KR102022434B1 - 리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법 - Google Patents

리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR102022434B1
KR102022434B1 KR1020187021720A KR20187021720A KR102022434B1 KR 102022434 B1 KR102022434 B1 KR 102022434B1 KR 1020187021720 A KR1020187021720 A KR 1020187021720A KR 20187021720 A KR20187021720 A KR 20187021720A KR 102022434 B1 KR102022434 B1 KR 102022434B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
value
module
time base
time
synchronization
Prior art date
Application number
KR1020187021720A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20180093081A (ko
Inventor
헤레 트제르크 스틴스트라
Original Assignee
에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. filed Critical 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
Publication of KR20180093081A publication Critical patent/KR20180093081A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102022434B1 publication Critical patent/KR102022434B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04J—MULTIPLEX COMMUNICATION
    • H04J3/00—Time-division multiplex systems
    • H04J3/02—Details
    • H04J3/06—Synchronising arrangements
    • H04J3/0635—Clock or time synchronisation in a network
    • H04J3/0638—Clock or time synchronisation among nodes; Internode synchronisation
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00—Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/04—Generating or distributing clock signals or signals derived directly therefrom
    • G06F1/14—Time supervision arrangements, e.g. real time clock
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H01J37/243—Beam current control or regulation circuits
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
    • G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F13/00—Interconnection of, or transfer of information or other signals between, memories, input/output devices or central processing units
    • G06F13/38—Information transfer, e.g. on bus
    • G06F13/40—Bus structure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/045—Beam blanking or chopping, i.e. arrangements for momentarily interrupting exposure to the discharge
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H01J37/3023—Programme control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04L—TRANSMISSION OF DIGITAL INFORMATION, e.g. TELEGRAPHIC COMMUNICATION
    • H04L7/00—Arrangements for synchronising receiver with transmitter
    • H04L7/0008—Synchronisation information channels, e.g. clock distribution lines
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/304—Controlling tubes
    • H01J2237/30472—Controlling the beam
    • H01J2237/30483—Scanning
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31761—Patterning strategy
    • H01J2237/31762—Computer and memory organisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31761—Patterning strategy
    • H01J2237/31766—Continuous moving of wafer
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법으로서, 방법은 클록 신호(402, 116)를 생성하는 단계, 클록 신호(116)에 기반하여 제1 모듈(120)의 제2 시간 베이스(403)를 생성하는 단계, 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값(405)을 결정하는 단계, 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값(406)을 결정하는 단계, 제1 동기화 값 및 제1 시간 베이스의 시작 시간 값에 기반하여 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값(410)을 결정하는 단계, 및 시작 트리거 값 및 제1 모듈의 제2 시간 베이스의 현재 값에 기반하여 제1 모듈(120)의 제1 동작(411)을 초기화하는 단계를 포함한다.

Description

리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법
[0001] 본 발명은 일반적으로 시스템의 모듈들에서 동작들을 초기화하기 위한 방법 및 시스템, 그리고 더 구체적으로 시스템, 이를테면 하전 입자 리소그래피(charged particle lithography) 시스템의 2 또는 그 초과의 모듈들에서 동작들의 초기화를 동기화하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다.
[0002] 하전 입자 리소그래피 장치는 통상적으로 개별 동작들을 수행하기 위한 몇몇 모듈들을 포함한다. 모듈들은 예컨대 하전 입자 빔 소스를 포함하는 조명 광학기기 모듈, 애퍼처(aperture) 어레이 모듈, 빔릿 블랭커(beamlet blanker) 어레이를 포함하는 빔 스위칭 모듈, 패턴 데이터 스트리밍 모듈, 빔 편향기 어레이 및 투사 렌즈 어레이들을 포함할 수 있는 투사 광학기기 모듈, 및 웨이퍼를 운반하는 이동가능 웨이퍼 스테이지를 제어하기 위한 스테이지 제어 모듈을 포함한다.
[0003] 리소그래피 장치의 모듈들 또는 서브시스템들은 개별 모듈들에 송신되는 명령들에 따라 개별 동작들을 수행한다. 이들 명령들은 모듈의 식별자 또는 어드레스, 모듈에 의해 수행될 동작의 표시, 및 모듈이 동작의 수행을 시작하는 시작 시간을 포함할 수 있다.
[0004] 상이한 모듈들에 의해 수행되는 동작들은 종종 서로 동기화되어야 하는데, 예컨대 하전 입자 빔릿들의 변조는 웨이퍼의 표면을 가로지른 빔릿들의 스캐닝과 동기화되어야 하고, 이들 동작들은 웨이퍼 스테이지의 움직임과 동기화되어야 한다. 리소그래피 장치의 패터닝 해상도가 증가하고 그리고 하전 입자 빔릿들의 수가 증가함에 따라, 동작들의 이런 동기화에 요구되는 정확도는 더 커지게 된다.
[0005] 종래 기술 시스템들에서, 제어기 및 서브시스템들 각각은 동기화되는 클록 회로들을 포함한다. 예컨대, 특허 공개물 US 2010/0001770 A1호는 마스터(master) 클록들(112, 122)을 가진 제1 노드들(10, 12) 및 슬레이브(slave) 클록들(22)을 가진 제2 노드들(20)을 포함하는 시스템을 개시한다. 마스터 클록들 및 슬레이브 클록들의 시간-베이스(base)는 제1 노드들의 동기화 시스템(13) 및 제2 노드들의 슬레이브 클록 시간-베이스 제어기(21)를 사용하여 동기화된다. 이어서, 제1 노드들 및 제2 노드들에 의한 초기화 동작들은 각각 마스터 클록들 및 슬레이브 클록들을 참조하여 수행된다. 그러나, 클록 회로들 및 이들의 동기화의 정확도 요건들이 증가하면 심지어 더 복잡하고 값비싼 솔루션들을 요구한다.
[0006] 본 발명은 리소그래피 장치의 하나 또는 그 초과의 모듈들에 의한 개별 하나 또는 그 초과의 동작들을 수행, 및 특히 시작에 대해 개선된 정확도를 제공하는 것을 목적으로 한다.
[0007] 본 발명의 일 양상에 따라, 리소그래피 디바이스의 하나 또는 그 초과의 모듈들의 하나 또는 그 초과의 동작들의 시작을 제어하기 위한 방법 및 시스템이 제공된다. 하나 또는 그 초과의 모듈들은 네트워크를 통해 제어기에 연결될 수 있다.
[0008] 일 양상에서, 본 발명은 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 제1 모듈의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법을 포함하고, 방법은 클록 신호를 생성하는 단계, 클록 신호에 기반하여 제1 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하는 단계, 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값을 결정하는 단계, 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값을 결정하는 단계, 제1 동기화 값 및 제1 시간 베이스의 시작 시간 값에 기반하여 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값을 결정하는 단계, 및 시작 트리거 값 및 제1 모듈의 제2 시간 베이스의 현재 값에 기반하여 제1 모듈의 제1 동작을 초기화하는 단계를 포함한다.
[0009] 제1 시간 베이스는 예컨대 일들 및/또는 시간들 및/또는 분들 및/또는 초들 및 이의 세분들로 측정된 시간 스케일(scale)을 포함할 수 있다. 제1 시간 베이스는 모듈들 각각의 클록 회로들, 또는 마스터 클록 회로 또는 제어기 또는 모듈들과 통신하는 다른 회로에 의해 생성될 수 있다. 제1 동기화 값을 결정하는 단계는 동기화 신호를 생성하는 단계, 및 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제1 동기화 값을 결정하는 단계를 포함할 수 있다. 이것은, 동기화 신호가 클록 회로(들)를 갖는 유닛에 의해 수신될 때 제1 시간 베이스를 생성하는 클록 회로(들)에 의해 표시된 시간을 저장하는 단계를 포함할 수 있다.
[0010] 제2 시간 베이스는 제1 시간 베이스와 상이할 수 있지만, 일부 실시예들에서 동일할 수 있다. 제1 및 제2 시간 베이스들은 공통 시간 베이스로부터 동작할 필요가 없고, 서로 동기화될 필요가 없다. 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간은 제2 시간 베이스에 대한 참조(또는 지식) 없이 세팅될 수 있다.
[0011] 제2 시간 베이스는 클록 신호로부터 생성된 카운트(count) 값을 포함할 수 있다. 각각의 모듈은 클록 신호에 기반하여 카운트 값을 생성하기 위한 카운트 회로를 포함할 수 있다. 제2 동기화 값은 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값에 대응할 수 있다. 제2 시간 베이스가 카운트 값을 포함할 때, 제2 동기화 값은 카운트 값의 리셋 값을 포함할 수 있는데, 예컨대 제2 동기화 값을 결정하는 단계는 동기화 신호의 수신에 기반하여 카운트 값을 생성하는 카운트 회로(들)를 리셋하는 단계를 포함할 수 있다. 동기화 신호는 제1 및 제2 동기화 값들을 결정하는데 사용되는 단일 결합 신호를 형성하기 위해 클록 신호와 결합될 수 있다.
[0012] 제1 동기화 값이 동기화 신호의 수신 시간을 나타내는 제1 시간 베이스의 시간이고, 그리고 제2 시간 베이스가 동기화 신호의 수신 시 리셋되는 카운트 값일 때, 제1 동기화 값은, 제2 시간 베이스(즉, 카운트 값)가 리셋되는 (제1 시간 베이스의) 시간을 표시한다. 이런 방식으로, 제1 및 제2 시간 베이스들은 동기화될 수 있다.
[0013] 시작 트리거 값을 결정하는 단계는 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하는 단계를 포함할 수 있고, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 제2 시간 베이스의 값이다. 상대적 시작 시간을 결정하는 단계는 예컨대, 시작 시간 값으로부터 제1 동기화 값을 감산함으로써, 제1 동기화 값과 제1 시간 베이스의 시작 시간 값 사이의 차이를 계산하는 단계를 포함할 수 있다. 시작 트리거 값을 결정하는 단계는 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하는 단계를 포함할 수 있고, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 제2 시간 베이스의 카운트 값에 대응한다. 제2 시간 베이스가 카운트 값일 때, 상대적 시작 시간은, 제2 시간 베이스 카운트 값의 리셋 이후 제1 시간 베이스의 시간 양을 나타낸다.
[0014] 제2 시간 베이스가 카운트 값일 때, 제1 동작은, 카운트 값이 시작 트리거 값에 대응할 때 초기화될 수 있다.
[0015] 방법은 클록 신호에 기반하여 제2 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하는 단계, 및 시작 트리거 값 및 제2 모듈의 제2 시간 베이스의 현재 값에 기반하여 제2 모듈의 제2 동작을 초기화하는 단계를 포함하는 제2 모듈의 제2 동작을 개시하는 단계를 더 포함할 수 있다. 제2 시간 베이스는 제1 및 제2 모듈들의 각각에서 클록 신호로부터 생성된 카운트 값을 포함할 수 있다. 제2 동기화 값은 제1 및 제2 모듈들 각각의 카운트 값의 리셋에 대응할 수 있다. 방법은 클록 신호에 기반하여 제3 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하는 단계, 및 시작 트리거 값 및 제3 모듈의 제2 시간 베이스의 현재 값에 기반하여 제3 모듈의 제3 동작을 초기화하는 단계를 포함하는 제3 모듈의 제3 동작을 개시하는 단계를 더 포함할 수 있다.
