KR102052445B1 - Method of fabricating flexible display device - Google Patents

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Abstract

본 발명의 플렉서블(flexible) 표시장치의 제조방법은 플렉서블 폴리이미드(polyimide) 기판의 공정진행을 위해 글라스 기판을 이용하는 경우에 있어, 폴리이미드 기판이 부착된 글라스 기판의 반대편에 폴리이미드 기판과 동일하거나 유사한 열팽창계수(coefficient of thermal expansion)를 가진 보상층을 형성하여 공정진행 중에 발생하는 글라스 기판의 휨을 상쇄시킴으로써 공정을 원활하게 진행하기 위한 것으로, 글라스 기판의 배면에 보상층을 형성하는 단계; 상기 보상층이 형성된 글라스 기판에 열처리를 진행하는 단계; 상기 열처리가 진행된 글라스 기판의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판을 형성하는 단계; 상기 폴리이미드 기판 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드를 형성하는 단계; 및 상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 상기 글라스 기판을 제거하는 단계를 포함하며, 상기 보상층은 상기 폴리이미드 기판과 유사한 열팽창계수를 갖는 물질로 형성하여 상기 TFT공정 중에 발생하는 글라스 기판의 휘어짐을 상쇄하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing the flexible display device of the present invention, in the case of using a glass substrate for the process of the flexible polyimide substrate, the same as the polyimide substrate on the opposite side of the glass substrate to which the polyimide substrate is attached Forming a compensation layer having a similar coefficient of thermal expansion to offset the warpage of the glass substrate generated during the process, thereby forming a compensation layer on the back surface of the glass substrate; Performing heat treatment on the glass substrate on which the compensation layer is formed; Coating a polyimide on the upper surface of the glass substrate subjected to the heat treatment to form a polyimide substrate; Forming a predetermined organic light emitting diode through a TFT process on the polyimide substrate; And removing the glass substrate from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed, wherein the compensation layer is formed of a material having a coefficient of thermal expansion similar to that of the polyimide substrate to warp the glass substrate generated during the TFT process. It is characterized by offsetting.

Description

플렉서블 표시장치의 제조방법{METHOD OF FABRICATING FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}Manufacturing method of flexible display device {METHOD OF FABRICATING FLEXIBLE DISPLAY DEVICE}

본 발명은 플렉서블 표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 플렉서블 기판을 이용한 플렉서블 표시장치의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a flexible display device, and more particularly, to a method of manufacturing a flexible display device using a flexible substrate.

최근의 정보화 사회에서 표시장치는 시각정보 전달매체로서 그 중요성이 더 한층 강조되고 있으며, 향후 주요한 위치를 점하기 위해서는 저소비전력화, 박형화, 경량화, 고화질화 등의 요건을 충족시켜야 한다.In today's information society, display devices are being emphasized as a visual information transmission medium, and in order to gain a major position in the future, display devices must satisfy requirements such as low power consumption, thinness, light weight, and high quality.

상기 표시장치는 자체가 빛을 내는 브라운관(Cathode Ray Tube; CRT), 전계발광소자(Electro Luminescence; EL), 발광소자(Light Emitting Diode; LED), 진공형광표시장치(Vacuum Fluorescent Display; VFD), 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Device; OLED), 전계방출표시장치(Field Emission Display; FED), 플라즈마표시장치패널(Plasma Display Panel; PDP) 등의 발광형과 액정표시장치(Liquid Crystal Display; LCD)와 같이 자체가 빛을 내지 못하는 비발광형으로 나눌 수 있다.The display device includes a cathode ray tube (CRT), an electroluminescent element (EL), a light emitting diode (LED), a vacuum fluorescence display (VFD), Emission type and liquid crystal display (LCD) such as organic light emitting device (OLED), field emission display (FED), plasma display panel (PDP) ) Can be divided into non-emitting type itself does not emit light.

한편, 표시장치를 접거나 말아서 넣더라도 손상되지 않는 플렉서블(flexible) 표시장치가 표시장치 분야의 새로운 기술로 떠오를 전망이다. 현재는 플렉서블 표시장치 구현에 다양한 장애들이 존재하고 있지만, 기술개발과 함께 박막 트랜지스터 액정표시장치나 유기발광표시장치가 주류를 이루게 될 것이다.Meanwhile, a flexible display device that is not damaged even when the display device is folded or rolled up is expected to emerge as a new technology in the display device field. Currently, there are various obstacles to the implementation of the flexible display device, but with the development of technology, the thin film transistor liquid crystal display device or the organic light emitting display device will become mainstream.

이하, 도면을 참조하여 플렉서블 표시장치에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the flexible display device will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1a 및 도 1b는 일반적인 플렉서블 표시장치를 예를 들어 나타내는 사진이다.1A and 1B are photographs illustrating a typical flexible display device as an example.

플렉서블 표시장치는 두루말이 표시장치로 불리는데, 도면에 도시된 바와 같이 플라스틱과 같이 얇은 기판에 구현되어 종이처럼 접거나 말아도 손상되지 않는 것으로 차세대 표시장치의 하나이며, 현재는 1㎜ 이하로 얇게 만들 수 있는 액정표시장치 및 유기발광표시장치가 유망하다.The flexible display device is called a display device. The flexible display device is one of the next-generation display devices that is implemented on a thin substrate such as plastic and is not damaged even when folded or rolled as shown in the drawing. Currently, the flexible display device can be made thinner than 1 mm. Liquid crystal display devices and organic light emitting display devices are promising.

액정표시장치는 액정의 광학적 이방성을 이용하여 이미지를 표현하는 장치로서, 기존의 브라운관에 비해 시인성(是認性)이 우수하고 평균소비전력도 같은 화면크기의 브라운관에 비해 작을 뿐만 아니라 발열량도 작기 때문에 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.A liquid crystal display is an apparatus that expresses an image by using optical anisotropy of liquid crystal. It is superior to conventional CRTs because it has better visibility and lower average power consumption than CRTs having the same screen size. It is attracting attention as a display device.

