KR101989986B1 - Wet Scrubber Tower with function of Humidity Control and a method for purifying using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 소정의 크기와 형상을 갖는 세정탑 본체부(200) 및 상기 세정탑 본체부(200)로 폐가스를 공급하기 위한 폐가스 유입관(100)을 포함하되, 상기 폐가스 유입관(100) 내부 소정 공간부에는 유입된 폐가스의 습도를 조절하기 위한 습도조절부가 구비된 것을 특징으로 하는 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법에 관한 것이다.The present invention relates to a wet scrubbing tower to which a humidity control function is added and a waste gas purifying method using the same. More specifically, the present invention relates to a scrubbing column main body 200 having a predetermined size and shape, And a waste gas inlet pipe (100) for supplying waste gas. A humidity adjusting unit for adjusting the humidity of the waste gas introduced into the waste gas inlet pipe (100) And a method for purifying waste gas using the same.

Description

습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법{Wet Scrubber Tower with function of Humidity Control and a method for purifying using the same}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wet scrubbing tower having a humidity control function and a method for purifying waste gas using the same,

본 발명은 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 습식세정탑에 유입되는 폐가스의 상대습도를 소정범위로 조절하여 오염물질의 제거효율을 향상시키는 한편, 처리비용을 절감할 수 있는 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법에 관한 것이다.The present invention relates to a wet scrubbing tower having a humidity control function and a method for purifying waste gas using the same. More particularly, the present invention relates to a wet scrubbing tower having a humidity control function, The present invention also relates to a wet scrubbing tower having a humidity control function capable of reducing a treatment cost and a waste gas purification method using the same.

각종 기기나 장비, 원료를 생산하는 과정에서는 다양한 오염물질들이 발생한다. 일예로, 반도체를 제조하기 위해서는 세정 및 식각공정이 필요하며 이들 공정에서는 아세톤, 알코올류, 모노에탄올아민, TCE, 염화메틸, 아세트산, 각종 씨너(Thinner)류 등의 유기용제(Solvent)가 사용되며, 황산, 질산, 불산, 염산 등의 강산류, 암모니아수, 불화암모늄 등 알칼리류가 사용된다. 또 사진공정에서는 유기화합물인 사진감광액(Photo Resist)과, HMDS, 아세톤, 씨너 같은 밀착향상제가 사용되는 한편, 도금공정에서는 유기 용제류로서 알콜계 씨너, 이소프로필알코올(IPA)이 사용된다. Various pollutants are generated in the process of producing various devices, equipment and raw materials. For example, a cleaning and etching process is required to manufacture semiconductors. In these processes, organic solvents such as acetone, alcohols, monoethanolamine, TCE, methyl chloride, acetic acid, and various thinners are used , Strong acids such as sulfuric acid, nitric acid, hydrofluoric acid and hydrochloric acid, ammonia water, and ammonium fluoride. In the photolithography process, an organic compound, Photo Resist, HMDS, acetone, and an adhesion improver such as a thinner are used. In the plating process, an alcohol-based thinner or isopropyl alcohol (IPA) is used as an organic solvent.

이러한 오염물질들이 제대로 제거되지 않고 대기로 배출되면 인간을 포함한 생태계를 파괴하기 때문에 배출허용기준 이하로 배출되어야 하거나, 대기 중으로 전혀 배출되지 않아야 하는 물질들로 존재한다. If these pollutants are not removed properly and they are released into the atmosphere, they exist as substances that must be discharged below the emission limit or not discharged to the atmosphere at all because they destroy ecosystems including humans.

일반적으로 상기와 같은 대기오염물질은 습식 세정탑 내부로 유입시킨 후 물을 분사하여 제거하거나 또는 흡착탑의 내부로 통과시켜 흡착 제거하는 것이 일반적이다. 즉, 습식세정탑의 유입부에는 유입되는 폐가스에 세정용액을 분사하기 위한 노즐이 설치되어 있고, 이 노즐은 약 500~1000㎛ 정도의 액적을 분사한다.Generally, the air pollutant as described above is generally introduced into a wet scrubbing tower, and then sprayed or removed by water or passed through the inside of an adsorption tower to adsorb and remove the air pollutants. That is, a nozzle for spraying a cleaning solution is provided in an inlet portion of the wet scrubbing column, and the nozzle injects droplets of about 500 to 1000 μm.

하지만 오염물질의 제거효율을 높일 목적으로 세정탑에서 분사하는 물이나 세정액을 과량으로 사용하는 것이 일반적이지만, 이에 따른 처리비용만 증가할 뿐 만족할 만한 제거효율을 얻지 못해 추가적인 제거공정을 부가하여 처리하는 경우도 빈번한 실정이다.However, in order to increase the removal efficiency of the pollutants, it is common to use excessive amount of water or washing liquid sprayed from the washing tower. However, since only the treatment cost is increased, satisfactory removal efficiency can not be obtained, The case is frequent.

특히, 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨, 인산암모늄 등 수용성 무기염 및 이를 함유하는 복합비료 등을 대량으로 제조하는 공장에서는 1 ㎛ 미만의 초미세 입자가 부산물로 생성되지만 종래의 습식세정탑 방식으로는 만족할만한 수준으로 제거하는 것이 매우 어렵다.Particularly, in factories that produce large quantities of water-soluble inorganic salts such as ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate, ammonium phosphate, and complex fertilizers containing the same, ultrafine particles of less than 1 μm are produced as byproducts, It is very difficult to remove to a satisfactory level with the wet cleaning tower method.

한국공개특허공보 제2009-0108369호Korean Patent Publication No. 2009-0108369 한국공개특허공보 제2011-0102277호Korean Patent Publication No. 2011-0102277

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 대기오염물질의 제거 효율을 향상시키면서도 처리 비용을 절감할 수 있는 습식세정탑 및 정화방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a wet scrubbing tower and a scrubbing method that can reduce the treatment cost while improving the removal efficiency of air pollutants.