[0016] 리소그래피 시스템에 적용될 때, 제1 모듈은 스테이지 제어 모듈을 포함할 수 있고 제1 동작은 스캔 동안 스테이지의 미리결정된 움직임을 포함할 수 있고, 제2 모듈은 투사 광학기기 모듈을 포함할 수 있고 제2 동작은 타겟의 표면을 가로질러 언블랭킹(unblanked) 빔렛들의 미리결정된 스캐닝 편향을 포함할 수 있고, 그리고 제3 모듈은 패턴 데이터 스트리밍 모듈을 포함할 수 있고 제3 동작은 하전 입자 빔릿들 중 선택된 빔릿들을 블랭킹하기 위해 빔 스위칭 모듈에 데이터의 미리결정된 부분의 송신을 포함할 수 있다.
[0017] 제1 모듈은 제1 네트워크를 통해 제어기에 연결된 복수의 모듈들 중 하나일 수 있고, 제어기는 제1 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈로 송신할 수 있다.
[0018] 클록 신호는 제2 네트워크를 통해 복수의 모듈들에 송신될 수 있고, 제2 시간 베이스는 카운트 값을 포함할 수 있고, 그리고 모듈들 각각은 클록 신호로부터 카운트 값을 별도로 생성한다.
[0019] 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제어기에 의해 또는 모듈들에 의해 결정될 수 있고, 제2 동기화 값은 제1 모듈에서 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값으로 세팅된다.
[0020] 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제1 모듈에 의해 결정될 수 있고, 제2 동기화 값은 제1 모듈에서 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값으로 세팅될 수 있다. 이런 방식으로, 동기화 신호는 제1 및 제2 시간 베이스들을 동기화하는데 사용될 수 있다. 클록 신호 및 동기화 신호는 결합되어 제2 네트워크를 통해 복수의 모듈들로 송신될 수 있다. 클록 신호 및 결합된 클록 신호(즉, 동기화 신호를 포함함) 둘 모두는 모듈들에 분배될 수 있거나, 결합된 클록 신호만이 모듈들에 분배될 수 있다.
[0021] 제어기는 시작 시간 값 및 시작 트리거 값을 결정하고 시작 트리거 값을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈에 송신할 수 있다. 대안적으로, 제어기는 시작 시간 값을 결정하고 시작 시간 값을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈에 송신할 수 있고, 제1 모듈은 시작 트리거 값을 결정한다. 대안적으로, 제1 모듈은 시작 시간 값 및 시작 트리거 값 둘 모두를 결정할 수 있다. 다른 대안에서, 제어기는 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하고, 상대적 시작 시간을 제1 모듈에 송신할 수 있고, 제1 모듈은 상대적 시작 시간에 기반하여 시작 트리거 값을 결정할 수 있다.
[0022] 제1 및 제2 모듈들은 제1 네트워크를 통해 제어기에 연결될 수 있고, 제어기는 시작 시간 값 및/또는 시작 트리거 값을 제1 모듈에 송신하고, 그리고 개시될 제1 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈에 송신할 수 있고, 그리고 제어기는 추가로 시작 시간 값 및/또는 시작 트리거 값과, 개시될 제2 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제2 모듈에 송신할 수 있다.
[0023] 다른 양상에서, 본 발명은 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 제1 모듈의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템을 포함한다. 시스템은 클록 신호를 생성하기 위한 클록, 클록 신호에 기반하여 제1 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하기 위한 수단, 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값을 결정하기 위한 수단, 및 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값 및 시작 시간 값에 기반하여 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값을 결정하기 위한 수단을 포함한다. 제1 모듈은 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 제1 모듈의 제1 동작을 초기화하기 위한 수단을 포함한다.
[0024] 제1 동기화 값을 결정하기 위한 수단은 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제1 동기화 값을 결정하도록 적응될 수 있고, 그리고 시스템은 제1 모듈에 의한 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값에 대응하는 제2 동기화 값을 결정하도록 적응된, 제2 동기화 값을 결정하기 위한 수단을 더 포함할 수 있다. 동기화 신호는 클록 신호와 결합될 수 있고, 결합된 클록 신호(동기화 신호를 포함함)는 제1 모듈에 송신될 수 있다.
[0025] 제2 시간 베이스를 생성하기 위한 수단은 클록 신호로부터 카운트 값을 생성하기 위한 카운트 회로를 포함할 수 있다. 제2 동기화 값은 카운트 회로의 리셋 값에 대응할 수 있다.
[0026] 시작 트리거 값을 결정하기 위한 수단은 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하도록 적응될 수 있고, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 제2 시간 베이스의 값이다. 특히, 시작 트리거 값을 결정하기 위한 수단은 제1 동기화 값과 시작 시간 값 사이의 차이를 계산함으로써 상대적 시작 시간을 결정하도록 적응될 수 있다. 시작 트리거 값을 결정하기 위한 수단은 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하도록 적응될 수 있고, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 제2 시간 베이스의 카운트 값에 대응한다.
[0027] 제1 동작을 초기화하기 위한 수단은, 카운트 값이 시작 트리거 값에 대응할 때 제1 동작을 초기화하도록 적응될 수 있다.
[0028] 제1 및 제2 시간 베이스들은 서로 상이하거나 동일할 수 있고, 예컨대 둘 모두는 카운트 값들이거나 둘 모두는 동일한 시간 단위들로 측정된다. 제1 시간 베이스는 날들 및/또는 시간들 및/또는 분들 및/또는 초들 및/또는 이의 세분들로 측정될 수 있다.
[0029] 시스템은 제2 모듈의 제2 동작을 개시하도록 추가로 적응될 수 있고, 시스템은 클록 신호에 기반하여 제2 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하기 위한 수단을 더 포함하고, 제2 모듈은 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 제2 모듈의 제2 동작을 초기화하기 위한 수단을 포함한다. 이런 시스템을 위해, 제2 시간 베이스는 제1 및 제2 모듈들의 각각에서 클록 신호로부터 생성된 카운트 값을 포함할 수 있다. 제2 동기화 값은 제1 및 제2 모듈들 각각의 카운트 값의 리셋에 대응할 수 있다. 제1 모듈은 스테이지 제어 모듈을 포함하고 제1 동작은 스테이지의 미리결정된 움직임을 포함하고, 그리고 제2 모듈은 빔릿 편향 모듈을 포함할 수 있고 제2 동작은 빔릿들의 미리결정된 스캔 편향을 포함한다.
[0030] 시스템은 제3 모듈의 제3 동작을 개시하도록 또한 추가로 적응될 수 있고, 시스템은 클록 신호에 기반하여 제3 모듈의 제2 시간 베이스를 생성하기 위한 수단을 더 포함하고, 제3 모듈은 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 제3 모듈의 제3 동작을 초기화하기 위한 수단을 포함한다. 제1 모듈은 스테이지 제어 모듈을 포함할 수 있고 제1 동작은 스테이지의 미리결정된 움직임을 포함하고, 제2 모듈은 빔릿 편향 모듈을 포함할 수 있고 제2 동작은 빔릿들의 미리결정된 스캔 편향을 포함할 수 있고, 그리고 제3 모듈은 빔 스위칭 모듈을 포함할 수 있고 제3 동작은 빔릿들을 블랭킹하기 위해 데이터의 미리결정된 부분의 송신을 포함한다.
[0031] 제1 모듈은 제1 네트워크를 통해 제어기에 연결된 복수의 모듈들 중 하나일 수 있고, 제어기는 제1 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈로 송신한다. 제어기는 추가로 제2 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제2 모듈에 송신할 수 있다. 클록 신호는 제2 네트워크를 통해 복수의 모듈들에 송신될 수 있다. 제2 시간 베이스는 카운트 값을 포함할 수 있고, 모듈들 각각은 클록 신호로부터 카운트 값을 별도로 생성할 수 있다.
[0032] 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제어기에 의해 결정될 수 있고, 제2 동기화 값은 제1 모듈에서 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값으로 세팅될 수 있다.
[0033] 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스의 동기화 신호의 수신 시간에 따라 제1 모듈 또는 제어기에 의해 결정될 수 있고, 제2 동기화 값은 제1 모듈에서 제1 모듈에 의한 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값으로 세팅될 수 있다. 제2 동기화 값은 복수의 모듈들의 각각에서 개별 모듈들 각각에 의한 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값으로 세팅될 수 있다.
[0034] 제1 및 제2 모듈들은 제1 네트워크를 통해 제어기에 연결될 수 있고, 제어기는 시작 시간 값 및/또는 시작 트리거 값과, 개시될 제1 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제1 모듈로 송신할 수 있다. 제어기는 추가로 시작 시간 값 및/또는 시작 트리거 값과, 개시될 제2 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 제1 네트워크를 통해 제2 모듈로 송신할 수 있다.
[0035] 다른 양상에서, 본 발명은 하전 입자 리소그래피 시스템을 포함하고, 하전 입자 리소그래피 시스템은: 하전 입자 빔을 생성하기 위한 하전 입자 빔 소스, 하전 입자 빔으로부터 복수의 하전 입자 빔릿들을 생성하기 위한 애퍼처 어레이, 하전 입자 빔릿들 중 선택된 빔릿들을 블랭킹하기 위한 블랭킹 전극들을 포함하는 빔릿 블랭커 어레이를 포함하는 빔 스위칭 모듈, 패턴 데이터를 빔 스위칭 모듈에 송신하기 위한 패턴 데이터 스트리밍 모듈, 타겟의 표면을 가로질러 언블랭킹 빔릿들을 스캐닝하기 위한 빔 편향기 어레이를 포함하는 투사 광학기기 모듈, 타겟을 운반하기 위한 이동가능 스테이지, 및 이동가능 스테이지의 움직임을 제어하기 위한 스테이지 제어 모듈을 포함한다. 리소그래피 시스템은 위에서 설명된 바와 같이 제1 모듈의 제1 동작을 초기화하도록 적응된 시스템을 더 포함하고, 시스템은 위에서 설명된 바와 같이 제2 모듈의 제2 동작을 초기화하도록 추가로 적응되고, 그리고 추가로 위에서 설명된 바와 같이 제3 모듈의 제3 동작을 초기화하도록 적응될 수 있다. 제1 모듈은 스테이지 제어 모듈을 포함할 수 있고 제1 동작은 스캔 동안 스테이지의 미리결정된 움직임을 포함할 수 있다. 제2 모듈은 투사 광학기기 모듈을 포함할 수 있고 제2 동작은 타겟 표면을 가로질러 언블랭킹 빔릿들의 미리결정된 스캐닝 편향을 포함할 수 있다. 제3 모듈은 패턴 데이터 스트리밍 모듈을 포함할 수 있고 제3 동작은 하전 입자 빔릿들 중 선택된 빔릿들을 블랭킹하기 위한 빔 스위칭 모듈에 데이터의 미리결정된 부분의 송신을 포함할 수 있다.
[0036] 본 발명의 다양한 양상들은 도면들에 도시된 실시예들을 참조하여 추가로 설명될 것이다.
[0037] 도 1은 하전 입자 리소그래피 시스템의 실시예의 간략화된 개략도이다.
[0038] 도 2는 하전 입자 리소그래피 시스템의 모듈들의 어레인지먼트의 간략화된 개략적인 예이다.
[0039] 도 3은 하전 입자 리소그래피 시스템의 모듈들 사이의 통신의 간략화된 개략적인 예이다.
