KR102066879B1 - Coverlay film - Google Patents

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타카노리 사쿠라기
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Abstract

본 발명은 박막임에도 불구하고 가공 적성, 작업성이 양호하고, 플렉시블 프린트 기판(FPC)에 대한 추종성이 우수한 커버레이 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제를 해결하기 위해, 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재(12), 열경화성 접착제층(13)이 순서대로 적층되어 이루어지고, 기재(12)의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름(10)을 제공한다.An object of this invention is to provide the coverlay film which is excellent in workability and workability, and excellent in followability with respect to a flexible printed circuit board (FPC), although it is a thin film. In order to solve the said subject, the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13 which consist of a thin film resin layer of the apply | coated dielectric material are laminated | stacked in order on one surface of the support film 11, and the The coverlay film 10 characterized by the tensile elongation by the method of JIS-K-7127 is 100% or more.

Description

커버레이 필름{COVERLAY FILM}Coverlay film {COVERLAY FILM}

본 발명은 굴곡 동작을 반복적으로 받는 플렉시블 프린트 기판(이하, FPC라고 한다)을 피복하여 보호하는 박막의 커버레이 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a thin coverlay film which covers and protects a flexible printed circuit board (hereinafter referred to as FPC) which is repeatedly subjected to bending operation.

휴대 전화 등의 휴대용 전자 기기에서는, 케이스의 외형 치수를 작고 얇게 억제하여 가지고 다니기 쉽게 하기 위해, 프린트 기판 상에 전자 부품을 집적시키고 있다. 또한, 케이스의 외형 치수를 작게 하기 위해 프린트 기판을 복수로 분할하고, 분할된 프린트 기판 간의 접속 배선에 가요성을 갖는 FPC를 사용함으로써, 프린트 기판을 절첩하거나 혹은 슬라이드시키는 것이 행해지고 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION In portable electronic devices such as mobile phones, electronic components are integrated on a printed board in order to keep the external dimensions of the case small and thin and to make it easy to carry around. In addition, in order to reduce the external dimensions of the case, the printed circuit board is divided into a plurality of sheets, and the printed circuit board is folded or slided by using an FPC having flexibility in connection wiring between the divided printed circuit boards.

또한, 근래의 휴대 정보 단말(스마트 폰이나 태블릿 등)은 지금까지의 휴대 전화보다 더 많은 전력을 소비하기 때문에, 전지의 유지성이 나빠지고 있다. 이 때문에, 가능한 전지의 용적 및 용량을 크게 할 필요가 있어, 전지 이외의 부재, 부품의 소형화, 박형화가 강하게 요구되고 있다.In addition, in recent years, portable information terminals (smartphones, tablets, etc.) consume more power than conventional mobile phones, and the battery maintainability is deteriorated. For this reason, it is necessary to enlarge the capacity and capacity of a battery which can be possible, and the size and thickness of members and components other than a battery are strongly demanded.

나아가, 근래에는 차광성, 의장성이 중시되어, 착색한 커버레이 필름이 요구되고 있다.Furthermore, in recent years, the light-shielding property and the designability are emphasized, and the colored coverlay film is calculated | required.

종래, 이러한 박형화의 목적으로 사용되는 커버레이 필름으로는 얇은 폴리이미드 필름에 접착제를 도포한 것이 사용되고 있지만(특허문헌 1), 얇은 폴리이미드 필름은 가공 적정이 나쁘고, FPC에 첩부할 때 작업성이 나빴다. 또한, 종래의 얇은 커버레이 필름에서는 FPC의 단차에 대한 추종성이 충분하지 않아 간극이 생겨, 가열 공정에서의 팽창 등의 문제의 원인이 되고 있었다. 이 때문에, FPC의 충분한 박형화는 곤란하였다.Conventionally, as a coverlay film used for the purpose of such a thinning, the thing which apply | coated the adhesive agent to the thin polyimide film is used (patent document 1), but a thin polyimide film is bad in processing titration, and workability is affixed to FPC. Was bad. Moreover, in the conventional thin coverlay film, the followability with respect to the step | step of FPC is not enough, a gap was created and it became a cause of problems, such as expansion in a heating process. For this reason, sufficient thickness reduction of FPC was difficult.

또한, 차광성, 의장성을 향상시키는 목적으로, 흑색 안료나 염료를 함유시킨 폴리이미드 필름이나 전기 절연 필름과 열경화성 접착제의 어느 한쪽 또는 양쪽 모두에 흑색 안료를 함유시킨 커버레이 필름이 제안되어 있으나(특허문헌 1), 상기 박형화에 대해서는 전혀 고려되어 있지 않다.In addition, for the purpose of improving light-shielding properties and designability, a coverlay film containing a black pigment in a polyimide film containing a black pigment or a dye, an electrical insulation film, and a thermosetting adhesive or both is proposed ( Patent document 1) and the said thinning are not considered at all.

일본공개특허공보 평9-135067호Japanese Patent Laid-Open No. 9-135067

본 발명은 상기 배경 기술을 감안하여, 박막임에도 불구하고 가공 적정, 작업성이 양호하고, FPC에 대한 추종성이 우수한 커버레이 필름을 제공하는 것에 있다.In view of the background art, the present invention provides a coverlay film having excellent processing suitability and workability and excellent followability to FPC despite being a thin film.

취급성을 양호하게 하기 위해, 본 발명에서는 지지체 필름의 한쪽 면 위에 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재와 접착제층이 순차적으로 적층되어 이루어진다. 또한, FPC에 접착제층을 중첩하여 열압착시킨 후, 지지체 필름을 박리함으로써 FPC에 전사할 수 있다.In order to improve the handleability, in the present invention, a substrate made of a thin film of dielectric resin and an adhesive layer are sequentially stacked on one surface of the support film. Moreover, after laminating | stacking and adhesive-bonding an adhesive bond layer to FPC, it can transfer to FPC by peeling a support film.

또한, 과혹한 굴곡 동작을 견디고, FPC에 대한 추종성을 양호하게 하기 위해, 본 발명에서는 인장 신도가 높은 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재를 사용한다. 본 발명에서는 적어도 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재 위에, 접착제층이 적층된 적층체를 제조하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In addition, in order to withstand excessive bending and to improve the followability to FPC, the present invention uses a substrate made of a thin film of dielectric resin having high tensile elongation. In this invention, it is technical idea to manufacture the laminated body which laminated | stacked the adhesive bond layer on the base material which consists of at least the thin film resin layer of a dielectric material.

또한, 본 발명에서는 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재로서, 유연성을 고려하여, 도포된 유전체의 박막 수지층을 사용해, 지지체 필름 및 박리 필름을 제외한 커버레이 필름 전체의 두께를 15㎛ 이하로 얇게 하는 것을 가능하게 하고 있다.In addition, in the present invention, as a base material composed of a thin film of a dielectric resin, in consideration of flexibility, using the thin film resin layer of the coated dielectric, the thickness of the entire coverlay film except the support film and the release film is reduced to 15 μm or less. It is possible.

또한, 본 발명에서는 FPC에 첩합되는 접착제층을 열경화성 수지층으로 하고, 폴리이미드 등의 박막 수지층으로 이루어지는 기재와 열경화성 수지층의 밀착력을 증가시키기 위해, 기재와 열경화성 접착제층 사이에 접착제층을 형성할 수도 있다.In the present invention, the adhesive layer bonded to the FPC is used as a thermosetting resin layer, and an adhesive layer is formed between the substrate and the thermosetting adhesive layer in order to increase the adhesion between the substrate made of a thin film resin layer such as polyimide and the thermosetting resin layer. You may.

또한, 본 발명에서는 상기 문제점을 해결하기 위해, 지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고, 상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름을 제공한다.Moreover, in this invention, in order to solve the said problem, the base material which consists of a thin film resin layer of the apply | coated dielectric material, and the thermosetting adhesive bond layer is laminated | stacked in order on one surface of a support film, and according to JIS-K-7127 of the said base material The tensile elongation by a method is 100% or more, The coverlay film is provided.

또한, 본 발명에서는 상기 문제점을 해결하기 위해, 지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고, 상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름을 제공한다.Moreover, in this invention, in order to solve the said problem, the base material which consists of a thin film resin layer of the apply | coated dielectric material, the thin film adhesive bond layer, and the thermosetting adhesive bond layer is laminated | stacked in order on one side of the support film, JIS of the said base material The coverlay film which is 100% or more of tensile elongation by the method of -K-7127 is provided.

상기 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 쪽에 광흡수제를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable to contain a light absorbing agent in at least one of the said base material, the thin film adhesive bond layer, and a thermosetting adhesive bond layer.

상기 기재가 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 절연층으로 이루어지고, 두께가 1∼9㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the said base material consists of an insulating layer formed using the solvent soluble polyimide, and is 1-9 micrometers in thickness.

상기 기재가 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.The light absorber which the said base material consists of at least 1 type of black pigment selected from the group which consists of nonelectroconductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or a color pigment. It is preferable to include.

상기 박막의 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.At least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or at least one of colored pigments. It is preferable to include the light absorbing agent which consists of.

상기 열경화성 접착제층이 난연성 인 함유 폴리우레탄 수지와 에폭시 수지를 함유하여 이루어지는 난연성 열경화성 접착제인 것이 바람직하다.It is preferable that the said thermosetting adhesive layer is a flame-retardant thermosetting adhesive which contains a flame-retardant phosphorus containing polyurethane resin and an epoxy resin.

