KR102108232B1 - Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device - Google Patents

Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device Download PDF

Info

Publication number
KR102108232B1
KR102108232B1 KR1020170035337A KR20170035337A KR102108232B1 KR 102108232 B1 KR102108232 B1 KR 102108232B1 KR 1020170035337 A KR1020170035337 A KR 1020170035337A KR 20170035337 A KR20170035337 A KR 20170035337A KR 102108232 B1 KR102108232 B1 KR 102108232B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
compound
resin composition
photosensitive resin
group
formula
Prior art date
Application number
KR1020170035337A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20180106658A (en
Inventor
유정호
윤정옥
이서환
Original Assignee
동우 화인켐 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 동우 화인켐 주식회사 filed Critical 동우 화인켐 주식회사
Priority to KR1020170035337A priority Critical patent/KR102108232B1/en
Priority to CN201810213811.8A priority patent/CN108628100B/en
Publication of KR20180106658A publication Critical patent/KR20180106658A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102108232B1 publication Critical patent/KR102108232B1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09BORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00Other synthetic dyes of known constitution
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

본 발명은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 알칼리 가용성 수지가 티오에테르기 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 공중합체를 포함하고, 상기 착색제가 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물을 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치를 제공한다. 본 발명에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 블랙 매트릭스 상 잔사 발생이 억제되고 현상액에 대한 용해도가 우수하다.The present invention is a colored photosensitive resin composition for a red pixel comprising an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a colorant, and a solvent, wherein the alkali-soluble resin comprises a copolymer of a thioether group-containing (meth) acrylate compound , A coloring photosensitive resin composition for a red pixel including a brominated diketopyrrolopyrrole compound, a color filter formed using the same, and an image display device having the color filter. The colored photosensitive resin composition for a red pixel according to the present invention suppresses generation of residue on the black matrix and has excellent solubility in a developer.

Description

적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치{Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device}Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device

본 발명은 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 컬러필터 및 화상표시장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 블랙 매트릭스 상 잔사 발생이 억제되고 현상액에 대한 용해도가 우수한 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 형성되는 컬러필터 및 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a colored photosensitive resin composition for a red pixel, a color filter and an image display device, and more specifically, to suppress the occurrence of residue on the black matrix, and has excellent solubility in a developer, a colored photosensitive resin composition for a red pixel, using the same It relates to a color filter to be formed and an image display device having the color filter.

컬러필터는 촬상(撮像)소자, 액정표시장치(LCD) 등에 널리 이용되는 것으로, 그 응용 범위가 확대되고 있다. 컬러필터는 통상적으로 블랙 매트릭스가 패턴 형성된 기판 상에 적색, 녹색 및 청색의 각 색에 상당하는 안료를 함유하는 착색 감광성 수지 조성물을 균일하게 도포한 후, 가열 건조하여 형성된 도막을 노광, 현상하고, 필요에 따라 더 가열 경화하는 조작을 색마다 반복하여 각 색의 화소를 형성함으로써 제조된다.Color filters are widely used in imaging devices, liquid crystal displays (LCDs), and the like, and their application range is expanding. The color filter is usually coated uniformly with a colored photosensitive resin composition containing pigments corresponding to red, green, and blue colors on a substrate having a black matrix patterned thereon, followed by exposure and development of a coating film formed by heating and drying, It is manufactured by repeating the operation of further heat curing as necessary for each color to form pixels of each color.

대한민국 공개특허 제10-2012-0112188호에는 적색 화소의 색재로서 휘도 및 콘트라스트비가 높은 벤즈이미다졸론 안료를 사용하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물이 개시되어 있다.Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0112188 discloses a colored photosensitive resin composition for a red pixel using a benzimidazole pigment having a high luminance and contrast ratio as a color material for a red pixel.

그러나, 고색재현성을 가지는 고품질의 컬러필터를 제공하기 위해, 블랙 매트릭스 상 잔사 발생이 억제되고 현상액에 대한 용해도가 우수한 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물에 대한 개발이 요구되고 있다.However, in order to provide a high-quality color filter having high color reproducibility, development of a colored photosensitive resin composition for a red pixel that suppresses generation of residue on a black matrix and has excellent solubility in a developer is required.

대한민국 공개특허 제10-2012-0112188호Republic of Korea Patent Publication No. 10-2012-0112188

본 발명의 한 목적은 블랙 매트릭스 상 잔사 발생이 억제되고 현상액에 대한 용해도가 우수한 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 제공하는 것이다.One object of the present invention is to provide a colored photosensitive resin composition for red pixels in which generation of residue on the black matrix is suppressed and solubility in a developer is excellent.

본 발명의 다른 목적은 상기 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a color filter formed using the colored photosensitive resin composition for red pixels.

본 발명의 또 다른 목적은 상기 컬러필터를 구비한 화상표시장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide an image display device having the color filter.

한편으로, 본 발명은 알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물로서, 상기 알칼리 가용성 수지가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체를 포함하고, 상기 착색제가 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 제공한다.On the other hand, the present invention is a colored photosensitive resin composition for a red pixel comprising an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a colorant and a solvent, wherein the alkali-soluble resin is a compound represented by Formula 1, unsaturated carboxylic acid and It provides a colored photosensitive resin composition for a red pixel comprising a copolymer of a compound having an unsaturated bond capable of copolymerizing with them, and the colorant comprises a compound represented by the following formula (2).

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017027930957-pat00001
Figure 112017027930957-pat00001

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017027930957-pat00002
Figure 112017027930957-pat00002

상기 식에서,In the above formula,

X1은 수소 또는 메틸기이고,X 1 is hydrogen or a methyl group,

X2는 C1-C6의 알킬렌기 또는 C2-C6의 알케닐렌기이며,X 2 is a C 1 -C 6 alkylene group or a C 2 -C 6 alkenylene group,

A는 아릴기, C3-C10의 사이클로알킬기, C1-C6의 알킬기 또는 C2-C6의 알케닐기이다.
A is an aryl group, a C 3 -C 10 cycloalkyl group, a C 1 -C 6 alkyl group or a C 2 -C 6 alkenyl group.

다른 한편으로, 본 발명은 상기 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터를 제공한다.On the other hand, the present invention provides a color filter formed using the colored photosensitive resin composition for red pixels.

또 다른 한편으로, 본 발명은 상기 컬러필터가 구비된 것을 특징으로 하는 화상표시장치를 제공한다.On the other hand, the present invention provides an image display device characterized in that the color filter is provided.

본 발명에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 티오에테르기 함유 알칼리 가용성 수지를 포함하고, 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물을 포함하는 적색 안료를 포함함으로써, 블랙 매트릭스 상 잔사 발생이 억제되고 현상액에 대한 용해도가 우수하다.The colored photosensitive resin composition for a red pixel according to the present invention includes an alkali-soluble resin containing a thioether group, and includes a red pigment containing a brominated diketopyrrolopyrrole compound, thereby suppressing the occurrence of residue on the black matrix and solubility in developer. Is excellent.

이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 일 실시형태는 알칼리 가용성 수지(A), 광중합성 화합물(B), 광중합 개시제(C), 착색제(D) 및 용제(E)를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지가 티오에테르기 함유 (메타)아크릴레이트 화합물의 공중합체를 포함하며, 상기 착색제가 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물을 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
One embodiment of the present invention includes an alkali-soluble resin (A), a photopolymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C), a colorant (D) and a solvent (E), wherein the alkali-soluble resin contains a thioether group ( It relates to a colored photosensitive resin composition for a red pixel comprising a copolymer of a meth) acrylate compound, and the colorant comprises a brominated diketopyrrolopyrrole compound.

알칼리 가용성 수지(A)Alkali-soluble resin (A)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 알칼리 가용성 수지(A)는 통상 광이나 열의 작용에 의한 반응성 및 알칼리 용해성을 갖고, 착색 재료의 분산매로서 작용한다.In one embodiment of the present invention, the alkali-soluble resin (A) usually has reactivity and alkali solubility by the action of light or heat, and acts as a dispersion medium for a coloring material.

상기 알칼리 가용성 수지(A)는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체를 포함한다.The alkali-soluble resin (A) includes a copolymer of a compound represented by the following formula (1), an unsaturated carboxylic acid, and a compound having an unsaturated bond copolymerizable therewith.

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112017027930957-pat00003
Figure 112017027930957-pat00003

상기 식에서,In the above formula,

X1은 수소 또는 메틸기이고,X 1 is hydrogen or a methyl group,

X2는 C1-C6의 알킬렌기 또는 C2-C6의 알케닐렌기이며,X 2 is a C 1 -C 6 alkylene group or a C 2 -C 6 alkenylene group,

A는 아릴기, C3-C10의 사이클로알킬기, C1-C6의 알킬기 또는 C2-C6의 알케닐기이다.
A is an aryl group, a C 3 -C 10 cycloalkyl group, a C 1 -C 6 alkyl group or a C 2 -C 6 alkenyl group.

본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알킬렌기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the C 1 -C 6 alkylene group means a straight chain or branched divalent hydrocarbon composed of 1 to 6 carbon atoms, and includes, but is not limited to, methylene, ethylene, propylene, butylene, and the like. It does not work.

본 명세서에서 사용되는 C2-C6의 알케닐렌기는 하나 이상의 탄소-탄소 이중결합을 갖는 탄소수 2 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 2가 불포화 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 비닐렌, 프로펜일렌, 부텐일렌, 펜텐일렌 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.Alkenylene group of C 2 -C 6 as used herein refers to a straight-chain or branched divalent unsaturated hydrocarbon composed of 2 to 6 carbon atoms having at least one carbon-carbon double bond, for example, vinylene, pro Phenylene, buteneylene, pentylene, and the like.

본 명세서에서 사용되는 아릴기는 아로메틱기와 헤테로아로메틱기 및 그들의 부분적으로 환원된 유도체를 모두 포함한다. 상기 아로메틱기는 5원 내지 15원의 단순 또는 융합 고리형이며, 헤테로아로메틱기는 산소, 황 또는 질소를 하나 이상 포함하는 아로메틱기를 의미한다. 대표적인 아릴기의 예로는 페닐, 나프틸, 피리디닐(pyridinyl), 푸라닐(furanyl), 티오페닐(thiophenyl), 인돌릴(indolyl), 퀴놀리닐(quinolinyl), 이미다졸리닐(imidazolinyl), 옥사졸릴(oxazolyl), 티아졸릴(thiazolyl), 테트라히드로나프틸 등이 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The aryl group used herein includes both an aromatic group and a heteroaromatic group, and partially reduced derivatives thereof. The aromatic group is a 5 to 15 membered simple or fused cyclic, and the heteroaromatic group means an aromatic group containing one or more oxygen, sulfur or nitrogen. Examples of typical aryl groups are phenyl, naphthyl, pyridinyl, furanyl, thiophenyl, indolyl, quinolinyl, imidazolinyl, Oxazolyl, thiazolyl, tetrahydronaphthyl, and the like, but is not limited thereto.

본 명세서에서 사용되는 C3-C10의 사이클로알킬기는 탄소수 3 내지 10개로 구성된 단순 또는 융합 고리형 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 사이클로헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.The C 3 -C 10 cycloalkyl group used herein refers to a simple or fused cyclic hydrocarbon composed of 3 to 10 carbon atoms, and includes, but is not limited to, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, and the like. It does not work.

본 명세서에서 사용되는 C1-C6의 알킬기는 탄소수 1 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, n-펜틸, n-헥실 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, the alkyl group of C 1 -C 6 means a straight chain or branched monovalent hydrocarbon composed of 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-butyl , i-butyl, t-butyl, n-pentyl, n-hexyl, and the like.

본 명세서에서 사용되는 C2-C6의 알케닐기는 하나 이상의 탄소-탄소 이중결합을 갖는 탄소수 2 내지 6개로 구성된 직쇄형 또는 분지형의 1가 불포화 탄화수소를 의미하며, 예를 들어 에틸렌일, 프로펜일, 부텐일, 펜텐일 등이 포함되나 이에 한정되는 것은 아니다.As used herein, an alkenyl group of C 2 -C 6 refers to a straight-chain or branched monovalent unsaturated hydrocarbon composed of 2 to 6 carbon atoms having one or more carbon-carbon double bonds, for example, ethyleneyl, pro Fenyl, butenyl, pentyl, and the like are included, but are not limited thereto.

상기 C1-C6의 알킬렌기, C2-C6의 알케닐렌기, C3-C10의 사이클로알킬기, C1-C6의 알킬기 및 C2-C6의 알케닐기는 한 개 또는 그 이상의 수소가 할로겐, C1-C6의 알킬기, C1-C6의 할로알킬기, 히드록시, 아실기, 알콕시카르보닐, 카르복시, 아미노 등으로 치환될 수 있다.
The C 1 -C 6 alkylene group, C 2 -C 6 alkenylene group, C 3 -C 10 cycloalkyl group, C 1 -C 6 alkyl group and C 2 -C 6 alkenyl group is one or more The above hydrogen can be substituted with halogen, C 1 -C 6 alkyl group, C 1 -C 6 haloalkyl group, hydroxy, acyl group, alkoxycarbonyl, carboxy, amino, or the like.

특히, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물일 수 있다.In particular, the compound represented by Formula 1 may be a compound represented by Formula 3 below.

