KR101828282B1 - 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법이 개시된다. 본 발명의 일 실시예에 따른 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판에 따르면, 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00% 이하, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8 내지 30%, 질소(N) 0.005~0.050% 이하로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함하며, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족한다.
100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)

Description

표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법{COLD-ROLLED FERRITIC STAINLESS STEEL SHEET HAVING EXCELLENT SURFACE QUALITY AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME}
본 발명은 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은 주로 가전용 또는 자동차 외부 장식 트림(trim) 용도로 사용된다. 이러한 이유로 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은 미려한 표면이 중요한 제품으로서 고광택의 우수한 표면품질이 요구되며, 특히, 1,050 이상의 광택도가 요구된다.
이러한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은 광휘 소둔한 판재를 조질 압연하여 얻어지는데, 기존의 제조 방법으로는 1,050 이상의 고 광택을 나타냄에도 미세 흠이 잔존하여 육안 관찰 시 표면 탁함이 관찰되어 감성 품질이 저하되는 문제점이 있었다. 즉, 광택도가 1,050 이상이더라도 미세흠 분율이 높으면 육안 관찰시 광택이 열위하게 느껴지게 된다. 이러한 표면 탁함의 원인인 미세 흠은 냉간압연 시 윤활유가 홈 내에서 쉽게 제거되지 않고 남아 발생하게 된다.
또한, 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면 거칠기가 열위할 시, 선영도가 낮아지므로 고 광택재의 경우 95 이상의 선영도를 요구한다. 따라서 광택도와 선영도가 우수한 고 광택 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판을 얻기 위해서는 냉간 압연 전 소재의 표면의 흠을 저감시켜 미세 흠의 주요 원인을 제거하는 것이 필수적이며 냉간 압연 시 표면품질 확보를 위해 압하율, 윤활유 조건 등을 관리하여야 한다. 그 밖에도 냉연소둔 조건 및 조질 압연 조건 등 제조 공정상의 변수들을 관리하여야 한다.
일본 공개특허문헌 제10-2000-005801호(2000.01.11)
본 발명의 실시예들은 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 공정 상의 변수를 제어하여 광택도와 선영도에 영향을 주는 인자, 예를 들어, 열연 소둔 산세 공정, 연마 공정, 조질 압연 공정 등을 최적화하여 광택도와 선영도가 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 및 이의 제조 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은, 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00%, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8~30%, 질소(N) 0.005~0.050%로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함한다. 이때, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족한다.
100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 알루미늄(Al) 0.01~0.10%, 몰리브데늄(Mo) 0.5~1.0%, 구리(Cu) 0.01~1.00%, 타이타늄(Ti) 0.01~0.50%, 나이오븀(Nb) 0.01~0.50%, 바나듐(V) 0.01~0.30%, 지르코늄(Zr) 0.01~0.30% 및 붕소(B) 0.0010~0.0100%로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 선영도는 96% 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법은, 페라이트계 스테인리스 강판을 소둔 열처리한 후, 샷 블라스트(shot blast) 처리 및 산세 처리하는 단계, 상기 산세 처리된 상기 강판을 냉간 압연하는 단계, 상기 냉연 강판을 연마하는 단계 및 상기 냉간 압연된 상기 강판을 평균 거칠기가 #1,000 이상의 워크 롤로 조질 압연하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족한다.
100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 강판은, 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00%, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8~30%, 질소(N) 0.005~0.050%로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 조질 압연은 2 내지 5회로 실시될 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 냉간 압연은, 60% 이상의 압하율로 압연하는 1차 냉간 압연 및 65% 이상의 압하율로 압연하는 2차 냉간 압연을 포함하며, 총 압하율이 85% 이상일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 연마하는 단계는 상기 1차 냉간 압연 후 2차 냉간 압연 이전에 10 내지 15mpm의 속도의 연마 벨트로 표면 조도가 0.3㎛ 미만이 되도록 수행하며, 1 내지 2회 진행될 수 있다.
본 발명의 실시예들은 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 공정 중 열연 소둔 산세 공정에 있어서, 소둔 열처리된 페라이트계 스테인리스 강판에 샷 블라스트(shot blast) 처리를 통해 열연 소둔판의 스케일을 용이하게 제거할 수 있으며, 냉간 압연 이후에 연마 공정을 통하여 샷 볼(shot ball) 자국을 제거하여 샷 볼 자국에 의한 최종 냉간압연강판의 미세흠을 최소화할 수 있다.
