KR102045520B1 - 롤러절곡성형기를 포함하는 평판형 선택적 촉매환원용 촉매 제조시스템 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 연속롤러절곡성형기를 포함하는 평판형 선택적 촉매환원용 촉매 제조시스템에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 매연 및 배기가스에서 탈질을 위한 평판형 촉매를 연속공정이 가능한 롤러성형기에 의해 제조하기 위한 평판형 선택적 촉매환원용 촉매 제조시스템에 관한 것이다.
Description
본 발명은 연속롤러절곡성형기를 포함하는 평판형 선택적 촉매환원용 촉매 제조시스템에 관한 것으로서 더욱 상세하게는 매연 및 배기가스에서 탈질을 위한 평판형 촉매를 연속공정이 가능한 롤러성형기에 의해 제조하기 위한 평판형 선택적 촉매환원용 촉매 제조시스템에 관한 것이다.
질소산화물(NOx)은 화력발전소, 열병합발전소, 화학플랜트 등 고온의 연소반응을 이용하는 곳에서 발생되는 배기가스 중 하나로 산성비 및 스모그의 생성 등 대기오염을 일으키는 물질로 알려져 있다. 최근 대기오염에 대한 규제가 강화되면서 질소산화물(NOx)를 저감하기 위한 노력이 진행되고 있으며, 질소산화물(NOx)을 고온의 연소과정에 발생되고 매우 안정한 화합물이므로 연소기술 등의 전처리기술만으로 이를 개선하는데 한계가 있다. 따라서, 질소산화물(NOx)를 제거하기 위한 여러 후처리 기술이 주목받고 있다.
후처리 기술 중 환원제를 사용하여 비교적 낮은 온도에서 질소산화물(NOx)과 환원제를 혼합시켜 촉매층에서 질소산화물(NOx)을 인체에 무해한 질소(N2)와 수증기로 환원시키는 선택적촉매환원법(Selective Catalytic Reduction, SCR)을 주로 채택하고 있다.
이러한 선택적촉매환원 기술에 사용되고 있는 촉매는 제조 방법 및 적용 특성에 따라 벌집형, 평판형, 파형으로 구분된다. 특히, 파형 선택적촉매환원 촉매는 촉매형 배토가 도포된 메쉬망을 절곡 성형하여 물결형상의 단면을 갖는 촉매로서, 절곡 성형된 메쉬망의 적층시 인접하는 메쉬망과 서로 교차 적층하여 메쉬망 사이에 공간을 형성시킨다. 상하로 형성된 물결형상의 절곡형상을 구비함으로서, 메쉬망의 적층시 형성되는 공간은 배기가스가 지나가면서 반응을 일으켜 질소산화물을 제거할 수 있는 공간을 제공한다.
이러한 파형 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 제조방법과 관련하여, 종래 대한민국 등록특허공보 제10-1659818호에서는 평판형 선택적촉매환원용 촉매의 제조방법 중 평판형 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 물결형상의 파형 절곡을 성형하는 구성을 개시하고 있다. 구체적으로는 촉매용 배토가 도포된 메쉬망을 금형 프레스내로 인입시키면 프레스 금형의 슬라이드 왕복운동(상하운동)에 의한 벤딩공법으로 성형하여 메쉬망의 길이방향에 대하여 직교(이하, 가로 성형)하는 절곡형상을 형성시키는 구성을 개시하고 있다.
그러나, 종래의 프레스 금형의 슬라이드 왕복운동 방법에 의한 파형 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 제조방법은 프레스금형에서 절곡성형을 위한 슬라이드의 왕복운동 시, 프레스금형으로 공급되는 메쉬망의 움직임이 중단되어 전체적인 선택적촉매환원용 촉매의 제조공정 시간을 지연시키는 문제점이 있었으며, 종래의 프레스금형에 의하여 형성되는 물결형상의 파형 절곡의 길이는 프레스 금형내로 인입되는 메쉬망의 가로폭에 제한되어 최종적으로 완성된 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 길이를 조정하는데 어려움이 있었다.
또한, 종래 공정을 이용한 평판형 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 경우, 모듈(module)에 적용 시 이미 업계에서 표준화된 촉매의 가로 폭에 의존하여 모듈의 길이 방향이 결정되었으며, 적용처에 따라 설계조건이 상이하여 구체적인 제조 조건에 따른 메탈메쉬(metal-mesh) 원자재 가로폭이 변경되어야 하였다. 이로 인하여, 메탈메쉬(metal-mesh)뿐 아니라 최종 완제품의 재고 발생률이 증가되고, 전체 제조 공정의 시간이 길어지는 문제점이 있었다.
