KR102053915B1 - Surface Treatment Method and Surface Structure Layer By the Same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기재의 표면에서 실링제 접촉 영역을 포함하는 영역에 레이저 가공으로 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴 형성 단계를 포함하며, 상기 마이크로 패턴 형성 단계 후에 상기 실링제 접촉 영역의 일측 또는 양측으로 소정 폭의 옴니포빅층 형성 영역에 옴니포빅 물질을 코팅하여 옴니포빅층을 형성하는 옴니포빅층 형성 단계를 더 포함하는 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층을 개시한다.The present invention includes a micropattern forming step of forming a micropattern by laser machining on a region including a sealing agent contact region on a surface of a substrate, and after the micropattern forming step, a predetermined width to one side or both sides of the sealing agent contact region. Disclosed is a surface treatment method and a surface structure layer, further comprising an omnipobic layer forming step of forming an omnipobic layer by coating an omnipobic material on an omnipobic layer forming region.

Description

표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층{Surface Treatment Method and Surface Structure Layer By the Same}Surface Treatment Method and Surface Structure Layer By the Same}

본 발명은 기재 표면에 대한 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment method for a surface of a substrate and thereby a surface structure layer.

다양한 구동 부품들은 오일의 윤활 작용 또는 에너지 전달 작용을 필요로 한다. 자동차용으로 사용되는 구동 부품은 유압식 동력 보조 조향 장치(파워 스티어링), 자동 변속기, 엔진등이 있다. 공작 기계 또는 압출기용으로 사용되는 구동 부품은 다양한 기어 박스, 액츄에이터등이 있다. 상기 구동 부품들은 기어와 같은 구동 요소가 내부에 수용되는 케이스 본체와 케이스 본체를 밀폐하는 케이스 커버를 포함하여 형성된다. 상기 케이스 본체의 내부에는 다양한 종류의 오일이 구동 요소와 함께 수용된다.Various drive components require oil lubrication or energy transfer. Drive components used in automobiles include hydraulic power assist steering (power steering), automatic transmissions, and engines. Drive components used for machine tools or extruders include a variety of gearboxes, actuators and the like. The drive parts are formed including a case body in which a drive element such as a gear is received and a case cover sealing the case body. Various types of oil are accommodated together with the drive element in the case body.

상기 케이스 본체는 구동 요소와 오일이 내부로 충진되는데 필요한 경로를 제공하는 개방부가 상측 또는 일측에 형성된다. 상기 케이스 커버는 케이스 본체의 개방부를 밀폐한다. 상기 케이스 본체의 개방부 주위에는 실링제가 도포된다. 상기 실링제는 케이스 본체와 케이스 커버 사이에 위치하여 압착되면서 케이스 본체와 케이스 커버 사이를 밀폐한다. 상기 실링제는 구동 요소의 작동에 따라 발생되는 압력에 의한 손상 또는 시간의 경과에 따른 노화로 인하여 케이스 본체 또는 케이스 커버와의 접착력이 저하된다. 상기 구동 부품은 실링제의 접착력이 저하되면서 케이스 본체 내부의 오일이 외부로 유출되거나, 외부의 수분이나 다른 종류의 오일이 케이스 내부로 유입되는 문제가 있다. 한편, 상기 케이스 본체에 냉각수와 같은 물이 충진되는 경우에도 동일한 문제가 발생될 수 있다.The case body has an opening on top or on one side that provides a path for the drive element and the oil to be filled therein. The case cover seals the opening of the case body. A sealing agent is applied around the opening of the case body. The sealing agent is located between the case body and the case cover while being compressed to seal between the case body and the case cover. The sealing agent is deteriorated in adhesion to the case body or the case cover due to damage caused by pressure generated by the operation of the drive element or aging over time. The driving part has a problem in that the oil inside the case body leaks to the outside while the adhesive force of the sealing agent is lowered, or external moisture or other kinds of oil flows into the case. On the other hand, the same problem may occur when the case body is filled with water such as cooling water.

최근에는 상기 케이스 본체와 케이스 커버에서 실링제와 접촉되는 영역을 플라즈마 처리하여 접착력을 유지시키는 방법이 개발되고 있다. 그러나 상기 플라즈마에 의한 표면 처리는 그 효과가 장시간 유지되지 못하는 측면이 있다. 또한, 상기 플라즈마 장비가 고가이므로 공정 비용이 증가되는 측면이 있다.Recently, a method of maintaining adhesion by plasma treatment of an area in contact with the sealing agent in the case body and the case cover has been developed. However, the surface treatment by the plasma has a side that its effect is not maintained for a long time. In addition, since the plasma equipment is expensive, the process cost is increased.

본 발명은 기재 표면에 친수성을 부여하여 실링제와의 접착력을 증가시키는 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a surface treatment method and a surface structure layer thereby providing hydrophilicity on the surface of a substrate to increase adhesion to the sealing agent.

본 발명은 기재 표면에 옴니포빅 특성을 추가로 부여하여 오일 또는 물의 침투를 방지하는 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층에 관한 것이다.The present invention relates to a surface treatment method and thereby a surface structure layer which further impart omnipobic properties to the surface of the substrate to prevent penetration of oil or water.

본 발명의 표면 처리 방법은 기재의 표면에서 실링제 접촉 영역을 포함하는 영역에 레이저 가공으로 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴 형성 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The surface treatment method of the present invention is characterized by including a micropattern forming step of forming a micropattern by laser machining on a region including a sealing agent contact region on the surface of the substrate.

또한, 본 발명의 표면 처리 방법은 상기 마이크로 패턴 형성 단계 후에 상기 실링제 접촉 영역의 일측 또는 양측으로 소정 폭의 옴니포빅층 형성 영역에 옴니포빅 물질을 코팅하여 옴니포빅층을 형성하는 옴니포빅층 형성 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, in the surface treatment method of the present invention, after forming the micro-pattern, forming an omnipobic layer by coating an omnipobic material on an omnipobic layer forming region having a predetermined width to one side or both sides of the sealing agent contact region. It may further comprise a step.

또한, 상기 옴니포빅층 형성 영역은 상기 마이크로 패턴이 형성되며, 상기 옴니포빅층은 상기 옴니포빅 물질이 마이크로 패턴의 표면에 코팅되어 형성될 수 있다.In addition, the omnipobic layer forming region may be formed with the micro pattern, and the omnipobic layer may be formed by coating the omnipobic material on the surface of the micropattern.

또한, 상기 옴니포빅층 형성 단계는 상기 실링제 접촉 영역에 실링제가 도포된 후에 진행되며, 상기 옴니포빅층은 상기 기재의 표면과 상기 실링제의 경계부 및 상기 실링제 접촉 영역을 포함하는 영역에 형성될 수 있다.In addition, the forming of the omnipobic layer is performed after the sealing agent is applied to the sealing agent contacting region, and the omnipobic layer is formed in the region including the surface of the substrate and the boundary between the sealing agent and the sealing agent contacting region. Can be.

또한, 상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 하부로 형성되는 트렌치 구조로 형성되며, 상기 트렌치 구조는 격자 형상 패턴, 벌집 형상 패턴 또는 스트라이프 형상 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.In addition, the micro-pattern is formed in a trench structure which is formed from the surface of the base material, the trench structure is a surface treatment method, characterized in that formed in a lattice pattern, honeycomb pattern or stripe pattern.

또한, 상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 방향의 폭이 1 ~ 500㎛이 되도록 형성되며, 상기 마이크로 패턴은 상기 트렌치 구조의 서로 이격되는 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성될 수 있다. In addition, the trench structure may be formed to have a width in a direction perpendicular to the extending direction of 1 to 500 μm, and the micro-pattern may be formed to have a distance of 1 to 1,000 μm from the trench structure.

또한, 상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 상부로 돌출되는 돌기 구조로 형성되며, 상기 돌기 구조는 원기둥, 사각 기둥, 육각 기둥, 원뿔대, 사각뿔대 또는 육각뿔대 형상으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 돌기 구조는 폭 또는 직경이 1 ~ 500㎛이며, 상기 마이크로 패턴은 상기 돌기 구조의 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성될 수 있다.In addition, the micro-pattern is formed of a protrusion structure protruding upward from the surface of the substrate, the protrusion structure may be formed in the shape of a cylinder, a square pillar, a hexagonal pillar, a truncated cone, a square pyramid or a hexagonal pyramid. In addition, the protrusion structure has a width or diameter of 1 ~ 500㎛, the micro pattern may be formed so that the separation distance of the protrusion structure is 1 ~ 1,000㎛.

또한, 상기 옴니포빅층은 0.1nm ~ 10㎛의 두께로 형성될 수 있다.In addition, the omnipobic layer may be formed to a thickness of 0.1nm ~ 10㎛.

또한, 상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)로 표시되는 실란계 화합물을 포함할 수 있다.In addition, the omnipobic layer may include a silane compound represented by the following structural formula (1) including a CF (fluorocarbon) group or a CH (hydrocarbon) group.

