KR101894055B1 - Surface treatment method of aluminum-silicon alloy - Google Patents

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양재교
진연호
장대환
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Abstract

The present invention relates to a surface treatment method of an aluminium-silicon alloy, significantly shortening a treatment time than existing anodization, thereby increasing production efficiency and stably forming oxide coating. Moreover, the method comprises: a pre-anodic oxidation step; and an electrolytic oxidation step.

Description

알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법{SURFACE TREATMENT METHOD OF ALUMINUM-SILICON ALLOY}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a surface treatment method of an aluminum-silicon alloy,

본 발명은 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법에 관한 것으로, 상기 표면처리방법은 기존의 양극산화 방법보다 처리 시간이 현저히 짧아 생산 효율을 향상시키고, 산화 피막을 안정적으로 형성할 수 있다.The present invention relates to a surface treatment method for an aluminum-silicon alloy, and the surface treatment method has a significantly shorter treatment time than the conventional anodic oxidation method, thereby improving production efficiency and stably forming an oxide film.

냉매용 압축기 중 스크롤 압축기는 타 압축기에 비해 소형화가 가능한 간단한 구조이며, 소음/진동이 적고 효율이 우수하여 냉/공조 시스템에 적용이 확대되고 있다. 상기 스크롤 압축기의 소재로는 주로 주철이 사용되었으나, 현재는 알루미늄 합금으로 대체되고 있다. 이로 인해, 강도 및 내마모성 등과 같은 기계적인 특성이 우수하고 경량인 알루미늄 합금에 대한 개발이 요구되고 있다.Among the refrigerant compressors, the scroll compressor is a simple structure that can be miniaturized as compared with other compressors, and has been applied to a cooling / air conditioning system with less noise / vibration and excellent efficiency. The scroll compressor is mainly made of cast iron, but is now being replaced by an aluminum alloy. Therefore, development of an aluminum alloy having excellent mechanical properties such as strength and abrasion resistance and being light in weight is required.

이에 알루미늄 합금의 표면에 산화 피막을 형성시켜 기계적 특성을 향상시키는 방법이 제안되었으며, 이 중, 비교적 경제적으로 산화 피막을 형성할 수 있는 양극 산화처리방법이 주로 이용되었다. 상기 양극 산화처리방법은 금속소재 등을 산 및 염기성 전해액 속에서 양분극 처리하여 소재의 표면에 산화 피막을 형성하는 방법이다. 상기 양극 산화처리방법으로 형성된 산화 피막은 수 마이크로미터의 두께를 가지며, 부식, 마모, 외부 충격 등으로부터 금속소재의 표면을 보호하는 역할을 한다. 그러나, 상기 양극 산화처리방법은 최대 인가 전압이 50 V로 낮아, 최근 산업계에서 요구하는 물성을 충족하지 못하며, 금속 소재의 모서리 부분에 산화 피막이 형성될 때 크랙이 발생한다는 단점이 있다. 특히, 금속소재 중 실리콘의 함량이 10 중량% 이상인 알루미늄-실리콘 합금의 경우, 양극 산화처리시 약 20 ㎛ 두께의 산화 피막을 형성하기 위해서는 최소 2시간 이상의 처리 시간이 소요되어 공정효율이 매우 떨어지는 문제점이 있다.Therefore, a method of improving the mechanical properties by forming an oxide film on the surface of an aluminum alloy has been proposed. Among them, anodizing treatment method capable of forming an oxide film relatively economically has been mainly used. The anodic oxidation method is a method in which a metal material or the like is subjected to a dipolar process in an acidic and basic electrolyte to form an oxide film on the surface of the material. The oxidation film formed by the anodic oxidation process has a thickness of several micrometers and protects the surface of the metal material from corrosion, abrasion, external impact, and the like. However, the anodic oxidation method has a drawback that the maximum applied voltage is as low as 50 V, does not satisfy recent industrial requirements, and cracks are generated when an oxide film is formed at the corner of the metal material. Particularly, in the case of an aluminum-silicon alloy having a silicon content of 10 wt% or more in the metal material, in order to form an oxide film having a thickness of about 20 탆 in the anodic oxidation process, a process time of at least 2 hours is required, .

