KR101963386B1 - Large Area In-Plane Switching Liquid Crystal Display - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대화면 수평 전계형 액정 표시장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 수평 전계형 액정표시장치는 기판 상에 행열 방식으로 배열된 복수 개의 화소 영역들; 상기 화소 열들 중, 두 열당 하나씩 배정되어 상기 기판 위에서 세로 방향으로 진행하는 데이터 배선; 상기 기판 위에서 상기 화소 행 각각에 하나씩 배정되어 상기 기판 위에서 가로 방향으로 진행하는 게이트 배선; 상기 화소 영역의 제1 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 가로 화소 전극 및 상기 가로 화소 전극에서 상기 화소 영역 내부로 분기된 세로 화소 전극; 그리고 상기 기판 위에서 상기 게이트 배선과 평행하게 진행하며, 상기 가로 화소 전극을 덮도록 상기 화소 영역으로 연장되어 형성된 공통 배선을 포함한다. 본 발명은 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에서 더블 레이트 구조를 적용하여 저 전력 소비를 구현하며, 게이트 금속 층에 형성되는 공통 배선을 이용하여 화소 영역의 상단과 하단을 차폐함으로써 휘도 편차에 의한 화질 저하를 방지한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a large-screen liquid crystal display device. A horizontal electric field type liquid crystal display device according to the present invention includes: a plurality of pixel regions arranged in a matrix manner on a substrate; A data line which is assigned to one of the two columns of the pixel columns and travels in the vertical direction on the substrate; A gate line arranged on the substrate one by one in each of the pixel rows and extending in the horizontal direction on the substrate; A horizontal pixel electrode extending in a horizontal direction on a first lateral side of the pixel region, and a vertical pixel electrode branched into the pixel region in the horizontal pixel electrode; And a common wiring extending on the substrate in parallel with the gate wiring and extending to the pixel region so as to cover the horizontal pixel electrode. The present invention provides low-power consumption by applying a double-rate structure in an in-plane switching type liquid crystal display, shields the upper and lower ends of the pixel region by using a common wiring formed on the gate metal layer, Thereby preventing degradation of image quality.

Description

대화면 수평 전계형 액정 표시장치 {Large Area In-Plane Switching Liquid Crystal Display}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a liquid crystal display

본 발명은 대화면 수평 전계형 액정 표시장치에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 대화면에서 데이터 배선의 개수를 줄여 구동 소자 저감을 위한 더블 레이트 구동(Double Rate Driving) 구동 방식의 구조적인 문제점에서 발생하는 화소의 휘도차이를 방지한 수평 전계형 액정 표시장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a large-screen liquid crystal display device. In particular, the present invention relates to a horizontal electric field type liquid crystal display device which prevents a luminance difference of a pixel caused by a structural problem of a double rate driving driving method for reducing driving elements by reducing the number of data lines on a large screen .

액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시한다. 이러한 액정 표시 장치는 액정을 구동시키는 전계의 방향에 따라 수직 전계 방식과 수평 전계 방식으로 대별된다.A liquid crystal display displays an image by adjusting the light transmittance of a liquid crystal using an electric field. Such a liquid crystal display device is divided into a vertical electric field system and a horizontal electric field system in accordance with the direction of the electric field for driving the liquid crystal.

수직 전계형 액정 표시 장치는 상부기판 상에 형성된 공통전극과 하부기판 상에 형성된 화소전극이 서로 대향되게 배치되어 이들 사이에 형성되는 수직 전계에 의해 TN(Twisted Nematic) 모드의 액정을 구동한다. 이러한 수직 전계형 액정 표시 장치는 개구율이 큰 장점을 가지는 반면 시야각이 90도 정도로 좁은 단점을 가진다.In a vertical electric field type liquid crystal display device, a common electrode formed on an upper substrate and a pixel electrode formed on a lower substrate are opposed to each other, and a liquid crystal of a TN (twisted nematic) mode is driven by a vertical electric field formed therebetween. Such a vertical electric field type liquid crystal display device has a disadvantage that the aperture ratio is large, but the viewing angle is as narrow as 90 degrees.

수평 전계 방식의 액정 표시 장치는 하부 기판에 나란하게 배치된 화소 전극과 공통 전극 간의 수평 전계에 의해 인 플레인 스위칭(In Plane Switching; IPS) 모드의 액정을 구동한다. 이러한 수평 전계 방식의 액정 표시 장치는 시야각이 160도 정도로 수직 전계 방식에 비해 넓으며, 구동 속도가 빠르다는 장점을 가진다. 따라서, 더 좋은 표시 품질을 제공하는 수평 전계 방식의 액정표시장치에 대한 요구가 날로 증가하고 있다.A horizontal electric field type liquid crystal display device drives an in plane switching (IPS) mode liquid crystal by a horizontal electric field between a pixel electrode and a common electrode arranged in parallel on a lower substrate. Such a horizontal electric field type liquid crystal display device has a viewing angle of about 160 degrees, which is broader than the vertical electric field type, and has an advantage that the driving speed is fast. Therefore, a demand for a horizontal electric field type liquid crystal display device that provides a better display quality is increasing day by day.

이하, 수평 전계 방식의 액정 표시 장치에 대하여 상세히 살펴보기로 한다. 종래 기술에 의한 수평 전계형 액정표시패널은, 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor; TFT) 어레이 기판, 칼라 필터 어레이 기판, 그리고 이 두 기판 사이에 개재된 액정층을 포함한다. 도 1은 종래 기술에 의한 수평 전계 액정 표시패널의 박막 트랜지스터 어레이 기판을 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1에서 절취선 I-I'으로 자른 수평 전계 액정표시패널용 박막 트랜지스터 기판의 구조를 나타내는 단면도이다.Hereinafter, a horizontal electric field type liquid crystal display device will be described in detail. The conventional horizontal electric field type liquid crystal display panel includes a thin film transistor (TFT) array substrate, a color filter array substrate, and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. 1 is a plan view showing a thin film transistor array substrate of a conventional horizontal electric field liquid crystal display panel. 2 is a cross-sectional view showing the structure of a thin film transistor substrate for a horizontal electric field liquid crystal display panel cut in a cutting line I-I 'in FIG.

도 1 및 2에 도시한, 박막 트랜지스터 기판을 구비한 수평 전계 방식의 액정표시장치는 화소 전극과 공통 전극이 동일 평면 상에서 서로 일정 거리 이격하여 배치됨으로써 그 사이에 형성되는 수평 전계로 액정층을 구동하여 화상 데이터를 표시한다. 도 1 및 2를 참조하면, 종래 기술에 의한 수평 전계 액정표시 패널의 박막 트랜지스터 어레이 기판은 하부 기판(SUB) 상에 교차하도록 형성된 게이트 배선(GL) 및 데이터 배선(DL)과, 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터(T)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 수평 전계를 이루도록 형성된 화소 전극(PXL) 및 공통 전극(COM)과, 그리고 공통 전극(COM)과 접속되며 게이트 배선(GL)과 나란하게 진행하는 공통 배선(CL)을 구비한다.In the horizontal electric field type liquid crystal display device shown in Figs. 1 and 2, in the liquid crystal display device of the horizontal electric field system, the pixel electrode and the common electrode are arranged on the same plane at a certain distance from each other to thereby drive the horizontal electric field liquid crystal layer And displays the image data. 1 and 2, a thin film transistor array substrate of a horizontal electric field liquid crystal display panel according to the related art includes a gate wiring GL and a data wiring DL formed so as to intersect on a lower substrate SUB, A pixel electrode PXL and a common electrode COM formed so as to form a horizontal electric field in a pixel region provided with the cross structure of the thin film transistor T and a common electrode COM connected to the common electrode COM, And a common wiring (CL) that goes to the next step.

