KR101931140B1 - ５５중량％ 초과의 ｃａｆ２를 갖는 플럭스에 의해 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상으로 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법； 대응하는 플럭스 및 이러한 오버레이에 의한 물품 - Google Patents

５５중량％ 초과의 ｃａｆ２를 갖는 플럭스에 의해 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상으로 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법； 대응하는 플럭스 및 이러한 오버레이에 의한 물품 Download PDF

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Abstract

일렉트로슬래그 스트립 클래딩(electroslag strip cladding)에 의해 금속 표면 상으로 오버레이 재료(overlay material)를 용착하기 위한 방법에 있어서, 상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 625 합금제의 용접 스트립 전극 및 55 중량 % 초과, 바람직하게는 60 중량 % 초과의 CaF2 함량을 갖는 플럭스 재료를 사용하는 것을 포함한다.

Description

５５중량％ 초과의 ＣＡＦ２를 갖는 플럭스에 의해 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상으로 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법； 대응하는 플럭스 및 이러한 오버레이에 의한 물품 {METHOD OF DEPOSITING AN OVERLAY MATERIAL ONTO A METAL SURFACE BY MEANS OF ELECTROSLAG STRIP CLADDING, WITH FLUX HAVING MORE THAN 55 WT％ CAF2； CORRESPONDING FLUX AND ARTICLE WITH SUCH OVERLAY}
본 발명은, 일렉트로슬래그 스트립 클래딩(electroslag strip cladding)에 의해 금속 표면 상으로 오버레이 재료(overlay material)를 용착하기 위한 방법에 관한 것이다.
오일 및 가스 업스트림(upstream) 및 다운스트림(downstream) 산업에서, 용접 오버레이(weld overlay)들은 용기들의 벽들 및 용기 컴포넌트들 상에 용착되어 벽들을 부식, 고온 및/또는 화학적 취화(embrittlement)로부터 보호한다. 오버레이 용접 방법들은, 보통은 스트립(strip) 전극들을, 특히 니켈-크롬 합금으로 만들어진 스트립 전극들을 사용하여, 금속 표면 상에 용접 오버레이를 발생시킨다. 큰(large) 컴포넌트들을 표면 마무리(surfacing)하기 위한 2 개의 주요한 공통적인 방법들은 서브머지드 아크 스트립 클래딩(submerged arc strip cladding) 및 일렉트로슬래그 스트립 클래딩이다.
일렉트로슬래그 스트립 클래딩시에, 스트립 전극이 얕은(shallow) 전기 전도성 플럭스 층 내로 계속해서 공급된다. 스트립, 슬래그 형성 플럭스 및 베이스 금속의 표면 층을 용융시키기 위해서 요구되는 열은, 용융된 전도성 슬래그를 통해서 유동하는 용접 전류(current)에 의해서 생성되는 저항 가열에 의해서 생성된다. 프로세스는, 프로세스를 안정하게 유지하고, 스트립을 액상 슬래그로 용융시키기 위해서 충분한 열을 발생시켜, 베이스 금속 상에 용착되는 용융 금속 내로 스트립을 전달한다.
일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 높은 용착 속도(deposition rate) 및 낮은 희석(low dilution)을 특징으로 한다. 다른 것들 중에서 희석의 정도는, 베이스 금속으로부터 용착된 클래딩으로 희석하는 철(iron)의 양을 판정한다. SFA-5.11:ENiCrMo-3 기준에 따르면, 7 중량 % 미만의 철 함량이 클래딩의 상부 표면 상에서 요구된다. 이러한 기준에도 불구하고, 설계자들, 제작자들 및 최종 사용자들은 클래딩의 상부 표면 상에서 5 중량 % 미만의 Fe를 요구하고 있다.
