KR101896830B1

KR101896830B1 - Development of hybrid-fluidized bed fenton process for non-biodegradable organic wastewater treatment

Info

Publication number: KR101896830B1
Application number: KR1020170022842A
Authority: KR
Inventors: 강호근; 윤민혁; 김미경; 조운자; 이창하
Original assignee: 주식회사 네이코스엔지니어링
Priority date: 2017-02-21
Filing date: 2017-02-21
Publication date: 2018-09-07
Also published as: KR20180096303A

Abstract

본 발명은 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 내부에 반응공간부를 갖는 반응조, 하폐수를 공급하기 위한 하폐수공급부, 펜톤산화물질을 공급하기 위한 펜톤산화물질공급부, 상기 하폐수공급부와 펜톤산화물질공급부에서 공급된 하폐수와 펜톤산화물질을 상기 반응조로 공급하기 위한 메인공급부, 상기 반응조의 반응공간부에 다량 위치되어 메인공급부에서 공급되는 하폐수에 유동되면서 반응과정에서 발생되는 슬러지가 부착되기 위한 결정체, 상기 반응조에서 처리된 처리수를 배출하기 위한 처리수배출부, 및 상기 반응조에서의 반응과정에서 발생되는 슬러지 중 침전된 슬러지를 배출하기 위한 침전물배출부,를 포함한다.
상기와 같은 본 발명에 의하면, 펜톤산화물질과 결정체에 의해 하폐수의 오염물질을 처리함에 따라, 처리효율이 향상됨은 물론, 처리과정에서 발생되어 침전되는 슬러지의 량을 절감시킬 수 있어 슬러지 처리비용을 절감시킬 수 있다.The present invention relates to a hybrid fluidized-bed Fenton processing apparatus for treating a refractory wastewater, and more particularly, to a hybrid fluidized-phase Fenton processing apparatus for a refractory wastewater treatment system that includes a reaction tank having a reaction space therein, a wastewater supply unit for supplying wastewater, A main supply part for supplying the wastewater supplied from the wastewater supply part and the Fenton oxidizing material supply part and the main supply part for supplying the Fenton oxidizing material to the reaction tank, a large amount of the wastewater supplied from the main supply part, And a sediment discharging portion for discharging the sludge precipitated in the sludge generated in the reaction in the reaction tank, wherein the sediment discharging portion discharges the sludge discharged from the reaction tank, .
According to the present invention, the wastewater contaminants are treated by the Fenton oxidizing material and the crystalline material, thereby improving the treatment efficiency and reducing the amount of sludge formed during the treatment. Can be saved.

Description

[0001] The present invention relates to a hybrid fluidized bed fenton process for non-biodegradable organic wastewater treatment,

본 발명은 펜톤 처리장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 난분해성 하폐수에 펜톤산화물질과 결정체를 이용하여 처리효율을 향상시킴은 물론, 침전물의 량을 절감시켜 별도의 처리과정에 따른 비용을 절감시킬 수 있는 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치에 관한 것이다.The present invention relates to a Fenton processing apparatus, and more particularly, to an apparatus and a method for treating a Fenton processing apparatus, The present invention relates to a hybrid fluidized-bed Fenton processing apparatus for treating refractory wastewater.

일반적으로, 난분해성 물질은 응집처리와 생물학적 처리인 활성슬러지법만으로 배출규제 기준에 만족할만한 처리를 하지 못하고 있다.Generally, refractory materials are not treated satisfactorily by the activated sludge method, which is a coagulation treatment and a biological treatment, in accordance with emission control standards.

이를 해소하기 위해, 펜톤산화법과 같은 액상 촉매를 이용한 산화법이 사용되고 있다.In order to solve this problem, an oxidation method using a liquid catalyst such as the Fenton oxidation method is used.

이러한 펜톤산화법은 공개특허 특2002-0043946호에서 개진된 바와 같이, 난분해성 오염물질에 철염(Fe²)과 과산화수소(H2O2)를 공급하여 처리한다.This Fenton oxidation process is carried out by supplying iron salts (Fe2) and hydrogen peroxide (H2O2) to refractory pollutants as disclosed in JP-A-2002-0043946.

그러나 펜톤산화처리과정에서 반응 후 촉매가 침전되어 오염물질이 제거되는 것으로, 침전물의 량이 많이 발생된다.However, in the Fenton oxidation process, since the catalyst is precipitated after the reaction to remove contaminants, a large amount of precipitate is generated.

침전물의 향이 많으면, 난분해성 물질의 처리효율이 저하됨에 따라, 침전물을 자주 제거해야되어 난분해성 물질을 처리할 수 있는 시간이 제한적이다.When the sediment has a large amount of fragrance, the treatment efficiency of the refractory material is lowered, and the time for treating the degradable material, which requires frequent removal of the precipitate, is limited.

특히, 제거한 침전물을 별도로 처리해야됨에 따라, 추가공정과 이에 따른 비용이 증가되는 문제점이 있다.Particularly, since the removed precipitate must be treated separately, there is a problem that the additional process and the resulting cost increase.

