KR101878196B1 - Flat panel display device and manufacturing method the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있도록 평판 표시장치 및 그의 제조 방법에 관한 것으로, 평판 표시 장치는 서로 대향되도록 합착된 하부 기판과 상부 기판; 및 상기 상부 기판의 외부면에 형성된 정전기 방지층을 포함하며, 상기 정전기 방지층은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 투명한 물질로 형성된 것을 특징으로 한다. 이에 따라, 본 발명은 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지하며, 터치 감도를 향상시킬 수 있다.The present invention relates to a flat panel display device and a method of manufacturing the same, which can prevent an image quality failure due to static electricity and a process failure. The flat panel display device includes a lower substrate and an upper substrate bonded together to face each other; And an antistatic layer formed on an outer surface of the upper substrate, wherein the antistatic layer is formed of a transparent material having a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Accordingly, the present invention can prevent the image quality and the process failure due to static electricity by blocking the static electricity flowing from the outside, and improve the touch sensitivity.

Description

평판 표시 장치 및 그의 제조 방법{FLAT PANEL DISPLAY DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THE SAME}Technical Field [0001] The present invention relates to a flat panel display device,

본 발명은 평판 표시장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로, 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있도록 평판 표시장치 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat panel display device, and more particularly, to a flat panel display device and a method of manufacturing the same, so as to prevent an image quality failure and a process failure due to static electricity.

최근, 이동통신 단말기, 노트북 컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 평판 표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판 표시장치로는 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display Device), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel), 전계 방출 표시 장치(Field Emission Display Device), 발광 다이오드 표시 장치(Light Emitting Diode Display Device) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 장점에서 액정 표시 장치가 각광을 받고 있다.2. Description of the Related Art As various portable electronic devices such as a mobile communication terminal and a notebook computer have been developed in recent years, a demand for a flat panel display device that can be applied thereto is increasing. As such a flat panel display device, a liquid crystal display device, a plasma display panel (PDP), a field emission display device, a light emitting diode display device However, liquid crystal display devices are attracting attention due to advantages such as mass production technology, ease of driving means, and realization of high image quality.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic view for explaining a general liquid crystal display device.

도 1을 참조하면, 일반적인 액정 표시 장치는 액정층(미도시)을 사이에 두고 합착된 하부 기판(10) 및 상부 기판(20)을 구비한다.Referring to FIG. 1, a typical liquid crystal display device includes a lower substrate 10 and an upper substrate 20 bonded together with a liquid crystal layer (not shown) therebetween.

하부 기판(10)은 액정층을 구동하기 위한 복수의 화소를 가지는 화소 어레이(12)를 포함하여 구성된다. 각 화소는 게이트 라인에 인가되는 게이트 신호에 따라 박막 트랜지스터를 스위칭시켜 데이터 라인에 인가되는 데이터 전압에 따라 전계를 형성하여 액정층을 구동한다.The lower substrate 10 includes a pixel array 12 having a plurality of pixels for driving the liquid crystal layer. Each pixel switches a thin film transistor according to a gate signal applied to a gate line to form an electric field in accordance with a data voltage applied to the data line to drive the liquid crystal layer.

상부 기판(20)은 복수의 화소 각각에 대응되도록 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스(22); 블랙 매트릭스(22)에 의해 정의된 각 화소 영역에 형성된 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(24R, 24G, 24B) 및 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(24R, 24G, 24B)와 블랙 매트릭스(22)를 덮도록 형성된 오버코트층(26)을 구비한다.The upper substrate 20 includes a black matrix 22 defining a pixel region to correspond to each of a plurality of pixels; Green and blue color filters 24R, 24G and 24B and black matrices 22R, 24G and 24B formed in the respective pixel regions defined by the black matrix 22 and the red, green and blue color filters 24R, And an overcoat layer 26 formed to cover the overcoat layer 26.

이와 같은, 일반적인 액정 표시 장치는 액정층을 사이에 두고 대향되도록 합착된 하부 기판(10)과 상부 기판(20)을 포함하여 구성되며, 데이터 전압에 따라 각 화소의 액정층을 투과하는 광 투과율을 조절하여 원하는 화상을 표시하게 된다.A typical liquid crystal display device includes a lower substrate 10 and an upper substrate 20 bonded together to face each other with a liquid crystal layer sandwiched therebetween, and has a light transmittance that is transmitted through the liquid crystal layer of each pixel according to a data voltage So that the desired image is displayed.

한편, 평판 표시장치의 입력장치로서, 마우스나 키보드 등의 입력 장치 대신에, 사용자가 손가락이나 펜을 이용하여 스크린에 직접 정보를 입력할 수 있고 누구나 쉽게 조작할 수 있는 터치 스크린이 널리 사용되고 있다. 여기서, 터치 스크린은 내비게이션, 산업용 단말기, 노트북 컴퓨터, 금융 자동화기기, 게임기 등과 같은 모니터; 휴대전화기, MP3, PDA, PMP, PSP, 휴대용 게임기, DMB 수신기 등과 같은 휴대용 단말기; 및 냉장고, 전자 레인지, 세탁기 등과 같은 가전제품 등에서도 널리 사용되고 있다.On the other hand, as an input device of a flat panel display device, a touch screen which can input information directly to a screen by a user using a finger or a pen and which can be easily operated by anyone is widely used instead of an input device such as a mouse or a keyboard. Here, the touch screen may include a monitor such as a navigation device, an industrial terminal, a notebook computer, a financial automation device, a game machine, or the like; A portable terminal such as a mobile phone, MP3, PDA, PMP, PSP, portable game machine, DMB receiver and the like; And household appliances such as refrigerators, microwave ovens, and washing machines.

최근에는 액정 표시 장치의 슬림(Slim)화를 위해 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치가 개발되고 있다.In recent years, a liquid crystal display device in which a touch screen is incorporated is being developed to make a liquid crystal display slim.

도 2는 일반적인 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.2 is a schematic view for explaining a liquid crystal display device having a general touch screen.

도 2를 참조하면, 일반적인 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치는 액정층(미도시)을 사이에 두고 합착된 하부 기판(50) 및 상부 기판(60)을 구비한다.Referring to FIG. 2, a liquid crystal display device having a general touch screen includes a lower substrate 50 and an upper substrate 60 which are bonded together with a liquid crystal layer (not shown) therebetween.

하부 기판(50)은 액정층을 구동함과 아울러 사용자의 손가락 터치 또는 펜 터치를 검출하기 위한 복수의 화소를 가지는 화소 어레이(52)를 포함하여 구성된다. 각 화소는 게이트 라인에 인가되는 게이트 신호에 따라 박막 트랜지스터를 스위칭시켜 데이터 라인에 인가되는 데이터 전압에 따라 전계를 형성하여 액정층을 구동한다. 또한, 각 화소는 사용자의 손가락 터치 또는 펜 터치를 검출한다. 이때, 각 화소는 손가락 터치 또는 펜 터치에 따른 터치 정전용량(Ctc)과 기준 정전용량을 비교하여 터치 위치(TS)를 검출하여 외부로 출력한다.The lower substrate 50 includes a pixel array 52 having a plurality of pixels for driving a liquid crystal layer and detecting finger touch or pen touch of the user. Each pixel switches a thin film transistor according to a gate signal applied to a gate line to form an electric field in accordance with a data voltage applied to the data line to drive the liquid crystal layer. Further, each pixel detects a finger touch or pen touch of the user. At this time, each pixel detects the touch position TS by comparing the touch capacitance Ctc according to the finger touch or the pen touch with the reference capacitance, and outputs it to the outside.