용접 스트립 전극의 야금학적 조성이, 부식- , 온도- , 및 화학적 저항에 관하여 결과적인 클래딩의 품질을 강하게 판정한다. 용접 스트립 전극들을 위해서 사용되는 보편적인 합금은, 이른바 625 합금이다. 625 합금의 조성은 AWS SFA 5.14:ERNiCrMo-3에서 규정되고, 다음과 같다:
C ≤ 0.10 중량 %
Mn ≤ 0.50 중량 %
Si ≤ 0.50 중량 %
S ≤ 0.015 중량 %
P ≤ 0.02 중량 %
Cr 20.0 - 23.0 중량 %
Mo 8.0 - 10.0 중량 %
Nb 3.15 - 4.15 중량 %
Fe ≤ 5.0 중량 %
Cu ≤ 0.50 중량 %
Ti ≤ 0.40 중량 %
625 합금들은, 다른 변종(variant)들 및 다양한 상표명들, 이를테면 INCONEL® 니켈-크롬 합금 625 (UNS N06625/W.Nr.2.4856)으로 시판되고 있다.
625 합금제의 용접 스트립 전극을 사용할 때, 현재(current) 일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스들은, 단일 클래딩 층이 그의 상부 표면 상에 5 중량 % 미만의 철 함량을 갖는 것을 실현하도록 허용하지 않는다. 대신에, 이중 층(double layer) 기술이 적용되어야 하는데, 이 이중 층 기술에서, 제 1 클래딩 층이 금속 표면 상에 용착되고, 이어서, 제 2 클래딩 층이 별개의 일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스에서 제 1 층 상에 용착된다. 제 2 층이 제 1 층의 상부 표면 상에 적용되기 때문에, 제 2 층은 제 1 층보다 더 낮은 Fe 함량을 갖는다. 그러나, 이중 층 기술은, 증가된 제조 시간 및 많은 분량의 소모품들(용접 스트립 전극 및 플럭스 재료)의 필요와 같은 다수의 문제점들을 갖는다.
따라서, 5 % 미만의 철 함량을 갖는 금속 표면 상에 오버레이를 용착하기 위한 개선된 방법을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다. 특히, 본 발명의 목적은 오버레이 용착물을 위한 제조 시간을 감소시키는 것이다.
본 발명의 추가의 목적은, 용접 스트립 전극 및 플럭스와 같은 다량의 소모품들을 감소시키는 5 % 미만의 철 함량을 갖는 금속 표면 상에 오버레이를 용착하기 위한 개선된 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가의 목적은, 금속 표면 및 용접 프로세스에 의해 금속 표면 상에 용착되는 적어도 하나의 오버레이 재료 비드(bead)를 포함하는, 플레이트, 용기 또는 파이프와 같은 물품으로서, 오버레이 재료 비드는 단일 층에 용착되고, 5 중량 % 미만, 바람직하게는 4 중량 % 미만의 철 함량을 그의 상부 표면 상에 갖는 물품을 제공하는 것이다.
게다가, 본 발명의 방법은 효율적이며 고품질의 오버레이를 발생시킬 수 있을 것이다.
상기 목적들의 적어도 일부를 해결하기 위해서, 본 발명은 일반적으로, 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해서 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 단일 단계(single-step) 방법을 제공하며, 여기서 오버레이 재료 용착물은, 그의 상부 표면 상에 5 중량 % 미만, 바람직하게는 4 중량 % 미만의 Fe 함량을 갖는다. 단일-단계 방법은, 금속 표면 상에서 오버레이 재료의 단지 하나의 층을 용착시킴으로써 실현될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 오버레이 재료의 단일 층의 철 함량은, 625 합금제의 용접 스트립 전극 및 55 중량 % 초과, 바람직하게는 60 중량 % 초과의 CaF2 함량을 갖는 플럭스 재료를 이용하는 것을 포함하는 일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스를 활용함으로써 5 중량 % 미만으로 유지된다. 비교적 높은 CaF2의 함량을 갖는 플럭스 재료의 사용은, 플럭스 및 스트립 재료의 용융 풀의 전기 전도도(electro-conductivity)의 증가 및 금속 표면으로부터 오버레이 용착물로의 철의 감소된 희석을 유발한다.
희석의 추가 감소는, Nb, Mo 및/또는 Cr을 포함하는 플럭스 재료를 선택함으로써 성취된다. 특히, 플럭스 재료는 2 - 3 중량 % Nb, 5 - 6.5 중량 % Mo 및/또는 8 - 12 중량 % Cr을 포함한다.