게이트 배선(GL)은 박막 트랜지스터(T)의 게이트 전극(G)에 게이트 신호를 공급한다. 데이터 배선(DL)은 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극(D)을 통해 화소전극(PXL)에 화소 신호를 공급한다. 게이트 배선(GL)과 데이터 배선(DL)은 교차구조로 형성되어 화소 영역을 정의한다. 공통 배선(CL)은 화소 영역 내의 일측변에 게이트 배선(GL)과 나란하게 형성되며 액정 구동을 위한 기준전압을 공통 전극(COM)에 공급한다.The gate wiring GL supplies a gate signal to the gate electrode G of the thin film transistor T. [ The data line DL supplies a pixel signal to the pixel electrode PXL through the drain electrode D of the thin film transistor T. [ The gate line GL and the data line DL are formed in an intersecting structure to define a pixel region. The common line CL is formed on one side of the pixel region in parallel with the gate line GL and supplies a reference voltage for driving the liquid crystal to the common electrode COM.

박막 트랜지스터(T)는 게이트 배선(GL)의 게이트 신호에 응답하여 데이터 배선(DL)의 화소 신호가 화소 전극(PXL)에 충전, 유지되도록 한다. 이를 위하여, 박막 트랜지스터(T)는 게이트 배선(GL)에 접속된 게이트 전극(G)과, 데이터 배선(DL)에 접속된 소스 전극(S)과, 화소 전극(PXL)에 접속된 드레인 전극(D)을 구비한다. 또한, 박막 트랜지스터(T)는 소스 전극(S)과 드레인 전극(D) 사이에 채널을 형성하는 활성 채널층(A)과, 소스 전극(S) 및 드레인 전극(D)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(도시하지 않음)을 더 포함한다.The thin film transistor T responds to the gate signal of the gate line GL so that the pixel signal of the data line DL is charged and held in the pixel electrode PXL. To this end, the thin film transistor T includes a gate electrode G connected to the gate wiring GL, a source electrode S connected to the data wiring DL, and a drain electrode connected to the pixel electrode PXL D). The thin film transistor T includes an active channel layer A forming a channel between the source electrode S and the drain electrode D and an active layer A forming an ohmic contact with the source electrode S and the drain electrode D. [ And a contact layer (not shown).

화소 전극(PXL)은 보호막(PAS) 및 평탄화막(PAC)을 관통하는 드레인 콘택홀(DH)을 통해 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극(D)과 접속되어 화소 영역에 형성된다. 특히, 화소 전극(PXL)은 드레인 전극(D)과 접속되고 인접한 게이트 라인(GL)과 나란하게 형성된 수평 화소 전극(PXLh)과, 이 수평 화소 전극(PXLh)에서 화소 영역 내에서 수직 방향으로 형성된 다수 개의 수직 화소 전극(PXLv)을 구비한다.The pixel electrode PXL is formed in the pixel region by being connected to the drain electrode D of the thin film transistor T through the protective film PAS and the drain contact hole DH penetrating the planarization film PAC. In particular, the pixel electrode PXL includes a horizontal pixel electrode PXLh connected to the drain electrode D and formed in parallel with the adjacent gate line GL, and a vertical pixel electrode PXLh formed in the vertical direction within the pixel region And a plurality of vertical pixel electrodes PXLv.

공통 전극(COM)은 게이트 절연막(GI), 보호막(PAS) 및 평탄화막(PAC)을 관통하는 공통 컨택홀(CH)을 통해 공통 배선(CL)과 접속된다. 게이트 배선(GL)과 평행하게 진행하는 일부분은 좀 더 넓은 폭을 가지며 수평 공통 전극(COMh)을 형성한다. 그리고 수평 공통 전극(COMh)에서 분기 되어 화소 영역 내에서 수직 방향으로 형성된 다수 개의 수직 공통 전극(COMv)을 형성한다. 특히, 수직 공통 전극(COMv)은 화소 영역 내에서 수직 화소 전극(PXLv)과 나란하게 배치된다.The common electrode COM is connected to the common wiring CL through the common contact hole CH through the gate insulating film GI, the protective film PAS and the planarization film PAC. And a portion that runs parallel to the gate wiring GL has a wider width and forms a horizontal common electrode COMh. And forms a plurality of vertical common electrodes COMv formed in the vertical direction in the pixel region by branching from the horizontal common electrode COMh. In particular, the vertical common electrode COMv is arranged in parallel with the vertical pixel electrode PXLv in the pixel region.

이에 따라, 박막 트랜지스터(T)를 통해 화소 신호가 공급된 수직 화소 전극(PXLv)과 공통 배선(CL)을 통해 기준 전압이 공급된 수직 공통 전극(COMv) 사이에 수평 전계가 형성된다. 이러한 수평 전계에 의해 박막 트랜지스터 어레이 기판과 칼라 필터 어레이 기판 사이에서 수평 방향으로 배열된 액정 분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 된다. 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소 영역을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 화상을 구현한다.A horizontal electric field is formed between the vertical pixel electrode PXLv to which the pixel signal is supplied through the thin film transistor T and the vertical common electrode COMv to which the reference voltage is supplied through the common wiring CL. This horizontal electric field causes the liquid crystal molecules arranged in the horizontal direction between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate to rotate due to the dielectric anisotropy. The light transmittance through the pixel region is changed according to the degree of rotation of the liquid crystal molecules, thereby realizing an image.

이와 같이 화소 전극(PXL)과 공통 전극(COM)이 동일 평면상에서 서로 일정 거리 이격된 구조를 갖는 수평 전계 액정표시패널은 화소 영역 내에서 액정 구동을 위한 충전 용량을 확보하기 위해서는 수평 공통 전극(COMh)과 드레인 전극(D)을 중첩하여 보조 용량(STG)을 형성한다. 도 2에서는 보조 용량(STG)은 중첩된 수평 공통 전극(COMh)과 드레인 전극(D) 사이에 개재된 게이트 절연막(GI) 및 채널 층(A)이 이루는 공간 내에 형성된다.The horizontal electric field liquid crystal display panel having the structure in which the pixel electrode PXL and the common electrode COM are spaced apart from each other by a predetermined distance on the same plane requires a horizontal common electrode COMh And the drain electrode D are overlapped to form the storage capacitor STG. The storage capacitor STG is formed in the space formed by the gate insulating film GI and the channel layer A interposed between the overlapped horizontal common electrode COMh and the drain electrode D.

이와 같이, 고속 구동이 가능하고, 시야각이 넓은 장점을 갖는 인-플레인 스위칭 방식의 수평 전계형 액정 표시장치는 대형 TV와 같은 분야에 적용하기 가장 적합하다. 이러한 요구가 증가함에 따라, 표시 패널이 대형화함에 따라서, 소비 전력, 화질 및 제조 비용을 개선할 필요가 더욱 요망되고 있다.As described above, the in-plane switching type horizontal electric field liquid crystal display device which is capable of high-speed driving and has a wide viewing angle is most suitable for applications such as a large-sized TV. As these demands increase, there is a further need to improve power consumption, image quality, and manufacturing cost as display panels become larger.

