KR101976760B1 - Transparent Conducting Film based on Nanowire and a Method for Preparing Thereof) - Google Patents

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Abstract

본 발명은 나노와이어 기반 투명 전도성 필름 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 기재 상에 금속 나노와이어를 포함하는 전기 전도성 막을 형성하여 균일한 전기 전도성을 구현하고, 전기 전도성 막 상부에 형성된 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막에 의해 환경 안정성을 확보한 투명 전도성 필름 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nanowire-based transparent conductive film and a method of manufacturing the same. More particularly, the present invention relates to a nanowire-based transparent conductive film and a method of manufacturing the same. The present invention relates to a transparent conductive film in which environmental stability is ensured by a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer binder film, and a method for producing the transparent conductive film.

Description

나노와이어 기반 투명 전도성 필름 및 그 제조 방법{Transparent Conducting Film based on Nanowire and a Method for Preparing Thereof)}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a nanowire-based transparent conductive film and a method of manufacturing the nanowire-based transparent conductive film.

본 발명은 나노와이어 기반 투명 전도성 필름 및 제조 방법에 관한 것으로, 보다 자세하게는 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막; 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는 구조를 갖는 투명 전도성 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a nanowire-based transparent conductive film and a manufacturing method thereof, and more particularly, to an electroconductive film including a metal nanowire and a conductive polymer; And a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film formed on the electroconductive film, and to a method of manufacturing the transparent conductive film.

투명 전도막(transparent conductive thin film)은 터치스크린패널(TSP), 이미지센서, 태양전지, 각종 디스플레이(PDP, LCD, flexible) 등 빛의 투과와 전도성의 두 가지 목적을 동시에 필요로 하는 소자에 폭 넓게 사용되고 있는 재료이다. Transparent conductive thin films are widely used for devices that simultaneously require both light transmission and conductivity, such as touch screen panels (TSP), image sensors, solar cells, and various displays (PDP, LCD, flexible) It is widely used material.

통상 디스플레이용 투명전극으로 산화인듐주석(Indium Tin Oxide; ITO)이 많이 연구되어져 왔으나, ITO의 박막제조를 위해서는 기본적으로 진공상태의 공정이 필요하여 고가의 공정비가 소요될 뿐만 아니라, ITO에 사용되는 인듐은 희귀금속으로 고갈이 예상되고 있고 원료 자체의 가격이 고가이다. 또한 유연한 디스플레이 소자를 구부리거나 접을 경우 박막의 부서짐에 의해 수명이 짧아지는 단점이 있다. Indium tin oxide (ITO) has been extensively studied as a transparent electrode for a display. However, in order to manufacture a thin film of ITO, a vacuum process is basically required and an expensive process ratio is required. In addition, Is expected to be depleted by rare metals, and the price of raw materials itself is high. Further, when the flexible display device is bent or folded, the lifetime of the display device is shortened due to the breakage of the thin film.

ITO를 대체하기 위해 투명 전도성 필름의 전도성 소재로 탄소나노튜브, 그래핀, 금속 나노와이어, 금속 메쉬 그리드 등을 응용한 기술이 개발되고 있다. ITO 대체를 위한 투명 전도성 필름은 ITO필름에 상응하는 전기 전도성, 광학 물성 및 환경 안정성을 확보하여야 한다. 상기 ITO를 대체하기 위한 전도성 소재 중 금속 나노와이어는 저저항, 고투명, 가요성을 구현할 수 있는 소재로 각광받고 있다.In order to replace ITO, technologies using carbon nanotubes, graphenes, metal nanowires, and metal mesh grids as conductive materials for transparent conductive films are being developed. Transparent conductive films for the replacement of ITO should ensure electrical conductivity, optical properties and environmental stability corresponding to ITO films. Among the conductive materials for replacing the ITO, metal nanowires are attracting attention as materials capable of realizing low resistance, high transparency and flexibility.

전기 전도성이 우수한 금속이 1차원 구조의 나노와이어 형태를 가질 때 이들의 전기적 네트워크를 형성하며 필름을 구성하면 전기 전도성 필름이 제조될 수 있다. 은, 구리와 같이 전기 전도성이 우수한 금속을 이용한 나노와이어에 대한 적용이 전기적으로 유리한 결과를 가져올 수 있다. 또한 직경이 수십 nm이기 때문에 나노와이어의 분산성이 우수한 필름으로 제조되었을 때 가시광선 영역에서 85% 이상의 투과도를 획득할 수 있다. 따라서 금속 나노와이어, 특히 은 또는 구리를 이용한 나노와이어를 전도성 물질로 이용한 투명 전도성 필름은 저저항과 고투명을 구현할 수 있는 나노 소재이다. When a metal having excellent electrical conductivity has a one-dimensional structure of nanowire shape, an electrically conductive film can be produced by forming a film and forming an electrical network of these. The application to nanowires using metals with excellent electrical conductivity, such as copper, may have an electrically favorable result. In addition, when the film is made into a film having excellent nanowire dispersibility, it is possible to obtain a transmittance of 85% or more in a visible light region because the diameter is several tens of nm. Therefore, a transparent conductive film using metal nanowires, particularly silver or copper nanowires as a conductive material, is a nano material capable of realizing low resistance and high transparency.

예를 들어, 대한민국 공개특허 제2011-0128584호는 기판, 및 상기 기판의 어느 한 면에 구비되고, 은 나노와이어 및 바인더 수지를 포함하는 투명전도성 코팅막을 포함하는 투명 도전체를 제안하고 있다.For example, Korean Patent Publication No. 2011-0128584 proposes a transparent conductor comprising a substrate, and a transparent conductive coating film provided on either side of the substrate, the transparent conductive coating film including silver nanowires and a binder resin.