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112017027930957-pat00004
Figure 112017027930957-pat00004

상기 식에서,In the above formula,

X1은 수소 또는 메틸기이고,X 1 is hydrogen or a methyl group,

X2는 C1-C6의 알킬렌기 또는 C2-C6의 알케닐렌기이다.
X 2 is a C 1 -C 6 alkylene group or a C 2 -C 6 alkenylene group.

상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 사용하는 경우, 현상성 및 표면 현상면에서 바람직하다.
When the compound represented by Chemical Formula 3 is used, it is preferable in terms of developability and surface development.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물의 구체적인 예로는 2-(페닐티오)에틸 (메타)아크릴레이트, 2-(사이클로헥실티오)에틸 (메타)아크릴레이트, 2-(헥실티오)에틸 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
Specific examples of the compound represented by Chemical Formula 1 are 2- (phenylthio) ethyl (meth) acrylate, 2- (cyclohexylthio) ethyl (meth) acrylate, 2- (hexylthio) ethyl (meth) acrylate And the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 상기 알칼리 가용성 수지(A)를 구성하는 전체 단량체 100 몰%에 대하여 2 내지 50 몰%의 범위로 포함될 수 있다.
The compound represented by Chemical Formula 1 may be included in a range of 2 to 50 mol% with respect to 100 mol% of the total monomers constituting the alkali-soluble resin (A).

상기 불포화 카르복실산으로는 중합이 가능한 불포화 이중 결합을 갖는 카르복실산 화합물이라면 제한없이 사용가능하다. 상기 불포화 카르복실산의 구체적인 예로는 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산 등의 모노카르복실산류; 푸마르산, 메사콘산, 이타콘산 등의 디카르복실산류; 및 이들 디카르복실산의 무수물; ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복실기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 이들 중 아크릴산, 메타크릴산이 공중합 반응성 및 현상액에 대한 용해성이 우수하여 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용될 수 있다.
As the unsaturated carboxylic acid, any carboxylic acid compound having an unsaturated double bond capable of polymerization can be used without limitation. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; Dicarboxylic acids such as fumaric acid, mesaconic acid, and itaconic acid; And anhydrides of these dicarboxylic acids; and mono (meth) acrylates of polymers having carboxyl groups and hydroxyl groups at both ends, such as ω-carboxypolycaprolactone mono (meth) acrylate. Of these, acrylic acid and methacrylic acid are preferred because of their excellent copolymerization reactivity and solubility in a developer. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 불포화 카르복실산은 상기 알칼리 가용성 수지(A)를 구성하는 전체 단량체 100 몰%에 대하여 2 내지 70 몰%의 범위로 포함될 수 있다.
The unsaturated carboxylic acid may be included in the range of 2 to 70 mol% based on 100 mol% of the total monomers constituting the alkali-soluble resin (A).

상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 불포화 카르복실산과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물로는 방향족 비닐화합물, N-치환 말레이미드 화합물, 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르, 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르, 카르복실산 비닐에스테르, 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세타닐 화합물, 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 아릴에스테르 등을 들 수 있다. 상기 화합물 중, 방향족 비닐화합물, 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 아릴에스테르 및 N-치환 말레이미드 화합물이 감도 및 밀착성 향상의 면에서 보다 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The compound represented by Formula 1 and the compound having an unsaturated bond copolymerizable with an unsaturated carboxylic acid include an aromatic vinyl compound, an N-substituted maleimide compound, an unsubstituted or substituted alkyl ester of an unsaturated carboxylic acid, and an alicyclic substituent. Unsaturated carboxylic acid esters, vinyl carboxylic acid esters, unsaturated oxetanyl compounds containing an oxetane group, unsubstituted or substituted aryl esters of unsaturated carboxylic acids, and the like. Among the above compounds, an aromatic vinyl compound, an unsubstituted or substituted aryl ester of an unsaturated carboxylic acid, and an N-substituted maleimide compound are more preferable from the viewpoint of improving sensitivity and adhesion. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 방향족 비닐화합물로는, 비닐톨루엔, 스티렌, α-메틸스티렌, α-클로로스티렌, 디비닐벤젠 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 특히, 비닐톨루엔이 감도 및 밀착성 등 면에서 바람직하다.Examples of the aromatic vinyl compound include vinyl toluene, styrene, α-methylstyrene, α-chlorostyrene, and divinylbenzene, which can be used alone or in combination of two or more. In particular, vinyl toluene is preferred in terms of sensitivity and adhesion.

상기 N-치환 말레이미드 화합물로는 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 예로 들 수 있다.Examples of the N-substituted maleimide compound include a compound represented by Formula 5 below.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112017027930957-pat00005
Figure 112017027930957-pat00005

상기 식에서,In the above formula,

X3은 헤테로 원자가 포함되거나 포함되지 않은 C1-C20의 지방족 또는 방향족 탄화수소기이다.X 3 is a C 1 -C 20 aliphatic or aromatic hydrocarbon group with or without heteroatoms.

X3의 구체적 예로는 페닐기, 벤질기, 나프틸기, 시클로헥실기, 메틸기, 에틸기, 프로필기 등을 들 수 있으며, 특히 벤질기 및 시클로헥실기가 바람직하다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of X 3 include a phenyl group, a benzyl group, a naphthyl group, a cyclohexyl group, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group, and particularly preferably a benzyl group and a cyclohexyl group. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 알킬에스테르로는 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 아미노에틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the unsubstituted or substituted alkyl ester of the unsaturated carboxylic acid are methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and aminoethyl (meth) ) Acrylates and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 지환식 치환기를 포함하는 불포화 카르복실산 에스테르로는 사이클로펜틸(메타)아크릴레이트, 사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 메틸사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 사이클로헵틸(메타)아크릴레이트, 사이클로옥틸(메타)아크릴레이트, 멘틸(메타)아크릴레이트, 사이클로펜테닐(메타)아크릴레이트, 사이클로헥세닐(메타)아크릴레이트, 사이클로헵테닐(메타)아크릴레이트, 사이클로옥테닐(메타)아크릴레이트, 멘타디에닐(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 피나닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 노르보르닐(메타)아크릴레이트, 피네닐(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the unsaturated carboxylic acid ester containing the alicyclic substituent, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, methylcyclohexyl (meth) acrylate, cycloheptyl (meth) acrylate, cyclooctyl ( Meth) acrylate, menthyl (meth) acrylate, cyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexenyl (meth) acrylate, cycloheptenyl (meth) acrylate, cyclooctenyl (meth) acrylate, menthadie Neil (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, pinanyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, norbornyl (meth) acrylate, pinenyl (meth) acrylate, etc. Can be heard. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 카르복실산 비닐에스테르로는 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Vinyl acetate, vinyl propionate, etc. are mentioned as said carboxylic acid vinyl ester. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 옥세탄기를 포함하는 불포화 옥세타닐 화합물로는 3-(메타크릴로일옥시메틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-3-에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-트리플로로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-펜타플로로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2-페닐옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2-디플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4-트리플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시메틸)-2,2,4,4-테트라플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-3-에틸옥세탄, 2-에틸-3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-트리플로로메틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-펜타플로로에틸옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2-페닐옥세탄, 2,2-디플로로-3-(메타크릴로일옥시에틸)옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2,2,4-트리플로로옥세탄, 3-(메타크릴로일옥시에틸)-2,2,4,4-테트라플로로옥세탄 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The unsaturated oxetanyl compound containing the oxetane group is 3- (methacryloyloxymethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -3-ethyloxetane, 3- (methacryloyl) Oxymethyl) -2-methyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-trifluoromethyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-pentafluoroethyl oxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2-phenyloxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2,2-difluorooxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2 , 2,4-Trifluorooxetane, 3- (methacryloyloxymethyl) -2,2,4,4-tetrafluorooxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) oxetane, 3 -(Methacryloyloxyethyl) -3-ethyloxetane, 2-ethyl-3- (methacryloyloxyethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) -2-trifluoromethyl Oxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) -2-pentafluoroethyl oxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) -2-phenyloxetane, 2,2-difluoro-3- (Methacrylic Iloxyethyl) oxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) -2,2,4-trifluorooxetane, 3- (methacryloyloxyethyl) -2,2,4,4-tetra And fluorooxetane. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 불포화 카르복실산의 비치환 또는 치환 아릴에스테르로는 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Examples of the unsubstituted or substituted aryl ester of the unsaturated carboxylic acid include phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 화학식 1로 표시되는 화합물 및 불포화 카르복실산과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물은 상기 알칼리 가용성 수지(A)를 구성하는 전체 단량체 100 몰%에 대하여 2 내지 70 몰%의 범위로 포함될 수 있다.
The compound represented by Formula 1 and the compound having an unsaturated bond capable of copolymerizing with an unsaturated carboxylic acid may be included in a range of 2 to 70 mol% with respect to 100 mol% of the total monomers constituting the alkali-soluble resin (A).

상기 공중합체의 제조방법은 특별히 제한되지 않고, 종래 공지되어 있는 중합방법이 사용될 수 있으며, 공지의 중합방법 중에서 용액중합법이 바람직하다. 또한, 중합 온도나 중합 시간은 도입되는 단량체의 종류나 비율, 원하는 알칼리 가용성 수지의 분자량 및 산가에 따라 다르지만, 예를 들어 60 내지 130℃에서 1 내지 10시간 동안 중합시킬 수 있다.The method for producing the copolymer is not particularly limited, and a conventionally known polymerization method may be used, and a solution polymerization method is preferable among known polymerization methods. In addition, the polymerization temperature or polymerization time varies depending on the type or ratio of the monomer to be introduced, the molecular weight and acid value of the desired alkali-soluble resin, but can be polymerized, for example, at 60 to 130 ° C. for 1 to 10 hours.

상기 중합시 용매를 이용하는 경우에는, 통상의 라디칼 중합 반응시 사용되는 용매를 사용할 수 있으며, 구체적으로는, 테트라히드로퓨란, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 사이클로헥사논, 초산에틸, 초산부틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 메탄올, 에탄올, 프로판올, n-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로포름, 디메틸설폭시드 등을 사용할 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In the case of using a solvent in the polymerization, a solvent used in a normal radical polymerization reaction may be used, and specifically, tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone , Methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, methanol, ethanol, propanol, n-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl Ether, toluene, xylene, ethylbenzene, chloroform, dimethyl sulfoxide and the like can be used. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합시 사용되는 중합 개시제로는 통상 사용되는 중합 개시제를 첨가할 수 있으며, 특별히 제한되지는 않는다. 구체적으로는 디이소프로필벤젠 히드로퍼옥시드, 디-t-부틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트, t-아밀퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 등의 유기 과산화물; 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸바레로니트릴), 디메틸 2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트) 등의 질소 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As the polymerization initiator used in the polymerization, a polymerization initiator usually used may be added, and is not particularly limited. Specifically, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butylperoxide, benzoylperoxide, t-butylperoxyisopropylcarbonate, t-amylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butyl Organic peroxides such as peroxy-2-ethylhexanoate; 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (2,4-dimethylbareronitrile), dimethyl 2,2'-azobis (2-methylpropionate), etc. And nitrogen compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 중합시, 공중합체의 분자량이나 분자량 분포를 제어하기 위해 연쇄 이동제를 사용할 수 있다. 상기 연쇄 이동제로는 n-도데칸티올, 머캅토아세트산, 머캅토아세트산메틸 등의 머캅토 화합물; α-메틸스티렌 다이머 등을 사용할 수 있다.
In the polymerization, a chain transfer agent may be used to control the molecular weight or molecular weight distribution of the copolymer. Examples of the chain transfer agent include mercapto compounds such as n-dodecanethiol, mercaptoacetic acid, and methyl mercaptoacetate; α-methylstyrene dimer and the like can be used.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 알칼리 가용성 수지(A)는, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체에, 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물을 더 반응시켜 얻어지는 것일 수 있다. 상기 공중합체에 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물을 부가함으로써 알칼리 가용성 수지에 광/열경화성을 부여할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the alkali-soluble resin (A) is an unsaturated bond in one molecule to the copolymer of the compound represented by the formula (1), an unsaturated carboxylic acid, and a compound having an unsaturated bond copolymerizable therewith. It may be obtained by further reacting a compound having an epoxy group. By adding a compound having an unsaturated bond and an epoxy group in one molecule to the copolymer, light / thermosetting property can be imparted to the alkali-soluble resin.

상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물의 구체적인 예로는 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서 글리시딜(메타)아크릴레이트가 바람직하게 사용된다. 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the compound having an unsaturated bond and an epoxy group in the one molecule include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate And methyl glycidyl (meth) acrylate. Among them, glycidyl (meth) acrylate is preferably used. These may be used alone or in combination of two or more.

상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물은 상기 불포화 카르복실산 100 몰%에 대하여 5 내지 80 몰%, 예를 들어 10 내지 70 몰%의 범위로 사용될 수 있다. 상기 1분자 중에 불포화 결합과 에폭시기를 갖는 화합물이 상기 범위로 사용되면, 충분한 광경화성이나 열경화성이 얻어져 감도와 연필 경도가 양립되고 신뢰성이 우수할 수 있다.
The compound having an unsaturated bond and an epoxy group in the one molecule may be used in a range of 5 to 80 mol%, for example, 10 to 70 mol%, based on 100 mol% of the unsaturated carboxylic acid. When a compound having an unsaturated bond and an epoxy group in the one molecule is used in the above range, sufficient photocurability or thermosetting property is obtained, so that sensitivity and pencil hardness are compatible and reliability can be excellent.