유기발광표시장치는 소자 자체가 스스로 빛을 내기 때문에 어두운 곳이나 외부 빛이 들어올 때도 시인성이 좋으며, 모바일(mobile) 표시장치의 성능을 판가름하는 중요한 기준인 응답속도가 현존하는 표시장치 가운데 빠르기 때문에 완벽한 동영상을 구현할 수 있다. 또한, 유기발광표시장치는 초박형 디자인이 가능해 휴대폰 등 각종 모바일 기기를 슬림(slim)화할 수 있다.The organic light emitting display is excellent in visibility even in the dark or outside light because the device itself emits light, and the response speed, which is an important criterion for determining the performance of a mobile display, is fast among existing displays. You can implement a video. In addition, the organic light emitting display device can be made ultra-thin design to slim various mobile devices such as mobile phones.

이러한 플렉서블 표시장치 구현을 위해서는 기판의 유연성 확보가 필요하며, 현재 이러한 기판 유연성 확보를 위해서 기존의 글라스(glass) 기판 대신 폴리이미드(polyimide)와 같은 플라스틱의 플렉서블 기판을 사용하게 된다.In order to realize such a flexible display device, it is necessary to secure flexibility of the substrate, and to secure such substrate flexibility, a flexible substrate made of plastic such as polyimide is used instead of a conventional glass substrate.

상기 폴리이미드 기판은 플렉서블하기 때문에 보조기판으로 글라스 기판을 사용하여 상기 글라스 기판 위에 폴리이미드를 코팅하여 TFT공정을 진행하게 되며, TFT공정이 완료되면 상기 폴리이미드 기판으로부터 글라스 기판을 분리하게 된다.Since the polyimide substrate is flexible, the polyimide is coated on the glass substrate using the glass substrate as an auxiliary substrate to perform the TFT process, and when the TFT process is completed, the glass substrate is separated from the polyimide substrate.

이때, TFT공정 중에 가해지는 열에 의해 폴리이미드 기판이 휘어지게 되며, 이러한 폴리이미드 기판의 휨에 의해 글라스 기판이 휘어지게 된다.At this time, the polyimide substrate is bent by the heat applied during the TFT process, and the glass substrate is bent by the bending of the polyimide substrate.

도 2는 폴리이미드 기판의 휨에 의한 글라스 기판의 휘어짐을 예시적으로 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a diagram illustrating the bending of the glass substrate due to the bending of the polyimide substrate.

상기 도 2를 참조하면, 폴리이미드 기판(11)의 높은 열팽창계수(Coefficient of Thermal Expansion; CTE)(~ 35ppm/℃)로 인해 폴리이미드 기판(11)이 장력(tensile)방향으로 휘어지게 되며, 이러한 폴리이미드 기판(11)의 휨에 의해 글라스 기판(1)이 같은 방향으로 휘어지게 된다.Referring to FIG. 2, the polyimide substrate 11 is bent in a tension direction due to a high coefficient of thermal expansion (CTE) of the polyimide substrate 11 (˜35 ppm / ° C.). By bending of the polyimide substrate 11, the glass substrate 1 is bent in the same direction.

이와 같이 글라스 기판의 휘어짐으로 인해 글라스 기판의 로딩과 언로딩 과정에서 글라스 기판에 크랙(crack)이 발생하게 된다. 이에 따라 공정 택 타임(tack time)의 증가와 장비 이상을 야기할 가능성이 있다.As such, the glass substrate may be bent to cause cracks in the glass substrate during loading and unloading of the glass substrate. This can lead to increased process tack times and equipment failures.

본 발명은 상기한 문제를 해결하기 위한 것으로, 플렉서블 폴리이미드 기판의 공정진행을 위해 글라스 기판을 이용하는 경우에 있어, TFT공정 중에 글라스 기판의 휘어짐을 방지하도록 한 플렉서블 표시장치의 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a flexible display device which prevents the glass substrate from bending during a TFT process when a glass substrate is used for the process of the flexible polyimide substrate. There is this.

기타, 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 후술되는 발명의 구성 및 특허청구범위에서 설명될 것이다.Other objects and features of the present invention will be described in the configuration and claims of the invention which will be described later.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법은 글라스 기판의 배면에 보상층을 형성하는 단계; 상기 보상층이 형성된 글라스 기판에 열처리를 진행하는 단계; 상기 열처리가 진행된 글라스 기판의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판을 형성하는 단계; 상기 폴리이미드 기판 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드를 형성하는 단계; 및 상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 상기 글라스 기판을 제거하는 단계를 포함하며, 상기 보상층은 상기 폴리이미드 기판과 유사한 열팽창계수를 갖는 물질로 형성하여 상기 TFT공정 중에 발생하는 글라스 기판의 휘어짐을 상쇄할 수 있다.In order to achieve the above object, a method of manufacturing a flexible display device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a compensation layer on the back of the glass substrate; Performing heat treatment on the glass substrate on which the compensation layer is formed; Coating a polyimide on the upper surface of the glass substrate subjected to the heat treatment to form a polyimide substrate; Forming a predetermined organic light emitting diode through a TFT process on the polyimide substrate; And removing the glass substrate from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed, wherein the compensation layer is formed of a material having a coefficient of thermal expansion similar to that of the polyimide substrate to warp the glass substrate generated during the TFT process. Can be offset.

