KR102044024B1 - Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same - Google Patents

Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same Download PDF

Info

Publication number
KR102044024B1
KR102044024B1 KR1020170164064A KR20170164064A KR102044024B1 KR 102044024 B1 KR102044024 B1 KR 102044024B1 KR 1020170164064 A KR1020170164064 A KR 1020170164064A KR 20170164064 A KR20170164064 A KR 20170164064A KR 102044024 B1 KR102044024 B1 KR 102044024B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
water treatment
plasma
ground
plasma electrode
reactor
Prior art date
Application number
KR1020170164064A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190064827A (en
Inventor
우성우
박용해
Original Assignee
두산중공업 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 두산중공업 주식회사 filed Critical 두산중공업 주식회사
Priority to KR1020170164064A priority Critical patent/KR102044024B1/en
Priority to US16/030,790 priority patent/US10822255B2/en
Publication of KR20190064827A publication Critical patent/KR20190064827A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102044024B1 publication Critical patent/KR102044024B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/4608Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods using electrical discharges
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/002Construction details of the apparatus

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

본 발명은 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리 장치 및 이를 포함하는 수처리 시스템에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 플라즈마 노즐을 이용하여 피처리수 내에 존재하는 유기물을 분해하거나 미생물을 제거할 수 있는 수처리 장치 및 이를 포함하는 수처리 시스템에 관한 것이다. 이를 위해 수처리 장치는 피처리수가 유입되는 유입구와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구를 구비하는 반응기; 반응기 일측에 구비된 접지전극; 및 반응기 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 노즐;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a water treatment apparatus using plasma underwater discharge and a water treatment system including the same, and more particularly, a water treatment apparatus capable of decomposing organic matter or removing microorganisms present in the water to be treated using a plasma nozzle, and the same. It relates to a water treatment system comprising. To this end, the water treatment apparatus includes a reactor having an inlet through which the water to be treated is introduced and an outlet through which the purified water is discharged; A ground electrode provided at one side of the reactor; And a plasma nozzle provided at one side of the reactor and generating a plasma.

Description

수처리용 플라즈마 전극, 플라즈마 전극 모듈 및 이를 포함하는 수처리 시스템{PLASMA ELECTRODE, PLASMA ELECTRODE MODULE AND WATER TREATMENT APPARATUS CONTAINING THE SAME}Plasma electrode for water treatment, plasma electrode module and water treatment system including same {PLASMA ELECTRODE, PLASMA ELECTRODE MODULE AND WATER TREATMENT APPARATUS CONTAINING THE SAME}

본 발명은 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 플라즈마 전극 혹은 이를 포함하는 플라즈마 전극 모듈을 사용하여 피처리수 내에 존재하는 유기물을 분해하거나 미생물을 제거할 수 있는 플라즈마 전극 혹은 플라즈마 전극 모듈을 포함하는 수처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a water treatment apparatus using plasma underwater discharge, and more particularly, a plasma electrode capable of decomposing organic matter or removing microorganisms present in the water to be treated using a plasma electrode or a plasma electrode module including the same. The present invention relates to a water treatment apparatus including a plasma electrode module.

일반적인 하폐수 처리방법으로 오염물질의 침전을 위해 넓은 공간을 확보하여 오염물질을 서서히 침전시킨 후 침전된 오염물질과 대상수를 분리하는 침전 방식이 주로 사용되어 왔다. 그러나, 이러한 침전방식은 시간이 많이 걸리고 넓은 부지를 확보하여야 하는 단점이 있으며, 침전물의 부패와 악취 발생 등의 부작용이 있다.As a general wastewater treatment method, a sedimentation method of sedimenting contaminants and sediment water after sedimenting the contaminants by securing a large space for sedimentation of contaminants has been used. However, this precipitation method takes a lot of time and has the disadvantage of securing a large site, and there are side effects such as decay of the precipitate and generation of odor.

이에 따라 좁은 공간에서도 하폐수를 오염물질과 분리하여 정수하기 위한 여러 수처리 장치가 개발되어 왔으며, 현재 사용되고 있는 방식으로는 하폐수에 기포를 발생시킴으로써 기포에 미세한 오염물질이 흡착되어 하폐수 표면으로 떠오르게 한 후 제거하는 가압부상법이 있다. Accordingly, several water treatment devices have been developed to separate and separate wastewater from pollutants even in confined spaces.In the currently used method, bubbles are generated in the wastewater by adsorbing fine contaminants to the air bubbles and floating on the surface of the wastewater. There is a pressurized flotation method.

가압부상법 중에서 가장 빈번하게 쓰이는 수처리 방법으로는 폐수 처리장에서 많이 사용되고 있는 용존공기 부상법(Dissolved Air Flatation)이 있으며, 이는 대기압 이상으로 포화된 물을 노즐이나 니들밸브를 통해 부상조에 주입함으로써 미세한 기포(100um 이하)를 발생시키는 방법이다.The most frequently used water treatment method of the pressure floating method is Dissolved Air Flatation, which is widely used in wastewater treatment plants. This is achieved by injecting saturated water above atmospheric pressure into the floating tank through nozzles or needle valves. (100um or less).

그러나, 기존의 용존공기 부상법은 일정 면적에서 처리할 수 있는 유량이 적어 소규모 공정에만 적용 가능하고, 노즐의 구조로 버블 사이즈를 제어하므로 한번 설치되면 사이즈 제어가 불가한 단점이 있었다. 또한, 대기압 이상으로 포화된 물을 만들기 위한 가압탱크가 고전력을 요구하므로 가압탱크의 동력비용이 수처리 장치 운용비용의 큰 비중을 차지하는 단점이 존재하였다. 또한, 조류와 같은 유기물의 경우 응집 플록에 잘 부착되지 못하고 부유하는 경우가 많으므로 침전 및 부상 공정으로 처리하기 어려운 단점도 있었다. 이러한 단점을 해결하기 위하여 염소를 주입하는 방법 등이 개량되기도 하였으나, 염소의 과량 주입으로 인하여 부식 문제 등과 같은 새로운 문제점이 발생되었다.However, the existing dissolved air flotation method has a disadvantage that the flow rate that can be processed in a predetermined area is applicable only to small-scale processes, size control is not possible once installed because the bubble size is controlled by the nozzle structure. In addition, since the pressurized tank for making water saturated above atmospheric pressure requires high power, the power cost of the pressurized tank has a disadvantage in that a large portion of the operating cost of the water treatment device is present. In addition, in the case of organic matter such as algae, it is difficult to adhere to the flocculation floc and is often suspended, which makes it difficult to process the precipitation and flotation processes. In order to solve this disadvantage, the method of injecting chlorine has been improved, but a new problem such as a corrosion problem has occurred due to the excessive injection of chlorine.

이에 상기 단점을 배제하면서도 피처리수에 존재하는 유기물 및 미생물을 효과적으로 제거할 수 있는 수처리 장치에 대한 개발이 요구되고 있다.Therefore, the development of a water treatment apparatus capable of effectively removing organic matter and microorganisms present in the water to be treated while excluding the above disadvantages is required.

