example 1, the elastic modulus of the pattern portion was the highest at 109.9 MPa, and the elastic modulus of the stretchable substrate prepared according to Comparative Example 2 was the lowest at 0.8 MPa. Therefore, it was found that the hardness of the hard pattern portion formed by injecting the curing agent into a specific region of the stretchable substrate increased by 5 to 137.5 times than the hardness of the expansion region where the curing agent was not injected.

시험예 2: 신축성 기판의 전체적인 연신율 비교Test Example 2: Comparison of the overall elongation of the stretchable substrate

표 2는 실시예 1 및 비교예 1 내지 3에 따라 제조된 신축성 기판의 전체적인 연신율을 비교한 결과를 나타낸 것이다.Table 2 shows the results of comparing the overall elongation of the stretchable substrates prepared according to Example 1 and Comparative Examples 1 to 3.

기판Board Elongation at break (%)Elongation at break (%) 실시예 1Example 1 7070 비교예 1Comparative Example 1 142142 비교예 2Comparative Example 2 680680 비교예 3Comparative Example 3 420420

표 2를 참조하면, 경화제를 삽입하여 하드한 패턴부(비신축 영역)가 형성된 신축성 기판의 전체적인 연신율이 감소하는 것으로 보아 부분적으로 추가적인 경화가 진행되었다는 것을 알 수 있었다. Referring to Table 2, it was found that the additional elongation proceeded in part because the overall elongation of the stretchable substrate on which the hard pattern portion (non-stretched region) was formed by inserting a curing agent was decreased.

시험예 3: 신축성 기판의 신축 영역과 비신축 영역간 경계 높이 차이 조절Test Example 3: Adjusting the height difference between the stretched and non-stretched areas of the stretchable substrate

도 2a 및 2b는 실시예 2 및 실시예 1에 따른 신축성 기판의 구조도이다. 2A and 2B are structural views of the stretchable substrate according to Example 2 and Example 1.

도 2a 및 2b를 참조하면, 비신축 영역을 갖는 신축성 기판의 제작과정에서 용기로 덮지 않고 제작한 실시예 2(도 2a)와 용기로 덮어서 제작한 실시예 1(도 2b)의 구조를 비교한 결과, 용기로 덮지 않고 제작한 실시예 2는 신축 영역과 비신축 영역간 경계의 높이 차이가 있으며, 용기로 덮어서 제작한 실시예 1은 두 영역간 경계의 높이 차이 없이 평평하게 기판이 형성된 것을 알 수 있었다.2A and 2B, the structure of Example 2 (FIG. 2A) fabricated without covering with a container and Example 1 (FIG. 2B) fabricated with a container in a process of manufacturing a stretchable substrate having a non-stretchable region is compared. As a result, it can be seen that Example 2 produced without covering with a container has a difference in height between the boundary between the stretched region and the non-stretched region, and Example 1 produced by covering with a container has a flat substrate formed without a difference in height between the boundary between the two regions. .

이는 상기 기판의 제작과정에 따라 기판이 다르게 형성될 수 있다는 것을 나타내며, 두 영역간 경계의 높이 차이가 없는 기판이 신축성 전자 소자에 적용됨에 있어서 다른 딱딱한 소자와 연결시키는데 용이하고, 소자 구동 시 발생할 수 있는 결함을 줄일 수 있다는 것으로 보인다. This indicates that the substrate may be formed differently according to the manufacturing process of the substrate, and the substrate having no difference in height between the two regions can be easily connected to other hard devices because it is applied to the stretchable electronic device and may occur when driving the device. It seems to reduce defects.

시험예 4: 신축성 기판에서의 위치에 따른 탄성계수 변화Test Example 4: Elastic modulus change according to the position on the stretchable substrate

실시예 1에 따라 제조된 신축성 기판에서 신축 영역과 비신축 영역의 위치에 따른 탄성계수를 비교하기 위해, 상기 시험예 1에서 이용한 durometer 기기를 통해 기판 샘플의 측정 부위를 옮겨가면서 경도를 측정하고 탄성계수 값으로 환산하였다. 도 3은 실시예 1에 따른 신축성 기판에서 위치에 따른 탄성계수 변화를 설명하기 위한 도면이다.In order to compare the elastic modulus according to the position of the stretched region and the non-stretched region in the stretchable substrate prepared according to Example 1, the hardness was measured and the elasticity was measured while moving the measurement region of the substrate sample through the durometer instrument used in Test Example 1 It was converted into a coefficient value. 3 is a view for explaining a change in the elastic modulus depending on the position in the stretchable substrate according to the first embodiment.