[0040] 도 4는 본 발명을 구현하기에 적절한 모듈들과 통신하는 제어기의 간략화된 개략적인 예이다.
[0041] 도 5는 본 발명의 실시예에 따른 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 모듈의 동작을 초기화하기 위한 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0042] 도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 모듈의 동작을 초기화하기 위한 방법을 예시하는 흐름도이다.
[0043] 도 7은 클록 신호 및 동기화 신호를 포함하는 결합된 클록 신호의 실시예이다.
[0044] 도 8은 본 발명에 따른 제어 시스템에서 시그널링(signaling)의 예시적인 예를 도시한다.
[0045] 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 마스터 클록 신호를 디코딩 및 카운팅하기 위한 카운트 및 리셋 회로의 실시예이다.
[0046] 도 10은 본 발명에 따른 제어 시스템에서 시그널링의 다른 예시적인 예를 도시한다.
[0047] 다음은 단지 예로써 그리고 도면들을 참조하여 제공된 본 발명의 다양한 실시예들의 설명이다.
[0048] 도 1은 하전 입자 리소그래피 시스템(1000)의 실시예의 간략화된 개략도를 도시한다. 그런 리소그래피 시스템들은 예컨대 미국 특허 번호들 제 6,897,458호 및 제 6,958,804호 및 제 7,019,908호 및 제 7,084,414호 및 제 7,129,502호, 미국 특허 출원 공개 번호 제 2007/0064213호, 및 공동 계류중인 미국 특허 출원 일련 번호들 제 61/031,573호 및 제 61/031,594호 및 제 61/045,243호 및 제 61/055,839호 및 제 61/058,596호 및 제 61/101,682호에 설명되고, 이들은 본 발명의 소유자에게 모두가 양도되고 이로써 그 전체가 인용에 의해 모두 통합된다.
[0049] 도 1에 도시된 실시예에서, 리소그래피 시스템은 시준기 렌즈 시스템(1020)에 의해 시준되는 팽창하는 하전 입자 빔(1200)을 생성하기 위한 하전 입자 소스(1010)를 포함한다. 시준된 하전 입자 빔(1210)은 애퍼처 어레이(1030) 상에 충돌하고, 애퍼처 어레이(1030)는 복수의 서브-빔들(1220)을 생성하기 위해 빔의 부분을 차단하고, 복수의 서브-빔들(1220)은 다수의 하전 입자 빔릿들(1220), 바람직하게 약 10,000 내지 1,000,000개의 빔릿들을 생성하기 위해 제2 애퍼처 어레이(빔릿 블랭커 어레이(1050)와 일체형으로 형성됨) 상에 충돌한다. 빔릿들은 대안적으로 단일 애퍼처 어레이, 다수의 하전 입자 소스들 또는 이들의 조합으로 생성될 수 있다.
[0050] 하전 입자 빔릿들(1220)은 집광 렌즈 어레이(1040)를 통과하고, 집광 렌즈 어레이(140)는 개별 빔릿들을 편향시키기 위해 제2 애퍼처 어레이의 각각의 애퍼처에 배열된 다수의 블랭킹 전극들을 포함하는 빔 블랭커 어레이(1050)의 평면에 빔릿들(1220)을 포커싱한다. 편향된 빔릿들 및 편향되지 않은 빔릿들(1230)은 복수의 애퍼처들을 가진 빔 정지 어레이(1080)에 도달한다. 빔릿 블랭커 어레이(1050) 및 빔 정지 어레이(1080)는 빔릿들(1230)을 차단하거나 통과하게 하기 위해 함께 동작한다. 빔릿 블랭커 어레이(1050)가 빔릿을 편향시키면, 그것은 빔 정지 어레이(108)의 대응하는 애퍼처를 통해 통과하는 것이 아니라, 대신 차단될 것이다. 그러나, 빔릿 블랭커 어레이(1050)가 빔릿을 편향시키지 않으면, 그것은 빔 정지 어레이(1080)의 대응하는 애퍼처, 빔 편향기 어레이(1090) 및 투사 렌즈 어레이들(1100)을 통해 타겟(1300)의 표면상으로 지나갈 것이다. 패턴 데이터 스트리머(streamer)는 패턴 데이터를 빔릿 블랭커 어레이(1050)에 송신하고, 패턴 데이터는 하전 입자 빔릿들 중 선택된 빔릿들을 블랭킹하는 것을 제어하기 위해 블랭커 전극들에 에너지를 인가하기 위한 데이터를 포함한다.
[0051] 빔 편향기 어레이(1090)는 타겟(1300)의 표면을 가로질러 빔릿들을 스캐닝하기 위하여 편향되지 않은 빔릿들의 방향에 실질적으로 수직 방향인 X 및/또는 Y 방향으로 각각의 언블랭킹 빔릿(1240)의 편향을 제공한다. 다음으로 빔릿들(1240)은 투사 렌즈 어레이들(1100)을 통과하여 타겟(1300) 상으로 투사된다. 투사 렌즈 어레인지먼트는 바람직하게 약 100 내지 500 배의 축소를 제공한다. 빔릿들(1240)은 타겟을 운반하기 위한 이동가능 스테이지(1320) 상에 포지셔닝된 타겟(1300)의 표면상에 충돌하고, 이동가능 스테이지(1320)의 움직임은 스테이지 제어 모듈에 의해 제어된다.
[0052] 리소그래피 애플리케이션들에 대해, 하전 입자 빔들은 보통 전자 빔들이고, 타겟은 보통 하전-입자 감지 층 또는 레지스트 층을 가진 웨이퍼를 포함한다.
[0053] 도 2는 모듈식 리소그래피 시스템의 주요 엘리먼트들을 예시하는 간략화된 블록 다이어그램을 도시한다. 이 출원에서, '모듈'은 동작을 수행할 수 있고, 더 큰 시스템, 이를테면 리소그래피 시스템 내에서 협력하는 임의의 서브시스템 또는 유닛을 지칭할 것이다.
[0054] 도 2에 도시된 실시예에서, 서브시스템들은 하기를 포함한다:
● 하전 입자 빔 소스(1010)를 포함하고, 그리고 선택적으로 또한 빔 시준 시스템(1020)을 포함하는 조명 광학기기 모듈(2010);
● 애퍼처 어레이(1030)를 포함하고, 그리고 선택적으로 또한 집광 렌즈 어레이(1040)를 포함하는 애퍼처 어레이 모듈(2020);
● 빔릿 블랭커 어레이(1050)를 포함하는 빔 스위칭 모듈(2030); 및
● 빔 편향기 어레이(1090)를 포함하고, 그리고 선택적으로 또한 빔 정지 어레이(1080) 및 투사 렌즈 어레이들(1100)을 포함하는 투사 광학기기 모듈(2040).
[0055] 도 2에 도시된 실시예에서, 위의 서브시스템들은 정렬 내부 서브프레임(2050) 및 정렬 외부 서브프레임(2060)을 포함하는 정렬 프레임 안팎으로 슬라이딩하도록 설계된다. 프레임(2080)은 진동 댐핑 장착부들(2070)을 통해 정렬 서브프레임들(2050 및 2060)을 지지한다. 웨이퍼(1300)는 웨이퍼 테이블(2090) 상에 자리하고, 차례로 웨이퍼 테이블(2090)은 척(chuck)(2100) 상에 장착된다. 척(2100)은 스테이지 쇼트 스트로크(short stroke)(2110) 및 롱 스트로크(long stroke)(2120) 상에 위치한다. 쇼트 스트로크 및 롱 스트로크 스테이지 각각은 모듈을 형성한다. 각각의 스테이지(2110, 2120)는 움직임 동작을 수행할 수 있다.
[0056] 리소그래피 머신은 뮤(mu) 금속 차폐 층 또는 층들(2150)을 포함하는 진공 챔버(4000)에 동봉된다. 머신은 프레임 부재들(2210)에 의해 지지되는 베이스 플레이트(2200) 상에 자리한다.
[0057] 도 3은 하전 입자 리소그래피 시스템, 이를테면 도 1 및 도 2에 따른 시스템의 모듈들 사이의 통신의 간략화된 개략적인 예이다.
[0058] 제어기(105)는 제1 통신 네트워크(110)를 통해 모듈들(120, 130, 140)에 연결된다. 모듈들(120, 130, 140)은 리소그래피 시스템의 특정 동작들을 수행하거나 제어하기 위해, 제1 통신 네트워크(110)를 통해 제어부(100)로부터의 명령들을 수신 및 실행할 수 있다.
[0059] 제어기(105)는 모듈들(120, 130, 140) 중 하나 또는 그 초과에 의해 수행될 하나 또는 그 초과의 동작들을 스케줄링하도록 배열되어, 동작들은 원하는 시작 시간에서 모듈들 중 하나 또는 그 초과에 의해 개시될 수 있다. 특히, 동작의 개시 시간이 다수의 모듈들에서 조정될 수 있어서, 예컨대 동작은 다수의 모듈들에서 동시에 개시되거나, 동작은 서로에 관해 미리결정된 시간 관계를 가지는 상이한 시간들에서 다수의 모듈들에서 개시된다. 추가로, 상이한 모듈들에서 상이한 동작들의 개시 시간이 조정될 수 있어서, 예컨대 제1 동작은, 제2 동작이 제2 모듈에 의해 개시된 것과 동시에 제1 모듈에 의해 개시되거나, 제1 및 제2 동작들은 서로 미리결정된 시간 관계를 가진 상이한 시간들에서 제1 및 제2 모듈들에 의해 개시된다.
[0060] 이 실시예에서, 모듈(120)은 패턴 데이터를 빔릿 블랭커 어레이(1050)로 송신하도록 적응된 패턴 데이터 스트리머이다. 모듈(120)로부터의 출력은 각각의 빔릿을 블랭킹 또는 통과하게 하도록 블랭커 어레이(1050)의 다수의 블랭킹 전극들을 스위칭하기 위해 고주파수 직렬 신호인 블랭커 신호(1051)를 포함한다. 모듈(130)은 빔 편향기 어레이(1090)의 제어를 위한 모듈이다. 모듈(130)로부터의 출력은 점선들(2043, 2044)에 의해 표시된 편향 도메인에 걸쳐, 웨이퍼(2046)의 표면을 가로질러 빔릿들을 스캐닝하도록 언블랭킹 빔릿들의 편향을 제어하는 편향 전압 신호(1091)를 포함하여, 노광된 패턴(2045)은 웨이퍼(2046) 상에 형성된다. 모듈(140)은, 웨이퍼(2046)를 포지셔닝하는 스테이지(2047)의 움직임의 제어를 위한 모듈이다. 각각의 스캔 동안, 웨이퍼(2046)는 편향 방향(2039)에 (거의) 수직인 방향(2049)으로 연속으로 이동할 수 있다(추가 편향기들은 이런 연속 움직임을 보상하도록 동작될 수 있음). 모듈(140)로부터의 출력은 스테이지(2047)를 이동시키기 위해 스테이지 구동 시스템을 활성화하기 위한 신호들을 출력하는 제어기(2051)에 움직임 신호(1321)를 포함한다.
