KR101901640B1 - 수직형 원사빔 거치장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 원사빔 거치장치에 관한 것이다. 그러한 원사빔 거치장치는 회전가능한 회전판(3)과; 회전판(3)을 회전가능하게 지지하는 회전부(19)와; 회전판(3)의 상면에 상부로 돌출 형성된 기둥(5)과; 기둥(5)의 상부에 반경방향으로 배치된 적어도 하나 이상의 지지대(7)와; 지지대(7)의 선단에 각각 형성되어 원사빔(9)의 상단(13)이 삽입되어 지지되는 고리(11)와; 그리고 회전판(3)의 상면에 회전가능하게 배치되어 원사빔(9)의 하단(15)이 지지되는 적어도 하나 이상의 지지판(17)을 포함한다.

Description

수직형 원사빔 거치장치{Vertical storage apparatus for yarn beam}
본 발명은 원사빔 거치장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 원사가 권취되는 원사빔을 수직방향으로 거치하고, 또한 공전 및 자전이 동시에 가능함으로써 원사빔을 쉽게 거치하거나 인출할 수 있는 기술에 관한 것이다.
일반적으로, 레이스 경편기는 패턴빔에 원사를 권취하고, 이 원사를 직조부에 공급하여 레이스를 직조하는 장치이다.
이러한 레이스 경편기에는 다수의 원사빔이 장착되어 원사를 공급하게 되는 바, 원사빔은 표면에 원사가 권취되며 직조시 원사빔이 제자리에서 회전함으로써 원사가 인출된다.
이때, 원사빔의 안정적인 회전을 위하여 원사빔 자체의 무게가 상당하고, 또한 권취된 원사의 무게가 가중되면 더욱 무거워지게 된다.
따라서, 이러한 원사빔은 경편기 주위에 배치된 거치대에 보관하였다가 필요시 인출하여 경편기에 장착하여 사용하게 된다.
상기 원사빔 거치대는 수평방향으로 원사빔을 거치하게 된다. 즉, 한 쌍의 지지대가 일정 간격 떨어져 배치되고, 그 사이에 원사빔이 수평방향으로 배치되는 구조이다.
그러나, 이러한 구조의 원사빔 거치대는 수평방식으로서 다수의 원사빔을 거치하게 되므로 공간을 많이 점유하게 되어 작업공간이 축소되는 등의 문제점이 있다.
또한, 다수의 원사빔을 하부에서부터 적치하는 방식이므로, 하부의 원사빔을 인출하는 경우 상부의 원사빔도 같이 인출하여야 하는 문제점이 있다.
특허출원 제10-2010-33632호(명칭: 레이스 기계의 원사 자동 송출장치)
따라서, 본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위하여 제안된 것으로서, 본 발명의 목적은 원사빔이 적치되는 거치대를 수직형으로 개량함으로써 원사빔을 직립상태로 거치할 수 있어서 원사빔의 보관 면적이 줄어들 수 있는 원사빔 거치장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 수직형 원사빔을 지지하는 거치대를 회전가능한 구조로 개량하여 공전 및 자전이 동시에 가능함으로써 원하는 원사빔을 용이하게 인출 및 거치할 수 있는 원사빔 거치장치를 제공하는 것이다.
상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예는
회전가능한 회전판(3)과;
회전판(3)을 회전가능하게 지지하는 회전부(19)와;
회전판(3)의 상면에 상부로 돌출 형성된 기둥(5)과;
기둥(5)의 상부에 반경방향으로 배치된 적어도 하나 이상의 지지대(7)와;
지지대(7)의 선단에 각각 형성되어 원사빔(9)의 상단(13)이 삽입되어 지지되는 고리(11)와; 그리고
회전판(3)의 상면에 회전가능하게 배치되어 원사빔(9)의 하단(15)이 지지되는 적어도 하나 이상의 지지판(17)을 포함하는 원사빔 거치장치(1)를 제공한다.
