KR101813500B1 - Light-emitting device - Google Patents

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Abstract

실시 예에 따른 발광소자는 발광소자의 저전류 특성 및 ESD 특성을 향상시키기 용이한 구조를 갖도록, 실시 예는, 기판, 상기 기판 상에 순차적으로 배치된 제1 반도체층, 활성층 및 제2 반도체층을 포함하는 발광구조물을 포함하고, 상기 기판 상에는, 측면이 라운딩되고 상기 측면으로 이루어진 꼭지점을 포함하는 요철패턴이 형성된 발광소자를 제공한다.The light emitting device according to the embodiment may include a substrate, a first semiconductor layer sequentially disposed on the substrate, an active layer, and a second semiconductor layer, And a concavo-convex pattern formed on the substrate, the concavo-convex pattern including rounded sides and apexes formed by the side surfaces.

Description

발광소자{Light-emitting device} Light-emitting device

실시 예는 발광소자에 관한 것이다.An embodiment relates to a light emitting element.

LED(Light Emitting Diode; 발광 다이오드)는 화합물 반도체의 특성을 이용해 전기 신호를 적외선, 가시광선 또는 빛의 형태로 변환시키는 소자로, 가정용 가전제품, 리모콘, 전광판, 표시기, 각종 자동화 기기 등에 사용되고, 점차 LED의 사용 영역이 넓어지고 있는 추세이다.LED (Light Emitting Diode) is a device that converts electrical signals into infrared, visible light or light using the characteristics of compound semiconductors. It is used in household appliances, remote controls, electric sign boards, displays, The use area of LED is becoming wider.

보통, 소형화된 LED는 PCB(Printed Circuit Board) 기판에 직접 장착하기 위해서 표면실장소자(Surface Mount Device)형으로 만들어지고 있고, 이에 따라 표시소자로 사용되고 있는 LED 램프도 표면실장소자 형으로 개발되고 있다. 이러한 표면실장소자는 기존의 단순한 점등 램프를 대체할 수 있으며, 이것은 다양한 칼라를 내는 점등표시기용, 문자표시기 및 영상표시기 등으로 사용된다.In general, miniaturized LEDs are made of a surface mounting device for mounting directly on a PCB (Printed Circuit Board) substrate, and an LED lamp used as a display device is also being developed as a surface mounting device type . Such a surface mount device can replace a conventional simple lighting lamp, which is used for a lighting indicator for various colors, a character indicator, an image indicator, and the like.

이와 같이 LED의 사용 영역이 넓어지면서, 생활에 사용되는 전등, 구조 신호용 전등 등에 요구되는 휘도가 높이지는 바, LED의 발광휘도를 증가시키는 것이 중요하다.As the use area of the LED is widened as described above, it is important to increase the luminance of the LED as the brightness required for a lamp used in daily life and a lamp for a structural signal is increased.

실시 예는, 발광소자의 저전류 특성 및 ESD 특성을 향상시키기 용이한 구조를 갖는 발광소자를 제공할 수 있다.The embodiment can provide a light emitting device having a structure that can improve the low current characteristics and the ESD characteristics of the light emitting device.

실시 예에 따른 발광소자는 기판, 상기 기판 상에 순차적으로 배치된 제1 반도체층, 활성층 및 제2 반도체층을 포함하는 발광구조물을 포함하고, 상기 기판 상에는, 측면이 라운딩되고 상기 측면으로 이루어진 꼭지점을 포함하는 요철패턴이 형성될 수 있다.A light emitting device according to an embodiment includes a substrate, a first semiconductor layer sequentially disposed on the substrate, an active layer, and a second semiconductor layer, wherein the substrate has rounded sides, The concavo-convex pattern can be formed.

실시 예에 따른 발광소자는, 측면이 라운딩되어 꼭지점을 포함하는 요철패턴이 형성된 기판 상에 발광구조물을 성장시키며, 발광구조물 상에서 요철패턴의 꼭지점에 대응하는 위치에 홀이 형성된 투광성전극층을 배치함으로써, 투광성 전극층 상에 배치되는 전극으로부터 인가되는 전류가 발광소자 성장시 요철패턴의 꼭지점에 의해 발광구조물의 최상위 층까지 형성되는 누설 경로로 인가되지 않음으로써, 저전류 특성 및 ESD 내성 산포를 개선할 수 있으며 내부 발광 효율 및 외부 발광 효율을 향상시킬 수 있는 이점이 있다.The light emitting device according to the embodiment has a structure in which a side surface is rounded to grow a light emitting structure on a substrate having a concave and convex pattern including apexes and arranging a light transmitting electrode layer having holes at positions corresponding to apexes of the concave and convex patterns on the light emitting structure, The current applied from the electrode disposed on the light-transmitting electrode layer is not applied to the leakage path formed up to the uppermost layer of the light emitting structure due to the vertex of the concavo-convex pattern when growing the light emitting element, thereby improving the low current characteristic and the ESD immunity scattering There is an advantage that the internal luminous efficiency and the external luminous efficiency can be improved.