상기 알칼리 가용성 수지(A)의 산가는 30 내지 200mgKOH/g이 바람직하다. 알칼리 가용성 수지(A)의 산가가 30mgKOH/g 미만인 경우 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물이 충분한 현상속도를 확보하기 어려우며, 200mgKOH/g를 초과하는 경우 기판과의 밀착성이 감소되어 패턴의 단락이 발생하기 쉬우며 착색제와의 상용성이 떨어져 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물 내의 착색제가 석출되거나 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물의 저장 안정성이 저하되어 점도가 상승하기 쉽다.The acid value of the alkali-soluble resin (A) is preferably 30 to 200 mgKOH / g. When the acid value of the alkali-soluble resin (A) is less than 30 mgKOH / g, the coloring photosensitive resin composition for red pixels is difficult to secure a sufficient developing speed, and when it exceeds 200 mgKOH / g, adhesion to the substrate is reduced and short circuit of the pattern occurs. It is easy, and the compatibility with the colorant is poor, so that the colorant in the color photosensitive resin composition for red pixels precipitates or the storage stability of the color photosensitive resin composition for red pixels is lowered, so that the viscosity tends to increase.

또한, 겔 투과 크로마토그래피(GPC; 테트라히드로퓨란을 용출용제로 함)로 측정한 폴리스티렌 환산 중량평균분자량(이하, 간단히 '중량평균분자량'이라고 한다)이 3,000 내지 100,000, 바람직하게는 5,000 내지 50,000인 알칼리 가용성 수지가 바람직하다. 분자량이 상기 범위에 있으면, 코팅 필름의 경도가 향상되어, 잔막율이 높고, 현상액 중의 비-노출부의 용해성이 탁월하고 해상도가 향상되는 경향이 있어 바람직하다.In addition, the weight average molecular weight in terms of polystyrene (hereinafter simply referred to as 'weight average molecular weight') measured by gel permeation chromatography (GPC; tetrahydrofuran as an elution solvent) is 3,000 to 100,000, preferably 5,000 to 50,000. Alkali-soluble resins are preferred. When the molecular weight is in the above range, the hardness of the coating film is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the non-exposed portion in the developer is excellent, and the resolution tends to be improved, which is preferable.

알칼리 가용성 수지(A)의 분자량 분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]는 1.5 내지 6.0인 것이 바람직하고, 1.8 내지 4.0인 것이 보다 바람직하다. 분자량분포[중량평균분자량(Mw)/수평균분자량(Mn)]가 1.5 내지 6.0이면 현상성이 우수하기 때문에 바람직하다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the alkali-soluble resin (A) is preferably 1.5 to 6.0, and more preferably 1.8 to 4.0. A molecular weight distribution [weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)] of 1.5 to 6.0 is preferable because of its excellent developability.

상기 알칼리 가용성 수지(A)는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분 100 중량%에 대하여 10 내지 80 중량%, 바람직하게는 20 내지 70 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지(A)가 상기 범위로 포함되는 경우, 현상액에 대한 용해성이 충분하여 패턴형성이 용이할 수 있다.
The alkali-soluble resin (A) may be included in an amount of 10 to 80% by weight, preferably 20 to 70% by weight, based on 100% by weight of the total solids in the colored photosensitive resin composition for red pixels. When the alkali-soluble resin (A) is included in the above range, solubility in a developer may be sufficient to facilitate pattern formation.

광중합성Photopolymerization 화합물(B) Compound (B)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합성 화합물(B)은 하기 광중합 개시제(C)의 작용으로 중합할 수 있는 화합물로, 단관능 단량체, 2관능 단량체 또는 다관능 단량체를 사용할 수 있으며, 바람직하게는 2관능 이상의 다관능 단량체를 사용할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the photopolymerizable compound (B) is a compound that can be polymerized by the action of the following photopolymerization initiator (C), a monofunctional monomer, a bifunctional monomer or a polyfunctional monomer can be used, preferably It can be used a polyfunctional monomer of two or more functional.

상기 단관능 단량체의 구체적인 예로는, 노닐페닐카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-에틸헥실카르비톨아크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트 또는 N-비닐피롤리돈 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the monofunctional monomer, nonylphenylcarbitolacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropylacrylate, 2-ethylhexylcarbitolacrylate, 2-hydroxyethylacrylate or N-vinylpy Lollydon, and the like, but is not limited thereto.

상기 2관능 단량체의 구체적인 예로는, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 비스페놀 A의 비스(아크릴로일옥시에틸)에테르 또는 3-메틸펜탄디올디(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the bifunctional monomer, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate , Bis (acryloyloxyethyl) ether of bisphenol A, or 3-methylpentanediol di (meth) acrylate, but is not limited thereto.

상기 다관능 단량체의 구체적인 예로는, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 에톡실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 프로폭실레이티드디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 또는 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.Specific examples of the polyfunctional monomer, trimethylol propane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylol propane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tree (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ethoxylated dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, propoxylated dipentaerythritol hexa (meth) Acrylate or dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, but is not limited thereto.

상기 광중합성 화합물(B)은 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물 중의 전체 고형분 100 중량%에 대하여 1 내지 45 중량%, 특히 3 내지 45 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 광중합성 화합물(B)이 상기 범위로 포함되는 경우, 화소부의 강도나 평활성이 양호하게 될 수 있다.
The photopolymerizable compound (B) may be included in an amount of 1 to 45% by weight, particularly 3 to 45% by weight, based on 100% by weight of the total solids in the colored photosensitive resin composition for red pixels. When the photopolymerizable compound (B) is included in the above range, intensity or smoothness of the pixel portion may be improved.

광중합Light polymerization 개시제Initiator (C)(C)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 광중합 개시제(C)는 광중합성 화합물(B)을 중합시킬 수 있는 것이면 그 종류를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있다. 특히, 상기 광중합 개시제(C)는 중합특성, 개시효율, 흡수파장, 입수성, 가격 등의 관점에서 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 트리아진계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 옥심계 화합물 및 티오크산톤계 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the photopolymerization initiator (C) may be used without particular limitation as long as it can polymerize the photopolymerizable compound (B). Particularly, the photopolymerization initiator (C) is an acetophenone-based compound, a benzophenone-based compound, a triazine-based compound, a biimidazole-based compound, an oxime-based compound, and the like in terms of polymerization characteristics, initiation efficiency, absorption wavelength, availability, and price. It is preferable to use at least one compound selected from the group consisting of thioxanthone compounds.

상기 아세토페논계 화합물의 구체적인 예로는 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-메틸프로판-1-온, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-[4-(1-메틸비닐)페닐]프로판-1-온, 2-(4-메틸벤질)-2-(디메틸아미노)-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 등을 들 수 있다. Specific examples of the acetophenone-based compound are diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 2-hydroxy-1- [4- (2-hydroxy Hydroxyethoxy) phenyl] -2-methylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propane-1 -One, 2- (4-methylbenzyl) -2- (dimethylamino) -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, and the like.

상기 벤조페논계 화합물로서는, 예를 들면 벤조페논, 0-벤조일벤조산 메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술피드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등이 있다. Examples of the benzophenone-based compound include benzophenone, 0-benzoylbenzoate methyl, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra ( tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.

상기 트리아진계 화합물의 구체적인 예로는 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(퓨란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다. Specific examples of the triazine-based compound are 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -(4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (Trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2- 1) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine , 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl ) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine and the like.

상기 비이미다졸계 화합물의 구체적인 예로는 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸 또는 4,4',5,5' 위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2-비스(2,6-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐-1,2'-비이미다졸이 바람직하게 사용된다.Specific examples of the biimidazole-based compound are 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) biimi Dazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4 And an imidazole compound in which the phenyl group at the 4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole or 4,4', 5,5 'position is substituted with a carboalkoxy group. . Of these, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4,4' , 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2-bis (2,6-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole is preferred Is used.

상기 옥심계 화합물의 구체적인 예로는 o-에톡시카르보닐-α-옥시이미노-1-페닐프로판-1-온 등을 들 수 있으며, 시판품으로 바스프사의 OXE01, OXE02가 대표적이다.Specific examples of the oxime-based compound include o-ethoxycarbonyl-α-oxyimino-1-phenylpropan-1-one, and commercially available products are BASF's OXE01 and OXE02.

상기 티오크산톤계 화합물로서는, 예를 들면 2-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등이 있다.
Examples of the thioxanthone-based compound include 2-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like. There is this.

또한, 상기 광중합 개시제(C)는 본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물의 감도를 향상시키기 위해서, 광중합 개시 보조제(c1)와 병용될 수 있다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 광중합 개시 보조제(c1)를 함유함으로써, 감도가 더욱 높아져 생산성을 향상시킬 수 있다.Further, the photopolymerization initiator (C) may be used in combination with the photopolymerization initiator (c1) in order to improve the sensitivity of the colored photosensitive resin composition for red pixels of the present invention. The colored photosensitive resin composition for a red pixel according to an embodiment of the present invention contains a photopolymerization initiation auxiliary agent (c1), so that the sensitivity can be further increased to improve productivity.

상기 광중합 개시 보조제(c1)는, 예를 들어 아민 화합물, 카르복실산 화합물, 및 티올기를 가지는 유기 황 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물이 바람직하게 사용될 수 있다. As the photopolymerization initiation aid (c1), for example, one or more compounds selected from the group consisting of an amine compound, a carboxylic acid compound, and an organic sulfur compound having a thiol group can be preferably used.

상기 아민 화합물로는 구체적으로 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민 등의 지방족 아민 화합물, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, 벤조산2-디메틸아미노에틸, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논(통칭: 미힐러 케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논 등의 방향족 아민 화합물을 사용할 수 있으며, 특히 방향족 아민 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the amine compound include aliphatic amine compounds such as triethanolamine, methyldiethanolamine, and triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethyl Aminobenzoic acid 2-ethylhexyl, benzoic acid 2-dimethylaminoethyl, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler Ketone), 4,4'-bis (di An aromatic amine compound such as ethylamino) benzophenone can be used, and it is particularly preferable to use an aromatic amine compound.

상기 카르복실산 화합물은 방향족 헤테로아세트산류인 것이 바람직하며, 구체적으로 페닐티오아세트산, 메틸페닐티오아세트산, 에틸페닐티오아세트산, 메틸에틸페닐티오아세트산, 디메틸페닐티오아세트산, 메톡시페닐티오아세트산, 디메톡시페닐티오아세트산, 클로로페닐티오아세트산, 디클로로페닐티오아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다. The carboxylic acid compound is preferably an aromatic heteroacetic acid, specifically phenylthioacetic acid, methylphenylthioacetic acid, ethylphenylthioacetic acid, methylethylphenylthioacetic acid, dimethylphenylthioacetic acid, methoxyphenylthioacetic acid, dimethoxyphenylthio And acetic acid, chlorophenylthioacetic acid, dichlorophenylthioacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, and naphthoxyacetic acid.

상기 티올기를 가지는 유기 황 화합물의 구체적인 예로서는 2-머캅토벤조티아졸, 1,4-비스(3-머캅토부티릴옥시)부탄, 1,3,5-트리스(3-머캅토부틸옥시에틸)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토부틸레이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사키스(3-머캅토프로피오네이트), 테트라에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트) 등을 들 수 있다.
Specific examples of the organic sulfur compound having a thiol group include 2-mercaptobenzothiazole, 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercapto Butylate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), etc. Can be lifted.

상기 광중합 개시제(C)는 고형분을 기준으로 알칼리 가용성 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계량 100 중량부에 대해서 0.1 내지 40 중량부, 바람직하게는 1 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시제(C)가 상기 범위 내로 포함되면, 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물이 고감도화되어 노광 시간이 단축되므로 생산성이 향상되며 높은 해상도를 유지할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 상술한 조건의 조성물을 사용하여 형성한 화소부의 강도와 상기 화소부의 표면에서의 평활성이 양호해질 수 있다.The photopolymerization initiator (C) may be included in an amount of 0.1 to 40 parts by weight, preferably 1 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the alkali-soluble resin (A) and the photopolymerizable compound (B) based on the solid content. When the photopolymerization initiator (C) is included in the above range, the coloring photosensitive resin composition for a red pixel is highly sensitive, which is preferable because the exposure time is shortened, thereby improving productivity and maintaining high resolution. In addition, the intensity of the pixel portion formed using the composition of the above-described conditions and the smoothness on the surface of the pixel portion may be improved.

또한, 상기 광중합 개시 보조제(c1)를 더 사용하는 경우, 상기 광중합 개시 보조제(c1)는 알칼리 가용성 수지(A) 및 광중합성 화합물(B)의 합계량 100 중량부에 대해서 0.1 내지 40 중량부, 바람직하게는 1 내지 30 중량부로 포함될 수 있다. 상기 광중합 개시 보조제(c1)의 사용량이 상기 범위 내에 있으면 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물의 감도가 더 높아지고, 상기 조성물을 사용하여 형성되는 컬러필터의 생산성이 향상될 수 있다.
Moreover, when using the said photoinitiator (c1) further, the said photoinitiator (c1) is 0.1-40 weight part with respect to 100 weight part of total amount of alkali-soluble resin (A) and photopolymerizable compound (B), Preferably It may be included in 1 to 30 parts by weight. When the amount of the photopolymerization initiation aid (c1) used is within the above range, the sensitivity of the colored photosensitive resin composition for a red pixel is increased, and productivity of a color filter formed using the composition can be improved.