또한, 냉간압연 이후 소둔 열처리된 페라이트계 스테인리스 강판을 평균 거칠기가 #1,000 이상의 워크 롤로 조질 압연하여 최종 냉간압연강판의 광택도를 향상시킬 수 있다.
도 1은 비교예 및 실시예에 따른 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 따라 제조된 최종 냉간압연강판의 {(광택도*선영도)/미세흠분율}을 나타내는 그래프이다.
도 2는 비교예 및 실시예에 따른 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 따라 제조된 강판의 광택도를 나타내는 그래프이다.
이하에서는 본 발명의 실시 예를 첨부 도면을 참조하여 상세히 설명한다. 이하의 실시 예는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 사상을 충분히 전달하기 위해 제시하는 것이다. 본 발명은 여기서 제시한 실시 예만으로 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 도면은 본 발명을 명확히 하기 위해 설명과 관계 없는 부분의 도시를 생략하고, 이해를 돕기 위해 구성요소의 크기를 다소 과장하여 표현할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은, 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00%, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8~30%, 질소(N) 0.005~0.050%로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함한다.
탄소(C)는 탄화물을 형성시키는 원소로서 침입형으로 존재하게 되므로 과도하게 함유되면 강도는 상승되지만 충격인성, 내식성 및 성형성의 저하를 초래한다. 따라서, 그 함량은 0.100 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
실리콘(Si)은 내산화성 및 내식성 향상에 유효한 원소로서 함랑이 증가하게 되면 내산화성은 향상되지만 연신율을 저하시켜 성형성의 저하를 초래한다. 따라서, 그 함량은 1.00 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
망간(Mn)은 함량이 높아지면 MnS를 용출하며 내식성을 저하시키므로 1.00 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
인(P) 및 황(S)은 그 함량이 증가하면 내공식성 및 열간가공성을 저하시키므로 인(P)은 0.05 중량% 이하, 황(S)은 0.02 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
니켈(Ni)은 내식성을 향상시키는 원소이며 다량 첨가하게 되면 경질화된 뿐만 아니라 응력부식균열이 발생될 우려가 있으므로 2.00 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
크롬(Cr)은 그 함유량이 적으면 내식성이 저하되고, 그 함유량이 많으면 내식성은 향상되나 연신율이 저하되어 성형성이 나빠지므로 그 함유량은 8 내지 30 중량%가 바람직하다.
질소(N)는 질화물을 형성시키는 원소로서 침입형으로 존재하게 되므로 과도하게 함유되면 강도는 상승되지만 충격인성, 내식성 및 성형성의 저하를 초래한다. 따라서, 그 함량은 0.050 중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.
예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은, 알루미늄(Al) 0.01~0.10%, 몰리브데늄(Mo) 0.5~1.0%, 구리(Cu) 0.01~1.00%, 타이타늄(Ti) 0.01~0.50%, 나이오븀(Nb) 0.01~0.50%, 바나듐(V) 0.01~0.30%, 지르코늄(Zr) 0.01~0.30% 및 붕소(B) 0.0010~0.0100%로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
알루미늄(Al)은 탈산제로 첨가되는 원소로, 다량 첨가할 경우 표면결함을 발생시키므로 0.10 중량% 이하로 한정하는 것이 바람직하다.
몰리브데늄(Mo)은 내식성, 특히 내공식성을 향상시키기 위해 첨가하는 원소이다. 그러나, 다량 첨가하게 되면 가공성을 저하시키므로 1.0 중량% 이하 첨가하는 것이 바람직하다.
구리(Cu)는 내식성 개선을 위해 0 초과 1.0 중량% 이하를 함유하는 것이 좋다. 그러나, 1.0 중량%를 넘게 되면 가공성이 저하하는 문제점이 있다.
타이타늄(Ti), 나이오븀(Nb)은 고용 탄소(C), 질소(N)를 탄질화물로 석출시켜 내식성 개선 및 성형성 향상에 효과가 있는 원소이다. 그러나 다량 첨가하게 되면 개재물에 의한 외관 불량 및 인성이 저하하게 된다. 따라서, 0.01 내지 0.50 중량% 첨가하는 것이 바람직하다.
바나듐(V), 지르코늄(Zr)은 탄소(C), 질소(N)를 고정시키기 위해 첨가하는 원소이다. 특히, 용접부에서의 크롬탄질화물의 석출을 억제시켜 내식성을 향상시키고, 또한, 고온강도를 필요로 하는 경우에 첨가하는 원소이다. 다만, 이들은 고가이므로 0.01 내지 0.30 중량% 첨가하는 것이 바람직하다.