또한 본 발명에서는 초미세 입자의 대기오염물질을 효과적으로 제거할 수 있는 습식세정탑 및 정화방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a wet cleaning tower and a cleaning method that can effectively remove air pollutants from ultrafine particles.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 습식세정탑은 소정의 크기와 형상을 갖는 세정탑 본체부(200) 및 상기 세정탑 본체부(200)로 폐가스를 공급하기 위한 폐가스 유입관(100)을 포함하되, 상기 폐가스 유입관(100) 내부 소정 공간부에는 유입된 폐가스의 습도를 조절하기 위한 습도조절부가 구비된 것을 특징으로 한다.In order to solve the above problems, the wet scrubbing tower of the present invention includes a scrubbing column main body 200 having a predetermined size and shape and a waste gas inlet pipe 100 for supplying waste gas to the scrubbing column main body 200 A predetermined space in the waste gas inlet pipe 100 is provided with a humidity controller for controlling the humidity of the waste gas.

여기서, 상기 습도 조절부는 세정액을 분사하는 제1 분사노즐(111)을 포함하되, 상기 제1 분사노즐(111)은 5㎛ 내지 50㎛ 직경의 액적을 분사하는 것이 바람직하다.Here, the humidity controller may include a first spray nozzle 111 for spraying a cleaning liquid, and the first spray nozzle 111 may spray droplets having a diameter of 5 to 50 μm.

또한 상대습도가 40% 이상으로 유지되도록 액적을 분사하는 것이 바람직하다.It is also preferable to spray droplets so that the relative humidity is maintained at 40% or more.

또한 상기 폐가스 유입관(100)은 정화할 폐가스가 유입되도록 일측은 개구된 폐가스 유입구(101)가 구비되고, 타측은 세정탑 본체부(200)와 연통되도록 소정 각도로 절곡되어 있는 것이 바람직하다.In addition, the waste gas inlet pipe 100 is preferably provided with a waste gas inlet 101 opened at one side so as to allow the waste gas to be purified to flow therein, and the other side is bent at a predetermined angle to communicate with the cleaning column body 200.

또한 상기 습도조절부는, 폐가스 유입관(100)으로 유입되는 폐가스의 습도를 측정하기 위한 제1 습도센서(H-1)가 폐가스 유입구(101) 인근에 더 구비되는 것이 바람직하다.The humidity controller may further include a first humidity sensor (H-1) for measuring the humidity of the waste gas flowing into the waste gas inlet pipe (100) near the waste gas inlet (101).

또한 상기 습도조절부는, 폐가스 유입관(100)을 통과하는 폐가스의 온도를 측정하기 위한 제1 온도센서(T-1)가 폐가스 유입구(101) 인근에 더 구비되는 것이 바람직하다.It is preferable that the humidity controller further includes a first temperature sensor T-1 for measuring the temperature of the waste gas passing through the waste gas inlet pipe 100 near the waste gas inlet 101.

또한 상기 제1 분사노즐(111) 상부에는 제2 분사노즐(131)이 더 구비되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that a second injection nozzle 131 is further provided on the first injection nozzle 111.

또한 상기 제2 분사노즐(131) 상부에는 제3 분사노즐(141)이 더 구비되고, 상기 제3 분사노즐(141)로는 스팀이 분사되는 것이 바람직하다.Further, it is preferable that a third injection nozzle 141 is further provided on the second injection nozzle 131, and steam is sprayed to the third injection nozzle 141.

또한 상기 폐가스는 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨, 인산암모늄 등 수용성 무기염 및 이를 함유하는 복합비료 중 어느 하나 이상의 물질을 제조하는 과정에서 발생하는 폐가스일 수 있다.The waste gas may be a waste gas generated in the course of manufacturing any one or more of water-soluble inorganic salts such as ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate, ammonium phosphate, and complex fertilizers containing the same.

또한 본 발명에 따른 폐가스 정화방법은, 폐가스를 습식세정탑으로 유입시키는 단계, 폐가스의 습도를 측정하는 단계 및 폐가스의 습도가 소정범위에 해당되도록 세정액을 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The waste gas purifying method according to the present invention is characterized by including the step of introducing the waste gas into the wet scrubbing column, the measurement of the humidity of the waste gas, and the step of spraying the cleaning liquid so that the humidity of the waste gas falls within a predetermined range.

여기서, 상기 세정액을 분사하는 단계에서는, 상대습도가 40% 이상이 되도록 세정액을 분사하는 것이 바람직하다.Here, in the step of spraying the cleaning liquid, it is preferable to spray the cleaning liquid so that the relative humidity becomes 40% or more.

본 발명의 습식세정탑 및 폐가스 정화방법에 의하면, 폐가스의 습도를 조절함으로써 오염물질의 제거효율을 높일 수 있다는 이점이 있다.According to the wet scrubbing column and the waste gas purifying method of the present invention, there is an advantage that the efficiency of removing contaminants can be improved by controlling the humidity of the waste gas.

또한 본 발명의 습식세정탑 및 폐가스 정화방법에 의하면, 세정액의 분사량을 줄일 수 있어 동력비를 절감할 수 있다는 이점이 있다.Further, according to the wet scrubbing column and the waste gas scrubbing method of the present invention, it is possible to reduce the injection amount of the scrubbing liquid and to reduce the power ratio.

게다다 본 발명의 습식세정탑 및 폐가스 정화방법에 의하면, 세정액의 폐액을 줄일 수 있어 폐액 처리비를 절약할 수 있다는 장점이 있다.Furthermore, according to the wet scrubbing tower and the waste gas scrubbing method of the present invention, it is possible to reduce the waste liquid of the scrubbing liquid, thereby saving the waste liquid disposal cost.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 폐가스 정화방법을 설명하는 순서도이다.
도 3은 기존 습식 세정탑으로 정화한 경우의 배출구 사진이다.
도 4는 본 발명에 따른 세정탑으로 정화한 경우의 배출구 사진이다.
도 5는 수용성 무기염의 흡습성을 나타내는 도표이다.
1 is a cross-sectional view of a wet scrubbing tower to which a humidity control function is added according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a flowchart for explaining the waste gas purifying method of the present invention.
FIG. 3 is a photograph of the outlet when purified by a conventional wet cleaning tower.
Fig. 4 is a photograph of an outlet when purified by a washing tower according to the present invention.
5 is a chart showing the hygroscopicity of the water-soluble inorganic salt.

이하, 본 발명에 따른 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑 및 이를 이용한 폐가스 정화방법에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a wet scrubbing tower with a humidity control function according to the present invention and a waste gas purifying method using the same will be described with reference to the accompanying drawings.