착색제(D)Coloring agent (D)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제(D)는 안료로서 하기 화학식 2로 표시되는 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물을 포함한다.In one embodiment of the present invention, the coloring agent (D) includes a brominated diketopyrrolopyrrole compound represented by the following Chemical Formula 2 as a pigment.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112017027930957-pat00006

Figure 112017027930957-pat00006

상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 착색제 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 100 중량%, 예를 들어 50 내지 100 중량%의 양으로 포함될 수 있다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물이 상기 범위 미만으로 포함될 경우 착색력이 다소 저하될 수 있다.
The compound represented by Chemical Formula 2 may be included in an amount of 5 to 100% by weight, for example, 50 to 100% by weight based on 100% by weight of the total colorant. When the compound represented by Chemical Formula 2 is included below the above range, coloring power may be slightly lowered.

상기 착색제(D)는 안료로서 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 C.I. 피그먼트 레드 177을 추가로 포함할 수 있다.The coloring agent (D) is a compound represented by the following formula (4) and C.I. Pigment Red 177 may be further included.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112017027930957-pat00007

Figure 112017027930957-pat00007

상기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 직접 합성을 하여 사용하거나, 시판되고 있는 형태를 구입하여 사용할 수 있다. 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 시판 제품으로는 BASF 사의 Irgaphor® Red S 3620 CF가 있으며, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 시판 제품으로는 C.I. 피그먼트 레드 254가 있다.
The compound represented by Chemical Formula 2 and the compound represented by Chemical Formula 4 may be used by directly synthesizing or purchasing a commercially available form. As a commercial product of the compound represented by Formula 2, there is Irgaphor® Red S 3620 CF from BASF, and as a commercial product of the compound represented by Formula 4, there is CI Pigment Red 254.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물과 상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 1:9 내지 9:1의 중량비로 포함될 수 있다.
The compound represented by Chemical Formula 2 and the compound represented by Chemical Formula 4 may be included in a weight ratio of 1: 9 to 9: 1.

상기 화학식 4로 표시되는 화합물은 착색제 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 60 중량%의 양으로 포함될 수 있으며, 상기 C.I. 피그먼트 레드 177은 착색제 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 70 중량%의 양으로 포함될 수 있다.The compound represented by the formula (4) may be included in an amount of 5 to 60% by weight relative to 100% by weight of the total colorant, the C.I. Pigment Red 177 may be included in an amount of 5 to 70% by weight based on 100% by weight of the total colorant.

상기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 C.I. 피그먼트 레드 177이 각각 상기 범위 미만으로 포함될 경우 착색력이 다소 저하될 수 있으며, 상기 범위를 초과할 경우 패턴 형성이 다소 어려워질 수 있어 밀착력 저하의 원인이 될 수 있다.Compound represented by Formula 4 and C.I. When the pigment red 177 is included in each of the above ranges, the coloring power may be slightly lowered, and when it exceeds the above range, pattern formation may be somewhat difficult, which may cause a decrease in adhesion.

상기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 C.I. 피그먼트 레드 177이 각각 상기한 함량 범위를 만족하면 밀착력 저하를 방지할 수 있고, 신뢰성을 증가시킬 수 있다.
When the compound represented by Chemical Formula 4 and CI Pigment Red 177 satisfy each of the above-described content ranges, adhesion deterioration can be prevented and reliability can be increased.

상기 착색제는 상기 화학식 2로 표시되는 화합물, 화학식 4로 표시되는 화합물 및 C.I. 피그먼트 레드 177 이외에 추가로 또 다른 안료를 포함할 수 있다.The colorant is a compound represented by Formula 2, a compound represented by Formula 4, and C.I. In addition to Pigment Red 177, another pigment may be included.

상기 안료는 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 유기 안료 또는 무기 안료를 사용할 수 있다. 또한, 상기 안료는 필요에 따라 레진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 이용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면의 그라프트 처리, 황산미립화법 등에 의한 미립화 처리, 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리 또는 이온 교환법 등에 의한 이온성 불순물의 제거처리 등을 실시할 수도 있다.The pigment may be an organic pigment or an inorganic pigment commonly used in the art. In addition, the pigment may be subjected to resin treatment, surface treatment using a pigment derivative having an acidic or basic group introduced, if necessary, graft treatment of a pigment surface with a polymer compound, atomization treatment with a sulfuric acid atomization method, etc. to remove impurities. A washing treatment with an organic solvent, water, or the like, or removal treatment of ionic impurities by an ion exchange method or the like can also be performed.

상기 유기 안료는 구체적으로는 수용성 아조 안료, 불용성 아조 안료, 프타로시아닌안료, 퀴나크리돈 안료, 이소인돌리논 안료, 이소인돌린 안료, 페리렌 안료, 페리논 안료, 디옥사진 안료, 안트라퀴논 안료, 디안트라퀴노닐 안료, 안트라피리미딘 안료, 안탄트론(anthanthrone) 안료, 인단트론(indanthrone) 안료, 프라반트론 안료, 피란트론(pyranthrone) 안료, 디케토피로로피롤 안료 등을 들 수 있다.The organic pigments are specifically water-soluble azo pigments, insoluble azo pigments, phthalocyanine pigments, quinacridone pigments, isoindolinone pigments, isoindolin pigments, perylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, anthra And quinone pigments, dianthraquinonyl pigments, anthrapyrimidine pigments, anthanthrone pigments, indantrone pigments, pravanthrone pigments, pyranthrone pigments, and diketopyrrolopyrrole pigments. have.

상기 무기 안료로는 금속 산화물이나 금속 착염 등의 금속 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 철, 코발트, 알루미늄, 카드뮴, 납, 구리, 티탄, 마그네슘, 크롬, 아연, 안티몬 등의 금속의 산화물 또는 복합 금속 산화물 등을 들 수 있다.Examples of the inorganic pigments include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts, and specifically, oxides or complexes of metals such as iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, and antimony. And metal oxides.

특히, 상기 유기 안료 및 무기 안료로는 구체적으로 색지수(The Society of Dyers and Colourists 출판)에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있고, 보다 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 안료를 들 수 있지만, 반드시 이들로 한정되는 것은 아니며, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.In particular, examples of the organic pigments and inorganic pigments include compounds classified as pigments in the color index (published by The Society of Dyers and Colourists), and more specifically, the following color index (CI) numbers. Although a pigment is mentioned, it is not necessarily limited to these, These can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 255 및 264
CI Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 180, 192, 208, 215, 216, 224, 242, 255 and 264

상기 안료는 상기 적색 안료와 함께 황색 안료를 병용할 수 있으며, 구체적으로는 이하와 같은 색지수(C.I.) 번호의 황색 안료를 사용할 수 있다.The pigment may use a yellow pigment together with the red pigment, and specifically, a yellow pigment having the following color index (C.I.) number may be used.

C.I. 피그먼트 옐로우 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 및 185C.I. Pigment Yellow 13, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180 And 185

C.I. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 및 71C.I. Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65 and 71

상기 안료들은 각각 단독으로 사용되거나 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
The pigments may be used alone or in combination of two or more.

상기 안료는 그 입경이 균일하게 분산된 안료 분산액을 사용하는 것이 바람직하다. 안료의 입경을 균일하게 분산시키기 위한 방법의 일 예로 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리하는 방법 등을 들 수 있으며, 이 방법에 따르면 안료가 용액 중에 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.It is preferable to use a pigment dispersion in which the particle size is uniformly dispersed. An example of a method for uniformly dispersing the particle diameter of a pigment may include a method of dispersing by containing a pigment dispersant, and according to this method, a pigment dispersion liquid in which the pigment is uniformly dispersed in a solution can be obtained.

상기의 안료 분산제의 구체적인 예로는 양이온계, 음이온계, 비이온계, 양성, 폴리에스테르계, 폴리아민계 등의 계면활성제 등을 들 수 있고, 이들은 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
Specific examples of the pigment dispersant include cationic, anionic, nonionic, amphoteric, polyester, and polyamine surfactants. These may be used alone or in combination of two or more. .

상기 안료 분산제는 안료의 탈응집 및 안정성 유지를 위해 첨가되는 것으로서 당해 분야에서 일반적으로 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 부틸메타아크릴레이트(BMA) 또는 N,N-디메틸아미노에틸메타아크릴레이트(DMAEMA)를 포함하는 아크릴레이트계 분산제(이하, 아크릴 분산제라고 함)를 함유하는 것이 좋다. 이때, 상기 아크릴 분산제는 한국 공개특허 2004-0014311호에서 제시된 바와 같은 리빙 제어방법에 의해 제조된 것을 적용하는 것이 바람직한데, 상기 리빙 제어방법을 통해 제조된 아크릴 분산제의 시판품으로는 DISPER BYK-2000, DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, DISPER BYK-2150 등을 들 수 있다.The pigment dispersant is added to deagglomerate and maintain stability of the pigment, and can be used without limitation what is generally used in the art. It is preferable to contain an acrylate-based dispersant (hereinafter, referred to as an acrylic dispersant) containing butyl methacrylate (BMA) or N, N-dimethylaminoethyl methacrylate (DMAEMA). At this time, it is preferable to apply the acrylic dispersant manufactured by the living control method as presented in Korean Patent Publication No. 2004-0014311. As a commercial product of the acrylic dispersant prepared through the living control method, DISPER BYK-2000, And DISPER BYK-2001, DISPER BYK-2070, and DISPER BYK-2150.

상기 예시된 아크릴 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The acrylic dispersants illustrated above may be used alone or in combination of two or more.

상기 안료 분산제는 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제를 사용할 수도 있다. 상기 다른 수지 타입의 안료 분산제로는 공지된 수지 타입의 안료 분산제, 특히 폴리우레탄, 폴리아크릴레이트로 대표되는 폴리카르복실산 에스테르, 불포화 폴리아미드, 폴리카르복실산, 폴리카르복실산의 (부분적)아민 염, 폴리카르복실산의 암모늄 염, 폴리카르복실산의 알킬아민 염, 폴리실록산, 장쇄 폴리아미노아미드 포스페이트 염, 히드록실기-함유 폴리카르복실산의 에스테르 및 이들의 개질 생성물, 또는 프리(free) 카르복실기를 갖는 폴리에스테르와 폴리(저급 알킬렌이민)의 반응에 의해 형성된 아미드 또는 이들의 염과 같은 유질의 분산제; (메트)아크릴산-스티렌 코폴리머, (메트)아크릴산-(메트)아크릴레이트 에스테르 코폴리머, 스티렌-말레산 코폴리머, 폴리비닐 알코올 또는 폴리비닐 피롤리돈과 같은 수용성 수지 또는 수용성 폴리머 화합물; 폴리에스테르; 개질 폴리아크릴레이트; 에틸렌 옥사이드/프로필렌 옥사이드의 부가생성물 및 포스페이트 에스테르 등을 들 수 있다. 상기한 수지형 분산제의 시판품으로는 양이온계 수지 분산제로서, 예를 들면, BYK(빅) 케미사의 상품명: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK-164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF사의 상품명: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Lubirzol사의 상품명: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204/10; 카와켄 파인 케미컬사의 상품명: 히노액트(HINOACT) T-6000, 히노액트 T-7000, 히노액트 T-8000; 아지노모토사의 상품명: 아지스퍼(AJISPUR) PB-821, 아지스퍼 PB-822, 아지스퍼 PB-823; 쿄에이샤 화학사의 상품명: 플로렌(FLORENE) DOPA-17HF, 플로렌 DOPA-15BHF, 플로렌 DOPA-33, 플로렌 DOPA-44 등을 들 수 있다. 상기한 아크릴 분산제 이외에 다른 수지 타입의 안료 분산제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있으며, 아크릴 분산제와 병용하여 사용할 수도 있다.
The pigment dispersant may be a resin dispersant other than the acrylic dispersant described above. As the other resin type pigment dispersant, known resin type pigment dispersants, in particular of polyurethanes, polycarboxylic acid esters represented by polyacrylates, unsaturated polyamides, polycarboxylic acids, (partial) of polycarboxylic acids Amine salts, ammonium salts of polycarboxylic acids, alkylamine salts of polycarboxylic acids, polysiloxanes, long chain polyaminoamide phosphate salts, esters of hydroxyl group-containing polycarboxylic acids and their modified products, or free ) Oily dispersants such as amides or salts thereof formed by the reaction of polyesters having carboxyl groups with poly (lower alkyleneimines); Water-soluble resins or water-soluble polymer compounds such as (meth) acrylic acid-styrene copolymer, (meth) acrylic acid- (meth) acrylate ester copolymer, styrene-maleic acid copolymer, polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone; Polyester; Modified polyacrylates; And adducts of ethylene oxide / propylene oxide and phosphate esters. Commercially available products of the above-mentioned resin-type dispersants are cationic resin dispersants, for example, trade names of BYK (Big) Chemicals: DISPER BYK-160, DISPER BYK-161, DISPER BYK-162, DISPER BYK-163, DISPER BYK- 164, DISPER BYK-166, DISPER BYK-171, DISPER BYK-182, DISPER BYK-184; BASF brand names: EFKA-44, EFKA-46, EFKA-47, EFKA-48, EFKA-4010, EFKA-4050, EFKA-4055, EFKA-4020, EFKA-4015, EFKA-4060, EFKA-4300, EFKA- 4330, EFKA-4400, EFKA-4406, EFKA-4510, EFKA-4800; Trade names of Lubirzol: SOLSPERS-24000, SOLSPERS-32550, NBZ-4204 / 10; Trade names of Kawaken Fine Chemicals: HINOACT T-6000, Hinoact T-7000, Hinoact T-8000; Ajinomoto's trade names: AJISPUR PB-821, AJISPUR PB-822, AJISPUR PB-823; Trade names of Kyoeisha Chemicals: FLORENE DOPA-17HF, Floren DOPA-15BHF, Floren DOPA-33, Floren DOPA-44, and the like. Pigment dispersants of other resin types other than the above-described acrylic dispersants may be used alone or in combination of two or more, or may be used in combination with acrylic dispersants.