[0061] 빔릿들을 편향시키고, 언블랭킹 빔릿들을 편향시키고, 그리고 스테이지를 이동시키는 동작들은 오버레이(overlay) 에러를 최소화하기 위해 정확히 조정될 필요가 있다. 모듈(120)로부터의 블랭커 신호(1051)는 모듈(130)로부터의 편향 전압 신호(1091) 및 모듈(140)로부터의 움직임 신호(1321)와 정확히 정렬되어야 한다. 각각의 스캔 동안, 웨이퍼 상에 원하는 패턴을 형성하기 위해, 각각의 빔릿은, 스캔 편향 및 스테이지 움직임이 빔릿을 웨이퍼 상의 특정 포지션에 위치시키는 정확한 순간에 블랭킹되거나 블랭킹되지 않아야 한다. 다수의 빔릿들이 존재할 때, 요구된 정확도는 더 어렵게 된다. 예컨대, 일 백만의 빔릿들이 존재하면, 블랭커 신호(1051)는 짧은 시간 기간에 일 백만의 빔릿들의 블랭킹을 제어하기 위해 모두가 편향 전압 신호(1091) 및 움직임 신호(1321)와 정확히 조정되는 일 백만의 펄스들을 송신하여야 한다. 각각의 스캔 동안, 웨이퍼 상에 원하는 패턴을 형성하기 위해, 각각의 빔릿은, 스캔 편향 및 스테이지 움직임이 빔릿을 웨이퍼 상의 특정 포지션에 위치시키는 정확한 순간에 블랭킹되거나 블랭킹되지 않아야 한다. 이것은 모듈들(120, 130 및 140) 사이의 정확한 조정을 요구한다. 스캔의 시작에서, 모듈(120)의 빔릿 블랭킹 동작 및 모듈(130)의 빔릿 편향 동작 및 모듈(140)의 스테이지 움직임 동작임 모두는 블랭커 신호(1051)를 편향 전압 신호(1091) 및 움직임 신호(1321)와 정렬하기 위해 정확하게 조정된 타이밍으로 개시되어야 한다.
[0062] 도 4는 본 발명을 구현하기에 적절한 모듈들(120, 130, 140)과 통신하는 제어기(105)를 가진 시스템(100)의 간략화된 개략적인 예이다. 모듈들(120, 130, 140)과 통신하는 제어기(105)는 도 3을 참조하여 위에서 설명된 동작들을 수행할 수 있지만, 대신 또는 부가적으로 리소그래피 시스템의 다른 동작들을 수행할 수 있거나, 또는 완전히 상이한 동작들을 수행하기 위해 리소그래피 시스템 외의 시스템들에 적용될 수 있다.
[0063] 제어기(105)는 제1 통신 네트워크(110)를 통해 하나 또는 그 초과의 모듈들(150)에 연결된다. 제어기(105)는 개별 모듈들(120, 130, 140)(전체적으로 150)에 의해 수행되거나 제어될 동작들을 제어하고 스케줄링하도록 배열되고, 모듈들(150)은 제어기(105)로부터 제1 통신 네트워크(110)를 통해 명령들을 수신 및 실행할 수 있다. 이런 맥락에서, 동작을 스케줄링하는 것은 동작 수행을 개시하기 위해 모듈에 시작 시간을 특정하는 것을 포함한다. 비록 더 적거나 더 많은 수의 모듈들이 제어기에 연결될 수 있더라도, 도시된 실시예는 3개의 모듈들(120, 130, 140)을 포함한다.
[0064] 제어기(105)는 소프트웨어, 펌웨어 또는 프로그램가능 로직을 실행하기 위한 마이크로프로세서, 마이크로제어기, ASIC, 필드-프로그램가능 게이트 어레이 등 같은 프로세서(101), 및 소프트웨어, 펌웨어 또는 프로그램가능 로직 및/또는 데이터를 저장하기 위한 메모리(102)를 포함한다. 제어기(105)는 또한 제1 통신 네트워크(110)를 통해 메시지들 및 데이터를 전송 및 수신하기 위한 네트워크 통신 유닛(104)을 포함하고, 그리고 또한 클록 유닛(103)(아래에서 추가로 상세히 설명됨)을 포함할 수 있다.
[0065] 모듈들(150)은 유사하게 각각 소프트웨어, 펌웨어 또는 프로그램가능 로직을 실행하기 위한 마이크로프로세서, 마이크로제어기, ASIC, 필드-프로그램가능 게이트 어레이 등 같은 프로세서(121, 131, 141), 소프트웨어, 펌웨어, 프로그램가능 로직 및/또는 데이터를 저장하기 위한 메모리(122, 132, 142), 및 제1 통신 네트워크(110)를 통해 메시지들 및 데이터를 전송 및 수신하기 위한 네트워크 통신 유닛(124, 134, 144)을 포함하고, 또한 클록 유닛(123, 133, 143)(아래에서 추가로 상세히 설명됨)을 포함할 수 있다.
[0066] 제어기(105)는 오퍼레이터, 호스트 컴퓨터 등으로부터의 입력에 따라 제어 및 스케줄링을 수행할 수 있다. 디스플레이를 포함하는 입력/출력 유닛은 제어기에 연결될 수 있다. 네트워크(110)는 제어기(105)를 모듈들(150)과 연결한다. 제어기(105)는 명령들을 네트워크(110)를 통해 개별 모듈들(150)에 전송할 수 있고 모듈들(150)로부터 네트워크(110)를 통해 메시지들, 이를테면 확인응답들 및 로깅(logging) 메시지들을 수신할 수 있다. 네트워크(110)는 유선 또는 무선 네트워크일 수 있고, 양방향성일 수 있거나 또는 제어기(105)와 모듈들(150) 사이의 양방향 통신을 달성하기 위해 2개의 단방향 네트워크들을 포함할 수 있다.
[0067] 시스템(100)은 2개의 시간 베이스들을 사용하여 동작한다. 제1 시간 베이스는 제1 시간 베이스에 따른 상대적 또는 절대적 시간 값 또는 시간의 주기적 표시를 제공한다. 제1 시간 베이스는 바람직하게 모듈들의 동작들을 스케줄링하는데 사용되는 시스템들을 스케줄링하기에 적절한 시간 스케일에 기반하고, 인간 오퍼레이터들이 쉽게 이해가능한 시간 스케일, 이를테면 날들 및/또는 시간들 및/또는 분들 및/또는 초들 및/또는 이의 세분들, 또는 이들의 조합으로서 편리하게 선택될 수 있다. 예컨대, 제1 시간 베이스는 시간들, 분들, 초들 및 초들의 세분들을 나타내기 위해 hh:mm:ss.ssss의 형태를 취할 수 있다. 제1 시간 베이스는 동작을 수행하기 위한 시간의 정확한 정의를 가능하게 하도록 설계된다. 제1 시간 베이스는 또한 바람직하게 다른 관련된 및/또는 관련되지 않은 시스템들에서 수행되는 동작들과 함께 시스템(100)에서 수행되는 동작들 사이의 조정을 가능하게 한다. 예컨대, 제1 시간 베이스는 웨이퍼 로딩 및 언로딩 머신들 그리고 웨이퍼들 상에서 다른 동작들을 수행하는 머신들과 리소그래피 툴의 동작을 조정하기 위해 팹(fab) 전반에 걸쳐 사용되는 동일한 시간 베이스일 수 있다.
[0068] 제2 시간 베이스는 또한 상대적 또는 절대적 시간 값 또는 시간의 주기적 표시를 제공하지만, 바람직하게 제1 시간 베이스와 상이하다. 제2 시간 베이스는 시간 베이스를 다수의 모듈들에 분배하여 모듈들에 의해 수행되는 동작들의 정확한 조정을 가능하게 하도록 설계된다. 제2 시간 베이스는 제1 시간 베이스에서 정의된 동작을 수행하기 위한 시간에 따라 다수의 모듈들 사이의 정확한 조정을 가능하게 하도록 설계된다. 일 실시예에서, 제2 시간 베이스는 고주파수 클록 신호로부터 유도된 카운트 값이다.
[0069] 일 실시예에서, 제어기(105) 및 모듈들(120, 130, 140) 각각은 클록 유닛(103, 123, 133, 143)을 가진다. 클록 유닛은 제1 시간 베이스에 따른 상대적 또는 절대적 시간 값 또는 주기적 표시를 제공한다. 제어기(105) 및 모듈들의 클록 유닛들은 예컨대, 동기화를 위한 NTP 프로토콜 또는 다른 적절한 프로토콜 또는 알고리즘을 사용하여 서로 동기화될 수 있다.
[0070] 제어기(105)는 개별 순간에 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과에 의해 수행될 하나 또는 그 초과의 동작들을 스케줄링할 수 있다. 동작의 시작 시간은 제1 시간 베이스에 따라 제공된 제1 시작 시간 값에 의해 표시될 수 있다. 예컨대, 모듈(120)의 동작(YYY)은 제1 시작 시간 값(t1 = 1h 23m 45s 678ms)에서 시작되고, 제어기(105)는 스케줄링 명령으로서 시작 시간(t1)의 표시와 조합된 동작(YYY)의 표시를 포함하는 명령을 네트워크(110)를 통해 모듈(120)로 전송한다. 레거시(legacy) 시스템에서, 모듈(120)은, 자신의 클록 유닛(123)이 시작 시간(t1)에 대응하는 시간을 표시할 때 동작(YYY)을 수행하는 것을 시작할 것이다.
[0071] 일 실시예에서, 시스템(100)은 반복되는 주기적 신호(116)를 생성하는 마스터 클록(115)을 포함한다. 주기적 신호(116)는 제1 시간 베이스와 상이하거나 동일할 수 있는 제2 시간 베이스에 따라 생성된다. 주기적 신호(116)는, 주파수, 위상 또는 진폭 변조 고주파수 신호, 디지털 카운트, 다중-레벨 신호 등 같은 다른 형태들을 취할 수 있지만, 본원에서 마스터 클록 펄스(116)로 지칭된다. 동작은 수신된 마스터 클록 신호(116)에 따라 한 번에 모듈들(120) 중 하나에서 개시될 수 있다. 일 실시예에서, 마스터 클록 신호(116)는 적어도 10MHz, 바람직하게 적어도 24MHz, 보다 바람직하게 적어도 49MHz의 주파수를 가지는 클록이다. 클록 신호(116)는 구형파, 삼각-파, 사인파, 펄스 또는 고주파수 반복 신호를 송신하는데 적절한 임의의 다른 신호일 수 있다. 마스터 클록(115)은 신호(116)를 생성하기 위한 발진기 회로 또는 유사한 회로를 포함할 수 있고, 그리고 도 4의 실시예와 별개의 유닛일 수 있거나 제어기(105)에 통합될 수 있다.
[0072] 마스터 클록(115)은 바람직하게 제1 네트워크(110)와 상이한 제2 네트워크(112)를 통해, 마스터 클록 신호(116)를 모듈들(150)에 분배한다. 실시예에서, 마스터 클록 신호(116)는 또한 제2 네트워크(112)를 통해 제어기(105)에 제공된다. 제2 네트워크(112)는 바람직하게 모듈들(120)에 마스터 클록 신호(116)의 끊임없이 재생가능하고 실질적으로 동일한 분배 지연을 제공하도록 설계된다. 마스터 클록(115)과 모듈들(150) 사이의 네트워크(112)를 통한 전파 지연은 바람직하게 최소이고, 일정하며(시간에 걸쳐 변화하지 않거나 네트워크 트래픽 같은 변수들에 의존하는 등), 그리고 모든 모듈들(150)에 대해 실질적으로 동일하다(즉, 상이한 모듈들이 실질적으로 동시에 클록 신호(116)를 수신함) 제2 네트워크(112)는 와이어 케이블들, 광섬유들, 무선 링크들 또는 이들의 조합에 의해 구현될 수 있다.