이에 따라, 난분해성 물질의 처리는 물론, 침전물의 발생을 최소화시켜 공정과 비용을 절감시킬 수 있는 기술에 대한 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, there is an urgent need to develop a technology capable of minimizing the generation of sediments and reducing the process and cost as well as the treatment of the refractory material.

이에 본 발명은 상기와 같은 문제점들을 해소하기 위해 안출된 것으로써, 내부에 반응공간부를 갖는 반응조, 하폐수를 공급하기 위한 하폐수공급부, 펜톤산화물질을 공급하기 위한 펜톤산화물질공급부, 상기 하폐수공급부와 펜톤산화물질공급부에서 공급된 하폐수와 펜톤산화물질을 상기 반응조로 공급하기 위한 메인공급부, 상기 반응조의 반응공간부에 다량 위치되어 메인공급부에서 공급되는 하폐수에 유동되면서 반응과정에서 발생되는 슬러지가 부착되기 위한 결정체, 상기 반응조에서 처리된 처리수를 배출하기 위한 처리수배출부, 및 상기 반응조에서의 반응과정에서 발생되는 슬러지 중 침전된 슬러지를 배출하기 위한 침전물배출부,를 포함하여 펜톤산화물질과 결정체에 의해 하폐수의 오염물질을 처리함에 따라, 처리효율이 향상됨은 물론, 처리과정에서 발생되어 침전되는 슬러지의 량을 절감시킬 수 있어 슬러지 처리비용을 절감시킬 수 있는 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치를 제공하는 것이 목적이다.Accordingly, the present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to provide a fuel cell having a reaction chamber having a reaction space therein, a wastewater supply unit for supplying wastewater, a Fenton oxidizing material supply unit for supplying Fenton oxidizing material, A main supply part for supplying the wastewater and the Fenton oxidizing material supplied from the oxidizing material supply part to the reaction tank, a sludge generated in the reaction process while being flowed in the wastewater supplied from the main supply part, And a sediment discharging portion for discharging the precipitated sludge in the sludge generated in the reaction in the reaction tank, wherein the treatment water discharging portion discharges treated water in the reaction tank, As the wastewater contaminants are treated by the process, , It is possible to reduce the amount of sludge that is generated in the precipitation process I capable of reducing sludge treatment cost is an object to provide a hybrid fluidized Fenton treatment for decomposing sewage treatment apparatus.

상기 목적을 이루기 위한 본 발명은, 내부에 반응공간부를 갖는 반응조, 하폐수를 공급하기 위한 하폐수공급부, 펜톤산화물질을 공급하기 위한 펜톤산화물질공급부, 상기 하폐수공급부와 펜톤산화물질공급부에서 공급된 하폐수와 펜톤산화물질을 상기 반응조로 공급하기 위한 메인공급부, 상기 반응조의 반응공간부에 다량 위치되어 메인공급부에서 공급되는 하폐수에 유동되면서 반응과정에서 발생되는 슬러지가 부착되기 위한 결정체, 상기 반응조에서 처리된 처리수를 배출하기 위한 처리수배출부, 및 상기 반응조에서의 반응과정에서 발생되는 슬러지 중 침전된 슬러지를 배출하기 위한 침전물배출부,를 포함한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a hydrogen storage tank, including: a reaction tank having a reaction space therein; a wastewater supply unit for supplying wastewater; a Fenton oxidizing material supply unit for supplying the Fenton oxidizing material; A main body for supplying the fenton oxidizing material to the reaction tank, a crystal for placing sludge generated in the reaction process while being flowed in the wastewater supplied from the main supply part and located in a large amount in the reaction space part of the reaction tank, And a sediment discharge unit for discharging the sludge precipitated in the sludge generated during the reaction in the reaction tank.

바람직하게, 상기 반응공간부에서 처리된 처리수의 일부를 상기 메인공급부로 순환시키기 위한 순환부,를 더 포함한다.Preferably, the circulation unit circulates a portion of the treated water treated in the reaction space unit to the main supply unit.

그리고 상기 순환부는, 유입단이 상기 반응조에 연결되고, 배출단이 상기 메인공급부에 연결되는 순환관, 및 상기 순환관을 통해 처리수의 일부를 반응공간부의 하단부로 공급하기 위한 순환펌프,를 포함한다.The circulation unit includes a circulation pipe having an inlet end connected to the reaction tank and a discharge end connected to the main supply pipe, and a circulation pump for supplying a part of the treated water to the lower end of the reaction space through the circulation pipe do.

또한, 상기 메인공급부는, 상기 반응조의 반응공간부 하단부에 구비되는 공급판, 상기 공급판의 하측에 공급공간부가 형성되도록 구비되는 공급하우징, 상기 공급판에 복수 개 구비되는 분사공, 상기 공급하우징의 공급공간부로 상기 하폐수공급부와 펜톤산화물질공급부에서 공급되는 하폐수와 펜톤산화물질이 유입되기 위한 공급공, 및 상기 공급판의 외측부를 따라 구비되어 상기 반응공간부의 침전물을 하측으로 이동되기 위한 침전물이동부,를 포함한다.The main supply part may include a supply plate provided at a lower end of the reaction space part of the reaction tank, a supply housing provided so as to supply a supply space below the supply plate, a plurality of injection holes provided in the supply plate, A supply hole for introducing the wastewater supplied from the wastewater supply portion and the Fenton oxidizing material supply portion and the Fenton oxidizing material into the supply space portion of the supply space and a sediment for moving the sediment in the reaction space portion downward, East, including.