대한민국 등록특허공보 제10-0174364호Republic of Korea Patent Publication No. 10-0174364 대한민국 등록실용신안공보 제20-0212210호Republic of Korea Utility Model Registration No. 20-0212210

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 플라즈마 노즐을 이용하여 피처리수 내에 존재하는 유기물을 분해하거나 미생물을 제거할 수 있는 수처리 장치 및 이를 포함하는 수처리 시스템을 제공하는데 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention to provide a water treatment apparatus and a water treatment system that can decompose organic matter or remove microorganisms present in the water to be treated by using a plasma nozzle and a water treatment system comprising the same. have.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 분명해질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become apparent from the following description of preferred embodiments.

본 발명의 일 실시 형태에 따른 수처리용 플라즈마 전극은 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖고, 상기 접지부(33)는 전극과 접촉되고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생하게 된다.The plasma electrode for water treatment according to an embodiment of the present invention has a multi-stage structure in which a ground part 33, a fixing part 32, and a discharge part 31 having a circumferential shape are sequentially stacked, and the ground part 33 is In contact with the electrode, plasma is generated in the discharge part 31.

상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖는 동일 재질로 이루어진 일체형 구조인 것이 바람직하고, 상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7~8:4~6:1인 것이 바람직하다.The ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 is preferably an integral structure made of the same material having corrosion resistance, and the ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion ( It is preferable that the ratio of the diameter of 31) is 7-8: 4-6: 1.

또한, 상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 높이의 비는 1~2:1:1인 것이 바람직하고, 본 발명의 일 실시 형태에 따라 일체형 구조를 갖는 수처리용 플라즈마 전극은 내부식성을 갖는 금속 재질이 바람직한데, 내구성 및 가공성을 고려할 때, 스테인레스 스틸인 SUS 재질을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.In addition, it is preferable that the ratio of the height of the ground part 33, the fixing part 32, and the discharge part 31 is 1-2: 1: 1, and the water treatment which has an integrated structure according to one embodiment of the present invention. The plasma electrode is preferably a metal material having corrosion resistance, and in consideration of durability and workability, it is more preferable to use a SUS material which is stainless steel.

본 발명의 다른 실시 형태로는 수처리용 플라즈마 전극 모듈을 들 수 있는데, 복수개의 홀이 형성된 전도성 기재; 상기 홀을 제외한 텅스텐 기재의 외주부를 둘러싸는 세라믹 층; 및 상기 홀 안쪽에 위치하되, 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖는 플라즈마 전극;을 포함하고, 상기 접지부(33)는 상기 전도성 기재와 접촉하고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생된다.Another embodiment of the present invention includes a plasma electrode module for water treatment, comprising: a conductive substrate having a plurality of holes formed therein; A ceramic layer surrounding the outer circumference of the tungsten base except for the hole; And a plasma electrode positioned inside the hole and having a multi-stage structure in which a ground part 33 having a circumferential shape, a fixing part 32, and a discharge part 31 are sequentially stacked. The ground part 33 Is in contact with the conductive substrate, and plasma is generated in the discharge part 31.

상기 전도성 기재로는 전기 전도도가 높고 내구성이 우수한 텅스텐 혹은 텅스텐 질화물과 같은 텡스텐 합금 재질이 사용되는 것이 바람직하며, 플라즈마 전극 모듈에 포함되는 플라즈마 전극은, 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖는 동일 재질로 이루어진 일체형 구조인 것이 바람직한데, 상기 일체형 구조를 형성하면서 내부식성을 갖는 재질은 SUS 재질인 것이 더욱 바람직하다.As the conductive substrate, a tungsten alloy material such as tungsten or tungsten nitride having high electrical conductivity and excellent durability is preferably used. The plasma electrode included in the plasma electrode module may include a ground part 33 and a fixing part 32. And the discharge portion 31 is preferably an integral structure made of the same material having corrosion resistance, the material having corrosion resistance while forming the integral structure is more preferably made of SUS material.

상기 플라즈마 전극의 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7~8:4~6:1인 것이 바람직하고, 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 높이의 비는 1~2:1:1인 것이 바람직하다.It is preferable that the ratio of the diameter of the ground part 33, the fixed part 32, and the discharge part 31 of the said plasma electrode is 7-8: 4-6: 1, The ground part 33 and the fixed part 32 ) And the height of the discharge portion 31 is preferably 1-2: 1: 1.

상기 전도성 기재는 플레이트 형태 혹은 원주 형태일 수 있으며, 텅스텐 재질이 사용되는 것이 바람직하다.The conductive substrate may be in the form of a plate or cylinder, and tungsten material is preferably used.

본 발명의 또 다른 실시형태로, 이러한 플라즈마 전극 혹은 플라즈마 전극 모듈을 포함하는 수처리 장치를 들 수 있는데, 피처리수가 유입되는 유입구와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구를 구비하는 반응기; 반응기 일측에 구비된 접지전극; 및 반응기 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극 모듈;을 포함하고, 상기 플라즈마 전극 모듈은, 복수개의 홀이 형성된 텅스텐 기재; 상기 홀을 제외한 텅스텐 기재의 외주부를 둘러싸는 세라믹 층; 및 상기 홀 안쪽에 위치하되, 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖는 플라즈마 전극;을 포함하며, 상기 접지부(33)는 텅스텐 기재와 접촉하고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생되는 것을 특징으로 한다.In another embodiment of the present invention, a water treatment apparatus including such a plasma electrode or a plasma electrode module may include a reactor having an inlet through which the water to be treated is introduced and an outlet through which the purified water is discharged; A ground electrode provided at one side of the reactor; And a plasma electrode module provided at one side of the reactor and generating plasma, wherein the plasma electrode module comprises: a tungsten substrate having a plurality of holes formed therein; A ceramic layer surrounding the outer circumference of the tungsten base except for the hole; And a plasma electrode positioned inside the hole and having a multi-stage structure in which a ground part 33, a fixing part 32, and a discharge part 31 are stacked in this order. The ground part 33 Is in contact with the tungsten substrate, characterized in that the plasma is generated in the discharge portion (31).

상기 반응기에는, 유입구와 배출구가 같은 사이드에 구비되거나, 유입구, 배출구 및 접지전극이 같은 사이드에 구비되는 것이 바람직하고, 접지전극과 플라즈마 전극 모듈이 대향되도록 설치될 수 있다.In the reactor, it is preferable that the inlet and the outlet are provided at the same side, or the inlet, the outlet and the ground electrode are provided at the same side, and the ground electrode and the plasma electrode module may be installed to face each other.

상기 반응기에는, 접지전극과 플라즈마 전극 모듈 사이의 거리를 조절할 수 있는 거리 조절부;가 추가로 더 구비될 수 있으며, 상기 접지전극은 플레이트 형상인 것이 바람직하다.The reactor may further include a distance adjusting unit for adjusting a distance between the ground electrode and the plasma electrode module, wherein the ground electrode is preferably in a plate shape.

본 발명에 따르면, 플라즈마 수중방전을 이용하여 피처리수 내에 존재하는 유기물 및 미생물을 효과적으로 분해하거나 제거할 수 있는 효과를 갖는다.According to the present invention, the plasma underwater discharge has the effect of effectively decomposing or removing organic matter and microorganisms present in the water to be treated.

