KR101839645B1 - 유동 접촉 분해 방법 - Google Patents

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유오피 엘엘씨
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Abstract

일 예시적 구체예는 유동 접촉 분해 공정일 수 있다. 상기 공정은 비점이 180℃∼800℃인 제1 공급물을 제1 라이저 반응기에 제공하는 단계, 및 제1 및 제2 부분을 갖는 제2 공급물을 제2 반응기에 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 통상, 제1 부분은 하나 이상의 C5-C12 탄화수소를 포함하고 제2 부분은 하나 이상의 C4-C5 탄화수소를 포함한다. 일반적으로, 제2 부분의 유효량을 제1 부분과 배합시켜 프로펜의 생성을 최대화시킨다.

Description

유동 접촉 분해 방법{FLUID CATALYTIC CRACKING PROCESS}
조기 국내 출원의 우선권 주장
본 출원은 미국 출원 번호 제13/247,413호(2011년 9월 28일 출원)를 우선권 주장의 기초 출원으로 하여 특허 청구한다.
본 발명의 분야
본 발명은 일반적으로 유동 접촉 분해 공정에 관한 것이다.
접촉 분해는 더 많은 탄화수소로부터 다양한 생성물을 생성할 수 있다. 종종, 중질 탄화수소, 예컨대 진공 가스유의 공급물이 접촉 분해 반응기, 예컨대 유동 접촉 분해 반응기에 제공된다. 상기 시스템으로부터 가솔린 생성물 및/또는 경질 생성물, 예컨대 프로펜 및/또는 에텐을 포함한 다양한 생성물이 생성될 수 있다.
상기 시스템에서는, 단일 반응기 또는 이중 반응기가 이용될 수 있다. 이중 반응기 시스템을 사용함으로써 추가의 자본 비용이 발생할 수 있지만, 반응기 중 하나는 프로펜 및/또는 에텐을 포함한 경질 올레핀과 같은 생성물을 최대화시키는 맞춤 조건에서 조작될 수 있다.
이러한 이중 반응기 시스템에서, 높은 수율, 예컨대 70∼150 중량%, 또는 심지어 100∼300 중량%의 부텐이, 프로펜 수율을 기준으로, 경질 분해 나프타 또는 중합체 나프타의 분해 동안 발생할 수 있다. 중합체 나프타의 수율이 특히 높을 수 있는데 그 이유는 나프타가 거의 완전히 부텐의 이량체 및 삼량체를 포함하기 때문이다. 일반적으로, 이것은, 역사학적으로, 프로펜이 부텐보다 더욱 가치있는 생성물이기 때문에 바람직하지 못하다. 결론적으로, 프로펜을 생성하는 이중 반응기 시스템 및 그러한 공급물의 선택성을 개선하는 것이 필요한 실정이다.
하나의 예시적 구체예는 유동 접촉 분해 공정일 수 있다. 상기 공정은 비점이 180℃∼800℃인 제1 공급물을 제1 라이저(riser) 반응기에 제공하는 단계, 및 제1 및 제2 부분(part)을 갖는 제2 공급물을 제2 반응기에 제공하는 단계를 포함할 수 있다. 통상, 제1 부분은 하나 이상의 C5-C12 탄화수소를 포함하고 제2 부분은 하나 이상의 C4-C5 탄화수소를 포함한다. 일반적으로, 제2 부분의 유효량을 제1 부분과 배합하여 프로펜의 생성을 최대화시킨다.
또다른 예시적 구체예는 유동 접촉 분해 공정일 수 있다. 상기 공정은 가스유, 진공 가스유, 상압 가스유, 코커(coker) 가스유, 수소화처리된 가스유, 수소화분해기 미전환유, 및 상압 잔사유 중 하나 이상을 제1 라이저 반응기에 제공하는 단계, 및 하나 이상의 C4 및 C5 탄화수소의 유효량과 배합된 경질 분해 나프타 및/또는 중합체 나프타를 제2 라이저 반응기에 제공하여 프로펜의 생성을 최대화시키는 단계를 포함할 수 있다.