상기 안료 분산제의 사용량은 사용되는 안료의 고형분 100 중량부에 대하여 5 내지 60 중량부, 더욱 바람직하게는 15 내지 50 중량부 범위일 수 있다. 안료 분산제의 함량이 상기의 기준으로 60 중량부를 넘게 되면 점도가 높아질 수 있으며, 5 중량부 미만일 경우에는 안료의 미립화가 어렵거나, 분산 후 겔화 등의 문제를 야기할 수 있다.
The amount of the pigment dispersant used may be in the range of 5 to 60 parts by weight, more preferably 15 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the pigment used. If the content of the pigment dispersant exceeds 60 parts by weight based on the above, the viscosity may be increased, and if it is less than 5 parts by weight, it may be difficult to atomize the pigment or cause problems such as gelation after dispersion.

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 착색제(D)는 1종 이상의 염료를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the colorant (D) may further include one or more dyes.

상기 염료는 유기용제에 대한 용해성을 가지는 것이라면 제한 없이 사용할 수 있다. 바람직하게는 유기용제에 대한 용해성을 가지면서 알칼리 현상액에 대한 용해성 및 내용제성, 경시안정성 등의 신뢰성을 확보할 수 있는 염료를 사용하는 것이 바람직하다.The dye can be used without limitation as long as it has solubility in an organic solvent. Preferably, it is preferable to use a dye which has a solubility in an organic solvent and can secure reliability such as solubility in an alkali developer, solvent resistance, and aging stability.

상기 염료로는 설폰산이나 카복실산 등의 산성기를 갖는 산성 염료, 산성 염료와 질소 함유 화합물의 염, 산성 염료의 설폰아미드체 등과 이들의 유도체에서 선택된 것을 사용할 수 있으며, 이외에도 아조계, 크산텐계, 프탈로시아닌계의 산성 염료 및 이들의 유도체도 선택할 수 있다. As the dye, an acidic dye having an acidic group such as sulfonic acid or carboxylic acid, a salt of an acidic dye and a nitrogen-containing compound, a sulfonamide body of an acidic dye, and the like, and derivatives thereof can be used. In addition, azo, xanthene, and phthalocyanine Systemic acid dyes and derivatives thereof can also be selected.

바람직하게 상기 염료는 컬러 인덱스(The Society of Dyers and Colourists 출판) 내에 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트(색염사)에 기재되어 있는 공지의 염료를 들 수 있다.
Preferably, the dye is a compound classified as a dye in the color index (published by The Society of Dyers and Colourists), or a known dye described in a dyeing note (dyeing company).

상기 착색제(D)의 함량은 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물 중의 고형분 전체 100 중량%에 대하여 1 내지 60 중량%, 바람직하게는 5 내지 50 중량%일 수 있다. 상기 착색제(D)가 상기 범위로 포함되는 경우에는 박막을 형성하여도 화소의 색 농도가 충분하고, 현상시 비화소부의 누락성이 저하되지 않기 때문에 잔사가 발생하기 어려우므로 바람직하다.
The content of the colorant (D) may be 1 to 60% by weight, preferably 5 to 50% by weight, based on 100% by weight of the total solid content in the colored photosensitive resin composition for red pixels. When the colorant (D) is included in the above range, it is preferable because even when a thin film is formed, the color density of the pixel is sufficient, and since the omission of the non-pixel portion does not decrease during development, residues are unlikely to be generated.

본 발명에서 고형분이란 용제를 제외한 나머지 성분을 의미한다.
Solid content in the present invention means the rest of the components except the solvent.

용제(E)Solvent (E)

본 발명의 일 실시형태에서, 상기 용제(E)는 본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물에 포함되는 다른 성분들을 용해시키는데 효과적인 것이면, 통상의 착색 감광성 수지 조성물에 사용되는 용제를 특별히 제한하지 않고 사용할 수 있으며, 특히 에테르류, 아세테이트류, 방향족 탄화수소류, 케톤류, 알코올류 또는 에스테르류 등이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, if the solvent (E) is effective for dissolving other components included in the colored photosensitive resin composition for a red pixel of the present invention, the solvent used in the conventional colored photosensitive resin composition is not particularly limited. It can be used, and ethers, acetates, aromatic hydrocarbons, ketones, alcohols or esters are particularly preferred.

상기 에테르류로는 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르 및 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르 및 디에틸렌글리콜디부틸에테르 등의 디에틸렌글리콜디알킬에테르류, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등을 들 수 있다.Examples of the ethers include ethylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; And diethylene glycol dialkyl ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, and diethylene glycol dibutyl ether, and propylene glycol monomethyl ether.

상기 아세테이트류로는 예를 들어, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 에틸아세테이트, 부틸아세테이트, 아밀아세테이트, 메틸락테이트, 에틸락테이트, 부틸락테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시-1-부틸아세테이트, 메톡시펜틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 메틸 3-메톡시프로피오네이트, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 3-메톡시-1-부틸아세테이트, 1,2-프로필렌글리콜디아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 1,3-부틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노아세테이트, 디에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 프로필렌글리콜디아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌카보네이트 및 프로필렌카보네이트 등을 들 수 있다.Examples of the acetates include methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, 3-methoxybutyl acetate, and 3 -Methyl-3-methoxy-1-butyl acetate, methoxypentyl acetate, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, methyl 3-methoxypropionate, propylene glycol methyl ether acetate, 3-methoxy-1- Butyl acetate, 1,2-propylene glycol diacetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol diacetate, diethylene glycol monobutyl ether Acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, di Ethylene glycol monoacetate, diethylene glycol diacetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol monoacetate, propylene glycol diacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene carbonate and propylene carbonate, etc. Can be lifted.

상기 방향족 탄화수소류로는 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 및 메시틸렌 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and mesitylene.

상기 케톤류로는 예를 들어, 메틸에틸케톤, 아세톤, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 및 시클로헥사논 등을 들 수 있다.Examples of the ketones include methyl ethyl ketone, acetone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone.

상기 알코올류로는 예를 들어, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 글리세린 및 4-하이드록시-4-메틸-2-펜탄온 등을 들 수 있다.Examples of the alcohols include ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, glycerin and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone.

상기 에스테르류로는 예를 들어, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 및 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the esters include ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate and γ-butyrolactone.

상기 용제는 각각 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기 용제는 도포성 및 건조성 면에서 비점이 100℃ 내지 200℃인 유기 용제를 사용하는 것이 바람직하고, 예를 들어 알킬렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 알킬렌글리콜모노알킬에테르류, 케톤류, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸 등의 에스테르류를 들 수 있으며, 더욱 바람직하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 시클로헥사논, 에틸락테이트, 부틸락테이트, 3-에톡시프로피온산에틸 및 3-메톡시프로피온산메틸 등을 들 수 있다.
The solvent is preferably an organic solvent having a boiling point of 100 ° C to 200 ° C in terms of coatability and dryness, for example, alkylene glycol alkyl ether acetates, alkylene glycol monoalkyl ethers, ketones, 3- And esters such as ethyl ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate. More preferably, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, ethyl lac Tate, butyl lactate, ethyl 3-ethoxypropionate and methyl 3-methoxypropionate.

상기 용제(E)는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물 전체 100 중량%에 대하여 60 내지 90 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용제가 상기 범위로 포함되면 롤 코터, 스핀 코터, 슬릿 앤드 스핀 코터, 슬릿 코터(다이 코터라고도 하는 경우가 있음) 및 잉크젯 등의 도포 장치로 도포했을 때 도포성이 양호해질 수 있다.
The solvent (E) may be included in 60 to 90% by weight based on 100% by weight of the colored photosensitive resin composition for red pixels. When the solvent is included in the above range, the coatability may be improved when applied with an application device such as a roll coater, a spin coater, a slit and spin coater, a slit coater (sometimes also referred to as a die coater), and an inkjet.

첨가제(F)Additive (F)

본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 다른 고분자 화합물, 경화제, 계면활성제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등의 첨가제를 병용할 수 있다.
The colored photosensitive resin composition for red pixels of the present invention can be used in combination with other polymer compounds, curing agents, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and aggregation inhibitors, if necessary.

상기 다른 고분자 화합물의 구체적인 예로는 에폭시 수지, 말레이미드 수지 등의 경화성 수지, 폴리비닐알코올, 폴리아크릴산, 폴리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 폴리플루오로알킬아크릴레이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄 등의 열가소성 수지 등을 들 수 있다.
Specific examples of the other polymer compound include curable resins such as epoxy resins and maleimide resins, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, polyfluoroalkyl acrylate, polyester, and thermoplastic resins such as polyurethane, etc. Can be lifted.

상기 경화제는 심부 경화 및 기계적 강도를 높이기 위해 사용되며, 경화제의 구체적인 예로는 에폭시 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 멜라민 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.The curing agent is used to increase the core hardening and mechanical strength, and specific examples of the curing agent include epoxy compounds, polyfunctional isocyanate compounds, melamine compounds, and oxetane compounds.

상기 경화제에서 에폭시 화합물의 구체적인 예로는 비스페놀 A계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A계 에폭시 수지, 비스페놀 F계 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 F계 에폭시 수지, 노블락형 에폭시 수지, 기타 방향족계 에폭시 수지, 지환족계 에폭시 수지, 글리시딜에스테르계 수지, 글리시딜아민계 수지, 또는 이러한 에폭시 수지의 브롬화 유도체, 에폭시 수지 및 그 브롬화 유도체 이외의 지방족, 지환족 또는 방향족 에폭시 화합물, 부타디엔 (공)중합체 에폭시화물, 이소프렌 (공)중합체 에폭시화물, 글리시딜(메타)아크릴레트 (공)중합체, 트리글리시딜이소시아눌레이트 등을 들 수 있다. Specific examples of the epoxy compound in the curing agent, bisphenol A-based epoxy resin, hydrogenated bisphenol A-based epoxy resin, bisphenol F-based epoxy resin, hydrogenated bisphenol F-based epoxy resin, no-block type epoxy resin, other aromatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin , Glycidyl ester-based resins, glycidylamine-based resins, or brominated derivatives of these epoxy resins, epoxy resins and aliphatic, alicyclic or aromatic epoxy compounds other than the brominated derivatives, butadiene (co) polymer epoxides, isoprene ( Co-polymer epoxides, glycidyl (meth) acrylate (co) polymers, triglycidyl isocyanurate, and the like.

상기 경화제에서 옥세탄 화합물의 구체적인 예로는 카르보네이트비스옥세탄, 크실렌비스옥세탄, 아디페이트비스옥세탄, 테레프탈레이트비스옥세탄, 시클로헥산디카르복실산비스옥세탄 등을 들 수 있다. Specific examples of the oxetane compound in the curing agent include carbonate bisoxetane, xylene bisoxetane, adipate bisoxetane, terephthalate bisoxetane, and cyclohexanedicarboxylic acid bisoxetane.

상기에서 예시한 경화제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.The curing agents exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 경화제는 경화제와 함께 에폭시 화합물의 에폭시기, 옥세탄 화합물의 옥세탄 골격을 개환 중합하게 할 수 있는 경화 보조 화합물을 병용할 수 있다. 상기 경화 보조 화합물은 예를 들면 다가 카르본산류, 다가 카르본산 무수물류, 산 발생제 등이 있다. 상기 다가 카르본산 무수물류는 에폭시 수지 경화제로서 시판되는 것을 이용할 수 있다. 상기 에폭시 수지 경화제의 구체적인 예로는, 상품명(아데카하도나 EH-700)(아데카공업㈜ 제조), 상품명(리카싯도 HH)(신일본이화㈜ 제조), 상품명(MH-700)(신일본이화㈜ 제조) 등을 들 수 있다.
The curing agent may be used in combination with a curing agent, an epoxy group of the epoxy compound, a curing auxiliary compound capable of ring-opening polymerization of the oxetane skeleton of the oxetane compound. Examples of the curing auxiliary compound include polyvalent carboxylic acids, polyvalent carboxylic anhydrides, and acid generators. The polyhydric carboxylic acid anhydride may be used as a commercially available epoxy resin curing agent. Specific examples of the epoxy resin curing agent, trade name (Adeka Hadona EH-700) (manufactured by Adeka Industries Co., Ltd.), trade name (Rikasitdo HH) (manufactured by Shin Nippon Ewha Co., Ltd.), trade name (MH-700) (New Japan Ewha Corporation).