이러한 기술적 요구의 일환으로 하나의 데이터 라인으로 서로 다른 게이트 라인에 연결된 두 개의 화소에 정보를 전달하는 더블 레이트 드라이브(Double Rate Drive: DRD)가 제안되고 있다. 또한, 컬럼 인버젼으로 극성이 반전되는 데이터 전압을 출력하는 소스 드라이브 집적회로를 이용하여 액정표시패널을 도트 인버젼으로 구동하는 액정표시장치가 제안되고 있다. 그러나, 이러한 DRD 도트 인버젼 구동 방식에서는 데이터 라인을 기준으로 좌우 화소에서 휘도차이가 발생한다. 이러한 휘도 차이는 화면 불량을 야기하기 때문에 극복해야하는 필수적인 과제이다.As a technical requirement, a double rate drive (DRD) for transferring information to two pixels connected to different gate lines through a single data line has been proposed. Further, a liquid crystal display device which drives a liquid crystal display panel in dot-inversion using a source drive integrated circuit that outputs a data voltage whose polarity is inverted with a column inversion is proposed. However, in the DRD dot inversion driving method, a luminance difference occurs in the left and right pixels with respect to the data line. Such a luminance difference is an indispensable task to overcome because it causes a screen failure.

본 발명의 목적은 데이터 구동 소자를 저감하기 위해 더블 레이트 구동을 적용한 인-플레인 스위칭 방식의 대화면 수평 전계형 액정 표시장치를 제공하는 데 있다. 본 발명의 다른 목적은 더블 레이트 구동 방식을 인-플레인 스위칭 방식에 적용함에 따라 발생하는 화소별 휘도 차이 문제를 방지하는 구조를 갖는 대화면 수평 전계형 액정 표시장치를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a large screen liquid crystal display device of in-plane switching type that applies double rate driving to reduce data driving elements. It is another object of the present invention to provide a large-screen liquid crystal display device having a structure for preventing a luminance difference problem for each pixel caused by applying a double-rate driving method to an in-plane switching method.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 수평 전계형 액정표시장치는 기판 상에 행열 방식으로 배열된 복수 개의 화소 영역들; 상기 화소 열들 중 두 열당 하나씩 배정되어 상기 기판 위에서 세로 방향으로 진행하는 데이터 배선; 상기 기판 위에서 상기 화소 행 각각에 하나씩 배정되어 상기 기판 위에서 가로 방향으로 진행하는 게이트 배선; 상기 화소 영역의 제1 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 가로 화소 전극 및 상기 가로 화소 전극에서 상기 화소 영역 내부로 분기된 세로 화소 전극; 그리고 상기 기판 위에서 상기 게이트 배선과 평행하게 진행하며, 상기 가로 화소 전극을 덮도록 상기 화소 영역으로 연장되어 형성된 공통 배선을 포함한다.In order to achieve the above object, a horizontal electric field type liquid crystal display according to the present invention includes: a plurality of pixel regions arranged in a matrix manner on a substrate; A plurality of data lines arranged in the vertical direction on the substrate; A gate line arranged on the substrate one by one in each of the pixel rows and extending in the horizontal direction on the substrate; A horizontal pixel electrode extending in a horizontal direction on a first lateral side of the pixel region, and a vertical pixel electrode branched into the pixel region in the horizontal pixel electrode; And a common wiring extending on the substrate in parallel with the gate wiring and extending to the pixel region so as to cover the horizontal pixel electrode.

상기 공통 배선은 상기 가로 화소 전극의 끝 단에서 상기 화소 영역으로 3㎛ 내지 6㎛ 연장된 범위까지 덮도록 형성된 것을 특징으로 한다.And the common wiring is formed so as to cover a range extending from 3 占 퐉 to 6 占 퐉 from the end of the horizontal pixel electrode to the pixel region.

상기 화소 영역의 제2 가로변에서 상기 가로 방향으로 진행하는 가로 공통 전극; 그리고 상기 가로 공통 전극에서 상기 화소 영역 내부로 분기되며, 상기 세로 화소 전극과 일정 거리 이격하여 평행하게 배치되는 세로 공통 전극을 더 포함하며; 상기 공통 배선과 상기 가로 공통 전극은 절연막을 사이에 두고 콘택홀로 연결되며, 상기 공통 배선은 상기 가로 공통 전극을 덮도록 상기 화소 영역으로 연장되어 형성된 것을 특징으로 한다.A horizontal common electrode extending in the horizontal direction from a second lateral side of the pixel region; And a vertical common electrode branched from the horizontal common electrode into the pixel region and spaced apart from the vertical pixel electrode by a predetermined distance. The common wiring and the horizontal common electrode are connected to the contact hole with an insulating film therebetween, and the common wiring is extended to the pixel region so as to cover the horizontal common electrode.

상기 공통 배선은 상기 가로 공통 전극의 끝 단에서 상기 화소 영역으로 3㎛ 내지 6㎛ 연장된 범위까지 덮도록 형성된 것을 특징으로 한다.And the common line is formed so as to cover a range extending from 3 占 퐉 to 6 占 퐉 from the end of the horizontal common electrode to the pixel region.

상기 공통 배선은 상기 게이트 배선과 동일한 층에 형성되며, 상기 게이트 배선과 동일한 불투명 금속 물질을 포함하는 것을 특징으로 한다.Wherein the common wiring is formed in the same layer as the gate wiring and includes the same opaque metal material as the gate wiring.

상기 데이터 배선과 상기 게이트 배선의 교차부에 형성되며, 상기 데이터 배선을 기준으로 상기 어느 한 게이트 배선의 좌측 및 우측 중 어느 한 열의 상기 화소 영역에 배치된 상기 화소 전극과 연결되는 박막 트랜지스터를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.And a thin film transistor formed at an intersection of the data line and the gate line and connected to the pixel electrode arranged in the pixel region in any one of left and right sides of the gate line with reference to the data line .

본 발명은 더블 레이트 구동을 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에 적용함으로써 데이터 배선의 수를 절반으로 줄일 수 있다. 따라서, 데이터 구동 소자를 절감할 수 있으며, 제조 비용도 절약된다. 또한, 더블 레이트 구동 방식을 실현하기 위해 화소가 교대로 상하가 반전된 구조에서 공통 배선이 화소 영역의 상, 하단을 차폐하는 구조를 갖는다. 따라서, 더블 레이트 구동 방식에 의해 필연적으로 나타나는 화소 비 대칭 구조에서 발생할 수 있는 화소 별 휘도 편차를 방지할 수 있다.The present invention can reduce the number of data lines by half by applying the double-rate driving to an in-plane switching type liquid crystal display device. Therefore, the data driving element can be saved, and the manufacturing cost can be saved. In addition, in order to realize the double-rate driving method, the common wiring shields the upper and lower ends of the pixel region in a structure in which the pixels are alternately turned upside down. Accordingly, it is possible to prevent the luminance deviation of each pixel, which may occur in the pixel asymmetric structure necessarily appearing by the double-rate driving method.

도 1은 종래 기술에 의한 수평 전계 액정표시패널의 박막 트랜지스터 어레이 기판을 나타내는 평면도.
도 2는 도 1에서 절취선 I-I'으로 자른 수평 전계 액정표시패널용 박막 트랜지스터 기판의 구조를 나타내는 단면도.
도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 의한 더블 레이트 구동을 적용한 인-플레인 스위칭 방식의 대화면 수평 전계형 액정 표시장치의 구조를 나타내는 평면도.
도 4는 도 3에서 절취선 II-II'로 자른 본 발명의 제1 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 화소 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도.
도 5는 도 3에서 절취선 III-III'로 자른 본 발명의 제1 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 공통 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도.
도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 의한 더블 레이트 구동을 적용한 인-플레인 스위칭 방식의 대화면 수평 전계형 액정 표시장치의 구조를 나타내는 평면도.
도 7은 도 6에서 절취선 IV-IV'로 자른 본 발명의 제2 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 화소 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도.
도 8은 도 6에서 절취선 V-V'로 자른 본 발명의 제2 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 공통 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도.1 is a plan view showing a thin film transistor array substrate of a conventional horizontal electric field liquid crystal display panel.
2 is a cross-sectional view showing a structure of a thin film transistor substrate for a horizontal electric field liquid crystal display panel cut in a cutting line I-I 'in FIG.
FIG. 3 is a plan view showing a structure of a large-screen liquid crystal display apparatus of a large-screen-type in-plane switching type using double-rate driving according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a pixel electrode and a common line in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, cut to a perforated line II-II 'in FIG. 3;
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a common electrode and a common wiring in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, which is cut into a perforated line III-III 'in FIG.
FIG. 6 is a plan view showing a structure of a large-screen liquid crystal display apparatus of a large-screen-type in-plane switching type using a double-rate driving according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of a pixel electrode and a common wiring in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention, cut along the perforated line IV-IV 'in FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a common electrode and a common wiring in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention, cut to a perforated line V-V 'in FIG.