본 발명의 바람직한 실시예에서, 플럭스 재료는 60 - 70 중량 % CaF2, 8 - 12 중량 % CaO.Al2O3 및 8 - 12 중량 % Cr을 포함한다.
본 발명의 특히 바람직한 실시예에서, 플럭스 재료는, 하기 조성을 갖는다:
CaF2 60 - 70 중량 %, 바람직하게는 65.5 중량 %
CaO.Al2O3 8 - 12 중량 %, 바람직하게는 9.5 중량 %
Al2O3 2 - 3 중량 %, 바람직하게는 2.4 중량 %
Cr 8 - 12 중량 %, 바람직하게는 9.3 중량 %
Mo 5 - 6.5 중량 %, 바람직하게는 5.7 중량 %
Nb 2 - 3 중량 %, 바람직하게는 2.4 중량 %
Na2O.SiO2 4 - 6 중량 %, 바람직하게는 5.3 중량 %.
이에 따라, 플럭스 재료는 희석을 감소시키기 위해서 수개의 합금 원소들, 이를테면 Nb, Mo 및 Cr 뿐만 아니라, 슬래그 제거를 용이하게 하기 위해서 다른 광물 원소(mineral element)들을 포함한다. 게다가, 플럭스는, 용접 스트립 전극과 용융 슬래그 사이의 효과적인 접촉을 보장하고 가스 형성을 회피하기 위해서 가스 촉진제(gas promoter)들이 없다. 게다가, 용접 금속에 포함된 철은, 용접 풀로부터 슬래그로 전달되도록 가능한한 많이 산화된다.
특히, 플럭스 재료는 하기 조성을 갖는다:
CaF2 65.5 중량 %
CaO.Al2O3 9.5 중량 %
Al2O3 2.4 중량 %
Cr 9.3 중량 %
Mo 5.7 중량 %
Nb 2.4 중량 %
Na2O.SiO2 5.3 중량 %
추가의 바람직한 실시예에서, 용접 스트립 전극은, 1 중량 % 미만, 바람직하게는 0.5 중량 % 미만의 Fe 함량을 갖는다. 이러한 낮은 Fe 함량을 포함하는 스트립을 사용함으로써, 용착물의 Fe 함량에 대한 스트립의 기여는 최소화된다.
특히, 용접 스트립 전극은 하기 조성을 갖는다:
C 0.005 중량 %
Mn 0.030 중량 %
Si 0.040 중량 %
S 0.001 중량 %
P 0.003 중량 %
Cr 22.2 중량 %
Mo 8.7 중량 %
Nb 3.7 중량 %
Fe 0.1 중량 %
Cu 0.01 중량 %
Ti 0.24 중량 %
이러한 용접 스트립 전극은, 상표명 SOUDOTAPE 625 하에, voestalpine Bohler Welding Belgium s.a.에 의해 시판된다.
바람직하게는, 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은,
- 625 합금 제의 용접 스트립 전극을 제공하는 것,
- 55 중량 % 초과의 CaF2 함량을 갖는 플럭스 재료를 제공하는 것,
- 금속 표면의 용접 영역 상에서 소정의 거리로 용접 스트립 전극을 포지셔닝시키는 것,
- 용접 영역의 금속 표면 상으로 플럭스 재료의 층을 적용하는 것,
- 용접 스트립 전극에 용접 전류를 인가하여, 이에 의해 플럭스 재료, 스트립 전극 및 금속 표면을 용융시키는 것,
- 금속 표면 상에 용접 스트립 전극을 전진시키면서 용융 플럭스 재료의 층 내로 용접 스트립 전극을 계속해서 공급하여 전진 경로를 따라 금속 표면 상에 오버레이 재료 용착물을 발생시키는 것을 포함한다.