상부 기판(60)은 복수의 화소 각각에 대응되도록 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스(62); 블랙 매트릭스(62)에 의해 정의된 각 화소 영역에 형성된 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(64R, 64G, 64B) 및 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(64R, 64G, 64B)와 블랙 매트릭스(62)를 덮도록 형성된 오버코트층(66)을 구비한다.The upper substrate 60 includes a black matrix 62 defining a pixel region to correspond to each of a plurality of pixels; Green and blue color filters 64R, 64G and 64B and black matrices 62R, 64G and 64B formed in the respective pixel regions defined by the black matrix 62 and the red, green and blue color filters 64R, And an overcoat layer 66 formed to cover the overcoat layer 66.

이와 같은, 일반적인 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치는 액정층을 사이에 두고 대향되도록 합착된 하부 기판(50)과 상부 기판(60)을 포함하여 구성되며, 데이터 전압에 따라 각 화소의 액정층을 투과하는 광 투과율을 조절하여 원하는 화상을 표시함과 아울러, 사용자의 터치에 따른 정전용량(Ctc)의 변화에 따라 터치 위치(TS)를 검출하여 출력한다.The liquid crystal display device having a general touch screen includes a lower substrate 50 and an upper substrate 60 which are bonded together to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A desired image is displayed by controlling the transmitted light transmittance, and a touch position (TS) is detected and output in accordance with a change in the capacitance Ctc according to a user's touch.

상술한 일반적인 액정 표시 장치 및 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치에서는 제조 공정시 발생되는 정전기로 인하여 공정 불량이 발생된다는 문제점이 있다. 특히, 일반적인 액정 표시 장치에서는 외부에서 발생되는 정전기로 인하여 정전기성 화질 불량이 발생된다는 문제점이 있다.In the conventional liquid crystal display device and the liquid crystal display device incorporating the touch screen, there is a problem that a process failure occurs due to the static electricity generated in the manufacturing process. Particularly, in a general liquid crystal display device, there is a problem that an electrostatic image quality defect occurs due to an external static electricity.

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있도록 평판 표시장치 및 그의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a flat panel display device and a method of manufacturing the same that can prevent image quality and process defects due to static electricity.

또한, 본 발명은 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지함과 아울러 사용자의 터치에 따른 터치 위치를 검출하는 터치 감도를 향상시킬 수 있도록 평판 표시장치 및 그의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide a flat panel display device and a method of manufacturing the same that can prevent bad image quality and process failure due to static electricity and improve touch sensitivity for detecting a touch position according to a user's touch .

또한, 본 발명은 슬림화할 수 있도록 한 평판 표시 장치 및 그의 제조 방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.It is another object of the present invention to provide a flat panel display device capable of being slimmed and a method of manufacturing the same.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판 표시 장치는 서로 대향되도록 합착된 하부 기판과 상부 기판; 및 상기 상부 기판의 외부면에 형성된 정전기 방지층을 포함하며, 상기 정전기 방지층은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 투명한 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flat panel display comprising: a lower substrate and an upper substrate bonded together to face each other; And an antistatic layer formed on an outer surface of the upper substrate, wherein the antistatic layer is formed of a transparent material having a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?.

상기 정전기 방지층은 ATO(Antimony Tin Oxide) 물질, 폴리머(Polymer) 성분이 첨가된 ITO(Indium Tin Oxide) 물질, 및 상기 폴리머 성분이 첨가된 ZnO(Zinc Oxide) 물질 중 어느 하나의 물질로 형성된 것을 특징으로 한다.The antistatic layer is formed of any one of an ATO (Antimony Tin Oxide) material, an ITO (Indium Tin Oxide) material to which a polymer component is added, and a ZnO (Zinc Oxide) .

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법은 하부 기판의 일측면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 물질로 이루어진 정전기 방지층을 형성하는 단계; 상부 기판의 일측면에 복수의 화소를 포함하는 화소 어레이를 형성하는 단계; 및 상기 상부 기판의 일측면과 상기 하부 기판의 타측면이 서로 대향되도록 합착하는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of fabricating a flat panel display, comprising: forming an antistatic layer made of a transparent material so as to have a resistance of several tens of MΩ / □ to several GΩ / ; Forming a pixel array including a plurality of pixels on one side of the upper substrate; And attaching the one side of the upper substrate and the other side of the lower substrate so as to face each other.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 평판 표시 장치의 제조 방법은 하부 기판과 상부 기판을 서로 대향되도록 합착하는 단계; 상기 하부 기판과 상부 기판 각각의 외부면을 소정 두께로 식각하는 단계; 및 상기 상부 기판의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 물질로 이루어진 정전기 방지층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a flat panel display, including: bonding a lower substrate and an upper substrate to face each other; Etching the outer surface of each of the lower substrate and the upper substrate to a predetermined thickness; And forming an antistatic layer made of a transparent material on the outer surface of the upper substrate so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □.

상기의 평판 표시 장치의 제조 방법은 사용자의 터치에 따른 터치 위치를 검출하기 위한 터치 검출 라인을 상기 하부 기판 또는 상기 상부 기판에 형성하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.The manufacturing method of the flat panel display device may further include forming a touch detection line on the lower substrate or the upper substrate to detect a touch position according to a user's touch.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 평판 표시 장치 및 이의 제조 방법은 다음과 같은 효과가 있다.As described above, the flat panel display device and the method of manufacturing the same according to the present invention have the following effects.

첫째, 상부 기판의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층을 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있다.First, by forming an antistatic layer having a resistance value of several tens of M? /? To several G? /? On the outer surface of the upper substrate, it is possible to prevent the static electricity from flowing from the outside, thereby preventing image quality and process defects due to static electricity.

둘째, 상부 기판의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층을 형성함과 아울러 하부 기판에 사용자의 터치 위치를 검출할 수 있는 화소 어레이를 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지하며, 터치 감도를 향상시킬 수 있다.Secondly, an antistatic layer having a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □ is formed on the outer surface of the upper substrate, and a pixel array capable of detecting the touch position of the user is formed on the lower substrate, It is possible to prevent the deterioration of image quality and process due to the static electricity by blocking the static electricity, and to improve the touch sensitivity.

셋째, 식각 공정을 통해 하부 기판과 상부 기판의 두께를 감소시킴으로써 슬림화를 달성할 수 있다.Third, slimming can be achieved by reducing the thickness of the lower substrate and the upper substrate through the etching process.

