KR101961031B1 - 액정표시장치용 고휘도 필름 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 기재필름, YAG계 형광체 및 LuAG 형광체를 포함하며 상기 기재필름의 일면에 형성되는 코팅층, 및 상기 코팅층에서 형성되는 패턴부를 포함하는 액정표시장치용 고휘도 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.

Description

액정표시장치용 고휘도 필름 및 그 제조방법{high brightness film for liquid crystal display device and method for preparing the same}

본 발명은 액정표시장치(liquid crystal display; 이하 'LCD')용 고휘도 필름과 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 색재현율 및 휘도를 향상시킬 수 있는 고휘도 필름 및 그 제조방법에 관한 것이다.

디스플레이 시장은 대면적, 고해상도 경쟁에서 색감 경쟁으로 진화하고 있다. 이러한 이유로 최근에는 우수한 색감을 갖는 디스플레이의 제조에 대한 경쟁이 대두되고 있다.

차세대 디스플레이로 각광받는 OLED(Organic Light-emitting Diode, 유기발광다이오드)의 경우 색재현율 100%(NTSC 기준)까지 달성 가능하지만, 기존 LCD(Liquid Crystal Display)는 70%수준이므로 이를 개선할 필요가 있다. 최근 LCD에서의 색재현율 향상을 위해 양자점 (Quantum Dot)을 이용한 방법이 적용되고 있지만, 수분과 산소에 약한 양자점의 고유 특성 때문에 배리어 필름을 통한 밀봉이 필요한 단점이 있다.

한편, LCD에서는 콘트라스트(contrast)를 증가시키기 위해 휘도향상필름이 적용되는데, 종래의 휘도향상필름은 화면밝기의 기준이 되는 휘도를 요구되는 조건까지 충족시키지 못하여 개선이 필요한 실정이다.

한국공개특허 제10-2010-0018999호

상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, DBEF를 대체하기 위해 휘도와 색재현율을 향상시킬 수 있는 고휘도 필름 및 그 제조방법을 제공하는데 목적이 있다.

위와 같은 본 발명의 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 기재필름과, YAG계 형광체 및 LuAG계 형광체를 포함하며 상기 기재필름의 일면에 형성되는 코팅층, 및 상기 코팅층에서 형성되는 패턴부를 포함하는 액정표시장치용 고휘도 필름을 제공한다.

이 경우, 상기 YAG계 형광체는 Y₃A1₅O₁₂:Ce^{3 +}(YAG:Ce), Tb₃A1₅O₁₂:Ce^{3 +}(TAG:Ce), Y₃Mg₂AlSi₂O₁₂:Ce³⁺ 또는 Ca₃(Sc,Mg)₂Si₃O₁₂:Ce^{3 +} 중에서 선택되는 적어도 어느 하나일 수 있다.

이 경우, 상기 LuAG계 형광체는 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}, Tb₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 또는 Lu₂CaMg₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 중에서 선택되는 적어도 어느 하나일 수 있다.

이 경우, 상기 코팅층은 YAG계 형광체 10 내지 40 wt% 및 LuAG계 형광체 1 내지 20 wt%를 포함하는 코팅액이 상기 기재필름에 도포되어 형성될 수 있다.

이 경우, 상기 패턴부는 삼각뿔형, 사각뿔형, 반구형, 및 비구(非球)형 중 어느 하나의 형상을 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 패턴부의 적어도 일부는 단면이, “

”, “

”, “

”, “

”, “

”, “

”, 및 “

” 중 어느 하나 또는 둘 이상의 형상을 갖도록 형성될 수 있다.

이 경우, 상기 고휘도 필름은 일면에 PMMA와 대전방지제를 포함하는 백코팅(Back coating)층을 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 PMMA는 백코팅층 대비 0.1 내지 5 wt%를 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 대전방지제는 백코팅층 대비 0.01 내지 3 wt%를 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 백코팅층의 두께는 1 내지 10 μm 일 수 있다.