그러나, 이러한 금속 나노와이어를 필름화하였을 때 나노와이어가 존재하는 부분과 존재하지 않고 비어있는 부분이 발생하는 문제점이 있다.However, when such a metal nanowire is made into a film, there is a problem that a portion where a nanowire exists and a portion where a nanowire does not exist exist.

KRKR 2011-01285842011-0128584 AA

본 발명은 나노와이어 기반 투명 전도성 필름을 제조하는데 있어, 전도성 고분자가 나노와이어와 함께 전기 전도성 막을 형성하여 균일한 표면 저항을 구현하고, 전기 전도성 막 상부에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성함으로써 환경 안정성을 보유하는 투명 전도성 필름 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention relates to a method for producing a nanowire-based transparent conductive film, in which a conductive polymer forms an electrically conductive film together with a nanowire to realize a uniform surface resistance and forms a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film on the electrically conductive film, And a method for producing the transparent conductive film.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 기재; 상기 기재 일면에 형성되는 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막; 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는 투명 전도성 필름을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate comprising: a substrate; An electrically conductive film including a metal nanowire formed on one surface of the substrate and a conductive polymer; And a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film formed on the electroconductive film.

또한 본 발명은, 기재 일면에 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막을 형성하는 단계; 및 상기 전기 전도성 막 상에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액을 도포하여 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성하는 단계를 포함하는, 투명 전도성 필름의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming an electroconductive film including a metal nanowire and a conductive polymer on one surface of a substrate; And applying a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer solution on the electroconductive film to form a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer binder film.

본 발명에 따르면 나노와이어 기반 투명 전도성 필름을 제조하는데 있어, 전도성 고분자가 나노와이어와 함께 전기 전도성 막을 형성하여 균일한 표면 저항을 구현하고, 전기 전도성 막 상부에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성함으로써 환경 안정성을 보유하는 투명 전도성 필름 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.According to the present invention, in the production of the nanowire-based transparent conductive film, the conductive polymer forms an electrically conductive film together with the nanowire to realize uniform surface resistance, and the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film is formed on the electroconductive film, A transparent conductive film having stability and a method of manufacturing the same can be provided.

이와 같은 본 발명을 더욱 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명은 나노와이어 기반 투명 전도성 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nanowire-based transparent conductive film and a method of manufacturing the same.

보다 구체적으로, 본 발명은 기재; 상기 기재 일면에 형성되는 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막; 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는 투명 전도성 필름에 관한 것이다.More specifically, the invention relates to a substrate; An electrically conductive film including a metal nanowire formed on one surface of the substrate and a conductive polymer; And a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film formed on the electroconductive film.

상기 기재는 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자 기재를 포함할 수 있다.The substrate may include one or more polymeric substrates selected from the group consisting of polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyacrylate, and polyurethane .

상기 금속 나노와이어는 실버 나노와이어, 구리 나노와이어 또는 이들의 혼합물인 것이 바람직하다.The metal nanowires are preferably silver nanowires, copper nanowires, or a mixture thereof.

상기 금속 나노와이어는 평균 직경 범위가 10~40 nm, 평균 길이 범위가 10~50 μm 인 것이 바람직하다.The metal nanowires preferably have an average diameter range of 10 to 40 nm and an average length range of 10 to 50 μm.

금속 나노와이어가 상기 범위일 때 투명 전도성 필름은 적절한 광학특성, 표면저항 등의 물성을 얻을 수 있다. When the metal nanowire is in the above range, the transparent conductive film can obtain properties such as appropriate optical properties and surface resistance.

금속 나노와이어를 필름화하였을 때 나노와이어가 존재하는 부분과 존재하지 않고 비어있는 부분이 발생하게 된다. 이러한 비어있는 부분은 나노와이어 필름이 전면에 걸쳐 균일한 면저항을 갖는 것을 방해하는 요소가 되는 문제점이 있다. 특히 필름화된 나노와이어의 불균일한 분산은 그 면저항을 더욱 불균일하게 할 수 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해, 본 발명자들은 전도성 고분자 물질의 코팅을 도입하여 2차원 면상의 막을 형성하고 이로써 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막을 형성하였다.When the metal nanowires are formed into a film, portions where the nanowires exist and regions where the nanowires are not present are generated. Such an empty portion is a problem that prevents the nanowire film from having a uniform sheet resistance over the entire surface. In particular, non-uniform dispersion of filmed nanowires can make the sheet resistance more uneven. To solve this problem, the present inventors introduced a coating of a conductive polymer material to form a film on a two-dimensional plane, thereby forming an electrically conductive film containing the nanowire and the conductive polymer.

본 발명에서 사용하는 전도성 고분자는 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 폴리티오펜계 전도성 고분자이다. The conductive polymer used in the present invention is preferably one or a mixture of two or more selected from the group consisting of polyacetylene, polypyrrole, polyaniline, polythiophene and derivatives thereof, more preferably polythiophene conductive polymer .

상기 폴리티오펜계 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)인 것이 바람직하다. PSS는 PEDOT의 도펀트로서, PEDOT의 용해성 증가를 위해 사용하며, PEDOT 대비 PSS 비율이 1~2배인 것이 바람직하다.The polythiophene-based conductive polymer is preferably poly-3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS). PSS is a dopant of PEDOT, which is used for increasing the solubility of PEDOT, and it is preferable that the PSS ratio to PEDOT is 1 to 2 times.