도 1은 일반적인 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 일반적인 터치 스크린이 내장된 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다.
도 8은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다.1 is a schematic view for explaining a general liquid crystal display device.
2 is a schematic view for explaining a liquid crystal display device having a general touch screen.
3 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.
4 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.
5 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.
6 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.
7 is a view for explaining the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention step by step.
8 is a view for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention step by step.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 3은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.3 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a first embodiment of the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(110), 상부 기판(120), 및 정전기 방지층(130)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 3, the liquid crystal display according to the first embodiment of the present invention includes a lower substrate 110, an upper substrate 120, and an anti-static layer 130.

하부 기판(110)은 액정층(미도시)을 구동하기 위한 복수의 화소를 가지는 화소 어레이(112)를 포함하여 구성된다. 각 화소는 게이트 라인에 인가되는 게이트 신호에 따라 박막 트랜지스터(미도시)를 스위칭시켜 데이터 라인에 인가되는 데이터 전압에 따라 전계를 형성하여 액정층을 구동한다. 이를 위해, 각 화소는 상기의 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터에 접속된 화소 전극(미도시), 및 공통전압이 공급되는 공통전극(미도시)을 포함하여 구성된다. 이때, 공통전극은 화소 전극의 사이마다 형성되는 것으로, 화소 전극과 동일 층에 형성되거나 다른 층에 형성될 수 있다.The lower substrate 110 includes a pixel array 112 having a plurality of pixels for driving a liquid crystal layer (not shown). Each pixel switches a thin film transistor (not shown) according to a gate signal applied to a gate line to form an electric field according to a data voltage applied to the data line to drive the liquid crystal layer. To this end, each pixel includes a thin film transistor, a pixel electrode (not shown) connected to the thin film transistor, and a common electrode (not shown) to which a common voltage is supplied. At this time, the common electrode is formed between the pixel electrodes, and may be formed on the same layer as the pixel electrode or on another layer.

상부 기판(120)은 복수의 화소 각각에 대응되도록 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스(122); 블랙 매트릭스(122)에 의해 정의된 각 화소 영역에 형성된 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(124R, 124G, 124B) 및 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(124R, 124G, 124B)와 블랙 매트릭스(122)를 덮도록 형성된 오버코트층(126)을 포함하는 컬러필터 어레이를 포함하여 구성된다.The upper substrate 120 includes a black matrix 122 defining a pixel region corresponding to each of the plurality of pixels; Green and blue color filters 124R, 124G and 124B and black matrices 122R, 124G and 124B formed in the respective pixel regions defined by the black matrix 122 and the red, green and blue color filters 124R, And an overcoat layer 126 formed to cover the overcoat layer 126.

이러한, 하부 기판(110)과 상부 기판(120)은 액정층을 사이에 두고 대향되도록 합착된다.The lower substrate 110 and the upper substrate 120 are bonded together such that they face each other with the liquid crystal layer interposed therebetween.

정전기 방지층(130)은 상부 기판(120)의 외부면, 즉 하부 기판(110)의 대향되지 않는 반대면에 형성되어 외부로부터 유입되는 정전기가 내부로 침투하는 것을 방지한다. 이때, 정전기 방지층(130)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 형성된다. 여기서, 정전기 방지층(130)은 상부 기판(120)의 외부면 전체에 소정의 두께로 형성되거나, 소정 형태(예를 들어, 메쉬(Mesh)) 형태의 패턴으로 형성될 수 있다.The antistatic layer 130 is formed on the outer surface of the upper substrate 120, that is, the opposite surface of the lower substrate 110 so as to prevent the static electricity introduced from the outside from penetrating the inside. At this time, the antistatic layer 130 is formed of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Here, the antistatic layer 130 may have a predetermined thickness over the entire outer surface of the upper substrate 120, or may be formed in a pattern of a predetermined shape (e.g., a mesh).

일 예에 따른 정전기 방지층(130)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 100Å 내지 20000Å 범위의 두께로 형성된 ATO(Antimony Tin Oxide) 물질로 이루어질 수 있다. 이때, ATO 물질은 프린팅(Printing) 방법, 스프레이 코팅(Spray Coating) 방법, 스핀 코팅(Spin Coating) 방법, 졸-겔(Sol-Gel) 방법, 졸-겔 스핀 코팅 방법, 또는 딥 코팅(Dip Coating) 방법에 의해 형성될 수 있다.The antistatic layer 130 according to an exemplary embodiment may be formed of an ATO (Antimony Tin Oxide) material having a thickness ranging from 100 A to 20000 ANGSTROM so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □. At this time, the ATO material may be applied by a printing method, a spray coating method, a spin coating method, a sol-gel method, a sol-gel spin coating method, or a dip coating ) Method.

한편, ATO 물질로 이루어진 정전기 방지층(130)은 두께 및 공정 온도에 따라 저항 값이 달라지게 되는데, 본 발명자는 많은 실험을 통하여, 상부 기판(120) 상에 ATO 물질을 100Å 내지 20000Å 범위의 두께로 코팅한 후, 500℃ 이하의 온도로 ATO 물질을 경화(Curing)시킬 경우, 정전기 방지층(130)이 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 것을 확인할 수 있었다.Meanwhile, the inventors of the present invention have found that the ATO material can be deposited on the upper substrate 120 in a thickness range of 100 to 20000 angstroms by the thickness of the antistatic layer 130 made of the ATO material and the process temperature. It was confirmed that when the ATO material was cured at a temperature of 500 ° C or lower after the coating, the antistatic layer 130 had a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □.

이에 따라, 일 예에 따른 정전기 방지층(130)은 상부 기판(120)의 외부면에 100Å 내지 20000Å 범위의 두께를 가지도록 ATO 물질로 형성되어 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가짐으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단한다.Accordingly, the antistatic layer 130 according to an exemplary embodiment of the present invention is formed of an ATO material having a thickness in the range of 100 ANGSTROM to 20000 ANGSTROM on the outer surface of the upper substrate 120, and has a resistance value of several tens of? Thereby blocking static electricity from the outside.

다른 예에 따른 정전기 방지층(130)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 폴리머(Polymer) 성분이 첨가된 ITO(Indium Tin Oxide) 물질로 형성된다. 여기서, 폴리머 성분은 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate) 또는 폴리비닐 알코올(Polyvinyl alcohol) 등이 될 수 있다. 이때, 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질은 프린팅 방법, 스프레이 코팅 방법, 스핀 코팅 방법, 졸-겔 방법, 졸-겔 스핀 코팅 방법, 또는 딥 코팅 방법에 의해 형성될 수 있다.The antistatic layer 130 according to another example is formed of an ITO (Indium Tin Oxide) material to which a polymer component is added so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □. Here, the polymer component may be polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, or the like. At this time, the ITO material to which the polymer component is added may be formed by a printing method, a spray coating method, a spin coating method, a sol-gel method, a sol-gel spin coating method, or a dip coating method.

한편, 본 발명자는, 많은 실험을 통하여, ITO 물질에 폴리머 성분을 첨가할 경우 ITO 물질이 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 것을 확인할 수 있게 되었다. 이에 따라, 본 발명자는 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질을 형성하고, 상부 기판(120)의 외부면에 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질을 형성한 후, 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질을 경화시킬 경우 정전기 방지층(130)이 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, the inventor of the present invention has been able to confirm that when a polymer component is added to an ITO material, the ITO material has a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Accordingly, the present inventors have found that when an ITO material to which a polymer component is added is formed and an ITO material to which a polymer component is added is formed on the outer surface of the upper substrate 120, It can be confirmed that the barrier layer 130 has a resistance value of several tens of M [Omega] / square to several G [Omega] / square.

