KR102039358B1 - 플라즈마 피부 처리 장치 - Google Patents

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KR102039358B1
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맹찬호
곽선호
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서길성
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Abstract

본 발명은, 대면적 영역의 처리가 가능한 플라즈마 피부 처리 장치를 제공한다. 본 발명의 일실시예에 따른 플라즈마 피부 처리 장치는 제1 면과 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 포함하는 유전층; 상기 제1 면 상에 배치되고, 전압이 인가되는 제1 전극; 상기 제1 면 상에 상기 제1 전극과 이격되어 배치되고, 접지된 제2 전극;을 포함하고, 추가적인 가스 공급 없이 공기 중의 질소나 산소를 이용하고 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이의 전압 차이에 의한 유전 분극으로 상기 유전층의 상기 제2 면 상에서 플라즈마가 형성되고, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 방전 전압 조절층을 더 포함하며, 상기 방전 전압 조절층은 유전체 표면에 방전 전압을 낮추기 위하여 2차 전자 발생 물질인 ZnO2 또는 은(Ag)을 포함한다.

Description

플라즈마 피부 처리 장치{Plasma skin treating apparatus}
본 발명의 기술적 사상은 피부 처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 유전체 장벽 방전을 이용한 플라즈마 피부 처리 장치에 관한 것이다.
플라즈마는 전자, 이온, 중성 원자 및 분자로 이루어져 있으며, 중성 기체에 이온화 에너지 이상의 충분한 에너지가 인가되면 이온화 중성 분자에서 전자가 분리되어 이온과 전자로 된다 이러한 상태가 플라즈마 상태이다. 플라즈마 내부에는 양전하, 음전하가 거의 같은 양으로 혼재하여 자유 입자에 가까운 브라운 운동을 하면서도 전체적으로는 전기적으로 중성을 유지하고 있다 그러나 전자와 이온은 전기적 성질을 띄기 때문에 전기장이나 자기장에 의에 영향을 받는다. 따라서 전기적으로 이온화된 전도성 가스종이라 지칭된다. 플라즈마를 열평형 정도에 의해서 구분하여, 열평형, 유사 열평형(quasi thermal equilibrium, QTE)과 비국부 열평형(non-TE)으로 나눌 수 있고, 일반적으로 전자를 열 플라즈마, 후자를 저온 플라즈마라고 한다.
피부 처리 장치와 같은 생체에 플라즈마를 적용하기 위하여는 60℃ 이하의 온도를 발생하는 저온 플라즈마 및 대기압 환경에서 작동하는 대기압 플라즈마가 필수적이다. 최근에는, 생체 의학 분야에서 대기압 플라즈마 제트 장치가 많이 연구되고 있다. 그러나, 이러한 플라즈마 제트 장치는 대부분 침 형태의 바늘 전극 구조를 가지므로 매우 작은 영역에 대하여만 플라즈마 처리가 가능하다. 따라서, 대면적 영역의 처리가 가능한 피부 처리용 플라즈마 장치가 요구되고 있다.
한국특허공개번호 제10-2017-0004059호
본 발명의 기술적 사상이 이루고자 하는 기술적 과제는 대면적 영역의 처리가 가능한 플라즈마 피부 처리 장치를 제공하는 것이다.
그러나 이러한 과제는 예시적인 것으로, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 피부 처리 장치는 제1 면과 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 포함하는 유전층; 상기 제1 면 상에 배치되고, 전압이 인가되는 제1 전극; 상기 제1 면 상에 상기 제1 전극과 이격되어 배치되고, 접지된 제2 전극;을 포함하고, 추가적인 가스 공급 없이 공기 중의 질소나 산소를 이용하고 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이의 전압 차이에 의한 유전 분극으로 상기 유전층의 상기 제2 면 상에서 플라즈마가 형성된다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 방전 전압 조절층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 방전 전압 조절층은 ZnO2 또는 은(Ag)을 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 파장 선택층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 파장 선택층은 염료 또는 형광물질을 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 방전 전압 조절층 및 상기 방전 전압 조절층 상에 배치된 파장 선택층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 파장 선택층 및 상기 파장 선택층 상에 배치된 방전 전압 조절층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 간격 유지층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 유전층의 상기 제1 면 상에 배치되고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 전기적으로 절연시키는 절연층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극에 전압을 인가하는 전원부를 더 포함할 수 있다. 상기 전원부는 직류 전력, 교류 전력, RF 전력, 또는 펄스 전력을 제공할 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 서로 교번하여 배치될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극은 제1 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장되고, 상기 제2 전극은 상기 제1 회전방향과는 역방향인 제2 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장되어 상기 제1 전극 사이에 이격되어 배치될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각각 곡선형으로 연장될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각각 직선형으로 연장될 수 있다.
