KR101972574B1 - Organic light emitting display device - Google Patents

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KR101972574B1
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장형욱
문선지
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

The present invention relates to an organic light emitting display device capable of securing an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which a pixel size and a space between pixels are reduced. According to an embodiment of the present invention, the organic light emitting display device comprises: a plurality of pixels each having an organic light emitting element and a pixel circuit which includes a driving transistor and a storage capacitor for controlling a current flowing through the organic light emitting element; a plurality of driving power supply lines provided along a first direction and supplying pixel driving power to the plurality of pixels; and a plurality of initialization lines provided along a second direction intersecting the first direction and supplying an initialization voltage to the plurality of pixels. The plurality of initialization lines are composed of a first metal layer which is different from a source/drain layer constituting the plurality of driving power supply lines. According to the organic light emitting display device of an embodiment of the present invention, the plurality of driving power supply lines and a plurality of data lines are arranged to be spaced apart from each other on both sides within an arbitrary pixel.

Description

유기 발광 표시 장치{ORGANIC LIGHT EMITTING DISPLAY DEVICE}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to an organic light-

본 출원의 일 예는 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다.One example of the present application relates to an organic light emitting display.

최근, 표시 장치(Display Device)는 멀티미디어의 발달과 함께 그 중요성이 증대되고 있다. 이에 부응하여 액정 표시 장치, 플라즈마 표시 장치, 유기 발광 표시 장치 등 여러 가지 종류의 평판 표시 장치가 상용화되고 있다. 평판 표시 장치 중에서 유기 발광 표시 장치는 박형화, 경량화, 저 소비전력화 등의 우수한 특성으로 인하여 노트북 컴퓨터, 텔레비전, 태블릿 컴퓨터, 모니터, 스마트폰, 휴대용 표시 기기, 휴대용 정보 기기 등의 표시 장치로 널리 사용되고 있다.2. Description of the Related Art In recent years, the importance of display devices has been increasing with the development of multimedia. Various types of flat panel display devices such as a liquid crystal display device, a plasma display device, and an organic light emitting display device have been commercialized in response to this. Among the flat panel display devices, organic light emitting display devices are widely used as display devices for notebook computers, televisions, tablet computers, monitors, smart phones, portable display devices, and portable information devices due to their excellent characteristics such as thinness, light weight and low power consumption .

유기 발광 표시 장치에 사용되는 표시 패널은 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 및 스토리지 커패시터(Storage Capacitor, Cst)를 필수 구성 요소로 포함하고 있다. 다수의 박막 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 이용하여 하나의 화소를 이루는 화소 회로를 구현할 수 있다.A display panel used in an organic light emitting display includes a thin film transistor (TFT) and a storage capacitor (Cst) as essential components. A pixel circuit constituting one pixel can be realized by using a plurality of thin film transistors and storage capacitors.

표시 장치 화소의 수가 증가할수록 화소열의 개수가 증가하고, 화소의 크기 및 화소들 간의 간격은 감소한다. 특히, 플라스틱 유기 발광 소자(POLED)가 초고해상도(UHD)의 휴대용 단말기에 사용되는 경우, 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소한다.As the number of display device pixels increases, the number of pixel columns increases, and the size of the pixels and the interval between pixels decrease. Particularly, when a plastic organic light emitting device (POLED) is used in an ultra high resolution (UHD) portable terminal, the size of the pixel and the interval between the pixels are reduced.

유기 발광 표시 장치는 초기화 전압을 공급하는 박막 트랜지스터에 소스/드레인층으로 이루어진 초기화 라인을 이용하여 초기화 전압을 공급하였다.The organic light emitting diode display supplied initialization voltage to the thin film transistor for supplying the initialization voltage using an initialization line including a source / drain layer.

초고해상도 유기 발광 표시 장치에서는 소스/드레인층으로 이루어진 초기화 라인을 이용하여 초기화 전압을 공급하는 경우 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적이 부족한 문제가 발생한다.In an ultra-high resolution organic light emitting display, when an initialization voltage is supplied using an initialization line formed of a source / drain layer, there arises a problem that an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel is insufficient.

또한, 유기 발광 표시 장치는 화소들에 데이터 전압을 공급하는 데이터 라인 및 화소들에 화소 구동 전원을 공급하는 구동 전원 라인을 갖는다.Further, the organic light emitting display device has a data line for supplying a data voltage to the pixels and a driving power supply line for supplying pixel driving power to the pixels.

구동 전원 라인 및 데이터 라인은 각각의 화소열마다 배치된다. 데이터 전압과 화소 구동 전원은 모두 구동 트랜지스터로 공급된다. 데이터 전압과 화소 구동 전원은 모두 구동 트랜지스터에 인접하게 배치되어, 하나의 화소 내에서 구동 전원 라인 및 데이터 라인은 서로 인접하여 배치되었다.The driving power supply line and the data line are arranged for each pixel column. Both the data voltage and the pixel driving power supply are supplied to the driving transistor. Both the data voltage and the pixel driving power are arranged adjacent to the driving transistor so that the driving power supply line and the data line are arranged adjacent to each other in one pixel.

초고해상도 유기 발광 표시 장치에서는 구동 전원 라인이 데이터 라인과 인접한 경우 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적이 부족한 문제가 발생한다.In the ultra-high resolution organic light emitting display, when the driving power supply line is adjacent to the data line, there arises a problem that the area for designing the driving transistor and the storage capacitor in the pixel is insufficient.

본 출원의 일 예는 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소하는 초고해상도 유기 발광 표시 장치에서도 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적을 확보할 수 있는 유기 발광 표시 장치를 제공하고자 한다.An example of the present invention is to provide an OLED display device capable of securing an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which the size of a pixel and the interval between pixels are reduced.

본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 유기 발광 소자, 및 유기 발광 소자에 흐르는 전류를 제어하기 위한 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 포함하는 화소 회로를 갖는 복수의 화소, 제 1 방향을 따라 마련되고 복수의 화소들에 화소 구동 전원을 공급하는 복수의 구동 전원 라인, 및 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향을 따라 마련되고 복수의 화소에 초기화 전압을 공급하는 복수의 초기화 라인을 포함하며, 복수의 초기화 라인은 복수의 구동 전원 라인을 이루는 소스/드레인층과 서로 다른 층인 제 1 금속층으로 이루어진다.An organic light emitting display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a plurality of pixels each having an organic light emitting element and a pixel circuit including a driving transistor and a storage capacitor for controlling a current flowing through the organic light emitting element, A plurality of driving power supply lines for supplying a pixel driving power to a plurality of pixels and a plurality of initialization lines provided along a second direction intersecting the first direction and supplying an initialization voltage to a plurality of pixels, The initialization line is composed of a first metal layer which is different from a source / drain layer constituting a plurality of driving power supply lines.

또한, 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 구동 전원 라인과 복수의 데이터 라인은 임의의 화소 내에서 양 측으로 서로 이격되어 배치된다.Further, in the organic light emitting diode display according to an example of the present application, a plurality of driving power supply lines and a plurality of data lines are disposed apart from each other in a certain pixel.

본 출원의 예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 제 1 금속층으로 기존의 소스/드레인층으로 이루어진 초기화 라인을 대체할 수 있다. 이에 따라, 본 출원은 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소하는 초고해상도 유기 발광 표시 장치에서도 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적을 확보할 수 있다.The organic light emitting display according to the examples of the present application can replace the initialization line made of the conventional source / drain layer as the first metal layer. Accordingly, the present application can secure an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which the size of a pixel and the interval between pixels are reduced.

또한, 본 출원의 예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 구동 전원 라인과 복수의 데이터 라인은 임의의 화소 내에서 양 측으로 서로 이격시켜 화소의 중앙부에 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터가 배치될 면적을 확보할 수 있다. 이에 따라, 본 출원은 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소하는 초고해상도 유기 발광 표시 장치에서도 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적을 확보할 수 있다.In the organic light emitting diode display according to the examples of the present application, a plurality of driving power supply lines and a plurality of data lines are spaced apart from each other in a certain pixel to secure an area where the driving transistor and the storage capacitor are disposed at the center of the pixel . Accordingly, the present application can secure an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which the size of a pixel and the interval between pixels are reduced.

도 1은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 적용 예를 나타내는 사시도이다.
도 2는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치를 나타낸 블록도이다.
도 3은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소를 상세하게 나타낸 회로도이다.
도 4는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 구간별 입출력 신호들 및 전압들을 나타낸 파형도이다.
도 5는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층을 나타낸 평면도이다.
도 6은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층 및 게이트층을 나타낸 평면도이다.
도 7은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층, 게이트층, 및 제 1 금속층을 나타낸 평면도이다.
도 8은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 평면도이다.
도 9는 도 8의 I-I`를 나타낸 단면도이다.
도 10은 도 8의 Ⅱ-Ⅱ`를 나타낸 단면도이다.
1 is a perspective view showing an application example of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.
2 is a block diagram showing an organic light emitting display according to an example of the present application.
3 is a circuit diagram showing a pixel of an organic light emitting display according to an embodiment of the present invention in detail.
FIG. 4 is a waveform diagram illustrating input / output signals and voltages of each pixel of an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention.
5 is a plan view showing an active layer of a pixel of an OLED display according to an example of the present application.
6 is a plan view showing an active layer and a gate layer of a pixel of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.
7 is a plan view showing an active layer, a gate layer, and a first metal layer of a pixel of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.
8 is a plan view of a pixel of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.
9 is a cross-sectional view showing II 'in FIG.
10 is a cross-sectional view showing II-II` of FIG.

본 출원의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 일 예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 출원은 이하에서 개시되는 일 예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 출원의 일 예들은 본 출원의 개시가 완전하도록 하며, 본 출원이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 출원은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Brief Description of the Drawings The advantages and features of the present application, and how to accomplish them, will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that this application is not limited to the examples disclosed herein, but may be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the specific embodiments set forth herein, To fully disclose the scope of the invention to those skilled in the art, and this application is only defined by the scope of the claims.

본 출원의 일 예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 출원이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 출원을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 출원의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다.The shapes, sizes, ratios, angles, numbers, and the like described in the drawings for describing an example of the present application are illustrative, and thus the present application is not limited thereto. Like reference numerals refer to like elements throughout the specification. In the description of the present application, a detailed description of known related arts will be omitted if it is determined that the gist of the present application may be unnecessarily obscured.

본 명세서에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.Where the terms "comprises," "having," "consisting of," and the like are used in this specification, other portions may be added as long as "only" is not used. Unless the context clearly dictates otherwise, including the plural unless the context clearly dictates otherwise.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.In interpreting the constituent elements, it is construed to include the error range even if there is no separate description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, if the positional relationship between two parts is described as 'on', 'on top', 'under', and 'next to' Or " direct " is not used, one or more other portions may be located between the two portions.

시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.In the case of a description of a temporal relationship, for example, if the temporal relationship is described by 'after', 'after', 'after', 'before', etc., May not be continuous unless they are not used.

제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 출원의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.The first, second, etc. are used to describe various components, but these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the scope of the present application.

"제1 수평 축 방향", "제2 수평 축 방향" 및 "수직 축 방향"은 서로 간의 관계가 수직으로 이루어진 기하학적인 관계만으로 해석되어서는 아니 되며, 본 출원의 구성이 기능적으로 작용할 수 있는 범위 내에서보다 넓은 방향성을 가지는 것을 의미할 수 있다.The terms " first horizontal axis direction ", " second horizontal axis direction ", and " vertical axis direction " should not be interpreted solely by the geometric relationship in which the relationship between them is vertical, It may mean having a wider directionality in the inside.

"적어도 하나"의 용어는 하나 이상의 관련 항목으로부터 제시 가능한 모든 조합을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 적어도 하나"의 의미는 제 1 항목, 제 2 항목 또는 제 3 항목 각각 뿐만 아니라 제 1 항목, 제 2 항목 및 제 3 항목 중에서 2개 이상으로부터 제시될 수 있는 모든 항목의 조합을 의미할 수 있다.It should be understood that the term " at least one " includes all possible combinations from one or more related items. For example, the meaning of " at least one of the first item, the second item and the third item " means not only the first item, the second item or the third item, but also the second item and the second item among the first item, May refer to any combination of items that may be presented from more than one.

본 출원의 여러 예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each of the features of the various embodiments of the present application may be combined or combined with each other partially or entirely, technically various interlocking and driving are possible, and the examples may be independently performed with respect to each other, .

이하에서는 본 출원에 따른 전자 기기의 바람직한 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 각 도면의 구성요소들에 참조부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가질 수 있다.Hereinafter, a preferred example of an electronic apparatus according to the present application will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the drawings, like reference numerals are used to denote like elements throughout the drawings, even if they are shown on different drawings.

도 1은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 적용 예를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view showing an application example of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.

본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 표시 영역(DA)과 비표시 영역(NDA)을 포함한다.The OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention includes a display area DA and a non-display area NDA.