이에 대한 대안으로, 대한민국 등록특허 제 10-1214400 호는 규산나트륨(sodium silicate) 및 수산화나트륨을 포함하고, Na2CrO7·H2O, (NH4)6Mo7O24·4H2O 및 5(NH4)2O·12WO3·11H2O 등을 첨가한 전해액을 이용하여 알루미늄계 금속의 표면을 처리하는 방법에 대해 개시하고 있으나, 상기와 같은 전해액은 고가의 시료를 사용하여 경제성이 떨어지는 문제점이 있다.As an alternative, Korean Patent No. 10-1214400 includes sodium silicate and sodium hydroxide, and includes Na 2 CrO 7 .H 2 O, (NH 4 ) 6 Mo 7 O 24 .4H 2 O and 5 (NH 4 ) 2 O · 12WO 3 · 11H 2 O is added to the surface of the aluminum-based metal. However, the above-mentioned electrolytic solution is not economical due to the use of an expensive sample There is a falling problem.

대한민국 등록특허 제 10-1214400 호Korean Patent No. 10-1214400

따라서, 본 발명의 목적은 산화처리 시간이 짧아 생산 효율이 높고, 상대적으로 저렴한 시료를 첨가한 전해액을 이용하여 경제성이 높으며, 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리에 적합한 표면처리방법을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a surface-treating method for a surface of an aluminum-silicon alloy containing silicon of 10 wt% or more, which is economical using an electrolytic solution containing a relatively inexpensive sample, And to provide a processing method.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은In order to achieve the above object,

(1) 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금을 전해액에 침지하여 전-양극 산화처리(pre-anodic oxidation)하는 단계;(1) a step of pre-anodic oxidation of an aluminum-silicon alloy containing at least 10% by weight of silicon by immersion in an electrolytic solution;

(2) 전-양극 산화처리된 합금의 표면을 전해 산화처리(electrolytic oxidation)하는 단계; 및(2) electrolytic oxidation of the surface of the pre-anodized alloy; And

(3) 전해 산화처리된 합금의 표면을 플라즈마 전해 산화처리(plasma electrolytic oxidation)하는 단계;를 포함하는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법을 제공한다.(3) plasma electrolytic oxidation of the surface of the alloy subjected to the electrolytic oxidation treatment.

본 발명의 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법은 산화처리 시간이 짧아 생산 효율이 높고, 상대적으로 저렴한 시료를 첨가한 전해액을 이용하여 경제성이 높으며, 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리에 적합하다.The surface treatment method of an aluminum-silicon alloy according to the present invention is economical using an electrolytic solution containing a relatively inexpensive sample added because the oxidation treatment time is short and production efficiency is high, and an aluminum-silicon alloy containing 10 wt% It is suitable for surface treatment.

본 발명의 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법은 The surface treatment method of the aluminum-silicon alloy of the present invention

(1) 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금을 전해액에 침지하여 전-양극 산화처리(pre-anodic oxidation)하는 단계;(1) a step of pre-anodic oxidation of an aluminum-silicon alloy containing at least 10% by weight of silicon by immersion in an electrolytic solution;

(2) 전-양극 산화처리된 합금의 표면을 전해 산화처리(electrolytic oxidation)하는 단계; 및(2) electrolytic oxidation of the surface of the pre-anodized alloy; And

(3) 전해 산화처리된 합금의 표면을 플라즈마 전해 산화처리(plasma electrolytic oxidation)하는 단계;를 포함한다.(3) plasma electrolytic oxidation of the surface of the electrolytically oxidized alloy.

단계 (1)Step (1)

본 단계는 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금을 전해액에 침지하여 전-양극 산화처리(pre-anodic oxidation)하는 단계이다. 상기 전-양극 산화처리는 알루미늄-실리콘 합금의 표면에 1 ㎛ 미만 두께의 산화 피막을 형성시켜 댕글링 본드(dangling bond)의 형성을 활성화시키는 역할을 한다. This step is a step of pre-anodic oxidation by immersing an aluminum-silicon alloy containing 10% by weight or more of silicon in an electrolytic solution. The pre-anodizing treatment serves to activate the formation of a dangling bond by forming an oxide film having a thickness of less than 1 占 퐉 on the surface of the aluminum-silicon alloy.