[0073] 일 실시예에서, 2개의 마스터 클록 신호들(116)은 마스터 클록(115)에 의해 제공될 수 있다.
[0074] 분배가 시간에 걸쳐 재생가능하고 일정한, 모듈들(150)에 분배된 마스터 클록 신호(116)를 사용함으로써, 각각의 모듈은 마스터 클록 신호(116)를 수신할 것이고 동작들은 수신된 마스터 클록 신호(116)에 따라, 즉 제2 시간 베이스에 따라 결정된 순간들에서 각각의 모듈에서 개시될 수 있다. 개별 모듈에서 마스터 클록 신호(116)를 수신하고 프로세싱하는 시간들의 차이들로 인해 또는 더 긴 연결 와이어의 결과(모듈로의 마스터 클록 신호(116)의 더 긴 이동 시간을 초래함)로서, 마스터 클록 신호(116)에 의해 제공된 트리거 시간은 정확하게 동시적이지 않을 수 있다. 각각의 모듈에서 수신 및 프로세싱의 차이들은 각각의 모듈에서 상대적이지만, 일정한 편차를 초래한다. 동작들의 후속적인 트리거 시작들은 동일한(재생가능한) 편차를 가질 것이고, 이는 일정한 편차를 초래한다. 그런 일정한 편차는 예컨대 오버레이 에러에 영향을 주지 않는다. 그런 일정한 편차는 또한 측정되고 보상될 수 있다.
[0075] 구형파를 포함하는 예시적인 마스터 클록 신호(116)는 도 7에 도시된다. 트리거 특성은 동작을 개시하기 위한 트리거로서 모듈들(150)에 의해 사용될 수 있는 마스터 클록 신호(116)에 대해 정의된다. 예컨대, 구형파 마스터 클록 신호의 트리거 특성은 클록 에지, 즉 상승 에지, 하강 에지, 또는 상승 및 하강 에지들 둘 모두일 수 있다. 예컨대, 신호의 주기당 1회 발생하는 트리거 특성을 가진 10MHz 클록 신호는 연속적인 트리거 특성들을 수신하는 것 사이에 100 나노초의 기간을 초래한다. 고-정확도 구형파 신호의 상승 에지는 매우 정확한 트리거 포인트를 제공할 수 있고, 이는 10MHz 클록 신호로부터 유도된 트리거의 해상도를 약 1,000 배만큼 증가시켜, 서브-나노초 정확도의 트리거 특성을 초래한다.
[0076] 실시예에서, 트리거 특성은 각각의 모듈, 예컨대 메모리(122, 132, 142)에 제공된다. 다른 실시예에서, 트리거 특성은 제어기(105) 또는 마스터 클록(115)으로부터 모듈들(150)로 전송된다. 또 다른 실시예에서, 트리거 특성은 제어기(105)에 제공된다. 나노초 정확도를 또한 허용할 수 있는 다른 상이한 트리거 특성들이 사용될 수 있다.
[0077] 트리거 특성과 조합하여 마스터 클록 신호(116)가 제2 시간 베이스를 제공한다. 제2 시간 베이스는 바람직하게 모듈들(150)의 동작들을 시작하기 위해 적어도 원해지는 정확도만큼 큰 시간 정확도를 가진 매우 정확한 시간 베이스이다. 마스터 클록 신호(116) 및 트리거 특성은 바람직하게 모듈들(150)의 동작들의 나노초 및 바람직하게 서브-나노초 (상대적) 동기화를 허용한다. 트리거 특성 및 마스터 클록(115)이 레거시 시스템에 부가될 수 있어서, 바람직하게 모듈들에서만, 단지 약간의 추가 연결들 및 몇몇 작은 소프트웨어 적응들만을 초래하고, 결과적으로 리소그래피 장치의 동작들의 동기화의 정밀도를 증가시키는 것을 주목하자.
[0078] 예컨대, 마스터 클록 신호(116)의 트리거 특성의 모든 각각의 발생이 적절한 카운트 회로를 사용하여 카운팅되면, 카운트들의 수는 제2 시간 베이스일 수 있다. 각각의 모듈(150)은 카운트 회로(125, 135, 145)가 제공될 수 있다. 명확하게 본 발명의 범위 내에서, 제2 시간 베이스를 제공하는 많은 상이한 형태들이 제공될 수 있다.
[0079] 추가 실시예에서, 트리거 특성은 또한 마스터 클록 신호(116)의 주파수를 포함한다. 마스터 클록 신호(116)의 주파수가 알려질 때, 모듈들(150)은 제1 시간 베이스의 시작 시간을 제2 시간 베이스의 시작 시간으로 변환할 수 있다.
[0080] 추가 실시예에서, 모듈들(150)에서의 제2 시간 베이스의 동기화는 모듈들(150)에 분배된 동기화('sync') 신호를 사용하여 달성될 수 있다. 일 실시예에서, 리셋 유닛(126, 136, 146)은 각각의 모듈에서 동기화 신호를 검출하고 제2 시간 베이스를 리셋하기 위해 각각의 모듈에 제공된다. 일 실시예에서, 각각의 모듈의 리셋 유닛은 동기화 신호의 검출 시 각각의 모듈의 개별 카운트 회로(125, 135, 145)를 리셋하도록 배열된다.
[0081] 일 실시예에서, 동기화 신호는 마스터 클록 회로(115)에 의해 생성되고, 제2 통신 네트워크(112)를 통해 각각의 모듈에 분배된다. 대안적으로, 동기화 신호는 별개의 유닛에 의해 생성될 수 있다. 동기화 신호는 마스터 클록 신호(116)의 편차 형태를 취할 수 있다. 편차가 제2 네트워크(112)를 통해 클록 신호(116)와 함께 전송되고, 그리고 편차가 각각의 모듈의 리셋 유닛(126, 136, 146)에 의해 수신되고 인식될 때, 각각의 모듈의 개별 카운트 회로(125, 135, 145)는 제로 값으로 리셋될 수 있다.
[0082] 시스템(100)의 동작은 이제 도 5 및 도 6에 도시된 실시예들에 관련하여 추가로 설명될 것이다. 하나의 방법은 도 5에 예시되고 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과의 제1 동작을 초기화하는 것에 대해 아래에서 설명된다. 방법은 클록 신호(116)를 생성하는 단계를 포함한다(도 5의 단계 402). 위에서 설명된 바와 같이, 클록 신호는 마스터 클록 회로(115)에 의해 생성되고 모듈들(150)에 분배될 수 있고, 이것은 제2 통신 네트워크(112)를 통해 달성될 수 있다. 본원에서 제2 시간 베이스로서 지칭되는 시간 베이스는 클록 신호(116)에 기반하여 모듈들(150)에서 생성된다(단계 403). 예컨대, 제2 시간 베이스는 모듈들(120, 130, 140) 각각의 카운트 회로(125, 135, 145)의 클록 신호로부터 생성된 카운트 값을 포함할 수 있다.
[0083] 동기화 값('동기화 값'이라 지칭됨)은 생성되고 모듈들(150)에 분배될 수 있다(단계 404). 위에서 설명된 바와 같이, 동기화 신호는 또한 마스터 클록 회로(115)에 의해 생성될 수 있고 제2 통신 네트워크(112)를 통해 모듈들(150)에 분배될 수 있다.
[0084] 동기화 신호는, 도 7에 도시된 예에 의해 예시된 바와 같이, 결합된 신호(118)를 형성하기 위해 클록 신호(116)와 결합될 수 있다. 이 예에서, 구형파 클록 신호(116)는 마스터 클록(115)에 의해 제공되고 제2 네트워크(112)를 통해 모듈들(150)에 전송된다. N번째 사이클 이후, 편차(117)가 신호에서 발생하고, 이 경우 클록 신호(116)는 전체 클록 사이클에 대해 '로우(low)'로 남아있는다. 이 편차는 동기화 신호(117)이고, 동기화 신호(117)는 클록 신호(116)의 부분으로 나타나고 따라서 결합된 신호(118)의 클록 신호와 함께 모듈들(150)에 분배된다.
[0085] 제1 동기화 값 및 제2 동기화 값이 결정된다. 제2 동기화 값은 제2 시간 베이스에서 결정된다(단계 405). 일 실시예에서, 제2 동기화 값은 제2 시간 베이스의 리셋 값이다. 제2 시간 베이스가 카운트 값인 경우, 제2 동기화 값은 미리결정된 카운트 값, 예컨대 제로 카운트 값일 수 있다. 이것은 동기화 신호(117)를 검출하고 동기화 신호(117)의 검출의 결과로서 모듈의 카운트 회로(125, 135, 145)를 리셋하기 위해 각각의 모듈(120, 130, 140)에 대해 리셋 회로(126, 136, 146)를 배열함으로써 달성될 수 있다. 예는 도 7에 예시된다. 제2 시간 베이스에 대한 트리거 값이 클록 신호의 상승 에지이면, 예컨대 각각의 모듈의 카운터(125, 135, 145)가 상승 에지들을 카운트하면, 카운트 값(제2 시간 베이스)은, 동기화 신호(117)가 수신될 때, 도시된 바와 같이 각각의 클록 사이클을 1씩, 최대 N까지 증가시킬 것이다. 이어서, 카운터는 리셋되고 동기 신호의 수신 이후 초기 값으로부터 다시 카운트하기 시작한다. 이런 방식으로, 제2 동기 값은 동기 신호(117)의 수신에 의해 결정된 제2 시간 베이스의 값에 대응한다.
[0086] 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스에서 결정된다(단계 406). 제1 시간 베이스는 제2 시간 베이스와 상이하고, 위에서 설명된 바와 같이, 제1 시간 베이스는 시간들 및/또는 분들 및/또는 초들 및/또는 이의 세분들로 측정될 수 있다. 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값은 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는데, 즉 이들은 동일한 순간을 나타낸다. 제1 동기화 값은 제1 시간 베이스의 동기화 신호(117)의 수신 시간에 따라 결정될 수 있다.
[0087] 다음으로, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값 및 시작 시간 값에 기반하여 제2 시간 베이스에서 결정된다(단계 410). 시작 트리거 값은 시작 시간 값 및 제1 동기화 값에 기반하여 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정함으로써 결정될 수 있는데, 예컨대 상대적 시작 시간은 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값과 시작 시간 값 사이의 차이로서 계산될 수 있다. 따라서, 상대적 시작 시간은 제1 동기화 값에 의해 나타내진 동기화 순간 이후 경과된 시간으로서 표현된 시작 시간을 나타낸다. 이 예에서, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 제2 시간 베이스의 값이다.
[0088] 제2 시간 베이스가 카운트 값을 포함하는 경우, 시작 트리거 값은 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간에 대응하는 카운트 값에 대응한다. 예컨대, 상대적 시작 시간이 제1 시간 베이스에서 10.5 초이고, 제2 시간 베이스가 10MHz 클록 신호의 상승 에지를 사용한 카운트 값이면, 상대적 시작 시간은 10,500,000의 카운트 값에 대응하고, 이 카운트는 시작 트리거 값을 형성할 것이다.
[0089] 이어서, 제1 동작은 관련 모듈(들)에서 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과에서 초기화된다(단계 411). 예컨대, 제1 동작은, 관련 모듈들의 카운트 회로들의 카운트 값이 시작 트리거 값과 동일할 때 초기화될 수 있다.
