KR101987646B1 - Coverlay film - Google Patents

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타카노리 사쿠라기
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Abstract

본 발명은 박막임에도 불구하고 가공 적성, 작업성이 양호하고, 플렉시블 프린트 기판(FPC)에 대한 추종성이 우수한 커버레이 필름을 제공하는 것을 과제로 한다. 상기 과제를 해결하기 위해, 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재(12), 열경화성 접착제층(13)이 순서대로 적층되어 이루어지고, 기재(12)의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름(10)을 제공한다.Disclosure of the Invention The present invention aims to provide a coverlay film having good processability and workability and excellent followability to a flexible printed board (FPC) despite being a thin film. A substrate 12 made of a thin dielectric resin layer and a thermosetting adhesive layer 13 are stacked in this order on one surface of a support film 11, And a tensile elongation according to the method of JIS-K-7127 is 100% or more.

Description

커버레이 필름{COVERLAY FILM}COVERLAY FILM

본 발명은 굴곡 동작을 반복적으로 받는 플렉시블 프린트 기판(이하, FPC라고 한다)을 피복하여 보호하는 박막의 커버레이 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a thin film coverlay film that covers and protects a flexible printed circuit board (hereinafter, referred to as FPC) that repeatedly receives a bending operation.

휴대 전화 등의 휴대용 전자 기기에서는, 케이스의 외형 치수를 작고 얇게 억제하여 가지고 다니기 쉽게 하기 위해, 프린트 기판 상에 전자 부품을 집적시키고 있다. 또한, 케이스의 외형 치수를 작게 하기 위해 프린트 기판을 복수로 분할하고, 분할된 프린트 기판 간의 접속 배선에 가요성을 갖는 FPC를 사용함으로써, 프린트 기판을 절첩하거나 혹은 슬라이드시키는 것이 행해지고 있다.BACKGROUND ART In a portable electronic device such as a cellular phone, electronic components are integrated on a printed board in order to make the size of the casing small and thin and easy to carry. Further, in order to reduce the external dimensions of the case, a printed board is divided or slid by dividing the printed board into a plurality of pieces and using flexible FPCs as connection wirings between the divided printed boards.

또한, 근래의 휴대 정보 단말(스마트 폰이나 태블릿 등)은 지금까지의 휴대 전화보다 더 많은 전력을 소비하기 때문에, 전지의 유지성이 나빠지고 있다. 이 때문에, 가능한 전지의 용적 및 용량을 크게 할 필요가 있어, 전지 이외의 부재, 부품의 소형화, 박형화가 강하게 요구되고 있다.In addition, recent portable information terminals (such as smartphones and tablets) consume more electric power than conventional cellular phones, so that the retention of the batteries deteriorates. For this reason, it is necessary to increase the capacity and capacity of a battery as much as possible, and it is strongly desired to reduce the size and thickness of members and components other than the battery.

나아가, 근래에는 차광성, 의장성이 중시되어, 착색한 커버레이 필름이 요구되고 있다.Furthermore, in recent years, a light-shielding film and a decorative film have been emphasized, and a colored coverlay film is required.

종래, 이러한 박형화의 목적으로 사용되는 커버레이 필름으로는 얇은 폴리이미드 필름에 접착제를 도포한 것이 사용되고 있지만(특허문헌 1), 얇은 폴리이미드 필름은 가공 적정이 나쁘고, FPC에 첩부할 때 작업성이 나빴다. 또한, 종래의 얇은 커버레이 필름에서는 FPC의 단차에 대한 추종성이 충분하지 않아 간극이 생겨, 가열 공정에서의 팽창 등의 문제의 원인이 되고 있었다. 이 때문에, FPC의 충분한 박형화는 곤란하였다.Conventionally, as a coverlay film used for such a thinning purpose, a thin polyimide film coated with an adhesive is used (Patent Document 1), but a thin polyimide film has poor workability and has workability when affixed to an FPC It was bad. In addition, in the conventional thin coverlay film, the trackability to the step difference of the FPC is not sufficient and a gap is formed, which causes a problem such as expansion in the heating process. For this reason, it is difficult to make the FPC sufficiently thin.

또한, 차광성, 의장성을 향상시키는 목적으로, 흑색 안료나 염료를 함유시킨 폴리이미드 필름이나 전기 절연 필름과 열경화성 접착제의 어느 한쪽 또는 양쪽 모두에 흑색 안료를 함유시킨 커버레이 필름이 제안되어 있으나(특허문헌 1), 상기 박형화에 대해서는 전혀 고려되어 있지 않다.Further, for the purpose of improving the light shielding property and the design property, a coverlay film in which a black pigment is contained in either or both of a polyimide film containing a black pigment or a dye, an electric insulating film and a thermosetting adhesive has been proposed Patent Document 1), the thinning is not considered at all.

일본공개특허공보 평9-135067호Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-135067

본 발명은 상기 배경 기술을 감안하여, 박막임에도 불구하고 가공 적정, 작업성이 양호하고, FPC에 대한 추종성이 우수한 커버레이 필름을 제공하는 것에 있다.In view of the above background, it is an object of the present invention to provide a coverlay film having good processability and workability and excellent followability to an FPC despite being a thin film.

취급성을 양호하게 하기 위해, 본 발명에서는 지지체 필름의 한쪽 면 위에 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재와 접착제층이 순차적으로 적층되어 이루어진다. 또한, FPC에 접착제층을 중첩하여 열압착시킨 후, 지지체 필름을 박리함으로써 FPC에 전사할 수 있다.In order to improve handleability, in the present invention, a substrate made of a thin film of a dielectric resin and an adhesive layer are sequentially laminated on one surface of a support film. Further, after the adhesive layer is superimposed on the FPC and thermocompression-bonded, the support film can be peeled off and transferred to the FPC.

또한, 과혹한 굴곡 동작을 견디고, FPC에 대한 추종성을 양호하게 하기 위해, 본 발명에서는 인장 신도가 높은 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재를 사용한다. 본 발명에서는 적어도 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재 위에, 접착제층이 적층된 적층체를 제조하는 것을 기술 사상으로 하고 있다.In addition, in order to endure a severe bending operation and improve followability to an FPC, a substrate made of a thin film of a dielectric resin having a high tensile elongation is used. In the present invention, a technical idea is to produce a laminate in which an adhesive layer is laminated on a substrate made of at least a thin film resin layer of a dielectric.

또한, 본 발명에서는 유전체 수지의 박막으로 이루어지는 기재로서, 유연성을 고려하여, 도포된 유전체의 박막 수지층을 사용해, 지지체 필름 및 박리 필름을 제외한 커버레이 필름 전체의 두께를 15㎛ 이하로 얇게 하는 것을 가능하게 하고 있다.In the present invention, in consideration of flexibility, the thin film resin layer of a coated dielectric is used as a base made of a thin film of a dielectric resin, and the thickness of the entire coverlay film excluding the support film and the release film is reduced to 15 占 퐉 or less .

또한, 본 발명에서는 FPC에 첩합되는 접착제층을 열경화성 수지층으로 하고, 폴리이미드 등의 박막 수지층으로 이루어지는 기재와 열경화성 수지층의 밀착력을 증가시키기 위해, 기재와 열경화성 접착제층 사이에 접착제층을 형성할 수도 있다.Further, in the present invention, an adhesive layer is formed between the base material and the thermosetting adhesive layer in order to increase the adhesion between the base made of a thin film resin layer such as polyimide and the thermosetting resin layer, and the adhesive layer to be fused to the FPC as a thermosetting resin layer You may.

또한, 본 발명에서는 상기 문제점을 해결하기 위해, 지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고, 상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름을 제공한다.Further, in order to solve the above-described problems, the present invention is characterized in that a base material and a thermosetting adhesive layer each formed of a thin film resin layer of a coated dielectric are sequentially laminated on one side of a support film, Wherein the film has a tensile elongation of 100% or more.

또한, 본 발명에서는 상기 문제점을 해결하기 위해, 지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고, 상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름을 제공한다.Further, in order to solve the above problems, the present invention is characterized in that a base material, a thin film adhesive layer, and a thermosetting adhesive layer are sequentially laminated on one surface of a support film, And a tensile elongation according to the method of -K-7127 is 100% or more.

상기 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 쪽에 광흡수제를 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that a light absorbent is contained in at least one of the substrate, the thin film adhesive layer, and the thermosetting adhesive layer.

상기 기재가 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 절연층으로 이루어지고, 두께가 1∼9㎛인 것이 바람직하다.The substrate is made of an insulating layer formed using a solvent-soluble polyimide, and preferably has a thickness of 1 to 9 mu m.

상기 기재가 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.Wherein the substrate is at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, .

상기 박막의 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.Wherein the adhesive layer of the thin film is at least one kind of black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, It is preferable to include a light absorbent.

상기 열경화성 접착제층이 난연성 인 함유 폴리우레탄 수지와 에폭시 수지를 함유하여 이루어지는 난연성 열경화성 접착제인 것이 바람직하다.It is preferable that the thermosetting adhesive layer is a flame-retardant thermosetting adhesive comprising a polyurethane resin containing flame retardant and an epoxy resin.

상기 열경화성 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것이 바람직하다.Wherein the thermosetting adhesive layer is made of one or more of at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, It is preferable to include a light absorbent.

또한, 본 발명은 상기 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 휴대 전화를 제공한다.Further, the present invention provides a cellular phone in which the coverlay film is used as an FPC protecting member.