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물의 피막 형성성을 보다 향상시키기 위해 사용할 수 있으며, 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제 등이 바람직하게 사용될 수 있다.The surfactant may be used to further improve the film-forming properties of the photosensitive resin composition, and a fluorine-based surfactant or silicone-based surfactant may be preferably used.

상기 실리콘계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다우코닝 도레이 실리콘사의 DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 등이 있고 GE 도시바 실리콘사의 TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452 등이 있다. 상기 불소계 계면활성제는 예를 들면 시판품으로서 다이닛본 잉크 가가꾸 고교사의 메가피스 F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 등이 있다. 상기 예시된 계면활성제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
The silicone surfactant is, for example, commercially available products such as DC3PA, DC7PA, SH11PA, SH21PA, SH8400 from Dow Corning Toray Silicone, and TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460 from GE Toshiba Silicone. , TSF-4452. The fluorine-based surfactant is, for example, commercially available products such as Mega Nippon F-470, F-471, F-475, F-482, F-489 of Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd. The surfactants exemplified above may be used alone or in combination of two or more.

상기 밀착 촉진제의 구체적인 예로서는 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 밀착 촉진제는 각각 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 상기 밀착 촉진제는 감광성 수지 조성물 중 고형분 전체 100 중량%에 대하여 통상 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 2 중량% 포함될 수 있다.
Specific examples of the adhesion promoter include vinyl trimethoxysilane, vinyl triethoxysilane, vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- ( 3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrime And methoxysilane, 3-isocyanatepropyltrimethoxysilane, and 3-isocyanatepropyltriethoxysilane. The adhesion promoters exemplified above may be used alone or in combination of two or more. The adhesion promoter may be usually included in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 2% by weight based on 100% by weight of the total solid content in the photosensitive resin composition.

상기 산화 방지제의 구체적인 예로는 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀 등을 들 수 있다. Specific examples of the antioxidant include 2,2'-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, and the like.

상기 자외선 흡수제의 구체적인 예로는 2-(3-t-부틸-2-히드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조티리아졸, 알콕시벤조페논 등을 들 수 있다. Specific examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl) -5-chlorobenzothiazole, alkoxybenzophenone, and the like.

상기 응집 방지제의 구체적인 예로는 폴리아크릴산 나트륨 등을 들 수 있다.
Specific examples of the aggregation inhibitor include sodium polyacrylate and the like.

본 발명의 일 실시형태에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 예를 들면 하기와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.The colored photosensitive resin composition for red pixels according to an embodiment of the present invention can be produced, for example, by the following method.

먼저, 상기 착색제(D) 중 안료를 용제(E)와 혼합하여 안료의 평균 입경이 0.2㎛ 이하 정도가 될 때까지 비드 밀 등을 이용하여 분산시킨다. 이때, 필요에 따라 안료 분산제, 알칼리 가용성 수지(A)의 일부 또는 전부, 또는 염료를 용제(E)와 함께 혼합시켜 용해 또는 분산시킬 수 있다. 상기 혼합된 분산액에 알칼리 가용성 수지(A)의 나머지, 광중합 개시제(C), 광중합성 화합물(B) 및 첨가제(F)와 필요에 따라 용제(E)를 소정의 농도가 되도록 더 첨가하여 본 발명에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 제조할 수 있다.
First, the pigment in the coloring agent (D) is mixed with a solvent (E) and dispersed using a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment is about 0.2 μm or less. In this case, a pigment dispersant, an alkali-soluble resin (A), or all or a dye may be mixed with a solvent (E) to dissolve or disperse as necessary. The remainder of the alkali-soluble resin (A), the photopolymerization initiator (C), the photopolymerizable compound (B), and the additive (F) and the solvent (E), if necessary, are further added to the mixed dispersion to a predetermined concentration. Colored photosensitive resin composition for red pixels according to can be prepared.

본 발명의 일 실시형태는 상술한 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 컬러필터는 기판 상에 상술한 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 도포하고 소정의 패턴으로 노광 및 현상하여 형성되는 착색층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
One embodiment of the present invention relates to a color filter formed using the colored photosensitive resin composition for red pixels described above. The color filter according to an embodiment of the present invention is characterized in that it comprises a colored layer formed by applying a coloring photosensitive resin composition for a red pixel described above on a substrate and exposing and developing in a predetermined pattern.

이하, 본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용한 패턴 형성 방법에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of forming a pattern using the colored photosensitive resin composition for red pixels of the present invention will be described in detail.

본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 패턴을 형성하는 방법은 당해 기술분야에 공지된 방법을 사용할 수 있으나, 통상적으로는 도포 단계; 노광 단계; 및 제거 단계를 포함한다. 본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 기재 상에 도포하고, 광 경화 및 현상을 하여 패턴을 형성함으로써, 착색 화소(착색 화상)로 사용할 수 있게 된다.The method of forming a pattern by using the colored photosensitive resin composition for red pixels of the present invention can use a method known in the art, but is typically applied; Exposure step; And a removal step. The colored photosensitive resin composition for red pixels of the present invention is coated on a substrate, and photocured and developed to form a pattern, so that it can be used as a colored pixel (colored image).

상기 도포 단계는 본 발명의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 기재(제한되지 않으나, 통상은 유리 혹은 실리콘 웨이퍼) 또는 먼저 형성된 감광성 수지 조성물층 위에 도포하고 예비 건조함으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 평활한 도막을 얻는 단계이다. 이때, 도막의 두께는 1 내지 3 ㎛인 것이 바람직하다.In the coating step, the volatile component such as a solvent is removed and smoothed by applying the coloring photosensitive resin composition for a red pixel of the present invention to a substrate (but not limited to a glass or silicon wafer) or a photosensitive resin composition layer previously formed and preliminarily drying it. It is a step to get a coating. At this time, the thickness of the coating film is preferably 1 to 3 ㎛.

상기 노광 단계는 상기 도막에 목적하는 패턴을 얻기 위해 마스크를 통해 특정 영역에 자외선을 조사하여 경화시키는 단계이다. 이때, 노광부 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하고, 마스크와 기판이 정확히 위치가 맞도록 마스크 얼라이너나 스테퍼 등의 장치를 사용하는 것이 바람직하다.The exposing step is a step of irradiating ultraviolet rays to a specific region through a mask to obtain a desired pattern on the coating film and curing. At this time, it is preferable to use a device such as a mask aligner or a stepper so as to uniformly irradiate parallel light beams over the entire exposed portion and to accurately align the mask and the substrate.

상기 제거 단계는 자외선을 조사하여 경화가 종료된 도막을 알칼리 수용액에 접촉시켜 비노광 영역을 용해시키고 현상함으로써 목적하는 패턴을 얻는 단계이다. 현상 후, 필요에 따라 140 내지 200℃, 특히 약 150℃에서 10 내지 60분 정도의 후 건조를 실시할 수 있다.The removing step is a step of obtaining a desired pattern by dissolving and developing a non-exposed region by irradiating ultraviolet rays and contacting a coating film having been cured to an aqueous alkali solution. After development, drying may be carried out after about 10 to 60 minutes at 140 to 200 ° C, particularly at about 150 ° C, if necessary.

상기 현상에 사용되는 현상액은 당해 기술분야에 공지된 것을 제한 없이 사용할 수 있으며, 통상적으로 알칼리성 화합물 및 계면활성제를 포함하는 수용액을 사용할 수 있다.The developer used for the above development can be used without limitation what is known in the art, it is usually possible to use an aqueous solution containing an alkaline compound and a surfactant.

상기 알칼리성 화합물은 무기 또는 유기 알칼리성 화합물일 수 있다. 상기 무기 알칼리성 화합물의 구체적인 예로는, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 인산수소이나트륨, 인산이수소나트륨, 인산수소이암모늄, 인산이수소암모늄, 인산이수소칼륨, 규산나트륨, 규산칼륨, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산수소칼륨, 붕산나트륨, 붕산칼륨, 암모니아 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 알칼리성 화합물의 구체적 예로는, 테트라메틸암모늄히드록시드, 2-히드록시에틸트리메틸암모늄히드록시드, 모노메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 모노에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노이소프로필아민, 디이소프로필아민, 에탄올아민 등을 들 수 있다. 이들 무기 및 유기 알칼리성 화합물은 각각 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 상기 알칼리성 화합물은 현상액 중에 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.03 내지 5 중량%로 포함될 수 있다.The alkaline compound may be an inorganic or organic alkaline compound. Specific examples of the inorganic alkaline compound, sodium hydroxide, potassium hydroxide, disodium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, diammonium hydrogen phosphate, ammonium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, sodium silicate, potassium silicate, sodium carbonate, potassium carbonate, carbonic acid And sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonia. Further, specific examples of the organic alkaline compound include tetramethylammonium hydroxide, 2-hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, and triethylamine. , Monoisopropylamine, diisopropylamine, ethanolamine, and the like. These inorganic and organic alkaline compounds may be used alone or in combination of two or more. The alkaline compound may be included in the developer in an amount of 0.01 to 10% by weight, preferably 0.03 to 5% by weight.

상기 계면활성제는 비이온계 계면활성제, 음이온계 계면활성제 및 양이온계 계면활성제로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 이들의 혼합물을 사용할 수 있다. 상기 비이온계 계면활성제의 구체적 예로는, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌아릴에테르, 폴리옥시에틸렌알킬아릴에테르, 그 밖의 폴리옥시에틸렌 유도체, 옥시에틸렌/옥시프로필렌 블록 공중합체, 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌소르비톨 지방산 에스테르, 글리세린 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬아민 등을 들 수 있다. 상기 음이온계 계면활성제의 구체적 예로는, 라우릴알콜 황산 에스테르 나트륨이나 올레일알콜 황산 에스테르 나트륨 등의 고급 알콜 황산 에스테르염류, 라우릴 황산 나트륨이나 라우릴 황산 암모늄 등의 알킬 황산염류, 도데실벤젠술폰산 나트륨이나 도데실나프탈렌술폰산 나트륨 등의 알킬아릴 술폰산염류 등을 들 수 있다. 상기 양이온계 계면활성제의 구체적 예로는, 스테아릴아민염산염이나 라우릴트리메틸암모늄클로라이드 등의 아민염 또는 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 상기 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 상기 계면활성제는 현상액 중에 통상 0.01 내지 10 중량%, 바람직하게는 0.05 내지 8 중량%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 포함될 수 있다.
As the surfactant, one or a mixture of nonionic surfactants, anionic surfactants, and cationic surfactants may be used. Specific examples of the nonionic surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene aryl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, other polyoxyethylene derivatives, oxyethylene / oxypropylene block copolymer, sorbitan fatty acid ester , Polyoxyethylene sorbitan fatty acid ester, polyoxyethylene sorbitol fatty acid ester, glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene fatty acid ester, polyoxyethylene alkylamine, and the like. Specific examples of the anionic surfactant include higher alcohol sulfate ester salts such as sodium lauryl alcohol sulfate or sodium oleyl alcohol sulfate, alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, and dodecylbenzenesulfonic acid And alkylaryl sulfonates such as sodium and sodium dodecylnaphthalenesulfonate. Specific examples of the cationic surfactant include amine salts such as stearylamine hydrochloride and lauryl trimethylammonium chloride or quaternary ammonium salts. The surfactants may be used alone or in combination of two or more. The surfactant may be usually included in the developer, 0.01 to 10% by weight, preferably 0.05 to 8% by weight, more preferably 0.1 to 5% by weight.

본 발명의 일 실시형태는 상술한 컬러필터가 구비된 화상표시장치에 관한 것이다.One embodiment of the present invention relates to an image display device equipped with the above-described color filter.

본 발명의 컬러필터는 통상의 액정표시장치(LCD)뿐만 아니라, 전계발광표시장치(EL), 플라스마표시장치(PDP), 전계방출표시장치(FED), 유기발광소자(OLED) 등 각종 화상표시장치에 적용이 가능하다.The color filter of the present invention displays not only a normal liquid crystal display (LCD), but also various image displays such as an electroluminescence display (EL), a plasma display (PDP), an emission display (FED), and an organic light emitting device (OLED). Applicable to the device.

본 발명의 화상표시장치는 상술한 컬러필터를 구비한 것을 제외하고는, 당해 기술분야에서 알려진 구성을 포함한다.The image display device of the present invention includes a configuration known in the art, except that the above-described color filter is provided.

본 발명의 일 실시형태에 따른 화상표시장치는 상술한 컬러필터 이외에 적 양자점 입자를 함유한 적색 패턴층, 녹 양자점 입자를 함유한 녹색 패턴층, 및 청 양자점 입자를 함유한 청색 패턴층을 포함하는 컬러필터를 추가로 구비할 수 있다. 그러한 경우에 화상표시장치에 적용되는 광원의 방출광이 특별히 한정되지 않으나, 보다 우수한 색 재현성의 측면에서 바람직하게는 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다.The image display apparatus according to an embodiment of the present invention includes a red pattern layer containing red quantum dot particles, a green pattern layer containing green quantum dot particles, and a blue pattern layer containing blue quantum dot particles in addition to the color filters described above. A color filter may be additionally provided. In such a case, the emitted light of the light source applied to the image display device is not particularly limited, but in view of better color reproducibility, a light source that emits blue light can be preferably used.