특히, 반응기에 구비된 접지전극과 플라즈마 노즐 사이의 거리를 용이하게 조절할 수 있고, 3단으로 구성된 일체형 플라즈마 노즐을 사용함으로써 플라즈마를 안정적으로 발생시킬 수 있어 피처리수의 처리 효율을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.In particular, the distance between the ground electrode and the plasma nozzle provided in the reactor can be easily adjusted, and the plasma can be stably generated by using an integrated plasma nozzle composed of three stages, thereby improving the treatment efficiency of the water to be treated. Has an effect.

또한, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 수처리용 플라즈마 전극은, 방전부, 고정부 및 접지부가 일체형으로 제작되어 내구성이 우수하며, 안정적으로 플라즈마를 발생시킬 수 있으며, 복수개의 전극이 구비된 전극 모듈의 형태로 적용되어, 한 개의 전극에 필요 이상의 전력이 인가되어 깨지는 현상이나, 국소 부위 전로 파괴 현상을 방지할 수 있다. In addition, the plasma electrode for water treatment according to an embodiment of the present invention, the discharge portion, the fixing portion and the grounding portion is made integrally, excellent durability, can generate a stable plasma, the electrode module provided with a plurality of electrodes It can be applied in the form of to prevent the phenomenon of breaking by applying more power than necessary to one electrode, or the breakdown phenomenon of the local site.

아울러 길이와 지름이 상이한 3단 구성으로 접지 효율 및 방전 효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라, 안정적인 플라즈마 발생으로 많은 양의 OH 라디칼 생성할 수 있어, 처리수 내에 포함된 유기 오염물질을 효과적으로 분해시킬 수 있다.In addition, the three-stage configuration with different lengths and diameters not only improves grounding efficiency and discharge efficiency, but also generates a large amount of OH radicals through stable plasma generation, effectively decomposing organic pollutants contained in the treated water. have.

이러한 본 발명의 효과들은 이상에서 언급한 효과로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.Such effects of the present invention are not limited to the above-mentioned effects, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치를 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3은 플라즈마 발생원리 및 효과를 설명하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 노즐을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 5은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 전극 모듈을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치가 직렬 연결된 수처리 시스템이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치가 병렬 연결된 수처리 시스템이다.
1 is a view schematically showing a water treatment device according to an embodiment of the present invention.
2 is a view schematically showing a water treatment device according to an embodiment of the present invention.
3 is a view for explaining the principle and effect of the plasma generation.
4 is a view schematically showing a plasma nozzle according to an embodiment of the present invention.
5 is a view schematically showing a plasma electrode module according to an embodiment of the present invention.
6 is a water treatment system in which a water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is connected in series.
7 is a water treatment system parallel to the water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

또한, 달리 정의하지 않는 한, 본 명세서에서 사용되는 모든 기술적 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 기술 분야의 숙련자에 의해 통상적으로 이해되는 바와 동일한 의미를 가지며, 상충되는 경우에는, 정의를 포함하는 본 명세서의 기재가 우선할 것이다.Also, unless defined otherwise, all technical and scientific terms used herein have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs, and in the case of conflict, the specification including definitions The description of will prevail.

도면에서 제안된 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. 그리고, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에서 기술한 "부"란, 특정 기능을 수행하는 하나의 단위 또는 블록을 의미한다.In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted to clearly describe the proposed invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification. In addition, when a part "contains" a certain component, this means that the component may further include other components, without excluding other components, unless specifically stated otherwise. In addition, the "unit" described in the specification means one unit or block that performs a specific function.

각 단계들에 있어 식별부호(제1, 제2, 등)는 설명의 편의를 위하여 사용되는 것으로 식별부호는 각 단계들의 순서를 설명하는 것이 아니며, 각 단계들은 문맥상 명백하게 특정 순서를 기재하지 않는 이상 명기된 순서와 다르게 실시될 수 있다. 즉, 각 단계들은 명기된 순서와 동일하게 실시될 수도 있고 실질적으로 동시에 실시될 수도 있으며 반대의 순서대로 실시될 수도 있다.In each step, an identification code (first, second, etc.) is used for convenience of description, and the identification code does not describe the order of each step, and each step does not explicitly describe a specific order in context. It may be carried out in a different order than described above. That is, each step may be performed in the same order as specified, may be performed substantially simultaneously, or may be performed in the reverse order.

도 1 및 도 2는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치(100)를 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 1 및 도 2를 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치(100)는 피처리수가 유입되는 유입구(11)와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구(12)를 구비하는 반응기(10); 반응기(10) 일측에 구비된 접지전극(20); 및 반응기(10) 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극(30);을 포함한다. 본 발명은 플라즈마 전극(30)을 이용한 플라즈마 수중방전을 통해 피처리수 내에 존재하는 유기물 및 미생물을 분해하거나 제거할 수 있는 효과를 갖는다. 1 and 2 are diagrams schematically showing the water treatment device 100 according to an embodiment of the present invention, respectively. 1 and 2, a water treatment device 100 according to an embodiment of the present invention includes a reactor including an inlet 11 through which water to be treated is introduced and an outlet 12 through which purified water is discharged. 10; A ground electrode 20 provided at one side of the reactor 10; And a plasma electrode 30 provided at one side of the reactor 10 to generate plasma. The present invention has the effect of decomposing or removing organic matter and microorganisms present in the water to be treated through plasma underwater discharge using the plasma electrode 30.

종래에는 해수 등과 같은 피처리수를 전처리하기 전에 염소를 주입하여 유기물에 의해 형성되는 바이오 파울링(Bio-fouling)을 억제하였으나, 염소의 과량 주입으로 인하여 부식 등의 문제가 발생하지만, 본 발명은 이러한 염소 주입 방식을 플라즈마 방식으로 대체함으로써 유기물 및 미생물을 효과적으로 제거함으로써 바이오-파울링 현상 등을 억제하면서도 부식 문제를 발생하지 않는 장점을 갖는다.Conventionally, bio-fouling formed by organic materials is suppressed by injecting chlorine before pretreatment of treated water such as seawater, but problems such as corrosion occur due to excessive injection of chlorine. By replacing the chlorine injection method with a plasma method, by effectively removing organic matter and microorganisms, there is an advantage that does not cause a corrosion problem while suppressing a bio-fouling phenomenon.

도 3은 플라즈마 발생원리 및 효과를 설명하는 도면으로, 본 발명을 구체적으로 설명하기에 앞서, 도 3을 참조하여 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리의 효과에 관하여 설명하고자 한다.3 is a view for explaining the principle and effect of the plasma generation, before explaining the present invention in detail, will be described with respect to the effect of the water treatment using the plasma underwater discharge with reference to FIG.

플라즈마 수중방전은, 플라즈마 전극에 인가하는 펄스, 전압 등을 달리하여 코로나 방전과 아크 방전 등을 사용할 수 있다. 플라즈마를 이용한 수처리를 통해 얻을 수 있는 효과는 충격파에 의한 세포 파괴, 초음파에 의한 세포 파괴, 고전압 전기장에 의한 세포 파괴 등이다. 이를 좀 더 상세히 설명하면 다음과 같다.In the plasma underwater discharge, corona discharge, arc discharge, or the like can be used by varying pulses, voltages, and the like applied to the plasma electrode. The effects of water treatment using plasma are cell destruction by shock waves, cell destruction by ultrasonic waves, and cell destruction by high voltage electric fields. This will be described in more detail as follows.

