KR101943897B1 - Polishing pad assembly for polishing machine - Google Patents

Polishing pad assembly for polishing machine Download PDF

Info

Publication number
KR101943897B1
KR101943897B1 KR1020180118860A KR20180118860A KR101943897B1 KR 101943897 B1 KR101943897 B1 KR 101943897B1 KR 1020180118860 A KR1020180118860 A KR 1020180118860A KR 20180118860 A KR20180118860 A KR 20180118860A KR 101943897 B1 KR101943897 B1 KR 101943897B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pad
plate
polishing
polishing pad
hole
Prior art date
Application number
KR1020180118860A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
오세정
Original Assignee
오세정
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오세정 filed Critical 오세정
Priority to KR1020180118860A priority Critical patent/KR101943897B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101943897B1 publication Critical patent/KR101943897B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/10—Single-purpose machines or devices
    • B24B7/18—Single-purpose machines or devices for grinding floorings, walls, ceilings or the like
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)

Abstract

A rotary polishing pad assembly for a polishing machine is disclosed. With the present invention, a polishing pad interlocked with the rotation of a pad attachment plate installed on the polishing machine can be installed on the pad attachment plate for axial rotation separate from the pad attachment plate. The rotary polishing pad assembly for a polishing machine includes a rotating plate coming into contact with the pad attachment plate of the polishing machine and having a middle through hole, a flange bush having a lower end in contact with the pad attachment plate and having an upper end fitted and coupled to the through hole such that the rotating plate is capable of axially rotating separately from the pad attachment plate, and a bolt coupled to the pad attachment plate through the middle of the flange bush to maintain a state where the rotating plate and the flange bush are coupled to the pad attachment plate. According to the present invention, a load transmitted from the bottom surface as a polishing target to the polishing pad is not transmitted to a motor and is removed between the polishing pad and the pad attachment plate, and thus motor breakage attributable to polishing environments can be prevented.

Description

폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체{POLISHING PAD ASSEMBLY FOR POLISHING MACHINE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a polishing pad assembly for a polishing machine,

본 발명은 폴리싱 머신에 사용되는 연마패드를 패드 부착판에 설치하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 폴리싱 머신에 설치된 패드 부착판에 다양한 종류의 연마패드를 호환하여 탈부착시킬 수 있는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary type polishing pad assembly for a polishing machine for mounting a polishing pad used in a polishing machine on a pad mounting plate, To a rotatable polishing pad assembly for a polishing machine.

일반적으로 종래의 콘크리트는 대부분 광택을 낼 수 없는 특성으로 인해 통상의 대형 할인점이나 물류창고, 공장, 소매점, 레스토랑, 호텔, 자동차 쇼룸, 오피스빌딩, 주차장 등의 바닥을 시공할 때 상기 콘크리트를 타설한 후에 별도의 대리석, 화강석, 테라조, 타일류 등의 바닥재를 추가로 시공하며, 특히 공장이나 주차장의 바닥은 그 사용 용도에 알맞도록 표면에 에폭시 표면처리나 우레탄 탄성코트로 마감을 하고 있는 실정이다.Generally, conventional concrete can not be polished to a great extent. Therefore, when the floor of a general discount store, a logistics warehouse, a factory, a retail store, a restaurant, a hotel, an automobile showroom, an office building, After that, additional flooring materials such as marble, granite, terrazzo and tiles are additionally applied. In particular, the floor of a factory or a parking lot is finished with an epoxy surface treatment or a urethane elastic coating on the surface thereof .

그러나 이와 같이 콘크리트 표면에 에폭시나 우레탄 등을 발포하여 사용하는 것은 별도의 발포 공정을 필요로 하는 불편함이 야기되고, 상기 발포제들은 환경에 유해한 것이기 때문에 나중에 폐기할 때 환경오염을 초래하는 문제점이 있다.However, when foamed epoxy or urethane foam is used on the concrete surface, it is inconvenient to require a separate foaming process. Since the foaming agents are harmful to the environment, there is a problem that environmental pollution is caused when the foam is discarded later .

또한, 에폭시나 우레탄 등을 발포함에 있어서는 어느 일정 시간이 경과된 후에는 부분적인 파손이나 벗겨짐 등이 초래되는바, 외관을 해치는 문제점이 야기되고, 이를 부분적으로 덧붙임 작업을 행하여도 역시 시간 경과에 따른 색상의 차이점에 의해 외관을 해치는 폐단이 있다.In addition, in the case of including an epoxy or urethane, after a certain period of time has elapsed, partial breakage or peeling may occur, resulting in a problem of deteriorating the appearance, and even if partial overlapping is performed, There is a blindfold that disturbs the appearance by the difference of the color which follows.

이러한 문제점을 감안하여 근래에 들어와서 콘크리트를 타설한 후 표면을 폴리싱 머신과 같은 연마기를 통해 매끄럽게 가공하는 기술이 제안되고 있다.In view of these problems, recently, a technique has been proposed in which concrete is poured and then the surface is smoothly processed by a polishing machine such as a polishing machine.

다시 말해, 국내외적으로 콘크리트의 표면에 다른 어떠한 자재나 인위적인 마감재의 도포 없이 상기 콘크리트 자체를 연마, 즉 콘크리트 폴리싱(concrete polishing)을 통해 콘크리트 자체의 표면 거칠기를 제거하고 표면 광택을 높여 자재비 절감과 유지보수의 편의성을 극대화시키는 바닥마감 방법이 새로운 패러다임으로 자리 잡고 있다. In other words, it is possible to remove the surface roughness of the concrete itself by polishing the concrete itself, that is, concrete polishing, without applying any other material or artificial finishing material to the surface of the concrete both locally and externally, Floor finishing methods that maximize the convenience of maintenance are becoming a new paradigm.

이러한 폴리싱 머신은 건물의 바닥재로 사용되는 콘크리트, 대리석, 화강석 및 테라조 등의 표면을 연마하여 매끄럽게 가공하는 장치이다.Such a polishing machine is a device for smoothly polishing surfaces of concrete, marble, granite, and terrazzo used as a floor material of a building.

도 1은 종래의 폴리싱 머신의 구성을 나타내는 조립도이다.1 is an assembled view showing a configuration of a conventional polishing machine.