또한, 본 발명은 상기 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 전자 기기를 제공한다.Further, the present invention provides an electronic apparatus wherein the coverlay film is used as an FPC protecting member.

상기 본 발명의 커버레이 필름에 의하면, 인장 신도가 높고, 인장 강도가 적정한 박막 수지로 이루어지는 기재를 사용함으로써, 단차를 갖는 배선판 등을 피복한 경우에 간극 없이 추종하고, 이후의 땜납 리플로우 공정이나 도금 공정 등의 공정에 있어서, 팽창이나 도금액의 침투에 의한 문제가 발생하지 않는 박막 커버레이 필름을 제조할 수 있다.According to the coverlay film of the present invention, when a substrate made of a thin film resin having a high tensile elongation and an appropriate tensile strength is used, it is possible to perform a solder reflow step It is possible to manufacture a thin film coverlay film which does not cause problems due to swelling or penetration of the plating liquid in a process such as a plating process.

또한, 기재로서 절연성을 갖는 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름(두께 1∼9㎛)을 사용함으로써, 과혹한 굴곡 동작에 견딜 수 있는 우수한 굴곡 특성을 갖게 하는 것이 가능해진다. 이로 인해, 지지체 필름 및 박리 필름을 제외한 커버레이 필름의 전체 두께를 15㎛ 이하로 억제할 수 있고, 휴대 전화 및 전자 기기의 전체 두께를 얇게 하는 것에 기여할 수 있다.Further, by using a thin film resin film (thickness of 1 to 9 mu m) of a polyimide film having insulating properties as a substrate, it is possible to have an excellent bending property capable of withstanding a severe bending operation. As a result, the total thickness of the coverlay film excluding the support film and the release film can be suppressed to 15 μm or less, contributing to the reduction of the total thickness of the cellular phone and the electronic device.

기재 또는 접착제층 내에 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료로 이루어지는 광흡수제를 혼합함으로써, 커버레이 필름의 한쪽 면측에 특정의 착색이 가능해진다.By mixing one or more black pigments or a light absorbent composed of a colored pigment in the base material or adhesive layer, it is possible to perform specific coloring on one side of the coverlay film.

이상으로부터 본 발명에 의하면, 배선판 등을 피복한 후의 땜납 리플로우 공정 등의 가열 공정에 있어서, 팽창이나 도금액의 침투에 의한 문제가 발생하지 않는 유연성이 풍부한 박형이며, 또한 과혹한 굴곡 동작이 반복되어 행해져도 FPC 보호 성능의 저하가 발생하지 않는 굴곡 특성이 우수한 커버레이 필름을 제공할 수 있다.As described above, according to the present invention, in a heating process such as a solder reflow process after covering a wiring board or the like, it is thin and rich in flexibility that does not cause problems due to expansion or penetration of the plating liquid, It is possible to provide a coverlay film having excellent bending properties that does not deteriorate the FPC protection performance even if it is used.

도 1은 본 발명에 따른 커버레이 필름의 제1 실시형태를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 커버레이 필름의 제2 실시형태를 나타내는 개략 단면도이다.
1 is a schematic sectional view showing a first embodiment of a coverlay film according to the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view showing a second embodiment of a coverlay film according to the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명한다. 본 발명은 본 실시형태로 한정되지 않으며, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 각종 개변이 가능하다. 본 실시형태는 하기 제1 실시형태 및 제2 실시형태를 포함한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. The present invention is not limited to this embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. The present embodiment includes the following first and second embodiments.

본 실시형태의 커버레이 필름은 피착체인 FPC 등에 첩합했을 때, 외표면이 유전체로서, FPC의 배선이나 회로 부품 등을 전기 절연적으로 보호할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 커버레이 필름은 굴곡 동작에 대한 굴곡 특성을 향상시키기 위해, 전체의 두께를 얇게 하고 있다.When the coverlay film of the present embodiment is applied to an FPC or the like as an adherend, the outer surface of the coverlay film is a dielectric, and the wiring and circuit components of the FPC can be electrically insulated. In addition, the coverlay film of the present embodiment has a reduced thickness as a whole in order to improve the bending property with respect to the bending operation.

도 1에 나타낸 제1 실시형태의 커버레이 필름(10)에 있어서, 기재(12)로는, 가요성을 갖고, 두께가 1∼9㎛, 인장 신도가 100% 이상이며, 예를 들면 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름 등의 박막 수지 필름을 들 수 있다. 또한, 기재(12)의 일방의 면에 지지체 필름(11)이 적층되어 있고, 기재(12)의 타방의 면에 접착제층(13)이 적층되어 있다. 접착제층(13)은 FPC의 표면에 첩합되는 전기 절연성의 접착제층이고, 예를 들면 열경화성 접착제층이다. 접착제층(13)의 표면에는 접착제층(13)을 보호하기 위한 박리 필름(19)을 적층할 수 있다. 이 커버레이 필름(10)은 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제거하여, 기재(12)의 한쪽 면에 접착제층(13)이 적층된 구성의 커버레이 필름(15)으로서 사용할 수 있다. 제1 실시형태에 있어서, 접착제층(13)은 기재(12)의 한쪽 면에 접하고 있어도 된다.In the coverlay film 10 of the first embodiment shown in Fig. 1, the base material 12 is flexible, has a thickness of 1 to 9 mu m, a tensile elongation of 100% or more, for example, And a polyimide film formed using a polyimide resin. A support film 11 is laminated on one surface of the base material 12 and an adhesive layer 13 is laminated on the other surface of the base material 12. [ The adhesive layer 13 is an electrically insulating adhesive layer that is adhered to the surface of the FPC and is, for example, a thermosetting adhesive layer. On the surface of the adhesive layer 13, a release film 19 for protecting the adhesive layer 13 can be laminated. The coverlay film 10 can be used as a coverlay film 15 in which the support film 11 and the release film 19 are removed and an adhesive layer 13 is laminated on one side of the base 12 have. In the first embodiment, the adhesive layer 13 may be in contact with one surface of the base material 12. [

도 2에 나타낸 제2 실시형태의 커버레이 필름(20)에 있어서, 기재(12)로는, 가요성을 갖고, 두께가 1∼9㎛, 인장 신도가 100% 이상이며, 예를 들면 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름 등의 박막 수지 필름을 들 수 있다. 또한, 기재(12)의 일방의 면에 지지체 필름(11)이 적층되어 있고, 기재(12)의 타방의 면에 접착제층(14), 접착제층(13)이 순서대로 적층되어 있다. 접착제층(14)은 접착제층(13)과 기재(12)의 밀착력을 향상시키는 박막의 접착제층이다. 접착제층(13)은 FPC의 표면에 첩합되는 전기 절연성의 접착제층이고, 예를 들면 열경화성 접착제층이다. 접착제층(13)의 표면에는 접착제층(13)을 보호하기 위한 박리 필름(19)을 적층할 수 있다. 이 커버레이 필름(20)은 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제거하여, 기재(12)의 한쪽 면에 접착제층(13, 14)이 적층된 구성의 커버레이 필름(16)으로서 사용할 수 있다. 제2 실시형태에 있어서, 접착제층(13)은 접착제층(14)에 접하고 있고, 접착제층(14)은 기재(12)의 한쪽 면에 접하고 있어도 된다.In the coverlay film 20 of the second embodiment shown in Fig. 2, the base material 12 is flexible, has a thickness of 1 to 9 mu m, a tensile elongation of 100% or more, for example, And a polyimide film formed using a polyimide resin. A support film 11 is laminated on one surface of the base material 12 and an adhesive layer 14 and an adhesive layer 13 are laminated on the other surface of the base material 12 in this order. The adhesive layer 14 is an adhesive layer of a thin film which improves the adhesion between the adhesive layer 13 and the substrate 12. The adhesive layer 13 is an electrically insulating adhesive layer that is adhered to the surface of the FPC and is, for example, a thermosetting adhesive layer. On the surface of the adhesive layer 13, a release film 19 for protecting the adhesive layer 13 can be laminated. The coverlay film 20 is formed by removing the support film 11 and the release film 19 to form a coverlay film 16 having a structure in which adhesive layers 13 and 14 are laminated on one surface of the base 12 Can be used. In the second embodiment, the adhesive layer 13 is in contact with the adhesive layer 14, and the adhesive layer 14 is in contact with one surface of the base material 12. [

(기재)(materials)

본 실시형태에 따른 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 기재(12)는 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 절연층이다. 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름은 폴리이미드 수지의 특징인 높은 기계적 강도, 내열성, 절연성, 내용제성을 가지며, 260℃ 정도까지는 화학적으로 안정하다고 여겨지고 있으므로, 기재(12)로서 바람직하다.The base material 12 of the coverlay films 10, 15, 16, and 20 according to the present embodiment is an insulating layer comprising a thin film resin layer of a dielectric. Since the thin film resin film of the polyimide film formed by using the solvent-soluble polyimide has high mechanical strength, heat resistance, insulation, and solvent resistance characteristic of the polyimide resin and is believed to be chemically stable up to about 260 캜, .

폴리이미드로는 폴리아믹산의 가열에 따른 탈수 축합 반응으로 생기는 열경화형 폴리이미드와, 비탈수 축합형인 용제에 가용인 용제 가용성 폴리이미드가 있다.As the polyimide, thermosetting polyimide resulting from dehydration condensation reaction by heating of polyamic acid and solvent soluble polyimide soluble in a solvent which is a condensation condensation type are available.