구조식(1)Structural Formula (1)

Figure 112017020312358-pat00001
또는
Figure 112017020312358-pat00002
Figure 112017020312358-pat00001
or
Figure 112017020312358-pat00002

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)(Where n is 4 to 25)

또한, 상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy , AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 물질을 포함하는 베이스 입자의 표면에 상기 실란계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성될 수 있다.In addition, the omnipobic layer is Ti x O y , Fe x O y , Al x O y , Si x O y , Sn x O y , Zn x O y , In x O y , Ce x O y , Zr x O The omnipobic particles formed by coating the silane-based compound may be formed on the surface of the base particle including any one material selected from the group consisting of y , graphene, and graphene oxide.

또한, 상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며, 상기 실란계 화합물의 실란기가 상기 기재 표면에 형성되는 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성될 수 있다.In addition, the substrate may be a metal material having an oxide layer formed on a surface thereof, and the silane group of the silane-based compound may be formed by magnetic coupling with a metal group (-M) or an oxygen group (-O) formed on the surface of the substrate.

또한, 상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)로 표시되는 인산계 화합물을 포함할 수 있다. In addition, the omnipobic layer may include a phosphate compound represented by the following structural formula (2) including a CF (fluorocarbon) group or a CH (hydrocarbon) group.

구조식(2)Structural Formula (2)

Figure 112017020312358-pat00003
또는
Figure 112017020312358-pat00004
Figure 112017020312358-pat00003
or
Figure 112017020312358-pat00004

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)(Where n is 4 to 25)

또한, 상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy , AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 물질을 포함하는 베이스 입자의 표면에 상기 인산계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성될 수 있다.In addition, the omnipobic layer is Ti x O y , Fe x O y , Al x O y , Si x O y , Sn x O y , Zn x O y , In x O y , Ce x O y , Zr x O It can be formed by coating the omnipobic particles formed by coating the phosphate-based compound on the surface of the base particles containing any one material selected from the group consisting of y , graphene and graphene oxide.

또한, 상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며, 상기 인산계 화합물의 인산기가 상기 기재 표면의 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성될 수 있다.The substrate may be a metal material having an oxide layer formed on a surface thereof, and the phosphate group of the phosphate compound may be formed by magnetic coupling with a metal group (-M) or an oxygen group (-O) on the surface of the substrate.

또한, 상기 실링제 접촉 영역은 상기 기재의 표면에 하부 방향으로 형성되어 실링제가 수용되는 실링제 수용 홈으로 형성되며, 상기 마이크로 패턴은 상기 실링제 수용 홈의 바닥면 및 내측면에 형성될 수 있다.In addition, the sealant contact region may be formed in a sealing agent accommodating groove formed in the downward direction on the surface of the substrate to accommodate the sealant, and the micro-pattern may be formed on the bottom surface and the inner surface of the sealant accommodating groove. .

또한, 본 발명의 표면 구조층은 상기와 같은 표면 처리 방법에 의하여 형성될 수 있다.In addition, the surface structure layer of the present invention can be formed by the surface treatment method as described above.

본 발명의 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층은 기재 표면에서 실링제가 접촉되는 영역에 레이저 가공으로 마이크로 패턴을 형성하여 친수성(hydrophilic)을 부여함으로써 실링제와의 접착력을 증가시키고 오일 또는 물의 침투를 방지하는 효과가 있다.The surface treatment method of the present invention and the surface structure layer thereby provide a hydrophilicity by forming a micro pattern by laser processing on the area where the sealing agent contacts on the surface of the substrate, thereby increasing adhesion to the sealing agent and improving penetration of oil or water. It is effective to prevent.

본 발명의 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층은 기계적인 방법으로 기재 표면에 친수성을 부여하므로 친수성이 반영구적으로 유지되는 효과가 있다.Since the surface treatment method of the present invention and the surface structure layer thereby provide hydrophilicity to the surface of the substrate by a mechanical method, the hydrophilicity is semi-permanently maintained.

본 발명의 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층은 마이크로 패턴이 형성된 실링제 접촉 영역의 외측에 추가로 화학적인 방법으로 옴니포빅층을 형성하여 옴니포빅 특성이 부여함으로써 오일이 유출되거나 수분이나 다른 종류의 오일이 유입되는 것을 방지하는 효과가 있다.The surface treatment method of the present invention and the surface structure layer thereby form an omnipobic layer by chemically forming the omnipobic layer on the outside of the micropatterned sealing agent contacting region, and thus oil is leaked or water or other kinds are imparted. It is effective to prevent the oil from entering.

본 발명의 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층은 기존의 플라즈마 처리에 비하여 상대적으로 저렴한 레이저 가공을 이용하여 친수성을 부여하므로 공정 비용이 감소되는 효과가 있다.The surface treatment method of the present invention and the surface structure layer thereby provide hydrophilicity using laser processing, which is relatively inexpensive, compared to the conventional plasma treatment, thereby reducing the process cost.

본 발명의 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층은 레이저 가공을 이용하므로 마이크로 패턴을 필요로 하는 실링제 접촉 영역에 정확하게 형성하는 효과가 있다.Since the surface treatment method of the present invention and the surface structure layer thereby use laser processing, there is an effect of accurately forming a sealing agent contact region requiring a micropattern.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법의 공정도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 표면 구조층의 평면도이다.
도 3은 도 2의 A-A 수직 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 마이크로 패턴의 확대 사진이다.
도 5는 도 4의 마이크로 패턴의 표면에 옴니포빅층이 형성된 상태의 확대 사진이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 벌집 형상 패턴을 갖는 마이크로 패턴의 확대 사진이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 돌기 구조를 갖는 마이크로 패턴의 확대 사진이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 표면 구조층의 수직 단면도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면처리 방법에 따른 평가 결과를 나타낸 사진이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의한 옴니포빅층의 평가 결과 사진이다.1 is a process chart of the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view of a surface structure layer formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
3 is a vertical AA cross-sectional view of FIG. 2.
4 is an enlarged photograph of a micro pattern formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
5 is an enlarged photograph of a state where an omnipobic layer is formed on a surface of the micropattern of FIG. 4.
6 is an enlarged photograph of a micro pattern having a honeycomb pattern formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
7 is an enlarged photograph of a micro pattern having a protrusion structure formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
8 is a vertical sectional view of a surface structure layer formed by a surface treatment method according to another embodiment of the present invention.
9 is a photograph showing an evaluation result according to the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.
10 is a photograph of the evaluation result of the omnipobic layer by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예에 따른 표면 처리 방법 및 이에 의한 표면 구조층에 대하여 설명한다.Hereinafter, a surface treatment method and a surface structure layer according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 대하여 설명한다.First, a surface treatment method according to an embodiment of the present invention will be described.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법의 공정도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 표면 구조층의 평면도이다. 도 3은 도 2의 A-A 수직 단면도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 격자 형상 패턴을 갖는 마이크로 패턴의 확대 사진이다. 도 5는 도 4의 마이크로 패턴의 표면에 옴니포빅층이 형성된 상태의 확대 사진이다. 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 벌집 형상 패턴을 갖는 마이크로 패턴의 확대 사진이다. 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 돌기 구조를 갖는 마이크로 패턴의 확대 사진이다.1 is a process chart of the surface treatment method according to an embodiment of the present invention. 2 is a plan view of a surface structure layer formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention. 3 is a vertical cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 4 is an enlarged photograph of a micro pattern having a lattice pattern formed by a surface treatment method according to an exemplary embodiment of the present invention. 5 is an enlarged photograph of a state where an omnipobic layer is formed on a surface of the micropattern of FIG. 4. 6 is an enlarged photograph of a micro pattern having a honeycomb pattern formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention. 7 is an enlarged photograph of a micro pattern having a protrusion structure formed by a surface treatment method according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법은, 도 1 내지 도 7을 참조하면, 마이크로 패턴 형성 단계(S10)를 포함하여 형성된다. 또한, 상기 표면 처리 방법은 옴니포빅층 형성 단계(S20)를 더 포함할 수 있다.1 to 7, the surface treatment method according to the exemplary embodiment of the present invention is formed including the micro pattern forming step S10. In addition, the surface treatment method may further include an omnipobic layer forming step (S20).

상기 표면 처리 방법은 오일을 이용하는 구동 부품에서 구동 요소와 오일이 수용되거나 오일만이 수용되는 케이스 본체 및 케이스 본체를 밀폐하는 케이스 커버에 적용된다. 상기 표면 처리 방법은 케이스 본체의 내부에 물, 냉각수와 같은 액체가 수용되는 경우도 적용될 수 있다. 상기 케이스 본체와 케이스 커버는 구동 부품의 종류에 따라 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The surface treatment method is applied to a case body which seals the case body and the case body in which the drive element and the oil are accommodated or only the oil is received in the drive component using the oil. The surface treatment method may be applied to a case in which a liquid such as water and cooling water is accommodated in the case body. The case body and the case cover may be formed in various shapes according to the type of the driving component.