본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 다른 제조방법은 글라스 기판의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판을 형성하는 단계; 상기 폴리이미드가 코팅된 글라스 기판의 배면에 보상층을 형성하는 단계; 상기 보상층이 형성된 글라스 기판에 열처리를 진행하는 단계; 상기 폴리이미드 기판 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드를 형성하는 단계; 및 상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 상기 글라스 기판을 제거하는 단계를 포함하며, 상기 보상층은 상기 폴리이미드 기판과 유사한 열팽창계수를 갖는 물질로 형성하여 상기 TFT공정 중에 발생하는 글라스 기판의 휘어짐을 상쇄할 수 있다.Another method of manufacturing a flexible display device according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a polyimide substrate by coating a polyimide on the upper surface of the glass substrate; Forming a compensation layer on a rear surface of the polyimide-coated glass substrate; Performing heat treatment on the glass substrate on which the compensation layer is formed; Forming a predetermined organic light emitting diode through a TFT process on the polyimide substrate; And removing the glass substrate from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed, wherein the compensation layer is formed of a material having a coefficient of thermal expansion similar to that of the polyimide substrate to warp the glass substrate generated during the TFT process. Can be offset.

이때, 상기 보상층은 폴리이미드 또는 실리콘산화막이나 실리콘질화막으로 형성할 수 있다.In this case, the compensation layer may be formed of polyimide, silicon oxide film, or silicon nitride film.

이때, 상기 열처리는 상기 폴리이미드 기판에 진행되는 TFT공정 중의 증착온도 내에서 진행할 수 있다.In this case, the heat treatment may be performed within the deposition temperature during the TFT process proceeds on the polyimide substrate.

이때, 상기 열처리는 상기 TFT공정의 증착온도 중 최고의 온도에서 진행할 수 있다.In this case, the heat treatment may proceed at the highest temperature of the deposition temperature of the TFT process.

상기 글라스 기판이 제거된 상기 폴리이미드 기판 배면에 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET)의 플라스틱이나 스테인레스 스틸의 금속으로 이루어진 백 필름을 부착하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.The method may further include attaching a back film made of polyethylene terephthalate (PET) plastic or a metal of stainless steel to the back surface of the polyimide substrate from which the glass substrate is removed.

상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판 상부에 점착제를 이용하여 편광판을 부착하는 단계를 추가로 포함할 수 있다.The method may further include attaching a polarizing plate to the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed by using an adhesive.

상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 제거된 글라스 기판과 상기 글라스 기판 배면에 형성된 보상층은 또 다른 플렉서블 표시장치의 제조에 재사용(recycle)할 수 있다.The glass substrate removed from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed and the compensation layer formed on the rear surface of the glass substrate may be recycled to manufacture another flexible display device.

상술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법은 플렉서블 폴리이미드 기판의 공정진행을 위해 글라스 기판을 이용하는 경우에 있어, 폴리이미드 기판이 부착된 글라스 기판의 반대편에 폴리이미드 기판과 동일하거나 유사한 열팽창계수를 가진 보상층을 형성하여 공정진행 중에 발생하는 글라스 기판의 휨을 상쇄시킴으로써 글라스 기판의 변형을 방지할 수 있게 된다. 이에 따라 택 타임이 단축되는 동시에 수율이 향상되는 효과를 제공한다.As described above, in the method of manufacturing the flexible display device according to the exemplary embodiment of the present invention, when a glass substrate is used to process the flexible polyimide substrate, the polyimide is opposite to the glass substrate on which the polyimide substrate is attached. It is possible to prevent the deformation of the glass substrate by forming a compensation layer having the same or similar thermal expansion coefficient as the substrate to offset the warpage of the glass substrate generated during the process. Accordingly, the tack time is shortened and the yield is improved.

도 1a 및 도 1b는 일반적인 플렉서블 표시장치를 예를 들어 나타내는 사진.
도 2는 폴리이미드 기판의 휨에 의한 글라스 기판의 휘어짐을 예시적으로 보여주는 도면.
도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 예시적으로 나타내는 단면도.
도 4는 상기 도 3에 도시된 표시패널을 예를 들어 나타내는 단면도.
도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 사시도.
도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도.
도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 사시도.
1A and 1B are photographs illustrating a typical flexible display device, for example.
2 is a view showing an example of the bending of the glass substrate due to the bending of the polyimide substrate.
3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a flexible display device according to the present invention.
4 is a cross-sectional view illustrating the display panel shown in FIG. 3 as an example.
5 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a first embodiment of the present invention.
6A to 6E are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a first embodiment of the present invention.
7 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.
8A to 8E are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법의 바람직한 실시예를 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of a method of manufacturing a flexible display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that a person skilled in the art can easily implement the present invention.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다. 도면에서 층 및 영역들의 크기 및 상대적인 크기는 설명의 명료성을 위해 과장될 수 있다.Advantages and features of the present invention, and methods for achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but may be implemented in various different forms, only the present embodiments to make the disclosure of the present invention complete, and common knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout. In the drawings, the size and relative size of layers and regions may be exaggerated for clarity.

소자(element) 또는 층이 다른 소자 또는 "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 다른 소자 또는 층의 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)" 또는 "바로 위"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않는 것을 나타낸다.When an element or layer is referred to as another element or "on" or "on", it includes both instances of another element or layer interposed therebetween, as well as other elements or layers. do. On the other hand, when a device is referred to as "directly on" or "directly on", it means not intervening another device or layer.

공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below, beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 소자 또는 구성 요소들과 다른 소자 또는 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 소자의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 소자를 뒤집을 경우, 다른 소자의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 소자는 다른 소자의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다.The spatially relative terms "below, beneath", "lower", "above", "upper", and the like, as shown in the figures, are one element or component. It may be used to easily describe the correlation between and other elements or components. Spatially relative terms are to be understood as including terms in different directions of the device in use or operation in addition to the directions shown in the figures. For example, when flipping a device shown in the figure, a device described as "below" or "beneath" of another device may be placed "above" of another device. Thus, the exemplary term "below" can encompass both an orientation of above and below.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며, 따라서 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprise)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to be limiting of the invention. In this specification, the singular also includes the plural unless specifically stated otherwise in the phrase. As used herein, “comprise” and / or “comprising” refers to a component, step, operation and / or element that is present in one or more other components, steps, operations and / or elements. Or does not exclude additions.

