KR102013879B1 - Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에 형성된 유기 발광부를 포함하여 이루어지고, 상기 유기 발광부는, 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 차례로 형성된 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 및 전자수송층을 포함하여 이루어지고, 상기 전자수송층은 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 모두에서 상기 청색 화소의 발광층을 구성하는 호스트 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광장치, 및 그 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면 청색 화소의 발광층을 형성한 후, 상기 청색 화소의 발광층을 형성한 증착 챔버와 동일한 증착 챔버를 이용하여 각 화소 별로 전자수송층을 형성할 수 있기 때문에 종래에 비하여 증착 챔버수를 줄일 수 있고 제조 공정이 단순해지는 이점이 있다. The present invention includes an organic light emitting part formed on each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel, wherein the organic light emitting part includes a hole injection layer, a hole transport layer, which are sequentially formed from each of the red pixel, green pixel, and blue pixel; An organic light emitting device comprising a light emitting layer and an electron transporting layer, wherein the electron transporting layer is formed of a host material constituting the light emitting layer of the blue pixel in all of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel. As for the method,
According to the present invention, since the electron transport layer can be formed for each pixel by using the same deposition chamber as the deposition chamber in which the light emitting layer of the blue pixel is formed, the number of deposition chambers can be reduced. And the manufacturing process is simplified.

Description

유기발광장치 및 그 제조방법{Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same}Organic Light Emitting Device and Method of manufacturing the same

본 발명은 유기발광장치에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유기발광장치의 유기 발광부에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting device, and more particularly to an organic light emitting unit of the organic light emitting device.

평판표시장치로서 현재까지는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device)가 널리 이용되었지만, 액정표시장치는 별도의 광원으로 백라이트가 필요하고, 밝기 및 명암비 등에서 기술적 한계가 있다. 이에, 자체발광이 가능하여 별도의 광원이 필요하지 않고, 밝기 및 명암비 등에서 상대적으로 우수한 유기발광장치(Organic Light Emitting Device)에 대한 관심이 증대되고 있다. As a flat panel display device, a liquid crystal display device has been widely used. However, a liquid crystal display device requires a backlight as a separate light source, and there are technical limitations in brightness and contrast ratio. As a result, self-luminous is possible, and thus, a separate light source is not required, and interest in organic light emitting devices that are relatively excellent in brightness and contrast ratio is increasing.

유기발광장치는 전자(electron)를 주입하는 음극(cathode)과 정공(hole)을 주입하는 양극(anode) 사이에 발광부가 형성된 구조를 가지며, 음극에서 발생된 전자 및 양극에서 발생된 정공이 발광부 내부로 주입되면 주입된 전자 및 정공이 결합하여 액시톤(exciton)이 생성되고, 생성된 액시톤이 여기상태(excited state)에서 기저상태(ground state)로 떨어지면서 발광을 일으킴으로써 화상을 표시하는 표시장치이다. The organic light emitting device has a structure in which a light emitting part is formed between a cathode for injecting electrons and an anode for injecting holes, and electrons generated from the cathode and holes generated in the anode are emitted from the light emitting part. When injected into the inside, the injected electrons and holes combine to generate an exciton, and the generated exciton falls from the excited state to the ground state, causing light emission to display an image. It is a display device.

이하, 도면을 참조로 종래의 유기발광장치에 대해서 설명하기로 한다. Hereinafter, a conventional organic light emitting device will be described with reference to the drawings.

도 1a는 종래의 유기발광장치의 개략적인 단면도이다. 1A is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting device.

도 1a에서 알 수 있듯이, 종래의 유기발광장치는, 기판(10), 박막 트랜지스터층(Thin film transistor layer)(20), 뱅크층(30), 하부 전극(40), 유기 발광부(50), 및 상부 전극(60)을 포함하여 이루어진다. As shown in FIG. 1A, a conventional organic light emitting device includes a substrate 10, a thin film transistor layer 20, a bank layer 30, a lower electrode 40, and an organic light emitting unit 50. , And an upper electrode 60.

상기 박막 트랜지스터층(20)은 상기 기판(10) 상에 형성되어 있으며, 스위칭 박막 트랜지스터 및 구동 박막 트랜지스터를 포함하여 이루어진다. The thin film transistor layer 20 is formed on the substrate 10 and includes a switching thin film transistor and a driving thin film transistor.

상기 뱅크층(30)은 상기 박막 트랜지스터층(20) 상에 형성되어 있으며, 특히 화소 영역 이외의 영역에 형성되어 있다. 즉, 화상을 표시하는 화소 영역은 상기 뱅크층(30)에 의해 둘러싸여 있다. The bank layer 30 is formed on the thin film transistor layer 20, and is particularly formed in a region other than the pixel region. In other words, the pixel area displaying the image is surrounded by the bank layer 30.

상기 하부 전극(40), 발광부(50) 및 상부 전극(60)은 상기 뱅크층(30)에 의해 둘러싸인 화소 영역에 차례로 형성되어 있다. The lower electrode 40, the light emitting part 50, and the upper electrode 60 are sequentially formed in the pixel area surrounded by the bank layer 30.

상기 유기 발광부(50)는 상기 하부 전극(40)과 상부 전극(60) 사이에 형성되어 광을 방출하게 되는데, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 별로 해당하는 광을 방출하게 된다. The organic light emitting unit 50 is formed between the lower electrode 40 and the upper electrode 60 to emit light, and corresponds to each of the red (R), green (G), and blue (B) pixels. To emit light.

이하에서는, 도 1b를 참조로 상기 유기 발광부(50)에 대해서 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the organic light emitting unit 50 will be described in detail with reference to FIG. 1B.

도 1b는 종래의 유기 발광부의 개략적인 단면도이다. 1B is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting unit.

도 1b에서 알 수 있듯이, 종래의 유기 발광부(50)는, 정공주입층(Hole Injecting Layer:HIL)(51), 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(52), 발광층(Emitting Layer:EL)(53), 및 전자수송층(Electron Transporting Layer: ETL)(54)을 포함하여 이루어진다. As shown in FIG. 1B, the conventional organic light emitting unit 50 includes a hole injecting layer (HIL) 51, a hole transporting layer (HTL) 52, and an emitting layer (EL). 53, and an Electron Transporting Layer (ETL) 54.

이와 같은 각각의 층들은 서로 상이한 공정 챔버에서 증착 공정을 통해 적층된다. 따라서, 종래의 경우 다수의 층들을 증착하기 위해서 다수의 증착 챔버가 요구되고 또한 제조 공정도 복잡해지는 단점이 있다. Each of these layers is deposited via a deposition process in a different process chamber. Thus, in the conventional case, a plurality of deposition chambers are required to deposit a plurality of layers, and a manufacturing process is complicated.

본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 증착 챔버의 수를 줄일 수 있고 제조 공정도 단순화할 수 있는 유기발광장치 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention has been devised to solve the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide an organic light emitting device and a method of manufacturing the same, which can reduce the number of deposition chambers and simplify the manufacturing process.