도 1은 실시 예에 따른 발광소자의 절단면을 나타내는 단면도이다.
도 2는 도 1에 나타낸 발광소자의 전류이동을 나타내는 동작도이다.
도 3은 도 2에 나타낸 기판 및 투광성 전극층에 대한 실시 예를 나타내는 사시도이다.
도 4는 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지의 절단면을 나타낸 단면도이다.
도 5는 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 조명 장치를 나타낸 사시도이다.
도 6은 도 5의 조명장치의 A-A' 단면을 나타낸 단면도이다.
도 7은 제1 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.
도 8는 제2 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.
1 is a cross-sectional view illustrating a cut-away surface of a light emitting device according to an embodiment.
2 is an operation diagram showing the current movement of the light emitting device shown in Fig.
3 is a perspective view showing an embodiment of the substrate and the translucent electrode layer shown in Fig.
4 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package including a light emitting device according to an embodiment.
5 is a perspective view illustrating a lighting device including a light emitting device according to an embodiment.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a cross-section taken along the line AA 'of the illumination device of FIG. 5;
7 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including the light emitting device according to the first embodiment.
8 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including a light emitting device according to the second embodiment.

실시 에 대한 설명에 앞서, 본 명세서에서 언급하는 각 층(막), 영역, 패턴, 또는 구조물들의 기판, 각 층(막) 영역, 패드, 또는 패턴들의 "위(on)", "아래(under)"에 형성되는 것으로 기재되는 경우에 있어, "위(on)"와, "아래(under)"는 직접(directly)", 또는 "다른 층을 개재하여(indirectly)" 형성되는 모든것을 포함한다. 또한, 각 층의 위, 또는 아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.Prior to the description of the practice, the terms "on "," under ", " under "Quot;, " on ", and " under " include everything that is directly formed, or formed "indirectly" In addition, the criteria for above or below each layer will be described with reference to the drawings.

도면에서, 각 층의 두께나 크기는 설명의 편의, 및 명확성을 위하여 과장되거나, 생략되거나, 또는 개략적으로 도시되었다. 따라서, 각 구성요소의 크기는 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.In the drawings, the thickness and size of each layer are exaggerated, omitted, or schematically illustrated for convenience and clarity. Therefore, the size of each component does not entirely reflect the actual size.

또한, 본 명세서에서 발광소자의 구조를 설명하는 과정에서 언급하는 각도와 방향은 도면에 기재된 것을 기준으로 한다. 명세서에서 발광소자를 이루는 구조에 대한 설명에서, 각도에 대한 기준점과 위치관계를 명확히 언급하지 않은 경우, 관련 도면을 참조하도록 한다.In this specification, the angles and directions mentioned in the process of describing the structure of the light emitting device are based on those described in the drawings. In the description of the structure of the light emitting device in the specification, reference points and positional relationship with respect to angles are not explicitly referred to, refer to the related drawings.

도 1은 실시 예에 따른 발광소자의 절단면을 나타내는 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a cut-away surface of a light emitting device according to an embodiment.

도 1을 참조하면, 발광소자(100)는 기판(110), 기판(110) 상에 배치되며, 제1 반도체층(122), 제2 반도체층(124) 및 제1, 2 반도체층(122, 124) 사이에 배치되는 활성층(126)을 포함하는 발광구조물(120)을 포함할 수 있다.1, a light emitting device 100 includes a substrate 110 and a first semiconductor layer 122, a second semiconductor layer 124, and first and second semiconductor layers 122 And an active layer 126 disposed between the active layer 126 and the active layer 126.

기판(110)은 질화물 반도체 단결정을 성장시키기에 적합한 기판으로서, 바람직하게, 사파이어를 포함하는 투광성을 갖는 재질을 이용하여 형성되며. 사파이어 이외에, 기판(110)은 징크 옥사이드(zinc oxide, ZnO), 갈륨 나이트라이드(gallium nitride, GaN), 실리콘 카바이드(silicon carbide, SiC) 및 알루미늄 나이트라이드(AlN)로 형성될 수 있다.The substrate 110 is a substrate suitable for growing a nitride semiconductor single crystal, and is preferably formed using a material having translucency including sapphire. In addition to sapphire, the substrate 110 may be formed of zinc oxide (ZnO), gallium nitride (GaN), silicon carbide (SiC), and aluminum nitride (AlN).