먼저, 충격파에 의한 세포 파괴에서는 급격한 압력의 변동으로 나타나는 충격파로 세포의 파괴를 가져올 수 있다는 것이다. 이때, 세포의 파괴는 세포의 크기 및 세포의 형태, 세포의 두께 등에 의존하며, 충격파 세기에 의존한다.First, in cell destruction by shock waves, shock waves appearing as sudden pressure fluctuations can lead to cell destruction. At this time, the destruction of the cell depends on the size of the cell and the shape of the cell, the thickness of the cell and the like, and depends on the shock wave intensity.

또한, 초음파에 의한 세포 파괴를 들 수 있는데, 초음파는 액체 속을 통과하면서 캐비테이션(Cavitation) 현상을 일으킬 수 있다. 캐비테이션이란, 초음파 진동자에 의해 액체 매질로 초음파가 통과할 때 진동자에 의해 진동하는 종파를 만들어냄으로써 액체의 밀도가 소한 부분과 밀한 부분을 만들어 내며, 소한 부분이 액체의 증기압보다 낮을 경우에 버블(Bubble)을 만들어 내어 그것이 폭발하는 현상이다. 이 폭발에 의한 충격파를 이용하여 세포를 파괴시키는 것으로서, 소량의 미생물 세포를 파괴시킬 때 사용하는 방법이다.In addition, there is a cell destruction by ultrasonic waves, which can cause cavitation (Cavitation) phenomenon while passing through the liquid. Cavitation is a bubble (bubble) in which the density of liquid is small and dense by creating a longitudinal wave that vibrates by the vibrator when ultrasonic waves pass through the liquid medium by the ultrasonic vibrator. It is a phenomenon that explodes. It is a method used when destroying a cell using a shock wave caused by the explosion and destroying a small amount of microbial cells.

또한, 고전압 전기장에 의한 세포 파괴는 세포막에 높은 전위차를 유도하여 세포막이라는 절연체를 파괴시키는 것이다. 따라서, 플라즈마 처리에 의해 생성되는 자외선, 활성종, 충격파, 버블 등의 작용에 의해 플랑크톤 및 박테리아의 생존율을 획기적으로 줄일 수 있다.In addition, cell destruction by a high voltage electric field induces a high potential difference in the cell membrane to destroy an insulator called a cell membrane. Therefore, the survival rate of plankton and bacteria can be drastically reduced by the action of ultraviolet rays, active species, shock waves, bubbles, etc. generated by plasma treatment.

일 실시예에 있어서, 반응기(10)는 피처리수가 유입되는 유입구(11)와 피처리수가 배출되는 배출구(12)를 구비하고, 내부에 피처리수를 수용할 수 있다. 반응기(10)는 특별히 제한되는 것은 아니고, 여러가지 형상으로 제조할 수 있으며, 일반적으로 직육면체 형상으로 제조할 수 있다. 반응기(10)의 일측에는 접지전극(20)이 구비될 수 있고, 또 다른 일측에는 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극(30)이 구비될 수 있다. 유입구(11)와 배출구(12)의 위치는 특별히 제한되는 것은 아니나, 유입구(11)와 배출구(12)가 같은 사이드(직육면체 형상일 경우, 같은 면을 의미)에 위치하는 것이 바람직하다. 또한, 접지전극(20)과 유입구(11) 및 배출구(12)가 같은 사이드에 구비될 수 있고, 플라즈마 전극(30)은 접지전극(20)과 대향되도록 설치되는 것이 바람직하다. 이 경우, 평판 형상의 접지전극(20)이 반응기(10)의 상부면을 형성(도 1 참조)할 수 있고, 접지전극(20)에 유입구(11) 및 배출구(12)를 형성할 수도 있다. In one embodiment, the reactor 10 has an inlet 11 through which the water to be treated flows in and a discharge port 12 through which the water to be treated is discharged, and accommodates the water therein. The reactor 10 is not particularly limited and can be manufactured in various shapes, and generally can be manufactured in a rectangular parallelepiped shape. One side of the reactor 10 may be provided with a ground electrode 20, and the other side may be provided with a plasma electrode 30 for generating a plasma. Although the position of the inlet 11 and the outlet 12 is not specifically limited, It is preferable that the inlet 11 and the outlet 12 are located in the same side (in the case of a cuboid shape, it means the same side). In addition, the ground electrode 20, the inlet 11, and the outlet 12 may be provided at the same side, and the plasma electrode 30 may be installed to face the ground electrode 20. In this case, the flat ground electrode 20 may form an upper surface of the reactor 10 (see FIG. 1), and may form an inlet 11 and an outlet 12 in the ground electrode 20. .

일 실시예에 있어서, 반응기(10)는 접지전극(20)과 플라즈마 전극(30) 사이의 거리를 조절할 수 있는 거리 조절부(40)(도 2 참조)를 구비할 수 있다. 피처리수의 종류에 따라 플라즈마 전극(30)에 걸어주는 전압이나 접지전극(20)과 플라즈마 전극(30) 사이의 간격을 조절할 수 있는데, 거리 조절부(40)는 반응기(10)의 양 측면에 마주보게 형성되어 반응기(10)의 높이를 신장 또는 수축하여 반응기(10)의 피처리수 수용 용량을 조절함과 동시에 접지전극(20)과 플라즈마 전극(30) 사이의 간격을 조절할 수 있다.In one embodiment, the reactor 10 may include a distance adjuster 40 (see FIG. 2) to adjust the distance between the ground electrode 20 and the plasma electrode 30. According to the type of water to be treated, the voltage applied to the plasma electrode 30 or the distance between the ground electrode 20 and the plasma electrode 30 can be adjusted. The distance controller 40 is provided on both sides of the reactor 10. It is formed to face the elongation or contraction of the height of the reactor 10 to adjust the treated water capacity of the reactor 10 and at the same time can adjust the distance between the ground electrode 20 and the plasma electrode 30.

일 실시예에 있어서, 접지전극(20)은 통상의 전극을 사용할 수 있고, 상술한 바와 같이 반응기(10)의 일측에 구비될 수 있으며, 평판 형태로 형성되어 반응기(10)의 일면을 형성할 수도 있다. 접지전극(20)은 피처리수와 전기적으로 연결(접촉)되어 피처리수가 접지(earth)될 수 있게 한다. In one embodiment, the ground electrode 20 may be a conventional electrode, and may be provided on one side of the reactor 10, as described above, may be formed in a flat plate form one surface of the reactor 10 It may be. The ground electrode 20 is electrically connected (contacted) with the water to be treated so that the water can be grounded.

일 실시예에 있어서, 플라즈마 전극(30)은 텅스텐이나 스테인레스 강(stainless steel)을 이용하여 제조할 수 있고, 전원 공급부(도시하지 않음)와 연결될 수 있다. 전원공급부는 플라즈마 전극(30)에 펄스, 교류 또는 직류 전압을 인가할 수 있다. 플라즈마 전극(30)은 반응기(10)의 일측에 구비될 수 있는데, 개별적으로 형성될 수 있으나, 복수의 플라즈마 전극이 모인 플라즈마 전극 모듈(50) 형태로 반응기 내부에 위치될 수 있는데, 접지전극(20)과 대향되게 설치되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 플라즈마 전극 모듈(50)은 피처리수의 처리량 등에 따라 반응기 내에 복수 개 설치될 수 있다.In one embodiment, the plasma electrode 30 may be manufactured using tungsten or stainless steel, and may be connected to a power supply (not shown). The power supply unit may apply a pulse, alternating current, or direct current voltage to the plasma electrode 30. The plasma electrode 30 may be provided at one side of the reactor 10, but may be formed separately, but may be positioned inside the reactor in the form of a plasma electrode module 50 in which a plurality of plasma electrodes are collected. It is preferable to be installed opposite to 20). In addition, the plasma electrode module 50 may be provided in plural in the reactor according to the throughput of the water to be treated.