붕소(B)는 입계에 편석하여 입계강도를 강화하여 2차가공취성을 개선하는 효과가 있다. 그러나, 다량 첨가하게 되면 열간가공성을 저하시키기 때문에 0.0010 내지 0.0100 중량% 첨가하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족할 수 있다.
100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상일 수 있다.
예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하일 수 있다.
예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 선영도는 96% 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법은, 페라이트계 스테인리스 강판을 소둔 열처리한 후, 샷 블라스트(shot blast) 처리 및 산세 처리하는 단계, 상기 산세 처리된 상기 강판을 냉간 압연하는 단계, 상기 냉연 강판을 연마하는 단계 및 상기 냉간 압연된 상기 강판을 평균 거칠기가 #1,000 이상의 워크 롤(work roll)로 조질 압연하는 단계를 포함한다.
이에 따라, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족한다.
100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은 소둔 열처리 이후에 스케일 제거를 위한 샷 블라스트 처리 및 산세조에서 산세 처리될 수 있다.
통상적으로 스테인리스 열연 소둔판의 스케일 제거를 용이하게 하기 위하여 열연 소둔 산세 공정에서 샷 블라스트 처리를 하게 되는데, 이러한 샷 블라스트 처리가 없는 경우 스케일의 제거가 용이하지 않아 최종 제품의 표면 결함이 발생하는 문제점이 잇다.
그러나, 이 과정에서 발생한 샷 볼(shot ball) 자국이 최종 냉간압연강판의 미세흠으로 잔존하여 표면탁함의 원인이 되며, 따라서, 최종 냉간압연강판 표면의 광택도가 저하된다. 여기서, 미세흠이라 함은, 상기 강판의 표면 상에 형성된 흠으로, 길이가 50 내지 100㎛이며, 깊이가 1 내지 5㎛의 흠을 의미한다.
이후, 상기 산세 처리된 상기 강판은 냉간 압연될 수 있다. 예를 들어, 상기 냉간 압연은 1차 냉간 압연 및 2차 냉간 압연으로 2회에 걸쳐 실시될 수 있다.
예를 들어, 상기 1차 냉간 압연은 60% 이상의 압하율로 압연할 수 있다. 이후, 상기 1차 냉간 압연된 강판을 850 내지 1050℃에서 소둔 열처리 할 수 있다.
예를 들어, 상기 2차 냉간 압연은 65% 이상의 압하율로 압연할 수 있다. 이후, 상기 2차 냉간 압연된 강판을 850 내지 1050℃에서 소둔 열처리 할 수 있다. 이에 따라, 상기 2차 냉간 압연된 강판은 총 압하율이 85% 이상일 수 있다.
이러한 샷 볼 자국에 의한 미세흠을 저감하기 위하여는 산세 처리된 강판을 냉간 압연한 후에 상기 냉연 강판을 연마하여 미세흠을 최소화 할 수 있다.
구체적으로, 상기 1차 냉간 압연된 강판은 상기 2차 냉간 압연 전에, 강판 표면의 미세흠을 제거하고, 선영도를 향상시키기 위하여 연마 공정을 진행할 수 있다. 이러한 연마 공정은 1 내지 2회 진행되는 것이 바람직하며, 연마 공정을 3회 이상 진행하는 경우, 연마 비용이 증가하며, 공정의 부하를 초래하기 때문에 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
예를 들어, 상기 연마 공정은 상기 1차 냉간 압연 후 2차 냉간 압연 이전에 10 내지 15mpm의 속도의 연마 벨트로 표면 조도가 0.3㎛ 미만이 되도록 수행할 수 있다. 상기 연마 벨트의 속도가 10mpm 미만인 경우 속도가 너무 느려 충분히 연마를 할 수 없으며 표면 조도가 0.3㎛ 이상으로 육안 관찰시 표면 탁함이 감지되며, 15mpm 초과인 경우 속도가 너무 빨라 과도한 연마에 따른 공정 비용 증가 등의 문제점이 있다. 예를 들어, 상기 연마 벨트는 알루미늄 옥사이드(aluminum oxide) 벨트로 Al80을 사용할 수 있다.
이후, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판 표면의 광택도를 향상시키기 위하여 조질 압연을 실시할 수 있다.
상기 조질 압연은 평균 거칠기가 #1,000 이상의 워크 롤로 실시할 수 있다. 상기 워크 롤의 평균 거칠기가 #1,000 미만인 경우, 상기 워크 롤이 너무 거칠어 강판 표면의 광택도가 감소하며 원하는 수준의 광택도, 예를 들어, 1,050 이상의 광택도를 얻기 어렵다.