기판(110) 상에는 기판(110)과 발광구조물(120) 간의 격자 부정합을 완화하는 버퍼층(112)이 위치할 수 있다. 버퍼층(112)은 저온 분위기에서 형성할 수 있으며, GaN, InN, AlN, AlInN, InGaN, AlGaN, 및 InAlGaN 과 같은 재질 중 선택할 수 있다.A buffer layer 112 may be disposed on the substrate 110 to mitigate lattice mismatch between the substrate 110 and the light emitting structure 120. The buffer layer 112 can be formed in a low-temperature atmosphere and can be selected from materials such as GaN, InN, AlN, AlInN, InGaN, AlGaN, and InAlGaN.

여기서, 기판(110)은 발광구조물(120)이 배치되기 이전에 캐미컬 애칭, 레이저 빔을 이용한 스크래칭으로 요철패턴(z_1 ~ z_n)을 형성하거나, 포토레이스터를 도포한 후 패터닝을 수행하여 사진 식각을 통하여 요철패턴(z_1 ~ z_n)을 형성할 수 있으며, 요철패턴(z_1 ~ z_n)을 형성할 수 있으며, 이때, 식각 방법은 건식 식각 및 습식 식각 방법 중 어느 하나일 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.Here, the substrate 110 may be patterned by forming a concavo-convex pattern z_1 to z_n using a chemical nickname or scratching using a laser beam before the light emitting structure 120 is disposed, The concave-convex patterns z_1 to z_n can be formed through the etching, and the concave-convex patterns z_1 to z_n can be formed. In this case, the etching method can be any one of a dry etching method and a wet etching method. I do not.

이때, 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 측면이 라운딩되어 곡면을 이루며, 최상위가 꼭지점으로 형성될 수 있다. 또한, 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 하부 형상이 원형 또는 다각형 형상을 이룰 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.At this time, the concavo-convex patterns z_1 to z_n are rounded to form a curved surface, and the vertex can be formed as a vertex. In addition, the concavo-convex patterns z_1 to z_n may have a circular shape or a polygonal shape as the lower shape, but are not limited thereto.

요철패턴(z_1 ~ z_n)은 발광구조물(120)에서 발생되는 광을 스캐터링함으로써 발광소자(100)의 발광면으로 방출되는 광을 증가시킴으로써 외부 양자효율을 증가시킬 수 있으며, 최상위의 꼭지점에 의한 횡방향의 성장이 수직관통형 디스로케이션의 방향을 바꾸어 밀도를 감소시켜 결정 결함을 감소시킬 수 있게 된다.The uneven patterns z_1 to z_n can increase the external quantum efficiency by increasing the light emitted to the light emitting surface of the light emitting device 100 by scattering the light generated in the light emitting structure 120, The growth in the lateral direction changes the direction of the vertical penetration type dislocation so that the density can be reduced and crystal defects can be reduced.

또한, 요철패턴(z_1 ~ z_n) 상에는 버퍼층(112) 및 발광구조물(120)이 성장되며, 이때 요철패턴(z_1 ~ z_n) 사이의 평탄한 기판(110)에서부터 요철패턴(z_1 ~ z_n)의 최상위에 해당되는 꼭지점 부위까지 버퍼층(112) 및 발광구조물(120)이 성장될 수 있다.The buffer layer 112 and the light emitting structure 120 are grown on the concave and convex patterns z_1 to z_n and the concave and convex patterns z_1 to z_n are formed on the top of the concave and convex patterns z_1 to z_n from the flat substrate 110 between the concave- The buffer layer 112 and the light emitting structure 120 may be grown to the corresponding vertex portions.

즉, 버퍼층(112) 및 발광구조물(120)에 포함된 제1 반도체층(122), 제2 반도체층(124) 및 제1, 2 반도체층(122, 124) 사이에 배치되는 활성층(126) 각각이 요철패턴(z_1 ~ z_n)의 최상위에 해당되는 꼭지점에서 병합(merge)되어 선형 형태로 하나의 누설 경로(leakage path)가 형성될 수 있다.That is, the active layer 126 disposed between the first semiconductor layer 122, the second semiconductor layer 124, and the first and second semiconductor layers 122 and 124 included in the buffer layer 112 and the light emitting structure 120, Each may merge at a vertex corresponding to the top of the concave-convex patterns z_1 to z_n, and a single leakage path may be formed in a linear shape.