도 3을 참조하면, 실시예 1에 따라 제조된 신축성 기판에서 신축 영역에서는 낮은 탄성계수를 보이는 반면, 비신축 영역이 형성된 부분부터 탄성계수가 급격하게 증가하여 큰 차이의 탄성계수를 갖는 두 영역이 한 기판 내에 형성된 것을 알 수 있었다. Referring to FIG. 3, in the stretchable substrate manufactured according to Example 1, the elastic region shows a low elastic modulus, whereas the elastic modulus increases rapidly from the portion where the non-stretch region is formed, so that the two regions having the elastic modulus of a large difference It was found that it was formed in one substrate.

시험예 5: 신축성 기판의 내구성 실험Test Example 5: Durability test of stretchable substrate

도 4는 실시예 1 및 비교예 4에 따라 제조된 신축성 기판의 내구성을 비교한 그래프이다. 실시예 1에 따라 제조된 신축성 기판과 비교예 4에 따라 제조된 기판을 가지고 자동 신축 반복 기기를 통해 기판 샘플의 초기 길이 대비 각각 20%, 30%, 40%, 50% 그리고 60%의 변형율 하에서 반복 신축 주기를 가한 후, 각각의 신축성 기판의 비신축 영역이 지니는 내구성을 비교한 실험이다. 4 is a graph comparing the durability of the stretchable substrate prepared according to Example 1 and Comparative Example 4. Under the strains of 20%, 30%, 40%, 50%, and 60%, respectively, compared to the initial length of the substrate sample through an automatic stretching and repeating apparatus having the stretched substrate prepared according to Example 1 and the substrate prepared according to Comparative Example 4 It is an experiment comparing the durability of the non-stretch region of each stretchable substrate after applying a repetition stretch cycle.

도 4를 참조하면, 여러 신축 조건에서 실시예 1에 따라 PDMS 경화 전 추가 경화제를 주입하여 제조된 비신축 영역을 포함하는 신축성 기판이 비교예 4에 따라 PDMS를 완전히 경화 후 추가 경화제를 주입하여 제조된 비신축 영역을 포함하는 신축성 기판보다 비신축 영역에서 일어나는 균열에 대한 내구성이 더 우수함을 확인할 수 있었다. 이는 실시예 1에 따라 제조한 신축성 기판이 높은 신축 내구성을 보이며 신축성 전자 소자에 적용하기에 더 적합한 것으로 보인다. Referring to FIG. 4, a stretchable substrate including a non-stretchable region prepared by injecting an additional curing agent prior to PDMS curing according to Example 1 under various stretching conditions is prepared by completely curing PDMS according to Comparative Example 4 and then injecting an additional curing agent It was confirmed that the durability against cracks occurring in the non-stretch region is better than the stretchable substrate including the non-stretch region. It appears that the stretchable substrate prepared according to Example 1 exhibits high stretch durability and is more suitable for application to stretchable electronic devices.

시험예 6: 신축성 기판의 소프트부 및 하드부 변형률 비교Test Example 6: Comparison of the strain rate of the soft and hard parts of the stretchable substrate

도 5는 실시예 1에 따른 신축성 기판에서 신축 영역과 하드한 영역의 변형율을 나타낸 도면이다. 도 6에서 Soft part는 실시예 1에 따른 신축성 기판의 신축 영역에서 측정한 변형율이고, Hard part는 비신축 영역에서 측정한 변형율이다.5 is a view showing the strain rate of the stretchable region and the hard region in the stretchable substrate according to the first embodiment. In FIG. 6, the soft part is the strain measured in the stretch region of the stretchable substrate according to Example 1, and the hard part is the strain measured in the non-stretch region.