상기 알루미늄-실리콘 합금은 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 고실리콘-알루미늄 합금으로, 스크롤 압축기의 주요 소재로 사용되어 냉/공조 시스템의 냉매용 압축기에 적용될 수 있다. 구체적으로, 상기 알루미늄-실리콘 합금은 10 내지 20 중량%, 10 내지 15 중량%, 또는 10 내지 14 중량%의 실리콘을 포함할 수 있다. 또한, 상기 알루미늄-실리콘 합금은 1 내지 5 중량%의 구리, 및 0.1 내지 1 중량%의 마그네슘을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 알루미늄-실리콘 합금은 10 내지 14 중량%의 실리콘, 1 내지 5 중량%의 구리, 및 0.1 내지 1 중량%의 마그네슘을 포함할 수 있다.The aluminum-silicon alloy is a high silicon-aluminum alloy containing at least 10% by weight of silicon and is used as a main material of a scroll compressor, and can be applied to a compressor for a refrigerant in a cooling / air-conditioning system. Specifically, the aluminum-silicon alloy may include 10 to 20 wt%, 10 to 15 wt%, or 10 to 14 wt% of silicon. Also, the aluminum-silicon alloy may include 1 to 5% by weight of copper and 0.1 to 1% by weight of magnesium. More specifically, the aluminum-silicon alloy may include 10 to 14 wt% silicon, 1 to 5 wt% copper, and 0.1 to 1 wt% magnesium.

상기 전해액은 바나듐산 암모늄(ammonium vanadate, NH4VO3), 수산화칼륨(KOH), 인산나트륨(Na6(PO3)6) 및 수산화나트륨(NaOH)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전구체를 포함할 수 있다. 구체적으로, 전해액은 상기 전구체를 0.001 M 내지 0.05 M로 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 전해액은 0.01 M 내지 0.025 M의 바나듐산 암모늄 및 0.002 M 내지 0.02 M의 인산나트륨을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 전해액은 0.012 M 내지 0.020 M의 바나듐산 암모늄 및 0.002 M 내지 0.01 M의 인산나트륨을 포함할 수 있다.The electrolytic solution contains at least one precursor selected from the group consisting of ammonium vanadate (NH 4 VO 3 ), potassium hydroxide (KOH), sodium phosphate (Na 6 (PO 3 ) 6 ) and sodium hydroxide can do. Specifically, the electrolytic solution may contain 0.001 M to 0.05 M of the precursor. More specifically, the electrolyte may comprise 0.01 M to 0.025 M ammonium vanadate and 0.002 M to 0.02 M sodium phosphate. More specifically, the electrolyte may comprise 0.012 M to 0.020 M ammonium vanadate and 0.002 M to 0.01 M sodium phosphate.

상기 단계 (1)에서 인가 전압은 150 내지 250 V일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (1)에서 인가 전압은 150 내지 230 V, 180 내지 250 V, 또는 180 내지 230 V일 수 있다. 또한, 상기 단계 (1)에서 인가 전류는 처리하고자 하는 합금의 크기 및 형상에 따라 조절할 수 있다.The applied voltage may be 150 to 250 V in the step (1). Specifically, in the step (1), the applied voltage may be 150 to 230 V, 180 to 250 V, or 180 to 230 V. In the step (1), the applied current may be controlled according to the size and shape of the alloy to be processed.

상기 단계 (1)에서 처리 시간은 2 내지 10 분일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (1)에서 처리 시간은 3 내지 8 분일 수 있다.In the step (1), the treatment time may be 2 to 10 minutes. Specifically, the processing time in step (1) may be 3 to 8 minutes.

단계 (2)Step (2)

본 단계는 전-양극 산화처리된 합금의 표면을 전해 산화처리(electrolytic oxidation)하는 단계이다. 상기 전해 산화처리는 플라즈마가 발생하지 않는 조건으로 산화를 진행하여 합금의 표면에 약 15 내지 17 ㎛ 두께의 산화 피막을 형성시킨다.This step is an electrolytic oxidation of the surface of the pre-anodized alloy. In the electrolytic oxidation process, oxidation proceeds under the condition that no plasma is generated to form an oxide film having a thickness of about 15 to 17 μm on the surface of the alloy.