이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예들을 상세히 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기술 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals throughout the specification denote substantially identical components. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the following description, a detailed description of known technologies or configurations related to the present invention will be omitted when it is determined that the gist of the present invention may be unnecessarily obscured.

이하, 도 3 내지 5를 참조하여, 본 발명의 제1 실시 예를 설명한다. 도 3은 본 발명의 제1 실시 예에 의한 더블 레이트 구동을 적용한 인-플레인 스위칭 방식의 대화면 수평 전계형 액정 표시장치의 구조를 나타내는 평면도이다. 도 4는 도 3에서 절취선 II-II'로 자른 본 발명의 제1 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 화소 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 5는 도 3에서 절취선 III-III'로 자른 본 발명의 제1 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 공통 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도이다.Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 3 is a plan view showing a structure of a large-screen liquid crystal display device of a large-screen-type horizontal plane electric field in-plane switching system using double-rate driving according to a first embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view showing the structure of a pixel electrode and a common line in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, cut to a perforated line II-II 'in FIG. FIG. 5 is a cross-sectional view showing the structure of a common electrode and a common wiring in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention, which is cut to a perforated line III-III 'in FIG.

도 3을 참조하면, 제1 실시 예에 의한 수평 전계 액정표시 패널의 박막 트랜지스터 어레이 기판은 하부 기판(SUB) 상에 교차하도록 형성된 게이트 배선(GL) 및 데이터 배선(DL)과, 그 교차부마다 형성된 박막 트랜지스터(T)와, 그 교차 구조로 마련된 화소 영역에 수평 전계를 이루도록 형성된 화소 전극(PXL) 및 공통 전극(COM)과, 그리고 공통 전극(COM)과 접속되며 게이트 배선(GL)과 나란하게 진행하는 공통 배선(CL)을 구비한다.Referring to FIG. 3, the thin film transistor array substrate of the horizontal electric field liquid crystal display panel according to the first embodiment includes a gate wiring GL and a data wiring DL formed so as to cross on a lower substrate SUB, A pixel electrode PXL and a common electrode COM formed so as to form a horizontal electric field in a pixel region provided with the cross structure of the thin film transistor T and a common electrode COM connected to the common electrode COM, And a common wiring (CL) that goes to the next step.

게이트 배선(GL)은 박막 트랜지스터(T)의 게이트 전극(G)에 게이트 신호를 공급한다. 데이터 배선(DL)은 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극(D)을 통해 화소전극(PXL)에 화소 신호를 공급한다. 게이트 배선(GL)과 데이터 배선(DL)은 교차구조로 형성되어 화소 영역을 정의한다. 공통 배선(CL)은 화소 영역 내의 일측변에 게이트 배선(GL)과 나란하게 형성되며 액정 구동을 위한 기준전압을 공통 전극(COM)에 공급한다.The gate wiring GL supplies a gate signal to the gate electrode G of the thin film transistor T. [ The data line DL supplies a pixel signal to the pixel electrode PXL through the drain electrode D of the thin film transistor T. [ The gate line GL and the data line DL are formed in an intersecting structure to define a pixel region. The common line CL is formed on one side of the pixel region in parallel with the gate line GL and supplies a reference voltage for driving the liquid crystal to the common electrode COM.

박막 트랜지스터(T)는 게이트 배선(GL)의 게이트 신호에 응답하여 데이터 배선(DL)의 화소 신호가 화소 전극(PXL)에 충전, 유지되도록 한다. 이를 위하여, 박막 트랜지스터(T)는 게이트 배선(GL)에 접속된 게이트 전극(G)과, 데이터 배선(DL)에 접속된 소스 전극(S)과, 화소 전극(PXL)에 접속된 드레인 전극(D)을 구비한다. 또한, 박막 트랜지스터(T)는 소스 전극(S)과 드레인 전극(D) 사이에 채널을 형성하는 활성 채널층(A)과, 소스 전극(S) 및 드레인 전극(D)과 오믹 접촉을 위한 오믹 접촉층(도시하지 않음)을 더 포함한다.The thin film transistor T responds to the gate signal of the gate line GL so that the pixel signal of the data line DL is charged and held in the pixel electrode PXL. To this end, the thin film transistor T includes a gate electrode G connected to the gate wiring GL, a source electrode S connected to the data wiring DL, and a drain electrode connected to the pixel electrode PXL D). The thin film transistor T includes an active channel layer A forming a channel between the source electrode S and the drain electrode D and an active layer A forming an ohmic contact with the source electrode S and the drain electrode D. [ And a contact layer (not shown).

화소 전극(PXL)은 보호막(PAS) 및 평탄화막(PAC)을 관통하는 드레인 콘택홀(DH)을 통해 박막 트랜지스터(T)의 드레인 전극(D)과 접속되어 화소 영역에 형성된다. 특히, 화소 전극(PXL)은 드레인 전극(D)과 접속되고 인접한 게이트 라인(GL)과 나란하게 형성된 수평 화소 전극(PXLh)과, 이 수평 화소 전극(PXLh)에서 화소 영역 내에서 수직 방향으로 형성된 다수 개의 수직 화소 전극(PXLv)을 구비한다.The pixel electrode PXL is formed in the pixel region by being connected to the drain electrode D of the thin film transistor T through the protective film PAS and the drain contact hole DH penetrating the planarization film PAC. In particular, the pixel electrode PXL includes a horizontal pixel electrode PXLh connected to the drain electrode D and formed in parallel with the adjacent gate line GL, and a vertical pixel electrode PXLh formed in the vertical direction within the pixel region And a plurality of vertical pixel electrodes PXLv.

공통 전극(COM)은 게이트 절연막(GI), 보호막(PAS) 및 평탄화 막(PAC)을 관통하는 공통 컨택홀(CH)을 통해 공통 배선(CL)과 접속된다. 게이트 배선(GL)과 평행하게 진행하는 일부분은 좀 더 넓은 폭을 가지며 수평 공통 전극(COMh)을 형성한다. 그리고 수평 공통 전극(COMh)에서 되어 화소 영역 내에서 수직 방향으로 형성된 다수 개의 수직 공통 전극(COMv)을 형성한다. 특히, 수직 공통 전극(COMv)은 화소 영역 내에서 수직 화소 전극(PXLv)과 나란하게 배치된다.The common electrode COM is connected to the common wiring CL through the common contact hole CH through the gate insulating film GI, the protective film PAS and the planarization film PAC. And a portion that runs parallel to the gate wiring GL has a wider width and forms a horizontal common electrode COMh. And a plurality of vertical common electrodes COMv formed in the vertical direction within the pixel region by the horizontal common electrode COMh. In particular, the vertical common electrode COMv is arranged in parallel with the vertical pixel electrode PXLv in the pixel region.