도 5를 참조하면, 외부에서 가해지는 변형에 따라 신축 영역과 비신축 영역에서 발생되는 변형율을 알 수 있다. 외부에서 가해지는 변형이 증가할수록 신축 영역에서 발생되는 변형율은 계속 증가하나, 비신축 영역에서 발생되는 변형율은 변화가 거의 없는 것을 알 수 있다. 즉, 실시예 1에 따른 신축성 기판의 비신축 영역은 비 신축성 소재로 이루어짐으로써, 기계적 강도가 실시예 1에 따른 신축성 기판의 신축 영역보다 크기 때문에 변형이 거의 일어나지 않는다.Referring to FIG. 5, it is possible to know the strain rate generated in the stretched and non-stretched regions according to the deformation applied from the outside. It can be seen that as the strain applied from the outside increases, the strain generated in the stretch region continues to increase, but the strain generated in the non-stretch region has little change. That is, since the non-stretchable region of the stretchable substrate according to Example 1 is made of a non-stretchable material, deformation hardly occurs because the mechanical strength is greater than that of the stretchable substrate according to Example 1.

시험예 8: 신축성 기판의 두께에 따른 물성변화 비교Test Example 8: Comparison of physical property change according to the thickness of the stretchable substrate

도 6은 실시예 1에 따른 방법으로 두께를 달리하여 제조한 신축성 기판의 물성을 비교한 그래프이다. 하기 표 3에 두께에 따른 연신율 및 모듈러스 값을 기재하였다.6 is a graph comparing the physical properties of the stretchable substrate prepared by varying the thickness by the method according to Example 1. Table 3 below shows the elongation and modulus values according to the thickness.

기판의 두께 (um)Substrate thickness (um) Elongation (%)Elongation (%) Modulus (MPa)Modulus (MPa) 100100 3535 0.210.21 200200 4444 0.280.28 300300 5252 0.390.39 400400 5959 0.660.66 500500 6363 0.820.82 600600 7070 1.121.12 700700 7373 1.21.2 800800 8282 1.421.42 900900 8888 1.621.62 10001000 9393 1.781.78

도 6 및 표 3을 참조하면, 신축성 기판의 두께가 100um 에서 1000um로 두께가 증가할수록 연신율(elongation) 모듈러스(modulus)는 계속적으로 증가하였다.따라서 두께에 따라 연신율 및 모듈러스를 조절하여 원하는 물성을 지니는 신축성 하이브리드 기판을 제작할 수 있을 것으로 보인다. Referring to FIG. 6 and Table 3, as the thickness of the stretchable substrate increased from 100 um to 1000 um, the elongation modulus continued to increase. Therefore, the elongation modulus was adjusted according to the thickness to have desired properties. It seems that a flexible hybrid substrate can be produced.

시험예Test example 9: 신축성 기판의 추가 경화제의 비율 증가에 따른 신축특성(stretching) 비교 9: Comparison of stretch properties according to the increase in the proportion of additional curing agent in the stretchable substrate

표 4에 실시예 1에 따른 방법으로 추가 경화제의 비율을 달리하여 신축특성을 비교한 결과를 기재하였다. Table 4 shows the results of comparing the elastic properties by varying the proportions of the additional curing agent by the method according to Example 1.

추가 경화제의 전체 기판 면적의 비율 (vol%)Ratio of total substrate area of additional curing agent (vol%) Elongation (%)Elongation (%) Modulus (MPa)Modulus (MPa) 2020 7676 0.780.78 2222 7474 0.880.88 2424 7373 1.001.00 2626 7373 1.101.10 2828 7272 1.421.42 3030 7272 1.661.66

표 4에 따르면 추가 경화제의 전체 기판 면적의 비율을 증가함에 따라 모듈러스 (moudulus)가 계속 증가함을 알 수 있고 연신율(elongation)은 큰 변화가 없음을 확인할 수 있다. 따라서 위와 같이 추가 경화제의 전체 기판 면적의 비율을 조절하여 원하는 모듈러스(modulus)를 지니는 신축성 하이브리드 기판을 제작할 수 있을 것으로 보인다.According to Table 4, as the proportion of the total substrate area of the additional curing agent increases, it can be seen that the modulus continues to increase and the elongation does not change significantly. Therefore, it seems that it is possible to manufacture a stretchable hybrid substrate having a desired modulus by adjusting the ratio of the total substrate area of the additional curing agent as described above.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the above detailed description, and it should be interpreted that all changes or modified forms derived from the meaning and scope of the claims and equivalent concepts thereof are included in the scope of the present invention. do.

