KR102047080B1 - 플라즈마 액처리 장치 - Google Patents

플라즈마 액처리 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명의 목적은 유전체 장벽 방전 방식을 적용하여, 방전전극 사이에 유전체를 위치시켜 방전의 물리적/화학적 양상과 특성을 변화시키는 플라즈마 액처리 장치를 제공하는 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치는, 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체, 및 상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부를 포함한다.

Description

플라즈마 액처리 장치 {PLASMA LIQUID TREATMENT DEVICE}
본 발명은 플라즈마 액처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 치료 및 살균 목적으로 사용될 액체 또는 물을 플라즈마 처리하는 플라즈마 액처리 장치에 관한 것이다.
대한민국 공개특허 제2003-0015622호에 개시된 반응조 내부 방전식 플라즈마 수처리 장치는 펄스 고전압 공급장치에 연결되는 침상의 방전극을 수표면 외부에 설치하고, 접지극판 전극인 판상의 방전극을 수처리 반응조의 내부에 설치하여 플라즈마 방전을 일으키도록 구성되어 있다.
펄스 방전 방식은 강한 에너지를 공급하여 액체를 기화시키고, 기화된 액체 성분에서 방전이 일어나 이온화 되는 과정을 거치게 된다. 펄스 방전 방식은 전극이 위치한 지역(point 방전)에서만 방전이 발생하고, 방전으로 발생한 물질들이 액체에 공급된다.
본 발명의 목적은 유전체 장벽 방전 방식을 적용하여, 방전전극 사이에 유전체를 위치시켜 방전의 물리적/화학적 양상과 특성을 변화시키는 플라즈마 액처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 처리 대상인 액체의 성분과 무관하게 공급되는 공기의 방전 또는 방전전극 사이로 공급되는 방전 기체의 방전에 의하여 플라즈마를 형성하는 플라즈마 액처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 목적은 방전 영역을 동시에 대면적으로 형성하는 플라즈마 액처리 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치는, 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체, 및 상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부를 포함한다.
상기 플라즈마 반응부는 상기 관체의 일부를 형성하는 유전체, 및 상기 관체의 외부에서 상기 유전체에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 유전체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함할 수 있다.
상기 관체는 수평 방향으로 설치되고, 상기 유전체는 상기 관체의 상방에서 수평 방향으로 형성될 수 있다.
상기 방전전극은 상기 유전체의 외부 표면에 대응하여 형성되어 부착될 수 있다.
상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지며, 상기 유전체는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가질 수 있다.
상기 플라즈마 반응부는 유전체로 형성되는 상기 관체의 외부에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 관체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함할 수 있다.
상기 플라즈마 반응부는 상기 관체의 일측에 형성되는 설치구, 상기 설치구에 구비되어 방전갭을 형성하는 유전체, 및 상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함할 수 있다.
상기 방전갭은 복수로 형성되고, 상기 방전전극은 복수로 구비되어 액체 흐름 방향을 따라 상기 방전갭의 양측에 배치될 수 있다.
상기 관체는 수평 방향으로 설치되고, 상기 설치구는 상기 관체의 상방에 형성되며, 상기 플라즈마 반응부는 상기 설치구에 설치되어 상기 방전갭의 연통 방향을 상기 수평 방향에 교차되게 할 수 있다.
상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지며, 상기 설치구는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가질 수 있다.