상기 열경화성 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.The thermosetting adhesive layer comprises at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or at least one of colored pigments. It is preferable to include a light absorbing agent.

또한, 본 발명은 상기 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 휴대 전화를 제공한다.Moreover, this invention provides the mobile telephone in which the said coverlay film is used as an FPC protection member.

또한, 본 발명은 상기 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 전자 기기를 제공한다.Moreover, this invention provides the electronic device by which the said coverlay film is used as an FPC protection member.

상기 본 발명의 커버레이 필름에 의하면, 인장 신도가 높고, 인장 강도가 적정한 박막 수지로 이루어지는 기재를 사용함으로써, 단차를 갖는 배선판 등을 피복한 경우에 간극 없이 추종하고, 이후의 땜납 리플로우 공정이나 도금 공정 등의 공정에 있어서, 팽창이나 도금액의 침투에 의한 문제가 발생하지 않는 박막 커버레이 필름을 제조할 수 있다.According to the coverlay film of the present invention, by using a base material made of a thin film resin having a high tensile elongation and proper tensile strength, the wiring board having a step and the like is followed without a gap, and the subsequent solder reflow process and In processes, such as a plating process, a thin film coverlay film which does not generate | occur | produce a problem by expansion and penetration of a plating liquid can be manufactured.

또한, 기재로서 절연성을 갖는 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름(두께 1∼9㎛)을 사용함으로써, 과혹한 굴곡 동작에 견딜 수 있는 우수한 굴곡 특성을 갖게 하는 것이 가능해진다. 이로 인해, 지지체 필름 및 박리 필름을 제외한 커버레이 필름의 전체 두께를 15㎛ 이하로 억제할 수 있고, 휴대 전화 및 전자 기기의 전체 두께를 얇게 하는 것에 기여할 수 있다.Moreover, by using the thin film resin film (1-9 micrometers in thickness) of the polyimide film which has insulation as a base material, it becomes possible to have the outstanding bending characteristic which can endure excessive bending operation. For this reason, the total thickness of the coverlay film except a support film and a peeling film can be suppressed to 15 micrometers or less, and it can contribute to thinning the total thickness of a mobile telephone and an electronic device.

기재 또는 접착제층 내에 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료로 이루어지는 광흡수제를 혼합함으로써, 커버레이 필름의 한쪽 면측에 특정의 착색이 가능해진다.By mixing the light absorbing agent which consists of 1 or more types of black pigment or a colored pigment in a base material or an adhesive bond layer, specific coloring is attained to one surface side of a coverlay film.

이상으로부터 본 발명에 의하면, 배선판 등을 피복한 후의 땜납 리플로우 공정 등의 가열 공정에 있어서, 팽창이나 도금액의 침투에 의한 문제가 발생하지 않는 유연성이 풍부한 박형이며, 또한 과혹한 굴곡 동작이 반복되어 행해져도 FPC 보호 성능의 저하가 발생하지 않는 굴곡 특성이 우수한 커버레이 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, according to the present invention, in a heating step such as a solder reflow step after coating a wiring board or the like, it is a thin, flexible, rich flexible type that does not cause problems due to expansion or penetration of the plating liquid, and excessive bending operation is repeated. Even if it does, the coverlay film excellent in the bending characteristic which does not produce the fall of FPC protection performance can be provided.

도 1은 본 발명에 따른 커버레이 필름의 제1 실시형태를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 커버레이 필름의 제2 실시형태를 나타내는 개략 단면도이다.
1 is a schematic cross-sectional view showing a first embodiment of a coverlay film according to the present invention.
It is a schematic sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the coverlay film which concerns on this invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 본 발명은 본 실시형태로 한정되지 않으며, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 각종 개변이 가능하다. 본 실시형태는 하기 제1 실시형태 및 제2 실시형태를 포함한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described. This invention is not limited to this embodiment, A various change is possible in the range which does not deviate from the summary of this invention. This embodiment includes the following first and second embodiments.

본 실시형태의 커버레이 필름은 피착체인 FPC 등에 첩합했을 때, 외표면이 유전체로서, FPC의 배선이나 회로 부품 등을 전기 절연적으로 보호할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 커버레이 필름은 굴곡 동작에 대한 굴곡 특성을 향상시키기 위해, 전체의 두께를 얇게 하고 있다.When the coverlay film of this embodiment is bonded to FPC etc. which are to-be-adhered bodies, the outer surface is a dielectric and can protect electrically wiring, circuit components, etc. of an FPC. In addition, the coverlay film of this embodiment makes the whole thickness thin in order to improve the bending characteristic with respect to a bending operation | movement.

도 1에 나타낸 제1 실시형태의 커버레이 필름(10)에 있어서, 기재(12)로는, 가요성을 갖고, 두께가 1∼9㎛, 인장 신도가 100% 이상이며, 예를 들면 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름 등의 박막 수지 필름을 들 수 있다. 또한, 기재(12)의 일방의 면에 지지체 필름(11)이 적층되어 있고, 기재(12)의 타방의 면에 접착제층(13)이 적층되어 있다. 접착제층(13)은 FPC의 표면에 첩합되는 전기 절연성의 접착제층이고, 예를 들면 열경화성 접착제층이다. 접착제층(13)의 표면에는 접착제층(13)을 보호하기 위한 박리 필름(19)을 적층할 수 있다. 이 커버레이 필름(10)은 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제거하여, 기재(12)의 한쪽 면에 접착제층(13)이 적층된 구성의 커버레이 필름(15)으로서 사용할 수 있다. 제1 실시형태에 있어서, 접착제층(13)은 기재(12)의 한쪽 면에 접하고 있어도 된다.In the coverlay film 10 of the first embodiment shown in FIG. 1, the base material 12 has flexibility, has a thickness of 1 to 9 µm and a tensile elongation of 100% or more, for example, a solvent-soluble poly Thin film resin films, such as a polyimide film formed using the mead, are mentioned. In addition, the support film 11 is laminated | stacked on one surface of the base material 12, and the adhesive bond layer 13 is laminated | stacked on the other surface of the base material 12. As shown in FIG. The adhesive layer 13 is an electrically insulating adhesive layer bonded to the surface of the FPC, for example, a thermosetting adhesive layer. On the surface of the adhesive layer 13, a release film 19 for protecting the adhesive layer 13 can be laminated. The coverlay film 10 can be used as the coverlay film 15 having a structure in which the support film 11 and the release film 19 are removed and the adhesive layer 13 is laminated on one side of the substrate 12. have. In 1st Embodiment, the adhesive bond layer 13 may be in contact with one side of the base material 12.

도 2에 나타낸 제2 실시형태의 커버레이 필름(20)에 있어서, 기재(12)로는, 가요성을 갖고, 두께가 1∼9㎛, 인장 신도가 100% 이상이며, 예를 들면 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름 등의 박막 수지 필름을 들 수 있다. 또한, 기재(12)의 일방의 면에 지지체 필름(11)이 적층되어 있고, 기재(12)의 타방의 면에 접착제층(14), 접착제층(13)이 순서대로 적층되어 있다. 접착제층(14)은 접착제층(13)과 기재(12)의 밀착력을 향상시키는 박막의 접착제층이다. 접착제층(13)은 FPC의 표면에 첩합되는 전기 절연성의 접착제층이고, 예를 들면 열경화성 접착제층이다. 접착제층(13)의 표면에는 접착제층(13)을 보호하기 위한 박리 필름(19)을 적층할 수 있다. 이 커버레이 필름(20)은 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제거하여, 기재(12)의 한쪽 면에 접착제층(13, 14)이 적층된 구성의 커버레이 필름(16)으로서 사용할 수 있다. 제2 실시형태에 있어서, 접착제층(13)은 접착제층(14)에 접하고 있고, 접착제층(14)은 기재(12)의 한쪽 면에 접하고 있어도 된다.In the coverlay film 20 of 2nd Embodiment shown in FIG. 2, as the base material 12, it has flexibility, thickness is 1-9 micrometers, and tensile elongation is 100% or more, For example, solvent-soluble poly is Thin film resin films, such as a polyimide film formed using the mead, are mentioned. In addition, the support film 11 is laminated | stacked on one surface of the base material 12, and the adhesive bond layer 14 and the adhesive bond layer 13 are laminated | stacked on the other surface of the base material 12 in order. The adhesive layer 14 is a thin film adhesive layer which improves the adhesive force between the adhesive layer 13 and the base material 12. The adhesive layer 13 is an electrically insulating adhesive layer bonded to the surface of the FPC, for example, a thermosetting adhesive layer. On the surface of the adhesive layer 13, a release film 19 for protecting the adhesive layer 13 can be laminated. This coverlay film 20 removes the support film 11 and the peeling film 19, and as a coverlay film 16 of the structure by which the adhesive layers 13 and 14 were laminated | stacked on one side of the base material 12. Can be used. In 2nd Embodiment, the adhesive bond layer 13 may be in contact with the adhesive bond layer 14, and the adhesive bond layer 14 may be in contact with one side of the base material 12. As shown in FIG.