[0090] 다른 방법은 도 6에 예시되고 제1 시간 베이스의 제1 시작 시간 값에서 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과의 제1 동작을 초기화하는 것에 대해 아래에서 설명된다. 이 제2 방법은 도 5에 관하여 위에서 설명된 방법과 동일한 일반적인 절차를 따르고 위의 설명은 도 6의 방법에 또한 적용되지만 아래에서 설명되는 바와 같은 일부 변형들을 가진다. 비록 아래에서 설명된 바와 같이 단계들의 일부 변형이 있을 수 있지만, 단계들(520)은 제어기(105)에 의해 수행되고 단계들(522)은 관련 모듈들에 의해 수행된다.
[0091] 클록 신호(116)는 생성되고 제2 네트워크(112)를 통해 모듈들(150)에 분배된다(도 5의 단계 402와 동등한 도 6의 단계 502). 리셋(동기화) 신호(117)는 생성되고 모듈들(150)에 분배된다(단계 404와 동등한 단계 504).
[0092] 리셋 신호(117)의 수신 시, 제어기(105)는 리셋 시간(t0)을 결정하고(단계 406와 동등한 단계 506), 리셋 시간(t0)은 제1 시간 베이스에 따른 리셋 시간을 표시하는 값 또는 신호이다. 예컨대, 제1 시간 베이스가 표준 24 시간 클록 시간이면, 리셋 시간(t0)은 제1 시간 베이스의 시간들, 분들 및 초들인 12:00:00.0000에 대응할 수 있다. 제어기(105)는, 예컨대 리셋 신호(117)가 제어기(105)에 의해 검출되는 시간 값을 저장함으로써, 제1 시간 베이스에 따라 리셋 신호(117)(제2 시간 베이스에 따른 신호 또는 값임)를 리셋 시간(t0)으로 검출할 수 있다. 대안적으로, 리셋 시간(t0)은 먼저 결정되고 리셋 신호(117)는 리셋 시간(t0)에 대응하는 순간에 마스터 클록(115)에 의해(또는 제어기(105)에 의해) 전송된다.
[0093] 제어기(105)는 자신의 메모리들의 리셋 시간(t0)을 저장할 수 있는 모듈들(150)에 리셋 시간(t0)을 전송할 수 있다(단계 507). 대안적으로, 제어기(105)는 결정될 수 있고 아래에서 설명된 바와 같이 리셋 시간(t0) 대신(또는 리셋 시간(t0) 외에) 트리거 값을 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과에 전송할 수 있다. 리셋 시간(t0)은 모든 모듈들(150), 또는 모듈들의 서브세트에 전송될 수 있고, 예컨대 아래에서 설명된 바와 같은 동작을 스케줄링하기 위해 별개의 메시지 또는 명령의 부분으로서 전송될 수 있다.
[0094] 제어기(105)는, 시작 시간(t1)이 제1 시간 베이스에 따른 값 또는 신호인 경우, 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과의 동작을 시작하기 위해 시작 시간(t1)을 결정한다(단계 408와 동등한 단계 508). 예컨대, 제1 시간 베이스가 표준 24 시간 클록 시간이면, 시작 시간(t1)은 제1 시간 베이스의 12:00:08.5000, 예컨대 12:00:00.0000의 리셋 시간(t0) 이후 정확히 8.5 초에 대응할 수 있다. 제어기는 동작들의 미리결정된 스케줄로부터, 호스트 컴퓨터 시스템의 입력으로부터, 오퍼레이터의 입력으로부터, 또는 다른 소스로부터 시작 시간(t1)을 결정할 수 있다.
[0095] 제어기(105)는 시작 시간(t1)에서 동작을 시작하도록 이들 모듈들에게 명령하기 위해, 모듈들(150) 중 하나 또는 그 초과의 관련 서브세트에 어드레싱될 수 있는 명령을 전송한다(단계 509). 제어기(105)는 동일한 시작 시간(t1)을 각각 표시하는 상이한 명령들을 전송할 수 있고, 명령들은, 상이한 모듈들이 동일한 시작 시간(t1)에서 상이한 동작들을 시작하게 명령받을 수 있도록 상이한 모듈들(150)에 전송된다. 이런 방식으로, 상이한 동작들은 동일한 시작 시간에서 시작되도록 상이한 모듈들(150)에서 개시될 수 있다. 모듈들(150)은 자신의 메모리들에 시작 시간(t1)을 저장할 수 있다.
[0096] 모듈들(150)은 클록 신호(116)를 수신하고 각각의 모듈의 카운트 회로들(125, 135, 145)은 클록 신호 및 관련 트리거 특성에 따라 자신의 카운트 값들을 증분시킨다(단계 403와 동등한 단계 503). 모듈들(150)은 또한 리셋 신호(117)를 수신하고 각각의 모듈의 리셋 회로들(126, 136, 146)은 각각의 모듈의 카운트 값들의 리셋을 유발한다(단계 405와 동등한 단계 505). 이것은 제어기(105)의 제1 시간 베이스를 리셋하는데 사용되는 동일한 리셋 신호에 기반하여 각각의 모듈(150)의 제2 시간 베이스(즉, 각각의 모듈의 카운트 값)를 리셋하여, 제1 및 제2 시간 베이스들은 서로 동기화되고, 제1 시간 베이스의 시작 시간은 제2 시간 베이스의 트리거 값으로 변환될 수 있다.
[0097] 모듈들(150)은 제1 시간 베이스에 따른 수신된 시작 시간(t1)을 시작 트리거로서 동작하는 제2 시간 베이스에 따른 값 또는 신호로 변환한다(단계 410와 동등한 단계 510). 시작 트리거는 바람직하게 리셋 신호(117) 또는 리셋 시간(t0)에 관하여 결정된다. 예컨대, 제1 시간 베이스가 표준 24 시간이고 제2 시간 베이스가 카운트 값인 경우, 그리고 시작 시간(t1)이 리셋 시간(t0) 이후 8.5 초의 시간을 표시하는 경우, 시작 시간(t1)을 표시하는 명령에 의해 어드레스된 각각의 모듈은, 리셋 시간(t0)으로부터 8.5 초가 경과된 이후 모듈의 카운터에 의해 누산될 카운트 값을 계산한다.
[0098] 하나의 대안적인 실시예에서, 제어기(105) 자체는 제1 시간 베이스의 시작 시간(t1)에 대응하는 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값(t2)을 결정하고 명령(들)의 시작 트리거를 관련 모듈들(120)에 전송한다. 이 실시예에서, 제1 시간 베이스로부터 제2 시간 베이스로의 변환은 제어기(105)에서 수행되고 모듈들은 제2 시간 베이스에 따라 시작 트리거 값(t2)만이 제공된다.
[0099] 이어서, 관련된 하나 또는 그 초과의 모듈들(150)(즉, 명령이 시작 시간(t1)에서 동작을 시작하도록 어드레스되는 이들 모듈들)은 이들 카운트 회로가 시작 트리거 값(t2)에 대응하는 카운트 값을 누산하도록 대기하고, 그리고 제어기(105)로부터 수신된 명령에 따라 관련 동작을 개시한다(단계 411과 동등한 단계 511).
[00100] 리셋 시간(t0), 시작 시간(t1) 및/또는 시작 트리거(t2)는 하나 또는 그 초과의 모듈들의 동작을 스케줄링하거나 수행하기 위한 명령의 부분으로서 또는 별개로서 전송될 수 있다.
[00101] 결합된 클록 및 동기화 신호(118)의 다른 실시예가 도 8에 예시된다. 펄스 형태의 클록 신호(116) 및 동기화(리셋) 신호(177)는 결합된 클록/동기화 신호(118)를 생성하기 위해 XOR 연산을 사용하여 결합된다. XOR 결합은 201 및 202에서 반복 클록 신호(116)의 편차를 초래한다. 신호(118)는 점선에 의해 개략적으로 도시된 바와 같이 네트워크(112)를 통해 송신된다. 클록 신호(116a) 및 모듈(120)에서 수신된 코딩된 동기화/리셋 신호를 포함하는 코딩된 결합된 신호(118a)는 프로세싱 및/또는 송신 지연들로 인해 상대적 양 시프트된다. 그러나, 이 지연은 대체로 상대적이고 재생가능하다. 게다가, 제2 네트워크(112)는 바람직하게, 모듈들(150)로의 클록 신호의 송신 지연들이 모듈들 사이에서 유사하도록 설계되고, 모듈들은 바람직하게 유사한 클록 프로세싱 지연들을 경험하도록 유사하게 설계된다.
[00102] 일 실시예에서, 클록 신호(116) 및 결합된 클록/동기화 신호(118) 둘 모두는 제2 네트워크(112)를 통해 모듈들(150)에 제공된다. 결합된 카운트 및 리셋 회로(235)의 일 실시예는 도 9에 도시된다. 회로(235)는 모듈들(150)에 대한 카운트 회로(125, 135, 145) 및 리셋 회로(126, 136, 146)를 형성할 수 있고 또한 제어기(105)에 포함될 수 있다. 회로(235)는 D-플립플롭(242) 및 카운터(245)를 포함한다. 카운터(245)는 클록 신호(116)를 수신하고 카운트 값(250)을 생성하고, 카운트 값(250)은 개별 모듈(150)의 프로세서(121, 131, 141)에 대한 입력일 수 있다. D-플립플롭(242)은 클록 신호(116)(활성 로우 입력에 연결됨) 및 결합된 클록/동기화 신호(118) 둘 모두를 수신하고, 로깅에 사용될 수 있는 카운터 리셋 신호(244) 및 신호(243)를 생성한다. 카운터 리셋 신호(244)는 카운터(245)의 입력에 연결되고, 이는 클록 신호(116)의 편차가 발생하면 카운터의 리셋을 초래한다.
[00103] 도 6에 도시된 바와 같은 틱(tick) 넘버(220)는 메트로놈 신호(210)의 예시적인 넘버링을 도시한다.
[00104] 일 실시예에서, 제어기(105)는 리셋 명령을 마스터 클록(115)에 전송하도록 배열되고, 마스터 클록(115)은 후속하여 아래에 설명될 리셋 절차를 수행하고 도 10에 예시된다.
[00105] 실시예에서, 마스터 클록(115)은 제1 시간 베이스에 따른 클록 회로(118)를 가진다. 이것은 마스터 클록(115)이 제1 시간 베이스의 리셋 시간(t0)을 계산하게 하고 이를 모듈들(120, 130)에 전송하여 제1 시간 베이스의 어느 시간에서, 리셋이 수행되는지를 표시한다.
[00106] 시간(302)에서, 리셋 요청이 전송되고 리셋 절차(303)가 수행된다. 마스터 클록(115)은 제1 시간 베이스의 리셋 시간((시간들:분들:초들의) t0 = 13:00:01.326)에서 리셋 신호를 모듈들(120, 130)에 송신한다. 리셋 절차(303)의 부분으로서, 리셋 시간(t0)은 로깅되고 모듈들(120 및 130)에 제공될 수 있다. 개별 모듈들(120, 130)의 카운트 회로들(125, 135)은 리셋 신호의 수신 시 리셋된다.