일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스를 위해서 선택된 용접 파라미터들, 이를테면, 용접 전류, 용접 전압, 용접 속도 및 스틱 아웃(stick-out)은, 관통 두께(penetration thickness)(용융되는 베이스 금속의 재료 층의 두께) 및 용착물 두께에 영향을 미치는 것으로 공지되어 있다. 본 발명의 바람직한 실시예에서, 용접 파라미터들의 최적화는, 관통과 용착물 두께 사이에서 정확한 비율(ratio)을 유지하고, 또한 용착물 풀과 액상 슬래그 사이에서 원소들을 전달하는데 충분한 시간을 부여하기 위해서 성취된다. 이에 따라, 상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 200 - 1800 A, 바람직하게는 1150 - 1250 A의 용접 전류, 그리고 22 - 26 V, 특히 23 - 25 V의 용접 전압을 적용하는 것을 포함할 수 있다.
용접 전류는, 바람직하게는, 용접 스트립 전극의 폭에 적응하도록 선택될 수 있다. 바람직한 실시예에 따르면, 용접 스트립 전극은 10 - 90mm, 바람직하게는 60mm의 폭을 갖는 것이 사용된다. 스트립 폭에 대해 용접 전류를 조절하기 위해서, 전극의 스트립 폭[mm]에 대한 용접 전류[A]의 비율은, 18 - 22, 바람직하게는 20이 되게 선택되도록 유리하게 처리된다.
게다가, 상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 유리하게는 스틱 아웃이 28 - 42 mm, 바람직하게는 29 - 40 mm이도록 금속 표면의 용접 영역 상에 소정 거리로 용접 스트립 전극을 포지셔닝하는 것을 포함할 수 있다.
게다가, 용접 속도는 바람직하게는, 16 - 18 cm/min이 되도록 선택된다.
스트립 공급 노즐이 스트립 클래딩 프로세스에서 중요한 역할을 하는 것이 공지되어 있다. 노즐은, 용접 스트립 전극을 안내하고, 용접 스트립 전극의 전체 폭 상에서 용접 전류의 균일한 분배를 보장하며, 연속 작동 중 과열을 회피하기에 충분한 열을 견디고 발산시킬 수 있어야 한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 스트립 공급 노즐은 금속 표면에 대해 선회가능하도록 장착된다. 베이스 재료 곡률에 의존하여, 선회 노즐을 사용함으로써 용접 스트립 전극에 대한 경사를 부여하는 것이 유리하다. 이는, 스트립과 클래딩될 표면 사이의 각도를 제어하는 것을 허용한다. 이에 따라, 용접 스트립 전극이 금속 표면에 대해 수직한 것에 대해 ± 25°의 최대 경사 각도로 배열되도록 상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩이 스트립 공급 노즐을 유지하는 것을 포함하는 바람직한 실시예가 제공된다.
도 1은 용착물의 품질을 체크하기 위해서, 결과적 스트립 클래딩이다.
하기에서, 본 발명은 예시적 실시예를 통해 보다 상세히 설명될 것이다.
탄소강 평판(flat carbon steel plate)(0.2 중량 % C; 두께: 30 mm)이 베이스 금속으로서 사용되었다. 이러한 강 판의 금속 표면은, 용접 프로세스에 의해서 오버레이 재료로 덮여졌다. 일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스는 상기 용접 프로세스로서 사용되었다. 일렉트로슬래그 스트립 클래딩 프로세스에서, 소모품들(용접 스트립 전극 및 플럭스 재료)은 저항 가열을 통해 용융된다. 용융 후에, 스트립 용융에 참여하며, 슬래그를 생성시키는 전기 전도성 플럭스를 통해서 용융 풀로 전달되는 전기 전류에 의해서 열이 제공된다. 이러한 프로세스에서, 플럭스는 클래딩 노즐의 전방에 배치된 플럭스 튜브를 통해서 도입되며, 스트립이 공급 롤러를 통해 공급된다.
상표명 SOUDOTAPE 625 하에, voestalpine Bohler Welding Belgium s.a.에 의해 시판되는 바와 같은 용접 스트립 전극이 사용되었으며, 다음 조성을 갖는다:
C 0.005 중량 %
Mn 0.030 중량 %
Si 0.040 중량 %
S 0.001 중량 %
P 0.003 중량 %
Cr 22.2 중량 %
Mo 8.7 중량 %
Nb 3.7 중량 %
Fe 0.1 중량 %
Cu 0.01 중량 %
Ti 0.24 중량 %
스트립 전극은, 60 mm의 폭과 0.5 mm의 두께를 가졌다.
