KR102017068B1 - Precision Rotation Stage - Google Patents

Precision Rotation Stage Download PDF

Info

Publication number
KR102017068B1
KR102017068B1 KR1020170116868A KR20170116868A KR102017068B1 KR 102017068 B1 KR102017068 B1 KR 102017068B1 KR 1020170116868 A KR1020170116868 A KR 1020170116868A KR 20170116868 A KR20170116868 A KR 20170116868A KR 102017068 B1 KR102017068 B1 KR 102017068B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
rotation
coupled
main
stage
operating
Prior art date
Application number
KR1020170116868A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20190029386A (en
Inventor
김정수
최형
Original Assignee
주식회사 필옵틱스
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 필옵틱스 filed Critical 주식회사 필옵틱스
Priority to KR1020170116868A priority Critical patent/KR102017068B1/en
Publication of KR20190029386A publication Critical patent/KR20190029386A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR102017068B1 publication Critical patent/KR102017068B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68764—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a movable susceptor, stage or support, others than those only rotating on their own vertical axis, e.g. susceptors on a rotating caroussel
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Abstract

본 발명은 정밀 회전 스테이지 장치에 관한 것으로, 탄성 변형 특성을 갖는 메인 탄성 회전 모듈에 형성된 메인 회전중심을 기준으로 상부 스테이지를 회전 이동하도록 함으로써, 회전중심을 정확하게 유지할 수 있고, 이에 따라 정밀한 미세 회전 이동이 가능하고 회전 각도에 대한 미세 위치 정렬 작업이 가능하며, 회전 구동부에 대한 동작 제어를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 상부 스테이지의 회전 이동 거리를 더욱 미세한 단위로 정확하게 제어할 수 있는 정밀 회전 스테이지 장치를 제공한다.The present invention relates to a precision rotation stage device, by rotating the upper stage relative to the main rotation center formed on the main elastic rotation module having the elastic deformation characteristics, it is possible to maintain the center of rotation accurately, according to the precise fine rotation movement It is possible to precisely align the rotation angle, and to simplify the motion control for the rotation drive, and to provide the precise rotation stage device that can precisely control the rotation movement distance of the upper stage in finer units. do.

Description

정밀 회전 스테이지 장치{Precision Rotation Stage}Precision Rotation Stage Device

본 발명은 정밀 회전 스테이지 장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 탄성 변형 특성을 갖는 메인 탄성 회전 모듈에 형성된 메인 회전중심을 기준으로 상부 스테이지를 회전 이동하도록 함으로써, 회전중심을 정확하게 유지할 수 있고, 이에 따라 정밀한 미세 회전 이동이 가능하고 회전 각도에 대한 미세 위치 정렬 작업이 가능하며, 회전 구동부에 대한 동작 제어를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 상부 스테이지의 회전 이동 거리를 더욱 미세한 단위로 정확하게 제어할 수 있는 정밀 회전 스테이지 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a precision rotating stage device. More specifically, by rotating the upper stage relative to the main rotation center formed in the main elastic rotation module having the elastic deformation characteristics, it is possible to maintain the center of rotation accurately, thereby enabling precise fine rotational movement and the rotation angle The present invention relates to a precision rotation stage device capable of fine position alignment operation, and to simplify the operation control for the rotation drive unit, and to precisely control the rotation movement distance of the upper stage in more fine units.

최근에는 기술 발전에 따라 반도체 등의 공정이 초미세화되고 있으며, 이에 따라 공정에 사용되는 장비에는 수 마이크로 또는 나노 수준의 위치 결정을 정확하게 수행할 수 있는 정밀 스테이지 장치가 널리 사용되고 있다.In recent years, with the development of technology, processes such as semiconductors have been miniaturized, and accordingly, precision stage devices capable of precisely performing micro- or nano-level positioning are widely used in the equipment used in the process.

이러한 위치 결정용 정밀 스테이지 장치는 전자 주사 현미경에서의 대물 위치 조정, 셀 조작, 마이크로 가공 및 조립, 광학 장치의 위치 및 자세 결정, 웨이퍼 정렬 등 최근 첨단 기술 분야에서 필수적인 장비로 사용되고 있다.Such precise positioning devices for positioning are used as essential equipment in recent high technology fields such as object positioning in an electron scanning microscope, cell manipulation, micromachining and assembly, positioning and attitude of optical devices, and wafer alignment.

일반적인 정밀 스테이지 장치는 스테이지의 평면 상에 형성된 X축 및 Y축 방향으로 스테이지를 미세 직선 이동시켜 평면상의 위치를 정렬시키도록 구성되고 있는데, 최근에는 이러한 직선 이동 방식을 통한 위치 정렬 기능 이외에도 스테이지의 평면 상에서 스테이지를 수평 회전 이동시켜 평면상의 위치를 정렬시키는 회전 이동 방식을 통한 위치 정렬 기능 또한 아울러 요구되고 있다.A general precision stage device is configured to align a position on a plane by moving the stage finely in the X-axis and Y-axis directions formed on the plane of the stage. There is also a need for a position alignment function through a rotational movement method of aligning a position on a plane by horizontally rotating the stage on the plane.

스테이지를 별도의 회전축을 중심으로 수 마이크로 또는 나노 수준의 미세 회전 이동을 정확하게 수행하기 위해서는 회전 이동에 대한 높은 분해능이 요구될 뿐만 아니라 기구 요소들에 대한 가공 및 조립 정밀도가 고도의 수준으로 요구된다.In order to accurately perform micro- and nano-scale micro-rotational movements about separate stages of rotation, not only high resolution of rotational movements is required, but also high levels of machining and assembly precision for instrument elements.

특히, 스테이지의 회전 이동 중심인 회전축의 경우, 일반적인 샤프트를 이용한 힌지 구조 또는 베어링 등을 사용하게 되면, 그 구조 자체에서 발생하는 가공 및 조립 오차 또는 마모, 마찰 등에 의해 나노 수준의 정밀도를 유지할 수 없다. In particular, in the case of a rotating shaft which is the rotational movement center of the stage, if a hinge structure or a bearing using a general shaft is used, nano-level precision cannot be maintained due to machining and assembly errors or wear and friction occurring in the structure itself. .

따라서, 최근에는 플렉셔(flexure) 힌지를 사용한 스테이지 장치들이 개발되고 있으나, 플렉셔 힌지의 경우 구조가 복잡하여 기구학 해석이 복잡해지고 이에 따라 장치의 동작 제어가 어렵고 복잡해지는 등의 문제가 있다.Therefore, in recent years, stage devices using flexure hinges have been developed. However, in the case of the flexure hinge, there are problems such as complicated structure and complicated kinematic analysis, which makes the operation control of the device difficult and complicated.

국내등록특허 제10-0497729호Domestic Patent No. 10-0497729

본 발명은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위해 발명한 것으로서, 본 발명의 목적은 탄성 변형 특성을 갖는 메인 탄성 회전 모듈에 형성된 메인 회전중심을 기준으로 상부 스테이지를 회전 이동하도록 함으로써, 별도의 힌지축이나 또는 베어링 등의 회전축 구성요소가 불필요하고, 이에 따라 회전축 구성요소의 가공 및 조립 공차 또는 마찰, 마모 등에 의해 발생하는 회전 이동의 오차를 방지하고, 회전중심을 정확하게 유지할 수 있으며, 이에 따라 정밀한 미세 회전 이동이 가능하고 회전 각도에 대한 미세 위치 정렬 작업이 가능한 정밀 회전 스테이지 장치를 제공하는 것이다.The present invention is invented to solve the problems of the prior art, the object of the present invention is to rotate the upper stage relative to the main rotation center formed on the main elastic rotation module having the elastic deformation characteristics, so that a separate hinge axis Alternatively, rotational shaft components such as bearings are unnecessary, thereby preventing errors in rotational movement caused by machining and assembly tolerances or friction, wear, etc. of the rotary shaft components, and maintaining the center of rotation accurately, thereby providing precise fine rotation. It is to provide a precision rotating stage device that can move and fine position alignment with respect to the rotation angle.

본 발명의 다른 목적은 상부 스테이지를 회전 이동시키는 회전 구동 유닛의 회전 중심을 별도의 탄성 변형 특성을 갖는 작동 탄성 회전 모듈의 작동 회전중심으로 형성함으로써, 회전 구동 유닛의 동작 또한 마찬가지로 별도의 회전축 구성요소가 불필요하여 회전 중심을 정확하게 유지할 수 있고, 상부 스테이지에 대한 회전 구동 상태를 정확하게 제어할 수 있는 정밀 회전 스테이지 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to form the center of rotation of the rotary drive unit for rotating the upper stage to the operating center of rotation of the operating elastic rotary module having a separate elastic deformation characteristics, the operation of the rotary drive unit is likewise a separate rotary shaft component It is necessary to provide a precision rotation stage device capable of accurately maintaining the rotation center and accurately controlling the rotation driving state with respect to the upper stage.