이때, 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 최상위의 꼭지점에서 기판(110)의 평판한 면이 시작되는 지점까지의 거리(C, chord), 라운딩 반경에 따른 원의 반지름(R, radius)을 통하여, 라운딩 면과 최상위의 꼭지점에서 기판(110)의 평판한 면이 시작되는 지점까지의 거리(C)의 면에 대한 높이차(B, rise)를 산출할 수 있다.At this time, the concavo-convex patterns z_1 to z_n are transmitted through the distance (C, chord) from the highest vertex to the point where the flat surface of the substrate 110 starts, and the radius (R, radius) It is possible to calculate the height difference (B, rise) with respect to the plane of the distance C from the rounding surface and the vertex at the top to the point where the flat surface of the substrate 110 starts.

이는, 하기의 [수학식 1]에 의해 산출될 수 있다.This can be calculated by the following equation (1).

[수학식 1]Rise(B)=R(Radius)ⅹ(1-cos[(C(Chord)/2)/R(Radius)])Rise (B) = R (Radius) (1-cos [(C (Chord) / 2) / R (Radius)

즉, [수학식 1]은 상술한 바와 같이, 모서리의 라운딩된 부분에 대한 높이차(B)을 나타낸 것이며, 반지름(R, radius)과 거리(C, chord)에 의해 결정될 수 있다.In other words, Equation (1) shows the height difference (B) with respect to the rounded portion of the corner as described above, and can be determined by the radius (R) and the distance (C, chord).

발광구조물(120)는 제1 반도체층(122), 제2 반도체층(124) 및 제1, 2 반도체층(122, 124) 사이에 배치된 활성층(126)을 포함할 수 있다.The light emitting structure 120 may include an active layer 126 disposed between the first semiconductor layer 122, the second semiconductor layer 124, and the first and second semiconductor layers 122 and 124.

즉, 제1 반도체층(122)은 버퍼층(112) 상에 배치되며, NH3, TMGa, Si와 같은 제1 도펀트를 포함한 사일렌(SiH4) 가스를 공급하여 형성할 수 있으며, 다층막으로 형성할 수 있고, 클래드층이 더 포함될 수 있다.That is, the first semiconductor layer 122 may be formed on the buffer layer 112 by supplying SiH 4 gas containing a first dopant such as NH 3 , TMGa, or Si, And a cladding layer can be further included.

제1 반도체층(122)은 n형 반도체층을 포함하여 형성되어 활성층(126)에 전자를 제공할 수 있으며, 제1 반도체층(122)은 제1 도전형 반도체층으로만 형성되거나, 제1 도전형 반도체층 아래에 언도프트 반도체층(미도시)을 더 포함할 수 있으나, 이에 대해 한정을 두지 않는다.The first semiconductor layer 122 may include an n-type semiconductor layer to provide electrons to the active layer 126. The first semiconductor layer 122 may be formed only of the first conductive semiconductor layer, (Not shown) under the conductive type semiconductor layer, but the present invention is not limited thereto.

제1 도전형 반도체층은 예를 들어, n형 반도체층은 InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있으며, Si, Ge, Sn 등의 n형 도펀트가 도핑될 수 있다.For example, the first conductivity type semiconductor layer may have a composition represented by a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + For example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN or the like and may be doped with an n-type dopant such as Si, Ge or Sn.

언도프트 반도체층은 제1 도전형 반도체층의 결정성 향상을 위해 형성되는 층으로, n형 도펀트가 도핑되지 않아 제1 도전형 반도체층에 비해 낮은 전기전도성을 갖는 것을 제외하고는 제1 도전형 반도체층과 같다.The un-doped semiconductor layer is a layer formed for improving the crystallinity of the first conductivity type semiconductor layer. The first conductivity type semiconductor layer is a layer of the first conductivity type except for the n-type dopant is not doped and has lower electrical conductivity than the first conductivity type semiconductor layer. Lt; / RTI >

따라서, 제1 반도체층(122)에는 활성층(126) 및 제2 반도체층(124)이 순차적으로 적층될 수 있다.Accordingly, the active layer 126 and the second semiconductor layer 124 may be sequentially stacked on the first semiconductor layer 122.

먼저, 활성층(126)은 전자와 정공이 재결합되는 영역으로, 전자와 정공이 재결합함에 따라 낮은 에너지 준위로 천이하며, 그에 상응하는 파장을 가지는 빛을 생성할 수 있다.First, the active layer 126 is a region where electrons and holes are recombined. As the electrons and the holes are recombined, the active layer 126 transitions to a low energy level and can generate light having a wavelength corresponding thereto.

활성층(126)은 예를 들어, InxAlyGa1 -x- yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 가지는 반도체 재료를 포함하여 형성할 수 있으며, 단일 양자 우물 구조 또는 다중 양자 우물 구조(MQW : Multi Quantum Well)로 형성될 수 있다. 우물층은 장벽층의 밴드갭보다 낮은 밴드갭을 갖는 물질로 형성될 수 있다. 또한, 양자선(Quantum wire)구조 또는 양자점(Quantum dot)구조를 포함할 수도 있다.The active layer 126 includes a semiconductor material having a composition formula of In x Al y Ga 1 -x- y N (0? X? 1, 0? Y? 1, 0? X + y? 1) And may be formed of a single quantum well structure or a multi quantum well (MQW) structure. The well layer may be formed of a material having a band gap lower than the band gap of the barrier layer. It may also include a quantum wire structure or a quantum dot structure.