Claims (20)

(a) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계;
(b) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계;
(b') 상기 제1 부분 및 제2 부분 상에 상기 제1 부분 및 제2 부분의 일부 또는 전부의 표면에 접하도록 커버를 위치시키는 단계; 및
(c) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계;를
포함하는 신축성 기판의 제조방법.
(a) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate;
(b) a first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution Forming a second portion comprising;
(b') placing a cover on the first portion and the second portion so as to abut some or all surfaces of the first portion and the second portion; And
(c) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate comprising a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate;
Method for manufacturing a stretchable substrate containing.
제1항에 있어서,
상기 제1 경화제 및 제2 경화제의 투입량을 각각 조절하여 상기 제1 경화 고분자부와 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수를 제어하는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
Method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that to control the elastic modulus of the first cured polymer portion and the second cured polymer portion by adjusting the input amount of the first curing agent and the second curing agent, respectively.
제1항에 있어서,
상기 제2 경화제의 투입이 주사 탐침 방법, 잉크젯 프린팅 방법, 임프린팅 방법, 3D 프린팅 방법, 슬롯-다이 코팅 방법 및 스프레이 코팅 방법 중에서 선택된 1종 이상의 방법으로 수행되는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
Method for manufacturing a stretchable substrate, characterized in that the second curing agent is introduced by at least one method selected from a scanning probe method, an inkjet printing method, an imprinting method, a 3D printing method, a slot-die coating method, and a spray coating method. .
제1항에 있어서,
상기 제2 경화제가 상기 소정부분에 50 내지 500μm 간격으로 투입되는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
The method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that the second curing agent is introduced at 50 to 500 μm intervals to the predetermined portion.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 커버가 유리, 고분자, 금속, 세라믹 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
Method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that the cover comprises at least one selected from the group consisting of glass, polymer, metal, ceramic and mixtures thereof.
제1항에 있어서,
상기 제2 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density)가 제1 경화 고분자부의 가교밀도(crosslinking density) 보다 큰 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
A method of manufacturing a stretchable substrate, wherein the crosslinking density of the second cured polymer portion is greater than the crosslinking density of the first cured polymer portion.
제1항에 있어서,
상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(modulus)가 제1 경화 고분자부의 탄성계수(modulus) 보다 큰 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
A method of manufacturing a stretchable substrate, wherein the modulus of the second cured polymer portion is greater than the modulus of the first cured polymer portion.
제1항에 있어서,
상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)가 0.8 내지 3.0 MPa이고, 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)가 15 내지 110 MPa인 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
Method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that the elastic modulus (Ms) of the first cured polymer portion is 0.8 to 3.0 MPa, and the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer portion is 15 to 110 MPa.
제1항에 있어서,
상기 제1 경화 고분자부의 탄성계수(Ms)에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 탄성계수(Mp)의 비(Mp/ Ms)가 5.0 내지 137.5 인 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
A method of manufacturing a stretchable substrate, wherein the ratio (Mp/Ms) of the elastic modulus (Mp) of the second cured polymer portion to the elastic modulus (Ms) of the first cured polymer portion is 5.0 to 137.5.
제1항에 있어서,
상기 신축성 기판의 신장 변형 시 상기 제1 경화 고분자부의 스트레인에 대한 상기 제2 경화 고분자부의 스트레인의 비가 0 내지 1%인 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
A method for manufacturing a stretchable substrate, wherein the ratio of the strain of the second cured polymer portion to the strain of the first cured polymer portion is 0 to 1% when the strain of the stretchable substrate is stretched.
제1항에 있어서,
상기 기재가 유리, 세라믹, 및 고분자 중에서 선택된 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
Method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that the substrate comprises any one selected from glass, ceramic, and polymer.
제1항에 있어서,
상기 올리고머가 주사슬과 상기 주사슬에 공유결합된 작용기를 포함하고,
상기 작용기가 비닐기, 에폭시기, 이소시아네이트기, 히드록시기, 티올기, 카르복실기 중에서 선택된 1종 이상을 포함하고,
상기 주사슬이 실리콘, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane), 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리우레탄, 폴리스타이렌, 폴리아크릴레이트, 폴리아릴레이트, 폴리에스터, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리아미드, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 아미노 수지, 페놀 수지 중에서 선택된 1종 이상 포함하고,