도 4는 일 예에 따른 플라즈마 전극(30)을 개략적으로 나타낸 도면이다. 도 4를 참조하여 플라즈마 전극(30)을 구체적으로 설명하면, 플라즈마 전극(30)은 방전부(31), 고정부(32) 및 접지부(33)를 포함하는 일체의 구조로 형성될 수 있다. 일체형으로 제조됨으로써, 1개의 전극단에 필요 이상의 전력이 인가되어 깨지는 현상을 방지할 수 있어 내구성을 향상시킬 수 있고, 추후 플라즈마 전극(30)의 교체가 용이하다는 장점이 있다. 4 is a diagram schematically illustrating a plasma electrode 30 according to an example. Referring to FIG. 4, the plasma electrode 30 will be described in detail. The plasma electrode 30 may be formed in an integrated structure including a discharge part 31, a fixing part 32, and a ground part 33. . Since it is manufactured integrally, it is possible to prevent the phenomenon of breaking by applying more power than one electrode end, it is possible to improve the durability, there is an advantage that it is easy to replace the plasma electrode 30 later.

또한, 각 단의 전극은 특별히 제한되는 것은 아니고, 다양한 형상으로 제조될 수 있으나, 안정적으로 플라즈마를 발생시키기 위하여 원기둥 형상인 것이 바람직하고, 상부에 위치하는 방전부(31)의 직경이 가장 짧으며, 하부에 위치하는 접지부(33)의 직경이 가장 긴 것이 바람직하다(도 4 기준). 상부로 갈수록 직경을 감소시킴으로써 플라즈마 전극(30)의 절연 효율 및 방전 효율을 향상시킬 수 있다. 플라즈마 전극(30)의 절연 효율 및 방전 효율을 극대화하기 위하여 방전부(31), 고정부(32) 및 접지부(33)의 직경(d)의 비는 1 : 4~6 : 7~8 인 것이 바람직하고, 방전부(31), 고정부(32) 및 접지부(33)의 높이(h)의 비는 1 : 1 : 1~2 인 것이 바람직하다.In addition, the electrode of each stage is not particularly limited, and may be manufactured in various shapes, but in order to stably generate a plasma, it is preferable that the electrode is formed, and the diameter of the discharge part 31 positioned on the uppermost is shortest. It is preferable that the diameter of the grounding part 33 positioned at the bottom is the longest (see FIG. 4). By decreasing the diameter toward the top, the insulation efficiency and the discharge efficiency of the plasma electrode 30 can be improved. In order to maximize the insulation efficiency and the discharge efficiency of the plasma electrode 30, the ratio of the diameter d of the discharge part 31, the fixing part 32, and the ground part 33 is 1: 4 to 6: 7 to 8. It is preferable that the height h of the discharge part 31, the fixing part 32, and the ground part 33 is 1: 1: 1-2.

이러한 플라즈마 전극은 수처리용 반응기 내에 개별적으로 설치될 수 있으나, 복수개의 전극들이 배치된 전극 모듈 형태로 반응기 내에 설치되는 것도 가능하다.The plasma electrode may be installed separately in the reactor for water treatment, but may be installed in the reactor in the form of an electrode module in which a plurality of electrodes are disposed.

플라즈마 전극 모듈(50)의 일 실시 형태로 도 5(a)의 플레이트 형태와 도 5(b)의 관 형태가 제시되어 있는데, 복수개의 홀(51)이 형성된 전도성 기재(52) 및 상기 홀을 제외한 텅스텐 기재의 외주부를 둘러싸는 세라믹 층(53)으로 구성될 수 있다.In an embodiment of the plasma electrode module 50, the plate shape of FIG. 5 (a) and the tube shape of FIG. 5 (b) are shown. The conductive base 52 and the holes in which a plurality of holes 51 are formed are provided. It may be composed of a ceramic layer 53 surrounding the outer periphery of the tungsten substrate.

상기 홀 안쪽에는, 앞서 살펴본 플라즈마 전극이 위치하는데, 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖는 플라즈마 전극;을 포함하고, 상기 접지부(33)는 상기 전도성 기재와 접촉하고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생된다.Inside the hole, the above-described plasma electrode is located, the plasma electrode having a multi-stage structure in which the ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 having a circumferential shape are sequentially stacked; The ground portion 33 is in contact with the conductive substrate, and plasma is generated in the discharge portion 31.

전도성 기재의 형태에 따라 플레이트 형태의 플라즈마 전극 모듈과 관 형태의 플라즈마 전극 모듈로 구현될 수 있으며, 수처리 반응기의 형태에 따라 선택적으로 사용될 수 있다.According to the shape of the conductive substrate may be implemented as a plate-shaped plasma electrode module and a tube-shaped plasma electrode module, it can be selectively used according to the shape of the water treatment reactor.

상기 전도성 기재로는 전기 전도도가 높고 내구성이 우수한 텅스텐 혹은 텅스텐 질화물과 같은 텡스텐 합금 재질이 사용되는 것이 바람직하며, 플라즈마 전극 모듈에 포함되는 플라즈마 전극은, 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖는 동일 재질로 이루어진 일체형 구조인 것이 바람직한데, 상기 일체형 구조를 형성하면서 내부식성을 갖는 재질은 SUS 재질인 것이 더욱 바람직하다.As the conductive substrate, a tungsten alloy material such as tungsten or tungsten nitride having high electrical conductivity and excellent durability is preferably used. The plasma electrode included in the plasma electrode module may include a ground part 33 and a fixing part 32. And the discharge portion 31 is preferably an integral structure made of the same material having corrosion resistance, the material having corrosion resistance while forming the integral structure is more preferably made of SUS material.

상기 플라즈마 전극의 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7~8:4~6:1인 것이 바람직하고, 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 높이의 비는 1~2:1:1인 것이 바람직하다.It is preferable that the ratio of the diameter of the ground part 33, the fixed part 32, and the discharge part 31 of the said plasma electrode is 7-8: 4-6: 1, The ground part 33 and the fixed part 32 ) And the height of the discharge portion 31 is preferably 1-2: 1: 1.

상기 전도성 기재는 플레이트 형태 혹은 원주 형태일 수 있으며, 텅스텐 재질이 사용되는 것이 바람직하다.The conductive substrate may be in the form of a plate or cylinder, and tungsten material is preferably used.