제2 반도체층(124)은 상술한 활성층(126)에 정공을 주입하며, 제2 반도체층(124)은 예를 들어, p형 반도체층으로 구현될 수 있는데, p형 반도체층은 InxAlyGa1-x-yN (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x+y≤1)의 조성식을 갖는 반도체 재료, 예를 들어 GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN 등에서 선택될 수 있으며, Mg, Zn, Ca, Sr, Ba 등의 p형 도펀트가 도핑될 수 있다.The second semiconductor layer 124 may be formed of, for example, a p-type semiconductor layer. The p-type semiconductor layer may be formed of In x Al y Ga 1-xy N semiconductor material having a composition formula of (0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤x + y≤1 ), for example, GaN, AlN, AlGaN, InGaN, InN, InAlGaN, AlInN And a p-type dopant such as Mg, Zn, Ca, Sr, or Ba can be doped.

상술한 제1 반도체층(122), 활성층(126) 및 제2 반도체층(124)은 예를 들어, 유기금속 화학 증착법(MOCVD; Metal Organic Chemical Vapor Deposition), 화학 증착법(CVD; Chemical Vapor Deposition), 플라즈마 화학 증착법(PECVD; Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition), 분자선 성장법(MBE; Molecular Beam Epitaxy), 수소화물 기상 성장법(HVPE; Hydride Vapor Phase Epitaxy) 등의 방법을 이용하여 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first semiconductor layer 122, the active layer 126, and the second semiconductor layer 124 may be formed by, for example, metal organic chemical vapor deposition (MOCVD), chemical vapor deposition (CVD) A plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD), a molecular beam epitaxy (MBE), and a hydride vapor phase epitaxy (HVPE) It is not limited thereto.

또한, 제2 반도체층(124) 상에는 n형 또는 p형 반도체층을 포함하는 제3 도전형 반도체층(미도시)이 형성될 수도 있으며 이에 따라, 발광소자(100)는 np, pn, npn, pnp 접합 구조 중 적어도 어느 하나를 가질 수 있다.A third conductive semiconductor layer (not shown) including an n-type or p-type semiconductor layer may be formed on the second semiconductor layer 124. The light emitting element 100 may include np, pn, npn, and a pnp junction structure.

제1 반도체층(122) 및 제2 반도체층(124) 내의 도전형 도펀트의 도핑 농도는 균일 또는 불균일하게 형성될 수 있다. 즉, 복수의 반도체층의 구조는 다양하게 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The doping concentration of the conductive dopant in the first semiconductor layer 122 and the second semiconductor layer 124 can be uniformly or nonuniformly formed. That is, the structure of the plurality of semiconductor layers may be variously formed, but the structure is not limited thereto.

또한, 상술한 바와는 달리 제1 반도체층(122)이 p형 반도체층을 포함하고, 제2 반도체층(124)이 n형 반도체층을 포함할 수도 있다. 즉, 제1 반도체층(122)과 제2 반도체층(124)은 활성층(126)을 중심으로 서로 형성되는 위치가 바뀌어도 무방하나, 하기에서는 제1 반도체층(122)이 n형 반도체층을 포함하여 형성되고 기판(110) 상에 적층되는 것으로 기술한다.In addition, unlike the above, the first semiconductor layer 122 may include a p-type semiconductor layer, and the second semiconductor layer 124 may include an n-type semiconductor layer. That is, the positions of the first semiconductor layer 122 and the second semiconductor layer 124 formed around the active layer 126 may be changed. However, in the following description, the first semiconductor layer 122 includes the n- And are stacked on the substrate 110. In this embodiment,

활성층(126)과 제2 반도체층(124) 및 제1 반도체층(122)은 일부가 메사 식각되어 제1 반도체층(122)의 일부가 노출되고, 노출된 제1 반도체층(122) 상면 일측에는 티탄(Ti) 등으로 이루어지는 제1 전극(130)이 형성될 수 있다.A part of the active layer 126, the second semiconductor layer 124 and the first semiconductor layer 122 is mesa-etched to expose a part of the first semiconductor layer 122, and the exposed part of the first semiconductor layer 122 A first electrode 130 made of titanium (Ti) or the like may be formed.

