KR101835229B1 - Complex scrubber - Google Patents

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KR101835229B1
KR101835229B1 KR1020160116139A KR20160116139A KR101835229B1 KR 101835229 B1 KR101835229 B1 KR 101835229B1 KR 1020160116139 A KR1020160116139 A KR 1020160116139A KR 20160116139 A KR20160116139 A KR 20160116139A KR 101835229 B1 KR101835229 B1 KR 101835229B1
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mixing chamber
suction pipe
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KR1020160116139A
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Inventor
조수양
남지곤
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피에스산업주식회사
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Abstract

The present invention relates to a complex scrubber, and more specifically, to a complex scrubber, in which oxidation and neutralization reactions of harmful substances can be performed quickly and acid, alkaline or neutral materials can be processed simultaneously in a single tower by increasing the gas-liquid contact efficiency between harmful substances or bad odor components in a gaseous state and a cleaning liquid or a cleaning liquid in a liquid state.

Description

복합 스크러버{COMPLEX SCRUBBER}COMPOSITE SCRUBBER {COMPLEX SCRUBBER}

본 발명은 복합 스크러버에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 유해물질 또는 기체 상태의 악취 성분과 액체 상태의 세정액 또는 세정액과의 기액 접촉 효율을 증대시킴으로써, 유해물질의 산화 및 중화 반응이 신속하게 수행될 수 있고, 산성, 알카리성 또는 중성 물질을 단일탑 내에서 동시에 처리할 수 있는 복합 스크러버에 관한 것이다.More particularly, the present invention relates to a composite scrubber capable of rapidly performing oxidation and neutralization reaction of a harmful substance by increasing the gas-liquid contact efficiency between a malodorous component in a harmful substance or a gaseous component and a cleaning solution or a cleaning solution in a liquid state And a composite scrubber capable of simultaneously treating acidic, alkaline or neutral materials in a single tower.

악취 및 오염물질을 제거하는 세정법으로는 기체 흡수의 물리 화학적 원리를 적용하여 제거대상 물질을 제거하는 물리화학적 처리방법과, 오염원에서 배출된 유해물질 및 악취 가스를 반응기 내의 생물막을 통과시켜, 생물막에 성장하고 있는 미생물을 통해 산화 및 분해시키는 생물학적 처리방법이 있다. A cleaning method for removing odors and contaminants includes a physico-chemical treatment method in which a physicochemical principle of gas absorption is applied to remove a substance to be removed and a method in which a harmful substance and odor gas discharged from a pollutant source are passed through a biofilm in a reactor, There are biological treatment methods that oxidize and degrade through growing microorganisms.

기체흡수의 원리는 한 종류의 기체 혹은 혼합가스를 세정 액체와 직접 접촉시켜 그 기체 혹은 혼합 기체중의 특정 성분의 기체를 액체 중으로 물리학적으로, 또는 화학적 반응에 의해 흡수시켜 제거하는 단위조작이다.The principle of gas absorption is a unit operation in which a gas or a mixed gas of one kind is brought into direct contact with a cleaning liquid and the gas of a specific component in the gas or mixed gas is absorbed into the liquid by a physical or chemical reaction.

물리학적 흡수작용에 있어서는, 기체상으로 존재하는 성분의 용해성 분자는 기체상으로부터, 기체와 액체의 계면, 즉 경계면으로 분자확산, 또는 동력학적 운동으로 이동하여 액체상으로 물리학적 이동이 연속적으로 일어나게 되어 물리학적인 흡수작용이 일어나게 되는데 기체상과 액체상에서의 물질 이동 속도는 시스템 전체의 총괄물질 이동 속도, 즉 기체 흡수속도에 영향을 미치고, 화학적 흡수작용에 있어서는 기체와 액체 사이의 화학적 반응 속도를 고려하고 있다.In the physicochemical absorptive action, the soluble molecules of the component present in the gas phase migrate from the gas phase to the interface between the gas and the liquid, that is to say the molecular diffusion to the interface, or to the kinetic motion, resulting in continuous physical movement into the liquid phase As the physical absorption process occurs, the mass transfer rate in the gas phase and the liquid phase affects the overall mass transfer rate, ie, the gas absorption rate, of the entire system, and the chemical reaction rate between the gas and the liquid is taken into account have.

화학적 흡수작용은 화학적 반응을 동반함으로써 용질로 작용하는 기체상의 기체분자가 액체 속으로 확산 되어감과 동시에 화학적 반응을 일으키는 물리 화학적 현상이다.The chemical absorption is a physicochemical phenomenon in which gas molecules acting as a solute are accompanied by a chemical reaction, which causes a gas molecule to diffuse into the liquid and cause a chemical reaction at the same time.

그러나, 유해물질 및 악취 가스가 세정액 등과 충분히 접촉하지 못하는 경우, 악취 및 오염물질의 제거 효율이 낮아지게 되고, 그에 따라 오염 물질 등이 배기구를 통해 대기로 배출되어 환경 오염을 유발하게 된다. 또한, 반응 체류 시간을 늘리기 위해서 별도의 단을 구성하는 경우 이를 위한 설치 및 유지 비용이 증가하여 경제성 및 공정의 효율성이 저하되는 문제가 있다. However, when harmful substances and odorous gases are not sufficiently in contact with the cleaning liquid or the like, the removal efficiency of odor and contaminants is lowered, so that pollutants or the like are discharged to the atmosphere through the exhaust port, thereby causing environmental pollution. In addition, when a separate stage is formed to increase the reaction residence time, there is a problem that the installation cost and the maintenance cost are increased and the economical efficiency and process efficiency are deteriorated.

따라서, 세정액과의 기액 접촉 효율을 증대시킴으로써 스크러버의 용량을 최소화하면서도, 오염물질의 제거 효율을 극대화하고, 필요에 따라 산성, 알카리성 또는 중성 물질을 단일탑 내에서 동시에 처리할 수 있는 복합 스크러버에 관한 요구가 존재하였다.Therefore, the present invention relates to a composite scrubber capable of maximizing the removal efficiency of contaminants while minimizing the capacity of the scrubber by increasing the gas-liquid contact efficiency with the cleaning liquid, and simultaneously treating acidic, alkaline or neutral materials in a single tower There was a demand.