도 3은 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치의 구조를 예시적으로 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a structure of a flexible display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

그리고, 도 4는 상기 도 3에 도시된 표시패널을 예를 들어 나타내는 단면도로써, 표시패널로 유기발광표시장치를 예를 들어 나타내고 있다.4 is a cross-sectional view illustrating the display panel illustrated in FIG. 3, for example, and illustrates an organic light emitting display device as the display panel.

상기 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치는 영상을 출력하는 표시패널(110)을 포함하며, 상기 표시패널(110)의 상부에는 편광판(120)이 점착제(130)를 이용하여 부착되어 있는 있다.Referring to FIG. 3, the flexible display device according to the present invention includes a display panel 110 for outputting an image, and a polarizer 120 is attached to the upper portion of the display panel 110 by using the adhesive 130. There is.

여기서, 상기 표시패널(110)의 상부와 하부는 특정 위치를 한정하는 것은 아니며, 따라서 상기 표시패널(110)의 하부에 상기 편광판(120)이 점착제(130)를 이용하여 부착될 수 있다.Here, the upper and lower portions of the display panel 110 do not limit a specific position, and thus, the polarizer 120 may be attached to the lower portion of the display panel 110 using the adhesive 130.

그리고, 상기 편광판(120)의 상부 표면에는 하드 코팅(hard coating)의 보호필름(140)이 추가로 부착될 수 있다.In addition, a protective film 140 of a hard coating may be additionally attached to the upper surface of the polarizing plate 120.

이때, 상기 표시패널(110)은 액정표시장치나 유기발광표시장치 중 하나로 구성될 수 있다. 다만, 본 발명의 이에 한정되는 것은 아니다.In this case, the display panel 110 may be configured as one of a liquid crystal display and an organic light emitting display. However, the present invention is not limited thereto.

상기 표시패널(110)을 유기발광표시장치로 구성하는 경우에는, 상기 도 4를 참조하면, 폴리이미드(polyimide)와 같은 플라스틱으로 이루어진 기판(111) 상에 TFT공정을 통해 투명 산화물로 이루어진 양극(112)이 형성되며, 상기 양극(112) 위에는 순차적으로 정공수송층(hole transport layer)(113), 발광층(emission layer)(114), 전자수송층(electron transport layer)(115), 전자주입층(electron injection layer)(116) 및 음극(117)이 적층되어 있다.When the display panel 110 is configured as an organic light emitting display device, referring to FIG. 4, an anode made of a transparent oxide is formed through a TFT process on a substrate 111 made of plastic such as polyimide. 112 is formed on the anode 112, a hole transport layer 113, an emission layer 114, an electron transport layer 115, an electron injection layer (electron) sequentially injection layer 116 and cathode 117 are stacked.

상기 구조를 기반으로 유기전계발광장치는 양극(112)에서 주입되는 정공과 음극(117)에서 주입되는 전자가 각각의 수송을 위한 수송층(113, 115)을 경유하여 발광층(114)에서 결합한 후 낮은 에너지 준위로 이동하면서 상기 발광층(114)에서의 에너지 차에 해당하는 파장의 빛을 생성하게 된다.Based on the structure, the organic light emitting display device has a low hole after the holes injected from the anode 112 and the electrons injected from the cathode 117 are combined in the light emitting layer 114 via the transport layers 113 and 115 for respective transport. While moving to an energy level, light of a wavelength corresponding to an energy difference in the light emitting layer 114 is generated.

이때, 백색광의 발광을 위하여 상기 발광층(114)은 더욱 구체적으로 적색발광층(114a), 녹색발광층(114b) 및 청색발광층(114c)으로 이루어질 수 있다. 다만, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.In this case, the light emitting layer 114 may be formed of the red light emitting layer 114a, the green light emitting layer 114b, and the blue light emitting layer 114c to emit white light. However, the present invention is not limited thereto.

이와 같이 구성되는 표시패널(110)의 상부에는 전술한 바와 같이, 편광판(120)이 점착제(130)를 이용하여 부착되어 있으며, 상기 편광판(120)은 외광반사를 막아주기 위해 원편광의 편광판으로 이루어지게 된다.As described above, the polarizing plate 120 is attached to the upper portion of the display panel 110 configured as described above using the adhesive 130, and the polarizing plate 120 is a circularly polarized polarizing plate to prevent external light reflection. Will be done.

이때, 상기 기판(111)으로 폴리이미드 재질을 사용하는 경우 상기 기판(111) 배면에는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET)의 플라스틱이나 스테인레스 스틸의 금속으로 이루어진 백 필름(back film)이 부착될 수 있다.In this case, when a polyimide material is used as the substrate 111, a back film made of plastic of polyethylene terephthalate (PET) or a metal of stainless steel may be attached to the rear surface of the substrate 111. have.

이에 비해 표시패널(110)을 액정표시장치로 구성하는 경우에는 상기 표시패널(110)의 상부에는, 예를 들어 수평방향의 광흡수축을 가지는 상부 편광판을 배치한다. 또한, 도면에는 도시하지 않았지만, 상기 표시패널(110) 하부에는 백라이트 유닛이 배치되고, 상기 표시패널(110)과 백라이트 유닛 사이에 하부 편광판이 배치되게 된다.In contrast, when the display panel 110 is configured as a liquid crystal display device, an upper polarizing plate having, for example, a light absorption axis in a horizontal direction is disposed above the display panel 110. Although not shown in the drawings, a backlight unit is disposed under the display panel 110, and a lower polarizer is disposed between the display panel 110 and the backlight unit.