도 5, 도 6 및 도 7에 종래 방식에 따라 제조되는 평판형 촉매를 적층하는 경우를 나타내었다. 일반적으로 평판형 촉매의 경우 가로 길이가 최대 750㎜로 한정되어 있으므로, 촉매의 가로 길이(ℓ), 즉 박스 내 촉매 장입시 길이(Hb)가 제한적이게 되므로(도 5), 평판형 촉매를 박스에 장입시에 2개의 박스를 층으로 적재하는 방식에 의해야 한다(도 6). 그러나, 이와 같이 2개 층으로 적층하는 경우 적층된 2개의 블록 간의 이격 발생에 따라 비산재(fly-ash)에 의한 plugging이 극심해지며, 비산재 적층에 따른 차압 상승으로 인한 촉매 성능 저하 및 설비 운전 문제 발생의 원인이 된다(도 7).
그러나, 본 발명에 의한 세로 연속성형 방식의 경우 절곡부가 필름 이동 방향과 평행하게 형성되므로, 절곡부가 형성되는 길이 방향을 종래보다 길게 형성하는 것이 가능해지고, 이에 따라 단일층으로 촉매 박스에 장입이 가능하여(도 7), 블록 간의 이격이 발생하지 않음에 따라 비산재 적층에 의한 촉매 성능 저하 문제가 발생하지 않는 효과가 있다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여 롤러형 성형 장치를 포함하여 기존 적층형 촉매의 이격 발생을 감소시켜 기능이 향상된 선택적 촉매환원용 평판형 촉매를 빠르게 제조할 수 있는 새로운 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기와 같은 과제를 해결하기 위해 본 발명은
기재 필름을 공급하기 위한 공급 롤러;
상기 공급 롤러로부터 이송되면서 공급되는 기재 필름에 촉매용 배토를 공급하는 촉매용 배토 공급부;
상기 공급된 촉매용 배토를 압착하기 위한 압착부;
상기 압착된 촉매용 배토의 함수를 제어하기 위한 건조부; 및
상기 건조된 촉매를 성형하기 위한 롤러 성형기를 포함하는 성형부;로 구성되고, 상기 성형부는 상부 롤러 성형기; 및 하부 롤러 성형기를 포함하며, 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 사이에 기재 필름이 일방향으로 이동하면서 공급되고, 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기는 상기 기재 필름의 이동 방향과 평행하게 성형(세로연속성형)되는 복수개의 성형돌기부를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 복수개의 성형돌기부 사이의 거리는 50 내지 140mm 인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 상부 롤러 성형기의 성형 돌기부 및 상기 하부 롤러 성형기의 성형 돌기부는 롤러 성형기의 외부로 돌출된 돌출부와 롤러 성형기의 내부로 인입되는 인입부를 포함하고, 상기 상부 롤러 성형기의 돌출부는 상기 하부 롤러 성형기의 인입부와 대응하고, 상기 하부 롤러 성형기의 돌출부는 상기 상부 롤러 성형기의 인입부와 대응하는 형상인 것을 특징으로 한다.
도 4 에 본 발명의 일 실시예에 의한 상부 롤러 성형기의 성형 돌기부 및 상기 하부 롤러 성형기의 성형 돌기부를 나타내었다.
도 4에서 보는 바와 같이 본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 복수개의 성형돌기부는 필름의 이동 방향과 평행하게 절곡부(110)를 성형하도록 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기의 표면에 형성된다.