대한민국 특허공개공보 제10-2007-0061497호
대한민국 특허공개공보 제10-2010-0059471호Korean Patent Laid-Open Publication No. 10-2007-0061497
Korean Patent Publication No. 10-2010-0059471

본 발명은 기체 상태의 유해물질 또는 악취 성분과 액체 상태의 세정액 또는 세정액과의 기액 접촉 효율을 증대시킴으로써, 유해물질의 산화 및 중화 반응이 신속하게 수행될 수 있고, 산성, 알카리성 또는 중성 물질을 단일탑 내에서 동시에 처리할 수 있는 복합 스크러버에 관한 것이다.The present invention increases the gas-liquid contact efficiency between a gaseous harmful substance or a malodorous component and a liquid-state cleaning liquid or a cleaning liquid, whereby oxidation and neutralization reaction of a harmful substance can be performed quickly, and an acidic, And to a composite scrubber which can be simultaneously treated in a tower.

본 발명의 복합 스크러버는, 최상부에 위치하고, 충진층에서 최종 처리된 가스가 외부로 배출되는 스택; 충진층 상부에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크로부터 공급된 제2 세정액을 충진층에 분사하는 세정액 분사장치; 믹싱 챔버의 상부 및 세정액 분사장치의 하부에 위치하고, 카트리지 팩 미디어가 충진되어 있으며, 믹싱 챔버로부터 유입되어 카트리지 팩 미디어에 포집된 2차 오염물질이 세정액 분사장치에서 배출된 세정액에 의해 최종 처리되는 충진층; 충진층의 하부 및 제1 및 제2 세정액 저장탱크의 상부에 위치하고, 내부에는 중앙에 위치한 흡입관과 제2 세정액이 구비되며, 제2 세정액은 부유성 BF 미디어로 충진되고, 흡입관에서 배출된 1차 오염물질이 제2 세정액의 수중으로 배출되어 오염물질의 2차 처리가 수행되며, 2차 처리에서 제거되지 않은 2차 오염물질이 충진층으로 유입되는 믹싱 챔버; 믹싱 챔버 내에 위치하고, 내부 측면에서 제1 세정액 저장탱크로부터 공급된 제1 세정액이 가스 유입 노즐로부터 유입된 최초 오염물질에 분사되어 오염물질의 1차 처리가 수행되고, 1차 처리에서 제거되지 않은 1차 오염물질이 믹싱 챔버 내의 제2 세정액 수중으로 배출되는 흡입관; 제1 및 제2 세정액 저장탱크와 믹싱 챔버 사이에 위치하며, 스크러버 외부에서 유래된 최초 오염물질을 흡입관 내부로 유입시키는 가스 유입 노즐; 믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제1 세정액 공급펌프와 연결되며, 산성의 제1 세정액을 저장하는 제1 세정액 저장탱크; 믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제2 세정액 공급펌프와 연결되며, 알카리성의 제2 세정액을 저장하는 제2 세정액 저장탱크; 제1 세정액 저장탱크와 연결되며, 제1 세정액을 흡입관으로 공급하는 제1 세정액 공급펌프; 제2 세정액 저장탱크와 연결되며, 제2 세정액을 믹싱 챔버 및 세정액 분사장치로 공급하는 제2 세정액 공급펌프; 및 믹싱 챔버의 외부 측면에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크와 연결되어, 믹싱 챔버 내의 제2 세정액의 수위를 조절하는 수위조절 포트를 포함한다.The composite scrubber of the present invention comprises: a stack which is located at an uppermost position and in which gas finally treated in the filling layer is discharged to the outside; A cleaning liquid injector located above the filling layer for spraying the second cleaning liquid supplied from the second cleaning liquid storage tank to the filling layer; A second cartridge disposed in an upper portion of the mixing chamber and a lower portion of the washer fluid ejection apparatus and filled with the cartridge pack medium, the second contaminant being introduced from the mixing chamber into the cartridge pack media is finally processed by a cleaning liquid discharged from the washer fluid ejection apparatus, layer; The second cleaning liquid is filled with the floating BF medium, and the first cleaning liquid discharged from the suction pipe and the second cleaning liquid discharged from the suction pipe are disposed in the lower portion of the filling layer and the upper portions of the first and second cleaning liquid storage tanks, A mixing chamber in which contaminants are discharged into the water of the second washing liquid to perform a secondary treatment of the contaminants and secondary contaminants not removed in the secondary treatment are introduced into the filling layer; The first cleaning liquid supplied from the first cleaning liquid storage tank on the inner side is sprayed on the initial contaminant introduced from the gas inflow nozzle to perform the primary treatment of the contaminants and to remove the untreated 1 A suction pipe through which the second contaminant is discharged into the second washing liquid in the mixing chamber; A gas inflow nozzle positioned between the first and second cleaning liquid storage tanks and the mixing chamber for introducing the initial contaminants originating from the outside of the scrubber into the suction pipe; A first cleaning liquid storage tank located at a lower portion of the mixing chamber, connected to the first cleaning liquid supply pump, for storing the acidic first cleaning liquid; A second cleaning liquid storage tank located below the mixing chamber, connected to the second cleaning liquid supply pump, for storing an alkaline second cleaning liquid; A first cleaning liquid supply pump connected to the first cleaning liquid storage tank and supplying the first cleaning liquid to the suction pipe; A second cleaning liquid supply pump connected to the second cleaning liquid storage tank, for supplying the second cleaning liquid to the mixing chamber and the cleaning liquid injector; And a water level adjusting port located at an outer side surface of the mixing chamber and connected to the second rinse solution storage tank to adjust the level of the second rinse solution in the mixing chamber.

