KR102056148B1

KR102056148B1 - Apparatus for double backflow filtration

Info

Publication number: KR102056148B1
Application number: KR1020190038901A
Authority: KR
Inventors: 김양규; 최재락
Original assignee: 티씨비(주)
Priority date: 2019-04-03
Filing date: 2019-04-03
Publication date: 2019-12-17

Abstract

The present invention relates to a dual reverse washing filtration device which removes foreign matters attached to the inside of a filter in a reverse washing manner during a fluid filtration process. The dual reverse washing filtration device according to the embodiment of the present invention comprises: a plate-like pressurizing disk including a reverse washing hole having a pressurizing part spaced apart from the outer circumferential surface of the filter while the filter for filtering foreign matters contained in a fluid as the fluid flows, and a pressure adjusting hole through which the fluid passes to control the pressure by the fluid and formed on the outside of the reverse washing hole; and a pressurizing disk moving means for moving the pressurizing disk in an axial direction of the filter. As the pressurizing disk moves in the axial direction of the filter, the fluid is introduced into the filter to remove foreign matters attached to the inner circumferential surface of the filter in a reverse washing manner.

Description

Apparatus for double backflow filtration

본 발명은 유체에 포함된 이물질을 여과하는 여과 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 유체 여과 과정에서 필터 내부에 부착된 이물질을 역세정 방식으로 제거하는 이중 역류 세정식 여과 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a filtration device for filtering foreign matter contained in a fluid, and more particularly, to a dual countercurrent cleaning filtration device for removing foreign matter attached to a filter in a backwashing manner during a fluid filtration process.

이 부분에 기재된 내용은 단순히 본 발명의 실시예에 대한 배경 정보를 제공하는 것일 뿐, 종래 기술을 구성하는 것은 아니다.The description in this section merely provides background information on the embodiments of the present invention, and does not constitute a prior art.

상하수도, 하천수, 호수 등의 물, 석유화학 및 발전 설비의 각종 장치의 냉각수 및 공정수 등, 식품 공정의 원료, 화학 공정의 기체 원료 등에 포함된 미립자나 먼지 등의 불순물 등을 포착하여 분리하는 여과 장치나, 해수에 포함된 해양 생물의 일차적인 제거하기 위한 선박의 평형수 처리 장치에는 다양한 종류의 여과 장치가 사용된다.Filtration that captures and separates impurities such as particulates and dust contained in raw materials of the food process and gas raw materials of the chemical process, such as water of water, sewage, river water, lakes, cooling water and process water of various devices of petrochemical and power generation facilities. Various types of filtration devices are used in the apparatus or ballast water treatment apparatus of a ship for the primary removal of marine life contained in seawater.

이러한 여과 장치 또는 선박의 평형수 처리 장치에서는 여과 필터를 사용하고 있으며, 여과 필터 운용에 있어서 중요한 기능은 유체에 포함된 이물질이 필터에 축적되는 것을 제거하여 안정적인 연속 운전을 지속하는 것이다.The filtration device or the ballast water treatment device of the ship uses a filtration filter, an important function in the operation of the filtration filter is to remove the foreign matter contained in the fluid accumulated in the filter to maintain a stable continuous operation.

본 발명은 이러한 여과 장치 또는 선박의 평형수 처리 장치에서 사용되는 여과 필터에 축적된 이물질을 이중 역세정 방식으로 제거하는 이중 역류 세정식 여과 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a dual countercurrent scrubbing filtration apparatus which removes the foreign matter accumulated in the filtration filter used in such a filtration device or a ballast water treatment device of a ship by a double backwash method.

일본등록특허 3946519호Japanese Patent No. 3946519

본 발명은 필터의 전 영역을 거쳐 필터에 부착된 이물질을 제거하여 세정 효율을 향상시킬 수 있는 이중 역류 세정식 여과 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a double countercurrent washing filtration apparatus capable of improving the cleaning efficiency by removing foreign substances attached to the filter through the entire area of the filter.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치는, Double backwash type filtration device according to an embodiment of the present invention,

유체가 유동하면서 유체에 함유된 이물질을 여과하는 필터가 삽입되고 상기 필터의 외주면과 이격 형성된 가압부를 구비한 역세정홀과, 유체에 의한 압력을 조절하기 위해 유체가 통과하는 압력 조절홀이 상기 역세정홀의 외부에 형성된 판형의 가압 디스크; 상기 가압 디스크를 상기 필터의 축방향으로 이동시키는 가압 디스크 이동수단을 포함하며, 상기 가압 디스크가 상기 필터의 축방향으로 이동되면서 유체를 상기 필터의 내부로 유입시켜서 상기 필터의 내주면에 부착된 이물질을 역세정 방식으로 제거한다.When the fluid flows, a filter for filtering foreign substances contained in the fluid is inserted, and a backwashing hole having a pressurizing part spaced apart from the outer circumferential surface of the filter, and a pressure adjusting hole through which the fluid passes to adjust the pressure by the fluid. A plate-shaped press disc formed outside the cleaning hole; And a pressurizing disk moving means for moving the pressurizing disk in the axial direction of the filter, wherein the pressurizing disk is moved in the axial direction of the filter to introduce a fluid into the filter to remove foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter. Remove with backwash.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부는, 상기 필터의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면을 포함할 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the pressing portion may include a cylindrical pressing surface formed in parallel with the outer peripheral surface of the filter.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부는, 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구를 포함할 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the pressurizing portion may include an inclined surface through-hole having a form of upper and lower beams.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부는, 상기 필터의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면과, 상기 통형 가압면의 하부에 형성된 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구 및 상기 통형 가압면의 상부에 형성된 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면 통공구 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the pressurizing portion has a cylindrical pressurization surface formed in parallel with an outer circumferential surface of the filter, and a top narrow light formed below the cylindrical pressurization surface. It may include at least one of the inclined surface through-holes and the inclined surface through-holes in the form of upper and lower straits (上廣下陜) formed on the upper portion of the cylindrical pressing surface.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부는, 하부에는 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구가 형성되고, 상부에는 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면 통공구가 형성될 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the pressurization portion is formed in the bottom of the inclined surface through-holes in the form of the upper and lower beams, the upper and the lower beams form An inclined surface through hole can be formed.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부 상면과 하면 중 적어도 어느 하나에 형성되며, 상기 가압부로 유체를 가이드하는 가압 가이드를 포함할 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, it is formed on at least one of the upper surface and the lower surface of the pressing portion, it may include a pressure guide for guiding the fluid to the pressing portion.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부 상면에 형성되는 가압 가이드는 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면을 구비하며, 상기 가압부 하면에 형성되는 가압 가이드는 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면을 구비할 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to an embodiment of the present invention, the pressure guide formed on the upper surface of the pressing portion has an inclined surface in the form of upper and lower narrowings, and the pressing guide formed on the lower surface of the pressing portion. May have an inclined surface in the form of upper and lower beams.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부에 형성되며, 상기 필터의 외주면과 접촉하여 구르면서 상기 필터의 내주면에 부착된 이물질을 제거하는 가압 롤러를 더 포함할 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to an embodiment of the present invention, the pressing unit is formed in the pressing portion, and may further include a pressure roller for removing the foreign matter attached to the inner peripheral surface of the filter while rolling in contact with the outer peripheral surface of the filter. have.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압 디스크의 외주면에는 상기 필터가 형성된 하우징의 내벽에 형성된 수평 유지홈에 끼워지는 수평 유지돌기가 형성될 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, a horizontal holding protrusion fitted to a horizontal holding groove formed on an inner wall of the housing in which the filter is formed may be formed on the outer circumferential surface of the pressurizing disk.