본 출원에서 “포함한다”, “가지다” 또는 “구비하다” 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The use of the terms "comprises", "having", or "having" in this application is intended to specify the presence of stated features, integers, steps, components, parts, or combinations thereof, But do not preclude the presence or addition of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

또한, 다르게 정의되지 않는 한 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Also, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑의 단면도이다.1 is a cross-sectional view of a wet scrubbing tower to which a humidity control function is added according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시한 바와 같이 본 발명의 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑은 폐가스가 유입 공급되는 폐가스 유입관(100)과 세정탑 본체부(200)를 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 1, the wet scrubbing tower with the humidity control function of the present invention includes a waste gas inlet pipe 100 through which waste gas is supplied and a cleaning tower body 200.

폐가스 유입관(100)은 정화가 필요한 폐가스가 처음으로 유입되는 곳으로, 일측은 개구되어 있는 폐가스 유입구(101)가 구비되어 있고, 폐가스 유입관(100) 내부를 통과하면서 습도가 조절되고 또 미세 액적과 접촉함으로써 일정량의 오염물질이 제거된 폐가스가 세정탑 본체부(200)로 이동할 수 있도록, 타측은 세정탑 본체부(200)와 연통되도록 배치되어 있다.The waste gas inlet pipe 100 is provided with a waste gas inlet port 101 which is opened at one side and flows through the waste gas inlet pipe 100 so that the humidity can be controlled and the fine The other side is arranged to communicate with the cleaning tower main body 200 so that the waste gas from which a certain amount of contaminants are removed by contact with the droplet can be moved to the cleaning tower main body 200.

첨부한 도면에서는 ‘ㄴ’자 형상인 것으로 도시하고 있으나 이에 제한하지 않으며, 또 폐가스 유입관(100)의 단면이 원형인 것으로 나타내고 있으나 사각형, 오각형, 육각형 등 다양하게 변경될 수 있음은 자명하다.But the present invention is not limited thereto. It is obvious that the cross section of the waste gas inlet pipe 100 is circular, but it can be changed in various ways such as a square, a pentagon, and a hexagon.

본 발명의 폐가스 유입관(100) 내부에는 유입된 폐가스의 상대습도가 소정 범위, 바람직하게는 40% 이상, 보다 바람직하게는 70% 이상, 가장 바람직하게는 100% 이상 유지될 수 있도록 습도 조절부를 구비하고 있다. In the waste gas inflow pipe 100 of the present invention, the humidity regulator is controlled so that the relative humidity of the introduced waste gas can be maintained within a predetermined range, preferably 40% or more, more preferably 70% or more, and most preferably 100% Respectively.

특히, 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨, 인산암모늄 등의 수용성 무기염 및 이를 함유하는 복합비료 등의 미세입자는 도 5에 나타낸 수용성 무기염의 흡습성 도표와 같이 상대습도가 임계상대습도 이상이 되면 주변의 수분을 급격하게 흡수하여 용해되는 성질이 있다. 따라서 이들 물질을 생산하는 제조공정에서 발생하는 폐가스의 경우에는 임계상대습도 이상으로 유지하면 매우 효과적이나, 일반적인 습식세정탑으로는 대기조건 및 제조공정상의 변화에 따라 제거효율의 편차가 심하여 완벽한 제거가 어렵다. 입자크기가 1㎛ 미만으로 작은 초미세 먼지의 경우 소량이라도 대기중으로 누출되면 하얀 연무 형태로 보이며 심각한 가시공해를 유발하기 때문에, 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨, 인산암모늄 등의 수용성 무기염 및 이를 함유하는 복합비료를 제조하는 공장에서는 가시공해를 방지하기 위해 고가의 전기집진기나 압력손실이 높은 Fiber bed 필터를 추가로 장착한 세정탑을 설치하고 있어, 이에 따른 처리비용이 높다는 문제점이 있다.Particularly, fine particles of water-soluble inorganic salts such as ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate, ammonium phosphate and the like and complex fertilizers containing the same have a high relative humidity as shown in the hygroscopic chart of the water- When the humidity exceeds the above range, there is a property of rapidly absorbing and dissolving the surrounding moisture. Therefore, in the case of the waste gas generated in the manufacturing process for producing these materials, it is very effective to maintain the temperature above the critical relative humidity. However, in the case of the general wet cleaning tower, it's difficult. In the case of ultra fine dust having a particle size of less than 1 탆, even a small amount of dust leaks into the atmosphere and appears to be in the form of white mist and causes serious visible pollution. Therefore, it is necessary to use ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate, In a plant for producing water-soluble inorganic salt and complex fertilizer containing the same, a washing tower equipped with an expensive electrostatic precipitator or a fiber bed filter having a high pressure loss is installed in order to prevent visible pollution, There is a problem.

상기 습도 조절부는 1개 이상의 제1, 제2 및 제3 분사노즐(111, 131, 141), 1개 이상의 제1 및 제2 습도측정센서(H-1, H-2), 1개 이상의 제1 및 제2 온도측정센서(T-1, T-2), 1개 이상의 제1, 제2, 제3 및 제4 유량 측정센서(F-1, F-2, F-3, F-4) 그리고 이들 센서들(H, T, F)을 제어하는 제어부(300)를 포함하여 이루어진다.The humidity controller may include one or more first, second and third injection nozzles 111, 131, 141, at least one first and second humidity measurement sensors H-1, H-2, F-1, F-2, F-3, and F-4, one or more first, second and third temperature measurement sensors T-1 and T- And a control unit 300 for controlling the sensors H, T, and F. FIG.

종래 습식세정탑의 경우, 폐가스에 포함된 각종 오염물질을 제거하기 위하여 세정액을 분사하며, 이렇게 분사된 세정액은 폐가스와 접촉함으로써 각종 오염물질이 세정액에 용해되거나 액적에 포집되어 폐가스 흐름으로부터 제거된다.In the conventional wet scrubbing tower, a cleaning liquid is sprayed to remove various pollutants contained in the waste gas, and the thus sprayed cleaning liquid comes into contact with the waste gas so that various contaminants are dissolved in the cleaning liquid or collected in the liquid droplet and removed from the waste gas stream.

하지만 이러한 종래 습식세정탑에서는, 오염물질의 제거 효율을 높이기 위하여 직경이 대략 500~1000 ㎛의 액적을 다량 분사하여 폐가스와 접촉시키고 있어, 오염물질의 제거효율이 높지 않은 반면 다량의 세정 폐액이 발생하고 게다가 펌프 구동에 따른 동력비 등 유지비용이 많이 소요되고 있다.However, in the conventional wet scrubbing tower, a large amount of droplets having a diameter of about 500 to 1000 μm is injected to contact with the waste gas in order to increase the removal efficiency of the contaminants, and thus the efficiency of removing contaminants is not high, In addition, maintenance costs such as power costs due to pump operation are taking a lot of time.

