KR102103646B1 - Silica processing apparatus and method - Google Patents

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KR102103646B1 KR1020180104394A KR20180104394A KR102103646B1 KR 102103646 B1 KR102103646 B1 KR 102103646B1 KR 1020180104394 A KR1020180104394 A KR 1020180104394A KR 20180104394 A KR20180104394 A KR 20180104394A KR 102103646 B1 KR102103646 B1 KR 102103646B1
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Abstract

실리카 가공 장치 및 방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 실리카 가공 장치는 내부에 수용 공간이 형성된 탱크부; 상기 탱크부의 내부로 실리카를 압송 가능하도록 상기 탱크부에 결합되는 압송부; 상기 탱크부 내부의 공기를 배출하여 상기 압송부에 의한 실리카 압송 시 상기 탱크부 내부의 공기압을 제어 가능하도록 상기 탱크부에 설치되는 벤트부; 및 상기 탱크부 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공하도록 상기 탱크부 내부에 설치되는 교반부;를 포함한다.Silica processing devices and methods are disclosed. Silica processing apparatus according to an aspect of the present invention includes a tank portion having an accommodation space therein; A pressure feeding part coupled to the tank part so that silica can be pushed into the tank part; A vent unit installed in the tank unit to discharge air inside the tank unit to control air pressure inside the tank unit when silica is pressed by the pressure unit; And a stirring unit installed inside the tank unit to process the silica contained in the tank unit by stirring with an additive material.

Description

실리카 가공 장치 및 방법{SILICA PROCESSING APPARATUS AND METHOD}Silica processing equipment and method {SILICA PROCESSING APPARATUS AND METHOD}

본 발명은 실리카 가공 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a silica processing apparatus and method.

실리카(silica)는 규소와 산소의 화학적 결합체(SiO2)로서, 천연에는 석영, 트리디마이트(인규석), 크리스토발라이트(cristobalite) 등 결정형이 다른 몇 가지 변태가 있다.Silica is a chemical combination of silicon and oxygen (SiO2), and in nature, there are several transformations with different crystal forms such as quartz, tridimite (phosphorite), and cristobalite.

석영은 장석류에 이어 풍부하며 지구상의 여러 곳에 분포하여 지각의 12%를 차지한다. 가용성 규소의 염류 수용액에 적당한 산을 가해 증발·건조하면 비결정 물질을 얻는다. 비결정성인 것을 용제를 사용하여 적당한 온도와 압력으로 융해·고화하면 3가지 변태(석영·인규석·홍연석)를 얻을 수 있다.Quartz is abundant after feldspar and is distributed in many places on the earth, accounting for 12% of the earth's crust. An amorphous substance is obtained by evaporating and drying an appropriate acid in an aqueous solution of a soluble silicon salt. Three kinds of transformations (quartz, phosphorus, and feldspar) can be obtained by melting and solidifying an amorphous material with a suitable temperature and pressure using a solvent.

순수한 것은 무색 투명한 고체이고, 분자량 60.09이다. 천연산은 불순물을 함유하므로 불투명 또는 유색인 것도 있다. 규소를 4개의 산소가 둘러싼 정사면체형인 SiO4를 기본 단위로 하고 모든 산소를 규소가 공유하여 3차원적으로 연결된 거대 분자구조를 가지고 있다.The pure one is a colorless transparent solid and has a molecular weight of 60.09. Natural acids contain impurities, so they may be opaque or colored. Si4 is a tetrahedron-shaped tetrahedron surrounded by silicon as a basic unit, and all oxygen is shared by silicon to have a three-dimensionally connected macromolecular structure.

이 때의 SiO4의 사면체 배열에 따라서 석영·인규석·홍연석의 차이가 생긴다. 또 이 배열이 불규칙한 것이 석영 유리이고, 결정 이산화규소를 융해하여 냉각하면 석영 유리가 된다. 산에 녹지 않지만 알칼리 용융 또는 탄산염 융해 등에 의하여 가용성인 규산염이 된다. 진한 알칼리 수용액에도 서서히 녹는다.At this time, the difference between quartz, phosphorus and rutile occurs depending on the tetrahedral arrangement of SiO4. Further, the irregular arrangement is quartz glass, and when crystalline silicon dioxide is melted and cooled, it becomes quartz glass. It is insoluble in acid, but becomes soluble silicate by alkali melting or carbonate melting. It slowly dissolves in concentrated aqueous alkali solution.