이에 따라, 다른 예에 따른 정전기 방지층(130)은 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질로 이루어지도록 상부 기판(120)의 외부면에 형성되어 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가짐으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단한다.Accordingly, the antistatic layer 130 according to another example is formed on the outer surface of the upper substrate 120 so as to be made of an ITO material to which a polymer component is added and has a resistance value of several tens of M? /? To several G? /? Thereby blocking the static electricity.

또 다른 예에 따른 정전기 방지층(130)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 폴리머 성분이 첨가된 ZnO(Zinc Oxide) 물질로 형성된다. 여기서, 폴리머 성분은 폴리메틸 메타크릴레이트 또는 폴리비닐 알코올 등이 될 수 있다. 이때, 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질은 프린팅 방법, 스프레이 코팅 방법, 스핀 코팅 방법, 졸-겔 방법, 졸-겔 스핀 코팅 방법, 또는 딥 코팅 방법에 의해 형성될 수 있다.The antistatic layer 130 according to another example is formed of a ZnO (Zinc Oxide) material to which a polymer component is added so as to have a resistance value of several tens of M [Omega] / square to several G? / Square. Here, the polymer component may be polymethyl methacrylate, polyvinyl alcohol, or the like. At this time, the ZnO material to which the polymer component is added may be formed by a printing method, a spray coating method, a spin coating method, a sol-gel method, a sol-gel spin coating method, or a dip coating method.

한편, 본 발명자는, 많은 실험을 통하여, ZnO 물질에 폴리머 성분을 첨가할 경우 ZnO 물질이 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 것을 확인할 수 있게 되었다. 이에 따라, 본 발명자는 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질을 형성하고, 상부 기판(120)의 외부면에 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질을 형성한 후, 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질을 경화시킬 경우 정전기 방지층(130)이 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 것을 확인할 수 있었다.On the other hand, the present inventors have found through many experiments that when a polymer component is added to a ZnO material, the ZnO material has a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Accordingly, the present inventors have found that when a ZnO material to which a polymer component is added is formed and a ZnO material to which a polymer component is added is formed on the outer surface of the upper substrate 120, It can be confirmed that the barrier layer 130 has a resistance value of several tens of M [Omega] / square to several G [Omega] / square.

이에 따라, 또 다른 예에 따른 정전기 방지층(130)은 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질로 이루어지도록 상부 기판(120)의 외부면에 형성되어 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가짐으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단한다.Accordingly, the antistatic layer 130 according to another embodiment is formed on the outer surface of the upper substrate 120 to have a resistance value of several tens of M? /? To several G? /? It cuts out the static electricity that flows from the outside.

이와 같은, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 상부 기판(120)의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층(130)을 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있다.In the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, the antistatic layer 130 having a resistance of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □ is formed on the outer surface of the upper substrate 120, It is possible to prevent image quality defects and process defects due to static electricity.

도 4는 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.4 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a second embodiment of the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(210), 상부 기판(220), 및 정전기 방지층(230)을 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 4, the liquid crystal display according to the second embodiment of the present invention includes a lower substrate 210, an upper substrate 220, and an antistatic layer 230.

하부 기판(210)은 액정층(미도시)을 구동하기 위한 복수의 화소를 가지는 화소 어레이(112)를 포함하여 구성된다. 각 화소는 게이트 라인에 인가되는 게이트 신호에 따라 박막 트랜지스터를 스위칭시켜 데이터 라인에 인가되는 데이터 전압에 따라 전계를 형성하여 액정층을 구동한다. 이를 위해, 각 화소는 상기의 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터에 접속된 화소 전극(미도시), 및 공통전압이 공급되는 공통전극(미도시)을 포함하여 구성된다. 이때, 공통전극은 화소 전극의 사이마다 형성되는 것으로, 화소 전극과 동일 층에 형성되거나 다른 층에 형성될 수 있다.The lower substrate 210 includes a pixel array 112 having a plurality of pixels for driving a liquid crystal layer (not shown). Each pixel switches a thin film transistor according to a gate signal applied to a gate line to form an electric field in accordance with a data voltage applied to the data line to drive the liquid crystal layer. To this end, each pixel includes a thin film transistor, a pixel electrode (not shown) connected to the thin film transistor, and a common electrode (not shown) to which a common voltage is supplied. At this time, the common electrode is formed between the pixel electrodes, and may be formed on the same layer as the pixel electrode or on another layer.

상부 기판(220)은 복수의 화소 각각에 대응되도록 화소 영역을 정의하는 블랙 매트릭스(122); 블랙 매트릭스(122)에 의해 정의된 각 화소 영역에 형성된 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(124R, 124G, 124B) 및 적색, 녹색, 및 청색 컬러필터(124R, 124G, 124B)와 블랙 매트릭스(122)를 덮도록 형성된 오버코트층(126)을 포함하여 구성된다.The upper substrate 220 includes a black matrix 122 defining a pixel region to correspond to each of the plurality of pixels; Green and blue color filters 124R, 124G and 124B and black matrices 122R, 124G and 124B formed in the respective pixel regions defined by the black matrix 122 and the red, green and blue color filters 124R, And an overcoat layer 126 formed to cover the overcoat layer 126.

이러한, 하부 기판(210)과 상부 기판(220)은 합착 공정을 통해 액정층을 사이에 두고 대향되도록 합착된다.The lower substrate 210 and the upper substrate 220 are adhered to each other with the liquid crystal layer therebetween through a laminating process.

한편, 하부 기판(210)과 상부 기판(220)은 합착 공정 이후에 수행되는 식각 공정을 통해 두께(t1, t2)가 감소되어 슬림화된다.Meanwhile, the thicknesses t1 and t2 of the lower substrate 210 and the upper substrate 220 are reduced through the etching process performed after the adhesion process, and thus the thicknesses are reduced.

구체적으로, 합착된 하부 기판(210)은 식각 공정을 통해 원래의 두께(t0)에서 제 1 두께(t1)로 식각된다.Specifically, the bonded lower substrate 210 is etched from the original thickness t0 to the first thickness t1 through the etching process.