이에 따라, 박막 트랜지스터(T)를 통해 화소 신호가 공급된 수직 화소 전극(PXLv)과 공통 배선(CL)을 통해 기준 전압이 공급된 수직 공통 전극(COMv) 사이에 수평 전계가 형성된다. 이러한 수평 전계에 의해 박막 트랜지스터 어레이 기판과 칼라 필터 어레이 기판 사이에서 수평 방향으로 배열된 액정 분자들이 유전 이방성에 의해 회전하게 된다. 액정 분자들의 회전 정도에 따라 화소 영역을 투과하는 광 투과율이 달라지게 됨으로써 화상을 구현한다.A horizontal electric field is formed between the vertical pixel electrode PXLv to which the pixel signal is supplied through the thin film transistor T and the vertical common electrode COMv to which the reference voltage is supplied through the common wiring CL. This horizontal electric field causes the liquid crystal molecules arranged in the horizontal direction between the thin film transistor array substrate and the color filter array substrate to rotate due to the dielectric anisotropy. The light transmittance through the pixel region is changed according to the degree of rotation of the liquid crystal molecules, thereby realizing an image.

본 발명의 제1 실시 예에 의한 더블 레이트 구동하는 수평 전계형 액정 표시장치의 구조는 기본적으로 도 1에 의한 수평 전계형 액정 표시장치와 동일하다. 차이가 있다면, 데이터 배선(DL) 하나를 좌, 우 화소 열에 공통으로 사용한다는 점이다. 따라서, 데이터 배선의 개수는 1/2로 줄어들어 데이터 구동 소자를 저감할 수 있다.The structure of the horizontal electric field type liquid crystal display device for driving the double rate according to the first embodiment of the present invention is basically the same as that of the horizontal electric field type liquid crystal display device of FIG. If there is a difference, one data line DL is commonly used for the left and right pixel columns. Therefore, the number of data lines can be reduced to 1/2, and the number of data driving elements can be reduced.

도 3에서, 좌측의 화소는 우측에 배치된 데이터 배선(DL)과 위쪽에 배치된 게이트 배선(GL) 사이에 연결된 박막 트랜지스터(T)에 의해 구동된다. 그리고 우측의 화소는 좌측에 배치된 동일한 데이터 배선(DL)과 아래쪽에 배치된 게이트 배선(GL) 사이에 연결된 박막 트랜지스터(T)에 의해 구동된다. 따라서, 좌우 화소가 서로 위 아래가 바뀐 구조를 갖는다.In Fig. 3, the pixel on the left side is driven by the thin film transistor T connected between the data line DL arranged on the right side and the gate line GL arranged on the upper side. And the pixel on the right side is driven by the thin film transistor T connected between the same data line DL arranged on the left side and the gate line GL arranged on the lower side. Therefore, the left and right pixels are shifted up and down from each other.

인-플레인 스위칭 방식 액정 표시장치의 한 화소에서, 하변 경계부와 상변 경계부 각각에서 화소 전극(PXL)과 공통 전극(COM)의 구조로 인해 휘도가 다른 부분에 비해서 차이가 발생한다. 더구나, 하변과 상변에서의 휘도 편차가 동일하지 않다.In a pixel of an in-plane switching type liquid crystal display device, differences occur in brightness compared to other portions due to the structure of the pixel electrode (PXL) and the common electrode (COM) in the lower boundary portion and the upper boundary portion. Furthermore, the luminance deviations at the lower and upper sides are not the same.

제1 실시 예에서는 이웃하는 화소 별로 화소 구조가 뒤바뀐 구조를 갖기 때문에, 좌우 화소 사이에서 하변의 휘도 편차가 서로 다르다. 또한, 좌우 화소 사이에서 상변의 휘도 편차도 다르다. 이 부분이 블랙 매트릭스(BM)로 덮이도록 제작되기 때문에, 정상적으로 제조될 경우, 휘도 편차가 관람자에게 드러나지 않는다.In the first embodiment, since the pixel structure is inverted for each neighboring pixel, the luminance deviations of the lower side are different from each other between the left and right pixels. Also, the luminance deviation of the upper side differs between the left and right pixels. Since this portion is fabricated so as to be covered with the black matrix (BM), when it is normally produced, the brightness variation is not revealed to the spectator.

하지만, 정렬 오차 혹은 상, 하판 합착 오차로 인해 블랙 매트릭스(BM)가 약간 상변 측 혹은 하변 측으로 어긋나면, 이웃하는 화소 사이에서의 휘도 편차가 관람자에게 그대로 전달되어, 화질 저하의 문제가 될 수 있다. 도 4 및 5를 참조하여 좀 더 상세히 설명한다.However, if the black matrix BM deviates slightly toward the upper side or the lower side due to the alignment error or the upper and lower plate cementation errors, the luminance deviation between neighboring pixels is directly transmitted to the spectator, . Will be described in more detail with reference to FIGS. 4 and 5. FIG.

도 4는 박막 트랜지스터(T)가 형성된 측변에서 공통 배선(CL)과 화소 전극(PXL)의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 4에서는 공통 배선(CL)과 수평 화소 전극(PXLh)의 중첩 구조를 나타낸다. 도 4를 참조하면, 기판(SUB) 위에 게이트 배선(GL)과 동일한 물질인 불투명 금속 물질을 포함하는 공통 배선(CL)이 형성된다. 공통 배선(CL) 위에는 게이트 절연막(GI) 및 보호막(PAS)이 덮고 있다. 보호막(PAS) 위에는 공통 배선(CL)과 중첩하는 드레인 전극(D)이 배치된다.4 is a cross-sectional view showing the structure of the common line CL and the pixel electrode PXL on the side where the thin film transistor T is formed. 4 shows a superposition structure of the common line CL and the horizontal pixel electrode PXLh. Referring to FIG. 4, a common line CL including an opaque metal material, which is the same material as the gate line GL, is formed on a substrate SUB. A gate insulating film GI and a protective film PAS are covered on the common wiring CL. A drain electrode D overlapping the common line CL is disposed on the protective film PAS.

그리고 드레인 전극(D) 위에는 평탄화 막(PAC)이 적층된다. 평탄화 막(PAC) 위에는 투명 도전 물질을 포함하는 화소 전극(PXL), 특히 수평 화소 전극(PXLh)이 적층된다. 특히, 수평 화소 전극(PXLh)이 공통 배선(CL)보다 약간 더 돌출된 구조를 갖는다. 일반적인 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에서 나타나는 구조이다.A planarizing film (PAC) is deposited on the drain electrode (D). A pixel electrode PXL including a transparent conductive material, in particular, a horizontal pixel electrode PXLh is stacked on the planarizing film PAC. In particular, the horizontal pixel electrode PXLh has a structure slightly protruding from the common line CL. This is a structure that appears in a general in-plane switching type liquid crystal display device.

상판과 하판을 합착할 때, 블랙 매트릭스(BM)가 정상적으로 배치되면, 블랙 매트릭스(BM) 영역 내부로 공통 배선(CL)과 수평 화소 전극(PXLh)이 모두 배치된다. 따라서, 이 부분에서 발생하는 휘도 편차는 블랙 매트릭스(BM)에 의해 가려진다. 하지만, 블랙 매트릭스(BM)가 수직 공통 전극(COMv)과 멀어지는 방향으로 치우치도록 블랙 매트릭스(BM)가 배치되면, 공통 배선(CL)과 수평 화소 전극(PXLh) 사이에서의 휘도 편차가 그대로 관람자에게 노출된다. 공통 배선(CL)은 게이트 금속과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성되므로 불투명성이지만, 수평 화소 전극(PXLh)이 투명 물질이기 때문에, 휘도 편차가 그대로 노출된다.When the black matrix BM is normally disposed when the upper plate and the lower plate are attached to each other, both the common wiring CL and the horizontal pixel electrode PXLh are disposed inside the black matrix BM region. Therefore, the luminance variation occurring in this portion is covered by the black matrix BM. However, when the black matrix BM is arranged such that the black matrix BM deviates in the direction away from the vertical common electrode COMv, the luminance deviation between the common line CL and the horizontal pixel electrode PXLh is maintained as it is, . The common line CL is opaque because it is formed of the same material in the same layer as the gate metal, but since the horizontal pixel electrode PXLh is a transparent material, the luminance deviation is directly exposed.