도 1을 참조하면, 종래의 폴리싱 머신은 모터(10)로부터 동력을 전달받는 구동기어(20)와, 상기 구동기어(20)로부터 동력을 전달받는 복수개의 종동기어(30)와, 상기 종동기어(30)의 위치를 고정하는 복수개의 홀(41)을 구비하고 하단에 위성기어(60)와 맞물리는 평기어(42a) 및 숫나사를 구비하는 중간판(40)과, 상기 중간판(40)의 하단에 위치하고 가장자리에 복수개의 홀(51)을 구비하며 종동기어(30)의 하단기어(31)와 맞물려 돌아가는 중공부가 형성된 기어(52)를 구비하는 회전판(50)과, 상기 회전판(50)의 홀(51)에 의해 지지되고 하단에 패드 부착판(61)과 연마패드(62)를 구비하되, 회전판(50)의 회전에 의해 공전하며 중간판(40) 하부의 평기어(42a)와 맞물려 자전하는 위성기어(60), 및 상기 중간판(40)의 하부에 형성된 숫나사와 결합되어 구동장치 전체의 이탈을 방지하는 연결너트(43)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional polishing machine includes a driving gear 20 that receives power from a motor 10, a plurality of driven gears 30 that receive power from the driving gear 20, (40) having a plurality of holes (41) for fixing the position of the spur gear (30) and having a spur gear (42a) and a male screw engaged with the satellite gear (60) And a gear 52 having a hollow portion formed at the lower end of the rotating shaft 50 and having a plurality of holes 51 at an edge thereof and meshing with the lower gear 31 of the driven gear 30, And is supported by a hole 51 of the intermediate plate 40 and has a pad attaching plate 61 and a polishing pad 62 at a lower end thereof, A satellite gear 60 which rotates together with a pinion, and a male screw formed at a lower portion of the intermediate plate 40, Includes a connecting nut (43).

상기 연마패드는 다이아몬드 분말을 철, 텅스텐, 코발트 등의 금속분말과 혼합하여 고온에서 소결하여 소정의 형상으로 제조되는 것으로, 패드 부착판을 금속 재질로 제작하는 경우 패드 부착판의 표면에 연마패드를 직접 융착하여 일체형으로 부착함으로써 고정하거나, 패드 부착판을 소결합금으로 제작하는 경우 패드 부착판의 소결 시 연마부재를 함께 일체로 소결하여 형성함으로써 고정하고 있다.The polishing pad is manufactured in a predetermined shape by mixing diamond powder with metal powder such as iron, tungsten, cobalt and sintering at a high temperature. When the pad attaching plate is made of a metal material, a polishing pad When the pad attachment plate is made of a sintered alloy, the abrasive members are integrally sintered together by sintering when the pad attachment plate is sintered.

피연삭물에 대한 가공 및 연삭은 거친연마, 중간연마, 미세연마의 공정순으로 이루어지고, 각 공정마다 가공 및 연마 정도에 적합한 연마패드로 교체해야 하며, 이를 위해 연마패드가 고정된 패드 부착판을 회전판으로부터 수시로 분리하고 장착해야 하므로, 패드 부착판의 착탈작업에 대한 신속성과 편리성은 피연삭물 연삭시의 작업성 및 생산성 향상에 지대한 영향을 주고 있다.The processing and grinding of the object to be ground are performed in the order of rough polishing, intermediate polishing and fine polishing. In each step, the polishing pad should be replaced with a polishing pad suitable for the processing and polishing. For this purpose, Therefore, the promptness and convenience of the attaching / detaching operation of the pad attaching plate greatly affects the workability and productivity in grinding the object to be ground.

그러나, 이러한 연마패드는 도 2 및 도 3과 같이 패드 부착판의 회전에 의해 회전되도록 패드 부착판에 고정되어 있기 때문에 연마패드의 회전을 방해하는 환경이 콘크리트 바닥면에 형성되어 있으면 부하가 모터까지 그대로 전달되어 모터나 인버터 등이 손상되는 문제가 발생될 수 있다. 다시 말해, 기존의 폴리싱 머신은 고정형 연마패드를 사용하기 때문에 바닥면에서 연마패드로 전달되는 충격을 연마패드가 폴리싱 머신에 그대로 전달하기 때문에 잔고장이 자주 발생되는 문제가 있었다. However, since the polishing pad is fixed to the pad mounting plate so as to be rotated by the rotation of the pad mounting plate as shown in FIGS. 2 and 3, if an environment that interferes with the rotation of the polishing pad is formed on the bottom surface of the concrete, The motor and the inverter may be damaged. In other words, since the conventional polishing machine uses the fixed polishing pad, the polishing pad transfers the impact transmitted from the bottom surface to the polishing pad as it is to the polishing machine.

그리고 폴리싱 공정의 작업 환경 상 폴리싱 머신에 설치된 연마패드의 소실 정도를 자주 확인할 수 없으므로, 연마패드가 모두 소모되어 바닥면에 금속 소재의 패드 부착판이 접촉되면, 콘크리트 바닥면에 스크래치를 형성하는 문제가 발생될 수 있다. In addition, since the abrasion pad installed on the polishing machine can not be checked frequently in the working environment of the polishing process, if the abrasive pad is exhausted and the metal pad attaches to the bottom surface, Lt; / RTI >

또한, 고정형 연마패드가 설치된 폴리싱 머신으로 평활도가 낮은 콘크리트 바닥면에서 콘크리트 폴리싱을 진행하면, 부하가 일측으로 집중되어 관리자가 폴리싱 머신을 제어하는데 어려움이 발생될 수 있다. In addition, if concrete polishing is performed on a concrete floor having a low smoothness due to a polishing machine equipped with a fixed polishing pad, the load may be concentrated on one side, which may make it difficult for an administrator to control the polishing machine.

아울러, 기존의 폴리싱 머신은 패드 부착판에 고정형으로 설치되는 독자적인 연마패드를 사용하기 때문에 재고가 확보되지 않은 상태에서 연마패드가 모두 소모되면 시중에서 손쉽게 전용 연마패드를 구입할 수 없으므로, 폴리싱 머신의 전용으로 생산된 연마패드의 재고를 확보할 때까지 콘크리트 폴리싱 작업을 진행할 수 없는 문제가 발생될 수 있다. In addition, since the conventional polishing machine uses a unique polishing pad that is fixedly mounted on the pad mounting plate, if the polishing pad is completely consumed while the stock is not secured, a dedicated polishing pad can not be easily purchased in the market. A problem may arise in that the concrete polishing operation can not be performed until the stock of the polishing pad produced is secured.

더불어, 도 4에 도시된 바와 같이 여러 가지 연마패드를 호환하여 사용할 수 있도록 패드 부착판에 벨크로를 통해 연마패드를 부착하는 폴리싱 머신을 사용한다고 하더라도, 벨크로는 폴리싱 머신에 발생되는 강한 회전력을 견딜 수 없으므로, 콘크리트 폴리싱 공정 중에 연마패드가 패드 부착판으로부터 떨어져 나가는 문제가 발생될 수 있다. 즉, 연마패드가 패드 부착판으로부터 떨어져 나가면 연마패드가 파손될 수도 있으며, 주변 작업자가 폴리싱 머신으로부터 이탈된 연마패드에 부딪치는 안전사고가 발생될 수도 있다. In addition, even if a polishing machine for attaching the polishing pad to the pad attaching plate through the Velcro is used so that various polishing pads can be used interchangeably as shown in FIG. 4, the Velcro can withstand the strong rotational force generated in the polishing machine There is a possibility that the polishing pad may be separated from the pad mounting plate during the concrete polishing process. That is, if the polishing pad is separated from the pad attaching plate, the polishing pad may be broken, and a safety accident in which the peripheral worker hits the polishing pad detached from the polishing machine may occur.