상기 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막의 환경 안정성, 특히 내후성 향상을 위해 본 발명자들은 전기 전도성 막 상부에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자를 도입하여, 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는, 나노와이어 기반 투명 전도성 필름을 완성하였다.In order to improve the environmental stability, particularly the weather resistance, of the electroconductive film comprising the metal nanowire and the conductive polymer, the inventors of the present invention have found that by introducing the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer on the electroconductive film, the electroconductive film containing the metal nanowire and the conductive polymer And a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film formed on the electroconductive film.

즉, 본 발명의 투명 전도성 필름은 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막을 포함함으로써, 표면경도를 향상시키고, 우수한 내후성, 내용제성 및 내약품성을 부여할 수 있는 동시에, 내오염특성, 내화학성을 갖게 할 수 있는 기능성을 부여할 수 있다. That is, the transparent conductive film of the present invention includes a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film, which can improve surface hardness, impart excellent weather resistance, solvent resistance, and chemical resistance, Functionality can be given.

일반적으로 실리콘계 고분자는 낮은 표면장력을 갖는 특성을 갖는다. 물을 비롯한 극성용매들의 표면장력은 비교적 커서 실리콘계 고분자와 표면장력면에서 큰 차이를 나타내며 이러한 차이 때문에 실리콘계 고분자는 주로 강한 소수성을 나타내며 이러한 성질로 인하여 외부 환경 중 내후성에 강한 성질을 나타낼 수 있다.In general, a silicone-based polymer has characteristics of low surface tension. The surface tension of polar solvents such as water is relatively large, which makes a great difference in terms of surface tension with respect to the silicone polymer. Due to such difference, the silicone polymer mainly exhibits strong hydrophobicity and can exhibit a strong resistance to weathering in the external environment due to such properties.

상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자는 폴리카보실란, 폴리실란, 폴리실록산, 폴리실라잔 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것이 바람직하다. 폴리카보실란, 폴리실란, 폴리실록산, 폴리실라잔 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자는 치환기의 선택에 따라 상기 기술된 기능을 특화시킬 수 있는 장점을 가지고 있다. The silicon-based organic-inorganic hybrid polymer is preferably at least one selected from the group consisting of polycarbosilane, polysilane, polysiloxane, polysilazane, and derivatives thereof. The silicon-based organic-inorganic hybrid polymer selected from the group consisting of polycarbosilane, polysilane, polysiloxane, polysilazane, and derivatives thereof has an advantage in that the function described above can be specified according to the choice of substituent.

상기 투명 전도성 필름은, 표면저항이 500Ω/□ 이하이고, 투명도가 85% 이상이며, 헤이즈가 5% 이하이다.The transparent conductive film has a surface resistance of 500 Ω / □ or less, a transparency of 85% or more, and a haze of 5% or less.

또한 본 발명은, 기재 일면에 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막을 형성하는 단계; 및 상기 전기 전도성 막 상에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액을 도포하여 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성하는 단계를 포함하는, 투명 전도성 필름의 제조 방법을 제공한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: forming an electroconductive film including a metal nanowire and a conductive polymer on one surface of a substrate; And applying a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer solution on the electroconductive film to form a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer binder film.

상기 기재 일면에 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막을 형성하는 단계는, 기재에 상기 금속 나노와이어를 포함하는 용액을 도포한 후, 전도성 고분자를 포함하는 용액을 도포하는 단계로 진행하여 기재 상에 전기 전도성 막을 형성하는 단계이다.The step of forming an electrically conductive film including a metal nanowire and a conductive polymer on one side of the substrate may include applying a solution containing the metal nanowire to a substrate and then applying a solution containing the conductive polymer, To form an electrically conductive film.

상기 기재는 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자 기재를 포함할 수 있다.The substrate may include one or more polymeric substrates selected from the group consisting of polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyacrylate, and polyurethane .

상기 금속 나노와이어는 실버 나노와이어, 구리 나노와이어 또는 이들의 혼합물인 것이 바람직하다. 상기 금속 나노와이어는 평균 직경 범위가 10~40 nm , 평균 길이 범위가 10~50 μm인 것이 바람직하다. 금속 나노와이어가 상기 범위일 때 투명 전도성 필름은 적절한 광학특성, 표면저항, 내후성 등의 물성을 얻을 수 있다. The metal nanowires are preferably silver nanowires, copper nanowires, or a mixture thereof. The metal nanowires preferably have an average diameter range of 10 to 40 nm and an average length range of 10 to 50 μm. When the metal nanowire is in the above range, the transparent conductive film can obtain properties such as appropriate optical properties, surface resistance, and weather resistance.

상기 금속 나노와이어를 포함하는 용액은 물, 알코올 등의 용매에 금속 나노와이어가 고형분으로 0.1~1.5중량% 분산되어 있는 금속 나노와이어 용액이다. 0.1중량% 미만의 용액은 코팅 후에 충분한 네트워크 형성이 되지 않아 면저항이 나오지 않을 수 있으며, 1.5중량% 초과의 용액은 용액 내 금속 나노와이어의 뭉침 현상이 다량 발생하여 코팅 후에도 여전히 뭉침(Aggregation)이 남아 광학 물성에 영향을 줄 수 있다.The solution containing the metal nanowires is a metal nanowire solution in which metal nanowires are dispersed in a solvent such as water or alcohol in a solid content of 0.1 to 1.5 wt%. Less than 0.1 wt.% Of the solution may not have a sufficient network formation after coating and may cause no surface resistance, and a solution of more than 1.5 wt.% May cause agglomeration of the metal nanowires in the solution, It may affect optical properties.