플루오르화수소 HF에는 다음과 같은 반응을 나타내며 아주 침식되기 쉽다. SiO2+4HF→SiF4+2H2O, 고순도의 것은 화학장치, IC제조, 도가니 등에, 극히 순도가 높은 것은 광 투과성이 좋으므로 광통신용 글라스파이버에 사용된다.Hydrogen fluoride HF exhibits the following reactions and is very susceptible to erosion. SiO2 + 4HF → SiF4 + 2H2O, high purity is used for chemical devices, IC manufacturing, crucibles, etc., and extremely high purity is used for glass fibers for optical communication because of its good light transmittance.

특히, 각종 산업에 많이 사용되는 실리콘은 실리카의 탄화수소 환원에 기반하여 생산되는 것으로서, 실리카와 탄산칼슘(CaCO3) 및 각종 촉매성 첨가물질 등을 화학적으로 반응시켜 얻을 수 있다.In particular, silicon, which is widely used in various industries, is produced based on hydrocarbon reduction of silica, and can be obtained by chemically reacting silica with calcium carbonate (CaCO3) and various catalytic additives.

그러나, 비교적 비중이 작은 실리카의 특성 상 그 취급이 용이하지 않으므로, 실리카를 가공하는 과정이 매우 복잡하고 번거로울 수 있다는 문제점을 극복하기 위한 새로운 실리카 가공 기술에 대한 개발이 필요한 실정이다.However, due to the characteristics of silica having a relatively low specific gravity, it is not easy to handle, and thus, there is a need to develop a new silica processing technology to overcome the problem that the process of processing silica can be very complicated and cumbersome.

한국공개특허 제10-2018-0090774호 (2018. 08. 13. 공개)Korean Patent Publication No. 10-2018-0090774 (published August 13, 2018)

본 발명의 실시예는 보다 용이하게 실리카를 가공할 수 있는 실리카 가공 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.An embodiment of the present invention is to provide a silica processing apparatus and method that can more easily process silica.

본 발명의 일 측면에 따르면, 내부에 수용 공간이 형성된 탱크부; 상기 탱크부의 내부로 실리카를 압송 가능하도록 상기 탱크부에 결합되는 압송부; 상기 탱크부 내부의 공기를 배출하여 상기 압송부에 의한 실리카 압송 시 상기 탱크부 내부의 공기압을 제어 가능하도록 상기 탱크부에 설치되는 벤트부; 및 상기 탱크부 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공하도록 상기 탱크부 내부에 설치되는 교반부;를 포함하는 실리카 가공 장치가 제공된다.According to an aspect of the present invention, a tank portion having an accommodation space formed therein; A pressure feeding part coupled to the tank part so that silica can be pushed into the tank part; A vent unit installed in the tank unit to discharge air inside the tank unit to control air pressure inside the tank unit when silica is pressed by the pressure unit; And a stirring part installed inside the tank part to process the silica contained in the tank part by stirring with an additive material.

여기서, 상기 벤트부는 상기 탱크부 내부의 공기 배출 시 실리카의 배출을 차단하도록 설치되는 필터를 포함할 수 있다.Here, the vent portion may include a filter installed to block the discharge of silica when the air inside the tank portion is discharged.

실리카 가공 장치는 상기 탱크부의 내부로 액상의 첨가물질을 공급하도록 상기 탱크부에 결합되는 액상물질공급부;를 더 포함할 수 있다.The silica processing apparatus may further include a liquid material supply unit coupled to the tank unit to supply a liquid additive material into the tank unit.

상기 탱크부는 복수로 설치되고, 상기 액상물질공급부는 내부에 액상의 첨가물질을 저장하는 액상물질저장탱크, 상기 액상물질저장탱크로부터 상방향으로 연장되게 설치되는 상방향배관, 상기 상방향배관의 단부로부터 각각의 상기 탱크부로 연장되게 설치되는 공급배관 및 상기 상방향배관을 통과하는 유량을 측정하도록 상기 상방향배관에 설치되는 유량계를 포함할 수 있다.The tank portion is provided in plural, and the liquid substance supply portion is a liquid substance storage tank for storing liquid additive substances therein, an upward pipe extending upwardly from the liquid substance storage tank, and an end portion of the upward pipe It may include a supply pipe installed to extend from each of the tank portion and a flow meter installed in the upward pipe to measure the flow rate passing through the upward pipe.

상기 압송부는 내부에 실리카를 수용 가능하도록 상기 탱크부의 상부에 설치되는 호퍼 및 상기 호퍼에 수용된 실리카를 격막의 운동에 의해서 상기 탱크부로 압송하는 다이아프램펌프를 포함할 수 있다.The pressure-transporting portion may include a hopper installed on the upper portion of the tank portion to accommodate silica therein, and a diaphragm pump for feeding the silica contained in the hopper to the tank portion by the movement of the diaphragm.