표시 영역(DA)은 화상을 통하여 정보를 나타내거나 영상을 표현하는 영역이다. 표시 영역은 표시 패널을 갖는다. 표시 패널은 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT) 및 스토리지 커패시터(Storage Capacitor, Cst)를 필수 구성 요소로 포함하고 있다. 다수의 박막 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 이용하여 하나의 화소를 이루는 화소 회로를 구현할 수 있다. 또한, 유기 발광 표시 장치는 복수의 화소들에 화소 구동 전원을 공급하는 복수의 구동 전원 라인(VDDL)을 갖는다.The display area DA is an area for displaying information or representing an image through an image. The display area has a display panel. The display panel includes a thin film transistor (TFT) and a storage capacitor (Cst) as an essential component. A pixel circuit constituting one pixel can be realized by using a plurality of thin film transistors and storage capacitors. Further, the organic light emitting display device has a plurality of driving power supply lines (VDDL) for supplying pixel driving power to a plurality of pixels.

비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 외곽에 마련된다. 비표시 영역(NDA)은 표시 영역(DA)의 테두리 부분이 파손되는 것을 방지한다. 비표시 영역(NDA)은 유기 발광 표시 장치의 형태를 결정하는 하우징(Housing)으로서의 역할을 수행한다. 일 예로, 도 1과 같이 유기 발광 표시 장치가 휴대용 단말기인 경우, 비표시 영역(NDA)은 표시 영역의 네 모서리 중 X축 방향인 휴대용 단말기의 양 측 모서리 부분에는 극히 얇게 형성되어 베젤이 없는 엣지형 휴대용 단말기를 구현할 수 있고, Y축 방향인 휴대용 단말기의 상부 및 하부에는 상대적으로 두껍게 마련될 수 있다.The non-display area NDA is provided outside the display area DA. The non-display area NDA prevents the rim of the display area DA from being broken. The non-display area NDA serves as a housing for determining the shape of the OLED display. 1, the non-display area NDA is formed to be extremely thin at both side edges of the portable terminal, which is the X axis direction of the four corners of the display area, Type portable terminal, and it may be provided relatively thick on the upper and lower portions of the portable terminal in the Y-axis direction.

본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 도 1에 나타낸 바와 같이 휴대용 단말기에 적용될 수 있다. 그러나 이에 한정되지 않고, 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 화상을 통하여 정보를 나타내거나 영상을 표현하는 기능을 수행하는 다양한 종류의 전자 기기에 적용될 수 있다.The OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention can be applied to a portable terminal as shown in FIG. However, the present invention is not limited thereto, and the organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention can be applied to various kinds of electronic apparatuses that display information or display images through images.

도 2는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치를 나타낸 블록도이다.2 is a block diagram showing an organic light emitting display according to an example of the present application.

본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치는 표시 영역(DA), 제어부(10), 데이터 구동회로부(20), 및 스캔 구동회로부(30)를 포함한다. 도 2에서는 기능에 따른 블록도를 표현하였으나, 제어부(10), 데이터 구동회로부(20), 및 스캔 구동회로부(30)는 유기 발광 표시 장치의 표시 영역(DA) 외부 영역에 실장된 단일한 구동 칩인 구동 집적 회로(Driver IC)로 구현될 수 있다.The OLED display includes a display area DA, a control unit 10, a data driving circuit unit 20, and a scan driving circuit unit 30. The control unit 10, the data driving circuit unit 20 and the scan driving circuit unit 30 are formed in a single drive (not shown) mounted in an area outside the display area DA of the OLED display device, (Driver IC), which is a chip.

표시 영역(DA)은 표시 영역과 표시 영역의 주변에 마련된 비표시 영역을 포함한다. 표시 영역(DA)은 화소(P)들이 마련되어 화상을 표시하는 영역이다. 표시 영역(DA)에는 스캔 신호들을 공급하는 스캔 라인들(SL1~SLp, p는 2 이상의 양의 정수), 데이터 전압들을 공급하는 데이터 라인들(DL1~DLq, q는 2 이상의 양의 정수), 및 구동 전원을 공급하는 구동 전원 라인들(RL1~RLq)이 마련된다. 데이터 라인들(DL1~DLq) 및 구동 전원 라인들(RL1~RLq)은 스캔 라인들(SL1~SLp)과 교차할 수 있다. 데이터 라인들(DL1~DLq)과 구동 전원 라인들(RL1~RLq)은 서로 평행할 수 있다. 표시 영역(DA)은 화소(P)들이 마련되는 하부 기판과 봉지(Encapsulation) 기능을 수행하는 상부 기판을 포함할 수 있다.The display area DA includes a display area and a non-display area provided around the display area. The display area DA is an area where pixels P are provided to display an image. In the display area DA, scan lines SL1 to SLp for supplying scan signals, p is a positive integer of 2 or more, data lines DL1 to DLq for supplying data voltages, q is a positive integer of 2 or more, And driving power supply lines RL1 to RLq for supplying driving power. The data lines DL1 to DLq and the driving power lines RL1 to RLq may intersect the scan lines SL1 to SLp. The data lines DL1 to DLq and the driving power lines RL1 to RLq may be parallel to each other. The display area DA may include a lower substrate on which pixels P are provided and an upper substrate on which an encapsulation function is performed.

화소(P)들 각각은 스캔 라인들(SL1~SLp) 중 어느 하나, 데이터 라인(DL)들(DL1~DLq) 중 어느 하나 및 구동 전원 라인들(RL1~RLq) 중 어느 하나에 접속될 수 있다. 화소(P)들 각각은 유기 발광 소자(organic light emitting diode, OLED)와 유기 발광 소자(OLED)에 전류를 공급하는 화소 회로를 포함할 수 있다.Each of the pixels P may be connected to any one of the scan lines SL1 to SLp and one of the data lines DL1 to DLq and one of the drive power lines RL1 to RLq have. Each of the pixels P may include an organic light emitting diode (OLED) and a pixel circuit for supplying current to the organic light emitting diode OLED.

제어부(10)는 유기 발광 표시 장치에 화상을 구현하기 위한 디지털 비디오 데이터(DATA)와 유기 발광 표시 장치를 구동시키는 타이밍을 제어하기 위한 타이밍 신호들을 생성한다. 타이밍 신호는 수직 동기 신호(Vertical sync signal), 수평 동기 신호(Horizontal sync signal), 데이터 인에이블 신호(Data Enable signal), 및 도트 클럭(Dot clock)을 포함한다.The control unit 10 generates digital video data (DATA) for implementing an image in the organic light emitting display and timing signals for controlling timing for driving the organic light emitting display. The timing signal includes a vertical sync signal, a horizontal sync signal, a data enable signal, and a dot clock.

제어부(10)는 타이밍 신호들을 이용하여 데이터 구동회로부(20)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 제어 신호(DCS) 및 스캔 구동회로부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 스캔 제어 신호(SCS)를 생성한다. 제어부(10)는 디지털 비디오 데이터(DATA)와 데이터 제어 신호(DCS)를 데이터 구동회로부(20)로 출력한다. 제어부(10)는 스캔 제어 신호(SCS)를 스캔 구동회로부(30)로 출력한다.The control unit 10 uses the timing signals to generate a data control signal DCS for controlling the operation timing of the data driving circuit unit 20 and a scan control signal SCS for controlling the operation timing of the scan driving circuit unit 30 . The control unit 10 outputs the digital video data DATA and the data control signal DCS to the data driving circuit unit 20. The control unit 10 outputs the scan control signal SCS to the scan driving circuit unit 30.

데이터 구동회로부(20)는 제어부(10)로부터 데이터 제어 신호(DCS)를 공급받는다. 데이터 구동회로부(20)는 데이터 제어 신호(DCS)에 기초하여 데이터 전압들을 생성한다. 데이터 구동회로부(20)는 데이터 전압들을 데이터 라인(DL)들(DL1~DLq)에 공급한다.The data driving circuit unit 20 receives the data control signal DCS from the control unit 10. The data driving circuit portion 20 generates data voltages based on the data control signal DCS. The data driving circuit unit 20 supplies the data voltages to the data lines DL1 to DLq.

스캔 구동회로부(30)는 제어부(10)로부터 스캔 제어 신호(SCS)를 공급받는다. 스캔 구동회로부(30)는 스캔 제어 신호(SCS)에 기초하여 스캔 신호들을 생성한다. 스캔 구동회로부(30)는 스캔 신호들을 스캔 라인들(SL1~SLp)에 공급한다.The scan driving circuit unit 30 receives the scan control signal SCS from the control unit 10. The scan driving circuit unit 30 generates scan signals based on the scan control signal SCS. The scan driving circuit unit 30 supplies scan signals to the scan lines SL1 to SLp.

상술한 바와 같이, 제어부(10), 데이터 구동회로부(20), 및 스캔 구동회로부(30)는 유기 발광 표시 장치의 표시 영역(DA) 외부 영역에 실장된다. 이 때, 제어부(10), 데이터 구동회로부(20), 및 스캔 구동회로부(30)는 게이트 드라이브 인 패널(Gate Drive in Panel, GIP) 방식으로 표시 영역(DA)을 둘러싸고 있는 외부 영역인 비표시 영역에 실장될 수 있다.As described above, the control section 10, the data driving circuit section 20, and the scan driving circuit section 30 are mounted in an area outside the display area DA of the organic light emitting display device. At this time, the control unit 10, the data driving circuit unit 20, and the scan driving circuit unit 30 are driven by a gate drive in panel (GIP) method, which is an external area surrounding the display area DA Area. ≪ / RTI >

데이터 구동회로부(20), 및 스캔 구동회로부(30)를 실장하고 있는 Driver-IC는 연성 인쇄회로보드(FPCB)와 연결될 수 있다. 연성 인쇄회로보드는 유기 발광 표시 장치의 내부 중, 전면 가장자리와 배면 가장자리 영역에 부착될 수 있다.The driver IC for mounting the data driving circuit portion 20 and the scan driving circuit portion 30 may be connected to the flexible printed circuit board (FPCB). The flexible printed circuit board may be attached to the interior, front and back edge regions of the OLED display.

이 경우, 연성 인쇄회로보드 상에 제어부(10)를 실장할 수 있으며, 제어 인쇄회로보드 상에서 구동 집적 회로(Driver IC)로 데이터 제어 신호(DCS) 및 스캔 제어 신호(SCS)를 전달할 수 있다. 연성 인쇄회로보드는 유기 발광 표시 장치의 내부에서 가장자리 영역에서 접힌 상태로 배치되어 있다. 따라서, 유기 발광 표시 장치의 내부에 별도의 공간을 마련하지 않고도 않고도 연성 인쇄회로보드를 실장할 수 있다. 또한, 연성 인쇄회로보드 상에 제어부(10)를 실장하는 경우, 구동 집적 회로 내부의 회로에서 수행하는 기능을 감소시킬 수 있어, 구동 집적 회로의 크기를 감소시킬 수 있다.In this case, the control unit 10 can be mounted on the flexible printed circuit board and the data control signal DCS and the scan control signal SCS can be transferred to the driver IC on the control printed circuit board. The flexible printed circuit board is arranged in the folded state in the edge area inside the organic light emitting display. Therefore, the flexible printed circuit board can be mounted without providing a separate space inside the OLED display. In addition, when the control unit 10 is mounted on the flexible printed circuit board, the functions performed in the circuit inside the driving integrated circuit can be reduced, and the size of the driving integrated circuit can be reduced.

도 3은 본 출원의 일 예에 따른 화소(P)를 상세하게 나타낸 회로도이다. 본 출원의 일 예에 따른 화소(P)는 구동 트랜지스터(DT), 유기 발광 소자(OLED), 스토리지 커패시터(Cst), 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)을 포함한다.3 is a circuit diagram showing the pixel P in detail according to an example of the present application. The pixel P according to an exemplary embodiment of the present invention includes a driving transistor DT, an organic light emitting diode OLED, a storage capacitor Cst, and first through sixth transistors T1 through T6.

구동 트랜지스터(DT)는 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함한다. 구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극은 커패시터(Cst)의 일 측 전극, 제 1 트랜지스터(T1)의 드레인 전극, 및 제 5 트랜지스터(T5)의 소스 전극이 연결된 제 1 노드(N1)에 접속된다. 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극은 화소 구동 전원(VDD)을 소스 전극으로 공급받는 제 3 트랜지스터(T3)의 드레인 전극과 연결된다. 구동 트랜지스터(DT)의 드레인 전극은 제 4 트랜지스터(T4)의 소스 전극과 연결된다.The driving transistor DT includes a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode. The gate electrode of the driving transistor DT is connected to the first node N1 to which the one electrode of the capacitor Cst, the drain electrode of the first transistor T1, and the source electrode of the fifth transistor T5 are connected. The source electrode of the driving transistor DT is connected to the drain electrode of the third transistor T3 which receives the pixel driving power supply VDD as a source electrode. The drain electrode of the driving transistor DT is connected to the source electrode of the fourth transistor T4.