또한, 본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치는, In addition, the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention,

유체가 유입되는 유입구와, 내부에서 여과된 유체가 외부로 유출되는 유출구가 형성되는 하우징; 상기 유입구와 연통하며, 상기 유입구를 통해 유입된 여과 전의 유체가 수용되는 제1 수용실; 상기 유입된 유체를 여과하는 필터를 포함하며, 상기 유출구와 연통하여 형성되는 여과실; 상기 여과실 상부에 상기 필터와 연통되어 형성되는 제2 수용실; 상기 필터 내부의 압력을 낮추어서 상기 여과실에 수용된 유체를 상기 필터 내부로 유입시켜서 상기 필터의 내주면에 부착된 이물질을 제거하는 제1 세정부; 상기 필터의 외주면과 이격 형성되며, 상기 필터의 축방향으로 이동하면서 상기 여과실에 수용된 유체를 상기 필터의 내부로 유입시켜서 상기 필터의 내주면에 부착된 이물질을 제거하는 제2 세정부;를 포함한다.A housing having an inlet through which fluid is introduced and an outlet through which the fluid filtered therein flows out; A first accommodating chamber communicating with the inlet and accommodating fluid before filtration introduced through the inlet; A filtration chamber including a filter for filtering the introduced fluid and formed in communication with the outlet; A second accommodation chamber formed in communication with the filter above the filtration chamber; A first cleaning unit which lowers the pressure inside the filter to introduce a fluid contained in the filtration chamber into the filter to remove foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter; A second cleaning part formed to be spaced apart from an outer circumferential surface of the filter and removing foreign matters attached to the inner circumferential surface of the filter by flowing a fluid contained in the filtration chamber into the filter while moving in the axial direction of the filter. .

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 하우징 내부에는, 상기 제1 수용실과 상기 여과실을 구획하는 하부 격벽과, 상기 제2 수용실과 상기 여과실을 구획하는 상부 격벽이 형성될 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, a lower partition wall partitioning the first storage chamber and the filtration chamber and an upper partition wall partitioning the second storage chamber and the filtration chamber are provided inside the housing. Can be formed.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 제1 세정부는, 상기 하우징의 중심축을 관통하여 형성되는 회전축과, 상기 회전축의 상단에 형성되는 기어모터와, 상기 회전축의 하단에 형성되는 회전 가능한 제1 드레인관과, 상기 제1 드레인관의 단부와 연결되며 조절밸브를 구비한 제2 드레인관을 포함할 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the first cleaning unit, a rotating shaft formed through the central axis of the housing, a gear motor formed on the upper end of the rotating shaft, and the lower end of the rotating shaft It may include a rotatable first drain pipe formed in, and a second drain pipe connected to an end of the first drain pipe and having a control valve.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 제2 세정부는, 상기 필터의 외주면과 이격 형성된 가압부를 구비한 역세정홀과, 유체에 의한 압력을 조절하기 위해 유체가 통과하는 압력 조절홀이 상기 역세정홀의 외부에 형성된 판형의 가압 디스크; 상기 가압 디스크를 상기 필터의 축방향으로 이동시키는 가압 디스크 이동수단을 포함할 수 있다.In the dual countercurrent cleaning filtration apparatus according to an embodiment of the present invention, the second cleaning portion, the back washing hole having a pressurizing portion formed spaced apart from the outer circumferential surface of the filter, the fluid passes through to control the pressure by the fluid A pressure regulating hole having a plate-shaped pressure disk formed outside of the backwashing hole; It may include a pressing disk moving means for moving the pressing disk in the axial direction of the filter.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압부는, 상기 필터의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면을 포함할 수 있다.In the dual backwash cleaning filter according to the embodiment of the present invention, the pressing portion may include a cylindrical pressing surface formed in parallel with the outer peripheral surface of the filter.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 가압 디스크의 외주면에는 상기 하우징의 내벽에 형성된 수평 유지홈에 끼워지는 수평 유지돌기가 형성될 수 있다.In the double backwash cleaning filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, a horizontal holding protrusion fitted to a horizontal holding groove formed on an inner wall of the housing may be formed on an outer circumferential surface of the pressurizing disk.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 있어서, 상기 필터의 상단과 하단의 압력차를 측정하는 차압계를 포함하며, 상기 차압계에 의해 측정된 압력차가 기준치 이상이면, 상기 가압 디스크 이동수단을 가동시켜서 상기 가압 디스크가 상기 필터의 내주면에 부착된 이물질을 역세정 방식으로 제거하도록 하고, 상기 차압계에 의해 측정된 압력차가 기준치 미만이면, 상기 가압 디스크 이동수단의 가동을 중지하여 상기 가압 디스크가 원래의 위치로 복원하도록 하는 제어부를 포함할 수 있다.In the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the differential pressure gauge for measuring the pressure difference between the upper end and the lower end of the filter, and if the pressure difference measured by the differential pressure gauge is greater than or equal to the reference disk moving means The pressure disk to remove the foreign matter adhering to the inner circumferential surface of the filter in a reverse washing manner, and if the pressure difference measured by the differential pressure gauge is less than the reference value, the pressure disk moving means is stopped to operate the pressure disk. It may include a control unit to restore to the original position.

기타 본 발명의 다양한 측면에 따른 구현예들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.Other specific details of embodiments according to various aspects of the present invention are included in the following detailed description.

본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치에 의하면, 필터의 전 영역을 거쳐 필터 내주면에 부착된 이물질은 제거할 수 있게 되어 균일한 역세정을 수행할 수 있으며, 세정 효율을 향상시킬 수 있게 된다.According to the double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, foreign matter adhering to the inner circumferential surface of the filter through the entire area of the filter can be removed to perform uniform backwashing and improve cleaning efficiency. Will be.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치가 도시된 도면이다.
도 2는 도 1의 A-A’에서 바라본 도면으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크가 도시된 평면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크가 도시된 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크의 동작 상태가 도시된 단면도이다.
도 5 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 일 구성인 가압부의 다양한 형상이 도시된 도면이다.
도 14는 본 발명의 일 실시예에 따른 가압 디스크의 응용예가 도시된 도면이다.
도 15는 본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 여과시 동작 상태가 예시된 동작 상태도이다.
도 16은 본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 세정시 동작 상태가 예시된 동작 상태도이다.
도 17은 본 발명의 실시예에 따른 가압 디스크가 구비되지 않은 여과 장치의 동작 상태가 예시된 동작 상태도이다.1 is a diagram illustrating a double countercurrent filtration apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a plan view of the pressurized disk of the dual backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention as seen from the line AA ′ of FIG. 1.
3 is a side cross-sectional view showing a pressurized disk of a double countercurrent filtration apparatus according to an embodiment of the present invention.
4 is a cross-sectional view showing an operating state of the pressurized disk of the double countercurrent filtration apparatus according to the embodiment of the present invention.
5 to 13 is a view showing a variety of shapes of the pressurization portion which is one configuration of the double backwash filtration apparatus according to an embodiment of the present invention.
14 is a view showing an application of the pressurized disk according to an embodiment of the present invention.
FIG. 15 is an operational state diagram illustrating an operating state at the time of filtration of the dual countercurrent washing filtration device according to the embodiment of the present invention.
FIG. 16 is an operational state diagram illustrating an operating state of a dual countercurrent washing filtration device according to an embodiment of the present invention.
17 is an operating state diagram illustrating an operating state of the filtration apparatus without the pressurizing disk according to the embodiment of the present invention.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated and described in detail in the detailed description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention.