그리고, 상기 표시패널(110)을 액정표시장치로 구성하는 경우에 상기 표시패널(110)은 2장의 기판들과 이들 사이에 형성된 액정층으로 구성될 수 있다.When the display panel 110 is configured as a liquid crystal display, the display panel 110 may include two substrates and a liquid crystal layer formed therebetween.

이때, 하부 기판에는 박막 트랜지스터 어레이가 형성된다. 상기 박막 트랜지스터 어레이에는 R, G 및 B 데이터전압이 공급되는 다수의 데이터라인들, 상기 데이터라인들에 교차하여 게이트펄스가 공급되는 다수의 게이트라인들, 상기 데이터라인들과 게이트라인들의 교차부들에 형성되는 다수의 박막 트랜지스터들, 액정 셀들에 데이터전압을 충전시키기 위한 다수의 화소전극 및 상기 화소전극에 접속되어 액정 셀의 전압을 유지시키기 위한 스토리지 커패시터 등을 포함한다. 상부 기판에는 컬러필터 어레이가 형성되며, 상기 컬러필터 어레이에는 블랙매트릭스와 컬러필터 등을 포함한다.In this case, a thin film transistor array is formed on the lower substrate. The thin film transistor array includes a plurality of data lines supplied with R, G, and B data voltages, a plurality of gate lines provided with gate pulses crossing the data lines, and intersections of the data lines and the gate lines. A plurality of thin film transistors to be formed, a plurality of pixel electrodes for charging a data voltage to the liquid crystal cells, and a storage capacitor connected to the pixel electrodes to maintain the voltage of the liquid crystal cell. A color filter array is formed on the upper substrate, and the color filter array includes a black matrix and a color filter.

이렇게 구성된 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치에 있어, 상기 편광판(120)은 제 1 지지체(122a)와 제 2 지지체(122b) 및 상기 제 1 지지체(122a)와 제 2 지지체(122b) 사이에 위치한 편광소자(121)를 포함한다.In the flexible display device according to the present invention configured as described above, the polarizing plate 120 is a polarization positioned between the first support 122a and the second support 122b and between the first support 122a and the second support 122b. The element 121 is included.

상기 제 1 지지체(122a)와 제 2 지지체(122b)는 위상지연(retardation)이 없는 일반적인 보호필름(protection film)으로 이루어질 수 있으며, 예를 들어 트리아세틸셀룰로오스(Tri-acetyl cellulose; TAC) 필름으로 이루어질 수 있다.The first support 122a and the second support 122b may be formed of a general protection film without phase retardation, for example, a tri-acetyl cellulose (TAC) film. Can be done.

상기 편광소자(121)는 자연광이나 편광으로부터 임의의 편광으로 변환될 수 있는 필름을 말한다. 상기 편광소자(121)로는 입사되는 빛을 직교(orthogonal)하는 2개의 편광 성분으로 나누었을 때, 그 중 일방의 편광 성분을 통과시키는 기능을 갖고, 타방의 편광 성분을 흡수, 반사 및 산란시키는 기능으로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 기능을 갖는 것이 사용될 수 있다.The polarizer 121 refers to a film that can be converted from natural light or polarized light into any polarized light. When the incident light is divided into two polarizing components orthogonal to the incident light, the polarizing element 121 has a function of passing one of the polarization components, and absorbs, reflects, and scatters the other polarization component. One having at least one function selected from can be used.

그리고, 상기 편광소자(121)에 사용되는 광학 필름으로는 특별히 제한은 없지만, 예를 들어 요오드 또는 2색성 염료를 함유하는 폴리비닐 알코올(polyvinyl alcohol; PVA)계 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름의 연신 필름, 2색성 물질과 액정성 화합물을 함유하는 액정성 조성물을 일정 방향으로 배향시킨 O형 편광소자 및 리오트로픽(lyotropic) 액정을 일정 방향으로 배향시킨 E형 편광소자 등을 들 수 있다.The optical film used for the polarizing element 121 is not particularly limited, but for example, stretching of a polymer film containing polyvinyl alcohol (PVA) -based resin containing iodine or a dichroic dye as a main component. O type polarizing element which orientated the liquid crystalline composition containing a film, a dichroic substance, and a liquid crystalline compound to a fixed direction, and E type polarizing element which orientated a lyotropic liquid crystal to a fixed direction, etc. are mentioned.

이와 같이 구성되는 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치는 전술한 바와 같이, 폴리이미드 기판이 플렉서블하기 때문에 보조기판으로 글라스 기판을 사용하여 상기 글라스 기판 위에 폴리이미드를 코팅하여 전술한 TFT공정을 진행하게 된다.As described above, since the polyimide substrate is flexible, the flexible display device according to the present invention configured as described above performs a TFT process by coating a polyimide on the glass substrate using a glass substrate as an auxiliary substrate.

이때, TFT공정 중에 가해지는 열(~ 350℃의 증착온도)에 의해 폴리이미드 기판이 휘어지게 되며, 이러한 폴리이미드 기판의 휨에 의해 글라스 기판이 휘어지게 된다.At this time, the polyimide substrate is bent by the heat (deposition temperature of ~ 350 ° C) applied during the TFT process, and the glass substrate is bent by the bending of the polyimide substrate.

이를 개선하기 위해 본 발명은 상기 폴리이미드 기판이 부착된 글라스 기판의 반대편에 폴리이미드 기판과 동일하거나 유사한 열팽창계수를 가진 보상층을 형성하여 공정진행 중에 발생하는 글라스 기판의 휨을 상쇄시킴으로써 글라스 기판의 변형을 방지하는 것을 특징으로 한다.To improve this, the present invention forms a compensation layer having the same or similar thermal expansion coefficient as that of the polyimide substrate on the opposite side of the glass substrate to which the polyimide substrate is attached, thereby deforming the glass substrate by canceling the warpage of the glass substrate generated during the process. Characterized in that to prevent.