구동 트랜지스터(DT)의 게이트 전극에 문턱 전압보다 큰 전압이 공급되는 경우 턴-온 된다. 구동 트랜지스터(DT)가 P형 MOSFET으로 구현되는 경우, 턴-온 된 구동 트랜지스터(DT)는 소스 전극에서 드레인 전극으로 구동 전류를 흘린다.And is turned on when a voltage higher than the threshold voltage is supplied to the gate electrode of the driving transistor DT. When the driving transistor DT is implemented as a P-type MOSFET, the turned-on driving transistor DT passes a driving current from the source electrode to the drain electrode.

유기 발광 소자(OLED)는 애노드 전극 및 캐소드 전극을 포함한다. 유기 발광 소자(OLED)는 애노드 전극으로부터 캐소드 전극으로 구동 전류를 흘린다. 유기 발광 소자(OLED)의 애노드 전극은 제 4 트랜지스터(T4)의 드레인 전극이 연결된 제 2 노드(N2)에 접속된다. 유기 발광 소자(OLED)의 캐소드 전극은 기저 전압(VSS)이 형성된 접지 라인에 캐소드 전극이 연결된다. 유기 발광 소자(OLED)는 구동 트랜지스터(DT)로부터 흐르는 구동 전류에 대응하는 밝기로 발광한다.The organic light emitting device OLED includes an anode electrode and a cathode electrode. The organic light emitting diode OLED supplies a driving current from the anode electrode to the cathode electrode. The anode electrode of the organic light emitting diode OLED is connected to the second node N2 to which the drain electrode of the fourth transistor T4 is connected. A cathode electrode of the organic light emitting diode OLED is connected to a ground line where a base voltage VSS is formed. The organic light emitting device OLED emits light with brightness corresponding to the driving current flowing from the driving transistor DT.

유기 발광 소자(OLED)는 정공 수송층(hole transporting layer), 유기 발광층(organic light emitting layer), 및 전자 수송층(electron transporting layer)을 더 포함한다. 유기 발광 소자(OLED)는 애노드 전극과 캐소드 전극에 전압이 인가되면 정공과 전자가 각각 정공 수송층과 전자 수송층을 통해 유기 발광층으로 이동되며, 유기 발광층에서 정공과 전자가 서로 결합하여 발광하게 된다.The organic light emitting diode OLED further includes a hole transporting layer, an organic light emitting layer, and an electron transporting layer. In the organic light emitting diode OLED, when a voltage is applied to the anode electrode and the cathode electrode, holes and electrons move to the organic light emitting layer through the hole transport layer and the electron transport layer, respectively, and holes and electrons combine with each other in the organic light emitting layer.

스토리지 커패시터(Cst)는 양 측 전극을 갖는다. 스토리지 커패시터(Cst)의 일 측 전극은 제 1 노드(N1)에 연결된다. 스토리지 커패시터(Cst)의 타 측 전극은 화소 구동 전원(VDD) 라인에 연결된다.The storage capacitor Cst has both electrodes. One electrode of the storage capacitor Cst is connected to the first node N1. The other electrode of the storage capacitor Cst is connected to the pixel driving power supply line VDD.

스토리지 커패시터(Cst)는 제 1 노드(N1)에 연결된 제 5 트랜지스터(T5)가 턴-온 된 경우 화소 구동 전원(VDD)과 제 1 노드(N1)의 차전압을 저장한다. 스토리지 커패시터(Cst)는 제 5 트랜지스터(T5)가 턴-오프 된 경우 제 1 노드(N1)에 저장한 차전압을 유지한다. 또한, 스토리지 커패시터(Cst)는 저장되어 유지한 전압을 이용하여 구동 트랜지스터(DT)의 구동을 제어할 수 있다.The storage capacitor Cst stores the difference voltage between the pixel drive power supply VDD and the first node N1 when the fifth transistor T5 connected to the first node N1 is turned on. The storage capacitor Cst maintains the difference voltage stored in the first node N1 when the fifth transistor T5 is turned off. Further, the storage capacitor Cst can control driving of the driving transistor DT by using the stored and held voltage.

제 1 트랜지스터(T1)의 게이트 전극은 제 2 스캔 신호(SCAN2)를 공급받는다. 제 1 트랜지스터(T1)의 소스 전극은 구동 트랜지스터(DT)의 드레인 전극과 연결된다. 제 1 트랜지스터(T1)의 드레인 전극은 제 1 노드(N1)와 연결된다. 제 1 트랜지스터(T1)는 제 2 스캔 신호(SCAN2)에 의해 턴-온 되어, 제 1 노드(N1)의 전압을 데이터 전압(VDATA)과 구동 트랜지스터(DT)의 문턱 전압(Vtp)의 합인 VDATA+Vtp까지 상승시킨다.The gate electrode of the first transistor T1 receives the second scan signal SCAN2. The source electrode of the first transistor T1 is connected to the drain electrode of the driving transistor DT. The drain electrode of the first transistor T1 is connected to the first node N1. The first transistor T1 is turned on by the second scan signal SCAN2 so that the voltage of the first node N1 is VDATA which is the sum of the data voltage VDATA and the threshold voltage Vtp of the driving transistor DT. + Vtp.

제 2 트랜지스터(T2)의 게이트 전극은 제 2 스캔 신호(SCAN2)를 공급받는다. 제 2 트랜지스터(T2)의 소스 전극은 데이터 라인(DL)과 연결되어 데이터 전압(VDATA)을 공급받는다. 제 2 트랜지스터(T2)의 드레인 전극은 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극과 연결된다. 제 2 트랜지스터(T1)는 제 2 스캔 신호(SCAN2)에 의해 턴-온 되어, 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극에 데이터 전압(VDATA)을 공급한다.The gate electrode of the second transistor T2 receives the second scan signal SCAN2. The source electrode of the second transistor T2 is connected to the data line DL to receive the data voltage VDATA. The drain electrode of the second transistor T2 is connected to the source electrode of the driving transistor DT. The second transistor T1 is turned on by the second scan signal SCAN2 to supply the data voltage VDATA to the source electrode of the driving transistor DT.

제 3 트랜지스터(T3)의 게이트 전극은 발광 제어 신호(EM)를 공급받는다. 제 3 트랜지스터(T3)의 소스 전극은 화소 구동 전원(VDD)을 공급받는다. 제 3 트랜지스터(T3)의 드레인 전극은 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극과 연결된다. 제 3 트랜지스터(T3)는 발광 제어 신호(EM)에 의해 턴-온 되어, 구동 트랜지스터(DT)에 화소 구동 전원(VDD)을 공급하여 구동 트랜지스터(DT)가 구동 전류를 흐르게 한다.The gate electrode of the third transistor T3 is supplied with the emission control signal EM. The source electrode of the third transistor T3 is supplied with the pixel driving power supply VDD. The drain electrode of the third transistor T3 is connected to the source electrode of the driving transistor DT. The third transistor T3 is turned on by the emission control signal EM to supply the pixel driving power supply VDD to the driving transistor DT so that the driving transistor DT allows the driving current to flow.

제 4 트랜지스터(T4)의 게이트 전극은 발광 제어 신호(EM)를 공급받는다. 제 4 트랜지스터(T4)의 소스 전극은 구동 트랜지스터(DT)의 드레인 전극과 연결된다. 제 4 트랜지스터(T4)의 드레인 전극은 제 2 노드(N2)와 연결된다. 제 4 트랜지스터(T4)는 발광 제어 신호(EM)에 의해 턴-온 되어, 구동 전류가 유기 발광 소자(OLED)를 흐르게 하여 유기 발광 소자(OLED)를 발광시킨다.The gate electrode of the fourth transistor T4 is supplied with the emission control signal EM. The source electrode of the fourth transistor T4 is connected to the drain electrode of the driving transistor DT. The drain electrode of the fourth transistor T4 is connected to the second node N2. The fourth transistor T4 is turned on by the emission control signal EM so that a driving current flows through the organic light emitting element OLED to emit the organic light emitting element OLED.

제 5 트랜지스터(T5)의 게이트 전극은 제 1 스캔 신호(SCAN1)를 공급받는다. 제 5 트랜지스터(T5)의 소스 전극은 초기화 전압(Vinit)을 공급받는다. 제 5 트랜지스터(T5)의 드레인 전극은 제 1 노드(N1)와 연결된다. 제 5 트랜지스터(T5)는 제 1 스캔 신호(SCAN1)에 의해 턴-온 되어, 제 1 노드(N1)의 전압을 초기화 전압(Vinit)으로 초기화시킨다.The gate electrode of the fifth transistor T5 receives the first scan signal SCAN1. The source electrode of the fifth transistor T5 is supplied with the initializing voltage Vinit. The drain electrode of the fifth transistor T5 is connected to the first node N1. The fifth transistor T5 is turned on by the first scan signal SCAN1 to initialize the voltage of the first node N1 to the initialization voltage Vinit.

제 6 트랜지스터(T6)의 게이트 전극은 제 1 스캔 신호(SCAN1)를 공급받는다. 제 6 트랜지스터(T6)의 소스 전극은 초기화 전압(Vinit)을 공급받는다. 제 6 트랜지스터(T6)의 드레인 전극은 제 2 노드(N2)와 연결된다. 제 6 트랜지스터(T6)는 제 1 스캔 신호(SCAN1)에 의해 턴-온 되어, 제 2 노드(N2)의 전압을 초기화 전압(Vinit)으로 초기화시킨다.The gate electrode of the sixth transistor T6 receives the first scan signal SCAN1. The source electrode of the sixth transistor T6 is supplied with the initializing voltage Vinit. The drain electrode of the sixth transistor T6 is connected to the second node N2. The sixth transistor T6 is turned on by the first scan signal SCAN1 to initialize the voltage of the second node N2 to the initializing voltage Vinit.

도 4는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 구간별 입출력 신호들 및 전압들을 나타낸 파형도이다. 본 발명의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소 내부의 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)는 P형 MOSFET으로 구현된다. 이에 따라, 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)의 게이트 전극에 하이 로직 레벨에 해당하는 제 1 로직 레벨(L1)이 공급되는 경우, 각각의 트랜지스터는 턴-오프 된다. 또한, 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)의 게이트 전극에 로우 로직 레벨에 해당하는 제 2 로직 레벨(L2)이 공급되는 경우, 각각의 트랜지스터는 턴-온 된다.FIG. 4 is a waveform diagram illustrating input / output signals and voltages of each pixel of an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention. The driving transistor DT and the first to sixth transistors T1 to T6 in the pixel of the OLED display according to the exemplary embodiment of the present invention are implemented as a P-type MOSFET. Accordingly, when the first logic level L1 corresponding to the high logic level is supplied to the gate electrodes of the driving transistor DT and the first to sixth transistors T1 to T6, each transistor is turned off . Further, when the second logic level L2 corresponding to the low logic level is supplied to the gate electrodes of the driving transistor DT and the first to sixth transistors T1 to T6, each transistor is turned on.

제 1 구간(S1)에서는 제 1 스캔 신호(SCAN1), 제 2 스캔 신호(SCAN2), 및 발광 제어 신호(EM)가 모두 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 모든 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)가 모두 턴-오프된다. 또한 제 1 노드(N1)의 전압인 제 1 노드 전압(VN1)은 0인 상태이다.In the first period S1, the first scan signal SCAN1, the second scan signal SCAN2, and the emission control signal EM are all at the first logic level L1. Thus, all the driving transistors DT and the first to sixth transistors T1 to T6 are turned off. The first node voltage VN1, which is the voltage of the first node N1, is zero.

제 2 구간(S2)에서는 제 1 스캔 신호(SCAN1)가 제 2 로직 레벨(L2)이고, 제 2 스캔 신호(SCAN2) 및 발광 제어 신호(EM)는 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 제 5 및 제 6 트랜지스터(T5, T6)가 턴-온 되고, 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 4 트랜지스터(T1~T4)는 턴-오프 상태를 유지한다. 제 5 트랜지스터(T5)에 의해 제 1 노드 전압(VN1)은 초기화 전압(Vinit)으로 초기화된다. 이와 동시에 제 6 트랜지스터(T6)에 의해 제 2 노드(N2)의 전압 역시 초기화 전압(Vinit)으로 초기화된다.In the second period S2, the first scan signal SCAN1 is the second logic level L2 and the second scan signal SCAN2 and the emission control signal EM are the first logic level L1. Thus, the fifth and sixth transistors T5 and T6 are turned on, and the driving transistor DT and the first to fourth transistors T1 to T4 maintain the turn-off state. The first node voltage VN1 is initialized to the initializing voltage Vinit by the fifth transistor T5. At the same time, the voltage of the second node N2 is also initialized to the initializing voltage Vinit by the sixth transistor T6.