일반적인 폴리이미드 필름의 제조 방법으로서 일반적으로 알려져 있는 방법은 극성 용매 내에서 디아민과 카르복실산 이무수물을 반응시킴으로써 이미드 전구체인 폴리아믹산을 합성하고, 폴리아믹산을 열 혹은 촉매를 이용함으로써 탈수 고리화하여 대응하는 폴리이미드로 하는 것이다. 그러나, 이 이미드화하는 공정에 있어서 가열 처리의 온도는 200℃∼300℃의 온도 범위가 바람직하다고 여겨지며, 이 온도보다 가열 온도가 낮은 경우에는 이미드화가 진행되지 않을 가능성이 있기 때문에 바람직하지 않고, 상기 온도보다 가열 온도가 높은 경우에는 화합물의 열분해가 생길 우려가 있기 때문에 바람직하지 않은 것으로 여겨진다.A commonly known method for producing a general polyimide film is to synthesize an imide precursor polyamic acid by reacting a diamine and a carboxylic acid dianhydride in a polar solvent and then heating the polyamic acid by heat or using a catalyst to dehydrate and cyclize To form the corresponding polyimide. However, in the imidation step, the temperature of the heat treatment is preferably in the range of 200 to 300 占 폚. If the heating temperature is lower than this temperature, the imidization may not progress, which is not preferable. If the heating temperature is higher than the above-mentioned temperature, the compound may be decomposed thermally, which is considered to be undesirable.

본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 기재(12)의 가요성을 보다 향상시키는 것을 의도하여, 두께 10㎛ 미만인 극히 얇은 폴리이미드 필름을 사용하는 것이다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 of this embodiment are intended to use an extremely thin polyimide film having a thickness of less than 10 mu m, in order to further improve the flexibility of the base material 12. [

본 실시형태에서는 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성한 기재, 혹은 지지체 필름(11)을 사용하지 않고 얇은 폴리이미드 필름만으로 이루어지는 기재 모두를 사용할 수 있다.In the present embodiment, a substrate formed by laminating a thin polyimide film on one side of a support film 11 used as a reinforcing material for strength, or a substrate formed of only a thin polyimide film without using the support film 11 may be used .

사용하는 폴리이미드 필름의 두께가 약 7㎛보다 얇은 경우에는, 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 폴리아믹산을 포함하는 도포액을 지지체 필름(11)의 한쪽 면에 유연(流延)시키고, 가열하여 폴리이미드를 성막할 수 있다.When the thickness of the polyimide film to be used is thinner than about 7 占 퐉, it is preferable to laminate a thin polyimide film on one surface of the support film 11 used as a reinforcing material for strength. For example, a coating solution containing polyamic acid may be cast on one side of the support film 11 and heated to form polyimide.

그런데, 폴리이미드 필름 자체는 가열 온도 200℃∼250℃에서의 가열 처리에 대한 내열성을 갖고 있지만, 지지체 필름(11)으로서 가격과 내열 온도 성능의 균형으로부터 범용의 내열성 수지 필름, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지 필름 등의 내열성이 높지 않은 필름을 사용하는 경우에는, 종래의 이미드 전구체인 폴리아믹산으로부터 폴리이미드를 형성하는 방법을 채용할 수 없다.However, the polyimide film itself has heat resistance against heat treatment at a heating temperature of 200 to 250 占 폚. However, as a support film 11, a general heat-resistant resin film such as polyethylene When a film having a low heat resistance such as a terephthalate (PET) resin film is used, a method of forming a polyimide from a conventional imide precursor, polyamic acid, can not be employed.

용제 가용성 폴리이미드는 그 폴리이미드의 이미드화가 완결되어 있으며, 또한 용제에 가용이기 때문에, 용제에 용해시킨 도포액을 도포한 후, 200℃ 미만의 저온에서 용제를 휘발시킴으로써 성막할 수 있다. 이 때문에, 본 실시형태의 커버레이 필름에 사용되는 기재(12)는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 비탈수 축합형인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 도포한 후, 온도를 200℃ 미만의 가열 온도로 건조시키고, 용제 가용성 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름의 박막 수지 필름을 형성하는 것이 바람직하다. 이렇게 함으로써, 범용의 내열성 수지 필름으로 이루어지는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 두께 1∼9㎛의 극히 얇은 폴리이미드 필름을 적층할 수 있다. 접착제층(13, 14)과 동일하게, 도포(코팅)에 의해 기재(12)를 형성함으로써, 지지체 필름(11)을 그 길이 방향을 따라 반송하면서, 그 위에 기재(12), 접착제층(13, 14) 등을 연속적으로 형성할 수 있으므로, 롤 to 롤에서의 생산도 가능하고, 가공성, 생산성이 우수하다.Solvent-soluble polyimide can be formed by evaporating the solvent at a low temperature of less than 200 占 폚 after applying the coating liquid dissolved in a solvent since imidization of the polyimide is completed and soluble in a solvent. For this reason, the substrate 12 used in the coverlay film of the present embodiment is formed by applying a coating solution of a solvent-soluble polyimide condensed with water to a surface of one side of the support film 11, It is preferable to form the thin film resin film of the polyimide film formed by using the solvent-soluble polyimide. By doing so, an extremely thin polyimide film having a thickness of 1 to 9 m can be laminated on one side of the support film 11 made of a general heat-resistant resin film. The substrate 12 is formed by coating (coating) in the same manner as the adhesive layers 13 and 14 so that the substrate 12 and the adhesive layer 13 , And 14) can be continuously formed. Therefore, production in roll-to-roll is possible, and workability and productivity are excellent.

본 실시형태의 기재(12)에 사용 가능한 비탈수 축합형인 용제 가용성 폴리이미드는 특별히 한정되지 않지만, 시판되고 있는 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용하는 것이 가능하다. 시판되는 용제 가용성 폴리이미드의 도포액으로는, 구체적으로는 소르피 6,6-PI(소르피 공업), Q-IP-0895D(피아이 기술연구소), PIQ(히타치 화성공업), SPI-200N(신닛테츠 화학), 리카코트 SN-20, 리카코트 PN-20(신닛폰 이화) 등을 들 수 있다. 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 지지체 필름(11) 위에 도포하는 방법은 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 다이 코터, 나이프 코터, 립 코터 등의 코터로 도포하는 것이 가능하다.The solvent-soluble polyimide that can be used in the base material 12 of the present embodiment is not particularly limited, but a commercially available solvent-soluble polyimide coating liquid can be used. Specific examples of commercially available solvent-soluble polyimide coating liquids include Sorpi 6,6-PI (Sorpe Industries), Q-IP-0895D (PI Industrial Technology Research Institute), PIQ (Hitachi Chemical Industrial), SPI-200N Shin-Tetsu Chemical Co., Ltd.), Rika Coat SN-20, and Rika Coat PN-20 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). The method of applying the coating solution of the solvent-soluble polyimide on the support film 11 is not particularly limited and it is possible to coat it with a coater such as a die coater, a knife coater or a lip coater.

본 실시형태의 기재(12)의 두께(예를 들면, 폴리이미드 필름의 두께)는 1∼9㎛인 것이 바람직하다. 폴리이미드 필름의 두께를 0.8㎛ 미만으로 제막하는 것은 제막된 막의 기계적인 강도가 약하다는 점에서 기술적으로 곤란하다. 또한, 폴리이미드 필름 등의 기재(12)의 두께가 10㎛를 초과하면, 박형이며, 또한 우수한 굴곡 성능을 갖는 커버레이 필름(15, 16)을 얻는 것이 곤란해진다.It is preferable that the thickness of the substrate 12 of the present embodiment (for example, the thickness of the polyimide film) is 1 to 9 占 퐉. When the thickness of the polyimide film is less than 0.8 탆, it is technically difficult to form the film because the mechanical strength of the film is low. In addition, when the thickness of the base material 12 such as a polyimide film is more than 10 mu m, it becomes difficult to obtain the coverlay films 15 and 16 which are thin and have excellent bending performance.

또한, 사용하는 폴리이미드 필름의 두께가 약 7㎛보다 얇은 경우에는 롤에 감을 때의 텐션 조정이 어렵기 때문에, 강도상의 보강재로서 사용하는 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 얇은 폴리이미드 필름을 적층하여 형성되어 있는 것이 바람직하다.When the thickness of the polyimide film to be used is thinner than about 7 mu m, it is difficult to adjust the tension when the film is wound on the roll. Therefore, a thin polyimide film is laminated on one side of the support film 11, Or the like.

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 얇은 폴리이미드 필름만으로 이루어지는 기재(12)를 사용하는 경우의 두께는 약 1∼9㎛인 것이 바람직하다.When the substrate 12 made of only a thin polyimide film is used without using the support film 11, the thickness is preferably about 1 to 9 占 퐉.

또한, 본 실시형태의 기재(12)는 FPC에 대한 추종성을 향상시키기 위해, 인장 신도가 높은 것이 바람직하다. 기재(12)의 인장 신도는 100% 이상이 바람직하고, 또한 250% 이하가 바람직하다. 기재(12)의 탄성률이 1.0GPa 이상 2.5GPa 이하인 것이 바람직하다. 인장 신도가 높은 기재(12)를 폴리이미드 필름으로 구성하는 경우, 예를 들면 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드 재료를 사용하는 것이 바람직하다. 나아가, 지방족 유닛은 탄소수 1∼10 정도의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 포함하는 것이 바람직하다.Further, the base material 12 of the present embodiment preferably has a high tensile elongation in order to improve followability to an FPC. The tensile elongation of the base material 12 is preferably 100% or more, more preferably 250% or less. It is preferable that the elastic modulus of the base material 12 is 1.0 GPa or more and 2.5 GPa or less. When the substrate 12 having a high tensile elongation is made of a polyimide film, it is preferable to use a polyimide material having, for example, three or more aliphatic units between the aromatic units. Further, it is preferable that the aliphatic unit includes a polyalkyleneoxy group having an alkylene group having about 1 to 10 carbon atoms.

기재의 인장 신도는 JIS-K-7127의 기재에 기초하여 플라스틱의 인장 변형으로서 측정을 행한다. 기재의 탄성률은 JIS-K-7161의 기재에 기초하여 플라스틱의 인장 탄성률로서 측정을 행한다.The tensile elongation of the substrate is measured as the tensile strain of the plastic based on the description in JIS-K-7127. The elastic modulus of the base material is measured as the tensile elastic modulus of the plastic based on the description of JIS-K-7161.

또한, 본 실시형태의 기재(12)로 사용하는 폴리이미드 필름의 수증기 투과도는 500g/㎡·day 이상인 것이 바람직하다. 500g/㎡·day보다 수증기 투과도가 낮은 경우에는, FPC를 피복한 후의 땜납 리플로우와 같은 가열 공정에 있어서, 각 층의 잔류 용제나 접착제로부터의 아웃 가스, 필름 내의 수분이 급격하게 가열됨으로써 발생하는 수증기에 의해 각 층간이 박리될 가능성이 있다. 수증기 투과도에는 특별히 상한을 두지 않지만, 동일한 재료를 사용하는 한 수증기 투과도는 두께에 반비례하므로, 두께를 얇게 하여 수증기 투과도를 올리는 경우에는 상술한 두께 범위에 포함되는 것이 바람직하다.The water vapor permeability of the polyimide film used as the base material 12 of the present embodiment is preferably 500 g / m < 2 > day or more. When the water vapor transmission rate is lower than 500 g / m 2 · day, the outflow gas from the remaining solvent or adhesive in the respective layers and the moisture in the film are rapidly heated in the heating process such as the solder reflow after covering the FPC There is a possibility that each layer is peeled off by steam. There is no particular upper limit on the water vapor permeability, but as long as the same material is used, the water vapor permeability is inversely proportional to the thickness, so that it is preferable that the water vapor permeability is included in the above-mentioned thickness range when the water vapor permeability is increased by reducing the thickness.

(지지체 필름)(Support film)

본 실시형태에 사용되는 지지체 필름(11)의 기재로는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다.Examples of the substrate of the support film 11 used in the present embodiment include a polyester film such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and a polyolefin film such as polypropylene and polyethylene have.

지지체 필름(11)의 기재가 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 기재 자체에 어느 정도의 박리성을 갖고 있는 경우에는, 지지체 필름(11) 위에 박리 처리를 실시하지 않고, 직접 도포된 유전체의 박막 수지 필름으로 이루어지는 기재(12)를 적층해도 되고, 기재(12)를 보다 박리하기 쉽게 하기 위한 박리 처리를 지지체 필름(11)의 표면에 실시해도 된다.In the case where the substrate of the support film 11 has some degree of peeling property, for example, polyethylene terephthalate or the like, the support film 11 is not peeled off, The base material 12 made of a resin film may be laminated or the surface of the support film 11 may be peeled to make the base material 12 more easily peeled off.

또한, 상기 지지체 필름(11)으로 사용되는 기재 필름이 박리성을 갖지 않는 경우에는, 아미노알키드 수지나 실리콘 수지 등의 박리제를 도포한 후, 가열 건조시킴으로써 박리 처리가 실시된다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 FPC에 첩합되므로, 이 박리제에는 실리콘 수지를 사용하지 않는 것이 바람직하다. 왜냐하면 실리콘 수지를 박리제로 사용하면, 지지체 필름(11)의 표면에 접촉한 기재(12)의 표면에 실리콘 수지의 일부가 이행되고, 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 내부를 통해 기재(12)로부터 접착제층(13)의 표면까지 더욱 이행될 우려가 있다. 이 접착제층(13)의 표면으로 이행된 실리콘 수지가 접착제층(13)의 접착력을 약화시킬 우려가 있기 때문이다.When the base film used as the support film 11 does not have peelability, peeling treatment is carried out by applying a releasing agent such as aminoalkyd resin or silicone resin, followed by heating and drying. Since the coverlay films 10, 15, 16, and 20 of this embodiment are bonded to the FPC, it is preferable that silicone resin is not used for the peeling agent. When a silicone resin is used as a releasing agent, a part of the silicone resin is transferred to the surface of the base material 12 that is in contact with the surface of the support film 11 and the inside of the coverlay films 10, 15, 16, There is a risk of further shifting from the base material 12 to the surface of the adhesive layer 13. This is because the silicone resin transferred to the surface of the adhesive layer 13 may weaken the adhesive strength of the adhesive layer 13.

본 실시형태에 사용되는 지지체 필름(11)의 두께는 FPC에 피복하여 사용할 때의 커버레이 필름(15, 16) 전체의 두께에서는 제외되므로 특별히 한정되지 않지만, 통상 12∼150㎛ 정도이다. 지지체 필름(11)을 사용함으로써, 기재(12)나 접착제층(13, 14)을 형성할 때의 가공성, FPC에 대한 첩합시의 작업성을 향상시킬 수 있다.The thickness of the support film 11 used in the present embodiment is not particularly limited as it is excluded from the entire thickness of the coverlay films 15 and 16 when the cover film is used to cover the FPC, but is usually about 12 to 150 mu m. By using the support film 11, it is possible to improve the workability in forming the base material 12 and the adhesive layers 13 and 14, and the workability in the co-extrusion with the FPC.

지지체 필름(11)의 색은 무색(무착색)이어도 되고 유색이어도 된다. 지지체 필름(11)에 착색하는 경우에는, 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)의 색에 대해 콘트라스트가 큰 색인 것이 바람직하다. 예를 들면, 커버레이 필름(15, 16)이 흑색 등의 어두운 색인 경우에, 지지체 필름(11)은 백색, 황색 등의 밝은 색인 것이 바람직하다. 이로 인해, 지지체 필름(11)으로부터 커버레이 필름(15, 16)을 박리하는 등의 취급성이나, 지지체 필름(11)이 박리되어 있는지 여부의 확인성을 향상시킬 수 있다. 지지체 필름(11)의 착색은 공지의 안료, 염료 등을 사용하여 행할 수 있다. 지지체 필름(11)으로서 예를 들면, 두께 30㎛ 이상 60㎛ 이하인 백색의 PET 필름을 들 수 있다.The color of the support film 11 may be colorless (uncolored) or colored. When coloring the support film 11, it is preferable that the color is high in contrast to the colors of the coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19. [ For example, when the coverlay films 15 and 16 are dark color such as black, the support film 11 is preferably a bright color such as white, yellow, and the like. This makes it possible to improve the handling properties such as peeling the coverlay films 15 and 16 from the support film 11 and the confirmation of whether or not the support film 11 is peeled off. The support film 11 may be colored by using a known pigment, dye or the like. As the support film 11, for example, a white PET film having a thickness of 30 占 퐉 or more and 60 占 퐉 or less can be cited.

(열경화성 접착제층)(Thermosetting adhesive layer)

본 실시형태에 따른 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 FPC에 첩합되는 접착제층(13)으로서, 열경화성 접착제층이 바람직하다. 접착제층(13)에 사용되는 열경화성 접착제로는, 아크릴계 접착제, 폴리우레탄계 접착제, 에폭시계 접착제, 고무계 접착제, 실리콘계 접착제 등의 일반적으로 사용되고 있는 열경화형 접착제를 들 수 있다. 또한, 인계, 브롬계 등의 난연제 등을 혼합하여 난연성을 갖게 한 것이 바람직하게 사용되나, 특별히 한정되지 않는다. 폴리우레탄의 원료가 되는 폴리올 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물로서 인 함유의 화합물을 사용하여, 수지의 분자 구조 중에 인을 함유하는 폴리우레탄 수지를 열경화성 접착제로서 사용할 수도 있다. 열경화성 접착제층(13)이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하는 것이 바람직하다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 according to the present embodiment are preferably an adhesive layer 13 to be bonded to an FPC, and a thermosetting adhesive layer is preferable. Examples of the thermosetting adhesive used in the adhesive layer 13 include thermosetting adhesives generally used such as acrylic adhesives, polyurethane adhesives, epoxy adhesives, rubber adhesives, and silicone adhesives. Further, flame retardants such as phosphorus and bromine-based flame retardants and the like are preferably mixed so as to have flame retardancy, but they are not particularly limited. A polyurethane resin containing phosphorus in the molecular structure of the resin may be used as a thermosetting adhesive by using a polyol compound as a raw material for the polyurethane or a phosphorus containing compound as the polyisocyanate compound. It is preferable that the thermosetting adhesive layer 13 contains a phosphorus-containing polyurethane resin composition and an epoxy resin.

열경화성 접착제층(13)의 두께는, 예를 들면 1∼8㎛가 바람직하다. 열경화성 접착제층(13)은, 예를 들면 도포에 의해 형성할 수 있다. 열경화성 접착제층(13)이 난연제를 함유하는 경우, 기재(12)에 난연제를 첨가하지 않아도 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)에 난연성을 부여할 수 있다.The thickness of the thermosetting adhesive layer 13 is preferably 1 to 8 mu m, for example. The thermosetting adhesive layer 13 can be formed, for example, by coating. When the thermosetting adhesive layer 13 contains a flame retardant, flame retardancy can be imparted to the coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19, have.

열경화성 접착제의 접착력은 특별히 제한을 받지 않지만, 그 측정 방법은 JIS-C-6471 「플렉시블 프린트 배선판용 동장 적층판 시험 방법」의 8. 1. 1의 방법 A(90°방향 박리)로, 5∼30N/인치의 범위가 바람직하다. 접착력이 5N/인치 미만이면, 예를 들면, FPC에 첩합한 커버레이 필름(15, 16)이 열이나 굴곡으로 박리되거나 들뜨는 경우가 있다.Although the adhesive force of the thermosetting adhesive is not particularly limited, the measuring method is a method A (in 90 ° direction peeling) of 8.1.1 of JIS-C-6471 " Test method for copper clad laminate for flexible printed circuit boards " / Inch < / RTI > is preferred. If the adhesive force is less than 5 N / inch, for example, the coverlay films 15 and 16 bonded to the FPC may peel or float due to heat or bending.

열경화성 접착제는 상온에서 감압 접착성을 나타내는 점착제가 아니라 가열 가압에 의한 접착제이면, 반복적인 굴곡에 대해 접착력이 저하되기 어려워져 바람직하다. FPC에 대한 가열 가압 접착의 조건은 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면 온도를 160℃, 가압력을 4.5MPa로 하여 60분간 열프레스하는 것이 바람직하다. 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)을 FPC에 대해 가열 가압할 때, 지지체 필름(11)이 커버레이 필름(15, 16)에서 제거되어 있어도 되고, 지지체 필름(11)을 포함하여 가열 가압하는 것도 가능하다.It is preferable that the thermosetting adhesive is not a pressure-sensitive adhesive exhibiting a pressure-sensitive adhesive property at room temperature, but an adhesive by heating and pressing, since the adhesive force hardly deteriorates against repeated bending. The conditions of the heat press bonding to the FPC are not particularly limited, but it is preferable that the heat press is performed for 60 minutes at a temperature of 160 캜 and a pressing force of 4.5 MPa, for example. The support film 11 may be removed from the coverlay films 15 and 16 when the coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19 are heated and pressed against the FPC, It is also possible to heat-press the substrate 11 including the support film 11.

(접착제층)(Adhesive layer)

제2 실시형태의 커버레이 필름(16, 20)에 사용되는 접착제층(14)은 기재(12)인 폴리이미드 필름 등의 박막과 열경화성 접착제층인 접착제층(13)의 밀착력 향상을 도모하기 위해, 앵커층으로서 형성하는 것이다. 제1 실시형태에 나타내는 바와 같이, 접착제층(14)은 생략 가능하다.The adhesive layer 14 used for the coverlay films 16 and 20 of the second embodiment is formed in order to improve the adhesion between the thin film such as the polyimide film as the substrate 12 and the adhesive layer 13 as the thermosetting adhesive layer , And an anchor layer. As shown in the first embodiment, the adhesive layer 14 can be omitted.

접착제층(14)은 그 위에 적층되는 열경화성 접착제층(13)의 가열 가압에 의한 접착 온도가 150∼250℃이기 때문에, 내열성이 우수한 접착제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 기재(12)가 되는 폴리이미드 필름 등의 절연 수지와 열경화성 접착제층(13)에 대한 접착력이 우수한 것이 바람직하다.It is preferable to use an adhesive excellent in heat resistance because the adhesive layer 14 has a bonding temperature of 150 to 250 캜 by heating and pressing the thermosetting adhesive layer 13 laminated thereon. Further, it is preferable that the adhesive resin has excellent adhesion to an insulating resin such as a polyimide film serving as the substrate 12 and the thermosetting adhesive layer 13.

접착제층(14)에 사용되는 접착성 수지 조성물로는, 바람직하게는 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, (메타)아크릴 수지, 폴리에틸렌 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리아미드 수지 등의 열가소성 수지가 사용된다. 또한, 에폭시 수지, 아미노 수지, 폴리이미드 수지, (메타)아크릴 수지 등의 열경화형이어도 된다.As the adhesive resin composition used for the adhesive layer 14, a thermoplastic resin such as a polyester resin, a polyurethane resin, a (meth) acrylic resin, a polyethylene resin, a polystyrene resin, and a polyamide resin is preferably used. Further, it may be thermosetting type such as epoxy resin, amino resin, polyimide resin and (meth) acrylic resin.

접착제층(14)의 접착성 수지 조성물로서 특히 바람직한 것은, 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물을 가교시키는 접착성 수지 조성물이나, 폴리우레탄계 수지에 경화제로서 에폭시 수지를 혼합한 접착성 수지 조성물이다. 이 때문에, 접착제층(14)은 폴리이미드 필름 등의 박막으로 이루어지는 기재(12)보다 단단한 물성을 갖고 있다. 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 1분자에 2개 이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 수지(그 미경화 수지)와, 1분자에 2개 이상의 카르복실기를 갖는 다가 카르복실산과의 반응 등에 의해 얻을 수 있다. 에폭시기를 갖는 폴리에스테르계 수지 조성물의 가교는 에폭시기와 반응하는 에폭시 수지용 가교제를 사용할 수 있다.Particularly preferable as the adhesive resin composition of the adhesive layer 14 is an adhesive resin composition for crosslinking a polyester resin composition having an epoxy group or an adhesive resin composition obtained by mixing an epoxy resin as a curing agent with a polyurethane resin. Therefore, the adhesive layer 14 has a harder property than the substrate 12 made of a thin film such as a polyimide film. The polyester-based resin composition having an epoxy group is not particularly limited, and for example, an epoxy resin (its uncured resin) having two or more epoxy groups per molecule and a polyvalent carboxylic acid having two or more carboxyl groups per molecule Reaction or the like. The crosslinking of the polyester resin composition having an epoxy group can be carried out by using a crosslinking agent for an epoxy resin reactive with an epoxy group.

접착제층(14)의 두께는 0.05∼1㎛ 정도인 것이 바람직하고, 이 정도의 막 두께이면 열경화성 접착제층(13)과의 충분한 밀착력이 얻어진다. 접착제층(14)의 두께가 0.05㎛ 이하인 경우에는, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 밀착력이 저하될 우려가 있다. 또한, 접착제층(14)의 두께가 1㎛를 초과해도, 폴리이미드 필름 등으로 이루어지는 기재(12)나 열경화성 접착제층(13)에 대한 접착력의 증가에는 효과가 없기 때문에, 접착제층(14)의 두께가 1㎛를 초과하는 것은 비용이 증대하므로 바람직하지 않다. 접착제층(14)은 예를 들면 도포에 의해 형성할 수 있다.The thickness of the adhesive layer 14 is preferably about 0.05 to 1 占 퐉. If the thickness of the adhesive layer 14 is about 0.05 to 1 占 퐉, sufficient adhesion with the thermosetting adhesive layer 13 can be obtained. When the thickness of the adhesive layer 14 is 0.05 탆 or less, adhesion between the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13 may be deteriorated. Even if the thickness of the adhesive layer 14 exceeds 1 占 퐉, it is not effective to increase the adhesive force to the base material 12 made of a polyimide film or the like and the thermosetting adhesive layer 13, The thickness exceeding 1 탆 is not preferable because the cost is increased. The adhesive layer 14 can be formed, for example, by coating.

(광흡수제)(Light absorber)

FPC에 첩합한 상태로 커버레이 필름(15, 16)에 차광성을 부여하고, 또는 의장성을 향상시키기 위해, 지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)을 구성하는 어느 층에 광흡수제를 포함하고 있어도 된다. 이 목적으로 광흡수제를 포함할 수 있는 층은 기재(12), 열경화성 접착제층(13), 또는 기재(12)와 열경화성 접착제층(13) 사이에 형성할 수 있는 임의의 층이며, 예를 들면, 기재(12), 열경화성 접착제층(13), 접착제층(14)의 적어도 어느 1층 또는 2층 이상을 들 수 있다. 광흡수제로는, 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료 또는 착색 안료를 들 수 있다. 광흡수제의 종류나 배합량 등은 광흡수제를 포함하는 층이 전기 절연성을 유지할 수 있도록 선택되는 것이 바람직하다.The coverlay films 15 and 16 except for the support film 11 and the release film 19 are provided in order to impart shielding property to the coverlay films 15 and 16 in a state of being stuck to the FPC or to improve designability. The light absorbing agent may be contained in any layer constituting the light absorbing layer. The layer that can contain the light absorbent for this purpose is any layer that can be formed between the substrate 12, the thermosetting adhesive layer 13, or the substrate 12 and the thermosetting adhesive layer 13, , The substrate 12, the thermosetting adhesive layer 13, and the adhesive layer 14 can be mentioned. Examples of the light absorbing agent include at least one black pigment or color pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide and manganese oxide. It is preferable that the kind and the compounding amount of the light absorbent are selected so that the layer containing the light absorbing agent can maintain electrical insulation.

도 1에 나타낸 제1 실시형태에 있어서는, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 어느 한 쪽 또는 양쪽 모두에 광흡수제를 배합할 수 있다. 기재(12)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 열경화성 접착제층(13)에만 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)에 광흡수제를 배합해도 된다.In the first embodiment shown in Fig. 1, a light absorber can be added to either or both of the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13. Fig. A light absorbent may be added only to the base material 12 or a light absorbent may be added only to the thermosetting adhesive layer 13 and a light absorbent may be added to the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13.

도 2에 나타낸 제2 실시형태에 있어서는, 기재(12), 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 어느 1층 또는 2층 이상에 광흡수제를 배합할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 접착제층(13)과 접착제층(14)에 광흡수제를 배합해도 되고, 기재(12)와 접착제층(14)에 광흡수제를 배합해도 되며, 접착제층(14)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 기재(12)와 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 전체 층에 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)에만 광흡수제를 배합해도 되고, 열경화성 접착제층(13)에만 광흡수제를 배합해도 되며, 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)에 광흡수제를 배합해도 된다.In the second embodiment shown in Fig. 2, a light absorbent may be added to at least one layer of the base material 12, the adhesive layer 14, and the thermosetting adhesive layer 13. For example, a light absorbent may be added to the thermosetting adhesive layer 13 and the adhesive layer 14, or a light absorbent may be added to the substrate 12 and the adhesive layer 14, A light absorber may be added to all the layers of the base material 12, the adhesive layer 14 and the thermosetting adhesive layer 13 or a light absorbent may be added only to the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13 ) May be added to the substrate 12 and the light absorbing agent may be added to the thermosetting adhesive layer 13.

지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16)의 광투과율은 5% 이하가 바람직하다. 광투과율로는, 가시광선 투과율, 전광선 투과율 등을 들 수 있다. 기재(12)가 용제 가용성 폴리이미드로 구성되는 경우에는, 광흡수제를 함유하는 기재(12)를 형성할 수 있다.The light transmittance of the coverlay films 15 and 16 excluding the support film 11 and the release film 19 is preferably 5% or less. The light transmittance includes visible light transmittance, total light transmittance, and the like. In the case where the substrate 12 is composed of a solvent-soluble polyimide, the substrate 12 containing a light absorbing agent can be formed.

광투과율을 효과적으로 저하시키고 차광성을 향상시키기 위해서는, 광흡수제 중에서도 카본 블랙 등의 흑색 안료가 바람직하다. 흑색 안료 또는 착색 안료로 이루어지는 광흡수제는 어느 층 내에 0.1∼30중량%로 함유시키는 것이 바람직하다. 흑색 안료 또는 착색 안료는 SEM 관찰에 의한 1차 입자의 평균 입경이 0.02∼0.1㎛ 정도인 것이 바람직하다. 광흡수제를 함유하는 층의 두께는 광흡수제의 미립자가 표출되지 않도록, 광흡수제의 입경보다 큰 것이 바람직하다.Among the light absorbers, black pigments such as carbon black are preferable for effectively lowering the light transmittance and improving the light shielding property. It is preferable that the light absorbent composed of a black pigment or a colored pigment is contained in a certain layer in an amount of 0.1 to 30% by weight. The black pigment or the colored pigment preferably has an average primary particle size of about 0.02 to 0.1 mu m by SEM observation. The thickness of the layer containing the light absorber is preferably larger than the particle diameter of the light absorber so that the fine particles of the light absorber are not exposed.

또한, 흑색 안료로는, 실리카 입자 등을 흑색 색재에 침지시켜 표층부만을 흑색으로 해도 되고, 흑색의 착색 수지 등으로 형성하여 전체적으로 흑색으로 이루어지도록 해도 된다. 또한, 흑색 안료는 진흑색 이외에 회색, 흑갈색, 또는 흑녹색 등 흑색에 가까운 색을 띠는 입자를 포함하고, 광을 반사하기 어려운 어두운 색이면 사용할 수 있다.As the black pigment, silica particles or the like may be immersed in a black colorant so that only the surface layer is black, or may be formed of a black colored resin or the like to be black as a whole. The black pigment may be particles other than true black and includes particles having a color close to black such as gray, black brown, or black green, and may be used as long as it is a dark color that hardly reflects light.

(박리 필름)(Peeling film)

상술한 바와 같이, 커버레이 필름(10, 20)은 열경화성 접착제층(13)을 보호하기 위해, 박리 필름(19)을 가질 수 있다. 박리 필름(19)의 기재로는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다. 이들 기재 필름에 아미노알키드 수지나 실리콘 수지 등의 박리제를 도포한 후 가열 건조시킴으로써, 박리 처리가 실시된다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 박리 필름(19)을 제거한 상태로 FPC에 첩합되므로, 이 박리제에는 실리콘 수지를 사용하지 않는 것이 바람직하다. 왜냐하면 실리콘 수지를 박리제로서 사용하면, 박리 필름(19)의 표면에 접촉한 열경화성 접착제층(13)의 표면에 실리콘 수지의 일부가 이행되어, 열경화성 접착제층(13)의 접착력을 약화시킬 우려가 있기 때문이다. 본 실시형태에 사용되는 박리 필름(19)의 두께는 FPC에 피복하여 사용할 때의 커버레이 필름(15, 16)의 전체 두께에서는 제외되므로 특별히 한정되지 않지만, 통상 12∼150㎛ 정도이다.As described above, the coverlay films 10 and 20 may have a release film 19 to protect the thermosetting adhesive layer 13. Examples of the base material of the release film 19 include polyester films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, and polyolefin films such as polypropylene and polyethylene. A release agent such as an amino alkyd resin or a silicone resin is applied to these substrate films, followed by heating and drying. Since the coverlay films 10, 15, 16, and 20 of the present embodiment are bonded to the FPC in a state in which the peeling film 19 is removed, it is preferable that silicone resin is not used for the peeling agent. If a silicone resin is used as a releasing agent, a part of the silicone resin may be transferred to the surface of the thermosetting adhesive layer 13 that is in contact with the surface of the peeling film 19, which may weaken the adhesive force of the thermosetting adhesive layer 13 Because. The thickness of the release film 19 used in the present embodiment is not particularly limited as it is excluded from the total thickness of the coverlay films 15 and 16 used when the film is covered with the FPC, but is usually about 12 to 150 mu m.

(커버레이 필름)(Coverlay film)

본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)은 반복적인 굴곡 동작을 받는 FPC에 첩합하여 사용하는 것이 가능한, 굴곡 특성이 우수한 커버레이 필름으로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 본 실시형태의 커버레이 필름은 FPC 보호용의 부재로서 휴대 전화, 노트북 컴퓨터, 휴대 단말 등의 각종 전자 기기에 사용할 수 있다. 본 실시형태의 커버레이 필름(10, 15, 16, 20)의 제조 방법으로는 지지체 필름(11) 위에, 기재(12)와 접착제층(13, 14)을 지지체 필름(11)에 가까운 측으로부터 순차적으로 재료를 도포함으로써 적층하는 방법을 들 수 있다.The coverlay films 10, 15, 16, and 20 of the present embodiment can be preferably used as a coverlay film having excellent bending properties, which can be used by being attached to an FPC subjected to repetitive bending operations. Further, the coverlay film of the present embodiment can be used for various electronic devices such as cellular phones, notebook computers, portable terminals, and the like as members for FPC protection. The cover layer films 10, 15, 16 and 20 of the present embodiment are manufactured by forming the base material 12 and the adhesive layers 13 and 14 on the support film 11 from the side close to the support film 11 And a method of sequentially laminating the material by applying the material.

지지체 필름(11) 및 박리 필름(19)을 제외한 커버레이 필름(15, 16) 전체의 두께는 15㎛ 이하가 바람직하고, 예를 들면 5∼15㎛, 12㎛ 이하를 들 수 있다. 커버레이 필름(15, 16)의 두께는 제1 실시형태의 경우에는 기재(12)와 열경화성 접착제층(13)의 두께의 합계이며, 제2 실시형태의 경우에는 기재(12), 접착제층(14), 열경화성 접착제층(13)의 두께의 합계이다.The thickness of the entire coverlay films 15 and 16 excluding the support film 11 and the release film 19 is preferably 15 占 퐉 or less and may be, for example, 5 to 15 占 퐉 or 12 占 퐉 or less. The thicknesses of the coverlay films 15 and 16 are the sum of the thicknesses of the base material 12 and the thermosetting adhesive layer 13 in the case of the first embodiment and in the case of the second embodiment, 14) and the thickness of the thermosetting adhesive layer (13).

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail by way of examples.

(실시예 1)(Example 1)

한쪽 면에 박리 처리를 실시한, 두께 50㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름을 지지체 필름(11)으로 사용하였다. 이 지지체 필름(11)의 한쪽 면 위에 건조 후의 인장 신도가 170%인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 건조 후의 두께가 4㎛가 되도록 유연 도포, 건조시켜, 유전체의 박막 수지 필름으로 이루어지는 기재(12)를 적층하였다. 형성된 기재(12) 위에 광흡수제의 흑색 안료로서 비도전성 카본 블랙과 내열 온도가 260∼280℃인 폴리에스테르계 수지 조성물을 혼합한 접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액을 사용하여, 건조 후의 두께가 1㎛가 되도록 도포해 접착제층(14)을 적층하였다. 접착제층(14) 위에 인 함유 폴리우레탄 수지 용액 100부(도요보 제조: UR3575)에 다관능 에폭시 수지(도요보 제조: HY-30) 2.4부, 흄드 실리카 4.7부(니혼 에어로실 제조: R972)를 순차적으로 첨가해 교반하여 이루어진 열경화성 접착제를 건조 후의 두께가 6㎛가 되도록 도포, 건조시켜 열경화성 접착제층(13)을 형성하고, 실시예 1의 커버레이 필름을 얻었다.A polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 50 탆 and subjected to a peeling treatment on one side thereof was used as the support film 11. On one surface of this support film 11, a coating solution of a solvent-soluble polyimide having a tensile elongation after drying of 170% was applied by pouring so as to have a thickness of 4 탆 after drying and dried to form a base material 12 ). Using a coating liquid for forming an adhesive layer 14 obtained by mixing a non-conductive carbon black as a black pigment of a light absorbent with a polyester resin composition having a heat-resistant temperature of 260 to 280 占 폚 on a formed substrate 12, So that the thickness of the adhesive layer 14 was 1 占 퐉. On the adhesive layer 14, 2.4 parts of a polyfunctional epoxy resin (Toyobo: HY-30) and 4.7 parts of fumed silica (manufactured by Nihon Aerosil Co., Ltd., R972) were added to 100 parts of a phosphorus-containing polyurethane resin solution (Toyobo Co., Were sequentially added and stirred to form a thermosetting adhesive agent having a thickness of 6 mu m after drying and dried to form a thermosetting adhesive layer 13 to obtain a coverlay film of Example 1. [

(실시예 2)(Example 2)

열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 2의 커버레이 필름을 얻었다.A coverlay film of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the non-conductive carbon black was mixed with the thermosetting adhesive to form the thermosetting adhesive layer 13.

(실시예 3)(Example 3)

접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액에 비도전성 카본 블랙을 첨가하지 않고 접착제층(14)을 형성하고, 용제 가용성 폴리이미드의 도포액에 비도전성 카본 블랙을 첨가해 기재(12)를 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 3의 커버레이 필름을 얻었다.The adhesive layer 14 is formed without adding the non-conductive carbon black to the coating solution for forming the adhesive layer 14, and the non-conductive carbon black is added to the coating solution of the solvent-soluble polyimide to form the substrate 12 A coverlay film of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1. [

(실시예 4)(Example 4)

건조 후의 인장 신도가 120%인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액에 비도전성 카본 블랙을 첨가해 기재(12)를 형성하고, 접착제층(14)을 생략하여, 기재(12) 위에 직접 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 4의 커버레이 필름을 얻었다.Non-conductive carbon black is added to the solvent-soluble polyimide coating solution having a tensile elongation after drying of 120% to form the base material 12 and the adhesive layer 14 is omitted to form a thermosetting adhesive layer ( 13) was formed in the same manner as in Example 1, to thereby obtain a coverlay film of Example 4.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 기재(12)로서 두께 10㎛인 열경화형 폴리이미드(Tg 없음)로 이루어지는 폴리이미드 필름을 사용하며, 열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 1의 커버레이 필름을 얻었다.A polyimide film made of thermosetting polyimide (without Tg) having a thickness of 10 占 퐉 was used as the substrate 12 without using the support film 11 and a non-conductive carbon black was mixed with the thermosetting adhesive to form a thermosetting adhesive layer 13) was formed in the same manner as in Example 1, a coverlay film of Comparative Example 1 was obtained.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

지지체 필름(11)을 사용하지 않고, 기재(12)로서 두께 12.5㎛인 열경화형 폴리이미드(Tg 없음)로 이루어지는 폴리이미드 필름을 사용하며, 열경화성 접착제에 비도전성 카본 블랙을 혼합하여 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 비교예 2의 커버레이 필름을 얻었다.A polyimide film made of a thermosetting polyimide (Tg-free) having a thickness of 12.5 占 퐉 was used as the substrate 12 without using the support film 11 and a non-conductive carbon black was mixed with the thermosetting adhesive to form a thermosetting adhesive layer 13) was formed in the same manner as in Example 1, and a coverlay film of Comparative Example 2 was obtained.

(실시예 5)(Example 5)

탄성률이 3.2GPa인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용해 기재(12)를 형성하고, 인을 함유하지 않는 폴리우레탄 수지를 사용해 열경화성 접착제층(13)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 5의 커버레이 필름을 얻었다.Except that a base material 12 was formed using a coating solution of a solvent-soluble polyimide having an elastic modulus of 3.2 GPa and a thermosetting adhesive layer 13 was formed using a polyurethane resin not containing phosphorus, A coverlay film of Example 5 was obtained.

(실시예 6)(Example 6)

건조 후의 인장 신도가 120%, 탄성률이 9.1GPa인 용제 가용성 폴리이미드의 도포액을 사용해 기재(12)를 형성하고, 접착제층(14)을 형성하기 위한 도공액에 비도전성 카본 블랙을 첨가하지 않고 접착제층(14)을 형성한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여, 실시예 6의 커버레이 필름을 얻었다.Soluble polyimide coating solution having a tensile elongation after drying of 120% and a modulus of elasticity of 9.1 GPa was used to form the base material 12, and the non-conductive carbon black was not added to the coating solution for forming the adhesive layer 14 A coverlay film of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive layer 14 was formed.

(추종성의 평가 방법)(Evaluation method of followability)

두께 12.5㎛인 폴리이미드 필름 위에 두께 75㎛, L/S=75㎛/75㎛의 구리 배선 패턴을 형성한 테스트 패턴에 커버레이 필름의 열경화 접착제면을 중첩하고, 온도 140℃, 속도 1m/min으로 열라미네이트에 의해 라미네이트하였다. 지지체 필름(11)을 박리한 후, 160℃, 4.5MPa, 65분의 조건에서 열프레스하여, 추종성의 평가 샘플을 얻었다. 얻어진 샘플의 단면을 관찰해, 배선 패턴에 추종하고 있는 경우에는 「○」, 추종하지 않으며 배선 패턴에서 들뜨는 경우를 「×」로 하였다.The thermally cured adhesive surface of the coverlay film was superimposed on a test pattern in which a copper wiring pattern having a thickness of 75 mu m and L / S = 75 mu m / 75 mu m was formed on a polyimide film having a thickness of 12.5 mu m, min < / RTI > by thermal lamination. After the support film 11 was peeled off, it was hot-pressed under the conditions of 160 DEG C and 4.5 MPa for 65 minutes to obtain an evaluation sample of followability. The cross section of the obtained sample was observed. When it was followed in the wiring pattern, it was evaluated as "? &Quot;.

(은폐성의 평가 방법)(Evaluation method of concealment property)

얻어진 커버레이 필름을 상술한 구리 배선 패턴을 형성한 테스트 패턴(추종성 평가 방법을 참조)에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 은폐성 평가 샘플을 얻었다. 얻어진 샘플의 폴리이미드부와 구리 배선부(특히 단부)에 대해, 은폐성의 차이가 관찰되지 않는 경우는 「○」, 구리 배선 단부의 일부가 비쳐 보이고, 차이가 관찰되는 부분이 발생되어 있는 경우는 「△」, 구리 배선 단부의 대부분이 비쳐 보이고, 차이가 관찰되는 경우는 「×」로 하였다. 또한, 어느 층에도 광흡수제를 포함하지 않는 실시예 6에 대해서는 평가하지 않았다.The obtained coverlay film was hot-pressed by the above-described method (refer to the followability evaluation method) in the test pattern (refer to the followability evaluation method) in which the above-described copper wiring pattern was formed to obtain a concealability evaluation sample. When no difference in concealability is observed between the polyimide portion and the copper wiring portion (particularly, the end portion) of the obtained sample, the portion where the copper wiring end portion is visible and the portion where the difference is observed is generated &Quot; DELTA ", and the majority of the copper wiring end portion was visible, and when the difference was observed, the result was " x ". In addition, evaluation was not conducted for Example 6 in which no light absorber was contained in any layer.

(난연성의 평가 방법)(Evaluation method of flame retardancy)

얻어진 커버레이 필름을 두께 12.5㎛인 폴리이미드 필름에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 난연성의 평가용 샘플을 얻었다. UL-94의 박형 재료 수직 연소 시험(ASTM D4804) 방법에 따라 난연성을 평가하고, VTM-0에 상당하는 난연성을 갖는 경우에는 「○」, 난연성을 갖지 않는 경우(VTM-2 부적합)를 「×」로 하였다.The obtained coverlay film was hot-pressed on a polyimide film having a thickness of 12.5 占 퐉 by the above-described method (see evaluation method of followability) to obtain a sample for evaluation of flame retardancy. The flame retardancy was evaluated according to the UL-94 thin-film material vertical combustion test (ASTM D4804) method, and when the flame retardancy corresponding to VTM-0 was evaluated as "O", when the flame retardancy was not evaluated as VTM-2 "

(취급성의 평가 방법)(Evaluation method of handling property)

얻어진 커버레이 필름을 사방 50㎝로 샘플링하고, 플렉시블 프린트 배선판에 중첩시켰을 때, 신속하게 위치 맞춤이 가능하여 취급이 양호한 경우를 「○」로 하고, 구겨지거나 주름이 져서 위치 맞춤에 시간이 걸려, 취급성이 떨어지는 경우를 「×」로 하였다.When the obtained coverlay film was sampled at 50 cm in four directions and superimposed on the flexible printed wiring board, it was possible to quickly align the film, and the case where the handling was good was rated as " &Quot; x " was determined when the handling property was poor.

(내열성의 평가 방법)(Evaluation method of heat resistance)

얻어진 커버레이 필름을 두께 25㎛의 폴리이미드 필름에 상술한 방법(추종성의 평가 방법을 참조)으로 열프레스하여, 내열성의 평가용 샘플을 얻었다. 2.5㎝×3㎝의 치수로 시험편을 잘라내고, 290℃의 땜납욕에 10초간 침지한 후 끌어 올렸다. 땜납욕 침지 후의 커버레이 필름의 외관에 육안으로 들뜸이나 변형, 주름 등의 이상이 없는지를 관찰하여, 이상이 없고 양호한 경우를 「○」로 하고, 이상이 관찰된 경우를 「×」로 하였다.The obtained coverlay film was hot-pressed on a polyimide film having a thickness of 25 占 퐉 by the above-described method (see evaluation method of followability) to obtain a sample for evaluation of heat resistance. The specimens were cut at a size of 2.5 cm x 3 cm, immersed in a soldering bath at 290 ° C for 10 seconds, and then pulled up. The appearance of the coverlay film after immersion in the solder bath was visually observed for any abnormality such as lifting, deformation or wrinkling. The case where the abnormality was not observed and the case where the abnormality was observed were evaluated as "? &Quot;

(시험 결과)(Test result)

실시예 1∼6 및 비교예 1∼2에 대하여, 상기의 평가 방법으로 커버레이 필름의 평가를 행하고, 얻어진 평가 결과를 표 1∼2에 나타내었다. 열접착성 접착제층의 재료의 란에서, 「PU1」은 실시예 1에서 사용한 난연성 폴리우레탄을 포함하는 열접착성 접착제를 의미하고, 「PU2」는 실시예 5에서 사용한 폴리우레탄을 포함하는 열접착성 접착제를 의미한다. 두께의 란에 「없음」으로 기입되어 있는 것은 그 층을 갖지 않는 것을 의미한다.The coverlay film was evaluated by the above evaluation methods for Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, and the evaluation results obtained are shown in Tables 1 and 2. [ In the column of the material of the thermally adhesive adhesive layer, " PU1 " means a thermally adhesive adhesive containing flame retardant polyurethane used in Example 1, " PU2 " means a thermally adhesive adhesive containing polyurethane used in Example 5 Means a glue adhesive. What is written as " absent " in the column of thickness means that it has no layer.

Figure 112018072356310-pat00001
Figure 112018072356310-pat00001

Figure 112018072356310-pat00002
Figure 112018072356310-pat00002

표 1, 표 2에 나타낸 평가 결과에 의하면, 기재(12)의 인장 신도가 100% 이상인 경우, 추종성과 내열성이 양호해지는 것을 알 수 있다. 즉, 기재(12)의 인장 신도가 낮은 경우, 단차에 대한 추종성이 악화되어, 내열성의 평가시에 이상이 발생하였다.According to the evaluation results shown in Tables 1 and 2, when the tensile elongation of the base material 12 is 100% or more, the followability and the heat resistance become good. That is, in the case where the tensile elongation of the base material 12 is low, the followability to the step is deteriorated and an abnormality occurs in the evaluation of the heat resistance.

또한, 실시예 1∼4, 6에 의하면, 열경화성 접착제층(13)에 난연제를 배합함으로써, 기재(12)에 난연제를 배합하지 않아도 양호한 난연성을 확보할 수 있었다.According to Examples 1 to 4 and 6, the flame retardant can be secured even when the flame retardant is not blended in the base material 12 by adding the flame retardant to the thermosetting adhesive layer 13.

또한, 실시예 1∼6에 의하면, 지지체 필름에 의해 두께가 증가하여, 플렉시블 배선판에 첩합할 때의 취급성이 향상되었고, 열프레스 전 또는 후에 지지체 필름(11)을 제거할 수 있기 때문에 작업 효율의 향상과 박형화를 양립 가능하게 되었다.Further, according to Examples 1 to 6, the thickness of the support film was increased by the support film, and the handling property at the time of bonding to the flexible wiring board was improved. Since the support film 11 can be removed before or after hot pressing, And it is now possible to achieve both of the improvement and the thinning.

또한, 실시예 1∼5에 의하면, 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 층에 광흡수제를 포함함으로써, 효과적으로 차광성, 의장성을 향상시킬 수 있었다.Furthermore, according to Examples 1 to 5, the light shielding property and the designability can be effectively improved by including a light absorbent in at least one of the base material, the thin film adhesive layer, and the thermosetting adhesive layer.

본 발명의 커버레이 필름은 휴대 전화, 노트북 컴퓨터, 휴대 단말 등의 각종 전자 기기에 FPC의 보호용 부재로서 사용할 수 있다.The coverlay film of the present invention can be used as a protective member of an FPC in various electronic apparatuses such as a cellular phone, a notebook computer, and a portable terminal.

10, 15, 16, 20…커버레이 필름, 11…지지체 필름, 12…기재, 13, 14…접착제층, 19…박리 필름.10, 15, 16, 20 ... Coverlay film, 11 ... Support film, 12 ... 13, 14 ... Adhesive layer, 19 ... Peeling film.

Claims (9)

지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고,
상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상 250% 이하이며, 상기 기재의 두께가 1∼9㎛이고, 상기 기재의 탄성률이 1.0GPa 이상 2.5GPa 이하이며,
상기 기재는 탄소수 1∼10의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 함유하는 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름이고,
상기 열경화성 접착제층의 두께가 1㎛ 초과 8㎛ 이하이고,
상기 열경화성 접착제층이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
A substrate comprising a thin film resin layer of a coated dielectric and a thermosetting adhesive layer laminated on one surface of a support film in this order,
Wherein the substrate has a tensile elongation of 100% or more and 250% or less according to the method of JIS-K-7127, the thickness of the substrate is 1 to 9 占 퐉, the modulus of elasticity of the substrate is 1.0 GPa or more and 2.5 GPa or less,
The substrate is a polyimide film formed by using a polyimide having a polyalkyleneoxy group having an alkylene group of 1 to 10 carbon atoms and having at least three aliphatic units between the aromatic units,
Wherein the thickness of the thermosetting adhesive layer is more than 1 탆 and not more than 8 탆,
Wherein the thermosetting adhesive layer comprises a phosphorus-containing polyurethane resin composition and an epoxy resin.
지지체 필름의 한쪽 면 위에, 도포된 유전체의 박막 수지층으로 이루어지는 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층이 순서대로 적층되어 이루어지고,
상기 기재의 JIS-K-7127의 방법에 의한 인장 신도가 100% 이상 250% 이하이며, 상기 기재의 두께가 1∼9㎛이고, 상기 기재의 탄성률이 1.0GPa 이상 2.5GPa 이하이며,
상기 기재는 탄소수 1∼10의 알킬렌기를 갖는 폴리알킬렌옥시기를 함유하는 탄소수 3개 이상의 지방족 유닛을 방향족 유닛 사이에 갖는 폴리이미드를 사용하여 형성된 폴리이미드 필름이고,
상기 박막의 접착제층의 두께가 0.05∼1㎛이며, 상기 열경화성 접착제층의 두께가 1㎛ 초과 8㎛ 이하이고,
상기 열경화성 접착제층이 인 함유 폴리우레탄 수지 조성물과 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
A substrate made of a thin film resin layer of a coated dielectric, an adhesive layer of a thin film, and a thermosetting adhesive layer are laminated on one surface of a support film in this order,
Wherein the substrate has a tensile elongation of 100% or more and 250% or less according to the method of JIS-K-7127, the thickness of the substrate is 1 to 9 占 퐉, the modulus of elasticity of the substrate is 1.0 GPa or more and 2.5 GPa or less,
The substrate is a polyimide film formed by using a polyimide having a polyalkyleneoxy group having an alkylene group of 1 to 10 carbon atoms and having at least three aliphatic units between the aromatic units,
Wherein the thickness of the adhesive layer of the thin film is 0.05 to 1 占 퐉, the thickness of the thermosetting adhesive layer is more than 1 占 퐉 and not more than 8 占 퐉,
Wherein the thermosetting adhesive layer comprises a phosphorus-containing polyurethane resin composition and an epoxy resin.
제 2 항에 있어서,
상기 기재, 박막의 접착제층, 열경화성 접착제층의 적어도 어느 쪽에 광흡수제를 함유하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein a light absorbent is contained in at least one of the substrate, the thin film adhesive layer and the thermosetting adhesive layer.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 기재가 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the substrate is at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, And a cover layer film formed on the cover layer film.
제 2 항에 있어서,
상기 박막의 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
3. The method of claim 2,
Wherein the adhesive layer of the thin film is at least one kind of black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, Wherein the light absorbing agent comprises a light absorbing agent.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 열경화성 접착제층이 난연성 인 함유 폴리우레탄 수지와 에폭시 수지를 함유하여 이루어지는 난연성 열경화성 접착제인 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the thermosetting adhesive layer is a flame-retardant thermosetting adhesive comprising a polyurethane resin containing a flame retardant and an epoxy resin.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 열경화성 접착제층이 비도전성 카본 블랙, 흑연, 아닐린 블랙, 시아닌 블랙, 티탄 블랙, 흑색 산화철, 산화크롬, 산화망간으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 흑색 안료, 또는 유색 안료의 1종 이상으로 이루어지는 광흡수제를 포함하는 것을 특징으로 하는 커버레이 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the thermosetting adhesive layer is made of one or more of at least one black pigment selected from the group consisting of non-conductive carbon black, graphite, aniline black, cyanine black, titanium black, black iron oxide, chromium oxide, manganese oxide, A coverlay film comprising a light absorbent.
제 1 항 또는 제 2 항의 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 휴대 전화.A cellular phone in which the coverlay film of claim 1 or 2 is used as an FPC protective member. 제 1 항 또는 제 2 항의 커버레이 필름이 FPC 보호 부재로서 사용되어 이루어지는 전자 기기.An electronic device wherein the coverlay film of claim 1 or 2 is used as an FPC protective member.
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