본 발명의 일부 실시예들에 있어서, 상기 제1 전극은 제1 합체부와 상기 제1 합체부로부터 분화되어 연장된 복수의 제1 연장부들을 포함하고, 상기 제2 전극은 제2 합체부와 상기 제2 합체부로부터 분화되어 연장된 복수의 제2 연장부들을 포함하고, 상기 제1 연장부들과 상기 제2 연장부들은 서로 이격되어 교번하여 배치될 수 있다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 피부 처리 장치는 유전체 장벽 방전을 이용하여 대기압에서 저온 플라즈마를 발생시킬 수 있다. 상기 플라즈마 피부 처리 장치는 별도의 가스 주입 장치가 필요없고, 플라즈마 발생부의 면적을 증가된 효과를 제공할 수 있다.
상술한 본 발명의 효과들은 예시적으로 기재되었고, 이러한 효과들에 의해 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 피부 처리 장치를 도시하는 단면도이다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 피부 처리 장치의 전극 배치를 도시하는 개략도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 기술적 사상을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 하기 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하고, 당업자에게 본 발명의 기술적 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다. 본 명세서에서 동일한 부호는 시종 동일한 요소를 의미한다. 나아가, 도면에서의 다양한 요소와 영역은 개략적으로 그려진 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 사상은 첨부한 도면에 그려진 상대적인 크기나 간격에 의해 제한되지 않는다.
피부 처리 또는 피부 치료에 대기압 플라즈마를 사용하기 위하여는 플라즈마 환경의 온도가 60℃ 이하로 낮게 유지될 필요가 있다. 현재 일반적으로 사용되는 대기압 플라즈마 장치 중에 플라즈마 제트 장치가 있다. 이러한 플라즈마 제트는 외부로부터 가스를 주입할 필요가 있으므로, 별도의 가스 주입장치가 필요하여 장치가 복잡하게 된다. 또한, 플라즈마 제트에 의하여 생성되는 플라즈마는 수 mm 이하 수준의 단면적을 가지므로, 빠른 시간에 넓은 피부 면적을 처리하기에는 한계가 있다.
본 발명의 기술적 사상은, 종래의 플라즈마 제트 장치에서, 외부 가스 주입 및 제한적인 플라즈마 단면적의 한계를 극복하기 위하여, 유전체 장벽 방전(Dielectric Barrier Discharge, DBD) 원리를 이용하여, 대기압 플라즈마를 생성하며, 외부 가스 주입이 필요 없고, 플라즈마 생성 면적을 넓게 할 수 있다.
생체 의학 분야에서는, 플라즈마를 살균과 멸균을 목적으로 많이 사용할 수 있다. 예를 들어 산소 라디칼을 포함하는 플라즈마를 이용하여 치아 미백과 병원균 파괴, 혈액 응고 등으로 활용이 연구되고 있다. 이러한 생체 의학 분야에서는 플라즈마 장치의 소형화와 제어의 용이성, 인체에 대한 안정성 확보가 주요한 연구 분야이다.
플라즈마를 생체의 세포나 인체에 직접 적용하기 위하여 전기적인 충격에 대한 안정성 확보가 필요하다. 그러므로, 안정성 확보를 위해서는 고전압의 전극이 시료 및 인체에 직접 접촉하지 않을 필요가 있다. 이를 위하여, 전극에 인가되는 구동 전압을 효율적으로 낮게 하고, 플라즈마 전류량을 예를 들어 1 mA 내지 2 mA의 작은 값으로 제어하여 생체에 대한 전기적인 충격을 감소시킬 필요가 있다. 인체가 감지할 수 있는 최소 전류는 60 Hz 상용 주파수 교류에서 성인 남자를 기준으로는 약 1 mA이며, 주파수의 증가에 따라 감지 전류는 증가하게 된다. 또한, 고통을 느끼게 되는 전류량은 7 mA 내지 8 mA이며, 그 이상의 높은 전류는 전기적 뿐만 아니라 열적으로도 위험하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 피부 처리 장치(100)를 도시하는 단면도이다.