상기 관체는 일측에 플라즈마 스트리머 유입구를 구비하고, 상기 플라즈마 반응부는 상기 플라즈마 스트리머 유입구에서 분리되어 배치되고, 상기 플라즈마 스트리머 유입구를 향하여 개방되는 방전갭을 형성하는 유전체, 및 상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극을 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치는, 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응기, 상기 관체에 액체를 공급하는 공급라인, 및 상기 플라즈마 스트리머에 의하여 처리되어 상기 관체를 경유한 액체를 저장하는 처리액 저장 탱크를 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치는, 상기 공급라인에 설치되는 3방향 밸브, 및 상기 3방향 밸브에 연결되어 상기 관체에 첨가물을 공급하는 첨가물 탱크를 더 포함 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예는 전기적으로 접지된 액체가 흐르는 관체에 유전체 장벽 방전 방식을 적용하여, 플라즈마 반응부에서 생성된 플라즈마 스트리머를 액체에 작용시키므로 액체를 처리할 수 있다. 플라즈마 반응부의 방전전극과 액체 사이 및 방전전극들 사이에 유전체를 위치시키므로 방전의 물리적/화학적 양상과 특성이 변화될 수 있다.
일 실시예는 액체와 유전체 사이에 공급되는 기체(공기) 또는 방전전극들 사이에 공급되는 방전 기체의 방전에 의하여 생성되는 플라즈마 스트리머를 처리 대상인 액체에 작용시키므로 액체의 성분과 무관한 기체로 방전하여 플라즈마를 형성할 수 있다.
일 실시예는 액체가 흐르는 관체의 일부 또는 전부를 유전체로 형성하여 방전전극을 설치하여 플라즈마 방전을 일으키므로 방전 영역을 동시에 대면적으로 형성할 수 있다. 즉 액처리 용량이 쉽게 증대될 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 구성도이다.
도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선에 따른 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이다.
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이다.
도 5는 도 4의 평면도이다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제5실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 구성도이다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조부호를 붙였다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 구성도이고, 도 2는 도 1의 Ⅱ-Ⅱ 선에 따른 단면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하면, 제1실시예의 플라즈마 액처리 장치(1)는 유전체 장벽 방전 방식을 구현하며, 관체(10)와 플라즈마 반응부(20)를 포함한다. 유전체 장벽 방전을 일으키는 유전체는 방전의 물리적/화학적 양상과 특성을 변화시킨다.
관체(10)는 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체(L)를 흐르게 한다. 즉 관체(10)는 처리 대상의 액체(L)를 연속적으로 처리할 수 있게 한다. 일례로써, 관체(10)는 직선으로 형성되어 수평 방향(도 1의 좌우 방향)으로 설치된다.
플라즈마 반응부(20)는 관체(10)에서 액체(L) 흐름 방향(도 1의 좌우 방향)에 교차(도 1의 상하 교차)하는 일측(도 1의 상측)에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머(PS)를 생성하여, 관체(10)를 흐르는 액체(L)에 작용시킨다.
일례를 들면, 플라즈마 반응부(20)는 관체(10)의 일부를 형성하는 유전체(21), 및 관체(10)의 외부에서 유전체(21)에 설치되는 방전전극(22)을 포함한다. 방전전극(22)은 방전전압(HV) 인가시, 전기적으로 접지된 액체(L)와 유전체(21) 사이에 존재하는 공기 또는 기체를 방전기체(DG)로 하여 플라즈마 방전을 일으킨다.
관체(10)가 수평 방향으로 설치됨에 따라, 유전체(21)는 관체(10)의 상방에서 수평 방향으로 형성된다. 방전전극(22)은 유전체(21)의 외부 표면에 대응하여 형성되어 부착된다.
액체(L)는 관체(10)의 내부에서 설정된 높이(H)를 가지고 흐르게 되며 전기적으로 접지된다. 즉 플라즈마 방전시, 액체(L)는 방전전극(22)에 대향하는 접지 전극으로 작용한다.
따라서 유전체(21)는 액체(L)의 표면과 설정된 간격(HG)을 가진다. 즉 플라즈마 방전시, 간격(HG)이 방전갭으로 작용한다. 관체(10)를 흐르는 액체(L)의 높이(H)에 의하여, 방전갭이 설정될 수 있다.