본 발명의 일 실시형태에 따른 화상표시장치는 상술한 컬러필터 이외에 적색 패턴층, 녹색 패턴층 및 청색 패턴층 중 2종 색상의 패턴층만을 포함하는 컬러필터를 추가로 구비할 수도 있다. 그러한 경우에 상기 컬러필터는 양자점 입자를 함유하지 않는 투명 패턴층을 더 구비한다. 2종 색상의 패턴층만을 구비하는 경우에는 포함하지 않은 나머지 색상을 나타내는 파장의 빛을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 예를 들면, 적색 패턴층 및 녹색 패턴층만을 포함하는 경우에는, 청색광을 방출하는 광원을 사용할 수 있다. 그러한 경우에 적 양자점 입자는 적색광을, 녹 양자점 입자는 녹색광을 방출하고, 투명 패턴층은 청색광이 그대로 투과하여 청색을 나타낸다.
The image display apparatus according to an embodiment of the present invention may further include a color filter including only the pattern layers of two kinds of colors among the red pattern layer, the green pattern layer, and the blue pattern layer, in addition to the color filters described above. In such a case, the color filter further includes a transparent pattern layer that does not contain quantum dot particles. When only two types of color pattern layers are provided, a light source that emits light having a wavelength indicating the remaining color not included may be used. For example, when only the red pattern layer and the green pattern layer are included, a light source emitting blue light may be used. In such a case, the red quantum dot particles emit red light, the green quantum dot particles emit green light, and the transparent pattern layer transmits the blue light as it is and shows blue.

이하, 실시예, 비교예 및 실험예에 의해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예, 비교예 및 실험예는 오직 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 이들에 국한되지 않는다는 것은 당업자에게 있어서 자명하다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, Comparative Examples and Experimental Examples. It is apparent to those skilled in the art that these examples, comparative examples and experimental examples are only for describing the present invention, and the scope of the present invention is not limited to them.

제조예Manufacturing example 1: 착색제 분산액 D-1의 제조 1: Preparation of colorant dispersion D-1

안료로서 화학식 4로 표시되는 C.I. 피그먼트 레드 254 40 중량부, 분산제로서 BYK2001(디스퍼빅: 비와이케이(BYK)사 제조, 고형분 농도 45.1 중량%) 24 중량부(고형분 환산 약 10.8 중량부) 및 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 136 중량부를 포함하는 혼합액을 비드밀에 의해 12 시간 동안 혼합 및 분산하여, 착색제 분산액 D-1을 제조하였다.
40 parts by weight of CI Pigment Red 254 represented by Chemical Formula 4 as a pigment, 24 parts by weight of BYK2001 (dispervic: manufactured by BYK, solid content concentration 45.1% by weight) (about 10.8 parts by weight in terms of solid content) and solvent As a mixture, the mixture containing 136 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate was mixed and dispersed with a bead mill for 12 hours to prepare a colorant dispersion D-1.

제조예Manufacturing example 2: 착색제 분산액 D-2의 제조 2: Preparation of colorant dispersion D-2

안료로서 화학식 2로 표시되는 브롬화 디케토피롤로피롤(BASF 사의 Irgaphor® Red S 3620 CF) 40 중량부, 분산제로서 BYK2001(디스퍼빅: 비와이케이(BYK)사 제조, 고형분 농도 45.1 중량%) 24 중량부(고형분 환산 약 10.8 중량부) 및 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 136 중량부를 포함하는 혼합액을 비드밀에 의해 12 시간 동안 혼합 및 분산하여, 착색제 분산액 D-2를 제조하였다.
40 parts by weight of brominated diketopyrrolopyrrole (Irgaphor® Red S 3620 CF from BASF) represented by Chemical Formula 2 as a pigment, and 24 parts by weight of BYK2001 (Disperbic: manufactured by BYK, solid content concentration 45.1% by weight) as a dispersant A mixed solution comprising (about 10.8 parts by weight in terms of solid content) and 136 parts by weight of propylene glycol methyl ether acetate as a solvent was mixed and dispersed for 12 hours with a bead mill to prepare a colorant dispersion D-2.

제조예Manufacturing example 3: 착색제 분산액 D-3의 제조 3: Preparation of colorant dispersion D-3

안료로서 C.I. 피그먼트 레드 177 40 중량부, 분산제로서 BYK2001(디스퍼빅: 비와이케이(BYK)사 제조, 고형분 농도 45.1 중량%) 24 중량부(고형분 환산 약 10.8 중량부) 및 용제로서 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 136 중량부를 포함하는 혼합액을 비드밀에 의해 12 시간 동안 혼합 및 분산하여, 착색제 분산액 D-3을 제조하였다.
40 parts by weight of CI Pigment Red 177 as a pigment, 24 parts by weight of BYK2001 (disperbic: manufactured by BYK, 45.1% by weight of solid content) as a dispersant (about 10.8 parts by weight in terms of solid content) and propylene glycol methyl ether as a solvent A colorant dispersion D-3 was prepared by mixing and dispersing a mixed solution containing 136 parts by weight of acetate with a bead mill for 12 hours.

합성예Synthetic example 1: 알칼리 가용성 수지 A-1의 합성 1: Synthesis of alkali-soluble resin A-1

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하로트로서 2-페닐티오에틸아크릴레이트 52g(0.25몰), 벤질메타크릴레이트 44g(0.25몰), 메타크릴산 12.9g(0.15몰), 비닐톨루엔 41.3g(0.35몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40g을 투입 후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6g 및 PGMEA 24g를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395g을 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하고 1 시간 후에 110℃로 승온하여 8 시간 동안 반응을 진행하여, 고형분 산가가 70㎎KOH/g인 알칼리 가용성 수지 A-1을 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 23,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.4이었다.
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping lot, and a nitrogen introduction tube was prepared, while 52 g (0.25 mol) of 2-phenylthioethylacrylate and 44 g (0.25 mol) of benzyl methacrylate were added as a monomer dropping lot. , 12.9 g (0.15 mol) of methacrylic acid, 41.3 g (0.35 mol) of vinyl toluene, 4 g of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were added and stirred and mixed. Prepared and prepared as a chain transfer agent dropping tank, 6 g of n-dodecanthiol and 24 g of PGMEA were added and stirred and mixed. Thereafter, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, the monomer and the chain transfer agent were dripped from the dropping lot. The dropwise addition, while maintaining at 90 ° C, proceeded for 2 hours each, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C to proceed the reaction for 8 hours to obtain alkali-soluble resin A-1 having a solid acid value of 70 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 23,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.4.

합성예Synthetic example 2: 알칼리 가용성 수지 A-2의 합성 2: Synthesis of alkali-soluble resin A-2

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서 2-페닐티오에틸아크릴레이트 52g(0.25몰), 메틸메타크릴레이트 15g(0.15몰), 메타크릴산 21.5g(0.25몰), 벤질말레이미드 65.4g(0.35몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40g을 투입 후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6g 및 PGMEA 24g를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395g을 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하고 1 시간 후에 110℃로 승온하여 5 시간 유지한 뒤, 가스 도입관을 도입시켜, 산소/질소=5/95(v/v) 혼합 가스의 버블링을 개시했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 21.3g(0.15몰), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀) 0.4g 및 트리에틸아민 0.8g를 플라스크 내에 투입하여 110℃에서 8시간 동안 반응을 진행하여, 고형분 산가가 73㎎KOH/g인 알칼리 가용성 수지 A-2를 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 18,000이고, 분자량 분포(Mw/Mn)는 2.2이었다.
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping lot, and a nitrogen introduction tube was prepared, while 52 g (0.25 mol) of 2-phenylthioethylacrylate and 15 g (0.15 mol) of methylmethacrylate were added as a monomer dropping lot. , Methacrylic acid 21.5 g (0.25 mol), benzyl maleimide 65.4 g (0.35 mol), t-butyl peroxy-2-ethyl hexanoate 4 g and propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) 40 g was added followed by stirring and mixing And prepared as a chain transfer agent dropper, 6 g of n-dodecanethiol and 24 g of PGMEA were added and stirred and prepared. Thereafter, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, the monomer and the chain transfer agent were dripped from the dropping lot. The dropping, while maintaining 90 ° C, proceeds for 2 hours each, and after 1 hour, the temperature is raised to 110 ° C and maintained for 5 hours, and then a gas introduction pipe is introduced to mix oxygen / nitrogen = 5/95 (v / v) Started bubbling. Subsequently, 21.3 g (0.15 mol) of glycidyl methacrylate, 0.4 g of 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), and 0.8 g of triethylamine were introduced into the flask at 110 ° C. The reaction proceeded for 8 hours to obtain alkali-soluble resin A-2 having a solid acid value of 73 mgKOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 18,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

합성예Synthetic example 3: 3: 알칼리 가용성 수지 A-3의 합성Synthesis of alkali-soluble resin A-3

교반기, 온도계, 환류 냉각관, 적하 로트 및 질소 도입관을 구비한 플라스크를 준비하고, 한편, 모노머 적하 로트로서, 벤질메타크릴레이트 88g(0.5몰), 메타크릴산 12.9g(0.15몰), 비닐톨루엔 41.3g(0.35몰), t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트 4g 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 40g을 투입 후 교반 혼합하여 준비하고, 연쇄 이동제 적하조로서, n-도데칸티올 6g 및 PGMEA 24g를 넣고 교반 혼합한 것을 준비했다. 이후 플라스크에 PGMEA 395g을 도입하고 플라스크 내 분위기를 공기에서 질소로 한 후 교반하면서 플라스크의 온도를 90℃까지 승온했다. 이어서 모노머 및 연쇄 이동제를 적하 로트로부터 적하를 개시했다. 적하는, 90℃를 유지하면서, 각각 2 시간 동안 진행하고 1 시간 후에 110℃로 승온하여 8 시간 동안 반응을 진행하여, 고형분 산가가 70㎎ KOH/g인 알칼리 가용성 수지 A-3을 얻었다. GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 21,000이고, 분자량 분포 (Mw/Mn)는 2.2이었다.
A flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux cooling tube, a dropping lot, and a nitrogen introduction tube was prepared. Meanwhile, as a monomer dropping lot, 88 g (0.5 mol) of benzyl methacrylate, 12.9 g (0.15 mol) of methacrylic acid, and vinyl 41.3 g (0.35 mol) of toluene, 4 g of t-butylperoxy-2-ethylhexanoate and 40 g of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were prepared by stirring and mixing. As a chain transfer agent dropping tank, n-dode 6 g of canthiol and 24 g of PGMEA were added and stirred and prepared. Thereafter, 395 g of PGMEA was introduced into the flask, and the atmosphere in the flask was changed to nitrogen from air, and the temperature of the flask was raised to 90 ° C. while stirring. Subsequently, the monomer and the chain transfer agent were dripped from the dropping lot. Dropping, while maintaining at 90 ° C., proceeded for 2 hours each, and after 1 hour, the temperature was raised to 110 ° C. and the reaction was performed for 8 hours to obtain alkali-soluble resin A-3 having a solid acid value of 70 mg KOH / g. The weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by GPC was 21,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 2.2.

실시예Example 1 내지 3 및  1 to 3 and 비교예Comparative example 1 내지 6: 적색  1 to 6: Red 화소용Pixel 착색 감광성 수지 조성물의 제조 Preparation of colored photosensitive resin composition

하기 표 1의 조성으로 각 성분들을 혼합하여 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 제조하였다(단위: 중량%).
Each component was mixed with the composition of Table 1 below to prepare a colored photosensitive resin composition for red pixels (unit: wt%).

구분
(중량%)
division
(weight%)
알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin 광중합성
화합물
Photopolymerization
compound
광중합 개시제Photopolymerization initiator 착색제 분산액Colorant dispersion 용제solvent 첨가제additive
A-1A-1 A-2A-2 A-3A-3 BB CC D-1D-1 D-2D-2 D-3D-3 EE FF 비교예 1Comparative Example 1 -- 1010 -- 55 0.60.6 2020 -- 1010 54.354.3 0.10.1 비교예 2Comparative Example 2 1010 -- -- 55 0.60.6 2020 -- 1010 54.354.3 0.10.1 비교예 3Comparative Example 3 -- -- 1010 55 0.60.6 -- 2020 1010 54.354.3 0.10.1 비교예 4Comparative Example 4 -- -- 1010 55 0.60.6 44 1616 1010 54.354.3 0.10.1 비교예 5Comparative Example 5 -- -- 1010 55 0.60.6 1010 1616 44 54.354.3 0.10.1 비교예 6Comparative Example 6 -- -- 1010 55 0.60.6 1010 1010 1010 54.354.3 0.10.1 실시예 1Example 1 1010 -- -- 55 0.60.6 44 1616 1010 54.354.3 0.10.1 실시예 2Example 2 1010 -- 55 0.60.6 1010 1616 44 54.354.3 0.10.1 실시예 3Example 3 1010 -- -- 55 0.60.6 -- 3030 -- 54.354.3 0.10.1

알칼리 가용성 수지Alkali-soluble resin

A-1: 합성예 1의 알칼리 가용성 수지A-1: Alkali-soluble resin of Synthesis Example 1

A-2: 합성예 2의 알칼리 가용성 수지A-2: Alkali-soluble resin of Synthesis Example 2

A-3: 합성예 3의 알칼리 가용성 수지A-3: Alkali-soluble resin of Synthesis Example 3

광중합성 화합물(B): A9550 (신나카무라사)Photopolymerizable compound (B): A9550 (Cinnakamura Co.)