(기재)(materials)

본 실시형태에 따른 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 기재(12)는 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 절연층이다. 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름은 폴리이미드 수지의 특징인 높은 기계적 강도, 내열성, 절연성, 내용제성을 가지며, 260℃ 정도까지는 화학적으로 안정하다고 여겨지고 있으므로, 기재(12)로서 바람직하다.The base material 12 of the coverlay films 10, 15, 16, and 20 according to the present embodiment is an insulating layer made of a thin film resin layer of a dielectric. Since the thin film resin film of the polyimide film formed using the solvent-soluble polyimide has high mechanical strength, heat resistance, insulation, and solvent resistance, which are characteristic of the polyimide resin, and is considered to be chemically stable up to about 260 ° C, the substrate 12 Preferred as

폴리이미드로는 폴리아믹산의 가열에 따른 탈수 축합 반응으로 생기는 열경화형 폴리이미드와, 비탈수 축합형인 용제에 가용인 용제 가용성 폴리이미드가 있다.Examples of the polyimide include thermosetting polyimides resulting from the dehydration condensation reaction upon heating of the polyamic acid, and solvent-soluble polyimides soluble in non-dehydration condensation solvents.

일반적인 폴리이미드 필름의 제조 방법으로서 일반적으로 알려져 있는 방법은 극성 용매 내에서 디아민과 카르복실산 이무수물을 반응시킴으로써 이미드 전구체인 폴리아믹산을 합성하고, 폴리아믹산을 열 혹은 촉매를 이용함으로써 탈수 고리화하여 대응하는 폴리이미드로 하는 것이다. 그러나, 이 이미드화하는 공정에 있어서 가열 처리의 온도는 200℃∼300℃의 온도 범위가 바람직하다고 여겨지며, 이 온도보다 가열 온도가 낮은 경우에는 이미드화가 진행되지 않을 가능성이 있기 때문에 바람직하지 않고, 상기 온도보다 가열 온도가 높은 경우에는 화합물의 열분해가 생길 우려가 있기 때문에 바람직하지 않은 것으로 여겨진다.A method generally known as a method for producing a general polyimide film synthesizes a polyamic acid, which is an imide precursor, by reacting diamine and carboxylic dianhydride in a polar solvent, and dehydrating the polyamic acid by using heat or a catalyst. To obtain a corresponding polyimide. However, in this step of imidizing, the temperature of the heat treatment is considered to be preferably in the range of 200 ° C to 300 ° C, and if the heating temperature is lower than this temperature, imidization may not proceed, which is not preferable. If the heating temperature is higher than the above temperature, thermal decomposition of the compound may occur, which is considered to be undesirable.

본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 기재(12)의 가요성을 보다 향상시키는 것을 의도하여, 두께 10㎛ 미만인 극히 얇은 폴리이미드 필름을 사용하는 것이다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 of the present embodiment are intended to further improve the flexibility of the substrate 12, and use an extremely thin polyimide film having a thickness of less than 10 µm.

본 실시형태에서는 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성한 기재, 혹은 지지체 필름(11)을 사용하지 않고 얇은 폴리이미드 필름만으로 이루어지는 기재 모두를 사용할 수 있다.In this embodiment, both the base material formed by laminating | stacking a thin polyimide film on one side of the support film 11 used as a reinforcement material of strength, or the base material which consists only of a thin polyimide film without using the support film 11 can be used. Can be.

사용하는 폴리이미드 필름의 두께가 약 7㎛보다 얇은 경우에는, 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 폴리아믹산을 포함하는 도포액을 지지체 필름(11)의 한쪽 면에 유연(流延)시키고, 가열하여 폴리이미드를 성막할 수 있다.When the thickness of the polyimide film used is thinner than about 7 micrometers, it is preferable to laminate | stack and form a thin polyimide film on one side of the support film 11 used as a reinforcement material on strength. For example, the coating liquid containing a polyamic acid can be cast on one side of the support film 11, and can be heated to form a polyimide.

그런데, 폴리이미드 필름 자체는 가열 온도 200℃∼250℃에서의 가열 처리에 대한 내열성을 갖고 있지만, 지지체 필름(11)으로서 가격과 내열 온도 성능의 균형으로부터 범용의 내열성 수지 필름, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지 필름 등의 내열성이 높지 않은 필름을 사용하는 경우에는, 종래의 이미드 전구체인 폴리아믹산으로부터 폴리이미드를 형성하는 방법을 채용할 수 없다.By the way, although the polyimide film itself has heat resistance with respect to the heat processing in the heating temperature of 200 degreeC-250 degreeC, as a support film 11, the general purpose heat resistant resin film, for example, polyethylene from the balance of price and heat resistance temperature performance When using films with low heat resistance, such as a terephthalate (PET) resin film, the method of forming a polyimide from the polyamic acid which is a conventional imide precursor cannot be employ | adopted.

용제 가용성 폴리이미드는 그 폴리이미드의 이미드화가 완결되어 있으며, 또한 용제에 가용이기 때문에, 용제에 용해시킨 도포액을 도포한 후, 200℃ 미만의 저온에서 용제를 휘발시킴으로써 성막할 수 있다. 이 때문에, 본 실시형태의 커버레이 필름에 사용되는 기재(12)는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 비탈수 축합형인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 도포한 후, 온도를 200℃ 미만의 가열 온도로 건조시키고, 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름을 형성하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 범용의 내열성 수지 필름으로 이루어지는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 두께 1∼9㎛의 극히 얇은 폴리이미드 필름을 적층할 수 있다. 접착제층(13, 14)과 동일하게, 도포(코팅)에 의해 기재(12)를 형성함으로써, 지지체 필름(11)을 그 길이 방향을 따라 반송하면서, 그 위에 기재(12), 접착제층(13, 14) 등을 연속적으로 형성할 수 있으므로, 롤 to 롤에서의 생산도 가능하고, 가공성, 생산성이 우수하다.Since the solvent-soluble polyimide has completed the imidation of the polyimide, and is soluble in a solvent, it can form into a film by apply | coating the coating liquid dissolved in the solvent, and volatilizing a solvent at low temperature below 200 degreeC. For this reason, after the base material 12 used for the coverlay film of this embodiment apply | coats the coating liquid of solvent-soluble polyimide which is a non-dehydration condensation type | mold on one surface of the support film 11, heating temperature is less than 200 degreeC. It is preferable to dry at the temperature and to form the thin film resin film of the polyimide film formed using the solvent soluble polyimide. By doing in this way, the ultrathin polyimide film of thickness 1-9 micrometers can be laminated | stacked on one surface of the support film 11 which consists of a general-purpose heat resistant resin film. By forming the base material 12 by application | coating (coating) similarly to the adhesive bond layers 13 and 14, the base material 12 and the adhesive bond layer 13 on it, conveying the support film 11 along the longitudinal direction. , 14) and the like can be formed continuously, so that production from roll to roll is possible, and workability and productivity are excellent.

본 실시형태의 기재(12)에 사용 가능한 비탈수 축합형인 용제 가용성 폴리이미드는 특별히 한정되지 않지만, 시판되고 있는 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용하는 것이 가능하다. 시판되는 용제 가용성 폴리이미드의 도포액으로는, 구체적으로는 소르피 6,6-PI(소르피 공업), Q-IP-0895D(피아이 기술연구소), PIQ(히타치 화성공업), SPI-200N(신닛테츠 화학), 리카코트 SN-20, 리카코트 PN-20(신닛폰 이화) 등을 들 수 있다. 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 지지체 필름(11) 위에 도포하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 다이 코터, 나이프 코터, 립 코터 등의 코터로 도포하는 것이 가능하다.Although the solvent-soluble polyimide which is a non-dehydration condensation type which can be used for the base material 12 of this embodiment is not specifically limited, It is possible to use the coating liquid of the commercially available solvent-soluble polyimide. As a coating liquid of the commercially available solvent-soluble polyimide, specifically, Sorfi 6,6-PI (Sorpy Industries), Q-IP-0895D (Phi-Tech Institute), PIQ (Hitachi Chemical Co., Ltd.), SPI-200N ( Shin-Nitetsu Chemical Co., Ltd., Rika-Cote SN-20, Rika-cote PN-20 (Shin-Nippon Chemical), etc. are mentioned. The method of apply | coating the coating liquid of solvent soluble polyimide on the support film 11 is not restrict | limited, For example, it can apply | coat with a coater, such as a die coater, a knife coater, a lip coater.

본 실시형태의 기재(12)의 두께(예를 들면, 폴리이미드 필름의 두께)는 1∼9㎛인 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름의 두께를 0.8㎛ 미만으로 제막하는 것은 제막된 막의 기계적인 강도가 약하다는 점에서 기술적으로 곤란하다. 또한, 폴리이미드 필름 등의 기재(12)의 두께가 10㎛를 초과하면, 박형이며, 또한 우수한 굴곡 성능을 갖는 커버레이 필름(15, 16)을 얻는 것이 곤란해진다.It is preferable that the thickness (for example, thickness of a polyimide film) of the base material 12 of this embodiment is 1-9 micrometers. It is technically difficult to form the thickness of a polyimide film below 0.8 micrometer in the point that the mechanical strength of the film formed into a film is weak. Moreover, when the thickness of the base materials 12, such as a polyimide film, exceeds 10 micrometers, it will become difficult to obtain the coverlay films 15 and 16 which are thin and have the outstanding bending performance.