대한민국 등록특허 제10-1609317호(2016.04.05 공고)Korean Registered Patent No. 10-1609317 (Announced 2014.04.05) 대한민국 등록특허 제10-0820726호(2008.04.11 공고)Korean Patent No. 10-0820726 (published on Apr. 11, 2008) 대한민국 공개특허 제10-2011-0056610호(2011.05.31 공개)Korean Patent Publication No. 10-2011-0056610 (published on May 31, 2011)

따라서, 본 발명의 목적은 폴리싱 머신에 설치된 패드 부착판의 회전에 따라 연동하는 연마패드를 패드 부착판과 별도로 축회전할 수 있도록 패드 부착판에 설치할 수 있는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체를 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a rotation type polishing pad assembly for a polishing machine which can be installed on a pad mounting plate so that the polishing pad interlocked with the rotation of a pad mounting plate installed on a polishing machine can be rotated separately from the pad mounting plate .

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 실시예에서는 폴리싱 머신의 패드 부착판에 접촉되며 중앙에 관통홀이 형성된 회전판과, 상기 패드 부착판과 별도로 상기 회전판이 축회전될 수 있도록 하단이 상기 패드 부착판에 접촉되고 상단이 상기 관통홀에 끼움 결합되는 플랜지 부시, 및 상기 회전판 및 플랜지 부시가 패드 부착판에 결합된 상태를 유지하도록 상기 플랜지 부시의 중앙을 관통해 상기 패드 부착판에 결합되는 볼트를 포함하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체를 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a polishing machine comprising: a rotary plate which is in contact with a pad attachment plate of a polishing machine and has a through hole at the center thereof; A flange bushing whose lower end is in contact with the pad attachment plate and whose upper end is fitted to the through hole, and a flange bushing which passes through the center of the flange bush so as to keep the rotation plate and the flange bushing engaged with the pad attachment plate, And a bolt joined to the rotating abrasive pad assembly for a polishing machine.

본 발명에 의하면, 회전판이 모터로부터 제공된 회전력에 따라 회전하는 패드 부착판에 고정형으로 설치되는 대신, 패드 부착판과 연동되는 이동과 패드 부착판과 별도의 축회전을 모두 수행할 수 있도록 설치되어 있으므로, 바닥면의 굴곡에 따라 연마패드에 인가되는 부하가 회전판의 축회전에 의해 해소될 수 있다. 이에 따라, 본 발명은 연마대상인 바닥면으로부터 회전판에 전달된 부하가 모터나 인버터까지 전달되지 않고, 회전판과 패드 부착판 사이에서 해소되므로, 모터나 인버터의 손상을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the rotary plate is installed so as to be able to perform both the movement in association with the pad attaching plate and the separate shaft rotation from the pad attaching plate, instead of being fixed to the pad attaching plate rotating according to the rotational force provided by the motor , The load applied to the polishing pad can be canceled by the rotation of the rotary plate due to the bending of the bottom surface. Accordingly, since the load transmitted from the bottom surface to be polished to the rotating plate is not transmitted to the motor or the inverter, but is eliminated between the rotating plate and the pad mounting plate, damage to the motor and the inverter can be prevented.

그리고 본 발명은 회전판이 패드 부착판에 의한 이동과 함께 축회전을 동시에 수행할 수 있으므로, 폴리싱 머신에 작용하는 부하가 일측으로 집중되지 않기 때문에 폴리싱 머신의 운전에 대한 어려움이 해소되고, 바닥면에 대한 절삭력이 높아지며, 바닥면의 광택도가 향상된다. Further, since the rotary plate can simultaneously perform the axial rotation with the movement of the pad attachment plate, the load acting on the polishing machine is not concentrated on one side, so that the difficulty in operating the polishing machine is solved, The cutting force is increased, and the gloss of the bottom surface is improved.

또한, 본 발명은 연마패드가 모두 소모되더라도 패드 부착판 대신 합성고무 등의 소재로 형성된 패드 고정판이 바닥면에 접촉되므로, 광택이 나도록 연마된 바닥면에 스크래치가 발생되지 않는다. Also, even if the polishing pad is exhausted, the pad fixing plate formed of a material such as synthetic rubber is brought into contact with the bottom surface instead of the pad attachment plate, so that scratches are not generated on the polished bottom surface.

아울러, 본 발명은 패드 고정판이 바닥면에 접촉되는 경우, 스키드 마크와 같이 바닥면에 패드 고정판의 고무 재질에 의한 흔적이 형성되므로, 폴리싱 머신에 설치된 연마패드의 소실 정도를 자주 확인할 수 없는 작업 환경에서도 연마패드의 소실 정도를 정확히 확인할 수 있게 된다. 이때, 바닥면에 형성된 패드 고정판의 흔적은 간단한 작업으로 바닥면으로부터 제거할 수 있으므로, 바닥면의 광택 작업에 큰 영향을 미치지 않는다. In addition, when the pad fixing plate is brought into contact with the bottom surface, traces of the rubber material of the pad fixing plate are formed on the bottom surface, such as a skid mark, so that the degree of disappearance of the polishing pad, The degree of disappearance of the polishing pad can be accurately confirmed. At this time, the trace of the pad fixing plate formed on the bottom surface can be removed from the bottom surface by a simple operation, so that the polishing operation of the bottom surface is not greatly affected.

게다가, 본 발명은 거친연마, 중간연마, 미세연마에 각각 사용되는 연마패드를 손쉽게 호환하여 사용할 수 있다. 특히, 폴리싱 작업 중에 폴리싱 머신 전용으로 출시된 연마패드가 모두 소모되더라도 시중에서 판매되는 연마패드를 호환하여 사용할 수 있으므로, 연마패드의 수량 부족에 의해 폴리싱 작업이 중단되는 문제를 해소할 수 있다.In addition, the present invention can easily use compatible abrasive pads used for rough grinding, intermediate grinding, and fine grinding, respectively. Particularly, even if the polishing pad released for exclusive use in the polishing machine is exhausted during polishing operation, since the polishing pad sold in the market can be used in a compatible manner, the problem of interruption of the polishing operation due to the shortage of the polishing pad can be solved.

또한, 본 발명은 본 발명은 연마대상인 바닥면에 굴곡진 환경이 존재하더라도 바닥면을 향하여 연마패드를 가압하는 가압력을 조절할 수 있다.In addition, the present invention can control the pressing force to press the polishing pad toward the bottom surface even if there is a curved environment on the bottom surface to be polished.

아울러, 본 발명은 연마대상인 바닥면의 구조에 따라 연마패드를 통해 패드 부착면으로 전달되는 충격을 완화시킬 수 있으므로, 외부로부터 전달된 충격에 의해 폴리싱 머신의 구동장치가 손상되는 것을 최소화 할 수 있다. In addition, since the present invention can mitigate impact transmitted to the pad attaching surface through the polishing pad according to the structure of the bottom surface to be polished, damage to the driving apparatus of the polishing machine due to external impact can be minimized .