도 4에서 보는 바와 같이 상부 롤러 성형기(510)의 성형 돌기부(511)과 하부 롤러 성형기(520)의 성형돌기부(521)은 일정 간격 d 만큼 이격되어 형성됨으로써, 기재 필름이 상기 상부 롤러 성형기(510)와 하부 롤러 성형기(520) 사이에 공급되어 절곡부(110)가 성형되도록 한다. 본 발명의 일 실시예에 의한 상부 롤러 성형기의 하부 롤러 성형기(520)의 성형돌기부(521) 사이의 이격 거리 d 의 범위는 10 내지 20 mm 인 것이 바람직하며, d 가 20 mm 이상인 경우 절곡부의 형상을 유지하기 어려울 뿐만 아니라 배기가스의 통과가 어려워지며, d 가 10 mm 이하인 경우 적층되는 복수개의 평판 사이에서 하중을 지지하지 못하여 파손될 우려가 있다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 압착부는 상부 롤러 압착기; 및 하부 롤러 압착기;를 포함하고, 상기 상부 롤러 압착기와 상기 하부 롤러 압착기 사이에 기재 필름이 일방향으로 이동하면서 공급되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 상부 롤러 압착기; 및 하부 롤러 압착기는 복수개가 일렬로 배열되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 압착된 촉매용 배토를 건조하기 위한 건조부는 기재 필름의 상하부에 적외선 열원을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 촉매용 배토 공급부; 상기 압착부; 상기 건조부; 및 상기 성형부는 인접하여 나란하게 배치되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 상기 성형부 이후 필름 형상의 선택적 촉매환원용 촉매를 평판형으로 절단하기 위한 절단부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 표면이 코팅된 비점착층을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에서 상기 비점착층은 테프론 코팅층 또는 이온쉴드 코팅층인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 성형부가 성형돌기를 포함하는 롤러 타입 성형기를 포함하여 생산 속도와 동일한 속도로 성형 공정을 지속적으로 진행할 수 있어 기존의 박판절곡성형과 비교하여 생산 물량의 현저한 증대가 가능하다.
또한, 연속롤러절곡성형에 의하여 대면적 평판형 SCR 촉매를 제조함으로써 메탈메쉬 및 최종 완제품의 재고 발생률을 감소시키고, 종래 제조되는 평판의 크기 제한에 따라 평판형 촉매를 이중으로 적층할 수 밖에 없게 되어 블록 사이의 이격 발생에 의한 비산재 적층의 문제가 발생하지 않는 효과가 있다.
도 1은 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템의 일 실시예를 나타낸 것이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템의 성형부의 개념도를 도시한 것이다.
도 5는 종래 기술에 의해 가로 성형된 촉매를 박스 내 장입시 적층 방식에 의해야 함과 본원 발명에 의해 성형된 촉매를 박스 내 장입시 단일층으로 가능함을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템을 사용하여 성형된 촉매를 박스 내 장입시 단일층으로 장입이 가능함을 나타낸 것이다.
도 7은 종래 기술에 의해 촉매를 적층 방식에 의해 박스 내 장입시킨 경우 촉매 성능 저하 및 설비 운전 문제 발생의 원인이 됨을 나타낸 것이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템의 성형부의 개념도를 도시한 것이다.
도 5는 종래 기술에 의해 가로 성형된 촉매를 박스 내 장입시 적층 방식에 의해야 함과 본원 발명에 의해 성형된 촉매를 박스 내 장입시 단일층으로 가능함을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템을 사용하여 성형된 촉매를 박스 내 장입시 단일층으로 장입이 가능함을 나타낸 것이다.
도 7은 종래 기술에 의해 촉매를 적층 방식에 의해 박스 내 장입시킨 경우 촉매 성능 저하 및 설비 운전 문제 발생의 원인이 됨을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명의 이해를 돕기 위해서 실시예를 제시한다. 그러나 하기의 실시예는 본 발명을 보다 쉽게 이해하기 위하여 제공되는 것일 뿐 본 발명이 하기의 실시예에 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템을 도시한 것이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 기재 필름을 공급하기 위한 공급 롤러(100); 상기 공급 롤러로부터 이송되면서 공급되는 기재 필름에 촉매용 배토를 공급하는 촉매용 배토 공급부(200); 상기 공급된 촉매용 배토를 압착하기 위한 압착부(300); 상기 압착된 촉매용 배토의 함수를 제어하기 위한 건조부 (400); 및 상기 건조된 촉매를 성형하기 위한 롤러 성형기를 포함하는 성형부(500); 를 포함한다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 공급 롤러(100)는 촉매용 배토를 도포하기 위한 기재 필름을 일정한 속도로 공급하기 위한 장치로서, 롤러 형태 뿐만 아니라 기재 필름을 연속적으로 공급가능한 다른 형태도 포함될 수 있음은 통상의 기술자에게 자명하다 할 것이다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 촉매용 배토 공급부(200)는 공급 롤러(100)에 의해 공급되어 일 방향으로 진행하는 기재 필름의 상부에 위치하여 기재 필름의 폭과 동일한 길이의 촉매용 배토 공급부의 배출구에서 촉매용 배토가 일정한 속도로 낙하되어 기재 필름의 표면에 균일하게 도포된다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 촉매용 배토는 물, 유기첨가제, 무기첨가제 및 가소제를 혼합하여 제조되고, 보강제가 더 포함될 수 있다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 촉매용 배토는 함수율이 25 내지 35 중량% 인 것이 바람직하다. 촉매용 배토 중량 대비 함수율이 25 중량% 이하일 경우 상기 촉매용 배토의 압착이 균일하지 않고, 35 중량%이상일 경우에는 상기 촉매용 배토가 상부 롤러 압착기 및 하부 롤러 압착기의 표면에 묻어나는 결과가 발생한다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 압착부(300)는 촉매용 배토가 균일하게 도포된 기재 필름을 상부 롤러 압착기 및 하부 롤러 압착기의 사이로 삽입하여 상, 하부에서 동일한 압력을 가함으로써 기재 필름에 촉매용 배토를 고정시킨다.
