KR101861271B1 - Filter including acoustic wave resonator - Google Patents

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KR101861271B1 KR1020170038523A KR20170038523A KR101861271B1 KR 101861271 B1 KR101861271 B1 KR 101861271B1 KR 1020170038523 A KR1020170038523 A KR 1020170038523A KR 20170038523 A KR20170038523 A KR 20170038523A KR 101861271 B1 KR101861271 B1 KR 101861271B1
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 복수의 막으로 구성되어, 복수의 체적 음향 공진기 및 상기 복수의 체적 음향 공진기와 연결되는 배선 라인을 구현하는 적층 구조체, 및 상기 적층 구조체와 본딩 라인에서 결합하는 캡을 포함하고, 상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 상호 인덕턴스에 의해 필터링 특성이 결정될 수 있다. A filter according to an embodiment of the present invention includes a laminated structure composed of a plurality of films and embodying a wiring line connected to a plurality of volume acoustic resonators and the plurality of volume acoustic resonators, Cap, and the filtering characteristics can be determined by the mutual inductance of the wiring line and the bonding line.

Description

체적 음향 공진기를 포함하는 필터{FILTER INCLUDING ACOUSTIC WAVE RESONATOR}FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a filter including a volume acoustic resonator,

본 발명은 체적 음향 공진기를 포함하는 필터에 관한 것이다. The present invention relates to a filter comprising a volume acoustic resonator.

최근 이동통신기기, 화학 및 바이오기기 등의 급속한 발달에 따라, 이러한 기기에서 사용되는 소형 경량필터, 오실레이터(Oscillator), 공진소자(Resonant element), 음향공진 질량센서(Acoustic Resonant Mass Sensor) 등의 수요도 증대하고 있다.2. Description of the Related Art Demand for small and lightweight filters, oscillators, resonant elements, and acoustic resonant mass sensors used in such devices has been rapidly increasing due to recent rapid development of mobile communication devices, Is also increasing.

이러한 소형 경량필터, 오실레이터, 공진소자, 음향공진 질량센서 등을 구현하는 수단으로는 박막 체적 음향 공진기(Film Bulk Acoustic Resonator: 이하 "FBAR"이라 함)가 알려져 있다. FBAR은 최소한의 비용으로 대량 생산이 가능하며, 초소형으로 구현할 수 있다는 장점이 있다. 또한, 필터의 주요한 특성인 높은 품질 계수 (Quality Factor: Q)값을 구현하는 것이 가능하고, 마이크로주파수 대역에서도 사용이 가능하며, 특히 PCS(Personal Communication System)와 DCS(Digital Cordless System) 대역까지도 구현할 수 있다는 장점이 있다.A thin film bulk acoustic resonator (hereinafter referred to as "FBAR") is known as a means for realizing such a compact lightweight filter, an oscillator, a resonant element, and an acoustic resonance mass sensor. FBARs can be mass-produced at a minimum cost and can be implemented in a very small size. In addition, it is possible to implement a high quality factor (Q) value, which is a major characteristic of a filter, and can be used in a microwave frequency band. Particularly, a PCS (Personal Communication System) and a DCS (Digital Cordless System) There is an advantage that it can be.

일반적으로, FBAR은 기판상에 제1 전극, 압전층(Piezoelectric layer) 및 제2 전극을 차례로 적층하여 구현되는 공진부를 포함하는 구조로 이루어진다.2. Description of the Related Art Generally, an FBAR has a structure including a resonator formed by sequentially stacking a first electrode, a piezoelectric layer, and a second electrode on a substrate.

FBAR의 동작원리를 살펴보면, 먼저 제1 및 2전극에 전기에너지를 인가하여 압전층 내에 전계를 유기시키면, 이 전계는 압전층의 압전 현상을 유발시켜 공진부가 소정 방향으로 진동하도록 한다. 그 결과, 진동방향과 동일한 방향으로 음향파(Bulk Acoustic Wave)가 발생하여 공진을 일으키게 된다.The principle of operation of the FBAR is as follows. First, electric energy is applied to the first and second electrodes to induce an electric field in the piezoelectric layer. This electric field induces a piezoelectric phenomenon of the piezoelectric layer so that the resonator portion vibrates in a predetermined direction. As a result, a bulk acoustic wave is generated in the same direction as the vibration direction, causing resonance.

미국공개특허공보 제2008-0081398호U.S. Published Patent Application No. 2008-0081398

본 발명의 과제는 본딩 라인과 배선 라인에서 발생할 수 있는 상호 인덕턴스를 회로 설계에 반영할 수 있는 필터를 제공하는 것이다. A problem to be solved by the present invention is to provide a filter that can reflect a mutual inductance that may occur in a bonding line and a wiring line to a circuit design.

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 복수의 체적 음향 공진기, 및 본딩 라인과 접합하여 상기 복수의 체적 음향 공진기를 수용하는 캡을 포함할 수 있고, 무선 주파수 신호의 좌측 극점은 상기 본딩 라인과 상기 복수의 체적 음향 공진기 중 일부의 배선 라인의 사이에서 발생하는 상호 인덕턴스에 의해 변경될 수 있다. The filter according to an embodiment of the present invention may include a plurality of volume acoustic resonators and a cap for bonding the plurality of volume acoustic resonators to the bonding line, Can be changed by the mutual inductance generated between a part of the wiring lines of the plurality of volume acoustic resonators.