간격(HG)에 존재하는 공기를 방전기체로 하여 플라즈마를 발생시키므로 플라즈마 반응부(20)는 관체(10)를 흐르는 액체(L)의 성분과 무관한 방전을 일으켜, 플라즈마 스트리머(PS)를 액체(L)에 작용시킬 수 있다.
제1실시예의 플라즈마 액처리 장치(1)는 관체(10), 유전체(21) 및 방전전극(22)의 구조에 따라 플라즈마 스트리머(PS)를 발생시키는 방전 영역을 대면적으로 형성할 수 있다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 액체(L)와 유전체(21) 사이의 간격(HG)을 평판으로 형성하여, 플라즈마 스트리머(PS)가 대면적에서 동시에 발생될 수 있다. 이와 같이, 플라즈마 반응부(20)는 평판 타입으로 플라즈마 스트리머(PS)를 형성할 수 있고, 저온 플라즈마 방식이다.
저온 플라즈마 방식의 경우, 관체(10)의 내부로 액체가 흐르게 하고, 관체(10)의 상부에 유전체(21) 및 방전전극(22)을 설치하면, 관체(10) 내부의 액체가 대향하는 접지 전극이 되므로 관체(10) 내의 상부의 기체 부분에서 유전체 장벽 방전을 얻을 수 있다.
따라서 관체(10) 내부를 흐르는 액체는 플라즈마 방전에 의하여 생성되는 활성 산소종을 포함하는 플라즈마 처리액이 된다. 일례로써, 액체는 물일 수 있다. 이 경우, 플라즈마 방전에 의하여 생성되는 활성 산소종을 포함하는 플라즈마 처리수가 된다.
이하 본 발명의 다양한 실시예들에 대하여 설명한다. 제1실시예 및 기 설명된 실시예와 비교하여, 동일한 구성을 생략하고 서로 다른 구성에 대하여 설명한다.
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이다. 도 3을 참조하면, 제2실시예의 플라즈마 액처리 장치(2)에서, 플라즈마 반응부(220)는 관체(210)를 유전체로 형성하고, 방전전극(222)을 관체(210)의 외부에 설치하여 형성된다.
방전전극(222)은 방전전압(HV) 인가시, 관체(210)와 액체(L) 사이에 존재하는 방전기체(DG)로 플라즈마 방전을 일으킨다. 이를 위하여, 액체(L)는 전기적으로 접지된다.
유전체로 형성되는 관체(210)는 액체(L)의 표면과 설정된 간격(HG)을 가진다. 즉 플라즈마 방전시, 간격(HG)이 방전갭으로 작용한다. 관체(210)를 흐르는 액체(L)의 높이(H)에 의하여, 방전갭이 설정될 수 있다.
이와 같이, 관체(210)를 유전체로 형성하고 관체(210)의 외부에 방전전극(222)을 설치하므로 액체(L)와 방전전극(222)과의 관계를 다양하게 하므로 원하는 방전을 얻을 수 있다.
제2실시예의 플라즈마 액처리 장치(2)의 플라즈마 반응부(220)에서 관체(210)가 유전체로 형성됨에 따라 플라즈마 방전시, 특정 라디컬을 생성하거나, 방전 과정을 통하여 형성되는 플라즈마 스트리머(PS)에 의하여, 액체(L)와 화학적으로 반응하면서 새로운 물질기능을 더욱 효과적으로 부여할 수 있게 된다.
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이고, 도 5는 도 4의 평면도이다. 도 4 및 도 5를 참조하면, 제3실시예의 플라즈마 액처리 장치(3)에서, 플라즈마 반응부(320)는 관체(310)의 일측에 형성되는 설치구(311), 유전체(321) 및 방전전극(322)을 포함한다.
설치구(311)는 관체(310)의 일측을 개방하여, 유전체(321) 및 방전전극(322)의 설치하여 생성되는 플라즈마 스트리머(PS)를 액체(L)에 작용시킬 수 있게 한다.