또한, 제2 반도체층(124) 상에는 투광성전극층(150)이 형성될 수 있으며, 투광성전극층(150)의 외측 일면에는 니켈(Ni) 등으로 이루어진 제2 전극(140)이 형성될 수 있다.The transmissive electrode layer 150 may be formed on the second semiconductor layer 124 and the second electrode 140 may be formed on the outer surface of the transmissive electrode layer 150 such as nickel (Ni).

투광성 전극층(150)은 ITO, IZO(In-ZnO), GZO(Ga-ZnO), AZO(Al-ZnO), AGZO(Al-Ga ZnO), IGZO(In-Ga ZnO), IrOx, RuOx, RuOx/ITO, Ni/IrOx/Au 및 Ni/IrOx/Au/ITO 중 적어도 하나를 포함하여 형성될 수 있으며, 제2 반도체층(124)의 외측 일면 전체 또는 일부에 형성됨으로써, 전류군집현상을 방지할 수 있다.The transparent electrode layer 150 may be formed of ITO, IZO (In-ZnO), GZO (Ga-ZnO), AZO (Al-ZnO), AGZO / ITO, Ni / IrOx / Au, and Ni / IrOx / Au / ITO, and may be formed on the entire outer surface or a part of the outer side of the second semiconductor layer 124 to prevent current crowding .

투광성 전극층(150)은 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 최상위의 꼭지점에 대응하는 위치에 홀(152)이 형성될 수 있다. The light transmitting electrode layer 150 may be formed with holes 152 at positions corresponding to vertexes of the concave-convex patterns z_1 to z_n.

즉, 홀(152)의 하부에는 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 최상위의 꼭지점에 의해 수직방향으로 상기 누설 경로가 형성됨에 따라, 제2 전극(140)으로부터 공급되는 전류가 투광성 전극층(150)으로 확산되어 제2 반도체층(124)으로 공급하는 경우, 상기 누설 경로에 상기 전류가 집중되지 않도록 할 수 있다.That is, since the leakage paths are formed in the vertical direction by the uppermost vertex of the concave-convex patterns z_1 to z_n in the lower part of the hole 152, the current supplied from the second electrode 140 is applied to the transparent electrode layer 150 It is possible to prevent the current from being concentrated in the leakage path when it is diffused and supplied to the second semiconductor layer 124.

실시 예에 나타낸 발광소자(20)는 수평형 타입의 발광소자를 나타낸 것이며, 수직형 타입의 발광소자 중 와이어 본딩이 가능한 발광소자도 사용할 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.The light emitting device 20 shown in the embodiment shows a horizontal type light emitting device, and a vertical type light emitting device capable of wire bonding can also be used, but is not limited thereto.

도 2는 도 1에 나타낸 발광소자의 전류이동을 나타내는 동작도이고, 도 3은 도 2에 나타낸 기판 및 투광성 전극층에 대한 실시 예를 나타내는 사시도이다. FIG. 2 is an operational view showing the current movement of the light emitting device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view showing an embodiment of the substrate and the light transmitting electrode layer shown in FIG.

도 2 및 도 3을 참조하면, 발광소자(100)는 제2 전극(140)으로부터 공급되는 전류(i)가 투광성 전극층(150)에 형성된 복수의 홀(152)에 의해 확산되어 제2 반도체층(124)로 공급된다.2 and 3, a current (i) supplied from the second electrode 140 is diffused by a plurality of holes 152 formed in the light-transmitting electrode layer 150, (124).

이때, 기판(110) 상에 형성된 요철패턴(z_1 ~ z_n)의 최상위의 꼭지점은 발광구조물(120)의 최상층인 제2 반도체층(124)까지 누설경로(i_d)를 생성할 수 있다.At this time, the uppermost vertex of the concave-convex patterns z_1 to z_n formed on the substrate 110 can generate the leakage path i_d to the second semiconductor layer 124 which is the uppermost layer of the light emitting structure 120.

여기서, 요철패턴(z_1 ~ z_n)의 최상위의 꼭지점은 홀(152)과 대응되도록 배치됨에 따라 투광성 전극층(150)에 의해 확산된 전류(i)가 누설경로(i_d)를 통하여 기판(110)으로 누설되는 않게 된다.The vertexes of the concave-convex patterns z_1 to z_n correspond to the holes 152 so that the current i diffused by the translucent electrode layer 150 flows through the leakage path i_d to the substrate 110 It will not leak.

또한, 제2 반도체층(122)은 전류(i)가 공급되더라고 전자의 확산 이동도가 낮으므로, 누설경로(i_d)에 의한 누설이 발생되지 않는다.Also, since the diffusion mobility of electrons is low in the second semiconductor layer 122 even if the current (i) is supplied, leakage due to the leakage path i_d does not occur.