본 발명에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 발명에서, '포함하다' 또는 '가지다' 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치를 설명한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present invention, the terms 'comprise' or 'have' are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof. Hereinafter, with reference to the drawings will be described a double countercurrent washing filtration device according to an embodiment of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치가 도시된 도면이다.1 is a diagram illustrating a double countercurrent filtration apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치(이하, ‘여과 장치’라고도 함)는, 하우징(100), 제1 수용실(210), 제2 수용실(220), 여과실(230), 필터(300), 제1 세정부(400), 제2 세정부(500)를 포함한다.As shown in FIG. 1, the dual countercurrent cleaning filtration device (hereinafter, also referred to as a 'filtration device') according to an embodiment of the present invention includes a housing 100, a first accommodation chamber 210, and a second accommodation. The chamber 220, the filtration chamber 230, the filter 300, the first cleaning unit 400, and the second cleaning unit 500 are included.

하우징(100)은 여과 장치의 외형을 이루는 것으로, 예를 들어, 내부에 공간이 형성된 원통형으로 형성될 수 있다. 하우징(100)의 하부에는 유체가 유입되는 유입구(110)가 형성되고, 하우징(100)의 일측 상부에는 내부에서 여과된 유체를 외부로 유출하는 유출구(120)가 형성된다. 유입구(110)로 유입된 유체는 펌프(미도시)의 펌핑 작용에 의해 하우징(100)의 하방향으로부터 상방향으로 유입된다. 펌프는 하우징(100) 내부 또는 외부에 설치될 수 있다.The housing 100 forms an outer shape of the filtration device, and may be formed, for example, in a cylindrical shape having a space therein. An inlet 110 through which fluid is introduced is formed at a lower portion of the housing 100, and an outlet 120 is formed at one upper portion of the housing 100 to allow the fluid filtered therein to flow to the outside. The fluid introduced into the inlet 110 flows upward from the downward direction of the housing 100 by a pumping action of a pump (not shown). The pump may be installed inside or outside the housing 100.

하우징(100)의 재질은 금속 또는 합성수지 등이고, 그 형상 및 크기는 여과 장치의 사용 용도, 통과시키는 액체, 기체 등의 종류, 양, 설치 장소 등에 따라 적절하게 결정될 수 있다.The material of the housing 100 is metal or synthetic resin and the like, and the shape and size thereof may be appropriately determined according to the use purpose of the filtration device, the kind, amount, installation location, etc. of the liquid, gas, etc. to be passed.

하우징(100) 내부에는 내부 공간을 구획하는 격벽(130, 140)이 형성된다. 하부 격벽(130)은 제1 수용실(210)과 여과실(230)을 구획하고, 상부 격벽(140)은 제2 수용실(220)과 여과실(230)을 구획한다. In the housing 100, partition walls 130 and 140 are formed to partition an inner space. The lower partition wall 130 partitions the first storage chamber 210 and the filtration chamber 230, and the upper partition wall 140 partitions the second storage chamber 220 and the filtration chamber 230.

하부 격벽(130)은 하우징(100) 내부의 하부에 수평으로 설치되며, 복수개의 개구(131)를 구비한다. 개구(131)는 제1 수용실(210)과 필터(300)를 연통하며, 유입구(110)를 통해 유입된 유체가 제1 수용실(210)을 거쳐서 필터(300)를 유동하도록 한다.The lower partition wall 130 is horizontally installed in the lower portion of the housing 100 and includes a plurality of openings 131. The opening 131 communicates with the first receiving chamber 210 and the filter 300, and allows the fluid introduced through the inlet 110 to flow through the filter 300 via the first receiving chamber 210.

상부 격벽(140)은 하우징(100) 내부의 상부에 수평으로 설치되며, 복수개의 개구(141)를 구비한다. 개구(141)는 제2 수용실(220)과 필터(300)를 연통하며, 필터(300)에 의해 여과된 유체는 여과실(230)에 수용되고, 미처 여과되지 못한 유체는 제2 수용실(220)에 수용된 후, 다시 개구(141)를 통해 다른 필터로 하방향으로 유동하면서 여과된다.The upper partition wall 140 is horizontally installed above the inside of the housing 100 and includes a plurality of openings 141. The opening 141 communicates with the second storage chamber 220 and the filter 300, and the fluid filtered by the filter 300 is accommodated in the filtration chamber 230, and the fluid that has not been filtered is stored in the second storage chamber. After being received at 220, it is filtered while flowing downwardly through the opening 141 to another filter.

하우징(100)은 별도의 하우징 캡(150)을 구비할 수 있으며, 하우징 캡(150)은 상부 격벽(140)을 덮도록 체결되어 하우징 캡(150)과 상부 격벽(140) 사이의 공간은 제2 수용실(220)을 형성할 수 있다.The housing 100 may include a separate housing cap 150, and the housing cap 150 may be fastened to cover the upper partition wall 140 so that the space between the housing cap 150 and the upper partition wall 140 may be removed. 2 storage chamber 220 can be formed.

하우징(100)의 내벽에는 하우징의 수직 방향으로 수평 유지홈(160)이 형성된다.The inner wall of the housing 100 is formed with a horizontal holding groove 160 in the vertical direction of the housing.

상부 격벽(140)과 하부 격벽(130) 사이는 여과실(300)을 형성한다. 여과실(230)은 유체를 여과하는 필터(300)를 포함한다.The filtration chamber 300 is formed between the upper partition wall 140 and the lower partition wall 130. Filtration chamber 230 includes a filter 300 that filters the fluid.

필터(300)는, 예를 들어 원통형일 수 있으며, 필터(300)의 저면은 개구(131)와 연통되어, 유입구(110)를 통해 유입된 유체가 제1 수용실(210)을 거쳐서 필터(300)를 유동하도록 한다. 유입된 유체에 포함된 이물질은 유체가 필터(300)의 내주면에서 외주면으로 이동하면서 여과된다. 여과된 이물질은 필터(300)의 내주면에 부착된다. 또한, 필터(300)의 상면은 개구(141)와 연통된다. 필터(300)에 의해 여과되지 못한 유체는 개구(141)를 통해 제2 수용실(220)에 수용된 후, 다시 다른 개구(141)를 통해 다른 필터로 하방향으로 유동하면서 여과된다.The filter 300 may be, for example, cylindrical, and the bottom surface of the filter 300 communicates with the opening 131 so that the fluid introduced through the inlet 110 passes through the first receiving chamber 210. 300) to flow. Foreign matter contained in the introduced fluid is filtered while the fluid moves from the inner circumferential surface of the filter 300 to the outer circumferential surface. The filtered foreign matter is attached to the inner circumferential surface of the filter 300. In addition, the upper surface of the filter 300 communicates with the opening 141. The fluid not filtered by the filter 300 is accommodated in the second receiving chamber 220 through the opening 141, and then filtered while flowing downward through the other opening 141 to another filter.