금속 나노와이어 용액을 기재에 코팅하는 공정은 스프레이코팅, 바코팅, 딥코팅, 스핀코팅, 슬릿다이 코팅, 커튼 코팅, 그라비아코팅, 리버스 그라비아코팅, 롤코팅 및 함침법 중에서 선택된 방법을 이용할 수 있다. 금속 나노와이어 코팅에 의해 기재 상에 금속 나노와이어가 코팅된 막을 얻을 수 있다.The process of coating the metal nanowire solution on the substrate may be selected from spray coating, bar coating, dip coating, spin coating, slit die coating, curtain coating, gravure coating, reverse gravure coating, roll coating and impregnation. A film in which the metal nanowires are coated on the substrate by the metal nanowire coating can be obtained.

본 발명의 투명 전도성 필름 제조방법은 기재 일면에 금속 나노와이어를 포함하는 용액을 도포한 후, 전도성 고분자를 포함하는 용액을 도포하는 단계를 진행하여 전기 전도성 막을 형성하는 단계이다. In the method of manufacturing a transparent conductive film of the present invention, a solution containing a metal nanowire is coated on one surface of a substrate, and then a solution containing a conductive polymer is applied to form an electroconductive film.

상기 전도성 고분자를 포함하는 용액에서 용매는 알콜류이고, 전도성 고분자의 함량은 0.5 내지 5중량% 정도인 것이 코팅액의 안정성 및 코팅성과 전도성 고분자 막을 형성한 후 물성 측면에서 바람직하다. In the solution containing the conductive polymer, the solvent is alcohol and the content of the conductive polymer is about 0.5 to 5% by weight in view of stability of the coating liquid, coating property and physical properties after forming the conductive polymer film.

전도성 고분자 용액 중 전도성 고분자의 함량이 0.5중량% 미만인 경우 막을 형성한 후에 금속 나노와이어 상에 균일한 막을 형성하지 못해 균일한 물성과 신뢰성을 확보하기 어려울 수 있다. 또한 그 함량이 5중량% 초과인 경우 용액 내에 뭉침 현상이 발생할 수 있으며, 이러한 뭉침으로 인해 코팅 시에 균일한 코팅막을 얻을 수 없는 문제가 있을 수 있다. If the content of the conductive polymer in the conductive polymer solution is less than 0.5% by weight, it is difficult to form a uniform film on the metal nanowire after the film is formed, and thus it may be difficult to ensure uniform physical properties and reliability. When the content is more than 5% by weight, aggregation may occur in the solution, and there may be a problem that a uniform coating film can not be obtained at the time of coating due to such a lump.

전도성 고분자 용액을 금속 나노와이어 막 상부에 코팅하는 공정은 스프레이코팅, 바코팅, 딥코팅, 스핀코팅, 슬릿다이 코팅, 커튼 코팅, 그라비아코팅, 리버스 그라비아코팅, 롤코팅 및 함침법 중에서 선택된 방법을 이용할 수 있다.The process of coating the conductive polymer solution on the metal nanowire film may be selected from spray coating, bar coating, dip coating, spin coating, slit die coating, curtain coating, gravure coating, reverse gravure coating, roll coating and impregnation .

상기 전도성 고분자는 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 폴리티오펜계 전도성 고분자이다. 상기 폴리티오펜계 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)인 것이 바람직하다.The conductive polymer is preferably a mixture of at least one member selected from the group consisting of polyacetylene, polypyrrole, polyaniline, polythiophene and derivatives thereof, more preferably a polythiophene conductive polymer. The polythiophene-based conductive polymer is preferably poly-3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS).

본 발명의 투명 전도성 필름 제조방법은 상기 전기 전도성 막 상에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액을 도포하여 고분자 바인더 막을 형성하는 단계를 포함한다.The method for manufacturing a transparent conductive film of the present invention includes a step of applying a silicone-based organic-inorganic hybrid polymer solution on the electroconductive film to form a polymeric binder film.

상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자는 폴리카보실란, 폴리실란, 폴리실록산, 폴리실라잔 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것이 바람직하다.The silicon-based organic-inorganic hybrid polymer is preferably one selected from the group consisting of polycarbosilane, polysilane, polysiloxane, polysilazane, and derivatives thereof.

상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액은 용매가 유기용매이고, 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자가 0.01~10중량%로 용해된 용액일 수 있다. 상기 유기용매는 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 테트라하이드로퓨란, 헥산, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 아세트산, 프로필렌 글리콜 모노모텔 에테르 등에서 선택되는 1종인 것이 바람직하다. 상기 농도 범위 내의 고분자 용액을 코팅하였을 때 막의 형성이 용이하다. 상기 농도 범위를 벗어난 경우, 형성된 막은 표면저항 특성, 접착성 등 특성에 한계가 나타날 수 있다.The silicone-based organic-inorganic hybrid polymer solution may be a solution in which the solvent is an organic solvent and the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer is dissolved in an amount of 0.01 to 10 wt%. The organic solvent is preferably one selected from the group consisting of methanol, ethanol, 2-propanol, acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, hexane, propylene glycol monomethyl ether acetic acid, propylene glycol monomotel ether and the like. It is easy to form a film when a polymer solution within the above concentration range is coated. If the concentration is out of the above range, the formed film may have characteristics such as surface resistance characteristics and adhesion properties.

본 발명의 바람직한 일 구체예는, 전기 전도성 막이 형성된 필름을 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액에 함침시키거나, 상기 기판을 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액으로 코팅한 다음, 건조 단계와 경화 단계를 거쳐 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막을 형성할 수 있다.In one preferred embodiment of the present invention, a film is formed by impregnating a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer solution with a film on which an electroconductive film is formed, or by coating the substrate with a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer solution, followed by drying and curing, A hybrid polymer membrane can be formed.