또한, 사용하는 폴리이미드 필름의 두께가 약 7㎛보다 얇은 경우에는 롤에 감을 때의 텐션 조정이 어렵기 때문에, 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성되어 있는 것이 바람직하다.In addition, when the thickness of the polyimide film used is thinner than about 7 micrometers, since the tension adjustment at the time of winding up on a roll is difficult, a thin polyimide film is laminated | stacked on one side of the support film 11 used as a reinforcement material on strength. It is preferable that it is formed.

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 얇은 폴리이미드 필름만으로 이루어지는 기재(12)를 사용하는 경우의 두께는 약 1∼9㎛인 것이 바람직하다.It is preferable that the thickness in the case of using the base material 12 which consists only of a thin polyimide film, without using the support film 11 is about 1-9 micrometers.

또한, 본 실시형태의 기재(12)는 FPC에 대한 추종성을 향상시키기 위해, 인장 신도가 높은 것이 바람직하다. 기재(12)의 인장 신도는 100% 이상이 바람직하고, 또한 250% 이하가 바람직하다. 기재(12)의 탄성률이 1.0GPa 이상 2.5GPa 이하인 것이 바람직하다. 인장 신도가 높은 기재(12)를 폴리이미드 필름으로 구성하는 경우, 예를 들면 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 나아가, 지방족 유닛은 탄소수 1∼10 정도의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 포함하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the base material 12 of this embodiment has high tensile elongation in order to improve the followability to FPC. 100% or more is preferable and, as for the tensile elongation of the base material 12, 250% or less is preferable. It is preferable that the elasticity modulus of the base material 12 is 1.0 GPa or more and 2.5 GPa or less. When the base material 12 with high tensile elongation is comprised with a polyimide film, it is preferable to use the polyimide material which has an aliphatic unit of 3 or more carbon atoms between aromatic units, for example. Furthermore, it is preferable that an aliphatic unit contains the polyalkylene oxy group which has a C1-C10 alkylene group.

기재의 인장 신도는 JIS-K-7127의 기재에 기초하여 플라스틱의 인장 변형으로서 측정을 행한다. 기재의 탄성률은 JIS-K-7161의 기재에 기초하여 플라스틱의 인장 탄성률로서 측정을 행한다.The tensile elongation of a base material is measured as a tensile strain of plastics based on the base material of JIS-K-7127. The elasticity modulus of a base material is measured as the tensile elasticity modulus of plastics based on the base material of JIS-K-7161.

또한, 본 실시형태의 기재(12)로 사용하는 폴리이미드 필름의 수증기 투과도는 500g/㎡·day 이상인 것이 바람직하다. 500g/㎡·day보다 수증기 투과도가 낮은 경우에는, FPC를 피복한 후의 땜납 리플로우와 같은 가열 공정에 있어서, 각 층의 잔류 용제나 접착제로부터의 아웃 가스, 필름 내의 수분이 급격하게 가열됨으로써 발생하는 수증기에 의해 각 층간이 박리될 가능성이 있다. 수증기 투과도에는 특별히 상한을 두지 않지만, 동일한 재료를 사용하는 한 수증기 투과도는 두께에 반비례하므로, 두께를 얇게 하여 수증기 투과도를 올리는 경우에는 상술한 두께 범위에 포함되는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the water vapor permeability of the polyimide film used for the base material 12 of this embodiment is 500 g / m <2> * day or more. If the water vapor permeability is lower than 500 g / m 2 · day, the heating process such as solder reflow after coating the FPC causes the occurrence of rapid heating of the outgas from the residual solvent or adhesive in each layer and the moisture in the film. Each layer may be peeled off by water vapor. There is no particular upper limit to the water vapor permeability, but as long as the same material is used, the water vapor permeability is inversely proportional to the thickness. Therefore, when the thickness is made thin, the water vapor permeability is preferably included in the above-described thickness range.

(지지체 필름)(Support film)

본 실시형태에 사용되는 지지체 필름(11)의 기재로는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다.As a base material of the support film 11 used for this embodiment, polyester films, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyolefin films, such as polypropylene and polyethylene, are mentioned, for example. have.

지지체 필름(11)의 기재가 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 기재 자체에 어느 정도의 박리성을 갖고 있는 경우에는, 지지체 필름(11) 위에 박리 처리를 실시하지 않고, 직접 도포된 유전체의 박막 수지 필름으로 이루어지는 기재(12)를 적층해도 되고, 기재(12)를 보다 박리하기 쉽게 하기 위한 박리 처리를 지지체 필름(11)의 표면에 실시해도 된다.When the base material of the support film 11 has some peelability to the base material itself, such as polyethylene terephthalate, for example, the thin film of the dielectric material directly apply | coated without performing peeling process on the support film 11 The base material 12 which consists of a resin film may be laminated | stacked, and the peeling process for making it easier to peel the base material 12 may be performed on the surface of the support film 11.

또한, 상기 지지체 필름(11)으로 사용되는 기재 필름이 박리성을 갖지 않는 경우에는, 아미노알키드 수지나 실리콘 수지 등의 박리제를 도포한 후, 가열 건조시킴으로써 박리 처리가 실시된다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 FPC에 첩합되므로, 이 박리제에는 실리콘 수지를 사용하지 않는 것이 바람직하다. 왜냐하면 실리콘 수지를 박리제로 사용하면, 지지체 필름(11)의 표면에 접촉한 기재(12)의 표면에 실리콘 수지의 일부가 이행되고, 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 내부를 통해 기재(12)로부터 접착제층(13)의 표면까지 더욱 이행될 우려가 있다. 이 접착제층(13)의 표면으로 이행된 실리콘 수지가 접착제층(13)의 접착력을 약화시킬 우려가 있기 때문이다.In addition, when the base film used for the said support film 11 does not have peelability, peeling process is performed by apply | coating peeling agents, such as an amino alkyd resin and a silicone resin, and heat-drying. Since the coverlay films 10, 15, 16, and 20 of this embodiment are bonded to an FPC, it is preferable that a silicone resin is not used for this peeling agent. Because, when the silicone resin is used as the release agent, a part of the silicone resin is transferred to the surface of the base material 12 in contact with the surface of the support film 11, and through the inside of the coverlay films 10, 15, 16, 20. There exists a possibility that it may further transfer to the surface of the adhesive bond layer 13 from the base material 12. This is because the silicone resin transferred to the surface of the adhesive layer 13 may weaken the adhesive force of the adhesive layer 13.

본 실시형태에 사용되는 지지체 필름(11)의 두께는 FPC에 피복하여 사용할 때의 커버레이 필름(15, 16) 전체의 두께에서는 제외되므로 특별히 한정되지 않지만, 통상 12∼150㎛ 정도이다. 지지체 필름(11)을 사용함으로써, 기재(12)나 접착제층(13, 14)을 형성할 때의 가공성, FPC에 대한 첩합시의 작업성을 향상시킬 수 있다.Although the thickness of the support film 11 used for this embodiment is excluded from the thickness of the whole coverlay films 15 and 16 at the time of coating and using FPC, it is not specifically limited, Usually, it is about 12-150 micrometers. By using the support film 11, the workability at the time of forming the base material 12 and the adhesive bond layers 13 and 14 and the workability at the time of bonding to FPC can be improved.

지지체 필름(11)의 색은 무색(무착색)이어도 되고 유색이어도 된다. 지지체 필름(11)에 착색하는 경우에는, 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)의 색에 대해 콘트라스트가 큰 색인 것이 바람직하다. 예를 들면, 커버레이 필름(15, 16)이 흑색 등의 어두운 색인 경우에, 지지체 필름(11)은 백색, 황색 등의 밝은 색인 것이 바람직하다. 이로 인해, 지지체 필름(11)으로부터 커버레이 필름(15, 16)을 박리하는 등의 취급성이나, 지지체 필름(11)이 박리되어 있는지 여부의 확인성을 향상시킬 수 있다. 지지체 필름(11)의 착색은 공지의 안료, 염료 등을 사용하여 행할 수 있다. 지지체 필름(11)으로서 예를 들면, 두께 30㎛ 이상 60㎛ 이하인 백색의 PET 필름을 들 수 있다.Color of the support film 11 may be colorless (colorless) or may be colored. When coloring on the support film 11, it is preferable that an index with a large contrast with respect to the color of the coverlay films 15 and 16 except the support film 11 and the peeling film 19 is preferable. For example, when the coverlay films 15 and 16 have a dark index such as black, the support film 11 is preferably a bright index such as white or yellow. For this reason, the handleability, such as peeling the coverlay films 15 and 16 from the support film 11, and the checkability of whether the support film 11 is peeling off can be improved. Coloring of the support film 11 can be performed using a well-known pigment, dye, etc. As the support film 11, the white PET film whose thickness is 30 micrometers or more and 60 micrometers or less is mentioned, for example.