도 5는 박막 트랜지스터(T)가 형성된 반대 측변에서 공통 배선(CL)과 공통 전극(PXL)의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 5에서는 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh)의 중첩 구조를 나타낸다. 도 5를 참조하면, 기판(SUB) 위에 게이트 배선(GL)과 동일한 물질인 불투명 금속 물질을 포함하는 공통 배선(CL)이 형성된다. 공통 배선(CL) 위에는 게이트 절연막(GI) 및 보호막(PAS), 그리고 평탄화 막(PAC)이 적층된다.5 is a cross-sectional view showing the structure of the common line CL and the common electrode PXL on the opposite side where the thin film transistor T is formed. 5 shows a superposition structure of the common line CL and the horizontal common electrode COMh. Referring to FIG. 5, a common wiring CL including opaque metal material, which is the same material as the gate wiring GL, is formed on a substrate SUB. A gate insulating film GI, a protective film PAS, and a planarization film PAC are stacked over the common wiring CL.

평탄화 막(PAC) 위에는 투명 도전 물질을 포함하는 화소 전극(PXL) 및 공통 전극(COM)이 형성된다. 특히, 수평 공통 전극(COMh)이 공통 배선(CL)보다 약간 더 돌출된 구조를 갖고 적층된다. 일반적인 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에서 나타나는 구조이다.A pixel electrode PXL and a common electrode COM including a transparent conductive material are formed on the planarizing film PAC. Particularly, the horizontal common electrodes COMh are laminated with a structure slightly protruding from the common wiring CL. This is a structure that appears in a general in-plane switching type liquid crystal display device.

상판과 하판을 합착할 때, 블랙 매트릭스(BM)가 정상적으로 배치되면, 블랙 매트릭스(BM) 영역 내부로 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh)이 모두 배치된다. 따라서, 이 부분에서 발생하는 휘도 편차는 블랙 매트릭스(BM)에 의해 가려진다. 하지만, 블랙 매트릭스(BM)가 수직 화소 전극(PXLv)과 멀어지는 방향으로 치우치도록 블랙 매트릭스(BM)가 배치되면, 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh) 사이에서의 휘도 편차가 그대로 관람자에게 노출된다. 공통 배선(CL)은 게이트 금속과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성되므로 불투명성이지만, 수평 공통 전극(COMh)이 투명 물질이기 때문에, 휘도 편차가 그대로 노출된다.When the black matrix BM is normally disposed when the upper plate and the lower plate are attached to each other, both the common wiring CL and the horizontal common electrode COMh are arranged in the black matrix (BM) region. Therefore, the luminance variation occurring in this portion is covered by the black matrix BM. However, when the black matrix BM is arranged such that the black matrix BM deviates in the direction away from the vertical pixel electrode PXLv, the luminance deviation between the common line CL and the horizontal common electrode COMh is maintained as it is, . The common line CL is opaque because it is formed of the same material in the same layer as the gate metal, but since the horizontal common electrode COMh is a transparent material, the luminance deviation is directly exposed.

도 4에 의한 휘도 편차와 도 5에 의한 휘도 편차가 동일하다면, 휘도 편차가 관람자에게 잘 인지되지 않으므로, 큰 문제가 되지 않을 수 있다. 하지만, 도 4에 의한 휘도 편차와 도 5에 의한 휘도 편차 사이에도 차이가 크다. 따라서, 서로 다른 휘도 편차 값을 갖는 부분이 좌우에 이웃하여 있을 경우, 휘도 편차의 차이로 인해 화질에 문제가 발생할 수 있다.If the luminance deviation according to FIG. 4 and the luminance deviation according to FIG. 5 are the same, the luminance variation is not well known to the spectator, and therefore, it may not be a big problem. However, there is a large difference between the luminance deviation according to Fig. 4 and the luminance variation according to Fig. Therefore, when the portions having different luminance deviation values are adjacent to the right and left, there may be a problem in image quality due to the difference in luminance deviation.

특히, 본 발명은 인-플레인 스위칭 방식에 의한 전극 구조를 갖는 액정 표시장치에 관한 것이다. 수평 전계 방식 중에서 프린지 필드 스위칭(FFS: Fringe Field Switching) 방식에 의한 전극 구조에서는 화소 상변과 하변에서의 휘도 편차에 차이가 없기 때문에 더블 레이트 구동 방식을 사용하더라도 휘도 편차의 차이가 발생하지 않는다. 하지만, 프린지 필드 스위칭 방식보다 대화면에 더 유리한 인-플레인 스위칭 방식에서는 화소의 상변과 하변에서 발생하는 휘도 편차의 값이 서로 다르다.More particularly, the present invention relates to a liquid crystal display device having an electrode structure by an in-plane switching method. In the electrode structure using the FFS (Fringe Field Switching) method among the horizontal electric field systems, there is no difference in luminance deviation between the pixel upper side and the lower side. Therefore, even when the double rate driving method is used, there is no difference in luminance deviation. However, in the in-plane switching method, which is more advantageous for the larger screen than the fringe field switching method, the values of the luminance deviations occurring on the upper and lower sides of the pixels are different from each other.

즉, 제1 실시 예에서는 대화면을 구현하기 위한 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에서, 데이터 구동 소자의 개수를 줄여 비용을 절감하기 위한 목적으로 더블 레이트 구동 방식을 적용하였다. 본 발명에서는, 제1 실시 예에 의한 더블 레이트 구동 방식의 인-플레인 스위칭 액정 표시장치에서 발생하는 화소 상변과 화소 하변의 휘도 편차의 차이로 인한 화질 저하를 추가로 해소하여 더 개선된 제2 실시 예를 제공한다.
That is, in the first embodiment, in the in-plane switching type liquid crystal display device for realizing a large screen, a double rate driving method is applied for the purpose of reducing the number of data driving elements and reducing the cost. In the present invention, the image quality degradation due to the difference in the luminance deviation between the pixel upper side and the lower side of the pixel generated in the in-plane switching liquid crystal display of the double rate driving type according to the first embodiment is further eliminated, An example is provided.

이하, 도 6 내지 8을 참조하여, 본 발명의 제2 실시 예에 대하여 설명한다. 도 6은 본 발명의 제2 실시 예에 의한 더블 레이트 구동을 적용한 인-플레인 스위칭 방식의 대화면 수평 전계형 액정 표시장치의 구조를 나타내는 평면도이다. 도 7은 도 6에서 절취선 IV-IV'로 자른 본 발명의 제2 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 화소 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 8은 도 6에서 절취선 V-V'로 자른 본 발명의 제2 실시 예에 의한 수평 전계형 액정 표시장치에서 공통 전극과 공통 배선의 구조를 나타내는 단면도이다.Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 6 is a plan view showing a structure of a large-screen liquid crystal display apparatus of a large-screen-type horizontal plane electric field in-plane switching system according to a second embodiment of the present invention. FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of a pixel electrode and a common wiring in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention, cut along a perforated line IV-IV 'in FIG. FIG. 8 is a cross-sectional view showing the structure of a common electrode and a common line in a horizontal electric field type liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention, which is cut along the perforated line V-V 'in FIG.