상기 올리고머는 상기 주사슬에 복수개의 상기 작용기가 공유결합된 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
The oligomer includes a main chain and a functional group covalently attached to the main chain,
The functional group includes at least one selected from vinyl group, epoxy group, isocyanate group, hydroxy group, thiol group, carboxyl group,
The main chain is silicone, polydimethylsiloxane, polytetrafluoroethylene, polyurethane, polystyrene, polyacrylate, polyarylate, polyester, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyimide, polyamide, acrylic Contains at least one selected from resins, epoxy resins, amino resins, and phenol resins,
The oligomer is a method of manufacturing a stretchable substrate, characterized in that a plurality of functional groups are covalently bonded to the main chain.
제1항에 있어서,
상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고,각각 독립적으로 orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH)n(OR)4 -n(n은 1 내지 4의 정수, R은 C1-C10 알킬기), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa(ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4,6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H)-trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di(ethylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether,Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2-dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimethanol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′-Dithiodipropionic acid di(N-hydroxysuccinimide ester), 및 Suberic acid bis(3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester) 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
The first curing agent and the second curing agent may be the same or different from each other, each independently orthosilicic acid, tetravinylsilane, Si(OH) n (OR) 4 -n (n is an integer from 1 to 4, R is a C1-C10 alkyl group ), 3-(Triethoxysilyl)propyl isocyanate, Bis(2-methacryloyl)oxyethyl disulfide, 1,4-Bis(4-vinylphenoxy)butane, Divinylbenzene, p-Divinylbenzene, Glycerol ethoxylate, Glycerol ethoxylate-co-propoxylate triol, Hexa( ethylene glycol) dithiol, 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer(maleimide terminated), 2-[8-(3-Hexyl-2,6-dioctylcyclohexyl)octyl]pyromellitic diimide oligomer (maleimide terminated), 11-Maleimidoundecanoic acid, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol ethoxylate, Pentaerythritol propoxylate, 1,4-Phenylenediacryloyl chloride, Poly(ethylene glycol) bisazide, Ethylene glycol diacrylate, Poly(ethylene glycol) diacrylate, 2,4, 6,8-Tetramethyl-2,4,6,8-tetrakis(propyl glycidyl ether)cyclotetrasiloxane, 1,3,5-Triallyl-1,3,5-triazine-2,4,6(1H,3H,5H) -trione, Di(ethylene glycol) diacrylate, Ethylene glycol dimethacrylate, Di(e thylene glycol) dimethacrylate, Triethylene glycol dimethacrylate, Tetra(ethylene glycol) diacrylate, monomethyl ether hydroquinone, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, Trimethylolpropane ethoxylate, 4-Vinylbenzocyclobutene, 3-Aminophenyl sulfone, 4-Aminophenyl sulfone, 5-Amino-1,3 ,3-trimethylcyclohexanemethylamine, 1,2,4-Benzenetricarboxylic anhydride, Bisphenol A acetate propionate technical grade, Bisphenol A diglycidyl ether, Bisphenol A propoxylate diglycidyl ether, Bisphenol F, Castor oil glycidyl ether, 1,2-Cyclohexanedicarboxylic anhydride, 2,2 ′-Diallyl bisphenol A diacetate 1,4,5,6,7,7-Hexachloro-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, 6-Maleimidohexanoic acid,cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic anhydride, Trimethylolpropane triglycidyl ether, Trimethylolpropane tris[poly(propylene glycol), N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-Methylenebisacrylamide, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, N-(1-Hydroxy-2,2 -dimethoxyethyl)acrylamide, 1,4-Cyclohexanedimethan ol divinyl ether, N,N′-(1,2-Dihydroxyethylene)bisacrylamide, 1,6-Hexanediol diacrylate, 4,4′-Methylenebis(cyclohexyl isocyanate), Poly(ethylene glycol) dimethacrylate, Tetraethylene glycol dimethyl ether, Bromoacetic acid N-hydroxysuccinimide 3-Maleimidobenzoic acid N-hydroxysuccinimide 4-(N-Maleimidomethyl)cyclohexanecarboxylic acid N-hydroxysuccinimide 3-(2-Pyridyldithio)propionic acid N-hydroxysuccinimide Dimethyl pimelimidate dihydrochloride, 3,3′-Dithiodipropionic acid di(N-hydroxysuccinimide ester), and Suberic acid bis (3-sulfo-N-hydroxysuccinimide ester).
제1항에 있어서,
상기 제1 경화제 및 제2 경화제가 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 구조식 1로 표시되는 화합물인 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법:
[구조식 1]
Figure 112019024054256-pat00003