본 발명에 의하면, 기체 상태의 유해물질 또는 악취 성분과 액체 상태의 세정액 또는 세정액과의 기액 접촉 효율을 증대시킴으로써, 유해물질의 산화 및 중화 반응이 신속하게 수행될 수 있으므로, 오염물질의 제거 효율이 향상되어, 미처리 오염물질의 배출에 따른 환경 오염의 발생을 방지할 수 있다. 또한 산성, 알카리성 또는 중성 물질을 단일탑 내에서 동시에 처리할 수 있으며, 반응 체류 시간을 늘리기 위해서 별도의 단을 구성하는 필요가 없으므로, 설치 및 유지 비용을 절감시켜 경제성 및 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, since the oxidation and neutralization reaction of harmful substances can be performed quickly by increasing the gas-liquid contact efficiency between the gaseous harmful substance or malodorous component and the liquid-state cleaning liquid or the cleaning liquid, So that the occurrence of environmental pollution due to the discharge of untreated pollutants can be prevented. It is also possible to simultaneously treat acidic, alkaline or neutral materials in a single tower and it is not necessary to construct a separate stage in order to increase the reaction residence time, thereby reducing installation and maintenance costs, have.

도 1은 본 발명의 일 구체예에 따른 복합 스크러버를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 2는 본 발명의 복합 스크러버의 흡입관의 평면도 및 단면도를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 복합 스크러버의 흡입관의 외관을 개략적으로 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명의 복합 스크러버의 믹싱 챔버의 단면도를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 5는 본 발명의 복합 스크러버의 원형 가스 분사장치 및 BF 미디어를 개략적으로 나타낸 것이다.1 schematically shows a composite scrubber according to one embodiment of the present invention.
2 schematically shows a top view and a cross-sectional view of a suction pipe of a composite scrubber of the present invention.
Fig. 3 schematically shows the appearance of the suction pipe of the composite scrubber of the present invention.
4 schematically shows a cross-sectional view of a mixing chamber of a composite scrubber of the present invention.
FIG. 5 is a schematic view of the BF media and the circular gas injection apparatus of the composite scrubber of the present invention.

이하, 본 발명을 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

다만, 이하에서 개시되는 기술적 사상의 명료한 이해를 위해 제한된 실시형태를 예로서 설명하였으나, 이에 한정되지는 아니하고 특허청구범위에 개시된 기술적 사상으로부터 해당 기술분야의 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 도출할 수 있는 실시형태도 본 명세서에 개시된 실시형태로 이해되어야 함을 밝혀둔다.However, the present invention is not limited to these embodiments. For example, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications may be made without departing from the spirit and scope of the present invention. It should be understood that the embodiments described herein are to be understood as the embodiments disclosed herein.

또한, 본 명세서 및 특허청구범위에서 사용된 용어는 본 발명자가 설명의 편의를 위하여 선택한 개념으로, 그 의미를 파악함에 있어서 사전적 의미에 한정되지 않고 본 개시의 기술적 사상에 부합되도록 적절히 해석되어야 할 것이다.The terms used in this specification and claims are to be understood by the inventor as a concept selected for the convenience of explanation and should not be construed in a linguistic sense in understanding the meaning thereof but should be appropriately interpreted in accordance with the technical idea of the present disclosure will be.

또한, 본 명세서에 첨부된 도면에 표현된 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의 및 명확성을 위하여 과장된 것이며, 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 "및/또는" 는 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.In addition, the thickness and the size of each layer shown in the drawings attached hereto are exaggerated for convenience and clarity of description, and the same reference numerals denote the same elements in the drawings. As used herein, the term "and / or" includes any and all combinations of any of the listed items.

본 발명의 복합 스크러버는, 스택(5); 세정액 분사장치(17); 충진층(16); 믹싱 챔버(27); 흡입관(7); 가스 유입 노즐(6); 제1 세정액 저장탱크(2); 제2 세정액 저장탱크(3); 제1 세정액 공급펌프(11); 제2 세정액 공급펌프(13); 및 수위조절 포트(24)를 포함한다. The composite scrubber of the present invention comprises a stack (5); A cleaning liquid injector 17; A filling layer 16; A mixing chamber 27; A suction pipe (7); A gas inflow nozzle 6; A first cleaning liquid storage tank (2); A second cleaning liquid storage tank (3); A first cleaning liquid supply pump 11; A second cleaning liquid supply pump 13; And a water level regulating port 24.

상기 가스 유입 노즐(6)은 제1 및 제2 세정액 저장탱크(12, 13)와 믹싱 챔버(27) 사이에 위치하며, 스크러버 외부에서 유래된 최초 오염물질을 흡입관(7) 내부로 유입시킨다. The gas inflow nozzle 6 is located between the first and second cleaning liquid storage tanks 12 and 13 and the mixing chamber 27 and introduces the initial pollutant derived from the outside of the scrubber into the suction pipe 7.

제1 세정액 저장탱크(2)는 믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제1 세정액 공급펌프와 연결되며, 산성의 제1 세정액을 저장하고, 제2 세정액 저장탱크(3)은 믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제2 세정액 공급펌프와 연결되며, 제2 세정액을 저장한다. 제1 세정액 및 제2 세정액은 동일하거나 서로 다를 수 있으며, 예컨대 제1 세정액은 산성 세정액, 제2 세정액은 알카리성 세정액일 수 있다. 따라서, 산성, 알카리성 또는 중성 물질을 단일탑 내에서 동시에 처리할 수 있다.The first cleaning liquid storage tank 2 is located at the bottom of the mixing chamber and is connected to the first cleaning liquid supply pump and stores the acidic first cleaning liquid. The second cleaning liquid storage tank 3 is located below the mixing chamber, Is connected to the second cleaning liquid supply pump, and stores the second cleaning liquid. The first cleaning liquid and the second cleaning liquid may be the same or different from each other. For example, the first cleaning liquid may be an acidic cleaning liquid, and the second cleaning liquid may be an alkaline cleaning liquid. Thus, acidic, alkaline or neutral materials can be processed simultaneously in a single tower.