상기 단계 (2)에서 인가 전압은 250 내지 350 V일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (2)에서 인가 전압은 250 내지 330 V, 280 내지 350 V, 또는 280 내지 330 V일 수 있다. 또한, 상기 단계 (2)에서 인가 전류는 처리하고자 하는 합금의 크기 및 형상에 따라 조절할 수 있다.In the step (2), the applied voltage may be 250 to 350 V. Specifically, in the step (2), the applied voltage may be 250 to 330 V, 280 to 350 V, or 280 to 330 V. In the step (2), the applied current may be adjusted according to the size and shape of the alloy to be processed.

상기 단계 (2)에서 처리 시간은 13 내지 25 분일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (2)에서 처리 시간은 13 내지 23 분일 수 있다.In the step (2), the treatment time may be 13 to 25 minutes. Specifically, the treatment time in step (2) may be 13 to 23 minutes.

단계 (3)Step (3)

본 단계는 전해 산화처리된 합금의 표면을 플라즈마 전해 산화처리(plasma electrolytic oxidation)하는 단계이다. 상기 플라즈마 전해 산화처리는 350 V 이상의 전압을 인가하여 합금 표면에 플라즈마가 발생하도록 처리하는 것이다.This step is a step of plasma electrolytic oxidation of the surface of the electrolytically oxidized alloy. In the plasma electrolytic oxidation treatment, a voltage of 350 V or more is applied so that plasma is generated on the surface of the alloy.

상기 단계 (3)에서의 인가 전압은 350 내지 500 V일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (3)에서의 인가 전압은 350 내지 480 V, 380 내지 500 V, 380 내지 480 V, 또는 400 내지 480 V일 수 있다. 또한, 상기 단계 (3)에서 인가 전류는 처리하고자 하는 합금의 크기 및 형상에 따라 조절할 수 있다.The applied voltage in the step (3) may be 350 to 500V. Specifically, the applied voltage in the step (3) may be 350 to 480 V, 380 to 500 V, 380 to 480 V, or 400 to 480 V. In the step (3), the applied current may be adjusted according to the size and shape of the alloy to be processed.

상기 단계 (3)에서 처리 시간은 5 내지 15 분일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (3)에서 처리 시간은 7 내지 15 분, 5 내지 13 분, 또는 7 내지 13 분일 수 있다.In the step (3), the treatment time may be 5 to 15 minutes. Specifically, in step (3), the treatment time may be 7 to 15 minutes, 5 to 13 minutes, or 7 to 13 minutes.

상기 단계 (1) 내지 (3)의 총 처리 시간은 20 내지 50 분일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (1) 내지 (3)의 총 처리 시간은 20 내지 40 분, 또는 20 내지 35 분일 수 있다.The total treatment time in the above steps (1) to (3) may be 20 to 50 minutes. Specifically, the total treatment time in steps (1) to (3) may be 20 to 40 minutes, or 20 to 35 minutes.

상기 단계 (1) 내지 (3)을 통해 형성된 피막의 두께는 18 ㎛ 이상일 수 있다. 구체적으로, 상기 단계 (1) 내지 (3)을 통해 형성된 피막의 두께는 18 내지 100 ㎛일 수 있다.The thickness of the coating formed through steps (1) to (3) may be 18 탆 or more. Specifically, the thickness of the coating formed through steps (1) to (3) may be 18 to 100 탆.

상술한 바와 같은 본 발명의 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법은 산화처리 시간이 짧아 생산 효율이 높고, 상대적으로 저렴한 시료를 첨가한 전해액을 사용하여 경제성이 높으며, 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리에 적합하다.The surface treatment method of the aluminum-silicon alloy according to the present invention as described above has high economic efficiency by using an electrolytic solution to which a relatively inexpensive sample is added and a production efficiency is high due to a short oxidation treatment time, and aluminum - Suitable for surface treatment of silicon alloy.

[[ 실시예Example ]]

이하, 하기 실시예에 의하여 본 발명을 좀더 상세하게 설명하고자 한다. 단 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present invention.