상기 케이스 본체와 케이스 커버는 서로 대향 또는 접촉되는 영역이 기재(10)를 형성한다. 상기 기재(10)의 표면의 일부에 실링제(20)가 도포 또는 장착된다. 상기 표면 처리 방법은 케이스 본체와 케이스 커버의 기재(10)의 표면에서 실링제(20)가 도포 또는 장착되어 접촉되는 영역인 실링제 접촉 영역(100a)을 포함하는 영역에 적용된다. 상기 케이스 본체와 케이스 커버가 서로 대향 또는 접촉하는 영역은 케이스 본체의 개방부의 둘레를 따라 폐곡선 형상으로 형성된다. 상기 실링제 접촉 영역(100a)은 케이스 본체의 개방부 둘레를 따라 소정 폭을 갖는 폐곡선 형상으로 형성된다. 상기 실링제 접촉 영역(100a)은 케이스 본체와 케이스 커버의 형상에 따라 다양한 평면 형상으로 형성된다.The case body and the case cover form a base 10 in a region where the case body faces or contacts each other. The sealing agent 20 is apply | coated or attached to a part of the surface of the said base material 10. The surface treatment method is applied to a region including a sealing agent contact region 100a, which is a region in which the sealing agent 20 is applied or mounted and contacts on the surface of the case body and the base 10 of the case cover. An area in which the case body and the case cover face or contact each other is formed in a closed curve along the circumference of the opening of the case body. The sealing agent contact region 100a is formed in a closed curve shape having a predetermined width along the circumference of the opening of the case body. The sealing agent contact region 100a is formed in various planar shapes according to the shapes of the case body and the case cover.

상기 실링제(20)는 RTV 실리콘 고무(room temperature vulcanizing silicone rubber)와 같은 다양한 실링제가 사용될 수 있다. 또한, 상기 실링제(20)는 일반적인 오링(O-ring)이 사용될 수 있다. 상기 케이스 본체와 케이스 커버는 알루미늄 재질의 기재(10)로 형성되며, 표면에 알루미늄 산화막이 형성된다. 상기 케이스 본체와 케이스 커버는 구동 부품의 종류에 따라 다양한 금속 재질 또는 수지 재질로 형성될 수 있으며, 재질에 따라 표면에 금속 산화막이 형성될 수 있다.The sealant 20 may be a variety of sealants such as RTV silicone rubber (room temperature vulcanizing silicone rubber). In addition, a general O-ring may be used as the sealant 20. The case body and the case cover are formed of an aluminum base 10, and an aluminum oxide film is formed on a surface thereof. The case body and the case cover may be formed of various metal materials or resin materials according to the type of the driving component, and a metal oxide film may be formed on the surface according to the material.

상기 표면 처리 방법은 기계적인 가공 방법인 레이저 가공에 의하여 기재(10)의 표면에서 실링제 접촉 영역(100a)에 마이크로 패턴을 형성하여 친수성을 부여한다. 따라서, 상기 표면 처리 방법은 기재(10)의 표면과 실링제(20)의 접착력을 증가시켜 오일 또는 물의 침투를 방지한다. 상기 표면 처리 방법은 기계적인 방법으로 기재(10)의 표면에 친수성을 부여하므로 친수성이 반영구적으로 유지되도록 한다. The surface treatment method provides a hydrophilicity by forming a micro pattern on the sealing agent contact region 100a on the surface of the substrate 10 by laser processing, which is a mechanical processing method. Therefore, the surface treatment method increases the adhesion between the surface of the substrate 10 and the sealing agent 20 to prevent the penetration of oil or water. Since the surface treatment method imparts hydrophilicity to the surface of the substrate 10 by a mechanical method, the hydrophilicity is maintained semipermanently.

상기 표면 구조 처리 방법은 실링제 접촉 영역(100a)의 외측에 추가로 화학적인 방법으로 옴니포빅층(120)을 형성하여 옴니포빅 특성이 부여함으로써 외부로 오일이 유출되는 것을 방지하고 내부로 수분이나 다른 종류의 오일이 유입되는 것을 방지한다. 여기서, 상기 옴니포빅 특성은 발수성(또는 소수성)과 발유성을 모두 갖는 특성을 의미하거나 발수성 또는 발유성만을 갖는 특성을 의미한다. 상기 기재(10)는 표면에 금속기(-M) 또는 산소기(-O)가 존재하는 경우에 옴니포빅 물질과 결합되면서 옴니포빅층의 접착력을 증가시킨다. 따라서, 상기 기재(10)는 바람직하게는 표면에 산화막이 형성될 수 있는 재질로 형성된다. 예를 들면, 상기 기재(10)가 알루미늄으로 형성되는 경우에 표면에 알루미늄 산화막이 형성되며, 알루미늄 산화막의 금속기와 산소기가 옴니포빅 물질과 결합된다.상기 기재(10)의 표면에 산화막이 형성되는 경우에 금속기 또는 산소기를 형성하기 위한 별도의 처리 또는 계면층을 형성할 필요가 없다.In the surface structure treatment method, the omnipobic layer 120 is formed in a chemical method on the outer side of the sealing agent contact region 100a to prevent the oil from flowing out to the outside by providing the omnipobic property, Prevents other oils from entering Herein, the omnipobic property means a property having both water repellency (or hydrophobicity) and oil repellency or a property having only water repellency or oil repellency. The substrate 10 is combined with the omnifobic material when the metal group (-M) or oxygen group (-O) is present on the surface to increase the adhesion of the omnipobic layer. Therefore, the substrate 10 is preferably formed of a material capable of forming an oxide film on the surface. For example, when the substrate 10 is formed of aluminum, an aluminum oxide film is formed on a surface thereof, and a metal group and an oxygen group of the aluminum oxide film are combined with an omnipobic material. An oxide film is formed on the surface of the substrate 10. In this case, there is no need to form a separate treatment or interfacial layer for forming a metal group or an oxygen group.

상기 마이크로 패턴 형성 단계(S10)는 레이저 가공을 통하여 기재(10)의 표면에서 실링제 접촉 영역(100a)을 포함하는 영역에 마이크로 패턴(110)을 형성하는 단계이다. 상기 기재(10)의 표면은 평편한 평면을 이루거나 곡면을 이루도록 형성될 수 있다. 상기 기재(10)의 표면은 사전에 세척 공정을 통하여 레이저 가공에 영향을 주는 오염 물질이 제거될 수 있다.The micro-pattern forming step S10 is a step of forming the micro-pattern 110 in the region including the sealing agent contact region 100a on the surface of the substrate 10 through laser processing. The surface of the substrate 10 may be formed to form a flat plane or curved surface. The surface of the substrate 10 may be removed from the contaminants affecting the laser processing in advance through the cleaning process.

상기 마이크로 패턴(110)은 케이스 본체와 케이스 커버에서 실링제(20)가 접촉되는 실링제 접촉 영역(100a)에 모두 형성된다. 또한, 상기 마이크로 패턴(110)은 실링제(20)가 도포되는 케이스 본체 또는 케이스 커버에만 형성될 수 있다. 상기 실링제(20)는 일반적으로 케이스 본체만에 도포된다. 상기 실링제가 도포되지 않는 케이스 커버는 케이스 본체와 결합되면서 실링제와 접촉된다. The micro pattern 110 is formed in both the sealing body contact region 100a to which the sealing agent 20 is in contact with the case body and the case cover. In addition, the micro pattern 110 may be formed only in the case body or case cover to which the sealing agent 20 is applied. The sealant 20 is generally applied only to the case body. The case cover to which the sealing agent is not applied is brought into contact with the sealing agent while being combined with the case body.

상기 마이크로 패턴(110)은 기재(10)의 표면에서 실링제(20)와 접촉되는 실링제 접촉 영역(100a)을 포함하는 영역에 형성된다. 상기 마이크로 패턴(110)은 추가로 옴니포빅층(120)이 형성되는 옴니포빅층 형성 영역(100b)에도 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)은 실링제 접촉 영역(100a)의 일측 또는 양측을 따라 소정 폭으로 형성된다.The micro pattern 110 is formed in a region including a sealing agent contact region 100a in contact with the sealing agent 20 on the surface of the substrate 10. The micro pattern 110 may be further formed in the omnipobic layer forming region 100b in which the omnipobic layer 120 is formed. The omnipobic layer forming region 100b is formed to have a predetermined width along one side or both sides of the sealing agent contact region 100a.

상기 마이크로 패턴(110)은 실링제 접촉 영역(100a)에 친수성 특성을 부여하여 기재(10)의 표면과 실링제(20)의 접착력을 증가시킨다. 상기 마이크로 패턴(110)은 요철 구조를 가지므로 접촉되는 실링제(20)의 일부를 마이크로 패턴(110)의 내부로 유입시켜 기재 표면과 실링제(20)의 접착력을 추가로 증가시킬 수 있다.The micro pattern 110 may impart hydrophilicity to the sealing agent contact region 100a to increase the adhesion between the surface of the substrate 10 and the sealing agent 20. Since the micropattern 110 has a concave-convex structure, a portion of the sealing agent 20 contacted may be introduced into the micropattern 110 to further increase the adhesion between the surface of the substrate and the sealing agent 20.