또한, 제1 세정액 공급펌프(11)는 제1 세정액 저장탱크(2)와 연결되며, 제1 세정액을 흡입관(7)으로 공급하며, 제2 세정액 공급펌프(13)는 제2 세정액 저장탱크(3)와 연결되며, 제2 세정액을 믹싱 챔버(27) 및 세정액 분사장치(17)로 공급한다. The first rinse solution supply pump 11 is connected to the first rinse solution storage tank 2 and supplies the first rinse solution to the suction pipe 7 and the second rinse solution supply pump 13 is connected to the second rinse solution storage tank 3, and supplies the second cleaning liquid to the mixing chamber 27 and the cleaning liquid injector 17.

제1 세정액 공급펌프(11) 및 제2 세정액 공급 펌프(13)는 각각, 제1 및 제2 세정액 저장탱크 내의 pH를 조절하는 세정액 혼합 공급장치(12, 14)를 추가로 구비할 수 있다.The first rinse solution supply pump 11 and the second rinse solution supply pump 13 may each further comprise a rinse solution mixing and supplying device 12, 14 for adjusting the pH in the first and second rinse solution storage tanks.

상기 흡입관(7)은 믹싱 챔버(27) 내에 위치하고, 내부 측면에서 제1 세정액 저장탱크(2)로부터 공급된 제1 세정액이 가스 유입 노즐(6)로부터 유입된 최초 오염물질에 분사되어 오염물질의 1차 처리가 수행되고, 1차 처리에서 제거되지 않은 1차 오염물질이 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액 수중으로 배출된다.The suction pipe 7 is located in the mixing chamber 27. The first cleaning liquid supplied from the first cleaning liquid storage tank 2 on the inner side is sprayed on the initial contaminant introduced from the gas inflow nozzle 6, The primary treatment is carried out and the primary pollutants which have not been removed in the primary treatment are discharged into the second cleaning liquid water in the mixing chamber 27.

본 명세서에서는 오염 물질의 처리가 흡입관(7) 내, 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액 내, 그리고 충진층(16) 내에서 수행되며, 각각 순서대로 “오염물질의 1차 처리”, “오염물질의 2차 처리”, “오염물질의 최종 처리”로 정의한다. 또한 오염 물질의 1차 처리에서 제거되지 않은 잔류 오염물질을 “1차 오염물질”, 오염 물질의 2차 처리에서 제거되지 않은 잔류 오염물질을 “2차 오염물질”로 정의한다. The treatment of the pollutants is carried out in the suction pipe 7, in the second cleaning liquid in the mixing chamber 27 and in the filling layer 16, Secondary treatment of a substance "," final treatment of a pollutant ". Also, residual pollutants that have not been removed in the primary treatment of pollutants are defined as "primary pollutants" and residual pollutants that have not been removed in the secondary treatment of pollutants are defined as "secondary pollutants".

상기 흡입관(7) 내에서, 내부에 배치된 분사장치에 의해 제1 세정액이 분사되어 1차 기액 접촉을 시킴에 따라, 용해도가 높고 흡수제거가 빠른 저농도 유해물질이 우선적으로 제거되고, 고농도 유해물질은 1차 처리를 통해 순간 농도를 저감시킬 수 있다. In the suction pipe 7, the first cleaning liquid is sprayed by the injector arranged therein to cause primary gas-liquid contact, whereby the low-concentration harmful substance having high solubility and quick absorption and removal is preferentially removed, It is possible to reduce the instantaneous concentration through the primary treatment.

상기 흡입관(7)은, 흡입관 내부 측면에 위치하고, 제1 세정액 저장탱크(2)로부터 제1 세정액을 공급받아 미세 분사 노즐(25)로 전달하는 스파이럴 분사 노즐(22); 및 스파이럴 분사 노즐(22)에 복수 개로 부착되어, 스파이럴 분사 노즐(22)로부터 공급받은 제1 세정액을 최초 오염물질에 분사하는 미세 분사 노즐(25);을 포함한다.The suction pipe (7) includes a spiral spraying nozzle (22) located on the inner side of the suction pipe and receiving the first rinsing liquid from the first rinsing liquid storage tank (2) and transferring the first rinsing liquid to the fine spraying nozzle (25). And a fine spraying nozzle 25 attached to the spiral spraying nozzle 22 at a plurality of positions and spraying the first cleaning liquid supplied from the spiral spraying nozzle 22 to the first polluting material.

흡입관(7) 내부에 설치된 스파이럴 분사 노즐(22)은 제1 세정액 공급펌프(11)를 이용하여 제1 세정액을 공급하며, 나선형으로 배열된 메인 헤더(MAIN HEADER)에 일정한 간격으로, 내식성이 우수한 TEFERON 재질의 미세 분사 노즐(25)가 부착되는데, 상기 미세 분사 노즐(25)은 제1 세정액을 최초 오염물질에 분사하면서 수막을 형성하게 된다. 오염물질이 미세기포로 형성된 수막층을 통과하면서 순간 흡수되어, 오염물질의 농도가 저감 또는 완충된다. The spiral spray nozzle 22 provided in the suction pipe 7 supplies the first cleaning liquid by using the first cleaning liquid supply pump 11 and supplies the first cleaning liquid to the main header arranged in a spiral manner at regular intervals, A fine spray nozzle 25 made of TEFERON is attached, and the fine spray nozzle 25 forms a water film by spraying the first cleaning liquid onto the initial pollutant. The contaminants are instantaneously absorbed as they pass through the water film layer formed by the fine particles, and the concentration of the contaminants is reduced or buffered.

상기 흡입관(7)은 상부에 흡입관 상부 커버(8)를 구비하고, 상기 흡입관 상부 커버(8)와 연결되는 복수의 유출 가스 분배관(9)(예컨대 4개의 유출 가스 분배관)을 구비하고, 상기 유출 가스 분배관(9)의 말단이 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액의 수중에 침지되어, 흡입관(7) 내의 1차 오염물질이 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액의 수중으로 배출된다. 상기 유출 가스 분배관(9)의 말단에, 복수의 가스 분사 노즐(26)을 포함하는 원형 가스 분사장치(10)가 구비된다.The suction pipe 7 is provided with a suction pipe upper cover 8 at an upper portion thereof and has a plurality of outflow gas distribution pipes 9 (for example, four outflow gas distribution pipes) connected to the suction pipe upper cover 8, The end of the outflow gas distribution pipe 9 is immersed in the water of the second cleaning liquid in the mixing chamber 27 so that the primary contaminant in the suction pipe 7 is discharged into the water of the second cleaning liquid in the mixing chamber 27 . At the end of the outflow gas distribution pipe 9, a circular gas injection device 10 including a plurality of gas injection nozzles 26 is provided.