즉, 본 발명은 폴리이미드 기판이 부착된 글라스 기판의 반대편에 폴리이미드 기판과 동일하거나 유사한 휘어짐 정도를 가지는 보상층을 형성하여 공정진행 중에 발생하는 글라스 기판의 휘어짐을 상쇄하는 것을 특징으로 하는데, 이를 다음의 본 발명에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 통해 상세히 설명한다.That is, the present invention is characterized in that to compensate for the bending of the glass substrate generated during the process by forming a compensation layer having the same or similar bending degree as the polyimide substrate on the opposite side of the glass substrate with the polyimide substrate, Next, a method of manufacturing the flexible display device according to the present invention will be described in detail.

도 5는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차 적으로 나타내는 흐름도로써, 표시패널을 유기발광표시장치로 구성한 경우를 예를 들어 나타내고 있다.FIG. 5 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a first exemplary embodiment of the present invention, and illustrates a case in which the display panel is configured of an organic light emitting display device.

그리고, 도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 사시도이다.6A to 6E are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing the flexible display device according to the first embodiment of the present invention.

도 6a에 도시된 바와 같이, 보조기판용 글라스 기판(101)의 배면에 소정의 보상층(109)을 형성한다(S110).As shown in FIG. 6A, a predetermined compensation layer 109 is formed on the rear surface of the glass substrate 101 for the auxiliary substrate (S110).

이때, 상기 글라스 기판(101)의 배면은 폴리이미드 기판이 부착되는 글라스 기판(101)의 반대편을 의미한다.In this case, the rear surface of the glass substrate 101 means the opposite side of the glass substrate 101 to which the polyimide substrate is attached.

상기 보상층(109)은 폴리이미드 기판과 동일하거나 유사한 크기의 스트레스 값, 즉 열팽창계수를 갖는 물질로 폴리이미드 또는 실리콘산화막이나 실리콘질화막으로 형성할 수 있다.The compensation layer 109 may be formed of a polyimide, a silicon oxide film, or a silicon nitride film with a material having the same or similar stress value as that of the polyimide substrate, that is, the thermal expansion coefficient.

일 예로, 슬릿 코팅으로 글라스 기판(101) 상면에 폴리이미드를 코팅할 경우 장력에 대한 스트레스는 약 100 ~ 120MPa로 측정되었으며, 이에 이와 유사한 스트레스 값을 가지는 실리콘질화막을 글라스 기판(101)의 배면에 증착하게 되면 상기 폴리이미드의 스트레스 상쇄 효과를 얻을 수 있게 된다. 이때, 다른 공정조건에 따라 변동 가능하지만, 일 예로 약 350℃의 온도에서 약 3500Å의 두께로 실리콘질화막을 증착한 경우 스트레스는 약 96 ~ 108MPa로 측정되었다.For example, when the polyimide is coated on the upper surface of the glass substrate 101 by the slit coating, the stress on the tension is measured to be about 100 to 120 MPa, and a silicon nitride film having a similar stress value is formed on the rear surface of the glass substrate 101. When deposited, it is possible to obtain a stress canceling effect of the polyimide. At this time, it may vary depending on other process conditions, but as an example, when the silicon nitride film is deposited at a thickness of about 3500 Pa at a temperature of about 350 ° C., the stress was measured to be about 96 to 108 MPa.

이때, 상기 폴리이미드 위에 버퍼층(buffer layer)을 추가로 형성하는 경우에는 상기 보상층(109)은 상기 폴리이미드와 버퍼층의 열팽창계수와 동일하거나 유사한 열팽창계수를 갖는 물질로 형성할 수 있다.In this case, when a buffer layer is further formed on the polyimide, the compensation layer 109 may be formed of a material having a coefficient of thermal expansion equal to or similar to that of the polyimide and the buffer layer.

이후, 도 6b에 도시된 바와 같이, 상기 보상층(109)이 형성된 글라스 기판(101)에 열처리를 진행한다(S120).Thereafter, as illustrated in FIG. 6B, heat treatment is performed on the glass substrate 101 on which the compensation layer 109 is formed (S120).

이때, 상기 열처리는 폴리이미드 기판에 진행될 TFT공정 중의 증착온도 내에서 진행할 수 있으며, 바람직하게는 증착온도 중 최고의 온도에서 진행할 수 있다.In this case, the heat treatment may be performed within the deposition temperature during the TFT process to be carried out on the polyimide substrate, and preferably may be performed at the highest temperature of the deposition temperature.

이후, 도 6c에 도시된 바와 같이, 상기 열처리가 진행된 글라스 기판(101)의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판(111)을 형성한다(S130).Thereafter, as shown in FIG. 6C, the polyimide is coated on the upper surface of the glass substrate 101 subjected to the heat treatment to form the polyimide substrate 111 (S130).

그리고, 도 6d 에 도시된 바와 같이, 상기 폴리이미드 기판(111) 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드(118)를 형성한다(S140).6D, a predetermined organic light emitting diode 118 is formed on the polyimide substrate 111 through a TFT process (S140).

즉, 전술한 바와 같이 상기 폴리이미드 기판(111) 상에 투명 산화물로 이루어진 양극이 형성되며, 상기 양극 위에는 순차적으로 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 및 음극이 적층될 수 있다.That is, as described above, an anode made of a transparent oxide is formed on the polyimide substrate 111, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode may be sequentially stacked on the anode.

이때, 상기 유기발광다이오드(118) 상부에는 편광판이 점착제를 이용하여 부착될 수 있으며, 상기 편광판의 상부 표면에는 하드 코팅의 보호필름이 추가로 부착될 수 있다.In this case, a polarizing plate may be attached to the organic light emitting diode 118 by using an adhesive, and a protective film of a hard coating may be additionally attached to the upper surface of the polarizing plate.