도 1은 종래의 건식연마기 구동장치의 구성을 나타내는 조립도이다.
도 2는 종래의 조립형 연마패드를 나타내는 사진이다.
도 3은 종래의 조립형 연마패드가 설치된 폴리싱 머신을 나타내는 사진이다.
도 4는 종래의 탈부착형 연마패드를 나타내는 사진이다.
도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리싱 머신을 나타내는 사시도이다.
도 7은 연마의 시작 단계에 사용되는 연마패드 조립체를 설명하기 위한 분해사시도이다.
도 8은 연마의 마무리 단계에 사용되는 연마패드 조립체를 설명하기 위한 분해사시도이다.1 is an assembly diagram showing a configuration of a conventional dry-type polisher driving apparatus.
2 is a photograph showing a conventional assembled polishing pad.
3 is a photograph showing a polishing machine equipped with a conventional assembled polishing pad.
4 is a photograph showing a conventional detachable polishing pad.
5 and 6 are perspective views showing a polishing machine according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is an exploded perspective view for explaining a polishing pad assembly used in the beginning of polishing. FIG.
8 is an exploded perspective view for explaining a polishing pad assembly used in the polishing finishing step.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들에 의한 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체(이하, '연마패드 조립체'라고 약칭함)를 상세하게 설명한다. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a rotary polishing pad assembly (hereinafter abbreviated as a polishing pad assembly) for a polishing machine according to preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5 및 도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 폴리싱 머신을 나타내는 사시도이고, 도 7은 연마의 시작 단계에 사용되는 연마패드 조립체를 설명하기 위한 분해사시도이며, 도 8은 연마의 마무리 단계에 사용되는 연마패드 조립체를 설명하기 위한 분해사시도이다.5 and 6 are perspective views showing a polishing machine according to an embodiment of the present invention, Fig. 7 is an exploded perspective view for explaining a polishing pad assembly used at the start of polishing, Fig. 8 is a perspective view Fig. 3 is an exploded perspective view for explaining a polishing pad assembly to be used.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 폴리싱 머싱(10)의 패드 부착판(12)에 밀착되어 패드 부착판(12)의 회전에 따라 연동하는 회전판(110)과, 상기 패드 부착판(12)과 회전판(110) 사이에 구비되어 회전판(110)이 축회전 할 수 있도록 회전축을 제공하는 플랜지 부시(120), 및 상기 회전판(110)과 플랜지 부시(120)를 패드 부착판(12)에 결합시키는 볼트(130)를 포함하며, 선택적으로 회전판(110)과 볼트(130) 사이에 구비되는 와셔(140)를 더 포함할 수 있다. 이때, 연마패드 조립체(100)를 제외한 폴리싱 머신의 세부 구성은 미리 공지되어 있기 때문에 구체적인 설명을 생략한다. 5 to 8, a polishing pad assembly according to the present invention includes a rotating plate 110 closely attached to a pad mounting plate 12 of a polishing mushing 10 and interlocked with the rotation of a pad mounting plate 12, A flange bush 120 provided between the pad attachment plate 12 and the rotary plate 110 to provide a rotation axis for rotating the rotary plate 110 and a flange bush 120 provided between the rotary plate 110 and the flange bush 120, And a washer 140 provided between the rotating plate 110 and the bolt 130. The washer 140 may include a bolt 130 to be coupled to the attachment plate 12, At this time, since the detailed configuration of the polishing machine except for the polishing pad assembly 100 is known in advance, a detailed description will be omitted.

이하, 도면을 참조하여 각 구성요소별로 보다 구체적으로 설명한다. Hereinafter, each component will be described in more detail with reference to the drawings.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 회전판(110)을 포함한다. 5 to 8, a polishing pad assembly according to the present invention includes a rotating plate 110.

상기 회전판(110)은 폴리싱 머신의 패드 부착판(12)에 복수 개, 바람직하게는 2개 내지 5개가 구비된 것으로, 상기 패드 부착판(12)에 접촉되며 중앙에 관통홀(112)이 형성된다. 이때, 회전판(110)은 패드 부착판(12)의 회전에 따라 미리 지정된 경로로 원을 그리도록 이동한다.The rotating plate 110 is provided with a plurality of, preferably two to five, pad-mounting plates 12 of a polishing machine. The rotating plate 110 is in contact with the pad-mounting plate 12 and has a through- do. At this time, the rotary plate 110 is moved to draw a circle with a predetermined path according to the rotation of the pad attaching plate 12.

일 실시 양태로서, 본 발명에 따른 회전판(110)은 중앙에 관통홀(112)이 형성된 원판 구조를 갖도록 형성될 수 있다.In one embodiment, the rotary plate 110 according to the present invention may have a disc structure having a through hole 112 formed at the center thereof.

다른 실시 양태로서, 본 발명에 따른 회전판(110)은 중앙에 관통홀(112)이 형성된 원판 구조를 갖도록 형성되되, 관통홀(112)이 포함된 중앙 부분이 패드 부착판(12) 방향으로 함몰되도록 형성될 수 있다. 이때, 회전판(110)의 중앙 부분은 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이 회전판(110)의 중심으로부터 멀어질수록 내경이 좁아지는 컵 구조를 갖도록 형성될 수 있다.In another embodiment, the rotary plate 110 according to the present invention is formed to have a circular plate structure having a through hole 112 at the center, and a center portion including the through hole 112 is recessed in the direction of the pad attachment plate 12 . At this time, the central portion of the rotary plate 110 may be formed to have a cup structure in which the inner diameter becomes narrower as the rotary plate 110 is moved away from the center of the rotary plate 110, as shown in FIGS.

이와 같이, 회전판(110)의 중앙 부분이 컵 구조로 함몰되면 와셔(140)와 볼트(130)의 헤드부가 안착될 공간을 제공하므로, 후술하는 패드 고정판이 회전판(110)의 상면에 접촉되더라도 와셔(140) 및 볼트(130)와 상관없이 회전판(110)에 밀착될 수 있다.Since the washer 140 and the head portion of the bolt 130 provide a space to be seated when the central portion of the rotary plate 110 is recessed by the cup structure, even if the pad fixing plate described below contacts the upper surface of the rotary plate 110, Can be brought into close contact with the rotary plate 110 irrespective of the bolt 140 and the bolt 130.

필요에 따라, 회전판(110)은 그 테두리를 따라 복수 개, 바람직하게는 3개 내지 8개의 내삽홀(114)이 형성될 수 있다.If necessary, the rotary plate 110 may be formed with a plurality of, preferably three to eight, interpolation holes 114 along its rim.