또한, 본 발명은, YAG계 형광체 및 LuAG계 형광체를 포함하는 코팅액을 기재필름의 일면에 도포하여 상기 기재필름의 일면에 코팅층을 형성하는 단계 및 상기 코팅층에 패턴부를 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법을 제공한다.

이 경우, 상기 코팅액은 YAG계 형광체 10 내지 40 wt% 및 LuAG계 형광체 1 내지 20 wt%를 고분자 매트릭스에 넣고 교반하여 제조되는 것을 포함할 수 있다.

이 경우, 상기 코팅층은 10 ~ 100 ㎛의 두께를 갖도록 형성될 수 있다.

이 경우, 상기 패턴부는 상기 코팅층에 음각 패턴을 적층시켜 상기 코팅층을 경화시킨 후 상기 음각 패턴을 제거함으로써 형성될 수 있다.

이 경우, 상기 패턴부가 형성된 코팅층을 무전극 램프로 조사하여 경화시키는 단계를 더 포함할 수 있다.

본 발명에 따른 LCD용 고휘도 필름은 연필경도, 부착력, Curl, 내굴곡성과 같은 물리적 특성이 양호하며, 높은 휘도를 나타내므로, LCD에 적용 시 기존 LCD TV 대비 콘트라스트(contrast)를 증가시킬 수 있다. 또한 기존 양자점 필름 대비 우수한 내구성을 가지며, 배리어 필름이 필요하지 않으므로 상대적으로 얇은 고휘도 필름을 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명에 따른 액정표시장치용 고휘도 필름의 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 고휘도 필름을 포함하는 액정표시장치 구조의 모식도이다.

이와 같은 본 발명을 첨부도면을 참조하여 다음에서 상세하게 설명하기로 하며, 이하의 내용은 단지 예시하기 위한 것으로 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니다.

도 1 은 본 발명에 따른 액정표시장치용 고휘도 필름의 단면도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 고휘도 필름은 기재필름(100)을 포함하며, 기재필름의 일면에 YAG(Yttrium　Aluminium　Garnet)계 형광체(114) 및 LuAG계 형광체(116)가 포함되는 코팅층(110)이 형성된다. 그리고 이 코팅층(110)에는 패턴부가 형성된다.

본 발명에 사용되는 기재필름(110)은 가시광선, 자외선등의 활성 에너지를 투과하는 재료라면 특별히 한정되지 않으며, 예를들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(polyethylene terephthalate; PET), 트리아세틸셀룰로스(triacetylcellulose; TAC), 폴리아미드(polyimide; PI), 또는 아크릴(acryl) 계열의 물질로 이루어질 수 있다. 다만, 상기 예들로만 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니다.

YAG계 형광체는 Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}(YAG:Ce), Tb₃A1₅O₁₂:Ce^{3 +}(TAG:Ce), Ca₃(Sc,Mg)₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 또는 Y₃Mg₂AlSi₂O₁₂:Ce^{3 +} 중 적어도 어느 하나일 수 있다.

LuAG계 형광체는 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}, Tb₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 또는 Lu₂CaMg₂Si₃O₁₂:Ce^{3 +} 중 적어도 어느 하나일 수 있다.

코팅층(110)은 YAG계 형광체(114) 및 LuAG계 형광체(116)를 포함하는 코팅액이 기재필름의 일면에 도포됨으로써 형성될 수 있다.

상기 코팅액은 YAG계 형광체 10 내지 40 wt% 및 LuAG계 형광체 1 내지 20 wt%를 포함하도록 제조될 수 있다. 만약, 상기 코팅액에 포함되는 만약 YAG계 형광체(114)가 10 wt% 및 LuAG계 형광체(116)가 1 wt% 미만으로 첨가되면 휘도 향상 효과가 미비하게 되고, YAG계 형광체(114)가 40 wt% 및 LuAG계 형광체(116) 20 wt%를 초과하면 LCD TV에서 중요한 색재현율이 낮아지는 문제가 발생할 수 있다.