상기 마이크로 패턴(110)은 기재(10)의 표면으로부터 하부로 형성되는 트렌치 구조로 형성된다. 상기 마이크로 패턴(110)은 규칙적으로 반복되는 패턴 형상으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 상기 트렌치 구조는 평면 형상을 기준으로 도 4에서 보는 바와 같이 격자 형상 패턴을 갖도록 형성될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 도 6에서 보는 바와 같이 벌집 형상 패턴을 갖도록 형성될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 스트라이프 형상 패턴으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 마이크로 패턴은 도 6에서 보는 바와 같이 벌집 형상 패턴의 내부에 추가로 원형 또는 사각 형상의 서브 마이크로 패턴이 형성될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 수직 단면이 사각 형상으로 형성된다. 상기 트렌치 구조는 수직 단면이 호 형상 또는 V자 형상을 갖도록 형성될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 방향의 폭이 1 ~ 500㎛이 되도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 트렌치 구조는 서로 이격되는 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 폭 또는 이격 거리가 너무 작으면 균일한 가공이 어렵다. 상기 트렌치 구조는 폭 또는 이격 거리가 너무 크면 친수성 특성이 저하될 수 있다. 상기 트렌치 구조는 1nm ~ 1000㎛의 깊이로 형성될 수 있다.The micropattern 110 is formed in a trench structure formed downward from the surface of the substrate 10. The micro pattern 110 may be formed in a pattern shape that is regularly repeated. For example, the trench structure may be formed to have a grid pattern as shown in FIG. 4 based on a planar shape. The trench structure may be formed to have a honeycomb pattern as shown in FIG. 6. The trench structure may be formed in a stripe pattern. In addition, as shown in FIG. 6, the micro pattern may further include a circular or square sub micro pattern in the honeycomb pattern. The trench structure has a rectangular vertical cross section perpendicular to the extending direction. The trench structure may be formed such that the vertical cross section has an arc shape or a V shape. The trench structure may be formed to have a width in a direction perpendicular to the extending direction of 1 to 500 μm. In addition, the trench structure may be formed so that the separation distance from each other is 1 ~ 1,000㎛. The trench structure is difficult to uniformly process if the width or separation distance is too small. The trench structure may have a low hydrophilic property when the width or the separation distance is too large. The trench structure may be formed to a depth of 1nm ~ 1000㎛.

상기 마이크로 패턴(110)은, 도 7에서 보는 바와 같이 기재(10)의 표면으로부터 상부로 돌출되는 돌기 구조로 형성될 수 있다. 상기 돌기 구조는 기재(10)의 표면에서 돌기 구조를 제외한 나머지 영역이 레이저 가공에 의하여 식각되면서 형성된다. 상기 돌기 구조는 원기둥, 사각 기둥, 육각 기둥, 원뿔대, 사각뿔대 또는 육각뿔대와 같은 형상으로 형성될 수 있다. 상기 돌기 구조는 폭 또는 직경이 1 ~ 500㎛이 되도록 형성될 수 있다. 또한, 상기 돌기 구조는 이격되는 이격 거리가 1 ~ 1000㎛이 되도록 형성될 수 있다. 상기 돌기 구조는 폭, 직경 또는 이격 거리가 너무 작으면 균일한 가공이 어렵다. 상기 돌기 구조는 폭, 직경 또는 이격 거리가 너무 크면 친수성 특성이 저하될 수 있다. 상기 돌기 구조는 1nm ~ 1000㎛의 높이로 형성될 수 있다.As shown in FIG. 7, the micro pattern 110 may have a protrusion structure protruding upward from the surface of the substrate 10. The protruding structure is formed while the remaining area of the substrate 10 except for the protruding structure is etched by laser processing. The protrusion structure may be formed in a shape such as a cylinder, a square pillar, a hexagonal pillar, a truncated cone, a square pyramid or a hexagonal pyramid. The protrusion structure may be formed to have a width or diameter of 1 ~ 500㎛. In addition, the protrusion structure may be formed so that the separation distance is 1 ~ 1000㎛. The protrusion structure is difficult to uniformly process if the width, diameter or separation distance is too small. If the protrusion structure is too large in width, diameter or separation distance, the hydrophilic property may be degraded. The protrusion structure may be formed to a height of 1nm ~ 1000㎛.

상기 마이크로 패턴 형성 단계(S10)는 펄스 레이저를 포함하는 다양한 종류의 레이저가 사용될 수 있다. 상기 마이크로 패턴 형성 단계(S10)는 마이크로 패턴(110)의 폭과 깊이에 따른 가공량을 고려하여 다양한 파장대의 레이저 또는 다양한 주파수를 갖는 레이저를 사용할 수 있다. 상기 마이크로 패턴 형성 단계(S10)는 레이저의 파워와 반복 회수를 조절하여 마이크로 패턴(110)의 깊이를 조절한다.In the micro-pattern forming step S10, various kinds of lasers including a pulse laser may be used. In the micro pattern forming step S10, lasers having various wavelengths or lasers having various frequencies may be used in consideration of the processing amount according to the width and depth of the micro pattern 110. The micro pattern forming step (S10) controls the depth of the micro pattern 110 by controlling the power and the number of repetitions of the laser.

상기 마이크로 패턴 형성 단계(S10)는 레이저를 사용하므로 기존에 사용되던 방법인 플라즈마 방법에 비하여, 필요한 영역에만 선택적으로 마이크로 패턴(110)을 정확하게 형성할 수 있다. 또한, 상기 레이저 가공 장비는 기존의 플라즈마 장비보다 가격이 낮으므로 공정 비용을 감소시킨다.Since the micro-pattern forming step S10 uses a laser, the micro-pattern 110 may be selectively formed accurately only in a required area, as compared with the plasma method, which is a conventional method. In addition, the laser processing equipment is lower in price than conventional plasma equipment, thereby reducing the process cost.

상기 옴니포빅층 형성 단계(S20)는 실링제 접촉 영역(100a)의 일측 또는 양측을 따라 소정 폭으로 기재(10)의 표면에 옴니포빅층(120)을 형성하는 단계이다. 상기 옴니포빅층(120)이 형성되는 옴니포빅층 형성 영역(100b)은 실링제 접촉 영역(100a)의 일측 또는 양측을 따라 소정 폭으로 형성된다. 상기 옴니포빅층(120)은 수mm의 폭으로 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)의 폭이 증가되는 경우에 옴니포빅층(120)이 물 또는 오일의 침투를 방지하는 성능이 증가된다.The omnipobic layer forming step (S20) is a step of forming the omnipobic layer 120 on the surface of the substrate 10 with a predetermined width along one side or both sides of the sealing agent contact region 100a. The omnipobic layer forming region 100b in which the omnipobic layer 120 is formed is formed to have a predetermined width along one side or both sides of the sealing agent contact region 100a. The omnipobic layer 120 may be formed to have a width of several mm. When the width of the omnipobic layer forming region 100b is increased, the omnipobic layer 120 increases the performance of preventing penetration of water or oil.

상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)은 상기에서도 언급한 바와 같이 실링제 접촉 영역(100a)과 같이 마이크로 패턴(110)이 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)에 형성되는 마이크로 패턴(110)은 실링제 접촉 영역(100a)의 마이크로 패턴(110)과 동일한 패턴 또는 다른 패턴으로 형성될 수 있다.As described above, the omnifobic layer forming region 100b may have a micro pattern 110 formed like the sealing agent contact region 100a. The micro pattern 110 formed in the omnifobic layer forming region 100b may be formed in the same pattern as or different from the micro pattern 110 of the sealing agent contact region 100a.

한편, 상기 옴니포빅층 형성 단계(S20)는 실링제 접촉 영역(100a)에 실링제(20)가 도포된 후에 진행될 수 있다. 이러한 경우에, 상기 옴니포빅층(120)이 실링제(20)와 기재(10)의 표면의 경계부에도 도포될 수 있다. 또한, 상기 옴니포빅층(120)은 기재(10)의 표면과 접촉되지 않는 실링제(20)의 표면에도 도포될 수 있다. 상기 옴비포빅층(120)은, 보다 구체적으로는 도 3에 도시된 바와 같이, 실링제(20)와 기재(10)의 표면의 경계부로부터 기재(10)의 표면과 접촉하지 않는 실링제(20)의 표면의 일부를 포함하는 영역에 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 실링제(20)와 기재(10)의 표면 사이로 오일 또는 물이 침투되는 것을 더 효과적으로 방지할 수 있다.On the other hand, the omnipobic layer forming step (S20) may proceed after the sealing agent 20 is applied to the sealing agent contact region (100a). In this case, the omnipobic layer 120 may be applied to the boundary between the sealing agent 20 and the surface of the substrate 10. In addition, the omnipobic layer 120 may be applied to the surface of the sealing agent 20 that is not in contact with the surface of the substrate 10. More specifically, as shown in FIG. 3, the ombifobic layer 120 does not come into contact with the surface of the substrate 10 from the boundary between the sealing agent 20 and the surface of the substrate 10. It may be formed in an area including a portion of the surface of). The omnifobic layer 120 may more effectively prevent oil or water from penetrating between the sealing agent 20 and the surface of the substrate 10.

