KR102053326B1 - Composite sheet having an excellent thermal and electric conductivity and manugacturing method there of - Google Patents

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Abstract

기재; 상기 기재의 적어도 일면에 형성되고, 에폭시(Epoxy) 화합물과 아미노알콕시실란(amino alkoxysilane)의 공중합체를 포함하는 프라이머층; 및 상기 프라이머층 상에 형성되고, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 포함하고, 평균 밀도가 1.0 내지 5.0g/cc인 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.materials; A primer layer formed on at least one surface of the substrate and including a copolymer of an epoxy compound and an amino alkoxysilane; And a conductive sheet formed on the primer layer, the conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder, and having an average density of 1.0 to 5.0 g / cc, having excellent thermal conductivity and electrical conductivity.

Description

열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 및 그 제조방법{COMPOSITE SHEET HAVING AN EXCELLENT THERMAL AND ELECTRIC CONDUCTIVITY AND MANUGACTURING METHOD THERE OF} COMPOSITE SHEET HAVING AN EXCELLENT THERMAL AND ELECTRIC CONDUCTIVITY AND MANUGACTURING METHOD THERE OF}

본 발명은 반도체 공정설비를 포함한 다양한 전기전자 공정설비용 방열재료로 사용되며, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention is used as a heat dissipating material for various electrical and electronic processing equipment, including semiconductor processing equipment, and relates to a composite sheet excellent in thermal conductivity and electrical conductivity, and a manufacturing method thereof.

진공 증착(Vacuum deposition), 건식 에칭(Dry etching)과 같은 플라즈마 (plasma)를 이용하는 반도체 제조공정 설비는, 공정 운영 시에 높은 플라즈마 밀도(plasma density)와 구동 전력에 의해 심각한 열문제와 다양한 전자기적(electro-magnetic) 문제들이 발생한다. 이러한 열적 및 전자기적 문제들로 인하여 실리콘 웨이퍼의 공정 수율이 지대하게 영향을 받게 되며, 특히 고전압을 인가하는 상하부 전극 부분의 열문제를 해결하는 것이 큰 과제이다. Semiconductor manufacturing process equipment using plasma, such as vacuum deposition and dry etching, suffers from severe thermal problems and various electromagnetics due to high plasma density and driving power during process operation. (electro-magnetic) problems arise. Due to these thermal and electromagnetic problems, the process yield of the silicon wafer is greatly affected, and in particular, it is a big problem to solve the thermal problem of the upper and lower electrode portions applying high voltage.

반도체 공정설비 전극부분의 열문제와 플라즈마에 관련된 전자기적 불안정성을 해결하기 위한 수단으로써, 공정 설비의 전극 부분에 열전도성과 전기전도성이 높은 소재를 장착하여 빠른 열전달을 가능하게 하고, 국부적인 열집중 문제를 해결하는 방법을 사용하고 있다. 특히, 이때 전극 부분의 내부에 사용되는 방열재료의 열전도성 및 전기전도성에 따라 공정 수율에 지대한 영향을 미치므로, 열전도성 및 전기전도성이 우수한 발열재료의 소재를 개발하기 위한 연구가 이루어지고 있다.As a means to solve the thermal problem of the electrode part of semiconductor process equipment and the electromagnetic instability related to plasma, the material of high thermal conductivity and electric conductivity is attached to the electrode part of the process equipment to enable fast heat transfer and local heat concentration problem. I am using a method to solve the problem. In particular, at this time, since the thermal conductivity and the electrical conductivity of the heat dissipation material used in the inside of the electrode portion has a great influence on the process yield, research has been made to develop a material of the heat generating material excellent in thermal conductivity and electrical conductivity.

한편, 종래에는 이러한 반도체 공정설비용 방열재료로, Al, Cu와 같은 금속 포일(foil)에 전도성 카본 소재를 양면에 코팅한 복합재료가 많이 사용되고 있으나, 극한 플라즈마 환경하에서 지속적으로 노출되는 경우 금속 포일과 전도성 카본 소재가 분리(delamination)되는 문제가 발생하고 있다. 이는 반도체 공정시간이 경과함에 따라 공정수율에 영향을 미치는 요소로 작용하게 되며, 이를 해결하기 위한 솔루션을 찾는 시도가 이루어지고 있다.Meanwhile, conventionally, as a heat dissipating material for semiconductor processing equipment, a composite material in which conductive carbon materials are coated on both sides of metal foils such as Al and Cu is widely used, but the metal foil is continuously exposed in an extreme plasma environment. There is a problem that the conductive carbon material and the separation (delamination). This acts as a factor affecting the process yield as the semiconductor process time passes, and an attempt has been made to find a solution to solve this problem.

본 발명은 고온에서 장기간 노출 시에도 박리 현상이 발생하지 않아 내구성이 현저히 우수하고, 높은 밀도로 인해 열전도성 및 전기전도성이 우수한 복합시트 및 그 제조방법을 제공하기 위한 것이다. The present invention is to provide a composite sheet excellent in durability and excellent thermal conductivity and electrical conductivity due to high density because the peeling phenomenon does not occur even after prolonged exposure at high temperature, and a method of manufacturing the same.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 기재; 상기 기재의 적어도 일면에 형성되고, 에폭시(Epoxy) 화합물과 아미노알콕시실란(amino alkoxysilane)의 공중합체를 포함하는 프라이머층; 및 상기 프라이머층 상에 형성되고, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 포함하고, 평균 밀도가 1.0 내지 5.0g/cc인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트가 제공될 수 있다. According to one embodiment of the invention, the substrate; A primer layer formed on at least one surface of the substrate and including a copolymer of an epoxy compound and an amino alkoxysilane; And a conductive layer formed on the primer layer, the conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder, and having an average density of 1.0 to 5.0 g / cc, a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity.

또한, 본 발명의 다른 구현예에 따르면 기재의 적어도 일면에 프라이머 조성물을 도포 및 경화하여, 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는 프라이머층을 형성하는 단계; 상기 프라이머층에 도전성 코팅액 조성물을 도포 및 경화하여, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 형성하는 단계; 및 상기 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체를 압착하는 단계;를 포함하는 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법이 제공될 수 있다.In addition, according to another embodiment of the present invention by applying and curing the primer composition on at least one side of the substrate, to form a primer layer comprising a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane; Coating and curing the conductive coating liquid composition on the primer layer to form a conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder; And compressing the laminate including the substrate, the primer layer, and the conductive layer. A composite sheet manufacturing method having excellent thermal conductivity and electrical conductivity may be provided.

이하 발명의 구체적인 구현예에 따른 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트에 관하여 보다 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity according to a specific embodiment of the present invention will be described in detail.

상기 일 구현예에 따른 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트는, 기재, 상기 기재의 적어도 일면에 형성된 프라이머층, 및 상기 프라이머층 상에 형성된 도전층을 포함하며, 평균 밀도가 1.0 내지 5.0g/cc이다.The composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity according to the embodiment includes a substrate, a primer layer formed on at least one surface of the substrate, and a conductive layer formed on the primer layer, and has an average density of 1.0 to 5.0 g / cc. to be.

또한, 상기 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트는, 전기전자 공정설비용 방열재료로 사용될 수 있으며, 예를 들어, 반도체 진공 플라즈마 설비(특히 드라이에칭 공정 설비)에 포함된 개스킷(gasket)으로 사용될 수 있다. In addition, the composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity may be used as a heat dissipation material for electric and electronic process equipment, and may be used as a gasket included in a semiconductor vacuum plasma equipment (especially a dry etching process equipment). have.

한편, 반도체 공정설비용 방열재료는 열전도성 및 전기전도성에 따라 반도체 제조 공정의 공정 수율에 지대한 영향을 미친다. 이에, 본 발명의 발명자들은 기재, 프라이머층, 및 전도층을 순차적으로 포함하는 적층체를 압착하여 평균 밀도가 1.0 내지 5.0g/cc인 복합시트를 제조하고 이를 반도체 공정 설비용 방열재료로 적용하는 경우, 복합시트의 높은 밀도로 인해 열전도성 및 전기전도성이 우수하고, 이로 인해 반도체 제조 공정의 공정 수율이 우수해질 수 있다는 점을 실험을 통해서 확인하고 발명을 완성하였다.On the other hand, the heat dissipation material for semiconductor processing equipment has a great influence on the process yield of the semiconductor manufacturing process according to the thermal conductivity and electrical conductivity. Accordingly, the inventors of the present invention to produce a composite sheet having a mean density of 1.0 to 5.0 g / cc by pressing a laminate comprising a substrate, a primer layer, and a conductive layer in sequence and applying it as a heat radiation material for semiconductor process equipment In this case, the high density of the composite sheet is excellent in thermal conductivity and electrical conductivity, thereby confirming through experiments that the process yield of the semiconductor manufacturing process can be excellent through experiments and completed the invention.