상부 롤러 압착기 및 하부 롤러 압착기의 표면이 금속재질인 경우에도 상기 촉매용 배토가 묻어나는 결과가 발생하므로 상부 롤러 압착기 및 하부 롤러 압착기의 표면은 코팅된 비점착층을 포함하는 것이 바람직하고, 상기 비점착층은 테프론 코팅층 또는 이온쉴드 코팅층일 수 있다.
필요에 따라 압착부는 상부 롤러 압착기 및 하부 롤러 압착기 복수개를 연속하여 배치함으로써 기재 필름에 도포된 촉매용 배토의 이탈을 효과적으로 방지할 수 있다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 건조부(400)는 촉매용 배토가 도포된 기재 필름에 적외선을 조사하여 수분함량을 낮춤으로서 절곡 성형시 촉매의 이탈을 최소화함과 동시에 성형을 용이하게 해준다.
건조부(400)는 촉매용 배토가 도포된 기재 필름의 상부 및 하부 각각에 열원이 위치하여 기재 필름의 상부 및 하부를 균등하게 건조함으로써 촉매용 배토의 함수량이 전체적으로 고르게 하여 표면 균열을 방지하는 것이 바람직하다.
건조방식으로 열풍건조에 의하는 경우 건조효율이 우수한 장점이 있지만, 기재 필름에 도포된 촉매용 배토의 표면과 내부가 고르게 건조되지 않아 표면에 균열이 발생하는 문제가 있으므로, 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 적외선건조에 의하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 성형부(500)는 촉매용 배토가 도포된 평판형 기재 필름에 대하여 외력을 가하여 평평한 단면에 높이 차가 형성된 절곡부(110)를 성형하기 위한 것이다.
상기 성형부는 상부 롤러 성형기(510); 및 하부 롤러 성형기(520)를 포함하고, 상기 상부 롤러 성형기와 상기 하부 롤러 성형기 사이에 기재 필름이 일방향으로 이동하면서 공급되고, 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기는 상기 기재 필름의 이동 방향과 평행하게 절곡부를 형성하기 위해 복수개의 성형돌기부(511, 521)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 상부 롤러 성형기의 성형 돌기부 및 상기 하부 롤러 성형기의 성형 돌기부는 돌출부(512, 522)와 인입부(513, 523)를 포함한다.
도 4 에 본 발명의 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 포함되는 상부 롤러 성형기(510)와 하부 롤러 성형기(520) 사이에 기재 필름이 이동 공급되어 성형되는 것을 나타내었다.
도 4에서 보는 바와 같이 상기 상부 롤러 성형기의 성형 돌기부 및 상기 하부 롤러 성형기의 돌출부(512, 522)는 상부 롤러 성형기 및 하부 롤러 성형기의 표면을 기준으로 외부로 돌출된 부분을 의미하고, 상기 인입부(513, 523)는 상부 롤러 성형기 및 하부 롤러 성형기의 표면을 기준으로 내부로 인입된 부분을 의미하며, 도 5에서 보는 바와 같이 상기 상부 롤러 성형기의 돌출부와 상부 롤러 성형기의 인입부가 연속하여 형성되고, 상기 하부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 인입부가 연속하여 형성된다.
본 발명의 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 상부 또는 하부 롤러 성형기의 인접하는 돌출부간의 거리(D)가 50 내지 140mm 것이 바람직하다.