그리고, 합착된 상부 기판(220)은 식각 공정을 통해 원래의 두께(t0)에서 제 2 두께(t2)로 식각된다. 여기서, 제 2 두께(t2)는 제 1 두께(t1)와 같거나 제 1 두께(t1)보다 얇을 수 있으며, 제 2 두께(t2)가 제 1 두께(t1)보다 얇을 경우 제 2 두께(t2)는 제 1 두께(t1)의 절반 이하인 것이 바람직하다. 이때, 슬림화를 위해 하부 기판(210) 및 상부 기판(220)의 두께(t1, t2)를 동일하게 식각할 경우, 하부 기판(210)의 강도가 약해지기 때문에 합착 공정 이후의 제조 공정에서 하부 기판(210)이 파손되는 문제점이 발생할 수 있다. 이에 따라, 본 발명은 상부 기판(220)의 두께(t0)를 하부 기판(210)의 제 1 두께(t1) 대비 절반 이하인 제 2 두께(t2)로 식각하여 원하는 슬림화를 달성함과 동시에 하부 기판(210)의 두께(t1)를 상부 기판(220) 대비 상대적으로 두껍게 함으로써 하부 기판(210)의 강도를 보강하여 합착 공정 이후의 제조 공정에서 발생되는 하부 기판(210)의 파손을 방지할 수 있다.Then, the joined upper substrate 220 is etched from the original thickness t0 to the second thickness t2 through the etching process. The second thickness t2 may be equal to or less than the first thickness t1 and may be less than the second thickness t2 when the second thickness t2 is less than the first thickness t1. Is preferably equal to or less than half of the first thickness t1. At this time, if the thicknesses t1 and t2 of the lower substrate 210 and the upper substrate 220 are made the same, the strength of the lower substrate 210 is weakened. Therefore, There is a possibility that the first electrode 210 may be damaged. Accordingly, the present invention achieves a desired slimming by etching the thickness t0 of the upper substrate 220 to a second thickness t2 which is less than half of the first thickness t1 of the lower substrate 210, The thickness t1 of the lower substrate 210 is relatively thicker than that of the upper substrate 220 to reinforce the strength of the lower substrate 210 to prevent breakage of the lower substrate 210 occurring in the manufacturing process after the laminating process .

정전기 방지층(230)은 기판 식각 공정에 의해 제 2 두께(t2)로 식각된 상부 기판(220)의 외부면, 즉 하부 기판(210)의 대향되지 않는 반대면에 형성되어 외부로부터 유입되는 정전기가 내부로 침투하는 것을 방지한다. 이때, 정전기 방지층(230)은 상부 기판(220)의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 형성된다. 여기서, 정전기 방지층(230)은 상술한 본 발명의 제 1 내지 제 3 정전기 방지층(130) 중 어느 하나의 정전기 방지층(130)과 동일한 물질로 이루어지므로, 이에 대한 상세한 설명은 상술한 설명으로 대신하기로 한다.The antistatic layer 230 is formed on the outer surface of the upper substrate 220 etched with the second thickness t2 by the substrate etching process, that is, on the opposite surface of the lower substrate 210, To prevent penetration into the inside. At this time, the antistatic layer 230 is formed of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □ on the outer surface of the upper substrate 220. Here, since the antistatic layer 230 is made of the same material as the antistatic layer 130 of any one of the first through third antistatic layers 130 of the present invention, .

이와 같은, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 상부 기판(220)의 외부면, 즉 하부 기판(210)의 대향되지 않는 반대면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층(230)을 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있다.The liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention has a resistance value of several tens of M OMEGA / square to several GΩ / square on the outer surface of the upper substrate 220, that is, the opposite surface of the lower substrate 210, It is possible to prevent an image quality failure due to static electricity and a process failure by blocking the static electricity introduced from the outside.

또한, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(210)과 상부 기판(220)의 합착 공정 이후에 수행되는 식각 공정을 통해 하부 기판(210) 및 상부 기판(220)의 두께(t1, t2)를 감소시킴으로써 슬림화될 수 있다.The liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention may further include a lower substrate 210 and a lower substrate 220 through an etching process performed after the lower substrate 210 and the upper substrate 220 are bonded together, (t1, t2).

한편, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치에서는 식각 공정을 통해 하부 기판(210) 및 상부 기판(220)의 두께(t1, t2)를 감소시키는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 제 1 두께(t1)를 가지는 하부 기판(210) 상에 화소 어레이(112)를 형성함과 아울러 제 2 두께(t2)를 가지는 상부 기판(220) 상에 컬러필터 어레이를 형성함으로써 상술한 식각 공정을 생략할 수 있다.The thickness t1 and t2 of the lower substrate 210 and the upper substrate 220 are reduced through the etching process in the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention. The above-described etching process is performed by forming the color filter array on the upper substrate 220 having the pixel array 112 on the lower substrate 210 having the first thickness t1 and the second thickness t2 Can be omitted.

도 5는 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.5 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a third embodiment of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(110), 상부 기판(120), 및 정전기 방지층(130)을 포함하여 구성된다. 이러한 구성을 가지는 액정 표시 장치는 사용자의 터치를 검출하기 위한 터치 검출 라인(미도시)을 포함하는 것을 제외하고는 상술한 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치와 동일한 구성을 가지기 때문에 동일한 구성에 대한 설명은 상술한 설명으로 대신하기로 하고, 동일한 도면 부호를 부여하기로 한다.Referring to FIG. 5, the liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention includes a lower substrate 110, an upper substrate 120, and an anti-static layer 130. The liquid crystal display device having such a configuration has the same configuration as that of the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention except that it includes a touch detection line (not shown) for detecting a user's touch, The description of the configuration will be given instead of the above description, and the same reference numerals will be given.

하부 기판(110)은 액정층을 구동함과 아울러 사용자의 손가락 터치 또는 펜 터치를 검출하기 위한 복수의 화소를 가지는 화소 어레이(512)를 포함하여 구성된다.The lower substrate 110 includes a pixel array 512 having a plurality of pixels for driving a liquid crystal layer and detecting finger touch or pen touch of the user.

각 화소는 게이트 라인에 인가되는 게이트 신호에 따라 박막 트랜지스터를 스위칭시켜 데이터 라인에 인가되는 데이터 전압에 따라 전계를 형성하여 액정층을 구동한다. 이를 위해, 각 화소는 상기의 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터에 접속된 화소 전극(미도시), 및 공통전압이 공급되는 공통전극(미도시)을 포함하여 구성된다. 이때, 공통전극은 화소 전극의 사이마다 형성되는 것으로, 화소 전극과 동일 층에 형성되거나 다른 층에 형성될 수 있다.Each pixel switches a thin film transistor according to a gate signal applied to a gate line to form an electric field in accordance with a data voltage applied to the data line to drive the liquid crystal layer. To this end, each pixel includes a thin film transistor, a pixel electrode (not shown) connected to the thin film transistor, and a common electrode (not shown) to which a common voltage is supplied. At this time, the common electrode is formed between the pixel electrodes, and may be formed on the same layer as the pixel electrode or on another layer.

또한, 각 화소는 화소 어레이(512)에 형성된 공통전극을 터치 검출 라인으로 사용하여 사용자의 손가락 터치 또는 펜 터치에 따른 정전용량(Ctc)의 변화에 따라 터치 위치(TS)를 검출하여 출력한다. 예를 들어, 액정 표시 장치는 적어도 한 프레임 단위로 각 화소의 비표시 구간(예를 들어, 블랭킹 구간)마다 화소 어레이(512)에 형성된 공통전극(미도시)을 터치 검출 라인으로 사용하여 사용자의 터치에 따른 정전용량의 변화에 따라 터치 위치(TS)를 검출할 수 있다.In addition, each pixel uses a common electrode formed in the pixel array 512 as a touch detection line to detect and output the touch position TS in accordance with the change of the capacitance Ctc according to a user's finger touch or pen touch. For example, the liquid crystal display device uses a common electrode (not shown) formed in the pixel array 512 for each non-display period (e.g., blanking interval) of each pixel in at least one frame unit as a touch detection line, It is possible to detect the touch position (TS) in accordance with the change of capacitance due to the touch.