보다 구체적으로, 복합시트의 열전도성 및 전기전도성은 복합시트의 밀도를 높임으로써 향상시킬 수 있으며, 특히, 하기 수학식 1에 따르면 밀도는 열전도도에 비례하는 관계를 가지고 있기 때문에 복합시트의 밀도가 높을수록 열전도도의 향상에 크게 영향을 미친다는 점을 확인할 수 있다.More specifically, the thermal conductivity and the electrical conductivity of the composite sheet can be improved by increasing the density of the composite sheet. In particular, according to Equation 1, since the density has a relationship proportional to the thermal conductivity, the density of the composite sheet is increased. It can be seen that the higher the value significantly affects the improvement of thermal conductivity.

[수학식 1][Equation 1]

λ = α Ⅹ Cp Ⅹ ρ λ = α Ⅹ Cp Ⅹ ρ

상기 수학식 1에서, In Equation 1,

λ는 열전도도(W/mK)이고, α는 열확산도(mm2/sec)이고, Cp는 비열(J/gK)이고, ρ는 밀도(g/cc)이다.λ is thermal conductivity (W / mK), α is thermal diffusivity (mm 2 / sec), Cp is specific heat (J / gK), and ρ is density (g / cc).

상기 복합시트의 열전도성 및 전기전도성에 영향을 미치는 복합시트의 평균 밀도는 1.0 내지 5.0 g/cc, 1.2 내지 4.0 g/cc, 또는 1.5 내지 3.0 g/cc일 수 있다. 상기 복합시트의 평균 밀도가 1.0 g/cc 미만이면 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있으며, 5.0 g/cc 초과하면 기재에 대한 접착특성 및 도막 강도가 저하될 수 있다.The average density of the composite sheet affecting the thermal and electrical conductivity of the composite sheet may be 1.0 to 5.0 g / cc, 1.2 to 4.0 g / cc, or 1.5 to 3.0 g / cc. When the average density of the composite sheet is less than 1.0 g / cc, thermal conductivity and electrical conductivity may be lowered. When the average density of the composite sheet is greater than 5.0 g / cc, adhesion characteristics and coating film strength to the substrate may be reduced.

상기 복합시트의 밀도가 높을수록 상기 복합시트 내에 포함된 기공의 함량이 낮아질 수 있다. 예를 들어, 상기 복합시트의 기공률은 5% 이하, 0.1 내지 4%, 0.2 내지 3%, 또는 0.5 내지 2%일 수 있다. 상기 복합시트의 기공률이 5% 초과하면 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있다.The higher the density of the composite sheet, the lower the content of pores contained in the composite sheet. For example, the porosity of the composite sheet may be 5% or less, 0.1 to 4%, 0.2 to 3%, or 0.5 to 2%. When the porosity of the composite sheet exceeds 5%, thermal conductivity and electrical conductivity may decrease.

또한, 상기 복합시트는 두께가 50 내지 500㎛일 수 있다. 상기 복합시트의 두께가 50㎛ 미만이면 열전도성과 코팅 작업성이 나빠질 수 있으며, 500㎛ 초과하면 지나치게 두꺼운 두께의 기재를 포함함으로 인해 유연성의 저하되어 역시 열전도성과 코팅 작업성이 나빠질 수 있다.In addition, the composite sheet may have a thickness of 50 to 500㎛. If the thickness of the composite sheet is less than 50㎛ may worsen the thermal conductivity and coating workability, if the thickness of more than 500㎛ may include a substrate of too thick thickness, the flexibility is also lowered and the thermal conductivity and coating workability may be worse.

상기 복합시트는 기재, 프라이머층 및 전도층은 순차적으로 적층되어 압착된 상태일 수 있으며, 이로 인해 복합시트의 밀도가 높아져 열전도도 및 전기전도도가 향상될 수 있다. 예를 들어, 상기 복합시트는 1.0 W/mK 이상, 2.0 내지 6.0 W/mK, 또는 3.5 내지 4.5 W/mK의 열전도도를 가질 수 있다. 한편, 상기 복합시트는 100Ω 이하, 10 내지 100Ω, 또는 40 내지 90Ω의 저항을 가질 수 있다.The composite sheet may be in a state in which the substrate, the primer layer, and the conductive layer are sequentially stacked and compressed, and thus, the density of the composite sheet may be increased, thereby improving thermal conductivity and electrical conductivity. For example, the composite sheet may have a thermal conductivity of 1.0 W / mK or more, 2.0 to 6.0 W / mK, or 3.5 to 4.5 W / mK. On the other hand, the composite sheet may have a resistance of less than 100 kPa, 10 to 100 kPa, or 40 to 90 kPa.

상기 일 구현예에 따른 복합시트에 포함되는 기재는 상기 복합시트가 지지력을 갖게 하는 층으로서, 예를 들어, 금속 박막, 플라스틱, 종이, 부직포, 유리섬유 (glass-fiber), 또는 금속 메쉬일 수 있다. 상기 기재가 금속 박막인 경우, 알루미늄(Al), 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 니켈(Ni), 주석(Sn), 아연(Zn), 텅스텐(W) 및 철(Fe)로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 합금일 수 있으며, 이들 중에서 중량 및 가격 등에서 유리한 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 구성될 수 있다.The base material included in the composite sheet according to the embodiment is a layer for supporting the composite sheet, for example, may be a metal thin film, plastic, paper, non-woven fabric, glass-fiber, or metal mesh have. When the substrate is a metal thin film, aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), nickel (Ni), tin (Sn), zinc (Zn), tungsten (W) and iron ( It may be one or two or more alloys selected from the group consisting of Fe), and among them, may be composed of aluminum or an aluminum alloy which is advantageous in terms of weight and price.

상기 기재로 사용할 수 있는 플라스틱은 특별히 제한되는 것은 아니며 공지의 플라스틱 기재로 사용할 수 있는 소재 중에서 선택하여 사용할 수 있다. 예를 들어, 셀룰로스 아세테이트, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리옥시에틸렌 및 폴리에틸에틸케톤으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.The plastic that can be used as the substrate is not particularly limited and may be selected from materials that can be used as a known plastic substrate. For example, with cellulose acetate, polyimide, polycarbonate, polyester, polystyrene, polyolefin, polymethylmethacrylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetherketone, polyetherimide, polyoxyethylene and polyethylethylketone It may be one or more selected from the group consisting of.

상기 일 실시예의 복합시트에 포함되는 기재의 두께는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 10 내지 800㎛, 10 내지 250㎛, 또는 10 내지 100㎛일 수 있다. 상기 기재의 두께가 10㎛ 미만이면 전체 복합시트의 물리적 특성과 코팅 작업성이 나빠질 수 있으며, 300㎛ 초과하면 지나치게 두꺼운 두께의 기재를 포함함으로 인해 유연성의 저하되어 역시 열전도성과 코팅 작업성이 나빠질 수 있다.The thickness of the substrate included in the composite sheet of the embodiment is not particularly limited, but may be 10 to 800 μm, 10 to 250 μm, or 10 to 100 μm. If the thickness of the substrate is less than 10㎛ may degrade the physical properties and coating workability of the entire composite sheet, if it exceeds 300㎛ may include a substrate of too thick thickness to reduce the flexibility and also worsen thermal conductivity and coating workability have.

상기 기재의 적어도 일면에는 프라이머층이 형성되며, 상기 프라이머층은에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함한다. 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체는 에폭시관능기의 3차원 망목상 구조에 의한 많은 가교점을 가지고 있고 아미노알콕시기에 의하여 코팅 기재 표면에 존재하는 하이드록시기(-OH)와의 높은 반응성을 가질 수 있으며, 이에 따라서 상기 프라이머층은 코팅 기재에 대하여 높은 접착력을 가지게 되고 높은 가교밀도 (cross-liking density)를 가짐으로 인하여 프라이머층 자체 및 이를 포함하는 복합시트는 고온에서 장기 신뢰성(Long-term Reliability)이 우수할 수 있다. 따라서, 상기 프라이머층을 포함하는 상기 일 구현예의 복합시트는 고온에서 장기간 노출 시에도 박리 현상이 발생하지 않아 내구성이 현저히 우수한 특성을 가질 수 있다. A primer layer is formed on at least one surface of the substrate, and the primer layer includes a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane. The copolymer of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane has many crosslinking points due to the three-dimensional network structure of the epoxy functional group and may have a high reactivity with the hydroxyl group (-OH) present on the surface of the coating substrate by the aminoalkoxy group. Accordingly, the primer layer has a high adhesion to the coating substrate and has a high cross-liking density, so that the primer layer itself and the composite sheet including the same have a long-term reliability at high temperature. This can be excellent. Therefore, the composite sheet of the embodiment including the primer layer may have a property that the peeling phenomenon does not occur even after prolonged exposure at a high temperature, the durability is remarkably excellent.