제 3 구간(S3)에서는 제 1 스캔 신호(SCAN1), 제 2 스캔 신호(SCAN2), 및 발광 제어 신호(EM)가 모두 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 모든 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)가 모두 턴-오프된다. 이 때, 스토리지 커패시터(Cst)에 의해 제 1 노드 전압(VN1)은 초기화 전압(Vinit)을 유지한다. 또한, 데이터 전압(VDATA)은 입력 데이터(data)를 전달하기 위해 변동하게 된다.In the third period S3, the first scan signal SCAN1, the second scan signal SCAN2, and the emission control signal EM are all at the first logic level L1. Thus, all the driving transistors DT and the first to sixth transistors T1 to T6 are turned off. At this time, the first node voltage VN1 maintains the initialization voltage Vinit by the storage capacitor Cst. Further, the data voltage VDATA fluctuates in order to transmit the input data (data).

제 4 구간(S4)에서는 제 2 스캔 신호(SCAN2)가 제 2 로직 레벨(L2)이고, 제 1 스캔 신호(SCAN1) 및 발광 제어 신호(EM)는 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 제 1 및 제 2 트랜지스터(T1, T2)가 턴-온 되고, 구동 트랜지스터(DT) 및 제 3 내지 제 6 트랜지스터(T3~T6)는 턴-오프 상태를 유지한다. 제 2 트랜지스터(T2)는 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극에 데이터 전압(VDATA)을 공급한다. 이와 동시에 제 1 트랜지스터(T1)에 의해 제 1 노드 전압(VN1)은 데이터 전압(VDATA)과 구동 트랜지스터의 문턱 전압(Vtp)의 합인 VDATA+Vtp까지 상승하게 된다.In the fourth period S4, the second scan signal SCAN2 is the second logic level L2 and the first scan signal SCAN1 and the emission control signal EM are the first logic level L1. Accordingly, the first and second transistors T1 and T2 are turned on, and the driving transistor DT and the third to sixth transistors T3 to T6 maintain the turn-off state. The second transistor T2 supplies the data voltage VDATA to the source electrode of the driving transistor DT. At the same time, the first node voltage VN1 rises to VDATA + Vtp, which is the sum of the data voltage VDATA and the threshold voltage Vtp of the driving transistor.

제 5 구간 내지 제 7 구간(S5~S7)에서는 제 1 스캔 신호(SCAN1), 제 2 스캔 신호(SCAN2), 및 발광 제어 신호(EM)가 모두 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 모든 구동 트랜지스터(DT) 및 제 1 내지 제 6 트랜지스터(T1~T6)가 모두 턴-오프된다. 이 때, 스토리지 커패시터(Cst)에 의해 제 1 노드 전압(VN1)은 데이터 전압(VDATA)과 구동 트랜지스터의 문턱 전압(Vtp)의 합인 VDATA+Vtp을 유지한다. 또한, 데이터 전압(VDATA)은 입력 데이터(data)를 전달한 후 다시 원래 전압으로 복귀된다.The first scan signal SCAN1, the second scan signal SCAN2 and the emission control signal EM are all at the first logic level L1 in the fifth to seventh intervals S5 to S7. Thus, all the driving transistors DT and the first to sixth transistors T1 to T6 are turned off. At this time, the first node voltage VN1 maintains VDATA + Vtp which is the sum of the data voltage VDATA and the threshold voltage Vtp of the driving transistor by the storage capacitor Cst. Further, the data voltage VDATA is returned to the original voltage after transmitting the input data (data).

제 8 구간(S8)에서는 발광 제어 신호(EM)가 제 2 로직 레벨(L2)이고, 제 1 스캔 신호(SCAN1) 및 제 2 스캔 신호(SCAN2)는 제 1 로직 레벨(L1)이다. 이에 따라, 제 3 및 제 4 트랜지스터(T3, T4)가 턴-온 되고, 구동 트랜지스터(DT), 제 1, 2, 5, 6 트랜지스터(T1, T2, T5, T6)는 턴-오프 상태를 유지한다. 제 3 트랜지스터(T3)는 구동 트랜지스터(DT)의 소스 전극에 화소 구동 전압(VDD)을 공급한다. 이와 동시에 제 4 트랜지스터(T4)에 의해 구동 전류가 유기 발광 소자(OLED)를 흐르게 되어 유기 발광 소자(OLED)가 발광하게 된다.In the eighth period S8, the emission control signal EM is the second logic level L2 and the first scan signal SCAN1 and the second scan signal SCAN2 are the first logic level L1. The third and fourth transistors T3 and T4 are turned on and the driving transistor DT and the first, second, fifth and sixth transistors T1, T2, T5 and T6 are turned off . The third transistor T3 supplies the pixel driving voltage VDD to the source electrode of the driving transistor DT. At the same time, the driving current flows through the organic light emitting device OLED by the fourth transistor T4, causing the organic light emitting device OLED to emit light.

도 5는 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층(120)을 나타낸 평면도이다. 도 5 내지 도 8에서는 X축 및 Y축 방향으로 각각 인접한 2개의 화소들을 나타내었다. 이에 따라, 2×2의 구조로 총 4개의 화소(P1~P4)가 인접한 구조를 도시하였다. 또한, 하부 기판(110)은 평면도 상에 표현할 경우 혼동이 발생하여 도시하지 않았다.5 is a plan view showing an active layer 120 of a pixel of an OLED display according to an example of the present application. 5 to 8 show two pixels adjacent to each other in the X-axis and Y-axis directions. Accordingly, a total of four pixels P1 to P4 are adjacent to each other in a 2x2 structure. Further, the lower substrate 110 is not shown because it is confused when expressed on a plan view.

액티브층(120)은 좌측 상단에 형성되는 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 좌측 상부 영역에서부터 배치된다. 액티브층(120)은 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 좌측 상부 영역에서 시작하여 제 6 트랜지스터(T6)의 길이만큼 제 1 방향으로 연장된다. 제 1 방향은 Y축 방향으로, 화소 구동 전압(VDD)을 공급하는 구동 전원 라인(VDDL) 및 데이터 전압(VDATA)을 공급하는 데이터 라인(DL)이 배치된 방향과 평행한 방향이다.The active layer 120 is disposed from the upper left region where the sixth transistor T6 formed at the upper left corner is formed. The active layer 120 starts in the upper left region where the sixth transistor T6 is formed and extends in the first direction by the length of the sixth transistor T6. The first direction is a direction parallel to the direction in which the driving power supply line VDDL for supplying the pixel driving voltage VDD and the data line DL for supplying the data voltage VDATA are disposed in the Y axis direction.

액티브층(120)은 제 1 방향으로 연장된 후, 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 상단 중앙 영역까지 제 2 방향으로 연장된다. 제 5 트랜지스터(T5)는 상단 중앙 영역에서 형성되며, 2개의 영역 상에서 나뉘어서 형성된다. 2개의 영역은 각각 제 5-1 및 제 5-2 트랜지스터(T5-1, T5-2)로 나타낼 수 있다. 제 2 방향은 Y축 방향으로, 제 1 방향과 교차하는 방향이며, 제 1 및 제 2 스캔 신호(SCAN1, SCAN2)를 공급하는 스캔 라인들(SL1, SL2)이 배치된 방향과 평행한 방향이다.The active layer 120 extends in a first direction and then extends in a second direction to an upper central region where the fifth transistor T5 is formed. The fifth transistor T5 is formed in the upper central region and divided into two regions. The two regions may be represented by the fifth-and fifth transistors T5-1 and T5-2, respectively. The second direction is a direction intersecting with the first direction in the Y axis direction and parallel to the direction in which the scan lines SL1 and SL2 for supplying the first and second scan signals SCAN1 and SCAN2 are arranged .

액티브층(120)은 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 상단 중앙 영역에서 제 5 트랜지스터(T5)의 길이만큼 제 1 방향의 반대 방향로 연장된 후, 제 5 트랜지스터(T5)의 넓이만큼 제 2 방향으로 연장된다. 이후, 액티브층(120)은 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역과 제 2 방향으로 평행한 직선상의 영역까지 제 1 방향으로 연장된다. 이후, 액티브층(120)은 제 2 방향의 반대 방향으로 연장되어, 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역까지 연장된다. 제 1 트랜지스터(T1)는 좌측 중앙 영역에서 형성되며, 2개의 영역 상에서 나뉘어서 형성된다. 2개의 영역은 각각 제 1-1 및 제 1-2 트랜지스터(T1-1, T1-2)로 나타낼 수 있다. 이후, 액티브층(120)은 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 좌측 하부 영역까지 제 1 방향으로 연장된다.The active layer 120 extends in the direction opposite to the first direction by the length of the fifth transistor T5 in the upper central region where the fifth transistor T5 is formed, Lt; / RTI > Thereafter, the active layer 120 extends in a first direction to a region on which the first transistor T1 is formed and a region on a straight line parallel to the second direction. Thereafter, the active layer 120 extends in a direction opposite to the second direction and extends to a region where the first transistor T1 is formed. The first transistor T1 is formed in the left central region, and is formed in two regions. The two regions may be represented by the 1-1 and 1-2 transistors T1-1 and T1-2, respectively. Then, the active layer 120 extends in the first direction to the lower left region where the fourth transistor T4 is formed.

또한, 액티브층(120)은 제 2 트랜지스터(T2)가 형성되는 영역인 우측 중앙 영역에서부터 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역인 우측 하부 영역까지 제 1 방향으로 연장된다.The active layer 120 extends in the first direction from the right central region where the second transistor T2 is formed to the right lower region which is the region where the third transistor T3 is formed.

또한, 액티브층(120)은 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역과 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역의 사이에서 제 2 방향으로 연장되며, 제 2 트랜지스터(T2)가 형성되는 영역과 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역의 사이에서 제 2 방향의 반대 방향으로 연장된다. 액티브층(120)은 구동 트랜지스터(DT) 및 스토리지 커패시터(Cst)가 형성되는 영역에서 구동 트랜지스터(DT) 형상으로 배치된다.The active layer 120 extends in the second direction between the region where the first transistor T1 is formed and the region where the fourth transistor T4 is formed and the region where the second transistor T2 is formed And extends in the direction opposite to the second direction between the regions where the third transistor T3 is formed. The active layer 120 is arranged in the form of a driving transistor DT in a region where the driving transistor DT and the storage capacitor Cst are formed.

또한, 액티브층(120)은 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역에서 제 2 방향으로 돌출된다.In addition, the active layer 120 protrudes in the second direction in the region where the fourth transistor T4 is formed.

액티브층(120)은 Zinc Oxide, Tin Oxide, Ga-In-Zn Oxide, In-Zn Oxide, 또는 In-Sn Oxide 등의 금속 산화물로 이루어지거나, 금속 산화물에 Al, Ni, Cu, Ta, Mo, Zr, V, Hf 또는 Ti 등의 금속의 이온이 도핑된 합금 산화물로 이루어질 수 있다. 액티브층(120)은 채널층, 드레인층, 및 소스층으로 변화한다. 드레인층과 소스층 각각은 도체화 공정에 의해 도체화된다.The active layer 120 may be formed of a metal oxide such as Zinc Oxide, Tin Oxide, Ga-In-Zn Oxide, In-Zn Oxide, or In-Sn Oxide, Zr, V, Hf, Ti, or the like. The active layer 120 changes into a channel layer, a drain layer, and a source layer. Each of the drain layer and the source layer is made conductive by a conducting process.

도 6은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층(120) 및 게이트층(140)을 나타낸 평면도이다. 액티브층(120)과 게이트층(140) 간의 단락을 방지하는 역할을 수행하는 게이트 절연막(130)은 평면도 상에 표현할 경우 혼동이 발생하여 도시하지 않았다.6 is a plan view showing an active layer 120 and a gate layer 140 of a pixel of an organic light emitting diode display according to an example of the present application. The gate insulating layer 130 which plays a role of preventing a short circuit between the active layer 120 and the gate layer 140 is not shown because it is confused when expressed on a plan view.

게이트층(140)은 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 제 2 방향으로 가로지르면서 배치된다. 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 게이트층(140)은 제 1 스캔 신호(SCAN1)를 공급하는 제 1 스캔 라인을 형성한다.The gate layer 140 is disposed across the region where the sixth transistor T6 is formed and the region where the fifth transistor T5 is formed, in the second direction. The gate layer 140 arranged to cross the region where the sixth transistor T6 is formed and the region where the fifth transistor T5 is formed forms a first scan line for supplying the first scan signal SCAN1 .

또한, 게이트층(140)은 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역과 제 2 트랜지스터(T2)가 형성되는 영역을 제 2 방향으로 가로지르면서 배치된다. 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역과 제 2 트랜지스터(T2)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 게이트층(140)은 제 2 스캔 신호(SCAN2)를 공급하는 제 2 스캔 라인을 형성한다.In addition, the gate layer 140 is disposed across the region where the first transistor T1 is formed and the region where the second transistor T2 is formed, in the second direction. The gate layer 140 disposed to cross the region where the first transistor T1 is formed and the region where the second transistor T2 is formed forms a second scan line for supplying the second scan signal SCAN2 .