그리고, 실리카 가공 장치는 상기 호퍼로부터 이격된 공간 상에 설치되어 내부에 저장된 실리카를 상기 호퍼로 이송 가능한 사일로;를 더 포함할 수 있다.In addition, the silica processing apparatus may further include a silo installed on a space spaced from the hopper and capable of transferring silica stored therein to the hopper.

본 발명의 다른 측면에 따르면, 탱크부의 내부로 실리카를 압송하는 단계; 상기 탱크부 내부의 공기를 배출하여 실리카 압송 시 상기 탱크부 내부의 공기압을 제어하는 단계; 및 상기 탱크부 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공하는 단계;를 포함하는 실리카 가공 방법이 제공된다.According to another aspect of the invention, the step of feeding the silica into the tank portion; Controlling the air pressure inside the tank when the silica is conveyed by discharging the air inside the tank; And processing the silica accommodated inside the tank portion by stirring with an additive material; a silica processing method is provided.

여기서, 상기 탱크부 내부의 공기압을 제어하는 단계는 상기 탱크부 내부의 공기 배출 시 실리카의 배출을 차단하며 수행될 수 있다.Here, the step of controlling the air pressure inside the tank portion may be performed while blocking the discharge of silica when the air inside the tank portion is discharged.

그리고, 상기 탱크부는 복수로 설치되고, 상기 첨가물질과 교반하여 가공하는 단계는 각각의 상기 탱크부의 내부로 액상의 첨가물질을 순차적으로 공급하여 수행될 수 있다.In addition, the plurality of tank portions is installed, and the step of stirring and processing the additive substances may be performed by sequentially supplying liquid additive substances into the respective tank portions.

본 발명의 실시예에 따르면, 압송부 및 벤트부를 통해 탱크부의 내부로 실리카를 압송하여 교반 가공할 수 있으므로, 보다 용이하게 실리카를 가공할 수 있다.According to the embodiment of the present invention, since the silica can be agitated by feeding silica into the tank portion through the pressure feeding portion and the vent portion, the silica can be more easily processed.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치를 나타내는 도면.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치의 주요 구성을 보다 상세히 나타내는 도면.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치에서 벤트부를 보다 상세히 나타내는 도면.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치에서 다이아프램펌프를 보다 상세히 나타내는 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 방법을 나타내는 도면.
1 is a view showing a silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a view showing in more detail the main configuration of the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
3 is a view showing in more detail the vent portion in the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a view showing in more detail the diaphragm pump in the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
5 is a view showing a silica processing method according to an embodiment of the present invention.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다.The terms used in this application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise.

본 출원에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서 전체에서, "상에"라 함은 대상 부분의 위 또는 아래에 위치함을 의미하는 것이며, 반드시 중력 방향을 기준으로 상 측에 위치하는 것을 의미하는 것이 아니다.In the present application, when a part “includes” a certain component, it means that the component may further include other components, not to exclude other components, unless specifically stated to the contrary. In addition, in the entire specification, "upper" means that it is located above or below the target part, and does not necessarily mean that it is positioned above the center of gravity.

또한, 결합이라 함은, 각 구성 요소 간의 접촉 관계에 있어, 각 구성 요소 간에 물리적으로 직접 접촉되는 경우만을 뜻하는 것이 아니라, 다른 구성이 각 구성 요소 사이에 개재되어, 그 다른 구성에 구성 요소가 각각 접촉되어 있는 경우까지 포괄하는 개념으로 사용하도록 한다.In addition, the combination does not only mean a case of physical direct contact between each component in a contact relationship between each component, but other components are interposed between each component, so that the components are in different components. Use it as a comprehensive concept until each contact is made.

또한, 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.Further, terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from other components.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 임의로 나타내었으므로, 본 발명이 반드시 도시된 바에 한정되지 않는다.Since the size and thickness of each component shown in the drawings are arbitrarily shown for convenience of description, the present invention is not necessarily limited to what is shown.

이하, 본 발명에 따른 실리카 가공 장치 및 방법의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the silica processing apparatus and method according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, and in describing with reference to the accompanying drawings, the same or corresponding components are assigned the same reference numbers, and Duplicate description will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치를 나타내는 도면이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치의 주요 구성을 보다 상세히 나타내는 도면이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치에서 벤트부를 보다 상세히 나타내는 도면이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치에서 다이아프램펌프를 보다 상세히 나타내는 도면이다.1 is a view showing a silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 2 is a view showing in more detail the main configuration of the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a view showing in more detail the vent portion in the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 4 is a view showing in more detail the diaphragm pump in the silica processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)는 탱크부(100), 압송부(200), 벤트부(300) 및 교반부(400)를 포함하고, 액상물질공급부(500) 및 사일로(600)를 더 포함할 수 있다.1 to 4, the silica processing apparatus 1000 according to an embodiment of the present invention includes a tank part 100, a pressure feeding part 200, a vent part 300, and a stirring part 400. In addition, the liquid material supply unit 500 and the silo 600 may be further included.