상기 옴니포빅층(120)은 옴니포빅 물질이 기재(10)의 표면 또는 마이크로 패턴(110)의 표면에 직접 코팅되어 직접 코팅된다. 또한, 상기 옴니포빅층(120)은 베이스 입자에 옴니포빅 물질이 코팅된 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 붓칠 방법, 스프레이 코팅 방법, 스핀 코팅 방법, 잉크젯 코팅 방법 또는 디핑 방법에 의하여 코팅되어 형성된다. 상기 옴니포빅층(120)은 도 5에 도시되어 있는 바와 같이 투명하게 코팅되며, 마이크로 패턴이 그대로 보여진다.The omnifobic layer 120 is directly coated with an omnipobic material directly coated on the surface of the substrate 10 or the surface of the micro pattern 110. In addition, the omnipobic layer 120 may be formed by coating omnipobic particles coated with an omnipobic material on the base particles. The omnipobic layer 120 is formed by coating by a brushing method, a spray coating method, a spin coating method, an inkjet coating method or a dipping method. The omnipobic layer 120 is transparently coated as shown in FIG. 5, and the micro pattern is seen as it is.

상기 옴니포빅층(120)은 옴니포빅 특성을 갖는다. 상기 옴니포빅층(120)은 물 입자 또는 기름 입자의 접촉각을 증가시켜 물 입자 또는 기름 입자가 기재(10)의 표면과 실링제(20) 사이로 유입되는 것을 차단한다. 상기 옴니포빅층(120)은 마이크로 패턴(110)의 표면에 형성되는 경우에 옴니포빅 특성이 더욱 증가된다. The omnipobic layer 120 has omnipobic characteristics. The omnipobic layer 120 increases the contact angle of water particles or oil particles to block water particles or oil particles from flowing between the surface of the substrate 10 and the sealing agent 20. When the omnipobic layer 120 is formed on the surface of the micro pattern 110, the omnipobic characteristics are further increased.

상기 옴니포빅층(120)은 0.1nm ~ 10㎛의 두께로 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 옴니포빅 물질이 자기 결합에 의하여 기재(10)의 표면 또는 마이크로 패턴(110)의 표면과 결합되도록 도포되므로 박막으로 형성되어도 옴니포빅 특성을 갖는다. 또한, 상기 옴니포빅층(120)의 두께가 두꺼우면 공정 시간과 비용이 증가되는 측면이 있다.The omnipobic layer 120 may be formed to a thickness of 0.1nm ~ 10㎛. Since the omnipobic layer 120 is coated so that the omnipobic material is bonded to the surface of the substrate 10 or the surface of the micropattern 110 by magnetic coupling, the omnipobic layer 120 may have an omnipobic property. In addition, if the thickness of the omnipobic layer 120 is thick, the process time and cost is increased.

상기 옴니포빅 물질은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 실란계 화합물로 형성된다. 상기 옴니포빅층(120)은 전체가 실란계 화합물로 형성되거나, 일부가 실란계 화합물로 형성될 수 있다. The omnipobic material is formed of a silane compound including a CF (fluorocarbon) group or a CH (hydrocarbon) group. The omnipobic layer 120 may be entirely formed of a silane compound, or a part thereof may be formed of a silane compound.

상기 실란계 화합물은 하기 구조식(1)으로 표시되는 화합물로 형성될 수 있다. 또한, 상기 실란계 화합물은 삼염화 실란 자기결합 단분자막(trichlorosilane SAM)으로 형성될 수 있다. 상기 삼염화 실란 자기결합 단분자막은 (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane (HDF-S)일 수 있다. 한편, 상기 실란계 화합물의 실란기는 대기중에서도 반응이 빠르므로, 바람직하게는 반응 속도를 제어하기 위하여 질소분위기에서 진행될 수 있다.The silane compound may be formed of a compound represented by the following structural formula (1). In addition, the silane-based compound may be formed of a trichlorosilane SAM. The trichloride silane self-bonding monolayer may be (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane (HDF-S). On the other hand, since the silane group of the silane compound is fast in the atmosphere, it may be preferably carried out in a nitrogen atmosphere to control the reaction rate.

구조식(1)Structural Formula (1)

Figure 112017020312358-pat00005
또는
Figure 112017020312358-pat00006
Figure 112017020312358-pat00005
or
Figure 112017020312358-pat00006

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)(Where n is 4 to 25)

상기 옴니포빅층(120)은 실란계 화합물이 무수톨루엔과 같은 용매에 용해되어 마이크로 패턴(110)의 표면에 코팅되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 실란계 화합물은 0.1 ∼ 10mM의 농도로 용매에 용해되며, 바람직하게는 1 ~ 3mM의 농도로 용매에 용해된다. 상기 실란계 화합물의 농도가 너무 낮으면 옴니포빅층(120)이 충분한 옴니포빅 특성을 보유하지 않을 수 있다. 또한, 상기 실란계 화합물의 농도가 너무 높으면 불필요하게 옴니포빅 물질의 많이 사용되어 제조 비용이 증가될 수 있다.The omnipobic layer 120 may be formed by dissolving a silane-based compound in a solvent such as anhydrous toluene and coating the surface of the micro pattern 110. At this time, the silane compound is dissolved in the solvent at a concentration of 0.1 to 10 mM, preferably dissolved in the solvent at a concentration of 1 to 3 mM. If the concentration of the silane compound is too low, the omnipobic layer 120 may not have sufficient omnipobic properties. In addition, if the concentration of the silane-based compound is too high unnecessarily a lot of omnipobic material may be used to increase the manufacturing cost.

상기 옴니포빅 물질은 CF(탄화불소) 또는 CH(탄화수소)를 포함하는 인산계 화합물로 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 전체가 인산계 화합물로 형성되거나, 일부가 인산계 화합물로 형성될 수 있다. The omnipobic material may be formed of a phosphate compound including CF (fluorocarbon) or CH (hydrocarbon). The omnipobic layer 120 may be entirely formed of a phosphate compound, or a portion of the omnipobic layer 120.

상기 인산계 화합물은 하기 구조식(2)으로 표시되는 인산계 화합물로 형성될 수 있다. 또한, 상기 인산계 화합물은 포스폰산 자기결합 단분자막(phosphonic acid SAMs)으로 형성될 수 있다. 상기 포스폰산 자기결합 단분자막은 Octadecylphosphonic acid (OD-PA) 또는 (1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodec-1-yl) phosphonic acid (HDF-PA)일 수 있다. 한편, 상기 인산계 화합물의 인산기는 대기중에서 안정한 상태를 유지하므로 실란계 화합물과 달리 대기중에서 코팅 공정이 진행될 수 있다.The phosphate compound may be formed of a phosphate compound represented by the following structural formula (2). In addition, the phosphate-based compound may be formed of phosphonic acid SAMs. The phosphonic acid self-bonding monolayer may be Octadecylphosphonic acid (OD-PA) or (1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodec-1-yl) phosphonic acid (HDF-PA). Meanwhile, since the phosphate group of the phosphate compound maintains a stable state in the air, the coating process may be performed in the air unlike the silane compound.

구조식 (2)Structural Formula (2)

Figure 112017020312358-pat00007
또는
Figure 112017020312358-pat00008
Figure 112017020312358-pat00007
or
Figure 112017020312358-pat00008

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)(Where n is 4 to 25)

상기 옴니포빅층(120)은 인산계 화합물이 에탄올과 같은 알콜 용매에 용해되어 마이크로 패턴(110)의 표면에 코팅되어 형성될 수 있다. 이때, 상기 인산계 화합물은 0.1 ~ 10mM의 농도로 용매에 용해되며, 바람직하게는 1 ~ 3mM의 농도로 용매에 용해된다. 상기 인산계 화합물의 농도가 너무 낮으면 옴니포빅층(120)이 충분한 옴니포빅 특성을 보유하지 않을 수 있다. 또한, 상기 인산계 화합물의 농도가 너무 높으면 불필요하게 옴니포빅 물질의 많이 사용되어 제조 비용이 증가될 수 있다.The omnipobic layer 120 may be formed by dissolving a phosphate compound in an alcohol solvent such as ethanol and coating the surface of the micro pattern 110. At this time, the phosphate compound is dissolved in the solvent at a concentration of 0.1 ~ 10mM, preferably dissolved in the solvent at a concentration of 1 ~ 3mM. If the concentration of the phosphate compound is too low, the omnipobic layer 120 may not have sufficient omnipobic properties. In addition, if the concentration of the phosphate-based compound is too high unnecessarily a lot of omnipobic material may be used to increase the manufacturing cost.