본 발명의 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 돌출부가 일정 이격 거리(d)만큼 이격되어 배치되는 것이 절곡부(110)를 연속 성형하기 위해 바람직하다.
본 발명의 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 돌출부 이격 거리(d)가 10 내지 20 mm 인 것이 바람직하며, d 가 20 mm 이상인 경우 절곡부의 형상을 유지하기 어려울 뿐만 아니라 배기가스의 통과가 어려워지며, d 가 10 mm 이하인 경우 적층되는 복수개의 평판 사이에서 하중을 지지하지 못하여 파손될 우려가 있다.
도 3 및 도 4는 본 발명의 성형방법의 공정과정 중 정면도에 관한 것으로, 도 3 및 도 4를 참조하면, 절곡부(110)의 형상은 성형 롤러의 돌기부 및 인입부에 따라 다양한 높이의 위상, 경사면 및/또는 곡면 등을 포함하는 V-벤딩, U-벤딩, Z-벤딩 등의 형상일 수 있으며, 바람직하게는 평판형 기재 필름의 상하측 단부가 곡률부를 갖는 물결형상일 수 있다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 성형부(500)에 형성되는 성형 돌기(511, 521)에 의해 평판형 촉매에 절곡부(110)를 형성시켜 복수 개의 선택적촉매환원 촉매의 적층시, 각각의 이웃하는 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 공간을 형성하게 된다. 상기 절곡부(110)에 의해 이웃하여 적층되는 평판형 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 사이에 형성된 공간 내에 배기가스를 통과시켜, 반응을 통해 질소산화물을 제거할 수 있다.
절곡부(110)는 촉매용 배토가 공급된 기재 필름이 상부 롤러 성형기(510); 및 하부 롤러 성형기(520)를 통과할 때, 상기 상부 롤러 성형기와 상기 하부 롤러 성형기의 압착에 의하여 형성되는 것이며, 보다 상세하게는 상부 롤러 성형기의 성형 돌출부, 인입부, 및 하부 롤러 성형기의 성형 돌출부, 인입부의 형상에 따라 절곡부(110)의 형상이 결정 되어진다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기의 표면에 상기 기재 필름의 이동 방향과 평행하게 형성되는 복수개의 성형돌기부를 포함하여, 이와 같은 롤러성형기에 의해 평판형 촉매에 필름의 이동 방향과 평행 방향으로 절곡부를 형성시킴으로써, 종래 절곡부가 필름의 이동 방향과 수직 방향으로 형성되어 절곡부의 길이가 제한되었던 점을 해소하여, 생산자가 원하는 길이의 절곡부를 선택적촉매환원 평판형 촉매상에 형성시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템은 표면에 돌출부와 인입부를 포함하는 회전하는 롤러 성형기에 통과시켜 연속 공정으로 절곡부를 성형할 수 있게 되어 절곡부의 형성을 위하여 지체되었던 시간이 발생되지 않아 전체적인 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 생산시간을 단축시킬 수 있으며, 이는 궁극적으로 선택적촉매환원(SCR)용 촉매의 생산효율을 향상시킨다.
본 발명의 일 형태에 따른 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템에 있어서, 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 표면은 코팅된 비점착층을 포함하는 것이 가능하다.
상기 비점착층은 테프론 코팅층 또는 이온쉴드 코팅층일 수 있다. 상기 이온쉴드 코팅층은 붕소계열의 이온쉴드 코팅층일 수 있다. 이온쉴드 코팅층의 두께는 1 ㎛이하이며, 내열온도가 1000 ℃이상이며, 코팅처리 온도가 180 ℃이하인 이온쉴드 코팅층일 수 있다.
본원 발명은 상기와 같은 테프론 코팅층 또는 이온쉴드 코팅층 등의 윤활성이 뛰어난 비점착층을 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 표면에 코팅함으로서, 금속 재질인 상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 표면에 촉매용 배토가 묻어 평판형 메쉬망 형태의 기재 필름으로부터 촉매 물질이 탈리되는 것을 방지할 수 있다.
상기 이온쉴드 코팅층은 코팅 두께를 수 마이크론 수준으로 정밀하게 성형할 수 있어, 상기 상부 롤러성형기(510)와 상기 하부 롤러성형기(520)의 구조적 특성에 영향을 미치지 않으며, 우수한 비점착 특성을 상기 상부 롤러성형기(510)와 상기 하부 롤러성형기(520)에 부여하여 원활한 성형이 가능하도록 할 수 있다.