상기 건조 단계는 기재 상에 형성된 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막을 80℃~400℃에서 2분 이상 건조하여 수행할 수 있다. 상기 온도 및 시간 범위를 벗어날 경우, 건조되지 못한 막 내부의 잔류 용매가 다음 공정인 경화 단계에서 방해 요인으로 작용하여 균일한 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막의 형성을 저해하여 최종 막의 특성에 문제를 야기할 수 있다.The drying may be performed by drying the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film formed on the substrate at 80 ° C to 400 ° C for 2 minutes or more. If the temperature and the time range are out of the range, the residual solvent in the non-dried film acts as an obstacle in the subsequent curing step, which may hinder the formation of a uniform silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film, have.

상기 경화 단계는 80℃~150℃의 온도 및 80RH%~95RH%의 습도 조건에서, 또는 100mJ~1000mJ의 자외선에 노출시켜 수행할 수 있다. 상기 온도 및 습도 범위 외에서도 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자가 경화되어 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막이 형성될 수는 있지만, 경화 속도 및 특히 형성된 막의 밀도를 고려하였을 때 상기 범위 내에서 경화하는 것이 현재까지 최적의 조건으로 판단된다. 자외선을 이용한 경화는 노출 시간 조절을 통해 노출 세기를 조정할 수 있으며, 상기 조건에 한정되는 것은 아니다.The curing step may be performed at a temperature of 80 ° C to 150 ° C and a humidity of 80RH% to 95RH%, or by exposure to ultraviolet light of 100mJ to 1000mJ. The silicon-based organic-inorganic hybrid polymer may be cured to form a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film even outside the temperature and humidity ranges. However, considering the curing rate and the density of the formed film in particular, . The curing using ultraviolet rays can adjust the exposure intensity by adjusting the exposure time and is not limited to the above conditions.

본 발명의 투명 전도성 필름 제조방법에 따르면 표면저항이 500Ω/□ 이하이고, 투명도가 85% 이상이며, 헤이즈가 5% 이하인 투명 전도성 필름을 제조할 수 있다.
According to the transparent conductive film production method of the present invention, a transparent conductive film having a surface resistance of 500? / ?, a transparency of 85% or more, and a haze of 5% or less can be produced.

이하 본 발명을 실시예에 의거 상세히 설명하면 다음과 같은바, 본 발명이 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples.

실시예Example 1 One

은 나노와이어가 0.1중량%로 물에 분산된 용액을 30분 간 스터링하였다. PET 기재를 준비한 후 분산된 은 나노와이어 용액을 도포한 뒤 바코팅(bar coating)하였다. 은 나노와이어가 Wet 코팅된 기재를 80℃ 오븐에 2분간 건조하여 은 나노와이어 막을 획득하였다. A solution in which 0.1 wt% of nanowires were dispersed in water was stitched for 30 minutes. The PET substrate was prepared, and the dispersed silver nanowire solution was applied and then bar coated. Coated silver substrate with a nanowire was dried in an oven at 80 DEG C for 2 minutes to obtain a silver nanowire film.

메탄올 용매 기반의 전도성 고분자 용액 즉, PEDOT(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)) 0.3 중량% 용액을 준비한 뒤, 상기 제조한 은 나노와이어 막 상부에 도포한 뒤 바코팅하였다. 전도성 고분자가 Wet 코팅된 기재를 80℃에서 2분 동안 건조 후 120℃에서 10분 동안 경화하여 은 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막이 코팅된 필름을 제조하였다.A methanol solution-based conductive polymer solution, that is, a 0.3 wt% solution of PEDOT (Poly (3,4-ethylenedioxythiophene)) was prepared, and then applied onto the silver nanowire film. The substrate coated with the conductive polymer was dried at 80 ° C for 2 minutes and then cured at 120 ° C for 10 minutes to prepare an electrically conductive film-coated film containing the silver nanowire and the conductive polymer.

그 다음 상기 전도성 물질막 상에, 1.0 중량%인 폴리실라잔(고분자 바인더) 메틸에틸케톤 용액을 바코팅하였다. 그 후, 120℃에서 건조 후 80℃, 95RH%에서 3시간 처리하여 고분자 막을 형성하여, 기재에 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는 투명 전도성 필름을 얻었다. Then, 1.0 wt% of polysilazane (polymeric binder) methyl ethyl ketone solution was bar-coated on the conductive material film. Thereafter, the substrate was dried at 120 DEG C and then treated at 80 DEG C and 95% RH for 3 hours to form a polymer film. An electroconductive film including a metal nanowire and a conductive polymer on a substrate, and a silicone- A transparent conductive film containing a polymeric binder film was obtained.

실시예Example 2 2

실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 필름을 제조하되, 다만 은 나노와이어가 0.3 중량%로 물에 분산된 용액을 사용하였다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that a solution in which 0.3 wt% of silver nanowires were dispersed in water was used.

실시예Example 3 3

실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 필름을 제조하되, 다만 은 나노와이어가 0.5 중량%로 물에 분산된 용액을 사용하였다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1, except that a solution in which 0.5 wt% of silver nanowire was dispersed in water was used.

실시예Example 4 4

실시예 1과 동일한 방법으로 전도성 필름을 제조하되, 다만 은 나노와이어가 1.0 중량%로 물에 분산된 용액을 사용하였다.A conductive film was prepared in the same manner as in Example 1 except that a solution in which 1.0 wt% of silver nanowires were dispersed in water was used.

비교예Comparative Example 1 One

은 나노와이어가 0.3 중량%로 물에 분산된 용액을 30분 간 스터링하였다. PET 기재를 준비한 후 분산된 은 나노와이어 용액을 도포한 뒤 바코팅하였다. 은 나노와이어가 Wet 코팅된 기재를 80℃ 오븐에 2분간 건조하여 은 나노와이어 막을 획득하였다. A solution in which nanowires were dispersed in water at 0.3 wt% was stitched for 30 minutes. After the PET substrate was prepared, the dispersed silver nanowire solution was applied and then bar-coated. Coated silver substrate with a nanowire was dried in an oven at 80 DEG C for 2 minutes to obtain a silver nanowire film.