여기서, 도 3은 기판(110) 및 투광성 전극층(150)을 나타낸 것이며, 기판(110)과 투광성 전극층(150) 사이에 발광구조물(120)이 배치되며, 도 3에서는 발광구조물(120)을 생략한다.3 illustrates a substrate 110 and a light transmitting electrode layer 150. A light emitting structure 120 is disposed between the substrate 110 and the light transmitting electrode layer 150. In FIG. 3, the light emitting structure 120 is omitted do.

도 3에 나타낸 바와 같이, 기판(110)은 투광성 전극층(150)에 형성된 복수의 홀(152)에 대응하는 위치에 요철패턴(z_1 ~ z_n)이 형성된다.As shown in FIG. 3, the substrate 110 has concavo-convex patterns z_1 to z_n at positions corresponding to a plurality of holes 152 formed in the translucent electrode layer 150. [

이때, 도 1에 나타낸 바와 같이, 홀(152)은 요철패턴(z_1 ~ z_n)의 최상위의 꼭지점은 홀(152)의 중앙에 배치되도록 함으로써, 발광소자(100) 성장시 생성되는 누설 경로에 의해 제2 전극(140)으로부터 공급되는 전류가 상기 누설 경로로 공급되는 것을 방지할 수 있다.1, the uppermost vertex of the concavo-convex patterns z_1 to z_n is arranged at the center of the hole 152, so that the hole 152 is formed by the leakage path generated upon growth of the light emitting device 100 It is possible to prevent a current supplied from the second electrode 140 from being supplied to the leakage path.

여기서, 요철패턴(z_1 ~ z_n)은 하부 형상이 원형 및 다각형으로 형성될 수 있으며, 도 3에서는 원형을 갖는 것으로 설명하나 이에 한정을 두지 않는다.Here, the concavo-convex patterns z_1 to z_n may be formed in a circular shape and a polygonal shape in the bottom shape, and have a circular shape in FIG. 3, but are not limited thereto.

또한, 복수의 홀(152)의 형상은 원기둥 형상인 것으로 나타내었으나, 다각형 기둥 형상으로 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.In addition, although the shape of the plurality of holes 152 is shown as a cylindrical shape, it may be formed in a polygonal columnar shape, but is not limited thereto.

여기서, 투광성 전극층(150)은 제1 전극(130)과 제1 반도체층(122) 사이에 배치될 수 있으머, 복수의 홀(152)이 형성되거나, 격자 패턴이 형성될 수 있으며, 복수의 전극 라인과 상기 복수의 전극 라인을 연결하는 연결 전극 라인이 형성될 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.Here, the light-transmitting electrode layer 150 may be disposed between the first electrode 130 and the first semiconductor layer 122, may have a plurality of holes 152, may have a lattice pattern, An electrode line and a connection electrode line connecting the plurality of electrode lines may be formed, but the present invention is not limited thereto.

이때, 상기 복수의 전극 라인은 스트라이프 구조로 형성되며, 상기 연결 전극 라인은 상기 복수의 전극 라인 사이를 서로 전기적으로 연결할 수 있으며, 이에 한정을 두지 않는다.At this time, the plurality of electrode lines are formed in a stripe structure, and the connection electrode line may electrically connect the plurality of electrode lines to each other, but is not limited thereto.

또한, 투광성 전극층(152)은 스트라이프 구조로만 이루어지는 경우, 제2 전극(140)의 하부에만 배치될 수 있을 것이다.The transparent electrode layer 152 may be disposed only on the lower portion of the second electrode 140 when the transparent electrode layer 152 has only a stripe structure.

도 4는 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 발광소자 패키지의 절단면을 나타낸 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a light emitting device package including a light emitting device according to an embodiment.

도 4를 참조하면, 발광소자 패키지(200)는 캐비티가 형성된 몸체(210), 몸체(210)의 바닥면에 실장된 발광소자(220) 및 상기 캐비티에 충진되는 수지물(230)을 포함할 수 있고, 수지물(230)은 형광체(240)를 포함할 수 있다.4, the light emitting device package 200 includes a body 210 having a cavity formed therein, a light emitting device 220 mounted on a bottom surface of the body 210, and a resin material 230 filled in the cavity 210 And the resin material 230 may include the fluorescent material 240.