이상과 같이 본 발명의 원사빔 거치장치는, 원사빔이 적치되는 거치대를 수직형으로 개량함으로써 원사빔을 직립상태로 거치할 수 있어서 원사빔의 보관 면적이 줄어들 수 있는 장점이 있다.
또는, 수직형 원사빔을 지지하는 거치대를 회전가능한 구조로 개량함으로써 공전 및 자전을 동시에 할 수 있어서 원하는 원사빔을 용이하게 인출 및 거치할 수 있는 장점이 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 원사빔 거치장치를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 "A" 부분을 보여주는 측면도이다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 수직형 원사빔 거치장치를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명이 제안하는 원사빔 거치장치(1)는 회전가능한 회전판(3)과; 회전판(3)을 회전가능하게 지지하는 회전부(19)와; 회전판(3)의 상면에 상부로 돌출 형성된 기둥(5)과; 기둥(5)의 상부에 반경방향으로 배치된 적어도 하나 이상의 지지대(7)와; 지지대(7)의 선단에 각각 형성되어 원사빔(9)의 상단(13)이 삽입되어 지지되는 고리(11)와; 회전판(3)의 상면에 회전가능하게 배치되어 원사빔(9)의 하단(15)이 지지되는 적어도 하나 이상의 지지판(17)을 포함한다.
이러한 구조를 갖는 원사빔 거치장치(1)에 있어서, 회전판(3)은 지면 등에 회전부(19)에 의하여 회전가능하게 배치된다. 따라서, 원사빔(9)을 수직방향으로 거치한 상태에서 이 회전판(3)을 회전시킬 수 있으며, 작업자가 원하는 원사빔(9)을 인출할 수 있다.
이러한 회전판(3)은 회전부(19)에 의하여 지지되는 바, 회전부(19)는 바닥에 고정되는 베이스(B)와; 베이스(B)의 상면에 적어도 하나 이상 배치되는 롤러(20)와; 베이스(B)의 상면에 돌출 되어 회전판(3)의 하면에 회전가능하게 연결되는 회전축(23)을 포함한다.
롤러(20)는 베이스(B)의 상면에 고정된 한 쌍의 브래킷(22) 사이에 회전가능하게 장착된다. 그리고, 이러한 롤러(20)는 복수개 배치됨으로써 회전판(3)을 안정적으로 지지할 수 있다.
그리고, 회전축(23)은 회전판(3)의 중심에 베어링에 의하여 연결됨으로써 회전판(3)을 회전가능하게 지지한다.
따라서, 회전판(3)은 이 회전축(23) 및 다수개의 롤러(20)에 의하여 지지된 상태로 안정적으로 회전할 수 있다.
그리고, 회전판(3)의 상면에는 복수개의 지지판(17)이 배치됨으로써 원사빔(9)의 하단(15)을 지지한다. 이러한 지지판(17)은 회전판(3)의 상면에 원주방향을 따라 배치되며, 각 지지판(17)은 원사빔(9)을 각각 지지하게 된다.
상기 지지판(17)은 회전판(3)의 상면에 고정적으로 배치될 수도 있지만, 회전가능하게 배치될 수도 있다.
즉, 지지판(17)이 회전판(3)의 상면에 베어링에 의하여 장착되는 방식이다.
이와 같이 지지판(17)이 베어링에 의하여 회전판(3)에 배치됨으로써 자전이 가능하다. 따라서, 지지판(17)의 상부에 원사빔(9)의 하단(15)이 안착된 상태에서 지지판(17)이 자전 함으로써 원사빔(9)도 같이 자전할 수 있다.
물론, 회전판(3)이 회전하는 경우에는 지지판(17)이 자전하면서 동시에 공전도 할 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 출원에 따른 지지판(17)은 공전 및 자전이 모두 가능하다.
한편, 상기 회전판(3)의 중심에는 기둥(5)이 상향으로 돌출 되는 바, 이 기둥(5)의 상부에는 상기한 지지대(7)가 배치됨으로써 직립한 원사빔(9)의 상단(13)을 지지할 수 있다.