도 6을 참조하면, 기본적인 구성 요소들은 본 발명의 제1 실시 예와 동일하다. 따라서, 동일한 부분에 대한 중복적인 설명은 생략한다. 차이가 있다면, 제2 실시 예에서는, 공통 배선(CL)의 폭을 좀 더 화소 영역 쪽으로 확장하여, 수평 화소 전극(PXLh) 및 수평 공통 전극(COMh)을 덮는 구조를 갖는다.Referring to Fig. 6, the basic components are the same as the first embodiment of the present invention. Therefore, redundant description of the same portions will be omitted. If there is a difference, the second embodiment has a structure in which the width of the common line CL is further extended toward the pixel region to cover the horizontal pixel electrode PXLh and the horizontal common electrode COMh.

도 7 및 8을 참조하여 좀 더 상세히 설명한다. 도 7은 박막 트랜지스터(T)가 형성된 측변에서 공통 배선(CL)과 화소 전극(PXL)의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 7에서는 공통 배선(CL)과 수평 화소 전극(PXLh)의 중첩 구조를 나타낸다. 제2 실시 예에서는, 공통 배선(CL)이 수평 화소 전극(PXLh)보다 약간 더 돌출된 구조를 갖는다. 제2 실시 예가 제안하는 특징이다.Will be described in more detail with reference to FIGS. 7 and 8. FIG. 7 is a cross-sectional view showing the structure of the common line CL and the pixel electrode PXL on the side where the thin film transistor T is formed. 7 shows a superposition structure of the common line CL and the horizontal pixel electrode PXLh. In the second embodiment, the common line CL has a structure slightly protruding from the horizontal pixel electrode PXLh. This is a feature proposed by the second embodiment.

상판과 하판을 합착할 때, 블랙 매트릭스(BM)가 정상적으로 배치되면, 블랙 매트릭스(BM) 영역 내부로 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh)이 모두 배치된다. 따라서, 이 부분에서 발생하는 휘도 편차는 블랙 매트릭스(BM)에 의해 가려진다. 또한, 블랙 매트릭스(BM)가 수직 공통 전극(COMv)과 멀어지는 방향으로 치우치도록 블랙 매트릭스(BM)가 배치되더라도, 공통 배선(CL)이 수평 화소 전극(PXLh)에서 일정 거리 화소 영역 쪽으로 연장된 구조를 갖는다. 특히, 수평 화소 전극(PXLh)의 가장자리 테두리에서 3~6㎛ 더 연장된 위치까지 공통 배선(CL)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 공통 배선(CL)은 게이트 금속과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성되는 불투명성 물질이므로, 휘도 편차가 발생하는 부분으로 백 라이트가 통과하지 않도록 차단할 수 있다. 따라서, 휘도 편차가 관람자에게 인지되지 않는다.When the black matrix BM is normally disposed when the upper plate and the lower plate are attached to each other, both the common wiring CL and the horizontal common electrode COMh are arranged in the black matrix (BM) region. Therefore, the luminance variation occurring in this portion is covered by the black matrix BM. Even if the black matrix BM is arranged such that the black matrix BM is shifted away from the vertical common electrode COMv, the common line CL extends from the horizontal pixel electrode PXLh toward the pixel region at a certain distance Structure. Particularly, the common line CL is arranged to a position extending 3 to 6 m further from the edge of the edge of the horizontal pixel electrode PXLh. Since the common line CL is an opaque material formed of the same material in the same layer as the gate metal, the backlight can be prevented from passing through the portion where the luminance deviation occurs. Therefore, the luminance deviation is not recognized to the viewer.

도 8은 박막 트랜지스터(T)가 형성된 반대 측변에서 공통 배선(CL)과 공통 전극(PXL)의 구조를 나타내는 단면도이다. 도 8에서는 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh)의 중첩 구조를 나타낸다. 도 8을 참조하면, 공통 배선(CL)이 수평 공통 전극(COMh)보다 약간 더 돌출된 구조를 갖는다. 제2 실시 예가 제안하는 특징이다.8 is a cross-sectional view showing the structure of the common line CL and the common electrode PXL on the opposite side where the thin film transistor T is formed. 8 shows a superposition structure of the common line CL and the horizontal common electrode COMh. Referring to FIG. 8, the common line CL has a structure slightly protruding from the horizontal common electrode COMh. This is a feature proposed by the second embodiment.

상판과 하판을 합착할 때, 블랙 매트릭스(BM)가 정상적으로 배치되면, 블랙 매트릭스(BM) 영역 내부로 공통 배선(CL)과 수평 공통 전극(COMh)이 모두 배치된다. 따라서, 이 부분에서 발생하는 휘도 편차는 블랙 매트릭스(BM)에 의해 가려진다. 또한, 블랙 매트릭스(BM)가 수직 화소 전극(PXLv)과 멀어지는 방향으로 치우치도록 블랙 매트릭스(BM)가 배치되더라도, 공통 배선(CL)이 수평 공통 전극(COMh)의 가장자리 테두리에서 일정 거리 화소 영역 쪽으로 연장된 구조를 갖는다. 특히, 수평 공통 전극(COMh)의 테두리에서 3~6㎛ 더 연장된 위치까지 공통 배선(CL)이 배치되는 것을 특징으로 한다. 공통 배선(CL)은 게이트 금속과 동일한 층에서 동일한 물질로 형성되는 불투명성 물질이므로, 휘도 편차가 발생하는 부분으로 백 라이트가 통과하지 않도록 차단할 수 있다. 따라서, 휘도 편차가 관람자에게 인지되지 않는다.
When the black matrix BM is normally disposed when the upper plate and the lower plate are attached to each other, both the common wiring CL and the horizontal common electrode COMh are arranged in the black matrix (BM) region. Therefore, the luminance variation occurring in this portion is covered by the black matrix BM. Even if the black matrix BM is arranged such that the black matrix BM is deviated in the direction away from the vertical pixel electrode PXLv, the common line CL is arranged at a certain distance from the edge of the horizontal common electrode COMh, As shown in Fig. Particularly, the common wiring CL is arranged from the edge of the horizontal common electrode COMh to a position extended by 3 to 6 m further. Since the common line CL is an opaque material formed of the same material in the same layer as the gate metal, the backlight can be prevented from passing through the portion where the luminance deviation occurs. Therefore, the luminance deviation is not recognized to the viewer.

이와 같이, 본 발명에서는 인-플레인 스위칭 방식의 액정 표시장치에서 더블 레이트 구조를 적용하여 데이터 구동 소자 저감을 구현할 수 있다. 또한, 게이트 금속 층에 형성되는 공통 배선을 이용하여 화소 영역의 상단과 하단을 차폐함으로써 휘도 불균일이 관람자에게 인지되지 않도록 할 수 있다.
As described above, in the present invention, a data rate driving element can be reduced by applying a double rate structure in an in-plane switching type liquid crystal display. Further, by shielding the upper and lower ends of the pixel region by using the common wiring formed on the gate metal layer, it is possible to prevent the brightness unevenness from being perceived by the viewer.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술 사상을 일탈하지 아니하는 범위 내에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명은 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구 범위에 의해 정해져야만 할 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention. Therefore, the present invention should not be limited to the details described in the detailed description, but should be defined by the claims.