도 1을 참조하면, 플라즈마 피부 처리 장치(100)는 유전층(110), 제1 전극(120), 제2 전극(130), 방전 전압 조절층(140), 파장 선택층(150), 간격 유지층(160), 절연층(170), 및 전원부(180)를 포함한다.
유전층(110)은 제1 면(112)과 제1 면(112)과 대향하는 제2 면(114)을 포함한다. 유전층(110)은 유전 분극 현상을 발생시킬 수 있는 다양한 유전체 물질을 포함할 수 있고, 예를 들어 석영, 사파이어, 유리, 세라믹, 고분자필름, 실리콘, PEI (Polyetherimide), 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 또한, 유전체층(110)은, 예를 들어 2 내지 18 범위의 상대 유전율을 가질 수 있다.
제1 전극(120)은 제1 면(112) 상에 배치되고, 전원부(180)로부터 전압이 인가될 수 있다. 상기 전압은 양의 전압일 수 있다. 제2 전극(130)은 제1 면(112) 상에 제1 전극(120)과 이격되어 배치되고, 접지(190)에 접지될 수 있다. 제1 전극(120)은 전압 인가 전극으로 기능하고, 제2 전극(130)은 접지 전극으로 기능할 수 있다. 제1 전극(120)과 제2 전극(130) 사이의 전압 차이에 의한 유전 분극으로 유전층(110)의 제2 면(114) 상에서 플라즈마가 형성될 수 있다. 제1 전극(120)과 제2 전극(130)은 도전체를 포함할 수 있고, 예를 들어 금속 또는 탄소 물질을 포함할 수 있다. 제1 전극(120)과 제2 전극(130)은, 예를 들어 구리, 알루미늄, 금, 은, 철, 몰리브텐, 망간, 또는 이들의 합금을 포함할 수 있다.
방전 전압 조절층(140)은 유전층(110)의 제2 면(114) 상에 배치될 수 있다. 방전 전압 조절층(140)은 방전 전압을 낮출 수 있고, 2차 전자(secondary electrons) 형성을 보조할 수 있다. 방전 전압 조절층(140)은 MgO, ZnO2 또는 은(Ag)을 포함할 수 있다.
파장 선택층(150)은 유전층(110)의 제2 면(114) 상에 배치될 수 있다. 파장 선택층(150)은 원하는 파장의 플라즈마를 형성할 수 있다. 파장 선택층(150)은 염료 또는 형광물질을 포함할 수 있다.
유전층(110)의 제2 면(114) 상에 방전 전압 조절층(140)이 배치되고, 방전 전압 조절층(140) 상에 파장 선택층(150)이 배치될 수 있다. 또한, 유전층(110)의 제2 면(114) 상에 파장 선택층(150)이 배치되고, 파장 선택층(150) 상에 방전 전압 조절층(140)이 배치될 수 있다. 또한, 유전체층(110)의 제2 면(114) 상에 다른 층을 더 포함하는 경우도 본 발명의 기술적 사상에 포함된다.
간격 유지층(160)은 유전층(110)의 제2 면(114) 상에 가장 외측에 노출된 표면 상에 배치될 수 있다. 예를 들어, 간격 유지층(160)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 가장 외측에 배치된 파장 선택층(150) 상에 배치될 수 있다. 또는, 간격 유지층(160)은 가장 외측에 배치된 방전 전압 조절층(140) 상에 배치될 수 있다. 간격 유지층(160)은 대상물, 예를 들어 피부와 직접적으로 접촉하여, 플라즈마 피부 처리 장치(100)의 다른 구성요소가 상기 대상물과 직접적으로 접촉되지 않고 일정한 간격을 유지하도록 이격시켜 이격 공간을 형성하고, 상기 이격 공간에 플라즈마가 형성되게 할 수 있다. 따라서, 플라즈마의 활성 영역을 일정하게 유지시킬 수 있으므로 플라즈마가 대상물의 표면에 균일하게 분포될 수 있고, 외부로의 누출을 방지할 수 있다.