상기 프라이머층에 포함된 공중합체는 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체이며, 상기 에폭시 화합물 및 상기 아미노알콕시실란의중량비는 1: 0.2 내지 30, 1: 0.5 내지 15, 또는 1: 1 내지 2일 수 있다. 상기 에폭시 화합물 및 상기 아미노알콕시실란의 중량비가 1:0.2 미만이면 코팅 기재에 대한 접착력이 나빠질 수 있고, 1:30 초과하면 가교밀도(cross-liking density)가 낮아져 고온에서 장기 신뢰성이 저하될 수 있다. The copolymer included in the primer layer is a copolymer of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane, and the weight ratio of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane is 1: 0.2 to 30, 1: 0.5 to 15, or 1: 1 to 2 Can be. When the weight ratio of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane is less than 1: 0.2, the adhesion to the coating substrate may be deteriorated, and when the weight ratio is greater than 1:30, the cross-liking density may be lowered to reduce long-term reliability at high temperatures. .

상기 공중합체는 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 중합반응으로 생성된 것으로, 공중합체의 중량평균분자량(Mw)이 10,000 내지 900,000g/mol, 30,000 내지 700,000g/mol, 또는 100,000 내지 500,000g/mol일 수 있다. 상기 중량평균분자량이 10,000g/mol 미만이면 가교점(cross-linking point)이 적어 가교밀도(cross-linking density)가 낮아지고, 아미노알콕시기의 반응 사이트가 적어 코팅 기재와의 부착력도 낮아질 수 있으며, 900,000g/mol 초과하면 가교점(cross-linking point)이 너무 많아져 코팅 시트가 경하게 되고, 점도가 높아 컴파운딩하기 어려워지는 단점이 있다.The copolymer is produced by polymerization of the epoxy compound and aminoalkoxysilane, and the weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is 10,000 to 900,000 g / mol, 30,000 to 700,000 g / mol, or 100,000 to 500,000 g / mol Can be. If the weight average molecular weight is less than 10,000g / mol has a low cross-linking point (cross-linking point), the cross-linking density (low), the reaction site of the amino alkoxy group is small, the adhesion to the coating substrate may also be lowered If it exceeds 900,000 g / mol, the cross-linking point is too high, resulting in a hardened coating sheet, and high viscosity, making it difficult to compound.

또한, 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체는 점도가 10 내지 300,000cps, 20 내지 30,000cps, 또는 30 내지 3,000cps일 수 있다. 상기 점도가 10cps 미만이면 프라이머층이 브리틀(brittle)해져 이후 타발 공정이 어려워질 수 있고, 300,000cps 초과하면 컴파운드 점도가 높아짐으로 인하여 코팅 작업성이 나빠지는 단점이 있다.In addition, the copolymer of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane may have a viscosity of 10 to 300,000cps, 20 to 30,000cps, or 30 to 3,000cps. If the viscosity is less than 10 cps, the primer layer may be brittle, so that the punching process may be difficult. If the viscosity exceeds 300,000 cps, the coating workability may be deteriorated due to a high compound viscosity.

상기 에폭시 화합물의 종류는 이로써 특별히 제한하는 것은 아니나, 예를 들어, 폴리글리시딜 에테르 화합물, 폴리글리시딜아민에폭시 화합물, 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물, 비스페놀-F 타입 에폭시 화합물, 레조시놀 타입 에폭시 화합물, 테트라히드록시비스페닐-F 타입 에폭시 화합물, 크레졸-노볼락 타입 에폭시 화합물, 페놀-노볼락 타입 에폭시 화합물 및 시클로알리파틱에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.Although the kind of the said epoxy compound is not specifically limited by this, For example, a polyglycidyl ether compound, a polyglycidyl amine epoxy compound, a bisphenol-A type epoxy compound, a bisphenol-F type epoxy compound, a resorcinol type It may be at least one selected from the group consisting of an epoxy compound, a tetrahydroxybisphenyl-F type epoxy compound, a cresol-novolak type epoxy compound, a phenol-novolak type epoxy compound and a cycloaliphatic epoxy compound.

한편, 상기 아미노알콕시실란은, 하기 화학식 1의 구조를 가진 알콕시실란(Alkoxysilane)에 아미노기가 치환된 것으로, 그 종류는 이로써 특별히 한정하지 않으나, 예를 들어, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트라이이소프로폭시실란, 및 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상일 수 있다.On the other hand, the aminoalkoxysilane is an amino group substituted with an alkoxysilane (Alkoxysilane) having a structure of the formula (1), the kind is not particularly limited thereto, for example, aminopropyltrimethoxysilane, aminopropyltri At least one selected from the group consisting of ethoxysilane, aminopropyltriisopropoxysilane, and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane.

[화학식 1][Formula 1]

R4-mSi(OR')n R 4-m Si (OR ') n

R, R'는 알킬기이고, n은 1 내지 3이다.R and R 'are alkyl groups, n is 1-3.

상기 프라이머층은 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체 외에도, 금속, 유기산 금속염, 올가노폴리실록산, 지연제 및 계면활성제로 이루어지는 군에서 선택된 하나 이상을 더 포함할 수 있다.In addition to the copolymer of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane, the primer layer may further include at least one selected from the group consisting of metals, organic acid metal salts, organopolysiloxanes, retarders, and surfactants.

상기 금속은 니켈(Ni), 비스무트(Bi), 주석(Sn), 티타늄(Ti), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 코발트(Co), 게르마늄(Ge), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 탄탈럼(Ta), 니오븀(Nb), 텅스텐(W), 및 바나듐(V)에 선택되는 1종의 금속 또는 2 종 이상의 합금일 수 있지만, 이에 반드시 제한되는 것은 아니다. 상기 금속은 분말 형태일 수 있으며, 상기 금속 분말의 크기는 특별히 한정하지 않으나, 프라이머층의 두께가 지나치게 두꺼워지는 것을 방지하고, 프라이머층의 두께를 균일하게 하기 위해서는 상기 금속 분말의 입경이 70nm 이하, 또는 1 내지 45nm일 수 있다.The metal is nickel (Ni), bismuth (Bi), tin (Sn), titanium (Ti), lead (Pb), palladium (Pd), chromium (Cr), cobalt (Co), germanium (Ge), zinc ( Zn), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), niobium (Nb), tungsten (W), and vanadium (V) may be one kind of metal or two or more kinds of alloys, but is not necessarily limited thereto. no. The metal may be in the form of a powder, but the size of the metal powder is not particularly limited, but in order to prevent the thickness of the primer layer from being excessively thick and to make the thickness of the primer layer uniform, the particle diameter of the metal powder is 70 nm or less, Or 1 to 45 nm.

상기 유기산 금속염의금속염은 니켈(Ni), 비스무트(Bi), 주석(Sn), 티타늄(Ti), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 크롬(Cr), 코발트(Co), 게르마늄(Ge), 아연(Zn), 몰리브덴(Mo), 탄탈럼(Ta), 니오븀(Nb), 텅스텐(W), 및 바나듐(V)에 선택되는 1종 이상의 금속염을 포함할 수 있으며, 상기 유기산 금속염의 유기산은 아세트산, 부틸산, 발레산, 아크릴산, 피발산, n-헥산산, t-옥탄산, 이소부틸산, 벤조산, 프로피온산, 2-에틸-헥산산, 네오데칸산, 라우르산, 스테아린산, 올레산, 나프텐산, 도데칸산, 및 리론산으로부터 선택되는 1종 이상을 포함할 수 있다. 상기 프라이머층은 금속 및/또는 유기산 금속염을 포함함으로 인해 전도성을 나타낼 수 있다.The metal salt of the organic acid metal salt is nickel (Ni), bismuth (Bi), tin (Sn), titanium (Ti), lead (Pb), palladium (Pd), chromium (Cr), cobalt (Co), germanium (Ge) , Zinc (Zn), molybdenum (Mo), tantalum (Ta), niobium (Nb), tungsten (W), and vanadium (V) may include at least one metal salt selected from the organic acid of the organic acid metal salt Silver acetic acid, butyric acid, valeric acid, acrylic acid, pivalic acid, n-hexanoic acid, t-octanoic acid, isobutyl acid, benzoic acid, propionic acid, 2-ethyl-hexanoic acid, neodecanoic acid, lauric acid, stearic acid, oleic acid It may include one or more selected from naphthenic acid, dodecanoic acid, and liron acid. The primer layer may exhibit conductivity by including a metal and / or an organic acid metal salt.