다음으로, 플라즈마 수중방전을 이용한 수처리 장치를 포함하는 수처리 시스템에 대해 설명한다. 설명의 편의를 위하여 상술한 수처리 장치(100)를 예로 들어 설명하고, 중복된 부분에 대해서는 설명을 생략하나, 이에 제한되는 것은 아니다.Next, a water treatment system including a water treatment apparatus using plasma underwater discharge will be described. For convenience of description, the above-described water treatment apparatus 100 will be described as an example, and description of the overlapped portions will be omitted, but is not limited thereto.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치가 직렬 연결된 수처리 시스템(200)을 제시하고 있다. 상기 도 6를 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 시스템(200)은 피처리수를 공급하는 피처리수 공급부(110); 및 직렬로 연결된 복수 개의 수처리 장치(100) 및 선택적으로 후속 공정조(120) 혹은 피처리수 저장조;를 포함한다.6 shows a water treatment system 200 in which a water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention is connected in series. Referring to FIG. 6, the water treatment system 200 according to an embodiment of the present invention includes a water treatment unit 110 for supplying water to be treated; And a plurality of water treatment apparatuses 100 connected in series and optionally a subsequent process tank 120 or a water treatment tank.

상기 수처리 장치(100)는, 피처리수가 유입되는 유입구(11)와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구(12)를 구비하는 반응기(10); 반응기(10) 일측에 구비된 접지전극(20); 및 반응기(10) 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극(30);을 포함한다. 상기 플라즈마 전극(30)은 통상적으로 복수개 사용되며, 이들은 플라즈마 전극 모듈(50)의 형태로 반응기(10) 내부에 위치될 수 있다.The water treatment apparatus 100 includes a reactor 10 having an inlet 11 through which the water to be treated is introduced and an outlet 12 through which the purified water is discharged; A ground electrode 20 provided at one side of the reactor 10; And a plasma electrode 30 provided at one side of the reactor 10 to generate plasma. A plurality of plasma electrodes 30 are typically used, and they may be located inside the reactor 10 in the form of a plasma electrode module 50.

수처리 장치는 앞서 도 1 혹은 도 2에서 상술한 수처리 장치(100)를 사용할 수 있고, 피처리수 공급부(110)로부터 공급되는 피처리수를 복수 개의 수처리 장치(100)에 순차적으로 통과시키면서 피처리수를 정화시킬 수 있다. 수처리 장치(100)가 직렬로 연결된 수처리 시스템(200)의 경우, 오염도가 심한 피처리수를 정화하는 데 유용하다. 즉, 내부에 유기물 및 미생물이 많이 존재하여 이어질 후속 처리 공정에서 바이오 파울링 현상을 일으킬 우려가 있는 피처리수를 플라즈마 수중방전을 여러 차례 수행함으로써 피처리수 내의 유기물 및 미생물을 제거할 수 있다.The water treatment apparatus may use the water treatment apparatus 100 described above with reference to FIG. 1 or FIG. 2, and may sequentially process the water to be treated supplied from the water treatment unit 110 through the plurality of water treatment apparatuses 100. Can purify the water. In the case of the water treatment system 200 in which the water treatment apparatus 100 is connected in series, it is useful to purify the treated water having high pollution. That is, the organic matter and microorganisms in the water to be treated may be removed by performing plasma underwater discharge several times on the water to be treated which may cause bio fouling in a subsequent treatment process in which a large amount of organic matter and microorganisms are present therein.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 장치가 병렬 연결된 수처리 시스템(300)이다. 도 7을 참조하여 설명하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 수처리 시스템(300)은 피처리수를 공급하는 피처리수 공급부(110); 및 병렬로 연결된 복수 개의 수처리 장치(100); 및 선택적으로 후속 공정조(120) 혹은 피처리수 저장조;를 포함하고, 상기 수처리 장치(100)는, 피처리수가 유입되는 유입구(11)와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구(12)를 구비하는 반응기(10); 반응기(10) 일측에 구비된 접지전극(20); 및 반응기(10) 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극(30);을 포함한다. 상기 플라즈마 전극(30)은 통상적으로 복수개 사용되며, 이들은 플라즈마 전극 모듈(50)의 형태로 반응기(10) 내부에 위치될 수 있다.7 is a water treatment system 300 connected in parallel with the water treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. Referring to Figure 7, the water treatment system 300 according to an embodiment of the present invention is a water treatment unit 110 for supplying the water to be treated; And a plurality of water treatment devices 100 connected in parallel. And optionally a subsequent process tank 120 or a water treatment tank, wherein the water treatment apparatus 100 includes an inlet 11 through which the water to be treated flows in and an outlet 12 through which the purified water is discharged. A reactor 10; A ground electrode 20 provided at one side of the reactor 10; And a plasma electrode 30 provided at one side of the reactor 10 to generate plasma. A plurality of plasma electrodes 30 are typically used, and they may be located inside the reactor 10 in the form of a plasma electrode module 50.

수처리 장치는 앞서 도 1 혹은 도 2에서 상술한 수처리 장치(100)를 사용할 수 있고, 피처리수 공급부(110)로부터 공급되는 피처리수를 복수 개의 수처리 장치(100)에 분할 공급하여 동시에 통과시키면서 피처리수를 정화시킬 수 있다. 수처리 장치(100)가 병렬로 연결된 수처리 시스템(300)의 경우, 오염도가 심각하지는 않으나, 대용량의 피처리수를 정화하는 데 유용하다.The water treatment apparatus may use the water treatment apparatus 100 described above with reference to FIG. 1 or FIG. 2, while simultaneously supplying the water to be treated supplied from the water treatment unit 110 to the plurality of water treatment apparatuses 100 and simultaneously passing the treated water. The water to be treated can be purified. In the case of the water treatment system 300 in which the water treatment apparatuses 100 are connected in parallel, the pollution degree is not serious, but is useful for purifying a large amount of treated water.

[실시예]EXAMPLE

일 실시예에 따른 수리처용 플라즈마 전극의 방전부 지름에 따른 방전 특성을 확인하기 위해, 접지부, 고정부 및 방전부가 일체의 원주 형태로 형성된 플라즈마 전극을 사용하여 오존(O3)의 생성 정도를 확인하였다.In order to confirm the discharge characteristics according to the diameter of the discharge portion of the repair electrode plasma electrode according to an embodiment, the degree of generation of ozone (O3) by using the plasma electrode formed in the circumferential form of the ground portion, the fixed portion and the discharge portion It was.

접지부와 고정부 및 방전부의 길이를 각각 16mm, 11mm, 11mm로 일정하게 유지한 후, 방전부의 직경을 다양한 범위로 변화시켜 가면서 전류를 가하여 발생되는 오존의 농도를 측정하였다. 전극의 끝부분인 방전부에서 생성되는 플라즈마로 인해 오존이 발생하게 되며, 이러한 오존은 플라즈마 수처리 과정에서 TOC의 감소와 같은 오염물질의 분해에 중요한 영향을 미치게된다.After maintaining the lengths of the ground part, the fixing part, and the discharge part at 16 mm, 11 mm, and 11 mm, respectively, the concentration of ozone generated by applying current while changing the diameter of the discharge part in various ranges was measured. Ozone is generated by the plasma generated at the discharge end of the electrode, and this ozone has an important effect on the decomposition of contaminants such as reduction of TOC during plasma water treatment.

방전부의 지름을 1 내지 4mm의 범위로 변화시켰으며, 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7.5:5:1로 일정하게 유지하였으며, 동일한 전압을 가하여 생성되는 오존의 농도를 측정한 결과는 아래의 표와 같다.The diameter of the discharge portion was varied in the range of 1 to 4 mm, and the ratio of the diameters of the ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 was kept constant at 7.5: 5: 1, and the same voltage The result of measuring the concentration of ozone produced by adding is shown in the table below.