본 발명의 또 다른 목적은 회전 구동 유닛의 작동 구조를 입력 작동 거리에 비해 출력 작동 거리가 작도록 함으로써, 모터와 같은 회전 구동부에 의한 작동 거리를 크게 제어하더라도 상부 스테이지의 회전 이동 거리는 작게 유지되므로, 회전 구동부에 대한 동작 제어를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 상부 스테이지의 회전 이동 거리를 더욱 미세한 단위로 정확하게 제어할 수 있는 정밀 회전 스테이지 장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to make the output operation distance of the operating structure of the rotary drive unit smaller than the input operating distance, so that the rotational movement distance of the upper stage is kept small even though the operating distance by the rotary driving unit such as a motor is largely controlled. In addition to simplifying the operation control for the rotation drive unit, it is possible to provide a precision rotation stage device capable of precisely controlling the rotation movement distance of the upper stage in finer units.

본 발명은, 베이스 스테이지; 상기 베이스 스테이지의 상부에 수평 방향으로 회전 이동 가능하게 배치되는 상부 스테이지; 상기 상부 스테이지를 수평 방향으로 회전 이동시키는 회전 구동 유닛; 및 상기 베이스 스테이지와 상부 스테이지 사이에 배치되며, 중심부에 상기 상부 스테이지의 메인 회전중심이 형성되도록 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되며, 상기 메인 회전중심을 기준으로 타측단부가 상기 상부 스테이지와 함께 일체로 회전 이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성되는 메인 탄성 회전 모듈을 포함하는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치를 제공한다.The present invention, the base stage; An upper stage disposed rotatably in a horizontal direction on an upper portion of the base stage; A rotation driving unit for rotating the upper stage in a horizontal direction; And one side end coupled to the base stage and the other end coupled to the upper stage such that a main rotation center of the upper stage is formed at a center thereof, and the other end is coupled to the upper stage, based on the main rotation center. It is provided with a precision rotation stage device, characterized in that the other end portion comprises a main elastic rotation module that is elastically deformable so as to rotate integrally with the upper stage.

이때, 상기 메인 탄성 회전 모듈은, 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되는 제 1 메인 판 스프링; 및 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되며, 상기 제 1 메인 판 스프링의 하부에 위치하며 상기 제 1 메인 판 스프링과 교차하는 방향으로 배치되는 제 2 메인 판 스프링을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 상기 메인 회전중심이 형성될 수 있다.In this case, the main elastic rotating module, the first main leaf spring is coupled to one end of the base stage and the other end is coupled to the upper stage; And a second main plate spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the upper stage and positioned below the first main leaf spring and intersecting the first main leaf spring. The first and second main leaf springs may be disposed to intersect with each other at their respective centers, and the main rotation center may be formed at the intersection points.

또한, 상기 메인 탄성 회전 모듈은, 하단이 상기 베이스 스테이지의 상부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 일측단부에 각각 결합되는 메인 베이스 연결 바디; 및 상단이 상기 상부 스테이지의 하부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 타측단부에 각각 결합되는 메인 상부 연결 바디를 더 포함하고, 상기 메인 베이스 연결 바디와 메인 상부 연결 바디는 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치될 수 있다.The main elastic rotating module may further include: a main base connecting body having a lower end fixedly coupled to an upper part of the base stage, and having side surfaces coupled to one side ends of the first and second main leaf springs, respectively; And a main upper connection body having an upper end fixedly coupled to a lower portion of the upper stage, and having a side surface coupled to the other end portions of the first and second main leaf springs, respectively. Each of the four regions separated by the intersecting structure of the first and second main leaf springs may be disposed in diagonal areas with each other.

또한, 상기 회전 구동 유닛은, 일측 방향으로 길게 형성되며 작동 회전중심을 기준으로 수평 회전 이동하도록 장착되는 작동 바디; 중심부에 상기 작동 회전중심이 형성되도록 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되며, 상기 작동 회전중심을 기준으로 타측단부가 상기 작동 바디와 함께 일체로 회전이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성되는 작동 탄성 회전 모듈; 상기 작동 바디를 상기 작동 회전중심을 기준으로 수평 회전 이동시키는 회전 구동부; 및 상기 작동 바디의 회전 이동에 연동하여 상기 상부 스테이지가 상기 메인 회전중심을 기준으로 회전하도록 상기 작동 바디와 상기 상부 스테이지를 연동시키는 연동 수단을 포함할 수 있다.In addition, the rotation drive unit, the operation body is formed long in one direction and mounted to move horizontally rotated relative to the operating rotation center; One end is coupled to the base stage and the other end is coupled to the operating body to form the operating rotation center in the center, and the elastic deformation so that the other end rotates integrally with the operating body relative to the operating rotation center An actuating revolving module, possibly formed; A rotation driver for horizontally moving the operation body with respect to the operation rotation center; And an interlocking means for interlocking the operating body and the upper stage so that the upper stage rotates with respect to the main rotation center in association with the rotational movement of the operating body.

또한, 상기 작동 탄성 회전 모듈은, 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되는 제 1 작동 판 스프링; 및 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되며, 상기 제 1 작동 판 스프링의 하부에 위치하며 상기 제 1 작동 판 스프링과 교차하는 방향으로 배치되는 제 2 작동 판 스프링을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 상기 작동 회전중심이 형성될 수 있다.In addition, the operating elastic rotating module, the first end of the leaf spring coupled to the base stage and the other end is coupled to the operating body; And a second operating plate spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the operating body and positioned below the first operating plate spring and arranged in a direction crossing the first operating plate spring. And the first and second actuating leaf springs are arranged to intersect with each other at their respective centers so that the actuation center of rotation may be formed at the intersecting points.

또한, 상기 작동 탄성 회전 모듈은, 하단이 상기 베이스 스테이지의 상부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 일측단부에 각각 결합되는 작동 베이스 연결 바디를 더 포함하고, 상기 작동 바디에는 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 타측단부에 결합되도록 길이 방향에 대한 직각 방향으로 돌출되는 결합 돌출부가 형성되며, 상기 작동 베이스 연결 바디와 상기 결합 돌출부가 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치될 수 있다.In addition, the actuation elastic rotation module, the lower end is fixedly coupled to the upper portion of the base stage and the side further comprises an actuating base connecting body coupled to one end of the first and second actuation leaf spring, respectively, the actuating body The coupling protrusion is formed to protrude in a direction perpendicular to the longitudinal direction to be coupled to the other end of the first and second operating plate spring, wherein the operating base connecting body and the coupling protrusion is the first and second operating plate spring Each of the four areas separated by the intersecting structure of may be disposed in a diagonal area with each other.

또한, 상기 작동 회전중심은 상기 작동 바디의 길이 방향 전체 구간 중 중간 구간에 위치하도록 형성되고, 상기 연동 수단은 상기 작동 바디의 일측 끝단에 결합되고, 상기 회전 구동부는 상기 작동 바디의 타측 끝단부를 가압하도록 배치되며, 상기 작동 회전중심에서 상기 작동 바디의 길이 방향을 따라 상기 회전 구동부의 가압 지점까지의 거리(L1)가 상기 연동 수단까지의 거리(L2)보다 더 길게 형성될 수 있다.In addition, the operating rotation center is formed so as to be located in the middle section of the entire longitudinal section of the operating body, the interlocking means is coupled to one end of the operating body, the rotation drive portion presses the other end of the operating body The distance L1 from the actuation center of rotation to the pressing point of the rotation driving unit in the longitudinal direction of the actuation body may be longer than the distance L2 to the interlocking means.

또한, 상기 연동 수단은, 상기 작동 바디의 일측 끝단에 결합되어 상기 작동 바디와 함께 상기 작동 회전중심을 기준으로 일체로 회전하는 지지 바디; 상단이 상기 상부 스테이지에 결합되어 상기 상부 스테이지와 함께 상기 메인 회전중심을 기준으로 일체로 회전하는 상부 고정 바디; 및 상기 상부 고정 바디가 상기 지지 바디에 탄성 밀착 접촉하도록 상기 상부 고정 바디에 탄성력을 가하는 탄성 스프링을 포함할 수 있다.In addition, the linkage means, the support body coupled to one end of the operating body to rotate integrally with respect to the operating center of rotation with the operating body; An upper fixing body having an upper end coupled to the upper stage and integrally rotating with respect to the main rotation center with the upper stage; And an elastic spring for applying an elastic force to the upper fixed body such that the upper fixed body elastically contacts the support body.