한편, 상기 올가노폴리실록산은 이로써 제한하는 것은 아니나, 예를 들어, 폴리메틸비닐실록산, 메틸비닐실록산-디메틸실록산 공중합체, 디메틸비닐실록시-말단 디메틸실록산, 디메틸비닐실록시-말단 디메틸실록산-메틸페닐실록산 공중합체, 트리메틸실록시-말단 디메틸실록산-메틸비닐실록산 공중합체, 트리메틸실록시-말단 디메틸실록산-메틸페닐실록산-메틸비닐실록산으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 또는 둘 이상의 혼합물일 수 있다.On the other hand, the organopolysiloxane is not limited thereto, but for example, polymethylvinylsiloxane, methylvinylsiloxane-dimethylsiloxane copolymer, dimethylvinylsiloxy-terminal dimethylsiloxane, dimethylvinylsiloxy-terminal dimethylsiloxane-methylphenyl Siloxane copolymer, trimethylsiloxy-terminal dimethylsiloxane-methylvinylsiloxane copolymer, trimethylsiloxy-terminal dimethylsiloxane-methylphenylsiloxane-methylvinylsiloxane, or a mixture of two or more.

상기 지연제는 에틸사이클로헥사놀일 수 있으며, 상기 계면활성제는 프라이머 조성물을 기재 상에 도포할 때 기재에 원활히 코팅되게 하는 목적으로 첨가되었던 것으로, 불필요 시 생략 가능하다. 상기 계면활성제를 첨가할 경우 통상적인 레벨링제, 예를 들어 실리콘계 또는 폴리에테르계 계면활성제를 사용할 수 있다.The retardant may be ethylcyclohexanol, and the surfactant was added for the purpose of smoothly coating the substrate when the primer composition was applied on the substrate, and may be omitted if unnecessary. When the surfactant is added, conventional leveling agents, such as silicone-based or polyether-based surfactants can be used.

상기 일 실시예의 복합시트에 포함되는 프라이머층은 평균 밀도가 0.9 내지 2.0g/cc일 수 있다. 상기 프라이머층의 평균 밀도가 0.9g/cc 미만이면 열전도성 및 전기 전도성은 저하될 수 있지만 기재 부착력 및 카본 코팅층과의 기재 결합력이 상승할 수 있으며, 2.0g/cc 초과하면 열전도성 및 전기전도성이 상승될 수 있지만 기재 부착력 및 카본 코팅층과의 기재 결합력이 저하될 수 있다.The primer layer included in the composite sheet of one embodiment may have an average density of 0.9 to 2.0 g / cc. When the average density of the primer layer is less than 0.9 g / cc, thermal conductivity and electrical conductivity may be lowered, but substrate adhesion and substrate bonding strength with the carbon coating layer may be increased, and when the average density of the primer layer exceeds 2.0 g / cc, thermal conductivity and electrical conductivity may be increased. Although it may be raised, the substrate adhesion and substrate bonding strength with the carbon coating layer may be lowered.

상기 프라이머층의 밀도가 높을수록 상기 프라이머층 내에 포함된 기공의 함량이 낮아질 수 있다. 예를 들어, 상기 기공률은 5.0% 이하일 수 있다. 상기 기공률이 5.0% 초과하면 도막 강도가 저하되고, 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있다.The higher the density of the primer layer, the lower the content of pores contained in the primer layer. For example, the porosity may be 5.0% or less. When the porosity is greater than 5.0%, the coating film strength may decrease, and thermal conductivity and electrical conductivity may decrease.

한편, 상기 프라이머층의 두께는 10 nm 내지 25㎛, 50 nm 내지 15㎛, 또는 1 내지 5㎛일 수 있다. 상기 프라이머층의 두께가 10 nm 미만이면 지나치게 얇은 두께의 프라이머층을 포함함으로 인해 복합시트의 지지력이 저하되거나, 박리 현상이 발생할 수 있으며, 25㎛ 초과하면 지나치게 두꺼운 두께의 프라이머층을 포함함으로 인해 복합시트의 열전도성 및 전기전도도가 저하될 수 있다.Meanwhile, the thickness of the primer layer may be 10 nm to 25 μm, 50 nm to 15 μm, or 1 to 5 μm. When the thickness of the primer layer is less than 10 nm, the support force of the composite sheet may be lowered or peeling may occur due to the inclusion of an excessively thin primer layer. Thermal and electrical conductivity of the sheet may be lowered.

상기 일 실시예의 복합시트는 상기 프라이머층 상에 전도층이 형성되며, 상기 전도층은탄소계 화합물 및 고분자 바인더를 포함한다. 상기 탄소계 화합물은 열전도성 및 전기전도성을 갖는 소재이고, 상기 고분자 바인더는 탄소계 화합물 상호간, 및 전도층과프라이머층간의 결합력을 도모하는 소재이다. In the composite sheet of the embodiment, a conductive layer is formed on the primer layer, and the conductive layer includes a carbon-based compound and a polymer binder. The carbon-based compound is a material having thermal conductivity and electrical conductivity, and the polymer binder is a material which promotes bonding strength between the carbon-based compound and between the conductive layer and the primer layer.

상기 복합시트는 열전도성 및 전기전도성을 갖는 탄소계 화합물을 포함함에 따라 열전도성 및 전기전도성이 우수하여, 상기 복합시트를 반도체 공정설비를 포함한 다양한 전기전자 공정 설비의 방열재료로 사용하는 경우, 빠른 열전달을 가능하게 하여 국부적인 열집중 문제를 해결할 수 있고, 플라즈마에 의한 대전 등과 같은 전자기적 불안정성을 방지할 수 있는 장점이 있다.Since the composite sheet includes a carbon-based compound having thermal conductivity and electrical conductivity, the composite sheet has excellent thermal conductivity and electrical conductivity, and when the composite sheet is used as a heat dissipating material for various electrical and electronic processing equipment including semiconductor processing equipment, Local heat concentration can be solved by enabling heat transfer, and electromagnetic instability, such as charging by plasma, can be prevented.

상기 전도층은탄소계 화합물 및 고분자 바인더를 포함하며, 상기 탄소계 화합물 및 상기 고분자 바인더의 중량비는 1: 0.2 내지 30, 1: 0.5 내지 15, 또는 1: 1 내지 2일 수 있다. 상기 탄소계 화합물 및 상기 고분자 바인더의 중량비가 1:0.2 미만이면 고분자 바인더와 프라이머층 간의 접착력이 저하되어 박리 (delamination)현상이 발생할 수 있고, 바인더가 탄소계 화합물 잡아주지 못함으로 인하여 표면에서 필러가 묻어날 수 있으며, 1:30 초과하면 고분자 바인더 함량이 너무 높아 열전도성 및 전기전도성이 낮아질 수 있다.The conductive layer may include a carbon-based compound and a polymer binder, and the weight ratio of the carbon-based compound and the polymer binder may be 1: 0.2 to 30, 1: 0.5 to 15, or 1: 1 to 2. When the weight ratio of the carbon-based compound and the polymer binder is less than 1: 0.2, the adhesive force between the polymer binder and the primer layer may be reduced to cause delamination, and the filler may not be held by the binder. It may be buried, and if the content exceeds 1:30, the polymer binder content may be too high, resulting in low thermal and electrical conductivity.

상기 탄소계 화합물의 입자 최대 직경은 특별히 한정하는 것은 아니지만, 전도층의 두께가 지나치게 두꺼워지는 것을 방지하고, 전도층의 두께를 균일하게 하기 위해서는 상기 탄소계 화합물의 입자 최대 직경이 0.01 내지 100㎛, 0.1 내지 70㎛, 또는 0.5 내지 50㎛인 것을 사용할 수 있다.The maximum particle diameter of the carbonaceous compound is not particularly limited, but in order to prevent the thickness of the conductive layer from becoming too thick and to make the thickness of the conductive layer uniform, the maximum particle diameter of the carbonaceous compound is 0.01 to 100 μm, 0.1 to 70 micrometers, or 0.5-50 micrometers can be used.

상기 전도층에 포함되는 탄소계 화합물은 카본 블랙, 그라파이트(graphite), 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(Graphene), 산화 그래핀, 탄소 섬유 및 플러렌(Fullerene)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함할 수 있다. 이러한 탄소계 화합물을 포함함에 따라서 상기 전도층은전도층 일변에 수직 방향뿐만 아니라, 수평 방향으로도 높은 전도도의 특성을 나타낼 수 있다. 바람직하게는, 상기 전도층에 포함되는 탄소계 화합물은 그라파이트를 포함할 수 있다. 이러한 그라파이트의 개별 입자는 편상(flake)형태를 가질 수 있으며, 최대 직경이 0.01 내지 100㎛일 수 있으며, 밀도가 1.5 내지 3.0g/㎤ 일 수 있다. The carbon-based compound included in the conductive layer may include at least one selected from the group consisting of carbon black, graphite, carbon nanotubes (CNT), graphene, graphene oxide, carbon fiber, and fullerene. It may include. As the carbon-based compound is included, the conductive layer may exhibit high conductivity in the horizontal direction as well as the vertical direction on one side of the conductive layer. Preferably, the carbon-based compound included in the conductive layer may include graphite. Individual particles of such graphite may have a flake form, have a maximum diameter of 0.01 to 100 μm, and a density of 1.5 to 3.0 g / cm 3.