메탄올 용매 기반의 전도성 고분자 용액 즉, PEDOT(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene)) 0.3 중량% 용액을 준비한 뒤, 상기 제조한 나노와이어 막 상부에 도포한 뒤 바코팅하였다. 전도성 고분자가 Wet 코팅된 기재를 80℃에서 2분 동안 건조 후 120℃에서 10분 동안 경화하여 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막이 코팅된 필름을 제조하였다.A methanol solution-based conductive polymer solution, that is, a 0.3 wt% solution of PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)) was prepared and then coated on the above prepared nanowire film and then bar coated. The substrate coated with the conductive polymer was dried at 80 ° C for 2 minutes and then cured at 120 ° C for 10 minutes to prepare an electrically conductive film-coated film comprising the metal nanowire and the conductive polymer.

비교예Comparative Example 2 2

은 나노와이어가 0.3 중량%로 물에 분산된 용액을 30분 간 스터링하였다. PET 기재를 준비한 후 분산된 은 나노와이어 용액을 도포한 뒤 바코팅하였다. 은 나노와이어가 Wet 코팅된 기재를 80℃ 오븐에 2분간 건조하여 은 나노와이어 막을 획득하였다. A solution in which nanowires were dispersed in water at 0.3 wt% was stitched for 30 minutes. After the PET substrate was prepared, the dispersed silver nanowire solution was applied and then bar-coated. Coated silver substrate with a nanowire was dried in an oven at 80 DEG C for 2 minutes to obtain a silver nanowire film.

그 다음 상기 은 나노와이어 막 상에, 1.0 중량%인 폴리실라잔(고분자 바인더) 메틸에틸케톤 용액을 바코팅하였다. 그 후, 120℃에서 건조 후 80℃, 95RH%에서 3시간 처리하여 고분자 막을 형성하여, 기재에 금속 나노와이어가 단독으로 존재하는 전기 전도성 막 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하는 투명 전도성 필름을 얻었다. Then, 1.0 wt% of polysilazane (polymeric binder) methyl ethyl ketone solution was bar coated on the silver nanowire film. Thereafter, the substrate was dried at 120 DEG C and then treated at 80 DEG C and 95% RH for 3 hours to form a polymer film, and an electrically conductive film in which metal nanowires were present singly on the substrate and a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer formed on the electroconductive film Thereby obtaining a transparent conductive film containing a binder film.

<물성평가>&Lt; Evaluation of physical properties &

실시예 1 내지 4, 및 비교예 1 내지 2로부터 얻어지는 투명 전도성 필름에 대하여 다음과 같은 물성평가를 수행하였다. 그 결과는 다음 표 1과 같다. The following properties of the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were evaluated. The results are shown in Table 1 below.

(1) 광학특성 평가(1) Evaluation of optical characteristics

실시예 1 내지 4, 및 비교예 1 내지 2로부터 얻어지는 투명 전도성 필름에 대하여 UV분광계(Nippon Denshoko사, NDH2000)를 이용하여 가시광선 투과도 및 헤이즈를 측정하여 하기 표 1에 나타냈다. The visible light transmittance and haze of the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 2 were measured using a UV spectrometer (Nippon Denshoko, NDH2000) and are shown in Table 1 below.

(2) 표면저항 평가(2) Evaluation of surface resistance

실시예 1 내지 4, 및 비교예 1 내지 2로부터 얻어지는 투명 전도성 필름에 대하여 고 저항계(Hiresta-UP MCT-HT450 (Mitsuibishi Chemical Corporation)(측정 범위 : 10× 105 ~ 10× 1015) 및 저 저항계 (Loresta-GP MCP-T610 (Mitsuibishi Chemical Corporation)(측정 범위 : 10× 10-2 ~ 10× 108)를 이용하여, 표면저항을 10회 측정하여 표면저항 평균값을 구하였다. 10회 측정값의 표준편차를 이용해 면저항 균일도를 계산하여 하기 표 1에 나타냈다.
(Hiresta-UP MCT-HT450 (Mitsuibishi Chemical Corporation) (measurement range: 10 x 10 5 to 10 x 10 15 ) and a low-resistance meter (trade name, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were applied to the transparent conductive films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 The average surface resistance was determined by measuring the surface resistance 10 times using a Loresta-GP MCP-T610 (Mitsuibishi Chemical Corporation) (measuring range: 10 x 10 -2 to 10 x 10 8 ). The sheet resistance uniformity was calculated using the standard deviation and is shown in Table 1 below.

투명전도성 필름Transparent conductive film 코팅용액농도(%)Coating solution concentration (%) 투과도
(550nm,%)
Permeability
(550 nm,%)
헤이즈
(%)
Hayes
(%)
표면저항
(Ω/sq.)
Surface resistance
(Ω / sq.)
면저항균일도
(%)
Sheet resistance uniformity
(%)
은나노
와이어
Silver nano
wire
전도성고분자Conductive polymer 실리콘고분자Silicon polymer
실시예 1Example 1 0.10.1 0.30.3 1.01.0 91.291.2 1.01.0 222222 1010 실시예 2Example 2 0.30.3 0.30.3 1.01.0 91.091.0 1.21.2 150150 77 실시예 3Example 3 0.50.5 0.30.3 1.01.0 90.890.8 1.31.3 7878 77 실시예 4Example 4 1.01.0 0.30.3 1.01.0 90.090.0 1.81.8 5252 66 비교예 1Comparative Example 1 0.30.3 0.30.3 미실시Absenteeism 90.890.8 1.41.4 133133 88 비교예 2Comparative Example 2 0.30.3 미실시Absenteeism 1.01.0 91.291.2 1.21.2 157157 2121

(3) 내후성 평가(3) Weatherability evaluation

실시예 1 내지 4, 및 비교예 1 내지 2로부터 얻어지는 투명 전도성 필름에 대해 하기 표 2의 2개 조건으로 내후성 평가를 진행하여 그 결과를 하기 표 3 및 표 4에 나타냈다.
The transparent conductive films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were subjected to the weathering resistance evaluation under the two conditions shown in Table 2 below. The results are shown in Tables 3 and 4 below.