절연층(170)은 유전층(110)의 제1 면(112) 상에 배치되고, 제1 전극(120)과 제2 전극(130)을 덮어씌워 전기적으로 절연시킨다. 이러한 절연에 의하여 제1 전극(120)과 제2 전극(130) 사이의 제1 면(112)에서의 방전을 방지할 수 있다. 절연층(170)은 다양한 절연체 물질을 포함할 수 있고, 예를 들어 고분자 물질, 세라믹 페이스트, 실리콘, 고무 등을 포함할 수 있다.
전원부(180)는 제1 전극(120)에 전압을 인가할 수 있다. 상기 전압은 양의 전압일 수 있다. 전원부(180)는 직류, 교류, 라디오 주파수(Radio Frequency), 마이크로웨이브, 펄스파 또는 이들의 조합으로 구성된 전력을 제공할 수 있다. 전원부(180)는 수십 kHz 내지 수백 kHz 수준의 저주파를 사용할 수 있고, 또는 수 MHz 내지 수 GHz 수준의 고주파를 사용할 수 있다. 응용 분야에 따라 소비전력은 달라질 수 있고, 예를 들어 생체 의학 분야에서는 대략 100 W 이하의 소비전력을 사용할 수 있다. 전원부(180)는, 예를 들어 50 Hz 또는 60 Hz 주파수의 110 V 또는 220 V의 전원을 사용할 수 있고, 또는 휴대용 건전지의 전원으로 3V 내지 24 V의 전원을 사용할 수 있다.
본 발명의 기술적 사상은 각각의 구성요소를 형성하는 상술한 물질들에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 피부 처리 장치(100)에서는, 유전층(110)을 유전체 장벽으로서 사용하여 유전체 장벽 방전(Dielectric barrier discharge)의 원리에 의하여 플라즈마를 발생시킨다. 유전층(110)의 일측에 서로 절연되어 배치된 제1 전극(120)과 제2 전극(130)에 높은 전압을 인가함에 의하여, 유전층(110)에 의하여 분리된 유전층(110)의 타측에 유전 분극 현상에 기인하여 플라즈마를 발생시킨다.
본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 피부 처리 장치(100)는 이러한 유전체 장벽 방전을 이용함에 따라 비열 플라즈마 또는 저온 플라즈마 발생에 용이하며, 균일한 플라즈마를 형성할 수 있으므로, 열에 의한 피부 조직 손상을 일으키지 않고 혈액 응고를 촉진하며, 살균, 소독, 조직의 재 연결, 및 조직 장애의 치료를 위해 사용될 수 있다. 또한, 피부 표면을 플라즈마 처리함에 따라 접촉각을 감소시켜 피부에 접촉하는 약제 등을 넓게 펼쳐지게 할 수 있다.
또한, 본 발명의 기술적 사상에 따른 플라즈마 피부 처리 장치(100)는 통상적인 코로나 방전에서 쉽게 발생하는 아크 방전 발생의 문제점을 해결할 수 있다. 또한, 추가적인 가스 공급 없이 공기 중의 질소나 산소를 이용하여 플라즈마를 발생시키므로, 장치의 간소화 및 비용을 절감할 수 있다.
이하에서는, 제1 전극(120)과 제2 전극(130)의 배치에 대하여 상세하게 설명하기로 한다.
도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 피부 처리 장치의 전극 배치를 도시하는 개략도이다.
도 2를 참조하면, 제1 전극(120a)과 제2 전극(130a)은 서로 교번하여 배치될 수 있다. 제1 전극(120a)은 제1 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장될 수 있다. 제2 전극(130a)은 상기 제1 회전방향과는 역방향인 제2 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장될 수 있다. 또한, 제2 전극(130a)은 제1 전극(120a) 사이에 이격되어 배치될 수 있다. 제1 전극(120a)과 제2 전극(130a)은 원형 형상, 타원형 형상 또는 다양한 곡선형 형상으로 감기도록 연장될 수 있다.