또한, 게이트층(140)은 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역과 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 제 2 방향으로 가로지르면서 배치된다. 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역과 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 게이트층(140)은 발광 제어 신호(EM)를 공급하는 발광 제어 라인을 형성한다.In addition, the gate layer 140 is disposed across the region where the third transistor T3 is formed and the region where the fourth transistor T4 is formed, in the second direction. The gate layer 140 disposed to cross the region where the third transistor T3 is formed and the region where the fourth transistor T4 is formed forms a light emission control line for supplying the light emission control signal EM.

또한, 게이트층(140)은 구동 트랜지스터(DT)가 형성되는 영역 중 일부 영역에 배치된다. 구동 트랜지스터(DT)가 형성되는 영역 중 일부 영역에 배치된 게이트층(140)은 스토리지 커패시터(Cst)의 하부 전극을 형성한다.Further, the gate layer 140 is disposed in a part of the region where the driving transistor DT is formed. The gate layer 140 disposed in a part of the region where the driving transistor DT is formed forms the lower electrode of the storage capacitor Cst.

게이트층(140)은 제 1 및 제 2 스캔 라인들, 발광 제어 라인, 스토리지 커패시터(Cst)의 하부 전극을 형성하는 하부 게이트 금속층으로서의 역할을 수행한다. 게이트층(140)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오듐(Nd), 구리(Cu), 또는 그들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 상기 금속 또는 합금의 단일층 또는 2층 이상의 다중층으로 이루어질 수 있다.The gate layer 140 functions as a lower gate metal layer forming the lower electrode of the first and second scan lines, the emission control line, and the storage capacitor Cst. The gate layer 140 may include at least one of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), copper And may be a single layer of the metal or alloy, or a multilayer of two or more layers.

도 7은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 액티브층(120), 게이트층(140), 및 제 1 금속층(160)을 나타낸 평면도이다. 게이트층(140)과 제 1 금속층(160) 간의 단락을 방지하는 역할을 수행하는 제 1 층간 절연막(150)은 평면도 상에 표현할 경우 혼동이 발생하여 도시하지 않았다.7 is a plan view showing an active layer 120, a gate layer 140, and a first metal layer 160 of a pixel of an OLED display device according to an example of the present application. The first interlayer insulating film 150, which plays a role of preventing a short circuit between the gate layer 140 and the first metal layer 160, is not shown because it is confused when expressed on a plan view.

제 1 금속층(160)은 구동 트랜지스터(DT)가 형성되는 영역 중 일부 영역에 배치된다. 구동 트랜지스터(DT)가 형성되는 영역 중 일부 영역에 배치된 제 1 금속층(160)은 스토리지 커패시터(Cst)의 상부 전극을 형성한다.The first metal layer 160 is disposed in a part of the region where the driving transistor DT is formed. The first metal layer 160 disposed in a part of the region where the driving transistor DT is formed forms the upper electrode of the storage capacitor Cst.

또한, 제 1 금속층(160)은 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 제 2 방향으로 가로지르면서 배치된다. 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 제 1 금속층(160)은 초기화 전압(Vinit)을 공급하는 초기화 라인을 형성한다.In addition, the first metal layer 160 is disposed across the region where the sixth transistor T6 is formed and the region where the fifth transistor T5 is formed, in the second direction. The first metal layer 160 disposed to cross the region where the sixth transistor T6 is formed and the region where the fifth transistor T5 is formed forms an initialization line for supplying the initialization voltage Vinit.

제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 제 1 금속층(160)은 제 6 트랜지스터(T6)가 형성되는 영역과 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 게이트층(140)과 중첩되지 않으면서 배치된다.The first metal layer 160 disposed to intersect the region where the sixth transistor T6 is formed and the region where the fifth transistor T5 is formed may be divided into a region where the sixth transistor T6 is formed and a region where the fifth transistor T5 Are not overlapped with the gate layer 140 disposed so as to cross the region in which the gate electrode 140 is formed.

또한, 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 제 1 금속층(160)은 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역 상에서 제 1 컨택 홀(CNT1)을 통해 액티브층(120)과 전기적으로 연결된다. 제 1 컨택 홀(CNT1)은 게이트 절연막(130)을 관통하여 형성된다. 이를 위해, 게이트 절연막(130)을 형성한 후 컨택 홀 공정을 1회 추가하여, 제 1 컨택 홀(CNT1)을 통해 제 1 금속층(160)과 액티브층(120)을 직접 연결한다.The first metal layer 160 disposed to cross the region where the fifth transistor T5 is formed is electrically connected to the active layer 120 through the first contact hole CNT1 on the region where the fifth transistor T5 is formed. Respectively. The first contact hole CNT1 is formed through the gate insulating film 130. [ To this end, the gate insulating layer 130 is formed and then the contact hole process is performed once to directly connect the first metal layer 160 and the active layer 120 through the first contact hole CNT1.

본 출원에 따른 유기발광 표시장치는 제 1 컨택 홀(CNT1)을 이용하여 소스/드레인층(180)을 이용하지 않고 초기화 전압(Vint)을 공급하는 제 1 금속층(160)을 액티브층(120)과 직접 연결할 수 있다. 이에 따라, 초기화 전압(Vint)을 공급하기 위하여 배치하였던 소스/드레인층(180)을 생략할 수 있다. 초기화 전압(Vint)을 공급하기 위하여 배치하였던 소스/드레인층(180)을 생략하는 경우, 초고해상도 유기발광 표시장치 모델에 사용되는 화소를 설계할 때 설계의 자유도를 증가시킬 수 있으므로, 화소 회로를 용이하게 제작할 수 있다.The organic light emitting diode display according to the present invention uses the first contact hole CNT1 to connect the first metal layer 160 supplying the initialization voltage Vint to the active layer 120 without using the source / Can be directly connected. Thus, the source / drain layer 180, which was arranged to supply the initialization voltage Vint, can be omitted. In the case of omitting the source / drain layer 180 arranged to supply the initialization voltage Vint, it is possible to increase the degree of freedom in designing the pixel used in the model of the ultra-high resolution organic light emitting display device, It can be easily manufactured.

또한, 제 1 금속층(160)은 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역과, 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 연결한다. 일 예로, 제 1 금속층(160)은 제 1 화소(P1)의 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역과 제 2 화소(P2)의 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 연결한다.In addition, the first metal layer 160 connects the region where the third transistor T3 of the arbitrary pixel is formed and the region where the fourth transistor T4 of another pixel adjacent to the arbitrary pixel is formed. For example, the first metal layer 160 connects a region where the third transistor T3 of the first pixel P1 is formed and a region where the fourth transistor T4 of the second pixel P2 is formed.

제 1 금속층(160)은 제 2 컨택 홀(CNT2)을 통해 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역의 액티브층(120)과 전기적으로 연결되어 있다. 제 1 금속층(160)은 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역의 액티브층(120)으로 직접 전압을 공급할 수 있다.The first metal layer 160 is electrically connected to the active layer 120 in the region where the third transistor T3 is formed through the second contact hole CNT2. The first metal layer 160 may supply a direct voltage to the active layer 120 in the region where the third transistor T3 of any pixel is formed.

제 1 금속층(160)은 탑 메탈층, 즉 상부 금속층으로서의 역할을 수행한다. 제 1 금속층(160)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오듐(Nd), 구리(Cu), 또는 그들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 상기 금속 또는 합금의 단일층 또는 2층 이상의 다중층으로 이루어질 수 있다.The first metal layer 160 serves as a top metal layer, that is, an upper metal layer. The first metal layer 160 may be formed of at least one selected from the group consisting of Mo, Al, Cr, Au, Ti, Ni, Ne, Alloy, and may be composed of a single layer of the metal or alloy or multiple layers of two or more layers.

도 8은 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소의 평면도이다.8 is a plan view of a pixel of an organic light emitting diode display according to an example of the present application.

도 8 및 도 9를 참조하면, 본 출원의 일 예에 따른 유기 발광 표시 장치의 화소는 액티브층(120), 게이트층(140), 제 1 금속층(160), 및 소스/드레인층(180)을 포함한다. 제 1 금속층(160)과 소스/드레인층(180) 간의 단락을 방지하는 역할을 수행하는 제 2 층간 절연막(170)은 평면도 상에 표현할 경우 혼동이 발생하여 도시하지 않았다.8 and 9, a pixel of an OLED display according to an exemplary embodiment of the present invention includes an active layer 120, a gate layer 140, a first metal layer 160, and a source / drain layer 180, . The second interlayer insulating film 170, which serves to prevent a short circuit between the first metal layer 160 and the source / drain layer 180, is not shown because it is confused when expressed on a plan view.

소스/드레인층(180)은 제 6 트랜지스터(T6), 제 1 트랜지스터(T1), 및 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 가로지르도록 제 1 방향으로 배치된다. 제 6 트랜지스터(T6), 제 1 트랜지스터(T1), 및 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 소스/드레인층(180)은 구동 전원 라인(VDDL)을 형성한다. 구동 전원 라인(VDDL)을 형성하는 소스/드레인층(180)은 데이터 구동회로부(20)로부터 화소 구동 전원(VDD)을 공급받는다.The source / drain layer 180 is disposed in the first direction so as to cross the region where the sixth transistor T6, the first transistor T1, and the fourth transistor T4 are formed. The source / drain layer 180 disposed to cross the region where the sixth transistor T6, the first transistor T1 and the fourth transistor T4 are formed forms a driving power supply line VDDL. The source / drain layer 180 forming the driving power supply line VDDL is supplied with the pixel driving power supply VDD from the data driving circuit portion 20.

구동 전원 라인(VDDL)을 형성하는 소스/드레인층(180)은 제 1 트랜지스터(T1)가 형성되는 영역에서 제 2 방향으로 분기된다. 제 2 방향으로 분기된 소스/드레인층(180)은 구동 트랜지스터(DT)가 형성되는 영역의 액티브층(120)과 제 3 컨택 홀(CNT)을 통해 연결된다. 소스/드레인층(180)은 제 3 컨택 홀(CNT)을 통해 액티브층(120)에 화소 구동 전원(VDD)을 공급할 수 있다.The source / drain layer 180 forming the driving power supply line VDDL branches in the second direction in the region where the first transistor T1 is formed. The source / drain layer 180 branched in the second direction is connected to the active layer 120 in the region where the driving transistor DT is formed through the third contact hole CNT. The source / drain layer 180 may supply the pixel driving power source VDD to the active layer 120 through the third contact hole CNT.

또한, 구동 전원 라인(VDDL)을 형성하는 소스/드레인층(180)은 제 4 트랜지스터(T4)가 형성되는 영역에서 제 4 컨택 홀(CNT4)을 통해 제 1 금속층(160)과 연결된다. 구동 전원 라인(VDDL)을 형성하는 소스/드레인층(180)은 제 1 금속층(160)에 화소 구동 전원(VDD)을 공급한다. 이에 따라, 임의의 화소의 구동 전원 라인(VDDL)을 형성하는 소스/드레인층(180)과 연결된 제 1 금속층(160)은 인접한 다른 화소의 제 3 트랜지스터(T3)로 화소 구동 전원(VDD)을 공급할 수 있다.The source / drain layer 180 forming the driving power supply line VDDL is connected to the first metal layer 160 through the fourth contact hole CNT4 in the region where the fourth transistor T4 is formed. The source / drain layer 180 forming the driving power supply line VDDL supplies the pixel driving power VDD to the first metal layer 160. Accordingly, the first metal layer 160 connected to the source / drain layer 180 forming the driving power supply line VDDL of a certain pixel is connected to the third transistor T3 of another adjacent pixel to supply the pixel driving power VDD Can supply.

인접한 다른 화소로 공급되는 화소 구동 전원(VDD)을 이용하는 경우, 임의의 화소 내에서 화소 구동 전원(VDD)을 공급하는 소스/드레인층(180)을 데이터 전압(VDATA)을 공급하는 소스/드레인층(180)과 이격하여 배치할 수 있다. 이에 따라, 초고해상도 유기발광 표시장치 모델에 사용되는 화소에서 스토리지 커패시터(Cst)가 배치될 수 있는 공간을 용이하게 확보할 수 있다.The source / drain layer 180 for supplying the pixel driving power supply VDD in any pixel is connected to the source / drain layer 180 for supplying the data voltage VDATA, (180). Accordingly, it is possible to easily secure a space in which the storage capacitor Cst can be arranged in the pixel used in the ultra-high resolution organic light emitting display device model.

또한, 소스/드레인층(180)은 제 5 트랜지스터(T5)가 배치된 영역과 구동 트랜지스터(DT)가 배치된 영역을 연결한다. 제 5 트랜지스터(T5)가 배치된 영역과 구동 트랜지스터(DT)가 배치된 영역을 연결하는 소스/드레인층(180)은 아일랜드 타입으로 배치된다. 제 5 트랜지스터(T5)가 배치된 영역과 구동 트랜지스터(DT)가 배치된 영역을 연결하는 소스/드레인층(180)은 제 5 트랜지스터(T5)가 배치된 영역에 마련된 제 5 컨택 홀(CNT5) 및 구동 트랜지스터(DT)가 배치된 영역에 마련된 제 6 컨택 홀(CNT6)을 갖는다.The source / drain layer 180 connects the region where the fifth transistor T5 is disposed and the region where the driving transistor DT is disposed. The source / drain layer 180 connecting the region where the fifth transistor T5 is arranged and the region where the driving transistor DT is arranged is arranged in an island type. The source / drain layer 180 connecting the region where the fifth transistor T5 is disposed and the region where the driving transistor DT is disposed is connected to the fifth contact hole CNT5 provided in the region where the fifth transistor T5 is disposed. And a sixth contact hole CNT6 provided in a region where the driving transistor DT is disposed.