탱크부(100)는 내부에 수용 공간이 형성된 부분으로, 내부에서 실리카와 첨가물질이 교반될 수 있는 공간을 제공한다. 여기서, 실리카(silica)는 규소와 산소의 화학적 결합체(SiO2)로서, 상온에서 고체 상태이며 이를 분말 형태로 분쇄하여 원료로 사용하는 것이 일반적이다. 이러한 실리카는 비중이 약 0.03~0.05이므로 분말 상태의 실리카는 비산 정도가 매우 커 그 취급에 어려운 점이 상당하다고 할 수 있다.The tank unit 100 is a portion in which an accommodation space is formed, and provides a space in which silica and additives can be stirred. Here, silica (silica) is a chemical combination of silicon and oxygen (SiO2), which is a solid state at room temperature, and is generally used as a raw material by grinding it into a powder form. Since the silica has a specific gravity of about 0.03 to 0.05, it can be said that the silica in powder form has a very large amount of scattering, which is difficult to handle.

예를 들어, 실리카를 후술할 호퍼(210)로부터 탱크부(100)까지 낙하시켜 투입하는 경우, 비중이 작고 공기배출 벤트가 적어 투입시간이 오래 걸릴 뿐만 아니라 상당한 양의 실리카가 비산하여 손실이 발생하거나 작업장의 공기를 오염시키는 등의 문제가 발생할 수 있다.For example, when the silica is dropped from the hopper 210, which will be described later, to the tank 100, the specific gravity is small and the air exhaust vent is small, so it takes a long time to be injected, and a considerable amount of silica scatters, resulting in loss. Or problems such as contaminating the air in the workplace.

한편, 첨가물질은 실리카를 실리콘 등으로 가공하기 위하여 첨가되는 물질로서 필요에 따라 탄산칼슘(CaCO3) 및 각종 촉매성 첨가물질을 포함하여 이루어질 수 있다.Meanwhile, the additive material is a material that is added to process silica into silicon, and may be formed of calcium carbonate (CaCO3) and various catalytic additives as necessary.

압송부(200)는 탱크부(100)의 내부로 실리카를 압송 가능하도록 탱크부(100)에 결합되는 부분으로, 상술한 바와 같이 실리카가 비산하지 않고 탱크부(100)로 직접적으로 투입될 수 있도록 실리카를 압송할 수 있다.The pressure feeding part 200 is a part that is coupled to the tank part 100 to allow the silica to be pressure-feeded into the tank part 100, and as described above, silica may not be scattered and can be directly injected into the tank part 100. Silica can be compressed.

다만, 이와 같이 실리카를 압송하는 경우에 탱크부(100) 내부의 압력이 높아져 실리카가 탱크부(100) 내부로 원활하게 투입되지 못하는 상황이 발생할 수 있다.However, when the silica is pressed as described above, a pressure inside the tank unit 100 increases, and thus, a situation in which silica cannot be smoothly injected into the tank unit 100 may occur.

이에 따라, 벤트부(300)는 탱크부(100) 내부의 공기를 배출하여 압송부(200)에 의한 실리카 압송 시 탱크부(100) 내부의 공기압을 제어 가능하도록 탱크부(100)에 설치된다.Accordingly, the vent part 300 is installed in the tank part 100 to control the air pressure inside the tank part 100 when the silica is conveyed by the pressure transmitting part 200 by discharging the air inside the tank part 100. .

즉, 탱크부(100)의 일부분에서 압송부(200)에 의해 실리카가 탱크부(100)로 주입됨과 동시에, 탱크부(100)의 다른 부분에 설치된 벤트부(300)에서 탱크부(100) 내부의 공기를 배출시킴으로써, 탱크부(100)의 내부로의 실리카 압송이 원활하게 이루어질 수 있다.That is, at the same time as silica is injected into the tank portion 100 by the pressure-feeding portion 200 in a part of the tank portion 100, the tank portion 100 in the vent portion 300 installed in another portion of the tank portion 100 By discharging the air inside, silica pressure can be smoothly made into the interior of the tank unit 100.

교반부(400)는 탱크부(100) 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공하도록 탱크부(100) 내부에 설치되는 부분으로, 실리카를 첨가물질과 반응시켜 실리콘 등의 물질로 가공할 수 있다.The stirring part 400 is a part installed inside the tank part 100 to stir and process the silica accommodated in the tank part 100 with an additive material, and react with silica with the additive material to process materials such as silicon. have.