GL: 게이트 배선 DL: 데이터 배선
CL: 공통 배선 T: 박막 트랜지스터
G: 게이트 전극 S: 소스 전극
D: 드레인 전극 A: 반도체 채널층
GI: 게이트 절연막 SUB: 기판
Cst, STG: 보조 용량 PAS: 보호막
PXL: 화소 전극 COM: 공통 전극
PXLh: 수평 화소 전극 PXLv: 수직 화소 전극
COMh: 수평 공통 전극 COMv: 수직 공통 전극
DH: 드레인 콘택홀 CH: 공통 콘택홀GL: gate wiring DL: data wiring
CL: common wiring T: thin film transistor
G: gate electrode S: source electrode
D: drain electrode A: semiconductor channel layer
GI: gate insulating film SUB: substrate
Cst, STG: auxiliary capacity PAS: protective film
PXL: pixel electrode COM: common electrode
PXLh: Horizontal pixel electrode PXLv: Vertical pixel electrode
COMh: horizontal common electrode COMv: vertical common electrode
DH: drain contact hole CH: common contact hole

Claims (8)

기판 상에 행열 방식으로 배열된 복수 개의 화소 영역들;
상기 행열 방식의 화소 열들 중, 두 열당 하나씩 배정되어 그 일측에 배치되는 제1 화소 영역과, 그 타측에 배치되는 제2 화소 영역을 포함하도록 상기 기판 위에서 세로 방향으로 진행하는 데이터 배선;
상기 행열 방식의 화소 행들 중, 한 행당 하나씩 배정되어 상기 기판 위에서 가로 방향으로 진행하는 게이트 배선;
상기 제1 화소 영역의 제1 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 제1 가로 화소 전극 및 상기 제1 가로 화소 전극에서 상기 제1 화소 영역 내부로 분기된 제1 세로 화소 전극;
상기 제1 화소 영역의 제2 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 제1 가로 공통 전극 및 상기 제1 가로 공통 전극에서 상기 제1 화소 영역 내부로 분기되며, 상기 제1 세로 화소 전극과 일정 거리 이격하여 평행하게 배치되는 제1 세로 공통 전극;
상기 기판 위에서 상기 게이트 배선과 평행하게 진행하며, 상기 제1 가로 화소 전극과 중첩되도록 상기 제1 화소 영역으로 연장되어 형성된 제1 공통 배선; 및
상기 기판 위에서 상기 게이트 배선과 평행하게 진행하며, 상기 제1 가로 공통 전극과 중첩되도록 상기 제1 화소 영역으로 연장되어 형성된 제2 공통 배선을 포함하는 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
A plurality of pixel regions arranged in a matrix manner on a substrate;
A data line extending in the vertical direction on the substrate so as to include a first pixel region allocated to one of the two rows of the matrix-type pixel columns and arranged at one side thereof and a second pixel region disposed at the other side;
A gate wiring arranged to be arranged one row in the row among the matrix-type pixel rows and to move in the horizontal direction on the substrate;
A first horizontal pixel electrode extending in a horizontal direction on a first lateral side of the first pixel region and a first vertical pixel electrode branched into the first pixel region in the first horizontal pixel electrode;
A first horizontal common electrode extending in a horizontal direction on a second transverse side of the first pixel region and a first vertical common electrode branched in the first horizontal pixel electrode from the first horizontal common electrode, A first vertical common electrode arranged to be arranged;
A first common wiring extending on the substrate in parallel with the gate wiring and extending to the first pixel region so as to overlap with the first horizontal pixel electrode; And
And a second common wiring extending in parallel with the gate wiring on the substrate and extending to the first pixel region to overlap with the first horizontal common electrode.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 공통 배선은 상기 제1 가로 화소 전극의 끝 단에서 상기 제1 화소 영역으로 3㎛ 내지 6㎛ 연장된 범위까지 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method according to claim 1,
Wherein the first common wiring line is formed so as to overlap with the first pixel region extending from the end of the first horizontal pixel electrode to a range extending from 3 占 퐉 to 6 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 공통 배선과 상기 제1 가로 공통 전극은 절연막을 사이에 두고 콘택홀로 연결되며, 상기 제2 공통 배선은 상기 제1 가로 공통 전극과 중첩되도록 상기 제1 화소 영역으로 연장되어 형성된 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method according to claim 1,
The first common wiring and the first horizontal common electrode are connected to the contact hole with an insulating film interposed therebetween and the second common wiring is extended to the first pixel region so as to overlap with the first horizontal common electrode The liquid crystal display device comprising:
제 3 항에 있어서,
상기 제2 공통 배선은 상기 제1 가로 공통 전극의 끝 단에서 상기 제1 화소 영역으로 3㎛ 내지 6㎛ 연장된 범위까지 중첩되도록 형성된 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method of claim 3,
Wherein the second common line is formed so as to overlap with the first pixel region from the end of the first horizontal common electrode to a range extending from 3 占 퐉 to 6 占 퐉.
제 1 항에 있어서,
상기 제1 및 제2 공통 배선은 상기 게이트 배선과 동일한 층에 형성되며,
상기 게이트 배선과 동일한 불투명 금속 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method according to claim 1,
The first and second common wirings are formed in the same layer as the gate wirings,
Wherein the gate insulating layer includes an opaque metal material that is the same as the gate wiring.
제 1 항에 있어서,
상기 데이터 배선과 상기 게이트 배선의 교차부에 형성되며, 상기 데이터 배선을 기준으로 좌측 및 우측 중 어느 한 열의 상기 제1 화소 영역에 배치된 상기 제1 가로 화소 전극과 연결되는 박막 트랜지스터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method according to claim 1,
And a thin film transistor formed at an intersection of the data line and the gate line and connected to the first horizontal pixel electrode arranged in the first pixel region in one of the left and right columns with respect to the data line And the horizontal electric field type liquid crystal display device.
제 1 항에 있어서,
서로 인접한 데이터 라인들 사이에는 수평 방향으로 인접한 2개의 화소 영역이 항상 배치되고,
서로 인접한 게이트 라인들 사이에는 1개의 화소 영역이 항상 배치되는 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.
The method according to claim 1,
Two pixel regions adjacent in the horizontal direction are always arranged between adjacent data lines,
And one pixel region is always disposed between adjacent gate lines.
제 1 항 또는 제 7 항에 있어서,
상기 제2 화소 영역의 제1 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 제2 가로 화소 전극 및 상기 제2 가로 화소 전극에서 상기 제2 화소 영역 내부로 분기된 제2 세로 화소 전극; 및
상기 제2 화소 영역의 제2 가로변에서 가로 방향으로 진행하는 제2 가로 공통 전극, 및 상기 제2 가로 공통 전극에서 상기 제2 화소 영역 내부로 분기되며 상기 제2 세로 화소 전극과 일정 거리 이격하여 평행하게 배치된 제2 세로 공통 전극을 더 포함하며,
상기 제1 공통 배선은 상기 제2 가로 공통 전극과 중첩되도록 상기 제2 화소 영역으로 연장되고,
상기 제2 공통 배선은 상기 제2 가로 화소 전극과 중첩되도록 상기 제2 화소 영역으로 연장되는 것을 특징으로 하는 수평 전계형 액정 표시장치.8. The method of claim 1 or 7,
A second horizontal pixel electrode extending in a horizontal direction on a first lateral side of the second pixel region, and a second vertical pixel electrode branched into the second pixel region in the second horizontal pixel electrode; And
A second horizontal common electrode extending in the horizontal direction on the second transverse side of the second pixel region and a second horizontal common electrode branched into the second pixel region from the second horizontal common electrode and spaced apart from the second vertical pixel electrode by a predetermined distance Further comprising a second vertical common electrode arranged to be arranged,
Wherein the first common wiring extends to the second pixel region so as to overlap with the second horizontal common electrode,
And the second common line extends to the second pixel region so as to overlap with the second horizontal pixel electrode.
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