상기 흡입관은 데미스터(18')를 추가로 포함할 수 있고, 흡입관에서 1차 처리된 오염물질(1차 오염물질)은 원추형 내부 배플(28)에 의해 흡입관 상부 커버(8)에서 잠시 체류한 후, 유출 가스 분배관(9)을 통해 각각 고르게 배분되어, 원형 가스 분사장치 본관(10)에 도달하게 되고, 이때 흡입관 내부에서 배출된 1차 처리가스가 균등화 된다.The suction pipe may further include a demister 18 ', and the contaminant (primary contaminant) treated first in the suction pipe is temporarily stored in the suction pipe upper cover 8 by the conical inner baffle 28 And then distributed uniformly through the outflow gas distribution pipe 9 to reach the main gas pipe 10 of the circular gas injection apparatus, and the primary process gas discharged from the inside of the suction pipe is equalized.

흡입관(7)을 통해 최초 오염물질이 1차 처리되고, 1차 처리에서 제거되지 않은 1차 오염물질이 흡입관 상부 커버(8)에 구비된 유출 가스 분배관(4개, 9)을 통해 믹싱 챔버(27) 내부의 원형 가스 분사장치(10)에 도달하게 되고, 원형 가스 분사장치(10)에 형성된 복수의 가스 분사 노즐(26)을 통해 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액 내부(수중)에 고르게 분사되어, 1차 오염물질이 세정액과 활발하게 접촉하면서 중화 또는 산화 과정을 거쳐 2차 처리가 이루어진다. Primary pollutants are first treated through the suction pipe 7 and primary pollutants not removed in the primary treatment are introduced into the mixing chamber 1 through the outflow gas distribution pipes 4 and 9 provided in the suction pipe upper cover 8, (In the water) inside the mixing chamber 27 through the plurality of gas injection nozzles 26 formed in the circular gas injection device 10 and reaches the circular gas injection device 10 inside the mixing chamber 27 The primary pollutant is actively contacted with the cleaning liquid, and the secondary treatment is performed through the neutralization or oxidation process.

이 때, 오염물질(각종 유해물질과 악취유발물질)과 제2 세정액과의 접촉은 별도의 동력장치가 필요하지 않고, 탈취팬 또는 배기팬에 의해 이송된 자체 정압에 의해 압력 손실이 최소화되도록 설계될 수 있다. At this time, the contact between the pollutant (various harmful substances and the odor inducing substance) and the second cleaning liquid does not require a separate power device, and is designed so that the pressure loss is minimized by the self-static pressure transferred by the deodorizing fan or the exhaust fan .

또한 흡입관(7) 상부의 유출 가스 분배관(9)의 내부 면적과 분배관 면적 등을 고려하여, 압력손실 등이 발생하지 않도록 수량 또는 규격을 결정할 수 있다.In addition, the quantity or the standard can be determined so that the pressure loss and the like do not occur in consideration of the internal area of the outflow gas distribution pipe 9 above the suction pipe 7, the area of the distribution pipe, and the like.

상기 믹싱 챔버(27)는 충진층(16)의 하부 및 제1 및 제2 세정액 저장탱크(2, 3)의 상부에 위치하고, 내부에는 중앙에 위치한 흡입관(7)과 제2 세정액이 구비되며, 제2 세정액은 부유성 BF 미디어(23)로 충진되고, 흡입관에서 배출된 1차 오염물질이 제2 세정액의 수중으로 배출되어 오염물질의 2차 처리가 수행되며, 2차 처리에서 제거되지 않은 2차 오염물질이 충진층(16)으로 유입된다. The mixing chamber 27 is located at a lower portion of the filling layer 16 and at an upper portion of the first and second cleaning liquid storage tanks 2 and 3 and includes a suction pipe 7 and a second cleaning liquid located at the center, The second cleaning liquid is filled with the floating BF medium 23 and the primary pollutant discharged from the suction pipe is discharged into the water of the secondary cleaning liquid to perform the secondary treatment of the pollutant, So that the contaminant is introduced into the filling layer 16.

흡입관(7)에 구비된 원형 가스 분사장치(10)는, 믹싱 챔버(27) 내부에 유입된 1차 오염물질이 BF 미디어(23)와 원활하게 접촉되도록 가스 분사 노즐(26)이 효율적으로 배치 구성될 수 있다.The circular gas injection device 10 provided in the suction pipe 7 efficiently arranges the gas injection nozzle 26 so that the primary contaminant introduced into the mixing chamber 27 is smoothly brought into contact with the BF media 23. [ Lt; / RTI >

미세 분사 노즐(25)은 1차 처리된 가스를 믹싱 챔버 내부에 고르게 분포시켜주고, 유동상 BF MEDIA(23)의 활발한 움직임에 필요한 교반력을 제공하지만, 한편으로는 과다하게 흡착되어 부착되는 접촉 반응 유도 물질의 과도한 흡착과 탈리 작용, 분포 등을 조절하여, 믹싱 챔버 내의 일정한 처리 조건을 유지해주는 기능이 있다.The fine spray nozzles 25 distribute the primary treated gas evenly within the mixing chamber and provide the agitating force necessary for the vigorous movement of the fluidized bed BF MEDIA 23, but on the one hand, It has a function of controlling the excessive adsorption, desorption, distribution and the like of the reaction inducing material to maintain a constant treatment condition in the mixing chamber.