한편, 상기 회전판(110)으로는 도 7과 같이 바닥면에 직접 접촉하여 바닥면을 연마하는 연마휠을 사용할 수 있다. 이러한 연마휠이 구비된 연마패드 조립체(100')는 콘크리트 등으로 형성된 바닥면을 연마하는 시작단계에서 주로 사용된다. 이와 같이 연마공정의 시작단계에서는 폴리싱 머신의 패드 부착판(12)에 연마휠만이 설치된다. 여기서, 상기 바닥면은 건물의 바닥재로 사용되는 콘크리트, 대리석, 화강석, 타일 등의 표면을 의미한다.7, a polishing wheel that directly contacts the bottom surface and polishes the bottom surface may be used. The polishing pad assembly 100 'equipped with such an abrasive wheel is mainly used in the initial stage of polishing the bottom surface formed of concrete or the like. In this way, only the polishing wheel is installed on the pad mounting plate 12 of the polishing machine at the beginning of the polishing process. Here, the bottom surface refers to a surface of concrete, marble, granite, tile, etc. used as a floor material of a building.

상기 연마휠은 원판 형상에 한정되지 않고, 타원형 형상이나 다각형 형상 등 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The grinding wheel is not limited to the disc shape but may be formed in various shapes such as an elliptical shape or a polygonal shape.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 플랜지 부시(120)를 포함한다. 5 to 8, a polishing pad assembly according to the present invention includes a flange bushing 120.

상기 플랜지 부시(120)는 회전판(110)이 패드 부착판(12)의 축회전에 따라 원을 그리도록 이동하면서 패드 부착판(12)과 별도로 축회전할 수 있도록 회전축을 제공하는 것으로, 하단이 패드 부착판(12)에 접촉되고 상단이 회전판(110)의 관통홀(112)에 끼움 결합된다. The flange bush 120 provides a rotation axis so that the rotary plate 110 rotates separately from the pad attaching plate 12 while moving so as to draw a circle in accordance with the rotation of the axis of the pad attaching plate 12, And the upper end thereof is fitted into the through hole 112 of the rotary plate 110. [

구체적으로, 플랜지 부시(120)는 회전판(110)의 관통홀(112)에 끼움 결합되고 상기 관통홀(112)보다 긴 길이를 갖도록 형성되며 중앙에 상하 방향으로 볼트 삽입홀이 형성된 원통부(122), 및 상기 회전판(110)의 하면에 안착될 수 있도록 원통부(122) 하단의 테두리를 따라 돌출 형성된 플랜지부(124)로 구성된다.Specifically, the flange bush 120 is formed to have a length longer than the through-hole 112 of the rotary plate 110 and a cylindrical portion 122 having a bolt insertion hole formed at the center thereof in a vertical direction And a flange portion 124 protruding along the edge of the lower end of the cylindrical portion 122 so as to be seated on the lower surface of the rotary plate 110.

이러한 볼트 삽입홀은 볼트(130)가 플랜지 부시(120)를 통과한 후 회전판(110)에 결합될 수 있도록 볼트(130)의 내삽공간을 제공한다. 이때, 볼트 삽입홀은 볼트(130)와 직접 결합되지 않도록 볼트 몸통부의 외경보다 큰 내경을 갖도록 형성된다. This bolt insertion hole provides an interpolation space for the bolt 130 so that the bolt 130 can be coupled to the rotary plate 110 after passing through the flange bushing 120. At this time, the bolt insertion hole is formed to have an inner diameter larger than the outer diameter of the bolt body so as not to be directly coupled with the bolt 130.

또한, 원통부(122)는 회전판(110)의 관통홀(112)보다 긴 길이를 갖도록 형성되기 때문에 원통부(122)의 볼트 삽입홀로 내삽되어 패드 부착판(12)에 결합된 볼트(130)가 회전판(110)에 직접 접촉되지 않는다. 따라서, 회전판(110)이 패드 부착판(12)과 별도로 축회전 하더라도 회전판(110)이 원통부(122)에 의해 볼트(130)와 이격되어 있으므로, 볼트(130)와 마주보는 표면이 볼트(130)의 회전에 의해 마모되는 현상이 발생되지 않는다.Since the cylindrical portion 122 is formed to have a length longer than the through hole 112 of the rotary plate 110, the bolt 130 inserted into the bolt insertion hole of the cylindrical portion 122 and coupled to the pad attachment plate 12, Does not contact the rotating plate 110 directly. The rotating plate 110 is spaced apart from the bolt 130 by the cylindrical portion 122 even if the rotating plate 110 rotates separately from the pad attaching plate 12, 130 do not occur.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 볼트(130)를 포함한다. 5 to 8, a polishing pad assembly according to the present invention includes a bolt 130.

상기 볼트(130)는 상기 회전판(110) 및 플랜지 부시(120)가 패드 부착판(12)에 결합된 상태를 유지하도록 볼트(130)의 몸통부가 상기 플랜지 부시(120)의 중앙을 관통해 상기 패드 부착판(12)에 결합되는 것으로, 볼트(130)의 몸통부가 플랜지 부시(120)의 볼트 삽입홀의 내경보다 작은 외경을 갖도록 형성된다.The body of the bolt 130 passes through the center of the flange bush 120 so as to maintain the state where the rotation plate 110 and the flange bush 120 are coupled to the pad attachment plate 12, The body of the bolt 130 is formed to have an outer diameter smaller than the inner diameter of the bolt insertion hole of the flange bush 120. [

다시 말해, 볼트(130)는 패드 부착판(12)이 회전되는 경우, 패드 부착판(12)에 밀착된 플랜지 부시(120)와 회전판(110)이 패드 부착판(12)으로부터 이탈되지 않고 밀착된 상태를 유지하도록 플랜지 부시(120)와 회전판(110)의 초기 위치를 유지하는 역할을 수행한다. In other words, when the pad attaching plate 12 is rotated, the bolt 130 does not separate the flange bush 120 and the rotary plate 110, which are in close contact with the pad attaching plate 12, from the pad attaching plate 12 And maintains the initial position of the flange bush 120 and the rotary plate 110 so as to maintain the initial state.

이러한 볼트(130)로는 강도를 높이기 위해 열처리된 볼트를 사용하는 것이 바람직하다.As the bolts 130, it is preferable to use heat-treated bolts to increase the strength.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 와셔(140)를 더 포함할 수 있다. 5 to 8, the polishing pad assembly according to the present invention may further include a washer 140.

상기 와셔(140)는 회전판(110)과 볼트(130) 사이에 구비되는 것으로, 볼트(130)의 헤드부가 회전판(110)에 직접 접촉되지 않도록 볼트(130)의 헤드부와 회전판(110) 사이를 이격시키는 역할을 수행한다.The washer 140 is provided between the rotating plate 110 and the bolt 130 and is disposed between the head portion of the bolt 130 and the rotating plate 110 so that the head portion of the bolt 130 does not directly contact the rotating plate 110. [ .