본 발명에 의하면, 탄성 변형 특성을 갖는 메인 탄성 회전 모듈에 형성된 메인 회전중심을 기준으로 상부 스테이지를 회전 이동하도록 함으로써, 별도의 힌지축이나 또는 베어링 등의 회전축 구성요소가 불필요하고, 이에 따라 회전축 구성요소의 가공 및 조립 공차 또는 마찰, 마모 등에 의해 발생하는 회전 이동의 오차를 방지하고, 회전중심을 정확하게 유지할 수 있으며, 이에 따라 정밀한 미세 회전 이동이 가능하고 회전 각도에 대한 미세 위치 정렬 작업이 가능한 효과가 있다.According to the present invention, by rotating the upper stage relative to the main rotation center formed in the main elastic rotation module having the elastic deformation characteristics, there is no need for a separate shaft axis, such as a hinge shaft or a bearing, and thus the rotation shaft configuration It is possible to prevent the error of rotational movement caused by machining and assembly tolerances of the element or friction and wear, and to maintain the center of rotation accurately, thereby enabling precise fine rotational movement and fine position alignment with respect to the rotation angle. There is.

또한, 상부 스테이지를 회전 이동시키는 회전 구동 유닛의 회전 중심을 별도의 탄성 변형 특성을 갖는 작동 탄성 회전 모듈의 작동 회전중심으로 형성함으로써, 회전 구동 유닛의 동작 또한 마찬가지로 별도의 회전축 구성요소가 불필요하여 회전 중심을 정확하게 유지할 수 있고, 상부 스테이지에 대한 회전 구동 상태를 정확하게 제어할 수 있는 효과가 있다.In addition, by forming the rotation center of the rotation drive unit for rotating the upper stage to the operating rotation center of the operation elastic rotation module having a separate elastic deformation characteristics, the operation of the rotation drive unit also likewise eliminates the need for a separate rotation axis component It is possible to maintain the center accurately and to accurately control the rotational driving state with respect to the upper stage.

또한, 회전 구동 유닛의 작동 구조를 입력 작동 거리에 비해 출력 작동 거리가 작도록 함으로써, 모터와 같은 회전 구동부에 의한 작동 거리를 크게 제어하더라도 상부 스테이지의 회전 이동 거리는 작게 유지되므로, 회전 구동부에 대한 동작 제어를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 상부 스테이지의 회전 이동 거리를 더욱 미세한 단위로 정확하게 제어할 수 있는 효과가 있다.In addition, by making the operation structure of the rotary drive unit smaller than the input operating distance, even if the operating distance by the rotary drive unit such as a motor is largely controlled, since the rotational movement distance of the upper stage is kept small, the operation for the rotary drive unit In addition to simplifying the control, there is an effect of accurately controlling the rotational movement distance of the upper stage in finer units.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 외형을 개략적으로 도시한 사시도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 구성을 일부 분해하여 개략적으로 도시한 일부 분해 사시도,
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 메인 탄성 회전 모듈의 구성을 분해하여 개략적으로 도시한 분해 사시도,
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 메인 탄성 회전 모듈의 배치 구조를 개략적으로 도시한 단면도,
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구성을 개략적으로 도시한 사시도,
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구성을 일부 분해하여 개략적으로 도시한 분해 사시도,
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구조를 개략적으로 도시한 단면도,
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 작동 상태를 개략적으로 도시한 작동 상태도이다.1 is a perspective view schematically showing the external appearance of a precision rotating stage device according to an embodiment of the present invention,
2 is a partially exploded perspective view schematically illustrating a partially disassembled configuration of a precision rotating stage device according to an embodiment of the present invention;
3 is an exploded perspective view schematically illustrating an exploded configuration of a main elastic rotation module according to an embodiment of the present invention;
4 is a cross-sectional view schematically showing the arrangement structure of the main elastic rotation module according to an embodiment of the present invention,
5 is a perspective view schematically showing the configuration of a rotation drive unit according to an embodiment of the present invention;
6 is an exploded perspective view schematically illustrating a partially disassembled configuration of a rotation drive unit according to an embodiment of the present invention;
7 is a cross-sectional view schematically showing the structure of a rotation drive unit according to an embodiment of the present invention;
8 is an operating state diagram schematically showing an operating state of the precision rotating stage device according to an embodiment of the present invention.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다. 우선 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. First of all, in adding reference numerals to the components of each drawing, it should be noted that the same reference numerals are used as much as possible even if displayed on different drawings. In addition, in describing the present invention, when it is determined that the detailed description of the related well-known configuration or function may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 외형을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 구성을 일부 분해하여 개략적으로 도시한 일부 분해 사시도이고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 메인 탄성 회전 모듈의 구성을 분해하여 개략적으로 도시한 분해 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 메인 탄성 회전 모듈의 배치 구조를 개략적으로 도시한 단면도이다.1 is a perspective view schematically showing the external appearance of the precision rotating stage apparatus according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a schematic view showing a partially exploded configuration of the precision rotating stage apparatus according to an embodiment of the present invention 3 is a partially exploded perspective view, FIG. 3 is an exploded perspective view schematically illustrating an exploded configuration of a main elastic rotation module according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a layout of the main elastic rotation module according to an embodiment of the present invention. It is sectional drawing which shows schematic structure.

본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치는 탄성 변형하는 방식으로 회전중심을 형성하여 미세 회전 이동이 가능한 장치로서, 베이스 스테이지(10)와, 상부 스테이지(20)와, 회전 구동 유닛(30)과, 메인 탄성 회전 모듈(40)을 포함하여 구성된다.Precision rotating stage device according to an embodiment of the present invention is a device capable of fine rotational movement by forming the center of rotation in an elastically deforming manner, the base stage 10, the upper stage 20, and the rotation drive unit 30 And a main elastic rotation module 40.

베이스 스테이지(10)는 전체 장치의 기본 지지 구조를 이루는 것으로, 평평한 플레이트 형태로 형성될 수 있다. The base stage 10 forms a basic support structure of the entire apparatus and may be formed in a flat plate shape.

상부 스테이지(20)는 베이스 스테이지(10)의 상부에 배치되며 수평 방향으로 회전 이동 가능하게 장착된다. 상부 스테이지(20)의 상면에는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 기판 등의 작업 대상물(1)이 고정 안착되어 상부 스테이지(20)와 함께 일체로 이동한다. 따라서, 상부 스테이지(20)를 수평 회전 이동시킴으로써, 상부 스테이지(20)에 고정 안착된 작업 대상물(1)의 수평 회전 각도를 미세 조절할 수 있다.The upper stage 20 is disposed above the base stage 10 and is mounted to be rotatable in the horizontal direction. As shown in FIGS. 1 and 2, a work object 1, such as a substrate, is fixedly seated on the upper surface of the upper stage 20 to move together with the upper stage 20 integrally. Therefore, by horizontally moving the upper stage 20, the horizontal rotation angle of the work object 1 fixedly seated on the upper stage 20 can be finely adjusted.

이때, 상부 스테이지(20)는 베이스 스테이지(10)로부터 별도의 지지 수단(22)들에 의해 수직 방향 유동이 구속된 상태로 수평 회전 이동이 지지되도록 구성되며, 지지 수단(22)들은 롤러 베어링, 마그네트 등의 가이드 구조를 통해 구성될 수 있다. 또한, 상부 스테이지(20)의 일측에는 상부 스테이지(20)의 회전 각도 등을 측정하고 동작을 제어할 수 있는 측정 제어부(21)가 장착될 수 있다.At this time, the upper stage 20 is configured to support the horizontal rotational movement in a state in which the vertical flow is constrained by separate support means 22 from the base stage 10, the support means 22 are roller bearings, It may be configured through a guide structure such as a magnet. In addition, one side of the upper stage 20 may be equipped with a measurement control unit 21 for measuring the rotation angle and the like of the upper stage 20 and control the operation.

회전 구동 유닛(30)은 베이스 스테이지(10)와 상부 스테이지(20) 사이에 배치되어 상부 스테이지(20)를 수평 방향으로 회전 이동시키도록 구성된다. 이러한 회전 구동 유닛(30)은 지렛대 원리를 이용한 작동 방식을 이용한 것으로, 작동 바디(400)와, 작동 탄성 회전 모듈(500)과, 회전 구동부(600)와, 연동 수단(700)을 포함하여 구성될 수 있는데, 이에 대한 상세한 설명은 도 5 내지 도 8을 중심으로 후술한다.The rotation drive unit 30 is disposed between the base stage 10 and the upper stage 20 so as to rotate the upper stage 20 in the horizontal direction. The rotation drive unit 30 uses an operating method using the lever principle, and includes an operation body 400, an operation elastic rotation module 500, a rotation drive unit 600, and an interlocking means 700. This may be described in detail later with reference to FIGS. 5 to 8.

메인 탄성 회전 모듈(40)은 베이스 스테이지(10)와 상부 스테이지(20) 사이에 배치되며, 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 상부 스테이지(20)에 결합되어 중심부에 상부 스테이지(20)의 메인 회전중심(H1)이 형성되고, 메인 회전중심(H1)을 기준으로 타측단부가 상부 스테이지(20)와 함께 일체로 회전 이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성된다.The main elastic rotation module 40 is disposed between the base stage 10 and the upper stage 20, one end is coupled to the base stage 10, the other end is coupled to the upper stage 20, the upper stage in the center A main rotation center H1 of 20 is formed, and the other end portion is elastically deformable to integrally rotate with the upper stage 20 based on the main rotation center H1.