(열경화성 접착제층)(Thermosetting adhesive layer)

본 실시형태에 따른 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 FPC에 첩합되는 접착제층(13)으로서, 열경화성 접착제층이 바람직하다. 접착제층(13)에 사용되는 열경화성 접착제로는, 아크릴계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 에폭시계 접착제, 고무계 접착제, 실리콘계 접착제 등의 일반적으로 사용되고 있는 열경화형 접착제를 들 수 있다. 또한, 인계, 브롬계 등의 난연제 등을 혼합하여 난연성을 갖게 한 것이 바람직하게 사용되나, 특별히 한정되지 않는다. 폴리우레탄의 원료가 되는 폴리올 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물로서 인 함유의 화합물을 사용하여, 수지의 분자 구조 중에 인을 함유하는 폴리우레탄 수지를 열경화성 접착제로서 사용할 수도 있다. 열경화성 접착제층(13)이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 according to the present embodiment are preferably the thermosetting adhesive layers as the adhesive layers 13 bonded to the FPC. As a thermosetting adhesive used for the adhesive bond layer 13, thermosetting adhesives generally used, such as an acrylic adhesive, a polyurethane adhesive, an epoxy adhesive, a rubber adhesive, and a silicone adhesive, are mentioned. Moreover, what mix | blended flame retardants, such as phosphorus type and bromine type, and made it flame-retardant is used preferably, but it does not specifically limit. A phosphorus-containing polyurethane may be used as the thermosetting adhesive in the molecular structure of the resin by using a phosphorus-containing compound as a polyol compound or polyisocyanate compound serving as a polyurethane raw material. It is preferable that the thermosetting adhesive layer 13 contains a phosphorus containing polyurethane resin composition and an epoxy resin.

열경화성 접착제층(13)의 두께는, 예를 들면 1∼8㎛가 바람직하다. 열경화성 접착제층(13)은, 예를 들면 도포에 의해 형성할 수 있다. 열경화성 접착제층(13)이 난연제를 함유하는 경우, 기재(12)에 난연제를 첨가하지 않아도 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)에 난연성을 부여할 수 있다.As for the thickness of the thermosetting adhesive layer 13, 1-8 micrometers is preferable, for example. The thermosetting adhesive layer 13 can be formed by application | coating, for example. When the thermosetting adhesive layer 13 contains a flame retardant, flame retardancy can be imparted to the coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19 without adding a flame retardant to the substrate 12. have.

열경화성 접착제의 접착력은 특별히 제한을 받지 않지만, 그 측정 방법은 JIS-C-6471 「플렉시블 프린트 배선판용 동장 적층판 시험 방법」의 8. 1. 1의 방법 A(90°방향 박리)로, 5∼30N/인치의 범위가 바람직하다. 접착력이 5N/인치 미만이면, 예를 들면, FPC에 첩합한 커버레이 필름(15, 16)이 열이나 굴곡으로 박리되거나 들뜨는 경우가 있다.Although the adhesive force of a thermosetting adhesive does not have a restriction | limiting in particular, The measuring method is 5-1 N in Method A (90 degree-direction peeling) of 8.1.1 of JIS-C-6471 "Testing method of copper clad laminated board for flexible printed wiring boards". A range of / inch is preferred. If the adhesive force is less than 5N / inch, for example, the coverlay films 15 and 16 bonded to the FPC may be peeled off or lifted off by heat or bending.

열경화성 접착제는 상온에서 감압 접착성을 나타내는 점착제가 아니라 가열 가압에 의한 접착제이면, 반복적인 굴곡에 대해 접착력이 저하되기 어려워져 바람직하다. FPC에 대한 가열 가압 접착의 조건은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 온도를 160℃, 가압력을 4.5MPa로 하여 60분간 열프레스하는 것이 바람직하다. 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)을 FPC에 대해 가열 가압할 때, 지지체 필름(11)이 커버레이 필름(15, 16)에서 제거되어 있어도 되고, 지지체 필름(11)을 포함하여 가열 가압하는 것도 가능하다.If the thermosetting adhesive is not an adhesive showing pressure-sensitive adhesiveness at room temperature but an adhesive by heat and pressure, the adhesive force is less likely to decrease with repeated bending, which is preferable. Although the conditions of heat-pressure adhesion to FPC are not specifically limited, For example, it is preferable to heat-press for 60 minutes with 160 degreeC of temperature and 4.5 MPa of pressurization pressures. When heat-pressurizing the coverlay films 15 and 16 except the support film 11 and the peeling film 19 with respect to FPC, the support film 11 may be removed from the coverlay films 15 and 16, It is also possible to heat pressurize including the support film 11.

(접착제층)(Adhesive layer)

제2 실시형태의 커버레이 필름(16, 20)에 사용되는 접착제층(14)은 기재(12)인 폴리이미드 필름 등의 박막과 열경화성 접착제층인 접착제층(13)의 밀착력 향상을 도모하기 위해, 앵커층으로서 형성하는 것이다. 제1 실시형태에 나타내는 바와 같이, 접착제층(14)은 생략 가능하다.In order to improve the adhesive force of the adhesive bond layer 14 used for the coverlay films 16 and 20 of 2nd Embodiment, a thin film, such as a polyimide film which is the base material 12, and the adhesive bond layer 13 which is a thermosetting adhesive bond layer, It is formed as an anchor layer. As shown in the first embodiment, the adhesive layer 14 can be omitted.

접착제층(14)은 그 위에 적층되는 열경화성 접착제층(13)의 가열 가압에 의한 접착 온도가 150∼250℃이기 때문에, 내열성이 우수한 접착제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 기재(12)가 되는 폴리이미드 필름 등의 절연 수지와 열경화성 접착제층(13)에 대한 접착력이 우수한 것이 바람직하다.Since the adhesive temperature by heat-pressing of the thermosetting adhesive bond layer 13 laminated | stacked on it is 150-250 degreeC, it is preferable to use the adhesive agent excellent in heat resistance. Moreover, it is preferable that it is excellent in the adhesive force with respect to the insulating resin, such as the polyimide film used as the base material 12, and the thermosetting adhesive bond layer 13. As shown in FIG.

접착제층(14)에 사용되는 접착성 수지 조성물로는, 바람직하게는 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, (메타)아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지 등의 열가소성 수지가 사용된다. 또한, 에폭시 수지, 아미노 수지, 폴리이미드 수지, (메타)아크릴 수지 등의 열경화형이어도 된다.As an adhesive resin composition used for the adhesive bond layer 14, Preferably thermoplastic resin, such as a polyester resin, a polyurethane resin, a (meth) acrylic resin, a polyethylene resin, a polystyrene resin, a polyamide resin, is used. Moreover, thermosetting types, such as an epoxy resin, an amino resin, a polyimide resin, and a (meth) acrylic resin, may be sufficient.

접착제층(14)의 접착성 수지 조성물로서 특히 바람직한 것은, 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물을 가교시키는 접착성 수지 조성물이나, 폴리우레탄계 수지에 경화제로서 에폭시 수지를 혼합한 접착성 수지 조성물이다. 이 때문에, 접착제층(14)은 폴리이미드 필름 등의 박막으로 이루어지는 기재(12)보다 단단한 물성을 갖고 있다. 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1분자에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지(그 미경화 수지)와, 1분자에 2개 이상의 카르복실기를 갖는 다가 카르복실산과의 반응 등에 의해 얻을 수 있다. 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물의 가교는 에폭시기와 반응하는 에폭시 수지용 가교제를 사용할 수 있다.Especially preferable as adhesive resin composition of the adhesive bond layer 14 is the adhesive resin composition which crosslinks the polyester resin composition which has an epoxy group, and the adhesive resin composition which mixed epoxy resin as a hardening | curing agent to polyurethane resin. For this reason, the adhesive bond layer 14 has harder physical properties than the base material 12 which consists of thin films, such as a polyimide film. Although the polyester resin composition which has an epoxy group is not specifically limited, For example, with the epoxy resin (its uncured resin) which has two or more epoxy groups in 1 molecule, and the polyhydric carboxylic acid which has 2 or more carboxyl groups in 1 molecule, It can obtain by reaction etc. As crosslinking of the polyester resin composition which has an epoxy group, the crosslinking agent for epoxy resins which react with an epoxy group can be used.

접착제층(14)의 두께는 0.05∼1㎛ 정도인 것이 바람직하고, 이 정도의 막 두께이면 열경화성 접착제층(13)과의 충분한 밀착력이 얻어진다. 접착제층(14)의 두께가 0.05㎛ 이하인 경우에는, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 밀착력이 저하될 우려가 있다. 또한, 접착제층(14)의 두께가 1㎛를 초과해도, 폴리이미드 필름 등으로 이루어지는 기재(12)나 열경화성 접착제층(13)에 대한 접착력의 증가에는 효과가 없기 때문에, 접착제층(14)의 두께가 1㎛를 초과하는 것은 비용이 증대하므로 바람직하지 않다. 접착제층(14)은 예를 들면 도포에 의해 형성할 수 있다.It is preferable that the thickness of the adhesive bond layer 14 is about 0.05-1 micrometer, and sufficient adhesive force with the thermosetting adhesive bond layer 13 will be acquired as it is a film thickness of this grade. When the thickness of the adhesive bond layer 14 is 0.05 micrometer or less, there exists a possibility that the adhesive force of the base material 12 and the thermosetting adhesive bond layer 13 may fall. Moreover, even if the thickness of the adhesive bond layer 14 exceeds 1 micrometer, since it is ineffective in the increase in the adhesive force with respect to the base material 12 and the thermosetting adhesive bond layer 13 which consist of a polyimide film, etc., the adhesive layer 14 of the It is not preferable that the thickness exceed 1 μm because the cost increases. The adhesive bond layer 14 can be formed by application | coating, for example.