유전체(321)는 설치구(311)에 구비되어 방전갭(G)을 형성한다. 방전갭(G)은 외부의 기체를 유입하여 방전기체(DG2)로 사용할 수 있게 한다. 즉 저온 플라즈마 방식은 방전을 위한 방전기체(DG2)를 별도로 공급하여 방전을 구성할 수도 있다.
방전전극(322)은 유전체(321)로 피복되어, 방전전압(HV) 인가시, 방전갭(G)으로 공급되는 방전기체(DG2)로 플라즈마 방전을 일으킨다. 방전전압(HV)은 모든 방전전극(322)에 동시에 인가된다.
방전갭(G)은 복수로 형성되어 방전기체(DG2)의 유입량을 설정할 수 있다. 방전전극(322)은 복수로 구비되어 관체(310) 내에서 액체 흐름 방향(도 4의 좌우 방향)을 따라 방전갭(G)의 양측에 각각 배치된다.
구체적으로 설명하면, 관체(310)는 수평 방향으로 설치되고, 설치구(311)는 관체(310)의 상방에 형성된다. 플라즈마 반응부(320)는 설치구(311)에 설치되어, 방전갭(G)의 연통 방향(도 4의 상하 방향)을 수평 방향(도 4의 좌우 방향)에 교차되게 한다.
액체(L)는 관체(310)의 내부에서 설정된 높이(H)를 가지며, 설치구(311)는 액체(L)의 표면과 설정된 간격(HG2)을 가진다. 이 경우, 플라즈마 반응부(320)는 액체(L)가 흐르는 관체(310)의 내부 공간과 별도의 설치구(311) 공간에서 플라즈마 스트리머(PS)를 생성하여 관체(310) 내부의 액체(L)에 작용시킨다.
설치구(311)는 플라즈마 반응부(320)를 다양하게 구성하여, 관체(310) 내의 액체(L)에 플라즈마 스트리머(PS)를 작용시킬 수 있게 한다. 이 경우, 설치구(311) 및 플라즈마 반응부(320)의 크기에 따라 플라즈마 스트리머(PS)가 대면적에서 발생될 수 있다. 또한 각 방전갭(G)에 의하여, 플라즈마 반응부(320)는 제트 타입으로 플라즈마 스트리머(PS)를 형성할 수도 있다.
제3실시예의 플라즈마 액처리 장치(3)의 플라즈마 반응부(320)가 관체(310)의 설치구(311)에 설치됨에 따라 플라즈마 방전시, 특정 라디컬을 생성하거나, 방전 과정을 통하여 형성되는 플라즈마 스트리머(PS)에 의하여, 액체(L)와 화학적으로 반응하면서 새로운 물질기능을 더욱 효과적으로 부여할 수 있게 된다.
도 6은 본 발명의 제4실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 단면도이다. 도 6을 참조하면, 제4실시예의 플라즈마 액처리 장치(4)에서, 관체(410)는 일측에 플라즈마 스트리머 유입구(411)를 구비하고, 플라즈마 반응부(420)는 플라즈마 스트리머 유입구(411)에서 분리되어 배치된다.
플라즈마 스트리머 유입구(411)는 플라즈마 반응부(420)에서 생성되는 플라즈마 스트리머(PS)를 관체(410) 내부로 유입하여 관체(410) 내의 액체(L)에 작용시킬 수 있게 한다. 플라즈마 반응부(420)는 플라즈마 스트리머 유입구(411)로 유입될 플라즈마 스트리머(PS)를 생성하는 유전체(421) 및 방전전극(422)을 포함한다.
유전체(421)는 플라즈마 스트리머 유입구(411)를 향하여 개방되는 방전갭(G)을 형성하고, 방전갭(G)은 외부의 기체를 유입하여 방전기체(DG2)로 사용할 수 있게 한다. 방전전극(422)은 유전체(421)로 피복되어, 방전전압(HV) 인가시, 방전갭(G)으로 공급되는 방전기체(DG2)로 플라즈마 방전을 일으킨다.