광중합 개시제 (C): OXE-01 (바스프)Photopolymerization initiator (C): OXE-01 (BASF)

착색제 분산액(D)Colorant dispersion (D)

D-1: 제조예 1의 착색제 분산액D-1: Colorant dispersion of Preparation Example 1

D-2: 제조예 2의 착색제 분산액D-2: Colorant dispersion of Preparation Example 2

D-3: 제조예 3의 착색제 분산액D-3: Colorant dispersion of Preparation Example 3

용제(E): 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트Solvent (E): Propylene glycol monomethyl ether acetate

첨가제(F): 실리콘계 계면활성제 SH8400 (다우코닝 도레이 실리콘사)
Additive (F): Silicone surfactant SH8400 (Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd.)

실험예Experimental Example 1 One

상기 실시예 및 비교예에서 제조된 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 아래와 같이 블랙 매트릭스 상 잔사 발생 및 재용해성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
Using the colored photosensitive resin composition for red pixels prepared in Examples and Comparative Examples, residue generation and re-solubility on the black matrix were evaluated as follows, and the results are shown in Table 2 below.

(1) 블랙 매트릭스 상 (1) Black Matrix Award 잔사Residue

적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 블랙 매트릭스가 형성된 기판 상부에 스핀 코팅법으로 도포한 후, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분 동안 유지하여 컬러층 박막을 형성시켰다. 이어서, 1 내지 50㎛의 라인/스페이스 패턴을 갖는 시험 포토마스크를 올려놓고 시험 포토마스크와의 간격을 250㎛로 하여 자외선을 조사하였다. 이때, 자외선 광원은 g, h, i선을 모두 함유하는 1㎾의 고압 수은등을 사용하여 50mJ/㎠의 조도로 조사하였으며, 특별한 광학 필터는 사용하지 않았다. 자외선이 조사된 컬러층 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 2분 동안 침지시켜 현상하였다. 이후 블랙 매트릭스 상 현상잔사 유무를 관찰하고, 하기 평가기준으로 평가하였다.
The colored photosensitive resin composition for red pixels was coated on a substrate on which a black matrix was formed by spin coating, and then placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes to form a color layer thin film. Subsequently, a test photomask having a line / space pattern of 1 to 50 µm was placed, and ultraviolet light was irradiated with a distance from the test photomask of 250 µm. At this time, the ultraviolet light source was irradiated with an illuminance of 50 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp of 1 kW containing all g, h, and i rays, and no special optical filter was used. The color layer thin film irradiated with ultraviolet rays was developed by immersing it in a KOH aqueous solution developing solution at pH 10.5 for 2 minutes. Then, the presence or absence of development residue on the black matrix was observed and evaluated according to the following evaluation criteria.

<평가기준><Evaluation criteria>

○: 블랙 매트릭스 상 현상잔사 없음○: No developing residue on the black matrix

×: 블랙 매트릭스 상 현상잔사 있음
×: There is a developing residue on the black matrix

(2) (2) 재용해성Re-solubility

적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 유리 기판 상부에 스핀 코팅법으로 도포한 후, 가열판 위에 놓고 100℃의 온도에서 3분 동안 유지하여 컬러층 박막을 형성시켰다. 형성된 컬러층 박막을 pH 10.5의 KOH 수용액 현상 용액에 담근 후, 3분 동안 용해되는 형태를 관찰하고, 하기 평가기준으로 평가하였다.After the colored photosensitive resin composition for red pixels was applied to the top of the glass substrate by spin coating, it was placed on a heating plate and maintained at a temperature of 100 ° C. for 3 minutes to form a thin film of color layer. The formed color layer thin film was immersed in a KOH aqueous solution developing solution having a pH of 10.5, and then observed for soluble form for 3 minutes, and evaluated by the following evaluation criteria.

<평가 기준><Evaluation criteria>

○: 완전히 용해됨○: completely dissolved

×: 박리 형태로 용해됨
×: dissolved in the form of peeling

블랙 매트릭스 상 잔사Black matrix award Residue 재용해성Re-solubility 비교예 1Comparative Example 1 ×× ×× 비교예 2Comparative Example 2 ×× ×× 비교예 3Comparative Example 3 ×× ×× 비교예 4Comparative Example 4 ×× ×× 비교예 5Comparative Example 5 ×× ×× 비교예 6Comparative Example 6 ×× ×× 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 알칼리 가용성 수지로서 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체를 포함하고, 착색제로서 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물을 포함하는 실시예 1 내지 3의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 블랙 매트릭스 상 잔사가 발생하지 않고 현상액에 대한 용해도가 우수한 것을 확인할 수 있었다. 반면, 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체 및 브롬화 디케토피롤로피롤 화합물 중 어느 하나를 포함하지 않는 비교예 1 내지 6의 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물은 블랙 매트릭스 상 잔사가 발생하고 현상액에 대한 용해도가 떨어지는 것을 확인할 수 있었다.
As shown in Table 2, a copolymer of a compound represented by Formula 1, an unsaturated carboxylic acid, and a compound having an unsaturated bond copolymerizable therewith as an alkali-soluble resin according to the present invention, and a brominated diketopy as a colorant It was confirmed that the colored photosensitive resin composition for red pixels of Examples 1 to 3 containing the rollopyrrole compound had no black matrix phase residue and had excellent solubility in a developer. On the other hand, for the red pixel of Comparative Examples 1 to 6, which does not contain any one of the compound represented by Formula 1, the unsaturated carboxylic acid and the copolymer of the compound having an unsaturated bond capable of copolymerizing with them, and the brominated diketopyrrolopyrrole compound. It was confirmed that the colored photosensitive resin composition had black matrix residue and poor solubility in the developer.

이상으로 본 발명의 특정한 부분을 상세히 기술하였는 바, 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 이러한 구체적인 기술은 단지 바람직한 구현예일 뿐이며, 이에 본 발명의 범위가 제한되는 것이 아님은 명백하다. 본 발명이 속한 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기 내용을 바탕으로 본 발명의 범주 내에서 다양한 응용 및 변형을 행하는 것이 가능할 것이다. Since the specific parts of the present invention have been described in detail above, it is obvious that for those skilled in the art to which the present invention pertains, this specific technology is only a preferred embodiment, and the scope of the present invention is not limited thereto. Do. Those skilled in the art to which the present invention pertains will be able to make various applications and modifications within the scope of the present invention based on the above.

따라서, 본 발명의 실질적인 범위는 첨부된 특허청구범위와 그의 등가물에 의하여 정의된다고 할 것이다.Accordingly, the substantial scope of the present invention will be defined by the appended claims and their equivalents.

Claims (6)

알칼리 가용성 수지, 광중합성 화합물, 광중합 개시제, 착색제 및 용제를 포함하는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물로서,
상기 알칼리 가용성 수지가 하기 화학식 1로 표시되는 화합물, 불포화 카르복실산 및 이들과 공중합이 가능한 불포화 결합을 갖는 화합물의 공중합체를 포함하고,
상기 착색제가 안료로 구성되고, 상기 안료는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 C.I. 피그먼트 레드 177을 포함하며,
상기 화학식 2로 표시되는 화합물은 착색제 전체 100 중량%에 대하여 5 내지 100 중량%의 양으로 포함되는 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물:
[화학식 1]
Figure 112019097999692-pat00008

[화학식 2]
Figure 112019097999692-pat00009

[화학식 4]
Figure 112019097999692-pat00012

상기 식에서,
X1은 수소 또는 메틸기이고,
X2는 C1-C6의 알킬렌기 또는 C2-C6의 알케닐렌기이며,
A는 아릴기, C3-C10의 사이클로알킬기, C1-C6의 알킬기 또는 C2-C6의 알케닐기이다.
A colored photosensitive resin composition for red pixels comprising an alkali-soluble resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, a colorant, and a solvent,
The alkali-soluble resin comprises a copolymer of a compound represented by the following formula (1), an unsaturated carboxylic acid and a compound having an unsaturated bond capable of copolymerizing them,
The colorant is composed of a pigment, and the pigment includes a compound represented by the following Chemical Formula 2, a compound represented by the following Chemical Formula 4, and CI Pigment Red 177,
The compound represented by the formula (2) is a colored photosensitive resin composition for red pixels contained in an amount of 5 to 100% by weight relative to 100% by weight of the total colorant:
[Formula 1]
Figure 112019097999692-pat00008

[Formula 2]
Figure 112019097999692-pat00009

[Formula 4]
Figure 112019097999692-pat00012

In the above formula,
X 1 is hydrogen or a methyl group,
X 2 is a C 1 -C 6 alkylene group or a C 2 -C 6 alkenylene group,
A is an aryl group, a C 3 -C 10 cycloalkyl group, a C 1 -C 6 alkyl group or a C 2 -C 6 alkenyl group.
제1항에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물은 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물:
[화학식 3]
Figure 112017027930957-pat00010

상기 식에서,
X1은 수소 또는 메틸기이고,
X2는 C1-C6의 알킬렌기 또는 C2-C6의 알케닐렌기이다.
The colored photosensitive resin composition for red pixels according to claim 1, wherein the compound represented by Chemical Formula 1 is a compound represented by Chemical Formula 3:
[Formula 3]
Figure 112017027930957-pat00010

In the above formula,
X 1 is hydrogen or a methyl group,
X 2 is a C 1 -C 6 alkylene group or a C 2 -C 6 alkenylene group.
삭제delete 삭제delete 제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 따른 적색 화소용 착색 감광성 수지 조성물을 이용하여 형성되는 컬러필터.A color filter formed by using the colored photosensitive resin composition for red pixels according to any one of claims 1 to 2. 제5항에 따른 컬러필터가 구비된 것을 특징으로 하는 화상표시장치.An image display device characterized in that the color filter according to claim 5 is provided.
KR1020170035337A 2017-03-21 2017-03-21 Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device KR102108232B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170035337A KR102108232B1 (en) 2017-03-21 2017-03-21 Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device
CN201810213811.8A CN108628100B (en) 2017-03-21 2018-03-15 Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170035337A KR102108232B1 (en) 2017-03-21 2017-03-21 Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180106658A KR20180106658A (en) 2018-10-01
KR102108232B1 true KR102108232B1 (en) 2020-05-08

Family

ID=63706252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170035337A KR102108232B1 (en) 2017-03-21 2017-03-21 Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR102108232B1 (en)
CN (1) CN108628100B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2024013852A (en) * 2022-07-21 2024-02-01 住友化学株式会社 Composition, film, and display device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015161715A (en) * 2014-02-26 2015-09-07 Jsr株式会社 Coloring composition, cured coloring film, and display element

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100994605B1 (en) * 2007-09-21 2010-11-15 동우 화인켐 주식회사 A colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
KR20120016849A (en) * 2010-08-17 2012-02-27 동우 화인켐 주식회사 Colored dispersions and colored photosensitive composition using the same
TWI494378B (en) 2011-03-29 2015-08-01 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Red coloring composition for color filter, and color filter
KR20140106282A (en) * 2013-02-26 2014-09-03 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition
CN103293856B (en) * 2013-05-30 2015-04-01 京东方科技集团股份有限公司 Colored photosensitive resin composition, color filter and display device
WO2015008734A1 (en) * 2013-07-15 2015-01-22 花王株式会社 Coloring composition for color filter
KR20150112612A (en) * 2014-03-28 2015-10-07 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition and color filter using the same and image display device comprising the color filter

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015161715A (en) * 2014-02-26 2015-09-07 Jsr株式会社 Coloring composition, cured coloring film, and display element

Also Published As

Publication number Publication date
CN108628100A (en) 2018-10-09
CN108628100B (en) 2022-02-11
KR20180106658A (en) 2018-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105388705B (en) Colored photosensitive resin composition
JP2021105729A (en) Colored photosensitive resin composition
KR102364788B1 (en) A photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
CN106019845B (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device
KR20160060410A (en) A color photosensitive resin composition
KR102186496B1 (en) Colored photosensitive resin composition
CN108062002B (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device
KR20150011496A (en) A colored photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR20230026369A (en) A green photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102108232B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device
JP2016051176A (en) Colored photosensitive resin composition
KR101985769B1 (en) Method of manufacturing color filter using maskless digital exposure
CN108459466B (en) Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof
KR102386493B1 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same
KR102397084B1 (en) Colored Photosensitive Resin Composition, Color Filter and Display Device
KR102323365B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR102450251B1 (en) Colored photosensitive resin composition for organic light emitting diodes, color filter and image display device produced using the same
KR102222402B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR102299970B1 (en) Colored photosensitive resin composition
KR102288719B1 (en) Colored photosensitive resin composition
CN108628095B (en) Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof
CN108628099B (en) Colored photosensitive resin composition for red pixel, color filter and application thereof
KR102383519B1 (en) A green photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR102111353B1 (en) Photosensitive Resin Composition
KR20170082312A (en) Colored photosensitive resin composition and color filter using the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
X091 Application refused [patent]
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)