또한, 소스/드레인층(180)은 제 2 트랜지스터(T2) 및 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역을 가로지르도록 제 1 방향으로 배치된다. 제 2 트랜지스터(T2) 및 제 3 트랜지스터(T3)가 형성되는 영역을 가로지르도록 배치된 소스/드레인층(180)은 데이터 라인(DL)을 형성한다. 데이터 라인(DL)을 형성하는 소스/드레인층(180)은 화소에 데이터 전압(VDATA)을 공급한다. 데이터 라인(DL)을 형성하는 소스/드레인층(180) 제 7 컨택 홀(CNT7)을 통해 제 2 트랜지스터(T2)가 배치된 영역의 액티브층(120)과 연결된다.In addition, the source / drain layer 180 is disposed in the first direction so as to cross the region where the second transistor T2 and the third transistor T3 are formed. The source / drain layer 180 disposed to cross the region where the second transistor T2 and the third transistor T3 are formed forms a data line DL. The source / drain layer 180 forming the data line DL supplies the data voltage VDATA to the pixel. Is connected to the active layer 120 in the region where the second transistor T2 is disposed through the seventh contact hole CNT7 of the source / drain layer 180 forming the data line DL.

또한, 소스/드레인층(180)은 제 4 트랜지스터(T4) 및 구동 트랜지스터(DT)와 인접한 영역에 배치된다. 제 4 트랜지스터(T4) 및 구동 트랜지스터(DT)와 인접한 영역에 배치된 소스/드레인층(180)은 아일랜드 타입으로 배치된다. 제 4 트랜지스터(T4) 및 구동 트랜지스터(DT)와 인접한 영역에 배치된 소스/드레인층(180)은 제 8 컨택 홀(CNT8)을 통해 제 4 트랜지스터(T4)가 배치된 영역의 액티브층(120)과 연결된다.In addition, the source / drain layer 180 is disposed in the region adjacent to the fourth transistor T4 and the driving transistor DT. The source / drain layer 180 disposed in the region adjacent to the fourth transistor T4 and the driving transistor DT is arranged in an island type. The source / drain layer 180 disposed in the region adjacent to the fourth transistor T4 and the driving transistor DT is electrically connected to the active layer 120 in the region where the fourth transistor T4 is disposed through the eighth contact hole CNT8 ).

도 9는 도 8의 I-I`를 나타낸 단면도이다. 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 하부 기판(110), 액티브층(120), 게이트 절연막(130), 제 1 층간 절연막(150), 제 1 금속층(160), 제 2 층간 절연막(170), 소스/드레인층(180), 평탄화막(190), 애노드 전극(200), 및 상부층(210)을 포함한다.9 is a cross-sectional view showing I-I` of FIG. The organic light emitting display according to the present invention includes a lower substrate 110, an active layer 120, a gate insulating layer 130, a first interlayer insulating layer 150, a first metal layer 160, a second interlayer insulating layer 170, A source / drain layer 180, a planarization layer 190, an anode electrode 200, and an upper layer 210.

하부 기판(110)은 유기 발광 표시 장치의 최하층을 형성한다. 하부 기판(110)은 유리로 형성될 수 있다. 또는, 하부 기판(110)은 가요성이 있는 플라스틱으로 형성되어, 유기 발광 표시 장치가 가요성이 있도록 할 수 있다.The lower substrate 110 forms the lowest layer of the organic light emitting display. The lower substrate 110 may be formed of glass. Alternatively, the lower substrate 110 may be formed of flexible plastic so that the OLED display is flexible.

액티브층(120)은 하부 기판(110)의 상부에 배치된다. 액티브층(120)은 제 5 및 제 6 트랜지스터(T5, T6)가 형성되는 영역에 배치된다. 액티브층(120)은 제 5 및 제 6 트랜지스터(T5, T6)의 채널층, 드레인층, 및 소스층을 형성한다. 액티브층(120)은 Zinc Oxide, Tin Oxide, Ga-In-Zn Oxide, In-Zn Oxide, 또는 In-Sn Oxide 등의 금속 산화물로 이루어지거나, 금속 산화물에 Al, Ni, Cu, Ta, Mo, Zr, V, Hf 또는 Ti 등의 금속의 이온이 도핑된 합금 산화물로 이루어질 수 있다. 액티브층(120)은 채널층, 드레인층, 및 소스층으로 변화한다. 드레인층과 소스층 각각은 도체화 공정에 의해 도체화된다.The active layer 120 is disposed on top of the lower substrate 110. The active layer 120 is disposed in a region where the fifth and sixth transistors T5 and T6 are formed. The active layer 120 forms a channel layer, a drain layer, and a source layer of the fifth and sixth transistors T5 and T6. The active layer 120 may be formed of a metal oxide such as Zinc Oxide, Tin Oxide, Ga-In-Zn Oxide, In-Zn Oxide, or In-Sn Oxide, Zr, V, Hf, Ti, or the like. The active layer 120 changes into a channel layer, a drain layer, and a source layer. Each of the drain layer and the source layer is made conductive by a conducting process.

게이트 절연막(130)은 하부 기판(110) 및 액티브층(120)의 상부에 배치된다. 게이트 절연막(130)은 액티브층(120)을 전체적으로 덮는다. 게이트 절연막(130)은 절연성이 우수한 재료로 형성된다. 게이트 절연막(130)은 액티브층(120)을 상부에 배치된 층으로부터 전기적으로 분리한다. 게이트 절연막(130)은 1300Å 이상 1500Å 이하의 두께로 형성된다.The gate insulating layer 130 is disposed on the lower substrate 110 and the active layer 120. The gate insulating film 130 covers the active layer 120 as a whole. The gate insulating film 130 is formed of a material having excellent insulating properties. The gate insulating layer 130 electrically separates the active layer 120 from the layer disposed thereon. The gate insulating layer 130 is formed to a thickness of 1300 ANGSTROM to 1500 ANGSTROM or less.

제 1 층간 절연막(150)은 게이트 절연막(130)의 상부에 배치된다. 제 1 층간 절연막(150)은 절연성이 우수한 재료로 형성된다. 제 1 층간 절연막(150)은 제 1 층간 절연막(150)의 상부에 배치된 층과 제 1 층간 절연막(150)의 하부에 배치된 층들을 전기적으로 분리한다. 제 1 층간 절연막(150)은 1200Å 이상 1300Å 이하의 두께로 형성된다.The first interlayer insulating film 150 is disposed on the gate insulating film 130. The first interlayer insulating film 150 is formed of a material having excellent insulating properties. The first interlayer insulating layer 150 electrically isolates a layer disposed on the first interlayer insulating layer 150 and a layer disposed on the lower portion of the first interlayer insulating layer 150. The first interlayer insulating film 150 is formed to a thickness of 1200 ANGSTROM to 1300 ANGSTROM or less.

제 1 금속층(160)은 제 1 층간 절연막(150)의 상부에 배치된다. 제 1 금속층(160)은 제 2 방향으로 배열된 복수의 화소들에 마련된 제 5 및 제 6 트랜지스터(T5, T6)와 중첩된다. 제 1 금속층(160)은 제 5 트랜지스터(T5)가 배치된 영역에서 제 1 컨택 홀(CNT1)을 통해 액티브층(120)과 전기적으로 연결된다. 제 1 금속층(160)은 제 2 방향으로 배열된 복수의 화소들 내 제 5 트랜지스터(T5)에 초기화 전압(Vini)을 공급한다.The first metal layer 160 is disposed on the first interlayer insulating film 150. The first metal layer 160 overlaps the fifth and sixth transistors T5 and T6 provided in the plurality of pixels arranged in the second direction. The first metal layer 160 is electrically connected to the active layer 120 through the first contact hole CNT1 in the region where the fifth transistor T5 is disposed. The first metal layer 160 supplies the initialization voltage Vini to the fifth transistor T5 in the plurality of pixels arranged in the second direction.

제 1 컨택 홀(CNT1)은 게이트 절연막(130) 및 제 1 층간 절연막(150)을 관통하면서 형성된다. 제 1 컨택 홀(CNT1) 내부의 액티브층(120) 상부 및 제 1 컨택 홀(CNT1)의 측벽에는 제 1 금속층(160)이 배치된다. 제 1 컨택 홀(CNT1)은 2500Å 이상 2800Å 이하의 두께로 형성된다. 제 1 컨택 홀(CNT1)은 제 1 층간 절연막(150)을 형성한 후 제 1 금속층(160)을 형성하기 전 컨택 홀 공정을 추가하여 마련한다.The first contact hole CNT 1 is formed through the gate insulating film 130 and the first interlayer insulating film 150. The first metal layer 160 is disposed on the active layer 120 in the first contact hole CNT1 and on the side walls of the first contact hole CNT1. The first contact hole CNT1 is formed to have a thickness of 2500A to 2800A. The first contact hole CNT1 is formed by adding a contact hole process after the first interlayer insulating layer 150 is formed and before the first metal layer 160 is formed.

제 2 층간 절연막(170)은 제 1 금속층(160)의 상부에 배치된다. 제 2 층간 절연막(170)은 절연성이 우수한 재료로 형성된다. 제 2 층간 절연막(170)은 제 2 층간 절연막(170)의 상부에 배치된 층과 제 2 층간 절연막(170)의 하부에 배치된 층들을 전기적으로 분리한다. 제 2 층간 절연막(150)은 5500Å 이상 6500Å 이하의 두께로 형성된다.The second interlayer insulating film 170 is disposed on the first metal layer 160. The second interlayer insulating film 170 is formed of a material having excellent insulating properties. The second interlayer insulating film 170 electrically isolates the layer disposed above the second interlayer insulating film 170 and the layers disposed below the second interlayer insulating film 170. The second interlayer insulating film 150 is formed to a thickness of 5500 angstroms or more and 6500 angstroms or less.

소스/드레인층(180)은 제 2 층간 절연막(170)의 상부에 배치된다. 소스/드레인층(180)은 화소 구동 전원(VDD)을 공급하는 구동 전원 라인(VDDL) 및 데이터 전압(VDATA)을 공급하는 데이터 라인(DL)을 형성한다.The source / drain layer 180 is disposed on the second interlayer insulating film 170. The source / drain layer 180 forms a driving power supply line VDDL for supplying the pixel driving power supply VDD and a data line DL for supplying the data voltage VDATA.

평탄화막(190)은 제 2 층간 절연막(170) 및 소스/드레인층(180)의 상부에 배치된다. 평탄화막(190)은 상부의 높이 차이를 감소시킨다. 이에 따라, 평탄화막(190)은 하부 기판(110)을 기준으로 Z축 방향으로의 높이가 영역에 따라 편차가 발생하는 것을 해결할 수 있다.The planarizing film 190 is disposed on the second interlayer insulating film 170 and the source / drain layer 180. The planarizing film 190 reduces the height difference of the top. Accordingly, it is possible to prevent the flattening film 190 from generating a deviation in height in the Z-axis direction with respect to the lower substrate 110 according to the region.

애노드 전극(200)은 평탄화막(190)의 상부에 배치된다. 애노드 전극(200)은 본 출원에 따른 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드 전극을 형성한다. 애노드 전극(200)은 화소 구동 전압(VDD) 및 데이터 전압(VDATA)을 공급받아 유기 발광 다이오드(OLED)에 공급한다.The anode electrode 200 is disposed on the planarization film 190. The anode electrode 200 forms the anode electrode of the organic light emitting diode OLED according to the present application. The anode electrode 200 receives the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA and supplies the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA to the organic light emitting diode OLED.

상부층(210)은 애노드 전극(200)의 상부에 배치된다. 상부층(210)은 유기 발광 다이오드(OLED)를 구성하는 유기 발광층 및 캐소드 전극을 포함한다. 상부층(210)은 애노드 전극(200)에 공급된 화소 구동 전압(VDD) 및 데이터 전압(VDATA)에 따라 내부의 유기 발광층이 소정의 밝기로 발광한다.The upper layer 210 is disposed on the upper portion of the anode electrode 200. The upper layer 210 includes an organic light emitting layer and a cathode electrode constituting the organic light emitting diode (OLED). The upper layer 210 emits light with a predetermined brightness according to the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA supplied to the anode electrode 200.