이와 같이, 본 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)는 압송부(200) 및 벤트부(300)를 통해 탱크부(100)의 내부로 실리카를 압송하여 교반 가공할 수 있으므로, 보다 용이하게 실리카를 가공할 수 있다.As described above, the silica processing apparatus 1000 according to the present exemplary embodiment can more easily process silica by feeding silica into the tank 100 through the pressure feeding part 200 and the vent part 300, thereby stirring and processing the silica. Can be processed.

본 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)에서, 벤트부(300)는 탱크부(100) 내부의 공기 배출 시 실리카의 배출을 차단하도록 설치되는 필터(310)를 포함할 수 있다.In the silica processing apparatus 1000 according to the present embodiment, the vent part 300 may include a filter 310 installed to block the discharge of silica when the air inside the tank part 100 is discharged.

상술한 바와 같은 과정을 통해, 실리카를 압송하는 경우 탱크부(100) 내부에 수용된 실리카가 벤트부(300)를 통해 다시 배출되는 경우가 발생할 수 있다. 따라서, 벤트부(300)에 필터(310)를 설치하여 실리카는 포집되고 공기만 배출되도록 함으로써, 실리카의 손실을 방지하고 탱크부(100) 외부로 실리카가 비산되는 것을 차단할 수 있다.Through the process as described above, when the silica is compressed, a case in which the silica accommodated inside the tank unit 100 is discharged again through the vent unit 300 may occur. Therefore, by installing the filter 310 in the vent unit 300, the silica is collected and only air is discharged, thereby preventing loss of silica and preventing silica from scattering outside the tank unit 100.

액상물질공급부(500)는 탱크부(100) 내부로 액상의 첨가물질을 공급하도록 탱크부(100)에 결합되는 부분으로, 각종 촉매 및 경화제 등의 액체 상태의 첨가물질을 공급하여 실리카를 가공하도록 할 수 있다.The liquid material supply unit 500 is a portion coupled to the tank unit 100 to supply a liquid additive material into the tank unit 100, and supplies silica in a liquid state such as various catalysts and curing agents to process silica. can do.

여기서, 탱크부(100)는 복수로 설치되고, 액상물질공급부(500)는 액상물질저장탱크(510), 상방향배관(520), 공급배관(530) 및 유량계(540)를 포함할 수 있다.Here, a plurality of tank parts 100 are installed, and the liquid material supply part 500 may include a liquid material storage tank 510, an upward pipe 520, a supply pipe 530, and a flow meter 540. .

도 1에 도시된 바와 같이 탱크부(100)가 복수로 설치되는 경우 각각의 탱크부(100)로 액상의 첨가물질을 공급할 필요가 있다. 이 경우, 각각의 탱크부(100)로 공급되는 액상의 첨가물질의 유량을 파악하기 위해서는 각각의 탱크부(100)마다 유량계(540)를 설치할 필요가 있다.As illustrated in FIG. 1, when a plurality of tank units 100 are installed, it is necessary to supply liquid additives to each tank unit 100. In this case, in order to grasp the flow rate of the liquid additive material supplied to each tank portion 100, it is necessary to install a flow meter 540 for each tank portion 100.

그러나, 본 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)는 액상물질공급부(500)는 액상물질저장탱크(510), 상방향배관(520), 공급배관(530) 및 유량계(540)를 포함하여 구성됨으로써, 유량계(540)의 설치 개수를 최소화할 수 있다.However, in the silica processing apparatus 1000 according to the present embodiment, the liquid material supply unit 500 includes a liquid material storage tank 510, an upward pipe 520, a supply pipe 530, and a flow meter 540. By doing so, it is possible to minimize the number of installations of the flow meter 540.

구체적으로, 액상물질저장탱크(510)는 내부에 액상의 첨가물질을 저장하는 부분으로, 각종 촉매 및 경화제 등의 액체 상태의 첨가물질을 수용할 수 있다.Specifically, the liquid material storage tank 510 is a portion that stores a liquid additive material therein, and can accommodate various additive materials in a liquid state, such as various catalysts and curing agents.

상방향배관(520)은 액상물질저장탱크(510)로부터 상방향으로 연장되게 설치되는 부분으로, 하단이 액상물질저장탱크(510)에 결합되고 상단이 공급배관(530)에 결합될 수 있다.The upper pipe 520 is a portion that is installed to extend upward from the liquid material storage tank 510, the lower end of which is coupled to the liquid material storage tank 510 and the upper end of which can be coupled to the supply pipe 530.