상기 고분자 바인더는 우수한 전도성 및 충격 흡수 특성을 갖는 물질을 사용하는 것이 바람직하다. 이러한 고분자 바인더로 사용될 수 있는 물질의 구체적인 예로는 열경화성 실리콘 고무 화합물, 일액형열경화성 실리콘 바인더, 이액형열경화성 실리콘 바인더, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지 및 우레아계 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 사용할 수 있는데, 이러한 물질들은 자체의 우수한 점착력으로 인하여 별도의 점착층 등을 구비할 필요 없어서 작업 고정을 단순화 할 수 있고 최종 제품의 생산 단가를 절감시킬 수 있다.The polymer binder is preferably used a material having excellent conductivity and shock absorbing properties. Specific examples of the material that can be used as the polymer binder include at least one selected from the group consisting of a thermosetting silicone rubber compound, a one-component thermosetting silicone binder, a two-component thermosetting silicone binder, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, and a urea resin. These materials can be used, because of their excellent adhesive force does not need to have a separate adhesive layer, etc. can simplify the work fixing and reduce the production cost of the final product.

상기 일 실시예의 복합시트에 포함되는 전도층은 평균 밀도가 1.0 내지 3.0 g/cc일 수 있다. 상기 전도층의 평균 밀도가 1.0g/cc 미만이면 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있으며, 3.0g/cc를 초과하면 도막 강도가 저하되고 복합시트의 유연성이 저하될 수 있다.The conductive layer included in the composite sheet of the embodiment may have an average density of 1.0 to 3.0 g / cc. When the average density of the conductive layer is less than 1.0 g / cc, the thermal conductivity and the electrical conductivity may be lowered. When the average density of the conductive layer is greater than 3.0 g / cc, the coating film strength may be lowered and the flexibility of the composite sheet may be lowered.

상기 전도층의 밀도가 높을수록 상기 전도층 내에 포함된 기공의 함량이 낮아질 수 있다. 예를 들어, 상기 전도층의기공률은 5.0% 이하일 수 있다. 상기 전도층의기공률이 5.0% 초과하면 도막 강도 및 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있다.The higher the density of the conductive layer, the lower the content of pores contained in the conductive layer. For example, the porosity of the conductive layer may be 5.0% or less. When the porosity of the conductive layer is greater than 5.0%, the coating film strength, thermal conductivity, and electrical conductivity may decrease.

한편, 상기 전도층 두께가 5 내지 400㎛, 10 내지 300㎛, 또는 80 내지 150㎛일 수 있다. 상기 프라이머층의 두께가 5㎛ 미만이면 지나치게 얇은 두께의 전도층을 포함함으로 인해 복합시트의 지지력이 저하될 수 있다. 400㎛ 초과하면 지나치게 두꺼운 두께의 전도층을 포함함으로 인해 복합시트의 유연성이 저하되고 열전도성 및 전기전도성이 저하될 수 있다.On the other hand, the conductive layer thickness may be 5 to 400㎛, 10 to 300㎛, or 80 to 150㎛. When the thickness of the primer layer is less than 5 μm, the supporting force of the composite sheet may decrease due to the excessively thin conductive layer. When the thickness exceeds 400 µm, the composite sheet may have a low thickness and may have low flexibility and thermal conductivity and electrical conductivity.

본 발명의 다른 실시예에 따른 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법은, 기재의 적어도 일면에 프라이머조성물을 도포 및 경화하여, 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는 프라이머층을 형성하는 단계; 상기 프라이머층에 도전성 코팅액조성물을 도포 및 경화하여, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 형성하는 단계; 및 상기 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체를 압착하는 단계;를 포함하는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법이 포함될 수 있다.According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity may include applying and curing a primer composition on at least one surface of a substrate to form a primer layer including a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane. step; Coating and curing the conductive coating liquid composition on the primer layer to form a conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder; And compressing the laminate including the substrate, the primer layer, and the conductive layer. The method of manufacturing a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity may be included.

먼저, 상기 복합시트 제조방법은, 기재의 적어도 일면에 프라이머조성물을 도포 및 경화하여, 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는 프라이머층을 형성할 수 있다.First, in the composite sheet manufacturing method, a primer composition may be coated and cured on at least one surface of a substrate to form a primer layer including a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane.

상기 기재에 도포되는 프라이머조성물은에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함할 수 있으며, 또한, 용매, 금속, 유기산 금속염, 올가노폴리실록산, 지연제 및 계면활성제 등을 더 포함할 수 있다. 도포된 프라이머조성물은 경화 공정을 통해 용매 등의 휘발성분이 휘발되어 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는 프라이머층을 형성할 수 있다.The primer composition applied to the substrate may include a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane, and may further include a solvent, a metal, an organic acid metal salt, an organopolysiloxane, a retardant, a surfactant, and the like. The applied primer composition may be volatilized through a curing process to form a primer layer including a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane.

한편, 상기 프라이머조성물은에폭시 화합물, 아미노알콕시실란 및 개시제를 포함할 수 있다. 상기 프라이머조성물을 기재에 도포한 후 열경화 및/또는 광경화하는 공정을 통해, 상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 가교가 이루어지고, 용매 등의 휘발성분이 휘발될 수 있다. 이로 인해, 상기 도포 및 경화 공정 이후 상기 기재 상에 형성된 프라이머층에는에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체가 포함될 할 수 있다.Meanwhile, the primer composition may include an epoxy compound, an aminoalkoxysilane, and an initiator. After applying the primer composition to the substrate and thermally cured and / or photocured, crosslinking of the epoxy compound and the aminoalkoxysilane is performed, and volatile components such as a solvent may be volatilized. For this reason, a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane may be included in the primer layer formed on the substrate after the coating and curing process.

상기 에폭시 화합물, 아미노알콕시실란, 금속, 유기산 금속염, 올가노폴리실록산, 지연제, 계면활성제의 종류; 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 중량비; 중합체의 중량평균분자량; 및 중합체의 점도는 앞서 언급한 바와 같다.Kinds of the above epoxy compound, aminoalkoxysilane, metal, organic acid metal salt, organopolysiloxane, retardant, surfactant; Weight ratio of epoxy compound to aminoalkoxysilane; Weight average molecular weight of the polymer; And the viscosity of the polymer is as mentioned above.

상기 프라이머층을 형성한 이후, 상기 프라이머층에 도전성 코팅액조성물을 도포 및 경화하여, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 형성할 수 있다. 이때, 상기 탄소계 화합물과 고분자 바인더의 종류 및 중량비는 앞서 언급한 바와 같다.After forming the primer layer, the conductive coating liquid composition may be applied and cured on the primer layer to form a conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder. In this case, the type and weight ratio of the carbon-based compound and the polymer binder are as mentioned above.

한편, 상기 프라이머층 및 전도층의 도포 방법은 당 기술분야에 알려져 있는 도포 방법을 이용할 수 있다. 예를 들어, 그라비아(Gravure) 코팅, 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 코팅, 키스 그라비아(Kiss Gravure) 코팅, 콤마 나이프(Comma Knife) 코팅, 롤(Roll) 코팅, 스프레이(Spray) 코팅, 메이어 바(Meyer Bar) 코팅, 슬롯 다이(Slot Die) 코팅, 리버스(Reverser) 코팅, 플렉소 방법 또는 오프셋(offset) 방법으로 코팅될 수 있다.On the other hand, the coating method of the primer layer and the conductive layer may use a coating method known in the art. For example, Gravure Coating, Micro Gravure Coating, Kis Gravure Coating, Comma Knife Coating, Roll Coating, Spray Coating, Meyer Bar Bar coating, Slot Die coating, Reverse coating, Flexo method or offset method can be coated.

본 발명의 일 실시예에 따른 복합시트 제조방법은, 상기 기재, 프라이머층 및 전도층을 순차적으로 포함하는 적층체를 압착함으로써 밀도가 높은 복합시트를 얻을 수 있다. 이러한 복합시트를 압착하여 밀도가 높임으로 인해 열전도성과 전기전도성이 우수한 특성이 나타내고, 이러한 복합시트를 반도체 공정 설비용 방열재료로 적용하는 경우, 높은 열전도성 및 전기전도성으로 인해 반도체 제조 공정의 공정 수율이 높아질 수 있다.In the composite sheet manufacturing method according to an embodiment of the present invention, a composite sheet having a high density may be obtained by pressing a laminate including the substrate, the primer layer, and the conductive layer sequentially. Since the composite sheet is compressed to have high density, it exhibits excellent thermal conductivity and electrical conductivity. When the composite sheet is used as a heat dissipating material for semiconductor process equipment, the process yield of semiconductor manufacturing process is high due to high thermal conductivity and electrical conductivity. This can be high.