한편, 상술한 액정 표시 장치는, 터치 위치(TS)를 검출하기 위하여 상술한 공통전극 대신에, 상부 기판(120) 또는 하부 기판(110)에 형성된 별도의 터치 검출 라인(미도시) 또는 상부 기판(120)에 형성된 블랙 매트릭스(122)를 터치 검출 라인으로 사용하여 사용자의 터치에 따른 정전용량의 변화에 따라 터치 위치(TS)를 검출할 수도 있다.The above-described liquid crystal display device may further include a touch detection line (not shown) formed on the upper substrate 120 or the lower substrate 110 or a separate touch detection line The black matrix 122 formed on the touch panel 120 may be used as a touch detection line to detect the touch position TS in accordance with a change in capacitance due to a user's touch.

이와 같은, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 액정층을 사이에 두고 대향되도록 합착된 하부 기판(110)과 상부 기판(120)을 포함하여 구성되며, 데이터 전압에 따라 각 화소의 액정층을 투과하는 광 투과율을 조절하여 원하는 화상을 표시함과 아울러, 사용자의 터치에 따른 터치 위치를 검출하여 출력한다.The liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention includes a lower substrate 110 and an upper substrate 120 which are bonded together to face each other with a liquid crystal layer interposed therebetween. A desired image is displayed by adjusting a light transmittance transmitted through the liquid crystal layer, and a touch position corresponding to a user's touch is detected and output.

따라서, 본 발명의 제 3 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 이루어진 정전기 방지층(130)을 상부 기판(120)의 외부면에 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 효과적으로 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있으며, 사용자의 터치에 따른 터치 위치를 검출하는 터치 감도를 향상시킬 수 있다.Therefore, the liquid crystal display according to the third embodiment of the present invention forms an antistatic layer 130 made of a transparent material on the outer surface of the upper substrate 120 so as to have a resistance value of several tens of? /? To several? Thus, it is possible to effectively prevent the static electricity flowing from the outside and to prevent the bad image quality and the process failure due to the static electricity, and to improve the touch sensitivity to detect the touch position according to the user's touch.

도 6은 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치를 개략적으로 설명하기 위한 도면이다.6 is a schematic view for explaining a liquid crystal display according to a fourth embodiment of the present invention.

도 6을 참조하면, 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(210), 상부 기판(220), 및 정전기 방지층(230)을 포함하여 구성된다. 이러한 구성을 가지는 액정 표시 장치는 도 4 및 도 5에 도시된 액정 표시 장치를 조합하여 구성한 것으로, 각 구성에 대한 특징 사항을 제외한 상세한 설명은 도 4 및 도 5에 대한 설명으로 대신하기로 하고, 동일한 도면 부호를 부여하기로 한다.Referring to FIG. 6, the liquid crystal display according to the fourth embodiment of the present invention includes a lower substrate 210, an upper substrate 220, and an anti-static layer 230. The liquid crystal display device having such a configuration is constituted by combining the liquid crystal display devices shown in Figs. 4 and 5, and a detailed description thereof except for features of each configuration will be described with reference to Figs. 4 and 5, The same reference numerals will be given.

하부 기판(210)과 상부 기판(220)은 액정층을 사이에 두고 합착된 후, 식각 공정을 통해 하부 기판(210)은 제 1 두께(t1)를 가지도록 식각되고, 상부 기판(220)은 제 2 두께(t2)를 가지도록 식각된다.The lower substrate 210 and the upper substrate 220 are bonded together with a liquid crystal layer interposed therebetween and then the lower substrate 210 is etched to have a first thickness t1 through an etching process, And is etched to have a second thickness t2.

정전기 방지층(230)은 제 2 두께(t2)로 식각된 상부 기판(220)의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 형성되는 것으로, 상술한 제 1 내지 제 3 실시 예에 따른 정전기 방지층(130) 중 어느 하나와 동일한 물질로 형성된다.The antistatic layer 230 is formed of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □ on the outer surface of the upper substrate 220 etched with the second thickness t2. And the antistatic layer 130 according to the third embodiment.

따라서, 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 이루어진 정전기 방지층(230)을 상부 기판(220)의 외부면에 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있으며, 사용자의 터치에 따라 터치 위치를 검출하는 터치 감도를 향상시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치는 하부 기판(210)과 상부 기판(220)의 합착 공정 이후에 식각 공정을 통해 하부 기판(210)과 상부 기판(220) 각각의 두께를 감소시킴으로써 슬림화될 수 있다.Therefore, the liquid crystal display according to the fourth embodiment of the present invention is formed with an antistatic layer 230 made of a transparent material on the outer surface of the upper substrate 220 so as to have a resistance value of several tens of M / Thereby preventing the static electricity flowing from the outside from being blocked and preventing the bad image quality and the process failure due to the static electricity and improving the touch sensitivity for detecting the touch position according to the user's touch. The thickness of each of the lower substrate 210 and the upper substrate 220 may be increased by an etching process after the lower substrate 210 and the upper substrate 220 are joined together, And can be slimmed down.

한편, 상술한 본 발명의 제 1 내지 제 4 실시 예에 따른 액정 표시 장치에서 정전기 방지층(130, 230) 각각은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 이루어져 상부 기판(120, 220)에 형성되는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 액정 표시 장치 이외에도 플라즈마 디스플레이 패널, 전계 방출 표시 장치, 발광 다이오드 표시 장치 등을 포함하는 평판 표시 장치 또는 터치 스크린이 내장된 상기 평판 표시 장치의 상부 기판의 외부면에 형성될 수도 있다.Each of the antistatic layers 130 and 230 in the liquid crystal display according to the first to fourth embodiments of the present invention is made of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □, The present invention is not limited to the liquid crystal display device, but may be a flat panel display device including a plasma display panel, a field emission display device, a light emitting diode display device, or the like, Or may be formed on the outer surface of the upper substrate of the device.

도 7은 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다.7 is a view for explaining the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention step by step.

도 7을 참조하여 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 7, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a first embodiment of the present invention will be described below step by step.

먼저, 도 7의 a)에 도시된 바와 같이, 하부 기판(110)과 상부 기판(120)을 마련한다.First, as shown in FIG. 7A, a lower substrate 110 and an upper substrate 120 are provided.

이어서, 도 7의 b)에 도시된 바와 같이, 외부로부터 유입되는 정전기가 내부로 침투하는 것을 방지하기 위하여 상부 기판(120)의 일측면에 정전기 방지층(130)을 형성한다. 이때, 정전기 방지층(130)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 형성된다. 여기서, 정전기 방지층(130)은 상부 기판(120)의 외부면 전체에 소정의 두께로 형성되거나, 소정 형태(예를 들어, 메쉬(Mesh))의 패턴으로 형성될 수 있다.Next, as shown in FIG. 7B, an antistatic layer 130 is formed on one side of the upper substrate 120 to prevent the static electricity flowing from the outside from penetrating into the inside. At this time, the antistatic layer 130 is formed of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Here, the antistatic layer 130 may be formed to have a predetermined thickness on the entire outer surface of the upper substrate 120, or may be formed in a pattern of a predetermined shape (e.g., a mesh).