게다가, 분말 플럭스 재료가 사용되었으며, 플럭스 재료는 다음 조성을 갖는다:
CaF2 65.5 중량 %
CaO.Al2O3 9.5 중량 %
Al2O3 2.4 중량 %
Cr 9.3 중량 %
Mo 5.7 중량 %
Nb 2.4 중량 %
Na2O.SiO2 5.3 중량 %
하기 용접 파라미터들이 사용되었다:
용접 전류: 1200 A
용접 전압: 24V
용접 속도: 17cm/분
스틱 아웃: 30 mm
나란히(side-by side) 배열된 오버레이 재료의 2 개의 비드들(각각은, 단일 층 용착물임)은 강판의 표면 상에 용착되었다.
용착물의 품질을 체크하기 위해서, 결과적 스트립 클래딩(도 1)은, 다수의 분석 프로세스들, 이를테면, 측면 굽힘 시험들(side-bend tests), 초음파 관측들(ultrasonic observations), 경도 측정들(hardness measurements), 상부 표면에서 그리고 상부 표면 아래의 3 mm 에서 오버레이 화학 측정들, 부식 시험들(ASTM G28A 및 공식 시험(corrosion pitting test) 및 마이크로- 및 매크로그래픽 관측들을 받게 되었다.
시험의 결과들은, 긍정적이었으며; 표면은 연속적이었고, 어떠한 결함도 없었다. 용착물의 화학적 분석은, 하기 결과들을 얻었으며 표 1 에 도시되어 있다:
Figure 112018094525086-pat00001
이에 따라, 모든 화학적 원소들의 함량은, AWS SFA 5.11:ENiCrMo-3에서 놓인 제한들 아래에 있다. 가장 중요하게, Fe 함량은 종래 기술과 비교될 때, 4 중량 % 미만으로 감소될 수 있었다.

Claims (25)

  1. 일렉트로슬래그 스트립 클래딩(electroslag strip cladding)에 의해 금속 표면 상에 오버레이(overlay) 재료를 용착하기 위한(depositing) 방법에 있어서,
    상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 625 합금제의 용접 스트립 전극(welding strip electrode) 및 60 - 70 중량 % CaF2, 8 - 12 중량 % CaO.Al2O3 및 8 - 12 중량 % Cr을 포함하는 플럭스 재료(flux material)를 사용하는 것을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    오버레이 재료의 단지 하나의 층이 금속 표면 상에 용착되는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 오버레이 재료 용착물은, 그의 상부 표면 상에 5 중량 % 미만의 Fe 함량을 갖는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  4. 삭제
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 플럭스 재료는, 하기 조성,
    CaF2 60 - 70 중량 %,
    CaO.Al2O3 8 - 12 중량 %,
    Al2O3 2 - 3 중량 %,
    Cr 8 - 12 중량 %,
    Mo 5 - 6.5 중량 %,
    Nb 2 - 3 중량 %,
    Na2O.SiO2 4 - 6 중량 %을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 용접 스트립 전극은 1 중량 % 미만의 Fe 함량을 갖는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 용접 스트립 전극은, 하기 조성,
    C 0.005 중량 %
    Mn 0.030 중량 %
    Si 0.040 중량 %
    S 0.001 중량 %
    P 0.003 중량 %
    Cr 22.2 중량 %
    Mo 8.7 중량 %
    Nb 3.7 중량 %
    Fe 0.1 중량 %
    Cu 0.01 중량 %
    Ti 0.24 중량 % 을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은,
    - 625 합금제의 용접 스트립 전극을 제공하는 것,
    - 55 중량 % 초과의 CaF2 함량을 갖는 플럭스 재료를 제공하는 것,
    - 금속 표면의 용접 영역 상에서 소정의 거리로 용접 스트립 전극을 포지셔닝시키는 것,
    - 용접 영역의 금속 표면 상으로 플럭스 재료의 층을 도포하는 것,
    - 용접 스트립 전극에 용접 전류를 인가하여, 이에 의해 플럭스 재료, 스트립 전극 및 금속 표면을 용융시키는 것,
    - 금속 표면 상에 용접 스트립 전극을 전진시키면서 용융 플럭스 재료의 층 내로 용접 스트립 전극을 계속해서 공급하여 전진 경로를 따라 금속 표면 상에 오버레이 재료 용착물을 발생시키는 것을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    용접 스트립 전극은 10 - 90mm의 폭을 갖는 것이 사용되는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 200 - 1800 A의 용접 전류, 그리고 22 - 26 V의 용접 전압을 적용하는 것을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  11. 제 9 항에 있어서,
    전극의 스트립 폭[mm]에 대한 용접 전류[A]의 비율은, 18 - 22가 되게 선택되는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  12. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 스틱 아웃이 28 - 42 mm이도록 금속 표면의 용접 영역 상에 소정 거리로 용접 스트립 전극을 포지셔닝하는 것을 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  13. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 일렉트로슬래그 스트립 클래딩은, 상기 용접 스트립 전극이 금속 표면에 대해 수직한 것에 대해 ± 25°의 최대 경사 각도로 배열되도록 스트립 공급 노즐을 유지하는 단계를 포함하는,
    일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법.