또다른 예시적 구체예는 유동 접촉 분해 공정일 수 있다. 상기 공정은 가스유, 진공 가스유, 상압 가스유, 코커 가스유, 수소화처리된 가스유, 수소화분해기 미전환유, 및 상압 잔사유 중 하나 이상을 150℃∼580℃의 온도에서 조작되는 제1 라이저 반응기에 제공하는 단계, 하나 이상의 C4 및 C5 탄화수소의 유효량과 배합된 경질 분해 나프타 및/또는 중합체 나프타를 425℃∼630℃의 온도에서 조작되는 제2 라이저 반응기에 제공하여 프로펜의 생성을 최대화시키는 단계, 제1 및 제2 라이저 반응기 중 하나 이상에 촉매를 제공하는 단계, 및 재생 구역에서 촉매를 재생시키는 단계를 포함할 수 있다.
본원에 개시된 구체예는 반응 평형을 이동시켜 더 많은 프로펜을 생성할 수 있는 하나 이상의 C4-C5 탄화수소, 바람직하게는 하나 이상의 C4 및 C5 알켄을 첨가한다. 나프타, 경질 분해 나프타, 또는 폴리가스(polygas)를 포함한 공급물에서 예컨대 부텐을 예컨대 제2 라이저에 포함시킴으로써, 프로펜 선택성이 향상될 수 있고 전반적인 재순환 비율 및 가스 수율이 최소화될 수 있다.
정의
본원에 사용된 용어 "스트림"은 다양한 탄화수소 분자, 예컨대 선형, 분지형, 또는 환형 알칸, 알켄, 알카디엔, 및 알킨, 및 경우에 따라 다른 물질, 예컨대 가스, 예를 들어 수소, 또는 불순물, 예컨대 중금속, 및 황 및 질소 화합물을 포함할 수 있다. 스트림은 또한 방향족 및 비방향족 탄화수소를 포함할 수 있다. 더하여, 탄화수소 분자는 C1, C2, C3...Cn으로 약기할 수 있고, 여기서 "n"은 하나 이상의 탄화수소 분자에서 탄소 원자의 갯수를 나타낸다.
본원에 사용된 용어 "구역"은 하나 이상의 장치 물품 및/또는 하나 이상의 서브구역을 포함하는 지역을 나타낼 수 있다. 장치 물품은 하나 이상의 반응기 또는 반응기 용기, 히터, 교환기, 파이프, 펌프, 압축기, 및 제어기를 포함할 수 있다. 추가적으로, 장치 물품, 예컨대 반응기, 드라이어, 또는 용기는 하나 이상의 구역 또는 서브구역을 추가로 포함할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "농후한"은 일반적으로 스트림 내에 화합물 또는 화합물 부류가 50 몰% 이상, 바람직하게는 70 몰% 이상의 양인 것을 의미할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "실질적으로"는 일반적으로 스트림 내에 화합물 또는 화합물 부류가 80 몰% 이상, 바람직하게는 90 몰%, 경우에 따라 99% 이상의 양인 것을 의미할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "알칸", "파라핀", 및 "포화하다"는 상호 혼용될 수 있다.
본원에 사용된 용어 "알켄" 및 "올레핀"은 상호 혼용될 수 있다.
본원에 사용된 용어 "부텐"은 부트-1-엔, cis-2-부텐, trans-2-부텐, 및/또는 2-메틸프로펜을 포함할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "펜텐"은 1-펜텐, cis-2-펜텐, trans-2-펜텐, 2-메틸부트-1-엔, 3-메틸부트-1-엔, 및/또는 2-메틸부트-2-엔을 포함할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "경질 분해 나프타"는 "LCN(light cracked naphtha)"으로 약기할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "유동 접촉 분해"는 "FCC"로 약기할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "무수 가스"는 수소, 황화수소, 메탄, 에탄, 및 에텐을 포함할 수 있다, "DG"로 약기할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "중량 백분율"은 "중량%"로 약기할 수 있다.
본원에 사용된 용어 "라이저 반응기"는 일반적으로 라이저 및 반응 용기를 포함할 수 있는 유동 접촉 분해 공정에 사용되는 반응기를 의미한다. 통상, 그러한 반응기는 라이저의 바닥부에 제공되는 촉매를 가지며 이 촉매는 반응 용기에서 탄화수소로부터 촉매를 분리시키는 메카니즘이 일어나도록 한다.