한편, 압착 공정은 복합시트의 밀도를 높일 수 있는 공정이라면 제한 없이 적용할 수 있으나, 예를 들어, 가압 프레스 공정, 진공가압 프레스 공정, 롤 프레스 공정, 스탬프 프레스 공정, 가압 사출프레스 공정 등 다양한 공정을 적용할 수 있다.Meanwhile, the crimping process may be applied without limitation as long as it can increase the density of the composite sheet. For example, various processes such as a pressure press process, a vacuum press process, a roll press process, a stamp press process, and a press injection process may be used. Can be applied.

본 발명의 일 실시예에 따른 복합시트 제조방법에서, 상기 압착은 가압 프레스 공정을 통해 이루어질 수 있으며, 구체적으로 이러한 가압 프레스 공정은, 상기 적층체를 프레스(Press)로 압력을 가하며 열압착하는 단계; 상기 열압착된적층체를 프레스 압력을 유지한 상태로 냉각하는 단계; 및 상기 냉각된 적층체에서 프레스 압력을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.In the composite sheet manufacturing method according to an embodiment of the present invention, the pressing may be made through a pressing press process, and specifically, the pressing press process may include pressing the laminate with a press to press. ; Cooling the thermocompression laminated body while maintaining a press pressure; And removing press pressure from the cooled laminate.

상기 가압 프레스 공정은, 먼저, 상기 적층체를 프레스(Press)로 압력을 가하며 열압착할 수 있다. 이때, 상기 적층체에 가해진 압력은 10 내지 100kgf/cm2 또는 20 내지 60kgf/cm2 수 있다. 상기 압력이 10kgf/cm2 미만이면 밀도를 높아지는 효과가 미미하여 복합시트의 열전도성 및 전기전도성이 낮아질 수 있으며, 100kgf/cm2 초과하면 바인더와 필러, 필러와 필러 간의 결합력을 저하시켜 필름도막 강도를 열화 시킬 수 있다.In the pressure press process, first, the laminate may be thermocompressed while applying pressure to the laminate. In this case, the pressure applied to the laminate may be 10 to 100kgf / cm 2 or 20 to 60kgf / cm 2 . If the pressure can be lowered in thermal conductivity and electric conductivity of 10kgf / cm 2 is less than if the effect of increasing the density mimihayeo composite sheet, more than 100kgf / cm 2 binder and filler, by reducing the bonding force between the filler and the filler, the film coating strength May deteriorate.

또한, 상기 가압 프레스 공정은 20 내지 200℃의 온도에서 이루어지는 것이 바람직하며, 가압 프레스 공정 시 열을 가하면 미가교된 에폭시 화합물과 아미노알콕실란이 추가적으로 가교가 촉진되어 복합시트의 물질적/화학적 특성을 향상시킬 수 있다. In addition, the pressure press process is preferably carried out at a temperature of 20 to 200 ℃, when heat is applied during the pressure press process, further crosslinking of the uncrosslinked epoxy compound and amino alkoxysilane is further promoted to improve the material / chemical properties of the composite sheet You can.

상기 적층체를 프레스로 압력을 가하며 열압착한 이후, 프레스 압력을 유지한 상태로 냉각이 이루어지는데, 이는 냉각 공정을 제외하고 높은 온도에서 바로 압력을 제거하면 스프링 백 현상에 의해 복합시트의 밀도가 다시 하락하기 때문에 이를 방지하기 위해서이다.After pressing the laminate by pressing with pressure by pressing, cooling is performed while maintaining the press pressure. When the pressure is immediately removed at a high temperature except for a cooling process, the density of the composite sheet is increased by a spring back phenomenon. This is to prevent this because it falls again.

한편, 상기 가압 프레스 공정을 진공 조건에서 이루어지는 경우, 적층체에 포함된 비휘발 성분의 휘발을 촉진할 수 있어 복합시트의 밀도를 더욱 높이는데 효과적일 수 있다.On the other hand, when the pressure press process is carried out in a vacuum condition, it is possible to promote the volatilization of the non-volatile components included in the laminate can be effective to further increase the density of the composite sheet.

본 발명의 일 실시예에 따른 복합시트 제조방법에서, 상기 압착은 롤 프레스 공정을 통해 이루어질 수 있다.In the composite sheet manufacturing method according to an embodiment of the present invention, the pressing may be made through a roll press process.

상기 롤에 의해 적층체에 가해진 압력은 10 내지 100kgf/cm2 또는 20 내지 60kgf/cm2일 수 있다. 상기 압력이 10kgf/cm2 미만이면 밀도를 높아지는 효과가 미미하여 복합시트의 열전도성 및 전기전도성이 낮아질 수 있으며, 100kgf/cm2 초과하면 바인더와 필러, 필러와 필러 간의 결합력이 저하되어 필름도막 강도가 열화될 수 있다.The pressure applied to the laminate by the roll may be 10 to 100 kgf / cm 2 or 20 to 60 kgf / cm 2 . The pressure is when is 10kgf / cm 2 under the effect of increasing the density mimihayeo can lower the thermal conductivity and the electric conductivity of the composite sheet, more than 100kgf / cm 2 the bonding force between the binder and the filler, the filler and the filler is reduced, the film coating strength May deteriorate.

상기 롤의 온도는 20 내지 200℃일 수 있으며, 롤의 열이 적층체에 전이되어 미가교된 에폭시 화합물과 아미노알콕실란이 추가적으로 가교가 촉진되어 복합시트의 물질적/화학적 특성을 향상시킬 수 있다.The roll may have a temperature of 20 to 200 ° C., and heat of the roll may be transferred to the laminate to further crosslink the uncrosslinked epoxy compound and aminoalkoxysilane, thereby improving physical / chemical properties of the composite sheet.

상기 제조방법으로 제조된 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트는 전기전자 공정설비에 포함된 방열재료로 사용될 수 있으며, 예를 들어, 반도체 진공 플라즈마 설비(특히 드라이에칭 공정 설비)에 포함된 개스킷으로 사용될 수 있다. The composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity manufactured by the manufacturing method may be used as a heat dissipation material included in an electric and electronic process facility, and may be used as a gasket included in, for example, a semiconductor vacuum plasma facility (especially a dry etching process facility). Can be.

본 발명에 따르면, 고온에서 장기간 노출 시에도 박리 현상이 발생하지 않아 내구성이 현저히 우수하고, 높은 밀도로 인해 열전도성 및 전기전도성이 우수한 복합시트가 제공될 수 있다.According to the present invention, even after long-term exposure at high temperature does not occur peeling phenomenon is excellent in durability, due to the high density can be provided a composite sheet excellent in thermal conductivity and electrical conductivity.

도 1은 가압 프레스 공정을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 롤 프레스 공정을 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 실시예 3의 복합시트의 단면을 주사전자현미경(SEM; Scanning Electron Microscope)으로 촬영한 사진이다.
도 4는 비교예 3의 복합시트의 단면을 주사전자현미경으로 촬영한 사진이다.
1 is a view schematically showing a pressure press step.
It is a figure which shows typically a roll press process.
3 is a photograph taken with a scanning electron microscope (SEM) of the cross section of the composite sheet of Example 3.
4 is a photograph taken with a scanning electron microscope of a cross section of the composite sheet of Comparative Example 3.

발명을 하기의 실시예에서 보다 상세하게 설명한다. 단, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기의 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다. The invention is explained in more detail in the following examples. However, the following examples are merely to illustrate the invention, but the content of the present invention is not limited by the following examples.

실시예 1Example 1

1) 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체 제조1) Preparation of a laminate comprising a base material, a primer layer and a conductive layer

비스페놀-A 타입 에폭시 화합물과 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란의 공중합체 및 에틸사이클로헥사(지연제)를 포함하는 프라이머조성물을 제조하고, 최대 직경이 15nm인 그라파이트 10중량부 및 우레아계 수지 90중량부를 포함하는 도전성 코팅액조성물을 제조하였다. 이후, 두께가 40㎛인 알리미늄 박판의 양면에 프라이머조성물을 도포 및 건조하여 10㎛의 프라이머층을 형성하고, 상기 프라이머층 상에 도전성 코팅액 조성물을 양면에 도포 및 건조하여 150㎛의 전도층을 형성하여 적층체를 제조했다. 이때, 상기 프라이머층에포함되는 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물과 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란의 중량비가 1:1이 되도록 제어했다.A primer composition comprising a copolymer of a bisphenol-A type epoxy compound and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and ethylcyclohexa (delay agent) was prepared, and graphite having a maximum diameter of 15 nm was prepared. A conductive coating liquid composition including 10 parts by weight and 90 parts by weight of urea resin was prepared. Subsequently, a primer composition is applied and dried on both sides of an aluminum thin plate having a thickness of 40 μm to form a primer layer of 10 μm, and the conductive coating composition is applied and dried on both sides of the conductive layer having a thickness of 150 μm. It formed and manufactured the laminated body. At this time, it controlled so that the weight ratio of the bisphenol-A type epoxy compound and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl trimethoxysilane contained in the said primer layer might be 1: 1.