본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해서, 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에 형성된 유기 발광부를 포함하여 이루어지고, 상기 유기 발광부는, 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 차례로 형성된 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 및 전자수송층을 포함하여 이루어지고, 상기 전자수송층은 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 모두에서 상기 청색 화소의 발광층을 구성하는 호스트 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention includes an organic light emitting part formed in each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel, and the organic light emitting part includes holes formed in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel. And an injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, wherein the electron transport layer is formed of a host material constituting the light emitting layer of the blue pixel in all of the red, green, and blue pixels. Provided is a light emitting device.

본 발명은 또한, 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 정공주입층을 형성하는 공정; 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 상기 정공주입층 상에 정공수송층을 형성하는 공정; 상기 적색 화소 및 녹색 화소 각각에서 상기 정공수송층 상에 발광층을 형성하는 공정; 상기 청색 화소에서 상기 정공수송층 상에 발광층을 형성하는 공정; 및 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 상기 발광층 상에 전자수송층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고, 상기 전자수송층을 형성하는 공정은, 상기 청색 화소의 발광층을 형성한 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 상기 청색 화소의 발광층 형성을 위한 도펀트 물질의 투입은 차단하고 상기 청색 화소의 발광층 형성을 위한 호스트 물질을 투입하면서 증착 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 유기발광장치의 제조방법을 제공한다. The present invention also provides a process for forming a hole injection layer in each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel; Forming a hole transport layer on the hole injection layer in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel; Forming a light emitting layer on the hole transport layer in each of the red and green pixels; Forming a light emitting layer on the hole transport layer in the blue pixel; And forming an electron transport layer on the light emitting layer in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, wherein the process of forming the electron transport layer is the same chamber as the chamber in which the light emitting layer of the blue pixel is formed. The method of manufacturing an organic light emitting device is characterized in that the deposition of the dopant material for forming the light emitting layer of the blue pixel is blocked and a deposition process is performed while the host material is formed for the light emitting layer of the blue pixel.

이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다. According to the present invention as described above has the following effects.

본 발명에 따르면 청색 화소의 발광층을 형성한 후, 상기 청색 화소의 발광층을 형성한 증착 챔버와 동일한 증착 챔버를 이용하여 각 화소 별로 전자수송층을 형성할 수 있기 때문에 종래에 비하여 증착 챔버수를 줄일 수 있고 제조 공정이 단순해지는 이점이 있다. According to the present invention, since the electron transport layer can be formed for each pixel by using the same deposition chamber as the deposition chamber in which the light emitting layer of the blue pixel is formed, the number of deposition chambers can be reduced. And the manufacturing process is simplified.

도 1a는 종래의 유기발광장치의 개략적인 단면도이다.
도 1b는 종래의 유기 발광부의 개략적인 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광장치의 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 단면도이다.
도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 제조 공정 단면도이다.
도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 제조 공정 단면도이다.
도 8a 내지 도 8g는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광부의 개략적인 제조 공정 단면도이다.1A is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting device.
1B is a schematic cross-sectional view of a conventional organic light emitting unit.
2 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting unit according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting unit according to another exemplary embodiment of the present invention.
5 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting unit according to another embodiment of the present invention.
6A through 6E are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of an organic light emitting unit according to an exemplary embodiment of the present invention.
7A to 7E are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of an organic light emitting unit according to another exemplary embodiment of the present invention.
8A to 8G are schematic cross-sectional views illustrating a manufacturing process of an organic light emitting unit according to another exemplary embodiment of the present invention.

본 명세서에서 기술되는 "상에"라는 용어는 어떤 구성이 다른 구성의 바로 상면에 형성되는 경우 뿐만 아니라 이들 구성들 사이에 제3의 구성이 개재되는 경우까지 포함하는 것을 의미한다. The term " on " as used herein means to include not only when a configuration is formed directly on top of another configuration, but also when a third configuration is interposed between these configurations.

이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광장치의 개략적인 단면도이다. 2 is a schematic cross-sectional view of an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention.

도 2에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광장치는, 기판(100), 버퍼층(200), 박막 트랜지스터층(Thin film transistor layer)(300), 뱅크층(400), 하부 전극(500), 유기 발광부(600), 상부 전극(700), 및 보호막(800)을 포함하여 이루어진다. As can be seen in Figure 2, the organic light emitting device according to an embodiment of the present invention, the substrate 100, the buffer layer 200, the thin film transistor layer (Thin film transistor layer) 300, the bank layer 400, the lower The electrode 500 includes an organic light emitting part 600, an upper electrode 700, and a passivation layer 800.

상기 기판(100)은 유리가 이용될 수도 있고, 구부리거나 휠 수 있는 투명한 플라스틱, 예로서, 폴리이미드가 이용될 수도 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 폴리이미드를 상기 기판(100)의 재료로 이용할 경우에는, 상기 기판(100) 상에서 고온의 증착 공정이 이루어짐을 감안할 때, 고온에서 견딜 수 있는 내열성이 우수한 폴리이미드가 이용되는 것이 바람직하다. The substrate 100 may be glass, or may be bent or bent transparent plastic, for example, polyimide may be used, but is not necessarily limited thereto. When using polyimide as the material of the substrate 100, in consideration of the high temperature deposition process is performed on the substrate 100, it is preferable to use a polyimide excellent in heat resistance that can withstand high temperatures.

상기 버퍼층(200)은 상기 기판(100) 상에 형성되어 있다. 상기 버퍼층(200)은 외부의 수분이나 습기가 상기 유기 발광부(600)로 침투하는 것을 방지하는 역할을 함과 더불어 고온의 증착 공정 중에 상기 기판(100)에 포함된 성분들이 상기 박막 트랜지스터층(300) 쪽으로 확산되는 것을 차단하는 역할도 수행한다. 이와 같은 버퍼층(200)은 실리콘 산화물 또는 실리콘 질화물로 이루어질 수 있다. 다만, 상기 버퍼층(200)은 생략할 수도 있다. The buffer layer 200 is formed on the substrate 100. The buffer layer 200 serves to prevent external moisture or moisture from penetrating into the organic light emitting unit 600, and the components included in the substrate 100 during the high temperature deposition process include the thin film transistor layer ( It also plays a role in blocking the spread to 300). The buffer layer 200 may be made of silicon oxide or silicon nitride. However, the buffer layer 200 may be omitted.

상기 박막 트랜지스터층(300)은 상기 버퍼층(200) 상에 형성되어 있다. 상기 박막 트랜지스터층(300)은 게이트 배선, 데이터 배선 및 전원 배선 등과 같은 다수의 배선들, 상기 다수의 배선들과 연결되는 스위칭 박막 트랜지스터 및 구동 박막 트랜지스터를 포함하여 이루어진다. 또한, 상기 배선들 및 박막 트랜지스터의 전극들의 조합에 의해서 커패시터가 형성될 수 있다. 이와 같은 박막 트랜지스터층(300)을 구성하는 배선들 및 박막 트랜지스터는 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. The thin film transistor layer 300 is formed on the buffer layer 200. The thin film transistor layer 300 includes a plurality of wires such as a gate wire, a data wire and a power wire, a switching thin film transistor and a driving thin film transistor connected to the plurality of wires. In addition, a capacitor may be formed by a combination of the wires and the electrodes of the thin film transistor. The wirings and the thin film transistors constituting the thin film transistor layer 300 may be changed in various forms known in the art.