(광흡수제)(Light absorber)

FPC에 첩합한 상태로 커버레이 필름(15, 16)에 차광성을 부여하고, 또는 의장성을 향상시키기 위해, 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)을 구성하는 어느 층에 광흡수제를 포함하고 있어도 된다. 이 목적으로 광흡수제를 포함할 수 있는 층은 기재(12), 열경화성 접착제층(13), 또는 기재(12)와 열경화성 접착제층(13) 사이에 형성할 수 있는 임의의 층이며, 예를 들면, 기재(12), 열경화성 접착제층(13), 접착제층(14)의 적어도 어느 1층 또는 2층 이상을 들 수 있다. 광흡수제로는, 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료 또는 착색 안료를 들 수 있다. 광흡수제의 종류나 배합량 등은 광흡수제를 포함하는 층이 전기 절연성을 유지할 수 있도록 선택되는 것이 바람직하다.The coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19 in order to impart light shielding properties to the coverlay films 15 and 16 in the state bonded to the FPC or to improve designability. The light absorbing agent may be included in any of the layers constituting the same. The layer which may include a light absorbing agent for this purpose is the substrate 12, the thermosetting adhesive layer 13, or any layer that can be formed between the substrate 12 and the thermosetting adhesive layer 13, for example At least any one layer or two or more layers of the base material 12, the thermosetting adhesive layer 13, and the adhesive layer 14 may be mentioned. Examples of the light absorbing agent include at least one black pigment or colored pigment selected from the group consisting of nonconductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide. It is preferable that the kind, compounding quantity, etc. of a light absorber are selected so that the layer containing a light absorber can maintain electrical insulation.

도 1에 나타낸 제1 실시형태에 있어서는, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 어느 한 쪽 또는 양쪽 모두에 광흡수제를 배합할 수 있다. 기재(12)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 열경화성 접착제층(13)에만 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)에 광흡수제를 배합해도 된다.In 1st Embodiment shown in FIG. 1, the light absorbing agent can be mix | blended with either or both of the base material 12 and the thermosetting adhesive bond layer 13. As shown in FIG. The light absorbing agent may be blended only with the base material 12, the light absorbing agent may be blended only with the thermosetting adhesive layer 13, and the light absorbing agent may be blended with the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13.

도 2에 나타낸 제2 실시형태에 있어서는, 기재(12), 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 어느 1층 또는 2층 이상에 광흡수제를 배합할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 접착제층(13)과 접착제층(14)에 광흡수제를 배합해도 되고, 기재(12)와 접착제층(14)에 광흡수제를 배합해도 되며, 접착제층(14)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 기재(12)와 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 전체 층에 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 열경화성 접착제층(13)에만 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)에 광흡수제를 배합해도 된다.In 2nd Embodiment shown in FIG. 2, the light absorbing agent can be mix | blended with any one layer or two or more layers of the base material 12, the adhesive bond layer 14, and the thermosetting adhesive bond layer 13. As shown in FIG. For example, a light absorbing agent may be blended in the thermosetting adhesive layer 13 and the adhesive layer 14, a light absorbing agent may be blended in the base material 12 and the adhesive layer 14, and the light absorbing agent only in the adhesive layer 14. May be blended, the light absorbing agent may be blended with the entire layer of the substrate 12, the adhesive layer 14, and the thermosetting adhesive layer 13, the light absorbing agent may be blended only with the substrate 12, and the thermosetting adhesive layer 13 ), A light absorbent may be blended, or the light absorber may be blended into the substrate 12 and the thermosetting adhesive layer 13.

지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)의 광투과율은 5% 이하가 바람직하다. 광투과율로는, 가시광선 투과율, 전광선 투과율 등을 들 수 있다. 기재(12)가 용제 가용성 폴리이미드로 구성되는 경우에는, 광흡수제를 함유하는 기재(12)를 형성할 수 있다.5% or less of the light transmittance of the coverlay films 15 and 16 except the support film 11 and the peeling film 19 is preferable. As light transmittance, visible light transmittance, total light transmittance, etc. are mentioned. When the base material 12 is comprised from solvent soluble polyimide, the base material 12 containing a light absorbing agent can be formed.

광투과율을 효과적으로 저하시키고 차광성을 향상시키기 위해서는, 광흡수제 중에서도 카본 블랙 등의 흑색 안료가 바람직하다. 흑색 안료 또는 착색 안료로 이루어지는 광흡수제는 어느 층 내에 0.1∼30중량%로 함유시키는 것이 바람직하다. 흑색 안료 또는 착색 안료는 SEM 관찰에 의한 1차 입자의 평균 입경이 0.02∼0.1㎛ 정도인 것이 바람직하다. 광흡수제를 함유하는 층의 두께는 광흡수제의 미립자가 표출되지 않도록, 광흡수제의 입경보다 큰 것이 바람직하다.In order to reduce light transmittance effectively and to improve light-shielding property, black pigments, such as carbon black, are preferable among light absorbers. It is preferable to contain the light absorbing agent which consists of a black pigment or a coloring pigment in 0.1 to 30weight% in any layer. It is preferable that the black pigment or colored pigment is about 0.02-0.1 micrometer in average particle diameter of a primary particle by SEM observation. The thickness of the layer containing the light absorbing agent is preferably larger than the particle size of the light absorbing agent so that the fine particles of the light absorbing agent are not exposed.

또한, 흑색 안료로는, 실리카 입자 등을 흑색 색재에 침지시켜 표층부만을 흑색으로 해도 되고, 흑색의 착색 수지 등으로 형성하여 전체적으로 흑색으로 이루어지도록 해도 된다. 또한, 흑색 안료는 진흑색 이외에 회색, 흑갈색, 또는 흑녹색 등 흑색에 가까운 색을 띠는 입자를 포함하고, 광을 반사하기 어려운 어두운 색이면 사용할 수 있다.In addition, as a black pigment, only a surface layer part may be made black by immersing a silica particle etc. in a black color material, and may be made with black coloring resin etc., and may be made black as a whole. In addition to the deep black, the black pigment may be used as long as it contains a particle having a color close to black such as gray, black brown, or black green, and is a dark color that is hard to reflect light.

(박리 필름)(Peel film)

상술한 바와 같이, 커버레이 필름(10, 20)은 열경화성 접착제층(13)을 보호하기 위해, 박리 필름(19)을 가질 수 있다. 박리 필름(19)의 기재로는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다. 이들 기재 필름에 아미노알키드 수지나 실리콘 수지 등의 박리제를 도포한 후 가열 건조시킴으로써, 박리 처리가 실시된다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 박리 필름(19)을 제거한 상태로 FPC에 첩합되므로, 이 박리제에는 실리콘 수지를 사용하지 않는 것이 바람직하다. 왜냐하면 실리콘 수지를 박리제로서 사용하면, 박리 필름(19)의 표면에 접촉한 열경화성 접착제층(13)의 표면에 실리콘 수지의 일부가 이행되어, 열경화성 접착제층(13)의 접착력을 약화시킬 우려가 있기 때문이다. 본 실시형태에 사용되는 박리 필름(19)의 두께는 FPC에 피복하여 사용할 때의 커버레이 필름(15, 16)의 전체 두께에서는 제외되므로 특별히 한정되지 않지만, 통상 12∼150㎛ 정도이다.As described above, the coverlay films 10 and 20 may have a release film 19 to protect the thermosetting adhesive layer 13. As a base material of the peeling film 19, polyester films, such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyolefin films, such as polypropylene and polyethylene, are mentioned, for example. After apply | coating release agents, such as an amino alkyd resin and silicone resin, to these base films, a peeling process is performed by heating and drying. Since the coverlay films 10, 15, 16, and 20 of this embodiment are bonded to FPC in the state which removed the peeling film 19, it is preferable that a silicone resin is not used for this peeling agent. When the silicone resin is used as the release agent, part of the silicone resin is transferred to the surface of the thermosetting adhesive layer 13 in contact with the surface of the release film 19, which may weaken the adhesive force of the thermosetting adhesive layer 13. Because. Although the thickness of the peeling film 19 used for this embodiment is excluded from the total thickness of the coverlay films 15 and 16 at the time of coating and using FPC, it is not specifically limited, Usually, it is about 12-150 micrometers.

(커버레이 필름)(Coverlay film)

본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 반복적인 굴곡 동작을 받는 FPC에 첩합하여 사용하는 것이 가능한, 굴곡 특성이 우수한 커버레이 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 커버레이 필름은 FPC 보호용의 부재로서 휴대 전화, 노트북 컴퓨터, 휴대 단말 등의 각종 전자 기기에 사용할 수 있다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 제조 방법으로는 지지체 필름(11) 위에, 기재(12)와 접착제층(13, 14)을 지지체 필름(11)에 가까운 측으로부터 순차적으로 재료를 도포함으로써 적층하는 방법을 들 수 있다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 of the present embodiment can be suitably used as coverlay films having excellent bending characteristics, which can be used by bonding to FPCs subjected to repeated bending operations. Moreover, the coverlay film of this embodiment can be used for various electronic devices, such as a mobile telephone, a notebook computer, a portable terminal, as a member for FPC protection. In the manufacturing method of the coverlay films 10, 15, 16, and 20 of this embodiment, the base material 12 and the adhesive bond layers 13 and 14 are placed on the support film 11 from the side close to the support film 11; The method of laminating | stacking by apply | coating a material sequentially is mentioned.