상기 구조식 1에서,
A는 탄소원자 또는 규소원자이고,
R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, C1-C10 알콕시기, 에폭시기, 또는 글리시딜기이고,
R1 내지 R4는 동시에 수소원자가 아니다.
According to claim 1,
The first curing agent and the second curing agent may be the same as or different from each other, and each independently, a method for producing a stretchable substrate, characterized in that the compound represented by structural formula 1:
[Structural Formula 1]
Figure 112019024054256-pat00003

In the structural formula 1,
A is a carbon atom or a silicon atom,
R 1 to R 4 may be the same or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, a C1-C10 alkoxy group, an epoxy group, or a glycidyl group,
R 1 to R 4 are not hydrogen atoms at the same time.
제15항에 있어서,
상기 R1 내지 R4는 서로 같거나 다를 수 있고, 각각 독립적으로 수소원자, 히드록시기, 비닐기, C1-C10 알킬기, 또는 C1-C10 알콕시기인 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
The method of claim 15,
The R 1 to R 4 may be the same as or different from each other, and each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a vinyl group, a C1-C10 alkyl group, or a C1-C10 alkoxy group.
제1항에 있어서,
단계 (c) 후에 상기 신축성 기판을 상기 기재에서 분리하는 단계 (d)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 기판의 제조방법.
According to claim 1,
And (c) separating the stretchable substrate from the substrate after step (c).
(1) 올리고머 및 제1 경화제를 포함하는 제1 혼합용액을 기재 상에 위치시키는 단계;
(2) 상기 제1 혼합용액의 소정의 부분에 제2 경화제를 투입함으로써 상기 기재 상에 상기 올리고머 및 상기 제1 경화제를 포함하는 제1 부분과, 상기 올리고머, 상기 제1 경화제 및 상기 제2 경화제를 포함하는 제2 부분을 형성하는 단계;
(2') 상기 제1 부분 및 제2 부분 상에 상기 제1 부분 및 제2 부분의 일부 또는 전부의 표면에 접하도록 커버를 위치시키는 단계;
(3) 상기 제1 부분과 제2 부분을 경화시켜 상기 기재 상에 제1 경화 고분자부와 제2 경화 고분자부를 포함하는 신축성 기판을 제조하는 단계; 및
(4) 상기 제2 경화 고분자부 상에 전자소자 또는 전극을 위치시키는 단계;를
포함하는 신축성 전자기기의 제조방법.
(1) placing a first mixed solution comprising an oligomer and a first curing agent on a substrate;
(2) A first portion comprising the oligomer and the first curing agent on the substrate, and the oligomer, the first curing agent and the second curing agent by adding a second curing agent to a predetermined portion of the first mixed solution. Forming a second portion comprising;
(2') placing a cover on the first part and the second part so as to contact the surface of some or all of the first part and the second part;
(3) curing the first portion and the second portion to produce a stretchable substrate comprising a first cured polymer portion and a second cured polymer portion on the substrate; And
(4) placing an electronic device or an electrode on the second cured polymer portion;
Method for manufacturing a stretchable electronic device comprising a.
제18항에 있어서,
상기 신축성 전자기기의 제조방법이 상기 단계 (3)와 (4) 사이에,
상기 제2 경화 고분자부 상에 접착층을 위치시키는 단계 (3')를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 전자기기의 제조방법.
The method of claim 18,
Between the steps (3) and (4) of the manufacturing method of the stretchable electronic device,
A method of manufacturing a stretchable electronic device further comprising the step of placing an adhesive layer on the second cured polymer portion (3').
제18항에 있어서,
상기 전자소자가 박막트랜지스터, 태양전지, 유기발광다이오드 및 디스플레이 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 신축성 전자기기의 제조방법.
The method of claim 18,
Method for manufacturing a flexible electronic device, characterized in that the electronic device comprises at least one selected from a thin film transistor, a solar cell, an organic light emitting diode and a display.
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