방전부의 지름[mm]Diameter of discharge part [mm] 1One 22 33 44 생성된 O3 농도[ppm]Generated O3 Concentration [ppm] -- 0.060.06 0.070.07 0.00010.0001

상기 표 1의 결과에서 확인되듯이, 방전부의 지름이 너무 낮을 경우에는 플라즈마가 적절하게 형성되지 못하여 오존의 발생이 미미하였음을 알 수 있고, 직경이 너무 커질 경우에는, 방전부 표면에서 균일하게 플라즈마가 발생하지 못하여 전체적으로 발생되는 오존의 양이 감소하는 것을 확인할 수 있었다.As shown in the results of Table 1, when the diameter of the discharge portion is too low, it can be seen that the generation of ozone is insignificant because the plasma is not formed properly, and when the diameter is too large, uniformly on the surface of the discharge portion It was confirmed that the amount of ozone generated as a whole was reduced because no plasma was generated.

본 명세서에서는 본 발명자들이 수행한 다양한 실시예 가운데 몇 개의 예만을 들어 설명하는 것이나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고, 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.In the present specification, only a few examples of various embodiments performed by the present inventors are described, but the technical idea of the present invention is not limited thereto, but may be variously modified and implemented by those skilled in the art.

10 : 반응기 11 : 유입구
12 : 배출구 20 : 접지전극
30 : 플라즈마 전극 31 : 방전부
32 : 고정부 33 : 접지부
40 : 거리 조절부 50 : 플라즈마 전극 모듈
100 : 수처리 장치 110 : 피처리수 공급부
200, 300 : 수처리 시스템
10 reactor 11 inlet
12 outlet 20 20 electrode
30 plasma electrode 31 discharge part
32: fixing part 33: grounding part
40: distance control unit 50: plasma electrode module
100: water treatment device 110: treated water supply unit
200, 300: water treatment system

Claims (17)

원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖고,
상기 접지부(33)는 전극과 접촉되고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생되며,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖도록 동일한 재질인 SUS로 원기둥의 일체형 구조를 갖되, 상부에 위치하는 방전부(31)의 직경이 가장 짧고, 하부에 위치하는 접지부(33)의 직경이 가장 길며,
상기 방전부(31)의 지름은 1mm를 초과하고, 4mm 미만인 것을 특징으로 하는, 수처리용 플라즈마 전극.
It has a multi-stage structure in which the ground portion 33, the fixed portion 32 and the discharge portion 31, which have a circumferential shape, are sequentially stacked.
The ground portion 33 is in contact with the electrode, the plasma is generated in the discharge portion 31,
The ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 has a single-piece structure of a cylinder made of SUS of the same material to have corrosion resistance, the diameter of the discharge portion 31 is located at the top, the shortest, The diameter of the ground portion 33 is located at the bottom is the longest,
The diameter of the discharge portion 31 is greater than 1mm, characterized in that less than 4mm, plasma electrode for water treatment.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7~8:4~6:1인 것을 특징으로 하는 수처리용 플라즈마 전극.
The method of claim 1,
The ratio of the diameters of the ground part 33, the fixing part 32 and the discharge part 31 is 7-8: 4-6: 1, characterized in that the plasma electrode for water treatment.
제1항에 있어서,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 높이의 비는 1~2:1:1인 것을 특징으로 하는, 수처리용 플라즈마 전극.
The method of claim 1,
The ratio of the heights of the ground portion (33), the fixing portion (32) and the discharge portion (31) is 1 to 2: 1: 1, characterized in that the plasma electrode for water treatment.
삭제delete 복수개의 홀이 형성된 텅스텐 기재;
상기 홀을 제외한 텅스텐 기재의 외주부를 둘러싸는 세라믹 층; 및
상기 홀 안쪽에 위치하되, 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖는 플라즈마 전극;을 포함하고,
상기 접지부(33)는 텅스텐 기재와 접촉하고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생되며,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖도록 동일한 재질인 SUS로 원기둥의 일체형 구조를 갖되, 상부에 위치하는 방전부(31)의 직경이 가장 짧고, 하부에 위치하는 접지부(33)의 직경이 가장 길며,
상기 방전부(31)의 지름은 1mm를 초과하고, 4mm 미만인 것을 특징으로 하는, 수처리용 플라즈마 전극 모듈.
A tungsten substrate having a plurality of holes formed therein;
A ceramic layer surrounding the outer circumference of the tungsten base except for the hole; And
A plasma electrode having a multi-stage structure, which is located inside the hole and has a circumferential ground portion 33, a fixing portion 32, and a discharge portion 31 sequentially stacked;
The ground portion 33 is in contact with the tungsten substrate, the plasma is generated in the discharge portion 31,
The ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 has a single-piece structure of a cylinder made of SUS of the same material to have corrosion resistance, the diameter of the discharge portion 31 located on the top is the shortest, The diameter of the ground portion 33 is located at the bottom is the longest,
The diameter of the discharge portion 31 is greater than 1mm, characterized in that less than 4mm, plasma electrode module for water treatment.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 직경의 비는 7~8:4~6:1인 것을 특징으로 하는 수처리용 플라즈마 전극 모듈.
The method of claim 6,
The ratio of the diameters of the ground portion (33), the fixing portion (32) and the discharge portion (31) is 7-8: 4-6: characterized in that the plasma electrode module for treatment.
제6항에 있어서,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)의 높이의 비는 1~2:1:1인 것을 특징으로 하는, 수처리용 플라즈마 전극 모듈.
The method of claim 6,
The ratio of the heights of the ground portion (33), the fixing portion (32) and the discharge portion (31) is characterized in that 1 ~ 2: 1: 1, plasma electrode module for water treatment.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 텅스텐 기재는, 플레이트 형태 혹은 원주 형태인 것을 특징으로 하는, 수처리용 플라즈마 전극 모듈.
The method of claim 6,
The tungsten substrate is in the form of a plate or columnar, plasma electrode module for water treatment.
피처리수가 유입되는 유입구와 정화된 피처리수가 배출되는 배출구를 구비하는 반응기;
반응기 일측에 구비된 접지전극; 및
반응기 일측에 구비되고, 플라즈마를 발생시키는 플라즈마 전극 모듈;을 포함하고,
상기 플라즈마 전극 모듈은, 복수개의 홀이 형성된 텅스텐 기재; 상기 홀을 제외한 텅스텐 기재의 외주부를 둘러싸는 세라믹 층; 및 상기 홀 안쪽에 위치하되, 원주 형태를 갖는 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)가 차례로 적층된 다단구조를 갖는 플라즈마 전극;을 포함하며,
상기 접지부(33)는 텅스텐 기재와 접촉하고, 상기 방전부(31)에서 플라즈마가 발생되고,
상기 접지부(33), 고정부(32) 및 방전부(31)는 내부식성을 갖도록 동일한 재질인 SUS로 원기둥의 일체형 구조를 갖되, 상부에 위치하는 방전부(31)의 직경이 가장 짧고, 하부에 위치하는 접지부(33)의 직경이 가장 길며,
상기 방전부(31)의 지름은 1mm를 초과하고, 4mm 미만인 것을 특징으로 하는, 수처리 장치
A reactor having an inlet through which the water to be treated is introduced and an outlet through which the purified water is discharged;
A ground electrode provided at one side of the reactor; And
Includes; is provided on one side of the reactor, the plasma electrode module for generating a plasma,
The plasma electrode module may include a tungsten base having a plurality of holes formed therein; A ceramic layer surrounding the outer circumference of the tungsten base except for the hole; And a plasma electrode positioned inside the hole and having a multi-stage structure in which a ground part 33 having a circumferential shape, a fixing part 32, and a discharge part 31 are sequentially stacked.
The ground portion 33 is in contact with the tungsten substrate, the plasma is generated in the discharge portion 31,
The ground portion 33, the fixing portion 32 and the discharge portion 31 has a single-piece structure of a cylinder made of SUS of the same material to have corrosion resistance, the diameter of the discharge portion 31 located on the top is the shortest, The diameter of the ground portion 33 is located at the bottom is the longest,
The diameter of the discharge portion 31 is greater than 1mm, characterized in that less than 4mm, water treatment apparatus
제12항에 있어서,
상기 반응기에는, 유입구와 배출구가 같은 사이드에 구비되는 것을 특징으로 하는, 수처리 장치.
The method of claim 12,
The reactor is characterized in that the inlet and outlet are provided on the same side, water treatment apparatus.
제12항에 있어서,
상기 반응기에는, 유입구, 배출구 및 접지전극이 같은 사이드에 구비되는 것을 특징으로 하는, 수처리 장치.
The method of claim 12,
The reactor, characterized in that the inlet, outlet and ground electrode is provided on the same side, water treatment apparatus.
제12항에 있어서,
상기 반응기에는, 접지전극과 플라즈마 전극 모듈이 대향되도록 설치된 것을 특징으로 하는, 수처리 장치.
The method of claim 12,
The reactor, characterized in that the ground electrode and the plasma electrode module is installed so as to face, water treatment apparatus.
제12항에 있어서,
상기 반응기에는, 접지전극과 플라즈마 전극 모듈 사이의 거리를 조절할 수 있는 거리 조절부;가 추가로 더 구비되는 것을 특징으로 하는, 수처리 장치.
The method of claim 12,
The reactor, the water treatment device, characterized in that further provided; a distance adjusting unit for adjusting the distance between the ground electrode and the plasma electrode module.
제12항에 있어서,
상기 접지전극은, 플레이트 형상인 것을 특징으로 하는, 수처리 장치.
The method of claim 12,
The ground electrode is a water treatment device, characterized in that the plate shape.
KR1020170164064A 2017-07-14 2017-12-01 Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same KR102044024B1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170164064A KR102044024B1 (en) 2017-12-01 2017-12-01 Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same
US16/030,790 US10822255B2 (en) 2017-07-14 2018-07-09 Water treatment apparatus using underwater plasma discharge and water treatment system including same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170164064A KR102044024B1 (en) 2017-12-01 2017-12-01 Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190141123A Division KR102130302B1 (en) 2019-11-06 2019-11-06 Water treatment apparatus system containing plasma electrode module