필터(300)의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 필터(300)는 단층의 여과망 또는 다중층의 여과망일 수 있다. 다중층의 여과망인 경우, 여과 효율이 더욱 우수해질 수 있다. 다중층의 여과망의 경우, 각 여과층은 서로 일체형으로 고정되지 않고 일정한 유격을 가지는 것일 수 있으며, 따라서 유체 통과시 여과망의 층들이 떨리게 될 수 있다. 이러한 떨림은 세척시에 이물질의 효과적인 제거를 가능하게 할 수 있다.The kind of filter 300 is not specifically limited. For example, the filter 300 may be a single layer of filtering network or a multilayer layer of filtering network. In the case of multilayer filter networks, the filtration efficiency can be better. In the case of a multi-layered filter network, each filter layer may be of a constant clearance without being integrally fixed to each other, and thus the layers of the filter network may be shaken upon passage of the fluid. Such tremors may enable effective removal of debris during cleaning.

제1 세정부(400)는 필터(300) 내부의 압력을 낮추어서 유체가 필터(300) 외주면에서 내주면으로 흐르도록 하여 필터(300) 내주면에 부착된 이물질을 제거한다. 이를 위해, 제1 세정부(400)는, 하우징(100)의 중심축을 관통하여 형성되는 회전축(410)과, 회전축의 상단에 형성되는 기어모터(420)와, 회전축의 하단에 형성되는 회전 가능한 제1 드레인관(430)과, 제1 드레인관(430)의 단부와 연결되며 조절밸브(450)를 구비한 제2 드레인관(440)을 포함한다.The first cleaning unit 400 lowers the pressure inside the filter 300 so that the fluid flows from the outer circumferential surface of the filter 300 to the inner circumferential surface to remove foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter 300. To this end, the first cleaning unit 400, the rotating shaft 410 is formed through the central axis of the housing 100, the gear motor 420 formed on the upper end of the rotating shaft, rotatable formed on the lower end of the rotating shaft And a first drain pipe 430 and a second drain pipe 440 connected to an end of the first drain pipe 430 and having a control valve 450.

제1 드레인관(430)은 회전축(410)의 하단과 연결 형성된다. 제1 드레인관(430)는 하부 격벽(130)의 개구(131)와 연통하도록 형성된다.The first drain pipe 430 is connected to the lower end of the rotation shaft 410. The first drain pipe 430 is formed to communicate with the opening 131 of the lower partition wall 130.

기어모터(420)의 동작에 따라 회전축(410)이 회전하면 제1 드레인관(430)은 회전하여 하부 격벽(130)의 개구(131)에 위치하게 된다. 도면에 도시된 바와 같이 필터(300)가 복수개 형성되면, 하부 격벽(130)의 개구(131)도 이에 대응하는 개수로 형성되고, 제1 드레인관(430)은 기어모터(420)의 동작에 따라 시계 방향 또는 반시계 방향으로 회전하면서 일정 시간 간격으로 순차적으로 하부 격벽(130)의 개구(131)와 연통하게 된다. When the rotation shaft 410 rotates according to the operation of the gear motor 420, the first drain pipe 430 rotates to be positioned in the opening 131 of the lower partition wall 130. As shown in the drawing, when a plurality of filters 300 are formed, the openings 131 of the lower partition wall 130 are also formed in the corresponding number, and the first drain pipe 430 is used for the operation of the gear motor 420. Accordingly, while rotating clockwise or counterclockwise, the opening 131 of the lower partition wall 130 is sequentially communicated with each other at a predetermined time interval.

제1 드레인관(430)과 개구(131)가 연통한 후, 조절밸브(450)를 오픈하면 연통된 부분의 필터(300) 내부의 유체는 압력 저하로 제2 수용실(220)로부터 필터(300)를 거쳐 제1 드레인관(430) 및 제2 드레인관(440)으로 흐르게 된다. 이 과정에서 여과실(230)에 수용된 유체의 일부는 필터(300) 외주면에서 내주면으로 향하여 흐르게 되고, 이에 따라 필터(300)에 누적된 이물질은 제거된다. 제1 드레인관(430)은 복수개의 필터(300)와 일정 시간 간격으로 순차적으로 연통하여 세정 과정을 진행한다.After the first drain pipe 430 and the opening 131 communicate with each other, and the control valve 450 is opened, the fluid inside the filter 300 in the communicated portion is reduced from the second storage chamber 220 due to the pressure drop. It passes through the 300 to the first drain pipe 430 and the second drain pipe 440. In this process, a part of the fluid accommodated in the filtration chamber 230 flows from the outer circumferential surface of the filter 300 toward the inner circumferential surface, thereby removing foreign matter accumulated in the filter 300. The first drain pipe 430 sequentially communicates with the plurality of filters 300 at predetermined time intervals to perform a cleaning process.

제2 세정부(500)는 필터(300)에 의해 여과된 유체를 다시 필터(300) 내부로 유입시키면서 필터(300)의 내주면에 부착된 이물질이 제거되도록 하여 필터(300) 내부를 세정한다. 도 2 내지 도 4를 참조하여 제2 세정부(500)에 대해 상세히 설명한다. 도 2는 도 1의 A-A’에서 바라본 도면으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크(510)가 도시된 평면도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크(510)가 도시된 측단면도이며, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 역류 세정식 여과 장치의 가압 디스크(510)의 동작 상태가 도시된 단면도이다.The second cleaning unit 500 cleans the inside of the filter 300 by removing foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter 300 while introducing the fluid filtered by the filter 300 back into the filter 300. The second cleaning unit 500 will be described in detail with reference to FIGS. 2 to 4. FIG. 2 is a plan view taken from the line AA ′ of FIG. 1, and is a plan view showing a pressurized disk 510 of a dual backwash filtration device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 3 is an embodiment of the present invention. Figure 4 is a side cross-sectional view of the pressurized disk 510 of the dual backwash filtration apparatus according to the present invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating an operating state of the pressurized disk 510 of the dual backwash filtration apparatus according to an embodiment of the present invention. It is a cross section.

제2 세정부(500)는 가압 디스크(510)와 가압 디스크 이동수단(520)을 포함한다. 가압 디스크(510)는 가압부(511)를 구비한 역세정홀(512)과, 압력 조절홀(513)을 포함한다. The second cleaning unit 500 includes a pressurizing disk 510 and a pressurizing disk moving means 520. The pressurizing disk 510 includes a backwashing hole 512 having a pressurizing part 511 and a pressure adjusting hole 513.

가압 디스크 이동수단(520)은 유압 실린더, 공압 실린더, 액츄에이터 등과 같은 일방향으로 왕복 직선운동을 수행하는 수단으로, 가압 디스크(510)를 필터(300)의 축방향을 따라 왕복이동시킨다. 여기서, ‘필터의 축방향’은 도면에서 상하 방향으로 도시되어 있으나, 필터가 수평 방향으로 설치된 경우 필터의 축방향은 좌우 방향, 필터가 대각 방향으로 설치될 경우 필터의 축방향은 대각 방향이 될 수 있다.The pressurizing disk moving means 520 is a means for performing a reciprocating linear motion in one direction such as a hydraulic cylinder, a pneumatic cylinder, an actuator, and the like, and the pressurizing disk 510 reciprocates along the axial direction of the filter 300. Here, the 'axial direction of the filter' is shown in the up and down direction in the drawing, but if the filter is installed in the horizontal direction, the axial direction of the filter will be left and right, and if the filter is installed diagonally, the axial direction of the filter will be diagonal. Can be.