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 본딩 라인과 배선 라인에서 발생할 수 있는 상호 인덕턴스를 회로 설계에 반영하여, 필터의 제조 비용 및 부피를 감소시킬 수 있다. The filter according to an embodiment of the present invention can reduce the manufacturing cost and volume of the filter by reflecting the mutual inductance that may occur in the bonding line and the wiring line to the circuit design.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예들에 따른 필터의 예시적인 회로도이다.
도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 상면도를 나타내고, 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 회로도의 일 예를 나타낸다.
도 5 내지 도 9은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 그래프이다.
1 is a cross-sectional view of a filter according to an embodiment of the present invention.
Figures 2 and 3 are exemplary circuit diagrams of a filter in accordance with one embodiment of the present invention.
FIG. 4A shows a top view of a filter according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B shows an example of a circuit diagram according to an embodiment of the present invention.
5 to 9 are simulation graphs according to various embodiments of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭한다.The following detailed description of the invention refers to the accompanying drawings, which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable those skilled in the art to practice the invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different, but need not be mutually exclusive. For example, certain features, structures, and characteristics described herein may be implemented in other embodiments without departing from the spirit and scope of the invention in connection with an embodiment. It is also to be understood that the position or arrangement of the individual components within each disclosed embodiment may be varied without departing from the spirit and scope of the invention. The following detailed description is, therefore, not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is to be limited only by the appended claims, along with the full scope of equivalents to which such claims are entitled, if properly explained. In the drawings, like reference numerals refer to the same or similar functions throughout the several views.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, so that those skilled in the art can easily carry out the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 필터를 나타낸 단면도이다. 1 is a cross-sectional view of a filter according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터(10)는 체적 음향 공진기(100) 및 캡(200)을 포함할 수 있다. 체적 음향 공진기(100)는 박막 체적 음향파 공진기(Film Bulk Acoustic Resonator: FBAR)일 수 있다. Referring to FIG. 1, a filter 10 according to an embodiment of the present invention may include a volume acoustic resonator 100 and a cap 200. The volume acoustic resonator 100 may be a thin film bulk acoustic resonator (FBAR).

체적 음향 공진기(100)는 복수의 막으로 구성되는 적층 구조체에 의해 구현될 수 있다. 체적 음향 공진기(100)는 기판(110), 절연층(120), 에어 캐비티(112), 및 공진부(135)를 포함할 수 있다. The volume acoustic resonator 100 may be realized by a laminated structure composed of a plurality of films. The volume acoustic resonator 100 may include a substrate 110, an insulating layer 120, an air cavity 112, and a resonator 135.

기판(110)은 통상의 실리콘 기판으로 구성될 수 있고, 기판(110)의 상면에는 기판(110)에 대해 공진부(135)를 전기적으로 격리시키는 절연층(120)이 마련될 수 있다. 절연층(120)은 이산화규소(SiO2) 및 산화알루미늄(Al2O2) 중 하나를 화학 기상 증착(Chemical vapor deposition), RF 마그네트론 스퍼터링(RF Magnetron Sputtering), 또는 에바포레이션(Evaporation)하여 기판(110) 상에 형성될 수 있다. The substrate 110 may be a conventional silicon substrate and an insulating layer 120 may be formed on the substrate 110 to electrically isolate the resonator 135 from the substrate 110. The insulating layer 120 may be formed by chemical vapor deposition (CVD), RF magnetron sputtering, or evaporation of one of silicon dioxide (SiO 2 ) and aluminum oxide (Al 2 O 2 ) May be formed on the substrate 110.

절연층(120) 상에는 에어 캐비티(112)가 배치될 수 있다. 에어 캐비티(112)는 공진부(135)가 소정 방향으로 진동할 수 있도록 공진부(135)의 하부에 위치할 수 있다. 에어 캐비티(112)는 절연층(120) 상에 에어 캐비티 희생층 패턴을 형성한 다음, 에어 캐비티 희생층 패턴 상에 멤브레인(130)을 형성한 후 에어 캐비티 희생층 패턴을 에칭하여 제거하는 공정에 의해 형성된다. 멤브레인(130)은 산화 보호막으로 기능하거나, 기판(110)을 보호하는 보호층으로 기능할 수 있다. The air cavity 112 may be disposed on the insulating layer 120. The air cavity 112 may be positioned below the resonator 135 so that the resonator 135 vibrates in a predetermined direction. The air cavity 112 is formed by forming an air cavity sacrificial layer pattern on the insulating layer 120, forming a membrane 130 on the air cavity sacrificial layer pattern, and then etching and removing the air cavity sacrificial layer pattern . The membrane 130 may function as a protective oxide layer or as a protective layer protecting the substrate 110.

절연층(120)과 에어 캐비티(112) 사이에는 식각 저지층(125)이 추가적으로 형성될 수 있다. 식각 저지층(125)은 식각 공정으로부터 기판(110) 및 절연층(120)을 보호하는 역할을 하고, 식각 저지층(125) 상에 다른 여러 층이 증착되는데 필요한 기단 역할을 할 수 있다. An etch stop layer 125 may be additionally formed between the insulating layer 120 and the air cavity 112. The etch stop layer 125 serves to protect the substrate 110 and the insulating layer 120 from the etching process and may serve as a base for depositing other layers on the etch stop layer 125.

공진부(135)는 멤브레인(130) 상에 차례로 적층된 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)을 포함할 수 있다. 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)의 수직 방향으로 중첩된 공통 영역은 에어 캐비티(112)의 상부에 위치할 수 있다. 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)은 금(Au), 티타늄(Ti), 탄탈(Ta), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 백금(Pt), 텅스텐(W), 알루미늄(Al), 이리듐(Ir) 및 니켈(Ni) 중 하나 또는 이들의 합금으로 형성될 수 있다.The resonator portion 135 may include a first electrode 140, a piezoelectric layer 150, and a second electrode 160 that are sequentially stacked on the membrane 130. The common areas overlapping in the vertical direction of the first electrode 140, the piezoelectric layer 150, and the second electrode 160 may be located at the top of the air cavity 112. The first electrode 140 and the second electrode 160 may be formed of a metal such as gold (Au), titanium (Ti), tantalum (Ta), molybdenum (Mo), ruthenium (Ru), platinum (Pt), tungsten (Al), iridium (Ir), and nickel (Ni), or an alloy thereof.