지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16) 전체의 두께는 15㎛ 이하가 바람직하고, 예를 들면 5∼15㎛, 12㎛ 이하를 들 수 있다. 커버레이 필름(15, 16)의 두께는 제1 실시형태의 경우에는 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 두께의 합계이며, 제2 실시형태의 경우에는 기재(12), 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 두께의 합계이다.15 micrometers or less are preferable for the thickness of the whole coverlay films 15 and 16 except the support film 11 and the peeling film 19, For example, 5-15 micrometers, 12 micrometers or less are mentioned. The thickness of the coverlay films 15 and 16 is the sum of the thicknesses of the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13 in the case of the first embodiment, and in the case of the second embodiment, the base material 12 and the adhesive layer ( 14) is the sum of the thicknesses of the thermosetting adhesive layers 13.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, an Example demonstrates this invention concretely.

(실시예 1)(Example 1)

한쪽 면에 박리 처리를 실시한, 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 지지체 필름(11)으로 사용하였다. 이 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 건조 후의 인장 신도가 170%인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 건조 후의 두께가 4㎛가 되도록 유연 도포, 건조시켜, 유전체의 박막 수지 필름으로 이루어지는 기재(12)를 적층하였다. 형성된 기재(12) 위에 광흡수제의 흑색 안료로서 비도전성 카본 블랙과 내열 온도가 260∼280℃인 폴리에스테르계 수지 조성물을 혼합한 접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액을 사용하여, 건조 후의 두께가 1㎛가 되도록 도포해 접착제층(14)을 적층하였다. 접착제층(14) 위에 인 함유 폴리우레탄 수지 용액 100부(도요보 제조: UR3575)에 다관능 에폭시 수지(도요보 제조: HY-30) 2.4부, 흄드 실리카 4.7부(니혼 에어로실 제조: R972)를 순차적으로 첨가해 교반하여 이루어진 열경화성 접착제를 건조 후의 두께가 6㎛가 되도록 도포, 건조시켜 열경화성 접착제층(13)을 형성하고, 실시예 1의 커버레이 필름을 얻었다.A 50-micrometer-thick polyethylene terephthalate (PET) film which performed the peeling process to one side was used as the support film 11. The base material which consists of a thin film resin film of a dielectric material 12 is cast and dried by apply | coating the coating liquid of the solvent-soluble polyimide whose tensile elongation after drying is 170% on one side of this support film 11 so that thickness after drying may be set to 4 micrometers. ) Was laminated. After drying using the coating liquid for forming the adhesive layer 14 which mixed non-conductive carbon black and the polyester-based resin composition whose heat-resistant temperature is 260-280 degreeC as a black pigment of a light absorber on the formed base material 12, It applied so that thickness might be 1 micrometer, and the adhesive bond layer 14 was laminated | stacked. To 100 parts of phosphorus containing polyurethane resin solution (Toyobo make: UR3575) on the adhesive bond layer 14, 2.4 parts of polyfunctional epoxy resins (Toyobo make: HY-30), 4.7 parts of fumed silica (Nihon Aerosil make: R972) The thermosetting adhesive formed by adding and stirring was sequentially applied and dried so that the thickness after drying might be set to 6 micrometers, the thermosetting adhesive layer 13 was formed, and the coverlay film of Example 1 was obtained.

(실시예 2)(Example 2)

열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 커버레이 필름을 얻었다.A coverlay film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the non-conductive carbon black was mixed with the thermosetting adhesive to form the thermosetting adhesive layer 13.

(실시예 3)(Example 3)

접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액에 비도전성 카본 블랙을 첨가하지 않고 접착제층(14)을 형성하고, 용제 가용성 폴리이미드의 도포액에 비도전성 카본 블랙을 첨가해 기재(12)를 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 커버레이 필름을 얻었다.The adhesive layer 14 is formed without adding non-conductive carbon black to the coating liquid for forming the adhesive layer 14, and non-conductive carbon black is added to the coating liquid of solvent-soluble polyimide, and the base material 12 is formed. A coverlay film of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except for one.

(실시예 4)(Example 4)

건조 후의 인장 신도가 120%인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액에 비도전성 카본 블랙을 첨가해 기재(12)를 형성하고, 접착제층(14)을 생략하여, 기재(12) 위에 직접 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 커버레이 필름을 얻었다.The nonconductive carbon black is added to the coating liquid of solvent-soluble polyimide of 120% of tensile elongation after drying, the base material 12 is formed, the adhesive layer 14 is omitted, and a thermosetting adhesive layer directly on the base material 12 ( Except having formed 13), it carried out similarly to Example 1, and obtained the coverlay film of Example 4.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 기재(12)로서 두께 10㎛인 열경화형 폴리이미드(Tg 없음)로 이루어지는 폴리이미드 필름을 사용하며, 열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 커버레이 필름을 얻었다.Without using the support film 11, a polyimide film made of a thermosetting polyimide (without Tg) having a thickness of 10 µm is used as the substrate 12, and a non-conductive carbon black is mixed with a thermosetting adhesive to form a thermosetting adhesive layer ( Except having formed 13), it carried out similarly to Example 1, and obtained the coverlay film of the comparative example 1.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 기재(12)로서 두께 12.5㎛인 열경화형 폴리이미드(Tg 없음)로 이루어지는 폴리이미드 필름을 사용하며, 열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 커버레이 필름을 얻었다.Without using the support film 11, a polyimide film made of a thermosetting polyimide (without Tg) having a thickness of 12.5 μm is used as the substrate 12, and a non-conductive carbon black is mixed with a thermosetting adhesive to form a thermosetting adhesive layer ( Except having formed 13), it carried out similarly to Example 1, and obtained the coverlay film of the comparative example 2.

(실시예 5)(Example 5)

탄성률이 3.2GPa인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용해 기재(12)를 형성하고, 인을 함유하지 않는 폴리우레탄 수지를 사용해 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 5의 커버레이 필름을 얻었다.The base material 12 was formed using the coating liquid of the solvent soluble polyimide whose elasticity modulus is 3.2 GPa, and it carried out similarly to Example 1 except having formed the thermosetting adhesive layer 13 using the polyurethane resin which does not contain phosphorus, The coverlay film of Example 5 was obtained.

(실시예 6)(Example 6)

건조 후의 인장 신도가 120%, 탄성률이 9.1GPa인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용해 기재(12)를 형성하고, 접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액에 비도전성 카본 블랙을 첨가하지 않고 접착제층(14)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 커버레이 필름을 얻었다.The base material 12 is formed using the coating liquid of solvent soluble polyimide whose tensile elongation after drying is 120%, and elasticity modulus is 9.1 GPa, and nonconductive carbon black is not added to the coating liquid for forming the adhesive bond layer 14. Except having provided the adhesive bond layer 14, it carried out similarly to Example 1, and obtained the coverlay film of Example 6.

(추종성의 평가 방법)(Evaluation method of followability)

두께 12.5㎛인 폴리이미드 필름 위에 두께 75㎛, L/S=75㎛/75㎛의 구리 배선 패턴을 형성한 테스트 패턴에 커버레이 필름의 열경화 접착제면을 중첩하고, 온도 140℃, 속도 1m/min으로 열라미네이트에 의해 라미네이트하였다. 지지체 필름(11)을 박리한 후, 160℃, 4.5MPa, 65분의 조건에서 열프레스하여, 추종성의 평가 샘플을 얻었다. 얻어진 샘플의 단면을 관찰해, 배선 패턴에 추종하고 있는 경우에는 「○」, 추종하지 않으며 배선 패턴에서 들뜨는 경우를 「×」로 하였다.The thermosetting adhesive surface of the coverlay film was superimposed on a test pattern in which a copper wiring pattern having a thickness of 75 μm and L / S = 75 μm / 75 μm was formed on a polyimide film having a thickness of 12.5 μm, and the temperature was 140 ° C. and the speed was 1 m /. Laminated by thermal lamination in min. After peeling the support film 11, it heat-pressed on the conditions of 160 degreeC, 4.5 Mpa, and 65 minutes, and obtained the followability evaluation sample. When the cross section of the obtained sample was observed and following the wiring pattern, "(circle)" and the case where it does not follow and lifted by the wiring pattern were made into "x".

(은폐성의 평가 방법)(Evaluation method of concealment)

얻어진 커버레이 필름을 상술한 구리 배선 패턴을 형성한 테스트 패턴(추종성 평가 방법을 참조)에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 은폐성 평가 샘플을 얻었다. 얻어진 샘플의 폴리이미드부와 구리 배선부(특히 단부)에 대해, 은폐성의 차이가 관찰되지 않는 경우는 「○」, 구리 배선 단부의 일부가 비쳐 보이고, 차이가 관찰되는 부분이 발생되어 있는 경우는 「△」, 구리 배선 단부의 대부분이 비쳐 보이고, 차이가 관찰되는 경우는 「×」로 하였다. 또한, 어느 층에도 광흡수제를 포함하지 않는 실시예 6에 대해서는 평가하지 않았다.The coverlay film obtained was heat-pressed to the test pattern (refer to the followability evaluation method) which formed the above-mentioned copper wiring pattern by the method (refer to the followability evaluation method) mentioned above, and the concealability evaluation sample was obtained. When the difference in concealability is not observed about the polyimide part and copper wiring part (especially the edge part) of the obtained sample, when a part where "(circle)" and a copper wiring end part is seen through and a part where a difference is observed is generated, "Δ" and most of the copper wiring edge portions were visible, and the difference was observed as "x". In addition, Example 6 in which neither layer contained the light absorbing agent was evaluated.