이러한 구성에 따라 상부 스테이지(20)는 탄성 변형 특성을 갖는 메인 탄성 회전 모듈(40)에 형성된 메인 회전중심(H1)을 기준으로 회전 이동하게 되므로, 종래 기술과 달리 별도의 힌지축이나 또는 베어링 등의 회전축 구성요소가 불필요하고, 이에 따라 회전축 구성요소의 가공 및 조립 공차 또는 마찰, 마모 등에 의해 발생하는 회전 이동의 오차를 방지할 수 있어 정밀한 회전 이동을 가능하게 한다. According to this configuration, the upper stage 20 is rotated based on the main rotation center H1 formed in the main elastic rotation module 40 having elastic deformation characteristics. The rotational shaft component of the rotary shaft component is unnecessary, and thus errors in rotational movement caused by machining and assembly tolerances or friction, wear, etc. of the rotary shaft component can be prevented, thereby enabling precise rotational movement.

메인 탄성 회전 모듈(40)의 구성을 좀더 자세히 살펴보면, 메인 탄성 회전 모듈(40)은, 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 상부 스테이지(20)에 결합되는 제 1 메인 판 스프링(110)과, 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 상부 스테이지(20)에 결합되며 제 1 메인 판 스프링(110)의 하부에 위치하는 제 2 메인 판 스프링(120)을 포함하여 구성된다. Looking at the configuration of the main elastic rotation module 40 in more detail, the main elastic rotation module 40, the first main leaf spring, one end is coupled to the base stage 10 and the other end is coupled to the upper stage 20 110, and a second main leaf spring 120 coupled to the base stage 10 and having the other end coupled to the upper stage 20 and positioned below the first main leaf spring 110. It is configured by.

이때, 제 2 메인 판 스프링(120)은 제 1 메인 판 스프링(110)과 교차하는 방향으로 배치되는데, 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 메인 회전중심(H1)이 형성되도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)은 각각 탄성력을 갖는 평판 형태로 형성되며, 각각의 중심부에서 서로 직교하는 방향으로 배치될 수 있다. At this time, the second main plate spring 120 is disposed in a direction crossing with the first main plate spring 110, the first and second main plate springs 110, 120 are arranged to cross each other at each center to cross each other. The main rotation center (H1) may be formed at the point. For example, the first and second main leaf springs 110 and 120 may each have a flat plate shape having elastic force, and may be disposed in a direction orthogonal to each other at each center.

또한, 메인 탄성 회전 모듈(40)은, 하단이 베이스 스테이지(10)의 상부에 고정 결합되며 측면이 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)의 일측단부에 각각 결합되는 메인 베이스 연결 바디(210)와, 상단이 상부 스테이지(20)의 하부에 고정 결합되며 측면이 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)의 타측단부에 각각 결합되는 메인 상부 연결 바디(220)를 더 포함하여 구성될 수 있다. 이때, 메인 베이스 연결 바디(210)와 메인 상부 연결 바디(220)는 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치될 수 있다.In addition, the main elastic rotation module 40, the lower end is fixedly coupled to the upper portion of the base stage 10 and the main base connecting body 210 is coupled to one side end of the first and second main leaf spring (110, 120), respectively And a main upper connection body 220 having an upper end fixedly coupled to a lower portion of the upper stage 20, and having side surfaces coupled to other end portions of the first and second main leaf springs 110 and 120, respectively. have. In this case, the main base connecting body 210 and the main upper connecting body 220 may be disposed in diagonal regions of each of four areas separated by a cross structure of the first and second main leaf springs 110 and 120.

제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)은 상대적으로 얇은 평판 형태로 형성되므로, 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)의 강도 보강 및 메인 베이스 연결 바디(210) 및 메인 상부 연결 바디(220)와의 결합력 향상을 위해 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)은 일측단부 및 타측단부의 일면에 별도의 결합 블록(140)이 결합된 상태로 메인 베이스 연결 바디(210) 및 메인 상부 연결 바디(220)와 결합될 수 있다.Since the first and second main leaf springs 110 and 120 are formed in a relatively thin flat plate shape, the strength of the first and second main leaf springs 110 and 120 and the main base connecting body 210 and the main upper connecting body 220 are strengthened. The main base connecting body 210 and the main upper connecting body in a state in which the first and second main leaf springs 110 and 120 have separate coupling blocks 140 coupled to one side and one side of the other end to improve the coupling force with And may be combined with 220.

한편, 제 2 메인 판 스프링(120)의 하부에 별도의 제 3 메인 판 스프링(130)이 제 2 메인 판 스프링(120)과 직교하는 방향으로 추가 배치될 수 있으며, 마찬가지로, 제 3 메인 판 스프링(130)의 하부에 제 4 메인 판 스프링(미도시)이 제 3 메인 판 스프링(130)과 직교하는 방향으로 추가 배치될 수 있으며, 동일한 방식으로 n개의 메인 판 스프링이 추가 배치될 수 있다.Meanwhile, a separate third main plate spring 130 may be further disposed below the second main plate spring 120 in a direction orthogonal to the second main plate spring 120, and likewise, the third main plate spring A fourth main leaf spring (not shown) may be further disposed below the 130 in a direction orthogonal to the third main leaf spring 130, and n main leaf springs may be additionally disposed in the same manner.

이와 같이 메인 탄성 회전 모듈(40)은 적어도 2개의 메인 판 스프링(110,120)이 서로 교차하는 방향으로 배치되므로, 교차하는 지점에 메인 회전중심(H1)이 형성되고, 상부 스테이지(20)에 수평 회전력이 작용하면, 메인 회전중심(H1)을 기준으로 복수개의 메인 판 스프링의 타측단부가 회전 이동하는 방식으로 탄성 변형하며 상부 스테이지(20)와 함께 회전 이동하게 된다(도 8 참조). As described above, since the main elastic rotation module 40 is disposed in a direction in which at least two main leaf springs 110 and 120 cross each other, a main rotation center H1 is formed at an intersection point, and a horizontal rotational force on the upper stage 20. When this action, the other end of the plurality of the main leaf spring with respect to the main rotation center (H1) is elastically deformed in such a way that the rotational movement and the rotational movement with the upper stage 20 (see Fig. 8).

이러한 제 1 및 제 2 메인 판 스프링(110,120)은 각각 독립적으로 탄성 변형하도록 서로 접합되지 않고 별도의 객체로 배치될 수 있으며, 각각 독립적으로 탄성 변형하더라도 그 작동 구조상 상호 교차 지점에서 메인 회전중심(H1)이 형성된다.The first and second main leaf springs 110 and 120 may be disposed as separate objects without being bonded to each other to independently elastically deform each other, and even if each independently elastically deformed, the main center of rotation H1 at an intersection point in operation structure thereof. ) Is formed.

한편, 상부 스테이지(20)가 메인 탄성 회전 모듈(40)의 메인 회전중심(H1)을 기준으로 회전하는 과정에서 상부 스테이지(20)의 회전 방향 위치 정밀도 향상을 위해 상부 스테이지(20)의 회전 이동과는 역방향의 회전력을 상부 스테이지(20)에 가할 수 있도록 도 2에 도시된 바와 같이 별도의 탄성 스프링(310)이 장착될 수 있다. 이러한 탄성 스프링(310)은 일단이 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타단이 상부 스테이지(20)에 결합되며, 각각 베이스 스테이지(10) 및 상부 스테이지(20)에 연결된 별도의 고정 블록(320,330)을 통해 베이스 스테이지(10) 및 상부 스테이지(20)에 결합될 수 있다.On the other hand, in the process of the upper stage 20 is rotated relative to the main center of rotation (H1) of the main elastic rotation module 40 and the rotational movement of the upper stage 20 to improve the position accuracy in the rotation direction of the upper stage 20 As shown in FIG. 2, a separate elastic spring 310 may be mounted to apply reverse rotational force to the upper stage 20. One end of the elastic spring 310 is coupled to the base stage 10 and the other end is coupled to the upper stage 20, and separate fixing blocks 320 and 330 connected to the base stage 10 and the upper stage 20, respectively. It may be coupled to the base stage 10 and the upper stage 20 through.