도 10은 도 8의 Ⅱ-Ⅱ`를 나타낸 단면도이다. 본 출원에 따른 유기 발광 표시 장치는 하부 기판(110), 액티브층(120), 게이트 절연막(130), 게이트층(140), 제 1 층간 절연막(150), 제 1 금속층(160), 제 2 층간 절연막(170), 소스/드레인층(180), 평탄화막(190), 애노드 전극(200), 및 상부층(210)을 포함한다.10 is a cross-sectional view showing II-II` of FIG. The organic light emitting display according to the present invention includes a lower substrate 110, an active layer 120, a gate insulating layer 130, a gate layer 140, a first interlayer insulating layer 150, a first metal layer 160, An interlayer insulating film 170, a source / drain layer 180, a planarization film 190, an anode electrode 200, and an upper layer 210.

게이트 절연막(130)은 하부 기판(110) 및 액티브층(120)의 상부에 배치된다. 게이트 절연막(130)은 제 1 및 제 3 컨택 홀(CNT1, CNT3)이 형성된 지점에서 제거된다. 게이트 절연막(130)은 1300Å 이상 1500Å 이하의 두께로 형성된다.The gate insulating layer 130 is disposed on the lower substrate 110 and the active layer 120. The gate insulating film 130 is removed at the point where the first and third contact holes CNT1 and CNT3 are formed. The gate insulating layer 130 is formed to a thickness of 1300 ANGSTROM to 1500 ANGSTROM or less.

게이트층(140)은 게이트 절연막(130) 상부에 배치된다. 게이트층(140)은 제 1 및 제 2 스캔 신호(SCAN1, SCAN2)를 공급하는 제 1 및 제 2 스캔 라인을 구성한다. 제 1 스캔 라인을 구성하는 게이트층(140)은 제 5 트랜지스터(T5)가 형성된 영역 상에 배치된다. 제 2 스캔 라인을 구성하는 게이트층(140)은 제 1 트랜지스터(T1)와 인접한 영역 상에 배치된다.The gate layer 140 is disposed on the gate insulating layer 130. The gate layer 140 constitutes first and second scan lines for supplying the first and second scan signals SCAN1 and SCAN2. The gate layer 140 constituting the first scan line is disposed on a region where the fifth transistor T5 is formed. The gate layer 140 constituting the second scan line is disposed on a region adjacent to the first transistor T1.

제 1 층간 절연막(150)은 게이트 절연막(130) 및 게이트층(140)의 상부에 형성된다. 제 1 층간 절연막(150)은 제 1 및 제 3 컨택 홀(CNT1, CNT3)이 형성된 지점에서 제거된다. 제 1 층간 절연막(150)은 제 1 층간 절연막(150)은 절연성이 우수한 재료로 형성된다. 제 1 층간 절연막(150)은 게이트층(140)을 상부에 배치된 층으로부터 전기적으로 분리한다. 제 1 층간 절연막(150)은 1200Å 이상 1300Å 이하의 두께로 형성된다.The first interlayer insulating film 150 is formed on the gate insulating film 130 and the gate layer 140. The first interlayer insulating film 150 is removed at the point where the first and third contact holes CNT1 and CNT3 are formed. The first interlayer insulating film 150 is formed of a material having excellent insulating properties. The first interlayer insulating film 150 electrically separates the gate layer 140 from the layer disposed thereon. The first interlayer insulating film 150 is formed to a thickness of 1200 ANGSTROM to 1300 ANGSTROM or less.

제 1 금속층(160)은 제 1 컨택 홀(CNT1)의 내부에 배치된다. 제 1 금속층(160)은 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역 상에 배치된 액티브층(120)과 전기적으로 연결된다. 제 1 금속층(160)은 제 5 트랜지스터(T5)가 형성되는 영역 상에 배치된 액티브층(120)에 초기화 전압(Vinit)을 공급한다. 제 1 컨택 홀(CNT1)은 게이트 절연막(130) 및 제 1 층간 절연막(150)을 관통하므로, 2500Å 이상 2800Å 이하의 두께로 형성된다.The first metal layer 160 is disposed inside the first contact hole CNT1. The first metal layer 160 is electrically connected to the active layer 120 disposed on the region where the fifth transistor T5 is formed. The first metal layer 160 supplies the initialization voltage Vinit to the active layer 120 disposed on the region where the fifth transistor T5 is formed. Since the first contact hole CNT1 penetrates the gate insulating layer 130 and the first interlayer insulating layer 150, the first contact hole CNT1 is formed to have a thickness of 2500 ANGSTROM to 2800 ANGSTROM.

제 2 층간 절연막(170)은 제 1 층간 절연막(150) 및 제 1 금속층(160)의 상부에 형성된다. 제 2 층간 절연막(170)은 절연성이 우수한 재료로 형성된다. 제 2 층간 절연막(170)은 제 1 금속층(160)을 상부에 배치된 층으로부터 전기적으로 분리한다. 제 2 층간 절연막(150)은 5500Å 이상 6500Å 이하의 두께로 형성된다.A second interlayer insulating film 170 is formed on the first interlayer insulating film 150 and the first metal layer 160. The second interlayer insulating film 170 is formed of a material having excellent insulating properties. The second interlayer insulating film 170 electrically isolates the first metal layer 160 from the layer disposed thereon. The second interlayer insulating film 150 is formed to a thickness of 5500 angstroms or more and 6500 angstroms or less.

소스/드레인층(180)은 제 3 컨택 홀(CNT3)의 내부에 배치된다. 소스/드레인층(180)은 구동 트랜지스터(TD)가 형성되는 영역 상에 배치된 액티브층(120)과 전기적으로 연결된다. 소스/드레인층(180)은 구동 트랜지스터(TD)가 형성되는 영역 상에 배치된 액티브층(120)에 화소 구동 전압(VDD)을 공급한다. 제 3 컨택 홀(CNT3)은 게이트 절연막(130), 제 1 층간 절연막(150), 및 제 2 층간 절연막(170)을 관통하므로, 8000Å 이상 9300Å 이하의 두께로 형성된다.The source / drain layer 180 is disposed inside the third contact hole CNT3. The source / drain layer 180 is electrically connected to the active layer 120 disposed on the region where the driving transistor TD is formed. The source / drain layer 180 supplies the pixel driving voltage VDD to the active layer 120 disposed on the region where the driving transistor TD is formed. The third contact hole CNT3 penetrates the gate insulating film 130, the first interlayer insulating film 150, and the second interlayer insulating film 170, so that the third contact hole CNT3 has a thickness of 8000 ANGSTROM or more and 9300 ANGSTROM or less.

평탄화막(190)은 제 2 층간 절연막(170) 및 소스/드레인층(180)의 상부에 배치된다. 평탄화막(190)은 상부의 높이 차이를 감소시킨다. 이에 따라, 평탄화막(190)은 하부 기판(110)을 기준으로 Z축 방향으로의 높이가 영역에 따라 편차가 발생하는 것을 해결할 수 있다.The planarizing film 190 is disposed on the second interlayer insulating film 170 and the source / drain layer 180. The planarizing film 190 reduces the height difference of the top. Accordingly, it is possible to prevent the flattening film 190 from generating a deviation in height in the Z-axis direction with respect to the lower substrate 110 according to the region.

애노드 전극(200)은 평탄화막(190)의 상부에 배치된다. 애노드 전극(200)은 본 출원에 따른 유기 발광 다이오드(OLED)의 애노드 전극을 형성한다. 애노드 전극(200)은 화소 구동 전압(VDD) 및 데이터 전압(VDATA)을 공급받아 유기 발광 다이오드(OLED)에 공급한다.The anode electrode 200 is disposed on the planarization film 190. The anode electrode 200 forms the anode electrode of the organic light emitting diode OLED according to the present application. The anode electrode 200 receives the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA and supplies the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA to the organic light emitting diode OLED.

상부층(210)은 애노드 전극(200)의 상부에 배치된다. 상부층(210)은 유기 발광 다이오드(OLED)를 구성하는 유기 발광층 및 캐소드 전극을 포함한다. 상부층(210)은 애노드 전극(200)에 공급된 화소 구동 전압(VDD) 및 데이터 전압(VDATA)에 따라 내부의 유기 발광층이 소정의 밝기로 발광한다.The upper layer 210 is disposed on the upper portion of the anode electrode 200. The upper layer 210 includes an organic light emitting layer and a cathode electrode constituting the organic light emitting diode (OLED). The upper layer 210 emits light with a predetermined brightness according to the pixel driving voltage VDD and the data voltage VDATA supplied to the anode electrode 200.

또한, 별도의 단면도를 부가하지는 않았으나, 도 8을 결부하여 설명한 바와 같이 본 출원의 제 1 금속층(160)은 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)가 배치되는 영역과 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 제 4 트랜지스터(T4)가 배치되는 영역을 서로 연결한다. 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)가 배치되는 영역과 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 제 4 트랜지스터(T4)가 배치되는 영역을 서로 연결하는 제 1 금속층(160)은 서로 인접한 화소들의 발광 트랜지스터 사이를 연결한다.8, the first metal layer 160 of the present application has a region where the third transistor T3 of an arbitrary pixel is arranged and a region where the third transistor T3 of another pixel is adjacent to another pixel And the fourth transistor T4 of the second transistor T3 are arranged. The first metal layer 160 connecting the region where the third transistor T3 of the arbitrary pixel is arranged and the region where the fourth transistor T4 of another pixel adjacent to the arbitrary pixel is arranged is connected to the light- Respectively.

서로 인접한 화소들의 발광 트랜지스터 사이를 연결하는 제 1 금속층(160)은 아일랜드 타입으로 형성된다. 이에 따라, 서로 인접한 화소들의 발광 트랜지스터 사이를 연결하는 제 1 금속층(160)은 화소 구동 전원(VDD) 및 발광 제어 신호(EM)에만 영향을 받는다. 서로 인접한 화소들의 발광 트랜지스터 사이를 연결하는 제 1 금속층(160)은 제 1 및 제 2 스캔 신호(SCAN1, SCAN2)의 영향 또는 데이터 전압(VDATA)의 영향을 받지 않는다.The first metal layer 160 connecting between the light emitting transistors of adjacent pixels is formed as an island type. Accordingly, the first metal layer 160 connecting between the light emitting transistors of the adjacent pixels is affected only by the pixel driving power supply VDD and the emission control signal EM. The first metal layer 160 connecting between the light emitting transistors of the pixels adjacent to each other is not affected by the influence of the first and second scan signals SCAN1 and SCAN2 or the data voltage VDATA.

제 1 금속층(160)은 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)가 배치된 영역에서 제 2 컨택 홀(CNT2)을 통해 액티브층(120)과 연결된다. 제 2 컨택 홀(CNT2)은 제 1 금속층(160)과 액티브층(120)을 직접 연결시키는 구조를 갖는다. 이에 따라, 제 2 컨택 홀(CNT2)은 제 1 컨택 홀(CNT1)과 동일한 구조를 갖는다. 제 2 컨택 홀(CNT2)은 게이트 절연막(130) 및 제 1 층간 절연막(150)을 관통하므로, 2500Å 이상 2800Å 이하의 두께로 형성된다.The first metal layer 160 is connected to the active layer 120 through the second contact hole CNT2 in the region where the third transistor T3 of any pixel is disposed. The second contact hole CNT2 has a structure in which the first metal layer 160 and the active layer 120 are directly connected. Accordingly, the second contact hole CNT2 has the same structure as the first contact hole CNT1. Since the second contact hole CNT2 penetrates the gate insulating layer 130 and the first interlayer insulating layer 150, the second contact hole CNT2 is formed to have a thickness of 2500 angstroms or more and 2800 angstroms or less.

또한, 제 1 금속층(160)은 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 제 4 트랜지스터(T4)에 배치된 영역에서 제 4 컨택 홀(CNT4)을 통해 소스/드레인층(180)과 연결된다. 소스/드레인층(180)은 임의의 화소와 인접한 다른 화소에 화소 구동 전원(VDD)을 공급하는 구동 전원 라인(VDDL)이다. 제 1 금속층(160)은 구동 전원 라인(VDDL)으로부터 화소 구동 전원(VDD)을 공급받는다. 이에 따라, 제 1 금속층(160)은 임의의 화소의 제 3 트랜지스터(T3)에 화소 구동 전원(VDD)을 공급할 수 있다.Also, the first metal layer 160 is connected to the source / drain layer 180 through the fourth contact hole CNT4 in an area disposed in the fourth transistor T4 of another pixel adjacent to any pixel. The source / drain layer 180 is a driving power supply line (VDDL) for supplying a pixel driving power supply (VDD) to another pixel adjacent to a certain pixel. The first metal layer 160 receives the pixel driving power supply voltage VDD from the driving power supply line VDDL. Accordingly, the first metal layer 160 can supply the pixel driving power supply voltage VDD to the third transistor T3 of an arbitrary pixel.