공급배관(530)은 상방향배관(520)의 단부로부터 각각의 탱크부(100)로 연장되게 설치되는 부분으로, 일단이 상방향배관(520)의 상단에 결합되고 타단이 각각의 탱크부(100)와 결합될 수 있다.Supply pipe 530 is a portion that is installed to extend to each tank portion 100 from the end of the upward pipe 520, one end is coupled to the upper end of the upward pipe 520 and the other end of each tank portion ( 100).

이와 같이, 액상물질공급부(500)를 구성하는 경우 밸브 등이 잠긴 상태에서 액상의 첨가물질이 탱크부(100)로 투입되지 않은 상태일 때에는 액상의 첨가물질이 상방향배관(520) 및 공급배관(530) 전체에 가득 찬 상태를 유지할 수 있다.As described above, when the liquid material supply unit 500 is configured, when the liquid additive material is not input to the tank unit 100 in a state where the valve or the like is closed, the liquid additive material is upwardly piped 520 and the supply pipe (530) You can keep the whole state.

그리고, 이러한 상태에서 첫번째 탱크부(100)의 밸브를 열어 액상의 첨가물질을 투입한다면 상방향배관(520)을 통과하는 유량을 측정하는 것만으로도 밸브를 연 첫번째 탱크부(100)로 투입되는 유량을 파악하는 것이 가능하다.And, in this state, if the valve of the first tank unit 100 is opened and the liquid additive is added, the flow rate through the upward pipe 520 is measured, and the first tank unit 100 is opened. It is possible to grasp the flow rate.

그리고, 상술한 첫번째 탱크부(100)로의 액상의 첨가물질 투입이 완료된 후, 두번째 탱크부(100)의 밸브를 열어 액상의 첨가물질을 투입한다면 상방향배관(520)을 통과하는 유량을 측정하는 것만으로도 밸브를 연 두번째 탱크부(100)로 투입되는 유량을 파악하는 것이 가능하다.And, after the addition of the liquid additive material to the first tank portion 100 is completed, by opening the valve of the second tank portion 100 to input the liquid additive substance to measure the flow rate through the upward piping 520 It is possible to grasp the flow rate that is introduced into the second tank unit 100 with the valve opened.

즉, 유량계(540)는 상방향배관(520)을 통과하는 유량을 측정하도록 상방향배관(520)에 설치함으로써, 각각의 탱크부(100)마다 유량계를 설치하지 않고서도 각각의 탱크부(100)에 투입되는 유량의 측정이 가능할 수 있다.That is, the flowmeter 540 is installed in the upstream piping 520 to measure the flow rate through the upstream piping 520, so that each tank portion 100 without installing a flowmeter for each tank portion 100 ) May be measured.

본 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)에서, 압송부(200)는 내부에 실리카를 수용 가능하도록 탱크부(100)의 상부에 설치되는 호퍼(210) 및 호퍼(210)에 수용된 실리카를 격막의 운동에 의해서 탱크부(100)로 압송하는 다이아프램펌프(520)를 포함할 수 있다.In the silica processing apparatus 1000 according to the present embodiment, the pressure feeding unit 200 diaphragms the silica contained in the hopper 210 and the hopper 210 installed on the top of the tank unit 100 to accommodate silica therein. It may include a diaphragm pump 520 to press-feed to the tank portion 100 by the movement of.

이 경우, 호퍼(210)는 하부에 형성된 배출구를 통해 특정 물질을 탱크부(100)로 공급 가능한 용기로서, 필요에 따라 실리카 뿐만 아니라 탄산칼슘 등을 수용한 후 이를 탱크부(100)로 공급하도록 구성될 수도 있는 등 다양하게 변형될 수 있다.In this case, the hopper 210 is a container capable of supplying a specific material to the tank unit 100 through the outlet formed at the bottom, so as to accommodate not only silica but also calcium carbonate, if necessary, to supply it to the tank unit 100 It may be configured, it can be variously modified.

사일로(600)는 호퍼(210)로부터 이격된 공간 상에 설치되어 내부에 저장된 실리카를 호퍼(210)로 이송 가능한 부분으로, 분말 형태로 반입되는 실리카를 일차적으로 저장한 후 이를 가공하기 위한 장소에 설치된 호퍼(210)로 이송할 수 있다.The silo 600 is installed on a space spaced apart from the hopper 210, and is a part capable of transferring the silica stored therein to the hopper 210, and primarily stores the silica carried in the form of powder and then processes it. It can be transferred to the installed hopper 210.