압전층(150)은 전기적 에너지를 탄성파 형태의 기계적 에너지로 변환하는 압전 효과를 일으키는 부분으로, 질화 알루미늄(AlN), 산화아연(ZnO), 납 지르코늄 티타늄 산화물(PZT; PbZrTiO) 중 하나로 형성될 수 있다. 또한, 압전층(150)은 희토류 금속(Rare earth metal)을 더 포함할 수 있다. 일 예로, 희토류 금속은 스칸듐(Sc), 에르븀(Er), 이트륨(Y), 및 란탄(La) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 압전층(150)은 희토류 금속을 1~20at% 만큼 포함할 수 있다. The piezoelectric layer 150 may be formed of one of aluminum nitride (AlN), zinc oxide (ZnO), and lead zirconium titanium oxide (PZT), which is a part causing a piezoelectric effect to convert electrical energy into mechanical energy in the form of elastic waves have. In addition, the piezoelectric layer 150 may further include a rare earth metal. As an example, the rare earth metal may include at least one of scandium (Sc), erbium (Er), yttrium (Y), and lanthanum (La). The piezoelectric layer 150 may contain 1 to 20 at% of rare-earth metal.

제1 전극(140) 하부에는 압전층(150)의 결정 배향성을 향상시키기 위한 시드(Seed)층이 추가적으로 배치될 수 있다. 시드층은 압전층(150)과 동일한 결정성을 갖는 질화 알루미늄(AlN), 산화아연(ZnO), 납 지르코늄 티타늄 산화물(PZT; PbZrTiO) 중 하나로 형성될 수 있다.A seed layer for improving the crystal orientation of the piezoelectric layer 150 may be additionally disposed under the first electrode 140. The seed layer may be formed of one of aluminum nitride (AlN), zinc oxide (ZnO), and lead zirconium titanium oxide (PZT; PbZrTiO) having the same crystallinity as the piezoelectric layer 150.

공진부(135)는 활성 영역과 비활성 영역으로 구획될 수 있다. 공진부(135)의 활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 무선 주파수 신호와 같은 전기 에너지가 인가되는 경우 압전층(150)에서 발생하는 압전 현상에 의해 소정 방향으로 진동하여 공진하는 영역으로, 에어 캐비티(112) 상부에서 제1 전극(140), 압전층(150) 및 제2 전극(160)이 수직 방향으로 중첩된 영역에 해당한다. 공진부(135)의 비활성 영역은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 전기 에너지가 인가되더라도 압전 현상에 의해 공진하지 않는 영역으로, 활성 영역 외측의 영역에 해당한다. The resonator portion 135 may be partitioned into an active region and a non-active region. The active region of the resonator unit 135 vibrates in a predetermined direction by a piezoelectric effect generated in the piezoelectric layer 150 when electrical energy such as a radio frequency signal is applied to the first electrode 140 and the second electrode 160. [ And corresponds to a region in which the first electrode 140, the piezoelectric layer 150, and the second electrode 160 are superimposed in the vertical direction on the upper part of the air cavity 112. The inactive region of the resonance portion 135 corresponds to a region outside the active region, which is a region which does not resonate due to the piezoelectric effect even if the first electrode 140 and the second electrode 160 are applied with electric energy.

공진부(135)는 압전 현상을 이용하여 특정 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력한다. 구체적으로 공진부(135)는 압전층(150)의 압전 현상에 따른 진동에 대응하는 공진 주파수를 가지는 무선 주파수 신호를 출력할 수 있다. The resonance unit 135 outputs a radio frequency signal having a specific frequency by using a piezoelectric phenomenon. Specifically, the resonance part 135 can output a radio frequency signal having a resonance frequency corresponding to the vibration caused by the piezoelectric development of the piezoelectric layer 150. [

보호층(170)은 공진부(135)의 제2 전극(160)상에 배치되어, 제2 전극(160)이 외부에 노출되는 것을 방지할 수 있다. 보호층(170)은 실리콘 옥사이드 계열, 실리콘 나이트라이드 계열 및 알루미늄 나이트라이드 계열 중의 하나의 절연 물질로 형성될 수 있다. 도 1에서 하나의 적층 구조체가 하나의 캡(200)에 수용되는 것으로 도시되어 있으나, 하나의 캡(200)에는 복수의 적층 구조체가 수용될 수 있고, 복수의 적층 구조체 각각은 설계에 따라 상호 연결될 수 있다. 이 때, 복수의 적층 구조체는 외부로 노출된 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)에 배선 전극이 마련되어, 상호 연결될 수 있다. The passivation layer 170 may be disposed on the second electrode 160 of the resonator 135 to prevent the second electrode 160 from being exposed to the outside. The passivation layer 170 may be formed of one of a silicon oxide series, a silicon nitride series, and an aluminum nitride series. Although one laminate structure is shown in FIG. 1 as being accommodated in one cap 200, a plurality of laminate structures may be accommodated in one cap 200, and each of the plurality of laminate structures may be interconnected . In this case, the plurality of stacked structures may be interconnected by providing wiring electrodes on the first electrode 140 and the second electrode 160 exposed to the outside.

캡(200)은 적층 구조체와 접합하여, 공진부(135)를 외부 환경으로부터 보호할 수 있다. 캡(200)은 공진부(135)가 수용되는 내부 공간을 구비하는 커버 형태로 형성될 수 있다. 구체적으로, 캡(200)은 공진부(135)를 수용할 수 있도록 중앙에 수용부가 형성될 수 있으며, 가장자리에서 적층 구조체와 결합할 수 있도록 테두리가 수용부에 비해 단차지게 형성될 수 있다. 테두리는 특정 영역에서 접합제(250)를 통해 기판(110)과 직간접적으로 접합될 수 있다. 도 1에서 캡(200)이 기판(110) 상에 적층되는 보호층(170)과 접합되는 것으로 도시되어 있으나, 이 뿐만 아니라, 보호층(170)을 관통하여 멤브레인(130), 식각 저지층(125), 절연층(120), 및 기판(110) 중 적어도 하나와 접합될 수 있다. The cap 200 may be bonded to the laminated structure to protect the resonance portion 135 from the external environment. The cap 200 may be formed in the form of a cover having an inner space in which the resonance part 135 is accommodated. Specifically, the cap 200 may have a receiving portion formed at the center thereof to accommodate the resonator portion 135, and the rim may be formed so as to be stepped relative to the receiving portion so as to engage with the laminated structure at the edge. The rim may be bonded directly or indirectly to the substrate 110 through the bonding agent 250 in a particular region. Although the cap 200 is shown as being bonded to the protective layer 170 deposited on the substrate 110 in FIG. 1, the cap 130 may be formed of a material that penetrates the protective layer 170, 125, an insulating layer 120, and a substrate 110. In this case,