2) 적층체를 압착하여 복합시트 제조2) Composite sheet manufacturing by compressing laminate

도 1은 가압 프레스 공정을 모식적을 나타낸 것으로, 이와 같이, 상기 적층체의 양면에 각각 이형 필름, 알루미늄 포일, 및 알루미늄 플레이트를 적층하고, 20kgf/cm2의 압력을 가하여 150℃에서 30분 동안 열압착했다. 이후, 적층체에 가해진 압력을 유지한 상태로 상온(25℃)으로 냉각하고, 냉각된 적층체에서 프레스 압력 및 이형 필름, 알루미늄 포일, 및 알루미늄 플레이트을 제거하여 복합시트를 제조했다.FIG. 1 schematically shows a pressure press process. Thus, a release film, an aluminum foil, and an aluminum plate are laminated on both surfaces of the laminate, and heated at 150 ° C. for 30 minutes by applying a pressure of 20 kgf / cm 2 . Squeezed. Then, the composite sheet was manufactured by cooling to room temperature (25 ° C.) while maintaining the pressure applied to the laminate, and removing the press pressure and the release film, the aluminum foil, and the aluminum plate from the cooled laminate.

실시예 2Example 2

1) 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체 제조1) Preparation of a laminate comprising a base material, a primer layer and a conductive layer

상기 프라이머층에 포함되는 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물과 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란의 중량비가 1:0.2라는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조했다.Except for the weight ratio of the bisphenol-A type epoxy compound and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane contained in the primer layer is 1: 0.2, in the same manner as in Example 1 The laminate was produced.

2) 적층체를 압착하여 복합시트 제조2) Composite sheet manufacturing by compressing laminate

상기 적층체에 가한 압력이 40kgf/cm2이라는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 복합시트를 제조했다.A composite sheet was produced in the same manner as in Example 1, except that the pressure applied to the laminate was 40 kgf / cm 2 .

실시예 3Example 3

1) 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체 제조1) Preparation of a laminate comprising a base material, a primer layer and a conductive layer

상기 프라이머층에 포함되는 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물과 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란의 중량비가 1:20이라는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조했다.Except for the weight ratio of the bisphenol-A type epoxy compound and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane contained in the primer layer is 1:20, in the same manner as in Example 1 The laminate was produced.

2) 적층체를 압착하여 복합시트 제조2) Composite sheet manufacturing by compressing laminate

도2는 롤 프레스 공정을 모식적으로 나타낸 것으로, 이와 같이, 상기 적층체를 다수의 롤로 구성된 롤 프레스 장치에 도입하고 압착하여 복합시트를 제조했다. 이때, 롤의 표면온도는 150℃이고, 적층체의 이동속도는 0.2m/분이고, 적층체에 가해진 압력이 10kgf/cm2였다. 또한, 상기 복합시트의 단면을 주사전자현미경으로 촬영하여 도 3에 나타냈다.Fig. 2 schematically shows a roll press step. Thus, the laminated body was introduced into a roll press device composed of a plurality of rolls and pressed to produce a composite sheet. At this time, the surface temperature of the roll was 150 degreeC, the moving speed of the laminated body was 0.2 m / min, and the pressure applied to the laminated body was 10 kgf / cm <2> . In addition, the cross section of the composite sheet was photographed with a scanning electron microscope and shown in FIG. 3.

실시예 4Example 4

1) 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체 제조1) Preparation of a laminate comprising a base material, a primer layer and a conductive layer

상기 프라이머층에 포함되는 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물과 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란의 중량비가 1:30이라는 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 적층체를 제조했다.Except for the weight ratio of the bisphenol-A type epoxy compound and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane contained in the primer layer is 1:30, in the same manner as in Example 1 The laminate was produced.

2) 적층체를 압착하여 복합시트 제조2) Composite sheet manufacturing by compressing laminate

상기 적층체에 가해진 압력이 20kgf/cm2이라는 점을 제외하고는, 실시예 3과 동일한 방법으로 적층체를 압착하여 복합시트를 제조했다.A composite sheet was manufactured by pressing the laminate in the same manner as in Example 3, except that the pressure applied to the laminate was 20 kgf / cm 2 .

비교예 1Comparative Example 1

실시예 1에서 압착하지 않은 적층체를 복합시트로 준비했다.The laminate which was not crimped in Example 1 was prepared as a composite sheet.

비교예 2Comparative Example 2

실시예 2에서 압착하지 않은 적층체를 복합시트로 준비했다.The laminate which was not crimped in Example 2 was prepared as a composite sheet.

비교예 3Comparative Example 3

실시예 3에서 압착하지 않은 적층체를 복합시트로 준비했다. 또한, 상기 복합시트의 단면을 주사전자현미경으로 촬영하여 도 4에 나타냈다.The laminate which was not crimped in Example 3 was prepared as a composite sheet. In addition, the cross section of the composite sheet was photographed with a scanning electron microscope and shown in FIG. 4.

비교예 4Comparative Example 4

실시예 4에서 압착하지 않은 적층체를 복합시트로 준비했다.The laminate which was not crimped in Example 4 was prepared as a composite sheet.

1. 접착력 시험1. Adhesion Test

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 대해 Cross Hatch Cut Adhesion Test (ASTM D 3359)에 근거하여 측정하여 하기 표 1에 나타내었다. 단, 방치시간은 상온에서 30분이었다.For Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 were measured based on the Cross Hatch Cut Adhesion Test (ASTM D 3359) and are shown in Table 1 below. However, the standing time was 30 minutes at room temperature.

2. 열전도도 시험2. Thermal conductivity test

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 대해 레이저 플래쉬법에 의해 열전도도를 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The thermal conductivity of the Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 by the laser flash method is shown in Table 1 below.

3. 전기전도도 시험3. Conductivity test

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 대해 동일한 두께 및 동일한 거리에서 multi-tester에 의해 선저항을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.The wire resistance of the Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 by the multi-tester at the same thickness and the same distance are shown in Table 1 below.

4. 밀도 측정4. Density Measurement

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 대해 ASTM D792 표준에 근거하여 아르키메데스 원리를 사용한 0.1mg까지 측정 가능한 전자비중계를 사용하여 필름의 밀도를 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.For Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4 based on the ASTM D792 standard, the density of the film was measured using an electronic specific gravity meter that can be measured up to 0.1 mg using the Archimedes principle, and the results are shown in Table 1 below. .

5. 두께 측정5. Thickness Measurement

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예 1 내지 4에 대해 ASTM D374 표준에 근거하여 0.0025mm까지 측정 가능한 마이크로미터를 사용하여 필름의 두께를 측정하고, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.The thickness of the film was measured using a micrometer that can measure up to 0.0025 mm based on ASTM D374 standard for Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 4, and the results are shown in Table 1 below.

접착력(B)Adhesive force (B) 열전도도 (W/mK)Thermal Conductivity (W / mK) 전기저항 (Ω)Electrical resistance 밀도(g/cc)Density (g / cc) 두께 (㎛)Thickness (㎛) 실시예 1Example 1 5B5B 3.853.85 6060 1.89781.8978 150150 실시예 2Example 2 5B5B 4.124.12 5050 2.06282.0628 151151 실시예 3Example 3 4B4B 3.563.56 8080 1.82631.8263 152152 실시예 4Example 4 4B4B 3.743.74 7070 1.87981.8798 150150 비교예 1Comparative Example 1 3B3B 2.742.74 110110 1.71721.7172 168168 비교예 2Comparative Example 2 3B3B 2.722.72 110110 1.71611.7161 172172 비교예 3Comparative Example 3 3B3B 2.742.74 110110 1.71861.7186 164164 비교예 4Comparative Example 4 3B3B 2.742.74 110110 1.71791.7179 167167

상기 표 1에 따르면, 실시예 1 내지 4의 복합시트는, 압착되지 않은 비교예 1 내지 4의 복합시트(적층체) 보다, 밀도가 높아 이에 따른 열전도도 및 전기전도도가 높은 것을 확인했다. 또한, 도 3 및 4에 따르면, 실시예 3의 복합시트가, 압착되지 않은 비교예 3에 비해, 두께가 얇다는 것을 확인했다.According to the said Table 1, it confirmed that the composite sheets of Examples 1-4 are higher in density than the composite sheets (laminated body) of the comparative examples 1-4 which are not crimped, and therefore high thermal and electrical conductivity. 3 and 4 confirmed that the composite sheet of Example 3 was thinner than Comparative Example 3, which was not crimped.

