KR101859720B1 - Polyester resin composition and preparation method for highly dispersed potyester resin - Google Patents

Polyester resin composition and preparation method for highly dispersed potyester resin Download PDF

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문근형
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Abstract

The present invention relates to a polyester resin composition and to a method for producing a highly dispersed polyester resin, and a highly dispersed polyester resin-derived film produced according to the production method has high transmittance of visible light and excellent light blocking rate in the near infrared region. In addition, the film is excellent in the dispersibility of tungsten oxide and has a low haze, thereby being used in various industrial fields such as automobile, building, windows and the like.

Description

폴리에스테르 수지 조성물 및 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법{POLYESTER RESIN COMPOSITION AND PREPARATION METHOD FOR HIGHLY DISPERSED POTYESTER RESIN}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polyester resin composition and a method for producing the same,

실시예는 폴리에스테르 수지 조성물 및 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법에 관한 것이다.The examples relate to a polyester resin composition and a method for producing a highly dispersed polyester resin.

일반적으로 폴리에스테르 필름은 디스플레이 기기, 음료충전용 용기, 의료용, 포장재, 시트(sheet), 차량용, 건축용, 윈도우용 등의 여러 산업용 재료로서 이용되고 있다. 그 중에서도 열 차단성이 필요한 산업 분야의 폴리에스테르 필름은 폴리에스테르 필름 상에 열 차단 물질을 코팅하는 방법으로 제조되었다. 그러나, 대표적인 열 차단 물질인 텅스텐 함유 산화물은 고분산성의 구현이 필요하여 제조공정상 어려움이 있었다(대한민국 등록특허 제 10-0701735 호 참조). 또한, 열 차단 물질을 코팅하는 방법으로 제조된 종래 폴리에스테르 필름은 후가공시 생산 효율이 감소하는 문제, 열 차단 물질을 코팅하는 추가 공정이 필요한 문제, 및 열 차단 물질의 코팅층이 외부 환경에 노출될 경우 내후성 등 필름의 물성이 저하되는 문제가 있었다.Background Art Polyester films are generally used for various industrial materials such as display devices, containers for beverage filling, medical use, packaging materials, sheets, vehicles, architectural use, and windows. Among them, polyester films in industrial fields that require heat shielding are prepared by coating heat shielding materials on polyester films. However, the tungsten-containing oxide, which is a typical heat shielding material, is required to be highly dispersed and has a difficulty in manufacturing (see Korean Patent No. 10-0701735). In addition, the conventional polyester film prepared by coating a heat shielding material has problems such as a decrease in production efficiency at the time of post-processing, an additional process for coating a heat shielding material, and a problem that a coating layer of a heat shielding material is exposed to the external environment There is a problem that the physical properties of the film such as weather resistance are deteriorated.

대한민국 등록특허 제 10-0701735 호Korean Patent No. 10-0701735

따라서, 실시예는 텅스텐 함유 산화물을 폴리에스테르 수지의 중합 단계에 투입함으로써, 텅스텐 함유 산화물의 분산성이 우수한 폴리에스테르 수지를 제조할 수 있는 폴리에스테르 수지 조성물 및 이를 이용하는 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법을 제공하는 것이다.Thus, the examples are a polyester resin composition capable of producing a polyester resin excellent in dispersibility of a tungsten-containing oxide by introducing a tungsten-containing oxide into a polymerization step of the polyester resin, and a method of producing a highly dispersed polyester resin using the same .

상기 목적을 달성하기 위해 일실시예는,In order to achieve the above object,

에스테르계 프리폴리머, 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 분산안정제 및 계면활성제를 포함하는 폴리에스테르 수지 조성물로서,A polyester resin composition comprising an ester-based prepolymer, cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, a dispersion stabilizer and a surfactant,

상기 폴리에스테르 수지 조성물이 총 중량을 기준으로 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 0.1 내지 10 중량%의 양으로 포함하는, 폴리에스테르 수지 조성물을 제공한다.Wherein the polyester resin composition contains the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the polyester resin composition.

상기 다른 목적을 달성하기 위해 일실시예는,According to another aspect of the present invention,

에스테르계 프리폴리머에 분산안정제, 계면활성제 및 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하고 가열하여 중합하는 단계를 포함하며,Adding a dispersion stabilizer, a surfactant and cesium-doped tungsten oxide nanoparticles to the ester-based prepolymer, and heating and polymerizing,

상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자가 중합 조성물 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 양으로 사용되는, 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법을 제공한다.Wherein the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are used in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the polymer composition.

상기 또 다른 목적을 달성하기 위해 일실시예는,According to another aspect of the present invention,

상기 제조방법에 따라 제조된 고분산 폴리에스테르 수지를 포함하고,And a highly dispersed polyester resin prepared according to the above production method,

400 내지 780 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 %이상이며, 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율이 50 % 이상이고, An average transmittance of light having a wavelength of 400 to 780 nm is 50% or more, a light blocking rate of 950 nm is 50% or more,

210 mm × 297 mm × 25 ㎛(가로 × 세로 × 두께)의 샘플을 대상으로 25 ℃에서 측정한 헤이즈가 5 % 미만인, 근적외선 차단 필름을 제공한다.And a haze measured at 25 占 폚 of a sample of 210 mm 占 297 mm 占 25 占 퐉 (width 占 length 占 thickness) is less than 5%.

