KR101847945B1 - Spin dryer equipped with multi drying device - Google Patents

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KR101847945B1 KR1020170017948A KR20170017948A KR101847945B1 KR 101847945 B1 KR101847945 B1 KR 101847945B1 KR 1020170017948 A KR1020170017948 A KR 1020170017948A KR 20170017948 A KR20170017948 A KR 20170017948A KR 101847945 B1 KR101847945 B1 KR 101847945B1
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Abstract

Disclosed is a spin dryer provided with a complex drying means. The disclosed spin dryer with a complex drying means includes: a case; a cover formed on the upper side of the case; a cylindrical rotary drum mounted inside the case and removing moisture of an object to be dried inserted into a cassette by a centrifugal force generated during rotation; a rotary motor for rotating the rotary drum; a cassette holder mounted inside the rotary drum and fixing the cassette; a far infrared ray heater mounted on the lower side of the cover and emitting far infrared rays; and an air jet nozzle mounted on the case and jetting hot air to flow into the cylindrical rotary drum, wherein a centrifugal force direction, an air jet direction, and a far infrared ray emission direction generated by the rotation of the rotary drum are perpendicular to each other, thereby uniformly drying the object to be dried inserted into the cassette. Accordingly, the present invention can improve drying efficiency and reduce a drying time.

Description

복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어{Spin dryer equipped with multi drying device}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a spin dryer,

본 발명은 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 회전드럼을 회전시켜 원심력에 의한 탈수와 함께, 열풍 분사에 의한 대류 열전달, 및 원적외선 방사를 통한 복사 열전달을 통해, 건조효율을 높이고 건조시간 또한 단축시킨 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a spin dryer having a complex drying device, and more particularly, to a spin dryer having a complex drying device, The present invention also relates to a spin dryer equipped with a complex drying means for shortening the drying time.

일반적으로, 반도체 소자 제조공정은 웨이퍼 상에 확산, 사진, 식각, 이온주입 및 증착 등의 일련의 공정을 거쳐서 완성된다. 이러한 공정을 통해 제조되는 반도체 소자는 패턴의 미세화와 고집적화가 되어감에 따라 공정 중에 발생하는 파티클이나 각종 오염물에 의한 미세오염으로 제품 수율이나 신뢰성에 상당히 영향을 받는다.Generally, a semiconductor device manufacturing process is completed on a wafer through a series of processes such as diffusion, photo, etching, ion implantation, and deposition. Semiconductor devices manufactured through such processes are greatly influenced by product yield and reliability due to fine contamination due to particles and various contaminants generated during the process due to miniaturization and high integration of patterns.

이에 반도체 소자를 제조하기 위한 공정 진행 중에는 모든 웨이퍼는 항상 청결한 상태로 유지되어야 한다. 따라서 웨이퍼 세정기술은 반도체 소자 제조공정 중에서 가장 기본적인 기술이라 할 수 있을 뿐만 아니라, 반도체 소자 제조 공정들 사이를 이어주는 필수 공정 중 하나이다.Therefore, all the wafers must be kept clean at all times during the process for manufacturing semiconductor devices. Therefore, wafer cleaning technology is one of the most fundamental technologies in the semiconductor device manufacturing process, and is one of the essential processes for interconnecting semiconductor device manufacturing processes.

현재 가장 신뢰성 있게 사용하는 세정방법은 웨트 세정공정이고 이 웨트 세정공정을 구현하기 위한 장비로는 웨트 스테이션이 있다. 웨트 스테이션은 로딩된 웨이퍼를 소정 케미컬공정을 수행한 후 초순수물 샤워 및 오버플로우를 통해 웨이퍼를 세정하는 QDR(Quick Dump Rince)세정을 하며, 그 후 웨이퍼 건조 전에 최종적으로 웨이퍼를 세정하는 파이널 린스(Final Rinse)세정을 한다. 이렇게 웨트 스텐이션에서 세정처리가 완료되고 나면, 웨이퍼의 표면에는 순수(deionized water)가 묻어 있으므로 이를 제거하기 위해 건조과정이 후속으로 처리된다.The most reliable cleaning method currently used is the wet cleaning process and the equipment for implementing this wet cleaning process is the wetting station. The wet station performs a QDR (Quick Dump Rince) cleaning process for cleaning a wafer through a super-pure water shower and overflow after a predetermined chemical process is performed on the loaded wafer, and then a final rinse Final Rinse). After the cleaning process is completed in the wet stance, deionized water is deposited on the surface of the wafer, and the drying process is subsequently performed to remove the deionized water.

웨이퍼의 건조과정은 통상적으로 스핀 드라이어를 이용한 원심 건조방식에 의해 이루어진다. 원심 건조방식은 스핀 드라이어라고 불리어지는 장치에 의해 웨이퍼를 고속으로 회전시킴으로써 웨이퍼 표면상의 수분을 원심력에 의해 탈수하여 완전히 건조시키는 방식이다.The drying process of the wafer is usually performed by a centrifugal drying method using a spin dryer. In the centrifugal drying method, a wafer is rotated at a high speed by a device called a spin dryer, whereby water on the surface of the wafer is dewatered by centrifugal force and dried completely.

그러나 종래의 원심 건조방식은 스핀 드라이어를 고속으로 회전시킴에 따라 웨이퍼에 손상이 발생되는 경우가 종종 있으며, 스핀 드라이어의 회전속도를 낮출 경우 건조효율이 낮아지고, 건조시간이 길어져 웨이퍼 건조공정의 문제점으로 지적되어 왔다.However, in the conventional centrifugal drying method, wafers are often damaged as the spin dryer is rotated at a high speed. When the rotation speed of the spin dryer is lowered, the drying efficiency is lowered and the drying time becomes longer, .

따라서 건조효율을 높임과 동시에 건조시간을 단축시킨 스핀 드라이어의 개발이 절실히 요청된다.Therefore, it is urgently required to develop a spin dryer in which the drying efficiency is increased and the drying time is shortened.

한국공개특허공보 2004-0085245호Korean Patent Publication No. 2004-0085245

본 발명은 상기와 같은 문제를 해결하고자 제안된 것으로서, 웨이퍼의 건조효율을 높이고 건조시간 또한 단축시킨 스핀 드라이어를 제공하는 것을 목적으로 한다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a spin dryer in which drying efficiency of a wafer is increased and drying time is shortened.

또한 본 발명은 복합 건조수단을 제공하여 스핀 드라이어의 고속 회전으로 인한 웨이퍼의 파손을 방지하는 것을 목적으로 한다.It is another object of the present invention to provide a composite drying means to prevent breakage of the wafer due to high-speed rotation of the spin dryer.