상기 실란계 화합물과 인산계 화합물은 기재(10)의 표면과 결합력을 증가시키기 위하여 기재(10)의 표면에 금속기(-M) 또는 산소기(-O)가 존재하는 것이 유리하다. 상기 실란계 화합물과 인산계 화합물은 기재(10)의 표면에 존재하는 산소기와 결합하여 접착력이 향상된다. 따라서, 상기 기재(10)는 바람직하게는 표면에 산화막이 형성되는 금속 재질로 형성된다. 상기 기재(10)의 표면에 산화막이 형성되는 경우에 금속기 또는 산소기를 형성하기 위한 별도의 처리 또는 계면층을 형성할 필요가 없다. 예를 들면, 상기 기재(10)가 알루미늄으로 형성되는 경우에 표면에 알루미늄 산화막이 형성되며, 알루미늄 산화막의 금속기와 산소기가 실란계 화합물과 인산계 화합물과 결합된다.The silane-based compound and the phosphate-based compound may advantageously have a metal group (-M) or an oxygen group (-O) on the surface of the substrate 10 in order to increase the bonding force with the surface of the substrate 10. The silane compound and the phosphoric acid compound are bonded to oxygen groups present on the surface of the substrate 10 to improve adhesion. Accordingly, the substrate 10 is preferably formed of a metal material having an oxide film formed on the surface thereof. When the oxide film is formed on the surface of the substrate 10, it is not necessary to form a separate treatment or an interface layer for forming a metal group or an oxygen group. For example, when the substrate 10 is formed of aluminum, an aluminum oxide film is formed on the surface, and the metal group and the oxygen group of the aluminum oxide film are combined with the silane compound and the phosphate compound.

상기 옴니포빅 입자는 베이스 입자의 표면에 옴니포빅 물질이 코팅되어 형성된다. 상기 옴니포빅 입자는 직접 마이크로 패턴(110)의 표면에 코팅되어 옴니포빅층(120)을 형성할 수 있다. 또한, 상기 옴니포빅 입자는 별도의 고분자 수지가 혼합되어 마이크로 패턴(110)의 표면에 코팅되어 형성될 수 있다.The omnipobic particles are formed by coating an omnipobic material on the surface of the base particle. The omnipobic particles may be directly coated on the surface of the micro pattern 110 to form the omnipobic layer 120. In addition, the omnipobic particles may be formed by mixing a separate polymer resin and coating the surface of the micro pattern 110.

상기 베이스 입자는 TixOy, FexOy , AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy 및 ZrxOy로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나의 산화물 또는 이들의 혼합물로 형성될 수 있다. 또한, 상기 베이스 입자는 그래핀 또는 그래핀옥사이드로 형성될 수 있다. 또한, 상기 베이스 입자는 내부식성이 있는 니켈, 알루미늄, 스테인레스 스틸과 같은 금속 물질로 형성될 수 있다. 상기 베이스 입자는 1 ~ 500nm의 입경으로 형성될 수 있다. 상기 베이스 입자의 입경이 너무 작으면, 분산이 어려우며 표면에 균일하게 옴니포빅 물질이 코팅되기 어렵다. 또한, 상기 베이스 입자의 크기가 너무 크면 옴니포빅층(120)을 균일한 두께로 형성하기 어렵다. 또한, 상기 옴니포빅 물질은 베이스 입자의 표면에 10nm ~ 1㎛의 두께로 코팅되어 형성될 수 있다.The base particle is composed of Ti x O y , Fe x O y , Al x O y , Si x O y , Sn x O y , Zn x O y , In x O y , Ce x O y and Zr x O y It may be formed of any one oxide selected from the group or a mixture thereof. In addition, the base particles may be formed of graphene or graphene oxide. In addition, the base particles may be formed of a metal material such as nickel, aluminum, stainless steel having corrosion resistance. The base particles may be formed with a particle diameter of 1 ~ 500nm. If the particle size of the base particles is too small, dispersion is difficult and the omnifobic material is hardly coated on the surface. In addition, when the size of the base particles is too large, it is difficult to form the omnipobic layer 120 to a uniform thickness. In addition, the omnipobic material may be formed by coating the surface of the base particles with a thickness of 10nm ~ 1㎛.

상기 옴니포빅 물질이 실란계 화합물인 경우에 실란계 화합물의 실란기가 베이스 입자의 표면에 형성되는 금속기(-M) 또는 산소 이온기(-O)와 자기 결합에 의하여 배위결합되는 자기결합 단분자막(self-assembled monolayer)으로 형성될 수 있다. 또한, 상기 옴니포빅 물질이 인산계 화합물인 경우에 인산기가 베이스 입자의 표면에 형성되는 금속기(-M) 또는 산소 이온기(-O)와 자기 결합에 의하여 배위결합되는 자기결합 단분자막(self-assembled monolayer)으로 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅 물질은 베이스 입자의 표면에 존재하는 금속기 또는 산소 이온기와 공유 결합으로 결합되므로, 베이스 입자와의 결합력이 우수하다. 한편, 상기 베이스 입자는 플라즈마 처리를 통하여 표면에 금속기(-M) 또는 산소기(-O)를 형성할 수 있다.In the case where the omnifobic material is a silane-based compound, a self-bonding monomolecular layer in which a silane group of the silane-based compound is coordinated by magnetic coupling with a metal group (-M) or an oxygen ion group (-O) formed on a surface of a base particle (self) -assembled monolayer). In addition, when the omnipobic material is a phosphate compound, a self-assembled monolayer in which phosphate groups are coordinated by magnetic bonding with a metal group (-M) or an oxygen ion group (-O) formed on a surface of a base particle. monolayer). Since the omnifobic material is covalently bonded to a metal group or an oxygen ion group present on the surface of the base particle, the bonding force with the base particle is excellent. On the other hand, the base particles may form a metal group (-M) or oxygen group (-O) on the surface through a plasma treatment.

다음은 본 발명의 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 일 실시예의 표면 구조층에 대하여 설명한다.The following describes the surface structure layer of one embodiment formed by the surface treatment method of the present invention.

상기 표면 구조층(100)은 기재(10)의 표면에 형성되는 마이크로 패턴(110)을 포함한다. 상기 표면 구조층은 옴니포빅층(120)을 더 포함할 수 있다. 상기 기재(10)의 표면은 전체적으로 평면을 이루도록 형성된다. 상기 기재(10)의 표면은 실링제 접촉 영역(100a)이 곡면을 이루도록 형성될 수 있다.The surface structure layer 100 includes a micro pattern 110 formed on the surface of the substrate 10. The surface structure layer may further include an omnipobic layer 120. The surface of the substrate 10 is formed to form a plane as a whole. The surface of the substrate 10 may be formed such that the sealing agent contact region 100a forms a curved surface.

상기 마이크로 패턴(110)은 케이스 본체와 케이스 커버의 기재(10)의 표면에서 실링제(20)가 도포 또는 접촉되는 영역인 실링제 접촉 영역(100a)을 포함하는 영역에 형성된다. 상기 마이크로 패턴(110)은 전체가 폐곡선을 이루도록 형성된다. 상기 마이크로 패턴(110)은 기재(10)의 표면에 트렌치 구조 또는 돌기 구조로 형성된다. 상기 마이크로 패턴(110)은 상기에서 설명한 바와 같이 마이크로 패턴 형성 단계(S10)에 의하여 형성된다.The micro pattern 110 is formed in a region including a sealing agent contact region 100a, which is a region where the sealing agent 20 is applied or contacted on the surface of the case body and the base 10 of the case cover. The micro pattern 110 is formed to form a closed curve as a whole. The micro pattern 110 is formed in a trench structure or a protrusion structure on the surface of the substrate 10. The micro pattern 110 is formed by the micro pattern forming step S10 as described above.

상기 옴니포빅층(120)은 실링제 접촉 영역(100a)의 일측 또는 양측을 따라 소정 폭으로 형성되는 옴니포빅층 형성 영역(100b)에 형성된다. 상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)은 실링제 접촉 영역(100a)과 마찬가지로 마이크로 패턴(110)이 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 마이크로 패턴(110)의 영향으로 옴니포빅 특성이 더욱 증가된다.The omnipobic layer 120 is formed in the omnipobic layer forming region 100b formed along a side or both sides of the sealing agent contact region 100a at a predetermined width. The micro-pattern 110 may be formed in the omnifobic layer forming region 100b similarly to the sealing agent contact region 100a. The omnipobic layer 120 further increases omnipobic characteristics under the influence of the micropattern 110.

상기 옴니포빅층(120)은 실링제(20)와 기재(10)의 표면의 경계부에도 도포될 수 있다. 또한, 상기 옴니포빅층(120)은 실링제(20)의 표면에서 기재(10)의 표면과 접촉되지 않은 표면에도 형성될 수 있다. 상기 옴니포빅층(120)은 실링제(20)와 기재(10)의 표면의 경계부로 오일 또는 물이 침투하는 것을 방지할 수 있다.The omnifobic layer 120 may also be applied to the boundary between the sealing agent 20 and the surface of the substrate 10. In addition, the omnipobic layer 120 may be formed on a surface of the sealing agent 20 that is not in contact with the surface of the substrate 10. The omnifobic layer 120 may prevent oil or water from penetrating into the boundary between the sealing agent 20 and the surface of the substrate 10.

다음은 본 발명의 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 다른 실시예의 표면 구조층에 대하여 설명한다.The following describes the surface structure layer of another embodiment formed by the surface treatment method of the present invention.