원형 가스 분사장치(10)에 부착된 미세 분사 노즐(25)은 방사 CONE 형태의 자체 개발한 노즐 장치로서, 원형 가스 분사장치 내부로 BF MEDIA 등이 유입되지 않도록 방사 CONE 형태의 내부킷이 부착되었고, 방사형 CONE 외부와 원형 가스 분사장치(10)에 구성된 하향 분사구에 이를 고정 장착하여 이물질 또는 부유물질 유입에도 막힘 현상이 전혀 발생하지 않는 장점이 있다. The fine injection nozzle 25 attached to the circular gas injection device 10 is a self-developed nozzle device of the radiation CONE type. An inner kit of a radiation CONE type is attached so that BF MEDIA and the like are not introduced into the circular gas injection device , It is advantageous in that no clogging phenomenon occurs at the time of inflow of foreign matter or suspended matter by fixing it to the downward jet opening formed in the outside of the radial CONE and the circular gas injection device 10.

BF 미디어(23)는 발포성 PP(폴리프로필렌) 재질의 원통형태일 수 있다. 특별히 한정하지 않으나 상기 원통형태는 직경 50 - 70 mm, 높이 50 - 70 mm일 수 있으며, 발포성 PP를 성형하여 공극을 가질 수 있다. The BF medium 23 may be a cylindrical type of foaming PP (polypropylene) material. Although not particularly limited, the cylindrical shape may have a diameter of 50 to 70 mm and a height of 50 to 70 mm, and may have pores by molding a foamable PP.

믹싱 챔버(27) 내부에는 제2 세정액 내에 부유성 BF 미디어(23)가 충진되며, 흡입관으로부터 유입된 오염물질이 등이 BF 미디어(23)와 빠르게 접촉되도록 구성하였고, 믹싱 챔버(27) 내부로 유입되는 유입 가스 자체 힘으로 교란 및 난류가 형성되어 원통형 발포성 PP 재질의 미디어와 가스가 활발하게 접촉되도록 구성하였다. 비표면적이 넓은 부유성 BF 미디어(23)가 믹싱 챔버(27) 내부에서 유동상으로 존재하므로, 1차 오염물질 가스의 체류시간을 연장하여 내부 폐쇄 현상이 없이 기액 접촉 효율을 증대시켜주는 역할을 한다. In the mixing chamber 27, a floating BF medium 23 is filled in the second cleaning liquid, and contaminants introduced from the suction pipe are quickly brought into contact with the BF media 23, and the inside of the mixing chamber 27 Disturbance and turbulence are formed by the inflow gas itself, and the media and gas of the cylindrical foamed PP material are actively contacted. Since the floating BF medium 23 having a large specific surface area is present in the fluidized phase in the mixing chamber 27, the retention time of the primary pollutant gas is extended to increase the gas-liquid contact efficiency without the internal closing phenomenon do.

상기 수위조절 포트(24)는 믹싱 챔버(27)의 외부 측면에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크(3)와 연결되어, 믹싱 챔버(27) 내의 제2 세정액의 수위를 조절하는 역할을 한다. The water level control port 24 is located on the outer side surface of the mixing chamber 27 and is connected to the second cleaning liquid storage tank 3 to control the level of the second cleaning liquid in the mixing chamber 27.

수위조절 포트(24)는 믹싱 챔버(27) 내의 유해물질이나 악취유발물질 등이 배출되지 않는 구조로서, 기체는 배출되지 않고 액체 상태로만 배출이 가능한 구조로 설계되었으며, 복합 스크러버의 처리 효율 및 상태에 따라 믹싱 챔버(27) 내부의 수위를 임의로 조절 가능하도록 하여 불필요한 압력 손실을 방지하고, 원활한 기액 접촉 및 교반력이 전달될 수 있도록 하는 장치이다.The water level control port 24 is designed so that harmful substances and odor-causing substances in the mixing chamber 27 are not discharged, and the gas is designed to be discharged only in a liquid state without being discharged. The water level in the mixing chamber 27 can be arbitrarily adjusted to prevent unnecessary pressure loss and enable smooth gas-liquid contact and agitating force to be transmitted.

상부에 부착된 핸들 손잡이를 이용하여 수위조절 포트(24) 내부에 장착된 원통형 월류웨어를 통해 세정액이 상부로만 유출되도록 하여, 임의로 수위 조절이 가능하도록 개발하였고, 유지관리 및 믹싱 챔버 내부 청소 및 보수시 전체 DRAIN이 가능하도록 일체형으로 구성한 특징이 있다.It was developed to allow the level of the water level to be controlled arbitrarily by allowing the washing liquid to flow out to the upper part only through the cylindrical overflow weir installed in the water level control port 24 by using the handle handle attached to the upper part. There is a feature that it is composed as one body so that the whole DRAIN can be done.

상기 충진층(16)은 믹싱 챔버(27)의 상부 및 세정액 분사장치(17)의 하부에 위치하고, 카트리지 팩 미디어가 충진되어 있으며, 믹싱 챔버(27)로부터 유입되어 카트리지 팩 미디어에 포집된 2차 오염물질이 세정액 분사장치(17)에서 배출된 세정액에 의해 최종 처리된다. 또한, 세정액 분사장치(17)은 충진층(16) 상부에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크(3)로부터 공급된 제2 세정액을 충진층에 분사한다.The filling layer 16 is located in the upper part of the mixing chamber 27 and the lower part of the cleaning liquid injector 17 and is filled with the cartridge pack medium and is introduced into the mixing chamber 27, The pollutants are finally treated by the cleaning liquid discharged from the cleaning liquid injector 17. [ The cleaning liquid injector 17 is located above the filling layer 16 and injects the second cleaning liquid supplied from the second cleaning liquid storage tank 3 into the filling layer.

충진층(16)은 방사형으로 제작된 3단 분리형 팩 프레임(PACK FRAME)에 구 형태의 카트리지 팩 미디어가 충진되며, 상기 카트리지 팩 미디어는 부직포와 같은 발포성 섬유 재질이다. The filler layer 16 is packed in a three-step separated type pack frame (radial type) packed in a cartridge pack medium in a spherical shape, and the cartridge pack medium is a foamable fiber material such as a nonwoven fabric.