(난연성의 평가 방법)(Evaluation method of flame retardancy)

얻어진 커버레이 필름을 두께 12.5㎛인 폴리이미드 필름에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 난연성의 평가용 샘플을 얻었다. UL-94의 박형 재료 수직 연소 시험(ASTM D4804) 방법에 따라 난연성을 평가하고, VTM-0에 상당하는 난연성을 갖는 경우에는 「○」, 난연성을 갖지 않는 경우(VTM-2 부적합)를 「×」로 하였다.The obtained coverlay film was heat-pressed to the polyimide film which is 12.5 micrometers in thickness by the method (refer to the evaluation method of followability) mentioned above, and the sample for evaluation of flame retardance was obtained. The flame retardancy was evaluated according to the UL-94 thin material vertical combustion test (ASTM D4804) method, and when the flame retardancy was equivalent to VTM-0, "○" and the flame retardance (non-VTM-2 non-compliance) were "x". Was made.

(취급성의 평가 방법)(Evaluation method of handling)

얻어진 커버레이 필름을 사방 50㎝로 샘플링하고, 플렉시블 프린트 배선판에 중첩시켰을 때, 신속하게 위치 맞춤이 가능하여 취급이 양호한 경우를 「○」로 하고, 구겨지거나 주름이 져서 위치 맞춤에 시간이 걸려, 취급성이 떨어지는 경우를 「×」로 하였다.When the obtained coverlay film was sampled at 50 cm in all directions and superimposed on the flexible printed wiring board, the alignment could be performed quickly, and the case where handling was satisfactory was taken as "○", and it took time to align and wrinkle, The case where handleability was inferior was made into "x".

(내열성의 평가 방법)(Evaluation method of heat resistance)

얻어진 커버레이 필름을 두께 25㎛의 폴리이미드 필름에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 내열성의 평가용 샘플을 얻었다. 2.5㎝×3㎝의 치수로 시험편을 잘라내고, 290℃의 땜납욕에 10초간 침지한 후 끌어 올렸다. 땜납욕 침지 후의 커버레이 필름의 외관에 육안으로 들뜸이나 변형, 주름 등의 이상이 없는지를 관찰하여, 이상이 없고 양호한 경우를 「○」로 하고, 이상이 관찰된 경우를 「×」로 하였다.The obtained coverlay film was heat-pressed to the 25-micrometer-thick polyimide film by the method (refer to the evaluation method of followability) mentioned above, and the sample for evaluation of heat resistance was obtained. The test piece was cut out to the dimension of 2.5 cm x 3 cm, immersed in 290 degreeC solder bath for 10 second, and pulled up. The external appearance of the coverlay film after solder bath immersion was observed visually to see if there were any abnormalities such as lifting, deformation, and wrinkles.

(시험 결과)(Test result)

실시예 1∼6 및 비교예 1∼2에 대하여, 상기의 평가 방법으로 커버레이 필름의 평가를 행하고, 얻어진 평가 결과를 표 1∼2에 나타내었다. 열접착성 접착제층의 재료의 란에서, 「PU1」은 실시예 1에서 사용한 난연성 폴리우레탄을 포함하는 열접착성 접착제를 의미하고, 「PU2」는 실시예 5에서 사용한 폴리우레탄을 포함하는 열접착성 접착제를 의미한다. 두께의 란에 「없음」으로 기입되어 있는 것은 그 층을 갖지 않는 것을 의미한다.About Examples 1-6 and Comparative Examples 1-2, the coverlay film was evaluated by said evaluation method, and the obtained evaluation result was shown to Tables 1-2. In the column of the material of the heat adhesive adhesive layer, "PU1" means the heat adhesive adhesive containing the flame-retardant polyurethane used in Example 1, and "PU2" means the heat adhesive containing the polyurethane used in Example 5 Means sex adhesive. What is written as "none" in the column of thickness means that it does not have the layer.

Figure 112019057090678-pat00001
Figure 112019057090678-pat00001

Figure 112019057090678-pat00002
Figure 112019057090678-pat00002

표 1, 표 2에 나타낸 평가 결과에 의하면, 기재(12)의 인장 신도가 100% 이상인 경우, 추종성과 내열성이 양호해지는 것을 알 수 있다. 즉, 기재(12)의 인장 신도가 낮은 경우, 단차에 대한 추종성이 악화되어, 내열성의 평가시에 이상이 발생하였다.According to the evaluation result shown to Table 1, Table 2, when the tensile elongation of the base material 12 is 100% or more, it turns out that a followability and heat resistance become favorable. That is, when the tensile elongation of the base material 12 is low, the followability to a level | step difference deteriorated, and abnormality generate | occur | produced at the time of heat resistance evaluation.

또한, 실시예 1∼4, 6에 의하면, 열경화성 접착제층(13)에 난연제를 배합함으로써, 기재(12)에 난연제를 배합하지 않아도 양호한 난연성을 확보할 수 있었다.Moreover, according to Examples 1-4 and 6, the flame retardant was mix | blended with the thermosetting adhesive bond layer 13, and it was able to ensure favorable flame retardance even if it does not mix | blend a flame retardant with the base material 12.

또한, 실시예 1∼6에 의하면, 지지체 필름에 의해 두께가 증가하여, 플렉시블 배선판에 첩합할 때의 취급성이 향상되었고, 열프레스 전 또는 후에 지지체 필름(11)을 제거할 수 있기 때문에 작업 효율의 향상과 박형화를 양립 가능하게 되었다.Moreover, according to Examples 1-6, since the thickness increased with the support film, the handleability at the time of bonding to a flexible wiring board improved, and since the support film 11 can be removed before or after heat press, work efficiency The improvement and the thickness reduction of both became possible.

또한, 실시예 1∼5에 의하면, 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 층에 광흡수제를 포함함으로써, 효과적으로 차광성, 의장성을 향상시킬 수 있었다.Moreover, according to Examples 1-5, the light-shielding property and designability could be improved effectively by including a light absorbing agent in at least one layer of a base material, a thin film adhesive bond layer, and a thermosetting adhesive bond layer.

본 발명의 커버레이 필름은 휴대 전화, 노트북 컴퓨터, 휴대 단말 등의 각종 전자 기기에 FPC의 보호용 부재로서 사용할 수 있다.The coverlay film of this invention can be used as a protective member of FPC for various electronic devices, such as a mobile telephone, a notebook computer, and a portable terminal.

10, 15, 16, 20…커버레이 필름, 11…지지체 필름, 12…기재, 13, 14…접착제층, 19…박리 필름.10, 15, 16, 20... Coverlay film, 11... Support film, 12... Substrate, 13, 14... Adhesive layer, 19... Release film.

Claims (8)

지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고,
상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상이며,
상기 열경화성 접착제층이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하고,
상기 기재는 탄소수 1∼10의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 함유하는 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
On one side of the support film, the base material and the thermosetting adhesive layer which consist of a thin film resin layer of the apply | coated dielectric material are laminated | stacked in order,
Tensile elongation by the method of JIS-K-7127 of the said base material is 100% or more,
The thermosetting adhesive layer comprises a phosphorus-containing polyurethane resin composition and an epoxy resin,
Said base material is a polyimide film formed using the polyimide which has a C3 or more aliphatic unit containing a polyalkyleneoxy group which has a C1-C10 alkylene group between aromatic units, The coverlay film characterized by the above-mentioned.
지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고,
상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상이며,
상기 열경화성 접착제층이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하고,
상기 기재는 탄소수 1∼10의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 함유하는 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
On one surface of the support film, a base material consisting of a thin film resin layer of the applied dielectric, an adhesive layer of a thin film, and a thermosetting adhesive layer are laminated in this order,
Tensile elongation by the method of JIS-K-7127 of the said base material is 100% or more,
The thermosetting adhesive layer comprises a phosphorus-containing polyurethane resin composition and an epoxy resin,
Said base material is a polyimide film formed using the polyimide which has a C3 or more aliphatic unit containing a polyalkyleneoxy group which has a C1-C10 alkylene group between aromatic units, The coverlay film characterized by the above-mentioned.
제 2 항에 있어서,
상기 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 쪽에 광흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
The method of claim 2,
The coverlay film containing a light absorber in at least one of the said base material, the thin film adhesive bond layer, and a thermosetting adhesive bond layer.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재가 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 절연층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
The method according to claim 1 or 2,
The said base material consists of an insulating layer formed using the solvent soluble polyimide, The coverlay film characterized by the above-mentioned.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재가 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
The method according to claim 1 or 2,
The light absorber which the said base material consists of at least 1 type of black pigment selected from the group which consists of nonelectroconductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or a color pigment. Coverlay film comprising a.
제 2 항에 있어서,
상기 박막의 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
The method of claim 2,
The adhesive layer of the thin film is at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or at least one color pigment. A coverlay film comprising a light absorbing agent made.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 열경화성 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
The method according to claim 1 or 2,
The thermosetting adhesive layer is formed of at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, and manganese oxide, or at least one of colored pigments. A coverlay film comprising a light absorber.
제 1 항 또는 제 2 항의 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 전자 기기.The electronic device in which the coverlay film of Claim 1 or 2 is used as an FPC protection member.
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