이후, 도 6e에 도시된 바와 같이, 상기 유기발광다이오드(118)가 형성된 폴리이미드 기판(111)으로부터 글라스 기판(101)을 제거한다.Thereafter, as shown in FIG. 6E, the glass substrate 101 is removed from the polyimide substrate 111 on which the organic light emitting diode 118 is formed.

이때, 이렇게 제거된 글라스 기판(101)과 글라스 기판(101) 배면에 형성된 보상층(109)은 또 다른 플렉서블 표시장치의 제조에 재사용(recycle)될 수 있다.In this case, the glass substrate 101 and the compensation layer 109 formed on the back surface of the glass substrate 101 may be recycled to manufacture another flexible display device.

이때, 상기 글라스 기판(101)이 제거된 폴리이미드 기판(111) 배면에는 PET의 플라스틱이나 스테인레스 스틸의 금속으로 이루어진 백 필름이 부착될 수 있다.In this case, a back film made of a plastic of PET or a metal of stainless steel may be attached to the rear surface of the polyimide substrate 111 from which the glass substrate 101 is removed.

한편, 본 발명은 글라스 기판 상면에 폴리이미드를 코팅한 후에 상기 폴리이미드가 코팅된 글라스 기판 배면에 보상층을 형성할 수도 있으며, 이를 다음의 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 통해 상세히 설명한다.Meanwhile, the present invention may form a compensation layer on the back surface of the glass substrate coated with the polyimide after coating the polyimide on the glass substrate, thereby manufacturing the flexible display device according to the second embodiment of the present invention. The method will be described in detail.

도 7은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 흐름도이다.7 is a flowchart sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

그리고, 도 8a 내지 도 8e는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 플렉서블 표시장치의 제조방법을 순차적으로 나타내는 사시도이다.8A through 8E are perspective views sequentially illustrating a method of manufacturing a flexible display device according to a second exemplary embodiment of the present invention.

도 8a에 도시된 바와 같이, 보조기판용 글라스 기판(201)의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판(211)을 형성한다(S210).As shown in FIG. 8A, the polyimide substrate 211 is formed by coating polyimide on the upper surface of the glass substrate 201 for the auxiliary substrate (S210).

이후, 도 8b에 도시된 바와 같이, 상기 폴리이미드가 코팅된 글라스 기판(201)의 배면에 소정의 보상층(209)을 형성한다(S220).Thereafter, as illustrated in FIG. 8B, a predetermined compensation layer 209 is formed on the rear surface of the polyimide-coated glass substrate 201 (S220).

이때, 상기 글라스 기판(201)의 배면은 폴리이미드 기판(211)이 부착된 글라스 기판(201)의 반대편을 의미한다.In this case, the rear surface of the glass substrate 201 means the opposite side of the glass substrate 201 to which the polyimide substrate 211 is attached.

상기 보상층(209)은 폴리이미드 기판(201)과 동일하거나 유사한 크기의 스트레스 값, 즉 열팽창계수를 갖는 물질로 폴리이미드 또는 실리콘산화막이나 실리콘질화막으로 형성할 수 있다.The compensation layer 209 may be formed of a polyimide, a silicon oxide film, or a silicon nitride film with a material having the same or similar stress value as that of the polyimide substrate 201, that is, a thermal expansion coefficient.

이때, 상기 폴리이미드 위에 버퍼층을 추가로 형성하는 경우에는 상기 보상층(209)은 상기 폴리이미드와 버퍼층의 열팽창계수와 동일하거나 유사한 열팽창계수를 갖는 물질로 형성할 수 있다.In this case, when the buffer layer is further formed on the polyimide, the compensation layer 209 may be formed of a material having a coefficient of thermal expansion equal to or similar to that of the polyimide and the buffer layer.

이후, 도 8c에 도시된 바와 같이, 상기 보상층(209)이 형성된 글라스 기판(201)에 열처리를 진행한다(S230).Thereafter, as illustrated in FIG. 8C, heat treatment is performed on the glass substrate 201 on which the compensation layer 209 is formed (S230).

이때, 상기 열처리는 폴리이미드 기판(211)에 진행될 TFT공정 중의 증착온도 내에서 진행할 수 있으며, 바람직하게는 증착온도 중 최고의 온도에서 진행할 수 있다.In this case, the heat treatment may be performed within the deposition temperature during the TFT process to be performed on the polyimide substrate 211, and preferably may be performed at the highest temperature of the deposition temperature.

그리고, 도 8d 에 도시된 바와 같이, 상기 폴리이미드 기판(211) 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드(218)를 형성한다(S240)8D, a predetermined organic light emitting diode 218 is formed on the polyimide substrate 211 through a TFT process (S240).

즉, 전술한 바와 같이 상기 폴리이미드 기판(211) 상에 투명 산화물로 이루어진 양극이 형성되며, 상기 양극 위에는 순차적으로 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 및 음극이 적층될 수 있다.That is, as described above, an anode made of a transparent oxide is formed on the polyimide substrate 211, and a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode may be sequentially stacked on the anode.

이때, 상기 유기발광다이오드(218) 상부에는 편광판이 점착제를 이용하여 부착될 수 있으며, 상기 편광판의 상부 표면에는 하드 코팅의 보호필름이 추가로 부착될 수 있다.In this case, a polarizing plate may be attached to the organic light emitting diode 218 by using an adhesive, and a protective film of a hard coating may be additionally attached to the upper surface of the polarizing plate.

이후, 도 8e에 도시된 바와 같이, 상기 유기발광다이오드(218)가 형성된 폴리이미드 기판(211)으로부터 글라스 기판(201)을 제거한다.Thereafter, as illustrated in FIG. 8E, the glass substrate 201 is removed from the polyimide substrate 211 on which the organic light emitting diode 218 is formed.

이때, 상기 글라스 기판(201)이 제거된 폴리이미드 기판(211) 배면에는 PET의 플라스틱이나 스테인레스 스틸의 금속으로 이루어진 백 필름이 부착될 수 있다.In this case, a back film made of a plastic of PET or a metal of stainless steel may be attached to the rear surface of the polyimide substrate 211 from which the glass substrate 201 is removed.

상기한 설명에 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나 이것은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 따라서 발명은 설명된 실시예에 의하여 정할 것이 아니고 특허청구범위와 특허청구범위에 균등한 것에 의하여 정하여져야 한다.Many details are set forth in the foregoing description but should be construed as illustrative of preferred embodiments rather than to limit the scope of the invention. Therefore, the invention should not be defined by the described embodiments, but should be defined by the claims and their equivalents.

101,201 : 글라스 기판 109,209 : 보상층
110 : 표시패널 111,211 : 폴리이미드 기판
118,218 : 유기발광다이오드 120 : 편광판
101,201 glass substrate 109,209 compensation layer
110: display panel 111,211: polyimide substrate
118,218 organic light emitting diode 120 polarizing plate

Claims (8)

글라스 기판의 배면에 보상층을 형성하는 단계;
상기 보상층이 형성된 글라스 기판에 열처리를 진행하는 단계;
상기 열처리가 진행된 글라스 기판의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판을 형성하는 단계;
상기 폴리이미드 기판 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드를 형성하는 단계; 및
상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 상기 글라스 기판을 제거하는 단계를 포함하며,
상기 보상층은, 상기 폴리이미드 기판이 갖는 열팽창계수의 범위 내의 열팽창계수를 갖는 물질로 형성하여 상기 열처리를 통해 상기 글라스 기판을 일 방향으로 휘어지게 함으로써 상기 TFT공정 중에 발생하는 상기 글라스 기판의 다른 일 방향으로의 휘어짐을 상쇄하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
Forming a compensation layer on a rear surface of the glass substrate;
Performing heat treatment on the glass substrate on which the compensation layer is formed;
Coating a polyimide on the upper surface of the glass substrate subjected to the heat treatment to form a polyimide substrate;
Forming a predetermined organic light emitting diode through a TFT process on the polyimide substrate; And
Removing the glass substrate from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed,
The compensation layer is formed of a material having a coefficient of thermal expansion within a range of thermal expansion coefficients of the polyimide substrate, and the glass substrate is generated during the TFT process by bending the glass substrate in one direction through the heat treatment. A method of manufacturing a flexible display device that cancels warpage in a direction.
글라스 기판의 상면에 폴리이미드를 코팅하여 폴리이미드 기판을 형성하는 단계;
상기 폴리이미드가 코팅된 글라스 기판의 배면에 보상층을 형성하는 단계;
상기 보상층이 형성된 글라스 기판에 열처리를 진행하는 단계;
상기 폴리이미드 기판 위에 TFT공정을 통해 소정의 유기발광다이오드를 형성하는 단계; 및
상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 상기 글라스 기판을 제거하는 단계를 포함하며,
상기 보상층은, 상기 폴리이미드 기판이 갖는 열팽창계수의 범위 내의 열팽창계수를 갖는 물질로 형성하여 상기 열처리를 통해 상기 글라스 기판을 일 방향으로 휘어지게 함으로써 상기 TFT공정 중에 발생하는 상기 글라스 기판의 다른 일 방향으로의 휘어짐을 상쇄하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.
Coating a polyimide on the upper surface of the glass substrate to form a polyimide substrate;
Forming a compensation layer on a rear surface of the polyimide-coated glass substrate;
Performing heat treatment on the glass substrate on which the compensation layer is formed;
Forming a predetermined organic light emitting diode through a TFT process on the polyimide substrate; And
Removing the glass substrate from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed,
The compensation layer is formed of a material having a coefficient of thermal expansion within a range of thermal expansion coefficients of the polyimide substrate, and the glass substrate is generated during the TFT process by bending the glass substrate in one direction through the heat treatment. A method of manufacturing a flexible display device that cancels warpage in a direction.
제 1 항 및 제 2 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 보상층은 폴리이미드 또는 실리콘산화막이나 실리콘질화막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the compensation layer is formed of a polyimide, a silicon oxide film, or a silicon nitride film. 제 3 항에 있어서, 상기 열처리는 상기 폴리이미드 기판에 진행되는 TFT공정 중의 증착온도 내에서 진행하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.The method of claim 3, wherein the heat treatment is performed at a deposition temperature during a TFT process performed on the polyimide substrate. 제 4 항에 있어서, 상기 열처리는 상기 TFT공정의 증착온도 중 최고의 온도에서 진행하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.The method of claim 4, wherein the heat treatment is performed at the highest temperature among the deposition temperatures of the TFT process. 제 3 항에 있어서, 상기 글라스 기판이 제거된 상기 폴리이미드 기판 배면에 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylene Terephthalate; PET)의 플라스틱이나 스테인레스 스틸의 금속으로 이루어진 백 필름을 부착하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.4. The method of claim 3, further comprising attaching a back film made of polyethylene terephthalate (PET) plastic or a metal of stainless steel to the back surface of the polyimide substrate from which the glass substrate is removed. A method of manufacturing a flexible display device. 제 3 항에 있어서, 상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판 상부에 점착제를 이용하여 편광판을 부착하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.The method of claim 3, further comprising attaching a polarizing plate to the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed by using an adhesive. 제 1 항에 있어서, 상기 유기발광다이오드가 형성된 폴리이미드 기판으로부터 제거된 글라스 기판과 상기 글라스 기판 배면에 형성된 보상층은 또 다른 플렉서블 표시장치의 제조에 재사용(recycle)되는 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치의 제조방법.The flexible display device of claim 1, wherein the glass substrate removed from the polyimide substrate on which the organic light emitting diode is formed and the compensation layer formed on the rear surface of the glass substrate are recycled to manufacture another flexible display device. Manufacturing method.
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