이와 같은 구성에 따라 상부 스테이지(20)는 회전 구동 유닛(30)에 의해 회전 구동되어 베이스 스테이지(10)에 대해 수평 회전 이동하게 되는데, 이때, 메인 탄성 회전 모듈(40)에 형성된 메인 회전중심(H1)을 기준으로 탄성 회전 이동하므로, 일반적인 별도의 회전축 구성요소(힌지축, 베어링 등)가 불필요하여 이에 따른 가공 및 조립 공차, 마찰, 마모 등이 발생하지 않아 회전중심을 정확하게 유지할 수 있으며, 이에 따라 정밀한 미세 회전 이동이 가능하고 이에 따른 위치 정렬 작업이 가능하다.According to this configuration, the upper stage 20 is driven to rotate by the rotation driving unit 30 to move horizontally with respect to the base stage 10. At this time, the main rotation center formed in the main elastic rotation module 40 ( As it rotates elastically based on H1), general rotational shaft components (hinge shafts, bearings, etc.) are unnecessary, and machining and assembly tolerances, friction, and abrasion do not occur, thereby maintaining the center of rotation accurately. Therefore, it is possible to precisely rotate and move the position accordingly.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구성을 개략적으로 도시한 사시도이고, 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구성을 일부 분해하여 개략적으로 도시한 분해 사시도이고, 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛의 구조를 개략적으로 도시한 단면도이고, 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 정밀 회전 스테이지 장치의 작동 상태를 개략적으로 도시한 작동 상태도이다.5 is a perspective view schematically illustrating a configuration of a rotation drive unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an exploded perspective view schematically illustrating a partially disassembled configuration of a rotation drive unit according to an embodiment of the present invention. 7 is a cross-sectional view schematically showing a structure of a rotational drive unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 8 schematically illustrates an operation state of a precision rotating stage device according to an embodiment of the present invention. State diagram.

본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동 유닛(30)은 상부 스테이지(20)를 메인 회전중심(H1)을 기준으로 수평 회전 이동시키는 구성으로, 작동 회전중심(H2)을 기준으로 수평 회전 이동하는 작동 바디(400)와, 작동 회전중심(H2)을 형성하며 작동 바디(400)와 함께 탄성 변형하며 회전하는 작동 탄성 회전 모듈(500)과, 작동 바디(400)를 수평 회전 이동시키는 회전 구동부(600)와, 작동 바디(400)의 회전에 연동하여 상부 스테이지(20)가 회전 이동하도록 작동 바디(400)와 상부 스테이지(20)를 상호 연동시키는 연동 수단(700)을 포함하여 구성된다.The rotation drive unit 30 according to an embodiment of the present invention is configured to horizontally move the upper stage 20 based on the main rotation center H1, and horizontally move based on the operating rotation center H2. An actuating body 400, an actuating elastic rotating module 500 that forms an actuating center of rotation H2 and elastically deforms and rotates together with the actuating body 400, and a rotatable driving unit for horizontally moving the actuating body 400. 600 and an interlocking means 700 for interlocking the operating body 400 and the upper stage 20 so that the upper stage 20 rotates in association with the rotation of the operating body 400.

작동 바디(400)는 일측 방향으로 길게 형성되며 작동 탄성 회전 모듈(500)에 형성되는 작동 회전중심(H2)을 기준으로 수평 회전 이동하도록 장착된다. 이러한 작동 바디(400)는 회전 구동부(600)의 회전 구동력을 상부 스테이지(20) 측으로 전달하는 동력 전달 수단으로 기능한다.The operation body 400 is formed to be elongated in one direction and mounted to move horizontally with respect to the operation rotation center H2 formed in the operation elastic rotation module 500. The operation body 400 functions as a power transmission means for transmitting the rotational driving force of the rotation drive unit 600 to the upper stage 20 side.

작동 탄성 회전 모듈(500)은 중심부에 작동 회전중심(H2)이 형성되도록 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 작동 바디(400)에 결합되며, 작동 회전중심(H2)을 기준으로 타측단부가 작동 바디(400)와 함께 일체로 회전이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성된다. The operation elastic rotation module 500 has one end coupled to the base stage 10 and the other end coupled to the operation body 400 such that an operation rotation center H2 is formed at the center thereof, and based on the operation rotation center H2. The other end is formed to be elastically deformable to move integrally with the operation body 400.

작동 탄성 회전 모듈(500)을 좀더 구체적으로 살펴보면, 작동 탄성 회전 모듈(500)은, 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 작동 바디(400)에 결합되는 제 1 작동 판 스프링(510)과, 일측단부가 베이스 스테이지(10)에 결합되고 타측단부가 작동 바디(400)에 결합되며 제 1 작동 판 스프링(510)의 하부에 위치하는 제 2 작동 판 스프링(520)을 포함하여 구성된다. Looking more specifically at the actuation elastic rotation module 500, the actuation elastic rotation module 500, the first operating plate spring (one end is coupled to the base stage 10 and the other end is coupled to the operation body 400 ( 510, and a second actuating plate spring 520 coupled to the base stage 10, the other end coupled to the actuating body 400, and positioned below the first actuating plate spring 510. It is composed.

이때, 제 2 작동 판 스프링(520)은 제 1 작동 판 스프링(510)과 교차하는 방향으로 배치되는데, 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 작동 회전중심(H2)이 형성되도록 구성될 수 있다. 예를 들면, 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)은 각각 탄성력을 갖는 평판 형태로 형성되며, 각각의 중심부에서 서로 직교하는 방향으로 배치될 수 있다. At this time, the second operating plate spring 520 is disposed in the direction intersecting with the first operating plate spring 510, the first and second operating plate springs (510, 520) are arranged so as to cross each other at each central portion to cross each other. It can be configured to form an operating center of rotation (H2) at the point. For example, the first and second actuating plate springs 510 and 520 may each be formed in a flat plate shape having elastic force, and may be disposed in directions perpendicular to each other at each center.

또한, 작동 탄성 회전 모듈(500)은, 하단이 베이스 스테이지(10)의 상부에 고정 결합되며 측면이 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)의 일측단부에 각각 결합되는 작동 베이스 연결 바디(550)를 더 포함할 수 있다. 이때, 작동 바디(400)에는 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)의 타측단부에 결합되도록 길이 방향에 대한 직각 방향으로 돌출되는 결합 돌출부(410)가 형성될 수 있다. 이 경우, 작동 베이스 연결 바디(550)와 결합 돌출부(410)는 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치될 수 있다.In addition, the operation elastic rotation module 500, the lower end is fixedly coupled to the upper portion of the base stage 10 and the side is coupled to the one end of the first and second operating leaf springs (510, 520), respectively, the operating base connecting body 550 ) May be further included. In this case, the coupling body 410 may protrude in the direction perpendicular to the longitudinal direction to be coupled to the other end of the first and second operating plate springs 510 and 520. In this case, the actuating base connecting body 550 and the engaging protrusion 410 may be disposed in diagonal areas with each other among the four areas separated by the intersecting structure of the first and second actuating leaf springs 510 and 520.

제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)은 상대적으로 얇은 평판 형태로 형성되므로, 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)의 강도 보강 및 작동 베이스 연결 바디(550) 및 결합 돌출부(410)와의 결합력 향상을 위해 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)은 일측단부 및 타측단부의 일면에 별도의 결합 블록(540)이 결합된 상태로 작동 베이스 연결 바디(550) 및 결합 돌출부(410)와 결합될 수 있다.Since the first and second actuating leaf springs 510 and 520 are formed in a relatively thin flat plate shape, the first and second actuating leaf springs 510 and 520 are reinforced with the strength and the actuating base connecting body 550 and the engaging protrusion 410. The first and second actuating plate springs 510 and 520 may be coupled to the actuating base connecting body 550 and the engaging protrusion 410 in a state where a separate coupling block 540 is coupled to one side and one side of the other end to improve the coupling force. Can be combined.

한편, 제 2 작동 판 스프링(520)의 하부에 별도의 제 3 작동 판 스프링(530)이 제 2 작동 판 스프링(520)과 직교하는 방향으로 추가 배치될 수 있으며, 마찬가지로, 제 3 작동 판 스프링(530)의 하부에 제 4 작동 판 스프링(미도시)이 제 3 작동 판 스프링(530)과 직교하는 방향으로 추가 배치될 수 있으며, 동일한 방식으로 n개의 메인 판 스프링이 추가 배치될 수 있다.Meanwhile, a separate third operating plate spring 530 may be further disposed below the second operating plate spring 520 in a direction orthogonal to the second operating plate spring 520, and likewise, the third operating plate spring A fourth operating plate spring (not shown) may be further disposed below the 530 in a direction orthogonal to the third operating plate spring 530, and n main plate springs may be additionally disposed in the same manner.

이와 같이 작동 탄성 회전 모듈(500)은 적어도 2개의 작동 판 스프링(510,520)이 서로 교차하는 방향으로 배치되므로, 교차하는 지점에 작동 회전중심(H2)이 형성되고, 작동 바디(400)의 일측 끝단이 가압 또는 견인되면, 작동 회전중심(H2)을 기준으로 복수개의 작동 판 스프링이 탄성 변형하며 작동 바디(400)가 회전하게 된다(도 8 참조).As described above, since the at least two operating plate springs 510 and 520 are disposed in the direction in which the operating elastic rotation module 500 crosses each other, an operating rotation center H2 is formed at the crossing point, and one end of the operating body 400 is formed. When pressurized or pulled, the plurality of operating plate springs are elastically deformed with respect to the operating rotation center H2 and the operating body 400 rotates (see FIG. 8).