이에 반해 본 발명에서는 폐가스가 최초로 유입되는 유입관(100)에서부터 폐가스의 습도를 조절함으로써, 오염물질의 제거효율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 액적 분사시 동력비도 절감할 수 있다.On the other hand, according to the present invention, by controlling the humidity of the waste gas from the inflow pipe (100) through which the waste gas first flows, it is possible not only to improve the removal efficiency of contaminants but also to reduce the power ratio at the time of drop ejection.

폐가스 유입관(100) 내부에 위치하는 제1 분사노즐(111)은 후술할 세정탑 본체부(200)에 저장 순환되어 있는 세정액을 분사하여 폐가스가 이동하는 공간부의 습도를 소정 범위로 조절한다. 즉, 세정탑 본체부(200)와 연결되어 있는 세정액 제1 순환라인(110)으로 공급되는 세정액은 제1 분사노즐(111)을 통하여 미세한 액적, 보다 구체적으로는 5㎛ 내지 50㎛ 직경의 액적을 분사한다. 상기 액적이 미세할수록 유리하지만 5㎛ 미만으로 액적을 분사하기 위해서는 고가의 노즐을 사용하여야 하고, 반대로 액적이 50㎛를 초과하면 습도 조절이 용이하지 않기 때문에 제1 분사노즐(111)로부터 분사되는 액적은 상기 범위인 것이 바람직하다.The first injection nozzle 111 located inside the waste gas inlet pipe 100 injects the cleaning liquid stored and circulated in the cleaning tower main body 200 to be described later to adjust the humidity of the space portion where the waste gas moves to a predetermined range. That is, the cleaning liquid supplied to the cleaning liquid first circulation line 110 connected to the cleaning tower main body 200 is supplied through the first injection nozzle 111 to a minute droplet, more specifically, a liquid having a diameter of 5 μm to 50 μm Spray the enemy. If the droplet exceeds 50 탆, it is difficult to control the humidity. Therefore, the liquid sprayed from the first spraying nozzle 111 must be used in order to spray the droplet less than 5 탆, The smaller the above range, the better.

상기 제1 분사노즐(111) 상부에는 정밀한 습도 조절을 위하여 제2 분사노즐(131)이 더 구비될 수 있다. 구체적으로 제2 분사노즐(131)은 제1 분사노즐(111)과는 달리 제1 물 공급라인(130)과 연결되어 있어 물을 분사하여 습도를 조절한다.A second injection nozzle 131 may be further provided on the first injection nozzle 111 for precise humidity control. The second injection nozzle 131 is connected to the first water supply line 130, unlike the first injection nozzle 111, and controls the humidity by injecting water.

후술할 세정탑 본체부(200) 저부에는 폐가스에 포함되어 있는 오염물질을 제거하기 위하여 질산이나 황산 등 약품이 포함된 세정액이 저류된 상태로 순환한다. 하지만 세정액이 순환 및 분사되는 과정에서 일정량의 수분은 청정가스 배출구(201) 등으로 배출되기 때문에 세정액의 농도를 소정 범위로 유지하기 위해서는 주기적으로 물을 보충시켜야 한다.A cleaning liquid containing chemicals such as nitric acid or sulfuric acid is circulated at the bottom of the cleaning tower main body 200 to be described later in order to remove contaminants contained in the waste gas. However, in the process of circulating and spraying the cleaning liquid, a certain amount of water is discharged to the clean gas outlet 201. Therefore, in order to maintain the concentration of the cleaning liquid in a predetermined range, water must be replenished periodically.

본 발명의 제2 분사노즐(131)로 공급되는 물은 습도 조절에 도움을 줄 수 있을 뿐만 아니라 증발한 수분을 보충하는 기능을 동시에 수행할 수 있어 펌프 등 구동에 필요한 전력비를 절감할 수 있다.The water supplied to the second injection nozzle 131 of the present invention not only helps to control the humidity but also functions to replenish the evaporated water, so that the power ratio required for driving the pump can be reduced.

여기서 제2 분사노즐(131)은 제1 분사노즐(111)과 마찬가지로 5㎛ 내지 50㎛ 직경의 액적을 분사하는 것이 바람직하다. Here, it is preferable that the second injection nozzle 131 injects a droplet having a diameter of 5 mu m to 50 mu m like the first injection nozzle 111. [

도면부호 120은 공기 공급라인이다. 일반적으로 분사노즐은 고압펌프의 구동력으로 분사하는 일류체 노즐과 압축공기를 함께 공급하여 분사하는 이류체 노즐이 있으며, 본 발명에서는 동력비를 절감하면서 보다 미세한 액적의 분사가 가능하도록 공기 공급라인(120)으로 압축공기를 공급하며, 세정액 제1 순환라인(110)과 제1 물 공급라인(130)으로 각각 분기되어 제1 분사노즐(111)과 제2 분사노즈(131)로부터 미세한 액적이 분사되도록 유도하였다.Reference numeral 120 denotes an air supply line. Generally, the injection nozzle has an air flow nozzle for supplying and spraying a first-flow nozzle and a compressed air which are sprayed by a driving force of a high-pressure pump. In the present invention, the air supply line 120 And supplies the compressed air to the cleaning liquid first circulation line 110 and the first water supply line 130 so that a fine droplet is ejected from the first ejection nozzle 111 and the second ejection nose 131 Respectively.

또한 보다 정밀하게 습도를 제어하기 위하여 상기 제2 분사노즐(131) 상부에는 제3 분사노즐(141)이 더 구비될 수 있다. 구체적으로 제3 분사노즐(141)은 스팀 공급라인(140)과 연결되어 있어 스팀을 분사하여 습도를 조절한다. In addition, a third injection nozzle 141 may be further provided on the second injection nozzle 131 for more precise control of the humidity. Specifically, the third injection nozzle 141 is connected to the steam supply line 140 to adjust the humidity by injecting steam.