충진층(16)의 카트리지 팩 미디어 내부에서 유해물질과 악취유발물질이 세정액 또는 약품과 접촉 반응하여 중화 또는 산화 반응을 통해 오염물질이 제거되고(최종처리), 오염물질이 제거된 기체가 상부로 상승하여 스택(5)으로 배출된다. 상기 스택(5)은 최상부에 위치하고, 충진층에서 최종 처리된 가스가 외부로 배출된다. In the cartridge pack medium of the filling layer 16, harmful substances and odor-inducing substances are brought into contact with the cleaning liquid or chemicals to thereby remove the contaminants through neutralization or oxidation reaction (final treatment) And is discharged to the stack 5. The stack 5 is located at the top, and the gas which has been finally treated in the filling layer is discharged to the outside.

특별히 한정하지 않으나, 본 발명의 복합 스크러버는 복수 개의 세정액 분사장치 및 충진층을 구비할 수 있으며, 예컨대 도 1과 같이 2단의 세정액 분사장치 및 충진층을 구비할 수 있다.Although not specifically limited, the composite scrubber of the present invention may include a plurality of cleaning liquid injectors and a filling layer, and may include, for example, a two-stage washing liquid injector and a filling layer as shown in FIG.

본 발명의 복합 스크러버는, 세정액 분사장치(17)의 상부 및 스택(5)의 하부에 위치하며, 충진층(16)에서 최종 처리된 가스 내의 수분을 제거하는 데미스터(18)를 추가로 포함할 수 있다. 또한, 본 발명의 복합 스크러버는, 데미스터(18)과 스택(5) 사이에 존재하는 탑 콘(TOP CONE)(4)을 구비할 수 있다.The composite scrubber of the present invention further comprises a mister 18 located at the top of the rinse liquid injector 17 and at the bottom of the stack 5 and for removing moisture in the finished gas in the filling layer 16 can do. The composite scrubber of the present invention may further include a top cone 4 between the demister 18 and the stack 5.

또한, 본 발명의 복합 스크러버는 추가적으로 pH 미터(19), 레벨(수위) 미터(20), 세정탱크 디퓨저(21) 등을 구비할 수 있다.The composite scrubber of the present invention may further include a pH meter 19, a level meter 20, a cleaning tank diffuser 21, and the like.

1: 스크러버(본체) 2: 제1 세정액 저장탱크
3: 제2 세정액 저장탱크 4: 탑 콘
5: 스택 6: 가스 유입 노즐
7: 흡입관(본체) 8: 흡입관 상부 커버
9: 유출 가스 분배관 10: 유출 가스 분배관
11: 제1 세정액 공급펌프 12: 제1 세정액 혼합 공급장치
13: 제2 세정액 공급펌프 14: 제2 세정액 혼합 공급장치
15: 세정액 공급 배관 16: 충진층
17: 세정액 분사장치 18, 18': 데미스터
19: pH 미터 20: 레벨(수위) 미터
21: 세정탱크 디퓨저 22: 스파이럴 분사 노즐
23: BF 미디어 24: 수위조절 포트
25: 미세 분사 노즐 26: 가스 분사 노즐
27: 믹싱 챔버 28: 원추형 내부 베플
29: 믹싱 챔버 플랜지 30: 하부 가스 유입 유도관(CONE)
31: 믹싱 챔버 하부판1: scrubber (main body) 2: first cleaning liquid storage tank
3: Second cleaning liquid storage tank 4: Top cone
5: Stack 6: Gas inflow nozzle
7: Suction pipe (main body) 8: Suction pipe upper cover
9: Outlet gas distribution pipe 10: Outlet gas distribution pipe
11: First rinse solution supply pump 12: First rinse solution mixer
13: second cleaning liquid supply pump 14: second cleaning liquid mixing supply device
15: cleaning liquid supply pipe 16: filling layer
17: Cleaning liquid injector 18, 18 ': Demister
19: pH meter 20: Level (level) meter
21: Cleaning tank diffuser 22: Spiral spray nozzle
23: BF media 24: Level control port
25: fine injection nozzle 26: gas injection nozzle
27: mixing chamber 28: conical inner baffle
29: Mixing chamber flange 30: Lower gas inlet pipe (CONE)
31: Mixing chamber bottom plate

Claims (8)