실시예Example 1 및 2, 및  1 and 2, and 비교예Comparative Example 1. 실리콘-알루미늄 합금의 표면처리 1. Surface treatment of silicon-aluminum alloy

12 중량%의 실리콘, 3 중량%의 구리, 0.5 중량%의 마그네슘 및 잔량의 알루미늄을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금을 50 mm × 30 mm × 5 mm (가로×세로×두께)로 절단하여 샘플을 제조하였다. 이후 상기 샘플을 음극으로, 티타늄 메쉬를 양극으로 사용하고, 최대 허용 전압은 450 V로 하고, 전압 인가 방식은 정전압(constant voltage)을 사용하였으며, 정류기로는 교류 전원(AC)을 사용하여 상기 샘플을 표면처리하였다. 이때 전해액은 탈이온수에 0.0125 M의 바나듐산 암모늄 및 0.0025 M의 인산나트륨을 용해시켜 사용하였다.A sample was prepared by cutting an aluminum-silicon alloy containing 12% by weight of silicon, 3% by weight of copper, 0.5% by weight of magnesium and the balance aluminum in a size of 50 mm 30 mm 5 mm (width × length × thickness) Respectively. Thereafter, the sample was used as a cathode and the titanium mesh was used as an anode. The maximum allowable voltage was set to 450 V, a constant voltage was used as a voltage applying method, and an alternating current (AC) . The electrolytic solution was prepared by dissolving 0.0125 M ammonium vanadate and 0.0025 M sodium phosphate in deionized water.

구체적으로, 상기 표면처리는 하기 표 1에 기재된 전압 및 전류를 처리 시간 동안 처리하였다. 이후 알루미늄 피막 두께 분석기(제조사: Positector, 모델명: 6000NAS3)을 이용하여 표면처리된 합금의 모재로부터 형성된 산화 피막의 두께를 측정하였다. 그 결과를 표 1에 나타냈다.Specifically, the surface treatment processed the voltage and current described in Table 1 for the treatment time. Then, the thickness of the oxide film formed from the base material of the surface-treated alloy was measured using an aluminum film thickness analyzer (Positector, model name: 6000NAS3). The results are shown in Table 1.

인가 전류 및 전압(처리 시간)Applied current and voltage (processing time) 산화 피막의
평균 두께(㎛)Oxide film
Average thickness (占 퐉) 200 V (시간)200 V (hour) 300 V (시간)300 V (hour) 450 V (시간)450 V (hour) 비교예 1Comparative Example 1 6.8 A (5 분)6.8 A (5 min) 8.0 A (15 분)8.0 A (15 min) -- 16.416.4 실시예 1Example 1 4.2 A (5 분)4.2 A (5 min) 8.0 A (20 분)8.0 A (20 min) 6.8 A (10 분)6.8 A (10 min) 21.321.3 실시예 2Example 2 7 A (5 분)7 A (5 min) 8.0 A (15 분)8.0 A (15 min) 6.7 A (10 분)6.7 A (10 min) 19.319.3

비교예Comparative Example 2 내지 5. 양극 산화방법에 따른 표면처리 2 to 5. Surface treatment according to anodizing method

정류기로는 직류 전원(DC)를 사용하고, 인가 전압 및 처리 시간을 하기 표 2에 기재된 것과 같이 바꾼 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 표면처리를 진행하였다. 이후 표면처리된 합금의 모재로부터 형성된 산화 피막의 두께를 실시예 1과 동일한 방법으로 측정하여 그 결과를 표 2에 나타냈다.Surface treatment was carried out in the same manner as in Example 1, except that a DC power source (DC) was used as the rectifier, the applied voltage and the treatment time were changed as shown in Table 2 below. The thickness of the oxide film formed from the base material of the surface-treated alloy was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

인가 전압Applied voltage 처리 시간Processing time 평균 두께(㎛)Average thickness (占 퐉) 비교예 2Comparative Example 2 40 V40 V 70 분70 minutes 9.19.1 비교예 3Comparative Example 3 40 V40 V 110 분110 minutes 19.119.1 비교예 4Comparative Example 4 40 V40 V 180 분180 minutes 26.526.5 비교예 5Comparative Example 5 40 V40 V 120 분120 minutes 22.722.7

표 1에서 보는 바와 같이, 실시예 1 및 2는 18 ㎛ 이상의 두꺼운 산화 피막을 포함하였다. 한편, 플라즈마 전해 산화처리하지 않은 비교예 1은 16.4 ㎛의 산화 피막을 포함하였다. As shown in Table 1, Examples 1 and 2 contained a thick oxide film of 18 占 퐉 or more. On the other hand, Comparative Example 1, which was not subjected to the plasma electrolytic oxidation treatment, included an oxide film of 16.4 占 퐉.