코팅층(110)이 형성된 기재필름(100)은 패턴 형성 공정을 거치면서 코팅층의 일부 또는 전체에서 패턴부가 형성된다. 패턴부는, 예컨대 삼각뿔형, 사각뿔형, 반구형, 및 비구(非球)형 중 어느 하나 또는 둘 이상의 형상을 포함할 수 있다.

또는 휘도가 더 향상되도록 하기 위하여, 패턴부의 적어도 일부에서 단면이, “

”, “

”, “

”, “

”, “

”, “

”, 및 “

” 중 어느 하나 또는 둘 이상의 형상을 갖도록 형성될 수도 있다.

도 1에서는 단면이 “

”형상인 패턴부를 갖는 고휘도 필름의 예가 제시되고 있다.

또한, 본 발명은 고휘도 필름에 백코팅(Back coating)층(150)을 더 포함할 수 있다.

상기 고휘도 필름은 상기 백 코팅층(150)에 포함된 입자에 의해 요철이 부여되어, 다른 광학시트와의 블로킹을 방지하여 작업성을 향상시키고, 공정상 마찰로 인해 발생하는 정전기를 방지하는 효과가 있다.

백코팅층에 사용되는 코팅 조액은 통상의 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 단관능 모노머, 광개시제, 레벨링제, 분산제 및 PMMA 입자를 포함하여 이루어진다.

상기 PMMA 입자는 전체 이면 코팅층에 대해 0.1 내지 5 wt% 함유하는 것이 바람직하다. 0.1wt% 미만인 경우 고휘도 필름의 이면에 충분한 요철을 형성하지 못하고, 5wt% 초과인 경우 높은 헤이즈에 의한 투과광 손실이 발생하게 되므로, PMMA 입자의 함량을 조절하여 백코팅층의 헤이즈를 1 내지 20%로 조절하는 것이 바람직하다.

또한, 상기 백코팅층에는 필요에 따라 대전 방지제(Anti-static)를 첨가제로 추가할 수 있다. 상기 대전 방지제를 첨가함에 따라 표면 저항 조절이 가능하며, 대전 방지제는 백코팅층 전체 대비 0.01 내지 3 wt% 포함되는 것이 바람직하다. 대전방지제의 함량이 0.01 wt% 미만인 경우 정전기 방지를 위한 표면 저항이 부족하고, 3 wt% 초과인 경우는 필요 이상의 과량을 첨가하는 결과를 낳게 되는바, 대전 방지제를 0.01 내지 3 wt% 첨가하여 표면 저항이 10¹⁰~10¹² Ohm/ 범위가 되도록 조절하는 것이 바람직하다. 표면 저항이 10¹⁰~10¹² Ohm/ 인 경우, 필름의 동적상태에서의 장해방지가 가능하고, 대전 후 대전현상이 즉시 감쇠하는 효과가 있기 때문이다.

백 코팅층의 백 코팅은 bar coating, slot-die coating 등의 방식을 사용할 수 있다.

상기 백코팅시 코팅층의 두께는 1 내지 10 μm 가 바람직하다. 두께가 1 μm 미만인 경우 광학필름의 이면에 충분한 요철이 형성되지 않아 블로킹 방지가 어렵고, 10 μm 초과인 경우 높은 헤이즈(haze)에 의한 투과광 손실 문제가 발생한다.

이상으로 본 발명에 따른 고휘도 필름에 대해 설명하였다. 이하에서는 본 발명에 따른 고휘도 필름의 제조방법에 대해 설명한다.

먼저 코팅액을 제조하기 위하여, YAG계 형광체(예컨대 Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 20wt%) 및 LuAG계 형광체(예컨대 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 2wt%)를 고분자 매트릭스(Matrix)에 넣어 일정시간(예컨대 60분) 교반시킨다. 여기서 고분자 매트릭스는 Nc chem.사의 NSP53, NSP52중 NSP5 중 적어도 하나를 사용될 수 있다. 교반이 끝난 형광체 및 매트릭스 혼합물에 광개시제(photo initiator) 2종류를 첨가할 수 있다. 광개시제로는 IG184, IG907, TPO, CP4 중 2종이 선택(예컨대 IG184, TPO (5:5)5%)될 수 있다.

이렇게 제조된 코팅액을 기재필름(예컨대 PET 필름)의 일면에 도포하여 코팅층을 형성할 수 있다. 이때 코팅층은 10 ~ 100 ㎛의 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 만약, 상기코팅층 두께가 10 ㎛ 미만이면 YAG계 형광체 및 LuAG계 형광체가 돌출되어 외관 불량을 야기할 수 있고, 100 ㎛를 초과하면 코팅시 컬(Curl) 특성이 악화되어 고분자 매트릭스로 적용 가능한 수지가 제한되는 문제가 있다.

이와 같은 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같으며, 발명의 상세한 설명을 위한 것일 뿐, 이에 의해 권리범위를 제한하려는 의도가 아님을 분명히 해둔다.

실시예

실시예 1

YAG계 형광체로 Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 및 LuAG계 형광체로 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 1 wt%를 고분자 매트릭스에 첨가하여 60 분 동안 교반한다. 이경우, 고분자 매트릭스로는 Nc chem 사의 NSP 53을 사용하였다. 교반이 완료되면 형광체와 매트릭스 혼합물에 광개시제인 IG 184, TPO를 5:5의 중량비로 5 wt% 첨가하여 코팅액을 제조한다. 제조된 코팅액을 PET 필름(㈜효성, Grade UH221)의 일면에 도포한 후 그 위에 음각 패턴을 적층하고 UV 램프를 이용하여 에비 경화한 후 음각패턴을 제거함으로써 패턴부가 형성된 코팅층을 형성시킨다. 상기 패턴부가 형성된 코팅층이 경화되도록 코팅층에 무전극 램프를 이용하여 약 5초간 조사하며, 이때 조사된 광량은 1000 mj 이하로 하여 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 2

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 3

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 4

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 20 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 1 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 5

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 20 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 6

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 20 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 7

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 40 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 1 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 8

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 40 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실시예 9

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 40 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예

비교예 1

Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}를 첨가하지 않고, Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt% 만 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 2

Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}를 첨가하지 않고, Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 만 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 3

Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}를 첨가하지 않고, Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 20 wt% 만 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 4

Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}를 첨가하지 않고, Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 40 wt% 만 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 5

Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +}를 첨가하지 않고, Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 50 wt% 만 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 6

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 1 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 7

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 8

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 9

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 50 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 1 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 10

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 50 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 11

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 50 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 12

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 0.5 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

비교예 13

Y₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 10 wt% 및 Lu₃Al₅O₁₂:Ce^{3 +} 15 wt%를 첨가한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 고휘도 필름을 제조한다.

실험예

휘도 및 색재현율 측정

실시예 및 비교예에서 제조된 필름을 A4 사이즈로 재단한 후, 도 2와 같이 제작하여, 휘도 측정 장치(일본 Topcon 사 BM-7 FAST 색차 휘도계)를 통해 형광체 함유 기재필름의 휘도를 측정하여 정면 휘도 및 색재현율을 측정하였으며, 휘도 값은 QD Ref.(450 nit)를 %로 환산한 값이고, 그 결과는 아래 표 1 내지 표 2와 같다.

실시예	1	2	3	4	5	6	7	8	9
휘도(nit)	450	500	550	520	560	600	550	580	620
색재현율(%)	81.8	82.4	82.6	82.3	82.4	82.6	81.2	81.4	81.6
비고

비교예	1	2	3	4	5	6	7	8	9	10	11	12	13
휘도 (nit)	230	430	480	540	500	280	290	330	510	530	540	400	560
색재현율 (%)	79.8	81.3	82.6	81.3	75.0	79.3	79.3	78.3	72.3	71.3	71.3	81.0	75.0
비고

코팅두께에 따른 컬(Curl) 측정

실시예 1에서 제조된 코팅층을 5~150 μm의 두께로 제조하고, 100 mm * 100 mm 로 코팅하여 코팅필름의 네모세리의 높이를 측정하여 필름의 Curl(말림)특성을 평가하였다. 이에 대한 결과는 표 3과 같다.