최상부에 위치하고, 충진층에서 최종 처리된 가스가 외부로 배출되는 스택;
충진층 상부에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크로부터 공급된 제2 세정액을 충진층에 분사하는 세정액 분사장치;
믹싱 챔버의 상부 및 세정액 분사장치의 하부에 위치하고, 카트리지 팩 미디어가 충진되어 있으며, 믹싱 챔버로부터 유입되어 카트리지 팩 미디어에 포집된 2차 오염물질이 세정액 분사장치에서 배출된 세정액에 의해 최종 처리되는 충진층;
충진층의 하부 및 제1 및 제2 세정액 저장탱크의 상부에 위치하고, 내부에는 중앙에 위치한 흡입관과 제2 세정액이 구비되며, 제2 세정액은 부유성 BF 미디어로 충진되고, 흡입관에서 배출된 1차 오염물질이 제2 세정액의 수중으로 배출되어 오염물질의 2차 처리가 수행되며, 2차 처리에서 제거되지 않은 2차 오염물질이 충진층으로 유입되는 믹싱 챔버;
믹싱 챔버 내에 위치하고, 내부 측면에서 제1 세정액 저장탱크로부터 공급된 제1 세정액이 가스 유입 노즐로부터 유입된 최초 오염물질에 분사되어 오염물질의 1차 처리가 수행되고, 1차 처리에서 제거되지 않은 1차 오염물질이 믹싱 챔버 내의 제2 세정액 수중으로 배출되는 흡입관;
제1 및 제2 세정액 저장탱크와 믹싱 챔버 사이에 위치하며, 스크러버 외부에서 유래된 최초 오염물질을 흡입관 내부로 유입시키는 가스 유입 노즐;
믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제1 세정액 공급펌프와 연결되며, 제1 세정액을 저장하는 제1 세정액 저장탱크;
믹싱 챔버의 하부에 위치하고, 제2 세정액 공급펌프와 연결되며, 제2 세정액을 저장하는 제2 세정액 저장탱크;
제1 세정액 저장탱크와 연결되며, 제1 세정액을 흡입관으로 공급하는 제1 세정액 공급펌프;
제2 세정액 저장탱크와 연결되며, 제2 세정액을 믹싱 챔버 및 세정액 분사장치로 공급하는 제2 세정액 공급펌프; 및
믹싱 챔버의 외부 측면에 위치하고, 제2 세정액 저장탱크와 연결되어, 믹싱 챔버 내의 제2 세정액의 수위를 조절하는 수위조절 포트
를 포함하는, 복합 스크러버.A stack which is located at the top and discharges the gas which is finally treated in the filling layer to the outside;
A cleaning liquid injector located above the filling layer for spraying the second cleaning liquid supplied from the second cleaning liquid storage tank to the filling layer;
A second cartridge disposed in an upper portion of the mixing chamber and a lower portion of the washer fluid ejection apparatus and filled with the cartridge pack medium, the second contaminant being introduced from the mixing chamber into the cartridge pack media is finally processed by a cleaning liquid discharged from the washer fluid ejection apparatus, layer;
The second cleaning liquid is filled with the floating BF medium, and the first cleaning liquid discharged from the suction pipe and the second cleaning liquid discharged from the suction pipe are disposed in the lower portion of the filling layer and the upper portions of the first and second cleaning liquid storage tanks, A mixing chamber in which contaminants are discharged into the water of the second washing liquid to perform a secondary treatment of the contaminants and secondary contaminants not removed in the secondary treatment are introduced into the filling layer;
The first cleaning liquid supplied from the first cleaning liquid storage tank on the inner side is sprayed on the initial contaminant introduced from the gas inflow nozzle to perform the primary treatment of the contaminants and to remove the untreated 1 A suction pipe through which the second contaminant is discharged into the second washing liquid in the mixing chamber;
A gas inflow nozzle positioned between the first and second cleaning liquid storage tanks and the mixing chamber for introducing the initial contaminants originating from the outside of the scrubber into the suction pipe;
A first cleaning liquid storage tank located at a lower portion of the mixing chamber, connected to the first cleaning liquid supply pump, for storing the first cleaning liquid;
A second cleaning liquid storage tank located below the mixing chamber, connected to the second cleaning liquid supply pump, for storing the second cleaning liquid;
A first cleaning liquid supply pump connected to the first cleaning liquid storage tank and supplying the first cleaning liquid to the suction pipe;
A second cleaning liquid supply pump connected to the second cleaning liquid storage tank, for supplying the second cleaning liquid to the mixing chamber and the cleaning liquid injector; And
A water level adjusting port which is located on an outer side surface of the mixing chamber and is connected to the second cleaning liquid storage tank to adjust the level of the second cleaning liquid in the mixing chamber,
. ≪ / RTI > 제1항에 있어서,
상기 흡입관은 흡입관 상부 커버와 연결되는 복수의 유출 가스 분배관을 구비하고,
상기 유출 가스 분배관의 말단이 믹싱 챔버 내의 제2 세정액의 수중에 침지되어, 흡입관 내의 1차 오염물질이 믹싱 챔버 내의 제2 세정액의 수중으로 배출되는, 복합 스크러버.The method according to claim 1,
The suction pipe includes a plurality of outflow gas distribution pipes connected to the suction pipe upper cover,
The end of the outflow gas distribution pipe is immersed in the water of the second cleaning liquid in the mixing chamber so that the primary contaminant in the suction pipe is discharged into the water of the second cleaning liquid in the mixing chamber. 제1항에 있어서, BF 미디어는 발포성 폴리프로필렌 재질로서, 원통형태인, 복합 스크러버.The composite scrubber of claim 1, wherein the BF media is a foamed polypropylene material. 제1항에 있어서, 흡입관은,
흡입관 내부 측면에 위치하고, 제1 세정액 저장탱크로부터 제1 세정액을 공급받아 미세 분사 노즐로 전달하는 스파이럴 분사 노즐; 및
스파이럴 분사 노즐에 복수 개로 부착되어, 스파이럴 분사 노즐로부터 공급받은 제1 세정액을 최초 오염물질에 분사하는 미세 분사 노즐;
을 포함하는, 복합 스크러버.The suction device according to claim 1,
A spiral spray nozzle which is located on an inner side surface of the suction pipe and receives the first rinse solution from the first rinse solution storage tank and transfers the first rinse solution to the fine spray nozzle; And
A plurality of fine spray nozzles attached to the spiral spray nozzle for spraying the first cleaning liquid supplied from the spiral spray nozzle onto the first pollutant;
And a second scrubber. 제2항에 있어서, 유출 가스 분배관의 말단에, 복수의 가스 분사 노즐을 포함하는 원형 가스 분사장치가 구비된, 복합 스크러버.The composite scrubber according to claim 2, wherein a circular gas injection device including a plurality of gas injection nozzles is provided at an end of the outflow gas distribution pipe. 제1항에 있어서, 제1 세정액 공급펌프 및 제2 세정액 공급 펌프는 각각, 제1 및 제2 세정액 저장탱크 내의 pH를 조절하는 세정액 혼합 공급장치를 추가로 구비하는, 복합 스크러버.The composite scrubber of claim 1, wherein the first rinse solution supply pump and the second rinse solution supply pump each further comprise a rinse solution mixer for adjusting the pH in the first and second rinse solution storage tanks. 제1항에 있어서, 복수 개의 세정액 분사장치 및 충진층을 구비하는, 복합 스크러버.The composite scrubber according to claim 1, comprising a plurality of cleaning liquid injectors and a filling layer. 제1항에 있어서, 세정액 분사장치의 상부 및 스택의 하부에 위치하며, 충진층에서 최종 처리된 가스 내의 수분을 제거하는 데미스터를 추가로 포함하는, 복합 스크러버.The composite scrubber of claim 1, further comprising a top located at the top of the scrubbing liquid injector and a bottom of the stack, and adapted to remove moisture in the finished gas at the filling layer.
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