또한, 와셔(140)는 볼트(130)의 길이에 따라 볼트(130)가 내삽되는 구간의 길이를 조절하는 역할도 수행할 수 있다.The washer 140 can also adjust the length of the section through which the bolt 130 is inserted according to the length of the bolt 130.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 패드 고정판(150)을 더 포함할 수 있다. 5 to 8, the polishing pad assembly according to the present invention may further include a pad fixing plate 150.

상기 패드 고정판(150)은 연마의 마무리 단계에 사용되는 연마패드(170)를 회전판(110)에 설치할 수 있도록 회전판(110)의 상부에 결합되는 것으로, 중앙에는 볼트(130)가 통과할 수 있도록 볼트(130) 헤드부의 직경에 대응되는 제1 중앙홀이 형성될 수 있다.The pad fixing plate 150 is coupled to the upper portion of the rotating plate 110 so that the polishing pad 170 used in the finishing step of the polishing can be installed on the rotating plate 110, A first center hole corresponding to the diameter of the head portion of the bolt 130 may be formed.

상기 패드 고정판(150)은 회전판(110)에 구비된 각각의 내삽홀(114)과 마주보는 하면에 내삽홀(114)에 끼움 결합되는 결합돌기(152)가 형성될 수 있다. 이러한 결합돌기(152)는 회전판(110)의 내삽홀(114)에 원활히 내삽되도록 그 말단의 테두리 부분이 곡면을 갖도록 형성될 수 있다. 또한, 결합돌기(152)는 패드 고정판(150)이 회전판(110)에 견고히 결합될 수 있도록 회전판(110)의 내삽홀(114)의 직경과 대응되는 외경을 갖도록 형성된다. The pad fixing plate 150 may be formed with a coupling protrusion 152 which is fitted into the insertion hole 114 at a lower surface facing each of the insertion holes 114 provided in the rotary plate 110. The engaging protrusion 152 may be formed to have a curved shape at the edge of its end so as to be smoothly inserted into the interpolating hole 114 of the rotating plate 110. The coupling protrusion 152 is formed to have an outer diameter corresponding to the diameter of the insertion hole 114 of the rotary plate 110 so that the pad fixing plate 150 can be firmly coupled to the rotary plate 110.

이와 같이, 패드 고정판(150)은 접착제를 사용하지 않더라도 회전판(110)과의 사이에서 복수개의 결합돌기(152)로 결합될 수 있으므로, 사용자의 편의에 따라 패드 고정판(150)을 회전판(110)으로부터 손쉽게 분리할 수 있게 된다. Since the pad fixing plate 150 can be coupled with the rotation plate 110 by a plurality of coupling protrusions 152 without using an adhesive, the pad fixing plate 150 can be fixed to the rotary plate 110, As shown in FIG.

특정 양태로서, 본 발명에 따른 패드 고정판(150)은 도 8에 도시된 바와 같이 연마패드(170)가 밀착되는 원판부(154), 및 상기 원판부(154)에 부착된 연마패드(170)의 측면을 감쌀 수 있도록 원판부(154)의 테두리를 따라 연마패드(170) 방향으로 돌출형성된 걸림턱(156)으로 구성될 수 있다. 이러한 걸림턱(156)은 연마패드(170)가 고속으로 회전되는 도중에 원판부(154)로부터 이탈되지 않도록 연마패드(170)의 이동공간을 제한하는 역할을 수행한다. 다시 말해, 걸림턱(156)은 축회전되는 연마패드(170)에 작용하는 원심력이 연마패드(170)와 원판부(154) 사이에 형성된 결합력을 초과하더라도 연마패드(170)가 원판부(154)를 벗어나지 못하도록 연마패드(170)를 지지하고 있으므로, 패드 고정판(150)에 구비된 제1 벨크로(160)와 연마패드(170)에 구비된 제2 벨크로(172)는 서로 분리되지 않는다. 8, the pad fixing plate 150 according to the present invention includes a disc portion 154 to which the polishing pad 170 is closely attached, and a polishing pad 170 attached to the disc portion 154, And a locking protrusion 156 protruding in the direction of the polishing pad 170 along the rim of the disc portion 154 so as to cover the side surface of the disc portion 154. The latching jaw 156 serves to limit the moving space of the polishing pad 170 so that the polishing pad 170 is not separated from the disk 154 during high-speed rotation. In other words, although the engaging jaw 156 is configured such that the centrifugal force exerted on the abrasive pad 170 that rotates axially exceeds the engaging force formed between the abrasive pad 170 and the disk portion 154, The first Velcro 160 provided on the pad fixing plate 150 and the second Velcro 172 provided on the polishing pad 170 are not separated from each other.

필요에 따라, 상기 원판부(154)는 바닥면으로부터 중심판으로 인가된 충격을 부분적으로 해소시키고, 바닥면으로부터 중심판으로 전달된 진동을 감소시킬 수 있도록 구성될 수 있다. 이를 위해, 원판부(154)는 일정한 외형을 유지할 수 있도록 금속 또는 합성수지로 형성된 중심판, 및 상기 중심판으로 인가된 충격을 완충시킬 수 있도록 중심판의 표면에 구비된 코팅층으로 구성될 수 있다.If necessary, the disc portion 154 may be configured to partially eliminate impact applied from the bottom surface to the center plate, and to reduce vibration transmitted from the bottom surface to the center plate. For this purpose, the disc portion 154 may be composed of a center plate formed of metal or synthetic resin so as to maintain a predetermined outer shape, and a coating layer provided on the surface of the center plate so as to buffer shock applied to the center plate.

상기 원판부(154)는 원판 형상에 한정되지 않고, 타원형 형상이나 다각형 형상 등 다양한 형상으로 형성될 수 있다.The disk portion 154 is not limited to the disk shape but may be formed in various shapes such as an elliptical shape or a polygonal shape.

또한, 원판부(154)는 코팅층이 원판부(154)의 표면에 견고히 구비될 수 있도록 복수개의 이음홀이 형성된다. 이러한 이음홀은 원판부(154)의 상면에 구비된 상면 코팅층과 원판부(154)의 하면에 구비된 하면 코팅층을 연결하는 중간 코팅층이 원판부(154)의 내부에 수용되는 공간을 제공한다.In addition, a plurality of coupling holes are formed in the disk portion 154 so that the coating layer can be securely formed on the surface of the disk portion 154. The coupling hole provides a space in which the upper coating layer provided on the upper surface of the disc portion 154 and the intermediate coating layer connecting the lower coating layer provided on the lower surface of the disc portion 154 are accommodated in the disc portion 154.

아울러, 코팅층은 니트릴 부타디엔 고무(Nitrile butadiene rubber) 또는 이를 주재료로 포함하는 혼합물로 형성될 수 있다. In addition, the coating layer may be formed of a mixture containing nitrile butadiene rubber or its main component.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 제1 벨크로(160)를 더 포함할 수 있다. 5 to 8, the polishing pad assembly according to the present invention may further include a first Velcro 160.