이러한 지지대(7)는 기둥(5)의 상부에서 반경 외측방향으로 배치되며, 그 선단에는 고리(11)가 각각 형성된다.
이때, 고리(11)는 원사빔(9)의 상단(13)이 삽입될 수 있는 정도의 직경을 갖는다.
따라서, 원사빔(9)을 직립한 상태에서 상단(13)을 고리(11)의 내부로 삽입함으로써 원사빔(9)을 거치장치(1)에 수직방향으로 거치할 수 있다.
이러한 수직형 원사빔 거치장치(1)에 원사빔(9)을 거치하고 인출하는 과정을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 원사빔(9)을 거치하는 경우, 회전판(3)을 회전시킴으로써 원사빔(9)을 거치시킬 수 있는 빈 지지판(17)이 작업자 위치에 도달하도록 한다. 빈 지지판(17)이 작업자 위치에 도달하면, 원사빔(9)의 상단(13)을 고리(11)에 삽입시킨다.
그리고, 원사빔(9)의 하단(15)을 회전판(3)의 상면에 배치된 빈 지지판(17)에 안착시킨다.
따라서, 원사빔(9)은 거치장치(1)에 직립형태로 배치될 수 있다.
반대로, 이와 같이 거치된 원사빔(9)을 경편기에 장착하기 위하여 인출하는 과정은 다음과 같다.
먼저, 인출하고자 하는 원사빔(9)이 작업자 위치(인출위치)에 도달하도록 회전판(3)을 회전시킨다. 회전판(3)의 해당 원사빔(9)이 인출위치에 도달하면, 원사빔(9)의 하단(15)을 지지판(17)으로부터 이탈시킨다.
그리고, 원사빔(9)의 상단(13)을 고리(11)에서 이탈시킴으로써 원사빔(9)을 거치장치(1)에서 인출할 수 있다.
이때, 필요하면 원사빔(9)이 안착된 지지판(17)을 적절하게 회전시킴으로써 원사빔(9)을 인출하기 쉬운 위치로 안내할 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 출원에 따른 원사빔(9) 거치장치(1)는 원사빔(9)이 거치된 상태에서 공전 및 자전이 가능하므로 인출이 용이하다.

Claims (5)

  1. 회전가능한 회전판(3)과;
    회전판(3)을 회전가능하게 지지하는 회전부(19)와;
    회전판(3)의 상면에 상부로 돌출 형성된 기둥(5)과;
    기둥(5)의 상부에 반경방향으로 배치된 적어도 하나 이상의 지지대(7)와;
    지지대(7)의 선단에 각각 형성되어 원사빔(9)의 상단(13)이 삽입되어 지지되는 고리(11)와; 그리고
    회전판(3)의 상면에 회전가능하게 배치되어 원사빔(9)의 하단(15)이 지지되는 적어도 하나 이상의 지지판(17)을 포함하는 원사빔 거치장치(1).
  2. 제 1항에 있어서,
    회전부(19)는 바닥에 고정되는 베이스(B)와; 베이스(B)의 상면에 적어도 하나 이상 배치되는 롤러(20)와; 베이스(B)의 상면에 돌출 되어 회전판(3)의 하면에 회전가능하게 연결되는 회전축(23)을 포함하는 원사빔 거치장치(1).
  3. 제 1항에 있어서,
    지지판(17)은 상부가 오목하게 형성됨으로써 원사빔(9)의 하단(15)이 안착될 수 있는 원사빔 거치장치(1).
  4. 제 3항에 있어서,
    지지판(17)은 회전판(3)의 상면에 베어링에 의하여 자전가능하게 배치되거나, 고정적으로 배치될 수 있는 원사빔 거치장치(1).
  5. 제 3항에 있어서,
    지지판(17)은 회전판(3)의 회전에 의하여 공전을 하고, 또한 베어링에 의하여 자전할 수 있는 원사빔 거치장치(1).
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