[00107] 동작(316)은 모듈(120)에 의해 수행될 것이고, 상이한 동작(326)은 모듈(130)에 의해 수행될 것이고, 둘 모두의 동작들은 제1 시간 베이스의 시간(t1=13:00:05.000)에서 시작된다. 이런 제1 시작 시간은 개별 시간(tprep)을 취할 개별 모듈들(120 및 130)의 개별 준비 동작들(315 및 325)을 수행하는데 필요한 시간을 고려하여, 제어기(105)에 의해 계산 및 제공될 수 있다.
[00108] 이 예에서, 마스터 클록 신호(116)는 1/14 GHz의 주파수를 가진다. 시작 시간(t1)이 리셋 시간(t0) 이후 3.674 초이고, 카운트 회로(118)가 마스터 클록 신호(116)의 모든 각각의 사이클을 카운트할 것이기 때문에, 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값(t2)은 계산되어 모듈들(120 및 130)에 전송될 수 있다.
[00109] 일 실시예에서, 시작 트리거 값들은 특정 제약들에 의해 제한된다. 예에서, 시작 트리거 값들은 5에 의해 나누어질 수 있는 카운트들만을 취할 수 있다. 이 예에서, 시작 시간(t1)-리셋 시간(t0) = 3.674 초이고, 이는 시간(t2) = 262,428,575 카운트들의 시작 트리거 값에 대응한다. 시작 트리거 값(t2)은 제1 시간 베이스의 시작 시간(t1)과 동일한 순간에 대응한다. 모듈(120)의 카운트 회로(125)의 카운트 값(319)이 리셋 시간(t0) 이후 262,428,575(시작 시간(t1) 이후 그런 제1 카운트)에 도달할 때, 동작(316)이 모듈(120)에서 시작된다. 유사하게, 모듈(130)의 카운트 회로(135)의 카운트 값(329)이 리셋 시간(t0) 이후 262,428,575에 도달할 때, 동작(326)은 모듈(130)에서 시작된다.
[00110] 비록 동작들(316 및 326)이 시스템의 지연들로 인해 정확히 동일한 순간에 개시될 수 없지만, 개별 동작들(316 및 326)을 시작할 때 임의의 그런 지연들은 재생가능할 것이고, 이는 예컨대 1.5nm 미만, 바람직하게 1nm 미만의 리소그래피 프로세스의 오버레이 에러들을 감소시킬 것이다.
[00111] 이 실시예에서, 마스터 클록(115) 또는 개별 모듈들(120 및 130)은 제1 시간 베이스의 시작 시간(t1)을 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값(t2)으로 변환할 수 있다. 일 실시예에서, 각각의 모듈(120, 130)의 프로세서(121, 131)는 예컨대 트리거(예컨대, 클록 신호의 각각 상승하는 에지)와 결합하는 마스터 클록 신호(116)의 리셋 시간 및/또는 주파수를 고려함으로써, 시작 시간을 시작 트리거 값으로 변환할 수 있다. 이런 변환을 수행하기 위한 프로세서는 대안적으로 제어기(105) 또는 시스템들의 다른 곳에 제공될 수 있다. 일 실시예에서, 리셋 시간(t0) 및 시작 시간(t1)(및 선택적으로 또한 마스터 클록 신호(116)의 주파수 및/또는 트리거 특성)을 포함하는 변환 명령은 모듈들에 송신되는 명령에 포함된다. 일 실시예에서, 각각의 모듈의 프로세서는 그 모듈에 의해 수행되는 개별 동작을 준비하기 위해 각각의 모듈에 의해 필요한 개별 준비 시간 시작 시간(tprep)을 추가로 고려한다.
[00112] 도 10의 실시예에서, 개별 동작들(316, 326) 다음에 각각의 모듈에서 개별 랩-업(wrap-up) 동작(317, 327)이 뒤따른다. 도 10의 예는 리소그래피 시스템의 제어기(105)에 대한 변화들 없이 별개의 모듈들(120, 130)의 동작들(316, 326)의 동기화의 정확도를 증가시키기 위한 수단을 예시한다. 따라서, 종래 기술 디바이스들의 빔 편향 속도가 약 380mm/s이기 때문에, 0.5nm 미만의 동기화의 결과로서 오버레이 에러를 낮추는 것이 가능하며, 이는 0.5/0.380ns = 1.3ns의 최대 타이밍 에러를 초래한다. 그런 정밀도는 트리거 특성으로 상승 에지를 사용하는 1/14GHz의 클록 신호를 사용하여 획득될 수 있다.
[00113] 위에서 설명된 것들 외에 추가 수정들은 본 발명의 사상 및 범위에서 벗어나지 않고 본원에 설명된 구조들 및 기법들에 대해 이루어질 수 있다. 따라서, 비록 특정 실시예들이 설명되었지만, 이들은 단지 예들이고 본 발명의 범위를 제한하지 않는다.

Claims (24)

  1. 제1 시간 베이스(base)의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법으로서,
    클록(clock) 신호를 생성하는 단계(402, 116);
    상기 클록 신호(116)에 기반하여 상기 제1 모듈(120)의 제2 시간 베이스를 생성하는 단계(403);
    상기 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값을 결정하는 단계(405);
    상기 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는 상기 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값을 결정하는 단계(406);
    상기 제1 시간 베이스의 상기 제1 동기화 값 및 상기 시작 시간 값에 기반하여 상기 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값을 결정하는 단계(410); 및
    상기 제1 모듈의 상기 제2 시간 베이스의 상기 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 상기 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하는 단계(411)
    를 포함하고,
    상기 제2 시간 베이스는 상기 제1 시간 베이스와 상이한,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제2 시간 베이스는 상기 클록 신호(116)로부터 생성된 카운트(count) 값을 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 동기화 값을 결정하는 단계(406)는 동기화 신호(117)를 생성하는 단계, 및 상기 제1 시간 베이스의 상기 동기화 신호의 수신 시간에 따라 상기 제1 동기화 값을 결정하는 단계(406)를 포함하고, 상기 제2 동기화 값은 상기 동기화 신호의 수신에 의해 결정된 상기 제2 시간 베이스의 값에 대응하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  4. 제3 항에 있어서,
    상기 동기화 신호(117)는 상기 제1 동기화 값을 결정(406)하고 상기 제2 동기화 값을 결정(405)하는데 사용되는 단일 결합된 신호(118)를 형성하기 위해 상기 클록 신호(116)와 결합되는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 시작 트리거 값을 결정하는 단계는 상기 시작 시간 값 및 상기 제1 동기화 값에 기반하여 상기 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하는 단계를 포함하고, 상기 시작 트리거 값은 상기 제1 시간 베이스의 상기 상대적 시작 시간에 대응하는 상기 제2 시간 베이스의 값인,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  6. 제5 항에 있어서,
    상기 시작 트리거 값은 상기 제1 시간 베이스의 상기 상대적 시작 시간에 대응하는 상기 제2 시간 베이스의 카운트 값에 대응하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  7. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 동작은, 상기 카운트 값이 상기 시작 트리거 값에 대응할 때 초기화되는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 방법은 제2 모듈(130)의 제2 동작을 개시하는 단계를 더 포함하고, 상기 제2 동작을 개시하는 단계는:
    상기 클록 신호(116)에 기반하여 상기 제2 모듈(130)의 제2 시간 베이스를 생성하는 단계(403); 및
    상기 제2 모듈의 상기 제2 시간 베이스의 상기 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 상기 제2 모듈(130)의 제2 동작을 초기화하는 단계(411)
    를 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  9. 제8 항에 있어서,
    상기 제2 시간 베이스는 상기 클록 신호(116)로부터 상기 제1 모듈 및 상기 제2 모듈의 각각에서 생성된 카운트 값을 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  10. 제8 항에 있어서,
    상기 제2 동기화 값은 상기 제1 모듈 및 상기 제2 모듈의 각각에서의 카운트 값의 리셋에 대응하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  11. 제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템으로서,
    클록 신호(116)를 생성(402)하기 위한 클록(115);
    상기 클록 신호(116)에 기반하여 상기 제1 모듈(120)의 제2 시간 베이스를 생성(403)하기 위한 카운트 회로;
    상기 제2 시간 베이스의 제2 동기화 값에 대응하는 상기 제1 시간 베이스의 제1 동기화 값을 결정하기 위한 제1 회로;
    상기 제1 시간 베이스의 상기 제1 동기화 값 및 상기 시작 시간 값에 기반하여 상기 제2 시간 베이스의 시작 트리거 값을 결정(410)하기 위한 제2 회로
    를 포함하고;
    상기 제1 모듈(120)은 상기 제2 시간 베이스의 상기 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 상기 제1 모듈의 제1 동작을 초기화(411)하기 위한 제3 회로를 포함하고, 그리고
    상기 제2 시간 베이스는 상기 제1 시간 베이스와 상이한,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제2 시간 베이스를 생성하기 위한 회로는 상기 클록 신호(116)로부터 카운트 값을 생성하기 위한 카운트 회로(126)를 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 동기화 값을 결정하기 위한 제1 회로는 상기 제1 시간 베이스의 동기화 신호(117)의 수신 시간에 따라 상기 제1 동기화 값을 결정하도록 구성되고, 그리고 상기 시스템은 상기 제1 모듈(120)에 의한 동기화 신호(117)의 수신에 의해 결정된 상기 제2 시간 베이스의 값에 대응하는 상기 제2 동기화 값을 결정하도록 구성된, 상기 제2 동기화 값을 결정하기 위한 제4 회로를 더 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  14. 제12 항에 있어서,
    상기 제2 동기화 값은 상기 카운트 회로(126)의 리셋 값에 대응하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  15. 제11 항에 있어서,
    상기 시작 트리거 값을 결정하기 위한 제2 회로는 상기 시작 시간 값 및 상기 제1 동기화 값에 기반하여 상기 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하도록 구성되고, 상기 시작 트리거 값은 상기 제1 시간 베이스의 상기 상대적 시작 시간에 대응하는 상기 제2 시간 베이스의 값인,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  16. 제11 항에 있어서,
    상기 시작 트리거 값을 결정하기 위한 제2 회로는 상기 시작 시간 값 및 상기 제1 동기화 값에 기반하여 상기 제1 시간 베이스의 상대적 시작 시간을 결정하도록 구성되고, 상기 시작 트리거 값은 상기 제1 시간 베이스의 상기 상대적 시작 시간에 대응하는 상기 제2 시간 베이스의 카운트 값에 대응하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  17. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 동작을 초기화하기 위한 제3 회로는, 카운트 값이 상기 시작 트리거 값에 대응할 때 상기 제1 동작을 초기화하도록 구성되는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  18. 제11 항에 있어서,
    상기 시스템(100)은 제2 모듈(130)의 제2 동작을 초기화하도록 추가로 구성되고, 상기 시스템은:
    상기 클록 신호(116)에 기반하여 상기 제2 모듈(130)의 제2 시간 베이스를 생성(403)하기 위한 제5 회로를 더 포함하고,
    상기 제2 모듈(130)은 상기 제2 시간 베이스의 상기 시작 트리거 값 및 현재 값에 기반하여 상기 제2 모듈의 제2 동작을 초기화(411) 하기 위한 제6 회로를 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  19. 제18 항에 있어서,
    상기 제2 시간 베이스는 상기 클록 신호(116)로부터 상기 제1 모듈 및 상기 제2 모듈의 각각에서 생성된 카운트 값을 포함하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  20. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 모듈(120)은 제1 네트워크(112)를 통해 제어기(105)에 연결되는 복수의 모듈들(150) 중 하나이고, 상기 제어기는 상기 제1 동작을 식별하는 하나 또는 그 초과의 명령들을 상기 제1 네트워크를 통해 상기 제1 모듈에 송신하는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
  21. 하전 입자 리소그래피 시스템으로서,
    하전 입자 빔(1200)을 생성하기 위한 하전 입자 빔 소스(1010);
    상기 하전 입자 빔(1200)으로부터 복수의 하전 입자 빔릿(beamlet)들(1220)을 생성하기 위한 개구(aperture) 어레이(1030);
    상기 하전 입자 빔릿들(1220) 중 선택된 빔릿들을 블랭킹(blanking)하기 위한 블랭킹 전극들을 포함하는 빔릿 블랭커(blanker) 어레이(1050)를 포함하는 빔 스위칭 모듈(2030);
    패턴 데이터를 상기 빔 스위칭 모듈에 송신하기 위한 패턴 데이터 스트리밍(streaming) 모듈;
    타겟(1300)의 표면을 가로질러 언블랭킹(unblanked) 빔릿들(1240)을 스캐닝하기 위한 빔 편향기 어레이(1090)를 포함하는 투사 광학기기 모듈(2040);
    상기 타겟(1300)을 운반하기 위한 이동가능 스테이지(1320); 및
    상기 이동가능 스테이지(1320)의 움직임을 제어하기 위한 스테이지 제어 모듈
    을 포함하고,
    상기 시스템은 제11 항에 따른 시스템을 더 포함하는,
    하전 입자 리소그래피 시스템.