제 1 실시 예에 따른 정전기 방지층(130)의 형성 방법은 상부 기판(120)의 일측면에 ATO 물질을 100Å 내지 20000Å 범위의 두께로 형성하는 박막 형성 공정과 ATO 물질을 500℃ 이하의 온도로 경화(Curing)시키는 경화 공정을 통해 형성될 수 있다.The method for forming the antistatic layer 130 according to the first embodiment may include a thin film forming process for forming an ATO material on one side of the upper substrate 120 to a thickness ranging from 100 to 20000 angstroms, (Curing) process.

제 2 실시 예에 따른 정전기 방지층(130)의 형성 방법은 상부 기판(120)의 일측면에 폴리머(Polymer) 성분이 첨가된 ITO 물질을 형성하는 박막 형성 공정과 폴리머 성분이 첨가된 ITO 물질을 경화시키는 경화 공정을 통해 형성될 수 있다. 여기서, 폴리머 성분은 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 또는 폴리비닐 알코올(PVA) 등이 될 수 있다.The method of forming the antistatic layer 130 according to the second embodiment may include a thin film forming process for forming an ITO material to which a polymer component is added on one side of the upper substrate 120 and a thin film forming process for hardening the ITO material to which the polymer component is added And the like. Here, the polymer component may be polymethylmethacrylate (PMMA), polyvinyl alcohol (PVA), or the like.

제 3 실시 예에 따른 정전기 방지층(130)의 형성 방법은 상부 기판(120)의 일측면에 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질을 형성하는 박막 형성 공정과 폴리머 성분이 첨가된 ZnO 물질을 경화시키는 경화 공정을 통해 형성될 수 있다. 여기서, 폴리머 성분은 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 또는 폴리비닐 알코올(PVA) 등이 될 수 있다.The method for forming the antistatic layer 130 according to the third embodiment may include a thin film forming process for forming a ZnO material added with a polymer component on one side of the upper substrate 120 and a curing process for curing the ZnO material to which the polymer component is added As shown in FIG. Here, the polymer component may be polymethylmethacrylate (PMMA), polyvinyl alcohol (PVA), or the like.

한편, 상술한 제 1 내지 제 3 실시 예에 따른 정전기 방지층(130)의 형성 방법에서 박막 형성 공정은 프린팅 방법, 스프레이 코팅 방법, 스핀 코팅 방법, 졸-겔 방법, 졸-겔 스핀 코팅 방법, 또는 딥 코팅 방법에 의해 형성될 수 있다.In the method of forming the antistatic layer 130 according to the first to third embodiments, the thin film forming process may be performed by a printing method, a spray coating method, a spin coating method, a sol-gel method, a sol- Dip coating method.

이어서, 도 7의 c)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 1 및 제 3 실시 예의 액정 표시 장치(도 3 또는 도 5 참조)에서 상술한 블랙 매트릭스(122), 컬러필터(124R, 124G, 124B), 및 오버코트층(126)을 포함하는 컬러필터 어레이를 상부 기판(120)의 타측면에 형성한다.Next, as shown in Fig. 7C, the black matrix 122, the color filters 124R, 124G, and 124B in the liquid crystal display (see Fig. 3 or Fig. 5) of the first and third embodiments of the present invention, 124B, and an overcoat layer 126 are formed on the other side of the upper substrate 120.

또한, 본 발명의 제 1 및 제 3 실시 예의 액정 표시 장치(도 3 또는 도 5 참조)에서 상술한 복수의 화소를 포함하는 화소 어레이(112, 512)를 하부 기판(110)의 일측면 상에 형성한다.3 or 5) of the first and third embodiments of the present invention, the pixel arrays 112 and 512 including the above-described plurality of pixels are formed on one side of the lower substrate 110 .

이어서, 도 7의 d)에 도시된 바와 같이, 합착 공정을 통해 액정층을 사이에 두고 하부 기판(110)의 일측면과 상부 기판(120)의 타측면이 서로 대향되도록 합착한다.Then, as shown in FIG. 7D, the one side of the lower substrate 110 and the other side of the upper substrate 120 are bonded together with the liquid crystal layer interposed therebetween through a laminating process.

이와 같은, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 상부 기판(120)의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층(130)을 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있다.According to the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention, the antistatic layer 130 having a resistance of several tens of MΩ / □ to several GΩ / □ is formed on the outer surface of the upper substrate 120 It is possible to prevent an image quality failure due to static electricity and a process failure by blocking static electricity flowing from the outside.

한편, 본 발명의 제 1 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은, 도 4에 도시된 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치에서와 같이 제 1 두께(t1)를 가지는 하부 기판(110) 상에 화소 어레이(152, 512)를 형성함과 아울러, 제 2 두께(t2)를 가지는 상부 기판(120) 상에 컬러필터 어레이를 형성함으로써 슬림화를 달성할 수도 있다.The method of manufacturing a liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention is similar to that of the liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention shown in FIG. Slimming may be achieved by forming the array of pixels 152 and 512 on the first substrate 110 and forming a color filter array on the upper substrate 120 having the second thickness t2.

도 8은 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하기 위한 도면이다.8 is a view for explaining a method of manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention step by step.

도 8을 참조하여 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법을 단계적으로 설명하면 다음과 같다.A method of manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

먼저, 도 8의 a)에 도시된 바와 같이, 하부 기판(210)과 상부 기판(220)을 마련한다.First, as shown in FIG. 8A, a lower substrate 210 and an upper substrate 220 are provided.

이어서, 도 8의 b)에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제 2 및 제 4 실시 예의 액정 표시 장치(도 4 또는 도 6 참조)에서 상술한 블랙 매트릭스(122), 컬러필터(124R, 124G, 124B), 및 오버코트층(126)을 포함하는 컬러필터 어레이를 상부 기판(120)의 타측면에 형성한다.Next, as shown in Fig. 8B, the black matrix 122, the color filters 124R, 124G, and 124B described above in the liquid crystal display devices of the second and fourth embodiments (see Fig. 4 or 6) 124B, and an overcoat layer 126 are formed on the other side of the upper substrate 120.

또한, 본 발명의 제 1 및 제 3 실시 예의 액정 표시 장치(도 4 또는 도 6 참조)에서 상술한 복수의 화소를 포함하는 화소 어레이(112, 512)를 하부 기판(110)의 일측면 상에 형성한다.4 and 6) of the first and third embodiments of the present invention, the pixel arrays 112 and 512 including the plurality of pixels described above are formed on one side of the lower substrate 110 .

이어서, 도 8의 c)에 도시된 바와 같이, 합착 공정을 통해 액정층을 사이에 두고 하부 기판(210)의 일측면과 상부 기판(220)의 타측면이 서로 대향되도록 합착한다.Next, as shown in FIG. 8C, the one side of the lower substrate 210 and the other side of the upper substrate 220 are bonded together with the liquid crystal layer interposed therebetween through a laminating process.