100: 공급 롤러
110: 절곡부
200: 촉매용 배토 공급부
300: 압착부
400: 건조부
500: 성형부
510: 상부 롤러 성형기
511: 상부 성형 돌기부
512: 상부 롤러 성형기의 돌출부
513: 상부 롤러 성형기의 인입부
520: 하부 롤러 성형기
521: 하부 성형 돌기부
522: 하부 롤러 성형기의 돌출부
523: 하부 롤러 성형기의 인입부
600: 시스템제어기
D: 성형 돌기 사이의 거리
d: 상부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 돌출부 사이의 거리
ℓ: 촉매의 가로 길이
bp: 촉매의 세로 길이
Hb: 촉매박스의 높이
110: 절곡부
200: 촉매용 배토 공급부
300: 압착부
400: 건조부
500: 성형부
510: 상부 롤러 성형기
511: 상부 성형 돌기부
512: 상부 롤러 성형기의 돌출부
513: 상부 롤러 성형기의 인입부
520: 하부 롤러 성형기
521: 하부 성형 돌기부
522: 하부 롤러 성형기의 돌출부
523: 하부 롤러 성형기의 인입부
600: 시스템제어기
D: 성형 돌기 사이의 거리
d: 상부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 돌출부 사이의 거리
ℓ: 촉매의 가로 길이
bp: 촉매의 세로 길이
Hb: 촉매박스의 높이
Claims (10)
- 기재 필름을 공급하기 위한 공급 롤러;
상기 공급 롤러로부터 이송되면서 공급되는 기재 필름에 촉매용 배토를 공급하는 촉매용 배토 공급부;
상기 공급된 촉매용 배토를 압착하기 위한 압착부;
상기 압착된 촉매용 배토의 함수를 제어하기 위한 건조부; 및
상기 건조된 촉매를 성형하기 위한 롤러 성형기를 포함하는 성형부;로 구성되고,
상기 성형부는 상부 롤러 성형기; 및 하부 롤러 성형기를 포함하며,
상기 상부 롤러 성형기와 상기 하부 롤러 성형기 사이에 기재 필름이 일방향으로 이동하면서 공급되고,
상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기는 상기 기재 필름의 이동 방향과 평행하게 형성되는 복수개의 성형돌기부를 포함하되,
상기 상부 롤러 성형기의 성형 돌기부 및 상기 하부 롤러 성형기의 성형 돌기부는 롤러 성형기의 외부로 돌출된 돌출부와 롤러 성형기의 내부로 인입되는 인입부를 포함하고,
상기 상부 롤러 성형기의 돌출부는 상기 하부 롤러 성형기의 인입부와 대응하고,
상기 복수개의 성형 돌기부 사이의 거리는 50 내지 140mm 이며,
상기 하부 롤러 성형기의 돌출부는 상기 상부 롤러 성형기의 인입부와 대응하는 형상이고, 상부 롤러 성형기의 돌출부와 하부 롤러 성형기의 돌출부 이격 거리(d)가 10 내지 20 mm 인 것인 선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 압착부는 상부 롤러 압착기; 및 하부 롤러 압착기;를 포함하고,
상기 상부 롤러 압착기와 상기 하부 롤러 압착기 사이에 기재 필름이 일방향으로 이동하면서 공급되는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 4 항에 있어서,
상기 상부 롤러 압착기; 및 하부 롤러 압착기는 복수개가 일렬로 배열되는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 1 항에 있어서,
상기 압착된 촉매용 배토를 건조하기 위한 건조부는 기재 필름의 상하부에 적외선 열원을 포함하는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 1 항에 있어서,
상기 촉매용 배토 공급부; 상기 압착부; 상기 건조부; 및 상기 성형부는 인접하여 나란하게 배치되는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 1 항에 있어서,
상기 성형부 이후 필름 형상의 선택적 촉매환원용 촉매를 평판형으로 절단하기 위한 절단부를 더 포함하는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 1 항에 있어서,
상기 상부 롤러성형기와 상기 하부 롤러성형기 표면은 코팅된 비점착층을 포함하는 것인
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
- 제 9 항에 있어서,
상기 비점착층은 테프론 코팅층 또는 이온쉴드 코팅층인 것을 특징으로 하는
선택적 촉매환원용 평판형 촉매 제조시스템
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| KR1020160182998 | 2016-12-29 | ||
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| KR1020170030746 | 2017-03-10 |
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