그리고 상기 공급하우징의 공급공간부는, 하폐수가 이동되기 위한 제1공급공간부, 및 펜톤산화물질이 이동되기 위한 제2공급공간부,를 포함한다.The supply space portion of the supply housing includes a first supply space portion for moving the wastewater and a second supply space portion for moving the Fenton oxidizing material.

또한, 상기 공급공은, 상기 제1공급공간부로 하폐수를 공급하기 위한 제1공급공, 및 상기 제2공급공간부로 펜톤산화물질을 공급하기 위한 제2공급공,을 포함하며, 상기 제1공급공간부의 하폐수는 일부 분사공을 통해 분사되고, 상기 제2공급공간부의 펜톤산화물질은 나머지 분사공을 통해 분사된다.The supply hole may include a first supply hole for supplying wastewater to the first supply space portion and a second supply hole for supplying the Fenton oxidizing material to the second supply space portion, The wastewater in the space portion is injected through the partial spray hole and the Fenton oxidizing material in the second supply space portion is sprayed through the remaining spray holes.

그리고 상기 공급판을 회전시키기 위한 회전부,가 더 포함된다.And a rotating portion for rotating the supply plate.

또한, 상기 회전부는, 상기 공급판과 함께 회전되는 공급하우징에 연결되는 회전샤프트, 내부에 공급유로를 갖고, 상기 공급하우징이 회전 가능하도록 상기 반응조에 구비되는 고정하우징, 및 상기 회전샤프트를 회전시키기 위한 회전구동부,를 포함한다.The rotary unit may include a rotary shaft connected to the supply housing rotated together with the supply plate, a stationary housing provided in the reactor to allow the supply housing to rotate, And a rotary drive for driving the motor.

그리고 상기 반응조는 내부에 높이방향으로 격벽이 구비되어 상기 반응공간부를 제1반응공간부와 제2반응공간부로 구획하고, 상기 제2반응공간부에 다량의 결정체가 위치되며, 상기 제1반응공간부와 제2반응공간부로 상기 메인공급부를 통해 하폐수와 펜톤산화물질이 공급된다.In addition, the reaction tank is provided with a partition wall in a height direction to divide the reaction space part into a first reaction space part and a second reaction space part, and a large amount of crystal is located in the second reaction space part, And the second reaction space part is supplied with the wastewater and the Fenton oxidizing material through the main supply part.

또한, 상기 반응공간부는 격벽에 의해 복수로 구획되고, 상기 제1반응공간부와 제2반응공간부가 교번 배열되며, 상기 제1반응공간부에서 펜톤산화처리된 1차 처리수는 상기 순환부에 의해 제2반응공간부로 공급되어 결정체에 의해 2차 처리되고, 이를 적어도 1회 이상 반복된다.The first reaction space portion and the second reaction space portion are alternately arranged. The first treatment water subjected to the Fenton oxidation treatment in the first reaction space portion is arranged in the circulation portion To the second reaction space part and subjected to secondary treatment by the crystal, and this is repeated at least once.

그리고 상기 반응조의 반응공간부는, 상기 결정체가 처리수배출부로 배출되는 것을 방지하기 위한 필터막,이 더 구비된다.The reaction space of the reaction vessel is further provided with a filter membrane for preventing the crystals from being discharged to the treated water discharge portion.

또한, 상기 필터막은, 액체만 통과되고, 결정체는 걸러지기 위한 미세기공을 갖고, 상기 반응공간부의 상단부에 구비되는 제1필터막, 및 상기 제1필터막의 하측에 일정 간격 이격되도록 구비되어 상기 제1필터막보다 큰 미세기공이 형성되어 액체와 함께 일정크기의 결정체가 통과되기 위한 제2필터막,을 포함하고, 상기 순환관의 유입단으로 상기 제2필터막을 통과한 액체와 결정체가 유입된다.The filter membrane may further include a first filter membrane having fine pores for passing only the liquid and filtering the crystals and provided at the upper end of the reaction space unit and a second filter membrane disposed below the first filter membrane, And a second filter membrane having fine pores larger than the first filter membrane and allowing a crystal of a predetermined size to pass therethrough, wherein the liquid and the crystal passing through the second filter membrane are introduced into the inlet end of the circulation tube .

상기한 바와 같이, 본 발명에 의한 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치에 의하면, 펜톤산화물질과 결정체에 의해 하폐수의 오염물질을 처리함에 따라, 처리효율이 향상됨은 물론, 처리과정에서 발생되어 침전되는 슬러지의 량을 절감시킬 수 있게 하는 매우 유용하고 효과적인 발명이다.As described above, according to the hybrid fluidized Fenton processing apparatus for treating the degradable wastewater according to the present invention, the wastewater contaminants are treated by the Fenton oxidizing material and the crystalline material, thereby improving the treatment efficiency, It is a very useful and effective invention that can reduce the amount of sludge that is generated and settled.

도 1은 본 발명에 따른 펜톤 처리장치를 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명에 따른 펜톤 처리장치에 순환부가 더 구비된 상태를 도시한 도면이며,
도 3은 본 발명에 따른 펜톤 처리장치의 메인공급부를 도시한 도면이고,
도 4는 본 발명에 따른 메인공급부의 평면도를 도시한 도면이며,
도 5는 본 발명에 따른 메인공급부에 회전부가 더 구비된 상태를 도시한 도면이고,
도 6은 본 발명에 따른 회전부의 다른 실시 예를 도시한 도면이며,
도 7은 본 발명에 따른 다른 실시 예의 반응조를 도시한 도면이다.1 is a view showing a Fenton processing apparatus according to the present invention,
2 is a view showing a state in which a circulation part is further provided in the Fenton processing apparatus according to the present invention,
3 is a view showing the main supply unit of the Fenton processing apparatus according to the present invention,
4 is a plan view of the main supply part according to the present invention,
5 is a view showing a state in which a rotation part is further provided in the main supply part according to the present invention,
6 is a view showing another embodiment of the rotating part according to the present invention,
7 is a view showing a reaction tank of another embodiment according to the present invention.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시 형태를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 첨부된 도면과 함께 이하에 개시될 상세한 설명은 본 발명의 예시적인 실시형태를 설명하고자 하는 것이며, 본 발명이 실시될 수 있는 유일한 실시형태를 나타내고자 하는 것이 아니다. 이하의 상세한 설명은 본 발명의 완전한 이해를 제공하기 위해서 구체적 세부사항을 포함한다. 그러나, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 이러한 구체적 세부사항 없이도 실시될 수 있음을 안다.Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The following detailed description, together with the accompanying drawings, is intended to illustrate exemplary embodiments of the invention and is not intended to represent the only embodiments in which the invention may be practiced. The following detailed description includes specific details in order to provide a thorough understanding of the present invention. However, those skilled in the art will appreciate that the present invention may be practiced without these specific details.

몇몇 경우, 본 발명의 개념이 모호해지는 것을 피하기 위하여 공지의 구조 및 장치는 생략되거나, 각 구조 및 장치의 핵심기능을 중심으로 한 블록도 형식으로 도시될 수 있다.In some instances, well-known structures and devices may be omitted or may be shown in block diagram form, centering on the core functionality of each structure and device, to avoid obscuring the concepts of the present invention.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함(comprising 또는 including)"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다. 또한, 명세서에 기재된 "…부"의 용어는 적어도 하나의 기능이나 동작을 처리하는 단위를 의미한다. 또한, "일(a 또는 an)", "하나(one)", "그(the)" 및 유사 관련어는 본 발명을 기술하는 문맥에 있어서(특히, 이하의 청구항의 문맥에서) 본 명세서에 달리 지시되거나 문맥에 의해 분명하게 반박되지 않는 한, 단수 및 복수 모두를 포함하는 의미로 사용될 수 있다.Throughout the specification, when an element is referred to as "comprising" or " including ", it is meant that the element does not exclude other elements, do. Further, the term "part" described in the specification means a unit for processing at least one function or operation. Also, the terms " a or ", "one "," the ", and the like are synonyms in the context of describing the invention (particularly in the context of the following claims) May be used in a sense including both singular and plural, unless the context clearly dictates otherwise.

본 발명의 실시예들을 설명함에 있어서 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. 그리고 후술되는 용어들은 본 발명의 실시예에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In the following description of the present invention, a detailed description of known functions and configurations incorporated herein will be omitted when it may make the subject matter of the present invention rather unclear. The following terms are defined in consideration of the functions in the embodiments of the present invention, which may vary depending on the intention of the user, the intention or the custom of the operator. Therefore, the definition should be based on the contents throughout this specification.

이하, 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명에 따른 펜톤 처리장치를 도시한 도면이고, 도 2는 본 발명에 따른 펜톤 처리장치에 순환부가 더 구비된 상태를 도시한 도면이며, 도 3은 본 발명에 따른 펜톤 처리장치의 메인공급부를 도시한 도면이고, 도 4는 본 발명에 따른 메인공급부의 평면도를 도시한 도면이며, 도 5는 본 발명에 따른 메인공급부에 회전부가 더 구비된 상태를 도시한 도면이고, 도 6은 본 발명에 따른 회전부의 다른 실시 예를 도시한 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 다른 실시 예의 반응조를 도시한 도면이다.FIG. 1 is a view showing a Fenton processing apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a view showing a state in which a circulation part is further provided in the Fenton processing apparatus according to the present invention, and FIG. 3 is a cross- 4 is a plan view of a main supply unit according to the present invention, FIG. 5 is a view showing a state where a main supply unit according to the present invention is further provided with a rotation unit, FIG. 6 is a cross- FIG. 7 is a view showing a reaction tank according to another embodiment of the present invention. FIG.