온도()Temperature() 습도(%)Humidity(%) 시간time 내후성평가1Weatherability evaluation 1 6060 9595 500h500h 내후성평가2Weatherability evaluation 2 8585 8585 500h500h

투명전도성 필름Transparent conductive film 코팅용액농도(%)Coating solution concentration (%) 투과도
(550nm,%)
Permeability
(550 nm,%)
헤이즈
(%)
Hayes
(%)
표면저항
(Ω/sq.)
Surface resistance
(Ω / sq.)
면저항
균일도
(%)
Sheet resistance
Uniformity
(%)
내후성 평가 후 면저항변화율(%)Rate of Change of Surface Resistance after Weathering Evaluation (%)
은나노
와이어
Silver nano
wire
전도성고분자Conductive polymer 실리콘고분자Silicon polymer
실시예 1Example 1 0.10.1 0.30.3 1.01.0 91.391.3 1.11.1 230230 99 3.63.6 실시예 2Example 2 0.30.3 0.30.3 1.01.0 91.091.0 1.31.3 161161 77 7.37.3 실시예 3Example 3 0.50.5 0.30.3 1.01.0 90.990.9 1.31.3 8080 66 2.52.5 실시예 4Example 4 1.01.0 0.30.3 1.01.0 90.090.0 1.91.9 5555 77 5.85.8 비교예 1Comparative Example 1 0.30.3 0.30.3 미실시Absenteeism 89.889.8 2.12.1 12101210 1515 810810 비교예 2Comparative Example 2 0.30.3 미실시Absenteeism 1.01.0 90.490.4 1.81.8 166166 2626 5.75.7

*내후성평가1
* Weatherability evaluation 1

투명전도성 필름Transparent conductive film 코팅용액농도(%)Coating solution concentration (%) 투과도
(550nm,%)
Permeability
(550 nm,%)
헤이즈
(%)
Hayes
(%)
표면저항
(Ω/sq.)
Surface resistance
(Ω / sq.)
면저항
균일도
(%)
Sheet resistance
Uniformity
(%)
내후성 평가 후 면저항변화율(%)Rate of Change of Surface Resistance after Weathering Evaluation (%)
은나노
와이어
Silver nano
wire
전도성고분자Conductive polymer 실리콘고분자Silicon polymer
실시예 1Example 1 0.10.1 0.30.3 1.01.0 91.191.1 1.21.2 219219 77 1.41.4 실시예 2Example 2 0.30.3 0.30.3 1.01.0 91.391.3 1.31.3 158158 88 5.35.3 실시예 3Example 3 0.50.5 0.30.3 1.01.0 90.890.8 1.41.4 8181 88 3.83.8 실시예 4Example 4 1.01.0 0.30.3 1.01.0 89.989.9 1.81.8 5656 99 7.77.7 비교예 1Comparative Example 1 0.30.3 0.30.3 미실시Absenteeism 89.589.5 2.02.0 987987 2222 642642 비교예 2Comparative Example 2 0.30.3 미실시Absenteeism 1.01.0 90.790.7 1.71.7 170170 3131 8.38.3

*내후성평가2
* Weatherability evaluation 2

상기 표 3 및 표 4에 나타난 실시예 1 내지 4의 투명 전도성 필름의 표면저항 평가 결과로부터, 은 나노와이어의 함량이 늘어날수록 표면저항이 낮아짐을 확인할 수 있다. 또한 비교예 2와 대비하여 실시예 2의 투명 전도성 필름은 전도성 고분자에 의해 면저항 균일도가 향상되었음을 알 수 있다.From the results of the surface resistance evaluation of the transparent conductive films of Examples 1 to 4 shown in Tables 3 and 4, it can be seen that the surface resistance decreases as the content of silver nanowires increases. In contrast, in Comparative Example 2, the transparent conductive film of Example 2 exhibited improved sheet resistance uniformity due to the conductive polymer.

한편, 상기 표 3 내지 표 4의 내후성평가 1, 2의 결과로부터 실시예 1 내지 4의 투명 전도성 필름은 면저항 변화율이 10% 이내임을 확인할 수 있다. 또한 비교예 1과 대비하여 실시예 2의 투명 전도성 필름은 실리콘계 고분자 막에 의해 전기 전도성막이 보호되고, 환경 안정성을 확보할 수 있음을 알 수 있다.On the other hand, from the results of the weather resistance evaluations 1 and 2 of Tables 3 to 4, it can be confirmed that the rate of change of sheet resistance of the transparent conductive films of Examples 1 to 4 is within 10%. Also, as compared with Comparative Example 1, the transparent conductive film of Example 2 shows that the electroconductive film is protected by the silicone-based polymer film and the environmental stability can be secured.

Claims (23)

기재 일면에 금속 나노와이어를 포함하는 용액을 도포한 후, 전도성 고분자를 포함하는 용액을 도포하여 전기 전도성 막을 형성하는 단계; 및
상기 전기 전도성 막 상에 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액을 도포하여 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성하는 단계를 포함하며,
상기 전도성 고분자는 폴리아세틸렌계, 폴리피롤계, 폴리아닐린계, 폴리티오펜계 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물로, 용액 내 0.5 내지 5중량% 포함되고,
상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자는 폴리카보실란, 폴리실란, 폴리실록산, 폴리실라잔 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것으로, 용액 내 0.01~10중량% 포함되는 투명 전도성 필름 제조 방법.
Applying a solution containing a metal nanowire on one surface of a substrate, and applying a solution containing the conductive polymer to form an electroconductive film; And
And applying a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer solution on the electroconductive film to form a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film,
Wherein the conductive polymer is one or a mixture of two or more selected from the group consisting of polyacetylene, polypyrrole, polyaniline, polythiophene, and derivatives thereof, and is contained in the solution in an amount of 0.5 to 5 wt%
Wherein the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer is at least one member selected from the group consisting of polycarbosilane, polysilane, polysiloxane, polysilazane, and derivatives thereof, and 0.01 to 10 wt% of the silicone-based organic-inorganic hybrid polymer is contained in the solution.
청구항 1에 있어서, 상기 기재는 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 고분자 기재를 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.[4] The substrate according to claim 1, wherein the substrate is at least one polymer substrate selected from the group consisting of polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyacrylate and polyurethane &Lt; / RTI &gt; 청구항 1에 있어서, 상기 금속 나노와이어는 실버 나노와이어, 구리 나노와이어 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법. The method of claim 1, wherein the metal nanowire is a silver nanowire, a copper nanowire, or a mixture thereof. 청구항 1에 있어서, 상기 금속 나노와이어는 평균 직경 범위가 10~40 nm , 평균 길이 범위가 10~50 μm인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.The method of claim 1, wherein the metal nanowires have an average diameter in the range of 10 to 40 nm and an average length in the range of 10 to 50 μm. 청구항 1에 있어서, 상기 폴리티오펜계 전도성 고분자는 폴리-3,4-에틸렌디옥시티오펜/폴리스티렌설포네이트(PEDOT/PSS)인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.The method of claim 1, wherein the polythiophene conductive polymer is poly-3,4-ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate (PEDOT / PSS). 청구항 1에 있어서, 상기 금속 나노와이어를 포함하는 용액은 물 또는 알코올에 금속 나노와이어가 고형분으로 0.1~1.5중량% 분산되어 있는 용액인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.[Claim 2] The method according to claim 1, wherein the solution containing the metal nanowires is a solution in which metal nanowires are dispersed in water or alcohol in a solid content of 0.1 to 1.5 wt%. 청구항 1에 있어서, 상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 형성하는 단계는, 전기 전도성 막이 형성된 필름을 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액에 함침시키거나, 상기 기판을 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 용액으로 코팅한 다음, 건조 단계와 경화 단계를 거쳐 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.The method according to claim 1, wherein the step of forming the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film comprises: impregnating a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer solution with a film on which the electrically conductive film has been formed; coating the substrate with a silicone- Forming a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film through a curing step and a curing step. 청구항 7에 있어서, 상기 건조 단계는 기재 상에 형성된 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 막을 80℃~400℃에서 2분 이상 건조하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.[Claim 7] The method of claim 7, wherein the drying step is performed by drying the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer film formed on the substrate at 80 DEG C to 400 DEG C for 2 minutes or more. 청구항 7에 있어서, 상기 경화 단계는 80℃~150℃의 온도 및 80RH%~95RH%의 습도 조건, 또는 100mJ~1000mJ의 자외선에 노출시켜 수행하는 것을 특징으로 하는 투명 전도성 필름 제조 방법.[Claim 7] The method according to claim 7, wherein the curing step is performed by a temperature of 80 to 150 DEG C and a humidity of 80 to 95RH%, or an ultraviolet ray of 100 mJ to 1000 mJ. 삭제delete 삭제delete 기재; 상기 기재 일면에 형성되는 금속 나노와이어와 전도성 고분자를 포함하는 전기 전도성 막; 및 상기 전기 전도성 막 상에 형성되는 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자 바인더 막을 포함하며,
상기 기재는 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄으로 이루어진 군으로 선택되는 1종 이상의 고분자 기재를 포함하며,
상기 금속 나노와이어는 실버 나노와이어, 구리 나노와이어 또는 이들의 혼합물이며,
상기 전도성 고분자는 폴리아세틸렌, 폴리피롤, 폴리아닐린, 폴리티오펜 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물이며,
상기 실리콘계 유기무기 하이브리드 고분자는 폴리카보실란, 폴리실란, 폴리실록산, 폴리실라잔 및 이들의 유도체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 투명 전도성 필름으로,
상기 투명 전도성 필름은 청구항 1 내지 9항 중 어느 한 항의 투명 전도성 필름 제조 방법에 의해 제조된 것인 투명 전도성 필름.
materials; An electrically conductive film including a metal nanowire formed on one surface of the substrate and a conductive polymer; And a silicon-based organic-inorganic hybrid polymer binder film formed on the electroconductive film,
Wherein the substrate comprises at least one polymeric substrate selected from the group consisting of polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycarbonate, polyacrylate and polyurethane,
The metal nanowires may be silver nanowires, copper nanowires or mixtures thereof,
Wherein the conductive polymer is one or a mixture of two or more selected from the group consisting of polyacetylene, polypyrrole, polyaniline, polythiophene and derivatives thereof,
Wherein the silicon-based organic-inorganic hybrid polymer is at least one transparent conductive film selected from the group consisting of polycarbosilane, polysilane, polysiloxane, polysilazane, and derivatives thereof,
Wherein the transparent conductive film is produced by the method for producing a transparent conductive film according to any one of claims 1 to 9.
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