이러한 제 1 및 제 2 작동 판 스프링(510,520)은 각각 독립적으로 탄성 변형하도록 서로 접합되지 않고 별도의 객체로 배치될 수 있으며, 각각 독립적으로 탄성 변형하더라도 그 작동 구조상 상호 교차 지점에서 작동 회전중심(H2)이 형성된다.The first and second operating plate springs 510 and 520 may be disposed as separate objects without being bonded to each other so as to independently elastically deform, and each of the first and second operating plate springs 510 and 520 may be disposed as separate objects. ) Is formed.

이와 같이 작동 바디(400)가 작동 탄성 회전 모듈(500)의 작동 회전중심(H2)을 기준으로 회전하도록 함으로써, 작동 바디(400)의 회전 작동시 별도의 힌지축 또는 베어링과 같은 회전축 구성요소가 불필요하여 회전축 구성요소의 가공 및 조립 공차 또는 마찰, 마모 등에 의해 발생하는 회전 이동의 오차를 방지하고, 회전중심을 정확하게 유지할 수 있어 작동 바디(400)의 회전 이동을 정확하게 제어할 수 있으며, 이에 따라 상부 스테이지(20)의 회전 이동 또한 정확하게 제어할 수 있다.As such, by allowing the operating body 400 to rotate based on the operating center of rotation H2 of the operating elastic rotating module 500, a rotating shaft component such as a separate hinge shaft or a bearing is provided during the rotating operation of the operating body 400. It is unnecessary to prevent the error of rotational movement caused by machining and assembly tolerances of the rotating shaft component or friction, wear, etc., it is possible to maintain the center of rotation accurately, thereby accurately controlling the rotational movement of the operating body 400, accordingly The rotational movement of the upper stage 20 can also be accurately controlled.

한편, 작동 회전중심(H2)은 작동 바디(400)의 길이 방향 전체 구간 중 중간 구간에 위치하도록 형성되고, 연동 수단(700)은 작동 바디(400)의 일측 끝단에 결합되고, 회전 구동부(600)는 작동 바디(400)의 타측 끝단부를 가압하도록 배치되며, 작동 회전중심(H2)에서 작동 바디(400)의 길이 방향을 따라 회전 구동부(600)의 가압 지점까지의 거리(L1)가 연동 수단(700)까지의 거리(L2)보다 더 길게 형성되도록 구성된다.On the other hand, the operating rotation center (H2) is formed to be located in the middle section of the entire longitudinal section of the operating body 400, the interlocking means 700 is coupled to one end of the operating body 400, the rotary drive unit 600 ) Is arranged to press the other end of the operating body 400, the distance (L1) from the operating center of rotation (H2) to the pressing point of the rotary drive unit 600 along the longitudinal direction of the operating body 400 is interlocked means It is configured to be formed longer than the distance (L2) to 700.

이와 같이 L1을 L2보다 더 길게 형성함으로써, 지렛대 원리에 따라 회전 구동부(600)에 요구되는 입력 하중을 상대적으로 감소시킬 수 있어 효율적인 운용이 가능하며, 특히, 회전 구동부(600)의 가압 또는 견인에 의한 작동 바디(400)의 타측 끝단부 이동 거리에 비해 연동 수단(700)이 결합된 작동 바디(400)의 일측 끝단부의 이동 거리가 상대적으로 짧아 연동 수단(700)에 대한 미세 이동을 상대적으로 작게 형성할 수 있고, 이에 따라 상부 스테이지(20)의 회전 이동 또한 작게 형성할 수 있다.In this way, by forming L1 longer than L2, the input load required for the rotary drive unit 600 can be relatively reduced according to the lever principle, so that efficient operation is possible. In particular, the pressurization or towing of the rotary drive unit 600 is possible. Compared to the movement distance of the other end of the operation body 400 by the movement distance of one end of the operation body 400 coupled to the interlocking means 700 is relatively short, so that the fine movement with respect to the interlocking means 700 is relatively small. In this case, the rotational movement of the upper stage 20 may also be reduced.

즉, 회전 구동부(600)에 의한 작동 바디(400)의 타측단부의 이동 거리를 상대적으로 크게 형성하더라도, 작동 바디(400)의 일측단부의 이동 거리는 이보다 작게 형성되므로, 작동 바디(400)의 일측단부에 결합된 연동 수단(700)에 의해 연동되는 상부 스테이지(20)의 회전 이동 거리 또한 상대적으로 작게 형성할 수 있다.That is, even if the movement distance of the other end of the operation body 400 by the rotation drive unit 600 is relatively large, the movement distance of one end of the operation body 400 is smaller than this, so that one side of the operation body 400 Rotational movement distance of the upper stage 20 that is interlocked by the interlocking means 700 coupled to the end may also be relatively small.

따라서, 회전 구동부(600)의 작동 거리를 크게 제어하더라도 상부 스테이지(20)의 회전 이동 거리는 상대적으로 작게 유지되므로, 회전 구동부(600)에 대한 동작 제어를 단순화할 수 있을 뿐만 아니라 상부 스테이지(20)의 회전 이동 거리를 더욱 미세한 단위로 정확하게 제어할 수 있다.Therefore, even if the operating distance of the rotation driver 600 is largely controlled, since the rotational movement distance of the upper stage 20 is kept relatively small, not only the operation control for the rotation driver 600 can be simplified, but also the upper stage 20 is controlled. The rotational movement distance of the can be precisely controlled in finer units.

회전 구동부(600)는 작동 바디(400)를 작동 회전중심(H2)을 기준으로 수평 회전 이동시키는 구성으로, 작동 바디(400)의 타측 끝단부를 가압하거나 견인할 수 있는 다양한 방식으로 구성될 수 있다. 본 발명의 일 실시예에 따른 회전 구동부(600)는, 전원을 공급받아 작동하는 구동 모터(610)와, 구동 모터(610)의 구동에 의해 전후 직선 이동하며 작동 바디(400)의 끝단부를 가압 또는 견인하는 가압 블록(620)을 포함하여 구성된다. 가압 블록(620)의 끝단에는 작동 바디(400)와 접촉하는 지점에 접촉 롤러(630)가 장착될 수 있으며, 가압 블록(620)은 별도의 LM 가이드(640)에 연결되어 직선 이동 경로가 가이드될 수 있다. 또한, 가압 블록(620)과 작동 바디(400)는 별도의 탄성 스프링(650)에 의해 밀착 접촉 상태가 유지되도록 구성될 수 있다.The rotation driver 600 is configured to horizontally move the operation body 400 based on the operation rotation center H2, and may be configured in various ways to press or pull the other end of the operation body 400. . The rotary drive unit 600 according to an exemplary embodiment of the present invention may move back and forth linearly by driving the driving motor 610 and the driving motor 610 to be supplied with power, and press the end of the operating body 400. Or it comprises a pressing block 620 to pull. At the end of the pressure block 620, a contact roller 630 may be mounted at the point of contact with the operation body 400, the pressure block 620 is connected to a separate LM guide 640, so that the linear movement path is guided. Can be. In addition, the pressing block 620 and the operation body 400 may be configured to maintain a close contact state by a separate elastic spring (650).

연동 수단(700)은 작동 바디(400)의 회전 이동에 연동하여 상부 스테이지(20)가 메인 회전중심(H1)을 기준으로 회전하도록 작동 바디(400)와 상부 스테이지(20)를 연동시키는 구성으로, 작동 바디(400)의 일측 끝단에 결합되어 작동 바디(400)와 함께 작동 회전중심(H2)을 기준으로 일체로 회전하는 지지 바디(710)와, 상단이 상부 스테이지(20)에 결합되어 상부 스테이지(20)와 함께 메인 회전중심(H1)을 기준으로 일체로 회전하는 상부 고정 바디(720)와, 상부 고정 바디(720)가 지지 바디(710)에 탄성 밀착 접촉하도록 상부 고정 바디(720)에 탄성력을 가하는 탄성 스프링(730)을 포함하여 구성된다. The interlocking means 700 is configured to interlock the operating body 400 and the upper stage 20 so that the upper stage 20 rotates with respect to the main rotation center H1 in association with the rotational movement of the operating body 400. The support body 710 is coupled to one end of the operation body 400 and integrally rotates based on the operation rotation center H2 together with the operation body 400, and the upper end is coupled to the upper stage 20 so that the upper part is coupled to the upper stage 20. The upper fixing body 720 which rotates integrally with the stage 20 about the main rotation center H1, and the upper fixing body 720 so that the upper fixing body 720 elastically contacts the support body 710. It is configured to include an elastic spring 730 to apply an elastic force to.