일실시예에 따라 제조된 고분산 폴리에스테르 수지로부터 제조된 필름은 가시광선의 투과율은 높고 근적외선 영역의 광의 차단율이 뛰어나다. 또한, 상기 필름은 텅스텐 산화물의 분산성이 우수하여 필름의 헤이즈가 낮아 차량용, 건축용 및 윈도우용 등 다양한 산업 분야에서 유용하게 사용될 수 있다.The film produced from the highly dispersed polyester resin produced according to one embodiment has high transmittance of visible light and excellent light blocking rate in the near infrared region. In addition, since the film has excellent dispersibility of tungsten oxide and has a low haze of the film, it can be usefully used in various industrial fields such as automobile, building and window.

도 1은 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 근적외선 차단 필름의 외관 사진이다.
도 2는 실시예 1 내지 3의 근적외선 차단 필름에 대해 측정한 자외선-가시광선 스펙트럼이다.
도 3은 비교예 1 내지 3의 근적외선 차단 필름에 대해 측정한 자외선-가시광선 스펙트럼이다.
1 is a photograph of the appearance of the near-infrared ray blocking film produced in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3.
FIG. 2 is an ultraviolet-visible ray spectrum of the near infrared ray blocking films of Examples 1 to 3.
3 is an ultraviolet-visible light spectrum measured for the near infrared ray blocking films of Comparative Examples 1 to 3.

일실시예에 따른 폴리에스테르 수지 조성물은 에스테르계 프리폴리머, 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 분산안정제 및 계면활성제를 포함하는 폴리에스테르 수지 조성물로서, 상기 폴리에스테르 수지 조성물이 총 중량을 기준으로 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 0.1 내지 10 중량%의 양으로 포함한다.The polyester resin composition according to one embodiment is a polyester resin composition comprising an ester-based prepolymer, cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, a dispersion stabilizer and a surfactant, wherein the polyester resin composition contains the cesium And the doped tungsten oxide nanoparticles in an amount of 0.1 to 10% by weight.

상기 폴리에스테르 수지 조성물은 총 중량을 기준으로 30 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.1 내지 10 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.1 내지 30 중량%의 분산안정제 및 0.1 내지 30 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리에스테르 수지 조성물은 총 중량을 기준으로 45 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.5 내지 5 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.5 내지 30 중량%의 분산안정제 및 0.5 내지 20 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 폴리에스테르 수지 조성물은 총 중량을 기준으로 50 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.5 내지 3 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 1 내지 30 중량%의 분산안정제 및 1 내지 20 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 상기 함량 범위 내로 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 포함할 경우, 나노입자의 첨가량 대비 근적외선 차단 효과가 우수하여 경제적이며, 필름의 헤이즈를 10 % 미만으로 조절할 수 있다.The polyester resin composition comprises 30 to 70% by weight of an ester-based prepolymer, 0.1 to 10% by weight of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, 0.1 to 30% by weight of a dispersion stabilizer and 0.1 to 30% Of surfactant . Specifically, the polyester resin composition comprises 45 to 70% by weight of an ester-based prepolymer, 0.5 to 5% by weight of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, 0.5 to 30% by weight of a dispersion stabilizer, 20 wt% surfactant < RTI ID = 0.0 > . More specifically, the polyester resin composition comprises 50 to 70 wt% of an ester-based prepolymer, 0.5 to 3 wt% of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, 1 to 30 wt% of a dispersion stabilizer, and 1 To 20% by weight of a surfactant . When the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are contained within the above-mentioned content range, it is economical because of the excellent effect of blocking the near-infrared ray compared to the addition amount of the nanoparticles, and the haze of the film can be controlled to less than 10%.

에스테르계 Ester system 프리폴리머Prepolymer

프리폴리머(prepolymer)란 일반적으로 일종의 최종성형품을 제조함에 있어서, 성형하기 쉽도록 중합도를 중간 단계에서 중지시킨 비교적 낮은 분자량을 갖는 고분자를 의미한다. 프리폴리머는 그 자체로 또는 다른 중합성 화합물과 반응시킨 후 성형할 수 있고, 예를 들어, 디올 화합물과 디카르복실산 화합물을 에스테르화 반응시켜 제조된 것일 수 있다.The term "prepolymer" generally means a polymer having a relatively low molecular weight in which a degree of polymerization is interrupted at an intermediate stage in order to easily form a final molded product. The prepolymer may be formed by itself or after reacting with another polymerizable compound, and may be prepared, for example, by esterifying a diol compound and a dicarboxylic acid compound.

상기 에스테르계 프리폴리머의 제조에 사용되는 디올 화합물은, 예를 들어, 에틸렌글리콜, 1,4-사이클로헥산디메탄올, 1,3-프로판디올, 1,2-옥탄디올, 1,3-옥탄디올, 2,3-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올(네오펜틸 글리콜), 2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올, 2,2-디에틸-1,5-펜탄디올, 2,4-디에틸-1,5-펜탄디올, 3-메틸-1,5-펜탄디올, 1,1-디메틸-1,5-펜탄디올, 스피로글리콜(spiroglycol, 3,9-비스(1,1-디메틸-2-히드록시에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸) 및 디에틸렌글리콜(2-(2-히드록시에톡시)에탄-1-올) 등을 들 수 있다.Examples of the diol compound used in the preparation of the ester-based prepolymer include ethylene glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, 1,3-propanediol, 1,2-octanediol, Butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol (neopentyl glycol) 1,3-propanediol, 2,2-diethyl-1,5-pentanediol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 3-methyl- -Dimethyl-1,5-pentanediol, spiroglycol, 3,9-bis (1,1-dimethyl-2-hydroxyethyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane ) And diethylene glycol (2- (2-hydroxyethoxy) ethan-1-ol).

상기 에스테르계 프리폴리머의 제조에 사용되는 디카르복실산 화합물은, 예를 들어, 테레프탈산, 디메틸테레프탈산, 이소프탈산, 나프탈렌 디카복실산, 오르토프탈산 등의 방향족 디카르복실산; 아디프산, 아젤라산, 세바스산, 데칸디카르복실산 등의 지방족 디카르복실산; 지환식 디카르복실산; 이들의 에스테르화물; 및 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound used in the preparation of the ester-based prepolymer include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, dimethylterephthalic acid, isophthalic acid, naphthalene dicarboxylic acid and orthophthalic acid; Aliphatic dicarboxylic acids such as adipic acid, azelaic acid, sebacic acid and decanedicarboxylic acid; Alicyclic dicarboxylic acid; Esters thereof; And mixtures thereof.

세슘이 Cesium 도프된Doped 텅스텐 산화물 나노입자 Tungsten oxide nanoparticles

상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자는 CsWOx로 표시될 수 있으며, 이때 X는 1 내지 10일 수 있다. 구체적으로, 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자는 CsWOx로 표시될 수 있으며, 이때 X는 3 내지 5일 수 있다.The cesium-doped tungsten oxide nanoparticles may be represented by CsWO x, where X may be from 1 to 10. Specifically, the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles may be represented by CsWO x, where X may be from 3 to 5.

상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자는 1 내지 800 nm의 평균 직경을 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자는 50 내지 600 nm, 50 내지 500 nm, 또는 70 내지 300 nm의 평균 직경을 가질 수 있다.The cesium-doped tungsten oxide nanoparticles may have an average diameter of 1 to 800 nm. Specifically, the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles may have an average diameter of 50 to 600 nm, 50 to 500 nm, or 70 to 300 nm.

분산안정제Dispersion stabilizer

상기 분산안정제는 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 아디핀산염계 및 아마이드계로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 분산안정제는 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트)(poly(1,6-hexamethylene adipate)) 및 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산(N,N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 분산안정제는 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트) 및 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산을 포함할 수 있다. 더욱 구체적으로, 상기 분산안정제는 총 중량을 기준으로 1 내지 20 중량%의 1,1-디클로로에탄, 1 내지 20 중량%의 수산화칼륨, 1 내지 20 중량%의 수산화나트륨, 10 내지 50 중량%의 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트) 및 20 내지 60 중량%의 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산을 포함할 수 있다.The dispersion stabilizer may include at least one selected from the group consisting of 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, adipic acid salt and amide. Specifically, the dispersion stabilizer is selected from the group consisting of 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, poly (1,6-hexamethylene adipate) and N, N'- (N, N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane) may be included. More specifically, the dispersion stabilizer includes 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, poly (1,6-hexamethylene adipate) and N, N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane can do. More specifically, the dispersion stabilizer may comprise 1 to 20% by weight of 1,1-dichloroethane, 1 to 20% by weight of potassium hydroxide, 1 to 20% by weight of sodium hydroxide, 10 to 50% by weight of Poly (1,6-hexamethylene adipate) and 20 to 60% by weight of N, N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane.

상기 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트)는 수평균분자량이 100 내지 10,000일 수 있다. 구체적으로, 상기 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트)는 수평균분자량이 1,000 내지 10,000, 1,000 내지 7,000, 또는 1,000 내지 5,000일 수 있다.The poly (1,6-hexamethylene adipate) may have a number average molecular weight of 100 to 10,000. Specifically, the poly (1,6-hexamethylene adipate) may have a number average molecular weight of 1,000 to 10,000, 1,000 to 7,000, or 1,000 to 5,000.

계면활성제Surfactants

상기 계면활성제는 소듐 도데실 설페이트, 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 구연산(citric acid)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 계면활성제는 소듐 도데실 설페이트, 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 구연산을 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 계면활성제는 총 중량을 기준으로 10 내지 50 중량%의 소듐 도데실 설페이드, 10 내지 40 중량%의 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 1 내지 20 중량%의 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 1 내지 20 중량%의 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 10 내지 50 중량%의 구연산을 포함할 수 있다.The surfactant may include at least one member selected from the group consisting of sodium dodecyl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dodecylnaphthalenesulfate, sodium hexylbenzenesulfonate, and citric acid. Specifically, the surfactant may include sodium dodecyl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dodecylnaphthalenesulfate, sodium hexylbenzenesulfonate, and citric acid. More specifically, the surfactant comprises 10 to 50 wt.% Sodium dodecylsulfate, 10 to 40 wt.% Sodium dodecylbenzenesulfonate, 1 to 20 wt.% Sodium dodecylnaphthalenesulfate, 1 to 20% by weight of sodium hexylbenzenesulfonate and 10 to 50% by weight of citric acid .

일실시예에 따른 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법은 에스테르계 프리폴리머에 분산안정제, 계면활성제 및 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하고 가열하여 중합하는 단계를 포함하며, 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자가 중합 조성물 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량%의 양으로 사용된다. According to one embodiment of the present invention, there is provided a method for producing a highly dispersed polyester resin comprising the steps of adding a dispersion stabilizer, a surfactant and cesium-doped tungsten oxide nanoparticles to an ester-based prepolymer and heating and polymerizing the cesium-doped tungsten The oxide nanoparticles are used in an amount of 0.1 to 10% by weight based on the total weight of the polymer composition.

상기 제조방법은 폴리에스테르 수지의 중합 도중에 열 차단 물질인 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하여 상기 나노입자의 분산도를 높임으로써, 가시광선의 투과율 및 근적외선 영역의 광의 차단율이 높은 폴리에스테르 수지를 제조할 수 있다.In the above method, cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are added during the polymerization of the polyester resin to increase the degree of dispersion of the nanoparticles to increase the transmittance of the visible light and the light blocking rate of the near infrared region. Can be manufactured.

상기 에스테르계 프리폴리머, 분산안정제, 계면활성제 및 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자는 상기 폴리에스테르 수지 조성물에서 설명한 바와 같다.The ester-based prepolymer, dispersion stabilizer, surfactant and cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are as described for the polyester resin composition.

상기 중합 조성물은 총 중량을 기준으로 30 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.1 내지 10 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.1 내지 30 중량%의 분산안정제 및 0.1 내지 30 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 중합 조성물은 총 중량을 기준으로 45 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.5 내지 5 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.5 내지 30 중량%의 분산안정제 및 0.5 내지 20 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 보다 구체적으로, 상기 중합 조성물은 총 중량을 기준으로 50 내지 70 중량%의 에스테르계 프리폴리머, 0.5 내지 3 중량%의 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 1 내지 30 중량%의 분산안정제 및 1 내지 20 중량%의 계면활성제를 포함할 수 있다. 상기 함량 범위 내로 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 포함할 경우, 나노입자의 첨가량 대비 근적외선 차단 효과가 우수하여 경제적이며, 필름의 헤이즈를 10 % 미만으로 조절할 수 있다.Wherein the polymeric composition comprises from 30 to 70% by weight of ester based prepolymer, from 0.1 to 10% by weight of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, from 0.1 to 30% by weight of a dispersion stabilizer and from 0.1 to 30% Active agent . Specifically, the polymer composition comprises 45 to 70% by weight of ester based prepolymer, 0.5 to 5% by weight of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, 0.5 to 30% by weight of a dispersion stabilizer and 0.5 to 20% by weight % Of surfactant . More specifically, the polymer composition comprises 50 to 70% by weight of an ester based prepolymer, 0.5 to 3% by weight of cesium doped tungsten oxide nanoparticles, 1 to 30% by weight of a dispersion stabilizer, and 1 to 20 By weight of surfactant . When the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are contained within the above-mentioned content range, it is economical because of the excellent effect of blocking the near-infrared ray compared to the addition amount of the nanoparticles, and the haze of the film can be controlled to less than 10%.

고분산 폴리에스테르 수지는 상기 에스테르계 프리폴리머에 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하고 80 내지 180 ℃로 가열하여 1차 중합시킨 후, 분산안정제 및 계면활성제를 첨가하고 100 내지 200 ℃로 가열하여 2차 중합시켜 제조될 수 있다. In the highly disperse polyester resin, the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are added to the ester-based prepolymer, and the mixture is heated to 80 to 180 ° C for primary polymerization. Then, a dispersion stabilizer and a surfactant are added and heated to 100 to 200 ° C Followed by secondary polymerization.

상술한 바와 같은 제조방법에 따라 제조된 고분산 폴리에스테르 수지는 0.35 내지 1.50 ㎗/g의 고유점도(IV)를 가질 수 있다.The highly disperse polyester resin prepared according to the above-described preparation method may have an intrinsic viscosity (IV) of 0.35 to 1.50 dl / g.

근적외선Near infrared 차단 필름 Barrier film

또한, 일실시예는 상술한 바와 같은 제조방법에 따라 제조된 고분산 폴리에스테르 수지를 포함하고, 400 내지 780 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 %이상이며, 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율이 50 % 이상이고, 210 mm × 297 mm × 25 ㎛(가로 × 세로 × 두께)의 샘플을 대상으로 25 ℃에서 측정한 헤이즈가 5 % 미만인, 근적외선 차단 필름을 제공한다. 구체적으로, 상기 근적외선 차단 필름은 400 내지 780 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 내지 85 %이며, 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율이 50 내지 80 %이고, 210 mm × 297 mm × 25 ㎛(가로 × 세로 × 두께)의 샘플을 대상으로 25 ℃에서 측정한 헤이즈가 0.1 내지 4 % 또는 0.1 내지 2 %일 수 있다.In addition, one embodiment includes a highly dispersed polyester resin produced according to the above-described production method, and has an average transmittance of 50% or more of light having a wavelength of 400 to 780 nm and a light blocking rate of 950 nm %, And a haze measured at 25 占 폚 of a sample of 210 mm 占 297 mm 占 25 占 퐉 (width 占 length 占 thickness) is less than 5%. Specifically, the near-infrared ray blocking film has an average transmittance of light having a wavelength of 400 to 780 nm of 50 to 85%, a blocking rate of light having a wavelength of 950 nm of 50 to 80%, a size of 210 mm x 297 mm x 25 m (width x Length x thickness) of 0.1 to 4% or 0.1 to 2% as measured on a sample at 25 캜.

상기 근적외선 차단 필름은 15 내지 50 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 구체적으로, 상기 근적외선 차단 필름은 20 내지 35 ㎛의 두께를 가질 수 있다. 또한, 상기 근적외선 차단 필름은 미연신, 1축 연신, 2축 연신 등의 형태일 수 있다.The near infrared ray shielding film may have a thickness of 15 to 50 mu m. Specifically, the near-IR blocking film may have a thickness of 20 to 35 탆. The near-IR blocking film may be in the form of unstretched, uniaxially stretched, biaxially stretched, or the like.

상기 근적외선 차단 필름은 400 내지 780 nm 파장을 갖는 가시광선의 평균 투과율이 50 % 이상으로 높고, 900 내지 2000 nm 파장을 갖는 근적외선 영역의 광의 평균 투과율이 50 % 미만으로 낮아 근적외선 영역의 광의 차단율이 뛰어나다.The near infrared ray blocking film has a high average transmittance of visible light having a wavelength of 400 to 780 nm of at least 50% and an average transmittance of light of a near infrared region having a wavelength of 900 to 2000 nm as low as less than 50%.

상기 근적외선 차단 필름은 L*a*b* 표색계에서 b*값이 -1.5 내지 1.7일 수 있다. The near infrared ray blocking film may have a b * value of -1.5 to 1.7 in an L * a * b * color system.

상술한 바와 같은 근적외선 차단 필름은 텅스텐 산화물의 분산성이 우수하여 필름의 헤이즈가 낮아 차량용, 건축용 및 윈도우용 등 다양한 산업 분야에서 유용하게 사용될 수 있다.The above-mentioned near infrared ray shielding film is excellent in dispersibility of tungsten oxide and has a low haze of the film, and thus can be usefully used in various industrial fields such as automobiles, architectural use and window.

[[ 실시예Example ]]

이하, 본 발명을 하기 실시예에 의하여 더욱 상세하게 설명한다. 단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들만으로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the following examples are for illustrative purposes only and are not intended to limit the scope of the present invention.

실시예Example 1.  One. 고분산High dispersion 폴리에스테르 수지의 제조 Production of polyester resin

테레프탈산(TPA) 1,000 g과 에틸렌글리콜(EG) 550 g을 혼합한 후, 약 170 ℃의 온도에서 약 20 시간 동안 에스테르화 반응시켜 에스테르계 프리폴리머를 제조하였다. 이후 분산안정제 430.6 g, 계면활성제 215.3 g, 및 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자(제조사: 케이앤피나노, 제품명: ANP-TF, 화학식: CsWOx, 이때 x는 3.2, 평균 입경: 272.2 nm) 21.7 g을 첨가하고, 교반하여 혼합하였다.1,000 g of terephthalic acid (TPA) and 550 g of ethylene glycol (EG) were mixed and esterified at a temperature of about 170 캜 for about 20 hours to prepare an ester type prepolymer. Thereafter, 430.6 g of a dispersion stabilizer, 215.3 g of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles (manufactured by KANPI NANO, product name: ANP-TF, chemical formula: CsWO x , where x is 3.2 and average particle diameter is 272.2 nm) 21.7 g were added and mixed by stirring.

상기 분산안정제로는 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트)(수평균분자량: 약 3,800) 및 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산을 1 : 1 : 1 : 3 : 4의 중량비로 포함하는 혼합물을 사용하였다. 또한, 상기 계면활성제로는 소듐 도데실 설페이트, 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 구연산을 3 : 2 : 1 : 1 : 3의 중량비로 포함하는 혼합물을 사용하였다.Examples of the dispersion stabilizer include 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, poly (1,6-hexamethylene adipate) (number average molecular weight: about 3,800) and N, N'- Diaminohexane in a weight ratio of 1: 1: 1: 3: 4 was used. Also, a mixture containing sodium dodecyl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dodecylnaphthalenesulfate, sodium hexylbenzenesulfonate and citric acid in a weight ratio of 3: 2: 1: 1: 3 was used as the surfactant Respectively.

혼합된 조성물을 275 ℃에서 3 시간 동안 중합반응시켜 고분산 폴리에스테르 수지(중량평균분자량: 35,000, 고유점도(IV): 0.68 ㎗/g)를 제조하였다.The mixed composition was subjected to polymerization reaction at 275 캜 for 3 hours to prepare a highly dispersed polyester resin (weight average molecular weight: 35,000, intrinsic viscosity (IV): 0.68 dl / g).

실시예Example 2 및 3, 및  2 and 3, and 비교예Comparative Example 1 내지 3 1 to 3

하기 표 1에 나타낸 바와 같이, 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 계면활성제 및 분산안정제의 함량을 변화시킨 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 폴리에스테르 수지를 제조하였다.As shown in the following Table 1, a polyester resin was prepared in the same manner as in Example 1, except that the content of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, the surfactant, and the dispersion stabilizer was changed.

CsWOx의 함량Content of CsWO x 계면활성제의 함량Content of Surfactant 분산안정제의 함량Content of dispersion stabilizer 실시예 1Example 1 0.5 중량% (21.7 g)0.5 wt% (21.7 g) 10.0 중량%10.0 wt% 약 20 중량%About 20% 실시예 2Example 2 1.0 중량% (43.5 g)1.0 wt% (43.5 g) 10.0 중량%10.0 wt% 약 20 중량%About 20% 실시예 3Example 3 1.5 중량% (65.2 g)1.5 wt% (65.2 g) 10.0 중량%10.0 wt% 약 20 중량%About 20% 비교예 1Comparative Example 1 0.5 중량% (21.7 g)0.5 wt% (21.7 g) -- -- 비교예 2Comparative Example 2 1.0 중량% (43.5 g)1.0 wt% (43.5 g) -- -- 비교예 3Comparative Example 3 1.5 중량% (65.2 g)1.5 wt% (65.2 g) -- --

실험예Experimental Example 1.  One.

실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3의 폴리에스테르 수지를 각각 280 ℃에서 캐스팅하여 미연신 시트로 제조한 후, 78 ℃에서 MD 방향으로 3.3배 연신하고 135 ℃에서 TD 방향으로 4.0배 연신하고 210 ℃에서 30 초 동안 열고정하여 두께 25 ㎛의 근적외선 차단 필름을 제조하였다. 상기 근적외선 차단 필름의 외관 사진을 도 1에 나타냈다.Each of the polyester resins of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3 was cast at 280 占 폚 to prepare an unstretched sheet, stretched 3.3 times in the MD direction at 78 占 폚, stretched 4.0 times in the TD direction at 135 占 폚 And the film was opened and fixed at 210 캜 for 30 seconds to prepare a near infrared ray blocking film having a thickness of 25 탆. An external view of the near-IR blocking film is shown in Fig.

또한, 상기 근적외선 차단 필름을 대상으로 다음과 같은 방법으로 물성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2, 및 도 2 및 3에 나타냈다.The properties of the near infrared ray blocking film were evaluated by the following methods, and the results are shown in Table 2 and Figs. 2 and 3 below.

(1) 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율(%)(1) the blocking rate (%) of light having a wavelength of 950 nm

근적외선 차단 필름에 대해 EDTM사의 SD2400으로 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율을 측정하였다.For the near infrared ray shielding film, the blocking rate of light having a wavelength of 950 nm was measured with SD2400 manufactured by EDTM.

(2) 헤이즈(%)(2) Haze (%)

근적외선 차단 필름을 210 mm × 297 mm × 25 ㎛(가로 × 세로 × 두께)로 절단하고 25 ℃에서 NDH-5000W 헤이즈메터를 사용하여 ASTM D 1003 방법으로 필름의 헤이즈를 측정하였다.The near infrared ray blocking film was cut into a size of 210 mm × 297 mm × 25 μm (width × length × thickness) and haze of the film was measured by the ASTM D 1003 method using an NDH-5000W haze meter at 25 ° C.

(3) L*a*b* 표색계(3) L * a * b * colorimetric system

근적외선 차단 필름에 대해 스펙트로 포토메터(제조사: HunterLab, 모델명: UltraScan Pro)을 사용하여 칼라를 측정하였다.The color of the near infrared ray blocking film was measured using a spectrophotometer (manufacturer: HunterLab, model: UltraScan Pro).

(4) 자외선-가시광선 스펙트럼(4) Ultraviolet-visible light spectrum

근적외선 차단 필름에 대해 SHIMADZU 사의 UV-2450를 이용하여 자외선-가시광선 스펙트럼(UV-VIS spectrum)을 측정하였으며, 그 결과는 도 2 및 3에 나타냈다.The ultraviolet-visible spectrum (UV-VIS spectrum) of the near infrared ray blocking film was measured using SHIMADZU UV-2450. The results are shown in FIGS. 2 and 3.

950nm 파장을 갖는 광의 차단율 (%)(%) Of light having a wavelength of 950 nm 헤이즈 (%)Haze (%) 칼라color L*L * a*a * b*b * 실시예 1Example 1 5555 0.80.8 95±595 ± 5 -0.3±1.0-0.3 ± 1.0 0.4±1.00.4 ± 1.0 실시예 2Example 2 6565 1.01.0 94±594 ± 5 -0.6±1.0-0.6 ± 1.0 0.5±1.00.5 ± 1.0 실시예 3Example 3 7575 1.51.5 93±593 ± 5 -0.9±1.0-0.9 ± 1.0 0.6±1.00.6 ± 1.0 비교예 1Comparative Example 1 1010 15.115.1 94±594 ± 5 -0.2±1.0-0.2 ± 1.0 1.0±1.01.0 ± 1.0 비교예 2Comparative Example 2 5555 58.158.1 84±584 ± 5 -1.2±1.0-1.2 ± 1.0 5.4±1.05.4 ± 1.0 비교예 3Comparative Example 3 7575 75.375.3 72±572 ± 5 -1.8±1.0-1.8 ± 1.0 9.3±1.09.3 ± 1.0

표 2에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 3의 고분산 폴리에스테르 수지로부터 제조된 근적외선 차단 필름은 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율이 50 % 이상으로 높고 3 % 미만의 현저히 낮은 헤이즈를 나타내어 비교예 1 내지 3의 근적외선 차단 필름보다 우수한 특성을 나타냈다. 실시예에 따른 근적외선 차단 필름의 현저히 낮은 헤이즈는 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자의 분산도가 높다는 것을 보이는 결과이다.As shown in Table 2, the near infrared ray shielding films prepared from the highly disperse polyester resins of Examples 1 to 3 exhibited a significantly lower than 50% blocking ratio of light with a wavelength of 950 nm and a significantly lower haze of less than 3% 3 > near-infrared ray blocking film. The significantly lower haze of the near-IR blocking film according to the embodiment is a result of showing that the dispersion degree of cesium-doped tungsten oxide nanoparticles is high.

도 2 및 3에서 보는 바와 같이, 실시예 1 내지 3의 근적외선 차단 필름은 400 내지 780 nm 파장을 갖는 가시광선의 투과율이 50 % 이상이며, 근적외선 영역인 900 내지 2,000 nm 파장을 갖는 광의 투과율이 50 % 이하로 나타났다.As shown in FIGS. 2 and 3, the near infrared ray blocking films of Examples 1 to 3 have a transmittance of visible light having a wavelength of 400 to 780 nm of 50% or more, a transmittance of light having a wavelength of 900 to 2,000 nm in the near- Respectively.

Claims (10)

에스테르계 프리폴리머, 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 분산안정제 및 계면활성제를 포함하는 폴리에스테르 수지 조성물로서,
상기 폴리에스테르 수지 조성물이 총 중량을 기준으로 30 내지 70 중량%의 상기 에스테르계 프리폴리머, 0.1 내지 10 중량%의 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.1 내지 30 중량%의 상기 분산안정제 및 0.1 내지 30 중량%의 상기 계면활성제를 포함하고,
상기 분산안정제가 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트) 및 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산을 포함하고,
상기 계면활성제가 소듐 도데실 설페이트, 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 구연산을 포함하고,
상기 폴리에스테르 수지 조성물로부터 제조된 두께 25 ㎛의 필름은 210 mm × 297 mm(가로 × 세로)를 기준으로 25 ℃에서 헤이즈가 0.1 내지 4 %이며, L*a*b 표색계에서 b*값이 -1.5 내지 1.7이고, 900 내지 2,000 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 % 미만인, 폴리에스테르 수지 조성물.
A polyester resin composition comprising an ester-based prepolymer, cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, a dispersion stabilizer and a surfactant,
Wherein the polyester resin composition comprises 30 to 70% by weight of the ester-based prepolymer, 0.1 to 10% by weight of the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, 0.1 to 30% by weight of the dispersion stabilizer, 30% by weight of said surfactant,
Wherein the dispersion stabilizer comprises 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, poly (1,6-hexamethylene adipate) and N, N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane,
Wherein the surfactant comprises sodium dodecyl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dodecylnaphthalenesulfate, sodium hexylbenzenesulfonate and citric acid,
The film having a thickness of 25 占 퐉 produced from the polyester resin composition had a haze of 0.1 to 4% at 25 占 폚 based on 210 mm 占 297 mm (width x length) and a b * value in the L * a * 1.5 to 1.7, and an average transmittance of light having a wavelength of 900 to 2,000 nm is less than 50%.
삭제delete 제1항에 있어서,
상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자가 1 내지 800 nm의 평균 직경을 갖는, 폴리에스테르 수지 조성물.
The method according to claim 1,
Wherein the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles have an average diameter of 1 to 800 nm.
삭제delete 삭제delete 에스테르계 프리폴리머에 분산안정제, 계면활성제 및 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하고 가열하여 중합하는 단계를 포함하며,
중합 조성물이 총 중량을 기준으로 30 내지 70 중량%의 상기 에스테르계 프리폴리머, 0.1 내지 10 중량%의 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자, 0.1 내지 30 중량%의 상기 분산안정제 및 0.1 내지 30 중량%의 상기 계면활성제를 포함하고,
상기 분산안정제가 1,1-디클로로에탄, 수산화칼륨, 수산화나트륨, 폴리(1,6-헥사메틸렌 아디페이트) 및 N,N'-디벤질-1,6-디아미노헥산을 포함하고,
상기 계면활성제가 소듐 도데실 설페이트, 소듐 도데실벤젠 설포네이트, 소듐 도데실나프탈렌 설페이트, 소듐 헥실벤젠 설포네이트 및 구연산을 포함하고,
상기 중합 조성물로부터 제조된 두께 25 ㎛의 필름은 210 mm × 297 mm(가로 × 세로)를 기준으로 25 ℃에서 헤이즈가 0.1 내지 4 %이며, L*a*b 표색계에서 b*값이 -1.5 내지 1.7이고, 900 내지 2,000 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 % 미만인, 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법.
Adding a dispersion stabilizer, a surfactant and cesium-doped tungsten oxide nanoparticles to the ester-based prepolymer, and heating and polymerizing,
Wherein the polymeric composition comprises from 30 to 70% by weight of the ester-based prepolymer, from 0.1 to 10% by weight of the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles, from 0.1 to 30% by weight of the dispersion stabilizer and from 0.1 to 30% Of said surfactant,
Wherein the dispersion stabilizer comprises 1,1-dichloroethane, potassium hydroxide, sodium hydroxide, poly (1,6-hexamethylene adipate) and N, N'-dibenzyl-1,6-diaminohexane,
Wherein the surfactant comprises sodium dodecyl sulfate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium dodecylnaphthalenesulfate, sodium hexylbenzenesulfonate and citric acid,
The film having a thickness of 25 占 퐉 produced from the polymer composition had a haze of 0.1 to 4% at 25 占 폚 based on 210 mm 占 297 mm (width x length), a b * value in the L * a * 1.7, and an average transmittance of light having a wavelength of 900 to 2,000 nm is less than 50%.
제6항에 있어서,
상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자가 1 내지 800 nm의 평균 직경을 갖는, 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법.
The method according to claim 6,
Wherein the cesium-doped tungsten oxide nanoparticles have an average diameter of 1 to 800 nm.
삭제delete 제6항에 있어서,
상기 에스테르계 프리폴리머에 상기 세슘이 도프된 텅스텐 산화물 나노입자를 첨가하고 80 내지 180 ℃로 가열하여 1차 중합시킨 후, 분산안정제 및 계면활성제를 첨가하고 100 내지 200 ℃로 가열하여 2차 중합시키는, 고분산 폴리에스테르 수지의 제조방법.
The method according to claim 6,
The cesium-doped tungsten oxide nanoparticles are added to the ester-based prepolymer, and the mixture is heated to 80 to 180 DEG C to carry out a primary polymerization, then a dispersion stabilizer and a surfactant are added, and the mixture is heated to 100 to 200 DEG C for secondary polymerization, A method for producing a highly dispersed polyester resin.
제6항, 제7항 및 제9항 중 어느 한 항의 제조방법에 따라 제조된 고분산 폴리에스테르 수지를 포함하고,
400 내지 780 nm 파장을 갖는 광의 평균 투과율이 50 %이상이며, 950 nm 파장을 갖는 광의 차단율이 50 % 이상인, 근적외선 차단 필름.
And a highly dispersed polyester resin prepared according to the production method of any one of claims 6, 7 and 9,
Wherein the average transmittance of light having a wavelength of 400 to 780 nm is 50% or more, and the light blocking rate of a light having a wavelength of 950 nm is 50% or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005330337A (en) * 2004-05-18 2005-12-02 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Method for producing polyester resin composition containing optically functional microparticle, polyester resin composition containing optically functional microparticle, and polyester resin base containing optically functional microparticle
KR100867156B1 (en) 2006-12-29 2008-11-06 금호석유화학 주식회사 Polyester-based polymer polyol with an excellent anti-flame property and a manufacturing method thereof
US20150108388A1 (en) 2013-10-21 2015-04-23 Taiflex Scientific Co., Ltd. Light Absorbing Composition And Light-Absorbing Structure Made Therefrom

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