상기 제1 벨크로(160)는 패드 고정판(150)의 상부에 부착되는 것으로, 연마패드(170)가 패드 고정판(150)에 결합될 수 있도록 패드 고정판(150)과 연마패드(170) 사이에 결합력을 제공한다.The first Velcro 160 is attached to the upper portion of the pad fixing plate 150 and has a bonding force between the pad fixing plate 150 and the polishing pad 170 so that the polishing pad 170 can be coupled to the pad fixing plate 150. [ .

이러한 제1 벨크로(160)는 걸림턱(156)에 의해 원판부(154)의 내부에 형성된 공간에 대응되는 구조를 갖도록 형성된다. 예컨대, 제1 벨크로(160)는 연마패드(170)의 일부가 걸림턱(156)에 수용될 수 있도록 걸림턱(156)의 높이와 동일한 두께를 갖도록 형성되거나, 걸림턱(156)의 높이보다 작은 두께를 갖도록 형성될 수 있다. 다시 말해, 제1 벨크로(160)의 두께가 걸림턱(156)의 높이와 동일한 두께를 갖도록 형성되더라도 제1 벨크로(160)에 부착된 연마패드(170)는 바닥면으로부터 압력을 받기 때문에 제1 벨크로(160)가 바닥면과 원판부(154) 사이에서 압축되므로, 상기 제1 벨크로(160)에 부착된 연마패드(170)의 일부가 걸림턱(156)에 수용된다. The first Velcro 160 is formed to have a structure corresponding to the space formed inside the circular plate portion 154 by the stopping jaws 156. For example, the first Velcro 160 may be formed to have a thickness equal to the height of the engaging jaw 156 so that a part of the polishing pad 170 may be received in the engaging jaw 156, And may be formed to have a small thickness. In other words, even if the thickness of the first Velcro 160 is formed to have the same thickness as the height of the stopping jaw 156, the polishing pad 170 attached to the first Velcro 160 is pressured from the bottom surface, A part of the polishing pad 170 attached to the first Velcro 160 is accommodated in the engaging jaw 156 since the Velcro 160 is compressed between the bottom surface and the disk portion 154.

필요에 따라, 제1 벨크로(160)는 중앙에서 볼트(130)가 통과할 수 있도록 볼트(130) 헤드부의 직경에 대응되는 제2 중앙홀이 형성될 수 있다.If necessary, the first Velcro 160 may have a second center hole corresponding to the diameter of the head of the bolt 130 so that the bolt 130 passes through the center.

도 5 내지 도 8을 참조하면, 본 발명에 따른 연마패드 조립체는 연마패드(170)를 더 포함할 수 있다. 5 to 8, the polishing pad assembly according to the present invention may further include a polishing pad 170. [

상기 연마패드(170)는 상기 제1 벨크로(160)에 탈부착되는 것으로, 상부가 바닥면에 직접 접촉하여 바닥면을 연마하는 역할을 수행한다.The polishing pad 170 is detachably attached to the first Velcro 160, and the upper part of the polishing pad 170 directly contacts the bottom surface to polish the bottom surface.

구체적으로, 연마패드(170)는 사용자의 선택에 따라 제1 벨크로(160)에 탈부착되는 제2 벨크로(172), 및 상기 제2 벨크로(172)의 상단에 구비되고 바닥면에 직접 접촉하여 바닥면을 연마하는 연마부(174)로 구성될 수 있다. Specifically, the polishing pad 170 includes a second Velcro 172 detachably attached to the first Velcro 160 according to the user's selection, and a second Velcro 172 disposed at the top of the second Velcro 172, And a polishing section 174 for polishing the surface.

상기 연마패드(170)는 연마의 중간 단계에 사용되는 중간용 연마부(174)와, 연마의 마무리 단계에 사용되는 마무리용 연마부(174)를 서로 다르게 적용할 수 있다. 다시 말해, 연마의 중간 단계에서는 중간용 연마부(174)가 구비된 연마패드(170)를 제1 벨크로(160)에 부착하여 사용하고, 연마의 마무리 단계에서는 마무리용 연마부(174)가 구비된 연마패드(170)를 제1 벨크로(160)에 부착하여 사용한다.The polishing pad 170 may be applied to the intermediate polishing portion 174 used in the intermediate stage of polishing and the finishing polishing portion 174 used in the finishing stage of polishing. In other words, in the intermediate stage of polishing, the polishing pad 170 provided with the intermediate polishing portion 174 is attached to the first Velcro 160, and in the polishing finishing step, the finishing polishing portion 174 is provided The polishing pad 170 is attached to the first Velcro 160 and used.

이와 같이, 연마패드(170)가 구비된 연마패드 조립체(100")는 연마공정의 중간 단계나 마무리 단계에서 사용된다.As such, the polishing pad assembly 100 "with the polishing pad 170 is used in an intermediate or finishing step of the polishing process.

필요에 따라, 제2 벨크로(172)와 연마부(174)의 중앙에는 볼트(130)가 통과할 수 있도록 볼트(130) 헤드부의 직경에 대응되는 제3 중앙홀이 각각 형성될 수 있다.A third center hole corresponding to the diameter of the head portion of the bolt 130 may be formed at the center of the second Velcro 172 and the polishing portion 174 to allow the bolt 130 to pass therethrough.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. It can be understood that it is possible.

100 : 연마패드 조립체 110 : 회전판
112 : 관통홀 114 : 내삽홀
120 : 플랜지 부시 122 : 원통부
124 : 플랜지부 130 : 볼트
140 : 와셔 150 : 패드 고정판
152 : 결합돌기 154 : 원판부
156 : 걸림턱 160 : 제1 벨크로
170 : 연마패드 172 : 제2 벨크로
174 : 연마부100: polishing pad assembly 110:
112: Through hole 114: Interrupted hole
120: flange bush 122: cylindrical portion
124: flange portion 130: bolt
140: Washer 150: Pad clamp plate
152: engaging projection 154:
156: Hanging chin 160: First Velcro
170: Polishing pad 172: Second Velcro
174:

Claims (9)