코팅 두께 [㎛]	5	10	30	50	70	100	120	150
Curl [㎜]	0	3	4	7	10	18	22	25

100: 기재필름 110: 코팅층
114: YAG계 형광체 116: LuAG계 형광체
150 : 백코팅층

Claims (15)

1. 기재필름;
   YAG계 형광체 및 LuAG계 형광체를 포함하며 상기 기재필름의 일면에 형성되는 코팅층; 및
   상기 코팅층에서 형성되는 패턴부;
   를 포함하되,
   상기 YAG계 형광체는 Tb₃A1₅O₁₂:Ce³⁺(TAG:Ce), Y₃Mg₂AlSi₂O₁₂:Ce³⁺ 또는 Ca₃(Sc,Mg)₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 중에서 선택되는 적어도 어느 하나가 10~40wt% 포함되고, 상기 LuAG계 형광체는 Lu₃Al₅O₁₂:Ce³⁺, Tb₃Al₅O₁₂:Ce³⁺ 또는 Lu₂CaMg₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 중에서 선택되는 적어도 어느 하나가 1~20wt% 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제
5. 제1항에 있어서, 상기 패턴부는
   삼각뿔형, 사각뿔형, 반구형, 및 비구(非球)형 중 어느 하나의 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
6. 제1항에 있어서, 상기 패턴부의 적어도 일부는
   단면이, “

   

   ”, “

   

   ”, “

   

   ”, “

   

   ”, “

   

   ”, “

   

   ”, 및 “

   

   ” 중 어느 하나 또는 둘 이상의 형상을 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
7. 제1항에 있어서,
   상기 고휘도 필름은 일면에 PMMA 또는 PMMA와 대전방지제를 포함하는 백코팅(Back coating)층을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
8. 제7항에 있어서,
   상기 PMMA는 백코팅층 대비 0.1 내지 5 wt%를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
9. 제7항에 있어서,
   상기 대전방지제는 백코팅층 대비 0.01 내지 3 wt%를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
10. 제 7 항에 있어서, 상기 백코팅층의 두께는 1 내지 10 μm인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름.
    
11. YAG계 형광체 및 LuAG계 형광체를 포함하는 코팅액을 기재필름의 일면에 도포하여 상기 기재필름의 일면에 코팅층을 형성하는 단계; 및
    상기 코팅층에 패턴부를 형성하는 단계;
    를 포함하되,
    상기 YAG계 형광체는 Tb₃A1₅O₁₂:Ce³⁺(TAG:Ce), Y₃Mg₂AlSi₂O₁₂:Ce³⁺ 또는 Ca₃(Sc,Mg)₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 중에서 선택되는 적어도 어느 하나가 10~40wt% 포함되고, 상기 LuAG계 형광체는 Lu₃Al₅O₁₂:Ce³⁺, Tb₃Al₅O₁₂:Ce³⁺ 또는 Lu₂CaMg₂Si₃O₁₂:Ce³⁺ 중에서 선택되는 적어도 어느 하나가 1~20wt% 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법.
12. 제11항에 있어서, 상기 코팅액은
    YAG계 형광체 10 내지 40 wt% 및 LuAG계 형광체 1 내지 20 wt%를 고분자 매트릭스에 넣고 교반하여 제조되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법.
13. 제11항에 있어서, 상기 코팅층은
    10 ~ 100 ㎛의 두께를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법.
14. 제11항에 있어서, 상기 패턴부는
    상기 코팅층에 음각 패턴을 적층시켜 상기 코팅층을 경화시킨 후 상기 음각 패턴을 제거함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법.
15. 제11항에 있어서,
    상기 패턴부가 형성된 코팅층을 무전극 램프로 조사하여 경화시키는 단계를 더 포함하는 액정표시장치용 고휘도 필름의 제조방법.
    

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