역세정홀(512)은 필터(300)가 삽입되는 부분으로, 역세정홀(512)의 내주면 직경은 필터(300)의 외주면 직경보다 큰 직경으로 형성되어, 역세정홀(512)의 내주면이 필터(300)와 이격되도록 한다.The backwashing hole 512 is a portion into which the filter 300 is inserted, and the inner circumferential surface diameter of the backwashing hole 512 is formed to have a diameter larger than that of the outer circumferential surface of the filter 300, so that the inner circumferential surface of the backwashing hole 512 is Spaced apart from the filter 300.

가압부(511)는 역세정홀(512)의 내주면 일부 또는 역세정홀(512)의 방사 방향 외측 소정 부분에 형성되어, 가압 디스크(510)가 필터의 축방향으로 이동할 때, 여과실(230)에 수용된 여과된 유체의 일부를 필터(300) 내부로 유입시킨다. 즉, 가압 디스크(510)가 필터의 축방향으로 이동할 때, 가압부(511)와 필터(300) 사이의 이격된 공간으로 유체가 흐르면서, 유체의 일부는 필터(300)로 포획되어 필터(300) 내부로 유입된다. 이러한 가압부(511)는 다양한 형상으로 제조될 수 있는데, 이에 대해서는 도 5 내지 도 13을 참조하여 후술한다. The pressurizing part 511 is formed at a portion of the inner circumferential surface of the backwashing hole 512 or at a radially outer predetermined part of the backwashing hole 512 so that the pressurizing disk 510 moves in the axial direction of the filter. A portion of the filtered fluid contained in) is introduced into the filter 300. That is, when the pressurizing disk 510 moves in the axial direction of the filter, a fluid flows into the spaced space between the pressurizing portion 511 and the filter 300, and a part of the fluid is captured by the filter 300 and the filter 300. ) Flows inside. The pressing unit 511 may be manufactured in various shapes, which will be described later with reference to FIGS. 5 to 13.

압력 조절홀(513)은 가압 디스크(510)가 필터의 축방향으로 이동할 때, 이동 방향 측의 유체를 이동 방향 반대측으로 유동시켜서 이동 방향 측의 유체가 가압 디스크(510)에 의해 압축되어 압력이 증가하는 것을 해소하여, 가압 디스크 이동수단(520)의 작동 부하를 감소시킨다.When the pressure disk 510 moves in the axial direction of the filter, the pressure adjusting hole 513 flows the fluid on the movement direction opposite to the movement direction so that the fluid on the movement direction is compressed by the pressure disk 510 so that the pressure is increased. By eliminating the increase, the operating load of the pressurized disk moving means 520 is reduced.

가압 디스크(510)의 외주면에는 하우징(100)의 내벽에 형성된 수평 유지홈(160)에 끼워지는 수평 유지돌기(514)가 형성될 수 있다. 수평 유지돌기(514)는 수직 방향으로 일정 길이 연장되어 형성될 수 있다. On the outer circumferential surface of the pressure disk 510 may be formed a horizontal holding projection 514 to be fitted to the horizontal holding groove 160 formed on the inner wall of the housing 100. The horizontal retaining protrusion 514 may be formed to extend a predetermined length in the vertical direction.

가압 디스크 이동수단(520)에 의해 가압 디스크(510)가 필터의 축방향으로 이동될 때, 이동 방향 측의 유체에 의해 가압 디스크(510)는 수평을 유지하면서 이동되지 않을 수 있다. 수평 유지가 안될 경우, 역세정홀(512)의 내주면 또는 가압부(511)가 필터(300)의 외주면에 접촉하여 필터(300)를 손상시키거나 또는 가압부(511)에 의한 필터(300) 내부로의 유체 유입이 저해되어 세정 효율이 감소될 수 있다. When the pressurizing disk 510 is moved in the axial direction of the filter by the pressurizing disk moving means 520, the pressurizing disk 510 may not be moved while keeping the horizontal by the fluid on the moving direction side. When the level is not maintained, the inner circumferential surface or the pressing portion 511 of the backwashing hole 512 contacts the outer circumferential surface of the filter 300 to damage the filter 300 or the filter 300 by the pressing portion 511. The inflow of fluid into the interior may be inhibited and the cleaning efficiency may be reduced.

수평 유지돌기(514)를 수평 유지홈(160)에 끼운 채로 가압 디스크(510)를 이동시키면, 수평 유지돌기(514)와 수평 유지홈(160)의 결합 상태가 유지되면서 가압 디스크(510)가 이동되므로, 가압 디스크(510)의 수평을 유지할 수 있게 된다.When the pressing disk 510 is moved while the horizontal holding protrusion 514 is inserted into the horizontal holding groove 160, the pressing disk 510 is maintained while the horizontal holding protrusion 514 and the horizontal holding groove 160 are coupled to each other. Since it is moved, it is possible to keep the pressing disk 510 horizontal.

한편, 본 발명의 여과 장치는, 필터(300)의 상단과 하단의 압력차를 측정하는 차압계(미도시)와 차압계에서 측정된 압력차를 이용하여 제1 세정부(400)와 제2 세정부(500)의 동작을 제어하는 제어부(미도시)를 더 포함할 수 있다.On the other hand, the filtration device of the present invention, the first cleaning unit 400 and the second cleaning unit by using a differential pressure gauge (not shown) for measuring the pressure difference between the upper and lower ends of the filter 300 and the pressure difference measured by the differential pressure gauge. It may further include a controller (not shown) for controlling the operation of the 500.

차압계에 의해 측정된 압력차가 기준치 이상이면, 제어부는 조절밸브(450)를 오픈하고, 가압 디스크 이동수단(520)의 동작을 개시하여, 제1 세정부(400)에 의한 세정과 제2 세정부(500)에 의한 세정이 진행되도록 할 수 있다. 또한, 차압계에 의해 측정된 압력차가 기준치 미만이면, 제어부는 조절밸브(450)를 닫고, 가압 디스크 이동수단(520)의 동작을 중단하여, 제1 세정부(400)에 의한 세정과 제2 세정부(500)에 의한 세정을 중단시키고, 가압 디스크(510)가 원래의 위치로 복원하도록 할 수 있다.If the pressure difference measured by the differential pressure gauge is equal to or greater than the reference value, the control unit opens the control valve 450, starts the operation of the pressurizing disk moving means 520, and the cleaning by the first cleaning unit 400 and the second cleaning unit. The washing by 500 may be allowed to proceed. In addition, if the pressure difference measured by the differential pressure gauge is less than the reference value, the control unit closes the control valve 450, stops the operation of the pressurizing disk moving means 520, the cleaning by the first cleaning unit 400 and the second three Cleaning by the government unit 500 may be stopped and the pressure disc 510 may be restored to its original position.