예를 들어, 상기 조질 압연은 2 내지 5회로 실시될 수 있다. 상기 조질 압연이 1회만 실시되는 경우, 충분한 광택도를 얻기 어려우며, 상기 조질 압연이 6회 이상으로 실시되는 경우, 공정 비용이 증가하며, 공정의 부하를 초래하기 때문에 생산성이 저하되는 문제점이 있다.
예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상일 수 있다. 예를 들어, 상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하일 수 있다.
최종 냉연판의 미세흠 분율이 높을 경우 광택도와 선영도가 높아도 육안 관찰시 표면 탁함이 감지되어 감성 품질이 떨어지기 때문에 높은 광택도 및 선영도와 낮은 미세흠 분율을 동시에 만족해야만 한다.
{(광택도*선영도)/미세흠 분율} 값을 육안 관찰 결과와 비교해 본 결과 {(광택도*선영도)/미세흠 분율} 값이 100,000 이하일 때 육안 관찰 시 표면 탁함을 인식할 수 있기 때문에 100,000 초과로 얻어져야 한다.
종래의 방법으로 제조한 판재의 {(광택도*선영도)/미세흠 분율} 값은 10,000~100,000 수준으로, 광택도가 고 광택의 기준인 1,050 이상이더라도 미세흠 면적율이 1.0% 이상이거나 선영도가 95% 미만일 때 {(광택도*선영도)/미세흠 분율} 값이 100,000 미만이 된다.
즉, 최종 제품이 전반적으로 고 광택, 고 선영성을 나타낸다고 하여도 미세흠 면적율이 1.0% 를 넘게 되면 육안 관찰시 미세한 흠에 의한 표면 탁함 형태로 인식하게 된다. 따라서 본 발명에서는 1차 냉간 압연 후 연마를 1~2회 실시하여 미세흠의 원인이 되는 샷 볼 자국을 제거하고, 광택도를 향상시키기 위하여 2차 냉연 소둔소재를 #1,000 이상의 롤메시로 조질 압연 하였다. 또한, 선영도를 95% 이상으로 높이기 위해 연마 공정과 냉간 압연 압하율을 조절, 표면 조도를 제어하였다.
따라서, 본 발명의 일 실시예에 따른 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 의하여, 광택도가 1,050 이상, {(광택도*선영도)/미세흠분율}이 100,000 초과 내지 200,000 미만인 고광택 페라이트계 스테인리스 냉연 제품을 얻을 수 있다.
하기 표 1을 참조하면, 1, 2차 냉연 압하율, 연마 횟수 및 조질압연 롤메시의 조건이 개시되며, 이에 따른 광택도, 미세흠 분율, 선영도 등의 측정결과를 표 2에 나타내었다.
구분 1차 냉연 압하율 (%) 2차 냉연 압하율 (%) 1차 냉연 후 연마 횟수 조질압연 롤메시(#)
비교예1 65 60 0 600
비교예2 50 75 0 600
비교예3 65 60 0 600
비교예4 65 60 0 1,000
비교예5 60 75 0 600
비교예6 60 75 0 1,000
실시예1 60 65 1 1,000
실시예2 63 67 2 1,000
실시예3 63 67 1 1,200
실시예4 65 75 2 1,000
실시예5 60 75 2 1,000
실시예6 65 67 2 1,000
비교예1 내지 비교예6은 1차 냉연 이후 연마를 수행하지 않았으며, 비교예1 내지 비교예3 및 비교예6의 경우 조질압연시 롤메시를 #600으로 수행하였다.
구분 광택도 (GS 20℃) 미세흠 분율 (%) 선영도 (%) {(광택도*선영도)/미세흠분율}
비교예1 1,020 5.5 94.6 17,544
비교예2 1,040 5.08 91.8 18,794
비교예3 1,040 4.44 93 21,784
비교예4 1,082 4.28 93.9 23,738
비교예5 1,040 2.61 95.5 38,074
비교예6 1,175 2.37 96.45 47,818
실시예1 1,183 1 96.7 114,396
실시예2 1,164 0.7 95 157,971
실시예3 1,206 0.9 96.55 129,377
실시예4 1,152 1 96.1 110,707
실시예5 1,158 0.89 96.76 125,897
실시예6 1,088 0.61 95.21 169,817
광택도는 물체의 표면에서 반사각으로 반사되는 빛의 양으로, 광택도 측정기(Glossmeter)를 이용하여 측정하였다. 미세흠 면적율은 광학현미경을 사용하여 광원을 최대로 하여 노출시간을 길게 하고 배율을 50배로 하여 촬영한 다음 영상분석기(image analyzer)로 면적율을 측정하여 평가하였다. 선영도는 해상도라고도 하며 소재의 선명한 정도를 나타내는 척도로, 선영도 측정기(DorigonⅡ)를 이용하여 측정하였다.