도 1은 예시적 유동 접촉 분해 구역의 개략도이다.
도 2는 3개의 예시적 공급물의 알켄 중 부텐의 중량%에 대한 총 공급물을 기준으로 하는 순수 수율 중량%의 그래프이다.
도 3은 3개의 예시적 공급물의 알켄 중 부텐의 중량%에 대한 전환율을 기준으로 하는 선택성 수율의 그래프이다.
도 1을 참조하면, 예시적 유동 접촉 분해 구역(100)은 제1 라이저 반응기(160), 제2 라이저 반응기(260), 및 재생 구역(300)을 포함할 수 있다. 예시적 이중 라이저 시스템은, 예를 들어 US 제2010/0236980호에 개시된다.
제1 라이저 반응기(160)는 반응 용기(180)로 종결되는 라이저(170)를 포함할 수 있다. 통상, 제1 라이저 반응기(160)는 하나 이상의 배플(baffle) 및 내부 쉘(150)을 포함하는 스트리퍼 구역(130)을 추가로 포함할 수 있다. 제2 라이저 반응기(260)는 반응 용기(280)로 종결되는 라이저(270)를 포함할 수 있다. 통상, 제2 라이저 반응기(260)는 또한 스트리핑 구역(284)을 포함할 수 있다.
통상, 라이저(170)에서 180℃∼800℃의 비점, 통상 350℃ 이상의 비점을 갖는 제1 공급물(120)을 유동화 가스(110) 위에 제공한다. 이러한 유체 및 촉매는 라이저(170) 내에서 반응 용기(180)로 상승할 수 있다. 일반적으로, 반응 용기(180)에서는 생성물 가스를 상승시켜 생성물 스트림(190)으로서 배출시키고 촉매를 낙하시키는 하나 이상의 스월 암(swirl arm)에 의해 반응물 및 촉매를 분리시킬 수 있다. 촉매 중 일부를 제1 촉매 라인(154)을 통해 재생 구역(300)에 제공할 수 있고, 라인(156)을 통과하는 또다른 일부는 라이저(170)의 기저부에서 제공되어 촉매 대 오일의 비율을 최대화시킬 수 있다. 통상, 제1 라이저 반응기(160)는 450℃∼600℃의 온도에서 조작되며 중질 탄화수소, 예컨대 350℃ 이상에서 비등하는 공급물이 가공된다.
제2 라이저 반응기(260)는 20 중량% 이상의 하나 이상의 C4 탄화수소, 바람직하게는 하나 이상의 C4-C5 알켄, 예컨대 부텐을 포함할 수 있는 제2 공급물(220)을 수용할 수 있다. 바람직하게는, 제2 공급물(220)의 중량을 기준으로 30 중량% 이상의 하나 이상의 C4-C5 알켄, 예컨대 부텐을 제공한다. 바람직하게는, 제2 공급물은 제2 공급물(220) 내 하나 이상의 알켄의 양을 기준으로 30∼80 중량%의 하나 이상의 부텐을 갖는다. 제2 공급물(220)은 제1 부분(230) 및 제2 부분(240)을 포함할 수 있다. 제1 부분(230)은 하나 이상의 C5-C12 탄화수소를 갖는 나프타를 포함할 수 있고, 통상 하나 이상의 C5-C7 탄화수소를 포함할 수 있는 경질 분해 나프타, 및/또는 하나 이상의 C8-C12 탄화수소를 포함할 수 있는 중합체 나프타를 포함할 수 있다.
제2 부분(240)은 하나 이상의 C4-C5 탄화수소, 통상 하나 이상의 C4-C5 알켄, 예컨대 부텐 및 펜텐 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 일반적으로, 제2 부분(240)의 유효량을 제1 부분(230)과 배합하여 예를 들어 반응의 생성물일 수 있는 부텐 및/또는 펜텐을 제공함으로써 반응 평형을 변화시켜 프로펜의 생성을 최대화시킨다. 이론에 얽매이고자 하는 것은 아니지만, 공급물 내 부텐 및/또는 펜텐은 이러한 화합물을 생성시키는 것에서 다른 화합물, 예컨대 프로펜을 더 많이 생성시키는 것으로 반응을 이동시킨다.
제2 공급물(220)을 유동화 스트림(210) 위에 제공하여 라이저(270) 내에서 반응물을 반응시킬 수 있다. 촉매 및 생성물을 별도의 장치, 예컨대 스월 암으로 상승시켜 반응 용기(280) 내에서 촉매를 낙하시키고 제2 생성물 스트림(290)으로서 가스를 상승 및 배출시킬 수 있다. 촉매는 라인(244)을 통해 재생 구역(300) 내 재생기(320)에 제공될 수 있고 또다른 일부는 라인(256)을 통해 라이저(270)의 기저부로 이동한다. 상기 논의된 바와 유사하게, 반응 용기(280) 유래의 이러한 촉매는 촉매 대 오일의 비율을 최대화시킬 수 있다. 통상, 반응 용기(280)는 제2 라이저 반응기(260)의 공급물(220)과 관련하여 부텐의 순생성량을 제거시킬 수 있다. 통상, 제2 라이저 반응기(260)는 425℃∼630℃의 온도에서, 그리고 제1 라이저 반응기(160)보다 높은 온도에서 조작된다.
재생 구역(300)은 라인(154 및 244)을 통해 소모 촉매를 수용할 수 있는 재생 용기(320)를 포함할 수 있고, 라인(158)을 통해 제1 라이저(170)의 기저부로 그리고 라인(330)을 통해 제2 라이저(270)의 기저부로 재생된 촉매를 제공한다. 통상, 재생기(320)는 라인(152)을 통해 메이크업(make-up) 촉매를 수용할 수 있고 평형 촉매는 라인(184)을 통해 배출되어 촉매 활성을 유지시킬 수 있다. 통상, 재생 용기(320)는 650℃∼800℃에서 조작될 수 있다. 일반적으로, 연도 가스(310)는 재생 용기(320)에서 배출될 수 있다. 예시적 재생 용기는, 예를 들어 US 제7,312,370호 및 US 제7,247,233호에 개시된다.
촉매는 단일 촉매 또는 상이한 촉매의 혼합물일 수 있다. 통상, 촉매는 2개의 성분 또는 촉매, 즉 제1 성분 또는 촉매, 및 제2 성분 또는 촉매를 포함한다. 그러한 촉매 혼합물은, 예를 들어 US 제7,312,370호에 개시된다.
일반적으로, 제1 촉매는 FCC 분야에 사용되는 임의의 촉매, 예컨대 활성 비정질 점토 유형 촉매 및/또는 고활성 결정질 분자체를 포함할 수 있다. 제올라이트는 FCC 공정에서 분자체로서 사용될 수 있다. 바람직하게는, 제1 촉매는 실리카 또는 알루미나를 포함하는 거대 기공 제올라이트, 예컨대 Y-유형 제올라이트, 활성 알루미나 재료, 결합제 재료, 및 불활성 충전제, 예컨대 카올린을 포함한다.
통상, 제1 촉매에 적합한 제올라이트 분자체는 평균 기공 크기가 크다. 통상, 기공 크키가 거대한 분자체는 10원 초과 고리, 통상 12원 고리로 규정되는 유효 직경에서 개구가 0.7 nm를 초과하는 기공을 갖는다. 거대 기공의 기공 크기 지수는 31을 초과할 수 있다. 적당한 거대 기공 제올라이트 성분은 합성 제올라이트, 예컨대 X 및 Y 제올라이트, 모르데나이트 및 포우저사이트를 포함할 수 있다. 제1 촉매, 예컨대 제올라이트 중 일부는 임의의 적당한 량의 희토류 금속 또는 희토류 금속 산화물을 가질 수 있다.
제2 촉매는, ZSM-5, ZSM-11, ZSM-12, ZSM-23, ZSM-35, ZSM-38, ZSM-48, 및 다른 유사한 재료 중 하나 이상으로 예시된 바와 같은, 중간 또는 더 작은 기공 제올라이트 촉매, 예컨대 MFI 제올라이트를 포함할 수 있다. 다른 적당한 중간 또는 더 작은 기공 제올라이트는 페리어라이트, 및 에리오나이트를 포함한다. 바람직하게는, 제2 촉매는 결합제 재료, 예컨대 실리카 또는 알루미나 및 불활성 충전제 재료, 예컨대 카올린을 포함하는 매트릭스 상에 분산된 중간 또는 더 작은 기공 제올라이트를 갖는다. 제2 촉매는 또한 일부 다른 활성 재료, 예컨대 베타 제올라이트를 포함할 수 있다. 이러한 조성물은 10∼50 중량% 이상의 결정질 제올라이트 함량, 및 50∼90 중량%의 매트릭스 재료 함량을 가질 수 있다. 40 중량%의 결정질 제올라이트 재료를 함유하는 성분이 바람직하며, 결정질 제올라이트 함량이 더 많은 것을 사용할 수 있다. 일반적으로, 중간 및 더 작은 기공 제올라이트는 0.7 nm 이하의 효율적인 기공 개구 직경, 10원 이하의 고리, 및 31 미만의 기공 크기 지수를 갖는 것을 특징으로 한다.
본원에 개시된 구체예에서, 프로펜의 선택성은 부텐 및/또는 펜텐, 바람직하게는 부텐을 나프타 분해 라이저에 공급함으로써 개선될 수 있다. 이론에 얽매이고자 하는 것은 아니지만, 부텐 및/또는 펜텐과 경질 분해 나프타 및/또는 중합체 나프타를 동시 공급하는 것은 반응의 평형을 프로펜의 생성으로 이동시키고, 이러한 이유로 프로펜 선택성을 향상시킬 수 있다.
실시예
하기 실시예는 본 발명의 촉매를 추가로 예시하려는 것이다. 이러한 본 발명의 구체예의 예시는 본 발명의 청구범위를 실시예의 특정한 상세한 설명으로 한정하려는 것이 아니다. 하기 실시예는 공학적 계산 및 유사 공정에 의한 실제 조작 경험을 기반으로 한다.
하기 실시예에서, 3개의 공급물을 파일럿 플랜트에 제공한다. 공급물은 LCN의 중량을 기준으로 30 중량%의 알켄을 갖는 LCN(약기로, "F1"), 하나 이상의 C4 탄화수소의 중량을 기준으로 59 중량%의 알켄을 갖는 하나 이상의 C4 탄화수소(약기로, "F2"), 및 블렌드의 중량을 기준으로 45 중량%의 알켄을 갖는 F1 및 F2의 50/50% 블렌드(약기로, "F3")이다. 더하여, F1은 또한 알켄 중 하나 이상의 부텐을 3.2 중량% 가질 수 있고, F2는 또한 알켄 중 하나 이상의 부텐을 100 중량% 가질 수 있으며, F3은 또한 알켄 중 하나 이상의 부텐을 66.8 중량% 가질 수 있다. 파일럿 플랜트는 거대 및 중간 기공 제올라이트 촉매의 블렌드를 이용한다. 이 블렌드는 774℃에서 7시간 동안 증열처리(steaming)함으로써 상용 활성을 비활성시킨 75 중량%의 상용성 고 프로펜 FCC 촉매 및 774℃에서 24시간 동안 증열처리된 25 중량%의 상용성 40 중량% ZSM-5 첨가제로 이루어진다. 최종 촉매 혼합물은 인 함량을 기준으로 14 중량%의 ZSM-5를 함유한다. 등온 라이저 반응기를 갖는 파일럿 플랜트는 566℃의 온도, 270 kPa의 라이저 압력, 140 kPa의 공급물 분압, 및 8:1∼12:1의 촉매 대 오일의 중량비에서 조작된다.
화학식 CnH2n(여기서, n은 알켄의 탄소 갯수임)을 갖는 알칸, 무수 가스 (DG), 프로펜, 부텐, 펜텐, 및 C6-C12 알켄 생성물의 양은 방법의 조합을 사용하여 측정된다. 기체 생성물은 열전도성 및 화염-이온화 검출기를 갖는 다중 컬럼 정제 가스 분석기에 의해 분석된다. 액체 생성물은 분석기 소프트웨어를 이용하는 기체 크로마토그래프에 의해 측정되고 가솔린 규격은 화염-이온화 검출기로 모세관 가스 크로마토그래피에 의한 분석에 의해 결정된다. DG 및 프로펜의 경우, 공급물 내에는 이러한 성분의 양이 측정되지 않는다. 공급물의 성분 및 각 생성물의 중량%(합계는 라운딩으로 인해 총 100%가 아닐 수 있음)는 하기 표에 나타낸다.
Figure 112014012189617-pct00001
순수 수율은 공급물 및 생성물의 중량%를 측정 및 계산하고 각각 DG, 프로펜, 부텐, 펜텐, 및 C6-C12 알켄의 생성물의 중량%로부터 각각 공급물의 중량%를 뺄셈함으로써 결정된다. 예로서, F1의 DG에 대한 순수 수율은 다음과 같이 계산될 수 있다:
2.5% = 2.5%에서 0%
총 전환된 알켄 및 알칸은 오직 전환된 성분만, 다시 말해, 오직 음의 수율을 갖는 것만 더함으로써 계산된다. F1에 대한 예로써, (디엔 및 환형 알켄을 제외한) 총 전환된 알켄 및 알칸은 중량%로서 표시될 수 있고 다음과 같이 계산될 수 있다:
-22.4% = (6.0-12.9)% + (4.1-17.1)% + (39.8-42.3)%
이러한 공급물의 경우, 백분율로서 표시되고 하기 표에 표시된 다음과 같은 순수 수율이 얻어진다.
Figure 112014012189617-pct00002
전환율에 의해 나눠진 선택성 수율의 비율은 상기 표 2의 마지막 열에 표시된 바와 같이 각각 DG, 프로펜, 부텐, 펜텐, 및 C6-C12 알켄의 순수 수율을 총 전환된 알켄 및 알칸으로 나누고, 음의 100%로 곱함으로써 계산될 수 있다. 알칸의 순수 수율은 F1, F2, 및 F3의 생성물 중 각 알칸으로부터 공급물(F1, F2, 및 F3) 중 알칸의 중량%를 뺄셈함으로써 결정된다. 예로서, F1의 DG로 계산될 수 있는 "순수 선택성 비율"로서 지칭될 수 있는 비율은 다음과 같이 계산될 수 있다:
11% = -100*(2.5%/-22.4%)
비율은 하기 표에서 전환된 알켄의 백분율로서 표시된다:
Figure 112014012189617-pct00003
도 2를 참조하면, 일반적으로 3개의 공급물 모두에 대한 10∼13 중량%의 프로펜 수율이 얻어진다. 더하여, DG와 마찬가지로 탄소 갯수에 의해 알켄의 순수 수율이 공급물 알켄의 부텐 함량에 대해 플롯팅된다. 표시된 바와 같이, 음수는 공급물의 생성물로의 전환을 나타낸다. 오직 F1을 갖고 프로펜 선택성을 한정하며 재순환 비용을 증가시키는 부텐 수율은 프로펜 수율의 70 중량%이다. 공급물 내 부텐을 포함함으로써, 부텐의 순생성량은 감소되거나 제거될 수 있고, 공급물 F2 및 F3에 의해 표시된 바와 같이, 심지어 부텐이 전환될 수 있다.
F2 또는 F3의 성분의 수율은 하나로부터의 성분의 순수 수율의 몫(F2/F1 또는 F3/F1)을 뺄셈하고, 100%를 곱함으로써 계산될 수 있다. 예로서, F2의 무수 가스(DG) 수율은 다음과 같이 계산된다:
20% = 100%*(1-2.0%/2.5%)
결과적으로, 무수 가스(DG) 수율은 F1 공급물과 비교하였을 때 F2 및 F3 공급물 각각에 대해 20 중량% 및 32 중량%로 감소된다. 상기 표를 참조하면, 순환유 및 코크스 수율은 F1 공급물과 비교하였을 때 각각 F2 및 F3에 대해 각각 86 중량% 및 48 중량% 더 낮아진다.
도 3을 참조하면, 표 3으로부터의 순수 선택성 비율은 공급물 알켄 중 부텐의 백분율에 대해 플롯팅된다. F3의 경우, 프로펜 순수 선택성 비율은 68 중량%의 전환된 알켄 및 알칸에서 가장 높다. F1의 경우, 3.2 중량%에서, 프로펜 순수 선택성 비율은 부텐 순수 선택성 비율이 33 중량%인 전환된 알켄 및 알칸 46 중량%로 줄어들고, F2의 경우, 프로펜 순수 선택성 비율은 45% 중량의 전환된 알켄 및 알칸으로 줄어든다. 이론에 얽매이고자 하는 것은 아니지만, 프로펜 순수 선택성 비율은 30∼80 중량%의, 하나 이상의 알켄 중 하나 이상의 부텐에서 가장 높은데 그 이유는 부텐 및 펜텐이 순수 전환율을 둘다 제시하여야 하기 때문인 것으로 여겨진다. 프로펜 선택성을 최대화함으로써, 제시된 프로펜 수율 목표를 위해 전반적인 재순환 및 가스, 및 코크스 및 순환유 수율을 최소화할 수 있다. 따라서, F3이 기브 패스(give pass) 상에서 프로펜을 약간 덜 생성할 수 있지만, F3은 더 높은 선택성을 제시할 수 있으며, 이로 인해 적은 부산물을 생성하게 된다.
추가의 노력 없이, 당업자는 전술된 설명을 사용하여 본 발명을 충분히 이용할 수 있을 것으로 여겨진다. 따라서, 전술된 바람직한 특정 구체예는 단지 예시적인 것이며, 어떠한 방식으로도 개시내용의 나머지를 한정하지 않는다.
상기에서, 달리 제시되지 않는 한, 모든 온도는 섭씨로 제시된 것이며, 모든 부 및 백분율을 중량을 기준으로 한다.
상기 설명으로부터, 당업자는 본 발명의 중요한 특징을 미리 확인할 수 있으며, 이의 취지 및 범위로부터 벗어나는 일 없이 본 발명을 다양하게 변화 및 변형시켜 다양한 용도 및 상태로 개조할 수 있다.

Claims (10)

  1. A) 비점이 180℃∼800℃인 제1 공급물을 제1 라이저(riser) 반응기에 제공하는 단계; 및
    B) 제1 및 제2 부분(part)을 포함하는 제2 공급물을 제2 라이저 반응기에 제공하는 단계로서, 제1 부분은 하나 이상의 C5-C12 탄화수소를 포함하고 제2 부분은 하나 이상의 C4-C5 탄화수소를 포함하며; 제2 부분의 유효량을 제1 부분과 배합함으로써 프로펜의 생성을 최대화시키는 것인 단계
    를 포함하고,
    상기 제2 공급물이 하나 이상의 C4 탄화수소를 20 중량% 이상 포함하고,
    상기 제2 라이저 반응기는 제1 라이저 반응기가 조작되는 온도보다 높은 온도에서 조작되는 것인 유동 접촉 분해 방법.
  2. 제1항에 있어서, 제2 라이저 반응기로의 공급물과 관련하여 부텐의 순생성량은 제거되는 것인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 공급물은 가스유, 진공 가스유, 상압 가스유, 코커(coker) 가스유, 수소화처리된 가스유, 수소화분해기 미전환유, 및 상압 잔사유 중 하나 이상을 포함하는 것인 방법.
  4. 삭제
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제2 공급물은 하나 이상의 C4 탄화수소를 30 중량% 이상 포함하는 것인 방법.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 중간 기공 제올라이트를 포함하는 촉매를 제1 라이저 반응기, 제2 라이저 반응기, 또는 제1 라이저 반응기 및 제2 라이저 반응기에 제공하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 부분은 하나 이상의 C5-C7 탄화수소 또는 하나 이상의 C8-C12 탄화수소를 포함하는 것인 방법.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 부분은 경질 분해 나프타 또는 중합체 나프타를 포함하는 것인 방법.
  9. 제1항 또는 제2항에 있어서, 제1 부분은 하나 이상의 C5-C7 탄화수소를 포함하는 것인 방법.
  10. 제6항에 있어서, 촉매를 재생 구역에 제공하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
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