Claims (25)

기재;
상기 기재의 적어도 일면에 형성되고, 에폭시(Epoxy) 화합물과 아미노알콕시실란(amino alkoxysilane)의 공중합체를 포함하는 프라이머층; 및
상기 프라이머층 상에 형성되고, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 포함하고,
평균 밀도가 1.0 내지 5.0g/cc이고,
상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체는 중량평균분자량(Mw)이 10,000 내지 900,000g/mol인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
materials;
A primer layer formed on at least one surface of the substrate and including a copolymer of an epoxy compound and an amino alkoxysilane; And
It is formed on the primer layer, and includes a conductive layer containing a carbon-based compound and a polymer binder,
Average density is 1.0 to 5.0 g / cc,
The copolymer of the epoxy compound and aminoalkoxysilane has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 900,000g / mol, a composite sheet excellent in thermal conductivity and electrical conductivity.
제1항에 있어서, 상기 복합시트는 기공률이 5% 이하인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the composite sheet has a porosity of 5% or less.
제1항에 있어서, 상기 복합시트는 두께가 50 내지 500㎛인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the composite sheet has a thickness of 50 to 500 μm.
제1항에 있어서, 상기 기재, 프라이머층 및 전도층은 순차적으로 적층되어 압착된 상태인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the substrate, the primer layer, and the conductive layer are sequentially laminated and compressed to have a high thermal conductivity and electrical conductivity.
제1항에 있어서, 상기 에폭시 화합물은 폴리글리시딜 에테르 화합물, 폴리글리시딜아민에폭시 화합물, 비스페놀-A 타입 에폭시 화합물, 비스페놀-F 타입 에폭시 화합물, 레조시놀 타입 에폭시 화합물, 테트라히드록시비스페닐-F 타입 에폭시 화합물, 크레졸-노볼락 타입 에폭시 화합물, 페놀-노볼락 타입 에폭시 화합물 및 시클로알리파틱에폭시 화합물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The method of claim 1, wherein the epoxy compound is a polyglycidyl ether compound, polyglycidylamine epoxy compound, bisphenol-A type epoxy compound, bisphenol-F type epoxy compound, resorcinol type epoxy compound, tetrahydroxybis A composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity, which is at least one selected from the group consisting of a phenyl-F type epoxy compound, a cresol-novolak type epoxy compound, a phenol-novolak type epoxy compound, and a cycloaliphatic epoxy compound.
제1항에 있어서, 상기 아미노알콕시실란은아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란, 아미노프로필트라이이소프로폭시실란 및 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The method of claim 1, wherein the aminoalkoxysilane is aminopropyltrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, aminopropyltriisopropoxysilane and N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane One or more selected from the group consisting of a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity.
제1항에 있어서, 상기 프라이머층은 평균 밀도가 0.9 내지 2.0g/cc인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the primer layer has an average density of 0.9 to 2.0 g / cc.
제1항에 있어서, 상기 프라이머층은 기공률이 5% 이하인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the primer layer has a porosity of 5% or less.
제1항에 있어서, 상기 프라이머층은 두께가 10nm 내지 25㎛인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the primer layer has a thickness of 10 nm to 25 μm.
제1항에 있어서, 상기 탄소계 화합물은 카본블랙, 그라파이트(graphite), 탄소나노튜브(CNT), 그래핀(Graphene), 산화 그래핀, 탄소 섬유 및 플러렌(Fullerene)으로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상을 포함하는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The method of claim 1, wherein the carbon-based compound is carbon black, graphite (graphite), carbon nanotubes (CNT), graphene (Graphene), graphene oxide, carbon fiber and at least one selected from the group consisting of fullerene (Fullerene) Comprising a composite sheet having excellent thermal conductivity and electrical conductivity.
제1항에 있어서, 상기 고분자 바인더는 열경화성 실리콘 고무 화합물, 일액형열경화성 실리콘 바인더, 이액형열경화성 실리콘 바인더, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 우레탄계 수지 및 우레아계 수지로 이루어진 군에서 선택된 하나 이상인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The method of claim 1, wherein the polymer binder is one or more selected from the group consisting of a thermosetting silicone rubber compound, a one-component thermosetting silicone binder, a two-component thermosetting silicone binder, an acrylic resin, an epoxy resin, a urethane resin, and a urea resin. Composite sheet with excellent electrical conductivity.
제1항에 있어서, 상기 전도층은 평균 밀도가 1.0 내지 5.0 g/cc인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the conductive layer has an average density of 1.0 to 5.0 g / cc.
제1항에 있어서, 상기 전도층은 기공률이 5% 이하인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the conductive layer has a porosity of 5% or less.
제1항에 있어서, 상기 전도층은 두께가 5 내지 400㎛인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the conductive layer has a thickness of 5 to 400 μm.
제1항에 있어서, 상기 복합시트는 전기전자 공정설비에 포함된 방열재료인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 1, wherein the composite sheet is a heat dissipating material included in an electrical and electronic process facility.
제15항에 있어서, 상기 전기전자 공정설비는 반도체 진공 플라즈마 설비인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet of claim 15, wherein the electrical and electronic processing equipment is a semiconductor vacuum plasma equipment.
제1항에 있어서, 1.0W/mK 이상의 열전도도 및 100Ω 이하의 저항을 갖는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트.
The composite sheet according to claim 1, wherein the composite sheet has excellent thermal conductivity and electrical conductivity, having a thermal conductivity of 1.0 W / mK or more and a resistance of 100 kPa or less.
기재의 적어도 일면에 프라이머 조성물을 도포 및 경화하여, 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는 프라이머층을 형성하는 단계;
상기 프라이머층에 도전성 코팅액 조성물을 도포 및 경화하여, 탄소계 화합물과 고분자 바인더를 포함하는 전도층을 형성하는 단계; 및
상기 기재, 프라이머층 및 전도층을 포함하는 적층체를 압착하는 단계;를 포함하고,
상기 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체는 중량평균분자량(Mw)이 10,000 내지 900,000g/mol인,
열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
Coating and curing the primer composition on at least one side of the substrate to form a primer layer comprising a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane;
Coating and curing the conductive coating liquid composition on the primer layer to form a conductive layer including a carbon-based compound and a polymer binder; And
And compressing the laminate including the substrate, the primer layer, and the conductive layer.
The copolymer of the epoxy compound and aminoalkoxysilane has a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 900,000 g / mol,
Composite sheet manufacturing method with excellent thermal and electrical conductivity.
제18항에 있어서, 상기 프라이머 조성물은 에폭시 화합물과 아미노알콕시실란의 공중합체를 포함하는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
19. The method of claim 18, wherein the primer composition comprises a copolymer of an epoxy compound and an aminoalkoxysilane.
제18항에 있어서, 상기 프라이머 조성물은 에폭시 화합물, 아미노알콕시실란 및 개시제를 포함하는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
The method of claim 18, wherein the primer composition comprises an epoxy compound, an aminoalkoxysilane, and an initiator.
제18항에 있어서, 상기 압착은 가압 프레스 공정을 통해 이루어지는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
The composite sheet manufacturing method of claim 18, wherein the pressing is performed through a pressure press process.
제21항에 있어서, 상기 가압 프레스 공정은,
상기 적층체를 프레스(Press)로 압력을 가하며 열압착하는 단계;
상기 열압착된 적층체를 프레스 압력을 유지한 상태로 냉각하는 단계; 및
상기 냉각된 적층체에서 프레스 압력을 제거하는 단계를 포함하는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
The method of claim 21, wherein the pressure press process,
Thermally compressing the laminate with a press;
Cooling the thermocompression laminated body while maintaining press pressure; And
Comprising the step of removing the press pressure in the cooled laminate, a composite sheet manufacturing method excellent in thermal and electrical conductivity.
제22항에 있어서, 상기 열압착 단계에서,
상기 적층체에 가해진 압력은 10 내지 100kgf/cm2이고, 온도는 20 내지 200℃인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
The method of claim 22, wherein in the thermocompression step,
The pressure applied to the laminate is 10 to 100kgf / cm 2 , the temperature is 20 to 200 ℃, the composite sheet manufacturing method excellent thermal conductivity and electrical conductivity.
제18항에 있어서, 상기 압착은 롤 프레스 공정을 통해 이루어지는, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.
The composite sheet manufacturing method of claim 18, wherein the pressing is performed through a roll press process.
제24항에 있어서, 상기 롤에 의해 적층체에 가해진 압력은 10 내지 100kgf/cm2이고, 상기 롤의 온도는 20 내지 200℃인, 열전도성과 전기전도성이 우수한 복합시트 제조방법.The composite sheet manufacturing method of claim 24, wherein the pressure applied to the laminate by the roll is 10 to 100 kgf / cm 2 , and the temperature of the roll is 20 to 200 ° C. 25.
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