플라즈마 반응부(420)는 액체(L)가 흐르는 관체(410)의 내부 공간과 별도의 플라즈마 스트리머 유입구(411)의 외부에서 플라즈마 스트리머(PS)를 생성하여 관체(410) 내부의 액체(L)에 작용시킨다.
플라즈마 스트리머 유입구(411)는 플라즈마 반응부(420)를 다양하게 구성하여, 관체(410) 내의 액체(L)에 플라즈마 스트리머(PS)를 작용시킬 수 있게 한다. 이 경우, 플라즈마 스트리머 유입구(411) 및 플라즈마 반응부(420)의 크기에 따라 플라즈마 스트리머(PS)가 대면적에서 발생될 수 있다. 또한 각 방전갭(G)에 의하여, 플라즈마 반응부(420)는 제트 타입으로 플라즈마 스트리머(PS)를 형성할 수도 있다.
제4실시예의 플라즈마 액처리 장치(4)의 플라즈마 반응부(420)가 관체(410)의 플라즈마 스트리머 유입구(411)에 설치됨에 따라 플라즈마 방전시, 특정 라디컬을 생성하거나, 방전 과정을 통하여 형성되는 플라즈마 스트리머(PS)에 의하여, 액체(L)와 화학적으로 반응하면서 새로운 물질기능을 더욱 효과적으로 부여할 수 있다.
도 7은 본 발명의 제5실시예에 따른 플라즈마 액처리 장치의 구성도이다. 도 7을 참조하면, 제5실시예의 플라즈마 액처리 장치(5)는 플라즈마 반응기(71), 공급라인(72) 및 처리액 저장 탱크(73)를 포함한다.
플라즈마 반응기(71)는 제1실시예 내지 제4실시예의 플라즈마 액처리 장치들(1, 2, 3, 4) 중 어느 하나로 형성될 수 있다. 플라즈마 반응기(71)에는 방전전압(HV)을 공급하는 전원공급장치(76)가 연결된다. 이하에서 편의상, 제1실시예를 적용하여 설명한다.
공급라인(72)은 관체(10)의 입구측에 연결되어 액체(L)를 공급한다. 처리액 저장 탱크(73)는 관체(10)의 출구측에 연결되어 관체(10)를 경유한 액체, 즉 처리액을 저장한다.
공급라인(72)에는 3방향 밸브(74)가 설치되어, 액체(L)만을 관체(10)로 공급하거나, 첨가물 탱크(75)에 구비된 첨가물을 액체(L)와 함께 공급라인(72) 및 관체(10)로 공급할 수 있게 한다.
관체(10), 즉 플라즈마 반응기(71)를 경유하면서 플라즈마 스트리머(PS)에 의하여 처리된 처리액은 처리액 저장 탱크(73)로 공급된다. 처리액 저장 탱크(73)에는 펌프(77)가 구비되어, 플라즈마 처리된 처리액(또는 처리수)을 사용처로 공급한다.
플라즈마 처리된 처리액은 미세 기포와 활성 산소종(reactive oxygenate species) 등을 포함하여, 화학적 활성을 가지며, 특별한 치료 목적을 가진 약제나 물질을 추가하여 사용될 수 있다.