표 2에서 보는 바와 같이, 양극 산화방법을 이용할 경우, 18 ㎛ 이상의 두꺼운 산화 피막을 형성하기 위해서는 100 분 이상의 긴 처리 시간이 필요했다.As shown in Table 2, in the case of using the anodic oxidation method, a long processing time of more than 100 minutes was required to form a thick oxide film of 18 탆 or more.

Claims (9)

(1) 10 중량% 이상의 실리콘을 포함하는 알루미늄-실리콘 합금을 전해액에 침지하고 150 내지 230 V의 전압을 인가하여 전-양극 산화처리(pre-anodic oxidation)하는 단계;
(2) 250 내지 350 V의 전압을 인가하여 전-양극 산화처리된 합금의 표면을 전해 산화처리(electrolytic oxidation)하는 단계; 및
(3) 380 내지 500 V의 전압을 인가하여 전해 산화처리된 합금의 표면을 플라즈마 전해 산화처리(plasma electrolytic oxidation)하는 단계;를 포함하고,
상기 단계 (1) 내지 (3)이 동일한 전해액 내에서 수행되는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
(1) a step of pre-anodic oxidation by immersing an aluminum-silicon alloy containing 10% by weight or more of silicon in an electrolytic solution and applying a voltage of 150 to 230 V;
(2) electrolytic oxidation of the surface of the pre-anodized alloy by applying a voltage of 250 to 350 V; And
(3) plasma electrolytic oxidation of the surface of the electrolytically oxidized alloy by applying a voltage of 380 to 500 V,
Wherein the steps (1) to (3) are carried out in the same electrolytic solution.
제1항에 있어서,
상기 전해액이 바나듐산 암모늄(ammonium vanadate, NH4VO3), 수산화칼륨(KOH), 인산나트륨(Na6(PO3)6) 및 수산화나트륨(NaOH)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 전구체를 포함하는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
The electrolytic solution contains at least one precursor selected from the group consisting of ammonium vanadate (NH 4 VO 3 ), potassium hydroxide (KOH), sodium phosphate (Na 6 (PO 3 ) 6 ) and sodium hydroxide Of the surface of the aluminum-silicon alloy.
제2항에 있어서,
상기 전해액이 상기 전구체를 0.001 M 내지 0.05 M로 포함하는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
3. The method of claim 2,
Wherein the electrolyte contains 0.001 M to 0.05 M of the precursor.
제3항에 있어서,
상기 전해액이 0.01 M 내지 0.025 M의 바나듐산 암모늄 및 0.002 M 내지 0.02 M의 인산나트륨을 포함하는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method of claim 3,
Wherein the electrolyte comprises 0.01 to 0.025 M ammonium vanadium and 0.002 M to 0.02 M sodium phosphate.
제1항에 있어서,
상기 알루미늄-실리콘 합금이 10 내지 14 중량%의 실리콘, 1 내지 5 중량%의 구리, 및 0.1 내지 1 중량%의 마그네슘을 포함하는, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the aluminum-silicon alloy comprises 10 to 14 wt% silicon, 1 to 5 wt% copper, and 0.1 to 1 wt% magnesium.
제1항에 있어서,
상기 단계 (1)에서 처리 시간이 2 내지 10 분인, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the treatment time in step (1) is 2 to 10 minutes.
제1항에 있어서,
상기 단계 (2)에서 처리 시간이 13 내지 25 분인, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the treatment time in the step (2) is 13 to 25 minutes.
제1항에 있어서,
상기 단계 (3)에서의 처리 시간이 5 내지 15 분인, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the treatment time in the step (3) is 5 to 15 minutes.
제1항에 있어서,
상기 단계 (1) 내지 (3)의 총 처리 시간이 20 내지 50 분이고,
상기 단계 (1) 내지 (3)을 통해 형성된 피막의 두께가 18 ㎛ 이상인, 알루미늄-실리콘 합금의 표면처리방법.
The method according to claim 1,
Wherein the total treatment time in the steps (1) to (3) is 20 to 50 minutes,
Wherein the thickness of the coating formed through the steps (1) to (3) is 18 占 퐉 or more.
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