상기 뱅크층(400)은 상기 박막 트랜지스터층(300) 상에 형성되어 있으며, 특히 화소 영역 이외의 영역에 형성되어 있다. 즉, 화상을 표시하는 화소 영역은 상기 뱅크층(400)에 의해 둘러싸여 있다. 이와 같은 뱅크층(400)은 상기 박막 트랜지스터층(300)의 게이트 배선 및 데이터 배선과 오버랩되도록 형성될 수 있다. 상기 뱅크층(400)은 유기절연물질, 예를 들면 폴리이미드(polyimide), 포토아크릴(Photo acryl), 또는 벤조사이클로부텐(BCB)으로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. The bank layer 400 is formed on the thin film transistor layer 300, and is particularly formed in a region other than the pixel region. That is, the pixel area displaying the image is surrounded by the bank layer 400. The bank layer 400 may be formed to overlap the gate wiring and the data wiring of the thin film transistor layer 300. The bank layer 400 may be formed of an organic insulating material, for example, polyimide, photo acryl, or benzocyclobutene (BCB), but is not limited thereto.

상기 하부 전극(500)은 상기 박막 트랜지스터층(300) 상에 형성되어 있으며, 특히, 상기 뱅크층(400)에 의해 둘러싸인 화소 영역에 형성되어 있다. 즉, 상기 하부 전극(500)은 복수 개의 화소 (R, G, B) 각각에 서로 절연된 상태로 패턴형성되어 있다. 이와 같은 하부 전극(500)은 상기 박막 트랜지스터층(300)에 구비된 구동 박막 트랜지스터와 전기적으로 연결된다. The lower electrode 500 is formed on the thin film transistor layer 300, and is particularly formed in the pixel region surrounded by the bank layer 400. That is, the lower electrode 500 is patterned in a state in which each of the plurality of pixels R, G, and B is insulated from each other. The lower electrode 500 is electrically connected to the driving thin film transistor provided in the thin film transistor layer 300.

상기 유기 발광부(600)는 상기 하부 전극(500) 상에 형성되어 있다. 상기 유기 발광부(600)도 상기 뱅크층(400)에 의해 둘러싸인 화소 영역에 형성되어 있으며, 따라서, 상기 하부 전극(500)과 마찬가지로 복수 개의 화소(R, G, B) 각각에 패턴형성되어 있다. 이와 같은 유기 발광부(600)의 구체적인 구성은 후술하기로 한다. The organic light emitting part 600 is formed on the lower electrode 500. The organic light emitting part 600 is also formed in the pixel area surrounded by the bank layer 400, and thus, is formed in each of the plurality of pixels R, G, and B like the lower electrode 500. . The detailed configuration of the organic light emitting unit 600 will be described later.

상기 상부 전극(700)은 상기 유기 발광부(600) 상에 형성되어 있다. 이와 같은 상부 전극(700)은 공통 전극으로 기능할 수 있고, 그에 따라, 상기 유기 발광부(600) 뿐만 아니라 상기 뱅크층(400) 상에도 형성될 수 있다. The upper electrode 700 is formed on the organic light emitting part 600. The upper electrode 700 may function as a common electrode, and thus may be formed on the bank layer 400 as well as the organic light emitting part 600.

상기 보호막(800)은 상기 상부 전극(700) 상에 형성되어 있다. 상기 보호막(800)은 상기 상부 전극(700)을 포함한 기판 전면에 형성되어 유기발광장치를 보호한다. The passivation layer 800 is formed on the upper electrode 700. The passivation layer 800 is formed on the entire surface of the substrate including the upper electrode 700 to protect the organic light emitting device.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 단면도이다. 도 3을 포함하여 이하에서 설명하는 유기 발광부(600)에 대한 다양한 실시예를 도시한 도면들은, 편의상 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 사이에 형성되는 뱅크층은 도시하지 않았다. 3 is a schematic cross-sectional view of the organic light emitting unit 600 according to an embodiment of the present invention. 3 illustrates various embodiments of the organic light emitting unit 600 described below, including FIG. 3, for convenience, a bank formed between a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel. The layers are not shown.

도 3에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광부(600)는, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에 형성되며, 구체적으로, 정공주입층(Hole Injecting Layer:HIL)(610), 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620), 발광층(Emitting Layer:EL)(630), 및 전자수송층(Electron Transporting Layer: ETL)(640)을 포함하여 이루어진다. As can be seen in FIG. 3, the organic light emitting unit 600 according to the exemplary embodiment of the present invention is formed in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel. Injecting Layer (HIL) 610, Hole Transporting Layer (HTL) 620, Emitting Layer (EL) 630, and Electron Transporting Layer (ETL) 640 It is made, including.

상기 정공주입층(HIL)(610)은 전술한 하부 전극(도 2의 도면부호 500) 상에 형성된다. 이와 같은 정공주입층(HIL)(610)은 당업계에 공지된 다양한 물질을 이용할 수 있다. 특히, 상기 정공주입층(HIL)(610)은 상기 정공수송층(HTL)(620)을 구성하는 물질에 p형 도펀트를 도핑하여 형성할 수 있으며, 이 경우, 증착 챔버수를 줄일 수 있고 제조 공정이 단순해지는 효과가 있다. 상기 정공주입층(HIL)(610)은 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 서로 동일한 물질로 동일한 두께를 가지면서 형성될 수 있다. 본 명세서에서 두께가 동일하다는 것은 두께가 완전히 동일하다는 것을 의미하는 것은 아니고 공정 진행상 발생할 수 있는 오차를 감안하여 그와 같은 오차 범위 내에서 동일하다는 것을 의미한다. The hole injection layer (HIL) 610 is formed on the above-described lower electrode 500 (see FIG. 2). The hole injection layer (HIL) 610 may use various materials known in the art. In particular, the hole injection layer (HIL) 610 may be formed by doping a p-type dopant to the material constituting the hole transport layer (HTL) 620, in this case, the number of deposition chambers can be reduced and the manufacturing process This has the effect of simplicity. The hole injection layer (HIL) 610 may be formed with the same thickness of the same material in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel. In the present specification, the same thickness does not mean that the thicknesses are exactly the same, but it means that the thicknesses are the same within such an error range in consideration of errors that may occur in the process.

상기 정공수송층(HTL)(620)은 상기 정공주입층(HIL)(610) 상에 형성된다. 이와 같은 정공수송층(HTL)(620)은 당업계에 공지된 다양한 물질을 이용할 수 있다. 상기 정공수송층(HTL)(620)은 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 서로 동일한 물질로 동일한 두께를 가지면서 형성될 수 있다. The hole transport layer (HTL) 620 is formed on the hole injection layer (HIL) 610. Such a hole transport layer (HTL) 620 may use a variety of materials known in the art. The hole transport layer (HTL) 620 may be formed having the same thickness of the same material in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel.

상기 발광층(EL)(630)은 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 형성된다. 이와 같은 발광층(EL)(630)은 당업계에 공지된 다양한 물질을 이용하여 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 서로 상이한 물질로 형성된다. 특히, 상기 발광층(EL)(630)은 각각의 화소별 발광 색상에 대응하는 호스트(Host) 물질에 도펀트(Dopant) 물질을 도핑하여 형성할 수 있다. The emission layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620. The light emitting layer (EL) 630 is formed of a material different from each other in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel by using various materials known in the art. In particular, the emission layer EL 630 may be formed by doping a dopant material into a host material corresponding to the emission color of each pixel.