캡(200)은 웨이퍼 레벨에서 웨이퍼 본딩을 통해 접합될 수 있다. 단위 기판(110)이 다수 개 결합 배치된 기판 웨이퍼와 캡(200)이 다수 개 결합 배치된 캡 웨이퍼를 상호 접합되고, 상호 접합된 기판 웨이퍼와 캡 웨이퍼는 추후에 절단 공정을 통해 절단되어 도 1에 도시된 다수의 개별 체적 음향 공진기로 분리될 수 있다. The cap 200 may be bonded at the wafer level via wafer bonding. A substrate wafer in which a plurality of unit substrates 110 are coupled and arranged and a cap wafer in which a plurality of caps 200 are coupled are bonded to each other and the mutually bonded substrate wafer and cap wafer are cut through a cutting process, And a plurality of discrete volume acoustic resonators shown in Fig.

캡(200)은 공융 본딩(eutectic bonding)에 의해 기판(110)과 접합될 수 있다. 이 경우, 기판(110)과 공융 본딩이 가능한 접합제(250)를 적층 구조체 상에 증착한 후, 기판 웨이퍼와 캡 웨이퍼를 가압 및 가열해서 접합할 수 있다. 접합제(250)는 금(Au)-주석(Sn)의 공융(eutectic) 물질을 포함할 수 있으며, 이외에도 솔더볼을 포함할 수 있다. The cap 200 may be bonded to the substrate 110 by eutectic bonding. In this case, after the bonding agent 250 capable of eutectic bonding with the substrate 110 is deposited on the laminated structure, the substrate wafer and the cap wafer can be bonded by pressurization and heating. The bonding agent 250 may include an eutectic material of gold (Au) -stin (Sn), and may further include a solder ball.

기판(110)의 하부면에는 기판(110)을 두께 방향으로 관통하는 비아 홀(113)이 적어도 하나 형성될 수 있다. 비아 홀(113)은 기판(110) 외에도, 절연층(120), 식각 저지층(125), 멤브레인(130) 중 일부를 두께 방향으로 관통할 수 있다. 비아 홀(113)의 내부에는 접속 패턴(114)이 형성될 수 있고, 접속 패턴(114)은 비아 홀(113)의 내부면, 즉 내벽 전체에 형성될 수 있다. At least one via hole 113 may be formed on the lower surface of the substrate 110 to penetrate the substrate 110 in the thickness direction. The via hole 113 may penetrate the insulating layer 120, the etch stop layer 125, and the membrane 130 in the thickness direction in addition to the substrate 110. The connection pattern 114 may be formed in the via hole 113 and the connection pattern 114 may be formed on the inner surface of the via hole 113, that is, the entire inner wall.

접속 패턴(114)은 비아 홀(113)의 내부면에 도전층을 형성함으로써 제조될 수 있다. 예를 들어, 접속 패턴(114)은 비아 홀(113)의 내벽을 따라 금이나 구리와 같은 도전성 금속을 증착하거나 도포, 또는 충전하여 형성할 수 있다. 일 예로, 접속 패턴(114)은 티타늄(Ti)-구리(Cu) 합금으로 제조될 수 있다. The connection pattern 114 can be manufactured by forming a conductive layer on the inner surface of the via hole 113. [ For example, the connection pattern 114 may be formed by depositing, applying, or filling a conductive metal such as gold or copper along the inner wall of the via hole 113. In one example, the connection pattern 114 may be made of a titanium (Ti) -copper (Cu) alloy.

접속 패턴(114)은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160) 중 적어도 하나에 연결될 수 있다. 일 예로, 접속 패턴(114)은 기판(110), 멤브레인(130), 제1 전극(140) 및 압전층(150) 중 적어도 일부를 관통하여 제1 전극(140) 및 제2 전극(160) 중 적어도 하나에 전기적으로 연결될 수 있다. 비아 홀(113)의 내부면에 형성된 접속 패턴(114)은 기판(110)의 하부 면 측으로 연장되어, 기판(110)의 하부 면에 마련되는 기판용 접속 패드(115)와 연결될 수 있다. 이로써, 접속 패턴(114)은 제1 전극(140) 및 제2 전극(160)을 기판용 접속 패드(115)와 전기적으로 연결할 수 있다. The connection pattern 114 may be connected to at least one of the first electrode 140 and the second electrode 160. For example, the connection pattern 114 may extend through at least a portion of the substrate 110, the membrane 130, the first electrode 140, and the piezoelectric layer 150 to form the first electrode 140 and the second electrode 160, As shown in FIG. The connection pattern 114 formed on the inner surface of the via hole 113 may extend to the lower surface side of the substrate 110 and may be connected to the substrate connection pad 115 provided on the lower surface of the substrate 110. [ In this way, the connection pattern 114 can electrically connect the first electrode 140 and the second electrode 160 to the substrate connection pad 115.

기판용 접속 패드(115)는 범프를 통하여 체적 음향 공진기(100)의 하부에 배치될 수 있는 외부 기판과 전기적으로 연결될 수 있다. 기판용 접속 패드(115)를 통해 제1, 2 전극(110, 120)에 인가되는 신호에 의해 체적 음향 공진기(100)는 무선 주파수 신호의 필터링 동작을 수행할 수 있다. The substrate connection pad 115 may be electrically connected to an external substrate, which may be disposed below the bulk acoustic resonator 100 through the bumps. The volume acoustic resonator 100 can perform a filtering operation of a radio frequency signal by a signal applied to the first and second electrodes 110 and 120 through the substrate connection pad 115. [

도 2 및 도 3은 본 발명의 일 실시예들에 따른 필터의 예시적인 회로도이다. 도 2 및 도 3의 필터에 채용되는 복수의 체적 음향 공진기 각각은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 체적 음향 공진기가 전기적으로 연결되어 형성될 수 있다.Figures 2 and 3 are exemplary circuit diagrams of a filter in accordance with one embodiment of the present invention. Each of the plurality of volume acoustic resonators employed in the filters of Figs. 2 and 3 may be formed by electrically connecting the volume acoustic resonators according to various embodiments of the present invention.