스팀은 미세한 액적으로 이루어져 있고, 또 동절기와 같이 외기 온도가 낮은 경우 유입된 폐가스의 온도를 높이는 역할을 할 수 있어, 폐가스 유입관(100) 내부의 습도를 더욱 용이하게 조절하는 것이 가능하다.The steam is made of fine droplets. When the outside air temperature is low as in the winter season, the steam can act to increase the temperature of the introduced waste gas, so that it is possible to more easily control the humidity inside the waste gas inlet pipe 100.

한편, 폐가스 유입구(101) 인근, 보다 상세하게는 제3 분사노즐(141) 상부에는 폐가스 유입관(100)으로 유입되는 폐가스의 습도를 측정하기 위한 제1 습도센서(H-1), 온도를 측정하기 위한 제1 온도센서(T-1) 그리고 유량을 측정하기 위한 제1 유량센서(F-1)가 구비되는 것이 바람직하고, 폐가스 유입관(100)과 세정탑 본체부(200)와의 연결부 인근, 보다 상세하게는 제1 분사노즐(111) 후방에는 세정액과 접촉한 이후의 폐가스 습도와 온도를 측정하기 위한 제2 습도센서(H-2)와 제2 온도센서(T-2)가 구비되는 것이 보다 바람직하다.A first humidity sensor (H-1) for measuring the humidity of the waste gas flowing into the waste gas inlet pipe (100), and a second humidity sensor 1 and a first flow sensor F-1 for measuring a flow rate are preferably provided on the bottom of the washing tub main body 200. The first flow sensor F- A second humidity sensor (H-2) and a second temperature sensor (T-2) are provided behind the first injection nozzle (111) to measure the humidity and temperature of the waste gas after coming into contact with the cleaning liquid .

상기 제1 습도센서(H-1), 제1 온도센서(H-1) 그리고 제1 유량센서(F-1)는 폐가스 유입관(100)으로 유입되는 폐가스의 습도, 온도 및 유량을 측정하고, 이들 결과를 바탕으로 소정 범위로 습도가 조절될 수 있도록 세정액 제1 순환라인(110)에 구비된 제2 유량센서(F-2), 제1 물 공급라인(130)에 구비된 제3 유량센서(F-3) 및 스팀 공급라인(140)에 구비된 제4 유량센서(F-4) 중 어느 하나 이상의 유량센서를 제어한다.The first humidity sensor H-1, the first temperature sensor H-1 and the first flow sensor F-1 measure the humidity, the temperature and the flow rate of the waste gas flowing into the waste gas inlet pipe 100 The second flow sensor F-2 provided in the cleaning liquid first circulation line 110, and the third flow sensor F-1 provided in the first water supply line 130 so that the humidity can be controlled in a predetermined range based on these results, And a fourth flow sensor F-4 provided in the sensor F-3 and the steam supply line 140. The flow rate sensor F-

또 제2 습도센서(H-2)와 제2 온도센서(T-2)는, 제1 습도센서(H-1), 제1 온도센서(T-1) 그리고 제1 유량센서(F-1) 측정값에 따라 조절된 폐가스의 습도가 설정한 범위로 조절되고 있는지를 확인하기 위함이다.The second humidity sensor H-2 and the second temperature sensor T-2 are connected to the first humidity sensor H-1, the first temperature sensor T-1 and the first flow sensor F- ) It is to check whether the humidity of the waste gas adjusted according to the measured value is adjusted to the set range.

상기와 같은 습도센서, 온도센서 및 유량센서는 제어부(300)에 의해 제어된다.The humidity sensor, the temperature sensor, and the flow rate sensor are controlled by the controller 300.

이하에서는 세정탑 본체부(200)에 관하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the cleaning tower main body 200 will be described in detail.

폐가스 유입관(100)이 연통되도록 이어져 있는 세정탑 본체부(200)에는, 세정액 제2 순환라인(210), 충전제(220), 디미스터(230), 세정액 공급라인(240) 및 제2 물 공급라인(250)이 구비되어 있다.A cleaning liquid second circulation line 210, a filler 220, a demister 230, a cleaning liquid supply line 240, and a second water circulation line 210 are connected to the cleaning tower main body 200 connected to the waste gas inlet pipe 100, A supply line 250 is provided.

상기 구성들에 관해 보다 구체적으로 설명하면, 세정액 제2 순환라인(210)은 세정탑 본체부(200) 저부의 세정액을 충전제(220)와 디미스터(230)로 공급하기 위한 라인으로, 이에 관해서는 후술하기로 한다. More specifically, the cleaning liquid circulating line 210 is a line for supplying the cleaning liquid at the bottom of the cleaning tower main body 200 to the filler 220 and the demister 230, Will be described later.

충전제(220)는 폐가스 유입관(100)을 통과하는 과정에서 제거되지 못한 오염물질을 제거하는 기능을 수행한다. 전술한 바와 같이 폐가스 유입관(100) 내부는 소정 범위로 습도가 조절되면서 미세 액적이 분사되어 유입된 폐가스에 포함되어 있는 각종 오염물질이 제거되지만 일부는 제거되지 않는다. 충전제(220)는 상향류로 이동하는 폐가스에 잔존하는 오염물질을 흡착하거나 여과함으로써 더욱 깨끗하게 정화하기 위한 것으로, 입자상 분말, 다공성 필터 등 오염물질을 흡착하거나 여과할 수 있다면 재료나 형상은 특별히 제한하지 않으며, 이러한 충전제는 습식세정탑에 통상적으로 채용되는 구성에 해당되므로 구체적인 설명은 생략하기로 한다.The filler 220 functions to remove contaminants that have not been removed during the passage through the waste gas inlet pipe 100. As described above, the inside of the waste gas inlet pipe 100 is regulated in a predetermined range and the micro droplets are injected to remove various contaminants contained in the introduced waste gas, but some of them are not removed. The filler 220 is for purifying more easily by adsorbing or filtering the contaminants remaining in the waste gas moving in the upward flow. If the contaminants such as the particulate powder, the porous filter and the like can be adsorbed or filtered, the material and the shape are not particularly limited Such a filler corresponds to a structure commonly employed in a wet scrubbing tower, and therefore, a detailed description thereof will be omitted.

충전제(220) 상부에 위치하는 디미스터(230)는 오염물질이 제거된 폐가스에 포함되어 있는 수분을 제거하기 위한 것이다. 디미스터(230)는 기액분리가 가능하다면 특별히 제한하지 않으나 일예로서 다공성 필터일 수 있다.The demister 230 located above the filler 220 is for removing moisture contained in the waste gas from which pollutants have been removed. The demister 230 is not particularly limited as long as gas-liquid separation is possible, but may be, for example, a porous filter.