이 경우, 사일로(600)와 호퍼(210) 사이에도 배관 및 펌프가 설치되어 사일로(600)로부터 호퍼(210)까지 실리카를 압송할 수도 있다.In this case, a pipe and a pump may be installed between the silo 600 and the hopper 210 to pressurize the silica from the silo 600 to the hopper 210.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 방법을 나타내는 도면이다. 이 경우, 설명의 편의를 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 방법의 설명은 도 1 내지 도 4를 함께 참조하여 설명하도록 한다.5 is a view showing a silica processing method according to an embodiment of the present invention. In this case, for convenience of description, description of the silica processing method according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 4 together.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 방법은 탱크부(100)의 내부로 실리카를 압송하는 단계(S100)로부터 시작된다. 즉, 실리카가 비산하지 않고 탱크부(100)로 직접적으로 투입될 수 있도록 실리카를 압송한다.As shown in Figure 5, the silica processing method according to an embodiment of the present invention starts from step (S100) of feeding the silica into the interior of the tank unit (100). That is, the silica is compressed so that it can be directly injected into the tank 100 without scattering.

다음으로, 탱크부(100) 내부의 공기를 배출하여 실리카 압송 시 탱크부(100) 내부의 공기압을 제어한다(S200). 즉, 탱크부(100)의 일부분에서 압송부(200)에 의해 실리카가 탱크부(100)로 주입됨과 동시에, 탱크부(100)의 다른 부분에 설치된 벤트부(300)에서 탱크부(100) 내부의 공기를 배출시킴으로써, 탱크부(100)의 내부로의 실리카 압송이 원활하게 이루어질 수 있다.Next, the air inside the tank portion 100 is discharged to control the air pressure inside the tank portion 100 when silica is pressed (S200). That is, at the same time as silica is injected into the tank portion 100 by the pressure-feeding portion 200 in a part of the tank portion 100, the tank portion 100 in the vent portion 300 installed in another portion of the tank portion 100 By discharging the air inside, silica pressure can be smoothly made into the interior of the tank unit 100.

다음으로, 탱크부(100) 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공한다(S300). 즉, 실리카를 첨가물질과 반응시켜 실리콘 등의 물질로 가공할 수 있다.Next, the silica accommodated in the tank portion 100 is processed by stirring with an additive material (S300). That is, it can be processed into a material such as silicon by reacting silica with an additive material.

이와 같이, 본 실시예에 따른 실리카 가공 방법은 압송부(200) 및 벤트부(300)를 통해 탱크부(100)의 내부로 실리카를 압송하여 교반 가공할 수 있으므로, 보다 용이하게 실리카를 가공할 수 있다.As described above, the silica processing method according to the present exemplary embodiment can process the silica more easily because the silica can be pressed and stirred into the interior of the tank unit 100 through the pressing unit 200 and the vent unit 300. You can.

본 실시예에 따른 실리카 가공 방법에서, S200 단계는 탱크부(100) 내부의 공기 배출 시 실리카의 배출을 차단하며 수행될 수 있다. 즉, 벤트부(300)에 필터(310)를 설치하여 실리카는 포집되고 공기만 배출되도록 함으로써, 실리카의 손실을 방지하고 탱크부(100) 외부로 실리카가 비산되는 것을 차단할 수 있다.In the silica processing method according to the present embodiment, step S200 may be performed while blocking the discharge of silica when the air inside the tank unit 100 is discharged. That is, by installing the filter 310 in the vent unit 300, the silica is collected and only air is discharged, thereby preventing loss of silica and preventing silica from scattering outside the tank unit 100.

본 실시예에 따른 실리카 가공 방법에서, 탱크부(100)는 복수로 설치되고, S300 단계는 각각의 탱크부(100)의 내부로 액상의 첨가물질을 순차적으로 공급하여 수행될 수 있다. 이 경우, 액상의 첨가물질을 탱크부(100)로 공급하는 배관은 내부에 액상의 첨가물질을 저장하는 액상물질저장탱크(510)로부터 상방향으로 연장되게 설치되는 상방향배관(520)을 포함할 수 있다.In the silica processing method according to the present embodiment, a plurality of tank portions 100 are installed, and step S300 may be performed by sequentially supplying liquid additives to the interior of each tank portion 100. In this case, the piping for supplying the liquid additive material to the tank 100 includes an upward piping 520 installed to extend upward from the liquid material storage tank 510 for storing the liquid additive material therein. can do.

이를 통해, 각각의 탱크부(100)마다 유량계를 설치하지 않고서도 각각의 탱크부(100)에 투입되는 유량의 측정이 가능할 수 있다.Through this, it is possible to measure the flow rate input to each tank unit 100 without installing a flow meter for each tank unit 100.