도 3을 참조하면, 제1 전극(120b)과 제2 전극(130b)은 서로 교번하여 배치될 수 있다. 제1 전극(120b)은 제1 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장될 수 있다. 제2 전극(130b)은 상기 제1 회전방향과는 역방향인 제2 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장될 수 있다. 또한, 제2 전극(130b)은 제1 전극(120b) 사이에 이격되어 배치될 수 있다. 제1 전극(120a)과 제2 전극(130b)은 직선형으로 연장될 수 있고, 예를 들어 삼각형 형상, 사각형 형상 또는 다양한 다각형 형상으로 감기도록 연장될 수 있다.
도 4를 참조하면, 제1 전극(120c)과 제2 전극(130c)은 서로 교번하여 배치될 수 있다. 제1 전극(120c)은 제1 합체부(122c)와 제1 합체부(122c)로부터 분화되어 연장된 복수의 제1 연장부들(124c)을 포함할 수 있다. 제2 전극(130c)은 제2 합체부(132c)와 제2 합체부(132c)로부터 분화되어 연장된 복수의 제2 연장부들(134c)을 포함할 수 있다. 제1 연장부들(124c)과 제2 연장부들(134c)은 서로 이격되어 교번하여 배치될 수 있다.
도 2 내지 도 4를 참조하여 설명한 바와 같이, 제1 전극(120)과 제2 전극(130)이 다양한 방식으로 교번하여 배치됨으로서, 넓은 면적에 플라즈마를 균일하게 형성할 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명의 기술적 사상이 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은, 본 발명의 기술적 사상이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
본 발명은 피부 처리 장치에 관한 산업에 이용할 수 있다.
100: 플라즈마 피부 처리 장치,
110: 유전체층,
112: 제1 면,
114: 제2 면,
120, 120a, 120b, 120c: 제1 전극,
122c: 제1 합체부,
124c: 제1 연장부들,
130, 130a, 130b, 130c: 제2 전극,
132c: 제2 합체부,
134c: 제2 연장부들,
140: 방전 전압 조절층,
150: 파장 선택층,
160: 간격 유지층,
170: 절연층,
180: 전원부,
190: 접지

Claims (15)

  1. 제1 면과 상기 제1 면과 대향하는 제2 면을 포함하는 유전층;
    상기 제1 면 상에 배치되고, 전압이 인가되는 제1 전극;
    상기 제1 면 상에 상기 제1 전극과 이격되어 배치되고, 접지된 제2 전극;
    을 포함하고,
    추가적인 가스 공급 없이 공기 중의 질소나 산소를 이용하고 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이의 전압 차이에 의한 유전 분극으로 상기 유전층의 상기 제2 면 상에서 플라즈마가 형성되고,
    상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 방전 전압 조절층을 더 포함하며,
    상기 방전 전압 조절층은 유전체 표면에 방전 전압을 낮추기 위하여 2차 전자 발생 물질인 ZnO2 또는 은(Ag)을 포함하는,
    플라즈마 피부 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전층의 상기 제2 면 상에 배치된 간격 유지층을 더 포함하는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 유전층의 상기 제1 면 상에 배치되고, 상기 제1 전극과 상기 제2 전극을 전기적으로 절연시키는 절연층을 더 포함하는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극에 전압을 인가하는 전원부를 더 포함하고,
    상기 전원부는 직류 전력, 교류 전력, RF 전력, 또는 펄스 전력을 제공하는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 서로 교번하여 배치된, 플라즈마 피부 처리 장치.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극은 제1 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장되고,
    상기 제2 전극은 상기 제1 회전방향과는 역방향인 제2 회전방향으로 내측으로 감기도록 연장되어 상기 제1 전극 사이에 이격되어 배치되는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각각 곡선형으로 연장되는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 각각 직선형으로 연장되는, 플라즈마 피부 처리 장치.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1 전극은 제1 합체부와 상기 제1 합체부로부터 분화되어 연장된 복수의 제1 연장부들을 포함하고,
    상기 제2 전극은 제2 합체부와 상기 제2 합체부로부터 분화되어 연장된 복수의 제2 연장부들을 포함하고,
    상기 제1 연장부들과 상기 제2 연장부들은 서로 이격되어 교번하여 배치된, 플라즈마 피부 처리 장치.
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