도 5 내지 도 13을 참조하여 가압부(511)의 다양한 형상에 대해 설명한다. 도 5 내지 도 13은 본 발명의 일 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 일 구성인 가압부의 다양한 형상이 도시된 도면이다.5 to 13, various shapes of the pressing unit 511 will be described. 5 to 13 is a view showing a variety of shapes of the pressing unit which is one configuration of the dual double backwash filtration apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 가압부(511)는 필터(300)의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면(511a)을 포함할 수 있다. 여과실(230)에 수용된 여과된 유체는 통형 가압면(511a)과 필터(300) 사이의 이격된 공간으로 흐르면서, 유체의 일부는 필터(300)로 포획되어 필터(300) 내부로 유입된다.Referring to FIG. 5, the pressing unit 511 may include a cylindrical pressing surface 511a formed in parallel with the outer circumferential surface of the filter 300. The filtered fluid contained in the filtration chamber 230 flows into the spaced space between the cylindrical pressing surface 511a and the filter 300, and a part of the fluid is captured by the filter 300 and introduced into the filter 300.

도 6을 참조하면, 가압부(511)는 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구(511b)를 포함할 수 있다. 여과실(230)에 수용된 여과된 유체는 경사면 통공구(511b)에 의해 유체의 유동이 필터(300)로 가이드되어 흐르면서, 유체의 일부는 필터(300)로 포획되어 필터(300) 내부로 유입된다.Referring to FIG. 6, the pressing unit 511 may include an inclined surface through hole 511b in the form of upper and lower beams. The filtered fluid contained in the filtration chamber 230 is guided through the flow of the fluid to the filter 300 by the inclined through-hole 511b, a part of the fluid is captured by the filter 300 flows into the filter 300 do.

도 7를 참조하면, 가압부(511)는 필터(300)의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면(511c)과, 통형 가압면(511c)의 하부에 형성된 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구(511d)를 포함할 수 있다. 여과실(230)에 수용된 여과된 유체는 경사면 통공구(511b)에 의해 유체의 유동이 필터(300)로 가이드되어 흐르고, 통형 가압면(511c)과 필터(300) 사이의 이격된 공간으로 흐르면서, 유체의 일부는 필터(300)로 포획되어 필터(300) 내부로 유입된다.Referring to FIG. 7, the pressing unit 511 has a cylindrical pressing surface 511c formed in parallel with the outer circumferential surface of the filter 300, and an upper narrow light beam formed below the cylindrical pressing surface 511c. An inclined surface through hole 511d may be included. The filtered fluid contained in the filtration chamber 230 is guided and flows to the filter 300 by the inclined surface through-hole 511b, and flows into the spaced space between the cylindrical pressing surface 511c and the filter 300. Part of the fluid is captured by the filter 300 and flows into the filter 300.

도 8을 참조하면, 가압부(511)는 필터(300)의 외주면과 평행하게 형성된 통형 가압면(511e)과, 통형 가압면(511e)의 하부에 형성된 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구(511f)와, 통형 가압면(511e)의 상부에 형성된 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면 통공구(511g)를 포함할 수 있다. 도 8의 경우, 가압 디스크(510)가 상방향으로 이동하는 경우에도 경사면 통공구(511g)에 의해 유체의 유동이 필터(300)로 가이드되어 흐를 수 있다.Referring to FIG. 8, the pressing unit 511 has a cylindrical pressing surface 511e formed in parallel with the outer circumferential surface of the filter 300, and an upper narrow light beam formed below the cylindrical pressing surface 511e. The inclined surface through-hole 511f and the inclined surface through-hole 511g formed in the upper and lower narrowing forms formed in the upper part of the cylindrical press surface 511e may be included. In the case of FIG. 8, even when the pressurizing disk 510 moves upward, the flow of the fluid may be guided to the filter 300 by the inclined surface through-hole 511g.

도 9를 참조하면, 가압부(511)는 하부에는 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면 통공구(511h)가 형성되고, 상부에는 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면 통공구(511i)가 형성될 수 있다.Referring to FIG. 9, the pressing portion 511 is formed with an inclined surface through-hole 511h in the form of upper and lower light, and an inclined surface through-hole in the form of an upper light inlet in the upper portion (511). 511i) may be formed.

도 10 및 도 11을 참조하면, 가압부(511)는 가압부 상면과 하면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 가압 가이드(515)를 포함할 수 있다. 가압 가이드(515)는 여과실(230)에 수용된 여과된 유체를 가압부(511)로 가이드하며, 유체에 의한 압력을 분산시켜서 가압 디스크(510)에 가해지는 압력을 낮출 수 있다. 가압부(511) 상면에 형성되는 가압 가이드(515a)는 상광하협(上廣下陜) 형태의 경사면을 구비하며, 상기 가압부 하면에 형성되는 가압 가이드(515b)는 상협하광(上陜下廣) 형태의 경사면을 구비할 수 있다.10 and 11, the pressing unit 511 may include a pressing guide 515 formed on at least one of the upper and lower surfaces of the pressing unit. The pressure guide 515 guides the filtered fluid contained in the filtration chamber 230 to the pressure unit 511, and may disperse the pressure by the fluid to lower the pressure applied to the pressure disk 510. The pressing guide 515a formed on the upper surface of the pressing portion 511 has an inclined surface having an upper and lower narrowing shape, and the pressing guide 515b formed on the lower surface of the pressing portion has upper and lower lower light ) May have an inclined surface.

도 12 및 도 13을 참조하면, 가압부(511)는 가압부 상면과 하면 중 적어도 어느 하나에 형성되는 뿔형 가압 가이드(515c)를 포함할 수 있다. 뿔형 가압 가이드(515c)는 유체를 가압부(511) 방향과 압력 조절홀(513) 방향으로 분배 유도하여 유체에 의한 압력을 분산시켜서 가압 디스크(510)에 가해지는 압력을 낮출 수 있다.12 and 13, the pressing unit 511 may include a horn-shaped pressing guide 515c formed on at least one of the upper and lower surfaces of the pressing unit. The horn type pressure guide 515c distributes the fluid in the direction of the pressure unit 511 and the pressure control hole 513 to disperse the pressure by the fluid to lower the pressure applied to the pressure disk 510.

다음으로, 도 14를 참조하여 가압 디스크(510)의 응용예를 설명한다. 도 14를 참조하면, 가압 디스크(510)는 가압부(511)를 구비한 역세정홀(512)과 압력 조절홀(513)과 가압 롤러(516)를 더 포함한다. Next, the application example of the pressurizing disk 510 is demonstrated with reference to FIG. Referring to FIG. 14, the pressurizing disk 510 further includes a backwashing hole 512 having a pressurizing part 511, a pressure adjusting hole 513, and a pressurizing roller 516.

가압부(511), 역세정홀(512), 압력 조절홀(513)은 전술한 실시예와 실질적으로 동일하다. 가압 롤러(516)는 가압부(511)에 형성되며 필터(300)의 외주면과 접촉하여 구르도록 형성된다. 가압 롤러(516)는, 가압 디스크(510) 이동시 가압 디스크(510)가 수평을 유지 못하는 경우에도 가압부(511)와 필터(300) 외주면과의 이격 거리를 유지시킬 수 있으며, 가압 롤러(516)가 필터(300)의 외주면을 접촉하여 구르면서 필터의 내주면에 부착된 이물질을 제거한다.The pressing unit 511, the back washing hole 512, the pressure adjusting hole 513 is substantially the same as the above-described embodiment. The pressing roller 516 is formed in the pressing portion 511 and is formed to roll in contact with the outer circumferential surface of the filter 300. The pressing roller 516 may maintain a separation distance between the pressing unit 511 and the outer peripheral surface of the filter 300 even when the pressing disk 510 is not horizontal when the pressing disk 510 moves, and the pressing roller 516 ) Removes the foreign matter attached to the inner peripheral surface of the filter while rolling in contact with the outer peripheral surface of the filter (300).