탄성 스프링(730)은 일단이 지지 바디(710)에 결합되고 타단은 상부 고정 바디(720)에 결합되는데, 상부 고정 바디(720)에는 별도의 결합 로드(721)가 결합되어 탄성 스프링(730)의 타단에 결합된다. 결합 로드(721)와 탄성 스프링(730)은 결합 고리가 서로 걸림 상태로 맞물림되어 자유 회전 가능한 상태로 결합된다. 지지 바디(710)에는 탄성력에 의해 밀착 접촉하는 상부 고정 바디(720)와 롤링 접촉 상태를 유지할 수 있도록 접촉 롤러(740)가 결합된다. One end of the elastic spring 730 is coupled to the support body 710 and the other end thereof is coupled to the upper fixing body 720. The upper fixing body 720 has a separate coupling rod 721 coupled to the elastic spring 730. Is coupled to the other end of the. The coupling rod 721 and the elastic spring 730 are engaged with each other in a state where the engagement ring is engaged with each other so as to be freely rotatable. The support roller 740 is coupled to the support body 710 to maintain the rolling contact state with the upper fixed body 720 which is in close contact with the elastic force.

이러한 구성에 따라 연동 수단(700)의 지지 바디(710)는 작동 바디(400)에 결합되어 일체로 회전하므로, 작동 탄성 회전 모듈(500)의 작동 회전중심(H2)을 기준으로 회전하고, 상부 고정 바디(720)는 상부 스테이지(20)에 결합되어 일체로 회전하므로, 메인 탄성 회전 모듈(40)의 메인 회전중심(H1)을 기준으로 회전한다. 따라서, 작동 바디(400)가 회전 구동부(600)에 의해 작동 회전중심(H2)을 기준으로 회전하면, 지지 바디(710)가 일체로 회전하고, 이에 따라 지지 바디(710)에 결합된 탄성 스프링(730)의 탄성력이 작용하여 상부 고정 바디(720)를 견인하게 되며, 상부 고정 바디(720)는 작동 회전중심(H2)이 아닌 메인 회전중심(H1)을 기준으로 상부 스테이지(20)와 함께 회전하게 된다.According to this configuration, since the support body 710 of the interlocking means 700 is coupled to the operating body 400 to rotate integrally, the support body 710 rotates based on the operating rotation center H2 of the operating elastic rotation module 500, and Since the fixed body 720 is coupled to the upper stage 20 and rotates integrally, the fixed body 720 rotates based on the main rotation center H1 of the main elastic rotation module 40. Therefore, when the operating body 400 is rotated about the operating rotation center (H2) by the rotation drive unit 600, the support body 710 is rotated integrally, and thus an elastic spring coupled to the support body 710 The elastic force of the 730 acts to pull the upper fixed body 720, the upper fixed body 720 is with the upper stage 20 relative to the main rotation center (H1) rather than the operating rotation center (H2). Will rotate.

즉, 도 8의 (a) 상태에서 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이 회전 구동부(600)가 작동 바디(400)의 끝단부를 가압하면, 작동 바디(400)는 작동 회전중심(H2)을 기준으로 θ1만큼 회전하고, 이에 따라 연동 수단(700)의 지지 바디(710) 또한 동일하게 회전한다. 이 과정에서, 탄성 스프링(730)의 탄성력이 작용하여 연동 수단(700)의 상부 고정 바디(720)를 동일한 회전 방향으로 회전시키게 되는데, 이때, 상부 고정 바디(720)는 상부 스테이지(20)와 함께 회전하므로, 메인 회전중심(H1)을 기준으로 θ2만큼 회전하게 된다. 이러한 작동 과정을 통해 최종적으로 상부 스테이지(20)는 메인 회전중심(H1)을 기준으로 θ2만큼 회전하게 된다.That is, in the state of FIG. 8A, when the rotation driving unit 600 presses the end of the operation body 400 as shown in FIG. 8B, the operation body 400 operates in the center of rotation H2. It is rotated by θ1 relative to the reference, and thus the support body 710 of the interlocking means 700 also rotates in the same manner. In this process, the elastic force of the elastic spring 730 acts to rotate the upper fixing body 720 of the interlocking means 700 in the same rotational direction, in which the upper fixing body 720 and the upper stage 20 Since they rotate together, they rotate by θ2 with respect to the main rotation center H1. Through this operation process, the upper stage 20 is finally rotated by θ2 with respect to the main rotation center (H1).

이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The above description is merely illustrative of the technical idea of the present invention, and those skilled in the art to which the present invention pertains may make various modifications and changes without departing from the essential characteristics of the present invention. Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical idea of the present invention but to describe the present invention, and the scope of the technical idea of the present invention is not limited by these embodiments. The protection scope of the present invention should be interpreted by the following claims, and all technical ideas within the equivalent scope should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

10: 베이스 스테이지
20: 상부 스테이지
30: 회전 구동 유닛
40: 메인 탄성 회전 모듈
110, 120, 130: 제 1, 제 2 및 제 3 메인 판 스프링
140: 결합 블록
210: 메인 베이스 연결 바디
220: 메인 상부 연결 바디
400: 지지 바디 410: 결합 돌출부
500: 작동 탄성 회전 모듈
510, 520, 530: 제 1, 제 2 및 제 3 작동 판 스프링
540: 결합 블록
550: 작동 베이스 연결 바디
600: 회전 구동부
700: 연동 수단
710: 지지 바디 720: 상부 고정 바디
730: 탄성 스프링 740: 접촉 롤러10: base stage
20: upper stage
30: rotary drive unit
40: main elastic rotating module
110, 120, 130: first, second and third main leaf springs
140: coupling block
210: main base connecting body
220: main upper connecting body
400: support body 410: coupling protrusion
500: operate the elastic rotary module
510, 520, 530: first, second and third actuation leaf springs
540: joining block
550: working base connecting body
600: rotary drive unit
700: interlocking means
710: support body 720: upper fixed body
730: elastic spring 740: contact roller

Claims (8)

삭제delete 삭제delete 베이스 스테이지;
상기 베이스 스테이지의 상부에 수평 방향으로 회전 이동 가능하게 배치되는 상부 스테이지;
상기 상부 스테이지를 수평 방향으로 회전 이동시키는 회전 구동 유닛; 및
상기 베이스 스테이지와 상부 스테이지 사이에 배치되며, 중심부에 상기 상부 스테이지의 메인 회전중심이 형성되도록 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되며, 상기 메인 회전중심을 기준으로 타측단부가 상기 상부 스테이지와 함께 일체로 회전 이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성되는 메인 탄성 회전 모듈
을 포함하고,
상기 메인 탄성 회전 모듈은
일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되는 제 1 메인 판 스프링;
일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 상부 스테이지에 결합되며, 상기 제 1 메인 판 스프링의 하부에 위치하며 상기 제 1 메인 판 스프링과 교차하는 방향으로 배치되는 제 2 메인 판 스프링;
하단이 상기 베이스 스테이지의 상부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 일측단부에 각각 결합되는 메인 베이스 연결 바디; 및
상단이 상기 상부 스테이지의 하부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 타측단부에 각각 결합되는 메인 상부 연결 바디
를 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 상기 메인 회전중심이 형성되고,
상기 메인 베이스 연결 바디와 메인 상부 연결 바디는 상기 제 1 및 제 2 메인 판 스프링의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.
Base stage;
An upper stage disposed rotatably in a horizontal direction on an upper portion of the base stage;
A rotation driving unit for rotating the upper stage in a horizontal direction; And
Is disposed between the base stage and the upper stage, one end is coupled to the base stage and the other end is coupled to the upper stage to form a main rotation center of the upper stage in the center, the other side relative to the main rotation center The main elastic rotation module is formed to be elastically deformable so that the end is rotated integrally with the upper stage
Including,
The main elastic rotating module
A first main leaf spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the upper stage;
A second main leaf spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the upper stage and positioned below the first main leaf spring and disposed in a direction crossing the first main leaf spring;
A main base connecting body having a lower end fixedly coupled to an upper portion of the base stage, and having side surfaces coupled to one end portions of the first and second main leaf springs, respectively; And
A main upper connecting body having an upper end fixedly coupled to a lower portion of the upper stage, and having side surfaces coupled to other end portions of the first and second main leaf springs, respectively.
It includes, The first and second main leaf spring is disposed so as to cross each other at each of the central portion is the main center of rotation is formed at the intersection point,
And the main base connecting body and the main upper connecting body are respectively disposed in diagonal regions of four regions separated by an intersecting structure of the first and second main leaf springs.
제 3 항에 있어서,
상기 회전 구동 유닛은
일측 방향으로 길게 형성되며 작동 회전중심을 기준으로 수평 회전 이동하도록 장착되는 작동 바디;
중심부에 상기 작동 회전중심이 형성되도록 일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되며, 상기 작동 회전중심을 기준으로 타측단부가 상기 작동 바디와 함께 일체로 회전이동하도록 탄성 변형 가능하게 형성되는 작동 탄성 회전 모듈;
상기 작동 바디를 상기 작동 회전중심을 기준으로 수평 회전 이동시키는 회전 구동부; 및
상기 작동 바디의 회전 이동에 연동하여 상기 상부 스테이지가 상기 메인 회전중심을 기준으로 회전하도록 상기 작동 바디와 상기 상부 스테이지를 연동시키는 연동 수단
을 포함하는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.
The method of claim 3, wherein
The rotary drive unit
An actuating body formed to be elongated in one direction and mounted to move horizontally with respect to the actuation center of rotation;
One end is coupled to the base stage and the other end is coupled to the operating body to form the operating rotation center in the center, and the elastic deformation so that the other end rotates integrally with the operating body relative to the operating rotation center An actuating revolving module, possibly formed;
A rotation driver for horizontally moving the operation body with respect to the operation rotation center; And
Interlocking means for interlocking the operating body and the upper stage such that the upper stage rotates with respect to the main rotational center in association with the rotational movement of the operating body;
Precision rotating stage device comprising a.
제 4 항에 있어서,
상기 작동 탄성 회전 모듈은
일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되는 제 1 작동 판 스프링; 및
일측단부가 상기 베이스 스테이지에 결합되고 타측단부가 상기 작동 바디에 결합되며, 상기 제 1 작동 판 스프링의 하부에 위치하며 상기 제 1 작동 판 스프링과 교차하는 방향으로 배치되는 제 2 작동 판 스프링
을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링은 각각의 중심부에서 서로 교차하도록 배치되어 상호 교차하는 지점에 상기 작동 회전중심이 형성되는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.
The method of claim 4, wherein
The working elastic rotary module
A first actuation plate spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the actuation body; And
A second operating plate spring having one end coupled to the base stage and the other end coupled to the actuation body and positioned below the first actuation plate spring and intersecting the first actuation plate spring;
Wherein the first and second actuating leaf springs are arranged to intersect with each other at their respective centers so that the actuating center of rotation is formed at the intersecting points.
제 5 항에 있어서,
상기 작동 탄성 회전 모듈은
하단이 상기 베이스 스테이지의 상부에 고정 결합되며 측면이 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 일측단부에 각각 결합되는 작동 베이스 연결 바디를 더 포함하고,
상기 작동 바디에는 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 타측단부에 결합되도록 길이 방향에 대한 직각 방향으로 돌출되는 결합 돌출부가 형성되며,
상기 작동 베이스 연결 바디와 상기 결합 돌출부가 상기 제 1 및 제 2 작동 판 스프링의 교차 구조에 의해 분리되는 4개 영역 중 서로 대각선 영역에 각각 배치되는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.
The method of claim 5,
The working elastic rotary module
A lower end is fixedly coupled to an upper portion of the base stage and a side is coupled to one end of the first and second actuating leaf springs, respectively;
The actuating body is provided with a coupling protrusion projecting in a direction perpendicular to the longitudinal direction to be coupled to the other end of the first and second actuating plate spring,
And the actuating base connecting body and the engaging protrusion are arranged in diagonal regions of each other among the four regions separated by the intersecting structure of the first and second actuating leaf springs.
제 4 항에 있어서,
상기 작동 회전중심은 상기 작동 바디의 길이 방향 전체 구간 중 중간 구간에 위치하도록 형성되고,
상기 연동 수단은 상기 작동 바디의 일측 끝단에 결합되고,
상기 회전 구동부는 상기 작동 바디의 타측 끝단부를 가압하도록 배치되며,
상기 작동 회전중심에서 상기 작동 바디의 길이 방향을 따라 상기 회전 구동부의 가압 지점까지의 거리(L1)가 상기 연동 수단까지의 거리(L2)보다 더 길게 형성되는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.
The method of claim 4, wherein
The operating rotation center is formed to be located in the middle section of the entire longitudinal section of the operating body,
The interlocking means is coupled to one end of the working body,
The rotation drive unit is arranged to press the other end of the operating body,
And a distance (L1) from the actuation center of rotation to the pressing point of the rotation drive unit in the longitudinal direction of the actuation body is longer than the distance (L2) to the linkage means.
제 4 항에 있어서,
상기 연동 수단은
상기 작동 바디의 일측 끝단에 결합되어 상기 작동 바디와 함께 상기 작동 회전중심을 기준으로 일체로 회전하는 지지 바디;
상단이 상기 상부 스테이지에 결합되어 상기 상부 스테이지와 함께 상기 메인 회전중심을 기준으로 일체로 회전하는 상부 고정 바디; 및
상기 상부 고정 바디가 상기 지지 바디에 탄성 밀착 접촉하도록 상기 상부 고정 바디에 탄성력을 가하는 탄성 스프링
을 포함하는 것을 특징으로 하는 정밀 회전 스테이지 장치.

The method of claim 4, wherein
The interlocking means
A support body coupled to one end of the operating body and integrally rotating with the operating body relative to the operating rotation center;
An upper fixing body having an upper end coupled to the upper stage and integrally rotating with respect to the main rotation center with the upper stage; And
An elastic spring for applying an elastic force to the upper fixed body such that the upper fixed body elastically contacts the support body
Precision rotating stage device comprising a.

KR1020170116868A 2017-09-12 2017-09-12 Precision Rotation Stage KR102017068B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170116868A KR102017068B1 (en) 2017-09-12 2017-09-12 Precision Rotation Stage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020170116868A KR102017068B1 (en) 2017-09-12 2017-09-12 Precision Rotation Stage

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190029386A KR20190029386A (en) 2019-03-20
KR102017068B1 true KR102017068B1 (en) 2019-09-03

Family

ID=66036111

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020170116868A KR102017068B1 (en) 2017-09-12 2017-09-12 Precision Rotation Stage

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR102017068B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114486740B (en) * 2022-02-08 2024-08-16 江苏集萃苏科思科技有限公司 Two-degree-of-freedom motion table

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100381974B1 (en) * 2001-03-26 2003-05-09 주식회사 실리콘 테크 Three-axis stage control device using frictionless flexure bearings
KR100381975B1 (en) 2001-03-26 2003-05-09 주식회사 실리콘 테크 Multi-axis stage control device using frictionless flexure bearings
JP2006121040A (en) 2004-10-19 2006-05-11 Samsung Electronics Co Ltd Stage apparatus
JP4391217B2 (en) 2003-12-16 2009-12-24 株式会社トプコン Surface inspection device
KR101416039B1 (en) 2014-04-11 2014-07-09 (주)케이엔에스 Align aparatus for display glass of portable terminal

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100497729B1 (en) 2003-02-21 2005-06-28 한국과학기술원 3 axes linear motion stage using flexure mechanism

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100381974B1 (en) * 2001-03-26 2003-05-09 주식회사 실리콘 테크 Three-axis stage control device using frictionless flexure bearings
KR100381975B1 (en) 2001-03-26 2003-05-09 주식회사 실리콘 테크 Multi-axis stage control device using frictionless flexure bearings
JP4391217B2 (en) 2003-12-16 2009-12-24 株式会社トプコン Surface inspection device
JP2006121040A (en) 2004-10-19 2006-05-11 Samsung Electronics Co Ltd Stage apparatus
JP4220505B2 (en) * 2004-10-19 2009-02-04 三星電子株式会社 Stage equipment (STAGEEAPPARATUS)
KR101416039B1 (en) 2014-04-11 2014-07-09 (주)케이엔에스 Align aparatus for display glass of portable terminal

Also Published As

Publication number Publication date
KR20190029386A (en) 2019-03-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107464586B (en) Three-degree-of-freedom large-stroke micro-positioning platform with decoupled driving force
Yao et al. A novel parallel-kinematics mechanisms for integrated, multi-axis nanopositioning: Part 1. Kinematics and design for fabrication
US8033197B2 (en) Fully floating, self-aligning, self-adjusting gimbal assembly for an active human machine interface
KR101485999B1 (en) 5-dof micro robot of parallel-type
US6606444B2 (en) Positioning device especially for assembling optical components
US8342055B2 (en) Toggle-type positioning platform
KR100396020B1 (en) Ultra-precision positioning system
EP3329150A1 (en) Multi-degree-of-freedom adjustment mechanism
CN110730918B (en) Adjusting device
KR102017068B1 (en) Precision Rotation Stage
WO2016095855A1 (en) Microscope and drive device thereof
US6498892B1 (en) Positioning device especially for assembling optical components
US7141914B2 (en) Micromanipulator including piezoelectric benders
CN110576426A (en) Three-translation parallel mechanism
KR100904720B1 (en) Redendantly actuated 3 degree of freedom nano positioning stage using 4 precision transfer mechanism
CN102956523A (en) Ultra-precision movement system
KR20020090396A (en) Ultra-precision moving apparatus
JP5595195B2 (en) Positioning stage
US6757985B2 (en) Precise positioning of an object
CN116343901B (en) Three-degree-of-freedom micro-motion platform and working method
EP2225623A1 (en) Control stick apparatus
WO2017017714A1 (en) Linkage rod including limited-displacement flexible mechanism
CN109650329B (en) Two-rotation one-translation large-stroke coupling-free parallel piezoelectric micromotion platform
CN114280899A (en) Input and output same-direction or reverse-direction modular differential flexible displacement reducing mechanism
US6678443B2 (en) Apparatus for slewing a light beam

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant