KR101848241B1 - Method for manufacturing epoxy composites comprising boron nitride - Google Patents

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이경엽
이재하
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Abstract

One embodiment of the present invention provides a method for manufacturing an epoxy composite, which comprises the following steps: (a) pre-treating boron nitride particles with a metal salt and an acid; (b) surface-treating the pretreated boron nitride particles with a silane-based compound; and (c) mixing the surface-treated boron nitride particles and the epoxy resin. It is an object of the present invention to provide the method for manufacturing the epoxy composite having high compatibility between boron nitride and an epoxy resin, thermal conductivity and mechanical properties.

Description

질화붕소를 포함하는 에폭시 복합재의 제조방법{METHOD FOR MANUFACTURING EPOXY COMPOSITES COMPRISING BORON NITRIDE}FIELD OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a method for producing an epoxy composite material containing boron nitride,

본 발명은 금속 염 및 산을 이용하여 전처리된 질화붕소 입자를 사용하여 에폭시 수지와의 상용성 및 열전도도가 우수한 에폭시 복합재의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for producing an epoxy composite material excellent in compatibility with epoxy resin and thermal conductivity using boron nitride particles pretreated with a metal salt and an acid.

마이크로 전자 소자는 지속적으로 고밀도, 고주파 및 고속의 성능 향상을 요구한다. 작은 크기와 성능의 향상은 좁은 디바이스 내에서 더 많은 양의 열 발생을 초래할 가능성이 있다. 동작 온도의 작은 차이가 디바이스 수명의 두 배 이상 감소를 초래할 수 있는데, 이는 전자 장치의 신뢰성과 직결된 문제이다. 적절한 장치 작동을 보장하기 위해 불필요한 열이 신속히 제거되어야 하므로, 제품의 패키징 재료는 높은 열전도도을 가질 필요가 있다.Microelectronic devices continue to require high-density, high-frequency, and high-speed performance improvements. Small size and performance improvements are likely to result in higher amounts of heat generation within narrow devices. Small differences in operating temperature can result in more than twice the device lifetime, which is a direct problem with the reliability of electronic devices. The packaging material of the article needs to have a high thermal conductivity, since unnecessary heat must be removed quickly to ensure proper device operation.

에폭시 수지는 내부식성, 접착력, 전기절연성 등의 물성이 우수하여 전기·전자산업 분야에 많이 사용되고 있는 고분자 재료이다. 그러나 0.17 W/m·k의 비교적 낮은 열전도도로, 전력 밀도 장치에서 생성되는 열을 방출 할 수 있는 전자 패키징 재료로서 단독으로 사용될 수 없다. 또한 경화도가 높아지는 경우, 쉽게 부서지는 경향이 나타나 열안정성 등에서 마이크로 전자 소자 패키징 소재로서 아직까지 해결해야 하는 단점이 있다. 때문에 에폭시 수지에 무기입자 및 첨가제를 혼합하여 우수한 열전도도 및 높은 기계적 물성을 가지는 고분자 복합 재료를 만들고자 하는 연구가 계속 이루어지고 있다.Epoxy resins are polymeric materials that are widely used in the electrical and electronic industries because of their excellent properties such as corrosion resistance, adhesive strength, and electrical insulation. However, the relatively low thermal conductivity of 0.17 W / m · k can not be used alone as an electronic packaging material capable of releasing heat generated in power density devices. In addition, when the degree of curing is high, there is a tendency that the material tends to break easily, which is a disadvantage that it still has to be solved as a microelectronic device packaging material due to thermal stability and the like. Therefore, studies have been made to produce polymer composite materials having excellent thermal conductivity and high mechanical properties by mixing inorganic particles and additives with epoxy resin.

충전제 중에서 질화붕소가 300 W/m·k의 높은 열전도도와 함께 낮은 독성, 우수한 화학적 안정성, 전기 절연성 및 상대적으로 낮은 비용으로 매력적인 후보로 고려되고 있다. 높은 열전도율 및 원활한 열전도 네트워크를 형성하기 위해, 질화붕소 투입량을60 wt% 이상 사용하였다. 그러나 높은 질화붕소 투입은 에폭시 수지와 질화붕소의 낮은 상용성으로 인해 상분리가 유발된다. 그 결과 열전도를 위한 네트워크를 형성하지 못해 열전도도가 낮아지며, 상분리되어 응집된 질화붕소는 에폭시 수지 내에서 크랙(Crack)으로 작용하여 응력 집중을 발생시켜 기계적 물성을 감소시킨다.Among the fillers, boron nitride is considered as an attractive candidate for low toxicity, good chemical stability, electrical insulation and relatively low cost, along with high thermal conductivity of 300 W / m · k. In order to form a high thermal conductivity and a smooth heat conduction network, a boron nitride input amount of 60 wt% or more was used. However, high boron nitride loading causes phase separation due to low compatibility of epoxy resin and boron nitride. As a result, thermal conductivity can not be formed due to failure to form a network for thermal conduction, and the phase coagulated boron nitride acts as a crack in the epoxy resin to generate stress concentration, thereby reducing mechanical properties.

본 발명은 전술한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 질화붕소와 에폭시 수지간 높은 상용성, 열전도도 및 기계적 특성을 갖는 에폭시 복합재의 제조방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method for producing an epoxy composite having high compatibility between boron nitride and epoxy resin, thermal conductivity and mechanical properties.

본 발명의 일 측면은 (a) 질화붕소 입자를 금속 염 및 산으로 전처리하는 단계; (b) 상기 전처리된 질화붕소 입자를 실란계 화합물로 표면 처리하는 단계; 및 (c) 상기 표면 처리된 질화붕소 입자 및 에폭시 수지를 혼합하는 단계; 를 포함하는, 에폭시 복합재의 제조방법을 제공한다.One aspect of the present invention relates to a method for preparing boron nitride, comprising: (a) pre-treating boron nitride particles with a metal salt and an acid; (b) surface-treating the pretreated boron nitride particles with a silane-based compound; And (c) mixing the surface-treated boron nitride particles and the epoxy resin; Wherein the epoxy composite material is an epoxy composite material.

일 실시예에 있어서, 상기 질화붕소가 판상형의 육방정계 질화붕소 입자일 수 있다.In one embodiment, the boron nitride may be a hexagonal boron nitride particle in the form of a plate.

일 실시예에 있어서, 상기 질화붕소 입자의 평균 입도가 1 ㎛ 이하 일 수 있다.In one embodiment, the average grain size of the boron nitride particles may be less than or equal to 1 占 퐉.

일 실시예에 있어서, 상기 금속 염이 질산나트륨, 차아염소산리튬, 과염소산리튬, 망간산리튬, 질산리튬, 질산세슘, 염소산칼륨, 과망간산칼륨 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다.In one embodiment, the metal salt may be selected from the group consisting of sodium nitrate, lithium hypochlorite, lithium perchlorate, lithium manganese oxide, lithium nitrate, cesium nitrate, potassium chlorate, potassium permanganate and mixtures of two or more thereof .

일 실시예에 있어서, 상기 산이 황산, 질산, 염산, 인산 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다.In one embodiment, the acid may be selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, and mixtures of two or more thereof.

일 실시예에 있어서, 상기 (a) 단계의 상기 전처리가 160 내지 250℃에서 수행될 수 있다.In one embodiment, the pretreatment of step (a) may be performed at 160 to 250 ° C.

일 실시예에 있어서, 상기 (a) 단계의 상기 전처리가 4 내지 10 시간 동안 수행될 수 있다.In one embodiment, the pretreatment of step (a) may be performed for 4 to 10 hours.

일 실시예에 있어서, 상기 실란계 화합물이 3-아미노프로필트리에톡시실란일 수 있다.In one embodiment, the silane-based compound may be 3-aminopropyltriethoxysilane.

일 실시예에 있어서, 상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 90 내지 150℃에서 수행될 수 있다.In one embodiment, the surface treatment of step (b) may be performed at 90 to 150 < 0 > C.

일 실시예에 있어서, 상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 4 내지 10 시간 동안 수행될 수 있다.In one embodiment, the surface treatment of step (b) may be performed for 4 to 10 hours.

일 실시예에 있어서, 상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형(bis-phenol A type)으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있다.In one embodiment, the epoxy resin may be one selected from the group consisting of bisphenol A type.

본 발명의 일 측면에 따르면, 금속 염 및 산으로 전처리된 질화붕소 입자를 실란계 화합물로 표면 처리 후 에폭시 수지와 혼합함으로써, 질화붕소와 에폭시 수지간 높은 상용성을 갖고, 에폭시 수지 내 기공을 형성하지 않으며, 열전도도 및 기계적 특성이 우수한 에폭시 복합재를 제조할 수 있다.According to one aspect of the present invention, boron nitride particles pretreated with a metal salt and an acid are surface-treated with a silane compound and then mixed with an epoxy resin to have high compatibility between boron nitride and an epoxy resin to form pores in the epoxy resin An epoxy composite excellent in thermal conductivity and mechanical properties can be produced.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the effects described above, but include all effects that can be deduced from the description of the invention or the composition of the invention set forth in the claims.

도 1은 질화붕소 입자의 전처리 과정 및 표면 처리 반응 기작(mechanism)의 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 FT-IR 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 XRD 구조 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 TEM 사진을 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 SEM 사진을 나타낸 것이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 열중량분석 (TGA) 결과를 나타낸 것이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 열팽창분석 결과를 나타낸 것이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 저장탄성률, 손실탄성률 분석 결과를 나타낸 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 tan δ 선도를 나타낸 그래프이다.
도 10은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 열전도도 측정 결과를 나타낸 것이다.
도 11은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 인장강도 실험 결과를 나타낸 것이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 굽힘강도 실험 결과를 나타낸 것이다.
도 13은 본 발명의 일 실시예에 따라 제조 된 에폭시 복합재의 파괴인성의 변화를 나타낸 그래프이다.
BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a schematic diagram of a pretreatment process and a surface treatment reaction mechanism of boron nitride particles. FIG.
FIG. 2 shows FT-IR analysis results of an epoxy composite material prepared according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 shows an XRD structure analysis result of an epoxy composite material produced according to an embodiment of the present invention.
4 is a TEM photograph of an epoxy composite prepared according to an embodiment of the present invention.
5 is a SEM photograph of an epoxy composite prepared according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a thermogravimetric analysis (TGA) result of an epoxy composite prepared according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 shows the thermal expansion analysis results of an epoxy composite material manufactured according to an embodiment of the present invention.
FIG. 8 shows the results of analysis of the storage elastic modulus and the loss elastic modulus of an epoxy composite material prepared according to an embodiment of the present invention.
9 is a graph showing the tan δ diagram of an epoxy composite produced according to an embodiment of the present invention.
FIG. 10 shows the thermal conductivity measurement results of an epoxy composite material manufactured according to an embodiment of the present invention.
11 shows the tensile strength test results of an epoxy composite material produced according to an embodiment of the present invention.
12 shows the results of the bending strength test of an epoxy composite material produced according to an embodiment of the present invention.
13 is a graph showing changes in fracture toughness of an epoxy composite material produced according to an embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as limited to the embodiments set forth herein.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is referred to as being "connected" to another part, it includes not only "directly connected" but also "indirectly connected" . Also, when an element is referred to as "comprising ", it means that it can include other elements, not excluding other elements unless specifically stated otherwise.

본 발명의 일 측면은 (a) 질화붕소 입자를 금속 염 및 산으로 전처리하는 단계; (b) 상기 전처리된 질화붕소 입자를 실란계 화합물로 표면 처리하는 단계; 및 (c) 상기 표면 처리된 질화붕소 입자 및 에폭시 수지를 혼합하는 단계; 를 포함하는, 에폭시 복합재의 제조방법을 제공한다.One aspect of the present invention relates to a method for preparing boron nitride, comprising: (a) pre-treating boron nitride particles with a metal salt and an acid; (b) surface-treating the pretreated boron nitride particles with a silane-based compound; And (c) mixing the surface-treated boron nitride particles and the epoxy resin; Wherein the epoxy composite material is an epoxy composite material.

상기 질화붕소가 판상형의 육방정계 질화붕소 입자일 수 있다. 상기 육방정계 질화붕소 입자는 강한 공유결합으로 붕소와 질소가 약 1:1 비율로 결합되어 있고, 원자수준에서 평평한 평면 구조를 가지고 있다. 박리(exfoliation) 시 투명하고 유연하면서 우수한 기계적 물성, 열전도성 및 절연성 특성을 가지고 있어 에폭시 복합재 소재에 있어 바람직하다.The boron nitride may be a hexagonal boron nitride particle having a plate-like shape. The hexagonal boron nitride particles have a strong covalent bond with boron and nitrogen bonded at a ratio of about 1: 1 and have a flat planar structure at the atomic level. It is preferable in the epoxy composite material because it has transparency, flexibility, excellent mechanical properties, thermal conductivity, and insulation properties at the time of exfoliation.

상기 질화붕소 입자의 평균 입도가 1 ㎛ 이하일 수 있고, 바람직하게는 0.1 ~ 1㎛일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 질화붕소 입자가 1 ㎛를 초과하는 경우 표면적이 작아져 에폭시 수지와 상용성이 낮아지고, 이로 인해 에폭시 복합재의 열전도도가 감소한다.The average particle size of the boron nitride particles may be 1 占 퐉 or less, preferably 0.1 to 1 占 퐉, but is not limited thereto. When the boron nitride particles are larger than 1 mu m, the surface area becomes smaller and the compatibility with the epoxy resin becomes lower, thereby decreasing the thermal conductivity of the epoxy composite.

상기 질화붕소 입자의 전처리 과정 및 실란계 화합물을 이용한 표면 처리 반응 기작(mechanism)의 모식도를 도 1에 나타내었다. 적층 구조의 육방정계 질화붕소 입자에 산 및 금속 염을 이용하여 전처리 시 상기 질화붕소 입자의 층과 층 사이의 거리를 증가시키는 팽윤(swelling) 현상이 일어난다. 그 후 실란계 화합물을 이용하여 표면 처리를 수행하면 상기 질화붕소 입자의 층과 층 사이가 점점 더 멀어져 화학적 박리(Chemical Exfoliation)가 일어나게 되며, 각 질화붕소 층 표면이 실란 기능화된다.A schematic diagram of the pretreatment process of the boron nitride particles and the surface treatment reaction mechanism using the silane compound is shown in FIG. A swelling phenomenon occurs in the hexagonal boron nitride grains of the laminated structure by using an acid and a metal salt to increase the distance between the layer of the boron nitride grains and the layer during the pretreatment. Thereafter, when the surface treatment is performed using the silane-based compound, the layer and the layer of the boron nitride gradually become more distant from each other, causing chemical exfoliation, and the surface of each boron nitride layer becomes silane functionalized.

상기 금속 염이 질산나트륨, 차아염소산리튬, 과염소산리튬, 망간산리튬, 질산리튬, 질산세슘, 염소산칼륨, 과망간산칼륨 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나이고, 바람직하게는 질산나트륨일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 질화붕소 입자의 전처리에 산만 사용한 경우 질화붕소 입자의 팽윤정도가 낮다. 효과적인 팽윤을 위해 본 발명에서는 금속 염을 도입하였다. 상기 금속 염을 산에 녹이면 강한 산화제 역할을 하여 상기 산의 산소관능기 도입을 촉진시킨다.Wherein the metal salt is one selected from the group consisting of sodium nitrate, lithium hypochlorite, lithium perchlorate, lithium manganese oxide, lithium nitrate, cesium nitrate, potassium chlorate, potassium permanganate and mixtures of two or more thereof, preferably sodium nitrate However, the present invention is not limited thereto. The degree of swelling of the boron nitride particles is low when only the acid is used for the pretreatment of the boron nitride particles. For effective swelling, metal salts are introduced in the present invention. When the metal salt is dissolved in the acid, it acts as a strong oxidizing agent to promote the introduction of oxygen functional groups in the acid.

상기 산이 황산, 질산, 염산, 인산 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나이고, 바람직하게는 황산일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 질화붕소 입자의 화학적 박리는 질화붕소 층간 산소관능기의 삽입으로 인한 입자 팽윤 후 실란계 화합물을 도입함으로써 이루어질 수 있다. 상기 산은 상기 질화붕소 입자 표면에 산소관능기를 도입시킬 수 있다.The acid is selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid and a mixture of two or more thereof, preferably sulfuric acid, but is not limited thereto. The chemical exfoliation of the boron nitride particles can be achieved by introducing a silane-based compound after swelling of the particles due to insertion of the boron nitride inter-layer oxygen functional group. The acid can introduce an oxygen functional group onto the surface of the boron nitride grains.

본 명세서에 사용된 용어, “산소관능기”는 산소를 포함하는 작용기로 C-O 결합을 포함하는 분자 외 알코올, 케톤, 알데하이드, 카복실산, 에테르, 에스터, 수소과산화물 등을 포함할 수 있다.As used herein, the term " oxygen functional group " may include aliphatic alcohols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, ethers, esters, hydrogen peroxides, and the like that contain functional groups containing oxygen as C-O bonds.

상기 (a) 단계의 상기 전처리가 160 내지 250℃에서 수행될 수 있고, 바람직하게는 190 내지 210℃에서 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 전처리가 160℃ 미만에서 수행되는 경우 상기 산이 상기 질화붕소 입자를 팽윤시키기 어렵고, 250℃를 초과하여 수행되는 경우 상기 전처리에 사용되는 상기 금속 염 또는 상기 산이 분해될 수 있어 팽윤이 원활이 이루어지지 않을 수 있다.The pretreatment of step (a) may be performed at 160 to 250 ° C, preferably at 190 to 210 ° C, but is not limited thereto. When the pretreatment is carried out at a temperature lower than 160 ° C., the acid hardly swells the boron nitride particles. When the pretreatment is carried out at a temperature higher than 250 ° C., the metal salt or the acid used for the pretreatment may be decomposed, .

상기 (a) 단계의 상기 전처리가 4 내지 10 시간 동안 수행될 수 있고, 바람직하게는 6 내지 8 시간동안 수행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 전처리가 4 시간 미만으로 수행되는 경우 상기 질화붕소 입자가 충분히 팽윤되지 않으며, 10 시간을 초과하여 수행되는 경우 상기 질화붕소 입자의 팽윤 정도가 균일하므로 에너지 효율이 낮아진다.The pretreatment of step (a) may be carried out for 4 to 10 hours, preferably 6 to 8 hours, but is not limited thereto. When the pretreatment is performed for less than 4 hours, the boron nitride particles are not sufficiently swollen. When the pretreatment is performed for more than 10 hours, the degree of swelling of the boron nitride particles is uniform, resulting in lower energy efficiency.

상기 실란계 화합물이 3-아미노프로필트리에톡시실란((3-aminopropyl) triethoxysilane; 3-APTS)일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 실란계 화합물은 상기 전처리된 질화붕소 입자의 표면 및 층간에 도입되어 상기 질화붕소 입자의 화학적 박리를 유도한다. 또한 상기 질화붕소 입자를 실란 기능화시켜 에폭시 수지와의 상용성을 높여준다.The silane compound may be 3-aminopropyl triethoxysilane (3-APTS), but is not limited thereto. The silane-based compound is introduced into the surface and between the surfaces of the pretreated boron nitride particles to induce the chemical exfoliation of the boron nitride particles. Further, the boron nitride particles are functionalized with silane to increase compatibility with the epoxy resin.

상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 90 내지 150℃에서 수행될 수 있고, 바람직하게는 110 내지 140 ℃에서 수행될 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니다. 상기 표면 처리가 90℃ 미만에서 수행되는 경우 온도가 낮아 반응이 진행되기 어렵고, 150℃를 초과하여 수행되는 경우 온도가 높아 부반응이 일어나는 문제가 발생할 수 있다.The surface treatment in step (b) may be performed at 90 to 150 ° C, preferably 110 to 140 ° C, but is not limited thereto. When the surface treatment is performed at a temperature of less than 90 ° C, the reaction is difficult to proceed because the temperature is low. When the surface treatment is performed at a temperature higher than 150 ° C, a side reaction may occur due to a high temperature.

상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 4 내지 10 시간 동안 수행될 수 있고, 바람직 하게는 6 내지 9 시간 동안 수행될 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니다. 상기 표면 처리가 4시간 미만에서 수행되는 경우 상기 표면 처리에 충분한 시간이 제공되지 않아 화학적 박리가 충분히 진행되지 않고, 10 시간을 초과하여 수행되는 경우 상기 질화붕소 입자의 화학적 박리가 충분히 진행되어 에너지 효율이 낮아진다.The surface treatment of step (b) may be performed for 4 to 10 hours, preferably 6 to 9 hours, but is not limited thereto. If the surface treatment is performed for less than 4 hours, sufficient time is not provided for the surface treatment, chemical peeling does not progress sufficiently, and when the treatment is performed for more than 10 hours, the chemical peeling of the boron nitride particles sufficiently progresses, .

상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형(bis-phenol A type)으로 이루어진 군에서 선택된 하나일 수 있고, 바람직하게는 DGBA(Diglycidyl ether of bisphenol A)일 수 있으나, 이에 한정된 것은 아니다.The epoxy resin may be one selected from the group consisting of a bisphenol A type and preferably a diglycidyl ether of bisphenol A (DGBA), but is not limited thereto.

이하 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.

실시예1Example 1

(1) 육방정계 질화붕소 입자의 전처리(Pretreated hBN)(1) Pre-treatment of hexagonal boron nitride particles (Pretreated hBN)

육방정계 질화붕소(hBN) 입자(98%, 1 ㎛ size) 5g을 질산나트륨 4.2g과 황산 200ml가 혼합된 용액과 함께 비커에 담아 200℃에서 5시간 동안 교반한다. 그 후 혼합물을 여과시키고 pH가 중성이 될 때까지 증류수(Deionized water)로 세척한다. 얻어진 입자를 80℃ 오븐에서 12시간 건조하여 전처리된 질화붕소(Pretreated hBN)을 제조하였다.5 g of hexagonal boron nitride (hBN) particles (98%, 1 탆 size) are added to a beaker together with a solution of 4.2 g of sodium nitrate and 200 ml of sulfuric acid and stirred at 200 캜 for 5 hours. The mixture is then filtered and washed with deionized water until the pH is neutral. The obtained particles were dried in an oven at 80 ° C for 12 hours to prepare pretreated boron nitride (Pretreated hBN).

(2) 전처리된 육방정계 질화붕소 입자의 표면 처리(Si-hBN)(2) Surface treatment of pretreated hexagonal boron nitride particles (Si-hBN)

상기 (1) 단계에서 얻어진 입자 5g을 3-APTS(3-aminopropyltriethoxysilane, ≥ 98%) 5ml와 에탄올 375ml, 증류수 122.5ml에 혼합하여 130℃에서 8시간 동안 교반한다. 생성된 혼합물을 증류수로 세척 후 여과시키고 얻어진 입자를 80℃ 오븐에서 12시간 건조하여 표면 처리된 질화붕소(Si-hBN)를 제조하였다.5 g of the particles obtained in the above step (1) are mixed with 5 ml of 3-APTS (3-aminopropyltriethoxysilane, ≥98%), 375 ml of ethanol and 122.5 ml of distilled water, and the mixture is stirred at 130 ° C for 8 hours. The resulting mixture was washed with distilled water and filtered, and the obtained particles were dried in an oven at 80 ° C for 12 hours to prepare surface-treated boron nitride (Si-hBN).

(3) 표면 처리된 질화붕소 입자를 사용한 에폭시 복합재 제조(3) Production of epoxy composites using surface treated boron nitride particles

상기 (2) 단계에서 얻어진 입자 10wt%를 비스페놀 A 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether of bisphenol A(DGBA))에 투입하여 기계식 교반기를 통해 30분간 교반 후 경화제인 낮은 점성 폴리아미도아민(low viscosity polyamidoamine)을 에폭시와 3:2의 비율로 투입 후 15분 간 교반한다. 그 후 진공 오븐 내에서 탈기를 30분간 실시한 뒤 몰드에 부어 80℃에서 2시간 동안 성형하여 에폭시 복합재를 제조하였다.10 wt% of the particles obtained in the above step (2) was introduced into a diglycidyl ether of bisphenol A (DGBA), stirred for 30 minutes through a mechanical stirrer, and a low viscosity polyamidoamine ) Was added at a ratio of 3: 2 with epoxy and stirred for 15 minutes. Thereafter, degassing was carried out in a vacuum oven for 30 minutes and then poured into a mold and molded at 80 ° C for 2 hours to prepare an epoxy composite material.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1의 (3) 단계에서, 표면 처리된 질화붕소 입자를 1wt%로 투입한 것을 제외하면, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 에폭시 복합재를 제조하였다.An epoxy composite material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the boron nitride particles were surface-treated in the step (3) of Example 1 at 1 wt%.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1의 (3) 단계에서, 표면 처리된 질화붕소 입자를 5wt%로 투입한 것을 제외하면, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 에폭시 복합재를 제조하였다.An epoxy composite material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the surface-treated boron nitride particles were added in an amount of 5 wt% in the step (3) of Example 1 above.

비교예 1Comparative Example 1

육방정계 질화붕소(hBN) 입자 10wt%를 비스페놀 A 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether of bisphenol A(DGBA))에 투입하여 기계식 교반기를 통해 30분간 교반 후 경화제인 낮은 점성 폴리아미도아민(low viscosity polyamidoamine)을 에폭시와 3:2의 비율로 투입 후 15분간 교반한다. 그 후 진공 오븐 내에서 탈기를 30분간 실시한 뒤 몰드에 부어 80℃에서 2시간 동안 성형하여 에폭시 복합재를 제조하였다.10 wt% of hexagonal boron nitride (hBN) particles were added to a diglycidyl ether of bisphenol A (DGBA), stirred for 30 minutes through a mechanical stirrer, and a low viscosity polyamidoamine ) Was added at a ratio of 3: 2 with epoxy and stirred for 15 minutes. Thereafter, degassing was carried out in a vacuum oven for 30 minutes and then poured into a mold and molded at 80 ° C for 2 hours to prepare an epoxy composite material.

비교예 2Comparative Example 2

상기 비교예 1에서 육방정계 질화붕소 입자를 1wt%로 투입한 것을 제외하면, 상기 비교예 1과 동일한 방법으로 에폭시 복합재를 제조하였다.An epoxy composite material was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the hexagonal boron nitride particles were added in an amount of 1 wt%.

비교예 3Comparative Example 3

상기 비교예 1에서 육방정계 질화붕소 입자를 5wt%로 투입한 것을 제외하면, 상기 비교예 1과 동일한 방법으로 에폭시 복합재를 제조하였다.An epoxy composite material was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that the hexagonal boron nitride particles were added in an amount of 5 wt%.

비교예 4Comparative Example 4

(1) 육방정계 질화붕소 입자의 표면 처리(1) Surface treatment of hexagonal boron nitride particles

육방정계 질화붕소(hBN) 입자 5g을 3-APTS(3-aminopropyltriethoxysilane, ≥ 98%) 5ml와 에탄올 375ml, 증류수 122.5ml에 혼합하여 130℃에서 8시간 동안 교반한다. 생성된 혼합물을 증류수로 세척 후 여과시키고 얻어진 입자를 80℃ 오븐에서 12시간 건조하여 표면 처리된 질화붕소를 제조하였다.5 g of hexagonal boron nitride (hBN) particles are mixed with 5 ml of 3-APTS (3-aminopropyltriethoxysilane, ≥98%), 375 ml of ethanol and 122.5 ml of distilled water, and the mixture is stirred at 130 ° C for 8 hours. The resulting mixture was washed with distilled water and filtered, and the obtained particles were dried in an oven at 80 캜 for 12 hours to prepare surface-treated boron nitride.

(2) 표면 처리된 질화붕소 입자를 사용한 에폭시 복합재 제조(2) Production of epoxy composites using surface treated boron nitride particles

상기 (1) 단계에서 얻어진 입자 10wt%를 비스페놀 A 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether of bisphenol A(DGBA))에 투입하여 기계식 교반기를 통해 30분간 교반 후 경화제인 낮은 점성 폴리아미도아민(low viscosity polyamidoamine)을 에폭시와 3:2의 비율로 투입 후 15분 간 교반한다. 그 후 진공 오븐 내에서 탈기를 30분간 실시한 뒤 몰드에 부어 80℃에서 2시간 동안 성형하여 에폭시 복합재를 제조하였다.10 wt% of the particles obtained in the above step (1) was added to a diglycidyl ether of bisphenol A (DGBA), stirred for 30 minutes through a mechanical stirrer, and a low viscosity polyamidoamine ) Was added at a ratio of 3: 2 with epoxy and stirred for 15 minutes. Thereafter, degassing was carried out in a vacuum oven for 30 minutes and then poured into a mold and molded at 80 ° C for 2 hours to prepare an epoxy composite material.

비교예 5Comparative Example 5

(1) 육방정계 질화붕소 입자의 전처리(1) Pretreatment of hexagonal boron nitride particles

육방정계 질화붕소(hBN) 입자(98%, 1 ㎛ size) 5g을 질산나트륨 4.2g과 황산 200ml가 혼합된 용액과 함께 비커에 담아 200℃에서 5시간 동안 교반한다. 그 후 혼합물을 여과시키고 pH가 중성이 될 때까지 증류수(Deionized water)로 세척한다. 얻어진 입자를 80℃ 오븐에서 12시간 건조하여 전처리된 질화붕소를 제조하였다.5 g of hexagonal boron nitride (hBN) particles (98%, 1 탆 size) are added to a beaker together with a solution of 4.2 g of sodium nitrate and 200 ml of sulfuric acid and stirred at 200 캜 for 5 hours. The mixture is then filtered and washed with deionized water until the pH is neutral. The obtained particles were dried in an oven at 80 ° C for 12 hours to prepare pretreated boron nitride.

(2) 전처리된 질화붕소 입자를 사용한 에폭시 복합재 제조(2) Preparation of epoxy composites using pretreated boron nitride particles

상기 (1) 단계에서 얻어진 입자 10wt%를 비스페놀 A 디글리시딜 에테르(diglycidyl ether of bisphenol A(DGBA))에 투입하여 기계식 교반기를 통해 30분간 교반 후 경화제인 낮은 점성 폴리아미도아민(low viscosity polyamidoamine)을 에폭시와 3:2의 비율로 투입 후 15분 간 교반한다. 그 후 진공 오븐 내에서 탈기를 30분간 실시한 뒤 몰드에 부어 80℃에서 2시간 동안 성형하여 에폭시 복합재를 제조하였다.10 wt% of the particles obtained in the above step (1) was added to a diglycidyl ether of bisphenol A (DGBA), stirred for 30 minutes through a mechanical stirrer, and a low viscosity polyamidoamine ) Was added at a ratio of 3: 2 with epoxy and stirred for 15 minutes. Thereafter, degassing was carried out in a vacuum oven for 30 minutes and then poured into a mold and molded at 80 ° C for 2 hours to prepare an epoxy composite material.

비교예 6Comparative Example 6

실시예 1의 (1) 단계에서 황산 대신 초산을 사용한 것을 제외하면, 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 에폭시 복합재를 제조하였다.An epoxy composite material was prepared in the same manner as in Example 1, except that acetic acid was used in place of sulfuric acid in the step (1) of Example 1.

상기 실시예 및 상기 비교예에서 제조한 에폭시 복합재의 구조 및 특성 분석은 도면을 참조하여 설명한다.The structure and characteristics of the epoxy composites prepared in the above Examples and Comparative Examples will be described with reference to the drawings.

도 2는 상기 실시예 1의 질화붕소 입자(Raw BN), (1)단계를 통해 제조 된 전처리된 질화붕소 입자(Pretreated BN) 및 (2)단계를 통해 제조 된 표면 처리된 질화붕소 입자(Pretreated + Silane treated BN)의 FT-IR(Fourier Transform Infrared Spectroscopy) 스펙트럼을 나타내었다. 상기 실시예 1의 (2)단계를 통해 제조 된 표면 처리된 질화붕소 입자는 파수 1101 cm-1 위치에서 실란기의 흡수 피크(Si-O 결합)를 명확하게 보여줌으로써, 실란계 화합물이 도입되었음을 알 수 있다. FIG. 2 is a graph showing the relationship between the boron nitride particles (Raw BN) of Example 1, the pretreated boron nitride particles (Pretreated BN) prepared through the step (1), and the surface treated boron nitride particles + Silane treated BN). The results of the FT-IR spectroscopy are shown in Fig. The surface-treated boron nitride particles prepared in the step (2) of Example 1 clearly showed the absorption peak of the silane group (Si-O bond) at a wavenumber of 1101 cm -1 , Able to know.

도 3은 상기 실시예 1의 질화붕소 입자(Raw BN), (1)단계를 통해 제조 된 전처리된 질화붕소 입자(Pretreated BN) 및 (2)단계를 통해 제조 된 표면 처리된 질화붕소 입자(Pretreated + Silane treated BN)의 분자간 거리 변화를 알아보기 위해 XRD(X-ray Diffraction) 분석을 실시하였다. 그 결과 세개의 입자 모두 2θ=26˚ (002), 41˚ (100) 및 55˚ (004)에서 피크를 발견할 수 있다. 피크의 변화를 보면 상기 실시예1의 (1)단계를 통해 제조된 전처리된 질화붕소 입자(Pretreated BN)의 경우 55˚ (004)의 피크에서 변화는 거의 없지만 26˚ (002)와 41˚ (100)의 피크가 감소한다. 특히 26˚ (002) 피크에서 큰 차이를 보인다. 상기 실시예 1의 (2)단계를 통해 제조된 표면 처리된 질화붕소 입자(Pretreated + Silane treated BN)의 경우 26˚ (002) 피크와 41˚ (100) 피크가 질화붕소 입자(Raw BN)보다 더 높은 피크를 보이는 것을 알 수 있다.FIG. 3 is a graph showing the relationship between the boron nitride particles (Raw BN) of Example 1, the pretreated boron nitride particles (Pretreated BN) prepared through the step (1), and the surface treated boron nitride particles + Silane treated BN) was investigated by XRD (X-ray diffraction) analysis. As a result, all three particles can find peaks at 2θ = 26 ° (002), 41 ° (100) and 55 ° (004). In the case of the pretreated boron nitride particles prepared in the step (1) of Example 1, there was almost no change at the peak of 55 ° (004), but the peaks of 26 ° (002) and 41 ° 100) is decreased. Especially at the 26 ° (002) peak. (002) and 41 (100) peaks of the surface treated boron nitride particles (Pretreated + Silane treated BN) prepared in the step (2) of Example 1 were higher than the boron nitride particles A higher peak can be seen.

도 4는 상기 실시예 1의 (a) 질화붕소 입자(Raw BN), (b) (1)단계를 통해 제조 된 전처리된 질화붕소 입자(Pretreated BN) 및 (c) (2)단계를 통해 제조 된 표면 처리된 질화붕소 입자(Pretreated + Silane treated BN)의 TEM(Transmission Electron Microscope) 이미지이다. 분석 결과 (a)의 경우 질화붕소 층들이 서로 적층되어 있는 것을 볼 수 있었다. (b)의 경우 상대적으로 (a)의 경우 보다 전처리로 인한 층간 거리가 증가하여 중첩 빈도가 감소되었음을 확인할 수 있다. (c)의 경우 실란계 화합물의 도입에 의한 층간 간격 증가로 질화붕소 입자의 적은 층간 중첩 빈도와 화학적 박리(Chemical Exfoliation)가 유도되었음을 확인할 수 있다.FIG. 4 is a graph showing the results of the preparation of boron nitride particles (Raw BN), (b) pretreated boron nitride particles (Pretreated BN) prepared in (1) (Transmission Electron Microscope) images of surface treated boron nitride particles (Pretreated + Silane treated BN). As a result of analysis (a), boron nitride layers were stacked on each other. In the case of (b), the inter-layer distance due to the preprocessing is increased compared with the case of (a). (c), it can be confirmed that the interlayer overlapping frequency and chemical exfoliation of the boron nitride particles were induced by increasing the interlayer spacing due to the introduction of the silane compound.

도 5는 (a) 비교예 1, (b) 비교예 5 및 (c) 실시예 1의 SEM(Scanning Electron Microscope) 이미지 이다. 비교예 1의 경우 질화붕소 입자와 에폭시 수지간 낮은 상용성으로 인해 상분리가 유도되어 질화붕소 입자가 응집되어 있는 것을 확인할 수 있다. 비교예 5의 경우 비교예 1에 비해 분산이 양호하였으나, 질화붕소 입자와 에폭시 수지간의 결합력이 떨어져 비교예 1에 비해 미세한 기공이 다량 발생한 것을 확인할 수 있다. 비교예 1에 비해 실시예 1의 경우 에폭시 수지와 상용성이 높아져 균일한 혼합이 이루어져있고, 질화붕소 입자의 응집 또는 에폭시 수지 내 기공이 거의 관찰되지 않았다. 5 is an SEM (Scanning Electron Microscope) image of (a) Comparative Example 1, (b) Comparative Example 5, and (c) In the case of Comparative Example 1, it was confirmed that the phase separation was induced due to the low compatibility between the boron nitride particles and the epoxy resin, so that the boron nitride particles were aggregated. In Comparative Example 5, the dispersion was better than Comparative Example 1, but the bonding force between the boron nitride particles and the epoxy resin was poor, so that a large amount of fine pores were generated as compared with Comparative Example 1. In the case of Example 1 as compared with Comparative Example 1, the compatibility with the epoxy resin was improved and uniform mixing was performed, and cohesion of the boron nitride particles or pores in the epoxy resin was hardly observed.

도 6은 비교예 1, 비교예 5 및 실시예1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 열중량 분석 결과이다. 800℃까지 가열하였을 때 상기 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재가 상기 비교예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재보다 약 3.57%, 비교예 5을 통해 제조된 에폭시 복합재보다 약 2.71%의 무게가 보존 되었다. 이를 통해 실란계 화합물을 통한 질화붕소 입자의 표면 처리가 에폭시 복합재의 열적 향상시켰음을 알 수 있다.6 is a thermogravimetric analysis result of the epoxy composite prepared in Comparative Example 1, Comparative Example 5 and Example 1. FIG. When heated to 800 ° C, the epoxy composite prepared in Example 1 was about 3.57% more weight than the epoxy composite prepared in Comparative Example 1 and about 2.71% in weight than the epoxy composite prepared in Comparative Example 5 . This indicates that the surface treatment of the boron nitride particles through the silane compound improves the thermal performance of the epoxy composite.

상기 실시예 및 상기 비교예에서 수득한 에폭시 복합재의 활성을 확인하기 위해 열팽창, 점탄성 및 열전도도 측정과, 인장강도, 굽힘강도 및 파괴실험을 수행하였다.The thermal expansion, viscoelasticity and thermal conductivity measurement, tensile strength, bending strength and fracture test were performed to confirm the activity of the epoxy composite obtained in the above Examples and Comparative Examples.

도 7은 비교예 1, 비교예 5 및 실시예1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 열안정성을 평가하기 위해 열팽창계수를 측정하였다. 도 7 (a)는 에폭시 복합재의 열변형률을 측정한 그래프로 온도가 증가함에 따라 3가지 에폭시 복합재 모두 증가하는 것을 알 수 있다. 비교예 5, 비교예 1, 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재 순으로 높은 변형율을 보였다.FIG. 7 shows the thermal expansion coefficients of the epoxy composites prepared in Comparative Example 1, Comparative Example 5, and Example 1 to evaluate the thermal stability. FIG. 7 (a) is a graph showing the thermal strain rate of the epoxy composite material. As the temperature increases, all the three epoxy composites increase. The epoxy composites prepared in Comparative Example 5, Comparative Example 1, and Example 1 exhibited high strain rates in that order.

도 7 (a)의 그래프를 보면 약 60℃ 부근에서 유리전이온도로 인해 선도에서 특이점이 발견되는데 이는 측정한 장비의 방식 때문이다. 측정에 사용된 장비는 에폭시 복합재의 양방향을 막아놓고 온도를 상승시켰을 때 발생하는 응력으로 측정하는 방식으로 수행된다. 그렇기 때문에 유리전이온도에서 변형률 상승이 주춤하는 것을 볼 수 있다. 이중 질화붕소 입자가 첨가된 비교예 1의 에폭시 복합재에서 심하게 나타나 변형률이 감소한 것처럼 보인다. 이는 에폭시 수지 내 분산성이 매우 떨어져 응집된 질화붕소 입자로 인해 생성된 기공이 열팽창으로 인해 에폭시 수지에 가해지는 열응력을 제대로 전달하지 못했기 때문으로 추정된다.In the graph of FIG. 7 (a), a singular point is found in the diagram due to the glass transition temperature at about 60 ° C, which is due to the method of the instrument being measured. The equipment used for the measurement is carried out in such a manner that the stress is generated by increasing the temperature while blocking the epoxy composite in both directions. Therefore, it can be seen that the increase in strain at the glass transition temperature shrinks. It appears that the strain is significantly reduced in the epoxy composite of Comparative Example 1 in which the double boron nitride particles are added. This is presumably due to the fact that the pores generated by the boron nitride particles agglomerated in the epoxy resin were very poor in dispersibility and could not transfer the thermal stress applied to the epoxy resin due to the thermal expansion.

그에 반해 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 유리전이온도에서 상승곡선이 주춤하는 모습을 보이지만 기울기의 감소폭이 비교적 작다. 이는 에폭시 수지와의 우수한 상용성으로 인해 열팽창으로 발생한 기공의 크기가 비교적 작고 고루 분포하여 열응력을 잘 분산하여 전달한 것으로 판단된다.On the other hand, the epoxy composite prepared in Example 1 shows a slope of the rising curve at a glass transition temperature, but the decrease of the slope is relatively small. It is considered that the pores generated due to thermal expansion are relatively small and uniformly distributed due to excellent compatibility with epoxy resin, and the thermal stress is well dispersed and transmitted.

도 7 (b)는 열팽창계수로 열변형률 선도를 단위온도로 미분하여 얻어진 테크니칼 알파 (Technical alpha) 선도라 한다. 열팽창계수는 온도가 증가함에 따라 계속 증가하다가 유리전이온도에서 감소 후 다시 증가하는 것을 알 수 있다. 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우가 다른 두 에폭시 복합재에 비해 열팽창계수가 평균적으로 약 4% 감소된 것으로 나타나는데, 이는 실란계 화합물을 사용한 표면 처리로 인해 질화붕소 입자와 에폭시 수지간의 결합력이 증가하여 내부에서 열팽창에 저항하기 때문이다. 이로 미루어 보아 열전도성 접착제로 전자 소자의 패키징 재료에 사용 시 반복적인 열팽창과 수축으로 인한 박리 현상을 감소시켜 수명을 증가시킬 수 있을 것으로 판단 된다.7 (b) is a technical alpha line obtained by differentiating the thermal strain curve with the unit temperature by the thermal expansion coefficient. It can be seen that the coefficient of thermal expansion continues to increase with increasing temperature, then increases again after decreasing at the glass transition temperature. The epoxy composite prepared in Example 1 exhibited an average thermal reduction of about 4% compared to the other two epoxy composites because the bonding strength between the boron nitride particles and the epoxy resin due to the surface treatment using the silane compound And it resists thermal expansion inside. This suggests that the use of thermally conductive adhesives for packaging materials for electronic devices may reduce the peeling phenomena due to repeated thermal expansion and shrinkage, thereby increasing the service life.

도 8은 비교예 1, 비교예 5 및 실시예1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 탄성률에 의해 응력과 변형에 대한 반응으로 저장탄성률과 손실탄성률을 측정한 결과이다.FIG. 8 is a graph showing the results of measuring the storage elastic modulus and the loss elastic modulus in response to stress and strain due to the elastic modulus of the epoxy composite prepared in Comparative Example 1, Comparative Example 5, and Example 1. FIG.

도 8 (a)는 저장탄성률을 나타낸 그래프로 주기적 응력과 함께 발생하는 시료의 반응이며 시료의 가역적 탄성도에 해당한다. 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 저장탄성률이 상온에서 2.86 GPa로 가장 높은 것을 알 수 있다. 이는 질화붕소 입자와 에폭시 수지간의 우수한 상용성으로 인해 상호 결합력이 증가했기 때문이다.8 (a) is a graph showing the storage elastic modulus, which corresponds to the reaction of the sample generated with the periodic stress and the reversible elasticity of the sample. It can be seen that the epoxy composite prepared through Example 1 has the highest storage elastic modulus at 2.86 GPa at room temperature. This is because the mutual bonding force is increased due to excellent compatibility between the boron nitride particles and the epoxy resin.

도 8 (b)는 손실탄성률을 나타낸 그래프로 90℃까지 상 이동 된 반응이며 열로 전환되어 비가역적으로 손실된 기계적 에너지에 해당한다. 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 손실탄성률이 146 MPa로 가장 높은 값을 보였다.FIG. 8 (b) is a graph showing the loss elastic modulus, which corresponds to the mechanical energy which is phase-shifted up to 90.degree. C. and is converted into heat and irreversibly lost. The epoxy composite prepared in Example 1 had the highest loss modulus of 146 MPa.

도 9는 비교예 1, 비교예 5 및 실시예1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 손실탄성률을 저장탄성률로 나눈 tanδ 선도를 나타낸 그래프이다. 이 그래프에서 피크 지점이 유리전이온도이다. 비교예 1, 비교예 5 및 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재 순으로 약 56℃, 60℃ 및 64℃에서 피크를 보였는데, 이는 질화붕소 입자의 에폭시 수지 내에서의 상용성 뿐만 아니라 질화붕소 입자와 에폭시 수지와의 결합력이 증가하여 열에너지로 인한 마이크로브라운 운동(micro-Brownian motion)에 더욱 저항하기 때문으로 판단 된다. 고분자는 유리온도 이상의 온도 또는 용해 상태에서 분자 전체로서의 병진과 회전 외에 결합 주의의 속박 회전 결과로 사슬의 형태가 끊임없이 변화하며 심하게 구부러지는데, 이와 같은 사슬의 열운동을 마이크로브라운 운동이라고 한다.9 is a graph showing a tan? Diagram obtained by dividing the loss elastic modulus of the epoxy composite material prepared in Comparative Example 1, Comparative Example 5 and Example 1 by the storage modulus. The peak point in this graph is the glass transition temperature. Peaks were observed at about 56 ° C, 60 ° C and 64 ° C in the order of the epoxy composites prepared in Comparative Example 1, Comparative Example 5 and Example 1, which showed not only compatibility in the epoxy resin of the boron nitride particles, It is believed that the bonding strength between the particles and the epoxy resin is increased, which further resists the micro-Brownian motion due to thermal energy. In the polymer, the shape of the chain changes constantly as a result of the bond rotation of the bond, in addition to the translation and rotation of the molecule as a whole at a temperature or in a molten state above the glass temperature, and is severely curved.

도 10은 실시예 1 내지 3 , 비교예 1 내지 3, 비교예 4 및 비교예 6을 통해 제조된 에폭시 복합재의 열전도도 측정 결과이다. 질화붕소 입자의 함량이 0%인 경우, 즉 순수 에폭시 수지의 경우 0.17 W/m·K로 열전도도가 가장 낮았고, 실시예 2를 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 0.225 W/m·K, 실시예 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 0.266 W/m·K 및 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 0.35 W/m·K로 에폭시 수지 내 투입된 질화붕소 입자 함량이 높아질수록 열전도도가 높아지는 것을 알 수 있다.10 shows the results of thermal conductivity measurements of the epoxy composites prepared in Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 to 3, Comparative Examples 4 and 6. When the content of boron nitride particles was 0%, that is, 0.17 W / mK for pure epoxy resin, the thermal conductivity was the lowest, 0.225 W / mK for epoxy composite prepared in Example 2, 3, the thermal conductivity increased as the content of boron nitride grains injected into the epoxy resin increased, which was 0.266 W / m · K for the epoxy composite prepared through Example 1 and 0.35 W / m · K for the epoxy composite prepared through Example 1 Able to know.

비교예 1 내지3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우에도 상기 실시예1 내지 3과 비슷하게 에폭시 수지 내 투입된 질화붕소 입자의 함량이 높아질수록 열전도도가 높아지는 것을 알 수 있다. 하지만 실시예 1내지 3를 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우보다 열전도도가 낮은 것을 확인할 수 있다. 이는 금속 염 및 산을 사용한 전처리 및 실란계 화합물을 이용한 표면 처리의 효과로 기존에 보고된 방법보다 상대적으로 질화붕소 입자와 에폭시 수지간 우수한 상용성으로 인해, 결합력이 증가하여 열전도를 위한 네트워크를 밀접하게 형성하기 때문이다.It can be seen that the thermal conductivity of the epoxy composites prepared in Comparative Examples 1 to 3 is increased as the content of boron nitride grains injected into the epoxy resin is increased similarly to Examples 1 to 3. However, it can be confirmed that the thermal conductivity is lower than that of the epoxy composite prepared in Examples 1 to 3. This is due to the excellent compatibility between the boron nitride particles and the epoxy resin due to the effect of the pretreatment using the metal salt and the acid and the surface treatment using the silane compound, .

비교예 4를 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 비교예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재와 열전도도에 큰 차이가 존재하지 않는다. 이를 통해 전처리를 하지 않은 질화붕소 입자에 실란계 화합물만 도입하였을 경우 질화붕소 입자와 에폭시 수지간 상용성에 있어 효과가 우수하지 않음을 알 수 있다.In the case of the epoxy composite prepared in Comparative Example 4, there is no significant difference in thermal conductivity from the epoxy composite prepared in Comparative Example 1. As a result, it can be seen that when the silane-based compound alone is introduced into the boron nitride particles not subjected to the pretreatment, the effect is not excellent in compatibility between the boron nitride particles and the epoxy resin.

비교예 6을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 실시예 1을 통해 제조된 에폭시 복합재와 비교하였을 때, 열전도도가 매우 낮으며, 비교예 3을 통해 제조된 에폭시 복합재보다 열전도도가 낮음을 알 수 있다. 이를 통해 질화붕소 입자의 전처리 시 초산보다 황산의 팽윤능력이 우수함을 알 수 있다.The epoxy composite prepared in Comparative Example 6 has a lower thermal conductivity than the epoxy composite prepared in Example 1 and the thermal conductivity is lower than that of the epoxy composite prepared in Comparative Example 3 . This shows that the pretreatment of the boron nitride particles is superior to the acetic acid in the ability to swell the sulfuric acid.

도 11은 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 응력 변형률 그래프이다. 실시예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우, 투입된 질화붕소 입자의 함량이 증가함에 따라 인장강도가 증가하는 것을 알 수 있다. 하지만 비교예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우, 투입된 질화붕소 입자의 함량이 증가하면 인장강도가 감소하였다. 이는 질화붕소 입자를 전처리 및 실란계 화합물을 사용한 표면 처리 없이 에폭시 수지에 투입한 경우 상용성이 낮아 상분리를 유발하는데, 상분리되어 응집된 질화붕소 입자가 에폭시 복합재 내에서 응력 집중을 유발했기 때문이다.11 is a graph of stress strain of epoxy composites prepared by Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. It can be seen that the tensile strength of the epoxy composite prepared through Examples 1 to 3 increases as the content of the boron nitride particles is increased. However, in the case of the epoxy composite prepared through Comparative Examples 1 to 3, the tensile strength was decreased when the content of the charged boron nitride particles was increased. This is because when the boron nitride particles are added to the epoxy resin without the pretreatment and the surface treatment using the silane compound, the compatibility is poor and induces phase separation, because the phase-separated and aggregated boron nitride particles induce stress concentration in the epoxy composite.

도 12는 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 굽힘계수를 나타낸 그래프이다. 비교예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 경우 굽힘계수의 차이를 보이지 않았지만, 실시예 1내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재(pretereated + silane treated BN)의 경우 질화붕소 입자의 함량이 증가함에 따라 굽힘계수가 증가하였다.12 is a graph showing the bending coefficients of the epoxy composites prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. The epoxy composites prepared in Comparative Examples 1 to 3 showed no difference in the flexural modulus. However, in the case of the epoxy composite (pretereated + silane treated BN) prepared in Examples 1 to 3, as the content of boron nitride particles increased The flexural modulus increased.

도 13은 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재의 파괴인성의 변화를 나타낸 그래프이다. 실시예 및 비교예 관계 없이 질화붕소 입자의 함량이 높아질수록 파괴인성은 점점 감소하는 것을 알 수 있는데, 이는 에폭시 복합재가 취성에 가까워지기 때문이다. 여기서 취성이란, 재료가 외력에 의하여 영구 변형을 하지 않고 파괴되거나 극히 일부만 영구 변형을 하고 파괴되는 성질이다. 실시예 1 내지 3을 통해 제조된 에폭시는 비교예 1내지 3을 통해 제조된 에폭시 복합재에 비해 평균적으로 파괴인성이 소폭 상승하였다.13 is a graph showing changes in fracture toughness of epoxy composites prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 3. It can be seen that as the content of boron nitride particles increases regardless of the examples and comparative examples, the fracture toughness decreases gradually because the epoxy composite becomes brittle. Here, brittleness is a property that a material is destroyed without permanent deformation by an external force, or only a part is permanently deformed and destroyed. The epoxy prepared in Examples 1 to 3 had an average increase in fracture toughness slightly in comparison with the epoxy composite prepared in Comparative Examples 1 to 3.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.It will be understood by those skilled in the art that the foregoing description of the present invention is for illustrative purposes only and that those of ordinary skill in the art can readily understand that various changes and modifications may be made without departing from the spirit or essential characteristics of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single entity may be distributed and implemented, and components described as being distributed may also be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 청구범위에 의하여 나타내어지며, 청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is defined by the appended claims, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included within the scope of the present invention.

Claims (11)

(a) 질화붕소 입자를 금속 염 및 산으로 전처리하는 단계;
(b) 상기 전처리된 질화붕소 입자를 실란계 화합물로 표면 처리하는 단계; 및
(c) 상기 표면 처리된 질화붕소 입자 및 에폭시 수지를 혼합하는 단계;
를 포함하는, 에폭시 복합재의 제조방법.
(a) pre-treating boron nitride particles with a metal salt and an acid;
(b) surface-treating the pretreated boron nitride particles with a silane-based compound; And
(c) mixing the surface-treated boron nitride particles and the epoxy resin;
≪ / RTI >
제1항에 있어서,
상기 질화붕소가 판상형의 육방정계 질화붕소 입자인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the boron nitride is a hexagonal boron nitride particle having a plate-like shape.
제1항에 있어서,
상기 질화붕소 입자의 평균 입도가 1 ㎛ 이하인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the average particle size of the boron nitride particles is 1 占 퐉 or less.
제1항에 있어서,
상기 금속 염이 질산나트륨, 차아염소산리튬, 과염소산리튬, 망간산리튬, 질산리튬, 질산세슘, 염소산칼륨, 과망간산칼륨 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the metal salt is one selected from the group consisting of sodium nitrate, lithium hypochlorite, lithium perchlorate, lithium manganese oxide, lithium nitrate, cesium nitrate, potassium chlorate, potassium permanganate, and mixtures of two or more thereof.
제1항에 있어서,
상기 산이 황산, 질산, 염산, 인산 및 이들 중 2 이상의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the acid is one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, and a mixture of two or more thereof.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계의 상기 전처리가 160 내지 250℃에서 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the pretreatment in step (a) is performed at 160 to 250 占 폚.
제1항에 있어서,
상기 (a) 단계의 상기 전처리가 4 내지 10 시간 동안 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the pretreatment of step (a) is performed for 4 to 10 hours.
제1항에 있어서,
상기 실란계 화합물이 3-아미노프로필트리에톡시실란인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the silane compound is 3-aminopropyltriethoxysilane.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 90 내지 150℃에서 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the surface treatment of step (b) is carried out at 90 to 150 占 폚.
제1항에 있어서,
상기 (b) 단계의 상기 표면 처리가 4 내지 10 시간 동안 수행되는, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the surface treatment of step (b) is performed for 4 to 10 hours.
제1항에 있어서,
상기 에폭시 수지는 비스페놀 A형(bis-phenol A type)으로 이루어진 군에서 선택된 하나인, 에폭시 복합재의 제조방법.
The method according to claim 1,
Wherein the epoxy resin is one selected from the group consisting of bisphenol A type epoxy resins.
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