도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 표면 구조층의 수직 단면도이다.8 is a vertical cross-sectional view of the surface structure layer formed by the surface treatment method according to another embodiment of the present invention.

상기 표면 구조층(200)은 기재(10)의 표면에 형성되는 마이크로 패턴(210)을 포함한다. 상기 표면 구조층(200)은 옴니포빅층(120)과 실링제 수용 홈(230)을 더 포함할 수 있다.The surface structure layer 200 includes a micro pattern 210 formed on the surface of the substrate 10. The surface structure layer 200 may further include an omnipobic layer 120 and a sealant accommodating groove 230.

상기 실링제 수용 홈(230)은 실링제 접촉 영역(100a)을 따라 기재(10)의 표면으로부터 하부 방향으로 형성되는 홈 형상을 이룬다. 상기 실링제 수용 홈(230)은 기재(10)의 표면에서 트렌치 형상으로 형성되며, 전체적으로 폐곡선을 이룬다. 상기 실링제(20)는 실링제 수용 홈(230)의 내측에 수용되며, 기재(10)의 표면과의 접촉 면적이 증가된다. 상기 실링제(20)는 기재(10)의 표면과의 접착력이 더욱 증가된다. 상기 실링제(20)가 오링으로 형성되는 경우에, 오링은 실링제 수용 홈(230)에 삽입되어 고정될 수 있다. 상기 실링제(20)는 실링제 수용 홈(230)의 상단, 즉 기재(10)의 표면보다 높은 높이로 돌출되도록 형성된다.The sealant accommodating groove 230 has a groove shape formed downward from the surface of the substrate 10 along the sealant contact region 100a. The sealant accommodating groove 230 is formed in a trench shape on the surface of the substrate 10 and forms a closed curve as a whole. The sealant 20 is accommodated inside the sealant accommodating groove 230, and the contact area with the surface of the substrate 10 is increased. The sealing agent 20 is further increased adhesion to the surface of the substrate 10. When the sealant 20 is formed of an O-ring, the O-ring may be inserted into and fixed to the sealant accommodating groove 230. The sealant 20 is formed to protrude to a height higher than the top of the sealant accommodating groove 230, that is, the surface of the substrate 10.

상기 마이크로 패턴(210)은 실링제 수용 홈(230)의 바닥면에 형성된다. 또한, 상기 마이크로 패턴(210)은 실링제 수용 홈(230)의 내측면도 형성될 수 있다. 또한, 상기 마이크로 패턴(210)은 실링제 수용 홈(230)의 상단의 일측 또는 양측에서 기재(10)의 표면에 소정 폭으로 형성될 수 있다. 즉, 상기 마이크로 패턴(210)은 옴니포빅층 형성 영역(100b)에도 형성될 수 있다.The micro pattern 210 is formed on the bottom surface of the sealant accommodating groove 230. In addition, the micro pattern 210 may also be formed on the inner surface of the sealant accommodating groove 230. In addition, the micro pattern 210 may be formed in a predetermined width on the surface of the substrate 10 at one side or both sides of the upper end of the sealant accommodating groove 230. That is, the micro pattern 210 may also be formed in the omnipobic layer forming region 100b.

상기 옴니포빅층(120)은 실링제 수용 홈(230)의 상단의 일측 또는 양측에서 옴니포빅층 형성 영역(100b)에 코팅되어 형성된다. 상기 옴니포빅층 형성 영역(100b)은 마이크로 패턴(210)이 형성되며, 옴니포빅층(120)은 마이크로 패턴(210)의 표면에 형성될 수 있다.The omnipobic layer 120 is formed by coating the omnipobic layer forming region 100b at one side or both sides of an upper end of the sealing agent accommodating groove 230. The omnipobic layer forming region 100b may be formed with a micropattern 210, and the omnipobic layer 120 may be formed on the surface of the micropattern 210.

다음은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의한 표면 구조층의 평가 결과에 대하여 설명한다.The following describes the evaluation result of the surface structure layer by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의한 표면 구조층의 평가 결과 사진이다. 도 10은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의한 옴니포빅층의 평가 결과 사진이다. 9 is a photograph of the evaluation result of the surface structure layer by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention. 10 is a photograph of the evaluation result of the omnipobic layer by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.

먼저, 본 발명의 표면 처리 방법에 의한 각 표면에 대한 친수성 및 소수성 평가 결과를 설명한다. First, the hydrophilicity and hydrophobicity evaluation result about each surface by the surface treatment method of this invention is demonstrated.

본 평가에서 기재는 알루미늄 재질을 사용하였다. 본 평가는 CF(탄화불소)를 포함하는 인산계 화합물을 옴니포빅 물질로 사용하여 옴니포빅층을 코팅하였다. 옴니포빅층의 하부에는 마이크로 패턴이 형성되었다.In this evaluation, the base material was made of aluminum. This evaluation coated the omnipobic layer using a phosphoric acid compound including CF (fluorine carbide) as an omnipobic material. The micro pattern was formed in the lower part of the omnipobic layer.

본 평가는 기재 표면, 마이크로 패턴과 옴니포빅층의 표면에 물 방울을 떨어뜨린 후에 접촉각을 측정하여 초기 친수성 및 소수성 특성을 평가하였다. 본 평가는 초기 평가한 물 방울에 대하여 2일 경과 후에 다시 접촉각을 측정하여 친수성 및 소수성 특성의 지속성 정도를 평가하였다. 또한, 본 평가는 비교 평가를 위하여 기존에 사용되던 플라즈마 처리층의 표면에 동일하게 물 방울을 떨어드린 후에 초기 특성과 2일 경과 특성을 평가하였다.In this evaluation, initial hydrophilicity and hydrophobicity characteristics were evaluated by measuring the contact angle after dropping water droplets on the surface of the substrate, the micropattern and the omnipobic layer. In this evaluation, the contact angle was measured after 2 days for the water droplets which were initially evaluated to evaluate the degree of persistence of the hydrophilic and hydrophobic properties. In addition, this evaluation evaluated the initial characteristics and the two-day elapsed characteristics after dropping the water drops on the surface of the plasma treatment layer previously used for comparative evaluation.

기재의 표면은 물 방울의 초기 접촉각이 86.3°로 측정되고, 2일 경과 후 접촉각이 85.6°로 측정되었다. 기재의 표면은 접촉각이 거의 변하지 않고 있으며, 기재의 고유 특성을 유지하는 것으로 판단된다.The surface of the substrate was measured to have an initial contact angle of 86.3 ° and a contact angle of 85.6 ° after 2 days. The surface of the substrate hardly changes the contact angle, and it is judged to maintain the intrinsic properties of the substrate.

마이크로 패턴의 표면은 물 방울의 초기 접촉각이 0°이며, 물 방울이 존재하지 않는 것처럼 퍼져 있는 것을 볼 수 있다. 마이크로 패턴의 표면은 2일 경과 후 접촉각도 0°로 측정되었다. 마이크로 패턴은 친수성을 띄고 있으며, 시간 경과에도 지속적으로 친수성을 유지하는 것으로 판단된다.The surface of the micropattern has an initial contact angle of 0 ° and can be seen to spread as if no water droplet is present. The surface of the micropattern was measured with a contact angle of 0 ° after 2 days. The micropattern is hydrophilic and is believed to maintain hydrophilicity over time.

옴니포빅층은 물 방울의 초기 접촉각이 151.8°이며, 물 방울이 거의 구형을 유지하는 것을 볼 수 있다. 마이크로 패턴의 표면은 2일 경과 후 접촉각도 151.7°로 측정되었다. 옴니포빅층은 소수성을 띄고 있으며, 시간 경과에도 지속적으로 소수성을 유지하는 것으로 판단된다.The omnifobic layer has an initial contact angle of 151.8 ° and the droplets remain almost spherical. The surface of the micropattern was measured at a contact angle of 151.7 ° after 2 days. The omnipobic class is hydrophobic and is believed to maintain hydrophobicity over time.

한편, 플라즈마 처리 표면은 물 방울의 초기 접촉각이 기재 표면의 경우보다 작아 친수성을 띄고 있으나, 마이크로 패턴과 달리 0°보다 크며 물 방울이 언덕을 이루는 것을 볼 수 있다. 플라즈마 처리 표면은 2일 경과 후 접촉각이 52.8°로 증가되어 친수성이 감소되는 것을 볼 수 있다. 즉, 상기 플라즈마 처리 표면은 시간이 지날수록 플라즈마 처리 이전 상태로 원복되어 친수성이 상실되는 경향이 있다. On the other hand, the surface of the plasma treated surface has a hydrophilic property that the initial contact angle of the water droplets is smaller than that of the substrate surface, but unlike the micro-pattern, it can be seen that the water droplets are larger than 0 ° and form a hill. It can be seen that the plasma treated surface is increased in contact angle to 52.8 ° after 2 days, thereby decreasing hydrophilicity. That is, the plasma treated surface tends to be restored to its pre-plasma state over time and lose hydrophilicity.