또한 본 발명은 복합 건조수단을 최적의 위치에 배치하여, 컴팩트한 구조의 스핀 드라이어를 제공하는 것을 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a spin dryer having a compact structure by disposing the complex drying means at an optimum position.

본 발명은 케이스; 상기 케이스의 상부에 형성된 덮개; 상기 케이스의 내부에 장착되며, 회전시 발생되는 원심력으로 카세트에 삽입된 건조대상물의 물기를 제거하는 원통형 회전드럼; 상기 회전드럼을 회전시키는 회전모터; 상기 회전드럼의 내부에 장착되어, 상기 카세트를 고정하는 카세트홀더; 상기 덮개의 하부에 장착되어, 원적외선을 방사하는 원적외선 히터; 및 상기 케이스에 장착되어 상기 원통형 회전드럼에 유입되도록 열풍을 분사하는 에어분사 노즐;을 포함하며, 상기 회전드럼의 회전으로 발생되는 원심력 방향, 에어분사 방향 그리고 원적외선 방사 방향이 서로 직각을 이루어, 상기 카세트에 삽입된 건조대상물이 균일한 건조가 이뤄지는 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어를 제공한다.The present invention relates to a case; A cover formed on an upper portion of the case; A cylindrical rotating drum mounted inside the case and removing moisture of the object to be dried inserted into the cassette by centrifugal force generated during rotation; A rotary motor for rotating the rotary drum; A cassette holder mounted inside the rotary drum for fixing the cassette; A far infrared ray heater mounted on a lower portion of the cover to emit a far infrared ray; And an air jet nozzle mounted on the case and jetting hot air to flow into the cylindrical rotary drum, wherein centrifugal force direction, air jet direction, and far-infrared radiation direction generated by rotation of the rotary drum are perpendicular to each other, Characterized in that the drying object inserted into the cassette is uniformly dried.

또한 본 발명의 상기 덮개는, 상기 덮개의 일측에 결합되어 상기 덮개의 개폐가 가능하도록 하는 힌지 브라켓; 및 상기 힌지 브라켓의 일측에 결합되어 상기 덮개를 개폐하기 위한 동력을 제공하는 공압 실린더;를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the lid according to the present invention may include: a hinge bracket coupled to one side of the lid to allow the lid to be opened and closed; And a pneumatic cylinder coupled to one side of the hinge bracket to provide power for opening and closing the lid.

또한 본 발명의 상기 덮개에 결합되며, 상기 원적외선 히터의 전열선을 지지하는 자기 소재의 단열재 홀더;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The apparatus further includes a heat insulating material holder coupled to the lid of the present invention for supporting the heating wire of the far infrared ray heater.

또한 본 발명의 상기 회전드럼의 회전방향은 상기 회전드럼의 접선속도의 방향이 상기 에어분사 노즐에 의해 분사되는 에어의 방향과 반대방향이 되도록 회전하여, 상기 분사된 에어와 상기 회전드럼 사이의 상대속도가 증가되는 것을 특징으로 한다.Further, the rotation direction of the rotary drum of the present invention rotates so that the direction of the tangential velocity of the rotary drum is opposite to the direction of the air ejected by the air injection nozzle, and the relative position between the jetted air and the rotary drum And the speed is increased.

또한 본 발명의 상기 회전드럼의 표면에는 원형 타공홀이 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.Further, a plurality of circular perforation holes are formed on the surface of the rotary drum of the present invention.

또한 본 발명은 상기 회전드럼의 표면에는 수직방향의 장홀이 복수개 형성되는 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is characterized in that a plurality of vertical holes are formed on the surface of the rotary drum.

또한 본 발명은 상기 회전드럼의 표면에는 수직방향의 장홀이 복수개 형성되고, 상기 장홀 각각에는 에어의 유입을 가이드하는 가이드 측판이 부착된 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is characterized in that a plurality of vertical holes are formed on the surface of the rotary drum, and a guide side plate for guiding inflow of air is attached to each of the long holes.

또한 본 발명은 상기 회전드럼의 표면에는 수평방향의 장홀이 복수개 형성된 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is characterized in that a plurality of long holes in the horizontal direction are formed on the surface of the rotary drum.

또한 본 발명의 공기를 유입하여 공급하는 송풍 블로워, 상기 송풍 블로워로부터 공급된 공기를 가열하는 히터, 그리고 상기 히터로부터 공급되는 가열된 공기의 이물질을 제거하는 필터를 포함하는 열풍공급모듈; 및A hot air supply module including a blowing blower for introducing and supplying air of the present invention, a heater for heating the air supplied from the blowing blower, and a filter for removing foreign matter from the heated air supplied from the heater; And

상기 열풍공급모듈로부터 공급된 열풍을 상기 에어분사 노즐로 분배하여 공급하는 열풍 분배 매니폴드;를 포함하고, 상기 열풍공급모듈의 표면에는 흡음재가 부착된 것을 특징으로 한다.And a hot air distribution manifold for distributing hot air supplied from the hot air supply module to the air injection nozzle, and a sound absorbing material is attached to the surface of the hot air supply module.

또한 본 발명은 카세트로부터 물기를 원활하게 배출하기 위해 상기 카세트홀더를 소정 각도로 기울이는 카세트홀더 경사기구;를 더 포함 하는, 복합 건조수단이 구비된 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is characterized by further comprising a composite drying unit including a cassette holder tilting mechanism for tilting the cassette holder at a predetermined angle to smoothly discharge moisture from the cassette.

또한 본 발명의 상기 카세트홀더 경사기구는, 상기 카세트홀더 하부에 결합되어 상기 카세트홀더와 함께 회전하는 피니언; 및 상기 피니언과 치합하는 랙;을 포함하는 것을 특징으로 한다.The cassette holder tilting mechanism of the present invention may further include: a pinion coupled to the lower portion of the cassette holder and rotating together with the cassette holder; And a rack which engages with the pinion.

또한 본 발명의 상기 카세트홀더 경사기구는, 상기 카세트홀더 하부 일지점에 회전가능하게 결합되는 힌지; 및 상기 카세트홀더 하부 타지점에 일단이 결합된 피스톤이 내장된 실린더;를 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the cassette holder tilting mechanism of the present invention includes: a hinge rotatably coupled to a point below the cassette holder; And a cylinder having a piston coupled at one end thereof to a point on the lower side of the cassette holder.

또한 본 발명은 상기 카세트홀더로부터 회전드럼 중심까지의 거리를 변경시키는 카세트홀더 중심거리 가변기구;를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.Further, the present invention is characterized by further comprising a cassette holder center distance varying mechanism for changing a distance from the cassette holder to the center of the rotary drum.

또한 본 발명의 상기 상기 카세트홀더 중심거리 가변기구는, 마주보는 카세트홀더가 기설정된 서로 동일한 거리를 이동하는 제1 방식, 마주보는 카세트홀더가 기설정된 서로 상이한 거리를 이동하는 제2 방식, 또는 마주보는 카세트홀더 각각이 임의의 거리를 이동하는 제3 방식 중 어느 하나의 방식으로 이동하는 것을 특징으로 한다.In addition, the cassette holder center distance varying mechanism of the present invention may be configured such that a first method in which opposing cassette holders move a predetermined distance from each other, a second method in which opposing cassette holders move a predetermined different distance, And each of the viewing cassette holders moves in any one of a third mode in which the cassette holder moves at an arbitrary distance.

본 발명에 따른 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어는 건조효율을 높이고 건조시간을 단축시키는 효과가 있다.The spin dryer equipped with the composite drying means according to the present invention has the effect of increasing the drying efficiency and shortening the drying time.

또한 본 발명에 따른 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어는 스핀 드라이어의 고속 회전으로 인한 웨이퍼의 파손을 방지하는 효과가 있다.Further, the spin dryer equipped with the complex drying means according to the present invention has an effect of preventing the wafer from being damaged due to high-speed rotation of the spin dryer.

또한 본 발명에 따른 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어는 컴팩트한 구조의 스핀 드라이어를 제공하는 효과가 있다. Further, the spin dryer equipped with the complex drying means according to the present invention has the effect of providing a compact spin dryer.

상술한 효과와 더불어 본 발명의 구체적인 효과는 이하 발명을 실시하기 위한 구체적인 사항을 설명하면서 함께 기술한다.The above and other objects, features and advantages of the present invention will be more apparent from the following detailed description taken in conjunction with the accompanying drawings, in which: FIG.

도 1은 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 사시도이다.
도 2는 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 평면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼가 수납된 카세트의 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 원적외선 히터가 장착된 덮개의 작동을 설명하는 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 랙과 피니언이 구비된 카세트홀더 경사기구를 도시한 사시도이다.
도 6은 본 발명에 따른 랙과 피니언이 구비된 카세트홀더 경사기구의 작동을 설명하는 도면이다.
도 7은 본 발명에 따른 힌지와 실린더가 구비된 카세트홀더 경사기구를 도시한 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 힌지와 실린더가 구비된 카세트홀더 경사기구의 작동을 설명하는 도면이다.
도 9는 본 발명에 따른 카세트홀더 중심거리 가변기구의 사시도이다.
도 10은 본 발명에 따른 카세트홀더 중심거리 가변기구의 작동을 설명하는 도면이다.
도 11는 본 발명에 따른 타공홀이 형성된 회전드럼의 사시도이다.
도 12는 본 발명에 따른 수직방향의 장홀이 형성된 회전드럼의 사시도이다.
도 13은 본 발명에 따른 가이드 측판이 부착된 수직방향의 장홀이 형성된 회전드럼의 사시도이다.
도 14는 본 발명에 따른 수평방향의 장홀이 형성된 회전드럼의 사시도이다.
도 15는 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 원심력 방향, 에어 노즐 분사 방향, 원적외선 방사 방향을 설명하는 도면이다.
1 is a perspective view of a spin dryer according to the present invention.
2 is a plan view of a spin dryer according to the present invention.
3 is a perspective view of a cassette containing a wafer according to the present invention.
4 is a view for explaining the operation of a cover equipped with a far infrared ray heater according to the present invention.
5 is a perspective view showing a cassette holder tilting mechanism having a rack and a pinion according to the present invention.
6 is a view for explaining the operation of a cassette holder tilting mechanism provided with a rack and a pinion according to the present invention.
7 is a perspective view illustrating a cassette holder tilting mechanism having a hinge and a cylinder according to the present invention.
8 is a view for explaining the operation of the cassette holder tilting mechanism provided with the hinge and the cylinder according to the present invention.
9 is a perspective view of a cassette holder center distance varying mechanism according to the present invention.
10 is a view for explaining the operation of the cassette holder center distance varying mechanism according to the present invention.
11 is a perspective view of a rotary drum having a perforation hole according to the present invention.
12 is a perspective view of a rotary drum having a long hole in the vertical direction according to the present invention.
13 is a perspective view of a rotary drum having a vertical elongated hole with a guide side plate according to the present invention.
FIG. 14 is a perspective view of a rotary drum having a long hole in the horizontal direction according to the present invention. FIG.
15 is a view for explaining the centrifugal force direction, the air nozzle spraying direction, and the far-infrared ray emission direction of the spin dryer according to the present invention.

이하, 본 문서의 다양한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 기재된다. 그러나 이는 본 문서에 기재된 기술을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 문서의 실시예의 다양한 변경(modifications), 균등물(equivalents), 및/또는 대체물(alternatives)을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 도면의 설명과 관련하여, 유사한 구성요소에 대해서는 유사한 참조 부호가 사용될 수 있다.Hereinafter, various embodiments of the present document will be described with reference to the accompanying drawings. It should be understood, however, that the techniques described herein are not intended to be limited to any particular embodiment, but rather include various modifications, equivalents, and / or alternatives of the embodiments of this document. In connection with the description of the drawings, like reference numerals may be used for similar components.

또한, 본 문서에서 사용된 "제1," "제2," 등의 표현들은 다양한 구성요소들을, 순서 및/또는 중요도에 상관없이 수식할 수 있고, 한 구성요소를 다른 구성요소와 구분하기 위해 사용될 뿐 해당 구성요소들을 한정하지 않는다. 예를 들면, '제1 부분'과 '제2 부분'은 순서 또는 중요도와 무관하게, 서로 다른 부분을 나타낼 수 있다. 예를 들면, 본 문서에 기재된 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 바꾸어 명명될 수 있다.Also, the terms "first," "second," and the like used in the present document can be used to denote various components in any order and / or importance, and to distinguish one component from another But is not limited to those components. For example, 'first part' and 'second part' may represent different parts, regardless of order or importance. For example, without departing from the scope of the rights described in this document, the first component can be named as the second component, and similarly the second component can also be named as the first component.

또한, 본 문서에서 사용된 용어들은 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 다른 실시예의 범위를 한정하려는 의도가 아닐 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함할 수 있다. 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 용어들은 본 문서에 기재된 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가질 수 있다. 본 문서에 사용된 용어들 중 일반적인 사전에 정의된 용어들은, 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 동일 또는 유사한 의미로 해석될 수 있으며, 본 문서에서 명백하게 정의되지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. 경우에 따라서, 본 문서에서 정의된 용어일지라도 본 문서의 실시예들을 배제하도록 해석될 수 없다.It is also to be understood that the terminology used herein is for the purpose of describing particular embodiments only and is not intended to limit the scope of the other embodiments. The singular expressions may include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. Terms used herein, including technical or scientific terms, may have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art. The general predefined terms used in this document may be interpreted in the same or similar sense as the contextual meanings of the related art and, unless expressly defined in this document, include ideally or excessively formal meanings . In some cases, even the terms defined in this document can not be construed as excluding the embodiments of this document.

종래의 스핀 드라이어는 원심력만을 이용하는 관계로 안전상 회전속도에 제한이 따르며, 이로 인해 건조시간이 길어지고 생산효율을 떨어뜨리는 원인으로 지적되었다.Conventional spin dryers use centrifugal force only to limit the rotational speed of the spin dryer for safety reasons, which is pointed out as a cause of long drying time and low productivity.

이에 본 발명에 따른 스핀 드라이어는 세가지 건조수단이 구비된다. 본 발명에 따른 스핀 드라이어는 원심력에 의한 탈수와 더불어, 열풍 분사를 통한 대류방식의 건조와 원적외선 방사를 통한 복사방식의 건조가 함께 수행된다.Accordingly, the spin dryer according to the present invention is provided with three drying means. In the spin dryer according to the present invention, in addition to dehydration by centrifugal force, drying in a convection mode through hot air blowing and drying in a radiation mode by far-infrared ray radiation are performed together.

이렇게 서로 상이한 세가지 물리적 메커니즘을 통한 건조가 동시에 이뤄지므로, 단일 방식 건조의 단점을 보완할 수가 있는 것이다.The drying through the three different physical mechanisms is accomplished at the same time, which can compensate for the disadvantages of drying in a single mode.

세정공정을 마친 반도체 웨이퍼는 카세트에 수개씩 단위로 수납된다. 이렇게 복수의 웨이퍼가 수납된 카세트는 2개 내지 4개 단위로 스핀 드라이어에 장착된 후 건조공정이 진행된다.The semiconductor wafers which have been subjected to the cleaning process are stored in units of several cassettes. The cassette containing a plurality of wafers is mounted on the spin dryer in units of two to four, and then the drying process is performed.

도 1은 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 사시도이고, 도 2는 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 평면도이다.FIG. 1 is a perspective view of a spin dryer according to the present invention, and FIG. 2 is a plan view of a spin dryer according to the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다.Will be described with reference to Figs. 1 and 2. Fig.

본 발명에 따른 스핀 드라이어는 케이스(100), 덮개(110), 회전드럼(120), 회전모터(도면 미도시)를 포함한다.The spin dryer according to the present invention includes a case 100, a lid 110, a rotary drum 120, and a rotary motor (not shown).

케이스(100)의 내부에는 회전드럼(120)이 장착된다. 회전드럼(120)은 회전드럼(120)의 하부에 배치된 회전모터에 의해 구동된다. 회전드럼(120)의 회전시 발생되는 원심력으로 카세트(130)에 수납된 건조대상물의 물기가 제거된다.A rotary drum 120 is mounted inside the case 100. The rotary drum 120 is driven by a rotary motor disposed below the rotary drum 120. The water of the drying object accommodated in the cassette 130 is removed by the centrifugal force generated when the rotary drum 120 rotates.

회전드럼(120)의 상부에는 덮개(110)가 덮혀져, 회전드럼(120)의 회전시 건조대상이 외부로 이탈되는 것을 방지한다.The lid 110 is covered on the upper portion of the rotary drum 120 to prevent the drying object from being released to the outside when the rotary drum 120 rotates.

도 3은 본 발명에 따른 웨이퍼(140)가 수납된 카세트(130)의 사시도이고, 도 4는 본 발명에 따른 원적외선 히터(111)가 장착된 덮개(110)의 작동을 설명하는 도면이다.FIG. 3 is a perspective view of a cassette 130 containing a wafer 140 according to the present invention, and FIG. 4 is a view illustrating an operation of a lid 110 on which a far infrared ray heater 111 according to the present invention is mounted.

도 3 및 도 4를 참조하여 설명한다.Will be described with reference to Figs. 3 and 4. Fig.

카세트(130)는 네 개의 봉과 상부 및 하부의 측판으로 이루어진다. 상기 네 개의 봉에는 복수의 슬릿이 형성되고, 상기 슬릿에 웨이퍼(140)가 삽입된다.The cassette 130 consists of four bars and upper and lower side plates. A plurality of slits are formed in the four rods, and the wafers 140 are inserted into the slits.

도 3(a)는 덮개(110)가 열려진 상태를 도시한 도면이고, 도 3(b)는 덮개(110)가 닫혀진 상태를 도시한 도면이다.3 (a) is a view showing a state in which the lid 110 is opened, and Fig. 3 (b) is a view showing a state in which the lid 110 is closed.

웨이퍼(140)가 삽입된 카세트(130)는 덮개(110)가 열려진 상태에서는 웨이퍼(140)가 수직 상태로 배치되나, 덮개(110)가 닫힐 때는 덮개(110)와 카세트(130)의 간섭을 방지하기 위해 웨이퍼(140)가 경사진 상태로 배치된다. 카세트(130)의 경사 동작에 대해서는 후술하기로 한다.The cassette 130 in which the wafer 140 is inserted is arranged such that the wafer 140 is vertically disposed when the lid 110 is opened but the interference between the lid 110 and the cassette 130 when the lid 110 is closed The wafer 140 is placed in an inclined state. The inclining operation of the cassette 130 will be described later.

덮개(110)는 케이스(100)의 상부에 형성된다. 덮개(110)의 개폐를 위해 상기 덮개(110) 일측에 힌지 브라켓(112)이 결합된다. 또한 상기 힌지 브라켓(112)의 일측에는 공압 실린더(113)가 결합된다. 상기 공압 실린더(113)는 덮개(110)를 개폐하기 위한 동력을 제공한다. 이를 통해 덮개(110)는 공압 실린더(113)에 의해 힌지 브라켓(112)을 중심으로 회전하여 개폐가 가능하다.The lid 110 is formed on the upper portion of the case 100. A hinge bracket 112 is coupled to one side of the lid 110 for opening and closing the lid 110. A pneumatic cylinder 113 is coupled to one side of the hinge bracket 112. The pneumatic cylinder 113 provides power for opening and closing the lid 110. The lid 110 can be rotated around the hinge bracket 112 by the pneumatic cylinder 113 to be opened and closed.

덮개(110)의 하부에는 복수개의 원적외선 히터(111)가 장착된다. 원적외선 히터(111)는 덮개(110)가 케이스(100)를 덮은 상태에서 원적외선을 덮개(110) 하부로 방사하여, 복사에 의해 카세트(130)에 장착된 웨이퍼(140)를 건조시킨다.A plurality of far infrared ray heaters 111 are mounted on the lower portion of the lid 110. The far infrared ray heater 111 radiates the far infrared rays to the lower part of the lid 110 in a state where the lid 110 covers the case 100 and dries the wafer 140 mounted on the cassette 130 by radiation.

상기 원적외선 히터(111) 각각에는 반사갓이 부착되어, 원적외선 히터(111)에 의해 방사되는 원적외선이 덮개(110) 하부에 배치된 웨이퍼(140)를 향하도록 하여 복사 효율을 향상시킨다.Each of the far infrared ray heaters 111 is attached with a reflector so that the far infrared rays radiated by the far infrared ray heater 111 are directed toward the wafer 140 disposed under the lid 110 to improve the radiation efficiency.

덮개(110)는 강도를 고려하여 철판으로 제작된다. 한편 덮개(110)를 통한 누전을 차단하고 덮개(110)와의 빈번한 접촉으로 인한 단선을 방지하기 위해, 원적외선 히터(111)에 전기를 공급하는 전열선은 자기 소재로 제작된 단열재 홀더(도면 미도시)를 관통하도록 배치된다.The lid 110 is made of an iron plate in consideration of the strength. In order to prevent electric leakage through the lid 110 and to prevent disconnection due to frequent contact with the lid 110, a heating wire for supplying electricity to the far infrared ray heater 111 is formed of a heat insulating material holder (not shown) As shown in Fig.

도 5는 본 발명에 따른 랙(161)과 피니언(162)이 구비된 카세트홀더 경사기구(160)를 도시한 사시도이고, 도 6은 본 발명에 따른 랙(161)과 피니언(162)이 구비된 카세트홀더 경사기구(160)의 작동을 설명하는 도면이며, 도 7은 본 발명에 따른 힌지(163)와 실린더(164)가 구비된 카세트홀더 경사기구(160)를 도시한 사시도이고, 도 8은 본 발명에 따른 힌지(163)와 실린더(164)가 구비된 카세트홀더 경사기구(160)의 작동을 설명하는 도면이다.5 is a perspective view illustrating a cassette holder tilting mechanism 160 having a rack 161 and a pinion 162 according to the present invention and FIG. 6 is a perspective view showing a rack 161 and a pinion 162 according to the present invention. 7 is a perspective view showing the cassette holder tilting mechanism 160 having the hinge 163 and the cylinder 164 according to the present invention and FIG. Is a view for explaining the operation of the cassette holder tilting mechanism 160 having the hinge 163 and the cylinder 164 according to the present invention.

도 5 내지 도 8을 참조하여 카세트홀더 경사기구(160)에 대해 설명한다.The cassette holder tilting mechanism 160 will be described with reference to Figs. 5 to 8. Fig.

덮개(110)가 개방된 상태에서는 카세트(130)에 수납된 웨이퍼(140)가 수직 방향으로 세워져 있어, 회전드럼(120)의 회전시 전후의 웨이퍼(140)에 의해 물기가 원활하게 빠져나갈 수 없다. 따라서 카세트(130)를 경사지게 기울인 상태에서 회전되도록 한다. 이를 위해 본 발명에서는 카세트홀더 경사기구(160)가 구비된다.The wafer 140 housed in the cassette 130 stands upright in the vertical direction when the lid 110 is opened so that water can smoothly escape by the wafers 140 before and after the rotation of the rotary drum 120 none. Accordingly, the cassette 130 is rotated in an inclined state. To this end, the cassette holder tilting mechanism 160 is provided in the present invention.

본 발명에 따른 카세트홀더 경사기구(160)의 일실시예는 랙(161)과 피니언(162)으로 구현된다.One embodiment of the cassette holder tilt mechanism 160 according to the present invention is implemented with a rack 161 and a pinion 162.

피니언(162)은 카세트홀더(150) 하부에 결합되어 상기 카세트홀더(150)와 함께 회전한다. 랙(161)은 상기 피니언(162)에 치합되어 있다. 따라서 랙(161)이 전진 또는 후진하게 되면, 상기 랙(161)에 치합된 피니언(162)이 회전하게 되어 카세트(130)는 회전하게 된다.The pinion 162 is coupled to the lower portion of the cassette holder 150 and rotates together with the cassette holder 150. The rack 161 is engaged with the pinion 162. Accordingly, when the rack 161 moves forward or backward, the pinion 162 engaged with the rack 161 rotates, and the cassette 130 rotates.

본 발명에 따른 카세트홀더 경사기구(160)의 다른 실시예는 힌지(163)와 실린더(164)로 구현된다.Another embodiment of the cassette holder tilt mechanism 160 according to the present invention is implemented with a hinge 163 and a cylinder 164.

카세트홀더(150)의 하부 일지점에는 힌지(163)가 회전가능하게 결합된다. 그리고 카세트홀더(150)의 하부 타지점에는 피스톤이 내장된 실린더(164)의 일단이 결합된다. 따라서 피스톤이 전진 또는 후진하게 되면, 상기 카세트(130)는 힌지(163)를 중심으로 하여 회전하게 된다.A hinge 163 is rotatably coupled to a lower portion of the cassette holder 150. At one end of the cassette holder 150, one end of the cylinder 164 having the piston therein is coupled. Accordingly, when the piston advances or retreats, the cassette 130 rotates around the hinge 163. [

도 9는 본 발명에 따른 카세트홀더 중심거리 가변기구(170)의 사시도이고, 도 10은 본 발명에 따른 카세트홀더 중심거리 가변기구(170)의 작동을 설명하는 도면이다.FIG. 9 is a perspective view of the cassette holder center distance varying mechanism 170 according to the present invention, and FIG. 10 is a view for explaining the operation of the cassette holder center distance varying mechanism 170 according to the present invention.

도 9 및 도 10을 참조하여 카세트홀더 중심거리 가변기구(170)를 설명한다.9 and 10, the cassette holder center distance varying mechanism 170 will be described.

반도체 웨이퍼(140)의 세정공정에서 각 공정간 물체의 이송은 ALU라 불리는 이송기구가 담당한다. 상기 ALU는 통상적으로 동일 규격의 제품이 배치된다. 따라서 각 공정의 작업영역 사이에 배치된 ALU는 동일한 작업범위 내에서만 작업이 가능하다.In the cleaning process of the semiconductor wafer 140, a transfer mechanism called an ALU is responsible for transferring objects between the respective processes. The ALU is usually placed with products of the same standard. Therefore, ALUs placed between working areas of each process can work only within the same working range.

웨이퍼 건조공정에 있어서, 카세트홀더(150)에 장착되는 카세트(130)의 크기가 변경되는 경우에는 고정된 ALU의 작업범위에 대응하기 위해 카세트홀더(150)를 이동시킬 필요가 있다. 따라서 본 발명에서는 카세트홀더 중심거리 가변기구(170)를 도입하였다.In the wafer drying process, when the size of the cassette 130 mounted on the cassette holder 150 is changed, it is necessary to move the cassette holder 150 to correspond to the working range of the fixed ALU. Therefore, in the present invention, the cassette holder center distance varying mechanism 170 is introduced.

카세트홀더 중심거리 가변기구(170)는 장착되는 카세트(130)의 크기에 맞게 카세트홀더(150)를 회전드럼(120)의 중심으로부터 적절한 거리로 이동시켜, 서로 마주보는 카세트(130) 사이에 간섭이 발생되지 않도록 함과 동시에, 회전드럼(120) 전후 공정에 배치된 ALU의 작업범위 내에 각 카세트(130)가 위치하도록 하는 역할을 한다.The cassette holder center distance varying mechanism 170 moves the cassette holder 150 to an appropriate distance from the center of the rotary drum 120 in accordance with the size of the cassette 130 to be mounted, And also allows each cassette 130 to be positioned within the working range of the ALU arranged in the front and rear process of the rotary drum 120. [

카세트홀더 중심거리 가변기구(170)는 세가지 방식으로 구현된다.The cassette holder center distance varying mechanism 170 is implemented in three ways.

제 1 방식은 마주보는 카세트홀더(150)가 기설정된 서로 동일한 거리를 이동하며, 제2 방식은 마주보는 카세트홀더(150)가 기설정된 서로 상이한 거리를 이동하고, 제3 방식은 마주보는 카세트홀더(150) 각각이 임의의 거리를 이동한다.In the first mode, the opposing cassette holder 150 is moved by the same predetermined distance. In the second mode, the opposing cassette holder 150 moves a predetermined distance from each other. In the third mode, (150) move at a certain distance.

제1 내지 제3 방식의 중심거리 가변기구를 구현하기 위해 공압 로터리 액츄에이터, 공압실린더, 서보모터가 채택될 수 있다.A pneumatic rotary actuator, a pneumatic cylinder, and a servo motor may be employed to implement the center distance varying mechanism of the first to third schemes.

본 발명에 따른 스핀 드라이어에서 열풍 분사를 통한 대류방식의 건조에 대해 설명한다.The convection type drying by hot air blowing in the spin dryer according to the present invention will be described.

도 11는 본 발명에 따른 타공홀이 형성된 회전드럼(120)의 사시도이고, 도 12는 본 발명에 따른 수직방향의 장홀이 형성된 회전드럼(120)의 사시도이며, 도 13은 본 발명에 따른 가이드 측판(121)이 부착된 수직방향의 장홀이 형성된 회전드럼(120)의 사시도이고, 도 14는 본 발명에 따른 수평방향의 장홀이 형성된 회전드럼(120)의 사시도이며, 도 15는 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 원심력 방향, 에어 노즐 분사 방향, 원적외선 방사 방향을 설명하는 도면이다.11 is a perspective view of a rotary drum 120 having perforated holes according to the present invention, FIG. 12 is a perspective view of a rotary drum 120 having a vertical elongated hole according to the present invention, FIG. 13 is a perspective view FIG. 14 is a perspective view of a rotary drum 120 having a horizontal elongated hole according to the present invention, and FIG. 15 is a perspective view of a rotary drum 120 having a vertical elongated hole with a side plate 121 attached thereto. The direction of the centrifugal force of the spin dryer, the direction of jetting the air nozzle, and the far-infrared radiation direction.

도 11 내지 도 15를 참조하여 설명한다.Will be described with reference to Figs. 11 to 15. Fig.

회전드럼(120)의 내부에는 웨이퍼(140)가 수납된 카세트(130)가 장착되며, 회전드럼(120)이 회전할 때 열풍을 노즐을 통해 분사한다.A cassette 130 containing a wafer 140 is mounted in the rotary drum 120 and hot air is blown through the nozzle when the rotary drum 120 rotates.

도 11 내지 도 14는 다양한 회전드럼(120)의 실시예를 나타낸 것이다.11-14 illustrate an embodiment of the various rotating drums 120. As shown in FIG.

회전드럼(120)은 회전시 웨이퍼(140) 상의 물기가 원활하게 배출될 수 있도록 설계되어야 하며, 이 뿐 아니라 노즐로부터 분사되는 열풍의 유입이 용이하여 건조효율을 높이는 구조로 설계되어야 한다.The rotary drum 120 should be designed so that the water on the wafer 140 can be smoothly discharged during the rotation, and the hot water jetted from the nozzle can be easily introduced, thereby improving the drying efficiency.

도 11에 따른 회전드럼(120)은 회전드럼(120)의 표면에 복수의 타공홀이 형성된다. 이러한 구조는 회전드럼(120)의 회전시 물기의 배출에 효과적인 구조이다.11, a plurality of perforation holes are formed on the surface of the rotary drum 120. [ This structure is an effective structure for discharging the water during rotation of the rotary drum 120.

도 12에 따른 회전드럼(120)은 회전드럼(120)의 표면에 수직방향의 장홀이 복수개 형성된다. 이러한 구조는 타공홀이 형성된 회전드럼(120) 보다 열풍의 유입량이 많아, 대류 열전달에 효과적이다.12, a plurality of vertical holes are formed on the surface of the rotary drum 120. As shown in FIG. This structure is more effective for convective heat transfer because the inflow amount of the hot air is larger than that of the rotary drum 120 in which the perforation hole is formed.

도 13에 따른 회전드럼(120)은 회전드럼(120)의 표면에 수직방향의 장홀이 복수개 형성되고, 상기 장홀 각각에는 에어의 유입을 가이드하는 가이드 측판(121)이 부착된다. 이러한 구조는 가이드 측판(121)이 부착되어 열풍의 유입을 더욱 증가시킨다.13, a plurality of vertical holes are formed on the surface of the rotary drum 120, and a guide side plate 121 for guiding the inflow of air is attached to each of the long holes. This structure has the guide side plate 121 attached thereto to further increase inflow of hot air.

도 14에 따른 회전드럼(120)은 회전드럼(120)의 표면에 수평방향의 장홀이 복수개 형성된다.14, a plurality of long holes in the horizontal direction are formed on the surface of the rotary drum 120.

도 15는 도 13에 도시된 회전드럼(120)에 열풍 분사 방향, 회전드럼(120)의 회전으로 발생되는 원심력 방향, 그리고 원적외선 방사 방향을 도시한 도면이다.FIG. 15 is a view showing a hot air blowing direction, a centrifugal force direction generated by the rotation of the rotary drum 120, and a far-infrared ray radiation direction in the rotary drum 120 shown in FIG.

복합 건조수단이 구비된 본 발명에 따른 스핀 드라이어는 원적외선 히터(111)에 의해 원적외선이 방사되는 방향과, 에어 분사 노즐에 의해 분사되는 열풍의 분사방향과, 회전드럼(120)의 회전에 의해 발생되는 원심력의 방향이 서로 직각을 이루고 있다.The spin dryer according to the present invention provided with the complex drying means is driven by the direction of emission of the far-infrared ray by the far infrared ray heater 111, the direction of spraying the hot air jetted by the air jet nozzle and the rotation of the rotary drum 120 The direction of the centrifugal force is perpendicular to each other.

따라서 카세트(130)에 수납된 건조대상물을 건조함에 있어서 종래의 회전에 의한 원심력만을 이용하던 경우에 비해 균일한 건조가 가능하다. 이뿐 아니라 복합 수단을 구현함에 있어서, 세가지 서로 상이한 메커니즘을 가진 기구의 배치를 최적화하여 공간 효율성 또한 높다고 하겠다.Therefore, in drying the object to be dried contained in the cassette 130, it is possible to dry uniformly compared with the case where only the centrifugal force by the conventional rotation is used. In addition to this, in the implementation of the hybrid means, the arrangement of the three mechanisms having different mechanisms is optimized, and the space efficiency is also high.

도 15에 도시된 바와 같이, 회전드럼(120)의 회전방향은 상기 회전드럼(120)의 접선속도의 방향이 상기 에어분사 노즐(101)에 의해 분사되는 에어의 방향과 반대방향이 되도록 회전한다.15, the rotation direction of the rotary drum 120 rotates so that the direction of the tangential velocity of the rotary drum 120 is opposite to the direction of the air jetted by the air injection nozzle 101 .

이를 통해 회전드럼(120)에 유입되는 열풍의 양을 증가시킬 수 있으며, 이는 건조효율의 상승으로 이어진다.The amount of hot air flowing into the rotary drum 120 can be increased, which leads to an increase in drying efficiency.

이뿐 아니라, 회전드럼(120)과 반대방향으로 유입된 열풍은 회전드럼(120)과의 상대속도가 크게 되어, 결과적으로 대류 열전달률을 높이게 되며, 이는 건조효율을 상승시키는 또 다른 요인으로 작용한다.In addition, the hot air flowing in a direction opposite to the rotary drum 120 has a relatively high relative speed with respect to the rotary drum 120, resulting in an increase in the convective heat transfer rate, which is another factor for increasing the drying efficiency .

웨이퍼(140)의 건조에 사용되는 열풍의 제조공정을 소개한다.The manufacturing process of the hot air used for drying the wafer 140 is introduced.

송풍 블로워에서는 공기를 유입한다. 상기 송풍 블로워로부터 공급된 공기는 히터를 통과하면서 가열된다. 가열된 공기는 이물질 제거를 위해 헤파필터를 거친다. 헤파필터를 통해 생성된 청정의 열풍은 열풍 분배 매니폴드를 통해 에어 분사 노즐로 공급된다.Air flows in the blowing blower. The air supplied from the blowing blower is heated while passing through the heater. The heated air passes through a HEPA filter to remove foreign matter. The clean hot air generated by the HEPA filter is supplied to the air injection nozzle through the hot air distribution manifold.

열풍을 생성하기 위한 송풍 블로워, 히터, 헤파필터는 하나의 상자 안에 형성되어 열풍공급모듈을 이룬다. 이는 배관이송손실을 줄이기 위함이다.The blower, the heater, and the HEPA filter for generating hot air are formed in a single box to form a hot air supply module. This is to reduce pipeline transport losses.

한편 열풍공급모듈의 표면에는 흡음재가 부착되어 풍력 소음을 줄여준다.On the other hand, a sound absorbing material is attached to the surface of the hot air supply module to reduce wind noise.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명은 상술한 특정의 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형실시가 가능한 것은 물론이고, 이러한 변형 실시예들은 본 발명의 기술적 사상이나 전망으로부터 개별적으로 이해되어서는 안 될 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be construed as limiting the scope of the invention as defined by the appended claims. It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention.

케이스 100
에어분사 노즐 101
덮개 110
원적외선 히터 111
힌지 브라켓 112
공압 실린더 113
회전드럼 120
가이드 측판 121
카세트 130
웨이퍼 140
카세트홀더 150
카세트홀더 경사기구 160
랙 161
피니언 162
힌지 163
실린더 164
카세트홀더 중심거리 가변기구 170
Case 100
The air jet nozzle 101
The cover 110
Far infrared ray heater 111
Hinge bracket 112
Pneumatic cylinder 113
The rotary drum 120
Guide shroud 121
Cassette 130
The wafer 140
Cassette Holder 150
Cassette holder inclination mechanism 160
Rack 161
Pinion 162
Hinge 163
Cylinder 164
Cassette holder center distance varying mechanism 170

Claims (14)

케이스;
상기 케이스의 상부에 형성된 덮개;
상기 케이스의 내부에 장착되며, 회전시 발생되는 원심력으로 카세트에 삽입된 건조대상물의 물기를 제거하는 원통형 회전드럼;
상기 회전드럼을 회전시키는 회전모터;
상기 회전드럼의 내부에 장착되어, 상기 카세트를 고정하는 카세트홀더;
상기 덮개의 하부에 장착되어, 원적외선을 방사하는 원적외선 히터; 및
상기 케이스에 장착되어 상기 원통형 회전드럼에 유입되도록 열풍을 분사하는 에어분사 노즐;을 포함하며,
상기 회전드럼의 표면에는 수직방향의 장홀이 복수개 형성되고, 상기 장홀 각각에는 에어의 유입을 가이드하는 가이드 측판이 부착되며,
상기 회전드럼의 회전으로 발생되는 원심력 방향, 에어분사 방향 그리고 원적외선 방사 방향이 서로 직각을 이루어, 상기 카세트에 삽입된 건조대상물이 균일한 건조가 이뤄지는 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
case;
A cover formed on an upper portion of the case;
A cylindrical rotating drum mounted inside the case and removing moisture of the object to be dried inserted into the cassette by centrifugal force generated during rotation;
A rotary motor for rotating the rotary drum;
A cassette holder mounted inside the rotary drum for fixing the cassette;
A far infrared ray heater mounted on a lower portion of the cover to emit a far infrared ray; And
And an air spray nozzle mounted on the case and spraying hot air to flow into the cylindrical rotating drum,
Wherein a plurality of elongated vertical holes are formed in the surface of the rotary drum, and each of the elongated holes is provided with a guide side plate for guiding inflow of air,
Wherein a drying object inserted into the cassette is uniformly dried by making the centrifugal force direction, the air jet direction and the far-infrared radiation direction generated by rotation of the rotary drum perpendicular to each other,
제1항에 있어서,
상기 덮개는,
상기 덮개의 일측에 결합되어 상기 덮개의 개폐가 가능하도록 하는 힌지 브라켓; 및
상기 힌지 브라켓의 일측에 결합되어 상기 덮개를 개폐하기 위한 동력을 제공하는 공압 실린더;를 포함하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
The method according to claim 1,
Wherein the cover comprises:
A hinge bracket coupled to one side of the lid to allow the lid to be opened and closed; And
And a pneumatic cylinder coupled to one side of the hinge bracket to provide power for opening and closing the lid,
제2항에 있어서,
상기 덮개에 결합되며, 상기 원적외선 히터의 전열선을 지지하는 자기 소재의 단열재 홀더;를 더 포함하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
3. The method of claim 2,
And a heat insulating material holder coupled to the cover and made of a magnetic material for supporting the heating wire of the far infrared ray heater,
제1항에 있어서,
상기 회전드럼의 회전방향은 상기 회전드럼의 접선속도의 방향이 상기 에어분사 노즐에 의해 분사되는 에어의 방향과 반대방향이 되도록 회전하여, 상기 분사된 에어와 상기 회전드럼 사이의 상대속도가 증가되는 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
The method according to claim 1,
The rotation direction of the rotary drum rotates so that the direction of the tangential velocity of the rotary drum is opposite to the direction of the air jetted by the air jet nozzle so that the relative velocity between the jetted air and the rotary drum is increased Characterized in that a spin dryer equipped with a composite drying means
삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제4항에 있어서,
공기를 유입하여 공급하는 송풍 블로워, 상기 송풍 블로워로부터 공급된 공기를 가열하는 히터, 그리고 상기 히터로부터 공급되는 가열된 공기의 이물질을 제거하는 필터를 포함하는 열풍공급모듈; 및
상기 열풍공급모듈로부터 공급된 열풍을 상기 에어분사 노즐로 분배하여 공급하는 열풍 분배 매니폴드;를 포함하고,
상기 열풍공급모듈의 표면에는 흡음재가 부착된 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
5. The method of claim 4,
A hot air supply module including a blowing blower for blowing and supplying air, a heater for heating the air supplied from the blowing blower, and a filter for removing foreign matter from the heated air supplied from the heater; And
And a hot air distribution manifold for distributing and supplying the hot air supplied from the hot air supply module to the air injection nozzle,
Characterized in that a sound absorbing material is attached to the surface of the hot air supply module
제1항에 있어서,
카세트로부터 물기를 원활하게 배출하기 위해 상기 카세트홀더를 소정 각도로 기울이는 카세트홀더 경사기구;를 더 포함 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
The method according to claim 1,
And a cassette holder tilting mechanism for tilting the cassette holder at a predetermined angle to smoothly discharge water from the cassette,
제10항에 있어서,
상기 카세트홀더 경사기구는,
상기 카세트홀더 하부에 결합되어 상기 카세트홀더와 함께 회전하는 피니언; 및
상기 피니언과 치합하는 랙;을 포함하는 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
11. The method of claim 10,
The cassette holder tilting mechanism includes:
A pinion coupled to a lower portion of the cassette holder and rotated together with the cassette holder; And
And a rack which engages with the pinion. The spin dryer
제10항에 있어서,
상기 카세트홀더 경사기구는,
상기 카세트홀더 하부 일지점에 회전가능하게 결합되는 힌지; 및
상기 카세트홀더 하부 타지점에 일단이 결합된 피스톤이 내장된 실린더;를 포함하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
11. The method of claim 10,
The cassette holder tilting mechanism includes:
A hinge rotatably coupled to a point below the cassette holder; And
And a cylinder in which a piston having one end coupled to a lower end of the cassette holder is incorporated,
제1항에 있어서,
상기 카세트홀더로부터 회전드럼 중심까지의 거리를 변경시키는 카세트홀더 중심거리 가변기구;를 더 포함하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
The method according to claim 1,
Further comprising a cassette holder center distance varying mechanism for changing a distance from the cassette holder to the center of the rotary drum,
제13항에 있어서,
상기 카세트홀더 중심거리 가변기구는,
마주보는 카세트홀더가 기설정된 서로 동일한 거리를 이동하는 제1 방식, 마주보는 카세트홀더가 기설정된 서로 상이한 거리를 이동하는 제2 방식, 또는 마주보는 카세트홀더 각각이 임의의 거리를 이동하는 제3 방식 중 어느 하나의 방식으로 이동하는 것을 특징으로 하는, 복합 건조수단이 구비된 스핀 드라이어
14. The method of claim 13,
The cassette holder center distance varying mechanism includes:
A first mode in which the opposing cassette holders move the same distance as the predetermined distance, a second mode in which the opposing cassette holders move a predetermined different distance, or a third mode in which each of the opposing cassette holders moves a certain distance , Wherein the spin dryer is provided with a composite drying means
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR900005566B1 (en) * 1980-09-09 1990-07-31 에너지 컨버션 디바이시즈, 인코포레이티드 Method for optimizing photo responsive amorphous alloys and devices
KR930008127Y1 (en) * 1990-12-18 1993-12-08 금성일렉트론 주식회사 Cassette lifting system of spin dryer
KR200148607Y1 (en) * 1993-12-10 1999-06-15 구본준 Spin dryer having a preventive means of electrostatic
JP2000146435A (en) * 1998-11-12 2000-05-26 Toowa:Kk Spin dryer
JP2000337768A (en) * 1999-05-24 2000-12-08 Toshiba Ceramics Co Ltd Centrifugal dryer for work
KR100490508B1 (en) * 1996-05-20 2005-08-04 동경 엘렉트론 주식회사 Spin dryer and substrate drying method
KR20160007231A (en) * 2014-07-10 2016-01-20 지철묵 Spin drying apparatus and drying method with preventing water drops

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR900005566B1 (en) * 1980-09-09 1990-07-31 에너지 컨버션 디바이시즈, 인코포레이티드 Method for optimizing photo responsive amorphous alloys and devices
KR930008127Y1 (en) * 1990-12-18 1993-12-08 금성일렉트론 주식회사 Cassette lifting system of spin dryer
KR200148607Y1 (en) * 1993-12-10 1999-06-15 구본준 Spin dryer having a preventive means of electrostatic
KR100490508B1 (en) * 1996-05-20 2005-08-04 동경 엘렉트론 주식회사 Spin dryer and substrate drying method
JP2000146435A (en) * 1998-11-12 2000-05-26 Toowa:Kk Spin dryer
JP2000337768A (en) * 1999-05-24 2000-12-08 Toshiba Ceramics Co Ltd Centrifugal dryer for work
KR20160007231A (en) * 2014-07-10 2016-01-20 지철묵 Spin drying apparatus and drying method with preventing water drops

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