이어서, 도 8의 d)에 도시된 바와 같이, 식각 공정을 통해 원래의 두께(t0)에서 제 1 두께(t1)를 가지도록 하부 기판(210)의 타측면을 식각함과 아울러 원래의 두께(t0)에서 제 2 두게(t2)를 가지도록 상부 기판(220)의 일측면을 식각하여 슬림화한다. 이때, 제 2 두께(t2)는 제 1 두께(t1)의 절반 이하로 형성되는 것이 바람직하다.Next, as shown in FIG. 8D, the other side of the lower substrate 210 is etched to have the first thickness t1 at the original thickness t0 through the etching process, and the original thickness (t1) one side of the upper substrate 220 is etched to have a second thickness t2 at t0. At this time, it is preferable that the second thickness t2 is less than half of the first thickness t1.

이어서, 도 8의 e)에 도시된 바와 같이, 외부로부터 유입되는 정전기가 내부로 침투하는 것을 방지하기 위하여, 제 2 두게(t2)로 식각된 상부 기판(220)의 일측면, 즉 외부면에 정전기 방지층(230)을 형성한다. 이때, 정전기 방지층(230)은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 형성된다. 여기서, 정전기 방지층(230)은 상부 기판(220)의 외부면 전체에 소정의 두께로 형성되거나, 소정 형태(예를 들어, 메쉬(Mesh))의 패턴으로 형성될 수 있다.Then, as shown in FIG. 8E, in order to prevent the static electricity flowing from the outside from penetrating into the inside, one side surface of the upper substrate 220 etched with the second trench t2, that is, An antistatic layer 230 is formed. At this time, the antistatic layer 230 is formed of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. Here, the antistatic layer 230 may be formed to have a predetermined thickness on the entire outer surface of the upper substrate 220, or may be formed in a pattern of a predetermined shape (e.g., a mesh).

이러한, 정전기 방지층(230)은 상술한 본 발명의 제 1 내지 제 3 정전기 방지층(230)의 형성 방법 중 어느 하나의 형성 방법과 동일하게 형성되므로, 이에 대한 상세한 설명은 상술한 설명으로 대신하기로 한다.Since the antistatic layer 230 is formed in the same manner as the first to third antistatic layers 230 of the present invention, a detailed description thereof will be omitted. do.

이와 같은, 본 발명의 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법은 상부 기판(220)과 하부 기판(210)의 합착 공정 이후에 식각 공정을 통해 상부 기판(220)과 하부 기판(210) 각각을 식각하여 두께(t1, t2)를 감소시킴으로써 슬림화를 달성할 수 있으며, 기판의 식각 공정 이후에 상부 기판(220)의 외부면에 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 정전기 방지층(230)을 형성함으로써 외부로부터 유입되는 정전기를 차단하여 정전기로 인한 화질 불량 및 공정 불량을 방지할 수 있다.The method of manufacturing a liquid crystal display device according to the second embodiment of the present invention is a method of manufacturing a liquid crystal display device including an upper substrate 220 and a lower substrate 210 through an etching process after an upper substrate 220 and a lower substrate 210 are bonded together, And the thickness t1 and t2 of the upper substrate 220 may be reduced to reduce the thickness of the upper substrate 220. After the substrate is etched, an electrostatic charge having a resistance of several tens of M / By forming the barrier layer 230, it is possible to prevent the static electricity flowing from the outside, thereby preventing the image quality failure and the process failure due to the static electricity.

한편, 상술한 본 발명의 제 1 및 제 2 실시 예에 따른 액정 표시 장치의 제조 방법에서 정전기 방지층(130, 230) 각각은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지도록 투명한 재질로 이루어져 상부 기판(120, 220)에 형성되는 것으로 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 액정 표시 장치 이외에도 플라즈마 디스플레이 패널, 전계 방출 표시 장치, 발광 다이오드 표시 장치 등을 포함하는 평판 표시 장치 또는 터치 스크린이 내장된 상기 평판 표시 장치의 상부 기판의 외부면에 형성될 수도 있다.In the method of manufacturing a liquid crystal display according to the first and second embodiments of the present invention, each of the antistatic layers 130 and 230 is made of a transparent material so as to have a resistance value of several tens of? However, the present invention is not limited to the liquid crystal display, and a flat panel display including a plasma display panel, a field emission display, a light emitting diode display, or the like may be used. And may be formed on the outer surface of the upper substrate of the flat panel display device.

본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without departing from the spirit or essential characteristics thereof. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the appended claims rather than the detailed description and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents are to be construed as being included within the scope of the present invention do.

110, 210: 하부 기판 112, 512: 화소 어레이
120, 220: 상부 기판 122: 블랙 매트릭스
124R, 124G, 124B: 컬러필터 126: 오버코트층
130, 230: 정전기 방지층110, 210: lower substrate 112, 512: pixel array
120, 220: upper substrate 122: black matrix
124R, 124G, 124B: color filter 126: overcoat layer
130, 230: Antistatic layer

Claims (6)

서로 대향되도록 합착된 하부 기판과 상부 기판;
상기 상부 기판의 외부면에 구비된 정전기 방지층; 및
상기 상부 기판의 내부면에 구비된 블랙 매트릭스를 포함하며,
상기 블랙 매트릭스는 비 표시 구간에서 사용자의 터치에 따른 터치 위치를 검출하기 위한 터치 검출 라인으로 이용되고,
상기 정전기 방지층은 폴리머(Polymer) 성분이 첨가된 ITO(Indium Tin Oxide) 물질 또는 상기 폴리머 성분이 첨가된 ZnO(Zinc Oxide) 물질인 평판 표시 장치.A lower substrate and an upper substrate bonded together to face each other;
An antistatic layer provided on an outer surface of the upper substrate; And
And a black matrix provided on an inner surface of the upper substrate,
The black matrix is used as a touch detection line for detecting a touch position according to a user's touch in a non-display period,
Wherein the antistatic layer is an Indium Tin Oxide (ITO) material to which a polymer component is added or a ZnO (Zinc Oxide) material to which the polymer is added. 제 1 항에 있어서,
상기 정전기 방지층은 수십 ㏁/□ 내지 수 GΩ/□의 저항 값을 가지는 투명한 물질로 이루어진 평판 표시 장치.The method according to claim 1,
Wherein the antistatic layer is made of a transparent material having a resistance value of several tens of M? /? To several G? / ?. 제 2 항에 있어서,
상기 폴리머 성분은 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl methacrylate) 또는 폴리비닐 알코올(Polyvinyl alcohol)인 평판 표시 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the polymer component is polymethyl methacrylate or polyvinyl alcohol. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 상부 기판의 두께는 상기 하부 기판의 두께와 같거나 얇은 평판 표시 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the thickness of the upper substrate is equal to or thinner than the thickness of the lower substrate. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 상부 기판의 두께는 상기 하부 기판의 두께 대비 절반 이하인 평판 표시 장치.4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the thickness of the upper substrate is less than half the thickness of the lower substrate. 삭제delete
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