도 2을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터(1000)는 래더 타입(ladder type)의 필터 구조로 형성될 수 있다. 구체적으로, 필터(1000)는 복수의 체적 음향 공진기(1100, 1200)를 포함할 수 있다. Referring to FIG. 2, the filter 1000 according to an embodiment of the present invention may be formed of a ladder type filter structure. Specifically, the filter 1000 may include a plurality of volume acoustic resonators 1100, 1200.

제1 체적 음향 공진기(1100)는 입력 신호(RFin)가 입력되는 신호 입력단과 출력 신호(RFout)가 출력되는 신호 출력단 사이에 직렬 연결될 수 있고, 제2 체적 음향 공진기(1200)는 상기 신호 출력단과 접지 사이에 연결된다. 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터(2000)는 래티스 타입(lattice type)의 필터 구조로 형성될 수 있다. 구체적으로, 필터(2000)는 복수의 체적 음향 공진기(2100, 2200, 2300, 2400)를 포함하여, 밸런스드(balanced) 입력 신호(RFin+, RFin-)를 필터링하여 밸런스드 출력 신호(RFout+, RFout-)를 출력할 수 있다. The first volume acoustic resonator 1100 may be connected in series between a signal input terminal to which the input signal RFin is input and a signal output terminal to which the output signal RFout is output and the second volume acoustic resonator 1200 may be connected to the signal output terminal It is connected between ground. Referring to FIG. 3, the filter 2000 according to an embodiment of the present invention may be formed of a lattice type filter structure. Specifically, the filter 2000 includes a plurality of volume acoustic resonators 2100, 2200, 2300, and 2400 to filter the balanced input signals RFin +, RFin- to produce balanced output signals RFout +, RFout- Can be output.

도 2 및 도 3의 필터(1000, 2000)는 체적 음향 공진기(1100, 1200, 2100, 2200, 2300, 2400) 외에도, 상술한 외부 기판에 마련되는 인덕터를 연결하여 구성된다. 일 예로, 설계된 주파수 대역의 필터링을 위하여, 일부 체적 음향 공진기는 외부 기판에 마련되는 인덕터를 통하여 접지와 연결될 수 있다. The filters 1000 and 2000 of FIGS. 2 and 3 are constructed by connecting inductors provided on the external substrate in addition to the volume acoustic resonators 1100, 1200, 2100, 2200, 2300, and 2400. For example, in order to filter a designed frequency band, some volume acoustic resonators may be connected to ground through an inductor provided on an external substrate.

필터의 소형화 및 슬림화의 요구에 따라 필터의 각 요소들의 설계는 세밀화 및 집적화되어 가는 추세이다. 이러한 추세에서, 체적 음향 공진기의 인접하여 설계 배치되는 배선 라인과 본딩 라인 사이에서는 의도하지 않은 상호(mutual) 인덕턴스 성분이 생성할 수 있고, 생성된 상호(mutual) 인덕턴스에 의해 외부 기판에 마련되는 인덕터의 인덕턴스가 열화되는 문제점이 발생할 수 있다.The design of each element of the filter is becoming more complicated and integrated in accordance with the demand for miniaturization and slimness of the filter. In this trend, an unintended mutual inductance component can be generated between the wiring line and the bonding line which are designed and arranged adjacent to each other of the volume acoustic resonator, and the inductance component generated by the mutual inductance, The inductance of the capacitor C may deteriorate.

여기서, 배선 라인은 도 1에서 설명된 접속 패턴 및 배선 전극 등의 신호 라인에 해당할 수 있고, 본딩 라인은 체적 음향 공진기(100)의 적층 구조체와 캡(200)의 접합 영역에 해당할 수 있다. 1, and the bonding line may correspond to a junction region of the laminated structure of the bulk acoustic resonator 100 and the cap 200 .

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 체적 음향 공진기(100)의 배선 라인 및 체적 음향 공진기(100)의 적층 구조체와 캡(200)의 본딩 라인 사이에서 발생하는 상호(mutual) 인덕턴스를 회로 설계에 반영하여, 외부 기판에 마련되는 인덕터의 인덕턴스를 감소하거나 제거하여, 필터의 제조 비용 및 부피를 감소시킬 수 있다. The filter according to an embodiment of the present invention may be designed to have a mutual inductance occurring between the wiring line of the volume acoustic resonator 100 and the bonding line of the cap 200 and the laminated structure of the volume acoustic resonator 100, The inductance of the inductor provided on the external substrate can be reduced or eliminated to reduce the manufacturing cost and the volume of the filter.

도 4a는 본 발명의 일 실시예에 따른 필터의 상면도를 나타내고, 도 4b는 본 발명의 일 실시예에 따른 회로도의 일 예를 나타낸다. FIG. 4A shows a top view of a filter according to an embodiment of the present invention, and FIG. 4B shows an example of a circuit diagram according to an embodiment of the present invention.

도 4a 및 도 4b를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 적어도 하나의 시리즈 공진기(S1-S7) 및 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)를 포함할 수 있다. 적어도 하나의 시리즈 공진기(S1-S7) 및 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)는 전술한 적층 구조체에 의해 구성될 수 있다. 적층 구조체는 캡(200)에 의해 수용될 수 있고, 적층 구조체와 캡(200)은 본딩 라인을 통해 접합될 수 있다. 4A and 4B, a filter according to an embodiment of the present invention may include at least one series resonator (S1-S7) and at least one shunt resonator (Sh1-Sh4). At least one series resonator (S1-S7) and at least one shunt resonator (Sh1-Sh4) may be constituted by the above-described laminated structure. The laminated structure can be received by the cap 200, and the laminated structure and the cap 200 can be bonded through the bonding line.

적어도 하나의 시리즈 공진기(S1-S7) 및 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)는 접속 패턴 및 배선 전극 등의 배선 라인을 통해, 필터의 하부에 위치할 수 있는 외부 기판과 전기적으로 연결될 수 있다. At least one series resonator (S1-S7) and at least one shunt resonator (Sh1-Sh4) may be electrically connected to an external substrate, which may be located under the filter, through a wiring line such as a connection pattern and a wiring electrode .

도 4a를 참조하면, 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)와 연결되는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)은 본딩 라인(B)과 인접하게 배치되어, 배선 라인(A1, A2, A3, A4)과 본딩 라인(B) 사이에서 상호(mutual) 인덕턴스가 발생한다. 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)와 연결되는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)과 본딩 라인(B) 사이에서 상호(mutual) 인덕턴스에 의해, 배선 라인(A1, A2, A3, A4)에 전류(i1, i2, i3, i4)가 흐르는 경우, 본딩 라인에는 전류(i1', i2', i3', i4')가 흐르게 된다.4A, the wiring lines A1, A2, A3, and A4 connected to at least one shunt resonator Sh1-Sh4 are disposed adjacent to the bonding line B to form wiring lines A1, A2, A3 , A4) and the bonding line (B). The wiring lines A1, A2, A3, and A4 are formed by mutual inductance between the wiring lines A1, A2, A3, A4 connected to at least one shunt resonator Sh1-Sh4 and the bonding line B, (I1 ', i2', i3 ', i4') flow in the bonding line when currents i1, i2, i3 and i4 flow through the bonding line.

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)와 연결되는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)과 본딩 라인(B) 사이에서 상호(mutual) 인덕턴스를 회로 설계에 반영할 수 있다. 이 때, 적어도 하나의 션트 공진기(Sh1-Sh4)와 연결되는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)과 본딩 라인(B) 사이의 상호(mutual) 인덕턴스는 도 4a의 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)로 등가되어 표현될 수 있다.The filter according to an embodiment of the present invention is designed to have mutual inductance between the wiring lines A1, A2, A3, A4 connected to at least one shunt resonator Sh1-Sh4 and the bonding line B, . At this time, the mutual inductance between the wiring lines A1, A2, A3, A4 connected to at least one shunt resonator Sh1-Sh4 and the bonding line B is the inductance of the inductors Lt1, Lt2, Lt3, Lt4).

상호 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)의 인덕턴스는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)의 인덕턴스, 본딩 라인(B)의 인덕턴스 및 배선 라인(A1, A2, A3, A4)의 인덕턴스와 본딩 라인(B)의 인덕턴스의 결합 계수(Coupling Coefficient)에 따라 결정될 수 있다. The inductance of the mutual inductors Lt1, Lt2, Lt3 and Lt4 is determined by the inductance of the wiring lines A1, A2, A3 and A4, the inductance of the bonding line B and the inductances of the wiring lines A1, A2, A3 and A4 Can be determined according to the coupling coefficient of the inductance of the bonding line (B).

이 때, 배선 라인의 인덕턴스는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)의 길이 및 면적에 의해 결정될 수 있고, 본딩 라인(B)의 인덕턴스는 본딩 라인의 길이 및 면적에 의해 결정될 수 있다. 일 예로, 본딩 라인(B)의 인덕턴스는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)와 소정의 거리 내에 위치하는 상기 본딩 라인의 길이 및 면적에 의해 결정될 수 있다. 또한, 결합 계수(Coupling Coefficient)는 배선 라인(A1, A2, A3, A4)과 본딩 라인(B)의 이격 거리에 따라 결정될 수 있다. At this time, the inductance of the wiring line can be determined by the length and the area of the wiring lines A1, A2, A3 and A4, and the inductance of the bonding line B can be determined by the length and the area of the bonding line. For example, the inductance of the bonding line B may be determined by the length and area of the bonding line located within a predetermined distance from the wiring lines A1, A2, A3, and A4. The coupling coefficient may be determined according to the separation distance between the wiring lines A1, A2, A3, A4 and the bonding line B. [

본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 배선 라인의 인덕턴스는 배선 라인(A1, A2, A3, A4) 및 본딩 라인(B)의 길이, 면적, 및 이격 거리 중 적어도 하나를 조절하여, 상호 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)의 인덕턴스를 변경할 수 있다. 또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 상호 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)의 인덕턴스를 변경하여 필터링 특성을 조절할 수 있다. 일 예로, 필터의 주파수 대역을 결정하는 극점의 위치가 조절될 수 있다. The filter according to an embodiment of the present invention can adjust the inductance of the wiring line by adjusting at least one of the length, the area and the separation distance of the wiring lines A1, A2, A3, A4 and the bonding line B, Lt1, Lt2, Lt3, and Lt4) can be changed. Also, the filter according to an embodiment of the present invention can adjust the filtering characteristics by changing the inductance of the mutual inductors Lt1, Lt2, Lt3, and Lt4. In one example, the position of the pole point that determines the frequency band of the filter can be adjusted.

도 5 내지 도 9은 본 발명의 다양한 실시예에 따른 시뮬레이션 그래프이다. 5 to 9 are simulation graphs according to various embodiments of the present invention.

도 5 내지 도 9에서 점선으로 도시된 무선 주파수 신호의 그래프는 비교예에 해당하고, 실선으로 도시된 무선 주파수 신호의 그래프는 본 발명의 실시예들에 해당한다. 비교예는 본딩 라인과 배선 라인이 충분히 이격되어, 본딩 라인의 인덕턴스와 배선 라인의 인덕턴스가 서로 결합되지 않는 것으로 가정한다. The graph of the radio frequency signal indicated by the dotted line in FIGS. 5 to 9 corresponds to the comparative example, and the graph of the radio frequency signal indicated by the solid line corresponds to the embodiments of the present invention. The comparative example assumes that the bonding line and the wiring line are sufficiently spaced apart so that the inductance of the bonding line and the inductance of the wiring line are not coupled to each other.

하기의 표 1은 도 5 내지 도 9의 본 발명의 실시예의 상호 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)의 결합 계수(K1, K2, K3, K4)를 나타낸 표이다. 도 5 내지 도 9에서, 배선 라인의 인덕턴스(L1, L2, L3, L4)는 0.3nH, 본딩 라인의 인덕턴스(L1', L2', L3', L4')는 0.5nH로 측정되었으며, 배선 라인과 본딩 라인의 이격 거리를 조절하여, 표 5의 각 상호 인덕터(Lt1, Lt2, Lt3, Lt4)의 결합 계수(K1, K2, K3, K4)가 변경되었다. Table 1 below is a table showing coupling coefficients (K1, K2, K3, K4) of the mutual inductors Lt1, Lt2, Lt3, and Lt4 in the embodiments of the present invention shown in Figs. 5 to 9, the inductances L1, L2, L3 and L4 of the wiring lines were 0.3 nH and the inductances L1 ', L2', L3 'and L4' of the bonding lines were 0.5 nH, The coupling coefficients K1, K2, K3, and K4 of the mutual inductors Lt1, Lt2, Lt3, and Lt4 in Table 5 were changed by adjusting the spacing distance between the bonding lines.

배선 라인과 본딩 라인의 이격 거리가 가까운 경우, 결합 계수(K1, K2, K3, K4)는 증가하고, 배선 라인과 본딩 라인의 이격 거리가 멀수록, 결합 계수(K1, K2, K3, K4)는 감소하므로, 도 5에서 도 9로 갈수록 본딩 라인과 배선 라인 간의 간격이 감소하는 것으로 이해될 수 있다. The coupling coefficients K1, K2, K3 and K4 increase and the coupling coefficients K1, K2, K3 and K4 increase as the distance between the wiring line and the bonding line becomes longer, It can be understood that the interval between the bonding line and the wiring line decreases from FIG. 5 to FIG.

K1K1 K2K2 K3K3 K4K4 도 55 0.10.1 0.10.1 0.10.1 0.10.1 도 66 0.10.1 0.10.1 0.150.15 0.150.15 도 77 0.150.15 0.150.15 0.150.15 0.150.15 도 88 0.30.3 0.30.3 0.150.15 0.150.15 도 99 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3

도 5 내지 도 9를 참조하면, 비교예의 좌측 극점은 1.815GHz에서 -160 dB에 해당하고, 실시예의 도 5의 좌측 극점은 1.781GHz에서 -85.6dB에 해당하고, 도 6의 좌측 극점은 1.776GHz에서 -84dB에 해당하고, 도 7의 좌측 극점은 1.769 GHz에서 -82.5 dB에 해당하고, 도 8의 좌측 극점은 1.753 GHz에서 -80.4 dB에 해당하고, 도 9의 좌측 극점은 1.723 GHz에서 -78.8dB에 해당함을 확인할 수 있다. 5 to 9, the left pole of the comparative example corresponds to -160 dB at 1.815 GHz, the left pole of FIG. 5 corresponds to -85.6 dB at 1.781 GHz, and the left pole of FIG. 6 corresponds to 1.776 GHz 7, the left pole in FIG. 7 corresponds to -82.5 dB at 1.769 GHz, the left pole in FIG. 8 corresponds to -80.4 dB at 1.753 GHz, and the left pole in FIG. 9 corresponds to -78.8 dB, respectively.

실시예와 비교예를 비교하면, 본딩 라인과 배선 라인이 충분히 이격된 비교예에 비하여, 본 발명의 실시예는 좌측 극점의 게인 및 주파수가 감소될 수 있다. 또한, 도 5 내지 도 9의 본 발명의 실시예들을 살펴보면, 도 5에서 도 9로 갈수록 본딩 라인과 배선 라인 간의 간격이 감소함에 따라, 좌측 극점의 게인 및 주파수가 점차 감소되는 방향으로 이동함을 확인할 수 있다. Comparing the embodiment and the comparative example, the embodiment of the present invention can reduce the gain and the frequency of the left pole, as compared with the comparative example in which the bonding line and the wiring line are sufficiently spaced. 5 to 9, as the distance between the bonding line and the wiring line decreases from FIG. 5 to FIG. 9, the gain and frequency of the left pole move in a direction of gradually decreasing Can be confirmed.

즉, 본 발명의 일 실시예에 따른 필터는 배선 라인과 본딩 라인의 이격 거리에 따라 결정되는 결합 계수에 의해 주파수 대역을 결정하는 극점의 위치를 조절할 수 있다. That is, the filter according to the embodiment of the present invention can adjust the position of the pole to determine the frequency band by the coupling coefficient determined according to the distance between the wiring line and the bonding line.

이상에서 본 발명이 구체적인 구성요소 등과 같은 특정 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나, 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명이 상기 실시예들에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형을 꾀할 수 있다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed exemplary embodiments, but, on the contrary, Those skilled in the art will appreciate that various modifications, additions and substitutions are possible, without departing from the scope and spirit of the invention as disclosed in the accompanying claims.

따라서, 본 발명의 사상은 상기 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니 되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 특허청구범위와 균등하게 또는 등가적으로 변형된 모든 것들은 본 발명의 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.Therefore, the spirit of the present invention should not be construed as being limited to the above-described embodiments, and all of the equivalents or equivalents of the claims, as well as the following claims, I will say.