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190064827A KR20190064827A (en) 2019-06-11
KR102044024B1 true KR102044024B1 (en) 2019-11-12

Family

ID=66847304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170164064A KR102044024B1 (en) 2017-07-14 2017-12-01 Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102044024B1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210117374A (en) 2020-03-18 2021-09-29 이충규 Plasma reactor for water treatment
KR20210158009A (en) 2020-06-23 2021-12-30 두산중공업 주식회사 Water pretreatment apparatus of filter unit including submerged type plasma apparatus

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101579349B1 (en) * 2013-08-09 2015-12-22 제주대학교 산학협력단 Water treatment apparatus using plasma-membrane and method using the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR0174364B1 (en) 1996-11-19 1999-02-01 정용 Method and apparatus for removing algae
KR200212210Y1 (en) 2000-07-26 2001-02-15 에스아이비주식회사 A Water Treatment System using Dissolved Air Floatation
JP4421874B2 (en) * 2003-10-31 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 Plasma processing apparatus and plasma processing method
KR20090110060A (en) * 2008-04-17 2009-10-21 주식회사 에스디알앤디 Underwater plasma producing apparatus and method using thereof
KR20160062685A (en) * 2014-11-24 2016-06-02 코웨이 주식회사 A sterilized water creation device and bidet having the same
KR101810926B1 (en) * 2015-08-19 2017-12-20 한국전자통신연구원 Apparatus for Generating Plasma and Method for Supplying Plasma using the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101579349B1 (en) * 2013-08-09 2015-12-22 제주대학교 산학협력단 Water treatment apparatus using plasma-membrane and method using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210117374A (en) 2020-03-18 2021-09-29 이충규 Plasma reactor for water treatment
KR20210158009A (en) 2020-06-23 2021-12-30 두산중공업 주식회사 Water pretreatment apparatus of filter unit including submerged type plasma apparatus
US11554974B2 (en) 2020-06-23 2023-01-17 Doosan Enerbility Co., Ltd. Membrane separation pretreatment apparatus including underwater plasma discharge unit

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190064827A (en) 2019-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102130302B1 (en) Water treatment apparatus system containing plasma electrode module
US8313657B1 (en) Method and system for removal of ammonia from wastewater by electrolysis
KR101977787B1 (en) Filtering Apparatus Containing Floating Media and Filtering Method
JP2009119347A (en) Water treatment apparatus
KR102044024B1 (en) Plasma electrode, plasma electrode module and water treatment apparatus containing the same
KR102012967B1 (en) Water treatment apparatus using plasma underwater discharge and water treatment system comprising the same
US10822255B2 (en) Water treatment apparatus using underwater plasma discharge and water treatment system including same
KR101303832B1 (en) Discharging system of high-voltage for removing scum
KR101929244B1 (en) Water treatment apparatus using plasma underwater discharge and water treatment system comprising the same
KR200186341Y1 (en) High density plasma device coupled with ultrasonic wave and high frequency pulse for waste water treatment
KR101087061B1 (en) Plasma discharge apparatus in liquid medium
KR20010025927A (en) High Density Plasma Method and its Device Coupled with Ultrasonic Wave and High Frequency Pulse for Waste Water Treatment
KR102024927B1 (en) Backwashing system with concentrated brine and backwashing method therewith
KR101418385B1 (en) Purification processing system of waste-water using high voltage dischare and minuteness bubble
KR101444290B1 (en) Wastewater purification apparatus using the magnetic resonance device
KR101051798B1 (en) Waste water treatment apparatus using microbubbles
KR101661124B1 (en) Liquid processing device using plasma
WO2012134350A1 (en) Device for removing organic and chemical microbic pollutants from water
KR102529934B1 (en) Water pretreatment apparatus of filter unit including submerged type plasma apparatus
US11970412B2 (en) Underwater plasma discharge device and water treatment system using same
KR20110045847A (en) Water treatment apparatus for mitigation of biofouling
RU156243U1 (en) DEVICE FOR CLEANING CONTAMINATED WATER
US11548799B2 (en) System and method for water treatment with pulsed electric fields
JP2013031802A (en) Water treatment device
KR102143003B1 (en) Mobile ballast water treatment apparatus using plasma underwater discharge and water treatment system comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
A107 Divisional application of patent
GRNT Written decision to grant