도면에서 도시한 바와 같이, 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치(10)는 반응조(100)와 하폐수공급부(200), 펜톤산화물질공급부(300), 메인공급부(400), 결정체(500), 처리수배출부(600) 및 침전물배출부(700)를 포함한다.As shown in the figure, a hybrid fluidized-bed Fenton processing apparatus 10 for a refractory wastewater treatment includes a reaction tank 100, a wastewater supplying unit 200, a Fenton oxidizing material supplying unit 300, a main supplying unit 400, 500, a treated water discharging portion 600, and a sediment discharging portion 700.

반응조(100)는 내부에 반응공간부(110)가 형성되고, 하폐수공급부(200)는 하폐수를 공급하기 위해 구비된다.In the reaction tank 100, a reaction space part 110 is formed and a wastewater supply part 200 is provided to supply wastewater.

그리고 펜톤산화물질공급부(300)는 펜톤산화물질을 공급하기 위해 구비된다.And the Fenton oxidizing material supply unit 300 is provided for supplying the Fenton oxidizing material.

메인공급부(400)는 하폐수공급부(200)와 펜톤산화물질공급부(300)에서 공급된 하폐수와 펜톤산화물질을 반응조(100)로 공급하기 위해 구비된다.The main supply part 400 is provided to supply the wastewater supplied from the wastewater supplying part 200 and the Fenton oxidizing material supplying part 300 and the Fenton oxidizing material to the reaction tank 100.

또한 결정체(500)는 반응조(100)의 반응공간부(110)에 다량 위치되어 메인공급부(400)에서 공급되는 하폐수에 유동되면서 반응과정에서 발생되는 슬러지가 부착되기 위해 구비된다.The crystals 500 are placed in the reaction space 110 of the reaction tank 100 to be placed in the reaction space 110 so that the sludge generated during the reaction is deposited while flowing into the wastewater supplied from the main supply unit 400.

처리수배출부(600)는 반응조(100)에서 처리된 처리수를 배출하기 위해 구비되며, 침전물배출부(700)는 반응조(100)에서의 반응과정에서 발생되는 슬러지 중 침전된 슬러지를 배출하기 위해 구비된다.The treated water discharge part 600 is provided for discharging the treated water treated in the reaction tank 100 and the sediment discharge part 700 discharges sedimented sludge among the sludge generated during the reaction in the reaction tank 100 .

이러한 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치(10)에 의하면, 반응기(100)의 반응공간부(110)에 하폐수를 유입시킴과 동시에 펜톤산화물질을 공급하여 하폐수에 대한 처리가 이루어지며, 처리과정에서 발생되는 슬러지는 결정체(500)에 부착되고, 부착되지 않은 슬러지는 침전되어 배출된다.According to the hybrid fluidized-bed Fenton processing apparatus 10 for treating the reformable wastewater, the wastewater is introduced into the reaction space portion 110 of the reactor 100 and simultaneously the Fenton oxidant is supplied to the wastewater treatment , The sludge generated in the process is attached to the crystal 500, and the unattached sludge is deposited and discharged.

이에, 하폐수에 대한 처리효율을 향상시킬 수 있음은 물론, 처리과정에서 발생되어 침전되는 슬러지의 량을 절감시켜 슬러지 처리에 대한 비용을 절감시킬 수 있다.Accordingly, not only can the treatment efficiency with respect to wastewater can be improved, but also the cost of the sludge treatment can be reduced by reducing the amount of sludge precipitated in the treatment process.

여기서, 도 2에서 도시한 바와 같이, 난분해성 하폐수 처리를 위한 하이브리드 유동상 펜톤 처리장치(10)는 순환부(800)가 더 구비된다.Here, as shown in FIG. 2, the hybrid fluidized-phase Fenton processing apparatus 10 for refractory wastewater treatment is further provided with a circulation unit 800.

이 순환부(800)는 반응공간부(110)에서 처리된 처리수의 일부를 메인공급부(400)로 순환시키기 위해 구비된다.The circulation unit 800 is provided to circulate a part of the treated water processed in the reaction space unit 110 to the main supply unit 400.

이러한 순환부(800)는 순환관(810)과 순환펌프(820)로 구성된다.The circulation unit 800 includes a circulation pipe 810 and a circulation pump 820.

순환관(810)의 유입단은 반응조(100)에 연결되고, 배출단이 메인공급부(400)에 연결된다.The inlet end of the circulation pipe 810 is connected to the reaction tank 100, and the outlet end is connected to the main supply part 400.

그리고 순환펌프(820)는 순환관(810)을 통해 처리수의 일부를 반응공간부(110)의 하단부로 공급하기 위한 것으로, 메인공급부(400)에 의해 반응공간부(110)의 하단부로 공급된다.The circulation pump 820 supplies a part of the treated water to the lower end of the reaction space part 110 through the circulation pipe 810 and is supplied to the lower end part of the reaction space part 110 by the main supply part 400 do.

여기서, 메인공급부(400)는 도 3에서 도시한 바와 같이, 공급판(410)과 공급하우징(420), 분사공(430), 공급공(440) 및 침전물이동부(450)로 구성된다.3, the main supply part 400 includes a supply plate 410, a supply housing 420, a spray hole 430, a supply hole 440, and a sediment transport part 450.