110: 기판
112: 에어 캐비티
113: 비아홀
114: 접속 패턴
115: 기판용 접속 패드
125: 식각 저지층
130: 멤브레인
135: 공진부
140: 제1 전극
150: 압전층
160: 제2 전극
170: 보호층
200: 캡
250: 접합제
1000, 2000: 필터
10, 20, 100, 1100, 1200, 2100, 2200, 2300, 2400: 체적 음향 공진기
110: substrate
112: air cavity
113: Via hole
114: connection pattern
115: connection pad for substrate
125: etch stop layer
130: Membrane
135:
140: first electrode
150: piezoelectric layer
160: Second electrode
170: protective layer
200: cap
250: Bonding agent
1000, 2000: filter
10, 20, 100, 1100, 1200, 2100, 2200, 2300, 2400: a volume acoustic resonator

Claims (15)

복수의 막으로 구성되어, 복수의 체적 음향 공진기 및 상기 복수의 체적 음향 공진기와 연결되는 배선 라인을 구현하는 적층 구조체; 및
상기 적층 구조체와 본딩 라인에서 결합하는 캡; 을 포함하고,
상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 상호 인덕턴스에 의해 필터링 특성이 결정되는 필터.
A laminated structure composed of a plurality of films and embodying a plurality of volume acoustic resonators and wiring lines connected to the plurality of volume acoustic resonators; And
A cap coupled to the laminate structure at a bonding line; / RTI >
Wherein a filtering characteristic is determined by mutual inductance between the wiring line and the bonding line.
제1항에 있어서,
상기 복수의 체적 음향 공진기는 적어도 하나의 시리즈 공진기 및 적어도 하나의 션트 공진기를 포함하는 필터.
The method according to claim 1,
Wherein the plurality of volume acoustic resonators comprise at least one series resonator and at least one shunt resonator.
제2항에 있어서,
상기 적어도 하나의 션트 공진기와 연결되는 상기 배선 라인의 인덕턴스와 상기 본딩 라인의 인덕턴스 간의 상호 인덕턴스에 의해 상기 필터링 특성이 결정되는 필터.
3. The method of claim 2,
Wherein the filtering characteristic is determined by a mutual inductance between an inductance of the wiring line connected to the at least one shunt resonator and an inductance of the bonding line.
제3항에 있어서,
상기 상호 인덕턴스는 상기 적어도 하나의 션트 공진기에 연결되는 인덕터를 제공하는 필터.
The method of claim 3,
Wherein the mutual inductance is coupled to the at least one shunt resonator.
제1항에 있어서,
상기 배선 라인의 인덕턴스는 상기 배선 라인의 길이 및 면적에 의해 결정되는 필터.
The method according to claim 1,
Wherein the inductance of the wiring line is determined by the length and area of the wiring line.
제1항에 있어서,
상기 본딩 라인의 인덕턴스는 상기 배선 라인과 소정의 거리 내에 위치하는 상기 본딩 라인의 길이 및 면적에 의해 결정되는 필터.
The method according to claim 1,
Wherein the inductance of the bonding line is determined by a length and an area of the bonding line which is located within a predetermined distance from the wiring line.
제1항에 있어서,
상기 상호 인덕턴스는 상기 배선 라인의 인덕턴스, 상기 본딩 라인의 인덕턴스 및 상기 배선 라인의 인덕턴스와 상기 본딩 라인의 인덕턴스의 결합 계수에 의해 결정되는 필터.
The method according to claim 1,
Wherein the mutual inductance is determined by an inductance of the wiring line, an inductance of the bonding line, and a coupling coefficient of an inductance of the wiring line and an inductance of the bonding line.
제7항에 있어서,
상기 결합 계수는 상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리에 따라 결정되는 필터.
8. The method of claim 7,
Wherein the coupling coefficient is determined according to a distance between the wiring line and the bonding line.
제8항에 있어서,
상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리에 따라 주파수 대역을 결정하는 극점의 위치가 변경되는 필터.
9. The method of claim 8,
Wherein a position of a pole for determining a frequency band is changed according to a distance between the wiring line and the bonding line.
제9항에 있어서,
상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리가 가까울수록 주파수 대역을 결정하는 좌측 극점의 게인 및 주파수가 감소하는 필터.
10. The method of claim 9,
Wherein a gain and a frequency of a left pole for determining a frequency band decrease as the distance between the wiring line and the bonding line decreases.
신호 입력단과 신호 출력단 사이에 배치되는 복수의 시리즈 공진기;
상기 복수의 시리즈 공진기 각각과 접지 사이에 배치되는 복수의 션트 공진기; 및
상기 복수의 션트 공진기 중 적어도 하나와 접지 사이에 배치되는 인덕터; 를 포함하고,
상기 인덕터는, 상기 복수의 시리즈 공진기 및 상기 복수의 션트 공진기를 수용하는 캡에 의해 형성되는 본딩 라인과 상기 복수의 션트 공진기 중 적어도 하나와 연결되는 배선 라인의 상호 인덕턴스에 의해 구현되는 필터.
A plurality of series resonators disposed between a signal input terminal and a signal output terminal;
A plurality of shunt resonators disposed between each of said plurality of series resonators and a ground; And
An inductor disposed between at least one of the plurality of shunt resonators and ground; Lt; / RTI >
Wherein the inductor is implemented by mutual inductance of a bonding line formed by a cap accommodating the plurality of series resonators and the plurality of shunt resonators and a wiring line connected to at least one of the plurality of shunt resonators.
제11항에 있어서,
상기 상호 인덕턴스는 상기 배선 라인의 인덕턴스, 상기 본딩 라인의 인덕턴스 및 상기 배선 라인의 인덕턴스와 상기 본딩 라인의 인덕턴스의 결합 계수에 의해 결정되는 필터.
12. The method of claim 11,
Wherein the mutual inductance is determined by an inductance of the wiring line, an inductance of the bonding line, and a coupling coefficient of an inductance of the wiring line and an inductance of the bonding line.
제12항에 있어서,
상기 결합 계수는 상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리에 따라 결정되는 필터.
13. The method of claim 12,
Wherein the coupling coefficient is determined according to a distance between the wiring line and the bonding line.
제13항에 있어서,
상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리에 따라 주파수 대역을 결정하는 극점의 위치가 변경되는 필터.
14. The method of claim 13,
Wherein a position of a pole for determining a frequency band is changed according to a distance between the wiring line and the bonding line.
제14항에 있어서,
상기 배선 라인과 상기 본딩 라인의 이격 거리가 가까울수록 주파수 대역을 결정하는 좌측 극점의 게인 및 주파수가 감소하는 필터.
15. The method of claim 14,
Wherein a gain and a frequency of a left pole for determining a frequency band decrease as the distance between the wiring line and the bonding line decreases.
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