  14. 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해서 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착시키기 위한 방법에 사용하는 플럭스 재료로서,
    상기 플럭스 재료는 60 - 70 중량 % CaF2, 8 - 12 중량 % CaO.Al2O3 및 8 - 12 중량 % Cr을 포함하는,
    플럭스 재료.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 제 14 항에 있어서,
    상기 플럭스 재료는, 하기 조성,
    CaF2 60 - 70 중량 %,
    CaO.Al2O3 8 - 12 중량 %,
    Al2O3 2 - 3 중량 %,
    Cr 8 - 12 중량 %,
    Mo 5 - 6.5 중량 %,
    Nb 2 - 3 중량 %,
    Na2O.SiO2 4 - 6 중량 %를 포함하는,
    플럭스 재료.
  18. 플럭스 재료 및 용접 스트립 전극을 포함하는 일렉트로슬래그 스트립 클래딩에 의해 금속 표면 상에 오버레이 재료를 용착하기 위한 방법에 사용하기 위한 세트에 있어서,
    상기 용접 스트립 전극은 625 합금제이며, 상기 플럭스 재료는 60 - 70 중량 % CaF2, 8 - 12 중량 % CaO.Al2O3 및 8 - 12 중량 % Cr을 포함하는,
    세트.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 용접 스트립 전극은 1 중량 % 미만의 Fe 함량을 갖는,
    세트.
  20. 제 18 항에 있어서,
    상기 용접 스트립 전극은, 하기 조성,
    C 0.005 중량 %
    Mn 0.030 중량 %
    Si 0.040 중량 %
    S 0.001 중량 %
    P 0.003 중량 %
    Cr 22.2 중량 %
    Mo 8.7 중량 %
    Nb 3.7 중량 %
    Fe 0.1 중량 %
    Cu 0.01 중량 %
    Ti 0.24 중량 %을 포함하는,
    세트.
  21. 금속 표면 및 제 1 항의 방법에 따른 용접 프로세스에 의해 금속 표면 상에 용착되는 적어도 하나의 오버레이 재료 비드(bead)를 포함하는, 플레이트, 용기 또는 파이프와 같은 물품으로서,
    상기 오버레이 재료 비드는 단일 층에 용착되고, 5 중량 % 미만의 철 함량을 그의 상부 표면 상에 갖는,
    물품.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 오버레이 재료 비드는, 그의 상부 표면 상에서 전형적인 하기 조성,
    C 0.01 중량 %
    Mn 0.04 중량 %
    Si 0.3 중량 %
    S ≤ 0.005 중량 %
    P ≤ 0.005 중량 %
    Cr 22.8 중량 %
    Mo 9.83 중량 %
    Nb 3.7 중량 %
    Fe 3.94 중량 %
    Cu ≤ 0.01 중량 %
    Ti ≤ 0.01 중량 %을 포함하는,
    물품.
  23. 삭제
  24. 삭제
  25. 삭제
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