다음은 발명의 일 실시예에 따른 표면 처리 방법에 의한 옴미포빅층의 옴니포빅 특성에 대한 평가 결과를 설명한다. The following describes the evaluation results of the omnipobic properties of the ommypobic layer by the surface treatment method according to an embodiment of the present invention.

본 평가는 위의 평가와 동일하게 하부에 마이크로 패턴이 형성된 옴니포빅층에서 진행하였다.This evaluation was carried out in the omnipobic layer with a micro pattern formed on the bottom in the same manner as the above evaluation.

옴니포빅층은 도 10의 (a)에서 보는 바와 같이 물 방울의 접촉각이 142.5°로 측정되었다. 또한, 옴니포빅층은 도 10의 (b)에서 보는 바와 같이 오일 방울의 접촉각이 123.5°로 측정되었다. 따라서, 옴니포빅층은 발수성과 발유성을 구비하여 옴비포빅 특성을 가지는 것을 알 수 있다.In the omnipobic layer, as shown in FIG. 10 (a), the contact angle of water drops was measured to be 142.5 °. In addition, in the omnipobic layer, the contact angle of the oil droplet was measured to be 123.5 ° as shown in FIG. Therefore, it can be seen that the omnipobic layer has ombiphobic properties with water repellency and oil repellency.

100, 200: 표면 구조층
110, 210: 마이크로 패턴 120: 옴니포빅층
230: 실링제 수용 홈100, 200: surface structure layer
110, 210: micropattern 120: omnipobic layer
230: sealant accommodating groove

Claims (17)

기재의 표면에서 실링제 접촉 영역을 포함하는 영역에 레이저 가공으로 마이크로 패턴을 형성하는 마이크로 패턴 형성 단계 및
상기 마이크로 패턴 형성 단계 후에 상기 실링제 접촉 영역의 일측 또는 양측으로 소정 폭의 옴니포빅층 형성 영역에 옴니포빅 물질을 코팅하여 옴니포빅층을 형성하는 옴니포빅층 형성 단계를 포함하며,
상기 옴니포빅층 형성 단계는 상기 실링제 접촉 영역에 실링제가 도포된 후에 진행되며,
상기 옴니포빅층은 상기 옴니포빅층 형성 영역과, 상기 실링제와 상기 기재의 표면의 경계부 및 상기 경계부로부터 상기 기재의 표면과 접촉하지 않은 실링제의 표면의 일부를 포함하는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.A micropattern forming step of forming a micropattern by laser machining on a region including a sealing agent contact region on the surface of the substrate; and
And forming an omnipobic layer by coating an omnipobic material on an omnipobic layer forming region having a predetermined width to one side or both sides of the sealing agent contact region after the micropattern forming step.
The omnipobic layer forming step is performed after the sealing agent is applied to the sealing agent contact region,
The omnifobic layer is formed in the omnipobic layer forming region, and a region including a boundary portion of the sealing agent and the surface of the substrate and a part of the surface of the sealing agent not contacted with the surface of the substrate from the boundary portion. Surface treatment method to use. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 옴니포빅층 형성 영역은 상기 마이크로 패턴이 형성되며, 상기 옴니포빅층은 상기 옴니포빅 물질이 마이크로 패턴의 표면에 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 1,
The omnipobic layer forming region is the micro-pattern is formed, the omnipobic layer is a surface treatment method characterized in that the omnipobic material is formed on the surface of the micro-pattern. 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 하부로 형성되는 트렌치 구조로 형성되며,
상기 트렌치 구조는 격자 형상 패턴, 벌집 형상 패턴 또는 스트라이프 형상 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 1,
The micro pattern is formed of a trench structure formed downward from the surface of the substrate,
The trench structure is a surface treatment method, characterized in that formed in a grid pattern, honeycomb pattern or stripe pattern. 제 5 항에 있어서,
상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 방향의 폭이 1 ~ 500㎛이 되도록 형성되며,
상기 마이크로 패턴은 상기 트렌치 구조의 서로 이격되는 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 5, wherein
The trench structure is formed so that the width in the direction perpendicular to the extending direction is 1 ~ 500㎛,
The micro pattern is a surface treatment method, characterized in that formed in the trench structure spaced apart from each other 1 to 1,000㎛. 제 5 항에 있어서,
상기 마이크로 패턴은 상기 기재 표면으로부터 상부로 돌출되는 돌기 구조로 형성되며,
상기 돌기 구조는 원기둥, 사각 기둥, 육각 기둥, 원뿔대, 사각뿔대 또는 육각뿔대 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 5, wherein
The micro pattern is formed of a protrusion structure protruding upward from the surface of the substrate,
The projection structure is a surface treatment method, characterized in that formed in the shape of a cylinder, square pillar, hexagon pillar, truncated cone, square pyramid or hexagonal pyramid. 제 7 항에 있어서,
상기 돌기 구조는 폭 또는 직경이 1 ~ 500㎛이며,
상기 마이크로 패턴은 상기 돌기 구조의 이격 거리가 1 ~ 1,000㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 7, wherein
The protrusion structure has a width or diameter of 1 to 500㎛,
The micro pattern is a surface treatment method characterized in that formed so that the separation distance of the protrusion structure is 1 ~ 1,000㎛. 제 1 항에 있어서,
상기 옴니포빅층은 0.1nm ~ 10㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 1,
The omnipobic layer is formed with a thickness of 0.1nm ~ 10㎛ surface treatment method. 제 1 항에 있어서,
상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)로 표시되는 실란계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.
구조식(1)
Figure 112019066990475-pat00009
또는
Figure 112019066990475-pat00010

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)The method of claim 1,
The omnipobic layer comprises a silane compound represented by the following structural formula (1) containing a CF (fluorocarbon) group or a CH (hydrocarbon) group.
Structural Formula (1)
Figure 112019066990475-pat00009
or
Figure 112019066990475-pat00010

(Where n is 4 to 25) 제 10 항에 있어서,
상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy , AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 물질로 형성되는 베이스 입자의 표면에 상기 실란계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 10,
The omnifobic layer includes Ti x O y , Fe x O y , Al x O y , Si x O y , Sn x O y , Zn x O y , In x O y , Ce x O y , Zr x O y , Surface treatment method characterized in that the coating of the omnipobic particles formed by coating the silane-based compound on the surface of the base particles formed of a material selected from the group consisting of graphene and graphene oxide. 제 10 항에 있어서,
상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며,
상기 실란계 화합물의 실란기가 상기 기재 표면에 형성되는 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 10,
The substrate is a metal material on which an oxide layer is formed on the surface,
And a silane group of the silane compound is formed by magnetic coupling with a metal group (-M) or an oxygen group (-O) formed on the surface of the substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 옴니포빅층은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)로 표시되는 인산계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.
구조식(2)
Figure 112019066990475-pat00011
또는
Figure 112019066990475-pat00012

(여기서, n은 4 ~ 25이다.)The method of claim 1,
The omnipobic layer comprises a phosphoric acid compound represented by the following structural formula (2) comprising a CF (fluorocarbon) group or a CH (hydrocarbon) group.
Structural Formula (2)
Figure 112019066990475-pat00011
or
Figure 112019066990475-pat00012

(Where n is 4 to 25) 제 13 항에 있어서,
상기 옴니포빅층은 TixOy, FexOy , AlxOy, SixOy, SnxOy, ZnxOy, InxOy, CexOy, ZrxOy, 그래핀 및 그래핀옥사이드로 이루어진 군에서 선택되는 물질로 형성되는 베이스 입자의 표면에 상기 인산계 화합물이 코팅되어 형성되는 옴니포빅 입자가 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 13,
The omnifobic layer includes Ti x O y , Fe x O y , Al x O y , Si x O y , Sn x O y , Zn x O y , In x O y , Ce x O y , Zr x O y , Surface treatment method characterized in that the coating is formed on the surface of the base particles formed of a material selected from the group consisting of graphene and graphene oxide omnipobic particles are formed by coating the phosphate-based compound. 제 13 항에 있어서,
상기 기재는 표면에 산화층이 형성되는 금속 재질이며,
상기 인산계 화합물의 인산기가 상기 기재 표면의 금속기(-M) 또는 산소기(-O)와 자기 결합되어 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 13,
The substrate is a metal material on which an oxide layer is formed on the surface,
A phosphate group of the phosphate compound is formed by magnetic bonding with a metal group (-M) or an oxygen group (-O) on the surface of the substrate. 제 1 항에 있어서,
상기 실링제 접촉 영역은 상기 기재의 표면에 하부 방향으로 형성되어 실링제가 수용되는 실링제 수용 홈으로 형성되며,
상기 마이크로 패턴은 상기 실링제 수용 홈의 바닥면 및 내측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 처리 방법.The method of claim 1,
The sealant contacting region is formed in a downward direction on the surface of the substrate to form a sealant accommodating groove in which the sealant is accommodated.
The micro pattern is formed on the bottom surface and the inner surface of the sealant accommodating groove. 제 1 항, 제 3 항 또는 제 5 항 내지 제 16 항중 어느 하나의 항에 따른 표면 처리 방법에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 표면 구조층.
The surface structure layer formed by the surface treatment method in any one of Claims 1, 3, or 5-16.
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