플라즈마 처리된 처리액은 한정된 시간 동안 그 효과를 유지한다. 따라서 필요에 따라 액체를 적정량의 처리액으로 처리하고, 처리액을 처리액 저장 탱크(73)에 저장해 두면서 한정된 시간 동안 사용할 수 있다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예들에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니고 청구범위와 발명의 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
1, 2, 3, 4, 5: 플라즈마 액처리 장치 10, 210, 310, 410: 관체
20, 220, 320, 420: 플라즈마 반응부 21, 321, 421: 유전체
22, 222, 322, 422: 방전전극 71: 플라즈마 반응기
72: 공급라인 73: 처리액 저장 탱크
74: 3방향 밸브 75: 첨가물 탱크
76: 전원공급장치 77: 펌프
311: 설치구 411: 플라즈마 스트리머 유입구
DG, DG2: 방전기체 G: 방전갭
H: 높이 HG, HG2: 간격
HV: 방전전압 L: 액체
PS: 플라즈마 스트리머

Claims (13)

  1. 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및
    상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부
    를 포함하며,
    상기 플라즈마 반응부는
    상기 관체의 일부를 형성하는 유전체, 및
    상기 관체의 외부에서 상기 유전체에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 유전체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극
    을 포함하고,
    상기 액체는 방전전극에 대향하는 접지 전극으로 작용하며,
    상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지고,
    상기 유전체는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가지는
    플라즈마 액처리 장치.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 관체는 수평 방향으로 설치되고,
    상기 유전체는 상기 관체의 상방에서 수평 방향으로 형성되는
    플라즈마 액처리 장치.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 방전전극은
    상기 유전체의 외부 표면에 대응하여 형성되어 부착되는
    플라즈마 액처리 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서,
    상기 관체는 유전체로 형성되고,
    상기 방전전극은 상기 관체의 외부에 설치되어, 방전전압 인가시, 상기 관체와 액체 사이에 존재하는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는
    플라즈마 액처리 장치.
  7. 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및
    상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부
    를 포함하며,
    상기 플라즈마 반응부는
    상기 관체의 일측에 형성되는 설치구,
    상기 설치구에 구비되어 방전갭을 형성하는 유전체, 및
    상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극
    을 포함하는 플라즈마 액처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 방전갭은 복수로 형성되고,
    상기 방전전극은 복수로 구비되어 액체 흐름 방향을 따라 상기 방전갭의 양측에 배치되는
    플라즈마 액처리 장치.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 관체는 수평 방향으로 설치되고,
    상기 설치구는 상기 관체의 상방에 형성되며,
    상기 플라즈마 반응부는
    상기 설치구에 설치되어 상기 방전갭의 연통 방향을 상기 수평 방향에 교차되게 하는
    플라즈마 액처리 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 액체는 상기 관체의 내부에서 설정된 높이를 가지며,
    상기 설치구는 상기 액체의 표면과 설정된 간격을 가지는
    플라즈마 액처리 장치.
  11. 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체; 및
    상기 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응부
    를 포함하며,
    상기 관체는 일측에 플라즈마 스트리머 유입구를 구비하고,
    상기 플라즈마 반응부는
    상기 플라즈마 스트리머 유입구에서 분리되어 배치되고,
    상기 플라즈마 스트리머 유입구를 향하여 개방되는 방전갭을 형성하는 유전체, 및
    상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극
    을 포함하는 플라즈마 액처리 장치.
  12. 전기적으로 접지되는 처리 대상의 액체를 흐르게 하는 관체에서 액체 흐름 방향에 교차하는 일측에 구비되어 유전체 장벽 방전으로 플라즈마 스트리머를 생성하여 상기 액체에 작용시키는 플라즈마 반응기;
    상기 관체에 액체를 공급하는 공급라인; 및
    상기 플라즈마 스트리머에 의하여 처리되어 상기 관체를 경유한 액체를 저장하는 처리액 저장 탱크
    를 포함하며,
    플라즈마 반응부는
    상기 관체의 일측에 형성되는 설치구,
    상기 설치구에 구비되어 방전갭을 형성하는 유전체, 및
    상기 유전체로 피복되어, 방전전압 인가시, 상기 방전갭으로 공급되는 방전기체로 플라즈마 방전을 일으키는 방전전극
    을 포함하는 플라즈마 액처리 장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 공급라인에 설치되는 3방향 밸브, 및
    상기 3방향 밸브에 연결되어 상기 관체에 첨가물을 공급하는 첨가물 탱크
    를 더 포함하는 플라즈마 액처리 장치.
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