한편, 세정탑 본체부(200)에서의 폐가스는 충전제(220)와 디미스터(230)를 순차적으로 통과한 후, 깨끗해진 가스는 상부의 청정가스 배출구(201)로 배출된다. 이때 충전제(220)와 디미스터(230)는 폐가스에 잔류하는 오염물질이 쌓여 폐가스가 잘 이동하지 못하거나 채널링(channeling) 현상이 발생하여, 오염물질이나 수분의 제거 효율이 떨어지는 문제점이 발생할 수 있다.On the other hand, the waste gas in the cleaning tower main body 200 sequentially passes through the filler 220 and the demister 230, and then the cleaned gas is discharged to the upper clean gas discharge port 201. At this time, the pollutants remaining in the waste gas may accumulate in the fillers 220 and the demister 230, and the waste gas may not move well or channeling phenomenon may occur, resulting in a problem that the efficiency of removing contaminants and moisture is lowered .

충전제(220)와 디미스터(230)에 부착된 오염물질을 세척하기 위한 세정액 제2 순환라인(210)은, 제4 분사노즐(212)이 구비되어 있는 제1 분기라인(211) 및 제5 분사노즐(214)이 구비되어 있는 제2 분기라인(213)을 포함하여 이루어지며, 제4 분사노즐(212)은 디미스터(230) 상부, 제5 분사노즐(214)은 충전제(220) 상부에 위치하여, 폐가스 흐름과는 반대방향으로 세정액을 분사한다.The cleaning liquid second circulation line 210 for cleaning the contaminants attached to the filler 220 and the demister 230 is connected to the first branch line 211 and the fifth branch line 211, The fourth injection nozzle 212 is disposed on the top of the demister 230 and the fifth injection nozzle 214 is disposed on the upper side of the filler 220. The second branch line 213 includes the injection nozzle 214, And the cleaning liquid is sprayed in a direction opposite to the waste gas flow.

충전제(220) 아래 공간부에 위치하는 제3 온도센서(T-3)와 제3 습도센서(H-3)는 폐가스 유입관(100)을 경유하여 유입되는 폐가스가 소정 범위로 습도를 유지하는지를 확인하기 위한 것이고, 디미스터(230) 상부의 제4 온도센서(T-4)와 제4 습도센서(H-4)는 세정탑 본체부(200)에서 배출되는 청정가스의 습도와 온도를 모니터링하기 위한 센서들이다.The third temperature sensor T-3 and the third humidity sensor H-3 located in the space under the filler 220 can determine whether the waste gas flowing through the waste gas inlet pipe 100 maintains the humidity in a predetermined range The fourth temperature sensor T-4 and the fourth humidity sensor H-4 on the upper side of the demister 230 monitor the humidity and the temperature of the clean gas discharged from the cleaning tower main body 200 .

한편, 도면부호 240은 세정액에 포함되는 약품들을 공급하기 위한 세정액 공급라인이고, 도면부호 250은 수분 증발로 인해 세정액의 수위가 설정치 이하인 경우 수분을 공급하기 위한 제2 물 공급라인이다. 여기서, 세정액의 약품은 폐가스에 포함되어 있는 오염물질에 따라 달라질 수 있으며, 일예로 질산이나 황산과 같은 산성물질, 수산화나트륨과 같은 염기성물질일 수 있다.Reference numeral 240 denotes a cleaning liquid supply line for supplying chemicals contained in the cleaning liquid, and reference numeral 250 denotes a second water supply line for supplying moisture when the liquid level of the cleaning liquid is lower than a set value due to moisture evaporation. Here, the chemicals in the cleaning liquid may vary depending on pollutants contained in the waste gas, and may be, for example, an acidic substance such as nitric acid or sulfuric acid, or a basic substance such as sodium hydroxide.

그리고 세정액 제2 순환라인(210)에서 외부로 분기되어 있는 도면부호 215는 오염물질이 세정액에 일정 농도 이상으로 함유되어 있는 경우 외부로 배출하기 위한 드레인 라인이다. Reference numeral 215, which is branched outward from the cleaning liquid circulating line 210, is a drain line for discharging the contaminant to the outside when the contaminant is contained in the cleaning liquid at a predetermined concentration or more.

이하 본 발명의 폐가스 정화방법을 설명하는 순서도인 도 2를 참조하면서, 본 발명에 따른 폐가스 정화방법에 관하여 설명하기로 한다. Hereinafter, a waste gas purifying method according to the present invention will be described with reference to FIG. 2, which is a flowchart for explaining a waste gas purifying method of the present invention.

본 발명의 폐가스 정화방법은 폐가스를 습식세정탑으로 유입시키는 단계, 폐가스의 습도를 측정하는 단계, 폐가스의 습도가 소정범위에 해당되도록 세정액을 분사하는 단계, 충전제를 통과시키는 단계, 가스에 포함된 수분을 제거하는 단계를 포함하여 이루어진다.The method for purifying waste gases according to the present invention comprises the steps of introducing a waste gas into a wet scrubbing column, measuring the humidity of the waste gas, spraying a cleaning liquid so that the humidity of the waste gas falls within a predetermined range, passing the filler, And removing moisture.

구체적으로, 정화가 필요한 폐가스는 폐가스 유입관(100)으로 유입된다. 이때, 폐가스 유입관(100) 내부에 구비되어 있는 습도센서, 보다 바람직하게는 습도센서, 온도센서 및 유량센서로 유입되는 폐가스의 습도, 온도 그리고 유량을 측정한다.Specifically, the waste gas that needs to be purified flows into the waste gas inlet pipe 100. At this time, the humidity sensor, the humidity sensor, the temperature sensor, and the humidity sensor, the temperature sensor, and the flow rate of the waste gas flowing into the flow sensor are measured.

측정된 결과는 제어부(300)로 전송되고, 제어부(300)에서는 제1 분사노즐(111), 바람직하게는 제1 분사노즐(111)과 제2 분사노즐(131), 보다 바람직하게는 제1 분사노즐(111), 제2 분사노즐(131) 및 제3 분사노즐(141)로 미세한 액적을 분사하여 습도를 조절한다.The measured results are transmitted to the controller 300 and the controller 300 controls the first injection nozzle 111 and preferably the first injection nozzle 111 and the second injection nozzle 131, And the humidity is controlled by spraying fine droplets onto the injection nozzle 111, the second injection nozzle 131, and the third injection nozzle 141.