공급판(410)은 반응조(100)의 반응공간부(110) 하단부에 구비된다.The supply plate 410 is provided at the lower end of the reaction space part 110 of the reaction tank 100.

또한 공급하우징(420)은 공급판(410)의 하측에 공급공간부(422)가 형성되도록 구비되고, 분사공(430)은 공급판(410)에 복수 개 구비된다.The supply housing 420 is provided to form a supply space portion 422 below the supply plate 410 and a plurality of spray holes 430 are provided in the supply plate 410.

공급공(440)은 공급하우징(420)의 공급공간부(422)로 하폐수공급부(200)와 펜톤산화물질공급부(300)에서 공급되는 하폐수와 펜톤산화물질이 유입되기 위해 구비된다.The supply hole 440 is provided to allow the wastewater supplied from the wastewater supply portion 200 and the Fenton oxidizing material supply portion 300 and the Fenton oxidizing material to flow into the supply space portion 422 of the supply housing 420.

그리고 침전물이동부(450)는 공급판(410)의 외측부를 따라 구비되어 반응공간부(110)에서 발생된 침전되는 슬러지가 하측으로 이동되도록 구비된다.The sediment moving part 450 is provided along the outer side of the supply plate 410 to move the precipitated sludge generated in the reaction space part 110 downward.

이러한 메인공급부(400)의 작동상태를 살펴보면, 하폐수공급부(200)와 펜톤산화물질공급부(300)에서 공급되는 하폐수와 펜톤산화물질이 공급공(440)을 통해 공급공간부(422)로 공급된 후, 복수의 분사공(430)을 통해 반응공간부(110)로 공급되어 하폐수에 대한 처리가 이루어진다.The wastewater supplied from the wastewater supply unit 200 and the Fenton oxidizing material supply unit 300 and the Fenton oxidizing material are supplied to the supply space 422 through the supply hole 440 And then supplied to the reaction space part 110 through a plurality of spray holes 430 to process the wastewater.

여기서, 도 4에서 도시한 바와 같이, 급하우징(420)의 공급공간부(422)는 제1공급공간부(422a)와 제2공급공간부(422b)로 구획된다.Here, as shown in FIG. 4, the supply space portion 422 of the power housing 420 is divided into a first supply space portion 422a and a second supply space portion 422b.

제1공급공간부(422a)는 하폐수가 이동되기 위해 형성되고, 제2공급공간부(422b)는 펜톤산화물질이 이동되기 위해 구획된다.The first supply space portion 422a is formed to allow the wastewater to be moved, and the second supply space portion 422b is partitioned for moving the Fenton oxidizing material.

그리고 공급공(440)은 제1공급공(442)과 제2공급공(444)로 구성된다.The supply hole 440 is composed of a first supply hole 442 and a second supply hole 444.

제1공급공(442)은 제1공급공간부(422a)로 하폐수를 공급하기 위해 구비되고, 제2공급공(444)은 제2공급공간부(422b)로 펜톤산화물질을 공급하기 위해 구비된다.The first supply hole 442 is provided to supply wastewater to the first supply space portion 422a and the second supply hole 444 is provided to supply the Fenton oxidizing material to the second supply space portion 422b. do.

다시 말해, 제1공급공간부(422a)의 하폐수는 일부 분사공(430)을 통해 분사되고, 제2공급공간부(422b)의 펜톤산화물질은 나머지 분사공(430)을 통해 분사된다.In other words, the wastewater in the first supply space part 422a is injected through the partial injection hole 430 and the Fenton oxidized material in the second supply space part 422b is injected through the remaining injection hole 430. [

이에, 하폐수와 펜톤산화물질이 반응공간부(110)에 함께 분사되어 처리과정이 이루어진다.Thus, the wastewater and the Fenton oxidizing material are injected together into the reaction space part 110 to perform a treatment process.

또한 도 5에서 도시한 바와 같이, 공급판(410)을 회전시키기 위한 회전부(450)가 더 포함된다.Further, as shown in FIG. 5, the rotating unit 450 for rotating the supply plate 410 is further included.

이 회전부(450)는 회전샤프트(452)와 고정하우징(454) 및 회전구동부(456)로 구성된다.The rotation unit 450 includes a rotation shaft 452, a fixed housing 454, and a rotation drive unit 456.

회전샤프트(452)는 공급판(410)과 함께 회전되는 공급하우징(420)에 연결된다.The rotating shaft 452 is connected to the feed housing 420 which is rotated together with the feed plate 410.

그리고 고정하우징(454)은 내부에 공급유로(455)가 형성되며, 공급하우징(420)이 회전 가능하도록 반응조(100)에 구비된다.The fixed housing 454 has a supply passage 455 formed therein and is provided in the reaction tank 100 so that the supply housing 420 can rotate.

회전구동부(456)는 회전샤프트(452)를 회전시키기 위해 구비된다.The rotation driving portion 456 is provided for rotating the rotating shaft 452.

여기서, 도 6에서 도시한 바와 같이, 고정하우징(454)은 제1고정하우징(4542)과 제2고정하우징(4544)로 구성된다.As shown in FIG. 6, the fixed housing 454 includes a first fixed housing 4542 and a second fixed housing 4544.

제1고정하우징(4542)은 내부에 제1공급유로(4552)가 형성되고, 제2고정하우징(4544)은 내부에 제2공급유로(4554)가 형성된다.The first fixed housing 4542 has a first supply passage 4552 formed therein and the second fixed housing 4544 has a second supply passage 4554 formed therein.

다시 말해, 제1고정하우징(4542)의 공급유로(4552)로 하폐수공급부(200)의 하폐수가 공급되는 것으로, 이 하폐수는 제1공급공간부(422a)로 공급된다.In other words, the wastewater of the wastewater supply portion 200 is supplied to the supply passage 4552 of the first fixed housing 4542, and the wastewater is supplied to the first supply space portion 422a.

그리고 제2고정하우징(4544)의 제2공급유로(4554)로 펜톤산화물질공급부(300)의 펜톤산화물질이 공급되는 것으로, 이 펜톤산화물질은 제2공급공간부(422b)로 공급된다.The Fenton oxidizing material of the Fenton oxidizing material supply unit 300 is supplied to the second supply passage 4554 of the second fixing housing 4544 and the Fenton oxidizing material is supplied to the second supply space 422b.

또한 도 7에서 도시한 바와 같이, 반응조(100)는 내부에 높이방향으로 격벽(120)이 구비되어 반응공간부(110)를 제1반응공간부(112)와 제2반응공간부(114)로 구획한다.7, the reaction vessel 100 includes a partition wall 120 in a height direction to house the reaction space part 110 in the first reaction space part 112 and the second reaction space part 114, .

그리고 제2반응공간부(114)에 다량의 결정체(500)가 위치된다.A large amount of the crystals 500 is placed in the second reaction space part 114.

이러한 제1반응공간부(112)와 제2반응공간부(114)로 메인공급부(400)를 통해 하폐수와 펜톤산화물질이 공급된다.The first reaction space part 112 and the second reaction space part 114 are supplied with the wastewater and the Fenton oxidizing material through the main supply part 400.

이에, 하폐수는 제1반응공간부(112)에서 펜톤산화물질에 의해 처리되고, 처리과정에서 발생되는 슬러지는 침전된다.Thus, the wastewater is treated by the Fenton oxidizing material in the first reaction space part 112, and the sludge generated in the process is precipitated.

그리고 제2반응공간부(114)에서도 하폐수가 펜톤산화물질에 의해 처리되고, 처리과정에서 발생되는 슬러지는 결정체(500)에 의해 처리된다.In the second reaction space part 114, the wastewater is treated by the Fenton oxidizing material, and the sludge generated in the treatment is treated by the crystal 500.

일 실시 예로, 반응공간부(110)는 격벽(120)에 의해 적어도 하나 이상씩 구획되는 것으로, 복수 개 구획될 경우, 제1반응공간부(112)와 제2반응공간부(114)가 교번 배열됨이 바람직하다.In an embodiment, the reaction space part 110 is partitioned by at least one partition 120, and when a plurality of spaces are defined, the first reaction space part 112 and the second reaction space part 114 alternate with each other. Is preferably arranged.

물론, 복수의 제1반응공간부(112)와 복수의 제2반응공간부(114)가 각각 인접하게 배열될 수 있음이 당연하다.Of course, it is natural that a plurality of first reaction space parts 112 and a plurality of second reaction space parts 114 can be arranged adjacently, respectively.

여기서, 제1반응공간부(112)에서 펜톤산화처리된 1차 처리수는 순환부(800)에 의해 제2반응공간부(114)로 공급되어 펜톤산화물질과 반응하여 2차 처리된다.In this case, the first treated water subjected to the Fenton oxidation treatment in the first reaction space part 112 is supplied to the second reaction space part 114 by the circulation part 800 and reacted with the Fenton oxidized material to be secondarily treated.

물론, 어느 하나의 제1반응공간부(112)에서 펜톤산화처리된 1차 처리수가 제2반응공간부(114)에서 2차 처리된 후, 다른 제1반응공간부(112)를 통해 3차 처리될 수 있음이 당연하며, 그 이상의 처리과정을 거칠 수도 있다.Of course, in the first reaction space part 112, the first treatment water subjected to the Fenton oxidation treatment is secondarily treated in the second reaction space part 114, and then the third treatment space part 112 It is natural that it can be processed, and it may go through further processing.

이에, 하폐수에 대한 처리효율을 향상시킴은 물론, 침전물의 량을 절감시켜 침전물 처리에 대한 비용을 절감시킬 수 있다.Thus, not only the treatment efficiency for the wastewater can be improved, but also the amount of the precipitate can be reduced and the cost for the treatment of the precipitate can be reduced.

그리고 도 7에서 도시한 바와 같이, 반응조(100)의 반응공간부(110)는 결정체(500)가 처리수배출부(600)로 배출되는 것을 방지하기 위한 필터막(900)이 더 구비된다.7, the reaction space part 110 of the reaction vessel 100 further includes a filter film 900 for preventing the crystal body 500 from being discharged to the treatment water discharge part 600. As shown in FIG.

이 필터막(900)은 제1필터막(910)과 제2필터막(920)으로 구성된다.The filter film 900 is composed of a first filter film 910 and a second filter film 920.

제1필터막(910)은 액체만 통과되고, 결정체(500)는 걸러지기 위한 미세기공을 갖고, 반응공간부(110)의 상단부에 구비된다.The first filter film 910 is passed through only the liquid, and the crystal 500 has fine pores for filtering and is provided at the upper end of the reaction space part 110.

그리고 제2필터막(920)은 제1필터막(910)의 하측에 일정 간격 이격되도록 구비되어 제1필터막(910)보다 큰 미세기공이 형성되어 액체와 함께 일정크기의 결정체(500)가 통과되기 위해 구비된다.The second filter film 920 is arranged below the first filter film 910 to be spaced apart from the first filter film 910 by a predetermined distance to form fine pores larger than the first filter film 910, To be passed.

이러한 제2필터막(920)을 통과하지 못하는 결정체(500)는 반응공간부에서 슬러지가 계속 부착됨이 당연하다.It is a matter of course that the sludge continues to adhere to the reaction space part of the crystalline body 500 which can not pass through the second filter membrane 920.

여기서, 제1필터막(910)과 제2필터막(920) 사이에 위치된 하폐수와 펜톤산화물질 및 결정체(500)는 순환관(810)의 유입단을 통해 메인공급부(400)로 이동되어 다시 반응공간부(110)로 순환된다.The wastewater and the Fenton oxidizing substance and the crystal 500 located between the first filter film 910 and the second filter film 920 are moved to the main supplying part 400 through the inlet end of the circulation pipe 810 And then circulated to the reaction space part 110 again.

이에, 하폐수 처리효율은 더욱 향상되는 것이다.Therefore, the wastewater treatment efficiency is further improved.

10 : 펜톤 처리장치 100 : 반응조
200 : 하폐수공급부 300 : 펜톤산화물질공급부
400 : 메인공급부 500 : 결정체
600 : 처리수배출부 700 : 침전물배출부
800 : 순환부10: Fenton processing apparatus 100: Reactor
200: Waste water supply part 300: Fenton oxidizing material supply part
400: main supply part 500: crystal
600: treated water discharging portion 700: sediment discharging portion
800: circulation part

Claims

A reaction tank having a reaction space part therein;
A wastewater supply unit for supplying wastewater;
A Fenton oxidizing material supply part for supplying a Fenton oxidizing material;
A main supply unit for supplying the wastewater and the Fenton oxidizing material supplied from the wastewater supply unit and the Fenton oxidizing material supply unit to the reaction tank;
A crystal disposed in a reaction space portion of the reaction tank to adhere to the sludge generated in the reaction process while flowing to the wastewater supplied from the main supply portion;
A treated water discharging portion for discharging the treated water treated in the reaction tank; And
And a sediment discharge unit for discharging the sludge precipitated in the sludge generated during the reaction in the reaction tank,
And a circulation part for circulating a part of the treated water treated in the reaction space part to the main supply part,
The circulation unit includes:
A circulation pipe in which an inlet end is connected to the reaction tank and a discharge end is connected to the main supply part; And
And a circulation pump for supplying a part of the treated water to the lower end of the reaction space part through the circulation pipe,
The main-
A supply plate provided at a lower end of the reaction space part of the reaction tank;
A supply housing provided below the supply plate to form a supply space;
A plurality of spray holes provided in the supply plate;
A supply hole through which the wastewater supplied from the wastewater supply portion and the Fenton oxidizing material supply portion and the Fenton oxidizing material flow into the supply space portion of the supply housing; And
And a sediment moving part provided along the outer side of the supply plate for moving the sediment in the reaction space part downward,
And a rotation part for rotating the supply plate,
The rotation unit includes:
A rotating shaft connected to a feed housing rotated with the feed plate;
A fixed housing having a supply passage therein and provided in the reaction tank so that the supply housing can rotate; And
And a rotation driving unit for rotating the rotation shaft,
Wherein the reaction vessel has a partition wall in a height direction to partition the reaction space unit into a first reaction space unit and a second reaction space unit,
A large amount of crystals is placed in the second reaction space part,
Wherein the wastewater and the Fenton oxidizing material are supplied to the first reaction space part and the second reaction space part through the main supply part,
Wherein the reaction space part is divided into a plurality of partitions by barrier ribs,
Wherein the first reaction space part and the second reaction space part are alternately arranged,
The first treatment water subjected to the Fenton oxidation treatment in the first reaction space part is supplied to the second reaction space part by the circulation part and is secondarily treated by the crystal,
This is repeated at least once,
The reaction space portion of the reaction tank,
And a filter membrane for preventing the crystals from being discharged to the treated water discharging portion,
The filter membrane
A first filter membrane having a fine pore for passing the liquid only and filtering the crystals, and provided at an upper end of the reaction space; And
And a second filter layer disposed below the first filter layer and spaced apart from the first filter layer by a predetermined distance to form micropores larger than the first filter layer,
And the liquid and the crystal passing through the second filter membrane flow into the inlet end of the circulation pipe.

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