상기 전자수송층(ETL)(640)은 상기 발광층(EL)(630) 상에 형성된다. 이와 같은 전자수송층(ETL)(640)은 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 서로 동일한 물질로 동일한 두께를 가지면서 형성된다. 특히, 상기 전자수송층(ETL)(640)은 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 구성하는 호스트(host) 물질(B_host)로 이루어진다. The electron transport layer (ETL) 640 is formed on the light emitting layer (EL) 630. The electron transport layer (ETL) 640 is formed in the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel, each having the same thickness with the same material. In particular, the electron transport layer (ETL) 640 is formed of a host material (B_host) constituting the emission layer (EL) 630 of the blue (B) pixel.

따라서, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 발광층(EL)(630)을 형성할 때 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 가장 마지막에 형성한 후, 동일한 증착 챔버에서 소스 가스의 컨트롤만으로 연속 공정을 통해 상기 전자수송층(ETL)(640)을 각 화소 별로 동시에 형성할 수 있어 증착 챔버수를 줄일 수 있고 제조 공정이 단순해진다. 이에 대해서는 후술하는 제조 공정을 참조하면 보다 용이하게 이해할 수 있을 것이다. Therefore, according to an embodiment of the present invention, when the light emitting layer (EL) 630 is formed, the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel is formed last, and then sourced in the same deposition chamber. The electron transport layer (ETL) 640 may be simultaneously formed for each pixel through a continuous process only by controlling gas, thereby reducing the number of deposition chambers and simplifying the manufacturing process. This will be more readily understood with reference to the manufacturing process described later.

이와 같이, 상기 전자수송층(ETL)(640)의 재료로 이용가능한 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 구성하는 호스트(host) 물질(B_host)로는 안트라센(Anthracene) 계열 또는 피렌(Pyrene) 계열 화합물을 들 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 이와 같은 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 구성하는 호스트(host) 물질(B_host)은 그 일함수(Work Function)가 HOMO(Highest Occupied Molecular Orbital)의 범위는 5.7 ~ 6.3ev이고, LUMO(Lowest Unoccupied Molecular Orbital)의 범위는 2.6 ~ 3.2ev이고, 밴드갭(Bandgap)(HOMO-LUMO)은 2.8~3.3ev 범위이고, 전자 이동도(electron mobility)는 1×10-4 ~ 9×10-6cm2 /v·s인 것이 바람직하다. As described above, anthracene-based or pyrene may be used as a host material (B_host) constituting the emission layer (EL) 630 of the blue (B) pixel, which may be used as the material of the electron transport layer (ETL) 640. Although a (Pyrene) series compound is mentioned, It is not necessarily limited to this. The host material (B_host) constituting the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel has a work function of 5.7 to 6.3ev in the range of the highest Occupied Molecular Orbital (HOMO). LUMO (Lowest Unoccupied Molecular Orbital) is 2.6 ~ 3.2ev, Bandgap (HOMO-LUMO) is 2.8 ~ 3.3ev, electron mobility (electron mobility) is 1 × 10 -4 ~ It is preferable that it is 9x10 <-6> cm <2> / v * s.

상기 전자수송층(ETL)(640) 상에는 전술한 상부 전극(도 2의 도면부호 700)이 형성된다. 한편, 도시하지는 않았지만, 상기 전자수송층(ETL)(640)과 상부 전극(700) 사이에 전자주입층(Electron Injecting Layer:EIL)이 추가로 형성될 수도 있다. The above-described upper electrode (700 of FIG. 2) is formed on the electron transport layer (ETL) 640. Although not shown, an electron injection layer (EIL) may be further formed between the electron transport layer (ETL) 640 and the upper electrode 700.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 단면도이다. 도 4에 도시한 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)는 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소의 구성이 상이한 것을 제외하고 전술한 도 3에 도시한 유기 발광부(600)와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다. 4 is a schematic cross-sectional view of the organic light emitting unit 600 according to another embodiment of the present invention. The organic light emitting unit 600 according to another exemplary embodiment of the present invention illustrated in FIG. 4 has the same configuration as that of the red (R) pixel and the green (G) pixel. Same as). Accordingly, like reference numerals refer to like elements, and only different elements will be described below.

도 4에서 알 수 있듯이, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에 배리어층(Barrier)(635)이 추가로 형성되어 있다. 상기 배리어층(635)은 상기 발광층(EL)(630)과 전자수송층(ETL)(640) 사이에 형성되어 있다. As can be seen in FIG. 4, according to another embodiment of the present invention, a barrier layer 635 is further formed in the red (R) pixel and the green (G) pixel. The barrier layer 635 is formed between the light emitting layer (EL) 630 and the electron transport layer (ETL) 640.

상기 배리어층(635)은 상기 발광층(EL)(630)에서 전자와 결합하지 않은 정공(Hole)이 상기 전자수송층(ETL)(640)으로 이동하는 것을 차단하는 역할을 한다. 이와 같은 배리어층(635)은 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)과 동일한 물질로 이루어진다. 즉, 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 구성하는 물질은 에너지 준위가 높아 정공의 이동을 차단할 수 있기 때문에 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소의 배리어층(Barrier)(635)으로 기능할 수 있고, 또한 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630) 상에는 별도의 배리어층을 형성하지 않아도 된다. The barrier layer 635 blocks the movement of holes (Hole) that are not bonded to electrons in the emission layer (EL) 630 to the electron transport layer (ETL) 640. The barrier layer 635 is made of the same material as the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel. That is, since the material constituting the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel has a high energy level to block the movement of holes, a barrier layer of the red (R) pixel and the green (G) pixel is used. ) 635, and a separate barrier layer may not be formed on the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel.

이와 같이 상기 배리어층(635)을 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)과 동일한 물질로 형성할 경우, 비록 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에 배리어층(Barrier)(635)이 추가로 형성된다 하더라도, 증착 챔버가 증가되지 않고 공정이 복잡해지는 것도 아니다. 이에 대해서는 후술하는 제조 공정을 참조하면 용이하게 이해할 수 있을 것이다. As such, when the barrier layer 635 is formed of the same material as the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel, the barrier layer (Barrier) is applied to the red (R) pixel and the green (G) pixel. Although 635 is further formed, the deposition chamber is not increased and the process is not complicated. This will be easily understood with reference to the manufacturing process described later.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 단면도이다. 도 5에 도시한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)는 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 별로 정공수송층(HTL)(620)의 두께가 상이한 것을 제외하고, 전술한 도 4에 도시한 유기 발광부(600)와 동일하다. 따라서, 동일한 구성에 대해서 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다. 5 is a schematic cross-sectional view of the organic light emitting unit 600 according to another embodiment of the present invention. The organic light emitting unit 600 according to another embodiment of the present invention shown in FIG. 5 has a thickness of a hole transport layer (HTL) 620 for each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel. Is the same as the organic light emitting unit 600 shown in FIG. 4 except that is different. Accordingly, like reference numerals refer to like elements, and only different elements will be described below.