제 1 금속층(160)은 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 제 4 트랜지스터(T4)에 배치된 영역에서는 소스/드레인층(180)과 연결된다. 이에 따라, 제 4 컨택 홀(CNT4)은 제 2 층간 절연막(170)을 관통하여 형성된다. 제 4 컨택 홀(CNT4)은 제 2 층간 절연막(170)을 관통하므로, 5500Å 이상 6500Å 이하의 두께로 형성된다.The first metal layer 160 is connected to the source / drain layer 180 in a region disposed in the fourth transistor T4 of another pixel adjacent to any pixel. Accordingly, the fourth contact hole CNT4 is formed through the second interlayer insulating film 170. [ Since the fourth contact hole CNT4 penetrates the second interlayer insulating film 170, the fourth contact hole CNT4 is formed to have a thickness of 5500 angstroms or more and 6500 angstroms or less.

이에 따라, 제 1 금속층(160)을 이용하여 인접한 화소의 화소 구동 전원(VDD)을 이용할 수 있어, 임의의 화소 내부에서 구동 전원 라인(VDD)을 데이터 라인(DL)과 이격하여 배치할 수 있다. 이에 따라, 구동 전원 라인(VDD)과 데이터 라인(DL)을 화소의 양 측에 배치하고, 화소의 중앙 영역에 구동 트랜지스터(DT) 및 스토리지 커패시터(Cst)를 배치할 수 있다. 이에 따라, 초고해상도 유기 발광 표시 장치에 적용되어 화소의 물리적인 크기가 감소하는 경우에도 구동 트랜지스터(DT) 및 스토리지 커패시터(Cst)의 최소 크기를 확보할 수 있어, 초고해상도 유기 발광 표시 장치에 적용되는 화소의 설계를 용이하게 할 수 있다.Accordingly, the first pixel electrode 160 can be used to use the pixel-driving power supply VDD of the adjacent pixel, and the driving power supply line VDD can be disposed within the pixel at a distance from the data line DL . Accordingly, the driving power supply line VDD and the data line DL can be arranged on both sides of the pixel, and the driving transistor DT and the storage capacitor Cst can be arranged in the central region of the pixel. Accordingly, even when the physical size of a pixel is reduced due to application to an ultra-high resolution organic light emitting display, the minimum size of the driving transistor DT and the storage capacitor Cst can be secured, It is possible to facilitate the design of the pixel.

본 출원의 예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 초기화 라인을 복수의 구동 전원 라인과 서로 다른 층인 제 1 금속층으로 이루어 기존의 소스/드레인층으로 이루어진 초기화 라인을 대체할 수 있다. 이에 따라, 본 출원은 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소하는 초고해상도 유기 발광 표시 장치에서도 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적을 확보할 수 있다.The organic light emitting display according to the exemplary embodiments of the present invention may replace the initialization line made up of the conventional source / drain layer having a plurality of initialization lines as a first metal layer which is different from a plurality of driving power lines. Accordingly, the present application can secure an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which the size of a pixel and the interval between pixels are reduced.

또한, 본 출원의 예들에 따른 유기 발광 표시 장치는 복수의 구동 전원 라인과 복수의 데이터 라인은 임의의 화소 내에서 양 측으로 서로 이격시켜 화소의 중앙부에 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터가 배치될 면적을 확보할 수 있다. 이에 따라, 본 출원은 화소의 크기 및 화소들 간의 간격이 감소하는 초고해상도 유기 발광 표시 장치에서도 화소 내 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 설계할 면적을 확보할 수 있다.In the organic light emitting diode display according to the examples of the present application, a plurality of driving power supply lines and a plurality of data lines are spaced apart from each other in a certain pixel to secure an area where the driving transistor and the storage capacitor are disposed at the center of the pixel . Accordingly, the present application can secure an area for designing a driving transistor and a storage capacitor in a pixel even in an ultra-high resolution organic light emitting display device in which the size of a pixel and the interval between pixels are reduced.

이상 설명한 내용을 통해 이 분야의 통상의 기술자는 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit of the invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

DA: 표시 영역 NDA: 비표시 영역
10: 제어부 20: 데이터 구동회로부
30: 스캔 구동회로부 P: 화소
T1~T6: 제 1 내지 제 6 트랜지스터 DT: 구동 트랜지스터
Cst: 스토리지 커패시터 OLED: 유기 발광 소자
P1~P4: 제 1 및 제 4 화소 110: 하부 기판
120: 액티브층 130: 게이트 절연막
140: 게이트층 150: 제 1 층간 절연막
160: 제 1 금속층 170: 제 2 층간 절연막
180: 소스/드레인층 190: 평탄화막
200: 애노드 전극 210: 상부층
DA: display area NDA: non-display area
10: control unit 20: data driving circuit
30: scan drive circuit P: pixel
T1 to T6: first to sixth transistors DT: driving transistor
Cst: Storage capacitor OLED: Organic light emitting device
P1 to P4: first and fourth pixels 110: lower substrate
120: active layer 130: gate insulating film
140: gate layer 150: first interlayer insulating film
160: first metal layer 170: second interlayer insulating film
180: source / drain layer 190: planarization layer
200: anode electrode 210: upper layer

Claims (15)

유기 발광 소자, 및 상기 유기 발광 소자에 흐르는 전류를 제어하기 위한 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 포함하는 화소 회로를 갖는 복수의 화소;
제 1 방향을 따라 마련되고 상기 복수의 화소들에 화소 구동 전원을 공급하는 복수의 구동 전원 라인;
상기 제 1 방향을 따라 마련되고 상기 복수의 화소에 데이터 전압을 공급하는 복수의 데이터 라인; 및
상기 제 1 방향과 교차하는 제 2 방향을 따라 마련되고 상기 복수의 화소에 초기화 전압을 공급하는 복수의 초기화 라인을 포함하며,
상기 복수의 초기화 라인은 상기 복수의 구동 전원 라인을 이루는 소스/드레인층과 서로 다른 층인 제 1 금속층으로 이루어지고,
상기 복수의 구동 전원 라인 중 하나의 구동 전원 라인과 상기 복수의 데이터 라인 중 하나의 데이터 라인은 상기 복수의 화소 중 임의의 화소 내에 배치된 상기 구동 트랜지스터와 상기 스토리지 커패시터의 양 측에 서로 이격되어 배치된 유기 발광 표시 장치.
A plurality of pixels each having a pixel circuit including a driving transistor and a storage capacitor for controlling an electric current flowing through the organic light emitting element;
A plurality of driving power supply lines provided along the first direction and supplying pixel driving power to the plurality of pixels;
A plurality of data lines provided along the first direction and supplying data voltages to the plurality of pixels; And
And a plurality of initialization lines provided along a second direction intersecting the first direction and supplying an initialization voltage to the plurality of pixels,
Wherein the plurality of initialization lines comprise a first metal layer which is different from a source / drain layer constituting the plurality of driving power supply lines,
One of the plurality of driving power supply lines and one of the plurality of data lines may be disposed on both sides of the driving transistor and the storage capacitor arranged in any one of the plurality of pixels Organic light emitting display.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 화소 각각은 상기 구동 트랜지스터의 구동을 제어하기 위한 복수의 트랜지스터들을 더 포함하고,
상기 복수의 초기화 라인은 상기 복수의 트랜지스터들 중 구동 트랜지스터에 상기 초기화 전압을 공급하는 트랜지스터와 전기적으로 연결된, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Each of the plurality of pixels further includes a plurality of transistors for controlling driving of the driving transistor,
Wherein the plurality of initialization lines are electrically connected to a transistor that supplies the initializing voltage to the driving transistor among the plurality of transistors.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 초기화 라인을 이루는 제 1 금속층은 제 1 컨택 홀을 통해 상기 구동 트랜지스터에 상기 초기화 전압을 공급하는 제 5 트랜지스터의 액티브층과 연결된, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first metal layer constituting the plurality of initialization lines is connected to the active layer of the fifth transistor that supplies the initializing voltage to the driving transistor through the first contact hole.
제 3 항에 있어서,
상기 제 1 컨택 홀은 상기 액티브층의 상부에 마련된 게이트 절연막 및 상기 제 1 금속층의 하부에 배치된 제 1 층간 절연막을 관통하여 형성된, 유기 발광 표시 장치.
The method of claim 3,
Wherein the first contact hole is formed through a gate insulating film provided on the active layer and a first interlayer insulating film disposed under the first metal layer.
제 1 항에 있어서,
상기 구동 전원 라인은 제 3 컨택 홀을 이용하여 상기 구동 트랜지스터를 이루는 액티브층과 연결된, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
And the driving power line is connected to an active layer constituting the driving transistor by using a third contact hole.
제 5 항에 있어서,
상기 제 3 컨택 홀은 상기 액티브층의 상부에 마련된 게이트 절연막과 상기 소스/드레인층의 하부에 배치된 제 1 및 제 2 층간 절연막을 관통하여 형성된, 유기 발광 표시 장치.
6. The method of claim 5,
And the third contact hole is formed through a gate insulating film provided on the active layer and first and second interlayer insulating films disposed under the source / drain layer.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 복수의 화소 중 임의의 화소는 상기 임의의 화소와 인접한 다른 화소를 지나는 구동 전원 라인으로부터 상기 화소 구동 전원을 공급받는, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
Wherein any one of the plurality of pixels is supplied with the pixel driving power from a driving power supply line passing through another pixel adjacent to the arbitrary pixel.
제 1 항에 있어서,
상기 복수의 화소 중 임의의 화소의 발광 제어 트랜지스터는 상기 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 구동 전원 라인과 상기 제 1 금속층으로 연결된, 유기 발광 표시 장치.
The method according to claim 1,
And the emission control transistor of any one of the plurality of pixels is connected to the driving power supply line of another pixel adjacent to the arbitrary pixel to the first metal layer.
제 9 항에 있어서,
상기 서로 인접한 화소들을 연결하는 제 1 금속층은 제 2 컨택 홀을 이용하여 상기 임의의 화소의 발광 제어 트랜지스터를 구성하는 액티브층과 연결된, 유기 발광 표시 장치.
10. The method of claim 9,
Wherein the first metal layer connecting the adjacent pixels is connected to the active layer constituting the emission control transistor of the arbitrary pixel by using the second contact hole.
제 10 항에 있어서,
상기 제 2 컨택 홀은 상기 액티브층의 상부에 마련된 게이트 절연막 및 상기 제 1 금속층의 하부에 배치된 제 1 층간 절연막을 관통하여 형성된, 유기 발광 표시 장치.
11. The method of claim 10,
And the second contact hole is formed through a gate insulating film provided on the active layer and a first interlayer insulating film disposed under the first metal layer.
제 9 항에 있어서,
상기 서로 인접한 화소들을 연결하는 제 1 금속층은 제 4 컨택 홀을 이용하여 상기 다른 화소의 구동 전원 라인을 구성하는 소스/드레인층과 연결된, 유기 발광 표시 장치.
10. The method of claim 9,
And the first metal layer connecting the adjacent pixels is connected to a source / drain layer constituting a driving power supply line of the other pixel using a fourth contact hole.
제 12 항에 있어서,
상기 제 4 컨택 홀은 상기 제 1 금속층의 상부에 배치된 제 2 층간 절연막을 관통하여 형성된, 유기 발광 표시 장치.
13. The method of claim 12,
And the fourth contact hole is formed through a second interlayer insulating film disposed on the upper portion of the first metal layer.
유기 발광 소자, 및 상기 유기 발광 소자에 흐르는 전류를 제어하기 위한 구동 트랜지스터와 스토리지 커패시터를 포함하는 화소 회로를 갖는 복수의 화소;
제 1 방향을 따라 마련되고 상기 복수의 화소들에 화소 구동 전원을 공급하는 복수의 구동 전원 라인; 및
상기 제 1 방향을 따라 마련되고 상기 복수의 화소에 데이터 전압을 공급하는 복수의 데이터 라인을 포함하며,
상기 복수의 구동 전원 라인 중 하나의 구동 전원 라인과 상기 복수의 데이터 라인 중 하나의 데이터 라인은 상기 복수의 화소 중 임의의 화소 내에 배치된 상기 구동 트랜지스터와 상기 스토리지 커패시터의 양 측에 서로 이격되어 배치된 유기 발광 표시 장치.
A plurality of pixels each having a pixel circuit including a driving transistor and a storage capacitor for controlling an electric current flowing through the organic light emitting element;
A plurality of driving power supply lines provided along the first direction and supplying pixel driving power to the plurality of pixels; And
And a plurality of data lines provided along the first direction and supplying data voltages to the plurality of pixels,
One of the plurality of driving power supply lines and one of the plurality of data lines may be disposed on both sides of the driving transistor and the storage capacitor arranged in any one of the plurality of pixels Organic light emitting display.
제 14 항에 있어서,
상기 구동 전원 라인을 이루는 소스/드레인층과 서로 다른 층인 제 1 금속층을 이용하여 상기 임의의 화소와 인접한 다른 화소의 발광 제어 트랜지스터에 상기 화소 구동 전원을 공급하는, 유기 발광 표시 장치.
15. The method of claim 14,
Wherein the pixel driving power is supplied to the emission control transistors of other pixels adjacent to the arbitrary pixel by using a first metal layer which is different from a source / drain layer constituting the driving power supply line.
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