폴리싱 머신의 패드 부착판에 접촉되며 중앙에 관통홀이 형성된 회전판;
상기 패드 부착판과 별도로 상기 회전판이 축회전될 수 있도록 하단이 상기 패드 부착판에 접촉되고 상단이 상기 관통홀에 끼움 결합되는 플랜지 부시; 및
상기 회전판 및 플랜지 부시가 패드 부착판에 결합된 상태를 유지하도록 상기 플랜지 부시의 중앙을 관통해 상기 패드 부착판에 결합되는 볼트를 포함하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.A rotary plate which is in contact with the pad mounting plate of the polishing machine and has a through hole at the center thereof;
A flange bushing having a lower end in contact with the pad attaching plate and an upper end fitted into the through hole so that the rotary plate can be rotated separately from the pad attaching plate; And
And a bolt coupled to the pad attachment plate through a center of the flange bush to maintain the rotation plate and the flange bush engaged with the pad attachment plate. 제1 항에 있어서, 상기 회전판은
바닥면에 직접 접촉하여 바닥면을 연마하는 연마휠인 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.2. The apparatus according to claim 1,
Wherein the abrasive wheel is a polishing wheel that directly contacts the bottom surface to polish the bottom surface. 제1 항에 있어서, 상기 플랜지 부시는
상기 회전판의 관통홀에 끼움 결합되고, 상기 관통홀보다 긴 길이를 갖도록 형성되며, 중앙에 상하 방향으로 볼트 삽입홀이 형성된 원통부; 및
상기 회전판의 하면에 안착될 수 있도록 원통부 하단의 테두리를 따라 돌출 형성된 플랜지부로 구성되는 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.2. The apparatus of claim 1, wherein the flange bush
A cylindrical portion fitted into the through hole of the rotary plate and formed to have a length longer than the through hole and having a bolt insertion hole formed in a vertical direction at the center; And
And a flange portion protruding along the edge of the lower end of the cylindrical portion so as to be seated on the lower surface of the rotary plate. 제1 항에 있어서,
상기 회전판과 볼트 사이에 구비되는 와셔를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.The method according to claim 1,
And a washer provided between the rotating plate and the bolt. ≪ Desc / Clms Page number 20 > 제1 항에 있어서,
상기 회전판과 연동될 수 있도록 회전판의 상부에 결합되는 패드 고정판;
상기 패드 고정판의 상부에 부착되는 제1 벨크로; 및
상기 제1 벨크로에 탈부착되는 제2 벨크로, 및 상기 제2 벨크로의 상단에 구비되고 바닥면에 직접 접촉하여 바닥면을 연마하는 연마부로 구성된 연마패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.The method according to claim 1,
A pad fixing plate coupled to an upper portion of the rotary plate so as to be interlocked with the rotary plate;
A first Velcro attached to an upper portion of the pad fixing plate; And
And a polishing pad which is provided on an upper end of the second Velcro and is configured to be in direct contact with the bottom surface and to polish the bottom surface, characterized in that the polishing pad further comprises a polishing pad Abrasive pad assembly. 제5 항에 있어서,
상기 회전판은 테두리를 따라 복수개의 내삽홀이 형성되며,
상기 패드 고정판은 각각의 내삽홀과 마주보는 하면에 내삽홀에 끼움 결합되는 결합돌기가 돌출형성된 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체.6. The method of claim 5,
The rotary plate has a plurality of insertion holes formed along the rim,
Wherein the pad fixing plate is formed with a coupling protrusion protruding from the bottom surface of the pad fixing plate, the insertion protrusion being fitted into the insertion hole. 제6 항에 있어서,
상기 결합돌기는 말단의 테두리 부분이 곡면을 갖도록 형성된 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체. The method according to claim 6,
Wherein the engaging projection is formed so that a rim portion of a distal end thereof has a curved surface. 제5 항에 있어서, 상기 패드 고정판은
상기 연마패드가 밀착되는 원판부; 및
상기 원판부에 부착된 연마패드의 측면을 감쌀 수 있도록 원판부의 테두리를 따라 연마패드 방향으로 돌출형성된 걸림턱으로 구성된 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체. 6. The apparatus according to claim 5, wherein the pad fixing plate
A disc portion on which the polishing pad is closely adhered; And
And a latching protrusion protruding in the direction of the polishing pad along a rim of the disc so as to cover the side surface of the polishing pad attached to the disc portion. 제8 항에 있어서, 상기 원판부는
일정한 외형을 유지할 수 있도록 금속 또는 합성수지로 형성된 중심판; 및
상기 중심판으로 인가된 충격을 완충시킬 수 있도록 중심판의 표면에 구비된 코팅층으로 구성된 것을 특징으로 하는 폴리싱 머신용 회전형 연마패드 조립체. 9. The apparatus of claim 8, wherein the disc
A center plate formed of a metal or a synthetic resin so as to maintain a constant external shape; And
And a coating layer provided on a surface of the center plate to buffer the impact applied to the center plate.
KR1020180118860A 2018-10-05 2018-10-05 Polishing pad assembly for polishing machine KR101943897B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180118860A KR101943897B1 (en) 2018-10-05 2018-10-05 Polishing pad assembly for polishing machine

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020180118860A KR101943897B1 (en) 2018-10-05 2018-10-05 Polishing pad assembly for polishing machine

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101943897B1 true KR101943897B1 (en) 2019-01-30

Family

ID=65277160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020180118860A KR101943897B1 (en) 2018-10-05 2018-10-05 Polishing pad assembly for polishing machine

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101943897B1 (en)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6292152A (en) * 1985-10-17 1987-04-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Tape recorder
KR100820726B1 (en) 2006-09-11 2008-04-11 김춘동 The Running Gear of The Dry Type Polishing Machine
KR20110056610A (en) 2009-11-23 2011-05-31 오정규 Moving polishing apparatus
KR20150003268U (en) * 2014-02-24 2015-09-02 주식회사 폴리시스 Polishing pad with velcro type
KR101609317B1 (en) 2013-12-11 2016-04-05 주식회사 디아이티 Polishing appartus

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6292152A (en) * 1985-10-17 1987-04-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Tape recorder
KR100820726B1 (en) 2006-09-11 2008-04-11 김춘동 The Running Gear of The Dry Type Polishing Machine
KR20110056610A (en) 2009-11-23 2011-05-31 오정규 Moving polishing apparatus
KR101609317B1 (en) 2013-12-11 2016-04-05 주식회사 디아이티 Polishing appartus
KR20150003268U (en) * 2014-02-24 2015-09-02 주식회사 폴리시스 Polishing pad with velcro type

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2097176B1 (en) Buffing pad centering system
US8366518B2 (en) Orbital smoothing device
US2633008A (en) Resilient coupling
KR20090074461A (en) Attachable device for hand grinding disk
KR101570052B1 (en) Hand grinder
EP0123722A2 (en) Clutch assembly for sanding head
US2629990A (en) Resilient coupling for abrasive wheels
EP2262613B1 (en) Method, apparatus, and system using adapter assembly for modifying surfaces
KR101943897B1 (en) Polishing pad assembly for polishing machine
US9089945B2 (en) Orbital smoothing device
KR20090077241A (en) Jig for fixing grinder band
US2666281A (en) Back pad
KR200424377Y1 (en) Grinding wheel for use in a hand grinder
KR200229950Y1 (en) A grinding head for a hand-grinder
KR101553991B1 (en) Wheel structure for grinding apparatus
CN113547460A (en) Polishing or sanding element and hand-guided power tool
JP2012139737A (en) Power tool
WO2002072313A1 (en) Operating plate with a basically circular shape for portable tools
JP3157305U (en) Portable disc grinder
KR200354831Y1 (en) Grinding wheel
KR200400194Y1 (en) Wheel paper of grinder
WO2010147086A1 (en) Grinding device
JPH0750141Y2 (en) Polishing tool
KR101615727B1 (en) Grinding apparatus
KR200195669Y1 (en) Device for fixing grinding disc in hand grinder

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant