KR101932769B1 - Salt and colored curable composition - Google Patents

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Abstract

본 발명은 각각 식 (I), (Ⅱ), (Ⅲ) 및 (Ⅳ) 로 나타내는 아니온으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 아니온과, 크산텐 골격을 갖는 카티온을 함유하는 염을 제공한다.

Figure 112012049465634-pat00115

[식 (I) 중, X1 및 X2 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타내거나, 또는, X1 과 X2 가 결합하여 탄소수 2 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 형성한다]
Figure 112012049465634-pat00116

[식 (Ⅱ) 중, X3 ∼ X5 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]
Figure 112012049465634-pat00117

[식 (Ⅲ) 중, Y1 은 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 나타낸다]
Figure 112012049465634-pat00118

[식 (Ⅳ) 중, Y2 는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]The present invention provides salts containing at least one anion selected from the group consisting of anions represented by formulas (I), (II), (III) and (IV) and a cation having a xanthene skeleton do.
Figure 112012049465634-pat00115

[In the formula (I), X 1 and X 2 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or X 1 And X 2 Form a fluorinated alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms]
Figure 112012049465634-pat00116

[In the formula (II), X 3 to X 5 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
Figure 112012049465634-pat00117

[In the formula (III), Y 1 Represents a fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms]
Figure 112012049465634-pat00118

[In the formula (IV), Y 2 Represents a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]

Description

염 및 착색 경화성 조성물{SALT AND COLORED CURABLE COMPOSITION}SALT AND COLORED CURABLE COMPOSITION [0001]

본 발명은 염료로서 유용한 염 및 그것을 함유하는 착색 경화성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a salt useful as a dye and a colored curable composition containing the same.

염료는, 예를 들면, 섬유 재료, 액정 표시 장치, 잉크젯 및 기록 재료 등의 분야에서 사용되고 있다. 이와 같은 염료로서는, 예를 들어, 하기 식 (h-1) 로 나타내는 화합물이 알려져 있다 (JP2011-100114-A).Dyes are used in the fields of, for example, textile materials, liquid crystal display devices, inkjets, and recording materials. As such a dye, for example, a compound represented by the following formula (h-1) is known (JP2011-100114-A).

Figure 112012049465634-pat00001
Figure 112012049465634-pat00001

종래부터 공지된 상기의 염은 유기 용매에 대한 용해성을 충분히 만족시킬 수 있는 것은 아니었다.Conventionally known salts mentioned above can not sufficiently satisfy the solubility in an organic solvent.

본 발명은 하기 [1] ∼ [11] 에 기재된 발명을 포함한다.The present invention includes the inventions described in the following [1] to [11].

[1] 각각 식 (I), (Ⅱ), (Ⅲ) 및 (Ⅳ) 로 나타내는 아니온으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 아니온과, 크산텐 골격을 갖는 카티온을 함유하는 염.[1] A salt containing at least one anion selected from the group consisting of anions represented by formulas (I), (II), (III) and (IV) and a cation having a xanthene skeleton.

식 (Ⅰ)The formula (I)

Figure 112012049465634-pat00002
Figure 112012049465634-pat00002

[식 중, X1 및 X2 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타내거나, 또는, X1 과 X2 가 결합하여 탄소수 2 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 형성한다]Wherein X 1 and X 2 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or X 1 And X 2 Form a fluorinated alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms]

식 (Ⅱ) The formula (II)

Figure 112012049465634-pat00003
Figure 112012049465634-pat00003

[식 중, X3 ∼ X5 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]Wherein X 3 to X 5 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]

식 (Ⅲ) The formula (III)

Figure 112012049465634-pat00004
Figure 112012049465634-pat00004

[식 중, Y1 은 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 나타낸다]Wherein Y < 1 > Represents a fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms]

식(Ⅳ) The formula (IV)

Figure 112012049465634-pat00005
Figure 112012049465634-pat00005

[식 중, Y2 는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]Wherein Y < 2 > Represents a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]

[2] 또한, 2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자를 함유하는 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 를 함유하는 [1] 에 기재된 염.[2] The salt according to [1], further comprising an n-valent organometallic anion M n - containing a metal atom capable of forming a divalent or higher valent metal ion.

[3] 상기 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 를 식 (1)[3] The n-valent organometallic anion M n -

Figure 112012049465634-pat00006
Figure 112012049465634-pat00006

[식 (1) 중, Mn - 는 상기의 유기 금속 아니온을 나타낸다. Z+ 는 하이드론 또는 알칼리 금속 카티온을 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. n 이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 Z+ 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다] 로 나타내는 화합물로 했을 때 하기 요건 a 가 만족되는 아니온인 [2] 에 기재된 염.[In the formula (1), M n - represents an organic metal anion as described above. Z + represents a hydron or an alkali metal cation. and n represents an integer of 1 to 3. and when n is an integer of 2 or more, plural Z & lt ; + > s may be mutually the same or different.] The salt according to [2], wherein the compound satisfies the following requirement a.

요건 a : 식 (1) 로 나타내는 화합물의 농도 0.028 g/ℓ 용액으로 측정되는 흡광도가 파장 400 ∼ 900 ㎚ 의 전체 범위에 걸쳐 0.05 이하이다.Requirement a: The absorbance measured with a 0.028 g / l solution of the compound represented by the formula (1) is 0.05 or less over the entire range of the wavelength of 400 to 900 nm.

[4] 상기 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 가 치환기를 가지고 있어도 되는 살리실산, 또는 아미노기에 결합된 카르복시메틸기를 복수 갖는 화합물에서 유래하는 구조를 갖는 유기 금속 아니온인 [2] 또는 [3] 에 기재된 염.[4] The organic metal anion of [2] or [3], wherein the n-valent organometallic anion M n - is derived from a compound having a plurality of carboxymethyl groups bonded to salicylic acid or an amino group, Lt; / RTI >

[5] 상기 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 에 함유되는 2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자가 Al, Cr 또는 Co 인 [2] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 염.[5] The salt according to any one of [2] to [4], wherein the metal atom capable of forming a divalent or higher valent metal ion contained in the n-valent organometallic anion M n - is Al, Cr or Co.

[6] [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 염을 유효 성분으로서 함유하는 염료.[6] A dye comprising the salt according to any one of [1] to [5] as an active ingredient.

[7] [6] 에 기재된 염료와 중합성 화합물을 함유하는 착색 경화성 조성물.[7] A colored curable composition containing the dye according to [6] and a polymerizable compound.

[8] 추가로 안료를 함유하는 [7] 에 기재된 착색 경화성 조성물.[8] The colored curable composition according to [7], further comprising a pigment.

[9] 추가로 수지 및 중합 개시제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 [7] 또는 [8] 에 기재된 착색 경화성 조성물.[9] The colored curable composition according to [7] or [8], further comprising at least one selected from the group consisting of a resin and a polymerization initiator.

[10] [7] ∼ [9] 중 어느 하나에 기재된 착색 경화성 조성물에 의해 형성되는 컬러 필터.[10] A color filter formed by the colored curable composition according to any one of [7] to [9].

[11] [10] 에 기재된 컬러 필터를 구비하는 표시 장치.[11] A display device comprising the color filter according to [10].

본 발명의 염은 유기 용매에 대한 용해성이 우수하다.The salt of the present invention is excellent in solubility in an organic solvent.

본 발명의 염은 각각 하기 식 (I), (Ⅱ), (Ⅲ) 및 (Ⅳ) 로 나타내는 아니온으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 아니온과, 크산텐 골격을 갖는 카티온을 함유한다.The salt of the present invention contains at least one anion selected from the group consisting of anions represented by the following formulas (I), (II), (III) and (IV) and a cation having a xanthene skeleton .

Figure 112012049465634-pat00007
Figure 112012049465634-pat00007

[식 (I) 중, X1 및 X2 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타내거나, 또는, X1 과 X2 가 결합하여 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 형성한다][In the formula (I), X 1 and X 2 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or X 1 And X 2 To form a fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms]

Figure 112012049465634-pat00008
Figure 112012049465634-pat00008

[식 (Ⅱ) 중, X3 ∼ X5 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다] [In the formula (II), X 3 to X 5 Each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]

Figure 112012049465634-pat00009
Figure 112012049465634-pat00009

[식 (Ⅲ) 중, Y1 은 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 나타낸다][In the formula (III), Y 1 Represents a fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms]

Figure 112012049465634-pat00010
Figure 112012049465634-pat00010

[식 (Ⅳ) 중, Y2 는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다][In the formula (IV), Y 2 Represents a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]

상기 식 (Ⅰ) 및 (Ⅱ) 에 있어서 X1 ∼ X5 로 각각 나타내는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기로서는, 퍼플루오로알킬기가 바람직하고, 예를 들어 -CF3, -CF2CF3, -CF2CF2CF3, -CF(CF3)2, -CF2CF2CF2CF3, -CF2CF(CF3)2, -C(CF3)3 등을 들 수 있다.As the fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by X 1 to X 5 in the formulas (I) and (II), a perfluoroalkyl group is preferable, and for example, -CF 3 , -CF 2 CF 3 , CF 2 CF 2 CF 3 , -CF (CF 3 ) 2 , -CF 2 CF 2 CF 2 CF 3 , -CF 2 CF (CF 3 ) 2 and -C (CF 3 ) 3 .

상기 식 (Ⅰ) 에 있어서 X1 과 X2 가 결합하여 형성되는 탄소수 2 ∼ 4 인 불화알칸디일기로서는 퍼플루오로알칸디일기가 바람직하고, 예를 들어 -CF2CF2-, -CF2CF2CF2-, -CF2CF2CF2CF2- 등을 들 수 있다.In the above formula (I), X 1 And X 2 Is preferably a perfluoroalkanediyl group, and examples thereof include -CF 2 CF 2 -, -CF 2 CF 2 CF 2 -, -CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 - and the like.

상기 식 (Ⅲ) 에 있어서 Y1 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기로서는 퍼플루오로알칸디일기가 바람직하고, 예를 들어 -CF2-, -CF2CF2-, -CF2CF2CF2-, -C(CF3)2-, -CF2CF2CF2CF2- 등을 들 수 있다.As the fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by Y 1 in the above formula (III), a perfluoroalkanediyl group is preferable, and for example, -CF 2 -, -CF 2 CF 2 -, -CF 2 CF 2 CF 2 -, -C (CF 3 ) 2 -, -CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 - and the like.

상기 식 (Ⅳ) 에 있어서 Y2 로 나타내는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기로서는 퍼플루오로알킬기가 바람직하고, 예를 들어 -CF3, -CF2CF3, -CF2CF2CF3, -CF(CF3)2, -CF2CF2CF2CF3, -CF2CF(CF3)2, -C(CF3)3 등을 들 수 있다.As the fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms represented by Y 2 in the above formula (IV), a perfluoroalkyl group is preferable, and for example, -CF 3 , -CF 2 CF 3 , -CF 2 CF 2 CF 3 , -CF and the like (CF 3) 2, -CF 2 CF 2 CF 2 CF 3, -CF 2 CF (CF 3) 2, -C (CF 3) 3.

상기 식 (I) 로 나타내는 아니온 (이하 「아니온 (Ⅰ)」이라고 하는 경우가 있다) 으로서는, 예를 들어 하기의 아니온 (I-1) ∼ (I-6) 을 들 수 있다.Examples of the anion represented by the above formula (I) (hereinafter sometimes referred to as "anion (I)") include the following anions (I-1) to (I-6).

Figure 112012049465634-pat00011
Figure 112012049465634-pat00011

상기 식 (Ⅱ) 로 나타내는 아니온 (이하 「아니온 (Ⅱ)」라고 하는 경우가 있다) 으로서는, 예를 들어 하기의 아니온 (Ⅱ-1) 을 들 수 있다.Examples of the anion represented by the above formula (II) (hereinafter sometimes referred to as "anion (II)") include the following anion (II-1).

Figure 112012049465634-pat00012
Figure 112012049465634-pat00012

상기 식 (Ⅲ) 으로 나타내는 아니온 (이하 「아니온 (Ⅲ)」이라고 하는 경우가 있다) 으로서는, 예를 들어 하기의 아니온 (Ⅲ-1) ∼ (Ⅲ-4) 를 들 수 있다.Examples of the anion represented by the above formula (III) (hereinafter also referred to as "anion (III)") include the following anions (III-1) to (III-4).

Figure 112012049465634-pat00013
Figure 112012049465634-pat00013

상기 식 (Ⅳ) 로 나타내는 아니온 (이하 「아니온 (Ⅳ)」라고 하는 경우가 있다) 으로서는, 예를 들어 하기의 아니온 (Ⅳ-1) ∼ (Ⅳ-4) 를 들 수 있다.Examples of the anion represented by the above formula (IV) (hereinafter also referred to as "anion (IV)") include the following anions (IV-1) to (IV-4).

Figure 112012049465634-pat00014
Figure 112012049465634-pat00014

아니온 (I), 아니온 (Ⅱ), 아니온 (Ⅲ) 및 아니온 (Ⅳ) 로 이루어지는 군에서 선택되는 아니온 (이하 「아니온 (I) ∼ (Ⅳ)」라고 하는 경우가 있다) 을 함유함으로써, 본 발명의 염은 카티온의 유래가 되는 크산텐 염료의 색 성능을 유지하면서, 유기 용매에 대한 용해성을 향상시킬 수 있다. 그 중에서도, 아니온 (Ⅱ) 가 바람직하고, 아니온 (Ⅱ-1) 이 보다 바람직하다.Anion selected from the group consisting of anion (I), anion (II), anion (III) and anion (IV) (hereinafter sometimes referred to as "anion (I) - (IV) , The salt of the present invention can improve the solubility in an organic solvent while maintaining the color performance of the xanthan gum that is the origin of the cation. Among them, anion (II) is preferable, and anion (II-1) is more preferable.

본 발명의 염에 함유되는 카티온은 크산텐 골격을 갖는다. 바람직하게는, 크산텐 염료에서 유래하는 카티온이다. 크산텐 염료란, 분자 내에 크산텐 골격을 갖는 염료의 총칭이다. 그 크산텐 골격 상에 아미노기를 적어도 하나 가지고 있는 것이 바람직하고, 그 아미노기를 2 개 가지고 있는 것이 보다 바람직하다. 본 발명의 염에 함유되는 카티온은 그 아미노기의 질소 원자가 정전하를 띤 구조를 갖는 카티온인 것이 바람직하고, 이미늄 카티온인 것이 보다 바람직하다.The cation contained in the salt of the present invention has a xanthene skeleton. Preferably, it is a cation derived from a xanthene dye. A xanthene dye is a generic name of a dye having a xanthene skeleton in a molecule. It is preferable that the xanthene skeleton has at least one amino group and more preferably two amino groups. The cation contained in the salt of the present invention is preferably a cation having a structure in which the nitrogen atom of the amino group has an electrostatic charge, more preferably iminium cation.

이러한 크산텐 염료로서는, 에오신 (Eosin) 계 염료, 플루오레세인 (Fluorescein) 계 염료, 로다민 (Rhodamine) 계 염료, 피로닌 (Pyronine) 계 염료, 로자민 (Rosamine) 계 염료 등을 들 수 있다. 또, Synlett, 2010, No.1, p.89-92 에 기재되어 있는 바와 같은, 크산텐 골격의 산소 원자가 황 원자, 셀렌 원자 또는 텔루르 원자로 치환된 로다민 (Rhodamine) 계 염료나 로자민 (Rosamine) 계 염료 등도 들 수 있다.Examples of such xanthene dyes include eosin dyes, fluorescein dyes, rhodamine dyes, pyronine dyes, and rosamine dyes. . Also, as described in Synlett, 2010, No. 1, p. 89-92, rhodamine-based dyes in which the oxygen atom of the xanthene skeleton is substituted with a sulfur atom, a selenium atom or a tellurium atom, ) Based dyes.

크산텐 염료는 통상적으로 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 이외의 아니온 (바람직하게는, C1- 또는 PF6 -) 을 갖거나, 분자 내에 카르복실레이트기 (-COO-) 나 술포네이트기 (-SO3 -) 등의 아니온성기를 갖는다. 전자의 경우, 크산텐 염료는 이른바 염기성 염료이며, 크산텐 염료에서 유래하는 카티온은 통상적으로 크산텐 염료로부터 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 이외의 아니온의 일부 또는 전부 (바람직하게는 전부) 를 제외한 카티온이다. 후자의 경우, 크산텐 염료는 이른바 내부 염이고, 크산텐 염료에서 유래하는 카티온은 통상적으로 이러한 내부 염이 갖는 아니온성기의 일부 또는 전부 (바람직하게는 전부) 가 중화된 구조의 카티온이다. 여기서, 아니온성 기로서 예를 들어, 카르복실레이트기 (-COO-) 가 중화된 기는 카르복실기 (-COOH) 또는 그 염 (-COONa 등) 이고, 술포네이트기 (-SO3 -) 가 중화된 기는 술포기 (-SO3H) 또는 그 염 (-SO3Na 등) 이다.Xanthene dyes are typically anionic (I) ~ (Ⅳ) anion other than (preferably, C1 - or PF 6 -) or have a, carboxylate group (-COO -) in the molecule or sulfonate group (-SO 3 -) it has an anionic and the like. In the case of the former, the xanthene dyes are so-called basic dyes, and the cation derived from the xanthene dyes usually contains some or all of the anions other than anions (I) to (IV) (preferably all ). In the latter case, the xanthene dyes are so-called internal salts, and the cation derived from the xanthene dyes is usually a cationic structure in which some or all (preferably all) of the anionic groups of such internal salts are neutralized . Here, not, for example, a carboxylate group (-COO -), an ionic group-the neutralization the neutralized group is a carboxyl group (-COOH) or its salt (-COONa, etc.), sulfonate group (-SO 3) The group is sulfo group (-SO 3 H) or its salt (-SO 3 Na etc.).

크산텐 염료 중 염기성 염료의 구체예로서는, C.I. Basic Red 1, C.I. Basic Red 2, C.I. Basic Red 3, C.I. Basic Red 4, Basic Red 8, Basic Red 11, C.I. Basic Violet 10, C.I. Basic Violet 11, C.I. Basic Violet 25, 및, 하기 식 (h-1) ∼ (h-82) 로 각각 나타내는 염료 등을 들 수 있다.Specific examples of the basic dyes in the xanthene dyes include C.I. Basic Red 1, C.I. Basic Red 2, C.I. Basic Red 3, C.I. Basic Red 4, Basic Red 8, Basic Red 11, C.I. Basic Violet 10, C.I. Basic Violet 11, C.I. Basic Violet 25, and dyes represented by the following formulas (h-1) to (h-82).

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크산텐 염료 중 내부 염의 구체예로서는, C.I. Mordant Red 27, 및, 하기 식 (h-100) ∼ (h-118) 로 각각 나타내는 염료 등을 들 수 있다.Specific examples of the internal salt in the xanthene dye include C.I. Mordant Red 27, and dyes represented by the following formulas (h-100) to (h-118), and the like.

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본 발명의 염은 상기 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 와, 크산텐 염료에서 유래하는 카티온의 조합을 함유한다. 이러한 조합의 구체예를 표 1 ∼ 3 에 나타낸다. 또한, 표 1 및 2 의 카티온란에는 그 유래가 되는 크산텐 염료 중 염기성 염료를 기재하고 있다. 상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 염에 함유되는 카티온은 이러한 염기성 염료로부터 Cl- 또는 PF6 - 를 제외한 카티온이다. 또, 표 3 의 카티온란에는 그 유래가 되는 크산텐 염료 중 내부 염을 기재하고 있다. 상기 서술한 바와 같이, 본 발명의 염에 함유되는 카티온은 이러한 내부 염이 갖는 아니온성기가 중화된 구조의 카티온이다.The salt of the present invention contains a combination of anions (I) to (IV) and a cation derived from a xanthene dye. Specific examples of such combinations are shown in Tables 1 to 3. In the cartion columns of Tables 1 and 2, the basic dyes in the xanthene dyes from which they are derived are described. As described above, the cation contained in the salt of the present invention is a cation other than Cl - or PF 6 - from such a basic dye. In the cartion column of Table 3, the inner salt of the xanthene dyes from which they are derived is described. As described above, the cation contained in the salt of the present invention is a cation of a structure in which the anionic group possessed by the inner salt is neutralized.

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본 발명의 염은, 또한, 2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자를 함유하는 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 를 함유하는, 이른바 혼합염이면, 더욱 용해성이 향상되므로 바람직하다. 이러한 n 가의 유기 금속 아니온 Mn - 를 식 (1)The salt of the present invention is preferably a so-called mixed salt containing an n-valent organometallic anion M n - containing a metal atom capable of forming a divalent or higher metal ion, because the solubility is further improved. These n is the organometallic anion M n - (1)

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[식 (1) 중, Mn - 는 상기의 유기 금속 아니온을 나타낸다. Z+ 는 하이드론 또는 알칼리 금속 카티온을 나타낸다. n 은 1 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. n 이 2 이상의 정수인 경우, 복수의 Z+ 는 서로 동일해도 되고 상이해도 된다][In the formula (1), M n - represents an organic metal anion as described above. Z + represents a hydron or an alkali metal cation. and n represents an integer of 1 to 3. when n is an integer of 2 or more, plural Z & lt ; + > s may be mutually the same or different)

로 나타내는 화합물 (이하 「화합물 (1)」이라고 하는 경우가 있다) 로 했을 때 하기 요건 a 가 만족되는 아니온인 것이 보다 바람직하다.(Hereinafter may be referred to as " compound (1) "), anion satisfying the following requirement a is more preferable.

요건 a : 화합물 (1) 의 농도 0.028 g/ℓ 용액으로 측정되는 흡광도가 파장 400 ∼ 900 ㎚ 의 전체 범위에 걸쳐 0.05 이하이다.Requirement a: The absorbance measured with a 0.028 g / l solution of Compound (1) is 0.05 or less over the entire range of wavelengths from 400 to 900 nm.

이러한 요건 a 에 있어서, 락트산에틸, 클로로포름, N,N-디메틸포름아미드, 이온 교환수, 메탄올, 에탄올 및 톨루엔으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 용매에 화합물 (1) 을 용해시켜, 농도 0.028 g/ℓ 용액을 제조하고, 이 용액에 대해 파장 400 ∼ 900 ㎚ 의 흡광도를 측정한다. 그 흡광도는 파장 400 ∼ 900 ㎚ 전체 영역에 걸쳐 0.05 이하이며, 바람직하게는 0.035 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.OO5 이하이다.In this requirement a, the compound (1) is dissolved in at least one solvent selected from the group consisting of ethyl lactate, chloroform, N, N-dimethylformamide, ion exchange water, methanol, ethanol and toluene to give a concentration of 0.028 g / L solution is prepared, and the absorbance at a wavelength of 400 to 900 nm is measured for this solution. The absorbance is 0.05 or less, preferably 0.035 or less, more preferably 0.0005 or less over the entire wavelength range of 400 to 900 nm.

화합물 (1) 이 요건 a 를 만족시키면, 본 발명의 염은 카티온의 유래가 되는 크산텐 염료의 색 성능을 유지하면서, 유기 용매에 대한 용해성을 더욱 향상시키는 경향이 있어 바람직하다.When the compound (1) satisfies the requirement (a), the salt of the present invention is preferable because it tends to further improve the solubility in an organic solvent while maintaining the color performance of the xanthene dye originating from the cation.

식 (1) 에 있어서 Z+ 로 나타내는 알칼리 금속으로서는 나트륨 및 칼륨 등을 들 수 있다.Examples of the alkali metal represented by Z + in the formula (1) include sodium and potassium.

식 (1) 에 있어서 Mn - 로 나타내는 유기 금속 아니온은, 2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자와 유기 화합물이 이온 결합 또는 배위 결합에 의해 결합한 구조를 갖는다. 이러한 유기 화합물로서는, 치환기를 가지고 있어도 되는 살리실산, 아미노기에 결합한 카르복시메틸기를 복수 갖는 화합물, 치환기를 가지고 있어도 되는 벤질산, 치환기를 가지고 있어도 되는 만델산 및 치환기를 가지고 있어도 되는 피콜린산 등을 들 수 있다. 유기 금속 아니온 Mn - 로서는, 치환기를 가지고 있어도 되는 살리실산, 또는 아미노기에 결합한 카르복시메틸기를 복수 갖는 화합물에서 유래하는 구조를 갖는 유기 금속 아니온이 바람직하다.The organometallic anion represented by M n - in the formula (1) has a structure in which a metal atom capable of forming a divalent or higher valent metal ion and an organic compound are bonded by ionic bonding or coordination bonding. Examples of such organic compounds include salicylic acid which may have a substituent, a compound having a plurality of carboxymethyl groups bonded to the amino group, benzylic acid which may have a substituent, mandelic acid which may have a substituent, and picolinic acid which may have a substituent have. As the organic metal anion M n - , an organic metal anion having a structure derived from a salicylic acid which may have a substituent or a compound having a plurality of carboxymethyl groups bonded to an amino group is preferable.

상기의 치환기를 가지고 있어도 되는 살리실산으로서는, 예를 들어, 살리실산, 3-메틸살리실산, 3-tert-부틸살리실산, 3-아미노살리실산, 3-클로로살리실산, 4-브로모살리실산, 3-메톡시살리실산, 2-하이드록시살리실산, 3-니트로살리실산, 4-트리플루오로메틸살리실산, 3,5-디-tert-부틸살리실산, 3,5-디브로모살리실산, 3,5-디클로로살리실산, 3,5,6-트리클로로살리실산, 4-하이드록시살리실산, 5-하이드록시살리실산 등을 들 수 있다Examples of the salicylic acid which may have a substituent include salicylic acid, 3-methylsalicylic acid, 3-tert-butylsalicylic acid, 3-aminosalicylic acid, 3-chlorosalicylic acid, 4-bromosalicylic acid, 3- 3,5-dibromosalicylic acid, 3,5-dichlorosalicylic acid, 3,5-dibromosalicylic acid, 3,5-dibromosalicylic acid, 3,5-dibromosalicylic acid, 6-trichlorosalicylic acid, 4-hydroxysalicylic acid, 5-hydroxysalicylic acid, and the like

상기의 아미노기에 결합한 카르복시메틸기를 복수 갖는 화합물로서는, 예를 들어,As the compound having a plurality of carboxymethyl groups bonded to the amino group, for example,

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Figure 112012049465634-pat00040

등을 들 수 있다.And the like.

상기의 치환기를 가지고 있어도 되는 벤질산으로서는, 예를 들어, As the benzylic acid which may have the above substituent, for example,

Figure 112012049465634-pat00041
Figure 112012049465634-pat00041

등을 들 수 있다.And the like.

상기의 치환기를 가지고 있어도 되는 만델산으로서는, 예를 들어, As the above-mentioned mandelic acid which may have a substituent, for example,

Figure 112012049465634-pat00042
Figure 112012049465634-pat00042

등을 들 수 있다.And the like.

상기의 치환기를 가지고 있어도 되는 피콜린산으로서는, 예를 들어, As the above-mentioned picolinic acid which may have a substituent, for example,

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Figure 112012049465634-pat00044
Figure 112012049465634-pat00044

등을 들 수 있다.And the like.

2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자로서는, Al, Cr, Co, Fe, Cu, Ni, Co, Zn, Mg, Ca 및 Ba 등을 들 수 있다.Examples of the metal atom capable of forming a divalent or higher metal ion include Al, Cr, Co, Fe, Cu, Ni, Co, Zn, Mg, Ca and Ba.

그 중에서도 Al, Cr, 및 Co 가 바람직하다.Among them, Al, Cr, and Co are preferable.

유기 금속 아니온 Mn - 로서는, 예를 들어, 하기의 아니온 (c-1) ∼ 아니온 (c-72) 등을 들 수 있다.Examples of the organic metal anion M n - include anion (c-1) to anion (c-72) shown below.

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그 중에서도, 아니온 Mn - 로서는, 아니온 (c-2), 아니온 (c-6) ∼ 아니온 (c-9), 아니온 (c-14) ∼ 아니온 (c-17), 아니온 (c-21), 아니온 (c-22), 아니온 (c-24) ∼ 아니온 (c-26), 아니온 (c-28), 아니온 (c-32) ∼ 아니온 (c-35), 아니온 (c-40) ∼ 아니온 (c-43), 아니온 (c-47), 아니온 (c-48), 아니온 (c-50) ∼ 아니온 (c-62), 아니온 (c-65) 및 아니온 (c-67) 이 바람직하고, 아니온 (c-2), 아니온 (c-21), 아니온 (c-22), 아니온 (c-26), 아니온 (c-28), 아니온 (c-47), 아니온 (c-48), 아니온 (c-52) 가 보다 바람직하고, 아니온 (c-28) 이 더욱 바람직하다. 이들 아니온이면, 본 발명의 염은 유기 용제에 대한 용해성이 더욱 우수한 경향이 있다.Among them, anion M n - includes anion c-2, anion c-6 to anion c-9, anion c-14 to anion c- Anion (c-21), Anion (c-22), Anion (c-24) to Anion (c-26), Anion (c-28) anion (c-40), anion (c-43), anion (c-47), anion (c-48) Anion (c-2), anion (c-21), anion (c-22), anion more preferably anion (c-28), anion (c-28), anion (c-28), anion desirable. If they are anionic, the salt of the present invention tends to be more soluble in an organic solvent.

유기 금속 아니온 Mn - 를 함유하는 본 발명의 염 (혼합염) 의 구체예를 표 13 에 나타낸다.Specific examples of the salt (mixed salt) of the present invention containing the organometallic anion M n - are shown in Table 13.

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Figure 112012049465634-pat00065

본 발명의 염은 크산텐 염료와 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 및 하이드론을 함유하는 화합물, 또는, 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 및 크산텐 염료에서 유래하지 않는 카티온 (바람직하게는 알칼리 금속 카티온) 을 함유하는 염을, 용매 중에서 혼합함으로써 제조할 수 있다. 또, 추가로 화합물 (1) 을 혼합하면, 본 발명의 염 중 혼합염을 제조할 수도 있다.The salt of the present invention can be prepared by reacting a xanthene dye with a compound containing anions (I) - (IV) and a hydron, or a cation not derived from an anion (I) - (IV) Can be produced by mixing a salt containing an alkali metal cation in a solvent. When the compound (1) is further mixed, a mixed salt in the salt of the present invention may be prepared.

혼합염에 함유되는 아니온의 비율은 혼합시키는 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 와 화합물 (1) 의 비율을 변경함으로써 적절히 조정할 수 있다.The ratio of the anions contained in the mixed salt can be suitably adjusted by changing the ratio of the anions (I) to (IV) and the compound (1) to be mixed.

혼합시에 사용하는 용매로서는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 아세토니트릴, 아세트산에틸, 톨루엔, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 물 및 클로로포름 등을 들 수 있다.As the solvent to be used for the mixing, there may be mentioned N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, acetonitrile, ethyl acetate, toluene, methanol, ethanol, isopropanol, , Tetrahydrofuran, dioxane, water and chloroform.

그 중에서도, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 및 물이 바람직하다. 이들 용매이면, 크산텐 염료, 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 를 함유하는 화합물 또는 염, 및 화합물 (1) 의 용해도가 높은 경향이 있다. Among these, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, methanol, ethanol, isopropanol and water are preferable. These solvents tend to have a high solubility of the xanthene dyes, the compounds or salts containing anions (I) to (IV), and the compound (1).

용매가 물인 경우, 크산텐 염료, 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 를 함유하는 화합물 또는 염, 및 화합물 (1) 을 용해시키기 위해, 아세트산이나 염산 등의 산을 첨가해도 된다.When the solvent is water, an acid such as acetic acid or hydrochloric acid may be added to dissolve the compound or salt containing xanthan dyes, anions (I) to (IV), and the compound (1).

크산텐 염료와 아니온 (I) ∼ (Ⅳ) 의 혼합은 양자를 상기의 용매에 용해시켜 실시해도 되고, 용해시키지 않고 실시해도 된다. 그러나, 양자가 용해되는 용매를 이용하고, 또한 용해시켜 실시함으로써, 높은 수율로 본 발명의 염을 얻을 수 있다.The mixture of xanthan dyes and anions (I) to (IV) may be carried out by dissolving both of them in the above-described solvent, or without dissolving them. However, the salt of the present invention can be obtained in a high yield by using and dissolving a solvent in which both are dissolved.

크산텐 염료와 아니온 (Ⅰ) ∼ (Ⅳ) 의 혼합 온도는 바람직하게는 O ℃ ∼ 150 ℃, 보다 바람직하게는 10 ℃ ∼ 120 ℃, 더욱 바람직하게는 20 ℃ ∼ 100 ℃ 이다.The mixing temperature of the xanthan dyes and anions (I) to (IV) is preferably 0 ° C to 150 ° C, more preferably 10 ° C to 120 ° C, and still more preferably 20 ° C to 100 ° C.

또한, 혼합 시간은 바람직하게는 1 시간 ∼ 72 시간, 보다 바람직하게는 2 시간 ∼ 24 시간, 더욱 바람직하게는 3 시간 ∼ 12 시간이다.The mixing time is preferably 1 hour to 72 hours, more preferably 2 hours to 24 hours, and further preferably 3 hours to 12 hours.

혼합에 사용한 용매가 물과 상용하는 용매인 경우에는, 그 용액에 물을 첨가하고, 다시 1 ∼ 3 시간 교반한 후, 석출물을 여과에 의해 취득하면, 본 발명의 염을 얻을 수 있다. 취득된 염은 필요에 따라 물로 세정해도 된다.When the solvent used in the mixing is a solvent compatible with water, water is added to the solution, and after stirring for another 1 to 3 hours, the precipitate is collected by filtration to obtain the salt of the present invention. The obtained salt may be washed with water as necessary.

혼합에 사용한 용매가 물과 상용하지 않는 용매인 경우에는, 그 용액에 물을 첨가하고, 다시 1 ∼ 3 시간 교반한다. 그 후, 유기층을 분액에 의해 취득하면, 본 발명의 염을 함유하는 용액을 얻을 수 있다. 얻어진 본 발명의 염을 함유하는 용액은 필요에 따라 물로 세정해도 된다. 본 발명의 염을 함유하는 용액으로부터 용매를 제거함으로써, 본 발명의 염을 얻을 수 있다.When the solvent used in the mixing is a solvent which is incompatible with water, water is added to the solution and the mixture is stirred for another 1 to 3 hours. Thereafter, an organic layer is separated by liquid separation to obtain a solution containing the salt of the present invention. The obtained solution containing the salt of the present invention may be washed with water as required. By removing the solvent from the solution containing the salt of the present invention, the salt of the present invention can be obtained.

또한, 본 발명의 염을 아세토니트릴, 아세트산에틸, 톨루엔, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 아세톤, 클로로포름 등의 용매에 용해시켜, 재결정에 의해 정제해도 된다.The salt of the present invention may be purified by recrystallization after dissolving the salt in a solvent such as acetonitrile, ethyl acetate, toluene, methanol, ethanol, isopropanol, acetone, or chloroform.

크산텐 염료는 시판되는 것을 사용해도 되고, 예를 들어, 호소다 유타카 저 「이론 제조 염료 화학」, 기보당, 369 ∼ 377 페이지, 마츠이 마사키 감수 「기능성 색소의 합성과 응용 기술」, 시엠시 출판, 89 ∼ 96 페이지, Synlett, 2010, No.1, p.89-92, J.0rganic Chemistry, 2008, Vo1.73,8711-8718 등에 기재된 공지된 방법으로 제조한 것을 사용해도 된다.The xanthan dyes may be those commercially available, for example, in Hosoda Yutaka, " Theoretical Preparation Dye Chemistry ", Giboda, pp. 369-377, supervised by Masaki Matsui, " Synthesis and Application of Functional Dyes, , Pages 89 to 96, Synlett, 2010, No. 1, p.89-92, J.0rganic Chemistry, 2008, Vo1.73, 8711-8718, or the like.

화합물 (1) 은 시판되는 것을 사용해도 되고, 예를 들어, 일본 특허공보 평8-10360 JPH8-10360-B 나 JP2002-258537-A 및 실험 화학 강좌 5 판 22 권 312-313 페이지 등에 기재된 바와 같이, 배위자가 되는 화합물과 금속의 황산염이나 염화물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다.The compound (1) may be a commercially available product. For example, as described in JP-A-8-10360 JPH8-10360-B, JP2002-258537-A and Experimental Chemistry Lecture 5, Vol. 22, , By reacting a compound which is a ligand with a sulfate or chloride of a metal.

이렇게 하여 얻어진 본 발명의 염은 염료로서 유용하다. 또, 본 발명의 염은 유기 용매에 대한 용해성이 높은 점에서, 특히, 액정 표시 장치 등의 표시 장치의 컬러 필터에 사용되는 염료로서 유용하다.The salt of the present invention thus obtained is useful as a dye. In addition, the salt of the present invention is useful as a dye used in a color filter of a display device such as a liquid crystal display device, particularly in view of high solubility in an organic solvent.

본 발명의 염료는 본 발명의 염을 유효 성분으로 한다.The dye of the present invention contains the salt of the present invention as an active ingredient.

본 발명의 착색 경화성 조성물은 착색제 (이하 「착색제 (A)」라고 하는 경우가 있다) 로서 본 발명의 염료를 함유하고, 추가로 중합성 화합물 (C) 를 함유한다. 착색제로서 추가로 안료 (A1) 을 함유하는 것이 바람직하다.The colored curable composition of the present invention contains the dye of the present invention as a colorant (hereinafter sometimes referred to as "colorant (A)") and further contains a polymerizable compound (C). It is preferable to further contain the pigment (A1) as a coloring agent.

본 발명의 착색 경화성 조성물은, 또한, 수지 (B) 및 중합 개시제 (D) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 것이 바람직하고, 추가로, 용제 (E) 를 함유하는 것이 보다 바람직하다.The colored curable composition of the present invention preferably further contains at least one selected from the group consisting of the resin (B) and the polymerization initiator (D), and further preferably contains the solvent (E) .

본 발명의 착색 경화성 조성물은 착색제로서 본 발명의 염과는 상이한 염료 (이하 「염료 (A2)」라고 하는 경우가 있다) 를 함유해도 되고, 필요에 따라 중합 개시 보조제 (D1) 및 계면활성제 (F) 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유해도 된다.The color-curable composition of the present invention may contain a dye (hereinafter sometimes referred to as "dye (A2)") different from the salt of the present invention as a colorant and may contain a polymerization initiator (D1) and a surfactant ). ≪ / RTI >

<안료 (A1)>&Lt; Pigment (A1) >

안료 (A1) 로서는, 예를 들어, 컬러 인덱스 (The Society of Dyers and Colourists 출판) 에서 피그먼트로 분류되어 있는 화합물을 들 수 있다.As the pigment (A1), there can be mentioned, for example, a compound classified as pigment in the color index (The Society of Dyers and Colourists).

안료 (A1) 로서는, 예를 들어, C.I. 피그먼트 옐로우 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180, 194, 214 등의 황색 안료 ; As the pigment (A1), for example, C.I. Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 83, 86, 93, 94, 109, 110, 117, 125, 128, 137, 138, 139 , 147, 148, 150, 153, 154, 166, 173, 180, 194 and 214;

C.Ⅰ. 피그먼트 오렌지 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73 등의 오렌지색 안료 ;C.I. Orange pigments such as Pigment Orange 13, 31, 36, 38, 40, 42, 43, 51, 55, 59, 61, 64, 65, 71, 73;

C.I. 피그먼트 레드 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, 265 등의 적색 안료 ; C.I. Red pigments such as Pigment Red 9, 97, 105, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 176, 177, 180, 192, 209, 215, 216, 224, 242, 254, 255, 264, ;

C.I. 피그먼트 블루 15, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 6, 60 등의 청색 안료 ; C.I.피그먼트 바이올렛 1, 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37, 38 등의 바이올렛색 안료 ; C.I. Pigment Blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, and 60; Violet pigments such as CI Pigment Violet 1, 14, 19, 23, 29, 32, 33, 36, 37, 38;

C.I. 피그먼트 그린 7, 10, 15, 25, 36, 47, 58 등의 녹색 안료 ; C.I. Green pigments such as Pigment Green 7, 10, 15, 25, 36, 47, 58;

C.I. 피그먼트 브라운 23, 25 등의 브라운색 안료 ; C.I. Brown pigments such as Pigment Brown 23 and 25;

C.I. 피그먼트 블랙 1, 7 등의 흑색 안료 등을 들 수 있다. C.I. Pigment black 1, pigment black 7, and the like.

이들 안료는 단독이거나, 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.These pigments may be used singly or in combination of two or more kinds.

안료 (A1) 로서는, 적색 안료가 바람직하고, C.I. 피그먼트 바이올렛 254 가 보다 바람직하다. 상기의 안료를 함유함으로써, 투과 스펙트럼의 최적화가 용이하고, 컬러 필터의 내광성 및 내약품성이 양호하게 된다.As the pigment (A1), a red pigment is preferable, and C.I. Pigment violet 254 is more preferable. By containing the above pigment, the transmission spectrum can be easily optimized, and the light resistance and chemical resistance of the color filter can be improved.

안료 (A1) 은 필요에 따라, 로진 처리, 산성기 또는 염기성기가 도입된 안료 유도체 등을 사용한 표면 처리, 고분자 화합물 등에 의한 안료 표면에 대한 그래프트 처리, 황산 미립화법 등에 의한 미립화 처리, 또는 불순물을 제거하기 위한 유기 용제나 물 등에 의한 세정 처리, 이온성 불순물의 이온 교환법 등에 의한 제거 처리 등이 실시되어 있어도 된다. If necessary, the pigment (A1) may be subjected to surface treatment using a rosin treatment, a pigment derivative into which an acidic group or a basic group has been introduced, graft treatment on the surface of the pigment with a polymer compound or the like, atomization treatment using a sulfuric acid atomization method, A cleaning treatment with an organic solvent or water for removing the ionic impurities, a removal treatment with an ion exchange method of ionic impurities, or the like may be performed.

안료 (A1) 은 입경이 균일한 것이 바람직하다. 안료 분산제를 함유시켜 분산 처리를 실시함으로써, 안료가 용액 중에서 균일하게 분산된 상태의 안료 분산액을 얻을 수 있다.It is preferable that the pigment A1 has a uniform particle size. By containing the pigment dispersant and carrying out the dispersion treatment, a pigment dispersion in which the pigment is uniformly dispersed in the solution can be obtained.

상기의 안료 분산제로서는, 예를 들어, 카티온계, 아니온계, 논이온계, 양쪽성, 폴리에스테르계, 폴리아민계, 아크릴계 등의 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들 안료 분산제는 단독이거나 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 안료 분산제로서는, 상품명으로 KP (신에츠 화학 공업 (주) 제조), 플로렌 (쿄에이샤 화학 (주) 제조), 소르스파스 (제네카 (주) 제조), EFKA (CIBA 사 제조), 아지스파 (아지노모토 파인 테크노 (주) 제조), Disperbyk (빅케미사 제조) 등을 들 수 있다. Examples of the pigment dispersant include surfactants such as cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, polyester surfactants, polyamine surfactants, and acrylic surfactants. These pigment dispersants may be used alone or in combination of two or more. Examples of the pigment dispersant include KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Floren (manufactured by Kyowa Chemical Industry Co., Ltd.), Sorusparse (manufactured by Zeneca), EFKA (manufactured by CIBA) (Manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.) and Disperbyk (manufactured by Big Chemical).

안료 분산제를 사용하는 경우, 그 사용량은 안료 (A1) 에 대해 바람직하게는 1 질량% 이상 100 질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 5 질량% 이상 50 질량% 이하이다. 안료 분산제의 사용량이 상기의 범위에 있으면, 균일한 분산 상태의 안료 분산액이 얻어지는 경향이 있다.When a pigment dispersant is used, its amount to be used is preferably 1% by mass or more and 100% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, based on the pigment (A1). When the amount of the pigment dispersant is in the above range, there is a tendency to obtain a pigment dispersion in a uniformly dispersed state.

<염료 (A2)>&Lt; Dye (A2) >

염료 (A2) 로서는, 유용성 염료, 산성 염료, 염기성 염료, 직접 염료, 매염염료, 산성 염료의 아민염이나 산성 염료의 술폰아미드 유도체 등의 염료를 들 수 있고, 예를 들어, 컬러 인덱스 (The Society of Dyers and Colourists 출판) 에서 염료로 분류되어 있는 화합물이나, 염색 노트 (색염사) 에 기재되어 있는 공지된 염료를 들 수 있다. 또, 화학 구조에 의하면, 아조 염료, 시아닌 염료, 트리페닐메탄 염료, 크산텐 염료, 프탈로시아닌 염료, 나프토퀴논 염료, 안트라퀴논 염료, 퀴논이민 염료, 메틴 염료, 아조메틴 염료, 스쿠아릴륨 염료, 아크리딘 염료, 스티릴 염료, 쿠마린 염료, 퀴놀린 염료 및 니트로 염료 등을 들 수 있다. 이들 중, 유기 용제 가용성 염료가 바람직하다.Examples of the dye (A2) include dyes such as oil-soluble dyes, acid dyes, basic dyes, direct dyes, mordant dyes, amine salts of acid dyes and sulfonamide derivatives of acid dyes. of Dyers and Colourists) or known dyes described in Dyeing Note (Color Dyeing). In addition, according to the chemical structure, it is possible to use an azo dye, a cyanine dye, a triphenylmethane dye, a xanthene dye, a phthalocyanine dye, a naphthoquinone dye, an anthraquinone dye, a quinoneimine dye, a methine dye, an azomethine dye, Acridine dyes, styryl dyes, coumarin dyes, quinoline dyes, and nitro dyes. Of these, organic solvent-soluble dyes are preferred.

구체적으로, C.I. 솔벤트 옐로우 4 (이하, C.I. 솔벤트 옐로우의 기재를 생략하고, 번호만 기재하기로 한다), 14, 15, 23, 24, 25, 38, 62, 63, 68, 79, 81, 82, 83, 89, 94, 98, 99, 162 ; C.I. 솔벤트 레드 24, 45, 49, 90, 91, 118, 119, 122, 124, 125, 127, 130, 132, 160, 218 ; Specifically, C.I. 14, 15, 23, 24, 25, 38, 62, 63, 68, 79, 81, 82, 83, 89 (hereinafter abbreviated as CI Solvent Yellow) , 94, 98, 99, 162; C.I. Solvent Red 24, 45, 49, 90, 91, 118, 119, 122, 124, 125, 127, 130, 132, 160, 218;

C.I. 솔벤트 오렌지 2, 7, 11, 15, 26, 41, 54, 56, 99 ;C.I. Solvent Orange 2, 7, 11, 15, 26, 41, 54, 56, 99;

C.I. 솔벤트 블루 35, 37, 59, 67 ; C.I. Solvent Blue 35, 37, 59, 67;

C.I. 솔벤트 그린 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35 등, C.I. Solvent green 1, 3, 4, 5, 7, 28, 29, 32, 33, 34, 35,

산성 염료로서, C.I. 애시드 옐로우 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 111, 112, 113, 114, 116, 119, 123, 128, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251 ; As acidic dyes, C.I. Acid Yellow 1, 3, 7, 9, 11, 17, 23, 25, 29, 34, 36, 38, 40, 42, 54, 65, 72, 73, 76, 79, 98, 99, 112, 134, 135, 138, 139, 140, 144, 150, 155, 157, 160, 161, 163, 168, 169, 172, 177, 178, 179, 184, 190, 193, 196, 197, 199, 202, 203, 204, 205, 207, 212, 214, 220, 221, 228, 230, 232, 235, 238, 240, 242, 243, 251;

C.I. 애시드 레드 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 87, 88, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 195, 198, 206, 211, 215, 216, 217, 227, 228, 249, 252, 257, 258, 260, 261, 266, 268, 270, 274, 277, 280, 281, 289, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426 ; C.I. Acid Red 1, 4, 8, 14, 17, 18, 26, 27, 29, 31, 34, 35, 37, 42, 44, 50, 51, 52, 57, 66, 73, 80, 91, 92, 94, 97, 103, 111, 114, 129, 133, 134, 138, 143, 145, 150, 151, 158, 176, 182, 183, 195, 198, 206, 277, 280, 281, 289, 308, 312, 315, 316, 339, 341, 345, 346, 349, 382, 383, 394, 401, 412, 417, 418, 422, 426;

C.I. 애시드 오렌지 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 149, 162, 169,173 ; C.I. Acid Orange 6, 7, 8, 10, 12, 26, 50, 51, 52, 56, 62, 63, 64, 74, 75, 94, 95, 107, 108, 149, 162, 169, 173;

C.I. 애시드 블루 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 92, 96, 103, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 324 : 1, 335, 340 ; C.I. Acid Blue 1, 7, 9, 15, 18, 23, 25, 27, 29, 40, 42, 45, 51, 62, 70, 74, 80, 83, 86, 87, 90, 1, 112, 113, 120, 129, 138, 147, 150, 158, 171, 182, 192, 210, 242, 243, 256, 259, 267, 278, 280, 285, 290, 296, 315, 335, 340;

C.I. 애시드 바이올렛 6B, 7, 9, 17, 19, 102 ; C.I. Acid Violet 6B, 7, 9, 17, 19, 102;

C.I. 애시드 그린 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 28, 50, 58, 63, 65, 80, 104, 105, 106, 109 등, C.I. Acid green 1, 3, 5, 9, 16, 25, 27, 28, 50, 58, 63, 65, 80, 104,

직접 염료로서 C.I. 다이렉트 옐로우 2, 4, 28, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 44, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 98, 102, 108, 109, 129, 132, 136, 138, 141 ; C.I. Direct Yellow 2, 4, 28, 33, 34, 35, 38, 39, 43, 44, 47, 50, 54, 58, 68, 69, 70, 71, 86, 93, 94, 95, 108, 109, 129, 132, 136, 138, 141;

C.I. 다이렉트 레드 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 207, 211, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250 ; C.I. Direct Red 79, 82, 83, 84, 91, 92, 96, 97, 98, 99, 105, 106, 107, 172, 173, 176, 177, 179, 181, 182, 184, 204, 213, 218, 220, 221, 222, 232, 233, 234, 241, 243, 246, 250;

C.I. 다이렉트 오렌지 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107 ; C.I. Direct Orange 26, 34, 39, 41, 46, 50, 52, 56, 57, 61, 64, 65, 68, 70, 96, 97, 106, 107;

C.I. 다이렉트 블루 57, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 115, 117, 119, 137, 149, 150, 153, 155, 156, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 194, 196, 198, 199, 200, 207, 209, 210, 212, 213, 214, 222, 228, 229, 237, 238, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293 ; C.I. Direct Blue 57, 77, 80, 81, 84, 85, 86, 90, 93, 94, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 106, 107, 108, 109, 113, 114, 173, 181, 172, 173, 188, 189, 190, 192, 193, 163, 164, 166, 167, 170, 171, 242, 243, 244, 245, 247, 248, 250, 251, 252, 256, 257, 259, 260, 268, 274, 275, 293;

C.I. 다이렉트 바이올렛 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104 ; C.I. Direct Violet 47, 52, 54, 59, 60, 65, 66, 79, 80, 81, 82, 84, 89, 90, 93, 95, 96, 103, 104;

C.I. 다이렉트 그린 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77, 79, 82 등, C.I. Direct Green 25, 27, 31, 32, 34, 37, 63, 65, 66, 67, 68, 69, 72, 77,

매염 염료로서 C.Ⅰ. 모단트 염료, 예를 들어, C.I. 모단트 옐로우 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65 ; C. I. as a mordant dye. Modand dyes, such as C.I. Modanth Yellow 5, 8, 10, 16, 20, 26, 30, 31, 33, 42, 43, 45, 56, 61, 62, 65;

C.I. 모단트 레드 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41, 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95 ; C.I. Modal Tread 1, 2, 3, 4, 9, 11, 12, 14, 17, 18, 19, 22, 23, 24, 25, 26, 30, 32, 33, 36, 37, 38, 39, 41 , 43, 45, 46, 48, 53, 56, 63, 71, 74, 85, 86, 88, 90, 94, 95;

C.I. 모단트 오렌지 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48 ; C.I. Modand Orange 3, 4, 5, 8, 12, 13, 14, 20, 21, 23, 24, 28, 29, 32, 34, 35, 36, 37, 42, 43, 47, 48;

C.I. 모단트 블루 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43, 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84 ; C.I. Modand Blue 1, 2, 3, 7, 8, 9, 12, 13, 15, 16, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 26, 30, 31, 32, 39, 40, 41, 43 , 44, 48, 49, 53, 61, 74, 77, 83, 84;

C.I. 모단트 바이올렛 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58 ; C.I. Modanth violet 1, 2, 4, 5, 7, 14, 22, 24, 30, 31, 32, 37, 40, 41, 44, 45, 47, 48, 53, 58;

C.I. 모단트 그린 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53 등을 들 수 있다.C.I. Modand Green 1, 3, 4, 5, 10, 15, 19, 26, 29, 33, 34, 35, 41, 43, 53, etc.

또, 이하의 염료도 들 수 있다.The following dyes may also be mentioned.

C.I. 리액티브 옐로우 2, 76, 116 ;C.I. Reactive Yellow 2, 76, 116;

C.I. 디스퍼스 옐로우 54, 76 : C.I. Disperse Yellow 54, 76:

C.I. 리액티브 오렌지 16 ;C.I. Reactive Orange 16;

C.I. 베이직 그린 1 ; C.I. Basic Green 1;

C.I. 배트 그린 1 등.C.I. Bat Green 1st.

또한, 염료 (A2) 로서 JP2011-118369-A 에 기재된 식 (3) 으로 나타내는 화합물도 들 수 있다.Also, as the dye (A2), a compound represented by the formula (3) described in JP2011-118369-A is also exemplified.

Figure 112012049465634-pat00066
Figure 112012049465634-pat00066

[식 (3) 중, Ra1 ∼ Ra18 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 8 인 1 가의 지방족 탄화수소기, 니트로기, 페닐기, -SO2NHRa30, -SO3 -, -COORa30 또는 -SO2Ra30 을 나타낸다.[In the formula (3), R a1 to R a18 A halogen atom, a monovalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, a nitro group, a phenyl group, -SO 2 NHR a30 , -SO 3 - , -COOR a30 or -SO 2 R a30 .

Ra19 및 Ra20 은 각각 독립적으로 수소 원자, 메틸기, 에틸기 또는 아미노기를 나타낸다.R a19 and R a20 Each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group or an amino group.

Ra30 은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 10 인 1 가의 탄화수소기를 나타내고, 그 탄화수소기에 함유되는 -CH2- 는 -O- 또는 -CO- 로 치환되어 있어도 된다.R a30 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the hydrocarbon group may be substituted with -O- or -CO-.

M1 은 Cr 또는 Co 를 나타낸다.M 1 Represents Cr or Co.

n1 은 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.n 1 Represents an integer of 1 to 5.

D1 은 하이드론, 1 가의 금속 카티온 또는 크산텐 골격을 갖는 화합물에서 유래하는 1 가의 카티온을 나타낸다]D 1 Quot; refers to a monovalent cation derived from a compound having a hydron, a monovalent metal cation or a xanthene skeleton]

식 (3) 으로 나타내는 화합물 중, JP2011-118369-A 에 기재된, 각각 식 (3a-1), (3a-5), (3a-7), (3a-8), (3a-13), (3a-16), (3a-23) 또는 (z-1) 로 나타내는 화합물이 바람직하고, 식 (3a-23) 으로 나타내는 적색 염료가 보다 바람직하다.Among the compounds represented by the formula (3), the compounds represented by the formulas (3a-1), (3a-5), (3a-7), (3a-8) (3a-16), (3a-23) or (z-1) are preferable, and the red dye represented by the formula (3a-23) is more preferable.

Figure 112012049465634-pat00067
Figure 112012049465634-pat00067

이들 염료 중에서도 적색 염료가 바람직하고, C.I. 솔벤트 레드 130 및 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물이 보다 바람직하다.Of these dyes, red dyes are preferable, and C.I. Solvent Red 130 and the compound represented by the formula (3) are more preferable.

이들 염료는 원하는 컬러 필터의 분광 스펙트럼에 맞추어 적절히 선택하면 된다. 이들 염료는 단독으로 이용하거나 2 종 이상을 병용해도 된다.These dyes can be appropriately selected in accordance with the spectral spectrum of a desired color filter. These dyes may be used alone or in combination of two or more.

본 발명의 염과 안료 (A1) 과 염료 (A2) 의 합계량의 함유량은 고형분의 총량에 대해 바람직하게는 5 ∼ 60 질량% 이며, 보다 바람직하게는 8 ∼ 55 질량% 이며, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 50 질량% 이고, 상기의 범위에 있으면, 컬러 필터로 했을 때의 색 농도가 충분하고, 또한 조성물 중에 수지 (B) 나 중합성 화합물 (C) 를 필요량 함유시킬 수 있으므로, 기계적 강도가 충분한 패턴을 형성할 수 있다. 여기서, 본 명세서에 있어서의 「고형분의 총량」이란, 착색 경화성 조성물의 총량에서 용제의 함유량을 제외한 양을 말한다. 고형분의 총량 및 이것에 대한 각 성분의 함유량은, 예를 들어, 액체 크로마토그래피 또는 가스 크로마토그래피 등의 공지된 분석 수단으로 측정할 수 있다.The content of the salt of the present invention and the total amount of the pigment (A1) and the dye (A2) is preferably 5 to 60 mass%, more preferably 8 to 55 mass%, and still more preferably 10 To 50% by mass. When it is in the above range, the color density of the color filter is sufficient and the resin (B) or the polymerizable compound (C) can be contained in a required amount in the composition. Can be formed. Here, the "total amount of solid content" in the present specification means the amount excluding the content of the solvent in the total amount of the colored curable composition. The total amount of the solid content and the content of each component in the total amount can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

<수지 (B)>&Lt; Resin (B) >

수지 (B) 로는 특별히 한정되는 것이 아니고, 어떠한 수지를 사용해도 된다. 수지 (B) 는 알칼리 가용성 수지인 것이 바람직하고, (메트)아크릴산으로부터 유도되는 구조 단위를 포함하는 수지인 것이 보다 바람직하다. 여기서, (메트)아크릴산은 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 나타낸다.The resin (B) is not particularly limited, and any resin may be used. The resin (B) is preferably an alkali-soluble resin, more preferably a resin containing a structural unit derived from (meth) acrylic acid. Here, (meth) acrylic acid represents acrylic acid and / or methacrylic acid.

바람직한 수지 (B) 로서는 이하의 수지 [K1] ∼ [K6] 등을 들 수 있다. As the preferable resin (B), the following resins [K1] to [K6] and the like can be mentioned.

수지 [K1] 불포화 카르복실산 및 불포화 카르복실산 무수물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종 (a) (이하 「(a)」라고 하는 경우가 있다) 와, 탄소수 2 ∼ 4 인 고리형 에테르 구조와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b) (이하 「(b)」라고 하는 경우가 있다) 의 공중합체. (A) (hereinafter also referred to as "(a)") selected from the group consisting of a resin [K1] unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride, a cyclic ether structure having a carbon number of 2 to 4 And a monomer (b) having an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as "(b)").

수지 [K2] (a) 와 (b) 와, (a) 와 공중합 가능한 단량체 (c) (단, (a) 및 (b) 와는 상이하다) (이하 「(c)」라고 하는 경우가 있다) 와의 공중합체 (A) and (b)) (hereinafter, sometimes referred to as "(c)") which is copolymerizable with the resin (K2) / RTI &gt;

수지 [K3] (a) 와 (c) 의 공중합체 Resin [K3] The copolymer of (a) and (c)

수지 [K4] (a) 와 (c) 의 공중합체에 (b) 를 반응시켜 얻어지는 수지. Resin [K4] Resin obtained by reacting the copolymer (a) and (c) with (b).

수지 [K5] (b) 와 (c) 의 공중합체에 (a) 를 반응시켜 얻어지는 수지.Resin [K5] Resin obtained by reacting the copolymer (b) and (c) with (a).

수지 [K6] (b) 와 (c) 의 공중합체에 (a) 를 반응시키고, 다시 카르복실산 무수물을 반응시켜 얻어지는 수지.Resin [K6] A resin obtained by reacting (a) a copolymer of (b) and (c) with a carboxylic acid anhydride.

(a) 로서는, 구체적으로는 예를 들어, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, o-, m-, p-비닐벤조산 등의 불포화 모노 카르복실산류 ; (a) include, for example, unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, o-, m- and p-vinylbenzoic acid;

말레산, 푸마르산, 시트라콘산, 메사콘산, 이타콘산, 3-비닐프탈산, 4-비닐프탈산, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산, 디메틸테트라하이드로프탈산, 1,4-시클로헥센디카르복실산 등의 불포화 디카르복실산류 ;Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexene dicarboxylic acid;

메틸-5-노르보르넨-2,3-디카르복실산, 5-카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-카르복시-6-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 카르복실기를 함유하는 비시클로 불포화 화합물류 ; Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hepto-2- 5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethylbicyclo [2.2.1] hepto- Cyclo [2.2.1] hept-2-ene, and 5-carboxy-6-ethylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene;

무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 (하이믹산 무수물) 등의 불포화 디카르복실산류 무수물 ;Maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride , Unsaturated dicarboxylic acid anhydrides such as dimethyl tetrahydrophthalic anhydride and 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-eno anhydride (hymic acid anhydride);

숙신산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메트)아크릴로일옥시에틸] 등의 2 가 이상의 다가 카르복실산의 불포화 모노[(메트)아크릴로일옥시알킬]에스테르류 ; (Meth) acryloyloxyalkyl (meth) acrylate of a divalent or higher polyvalent carboxylic acid such as mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] succinate and mono [2- (meth) acryloyloxyethyl] ] Esters;

α-(하이드록시메틸)아크릴산과 같은, 동일 분자 중에 하이드록시기 및 카르복실기를 함유하는 불포화 아크릴레이트류 등을 들 수 있다.and unsaturated acrylates containing a hydroxyl group and a carboxyl group in the same molecule, such as? - (hydroxymethyl) acrylic acid.

이들 중, 공중합 반응성 면이나 알칼리 수용액에 대한 용해성 면에서, 아크릴산, 메타크릴산, 무수 말레산 등이 바람직하다.Of these, acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and solubility in an aqueous alkali solution.

(b) 는, 예를 들어, 탄소수 2 ∼ 4 인 고리형 에테르 구조 (예를 들어, 옥시란 고리, 옥세탄 고리 및 테트라하이드로푸란 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종) 와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 중합성 화합물을 말한다. (b) 는 탄소수 2 ∼ 4 인 고리형 에테르와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 바람직하다. (b) can be obtained, for example, by reacting a cyclic ether structure having 2 to 4 carbon atoms (for example, at least one member selected from the group consisting of oxiran ring, oxetane ring and tetrahydrofuran ring) and an ethylenically unsaturated bond &Lt; / RTI &gt; (b) is preferably a monomer having a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms and a (meth) acryloyloxy group.

또한, 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타크릴산으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 나타낸다. 「(메트)아크릴로일」 및 「(메트)아크릴레이트」 등의 표기도 동일한 의미를 갖는다.In the present specification, "(meth) acrylic acid" means at least one kind selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Quot ;, &quot; (meth) acryloyl &quot;, and &quot; (meth) acrylate &quot;

(b) 로서는, 예를 들어, 옥시라닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b1) (이하 「(b1)」이라고 하는 경우가 있다), 옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b2) (이하 「(b2)」라고 하는 경우가 있다), 테트라하이드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b3) (이하 「(b3)」이라고 하는 경우가 있다) 등을 들 수 있다.(b1) having an oxiranyl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as "(b1)"), a monomer (b2) having an oxetanyl group and an ethylenically unsaturated bond, (Hereinafter sometimes referred to as "(b2)"), a monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter sometimes referred to as "(b3)") and the like.

(b1) 은, 예를 들어, 직사슬형 또는 분지 사슬형의 불포화 지방족 탄화수소를 에폭시화한 구조를 갖는 단량체 (b1-1) (이하 「(b1-1)」이라고 하는 경우가 있다), 불포화 지환식 탄화수소를 에폭시화한 구조를 갖는 단량체 (b1-2) (이하 「(b1-2)」라고 하는 경우가 있다) 를 들 수 있다.(b1-1) (hereinafter also referred to as "(b1-1)") having a structure obtained by epoxidizing a linear or branched unsaturated aliphatic hydrocarbon, an unsaturated And a monomer (b1-2) having a structure in which an alicyclic hydrocarbon is epoxidized (hereinafter sometimes referred to as "(b1-2)").

(b1-1) 로서는, 글리시딜(메트)아크릴레이트, β-메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, β-에틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜비닐에테르, o-비닐벤질글리시딜에테르, m-비닐벤질글리시딜에테르, p-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-o-비닐벤질글리시딜에테르,α-메틸-m-비닐벤질글리시딜에테르, α-메틸-p-비닐벤질글리시딜에테르, 2,3-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,5-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,6-비스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,4-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,3,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 3,4,5-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌, 2,4,6-트리스(글리시딜옥시메틸)스티렌 등을 들 수 있다.(meth) acrylate,? -methyl glycidyl (meth) acrylate,? -ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl Vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether,? -Methyl-o-vinylbenzyl glycidyl ether,? Methyl-p-vinylbenzyl glycidyl ether, 2,3-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,5- Styrenes such as 2,6-bis (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,4-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,3,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, (Glycidyloxymethyl) styrene, 3,4,5-tris (glycidyloxymethyl) styrene, 2,4,6-tris (glycidyloxymethyl) .

(b1-2) 로서는, 비닐시클로헥센모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산(예를 들어, 셀록사이드 2000 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 A400 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트 (예를 들어, 사이크로마 M100 ; 다이셀 화학 공업 (주) 제조), 식 (Ⅴ) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅵ) 으로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.(b1-2) include vinylcyclohexene monoxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, Celloxide 2000 manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.), 3,4-epoxycyclohexyl (Meth) acrylate (for example, Cychroma A400, manufactured by Daicel Chemical Industries Ltd.), 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate , Compounds represented by the formula (V) and compounds represented by the formula (VI).

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[식 (V) 및 식 (Ⅵ) 중, Ra 및 Rb 는 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 알킬기를 나타내고, 그 알킬기에 함유되는 수소 원자는 하이드록시기로 치환되어 있어도 된다.[In the formulas (V) and (VI), R a and R b Represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a hydroxy group.

Xa 및 Xb 는 단결합, -Rc-, *-Rc-O-, *-Rc-S- 또는 *-Rc-NH- 를 나타낸다.X a and X b Represents a single bond, -R c -, -R c -O-, -R c -S- or * -R c -NH-.

Rc 는 탄소수 1 ∼ 6 의 알칸디일기를 나타낸다.R c Represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.

* 는 O 와의 결합손을 나타낸다]* Indicates a binding hand with O]

탄소수 1 ∼ 4 인 알킬기로서는, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group.

수소 원자가 하이드록시로 치환된 알킬기로서는, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기, 1-하이드록시프로필기, 2-하이드록시프로필기, 3-하이드록시프로필기, 1-하이드록시-1-메틸에틸기, 2-하이드록시-1-메틸에틸기, 1-하이드록시부틸기, 2-하이드록시부틸기, 3-하이드록시부틸기, 4-하이드록시부틸기 등을 들 수 있다.Examples of the alkyl group in which the hydrogen atom is substituted with hydroxy include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, 1-methylethyl group, 1-hydroxybutyl group, 2-hydroxybutyl group, 3-hydroxybutyl group, 4-hydroxybutyl group and the like.

R1 및 R2 로서는, 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 하이드록시메틸기, 1-하이드록시에틸기, 2-하이드록시에틸기를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기를 들 수 있다.As R 1 and R 2 , a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group and a 2-hydroxyethyl group are preferable, and a hydrogen atom and a methyl group are more preferable.

알칸디일기로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로판-1,2-디일기, 프로판-1,3-디일기, 부탄-1,4-디일기, 펜탄-1,5-디일기, 헥산-1,6-디일기 등을 들 수 있다. Examples of the alkanediyl group include a methylene group, an ethylene group, a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, , 6-diyl group, and the like.

Xa 및 Xb 로서는, 바람직하게는 단결합, 메틸렌기, 에틸렌기, *-CH2-O- 및 *-CH2CH2-O- 를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 단결합, *-CH2CH2-O- 를 들 수 있다 (* 는 O 와의 결합손을 나타낸다)X a and X b are preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, * -CH 2 -O- and * -CH 2 CH 2 -O-, more preferably a single bond, * - CH 2 CH 2 -O- (wherein * represents a bond with O)

식 (V) 로 나타내는 화합물로서는, 식 (V-1) ∼ 식 (V-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (V-1), 식 (V-3), 식 (V-5), 식 (V-7), 식 (V-9), 식 (V-11) ∼ 식 (V-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (V-1), 식 (V-7), 식 (V-9), 식 (V-15) 를 들 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (V) include compounds represented by the formulas (V-1) to (V-15). (V-1), V-3, V-5, V-7, V-9, ). More preferably, the formula (V-1), the formula (V-7), the formula (V-9) and the formula (V-15) can be mentioned.

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식 (Ⅵ) 으로 나타내는 화합물로서는, 식 (Ⅵ-1) ∼ 식 (Ⅵ-15) 로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 식 (Ⅵ-1), 식 (Ⅵ-3), 식 (Ⅵ-5), 식 (Ⅵ-7), 식 (Ⅵ-9), 식 (Ⅵ-11) ∼ 식 (Ⅵ-15) 를 들 수 있다. 보다 바람직하게는 식 (Ⅵ-1), 식 (Ⅵ-7), 식 (Ⅵ-9), 식 (Ⅵ-15) 를 들 수 있다.Examples of the compound represented by the formula (VI) include compounds represented by the formulas (VI-1) to (VI-15). (VI-1), (VI-3), VI-5, VI-7, VI- ). More preferably, the formula (VI-1), the formula (VI-7), the formula (VI-9) and the formula (VI-15) can be mentioned.

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식 (V) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅵ) 으로 나타내는 화합물은 각각 단독으로 사용할 수 있다. 또, 그것들은 임의의 비율로 혼합할 수 있다. 혼합하는 경우, 그 혼합 비율은 몰비로 바람직하게는 식 (V) : 식 (Ⅵ) 에서, 5 : 95 ∼ 95 : 5, 보다 바람직하게는 10 : 90 ∼ 90 : 10, 더욱 바람직하게는 20 : 80 ∼ 80 : 20 이다.The compound represented by the formula (V) and the compound represented by the formula (VI) may be used alone. In addition, they can be mixed at an arbitrary ratio. In the case of mixing, the mixing ratio thereof is preferably from 5:95 to 95: 5, more preferably from 10:90 to 90:10, and even more preferably from 20: 80 to 80:20.

옥세타닐기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b2) 로서는, 옥세타닐기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다. (b2) 로서는, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시메틸옥세탄, 3-메틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-메틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-메타크릴로일옥시에틸옥세탄, 3-에틸-3-아크릴로일옥시에틸옥세탄 등을 들 수 있다.As the monomer (b2) having an oxetanyl group and an ethylenically unsaturated bond, a monomer having an oxetanyl group and a (meth) acryloyloxy group is more preferable. methyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-methyl- Ethyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-methacryloyloxyethyl oxetane, 3-methyl-3-acryloyloxyethyl oxetane, 3- 3-ethyl-3-acryloyloxyethyl oxetane, and the like.

테트라하이드로푸릴기와 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 단량체 (b3) 으로서는, 테트라하이드로푸릴기와 (메트)아크릴로일옥시기를 갖는 단량체가 보다 바람직하다. (b3) 으로서는, 구체적으로는, 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트 (예를 들어, 비스코트 V#150, 오사카 유기 화학 공업 (주) 제조), 테트라하이드로푸르푸릴메타크릴레이트 등을 들 수 있다.As the monomer (b3) having a tetrahydrofuryl group and an ethylenically unsaturated bond, a monomer having a tetrahydrofuryl group and a (meth) acryloyloxy group is more preferable. Specific examples of the compound (b3) include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Viscot V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and tetrahydrofurfuryl methacrylate.

(b) 로서는, 얻어지는 컬러 필터의 내열성, 내약품성 등의 신뢰성을 보다 높게 할 수 있는 점에서 (b1) 인 것이 바람직하다. 또한, 착색 조성물의 보존 안정성이 우수하다는 점에서 (b1-2) 가 보다 바람직하다.(b) is preferably (b1) in that reliability of the obtained color filter can be further improved, such as heat resistance and chemical resistance. Further, (b1-2) is more preferable because the storage stability of the coloring composition is excellent.

(c) 로서는, 예를 들어, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, sec-부틸(메트)아크릴레이트, tert-부틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 도데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트, 시클로펜틸(메트)아크릴레이트, 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 2-메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 트리시클로[5.2.1. O2,6]데칸-8-일(메트)아크릴레이트 (당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트」라고 일컬어지고 있다. 또, 「트리시클로데실(메트)아크릴레이트」라고 하는 경우가 있다), 트리시클로[5.2.1.02,6]데센-8-일(메트)아크릴레이트 (당해 기술 분야에서는, 관용명으로서 「디시클로펜테닐(메트)아크릴레이트」라고 일컬어지고 있다), 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 아다만틸(메트)아크릴레이트, 알릴(메트)아크릴레이트, 프로파르길(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 나프틸(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르류 ; (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, (Meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclopentyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1. O 2,6] decan-8-yl (meth) acrylate (in the art, as the trivial name "dicyclopentanyl (meth) acrylate", the can is also known. The "tricyclo decyl (meth) acrylate" (Tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decen-8-yl (meth) acrylate (referred to in the art as "dicyclopentenyl (meth) acrylate" (Meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, adamantyl (Meth) acrylates such as acrylate, naphthyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate;

2-하이드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메트)아크릴레이트 등의 하이드록시기 함유 (메트)아크릴산에스테르류 ; Hydroxy group-containing (meth) acrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;

말레산디에틸, 푸마르산디에틸, 이타콘산디에틸 등의 디카르복실산디에스테르 ;Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, and diethyl itaconate;

비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디하이드록시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(하이드록시메틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디(2'-하이드록시에틸)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디메톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-디에톡시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시-5-에틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-하이드록시메틸-5-메틸비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-tert-부톡시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-시클로헥실옥시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5-페녹시카르보닐비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(tert-부톡시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔, 5,6-비스(시클로헥실옥시카르보닐)비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등의 비시클로 불포화 화합물류 ;2,2-hept-2-ene, 5-methylbicyclo [2.2.1] hepto-2-ene, 5-ethylbicyclo [2.2.1] 2.2.1] hept-2-ene, 5- (2'-hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] 2.2.1] hept-2-ene, 5-ethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dihydroxybicyclo [2.2.1] 2,6-di (hydroxymethyl) bicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-di (2'- hydroxyethyl) bicyclo [2.2.1] 2-ene, 5,6-dimethoxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-diethoxybicyclo [2.2.1] hept- 2.2.1] hept-2-ene, 5-hydroxymethyl-5-methylbicyclo [2.2.1] hept- 2-ene, 5-tert-butoxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-cyclohexyloxycarbonylbicyclo [2.2.1] hept- Cycarbonylbicyclo [ 2,1] hept-2-ene, 5,6-bis (tert-butoxycarbonyl) Cyclo [2.2.1] hept-2-ene and the like;

N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, N-숙신이미딜-3-말레이미드벤조에이트, N-숙신이미딜-4-말레이미드부틸레이트, N-숙신이미딜-6-말레이미드카프로에이트, N-숙신이미딜-3-말레이미드프로피오네이트, N-(9-아크리디닐)말레이미드 등의 디카르보닐이미드 유도체류 ; N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, N-succinimidyl-3-maleimide benzoate, N-succinimidyl-4-maleimide butyrate, N- Dicarbonylimide derivatives such as N-succinimidyl-3-maleimidepropionate and N- (9-acridinyl) maleimide;

스티렌, α-메틸스티렌, m-메틸스티렌, p-메틸스티렌, 비닐톨루엔, p-메톡시스티렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 염화비닐, 염화비닐리덴, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 아세트산비닐, 1,3-부타디엔, 이소프렌, 2,3-디메틸-1,3-부타디엔 등을 들 수 있다.And examples thereof include styrene,? -Methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, Vinyl, 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene and the like.

이들 중, 공중합 반응성 및 내열성면에서, 스티렌, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, N-벤질말레이미드, 비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 등이 바람직하다.Of these, styrene, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene are preferable from the viewpoint of copolymerization reactivity and heat resistance.

수지 [K1] 에 있어서, 각각에서 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지 [K1] 을 구성하는 전체 구조 단위 중, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다In the resin [K1], the ratio of the structural units derived from each of the resins [K1] is preferably within the following range among the total structural units constituting the resin [K1]

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ∼ 60 몰%a structural unit derived from (a); 2 to 60 mol%

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 40 ∼ 98 몰% 인 것이 바람직하고,(b); , More preferably 40 to 98 mol%

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 10 ∼ 50 몰%a structural unit derived from (a); 10 to 50 mol%

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 50 ∼ 90 몰% 인 것이 보다 바람직하다.(b); And more preferably 50 to 90 mol%.

수지 [K1] 의 구조 단위의 비율이 상기의 범위에 있으면, 착색 경화성 조성물의 보존 안정성, 패턴을 형성할 때의 현상성, 및 얻어지는 패턴의 내용제성이 우수한 경향이 있다.When the ratio of the structural unit of the resin [K1] is within the above range, there is a tendency that the storage stability of the colored curable composition, developability in forming the pattern, and solvent resistance of the obtained pattern are excellent.

수지 [K1] 은, 예를 들어, 문헌 「고분자 합성의 실험법」(오츠 타카유키 저 발행소 (주) 화학 동인 제 1 판 제 1 쇄 1972 년 3 월 1 일 발행) 에 기재된 방법 및 당해 문헌에 기재된 인용 문헌을 참고로 하여 제조할 수 있다.The resin [K1] can be synthesized by a method described in, for example, "Experimental Method of Polymer Synthesis" (published by the Chemical Society of Japan, 1st Edition, 1st Edition, March 1, 1972, Can be prepared by reference to the literature.

구체적으로는, (a) 및 (b) 의 소정량, 중합 개시제 및 용제 등을 반응 용기 중에 넣고, 예를 들어, 질소에 의해 산소를 치환함으로써, 탈산소 분위기로 하여 교반하면서, 가열 및 보온하는 방법을 들 수 있다. 또한, 여기서 사용되는 중합 개시제 및 용제 등은 특별히 한정되지 않고, 당해 분야에서 통상적으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들어, 중합 개시제로서는, 아조 화합물 (2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 등) 이나 유기 과산화물 (벤조일퍼옥사이드 등) 을 들 수 있고, 용제로서는 각 모노머를 용해시키는 것이면 되고, 착색 경화성 조성물의 용제로서 후술하는 용제 (E) 등을 들 수 있다.Specifically, a predetermined amount of (a) and (b), a polymerization initiator, and a solvent are placed in a reaction vessel and heated and maintained in a deoxidizing atmosphere with stirring, for example, by replacing oxygen with nitrogen Method. The polymerization initiator, solvent and the like used herein are not particularly limited, and those conventionally used in the art can be used. Examples of the polymerization initiator include azo compounds such as 2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), and organic peroxides such as benzoyl peroxide ). The solvent may be one which dissolves the respective monomers, and the solvent (E) to be described later as a solvent of the colored curable composition may, for example, be mentioned.

또한, 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다. 특히, 이 중합시에 용제로서 후술하는 용제 (E) 를 사용함으로써, 반응 후의 용액을 그대로 사용할 수 있어, 제조 공정을 간략화할 수 있다.The solution obtained after the reaction may be used as it is, or a concentrated or diluted solution may be used, or it may be taken out as a solid (powder) by re-precipitation or the like. In particular, by using the solvent (E) described later as a solvent in the polymerization, the solution after the reaction can be used as it is, and the manufacturing process can be simplified.

수지 [K2] 에 있어서, 각각에서 유래하는 구조 단위의 비율은, 수지 [K2] 를 구성하는 전체 구조 단위 중, In the resin [K2], the proportion of the structural unit derived from each of the resins [K2]

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ∼ 45 몰%a structural unit derived from (a); 2 to 45 mol%

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ∼ 95 몰%(b); 2 to 95 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 1 ∼ 65 몰% 인 것이 바람직하고,(c); It is preferably 1 to 65 mol%

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ∼ 40 몰%a structural unit derived from (a); 5 to 40 mol%

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ∼ 80 몰%(b); 5 to 80 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ∼ 60 몰% 인 것이 보다 바람직하다.(c); And more preferably 5 to 60 mol%.

수지 [K2] 의 구조 단위의 비율이 상기의 범위에 있으면, 착색 경화성 조성물의 보존 안정성, 패턴을 형성할 때의 현상성, 그리고, 얻어지는 패턴의 내용제성, 내열성 및 기계 강도가 우수한 경향이 있다.When the ratio of the structural unit of the resin [K2] is within the above range, there is a tendency that the storage stability of the colored curing composition, the developability in forming the pattern, and the solvent resistance, heat resistance and mechanical strength of the obtained pattern are excellent.

수지 [K2] 는, 예를 들어, 수지 [K1] 의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조할 수 있다.The resin [K2] can be produced, for example, in the same manner as described for the method of producing the resin [K1].

수지 [K3] 에 있어서, 각각에서 유래하는 구조 단위의 비율은 수지 [K3] 을 구성하는 전체 구조 단위 중, In the resin [K3], the ratio of the structural unit derived from each of the resins [K3]

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 2 ∼ 60 몰%a structural unit derived from (a); 2 to 60 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 40 ∼ 98 몰% 인 것이 바람직하고, (c); , More preferably 40 to 98 mol%

(a) 에서 유래하는 구조 단위 ; 10 ∼ 50 몰%a structural unit derived from (a); 10 to 50 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 50 ∼ 90 몰% 인 것이 보다 바람직하다.(c); And more preferably 50 to 90 mol%.

수지 [K3] 은, 예를 들어, 수지 [K1] 의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조할 수 있다.The resin [K3] can be produced, for example, in the same manner as described for the method of producing the resin [K1].

수지 [K4] 는 (a) 와 (c) 의 공중합체를 얻어, (b) 가 갖는 탄소수 2 ∼ 4 인 고리형 에테르를 (a) 가 갖는 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물에 부가시킴으로써 제조할 수 있다.The resin [K4] is obtained by obtaining a copolymer of (a) and (c) and adding a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms in (b) to a carboxylic acid and / or carboxylic acid anhydride having (a) Can be manufactured.

먼저 (a) 와 (c) 의 공중합체를, 수지 [K1] 의 제조 방법으로서 기재한 방법과 동일하게 제조한다. 이 경우, 각각에서 유래하는 구조 단위의 비율은 수지 [K3] 에서 든 것과 동일한 비율인 것이 바람직하다.First, the copolymer of (a) and (c) is prepared in the same manner as described for the method of producing the resin [K1]. In this case, the ratio of the structural units derived from each of them is preferably the same as that in the resin [K3].

다음으로, 상기 공중합체 중의 (a) 에서 유래하는 카르복실산 및/또는 카르복실산 무수물의 일부에, (b) 가 갖는 탄소수 2 ∼ 4 인 고리형 에테르를 반응시킨다.Next, a cyclic ether having 2 to 4 carbon atoms in (b) is reacted with a part of the carboxylic acid and / or carboxylic acid anhydride derived from (a) in the copolymer.

(a) 와 (c) 의 공중합체의 제조에 계속해서, 플라스크 내 분위기를 질소에서 공기로 치환하고, (b), 카르복실산 또는 카르복실산 무수물과 고리형 에테르의 반응 촉매 (예를 들어 트리스(디메틸아미노메틸)페놀 등) 및 중합 금지제 (예를 들어 하이드로퀴논 등) 등을 플라스크 내에 넣고, 예를 들어, 60 ∼ 130 ℃ 에서 1 ∼ 10 시간 반응시킴으로써, 수지 [K4] 를 제조할 수 있다.Subsequently to the production of the copolymer of (a) and (c), the atmosphere in the flask is replaced with air in nitrogen, and (b) a reaction catalyst of a carboxylic acid or carboxylic anhydride and a cyclic ether The resin [K4] is produced by putting a polymerization inhibitor (for example, hydroquinone or the like) or the like in a flask, for example, at 60 to 130 ° C for 1 to 10 hours .

(b) 의 사용량은 (a) 100 몰에 대해 5 ∼ 80 몰이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 ∼ 75 몰이다. 이 범위로 함으로써, 착색 경화성 조성물의 보존 안정성, 패턴을 형성할 때의 현상성, 그리고, 얻어지는 패턴의 내용제성, 내열성, 기계 강도 및 감도의 밸런스가 양호해지는 경향이 있다. 고리형 에테르의 반응성이 높고, 미반응의 (b) 가 잔존하기 어려운 점에서, 수지 [K4] 에 사용하는 (b) 로서는 (b1) 이 바람직하고, 또한 (b1-1) 이 바람직하다.(b) is preferably 5 to 80 moles, more preferably 10 to 75 moles, per 100 moles of (a). By setting this range, there is a tendency that the balance between the storage stability of the colored curable composition, the developability in forming the pattern, and the solvent resistance, heat resistance, mechanical strength and sensitivity of the obtained pattern are improved. (B1) is preferably used as the resin (K4), and (b1-1) is preferable because the reactivity of the cyclic ether is high and unreacted (b)

상기 반응 촉매의 사용량은 (a), (b) 및 (c) 의 합계량 1OO 질량부에 대해 0.001 ∼ 5 질량부가 바람직하다. 상기 중합 금지제의 사용량은 (a), (b) 및 (c) 의 합계량 100 질량부에 대해 0.001 ∼ 5 질량부가 바람직하다.The amount of the reaction catalyst to be used is preferably 0.001 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c). The amount of the polymerization inhibitor to be used is preferably 0.001 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of (a), (b) and (c).

주입 방법, 반응 온도 및 시간 등의 반응 조건은 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여 적절히 조정할 수 있다. 또한, 중합 조건과 동일하게, 제조 설비나 중합에 의한 발열량 등을 고려하여, 주입 방법이나 반응 온도를 적절히 조정할 수 있다.The reaction conditions such as the injection method, the reaction temperature and the time can be appropriately adjusted in consideration of the production equipment or the amount of heat generated by polymerization. In addition, the injection method and the reaction temperature can be appropriately adjusted in consideration of the production facility or the amount of heat generated by polymerization, as in the case of the polymerization conditions.

수지 [K5] 는 제 1 단계로서 상기 서술한 수지 [K1] 의 제조 방법과 동일하게 하여, (b) 와 (c) 의 공중합체를 얻는다. 상기와 동일하게 얻어진 공중합체는 반응 후의 용액을 그대로 사용해도 되고, 농축 혹은 희석한 용액을 사용해도 되고, 재침전 등의 방법으로 고체 (분체) 로서 취출한 것을 사용해도 된다.Resin [K5] is a first step, and a copolymer of (b) and (c) is obtained in the same manner as in the above-mentioned production of resin [K1]. As the copolymer obtained in the same manner as above, the solution after the reaction may be used as it is, or a concentrated or diluted solution may be used, or it may be taken out as a solid (powder) by re-precipitation or the like.

(b) 및 (c) 에서 유래하는 구조 단위의 비율은, 상기의 공중합체를 구성하는 전체 구조 단위의 합계 몰 수에 대해, 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다.the proportion of the structural units derived from (b) and (c) is preferably in the following range with respect to the total number of moles of the total structural units constituting the copolymer.

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ∼ 95 몰%(b); 5 to 95 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 5 ∼ 95 몰% 인 것이 바람직하고,(c); , More preferably 5 to 95 mol%

(b) 에서 유래하는 구조 단위 ; 10 ∼ 90 몰%(b); 10 to 90 mol%

(c) 에서 유래하는 구조 단위 ; 10 ∼ 90 몰% 인 것이 보다 바람직하다.(c); And more preferably 10 to 90 mol%.

또한, 수지 [K4] 의 제조 방법과 동일한 조건으로, (b) 와 (c) 의 공중합체가 갖는 (b) 에서 유래하는 고리형 에테르에, (a) 가 갖는 카르복실산 또는 카르복실산 무수물을 반응시킴으로써 수지 [K5] 를 얻을 수 있다.In the same manner as in the production of the resin (K4), the cyclic ether derived from the copolymer (b) having the copolymer (b) and the copolymer (c) is reacted with the carboxylic acid or carboxylic acid anhydride To obtain a resin [K5].

상기의 공중합체에 반응시키는 (a) 의 사용량은, (b) 100 몰에 대해, 5 ∼ 80 몰이 바람직하다. 고리형 에테르의 반응성이 높고, 미반응의 (b) 가 잔존하기 어려운 점에서, 수지 [K5] 에 사용하는 (b) 로서는 (b1) 이 바람직하고, 또한 (b1-1) 이 바람직하다.The amount of (a) to be reacted with the copolymer is preferably 5 to 80 moles per 100 moles of (b). (B1) is preferably used as the resin (K5), and (b1-1) is preferable because the reactivity of the cyclic ether is high and the unreacted (b)

수지 [K6] 은, 수지 [K5] 에 추가로 카르복실산 무수물을 반응시킨 수지이다. 고리형 에테르와 카르복실산 또는 카르복실산 무수물과의 반응에 의해 발생하는 하이드록시기에 카르복실산 무수물을 반응시킨다.The resin [K6] is a resin obtained by further reacting the resin [K5] with a carboxylic acid anhydride. A carboxylic acid anhydride is reacted with a hydroxyl group generated by the reaction of a cyclic ether with a carboxylic acid or a carboxylic acid anhydride.

카르복실산 무수물로서는, 무수 말레산, 시트라콘산 무수물, 이타콘산 무수물, 3-비닐프탈산 무수물, 4-비닐프탈산 무수물, 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물, 디메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 5,6-디카르복시비시클로[2.2.1]헵토-2-엔 무수물 (하이믹산 무수물) 등을 들 수 있다. 카르복실산 무수물의 사용량은 (a) 의 사용량 1 몰에 대해 0.5 ∼ 1 몰이 바람직하다.Examples of the carboxylic anhydrides include maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, 3-vinylphthalic anhydride, 4-vinylphthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, Tetrahydrophthalic anhydride, dimethyltetrahydrophthalic anhydride, and 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene anhydride (hymic acid anhydride). The amount of the carboxylic acid anhydride to be used is preferably 0.5 to 1 mole based on 1 mole of the amount of (a).

수지 (B) 로서는, 구체적으로 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체 등의 수지 [K1] ; 글리시딜(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체, 글리시딜(메트)아크릴레이트/스티렌/(메트)아크릴산 공중합체, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트/(메트)아크릴산/N-시클로헥실말레이미드 공중합체, 3-메틸-3-(메트)아크릴로일옥시메틸옥세탄/(메트)아크릴산/스티렌 공중합체 등의 수지 [K2] ; 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체, 스티렌/(메트)아크릴산 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/스티렌 공중합체, (메트)아크릴산/벤질(메트)아크릴레이트/이소보르닐(메트)아크릴레이트 공중합체, (메트)아크릴산/스티렌/벤질(메트)아크릴레이트/N-페닐말레이미드 공중합체 등의 수지 [K3] ; 벤질(메트)아크릴레이트/(메트)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메트)아크릴레이트/스티렌/(메트)아크릴산 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 부가시킨 수지, 트리시클로데실(메트)아크릴레이트/벤질(메트)아크릴레이트/(메트) 아크릴산 공중합체에 글리시딜(메트)아크릴레이트를 부가시킨 수지 등의 수지 [K4] ; 트리시클로데실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지, 트리시클로데실(메트)아크릴레이트/스티렌/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지 등의 수지 [K5] ; 트리시클로데실(메트)아크릴레이트/글리시딜(메트)아크릴레이트의 공중합체에 (메트)아크릴산을 반응시킨 수지에 다시 테트라하이드로프탈산 무수물을 반응시킨 수지 등의 수지 [K6] 등을 들 수 있다. Specific examples of the resin (B) include 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl acrylate / (meth) Resin [K1] such as a copolymer; (Meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, glycidyl (meth) acrylate / styrene / (meth) acrylic acid copolymer, 3,4-epoxytricyclo [5.2 .1.0 2.6] decyl acrylate / (meth) resins such as acrylic acid / N- cyclohexyl maleimide copolymer, 3-methyl-3- (meth) acryloyloxyethyl-methyl oxetane / (meth) acrylic acid / styrene copolymer [K2]; Benzyl (meth) acrylate / styrene copolymer, (meth) acrylic acid / benzyl (meth) acrylate copolymer, styrene / (meth) acrylic acid copolymer, A resin [K3] such as a (meth) acrylic acid / styrene / benzyl (meth) acrylate / N-phenylmaleimide copolymer, or an isobornyl (meth) acrylate copolymer; A resin obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to a benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer and a resin obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to a tricyclodecyl (meth) acrylate / styrene / (meth) ) Resin, a resin obtained by adding glycidyl (meth) acrylate to a tricyclodecyl (meth) acrylate / benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer; A resin obtained by reacting a copolymer of tricyclodecyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate with (meth) acrylic acid, a resin obtained by reacting tricyclodecyl (meth) acrylate / styrene / glycidyl (meth) A resin [K5] such as a resin obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a copolymer; A resin [K6] such as a resin obtained by reacting a resin obtained by reacting (meth) acrylic acid with a copolymer of tricyclodecyl (meth) acrylate / glycidyl (meth) acrylate and tetrahydrophthalic anhydride .

이들 수지는 단독으로 사용하거나 2 종 이상을 병용해도 된다.These resins may be used alone or in combination of two or more.

그 중에서도, 수지 (B) 로는 수지 [K1], 수지 [K2] 및 수지 [K3] 이 바람직하다. Among them, resin [K1], resin [K2] and resin [K3] are preferable as resin (B).

수지 (B) 의 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 3,000 ∼ 100,000 이며, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 50,000 이며, 더욱 바람직하게는 5,000 ∼ 30,000 이다. 분자량이 상기의 범위에 있으면, 도포막 경도가 향상되고, 잔막률도 높고, 미노광부의 현상액에 대한 용해성이 양호하여, 해상도가 향상되는 경향이 있다.The weight average molecular weight of the resin (B) in terms of polystyrene is preferably 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000, and still more preferably 5,000 to 30,000. When the molecular weight is within the above range, the hardness of the coating film is improved, the residual film ratio is high, the solubility of the unexposed portion in the developing solution is good, and the resolution tends to be improved.

수지 (B) 의 분자량 분포 [중량 평균 분자량 (Mw)/수평균 분자량 (Mn)] 은 바람직하게는 1.1 ∼ 6 이며, 보다 바람직하게는 1.2 ∼ 4 이다.The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the resin (B) is preferably 1.1 to 6, and more preferably 1.2 to 4.

수지 (B) 의 산가는 바람직하게는 50 ∼ 170 ㎎-KOH/g 이며, 보다 바람직하게는 60 ∼ 150, 더욱 바람직하게는 70 ∼ 135 ㎎-KOH/g 이다. 여기서 산가는 수지 (B) 1 g 을 중화하는데 필요한 수산화칼륨의 양 (㎎) 으로서 측정되는 값으로, 예를 들어 수산화칼륨 수용액을 사용하여 적정함으로써 구할 수 있다.The acid value of the resin (B) is preferably 50 to 170 mg-KOH / g, more preferably 60 to 150, and still more preferably 70 to 135 mg-KOH / g. Here, the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide necessary for neutralizing 1 g of the resin (B), and can be obtained by titration using, for example, an aqueous solution of potassium hydroxide.

수지 (B) 의 함유량은 고형분의 총량에 대해 바람직하게는 7 ∼ 65 질량% 이며, 보다 바람직하게는 13 ∼ 60 질량% 이며, 더욱 바람직하게는 17 ∼ 55 질량% 이다. 수지 (B) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 패턴을 형성할 수 있고, 또 해상도 및 패턴의 잔막률이 향상되는 경향이 있다.The content of the resin (B) is preferably 7 to 65% by mass, more preferably 13 to 60% by mass, and still more preferably 17 to 55% by mass, based on the total amount of the solid components. When the content of the resin (B) is in the above range, a pattern can be formed and the residual film ratio of resolution and pattern tends to be improved.

<중합성 화합물 (C)>&Lt; Polymerizable compound (C) >

중합성 화합물 (C) 는 열, 혹은, 중합 개시제 (D) 로부터 발생하는 활성 라디칼 및/또는 산에 의해 중합할 수 있는 화합물로, 예를 들어, 중합성의 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 (메트)아크릴산에스테르 화합물이다.The polymerizable compound (C) is a compound capable of polymerizing with heat or an active radical and / or an acid generated from the polymerization initiator (D), for example, a compound having a polymerizable ethylenic unsaturated bond And is preferably a (meth) acrylic acid ester compound.

그 중에서도, 중합성 화합물 (C) 로서는, 에틸렌성 불포화 결합을 3 개 이상 갖는 중합성 화합물인 것이 바람직하다. 이와 같은 중합성 화합물로서는, 예를 들어, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨옥타(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨헵타(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨데카(메트)아크릴레이트, 테트라펜타에리트리톨노나(메트)아크릴레이트, 트리스(2-(메트)아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트, 에틸렌글리콜 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 프로필렌글리콜 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 광 중합성 화합물 (C) 는 단독이거나 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.Among them, the polymerizable compound (C) is preferably a polymerizable compound having three or more ethylenic unsaturated bonds. Examples of such polymerizable compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol octa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, tetrapentaerythritol Ethylene glycol modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ethylene glycol modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, ethylene glycol modified pentaerythritol tetra Propylene glycol-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propylene glycol-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, There may be mentioned acrylate, caprolactone-modified pentaerythritol tetra (meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and the like. The photopolymerizable compound (C) may be used alone or in combination of two or more.

그 중에서도, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트가 바람직하다.Among them, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are preferable.

중합성 화합물 (C) 의 중량 평균 분자량은 바람직하게는 150 이상 2,900 이하, 보다 바람직하게는 25O ∼ 1,5OO 이하이다.The weight average molecular weight of the polymerizable compound (C) is preferably from 150 to 2,900, more preferably from 25 to 1,500.

중합성 화합물 (C) 의 함유량은 고형분의 총량에 대해 7 ∼ 65 질량% 인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 13 ∼ 60 질량% 이며, 더욱 바람직하게는 17 ∼ 55 질량% 이다. 중합성 화합물 (C) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 패턴 형성시의 잔막률 및 패턴의 내약품성이 향상되는 경향이 있다.The content of the polymerizable compound (C) is preferably 7 to 65% by mass, more preferably 13 to 60% by mass, and still more preferably 17 to 55% by mass, based on the total solid content. When the content of the polymerizable compound (C) is in the above range, the residual film ratio at the time of pattern formation and the chemical resistance of the pattern tend to be improved.

<중합 개시제 (D)>&Lt; Polymerization initiator (D) >

중합 개시제 (D) 는 광이나 열의 작용에 의해 활성 라디칼, 산 등을 발생시켜 중합을 개시할 수 있는 화합물이면 특별히 한정되지 않고, 공지된 중합 개시제를 사용할 수 있다.The polymerization initiator (D) is not particularly limited as far as it is a compound capable of initiating polymerization by generating an active radical or an acid by the action of light or heat, and a known polymerization initiator can be used.

중합 개시제 (D) 로서는 알킬페논 화합물, 트리아진 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 0-아실옥심 화합물 및 비이미다졸 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 중합 개시제가 바람직하고, O-아실옥심 화합물을 함유하는 중합 개시제가 보다 바람직하다.As the polymerization initiator (D), a polymerization initiator containing at least one member selected from the group consisting of alkylphenone compounds, triazine compounds, acylphosphine oxide compounds, 0-acyloxime compounds and imidazole compounds is preferable, and O- A polymerization initiator containing an acyloxime compound is more preferable.

O-아실옥심 화합물은 식 (d1) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물이다. 이하, * 는 결합손을 나타낸다.The O-acyloxime compound is a compound having a partial structure represented by formula (d1). Herein, * denotes a combined hand.

Figure 112012049465634-pat00074
Figure 112012049465634-pat00074

O-아실옥심 화합물로서는, 예를 들어, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)부탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)옥탄-1-온-2-이민, N-벤조일옥시-1-(4-페닐술파닐페닐)-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-{2-메틸-4-(3,3-디메틸-2,4-디옥사시클로펜타닐메틸옥시)벤조일}-9H-카르바졸-3-일]에탄-1-이민, N-아세톡시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-이민, N-벤조일옥시-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-3-시클로펜틸프로판-1-온-2-이민 등을 들 수 있다. 이르가큐어 OXE01, OXE02 (이상, BASF 사 제조), N-1919 (ADEKA 사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다.Examples of the O-acyloxime compound include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butan-1-one-2-imine, N-benzoyloxy- 2-imine, N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) -3-cyclopentylpropan- - ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] (3-dimethyl-2,4-dioxacyclopentanylmethyloxy) benzoyl} -9H-carbazol-3-yl] ethan- 1-imine, N- acetoxy- 1- [ -9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole &lt; / RTI &gt; -3-yl] -3-cyclopentylpropan-1-one-2-imine. Commercially available products such as Irgacure OXE01, OXE02 (manufactured by BASF) and N-1919 (manufactured by ADEKA) may be used.

알킬페논 화합물은 식 (d2) 로 나타내는 부분 구조 또는 식 (d3) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물이다. 이들 부분 구조 중, 벤젠 고리는 치환기를 가지고 있어도 된다.The alkylphenone compound is a compound having a partial structure represented by formula (d2) or a partial structure represented by formula (d3). Of these partial structures, the benzene ring may have a substituent.

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식 (d2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물로서는, 예를 들어, 2-메틸-2-모르폴리노-1-(4-메틸술파닐페닐)프로판-1-온, 2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-2-벤질부탄-1-온, 2-(디메틸아미노)-2-[(4-메틸페닐)메틸]-1-[4-(4-모르폴리닐)페닐]-1-부타논 등을 들 수 있다. 이르가큐어 369, 907, 379 (이상, BASF 사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다.Examples of the compound having a partial structure represented by the formula (d2) include 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylsulfanylphenyl) propan- (4-morpholinophenyl) -2-benzylbutan-1-one, 2- (dimethylamino) -1-butanone, and the like. IRGACURE 369, 907, 379 (manufactured by BASF), and the like may be used.

식 (d3) 으로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물로서는, 예를 들어, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]프로판-1-온, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-하이드록시-2-메틸-1-(4-이소프로페닐페닐)프로판-1-온의 올리고머, α,α-디에톡시아세토페논, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.Examples of the compound having a partial structure represented by the formula (d3) include 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 2- Hydroxy-2-methyl-1- (4-isopropenylphenyl) propan-1-one, an oligomer of 2-hydroxy- ,?,? -diethoxyacetophenone, and benzyl dimethyl ketal.

감도면에서, 알킬페논 화합물로서는 식 (d2) 로 나타내는 부분 구조를 갖는 화합물이 바람직하다.From the viewpoint of sensitivity, the alkylphenone compound is preferably a compound having a partial structure represented by formula (d2).

트리아진 화합물로서는, 예를 들어, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시나프틸)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(푸란-2-일) 에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(트리클로로메틸)-6-[2-(3,4-디메톡시페닐) 에테닐]-1,3,5-트리아진 등을 들 수 있다.Examples of the triazine compound include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) (Trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) Bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) -Yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan- Azine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4- Methyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine.

아실포스핀옥사이드 화합물로서는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이르가큐어 819 (치바·재팬사 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다.Examples of the acylphosphine oxide compound include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and the like. A commercially available product such as Irgacure 819 (manufactured by Chiba Japan) may be used.

비이미다졸 화합물로서는, 예를 들어, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2,3-디클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸 (예를 들어, JPH06-75372-A, JPH06-75373-A 등 참조), 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라페닐비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(디알콕시페닐)비이미다졸, 2,2'-비스(2-클로로페닐)-4,4',5,5'-테트라(트리알콕시페닐)비이미다졸 (예를 들어, JPS48-38403-B, JPS62-174204-A 등 참조), 4,4'5,5'-위치의 페닐기가 카르보알콕시기에 의해 치환되어 있는 이미다졸 화합물 (예를 들어, JPH07-10913-A 등 참조) 등을 들 수 있다.Examples of the imidazole compound include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'- Dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole (for example, see JPH06-75372-A, JPH06-75373-A and the like), 2,2'-bis ) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetra (alkoxyphenyl) Bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (dialkoxyphenyl) biimidazole, 2,2'- , 5,5'-tetra (trialkoxyphenyl) biimidazole (for example, see JPS48-38403-B, JPS62-174204-A and the like), 4,4'5,5'- An imidazole compound substituted by an alkoxy group (for example, JPH07-10913-A, etc.), and the like.

또한 중합 개시제 (D) 로서는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인 화합물 ; 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐술파이드, 3,3',4,4'-테트라(tert-부틸퍼옥시카르보닐)벤조페논, 2,4,6-트리메틸벤조페논 등의 벤조페논 화합물 ; 9,10-페난트렌퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 캠퍼퀴논 등의 퀴논 화합물 ; 10-부틸-2-클로로아크리돈, 벤질, 페닐글리옥실산메틸, 티타노센 화합물 등을 들 수 있다. 이들은, 후술하는 중합 개시 보조제 (D1) (특히 아민류) 과 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.Examples of the polymerization initiator (D) include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether; Benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenylsulfide, 3,3 ', 4,4'-tetra (tert- butylperoxycarbonyl) benzophenone Benzophenone compounds such as 2,4,6-trimethylbenzophenone; Quinone compounds such as 9,10-phenanthrenequinone, 2-ethyl anthraquinone, camphorquinone, etc .; Butyl-2-chloroacridone, benzyl, methyl phenylglyoxylate, and titanocene compounds. These are preferably used in combination with a polymerization initiator (D1) (particularly amines) to be described later.

산을 발생하는 산 발생제로서는, 예를 들어, 4-하이드록시페닐디메틸술포늄p-톨루엔술포네이트, 4-하이드록시페닐디메틸술포늄헥사플루오로안티모네이트, 4-아세톡시페닐디메틸술포늄p-톨루엔술포네이트, 4-아세톡시페닐·메틸·벤질술포늄헥사플루오로안티모네이트, 트리페닐술포늄p-톨루엔술포네이트, 트리페닐술포늄헥사플루오로안티모네이트, 디페닐요오드늄p-톨루엔술포네이트, 디페닐요오드늄헥사플루오로안티모네이트 등의 오늄염류나, 니트로벤질토실레이트류, 벤조인토실레이트류 등을 들 수 있다.Examples of the acid generator generating an acid include 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-hydroxyphenyldimethylsulfonium hexafluoroantimonate, 4-acetoxyphenyldimethylsulfonium p-toluenesulfonate, 4-acetoxyphenylmethylbenzylsulfonium hexafluoroantimonate, triphenylsulfonium p-toluenesulfonate, triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyliodonium p - onium salts such as toluene sulfonate and diphenyliodonium hexafluoroantimonate, nitrobenzyltosylates, benzoin tosylates and the like.

중합 개시제 (D) 의 함유량은 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량 100 질량부에 대해 바람직하게는 0.1 ∼ 30 질량부이며, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이다. 중합 개시제 (D) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 고감도화되어 노광 시간이 단축되는 경향이 있기 때문에 생산성이 향상된다.The content of the polymerization initiator (D) is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C). When the content of the polymerization initiator (D) is in the above range, the sensitivity is improved and the exposure time is shortened, thereby improving the productivity.

중합 개시제 (D) 는 추가로 중합 개시 보조제 (D1) 을 함유하고 있어도 된다. 중합 개시 보조제 (D1) 은 중합 개시제에 의해 중합이 개시된 광 중합성 화합물의 중합을 촉진하기 위해서 사용되는 화합물 혹은 증감제이다.The polymerization initiator (D) may further contain a polymerization initiator (D1). The polymerization initiator (D1) is a compound or sensitizer used for promoting polymerization of the photopolymerizable compound initiated by the polymerization initiator.

중합 개시 보조제 (D1) 로서는, 아민 화합물, 알콕시안트라센 화합물, 티오크산톤 화합물 및 카르복실산 화합물 등을 들 수 있다.Examples of the polymerization initiator (D1) include an amine compound, an alkoxyanthracene compound, a thioxanthone compound, and a carboxylic acid compound.

아민 화합물로서는, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, 4-디메틸아미노벤조산메틸, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀, 벤조산2-디메틸아미노에틸, 4-디메틸아미노벤조산2-에틸헥실, N,N-디메틸파라톨루이딘, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논 (통칭 미힐러케톤), 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-비스(에틸메틸아미노)벤조페논 등을 들 수 있고, 그 중에서도 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논이 바람직하다. EAB-F (호도가야 화학 공업 (주) 제조) 등의 시판품을 사용해도 된다.Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethyl paratoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, '-Bis (ethylmethylamino) benzophenone, among which 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone is preferable. And commercially available products such as EAB-F (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) may be used.

알콕시안트라센 화합물로서는, 9,10-디메톡시안트라센, 2-에틸-9,1O-디메톡시안트라센, 9,1O-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디에톡시안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디부톡시안트라센 등을 들 수 있다.Examples of the alkoxyanthracene compound include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,1O-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, Ethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene, and the like.

티오크산톤 화합물로서는, 2-이소프로필티오크산톤, 4-이소프로필티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,4-디클로로티오크산톤, 1-클로로-4-프로폭시티오크산톤 등을 들 수 있다.Examples of the thioxanthone compound include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1- Oakstone, and the like.

카르복실산 화합물로서는, 페닐술파닐아세트산, 메틸페닐술파닐아세트산, 에틸페닐술파닐아세트산, 메틸에틸페닐술파닐아세트산, 디메틸페닐술파닐아세트산, 메톡시페닐술파닐아세트산, 디메톡시페닐술파닐아세트산, 클로로페닐술파닐아세트산, 디클로로페닐술파닐아세트산, N-페닐글리신, 페녹시아세트산, 나프틸티오아세트산, N-나프틸글리신, 나프톡시아세트산 등을 들 수 있다.Examples of the carboxylic acid compound include phenylsulfanyl acetic acid, methylphenylsulfanylacetic acid, ethylphenylsulfanylacetic acid, methylethylphenylsulfanylacetic acid, dimethylphenylsulfanylacetic acid, methoxyphenylsulfanylacetic acid, dimethoxyphenylsulfanylacetic acid, chloro Phenylsulfanyl acetic acid, dichlorophenylsulfanylacetic acid, N-phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid and the like.

중합 개시 보조제 (D1) 은 단독이거나 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.The polymerization initiator auxiliary (D1) may be used alone or in combination of two or more.

이들 중합 개시 보조제 (D1) 을 사용하는 경우, 그 사용량은 수지 (B) 및 중합성 화합물 (C) 의 합계량 100 질량부에 대해 바람직하게는 0.1 ∼ 30 질량부, 보다 바람직하게는 1 ∼ 20 질량부이다. 중합 개시 보조제 (D1) 의 양이 이 범위에 있으면, 더욱 고감도로 패턴을 형성할 수 있고, 패턴의 생산성이 향상되는 경향이 있다.When these polymerization initiation assistants (D1) are used, the amount thereof is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass based on 100 parts by mass of the total amount of the resin (B) and the polymerizable compound (C) Wealth. When the amount of the polymerization initiator (D1) is within the above range, the pattern can be formed with higher sensitivity and the productivity of the pattern tends to be improved.

<용제 (E)>&Lt; Solvent (E) >

용제 (E) 는 특별히 한정되지 않고, 당해 분야에서 통상적으로 사용되는 용제를 사용할 수 있다. 예를 들어, 에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 를 포함하고, -O- 를 포함하지 않는 용제), 에테르 용제 (분자 내에 -O- 를 포함하고, -COO- 를 포함하지 않는 용제), 에테르에스테르 용제 (분자 내에 -COO- 와 -O- 를 포함하는 용제), 케톤 용제 (분자 내에 -CO- 를 포함하고, -COO- 를 포함하지 않는 용제), 알코올 용제, 방향족 탄화수소 용제, 아미드 용제, 디메틸술폭사이드 등 중에서 선택하여 사용할 수 있다.The solvent (E) is not particularly limited, and a solvent commonly used in the art can be used. For example, an ester solvent (a solvent containing -COO- in the molecule and not containing -O-), an ether solvent (a solvent containing -O- and no -COO- in the molecule), an ether ester (Solvent containing -COO- and -O- in the molecule), ketone solvent (solvent containing -CO- in the molecule and not including -COO-), alcohol solvent, aromatic hydrocarbon solvent, amide solvent, dimethyl Sulfoxide, and the like.

에스테르 용제로서는, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산부틸, 2-하이드록시이소부탄산메틸, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 포름산펜틸, 아세트산이소펜틸, 프로피온산부틸, 부티르산이소프로필, 부티르산에틸, 부티르산부틸, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 피루브산프로필, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 시클로헥산올아세테이트 및 γ-부티로락톤 등을 들 수 있다.Examples of the ester solvent include methyl lactate, ethyl lactate, butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutanoate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, pentyl formate, isopentyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, Butyl propionate, butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, cyclohexanol acetone and? -Butyrolactone.

에테르 용제로서는, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 3-메톡시-1-부탄올, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 테트라하이드로푸란, 테트라하이드로피란, 1,4-디옥산, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디프로필에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 아니솔, 페네톨 및 메틸아니솔 등을 들 수 있다.Examples of the ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene Propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monobutyl ether, 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, anisole, And the like.

에테르에스테르 용제로서는, 메톡시아세트산메틸, 메톡시아세트산에틸, 메톡시아세트산부틸, 에톡시아세트산메틸, 에톡시아세트산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-메톡시프로피온산프로필, 2-에톡시프로피온산메틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노프로필에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 및 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트 등을 들 수 있다.Examples of the ether ester solvent include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate , Ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, Methyl propionate, methyl propionate, methyl 2-ethoxy-2-methyl propionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol mono Propyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate Bit and di, and the like ethylene glycol monobutyl ether acetate.

케톤 용제로서는, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 아세톤, 2-부타논, 2-헵타논, 3-헵타논, 4-헵타논, 4-메틸-2-펜타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논 및 이소포론 등을 들 수 있다.Examples of the ketone solvent include 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4- Pentanone, cyclohexanone, and isophorone.

알코올 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥사놀, 시클로헥사놀, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 및 글리세린 등을 들 수 있다.Examples of the alcohol solvent include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol and glycerin.

방향족 탄화수소 용제로서는, 벤젠, 톨루엔, 자일렌 및 메시틸렌 등을 들 수 있다.Examples of the aromatic hydrocarbon solvent include benzene, toluene, xylene and mesitylene.

아미드 용제로서는, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 및 N-메틸피롤리돈 등을 들 수 있다.Examples of the amide solvent include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.

이들의 용제는 단독이거나 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.These solvents may be used alone or in combination of two or more.

상기의 용제 중, 도포성, 건조성면에서, 1 atm 에 있어서의 비점이 120 ℃ 이상 180 ℃ 이하인 유기 용제가 바람직하다. 용제 (E) 로서는, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 3-에톡시프로피온산에틸, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논 및 N,N-디메틸포름아미드가 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 락트산에틸 및 3-에톡시프로피온산에틸이 보다 바람직하다.Among the above-mentioned solvents, an organic solvent having a boiling point of 120 占 폚 or more and 180 占 폚 or less at 1 atm is preferable from the viewpoint of coatability and dryness. As the solvent (E), propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl 3-ethoxypropionate, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, -Hydroxy-4-methyl-2-pentanone and N, N-dimethylformamide are preferable, and propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, ethyl lactate and ethyl 3-ethoxypropionate are more preferable .

용제 (E) 의 함유량은 착색 경화성 조성물의 총량에 대해 바람직하게는 70 ∼ 95 질량% 이며, 보다 바람직하게는 75 ∼ 92 질량% 이다. 환언하면, 착색 경화성 조성물의 고형분은 바람직하게는 5 ∼ 30 질량%, 보다 바람직하게는 8 ∼ 25 질량% 이다. 용제 (E) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 도포시의 평탄성이 양호해지고, 또 컬러 필터를 형성했을 때에 색 농도가 부족하지 않기 때문에 표시 특성이 양호해지는 경향이 있다.The content of the solvent (E) is preferably 70 to 95% by mass, and more preferably 75 to 92% by mass, based on the total amount of the colored curable composition. In other words, the solid content of the color-curable composition is preferably 5 to 30% by mass, and more preferably 8 to 25% by mass. When the content of the solvent (E) is within the above range, the flatness at the time of coating becomes good, and the color characteristics are not insufficient when the color filter is formed, so that the display characteristics tend to be good.

<계면활성제 (F)>&Lt; Surfactant (F) >

계면활성제 (F) 로서는, 불소 원자 또는 실리콘 원자를 갖는 계면활성제가 적합하다. 구체적으로는, 실리콘계 계면활성제, 불소계 계면활성제 및 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 들 수 있다.As the surfactant (F), a surfactant having a fluorine atom or a silicon atom is suitable. Specifically, at least one selected from the group consisting of a silicone surfactant, a fluorine surfactant, and a silicon surfactant having a fluorine atom can be enumerated.

상기의 실리콘계 계면활성제로서는, 실록산 결합을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 토레실리콘 DC3PA, 동 SH7PA, 동 DC11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 폴리에테르 변성 실리콘 오일 SH8400 (상품명 : 토레실리콘 ; 토레·다우코닝 (주) 제조), KP321, KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (신에츠 화학 공업 (주) 제조), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF-4446, TSF4452, TSF4460 (모멘티브·퍼포먼스·마테리알즈·재팬 합동 회사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the silicone surfactant include a surfactant having a siloxane bond. Concretely, it is possible to use a silicone oil such as Torensilicon DC3PA, Copper SH7PA, Copper DC11PA, Copper SH21PA, Copper SH28PA, Copper SH29PA, Copper SH30PA, Polyether Modified Silicon Oil SH8400 (trade name: Toresilicon, Toray Dow Corning) KP322, KP323, KP324, KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452, TSF4460 (Momentive Performance Matrix Manufactured by Japan Joint Corporation).

상기의 불소계 계면활성제로서는, 플루오로카본 사슬을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 플로라드 (상품명) FC430, 동 FC431 (스미토모 스리엠 (주) 제조), 메가팍크 (상품명) F142D, 동 F171, 동 F172, 동 F173, 동 F177, 동 F183, 동 F489, 동 F554, 동 R30 (DIC (주) 제조), 에프톱 (상품명) EF301, 동 EF303, 동 EF351, 동 EF352 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조), 사프론 (상품명) S381, 동 S382, 동 SC101, 동 SC105 (아사히 글라스 (주) 제조), E5844 ((주) 다이킨 파인 케미칼 연구소 제조), BM-1000, BM-1100 (모두 상품명 : BM Chemie 사 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the fluorine-based surfactant include a surfactant having a fluorocarbon chain. Concretely, F412, F171, F172, F173, F177, F183, F489, F554 (trade names) FC430 and FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.) (Trade name) S381, S382, SC101 (trade name) manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), EF301, EF301, EF351 and EF352 , SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Research Institute, Ltd.), BM-1000 and BM-1100 (all trade names, manufactured by BM Chemie).

상기의 불소 원자를 갖는 실리콘계 계면활성제로서는, 실록산 결합 및 플루오로 카본 사슬을 갖는 계면활성제 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 메가팍크 (등록상표) R08, 동 BL20, 동 F475, 동 F477, 동 F443 (DIC (주) 제조) 등을 들 수 있다.Examples of the silicon-based surfactant having a fluorine atom include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain. Specifically, Megapox (registered trademark) R08, Copper BL20, Copper F475, Copper F477, Copper F443 (manufactured by DIC) can be used.

이들 계면활성제는 단독이거나 2 종류 이상을 조합하여 사용해도 된다.These surfactants may be used alone or in combination of two or more.

계면활성제 (F) 의 함유량은 착색 경화성 조성물의 총량에 대해 바람직하게는 O.001 질량% 이상 0.2 질량% 이하이며, 바람직하게는 0.002 질량% 이상 0.1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.01 질량% 이상 0.05 질량% 이하이다. 또한, 이 함유량에 상기 안료 분산제의 함유량은 포함되지 않는다. 계면활성제 (F) 의 함유량이 상기의 범위에 있으면, 도포막의 평탄성을 양호하게 할 수 있다.The content of the surfactant (F) is preferably 0.001% by mass or more and 0.2% by mass or less, preferably 0.002% by mass or more and 0.1% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or more relative to the total amount of the colored curable composition 0.05% by mass or less. The content of the pigment dispersant is not included in the content. When the content of the surfactant (F) is in the above range, the flatness of the coated film can be improved.

<그 밖의 성분> &Lt; Other components >

본 발명의 착색 경화성 조성물은 필요에 따라 충전제, 다른 고분자 화합물, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 광 안정제, 연쇄 이동제 등의 여러 가지 첨가제를 함유해도 된다.The colored curable composition of the present invention may contain various additives such as fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, antioxidants, light stabilizers, and chain transfer agents, if necessary.

<착색 경화성 조성물의 제조 방법>&Lt; Process for producing colored curable composition >

본 발명의 착색 경화성 조성물은, 예를 들어, 본 발명의 염료 및 중합성 화합물 (C), 그리고 필요에 따라 사용되는 수지 (B), 중합 개시제 (D), 중합 개시 보조제 (D1), 계면활성제 (F) 및 그 외의 성분을, 용제 (E) 와 혼합함으로써 제조할 수 있다.The colored curable composition of the present invention can be obtained, for example, by mixing the dye of the present invention and the polymerizable compound (C), and the resin (B), the polymerization initiator (D), the polymerization initiator (D1) (F) and other components with the solvent (E).

안료 (A1) 을 함유하는 경우, 안료 (A1) 을 미리 용제 (E) 와 혼합하여, 안료의 평균 입경이 0.2 ㎛ 이하 정도가 될 때까지, 비즈 밀 등을 이용하여 분산시키는 것이 바람직하다. 이 때, 필요에 따라 상기 안료 분산제, 수지 (B) 의 일부 또는 전부를 배합해도 된다. 얻어진 안료 분산액에, 본 발명의 염, 수지 (B) 의 나머지 및 중합성 화합물 (C), 그리고 필요에 따라 사용되는 중합 개시제 (D), 용제 (E) 의 나머지, 계면활성제 (F) 및 그 밖의 성분 등을, 소정의 농도가 되도록 혼합함으로써, 목적으로 하는 착색 경화성 조성물을 제조할 수 있다.When the pigment (A1) is contained, it is preferable that the pigment (A1) is previously mixed with the solvent (E) and dispersed with a bead mill or the like until the average particle diameter of the pigment becomes about 0.2 탆 or less. At this time, if necessary, a part or all of the pigment dispersant and the resin (B) may be blended. To the obtained pigment dispersion are added the salt of the present invention, the remainder of the resin (B) and the polymerizable compound (C) and the polymerization initiator (D) to be used if necessary, the remainder of the solvent (E), the surfactant (F) The desired colored curable composition can be prepared by mixing the components such as the above-mentioned components and the like so as to have a predetermined concentration.

본 발명의 염, 및, 염료 (A2) 를 함유하는 경우의 염료 (A2) 는 미리 용제 (E) 에 각각 용해시켜도 된다. 그 용액은 구멍 직경 0.01 ∼ 1 ㎛ 정도의 필터로 여과시키는 것이 바람직하다.The salt of the present invention and the dye (A2) containing the dye (A2) may be respectively dissolved in the solvent (E) beforehand. The solution is preferably filtered through a filter having a pore diameter of about 0.01 to 1 mu m.

혼합 후의 착색 경화성 조성물은 구멍 직경 0.01 ∼ 10 ㎛ 정도의 필터로 여과시키는 것이 바람직하다.The colored curable composition after mixing is preferably filtered with a filter having a pore diameter of about 0.01 to 10 mu m.

<패턴의 제조 방법>&Lt; Pattern production method >

본 발명의 착색 감광성 조성물을 이용하여 컬러 필터의 패턴을 제조하는 방법으로서는, 포토리소그래프법, 잉크젯법, 인쇄법 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 포토리소그래프법이 바람직하다. 포토리소그래프법은 상기 착색 감광성 조성물을 기판에 도포하여, 건조시켜 조성물층을 형성하고, 포토마스크를 통하여 그 조성물층을 노광하여 현상하는 방법이다. 포토리소그래프법에 있어서, 노광시에 포토마스크를 사용하지 않는 것, 및/또는 현상하지 않는 것에 의해 도포막을 형성해도 된다. Examples of a method for producing a pattern of a color filter using the colored photosensitive composition of the present invention include a photolithographic method, an inkjet method, and a printing method. Among them, a photolithographic method is preferable. The photolithographic method is a method in which the above-mentioned colored photosensitive composition is applied to a substrate, followed by drying to form a composition layer, and the composition layer is exposed through a photomask to develop. In the photolithographic method, a coating film may be formed by not using a photomask at the time of exposure and / or by not developing it.

제조하는 패턴의 막두께는 특별히 한정되지 않고, 목적이나 용도 등에 따라 적절히 조정할 수 있고, 예를 들어, 0.1 ∼ 30 ㎛, 바람직하게는 0.1 ∼ 20 ㎛, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 6 ㎛ 이다.The film thickness of the pattern to be produced is not particularly limited and can be appropriately adjusted depending on the purpose and application, and is, for example, 0.1 to 30 탆, preferably 0.1 to 20 탆, more preferably 0.5 to 6 탆.

기판으로서는, 석영 유리, 붕규산 유리, 알루미나규산염 유리, 표면을 실리카 코트한 소다라임 유리 등의 유리판이나, 폴리카보네이트, 폴리메타크릴산메틸, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 수지판, 실리콘, 상기 기판 상에 알루미늄, 은, 은/구리/팔라듐 합금 박막 등을 형성한 것이 사용된다. 이들 기판 상에는, 다른 컬러 필터층, 수지층, 트랜지스터, 회로 등이 형성되어 있어도 된다.As the substrate, a glass plate such as quartz glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass whose surface is coated with a silica, a resin plate such as polycarbonate, polymethylmethacrylate or polyethylene terephthalate, silicon, , Silver, a silver / copper / palladium alloy thin film, or the like is formed. Other color filter layers, resin layers, transistors, circuits, and the like may be formed on these substrates.

포토리소그래프법에 의한 각 색 화소의 형성은 공지 또는 관용의 장치나 조건으로 실시할 수 있다. 예를 들어, 하기와 같이 하여 제조할 수 있다.The formation of each color pixel by the photolithographic method can be carried out by a known apparatus or condition. For example, it can be produced as follows.

먼저, 착색 감광성 조성물을 기판 상에 도포하고, 가열 건조 (프리베이크) 및/또는 감압 건조시킴으로써 용제 등의 휘발 성분을 제거하여 건조시켜, 평활한 조성물층을 얻는다. First, the colored photosensitive composition is coated on a substrate and dried by heating (prebaking) and / or drying under reduced pressure to remove volatile components such as a solvent and drying to obtain a smooth composition layer.

도포 방법으로서는 스핀 코트법, 슬릿 코트법, 슬릿 앤드 스핀 코트법 등을 들 수 있다.Examples of the application method include a spin coat method, a slit coat method, and a slit and spin coat method.

가열 건조를 실시하는 경우의 온도는 30 ∼ 120 ℃ 가 바람직하고, 50 ∼ 110 ℃ 가 보다 바람직하다. 또 가열 시간으로서는 10 초간 ∼ 60 분간인 것이 바람직하고, 30 초간 ∼ 30 분간인 것이 보다 바람직하다.The temperature in the case of heat drying is preferably 30 to 120 ° C, more preferably 50 to 110 ° C. The heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.

감압 건조를 실시하는 경우에는 50 ∼ 150 ㎩ 의 압력하, 20 ∼ 25 ℃ 의 온도 범위에서 실시하는 것이 바람직하다.In the case of performing the reduced-pressure drying, it is preferably carried out at a temperature of 20 to 25 캜 under a pressure of 50 to 150 Pa.

조성물층의 막두께는 특별히 한정되지 않고, 사용하는 재료, 용도 등에 따라 적절히 조정할 수 있고, 예를 들어, 0.1 ∼ 20 ㎛ 이며, 바람직하게는 0.5 ∼ 6 ㎛ 이다.The film thickness of the composition layer is not particularly limited and can be appropriately adjusted depending on the materials to be used, applications, etc., and is, for example, 0.1 to 20 탆, preferably 0.5 to 6 탆.

다음으로, 조성물층은 목적으로 하는 패턴을 형성하기 위한 포토마스크를 통하여 노광된다. 그 포토마스크 상의 패턴은 특별히 한정되지 않고, 목적으로 하는 용도에 따른 패턴이 사용된다.Next, the composition layer is exposed through a photomask for forming a desired pattern. The pattern on the photomask is not particularly limited, and a pattern according to the intended use is used.

노광에 사용되는 광원으로서는 250 ∼ 450 ㎚ 의 파장의 광을 발생시키는 광원이 바람직하다. 예를 들어, 350 ㎚ 미만의 광을, 이 파장역을 커트하는 필터를 이용하여 커트하거나, 436 ㎚ 부근, 408 ㎚ 부근, 365 ㎚ 부근의 광을, 이들의 파장역을 취출하는 밴드패스 필터를 이용하여 선택적으로 취출하거나 해도 된다. 구체적으로는, 수은등, 발광 다이오드, 메탈 할라이드 램프, 할로겐 램프 등을 들 수 있다.As a light source used for exposure, a light source that generates light having a wavelength of 250 to 450 nm is preferable. For example, light having a wavelength of less than 350 nm is cut using a filter that cuts the wavelength band, or a band-pass filter for extracting light in the vicinity of 436 nm, around 408 nm, and around 365 nm, Or may be selectively taken out. Specific examples thereof include mercury lamps, light emitting diodes, metal halide lamps, and halogen lamps.

노광면 전체에 균일하게 평행 광선을 조사하거나, 포토마스크와 기재의 정확한 위치 맞춤을 실시할 수 있기 때문에, 마스크얼라이너 및 스테퍼 등의 노광 장치를 사용하는 것이 바람직하다.It is preferable to use an exposure apparatus such as a mask aligner or a stepper because it is possible to uniformly irradiate the entire exposure surface with a parallel light beam or to precisely align the photomask with the substrate.

노광 후의 조성물층을 현상액에 접촉시켜 현상함으로써, 기판 상에 패턴이 형성된다. 현상에 의해, 조성물층의 미노광부가 현상액에 용해되어 제거된다. 현상액으로서는, 예를 들어, 수산화칼륨, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 수산화테트라메틸암모늄 등의 알칼리성 화합물의 수용액이 바람직하다. 이들 알칼리성 화합물의 수용액 중의 농도는 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량% 이며, 보다 바람직하게는 0.03 ∼ 5 질량% 이다. 또한, 현상액은 계면활성제를 함유하고 있어도 된다.A pattern is formed on the substrate by bringing the exposed composition layer into contact with a developing solution. By the development, the unexposed portion of the composition layer is dissolved and removed in the developer. As the developer, for example, an aqueous solution of an alkaline compound such as potassium hydroxide, sodium hydrogencarbonate, sodium carbonate, tetramethylammonium hydroxide or the like is preferable. The concentration of these alkaline compounds in the aqueous solution is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.03 to 5% by mass. In addition, the developer may contain a surfactant.

현상 방법은 패들법, 딥핑법 및 스프레이법 등 어느 것이어도 된다. 또한 현상시에 기판을 임의의 각도로 기울여도 된다.The developing method may be any of a paddle method, a dipping method, and a spray method. Further, the substrate may be inclined at an arbitrary angle during development.

현상 후에는 수세하는 것이 바람직하다.It is preferable to rinse after development.

또한, 얻어진 패턴에 포스트베이크를 실시하는 것이 바람직하다. 포스트베이크 온도는 150 ∼ 250 ℃ 가 바람직하고, 160 ∼ 235 ℃ 가 보다 바람직하다. 포스트베이크 시간은 0.5 ∼ 10 분간이 바람직하고, 1 ∼ 5 분간이 보다 바람직하다.In addition, post-baking is preferably performed on the obtained pattern. The post bake temperature is preferably 150 to 250 DEG C, more preferably 160 to 235 DEG C. The post-baking time is preferably 0.5 to 10 minutes, more preferably 1 to 5 minutes.

이렇게 하여 얻어진 패턴은 컬러 필터로서 유용하다.The pattern thus obtained is useful as a color filter.

본 발명의 착색 감광성 조성물로부터, 특히 명도가 우수한 컬러 필터를 제조할 수 있다. 그 컬러 필터는 표시 장치 (예를 들어, 액정 표시 장치, 유기 EL 장치 등), 전자 페이퍼, 고체 촬상 소자 등에 사용되는 컬러 필터로서 유용하다.From the colored photosensitive composition of the present invention, a color filter having particularly excellent brightness can be produced. The color filter is useful as a color filter used in a display device (e.g., a liquid crystal display device, an organic EL device, etc.), an electronic paper, a solid-state image pickup device and the like.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명의 착색 감광성 조성물에 대해 보다 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는 특기하지 않는 한 질량% 및 질량부이다.Hereinafter, the colored photosensitive composition of the present invention will be described in more detail by examples. In the examples, &quot;% &quot; and &quot; part &quot; are parts by mass and parts by mass unless otherwise specified.

이하의 실시예에 있어서, 화합물의 조성을 원소 분석 (VARIO-EL ; (에레멘타르 (주) 제조)) 으로 확인했다.In the following examples, the composition of the compound was confirmed by elemental analysis (VARIO-EL; manufactured by Elementer Co.).

실시예 1Example 1

칼륨트리스트리플루오로메탄술포닐메티드 ((CF3SO2)3CK, 센트랄 글라스 (주) 제조) 1.00 부를 물 60 부에 용해시킨 용액 (s1) 을 조제했다. 별도로, 식 (h-1) 로 나타내는 화합물 1.36 부를 물 100 부에 용해시킨 용액 (t1) 을 제조했다. 실온에서, 용액 (s1) 과 용액 (t1) 을 혼합하여 2 시간 교반했다. 그 혼합액에 이온 교환수 500 부를 첨가하고, 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 100 부로 세정하여 염 (X-3) 을 1.50 부 얻었다.(S1) prepared by dissolving 1.00 parts of potassium tris (trifluoromethanesulfonyl) methane ((CF 3 SO 2 ) 3 CK, Central Glass Co., Ltd.) in 60 parts of water was prepared. Separately, a solution (t1) in which 1.36 parts of the compound represented by the formula (h-1) was dissolved in 100 parts of water was prepared. At room temperature, solution (s1) and solution (t1) were mixed and stirred for 2 hours. 500 parts of ion-exchanged water was added to the mixture, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed with 100 parts of ion-exchanged water to obtain 1.50 parts of salt (X-3).

Figure 112012049465634-pat00076
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Figure 112012049465634-pat00077
Figure 112012049465634-pat00077

실시예 2Example 2

칼륨트리스트리플루오로메탄술포닐메티드 ((CF3SO2)3CK, 센트랄 글라스 (주) 제조) 1.30 부를 물 30 부에 용해시킨 용액 (s2) 를 제조했다. 별도로, 식 (h-2) 로 나타내는 화합물 1.64 부를 물 300 부에 용해시킨 용액 (t2) 를 제조했다. 실온에서, 용액 (s2) 와 용액 (t2) 를 혼합하여 4 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 100 부로 세정하여 염 (X-6) 을 2.20 부 얻었다.(S2) was prepared by dissolving 1.30 parts of potassium tris (trifluoromethanesulfonyl) methane ((CF 3 SO 2 ) 3 CK, Central Glass Co., Ltd.) in 30 parts of water. Separately, a solution (t2) in which 1.64 parts of the compound represented by the formula (h-2) was dissolved in 300 parts of water was prepared. The solution (s2) and the solution (t2) were mixed at room temperature and stirred for 4 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed with 100 parts of ion-exchanged water to obtain 2.20 parts of salt (X-6).

Figure 112012049465634-pat00078
Figure 112012049465634-pat00078

Figure 112012049465634-pat00079
Figure 112012049465634-pat00079

실시예 3Example 3

칼륨트리스트리플루오로메탄술포닐메티드 ((CF3SO2)3CK, 센트랄 글라스 (주) 제조) 1.50 부를 물 50 부에 용해시킨 용액 (s3) 을 제조했다. 별도로, 식 (h-3) 으로 나타내는 화합물 1.78 부를 물 100 부에 용해시킨 용액 (t3) 을 제조했다. 실온에서, 용액 (s3) 과 용액 (t3) 을 혼합하고, 그 후 80 ℃ 로 승온시켜 6 시간 교반했다. 그 혼합액을 실온까지 냉각시킨 후, 이온 교환수 900 부를 첨가하고, 다시 1 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 100 부와 헥산 50 부로 세정하여 염 (X-9) 를 2.50 부 얻었다.(S3) was prepared by dissolving 1.50 parts of potassium tris (trifluoromethanesulfonyl) methane ((CF 3 SO 2 ) 3 CK, Central Glass Co., Ltd.) in 50 parts of water. Separately, a solution (t3) in which 1.78 parts of the compound represented by the formula (h-3) was dissolved in 100 parts of water was prepared. The solution (s3) and the solution (t3) were mixed at room temperature, then heated to 80 占 폚 and stirred for 6 hours. After the mixture was cooled to room temperature, 900 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was further stirred for 1 hour. The precipitate was collected by suction filtration, washed with 100 parts of ion-exchanged water and 50 parts of hexane to obtain 2.50 parts of salt (X-9).

Figure 112012049465634-pat00080
Figure 112012049465634-pat00080

Figure 112012049465634-pat00081
Figure 112012049465634-pat00081

실시예 4Example 4

CF3CF2CF2CF2SO3K (EF-42, 미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 0.91 부를 5 wt% 아세트산 수용액 60 부에 용해시킨 용액 (s4) 를 제조했다. 실온에서, (h-1) 로 나타내는 화합물 1.50 부를 용액 (s4) 에 첨가하여 3 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 100 부로 3 회 세정하여 염 (X-2) 를 1.74 부 얻었다.(S4) was prepared by dissolving 0.91 part of CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 SO 3 K (EF-42, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) in 60 parts of 5 wt% acetic acid aqueous solution. At room temperature, 1.50 parts of the compound represented by (h-1) was added to the solution (s4) and stirred for 3 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 100 parts of ion-exchanged water to obtain 1.74 parts of salt (X-2).

Figure 112012049465634-pat00082
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실시예 5Example 5

식 (f-1) 로 나타내는 화합물 (BONTRON (등록상표) E-108, 오리엔트 화학 공업 (주) 제조) 1.70 부를 N,N-디메틸포름아미드 77 부에 용해시킨 용액 (s5) 를 제조했다. 실온에서, 식 (h-1) 로 나타내는 화합물 3.00 부와, 칼륨트리스트리플루오로메탄술포닐메티드 ((CF3SO2)3CK, 센트랄 글라스 (주) 제조) 0.22 부를 용액 (s5) 에 첨가하여 8 시간 교반했다. 이온 교환수 306 부에 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정했다. 얻어진 고형물을 헥산 51 부에 첨가하여 1 시간 교반했다. 불용물을 흡인 여과로 취득하고, 헥산 15 부로 3 회 세정하여 염 (X-104) 를 2.10 부 얻었다.A solution (s5) in which 1.70 parts of a compound represented by the formula (f-1) (BONTRON (registered trademark) E-108, Orient Chemical Industries, Ltd.) was dissolved in 77 parts of N, N-dimethylformamide. 3.00 parts of a compound represented by the formula (h-1) and 0.22 parts of potassium tris trifluoromethanesulfonyl methide ((CF 3 SO 2 ) 3 CK, Central Glass Co., Ltd.) were added to a solution (s5) And the mixture was stirred for 8 hours. The mixture was added to 306 parts of ion-exchanged water, and the mixture was stirred for another 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water. The resulting solid was added to 51 parts of hexane and stirred for 1 hour. The insoluble material was collected by suction filtration and washed with 15 parts of hexane three times to obtain 2.10 parts of salt (X-104).

Figure 112012049465634-pat00083
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실시예 6Example 6

식 (h-1) 로 나타내는 화합물 36.8 부를 N,N-디메틸포름아미드 730 부에 용해시킨 용액 (s6) 을 제조했다. 실온에서, 용액 (s6) 에 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 8.6 부를 첨가하여 4 시간 교반했다. 그 혼합액에, 추가로 식 (f-1) 로 나타내는 화합물 (BONTRON (등록상표) E-108, 오리엔트 화학 공업 (주) 제조) 24.3 부를 첨가하여, 계속해서 8 시간 교반했다. 이온 교환수 3649 부에, 그 혼합액을 첨가하고 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여, 이온 교환수 182 부로 3 회 세정했다. 얻어진 고형물을 헥산 486 부에 첨가하여 1 시간 교반했다. 불용물을 흡인 여과로 취득하고, 헥산 97 부로 3 회, 계속해서 이온 교환수 91 부로 1 회 세정하여 염 (X-100) 을 36.7 부 얻었다.A solution (s6) in which 36.8 parts of the compound represented by the formula (h-1) was dissolved in 730 parts of N, N-dimethylformamide was prepared. At room temperature, 8.6 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the solution (s6) and the mixture was stirred for 4 hours. 24.3 parts of a compound represented by the formula (f-1) (BONTRON (registered trademark) E-108, Orient Chemical Industries Ltd.) was further added to the mixture, followed by stirring for 8 hours. The mixture was added to 3649 parts of ion-exchanged water, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed with 182 parts of ion-exchanged water three times. The resulting solid was added to 486 parts of hexane and stirred for 1 hour. Insoluble materials were obtained by suction filtration, washed with 97 parts of hexane three times and then once with 91 parts of ion-exchanged water to obtain 36.7 parts of salt (X-100).

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또한, 원료로서 사용한 식 (f-1) 로 나타내는 화합물 0.35 g 을 클로로포름에 용해시켜 체적을 250 ㎤ 로 하고, 그 중의 2 ㎤ 를 클로로포름으로 희석하여 100 ㎤ 로 하고, 농도 0.028 g/ℓ 의 용액을 조정하여, 그 용액에 대해 자외 가시 분광 광도계 (V-650DS ; 닛폰 분광 (주) 제조) (석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝) 를 이용하여 400 ∼ 900 ㎚ 에 있어서의 극대 흡수 파장 및 극대 흡수 파장에서의 흡광도를 측정한 결과, 극대 흡수 파장은 425 ㎚ 이고, 흡광도는 0.0019 였다.0.35 g of the compound represented by the formula (f-1) used as a raw material was dissolved in chloroform to make a volume of 250 cm 3, 2 cm 3 of the solution was diluted with chloroform to 100 cm 3, and a solution with a concentration of 0.028 g / (V-650DS, manufactured by Nippon Spectroscopy) (quartz cell, optical path length: 1 cm) was used to adjust the maximum absorption wavelength and the maximum absorption wavelength at 400 to 900 nm in the ultraviolet visible spectrophotometer , The maximum absorption wavelength was 425 nm and the absorbance was 0.0019.

실시예 7Example 7

식 (h-66) 으로 나타내는 화합물 (JPH10-97732-A 의 실시예 A50 에 기재되는 방법에 준하여 얻었다) 3.00 부를 N,N-디메틸포름아미드 45 부에 용해시킨 용액에, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.70 부를 첨가하여 실온에서 4 시간 교반했다. 그 혼합액에 이온 교환수 225 부를 첨가하여, 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정하여 염 (X-33) 을 3.80 부 얻었다.To a solution prepared by dissolving 3.00 parts of the compound represented by the formula (h-66) (obtained according to the method described in Example A50 of JPH10-97732-A) in 45 parts of N, N-dimethylformamide, bis (trifluoromethane Sulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 4 hours. 225 parts of ion-exchanged water was added to the mixture, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 3.80 parts of salt (X-33).

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Figure 112012049465634-pat00087
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실시예 8Example 8

비스(플루오로술포닐)이미드칼륨염 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 1.00 부를 물 20 부에 용해시킨 용액에, 식 (h-1) 로 나타내는 화합물 2.79 부를 물 110 부에 용해시킨 용액을 첨가하여 실온에서 2 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정하여 염 (X-54) 를 1.50 부 얻었다.2.79 parts of the compound represented by the formula (h-1) was dissolved in 110 parts of water in a solution of 1.00 parts of bis (fluorosulfonyl) imide potassium salt (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in 20 parts of water And the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 1.50 parts of salt (X-54).

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실시예 9Example 9

비스(노나플루오로부탄술포닐)이미드칼륨염 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 1.50 부를 N,N-디메틸포름아미드 50 부에 용해시킨 용액에, 식 (h-1) 로 나타내는 화합물 1.48 부를 N,N-디메틸포름아미드 250 부에 용해시킨 용액을 첨가하여 실온에서 2 시간 교반했다. 그 혼합액에 10 % 식염수 300 부를 첨가하여, 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정하여 염 (X-55) 를 1.29 부 얻었다.(H-1) shown below was added to a solution prepared by dissolving 1.50 parts of bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide potassium salt (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in 50 parts of N, N-dimethylformamide Was dissolved in N, N-dimethylformamide (250 parts), and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. 300 parts of 10% saline was added to the mixture, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 1.29 parts of salt (X-55).

실시예 10Example 10

1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로판-1,3-디술폰이미드칼륨 (토쿄 화성 (주) 제조) 1.40 부를 물 70 부에 용해시킨 용액에, 식 (h-1) 로 나타내는 화합물 3.04 부를 물 130 부에 용해시킨 용액을 첨가하여 실온에서 2 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정하여 염 (X-56) 을 3.60 부 얻었다.(H-1) was added to a solution prepared by dissolving 1.40 parts of 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfone imidazolium potassium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) Was dissolved in 130 parts of water, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 3.60 parts of salt (X-56).

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Figure 112012049465634-pat00089

실시예 11Example 11

혼합 중에 혼합물의 온도가 30 ℃ 이하가 되도록, 98 % 황산 50 부에 2-(4-디에틸아미노-2-하이드록시벤조일)벤조산 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 7.83 부를 서서히 첨가하여 혼합했다. 얻어진 용액을 5 ℃ 까지 냉각시키고, 그곳에 3-(이소프로필아미노)페놀 (일본 공개특허공보 평9-169708호에 기재된 방법에 준하여 제조) 5.37 부를 첨가했다. 그 후, 이 혼합물을 5 ℃ 에서 65 시간 교반했다. 반응 혼합물을 빙수 250 부 중에 첨가하여 석출물을 흡인 여과로 취득했다. 잔류물을 클로로포름 180 부에 용해시키고, 이온 교환수 300 부를 첨가하여, 다시 10 % 수산화나트륨 수용액으로 수층을 pH 10 으로 하여 1 시간 교반했다. 클로로포름층을 분취하여, 이온 교환수 200 부로 세정하고, 황산마그네슘으로 탈수했다. 황산마그네슘을 제거하여 얻은 용액으로부터 클로로포름을 감압하에서 증류 제거하고, 식 (hx-83) 으로 나타내는 화합물을 5.50 부 얻었다.7.83 parts of 2- (4-diethylamino-2-hydroxybenzoyl) benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was gradually added to 50 parts of 98% sulfuric acid so that the temperature of the mixture was 30 DEG C or less during mixing . The resulting solution was cooled to 5 占 폚, and 5.37 parts of 3- (isopropylamino) phenol (prepared according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-169708) was added thereto. Thereafter, this mixture was stirred at 5 DEG C for 65 hours. The reaction mixture was added to 250 parts of ice water, and the precipitate was collected by suction filtration. The residue was dissolved in 180 parts of chloroform, 300 parts of ion-exchanged water was added, and the aqueous layer was adjusted to pH 10 with 10% aqueous sodium hydroxide solution and stirred for 1 hour. The chloroform layer was collected, washed with 200 parts of ion-exchanged water, and dehydrated with magnesium sulfate. From the solution obtained by removing magnesium sulfate, chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain 5.50 parts of a compound represented by the formula (hx-83).

Figure 112012049465634-pat00090
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식 (hx-83) 으로 나타내는 화합물 3.00 부, 트리에틸렌글리콜 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 3.16 부, 디메틸아미노피리딘 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.24 부, (1S)-(+)-10-캠퍼술폰산 (칸토 화학 (주) 제조) 0.18 부에 탈수 클로로포름 30 부를 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 30 ℃ 를 넘지 않도록, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 ((주) 도진 화학 연구소 제조) 1.83 부를 탈수 클로로포름 7.2 부에 용해시킨 용액을 적하하여, 실온에서 5 시간 교반했다. 그 클로로포름 용액을 1 N 염산 300 부, 이어서 10 % 식염수 200 부로 분액, 황산마그네슘으로 탈수했다. 황산마그네슘을 제거하여 얻은 용액으로부터 클로로포름을 감압하에서 증류 제거하여, 하기 식 (h-83) 으로 나타내는 화합물을 3.59 부 얻었다., 3.00 parts of a compound represented by the formula (hx-83), 3.16 parts of triethylene glycol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 0.24 parts of dimethylaminopyridine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, -10-camphorsulfonic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) (0.18 parts) was added 30 parts of dehydrated chloroform, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. A solution prepared by dissolving 1.83 parts of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (manufactured by Tojin Chemical Industry Co., Ltd.) in 7.2 parts of dehydrated chloroform was added dropwise at 30 ° C for 5 hours Lt; / RTI &gt; The chloroform solution was diluted with 300 parts of 1 N hydrochloric acid and then with 200 parts of 10% brine, followed by dehydration with magnesium sulfate. Chloroform was distilled off from the solution obtained by removing magnesium sulfate under reduced pressure to obtain 3.59 parts of a compound represented by the following formula (h-83).

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Figure 112012049465634-pat00091

1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로판-1,3-디술폰산이칼륨염 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 1.00 부를 물 35 부에 용해시킨 용액에, 식 (h-83) 으로 나타내는 화합물 2.90 부를 물 280 부에 용해시킨 용액을 첨가하여 실온에서 2 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 20 부로 3 회 세정하여 염 (X-57) 을 2.23 부 얻었다.To a solution prepared by dissolving 1.00 parts of 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonic acid dipotassium salt (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) in 35 parts of water, h-83) in 280 parts of water was added thereto, and the mixture was stirred at room temperature for 2 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 2.23 parts of salt (X-57).

Figure 112012049465634-pat00092
Figure 112012049465634-pat00092

실시예 12Example 12

C.I. Basic Violet 11 (Aizen Cathilon Brilliant Pink CD-BH, 호도가야 화학 공업 (주) 제조) 15.00 부를 물 300 부에 용해시킨 용액에, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 8.49 부를 물 50 부에 용해시킨 용액을 30 분에 걸쳐서 적하하고, 실온에서 3 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하여, 이온 교환수 600 부로 3 회 세정하고, 염 (X-58) 을 18.10 부 얻었다.C.I. (Trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (commercially available from Tokyo Chemical Industries Co., Ltd.) was added to a solution prepared by dissolving 15.00 parts of Basic Violet 11 (Aizen Cathilon Brilliant Pink CD-BH, Hodogaya Chemical Co., ) In 50 parts of water was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 600 parts of ion-exchanged water to obtain 18.10 parts of salt (X-58).

Figure 112012049465634-pat00093
Figure 112012049465634-pat00093

실시예 13Example 13

C.I. Basic Violet 11 (Aizen Cathilon Brilliant Pink CD-BH, 호도가야 화학 공업 (주) 제조) 5.00 부를 N,N-디메틸포름아미드 62 부에 용해시킨 용액 (s13) 를 제조했다. 실온에서 용액 (s13) 에 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.70 부를 첨가하여 3 시간 교반했다. 그 혼합액에, 다시 식 (f-1) 로 나타내는 화합물 (BONTRON (등록상표) E-108, 오리엔트 화학 공업 (주) 제조) 3.10 부를 첨가하여 계속해서 8 시간 교반했다. 이온 교환수 497 부에 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여, 이온 교환수 50 부로 3 회 세정했다. 얻어진 고형물을 헥산 20 부에 첨가하여 1 시간 교반했다. 불용물을 흡인 여과로 취득하고, 헥산 50 부로 3 회, 계속해서 이온 교환수 50 부로 1 회 세정하여 염 (X-126) 을 7.40 부 얻었다.C.I. (S13) was prepared by dissolving 5.00 parts of Basic Violet 11 (Aizen Cathilon Brilliant Pink CD-BH, Hodogaya Chemical Co., Ltd.) in 62 parts of N, N-dimethylformamide. 1.70 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the solution (s13) at room temperature, followed by stirring for 3 hours. To the resulting mixture was further added 3.10 parts of a compound represented by the formula (f-1) (BONTRON (registered trademark) E-108, Orient Chemical Industries Ltd.), followed by stirring for 8 hours. The mixed solution was added to 497 parts of ion-exchanged water, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 50 parts of ion-exchanged water. The resulting solid was added to 20 parts of hexane and stirred for 1 hour. Insoluble materials were obtained by suction filtration, washed with 50 parts of hexane three times and then once with 50 parts of ion-exchanged water to obtain 7.40 parts of salt (X-126).

Figure 112012049465634-pat00094
Figure 112012049465634-pat00094

실시예 14Example 14

Basic Violet 10 (로다민 B, 토쿄 화성 공업 (주) 제조) 10.00 부, 메탄올 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 2.14 부, 디메틸아미노피리딘 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 0.77 부, (1S)-(+)-10-캠퍼술폰산 (칸토 화학 (주) 제조) 0.58 부에 탈수 클로로포름 120 부를 첨가하여 실온에서 1 시간 교반했다. 30 ℃ 를 넘지 않도록, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염 ((주) 도진 화학 연구소 제조) 5.80 부를 탈수 클로로포름 49.3 부에 용해시킨 용액을 적하하여, 실온에서 3 시간 교반했다. 그 클로로포름 용액을, 1 N 염산 107 부, 이어서 10 % 식염수 171 부로 분액, 황산마그네슘으로 탈수했다. 황산마그네슘을 제거하여 얻은 용액으로부터 클로로포름을 감압하에서 증류 제거하여, 하기 식 (h-4) 로 나타내는 화합물을 8.70 부 얻었다., 10.00 parts of Basic Violet 10 (Rhodamine B, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 2.14 parts of methanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 0.77 parts of dimethylaminopyridine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, 1S) - (+) - 10-camphorsulfonic acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) (0.58 part) was added 120 parts of dehydrated chloroform, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. A solution prepared by dissolving 5.80 parts of 1-ethyl-3- (3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (manufactured by Tojin Chemical Industry Co., Ltd.) in 49.3 parts of dehydrated chloroform was added dropwise at 30 ° C for 3 hours Lt; / RTI &gt; The chloroform solution was separated into 107 parts of 1N hydrochloric acid and then 171 parts of 10% brine, followed by dehydration with magnesium sulfate. From the solution obtained by removing magnesium sulfate, chloroform was distilled off under reduced pressure to obtain 8.70 parts of a compound represented by the following formula (h-4).

Figure 112012049465634-pat00095
Figure 112012049465634-pat00095

식 (h-4) 로 나타내는 화합물 2.50 부를 물 50 부에 용해시킨 용액에, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.46 부를 물 10 부에 용해시킨 용액을 30 분에 걸쳐 적하하여, 실온에서 3 시간 교반했다. 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 100 부로 3 회 세정하여 염 (X-59) 를 3.10 부 얻었다.A solution prepared by dissolving 1.46 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 10 parts of water was added to a solution of 2.50 parts of the compound represented by the formula (h-4) Was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 100 parts of ion-exchanged water to obtain 3.10 parts of salt (X-59).

Figure 112012049465634-pat00096
Figure 112012049465634-pat00096

실시예 15Example 15

빙욕하에서, Basic Violet 10 (로다민 B, 토쿄 화성 공업 (주) 제조) 10.00 부에, 탈수 클로로포름 50 부, N,N-디메틸포름아미드 3.05 부를 첨가하여 빙욕하에서 1 시간 교반했다. 빙욕하에서 염화티오닐 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 5.46 부를 적하하고, 그 후 40 ℃ 로 승온시켜 3 시간 교반했다. 실온까지 냉각시킨 후, 빙욕하에서 피롤리딘 (와코 준야쿠 공업 (주) 제조) 5.94 부를 적하하고, 그 후 40 ℃ 로 승온시켜 2 시간 교반했다. 그 혼합액을 실온까지 냉각시킨 후, 이온 교환수 100 부와 클로로포름 150 부를 첨가하고, 분액하여 클로로포름층을 분취했다. 수층에 클로로포름 150 부를 첨가하고, 분액하여 클로로포름층을 분취했다. 2 개의 클로로포름층을 합쳐 황산마그네슘으로 탈수했다. 황산마그네슘을 제거하여 얻은 용액으로부터 클로로포름을 감압하에서 증류 제거하여, 얻어진 고체를 아세트산에틸 142 부로 세정하고, 하기 식 (h-65) 로 나타내는 화합물을 10.76 부 얻었다.50 parts of dehydrated chloroform and 3.05 parts of N, N-dimethylformamide were added to 10.00 parts of Basic Violet 10 (Rhodamine B, Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in an ice bath, and the mixture was stirred for 1 hour in an ice bath. 5.46 parts of thionyl chloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise in an ice bath, and the mixture was heated to 40 ° C and stirred for 3 hours. After cooling to room temperature, 5.94 parts of pyrrolidine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added dropwise in an ice bath, and then the temperature was raised to 40 占 폚 and stirred for 2 hours. After cooling the mixture to room temperature, 100 parts of ion-exchanged water and 150 parts of chloroform were added, and the chloroform layer was separated by separating. To the aqueous layer was added 150 parts of chloroform, and the solution was separated to separate a chloroform layer. The two chloroform layers were combined and dehydrated with magnesium sulfate. The chloroform was distilled off from the solution obtained by removing magnesium sulfate under reduced pressure, and the resulting solid was washed with 142 parts of ethyl acetate to obtain 10.76 parts of a compound represented by the following formula (h-65).

Figure 112012049465634-pat00097
Figure 112012049465634-pat00097

식 (h-65) 로 나타내는 화합물 3.50 부를 N,N-디메틸포름아미드 35 부에 용해시킨 용액에, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.89 부를 첨가하여 실온에서 3 시간 교반했다. 이온 교환수 280 부에, 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여 이온 교환수 30 부로 3 회 세정하여, 염 (X-32) 를 10.20 부 얻었다.1.89 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to a solution of 3.50 parts of the compound represented by the formula (h-65) in 35 parts of N, N- dimethylformamide And the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The mixture was added to 280 parts of ion-exchanged water and stirred for another 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 30 parts of ion-exchanged water to obtain 10.20 parts of salt (X-32).

Figure 112012049465634-pat00098
Figure 112012049465634-pat00098

실시예 16Example 16

식 (h-65) 로 나타내는 화합물 3.00 부를 N,N-디메틸포름아미드 30 부에 용해시킨 용액 (s16) 을 제조했다. 실온에서 용액 (s16) 에 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.29 부를 첨가하여 30 분간 교반했다. 그 혼합액에, 다시 식 (f-8) 로 나타내는 화합물 (BONTRON (등록상표) E-81, 오리엔트 화학 공업 (주) 제조) 0.62 부를 첨가하여 계속해서 8 시간 교반했다. 이온 교환수 240 부에, 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여 이온 교환수 30 부로 3 회 세정했다. 얻어진 고형물을 헥산 20 부에 첨가하여 1 시간 교반했다. 불용물을 흡인 여과로 취득하고, 헥산 20 부로 3 회, 계속해서 이온 교환수 20 부로 1 회 세정하여 염 (X-127) 을 3.70 부 얻었다.A solution (s16) in which 3.00 parts of the compound represented by the formula (h-65) was dissolved in 30 parts of N, N-dimethylformamide was prepared. 1.29 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the solution (s16) at room temperature and the mixture was stirred for 30 minutes. 0.62 part of a compound represented by the formula (f-8) (BONTRON (registered trademark) E-81, Orient Chemical Industries Ltd.) was further added to the mixture, followed by stirring for 8 hours. The mixture was added to 240 parts of ion-exchanged water, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 30 parts of ion-exchanged water. The resulting solid was added to 20 parts of hexane and stirred for 1 hour. Insoluble materials were obtained by suction filtration, washed with 20 parts of hexane three times, and then once with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 3.70 parts of salt (X-127).

Figure 112012049465634-pat00099
Figure 112012049465634-pat00099

실시예 17Example 17

식 (h-66) 으로 나타내는 화합물 3.00 부를 N,N-디메틸포름아미드 30 부에 용해시킨 용액 (s17) 을 제조했다. 실온에서 용액 (s17) 에 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드리튬 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 1.26 부를 첨가하여 30 분간 교반했다. 그 혼합액에, 다시 식 (f-8) 로 나타내는 화합물 (BONTRON (등록상표) E-81, 오리엔트 화학 공업 (주) 제조) 0.60 부를 첨가하여 계속해서 3 시간 교반했다. 이온 교환수 240 부에, 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하여 이온 교환수 30 부로 3 회 세정했다. 얻어진 고형물을 헥산 20 부에 첨가하여 1 시간 교반했다. 불용물을 흡인 여과로 취득하고, 헥산 20 부로 3 회, 계속해서 이온 교환수 20 부로 1 회 세정하여 염 (X-128) 을 4.10 부 얻었다.A solution (s17) in which 3.00 parts of the compound represented by the formula (h-66) was dissolved in 30 parts of N, N-dimethylformamide was prepared. 1.26 parts of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide lithium (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to the solution (s17) at room temperature, and the mixture was stirred for 30 minutes. 0.60 parts of a compound represented by the formula (f-8) (BONTRON (registered trademark) E-81, Orient Chemical Industries Ltd.) was further added to the mixture, followed by stirring for 3 hours. The mixture was added to 240 parts of ion-exchanged water, and the mixture was further stirred for 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 30 parts of ion-exchanged water. The resulting solid was added to 20 parts of hexane and stirred for 1 hour. Insoluble materials were obtained by suction filtration, washed with 20 parts of hexane three times, and then once with 20 parts of ion-exchanged water to obtain 4.10 parts of salt (X-128).

Figure 112012049465634-pat00100
Figure 112012049465634-pat00100

실시예 18Example 18

식 (h-2) 로 나타내는 화합물 2.00 부를 물 20 부에 용해시킨 용액에 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로프로판-1,3-디술폰산이칼륨염 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 0.68 부를 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반했다. 이온 교환수 160 부에 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 30 부로 3 회 세정하여 염 (X-60) 을 1.80 부 얻었다.To a solution prepared by dissolving 2.00 parts of the compound represented by the formula (h-2) in 20 parts of water was added 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonic acid dipotassium salt (Mitsubishi Materiel Electronics Co., 0.68 part) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. And the mixture was added to 160 parts of ion-exchanged water, followed by stirring for another 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 30 parts of ion-exchanged water to obtain 1.80 parts of salt (X-60).

Figure 112012049465634-pat00101
Figure 112012049465634-pat00101

실시예 19Example 19

식 (h-1) 로 나타내는 화합물 15.00 부를 물 300 부에 용해시킨 용액에 노나플루오로부탄술폰산칼륨 (미츠비시 마테리알 전자 화성 (주) 제조) 8.30 부를 첨가하고, 실온에서 3 시간 교반했다. 이온 교환수 1500 부에 그 혼합액을 첨가하여 다시 1 시간 교반했다. 그 후, 석출물을 흡인 여과로 취득하고, 이온 교환수 300 부로 3 회 세정하여 염 (X-61) 을 17.10 부 얻었다.8.30 parts of nonafluorobutanesulfonic acid potassium (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) was added to a solution of 15.00 parts of the compound represented by the formula (h-1) in 300 parts of water, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The mixture was added to 1500 parts of ion-exchanged water, and the mixture was stirred for another 1 hour. Thereafter, the precipitate was collected by suction filtration and washed three times with 300 parts of ion-exchanged water to obtain 17.10 parts of salt (X-61).

Figure 112012049465634-pat00102
Figure 112012049465634-pat00102

[흡광도의 측정][Measurement of absorbance]

실시예 1 ∼ 19 에서 각각 얻어진 염 또는 염의 혼합물 0.35 g 을 클로로포름에 용해시켜 체적을 250 ㎤ 로 하고, 그 중 2 ㎤ 를 클로로포름으로 희석하여 100 ㎤ 로 하고, 농도 0.028 g/ℓ 의 용액을 조정했다. 그 용액에 대해, 자외 가시 분광 광도계 (V-650DS ; 일본 분광 (주) 제조) (석영 셀, 광로 길이 ; 1 ㎝) 를 이용하여 극대 흡수 파장 (λmax) 및 극대 흡수 파장 (λmax) 에서의 흡광도를 측정했다. 결과를 표 14 에 나타낸다.0.35 g of the salt or salt mixture obtained in each of Examples 1 to 19 was dissolved in chloroform to make a volume of 250 cm 3 and 2 cm 3 of the solution was diluted with chloroform to 100 cm 3 to prepare a solution having a concentration of 0.028 g / . (? Max ) and a maximum absorption wavelength (? Max ) using an ultraviolet visible spectrophotometer (V-650DS, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) (quartz cell, optical path length: Was measured. Table 14 shows the results.

Figure 112012049465634-pat00103
Figure 112012049465634-pat00103

[용해성의 평가][Evaluation of Solubility]

실시예 1 ∼ 6 에서 각각 얻어진 염, 그리고, 식 (h-1), (h-2) 및 (h-3) 으로 각각 나타내는 화합물에 대해, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 (이하, PGMEA 로 약칭한다), 프로필렌글리콜모노메틸에테르 (이하, PGME 로 약칭한다), 락트산에틸 (이하, EL 로 약칭한다), N,N-디메틸포름아미드 (이하, DMF 로 약칭한다) 에 대한 용해도를, 이하와 같이 하여 구했다.Propyleneglycol monomethyl ether acetate (hereinafter abbreviated as PGMEA) was added to the salts respectively obtained in Examples 1 to 6 and the compounds respectively represented by formulas (h-1), (h-2) and (h- ), Propylene glycol monomethyl ether (hereinafter abbreviated as PGME), ethyl lactate (hereinafter abbreviated as EL) and N, N-dimethylformamide (hereinafter abbreviated as DMF) Respectively.

50 ㎖ 샘플관 중, 하기의 비율로 화합물과 상기 용매를 혼합하고, 그 후, 샘플관을 밀전하여, 30 ℃ 에서 3 분간 초음파 진탕기로 진탕시켰다. 이어서 실온에서 30 분간 방치 후, 여과하여 그 잔류물을 육안으로 관찰했다. 잔류물로서 불용물을 확인할 수 없었던 경우, 용해성은 양호하다고 판단하고, 불용물을 확인할 수 있었던 경우에는 용해성은 불량이라고 판단했다. 표 15 에 용해성은 양호하다고 판단한 최대 농도를 기재했다. 결과를 표 15 에 나타낸다. × 는 1 % 로 불량인 것을 의미한다.In a 50 ml sample tube, the compound and the solvent were mixed at the following ratios. Thereafter, the sample tube was tightened and shaken with an ultrasonic shaker at 30 캜 for 3 minutes. Then, the mixture was allowed to stand at room temperature for 30 minutes, filtered, and the residue was visually observed. When the insoluble matter could not be identified as a residue, it was determined that the solubility was good. When the insoluble matter could be identified, it was determined that the solubility was bad. Table 15 shows the maximum concentration determined to be good in solubility. The results are shown in Table 15. X means 1% defective.

1 % 염 또는 혼합물 0.01 g, 용매 1 g0.01% salt or mixture of 1%, 1 g of solvent

3 % 염 또는 혼합물 0.03 g, 용매 1 g 0.03 g of 3% salt or mixture, 1 g of solvent

5 % 염 또는 혼합물 0.05 g, 용매 1 g0.05% of a 5% salt or mixture, 1 g of a solvent

7 % 염 또는 혼합물 0.07 g, 용매 1 g0.07 g of 7% salt or mixture, 1 g of solvent

10 % 염 또는 혼합물 0.10 g, 용매 1 g0.10 g of 10% salt or mixture, 1 g of solvent

15 % 염 또는 혼합물 0.15 g, 용매 1 g0.15 g of 15% salt or mixture, 1 g of solvent

20 % 염 또는 혼합물 0.20 g, 용매 1 g0.20 g of 20% salt or mixture, 1 g of solvent

Figure 112012049465634-pat00104
Figure 112012049465634-pat00104

실시예 7 ∼ 19 에서 얻어진 염 및 식 (h-66), (h-83), (h-4), (h-65) 로 나타내는 화합물, 및 Basic Violet 11 에 대해, 동일하게 용해성의 평가를 실시했다. 결과를 표 16 에 나타낸다.The solubility of the salt obtained in Examples 7 to 19 and the compound represented by Formulas (h-66), (h-83), (h-4) . The results are shown in Table 16.

Figure 112012049465634-pat00105
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Figure 112012049465634-pat00106
Figure 112012049465634-pat00106

실시예 20Example 20

[착색 경화성 조성물의 조제][Preparation of colored curable composition]

(A) 착색제 : 염 (X-3) : 실시예 1 에서 합성한 염 20 부(A) Colorant: Salt (X-3): 20 parts of the salt synthesized in Example 1

(B-1) 수지 : 메타크릴산/벤질메타크릴레이트 공중합체 (몰비 ; 30/70 ; 중량 평균 분자량 10700, 산가 70 ㎎KOH/g) 70 부(B-1) Resin: 70 parts of methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer (molar ratio: 30/70, weight average molecular weight: 10700, acid value: 70 mgKOH / g)

(C-1) 중합성 화합물 : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (닛폰 화약사 제조) 30 부(C-1) Polymerizable compound: 30 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Yakuza)

(D-1) 중합 개시제 : 벤질디메틸케탈 (이르가큐어 651 ; BASF 재팬사 제조)(D-1) Polymerization initiator: benzyl dimethyl ketal (Irgacure 651; BASF Japan)

15 부Part 15

(E-1) 용제 : N,N-디메틸포름아미드 680 부(E-1) Solvent: N, N-dimethylformamide 680 parts

를 혼합하여 착색 경화성 조성물을 얻는다.To obtain a colored curable composition.

[컬러 필터의 제조][Production of color filter]

유리 상에, 상기에서 얻은 착색 경화성 조성물을 스핀 코트법으로 도포하여, 휘발 성분을 휘발시킨다. 냉각 후, 패턴을 갖는 석영 유리제 포토마스크 및 노광기를 이용하여 광 조사한다. 광 조사 후에, 수산화칼륨 수용액으로 현상하고, 오븐에서 230 ℃ 로 가열하여 컬러 필터를 얻는다.On the glass, the colored curable composition obtained above is applied by spin coating to volatilize the volatile components. After cooling, light is irradiated using a quartz glass photomask having a pattern and an exposure machine. After the irradiation with light, it is developed with an aqueous solution of potassium hydroxide and heated at 230 DEG C in an oven to obtain a color filter.

실시예 21Example 21

실시예 1 에서 합성한 염 (X-3) 을, 실시예 5 에서 합성한 염의 혼합물 (X-104) 로 변경한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일하게 하여 착색 조성물 및 컬러 필터를 얻는다.A coloring composition and a color filter were obtained in the same manner as in Example 20 except that the salt (X-3) synthesized in Example 1 was changed to the salt mixture (X-104) synthesized in Example 5.

실시예 22Example 22

실시예 1 에서 합성한 염 (X-3) 을, 실시예 6 에서 합성한 염의 혼합물 (X-100) 으로 변경한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일하게 하여, 착색 조성물 및 컬러 필터를 얻는다.A colored composition and a color filter were obtained in the same manner as in Example 20 except that the salt (X-3) synthesized in Example 1 was changed to the salt mixture (X-100) synthesized in Example 6.

표 15 및 16 의 결과로부터, 실시예의 염은 유기 용매에 대해 높은 용해도를 나타내는 것을 알 수 있다. 또, 당해 염을 함유하는 착색 조성물은, 이물질의 발생이 적어, 고품질의 컬러 필터를 제조하는 것이 가능하다.From the results of Tables 15 and 16, it can be seen that the salts of the examples show a high solubility with respect to the organic solvent. In addition, the coloring composition containing the salt has less occurrence of foreign matter, and it is possible to produce a high-quality color filter.

합성예 1Synthesis Example 1

<수지 용액 B-2 의 합성><Synthesis of Resin Solution B-2>

교반기, 온도계, 환류 냉각기 및, 적하 깔때기를 구비한 1 ℓ 의 플라스크 내에 질소를 0.02 ℓ/분으로 흘려서 질소 분위기로 하고, 2-하이드록시프로판산에틸 305 질량부를 넣어 교반하면서 70 ℃ 까지 가열했다. 이어서, 메타크릴산 60 질량부, 3,4-에폭시트리시클로[5.2.1.02.6]데실아크릴레이트 (하기 식 (V-1) 로 나타내는 화합물 및 식 (Ⅵ-1) 로 나타내는 화합물을 몰비로 50 : 50 으로 혼합) 240 질량부 및, 2-하이드록시프로판산에틸 140 질량부에 용해시켜 용액을 조제하고, 그 용해액을 적하 깔때기를 이용하여 4 시간에 걸쳐서, 70 ℃ 로 보온한 플라스크 내에 적하하였다. 한편, 중합 개시제 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 30 질량부를 2-하이드록시프로판산에틸 225 질량부에 용해시킨 용액을, 다른 적하 깔때기를 이용하여 4 시간에 걸쳐서 플라스크 내에 적하하였다. 중합 개시제 용액의 적하가 종료된 후, 4 시간, 70 ℃ 로 유지하고, 그 후 실온까지 냉각시켜 중량 평균 분자량 Mw 가 1.3 × 104, 고형분이 33 질량%, 고형분 산가가 34 ㎎KOH/g 인 수지 용액 (B-2) 를 얻었다.In a 1 liter flask equipped with a stirrer, a thermometer, a reflux condenser, and a dropping funnel, nitrogen was flowed at 0.02 L / min to make a nitrogen atmosphere, and 305 parts by mass of ethyl 2-hydroxypropanoate was added and heated to 70 deg. Subsequently, 60 parts by mass of methacrylic acid, 3,4-epoxytricyclo [5.2.1.0 2,6 ] decyl acrylate (a compound represented by the following formula (V-1) and a compound represented by the formula (VI- : 50) and 140 parts by mass of ethyl 2-hydroxypropanoate to prepare a solution. The solution was added dropwise to a flask heated at 70 占 폚 for 4 hours using a dropping funnel Respectively. On the other hand, a solution prepared by dissolving 30 parts by mass of polymerization initiator 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) in 225 parts by mass of ethyl 2-hydroxypropanoate was added over 4 hours using another dropping funnel Lt; / RTI &gt; After completion of the dropwise addition of the polymerization initiator solution, the mixture was maintained at 70 占 폚 for 4 hours and then cooled to room temperature to obtain a copolymer having a weight average molecular weight Mw of 1.3 占04 , a solid content of 33 mass% and a solid acid value of 34 mgKOH / g To obtain a resin solution (B-2).

Figure 112012049465634-pat00107
Figure 112012049465634-pat00107

상기 수지의 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량의 측정에 대해서는, GPC 법을 이용하여, 이하의 조건에서 실시했다.The polystyrene reduced weight average molecular weight of the resin was measured by the GPC method under the following conditions.

장치 ; HLC-8120GPC (토소 (주) 제조) Device ; HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼 ; TSK-GELG2000HXL column ; TSK-GELG2000HXL

칼럼 온도 ; 40 ℃Column temperature; 40 ℃

용매 ; THF Solvent; THF

유속 ; 1.0 ㎖/minFlow rate; 1.0 ml / min

피검액 고형분 농도 ; 0.001 ∼ 0.01 % Solid concentration of the test solution; 0.001 to 0.01%

주입량 ; 50 ㎕Dose; 50 μl

검출기 ; RIDetector; RI

장치 ; HLC-8120GPC (토소 (주) 제조) Device ; HLC-8120GPC (manufactured by Tosoh Corporation)

칼럼 ; TSK-GELG2000HXL column ; TSK-GELG2000HXL

칼럼 온도 ; 40 ℃ Column temperature; 40 ℃

용매 ; THF Solvent; THF

유속 ; 1.0 ㎖/minFlow rate; 1.0 ml / min

피검액 고형분 농도 ; 0.001 ∼ 0.01 %Solid concentration of the test solution; 0.001 to 0.01%

주입량 ; 50 ㎕ Dose; 50 μl

검출기 ; RIDetector; RI

교정용 표준 물질 ; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A- 500 (토소 (주) 제조)Calibration standards; TSK STANDARD POLYSTYRENE F-40, F-4, F-1, A-2500, A-500 (manufactured by Tosoh Corporation)

본 실시예에서 사용하는 성분은 이하와 같고, 이하, 생략하여 표시하는 경우가 있다.The components used in this embodiment are as follows, and the following description may be omitted.

(A-1) 착색제 : 실시예 6 에서 얻어진 염 (X-100)(A-1) Colorant: The salt (X-100) obtained in Example 6

(A-2) 착색제 : 식 (3a-23) 으로 나타내는 적색 염료(A-2) Colorant: Red dye represented by the formula (3a-23)

(A-3) 착색제 : 일본 공개특허공보 2011-118369호에 기재된 식 (z-1) 로 나타내는 화합물(A-3) Colorant: A compound represented by the formula (z-1) described in JP-A No. 2011-118369

(A-4) 착색제 : C.I. 피그먼트·레드 254(A-4) Colorant: C.I. Pigment Red 254

(A-5) 착색제 : 실시예 7 에서 얻어진 염 (X-33)(A-5) Colorant: The salt (X-33) obtained in Example 7,

(B-2) 수지 : 합성예 1 에서 얻어진 수지 용액(B-2) Resin: The resin solution obtained in Synthesis Example 1

(C-1) 중합성 화합물 : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 (닛폰 화약 (주) 제조 ; KAYARAD DPHA)(C-1) Polymerizable compound: dipentaerythritol hexaacrylate (KAYARAD DPHA, manufactured by Nippon Yakuza)

(D-2) 중합 개시제 : N-1919 (ADEKA 사 제조)(D-2) Polymerization initiator: N-1919 (manufactured by ADEKA)

(D1-1) 중합 개시 보조제 : DETX (2,4-디에틸티오크산톤, 닛폰 화약사 제조)(D1-1) Polymerization initiator: DETX (2,4-diethylthioxanthone, manufactured by NIPPON PHASE)

(E-2) 용제 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(E-2) Solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate

(E-3) 용제 : 프로필렌글리콜모노메틸에테르(E-3) Solvent: Propylene glycol monomethyl ether

(F-1) 계면활성제 : 메가팍 F554 (DIC (주) 제조)(F-1) Surfactant: Megafac F554 (manufactured by DIC Corporation)

실시예 23Example 23

[착색 경화성 조성물 1 의 조제][Preparation of colored curable composition 1]

(A-4) 75.6 질량부 (A-4) 75.6 parts by mass

아크릴계 안료 분산제 43.7 질량부Acrylic pigment dispersant 43.7 parts by mass

(E-2) 546 질량부(E-2) 546 parts by mass

를 혼합하고, 비즈 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시켜 분산액을 얻었다.And the pigment was thoroughly dispersed using a bead mill to obtain a dispersion.

(A-1) 16.6 질량부(A-1) 16.6 parts by mass

(E-2) 315 질량부(E-2) 315 parts by mass

를 혼합하여 용액을 얻었다.Were mixed to obtain a solution.

(B-2) 50 질량부 (고형 환산)(B-2) 50 parts by mass (solid conversion)

(C-1) 50 질량부(C-1) 50 parts by mass

(D-2) 18 질량부(D-2) 18 parts by mass

(D1-1) 2 질량부(D1-1) 2 parts by mass

(E-2) 396 질량부(E-2) 396 parts by mass

(E-3) 315 질량부(E-3) 315 parts by mass

(F-1) 0.1 질량부(F-1) 0.1 part by mass

를 상기 분산액 및 용액과 혼합하여 착색 경화성 조성물 1 을 얻었다.Were mixed with the dispersion and the solution to obtain a colored curable composition 1.

실시예 24Example 24

[착색 경화성 조성물 2 의 조제][Preparation of colored curable composition 2]

(A-4) 79.4 질량부 (A-4) 79.4 parts by mass

아크릴계 안료 분산제 45.9 질량부Acrylic pigment dispersant 45.9 parts by mass

(E-2) 574 질량부(E-2) 574 parts by mass

를 혼합하고, 비즈 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시켜 분산액을 얻었다.And the pigment was thoroughly dispersed using a bead mill to obtain a dispersion.

(A-1) 12.1 질량부(A-1) 12.1 parts by mass

(E-2) 231 질량부(E-2) 231 parts by mass

를 혼합하여 용액을 얻었다.Were mixed to obtain a solution.

(A-2) 1.9 질량부(A-2) 1.9 parts by mass

(B-2) 50 질량부 (고형 환산)(B-2) 50 parts by mass (solid conversion)

(C-1) 50 질량부(C-1) 50 parts by mass

(D-2) 18 질량부(D-2) 18 parts by mass

(D1-1) 2 질량부(D1-1) 2 parts by mass

(E-2) 470 질량부(E-2) 470 parts by mass

(E-3) 319 질량부(E-3) 319 parts by mass

(F-1) 0.1 질량부(F-1) 0.1 part by mass

를 상기 분산액 및 용액과 혼합하여 착색 경화성 조성물 2 를 얻었다.Was mixed with the dispersion and the solution to obtain a colored curable composition 2.

실시예 25Example 25

[착색 경화성 조성물 3 의 조제][Preparation of colored curable composition 3]

(A-4) 76.8 질량부 (A-4) 76.8 parts by mass

아크릴계 안료 분산제 44.4 질량부Acrylic pigment dispersant 44.4 parts by mass

(E-2) 555 질량부(E-2) 555 parts by mass

를 혼합하고, 비즈 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시켜 분산액을 얻었다.And the pigment was thoroughly dispersed using a bead mill to obtain a dispersion.

(A-1) 11.1 질량부(A-1) 11.1 parts by mass

(E-2) 211 질량부(E-2) 211 parts by mass

를 혼합하여 용액을 얻었다.Were mixed to obtain a solution.

(A-3) 4.6 질량부(A-3) 4.6 parts by mass

(B-2) 50 질량부 (고형 환산)(B-2) 50 parts by mass (solid conversion)

(C-1) 50 질량부(C-1) 50 parts by mass

(D-2) 18 질량부(D-2) 18 parts by mass

(D1-1) 2 질량부(D1-1) 2 parts by mass

(E-2) 497 질량부(E-2) 497 parts by mass

(E-3) 316 질량부(E-3) 316 parts by mass

(F-1) 0.1 질량부(F-1) 0.1 part by mass

를 상기 분산액 및 용액과 혼합하여 착색 경화성 조성물 3 을 얻었다.Was mixed with the dispersion and the solution to obtain a colored curable composition 3.

실시예 26Example 26

실시예 25 에 있어서, (A-3) 대신에 (A-2) 를 사용한 것 이외에는 실시예 25 와 동일하게 하여 착색 경화성 조성물 4 를 얻었다.A colored curable composition 4 was obtained in the same manner as in Example 25 except that (A-2) was used instead of (A-3) in Example 25.

실시예 27Example 27

실시예 24 에 있어서, (A-2) 대신에 (A-3) 을 사용한 것 이외에는 실시예 24 와 동일하게 하여 착색 경화성 조성물 5 를 얻었다.A colored curable composition 5 was obtained in the same manner as in Example 24 except that (A-3) was used instead of (A-2) in Example 24.

실시예 28Example 28

[착색 경화성 조성물 6 의 조제][Preparation of colored curable composition 6]

(A-4) 75.9 질량부 (A-4) 75.9 parts by mass

아크릴계 안료 분산제 44.0 질량부Acrylic pigment dispersant 44.0 parts by mass

(E-2) 549 질량부(E-2) 549 parts by mass

를 혼합하고, 비즈 밀을 이용하여 안료를 충분히 분산시켜 분산액을 얻었다.And the pigment was thoroughly dispersed using a bead mill to obtain a dispersion.

(A-5) 4.9 질량부(A-5) 4.9 parts by mass

(E-2) 92 질량부(E-2) 92 parts by mass

를 혼합하여 용액을 얻었다.Were mixed to obtain a solution.

(B-2) 50 질량부 (고형 환산)(B-2) 50 parts by mass (solid conversion)

(C-1) 50 질량부(C-1) 50 parts by mass

(D-2) 18 질량부(D-2) 18 parts by mass

(D1-1) 2 질량부(D1-1) 2 parts by mass

(E-2) 562 질량부(E-2) 562 parts by mass

(E-3) 301 질량부(E-3) 301 parts by mass

(F-1) 0.1 질량부(F-1) 0.1 part by mass

를 상기 분산액 및 용액과 혼합하여 착색 경화성 조성물 6 을 얻었다.Was mixed with the dispersion and the solution to obtain a colored curable composition 6.

[패턴의 형성][Formation of pattern]

가로 세로 2 인치인 유리 기판 (이글루 XG ; 코닝사 제조) 상에, 착색 경화성 조성물 (1) 을 스핀 코트법으로 도포한 후, 100 ℃ 에서 3 분간 프리베이크했다. 냉각 후, 이 착색 경화성 조성물을 도포한 기판과 패턴을 갖는 석영 유리제 포토마스크의 간격을 100 ㎛ 로 하고, 노광기 (TME-150 RSK ; 탑콘 (주) 제조) 를 이용하여, 대기 분위기하, 150 mJ/㎠ 의 노광량 (365 ㎚ 기준) 으로 광 조사했다. 광 조사 후, 상기 도포막을 비이온계 계면활성제 0.12 % 와 수산화칼륨 0.04 % 를 함유하는 수계 현상액에 23 ℃ 에서 80 초간 침지 현상하고, 수세 후 오븐 중 230 ℃ 에서 20 분간 포스트베이크를 실시했다. 방냉 후, 얻어진 패턴의 막두께를, 막두께 측정 장치 (DEKTAK3 ; 닛폰 진공 기술 (주) 제조)) 를 이용하여 측정한 결과, 2.3 ㎛ 였다.The colored curable composition (1) was applied on a glass substrate (Igloo XG; Corning) having a size of 2 inches by 2 inches by spin coating, and then prebaked at 100 ° C for 3 minutes. After cooling, the space between the substrate coated with the colored curable composition and the quartz glass photomask having the pattern was set to 100 m, and an exposure light of 150 mJ (TME-150 RSK manufactured by Topcon Co., Ltd.) / Cm &lt; 2 &gt; (based on 365 nm). After the light irradiation, the coating film was immersed in an aqueous developer containing 0.12% of a nonionic surfactant and 0.04% of potassium hydroxide at 23 DEG C for 80 seconds, washed with water, and then subjected to post-baking in an oven at 230 DEG C for 20 minutes. After cooling, the film thickness of the obtained pattern was measured using a film thickness measuring device (DEKTAK3; manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.), and found to be 2.3 탆.

[색도 평가][Evaluation of color]

얻어진 유리 기판 상의 패턴에 대해, 측색기 (OSP-SP-200 ; 올림푸스 (주) 제조) 를 이용하여 분광을 측정하고, C 광원의 등색 함수를 이용하여 CIE 의 XYZ 표색계에 있어서의 xy 색도 좌표 (Bx, By) 및 명도를 측정했다. 결과를 표 17 에 나타낸다.The obtained pattern on the glass substrate was measured for spectroscopy using a colorimeter (OSP-SP-200, manufactured by Olympus Corporation), and the xy chromaticity coordinates (B x , B y ) and brightness were measured. The results are shown in Table 17.

[콘트라스트 평가][Evaluation of contrast]

포토마스크의 사용없이 노광하는 것 이외에는 패턴의 형성과 동일한 조작을 실시하여, 얻어진 유리 기판 상의 도포막에 대해, 콘트라스트 측색기 (CT-1 ; 츠보사카 전기사 제조, 검출기 ; BM-5A, 광원 ; F-10) 를 이용하고, 블랭크값을 30000 으로 하여 콘트라스트를 측정했다. 유리 기판 상의 도포막을 편광 필름 (POLAX-38S ; 루케오사 제조) 으로 사이에 끼운 것을 샘플로 했다. 결과를 표 17 에 나타낸다.The same operation as that for formation of the pattern was carried out except that the exposure was performed without using a photomask. The resultant coating film on the glass substrate was irradiated with a contrast colorimeter (CT-1; manufactured by Tsubosaka Electric Co., Ltd., detector: BM-5A, light source: F -10) was used, and the blank value was set to 30000 to measure the contrast. A sample in which a coating film on a glass substrate was sandwiched by a polarizing film (POLAX-38S, manufactured by LuKeo Corporation) was used as a sample. The results are shown in Table 17.

[평가][evaluation]

얻어진 착색 경화성 조성물 2 ∼ 6 에 대해, 동일하게 착색 경화성 도포막을 제조하여, 색도, 명도 및 콘트라스트를 평가한 결과를 표 17 에 나타낸다.Table 17 shows the results of evaluating the color, lightness, and contrast of the obtained colored curable compositions 2 to 6 by preparing a colored curable coating film in the same manner.

Figure 112012049465634-pat00108
Figure 112012049465634-pat00108

Figure 112012049465634-pat00109
Figure 112012049465634-pat00109

본 발명의 염은 유기 용매에 대한 용해성이 우수하다.The salt of the present invention is excellent in solubility in an organic solvent.

본 발명의 염은 염료로서 유용하고, 몰 흡광 계수가 높고, 또한 유기 용매에 대한 높은 용해성을 나타내는 점에서, 특히, 액정 표시 장치 등의 표시 장치의 컬러 필터에 사용되는 염료로서 유용하다.The salt of the present invention is useful as a dye, and is useful as a dye used in a color filter of a display device such as a liquid crystal display, in particular, in that it has a high molar extinction coefficient and a high solubility in an organic solvent.

또, 본 발명의 염과 중합성 화합물을 함유하는 착색 경화성 조성물은 컬러 필터를 그 구성 부품의 일부로서 구비하는 표시 장치 (예를 들어, 공지된 액정 표시 장치, 유기 EL 장치 등), 고체 촬상 소자 등 여러 가지의 착색 화상에 관련되는 기기의 제조에, 공지된 양태로 이용할 수 있다.The colored curable composition containing the salt of the present invention and the polymerizable compound may be used in a display device (for example, a known liquid crystal display device, an organic EL device, etc.) having a color filter as a part of its components, And the like, in the production of a device related to various colored images such as a color image.

Claims (11)

각각 식 (I), (Ⅱ), (Ⅲ) 및 (Ⅳ) 로 나타내는 아니온으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 아니온과, 크산텐 골격을 갖는 카티온과, 하기 식 (a) ~ (h) 중 어느 것으로 나타내는 유기 금속 아니온 Mn- 를 함유하는 염.
식 (Ⅰ)
Figure 112018072187312-pat00110

[식 중, X1 및 X2 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타내거나, 또는, X1 과 X2 가 결합하여 탄소수 2 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 형성한다]
식 (Ⅱ)
Figure 112018072187312-pat00111

[식 중, X3 ∼ X5 는 각각 독립적으로 불소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]
식 (Ⅲ)
Figure 112018072187312-pat00112

[식 중, Y1 은 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알칸디일기를 나타낸다]
식 (Ⅳ)
Figure 112018072187312-pat00113

[식 중, Y2 는 탄소수 1 ∼ 4 인 불화알킬기를 나타낸다]
Figure 112018072187312-pat00119
(a)
(식 (a) 에 있어서, M1, R11, R12, R13 및 R14 는, 표 (a) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (a)
Figure 112018072187312-pat00120

Figure 112018072187312-pat00121

Figure 112018072187312-pat00122

Figure 112018072187312-pat00123

Figure 112018072187312-pat00124
(b)
(식 (b) 에 있어서, M2 및 na 는, 표 (b) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (b)
Figure 112018072187312-pat00125


Figure 112018072187312-pat00126
(c)
(식 (c) 에 있어서, M3 및 nb 는, 표 (c) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (c)
Figure 112018072187312-pat00127

Figure 112018072187312-pat00128
(d)
(식 (d) 에 있어서, M4 및 nc 는, 표 (d) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (d)
Figure 112018072187312-pat00129

Figure 112018072187312-pat00130
(e)
(식 (e) 에 있어서, M5 및 nd 는, 표 (e) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (e)
Figure 112018072187312-pat00131

Figure 112018072187312-pat00132
(f)
(식 (f) 에 있어서, M6 및 ne 는, 표 (f) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (f)
Figure 112018072187312-pat00133

Figure 112018072187312-pat00134
(g)
(식 (g) 에 있어서, M7 및 nf 는, 표 (g) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (g)
Figure 112018072187312-pat00135

Figure 112018072187312-pat00136
(h)
(식 (h) 에 있어서, M8 및 ng 는, 표 (h) 에 나타낸 기를 나타낸다)
표 (h)
Figure 112018072187312-pat00137
At least one anion selected from the group consisting of anions represented by formulas (I), (II), (III) and (IV), a cation having a xanthene skeleton, h) a salt containing an organic metal anion M n- indicating that any of the.
The formula (I)
Figure 112018072187312-pat00110

Wherein X 1 and X 2 are each independently a fluorine atom or an alkyl fluoride group having 1 to 4 carbon atoms or X 1 and X 2 are bonded to each other to form a fluorinated alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms]
The formula (II)
Figure 112018072187312-pat00111

[Wherein X 3 to X 5 each independently represent a fluorine atom or a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The formula (III)
Figure 112018072187312-pat00112

[Wherein Y 1 represents a fluorinated alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms]
The formula (IV)
Figure 112018072187312-pat00113

[Wherein Y 2 represents a fluorinated alkyl group having 1 to 4 carbon atoms]
Figure 112018072187312-pat00119
(a)
(In the formula (a), M 1 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 represent the groups shown in Table (a)
Table (a)
Figure 112018072187312-pat00120

Figure 112018072187312-pat00121

Figure 112018072187312-pat00122

Figure 112018072187312-pat00123

Figure 112018072187312-pat00124
(b)
(In the formula (b), M 2 and n a represent the groups shown in Table (b)).
Table (b)
Figure 112018072187312-pat00125


Figure 112018072187312-pat00126
(c)
(In the formula (c), M 3 and n b represent the groups shown in the table (c)).
Table (c)
Figure 112018072187312-pat00127

Figure 112018072187312-pat00128
(d)
(In the formula (d), M 4 and n c represent groups shown in Table (d)).
Table (d)
Figure 112018072187312-pat00129

Figure 112018072187312-pat00130
(e)
(In the formula (e), M 5 and n d represent the groups shown in the table (e)).
Table (e)
Figure 112018072187312-pat00131

Figure 112018072187312-pat00132
(f)
(In the formula (f), M 6 and n e represent the groups shown in the table (f)).
Table (f)
Figure 112018072187312-pat00133

Figure 112018072187312-pat00134
(g)
(In the formula (g), M 7 and n f represent the groups shown in the table (g)).
Table (g)
Figure 112018072187312-pat00135

Figure 112018072187312-pat00136
(h)
(In the formula (h), M 8 and n g represent a group shown in the table (h)).
Table (h)
Figure 112018072187312-pat00137
삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 유기 금속 아니온 Mn- 에 함유되는 2 가 이상의 금속 이온을 형성할 수 있는 금속 원자가 Al, Cr 또는 Co 인 염.
The method according to claim 1,
Wherein the metal atom capable of forming a divalent or higher valent metal ion contained in the organic metal anion M n- is Al, Cr or Co.
제 1 항에 기재된 염을 유효 성분으로서 함유하는 염료.A dye comprising the salt of claim 1 as an active ingredient. 제 6 항에 기재된 염료와 중합성 화합물을 함유하는 착색 경화성 조성물.A colored curable composition comprising the dye according to claim 6 and a polymerizable compound. 제 7 항에 있어서,
추가로 안료를 함유하는 착색 경화성 조성물.
8. The method of claim 7,
Wherein the coloring curable composition further comprises a pigment.
제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
추가로 수지 및 중합 개시제로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 착색 경화성 조성물.
9. The method according to claim 7 or 8,
And at least one member selected from the group consisting of a resin and a polymerization initiator.
제 7 항에 기재된 착색 경화성 조성물에 의해 형성되는 컬러 필터.A color filter formed by the colored curable composition according to claim 7. 제 10 항에 기재된 컬러 필터를 구비하는 표시 장치.A display device comprising the color filter according to claim 10.
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