도 1은 비교예 및 실시예에 따른 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 따라 제조된 최종 냉간압연강판의 {(광택도*선영도)/미세흠분율}을 나타내는 그래프이다. 도 2는 비교예 및 실시예에 따른 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 따라 제조된 강판의 광택도를 나타내는 그래프이다.
상기 표 1, 표 2, 도 1 및 도 2를 참조하면, 도 1 및 도 2의 X축은 비교예1 내지 6, 그리고 실시예1 내지 6이며, 도 1에서 Y축은 {(광택도*선영도)/미세흠분율} 값을 나타내며, 도 2에서 Y축은 광택도를 나타낸다.
즉, 상기 실시예 1 내지 6에서와 같이 1차 냉연 후 연마, 그리고 조질 압연시 #1,000 이상의 롤메시로 수행하여 제조된 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판은 {(광택도*선영도)/미세흠 분율} 값이 100,000 초과, 200,000 미만의 값을 가지며, 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상이고, 미세흠 분율은 1% 이하이며, 선영도는 95% 이상을 가져, 육안으로 표면 탁함이 관찰되지 않아 광택도가 우수하고, 표면이 선명한 강판으로 선영도가 우수하여 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면품질이 향상됨을 알 수 있다.
상술한 바에 있어서, 본 발명의 예시적인 실시예들을 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 다음에 기재하는 특허청구범위의 개념과 범위를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변경 및 변형이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (12)

  1. 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00%, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8~30%, 질소(N) 0.005~0.050%로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함하는 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족하는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판.
    100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
  2. 제1항에 있어서,
    알루미늄(Al) 0.01~0.10%, 몰리브데늄(Mo) 0.5~1.0%, 구리(Cu) 0.01~1.00%, 타이타늄(Ti) 0.01~0.50%, 나이오븀(Nb) 0.01~0.50%, 바나듐(V) 0.01~0.30%, 지르코늄(Zr) 0.01~0.30% 및 붕소(B) 0.0010~0.0100%로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상을 더 포함하는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 선영도는 96% 이상인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판.
  6. 중량%로, 탄소(C) 0.001~0.100%, 실리콘(Si) 0.05~1.00%, 망간(Mn) 0.01~1.00%, 인(P) 0.01~0.05%, 황(S) 0.01~0.02%, 니켈(Ni) 0.01~2.00%, 크롬(Cr) 8~30%, 질소(N) 0.005~0.050%로 포함하고, 나머지 철(Fe) 및 기타 불가피한 불순물을 포함하는 페라이트계 스테인리스 강판을 소둔 열처리한 후, 샷 블라스트(shot blast) 처리 및 산세 처리하는 단계;
    상기 산세 처리된 상기 강판을 냉간 압연하는 단계;
    냉연 강판을 연마하는 단계; 및
    상기 냉간 압연된 상기 강판을 평균 거칠기가 #1,000 이상의 워크 롤로 조질 압연하는 단계를 포함하는 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면은 하기 식 (1)을 만족하는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.
    100,000 < {(광택도*선영도)/미세흠 분율} < 200,000 --- 식 (1)
  7. 삭제
  8. 제6항에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 광택도(GS 20℃)는 1,050 이상인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.
  9. 제6항에 있어서,
    상기 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 표면의 미세흠 분율은 1% 이하인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.
  10. 제6항에 있어서,
    상기 조질 압연은 2 내지 5회로 실시되는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.
  11. 제6항에 있어서,
    상기 냉간 압연은,
    60% 이상의 압하율로 압연하는 1차 냉간 압연; 및
    65% 이상의 압하율로 압연하는 2차 냉간 압연을 포함하며,
    총 압하율이 85% 이상인 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 연마하는 단계는 상기 1차 냉간 압연 후 2차 냉간 압연 이전에 10 내지 15mpm의 속도의 연마 벨트로 표면 조도가 0.3㎛ 미만이 되도록 수행하며, 1 내지 2회 진행되는 표면품질이 우수한 페라이트계 스테인리스 냉간압연강판의 제조 방법.


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