이렇게 습도가 조절된 폐가스는 폐가스 유입관(100)을 통과하는 과정에서 오염물질의 일부가 제거되고, 남아 있는 오염물질은 세정탑 본체부(200)의 충전제(220)를 통과하면서 제거된다.The humidity-regulated waste gas is partially removed in the process of passing through the waste gas inlet pipe 100, and the remaining contaminants are removed while passing through the filler 220 of the cleaning tower main body 200.

또 최종 처리된 가스에 수분이 포함되지 않도록 디미스터(230)를 통과시켜 수분은 제거하고, 청정한 가스는 대기로 방출시킨다.In addition, water is removed by passing through the demister 230 so that the final treated gas does not contain moisture, and the clean gas is released to the atmosphere.

이하 실시예를 통하여 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하고자 한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 예시하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되는 것으로 해석되지 않는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. It is to be understood by those skilled in the art that these embodiments are merely illustrative of the present invention and that the scope of the present invention is not construed as being limited by these embodiments.

본 발명에 따른 폐가스 정화방법의 효과를 확인하기 위하여, 도 1 및 2에 도시한 습도 조절기능이 부가된 습식세정탑과 비교예로서 습도 조절기능이 부가되지 않은 기존 습식세정탑으로 폐가스를 처리하였다.In order to confirm the effect of the waste gas purifying method according to the present invention, the waste gas was treated with the wet scrubbing tower with the humidity control function shown in Figs. 1 and 2 and the conventional wet scrubbing tower without the humidity control function .

구분division 단위unit 기존 습식세정탑Conventional wet cleaning tower 본 발명에 따른 습식세정탑The wet scrubbing tower according to the present invention 폐가스 유량Waste gas flow rate Nm3/hrNm3 / hr 150,000150,000 150,000150,000 습도Humidity % (RH)% (RH) 3030 5050 처리가스 온도Process gas temperature 5151 5151 폐가스 미세먼지Waste gas fine dust mg/Nm3mg / Nm3 7070 33 분사 세정용액 크기Spray cleaning solution size 500 ~ 1,000500 to 1,000 20 ~ 40 20 to 40 분사유량Injection flow rate m3/hrm3 / hr 350350 44 펌프 소요동력Pump power required kWkW 4545 55

상기 표 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따라 습도를 20% 증가시킨 경우, 폐가스에 포함된 미세먼지는 3mg/Nm3로서 습도를 별도로 조절하지 않은 기존 습식세정탑의 70mg/Nm3보다 큰 폭으로 감소한 것으로 조사되었다.As shown in Table 1, when the humidity was increased by 20% according to the present invention, fine dust contained in the waste gas was reduced to a width greater than 70 mg / Nm 3 of a conventional wet scrubbing tower of 3 mg / Nm 3, Respectively.

또한 노즐로 분사한 유량에서도 기존 습식세정탑의 350m3/hr의 약 1.1%에 불과한 4m3/hr이고, 이로 인한 전력도 크게 줄일 수 있다는 것을 확인하였다.In addition, at the flow rate injected by the nozzle, it was 4 m3 / hr which is about 1.1% of 350 m3 / hr of the conventional wet cleaning tower, and it was confirmed that the power can be greatly reduced.

그리고 기존 습식세정탑으로 정화한 경우의 배출구 사진인 도 3과 본 발명에 따른 세정탑으로 정화한 경우의 배출구 사진인 도 4로부터도 명백하듯이, 본 발명에 따른 장치와 방법으로 폐가스를 정화하면 대기로 배출되는 오염물질을 현저히 감소시킬 수 있다.As shown in FIG. 3, which is a picture of the discharge port when purified by the conventional wet scrubbing tower, and FIG. 4, which is a photograph of the discharge port when purified by the scrubbing tower according to the present invention, the waste gas is purified by the apparatus and method according to the present invention Pollutants discharged into the atmosphere can be significantly reduced.

이상으로 본 발명 내용의 특정한 부분을 상세히 기술하였는바, 당업계의 통상의 지식을 가진 자에게, 이러한 구체적 기술은 단지 바람직한 실시양태일 뿐이며, 이에 의해 본 발명의 범위가 제한되는 것은 아니며, 본 발명의 범주 및 기술사상 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속하는 것도 당연하다.Having thus described a particular portion of the present invention in detail, those skilled in the art will appreciate that these specific embodiments are merely preferred embodiments and that the scope of the present invention is not limited thereby, It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the invention, and that such modifications and variations are intended to fall within the scope of the appended claims.

100 : 폐가스 유입관
101 : 폐가스 유입구
110 : 세정액 제1 순환라인
111 : 제1 분사노즐
120 : 공기 공급라인
130 : 제1 물 공급라인
131 : 제2 분사노즐
140 : 스팀 공급라인
141 : 제3 분사노즐
200 : 세정탑 본체부
201 : 청정가스 배출구
210 : 세정액 제2 순환라인
211 : 제1 분기라인 212 : 제4 분사노즐
213 : 제2 분기라인 214 : 제5 분사노즐
215 : 드레인 라인
220 : 충전제
230 : 디미스터
231 : 제2 순환라인 232 : 제3 분사노즐
233 : 제4 분사노즐
240 : 세정액 공급라인
250 : 제2 물 공급라인
300 : 제어부
H-1, H-2, H-3, H-4 : 제1, 제2, 제3, 제4 습도센서
T-1, T-2, T-3, T-4 : 제1, 제2, 제3, 제4 온도센서
F-1, F-2, F-3, F-4, F-5, F-6 : 제1, 제2, 제3, 제4, 제5, 제6 유량센서
pH : pH 센서
100: Waste gas inlet pipe
101: Waste gas inlet
110: cleaning liquid first circulation line
111: First injection nozzle
120: air supply line
130: first water supply line
131: Second injection nozzle
140: Steam supply line
141: Third injection nozzle
200: cleaning tower body portion
201: Clean gas outlet
210: cleaning liquid second circulation line
211: first branch line 212: fourth injection nozzle
213: second branch line 214: fifth injection nozzle
215: drain line
220: Filler
230: Demister
231: second circulation line 232: third injection nozzle
233: Fourth injection nozzle
240: cleaning liquid supply line
250: second water supply line
300:
H-1, H-2, H-3 and H-4: First, second, third and fourth humidity sensors
T-1, T-2, T-3 and T-4: first, second, third and fourth temperature sensors
The first, second, third, fourth, fifth and sixth flow sensors F-1, F-2, F-3, F-4, F-
pH: pH sensor