도 5에 따른 유기 발광부(600)는 상부 발광(Top emission) 유기발광장치에 적용될 수 있다. 따라서, 전술한 도 2를 참조하면, 도 5에 따른 유기 발광부(600)가 적용되는 유기발광장치의 경우, 하부 전극(500)은 반사 전극으로 기능하게 되어, 상기 유기 발광부(600)에서 발광된 광은 하부 전극(500)에서 반사된 후 상부 전극(700) 및 보호막(800)을 통해 상부로 방출되면서 화상이 디스플레이될 수 있다. The organic light emitting unit 600 according to FIG. 5 may be applied to a top emission organic light emitting device. Therefore, referring to FIG. 2 described above, in the organic light emitting device to which the organic light emitting unit 600 according to FIG. 5 is applied, the lower electrode 500 functions as a reflective electrode. The emitted light may be reflected by the lower electrode 500 and then emitted upward through the upper electrode 700 and the passivation layer 800 to display an image.

한편, 상부 발광 유기발광장치의 경우, 상기 하부 전극(500)이 반사 전극으로 기능하기 때문에 상부 쪽에서 입사되는 외부의 광이 상기 하부 전극(500)에서 반사되어 화상 품질이 저하될 수 있다. 이와 같은 외부의 광에 의한 화상 품질 저하를 방지하기 위해서, 도 5에서와 같이 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 별로 정공수송층(HTL)(620)의 두께를 상이하게 한 것이다. On the other hand, in the upper emission organic light emitting device, since the lower electrode 500 functions as a reflective electrode, external light incident from the upper side may be reflected by the lower electrode 500, thereby reducing image quality. In order to prevent such deterioration of the image quality due to external light, the thickness of the hole transport layer (HTL) 620 is determined for each of the red (R), green (G), and blue (B) pixels as shown in FIG. 5. It is different.

도 2를 참조하면, 상부 전극(700)은 은(Ag)과 같은 반투과 물질로 이루어지며, 따라서, 상부 쪽에서 입사되는 외부의 광은 상기 상부 전극(700)에서 일부가 반사되고 나머지는 상기 상부 전극(700)을 투과한 후, 반사 전극인 하부 전극(500)에서 반사된다. 이와 같이, 외부의 광의 일부는 상기 상부 전극(700)에서 반사되고 외부의 광의 나머지는 상기 하부 전극(500)에서 반사되기 때문에, 상기 상부 전극(700)에서 반사되는 외부의 광과 상기 하부 전극(500)에서 반사되는 외부의 광 사이에 상쇄간섭을 일으킬 경우 실질적으로 외부 광의 반사로 인한 화상 품질 저하는 발생하지 않게 된다.Referring to FIG. 2, the upper electrode 700 is made of a semi-transmissive material such as silver (Ag), so that external light incident from the upper side is partially reflected from the upper electrode 700, and the rest is the upper portion. After passing through the electrode 700, it is reflected by the lower electrode 500, which is a reflective electrode. As such, since a part of external light is reflected by the upper electrode 700 and the remainder of the external light is reflected by the lower electrode 500, the external light and the lower electrode reflected by the upper electrode 700 In the case of the destructive interference between the external light reflected by the 500, substantially no image degradation due to the reflection of the external light occurs.

이와 같이 상쇄간섭을 통해서 화상 품질 저하를 방지하기 위해서는, 상기 하부 전극(500)과 상부 전극(700) 사이의 거리, 즉, 유기 발광부(600)의 두께를 각 화소 별로 상이하게 형성해야 한다. 보다 구체적으로, 파장이 가장 긴 적색(R) 화소의 유기 발광부(600)의 두께를 가장 두껍게 형성하고, 파장이 가장 짧은 청색(B) 화소의 유기 발광부(600)의 두께를 가장 얇게 형성하고, 파장이 중간 범위인 녹색(G) 화소의 유기 발광부(600)의 두께를 중간으로 형성한다. 이때, 유기 발광부(600)를 구성하는 정공주입층(Hole Injecting Layer:HIL)(610), 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620), 발광층(Emitting Layer:EL)(630), 및 전자수송층(Electron Transporting Layer: ETL)(640) 중에서 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620)의 두께를 각 화소별로 상이하게 구성하는 것이 유리하다. 왜냐하면, 상기 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620)은 다른 층에 비하여 도핑(dopping)이 용이하여 두께를 변경하여도 소자 성능에 큰 영향을 주지 않을 수 있기 때문이다. As described above, in order to prevent deterioration of the image quality through the interference, the distance between the lower electrode 500 and the upper electrode 700, that is, the thickness of the organic light emitting part 600 should be formed differently for each pixel. More specifically, the thickness of the organic light emitting part 600 of the red (R) pixel having the longest wavelength is formed thickest, and the thickness of the organic light emitting part 600 of the blue (B) pixel having the shortest wavelength is formed the thinnest. Then, the thickness of the organic light emitting part 600 of the green (G) pixel having a wavelength in the middle range is formed in the middle. At this time, a hole injection layer (HIL) 610, a hole transporting layer (HTL) 620, an emission layer (EL) 630 constituting the organic light emitting unit 600, and It is advantageous to configure the thickness of the hole transporting layer (HTL) 620 among the electron transporting layer (ETL) 640 differently for each pixel. This is because the hole transporting layer (HTL) 620 is more easily doped than other layers, and thus, even if the thickness is changed, the hole transporting layer (HTL) 620 may not significantly affect device performance.

이와 같은 이유로 인해서, 도 5에서와 같이, 적색(R) 화소의 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620)의 두께(D3)가 가장 두껍고, 청색(B) 화소의 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620)의 두께(D1)가 가장 얇고, 녹색(G) 화소의 정공수송층(Hole Transporting Layer: HTL)(620)의 두께(D2)가 중간이다. For this reason, as shown in FIG. 5, the thickness D3 of the hole transporting layer (HTL) 620 of the red (R) pixel is the thickest, and the hole transporting layer of the blue (B) pixel is the thickest. The thickness D1 of the HTL 620 is the thinnest, and the thickness D2 of the hole transporting layer (HTL) 620 of the green (G) pixel is medium.

도시하지는 않았지만, 전술한 도 3에 따른 유기 발광부(600)에서 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 별로 정공수송층(HTL)(620)의 두께가 상이할 수도 있다. Although not shown, the thickness of the hole transport layer (HTL) 620 may be different for each of the red (R), green (G), and blue (B) pixels in the organic light emitting unit 600 according to FIG. 3. have.

한편, 전술한 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 유기발광장치는, 도시하지는 않았지만, 상기 보호막(800) 상에 접착층을 통해 접착된 상부 기판을 추가로 포함할 수 있다. 또한, 상기 상부 기판 상에는 차광층 및 컬러 필터층이 추가로 형성될 수도 있다. 또한, 상기 상부 기판 상에 터치 패널이 추가로 형성될 수도 있다. 이와 같이 추가로 형성될 수 있는 차광층, 컬러 필터층, 및 터치 패널은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다. On the other hand, referring to FIG. 2 described above, the organic light emitting device according to the present invention, although not shown, may further include an upper substrate bonded to the protective layer 800 through an adhesive layer. In addition, a light blocking layer and a color filter layer may be further formed on the upper substrate. In addition, a touch panel may be further formed on the upper substrate. As such, the light blocking layer, the color filter layer, and the touch panel, which may be further formed, may be modified in various forms known in the art.

도 6a 내지 도 6e는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 제조 공정 단면도로서, 이는 전술한 도 3에 따른 유기 발광부(600)의 제조 공정에 관한 것이다. 따라서, 중복되는 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다.6A to 6E are schematic cross-sectional views of an organic light emitting unit 600 according to an embodiment of the present invention, which relates to the manufacturing process of the organic light emitting unit 600 according to FIG. 3. Therefore, repeated description of the overlapping configuration will be omitted.

우선, 도 6a에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 정공주입층(HIL)(610)을 형성한다. First, as shown in FIG. 6A, a hole injection layer (HIL) 610 is formed in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel.

상기 정공주입층(HIL)(610)은 하부 전극(도 2의 도면부호 500 참조) 상에 형성한다. 이와 같은 정공주입층(HIL)(610)은 하나의 챔버를 이용하여 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 동시에 형성할 수 있다. 특히, 후술하는 정공수송층(HTL)(도 6b의 도면부호 620)을 구성하는 물질에 p형 도펀트를 도핑하여 상기 정공주입층(HIL)(610)을 형성할 수 있으며, 이 경우, 하나의 증착 챔버에서 소스 가스만을 조절함으로써, 정공주입층(HIL)(610)과 정공수송층(HTL)(도 6b의 도면부호 620)을 연속공정을 형성할 수 있다. The hole injection layer (HIL) 610 is formed on the lower electrode (see 500 in FIG. 2). The hole injection layer (HIL) 610 may be simultaneously formed in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel by using one chamber. In particular, the hole injection layer (HIL) 610 may be formed by doping a p-type dopant to a material constituting the hole transport layer (HTL) (reference numeral 620 of FIG. 6B) to be described later, in this case, one deposition. By controlling only the source gas in the chamber, the hole injection layer (HIL) 610 and the hole transport layer (HTL) (reference numeral 620 of FIG. 6B) may form a continuous process.

다음, 도 6b에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 상기 정공주입층(HIL)(610) 상에 정공수송층(HTL)(620)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 6B, a hole transport layer (HTL) 620 is formed on the hole injection layer (HIL) 610 in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel. Form.

이와 같은 정공수송층(HTL)(620)도 하나의 챔버를 이용하여 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 동시에 형성할 수 있다. The hole transport layer (HTL) 620 may also be simultaneously formed in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel by using one chamber.

다음, 도 6c에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성한다. 상기 발광층(EL)(630)은 적색(R) 화소에서 먼저 형성하고 그 후에 녹색(G) 화소에서 형성하여도 되고, 녹색(G) 화소에서 먼저 형성하고 그 후에 적색(R) 화소에서 형성하여도 된다. Next, as shown in FIG. 6C, a light emitting layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in each of the red (R) and green (G) pixels. The light emitting layer (EL) 630 may be formed first in a red (R) pixel and then in a green (G) pixel, or may be formed first in a green (G) pixel and then in a red (R) pixel. You may also

다음, 도 6d에서 알 수 있듯이, 청색(B) 화소에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 6D, an emission layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in the blue (B) pixel.

상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)은 챔버 내로 호스트(Host) 물질 및 도펀트(Dopant) 물질을 동시에 투입하면서 증착 공정을 수행하여 형성한다. The light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel is formed by performing a deposition process while simultaneously introducing a host material and a dopant material into the chamber.

다음, 도 6e에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 상기 발광층(EL)(630) 상에 전자수송층(ETL)(640)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 6E, an electron transport layer (ETL) 640 is formed on the emission layer (EL) 630 in each of the red (R), green (G), and blue (B) pixels. .

상기 전자수송층(ETL)(640)은 전술한 도 6d 공정에서 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)을 형성한 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 형성하며, 구체적으로, 상기 챔버 내로 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630) 형성을 위한 도펀트(Dopant) 물질의 투입은 차단하고 호스트(Host) 물질만을 투입하면서 증착 공정을 수행함으로써, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 상기 전자수송층(ETL)(640)을 동시에 형성할 수 있다. The electron transport layer (ETL) 640 is formed using the same chamber as the chamber in which the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel is formed in the above-described process of FIG. 6D, and specifically, the blue color into the chamber. (B) Blocking the dopant material for forming the light emitting layer (EL) 630 of the pixel and performing the deposition process while only inputting the host material, thereby red (R) and green (G) pixels The electron transport layer (ETL) 640 may be simultaneously formed in, and blue (B) pixels.

이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 도 6d 공정 및 도 6e 공정을 하나의 증착 챔버를 이용하여 연속 공정으로 형성할 수 있다. As such, according to an embodiment of the present invention, the process of FIG. 6D and FIG. 6E may be formed in a continuous process using one deposition chamber.

도 7a 내지 도 7e는 본 발명의 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 제조 공정 단면도로서, 이는 전술한 도 4에 따른 유기 발광부(600)의 제조 공정에 관한 것이다. 전술한 실시예와 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다.7A to 7E are schematic cross-sectional views of an organic light emitting unit 600 according to another embodiment of the present invention, which relates to the manufacturing process of the organic light emitting unit 600 according to FIG. 4. Repeated description of the same configuration as the above-described embodiment will be omitted.

우선, 도 7a에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 정공주입층(HIL)(610)을 형성한다. First, as shown in FIG. 7A, a hole injection layer (HIL) 610 is formed in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel.

다음, 도 7b에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 상기 정공주입층(HIL)(610) 상에 정공수송층(HTL)(620)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7B, a hole transport layer (HTL) 620 is formed on the hole injection layer (HIL) 610 in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel. Form.

다음, 도 7c에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7C, an emission layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in each of the red (R) and green (G) pixels.

다음, 도 7d에서 알 수 있듯이, 청색(B) 화소에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성하고, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 발광층(EL)(630) 상에 배리어층(Barrier)(635)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7D, an emission layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in a blue (B) pixel, and in each of a red (R) pixel and a green (G) pixel. A barrier layer 635 is formed on the light emitting layer (EL) 630.

상기 배리어층(635)은 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)과 동일한 물질로 동일한 두께로 동시에 형성한다. The barrier layer 635 is formed of the same material and the same thickness as the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel.

즉, 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)과 상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소의 배리어층(Barrier)(635)은 챔버 내로 호스트(Host) 물질 및 도펀트(Dopant) 물질을 동시에 투입하면서 증착 공정을 수행하여 동시에 형성한다. That is, the emission layer (EL) 630 of the blue (B) pixel and the barrier layer 635 of the red (R) pixel and the green (G) pixel are formed of a host material and a dopant into the chamber. ) Simultaneously insert the material and perform the deposition process to form simultaneously.

다음, 도 7e에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 전자수송층(ETL)(640)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 7E, an electron transport layer (ETL) 640 is formed from each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel.

상기 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서는 상기 배리어층(Barrier)(635) 상에 전자수송층(ETL)(640)을 형성하고, 상기 청색(B) 화소에서는 상기 발광층(EL)(630) 상에 전자수송층(ETL)(640)을 형성한다. An electron transport layer (ETL) 640 is formed on the barrier layer 635 in the red (R) and green (G) pixels, and the light emitting layer (EL) 630 in the blue (B) pixel. ) To form an electron transport layer (ETL) 640.

상기 전자수송층(ETL)(640)도 전술한 도 7d 공정을 수행한 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 동시에 형성한다. The electron transport layer (ETL) 640 is also simultaneously formed in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel using the same chamber as the chamber in which the aforementioned process of FIG. 7D is performed.

도 8a 내지 도 8g는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 유기 발광부(600)의 개략적인 제조 공정 단면도로서, 이는 전술한 도 5에 따른 유기 발광부(600)의 제조 공정에 관한 것이다. 전술한 실시예와 동일한 구성에 대한 반복 설명은 생략하기로 한다.8A to 8G are schematic cross-sectional views of an organic light emitting unit 600 according to still another embodiment of the present invention, which relates to the manufacturing process of the organic light emitting unit 600 according to FIG. 5. Repeated description of the same configuration as the above-described embodiment will be omitted.

우선, 도 8a에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 정공주입층(HIL)(610)을 형성한다. First, as shown in FIG. 8A, a hole injection layer (HIL) 610 is formed in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel.

다음, 도 8b에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 상기 정공주입층(HIL)(610) 상에 정공수송층(HTL)(620)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8B, a hole transport layer (HTL) 620 is formed on the hole injection layer (HIL) 610 in each of a red (R) pixel, a green (G) pixel, and a blue (B) pixel. Form.

도 8b 공정에서 형성한 정공수송층(HTL)(620)은 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 모두 동일한 제1 두께(D1)를 가진다. 상기 제1 두께(D1)는 상기 청색(B) 화소의 정공수송층(HTL)에서 요구되는 두께이다. The hole transport layer (HTL) 620 formed in the process of FIG. 8B has the same first thickness D1 in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel. The first thickness D1 is a thickness required in the hole transport layer HTL of the blue (B) pixel.

다음, 도 8c에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 정공수송층(HTL)(620)을 추가로 형성한다. Next, as shown in FIG. 8C, the hole transport layer (HTL) 620 is further formed in each of the red (R) and green (G) pixels.

도 8c 공정에서 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에 형성한 정공수송층(HTL)(620)은 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소에서 동일한 제2 두께(D2)를 가진다. 상기 제2 두께(D2)는 상기 녹색(G) 화소의 정공수송층(HTL)에서 요구되는 두께이다. In the process of FIG. 8C, the hole transport layer (HTL) 620 formed in the red (R) pixel and the green (G) pixel has the same second thickness D2 in the red (R) pixel and the green (G) pixel. The second thickness D2 is a thickness required in the hole transport layer HTL of the green (G) pixel.

다음, 도 8d에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소에서 상기 정공수송층(HTL)(620)을 추가로 형성한다. Next, as shown in FIG. 8D, the hole transport layer (HTL) 620 is further formed in the red (R) pixel.

도 8d 공정에서 적색(R) 화소에 형성한 정공수송층(HTL)(620)은 제3 두께(D3)를 가진다. 상기 제3 두께(D3)는 상기 적색(R) 화소의 정공수송층(HTL)에서 요구되는 두께이다. In the process of FIG. 8D, the hole transport layer (HTL) 620 formed in the red (R) pixel has a third thickness D3. The third thickness D3 is a thickness required in the hole transport layer HTL of the red (R) pixel.

이상의 도 8b 내지 도 8d에 따른 공정을 통해서, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 별로 두께가 상이한 정공수송층(HTL)(620)을 형성한다. 즉, 적색(R) 화소에서는 두께(D3)가 가장 두꺼운 정공수송층(HTL)(620)이 형성되고, 청색(B) 화소에서는 두께(D1)가 가장 얇은 정공수송층(HTL)(620)이 형성되고, 녹색(G) 화소에서는 중간 두께(D2)의 정공수송층(HTL)(620)이 형성된다. 8B to 8D, a hole transport layer (HTL) 620 having a different thickness is formed for each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel. That is, in the red (R) pixel, the hole transport layer (HTL) 620 having the thickest thickness D3 is formed, and in the blue (B) pixel, the hole transport layer (HTL) 620 having the smallest thickness D1 is formed. In the green (G) pixel, a hole transport layer (HTL) 620 having a medium thickness D2 is formed.

다음, 도 8e에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8E, a light emitting layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in each of the red (R) and green (G) pixels.

다음, 도 8f에서 알 수 있듯이, 청색(B) 화소에서 상기 정공수송층(HTL)(620) 상에 발광층(EL)(630)을 형성하고, 적색(R) 화소 및 녹색(G) 화소 각각에서 상기 발광층(EL)(630) 상에 배리어층(Barrier)(635)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8F, an emission layer (EL) 630 is formed on the hole transport layer (HTL) 620 in a blue (B) pixel, and in each of a red (R) pixel and a green (G) pixel. A barrier layer 635 is formed on the light emitting layer (EL) 630.

상기 배리어층(635)은 상기 청색(B) 화소의 발광층(EL)(630)과 동일한 물질로 동일한 두께로 동시에 형성한다. The barrier layer 635 is formed of the same material and the same thickness as the light emitting layer (EL) 630 of the blue (B) pixel.

다음, 도 8g에서 알 수 있듯이, 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 전자수송층(ETL)(640)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 8G, an electron transport layer (ETL) 640 is formed in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel.

상기 전자수송층(ETL)(640)은 전술한 도 8f 공정을 수행한 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 적색(R) 화소, 녹색(G) 화소, 및 청색(B) 화소 각각에서 동시에 형성한다. The electron transport layer (ETL) 640 is formed at the same time in each of the red (R) pixel, the green (G) pixel, and the blue (B) pixel by using the same chamber as the chamber in which the above-described process of FIG. 8F is performed.

한편, 전술한 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 유기발광장치는, 기판(100) 상에 버퍼층(200)을 형성하고, 상기 버퍼층(200) 상에 박막 트랜지스터층(Thin film transistor layer)(300)을 형성하고, 상기 박막 트랜지스터층(Thin film transistor layer)(300) 상에 뱅크층(400)을 형성하고, 상기 뱅크층(400) 상에 하부 전극(500)을 형성하고, 상기 하부 전극(500) 상에 전술한 바와 같은 다양한 실시예에 따라 유기 발광부(600)을 형성하고, 상기 유기 발광부(600) 상에 상부 전극(700)을 형성하고, 상기 상부 전극(700) 상에 보호막(800)을 형성하는 공정을 통해 제조될 수 있다. Meanwhile, referring to FIG. 2 described above, in the organic light emitting device according to the present invention, a buffer layer 200 is formed on a substrate 100, and a thin film transistor layer (Thin film transistor layer) is formed on the buffer layer 200. 300, a bank layer 400 is formed on the thin film transistor layer 300, a lower electrode 500 is formed on the bank layer 400, and the lower electrode is formed. The organic light emitting part 600 is formed on the 500, the upper electrode 700 is formed on the organic light emitting part 600, and on the upper electrode 700. It may be manufactured through a process of forming the protective film 800.

100: 기판 200: 버퍼층
300: 박막 트랜지스터층 400: 뱅크층
500: 하부 전극 600: 유기 발광부
700: 상부 전극 800: 보호막
610: 정공주입층 620: 정공수송층
630: 발광층 635: 배리어층
640: 전자수송층100: substrate 200: buffer layer
300: thin film transistor layer 400: bank layer
500: lower electrode 600: organic light emitting unit
700: upper electrode 800: protective film
610: hole injection layer 620: hole transport layer
630: light emitting layer 635: barrier layer
640: electron transport layer

Claims (11)

적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에 형성된 유기 발광부를 포함하여 이루어지고,
상기 유기 발광부는, 상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 차례로 형성된 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 및 전자수송층을 포함하여 이루어지고,
상기 전자수송층은 상기 적색 화소의 적색 발광층, 상기 녹색 화소의 녹색 발광층 및 상기 청색 화소의 청색 발광층 모두에 별개로 각각 구비되며 상기 청색 화소의 발광층을 구성하는 호스트 물질로 이루어지고,
상기 적색 화소 및 녹색 화소에서 상기 발광층과 상기 전자수송층 사이에 배리어층이 추가로 형성되어 있고, 상기 배리어층은 상기 청색 화소의 발광층과 동일한 물질로 이루어지며,
상기 청색 화소의 발광층을 구성하는 호스트 물질은 피렌(Pyrene) 계열 화합물을 포함하고,
상기 적색 화소의 정공수송층의 두께는 상기 녹색 화소의 정공수송층의 두께보다 두껍고, 상기 청색 화소의 정공수송층의 두께는 상기 녹색 화소의 정공수송층의 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는 유기발광장치. It comprises an organic light emitting portion formed in each of the red pixel, green pixel, and blue pixel,
The organic light emitting part includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer sequentially formed in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel,
The electron transport layer is formed of a host material constituting the light emitting layer of the blue pixel, respectively provided separately in all of the red light emitting layer of the red pixel, the green light emitting layer of the green pixel and the blue light emitting layer of the blue pixel,
In the red and green pixels, a barrier layer is further formed between the light emitting layer and the electron transport layer, and the barrier layer is made of the same material as the light emitting layer of the blue pixel.
The host material constituting the light emitting layer of the blue pixel includes a pyrene-based compound,
The thickness of the hole transport layer of the red pixel is thicker than the thickness of the hole transport layer of the green pixel, the thickness of the hole transport layer of the blue pixel is thinner than the thickness of the hole transport layer of the green pixel. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 정공주입층은 상기 정공수송층을 구성하는 물질에 p형 도펀트가 도핑되어 형성된 것을 특징으로 하는 유기발광장치. The method of claim 1,
The hole injection layer is an organic light emitting device, characterized in that formed by doping the p-type dopant to the material constituting the hole transport layer. 제1항에 있어서,
상기 유기 발광부의 하부에는 기판, 상기 기판 상에 형성된 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 형성된 박막 트랜지스터층, 상기 박막 트랜지스터층 상의 화소 영역에 형성된 하부 전극을 더 포함하고,
상기 유기 발광부의 상부에는 상기 유기 발광부 상에 형성된 상부 전극 및 상기 상부 전극 상에 형성된 보호막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기발광장치.The method of claim 1,
The organic light emitting unit further includes a substrate, a buffer layer formed on the substrate, a thin film transistor layer formed on the buffer layer, and a lower electrode formed on a pixel region on the thin film transistor layer.
And an upper electrode formed on the organic light emitting part and a protective film formed on the upper electrode on the organic light emitting part. 제5항에 있어서,
상기 박막 트랜지스터층 상의 상기 화소 영역 이외의 영역에 형성된 뱅크층을 더 포함하고,
상기 뱅크층은 화소 영역을 둘러싸는 것을 특징으로 하는 유기발광장치.The method of claim 5,
A bank layer formed on a region other than the pixel region on the thin film transistor layer,
And the bank layer surrounds the pixel area. 제6항에 있어서,
상기 뱅크층은 상기 박막 트랜지스터층의 게이트 배선 및 데이터 배선과 오버랩되는 것을 특징으로 하는 유기발광장치.The method of claim 6,
And the bank layer overlaps with the gate wiring and the data wiring of the thin film transistor layer. 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 정공주입층을 형성하는 공정;
상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 상기 정공주입층 상에 정공수송층을 형성하는 공정;
상기 적색 화소 및 녹색 화소 각각에서 상기 정공수송층 상에 발광층을 형성하는 공정;
상기 청색 화소에서 상기 정공수송층 상에 발광층을 형성하는 공정; 및
상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 상기 발광층 상에 전자수송층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지고,
상기 전자수송층을 형성하는 공정은, 상기 청색 화소의 발광층을 형성한 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 상기 청색 화소의 발광층 형성을 위한 도펀트 물질의 투입은 차단하고 상기 청색 화소의 발광층 형성을 위한 호스트 물질을 투입하면서 증착 공정을 수행하고,
상기 청색 화소의 발광층을 형성하는 공정 시에 상기 적색 화소 및 녹색 화소 각각의 발광층 상에 배리어층을 형성하고, 상기 배리어층은 상기 청색 화소의 발광층과 동일한 물질로 형성하며,
상기 청색 화소의 발광층 형성을 위한 호스트 물질은 피렌(Pyrene) 계열 화합물을 포함하고,
상기 정공수송층을 형성하는 공정은,
상기 적색 화소, 녹색 화소, 및 청색 화소 각각에서 제1 두께를 가지는 정공수송층을 형성하고, 이어서,
상기 적색 화소 및 녹색 화소 각각에서 제2 두께를 가지는 정공수송층을 추가로 형성하고, 이어서,
상기 적색 화소에서 제3 두께를 가지는 정공수송층을 추가로 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광장치의 제조방법. Forming a hole injection layer in each of a red pixel, a green pixel, and a blue pixel;
Forming a hole transport layer on the hole injection layer in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel;
Forming a light emitting layer on the hole transport layer in each of the red and green pixels;
Forming a light emitting layer on the hole transport layer in the blue pixel; And
And forming an electron transport layer on the light emitting layer in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel.
In the forming of the electron transport layer, the dopant material for blocking the emission layer formation of the blue pixel is blocked by using the same chamber as the chamber in which the emission layer of the blue pixel is formed, and the host material for forming the emission layer of the blue pixel is blocked. The deposition process is carried out while
In the process of forming the light emitting layer of the blue pixel, a barrier layer is formed on the light emitting layer of each of the red and green pixels, the barrier layer is formed of the same material as the light emitting layer of the blue pixel,
The host material for forming the emission layer of the blue pixel includes a pyrene-based compound,
Forming the hole transport layer,
Forming a hole transport layer having a first thickness in each of the red pixel, the green pixel, and the blue pixel, and then
A hole transport layer having a second thickness is further formed in each of the red and green pixels, and then
And forming a hole transport layer having a third thickness in the red pixel. 삭제delete 삭제delete 제8항에 있어서,
상기 정공주입층을 형성하는 공정은 상기 정공수송층을 형성하는 챔버와 동일한 챔버를 이용하여 상기 정공수송층을 구성하는 물질에 p형 도펀트를 추가하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 유기발광장치의 제조방법. The method of claim 8,
And forming the hole injection layer comprises adding a p-type dopant to a material forming the hole transport layer using the same chamber as the chamber for forming the hole transport layer.
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