본 응용예에 의하면, 가압부(511)에 의한 필터(300) 내부로의 유체 유입에 의한 역세정과 가압 롤러(516)에 의한 필터(300) 외주면에서의 구름 접촉에 의한 필터 세정이 동시에 수행되어 세정 효율을 더욱 향상시킬 수 있게 된다.According to this application example, backwashing due to fluid inflow into the filter 300 by the pressing unit 511 and filter cleaning by rolling contact on the outer peripheral surface of the filter 300 by the pressing roller 516 are simultaneously performed. Thus, the cleaning efficiency can be further improved.

다음, 도 15 내지 도 17을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 동작 과정을 설명한다. 도 15는 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 여과시 동작 상태가 예시된 동작 상태도이고, 도 16은 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 세정시 동작 상태가 예시된 동작 상태도이며, 도 17은 본 발명의 실시예에 따른 가압 디스크가 구비되지 않은 여과 장치의 동작 상태가 예시된 동작 상태도이다.Next, referring to Figures 15 to 17 will be described the operation of the dual double backwash cleaning filter according to an embodiment of the present invention. FIG. 15 is an operational state diagram illustrating an operating state when filtration of the dual dual backwash filtration apparatus according to an embodiment of the present invention, and FIG. 16 is an operation state during cleaning of the dual dual backwash filtration apparatus according to an embodiment of the present invention. 17 is an operational state diagram illustrating a state, and FIG. 17 is an operational state diagram illustrating an operating state of a filtration device without a pressurized disk according to an embodiment of the present invention.

도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 여과시에는, 조절밸브(450)가 닫힌 상태이고, 유입구(110)를 통해 유입된 유체는 제1 수용실(210)을 거쳐서 필터(300)로 유동한다. 유체가 필터(300)의 내주면에서 외주면으로 이동하면서 유입된 유체에 포함된 이물질은 여과된다. 필터(300)에 의해 여과되지 못한 유체는 개구(141)를 통해 제2 수용실(220)에 수용된 후, 다시 다른 개구(141)를 통해 다른 필터로 하방향으로 유동하면서 여과된다. 여과된 유체는 여과실(230)을 거쳐 유출구(130)를 통해 외부로 유출된다.As shown in FIG. 15, in the filtration of the dual double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, the control valve 450 is in a closed state, and the fluid introduced through the inlet port 110 is first received. It flows through the chamber 210 to the filter 300. As the fluid moves from the inner circumferential surface of the filter 300 to the outer circumferential surface, foreign matter contained in the introduced fluid is filtered. The fluid not filtered by the filter 300 is accommodated in the second receiving chamber 220 through the opening 141, and then filtered while flowing downward through the other opening 141 to another filter. The filtered fluid flows out through the outlet 130 through the filtration chamber 230.

도 16에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 세정시에는, 제1 드레인관(430)과 개구(131)가 연통한 후, 조절밸브(450)를 오픈하면 연통된 부분의 필터(300) 내부의 유체는 압력 저하로 제2 수용실(220)로부터 필터(300)를 거쳐 제1 드레인관(430) 및 제2 드레인관(440)으로 흐르게 된다. 이 과정에서 여과실(230)에 수용된 유체의 일부는 필터(300) 외주면에서 내주면으로 향하여 흐르게 되고, 이에 따라 필터(300)에 누적된 이물질은 제거된다. 이러한 필터(300) 외부에서 필터 내부로의 유체 유입 방식의 역류식 세정 작용은 제1 세정부(400)에 의해 수행된다.As shown in FIG. 16, in the cleaning of the dual double backwash filtration apparatus according to the embodiment of the present invention, after the first drain pipe 430 and the opening 131 communicate with each other, the control valve 450 is opened. When opened, fluid inside the filter 300 in the communication portion flows from the second storage chamber 220 to the first drain pipe 430 and the second drain pipe 440 through the filter 300 due to the pressure drop. In this process, a part of the fluid accommodated in the filtration chamber 230 flows from the outer circumferential surface of the filter 300 toward the inner circumferential surface, thereby removing foreign matter accumulated in the filter 300. The countercurrent cleaning action of the fluid inflow into the filter from the outside of the filter 300 is performed by the first cleaning unit 400.

한편, 도 17에 도시된 바와 같이, 제1 세정부(400)에 의한 역세정 운전시, 여과실(230)의 유체 중에서 필터(300)와 제1 드레인관(430)이 연결된 부분(예를 들어, B 부분)에 있는 유체만 집중적으로 필터(300) 내부로 역류하고, 필터 상부의 부분(예를 들어, C 부분)에 있는 유체는 상대적으로 적은 양의 유체가 부분적으로 필터(300) 내부로 역류하여, 필터(300) 전체를 세정하지 못하게 된다. 이에 따라 불균일한 역세정이 수행되어 역세정 효과가 감소되는 문제가 있다.On the other hand, as shown in Figure 17, during the backwash operation by the first cleaning unit 400, the portion of the filter 300 and the first drain pipe 430 in the fluid in the filtration chamber 230 (for example For example, only the fluid in part B) flows back into the filter 300 intensively, while the fluid in the part above the filter (eg part C) has a relatively small amount of fluid partially inside the filter 300. As a result, the entire filter 300 cannot be cleaned. As a result, non-uniform backwashing is performed, thereby reducing the backwashing effect.

이에 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치의 세정시에는, 도 16에 도시된 바와 같이, 제1 세정부(400)에 역세정 과정과 제2 세정부(500)에 의한 역세정 과정이 동시에 수행된다. 즉, 가압 디스크 이동수단(520)에 의해 가압 디스크(510)가 필터(300)의 축방향을 따라 하방향으로 이동하면, 가압부(511)는 여과실(230)에 수용된 여과된 유체의 일부를 필터(300) 내부로 유입시킨다. 이때, 유체는 필터(300) 내주면에 부착된 이물질을 제거하면서 필터(300) 내부로 유입된다. 가압 디스크(510)는 필터(300)의 전 영역을 왕복 이동하므로, 가압부(511)에 의해 유입되는 유체도 필터(300)의 전 영역을 거쳐 유입되며, 이 과정에서 필터(300)의 전 영역을 거쳐 필터(300) 내주면에 부착된 이물질은 제거된다. Accordingly, when the dual dual backwash cleaning filter according to the embodiment of the present invention is washed, as shown in FIG. 16, the backwashing process and the reverse cleaning process performed by the second cleaning unit 500 in the first cleaning unit 400 are performed. The cleaning process is carried out simultaneously. That is, when the pressurizing disk 510 moves downward along the axial direction of the filter 300 by the pressurizing disk moving means 520, the pressurizing part 511 is a part of the filtered fluid accommodated in the filtration chamber 230. To flow into the filter 300. At this time, the fluid is introduced into the filter 300 while removing the foreign matter attached to the inner peripheral surface of the filter 300. Since the pressurizing disk 510 reciprocates through the entire area of the filter 300, the fluid introduced by the pressurizing part 511 is also introduced through the entire area of the filter 300, and in this process, the front of the filter 300 is moved. Foreign matter attached to the inner circumferential surface of the filter 300 is removed through the area.

따라서, 본 발명의 실시예에 따른 이중 이중 역류 세정식 여과 장치에 의하면, 필터(300)의 전 영역을 거쳐 필터(300) 내주면에 부착된 이물질은 제거할 수 있게 되어 균일한 역세정을 수행할 수 있으며, 세정 효율을 향상시킬 수 있게 된다.Therefore, according to the dual double backwash cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention, foreign matter adhering to the inner circumferential surface of the filter 300 can be removed through the entire area of the filter 300 to perform uniform backwashing. It is possible to improve the cleaning efficiency.

이상, 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.As mentioned above, although an embodiment of the present invention has been described, those of ordinary skill in the art may add, change, delete or add components within the scope not departing from the spirit of the present invention described in the claims. The present invention may be modified and changed in various ways, etc., which will also be included within the scope of the present invention.

100 : 하우징 210 : 제1 수용실
220 : 제2 수용실 230 : 여과실
300 : 필터 400 : 제1 세정부
500 : 제2 세정부 510 : 가압 디스크
511 : 가압부 512 : 역세정홀
513 : 압력 조절홀 514 : 수평 유지돌기
520 : 가압 디스크 이동수단 100 housing 210 first storage chamber
220: second storage chamber 230: filtration chamber
300 filter 400 first cleaning unit
500: second cleaning unit 510: pressurized disk
511: pressure unit 512: backwash hole
513: pressure adjustment hole 514: leveling projection
520: pressurized disk moving means

Claims

When the fluid flows, a filter for filtering foreign substances contained in the fluid is inserted, and a backwashing hole having a pressurizing part spaced apart from the outer circumferential surface of the filter, and a pressure adjusting hole through which the fluid passes to control the pressure by the fluid. A plate-shaped press disc formed outside the cleaning hole;
A pressure disk moving means for moving the pressure disk in the axial direction of the filter,
And a pressurized disk moving in the axial direction of the filter to introduce a fluid into the filter to remove foreign matter adhering to the inner circumferential surface of the filter in a backwash manner.

The method according to claim 1, wherein the pressing unit,
And a tubular pressurized surface formed in parallel with an outer circumferential surface of said filter.

The method according to claim 1, wherein the pressing unit,
A dual countercurrent cleaning filtration device comprising an inclined surface through-hole in the form of upper and lower beams.

The method according to claim 1, wherein the pressing unit,
A cylindrical pressing surface formed in parallel with the outer circumferential surface of the filter,
At least one of the inclined surface through-hole formed in the upper side of the tubular pressing surface and the inclined surface through-hole formed in the upper side of the cylindrical pressing surface. Dual countercurrent cleaning filtration device.

The method according to claim 1, wherein the pressing unit,
A double countercurrent cleaning filtration device, characterized in that the inclined surface through-holes in the form of the upper side down light, and the inclined surface through-holes in the upper side down the form is formed in the upper portion.

The method according to claim 1,
And a pressurization guide formed on at least one of the upper and lower surfaces of the pressurizing part and configured to guide the fluid to the pressurizing part.

The method according to claim 6,
The pressing guide formed on the upper surface of the pressing portion has an inclined surface in the form of upper and lower narrowings, and the pressing guide formed on the lower surface of the pressing portion has an inclined surface in the form of upper and lower beams. A dual countercurrent wash filtration device.

The method according to any one of claims 1 to 7,
And a pressurizing roller which is formed in the pressurizing part and removes foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter while rolling in contact with the outer circumferential surface of the filter.

The method according to any one of claims 1 to 7,
Dual countercurrent cleaning filtration device is formed on the outer circumferential surface of the pressurizing disk is provided with a horizontal holding projection fitted to the horizontal holding groove formed in the inner wall of the filter formed housing.

A housing having an inlet through which fluid is introduced and an outlet through which the fluid filtered therein flows out;
A first accommodating chamber communicating with the inlet and accommodating fluid before filtration introduced through the inlet;
A filtration chamber including a filter for filtering the introduced fluid and formed in communication with the outlet;
A second accommodation chamber formed in communication with the filter above the filtration chamber;
A first cleaning unit which lowers the pressure inside the filter to introduce a fluid contained in the filtration chamber into the filter to remove foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter;
A second cleaning part formed to be spaced apart from an outer circumferential surface of the filter to remove foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter by flowing a fluid contained in the filtration chamber into the filter while moving in the axial direction of the filter;
Dual backwash cleaning filter comprising a.

The method of claim 10, wherein in the housing,
And a lower partition wall partitioning the first storage chamber and the filtration chamber, and an upper partition wall partitioning the second storage chamber and the filtration chamber.

The method of claim 10, wherein the first cleaning unit,
A rotating shaft formed through the central axis of the housing;
A gear motor formed on an upper end of the rotating shaft;
A rotatable first drain pipe formed at a lower end of the rotating shaft;
A second drain pipe connected to an end of the first drain pipe and having a control valve;
Dual backwash cleaning filter comprising a.

The method of claim 10, wherein the second cleaning unit,
A backwashing hole having a pressurizing portion spaced apart from an outer circumferential surface of the filter, and a plate-shaped pressurizing disk having a pressure adjusting hole through which the fluid passes to adjust the pressure caused by the fluid;
Press disk moving means for moving the press disk in the axial direction of the filter
Dual backwash cleaning filter comprising a.

The method of claim 13, wherein the pressing unit,
And a tubular pressurized surface formed in parallel with an outer circumferential surface of said filter.

The method of claim 13, wherein the pressing unit,
A dual countercurrent cleaning filtration device comprising an inclined surface through-hole in the form of upper and lower beams.

The method of claim 13, wherein the pressing unit,
A cylindrical pressing surface formed in parallel with the outer circumferential surface of the filter,
At least one of the inclined surface through-hole formed in the upper side of the tubular pressing surface and the inclined surface through-hole formed in the upper side of the cylindrical pressing surface. Dual countercurrent cleaning filtration device.

The method of claim 13, wherein the pressing unit,
A double countercurrent cleaning filtration device, characterized in that the inclined surface through-holes in the form of the upper side down light, and the inclined surface through-holes in the upper side down the form is formed in the upper portion.

The method according to claim 13,
And a pressurization guide formed on at least one of the upper and lower surfaces of the pressurizing part and configured to guide the fluid to the pressurizing part.

The method according to claim 18,
The pressing guide formed on the upper surface of the pressing portion has an inclined surface in the form of upper and lower narrowings, and the pressing guide formed on the lower surface of the pressing portion has an inclined surface in the form of upper and lower beams. A dual countercurrent wash filtration device.

The method according to any one of claims 13 to 19,
And a pressurizing roller which is formed in the pressurizing part and removes foreign substances attached to the inner circumferential surface of the filter while rolling in contact with the outer circumferential surface of the filter.

The method according to any one of claims 13 to 19,
Dual countercurrent cleaning filtration device is characterized in that the outer circumferential surface of the pressing disk is formed with a horizontal holding projection fitted to the horizontal holding groove formed on the inner wall of the housing.

The method according to claim 21,
It includes a differential pressure gauge for measuring the pressure difference between the top and bottom of the filter,
If the pressure difference measured by the differential pressure gauge is equal to or more than a reference value, the pressurizing disk moving means is operated so that the pressurizing disk removes the foreign matter adhering to the inner circumferential surface of the filter in a backwashing manner.
And a control unit for stopping the operation of the pressurizing disk moving unit and restoring the pressurizing disk to its original position when the pressure difference measured by the differential pressure gauge is less than a reference value.