Claims (12)

소정의 크기와 형상을 갖는 세정탑 본체부(200); 및
상기 세정탑 본체부(200)로 폐가스를 공급하기 위한 폐가스 유입관(100)을 포함하되,
상기 폐가스 유입관(100) 내부 소정 공간부에는 유입된 폐가스의 습도를 조절하기 위한 습도 조절부가 구비되며,
상기 습도 조절부는 세정액을 분사하는 제1 분사노즐(111)을 포함하되, 상기 제1 분사노즐(111)은 5㎛ 내지 50㎛ 직경의 액적을 상대습도가 40% 이상으로 유지되도록 분사하며,
상기 제1 분사노즐(111) 상부에는 제2 분사노즐(131)이 더 구비되며,
상기 제2 분사노즐(131) 상부에는 제3 분사노즐(141)이 더 구비되고, 상기 제3 분사노즐(141)로는 스팀이 분사되며,
상기 제3 분사노즐(141) 상부에는 폐가스 유입관(100)으로 유입되는 폐가스의 습도를 측정하기 위한 제1 습도센서(H-1), 온도를 측정하기 위한 제1 온도센서(T-1) 및 유량을 측정하기 위한 제1 유량센서(F-1)가 구비되고,
상기 제1 분사노즐(111) 후방에는 세정액과 접촉한 이후의 폐가스 습도와 온도를 측정하기 위한 제2 습도센서(H-2) 및 제2 온도센서(T-2)가 구비되고,
상기 제1 분사노즐(111)에 공급되는 세정액의 유량을 측정하는 제2 유량센서(F-2), 상기 제2 분사노즐(131)에 공급되는 물의 유량을 측정하는 제3 유량센서(F-3) 및 상기 제3 분사노즐(141)에 공급되는 스팀의 유량을 측정하는 제4 유량센서(F-4)가 구비되고,
상기 제1 및 제2 습도측정센서(H-1, H-2), 상기 제1 및 제2 온도측정센서(T-1, T-2), 상기 제1, 제2, 제3 및 제4 유량 측정센서(F-1, F-2, F-3, F-4)를 제어하는 제어부(300)가 포함되는 것을 특징으로 하는 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑.
A cleaning tower main body 200 having a predetermined size and shape; And
And a waste gas inflow pipe (100) for supplying waste gas to the cleaning tower main body (200)
A predetermined space in the waste gas inlet pipe 100 is provided with a humidity controller for controlling the humidity of the waste gas flowing therein,
The humidity control unit includes a first injection nozzle 111 for spraying a cleaning liquid, and the first injection nozzle 111 injects droplets having a diameter of 5 mu m to 50 mu m so as to maintain a relative humidity of 40% or more,
A second injection nozzle 131 is further provided on the first injection nozzle 111,
A third injection nozzle 141 is further provided on the second injection nozzle 131. Steam is injected into the third injection nozzle 141,
A first humidity sensor H-1 for measuring the humidity of the waste gas flowing into the waste gas inlet pipe 100, a first temperature sensor T-1 for measuring the temperature, And a first flow rate sensor (F-1) for measuring the flow rate,
A second humidity sensor (H-2) and a second temperature sensor (T-2) are provided behind the first injection nozzle (111) for measuring the humidity and temperature of the waste gas after contact with the cleaning liquid.
A second flow sensor F-2 for measuring the flow rate of the cleaning liquid supplied to the first injection nozzle 111, a third flow sensor F- 2 for measuring the flow rate of water supplied to the second injection nozzle 131, And a fourth flow sensor F-4 for measuring the flow rate of steam supplied to the third injection nozzle 141,
The first and second humidity measurement sensors H-1 and H-2, the first and second temperature measurement sensors T-1 and T-2, the first, second, And a control unit (300) for controlling the flow rate measuring sensors (F-1, F-2, F-3, F-4).
삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,
상기 폐가스 유입관(100)은 정화할 폐가스가 유입되도록 일측은 개구된 폐가스 유입구(101)가 구비되고, 타측은 세정탑 본체부(200)와 연통되도록 소정 각도로 절곡되어 있는 것을 특징으로 하는 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑.
The method according to claim 1,
The waste gas inlet pipe (100) is provided with a waste gas inlet (101) opened at one side so as to introduce waste gas to be purified, and the other side is bent at a predetermined angle to communicate with the cleaning column body Wet scrubbing tower with regulating function.
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항 또는 제4항에 있어서,
상기 폐가스는 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨 또는 인산암모늄으로 이루어진 수용성 무기염; 또는 상기 수용성 무기염을 함유하는 복합비료; 중 어느 하나 이상의 물질을 제조하는 과정에서 발생하는 폐가스인 것을 특징으로 하는 습도조절 기능이 부가된 습식세정탑.
The method according to claim 1 or 4,
The waste gas is a water-soluble inorganic salt consisting of ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate or ammonium phosphate; Or a complex fertilizer containing the water-soluble inorganic salt; The wet scrubbing tower having the humidity control function added thereto.
폐가스를 제1항의 습식세정탑으로 유입시키는 단계;
폐가스의 습도를 측정하는 단계; 및
폐가스의 상대습도가 40% 이상이 되도록 세정액을 분사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폐가스 정화방법.
Introducing the waste gas into the wet scrubbing tower of claim 1;
Measuring the humidity of the waste gas; And
And spraying the cleaning liquid so that the relative humidity of the waste gas is 40% or more.
삭제delete 제10항에 있어서,
상기 폐가스는 질산암모늄, 황산암모늄, 요소, 질산칼슘, 질산칼륨 또는 인산암모늄으로 이루어진 수용성 무기염; 또는 상기 수용성 무기염을 함유하는 복합비료; 중 어느 하나 이상의 물질을 제조하는 과정에서 발생하는 폐가스인 것을 특징으로 하는 폐가스 정화방법.
11. The method of claim 10,
The waste gas is a water-soluble inorganic salt consisting of ammonium nitrate, ammonium sulfate, urea, calcium nitrate, potassium nitrate or ammonium phosphate; Or a complex fertilizer containing the water-soluble inorganic salt; Wherein the waste gas is a waste gas generated in the process of producing any one or more of the waste gas.
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