  22. 제21 항에 있어서,
    제1 모듈은 스테이지 제어 모듈을 포함하고 제1 동작은 스캔 동안 상기 스테이지의 미리결정된 움직임을 포함하고;
    제2 모듈은 상기 투사 광학기기 모듈(2040)을 포함하고 제2 동작은 타겟(1300)의 표면을 가로질러 언블랭킹 빔릿들(1240)의 미리결정된 스캐닝 편향을 포함하고; 그리고
    제3 모듈은 패턴 데이터 스트리밍 모듈을 포함하고 제3 동작은 상기 하전 입자 빔릿(1220)들 중 선택된 빔릿들을 블랭킹하기 위한 상기 빔 스위칭 모듈(2030)에 데이터의 미리결정된 부분의 송신을 포함하는,
    하전 입자 리소그래피 시스템.
  23. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 동기화 값 및 상기 제2 동기화 값은 동일한 시간 순간을 나타내는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 방법.
  24. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 동기화 값 및 상기 제2 동기화 값은 동일한 시간 순간을 나타내는,
    제1 시간 베이스의 시작 시간 값에서 제1 모듈(120)의 제1 동작을 초기화하기 위한 시스템.
KR1020187021720A 2015-12-28 2016-12-23 리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법 KR102022434B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/979,583 2015-12-28
US14/979,583 US10096450B2 (en) 2015-12-28 2015-12-28 Control system and method for lithography apparatus
PCT/EP2016/082618 WO2017114794A1 (en) 2015-12-28 2016-12-23 Control system and method for lithography apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20180093081A KR20180093081A (ko) 2018-08-20
KR102022434B1 true KR102022434B1 (ko) 2019-09-18

Family

ID=57708590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020187021720A KR102022434B1 (ko) 2015-12-28 2016-12-23 리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10096450B2 (ko)
EP (1) EP3398271B1 (ko)
JP (1) JP6555703B2 (ko)
KR (1) KR102022434B1 (ko)
CN (1) CN108702229B (ko)
WO (1) WO2017114794A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10593509B2 (en) 2018-07-17 2020-03-17 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device, multi-beam blanker for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device
US10483080B1 (en) * 2018-07-17 2019-11-19 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Charged particle beam device, multi-beam blanker for a charged particle beam device, and method for operating a charged particle beam device
CN108919612B (zh) * 2018-07-27 2021-08-31 中国电子科技集团公司第十三研究所 电子束曝光方法、电子束光刻方法及金属线条制备方法
DE102018133703B4 (de) * 2018-12-29 2020-08-06 Carl Zeiss Multisem Gmbh Vorrichtung zur Erzeugung einer Vielzahl von Teilchenstrahlen und Vielstrahl-Teilchenstrahlsysteme
CN113032015B (zh) * 2019-12-24 2022-02-18 中国科学院沈阳自动化研究所 一种用于精密运动控制的通信方法
DE102020107738B3 (de) * 2020-03-20 2021-01-14 Carl Zeiss Multisem Gmbh Teilchenstrahl-System mit einer Multipol-Linsen-Sequenz zur unabhängigen Fokussierung einer Vielzahl von Einzel-Teilchenstrahlen, seine Verwendung und zugehöriges Verfahren

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4215380A1 (de) 1992-05-11 1993-11-18 Siemens Ag Verfahren zum Synchronisieren von lokalen Zeitgebern eines Automatisierungssystems
US5661700A (en) * 1994-07-18 1997-08-26 Allen-Bradley Company, Inc. Synchronizable local clock for industrial controller system
DE19626287A1 (de) 1996-07-01 1997-02-13 Abb Management Ag Verfahren zum Betrieb eines Antriebssystems und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US6535528B1 (en) 1999-03-15 2003-03-18 Nortel Networks Limited DS256 synchronous digital interface
DE10145218A1 (de) * 2001-09-13 2003-04-03 Bosch Gmbh Robert Verfahren und Vorrichtung zur Zeitbestimmung in einem Bussystem und Bussystem
EP2302457B1 (en) 2002-10-25 2016-03-30 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system
CN101414126B (zh) * 2002-10-30 2012-02-15 迈普尔平版印刷Ip有限公司 电子束曝光系统
US7129502B2 (en) 2003-03-10 2006-10-31 Mapper Lithography Ip B.V. Apparatus for generating a plurality of beamlets
ATE524822T1 (de) 2003-05-28 2011-09-15 Mapper Lithography Ip Bv Belichtungsverfahren für strahlen aus geladenen teilchen
CN1829945B (zh) 2003-07-30 2010-05-05 迈普尔平版印刷Ip有限公司 调制器电路
ATE426312T1 (de) 2004-01-13 2009-04-15 Nxp Bv Synchronisation von zeitbasiseinheiten
US7709815B2 (en) 2005-09-16 2010-05-04 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system and projection method
WO2008053277A1 (en) 2006-10-31 2008-05-08 Freescale Semiconductor, Inc. Network and method for setting a time-base of a node in the network
EP2132613A4 (en) 2007-03-01 2016-05-04 Qulsar Sweden Ab ELECTRONIC TIMER SYSTEM, TIME CONTROL AND GENERATION OF TIMING SIGNALS
CN101731011B (zh) * 2007-05-11 2014-05-28 奥迪耐特有限公司 用于设置接收器延迟时间的方法
KR101481950B1 (ko) 2008-02-26 2015-01-14 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 투사 렌즈 배열체
KR101570974B1 (ko) 2008-02-26 2015-11-23 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 투사 렌즈 배열체
US8445869B2 (en) 2008-04-15 2013-05-21 Mapper Lithography Ip B.V. Projection lens arrangement
EP2301059A1 (en) 2008-05-23 2011-03-30 Mapper Lithography IP B.V. Imaging system
CN102113083B (zh) 2008-06-04 2016-04-06 迈普尔平版印刷Ip有限公司 对目标进行曝光的方法和系统
CA2755750A1 (en) 2008-08-21 2010-02-25 Chronologic Pty Ltd Synchronisation and timing method and apparatus
EP2335354A1 (en) * 2008-09-30 2011-06-22 Rambus Inc. Signal calibration methods and apparatuses
EP2406810B1 (en) 2008-10-01 2014-09-17 Mapper Lithography IP B.V. Electrostatic lens structure
WO2010094719A1 (en) 2009-02-22 2010-08-26 Mapper Lithography Ip B.V. Charged particle lithography apparatus and method of generating vacuum in a vacuum chamber
US8640070B2 (en) 2010-11-08 2014-01-28 International Business Machines Corporation Method and infrastructure for cycle-reproducible simulation on large scale digital circuits on a coordinated set of field-programmable gate arrays (FPGAs)
US8884255B2 (en) 2010-11-13 2014-11-11 Mapper Lithography Ip B.V. Data path for lithography apparatus
WO2012127469A1 (en) * 2011-03-22 2012-09-27 Given Imaging Ltd. Systems and methods for synchronizing between an in-vivo device and a localization system
EP2575159B1 (en) * 2011-09-30 2016-04-20 Carl Zeiss Microscopy GmbH Particle beam system and method for operating the same
DE102014225867A1 (de) * 2014-12-15 2016-06-16 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Arbeitstaktsignals einer Positionsmesseinrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
JP6555703B2 (ja) 2019-08-07
EP3398271A1 (en) 2018-11-07
JP2019506006A (ja) 2019-02-28
WO2017114794A1 (en) 2017-07-06
CN108702229B (zh) 2019-10-11
US10096450B2 (en) 2018-10-09
CN108702229A (zh) 2018-10-23
EP3398271B1 (en) 2024-01-31
KR20180093081A (ko) 2018-08-20
US20170186582A1 (en) 2017-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102022434B1 (ko) 리소그래피 장치에 대한 제어 시스템 및 방법
JP2019506006A5 (ko)
US11994614B2 (en) Testing device for testing a distance sensor operating with electromagnetic waves
JP2018502526A (ja) システム内のグローバルクロックの提供方法及び装置
WO2021245818A1 (ja) 計測装置、計測方法、および計測プログラム
NL2018196B1 (en) Control system and method for lithography apparatus
KR100686806B1 (ko) 레이저 스캐너를 이용한 기판 패턴 노광 방법
JP2015012036A (ja) ブランキング装置、描画装置、および物品の製造方法
JPS6010720A (ja) 電子ビ−ム制御装置
JP2015119043A (ja) 描画装置、描画方法及び物品の製造方法
JP2016541091A5 (ja) イオン注入装置及びその動作方法、イオン注入装置におけるデュアルモード動作用のシステム
US2646561A (en) Moving object pulse echo selection circuit for radar systems
CN115015961A (zh) 利用李萨如扫描的矩形2d图案生成的方法
JP5432630B2 (ja) 荷電粒子ビーム描画装置、偏向器間のタイミング調整方法、及び偏向アンプの故障検出方法
US20120228516A1 (en) Charged particle beam drawing apparatus and article manufacturing method using same
CN114325660A (zh) 对激光雷达传感器的扫描性能的调设
RU2689297C1 (ru) Способ синхронизации устройств в накопительных электронных синхротронах источников синхротронного излучения
US20150155135A1 (en) Drawing apparatus, drawing method, and method for fabricating article
US9977337B2 (en) Exposure apparatus and exposure method
US2480152A (en) Position indicating system
KR102489016B1 (ko) 이온 빔 스캐너, 이온 주입기 및 스팟 이온 빔을 제어하는 방법
JP7264167B2 (ja) レーザーレーダー装置及びフレームデータの補正システム
CN115184955B (zh) 一种激光多层目标回波模拟装置及方法
Switka et al. Synchrotron Radiation Diagnostics Performance at ELSA
CN103995430A (zh) 一种转镜式高速相机底片火花度数的调节方法及装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
N231 Notification of change of applicant
GRNT Written decision to grant