한편, 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 방법에서 표현되는 주요 구성은 상술한 본 발명의 일 실시예에 따른 실리카 가공 장치(1000)에서 표현되는 주요 구성과 사실상 동일 또는 유사하므로, 중복되는 내용에 대한 상세한 설명은 생략하도록 한다.On the other hand, the main configuration represented in the silica processing method according to an embodiment of the present invention is substantially the same as or similar to the main configuration expressed in the silica processing apparatus 1000 according to the embodiment of the present invention described above, so that the overlapping contents Detailed description of will be omitted.

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.As described above, one embodiment of the present invention has been described, but those skilled in the art can add, change, delete, or add components within the scope of the present invention as described in the claims. The present invention may be variously modified and changed by the like, and it will be said that this is also included within the scope of the present invention.

100: 탱크부
200: 압송부
210: 호퍼
220: 다이아프램펌프
300: 벤트부
310: 필터
400: 교반부
500: 액상물질공급부
510: 액상물질저장탱크
520: 상방향배관
530: 공급배관
540: 유량계
600: 사일로
1000: 실리카 가공 장치
100: tank section
200: pressure feeding unit
210: hopper
220: diaphragm pump
300: vent section
310: filter
400: stirring unit
500: liquid material supply unit
510: liquid material storage tank
520: upward piping
530: supply piping
540: flow meter
600: silo
1000: silica processing equipment

Claims (9)

내부에 수용 공간이 형성된 탱크부;
상기 탱크부의 내부로 실리카를 압송 가능하도록 상기 탱크부에 결합되는 압송부;
상기 탱크부 내부의 공기를 배출하여 상기 압송부에 의한 실리카 압송 시 상기 탱크부 내부의 공기압을 제어 가능하도록 상기 탱크부에 설치되는 벤트부; 및
상기 탱크부 내부에 수용된 실리카를 첨가물질과 교반하여 가공하도록 상기 탱크부 내부에 설치되는 교반부;를 포함하며,
상기 벤트부는
상기 탱크부 내부의 공기 배출 시 실리카의 배출을 차단하도록 설치되는 필터를 포함하고,
상기 압송부는
내부에 실리카를 수용 가능하도록 상기 탱크부의 상부에 설치되는 호퍼 및
상기 호퍼에 수용된 실리카를 격막의 운동에 의해서 상기 탱크부로 압송하는 다이아프램펌프를 포함하는, 실리카 가공 장치.
A tank unit having an accommodation space formed therein;
A pressure feeding part coupled to the tank part so that silica can be pushed into the tank part;
A vent unit installed in the tank unit to discharge air inside the tank unit to control air pressure inside the tank unit when silica is pressed by the pressure unit; And
Includes a stirring unit installed inside the tank unit to process the silica contained in the tank unit by stirring with an additive material;
The vent portion
Includes a filter installed to block the discharge of silica when the air inside the tank portion is discharged,
The pressing unit
A hopper installed in the upper portion of the tank to accommodate silica therein, and
And a diaphragm pump that pressurizes the silica contained in the hopper to the tank portion by the movement of the diaphragm.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 탱크부의 내부로 액상의 첨가물질을 공급하도록 상기 탱크부에 결합되는 액상물질공급부;
를 더 포함하는 실리카 가공 장치.
According to claim 1,
A liquid material supply unit coupled to the tank unit to supply a liquid additive material into the tank unit;
Silica processing apparatus further comprising a.
제3항에 있어서,
상기 탱크부는 복수로 설치되고,
상기 액상물질공급부는
내부에 액상의 첨가물질을 저장하는 액상물질저장탱크,
상기 액상물질저장탱크로부터 상방향으로 연장되게 설치되는 상방향배관,
상기 상방향배관의 단부로부터 각각의 상기 탱크부로 연장되게 설치되는 공급배관 및
상기 상방향배관을 통과하는 유량을 측정하도록 상기 상방향배관에 설치되는 유량계를 포함하는, 실리카 가공 장치.
According to claim 3,
The tank portion is installed in plurality,
The liquid material supply unit
Liquid material storage tank for storing liquid additives inside,
Upward piping installed to extend upward from the liquid material storage tank,
Supply pipe which is installed to extend to each of the tank portion from the end of the upward pipe and
And a flow meter installed in the upward piping to measure the flow rate through the upward piping.
삭제delete 제4항에 있어서,
상기 호퍼로부터 이격된 공간 상에 설치되어 내부에 저장된 실리카를 상기 호퍼로 이송 가능한 사일로;
를 더 포함하는 실리카 가공 장치.
According to claim 4,
A silo installed on a space spaced apart from the hopper and capable of transferring silica stored therein to the hopper;
Silica processing apparatus further comprising a.
삭제delete 삭제delete 삭제delete
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