몸체(210)는 폴리프탈아미드(PPA:Polyphthalamide)와 같은 수지 재질, 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 알루미늄 나이트라이드(AlN), 액정폴리머(PSG, photo sensitive glass), 폴리아미드9T(PA9T), 신지오택틱폴리스티렌(SPS), 금속 재질, 사파이어(Al2O3), 베릴륨 옥사이드(BeO), 인쇄회로기판(PCB, Printed Circuit Board), 세라믹 중 적어도 하나로 형성될 수 있다. 몸체(210)는 사출 성형, 에칭 공정 등에 의해 형성될 수 있으나 이에 대해 한정하지는 않는다.The body 210 may be made of a resin material such as polyphthalamide (PPA), silicon (Si), aluminum (Al), aluminum nitride (AlN), liquid crystal polymer (PSG), polyamide 9T (SPS), a metal material, sapphire (Al2O3), beryllium oxide (BeO), a printed circuit board (PCB), and ceramics. The body 210 may be formed by injection molding, etching, or the like, but is not limited thereto.

몸체(210)의 내측면은 경사면이 형성될 수 있다. 이러한 경사면의 각도에 따라 발광소자(220)에서 방출되는 광의 반사각이 달라질 수 있으며, 이에 따라 외부로 방출되는 광의 지향각을 조절할 수 있다. The inner surface of the body 210 may be formed with an inclined surface. The reflection angle of the light emitted from the light emitting device 220 can be changed according to the angle of the inclined surface, thereby controlling the directivity angle of the light emitted to the outside.

몸체(210)에 형성되는 캐비티를 위에서 바라본 형상은 원형, 사각형, 다각형, 타원형 등의 형상일 수 있으며, 특히 모서리가 곡선인 형상일 수도 있으나 이에 한정되는 것은 아니다.The shape of the cavity formed in the body 210 may be circular, rectangular, polygonal, elliptical, or the like, and may be a curved shape, but is not limited thereto.

발광소자(220)는 몸체(210)의 바닥면에 실장되며, 일 예로 발광소자(220)는 도 1에 나타내고 설명한 발광소자일 수 있다. 발광소자(220)는 예를 들어, 적색, 녹색, 청색, 백색 등의 빛을 방출하는 유색 발광 소자 또는 자외선을 방출하는 UV(Ultra Violet) 발광 소자일 수 있으나, 이에 대해 한정하지는 않는다. 또한, 발광 소자는 한 개 이상 실장될 수 있다.The light emitting device 220 is mounted on the bottom surface of the body 210. For example, the light emitting device 220 may be the light emitting device shown in FIG. The light emitting device 220 may be, for example, a colored light emitting device that emits light such as red, green, blue, or white, or a UV (Ultra Violet) light emitting device that emits ultraviolet light. In addition, one or more light emitting elements can be mounted.

한편, 몸체(210)는 제1 전극(252) 및 제2 전극(254)을 포함할 수 있다. 제1 전극(252) 및 제2 전극(254)은 발광소자(220)와 전기적으로 연결되어 발광소자(220)에 전원을 공급할 수 있다.Meanwhile, the body 210 may include a first electrode 252 and a second electrode 254. The first electrode 252 and the second electrode 254 may be electrically connected to the light emitting device 220 to supply power to the light emitting device 220.

제1 전극(252) 및 제2 전극(254)은 서로 전기적으로 분리되며, 발광소자(220)에서 발생된 빛을 반사시켜 광 효율을 증가시킬 수 있고, 또한 발광소자(220)에서 발생된 열을 외부로 배출시킬 수 있다.The first electrode 252 and the second electrode 254 are electrically isolated from each other and can reflect light generated from the light emitting device 220 to increase the light efficiency, To the outside.

이러한 제1 전극(252) 및 제2 전극(254)은 금속 재질, 예를 들어, 티타늄(Ti), 구리(Cu), 니켈(Ni), 금(Au), 크롬(Cr), 탄탈늄(Ta), 백금(Pt), 주석(Sn), 은(Ag), 인(P), 알루미늄(Al), 인듐(In), 팔라듐(Pd), 코발트(Co), 실리콘(Si), 게르마늄(Ge), 하프늄(Hf), 루테늄(Ru), 철(Fe) 중에서 하나 이상의 물질 또는 합금을 포함할 수 있다. 또한, 제1 전극(252) 및 제2 전극(254)은 단층 또는 다층 구조를 가지도록 형성될 수 있으며, 이에 대해 한정하지는 않는다.The first electrode 252 and the second electrode 254 may be formed of a metal material such as titanium (Ti), copper (Cu), nickel (Ni), gold (Au), chromium (Cr), tantalum Ta, Pt, Sn, Ag, P, Al, Pd, Co, Si, Ge, Ge), hafnium (Hf), ruthenium (Ru), and iron (Fe). The first electrode 252 and the second electrode 254 may have a single-layer structure or a multi-layer structure, but the present invention is not limited thereto.

수지물(230)은 캐비티에 충진될 수 있으며, 형광체(240)를 포함할 수 있다. 수지물(230)은 투명한 실리콘, 에폭시, 및 기타 수지 재질로 형성될 수 있으며, 캐비티 내에 충진한 후, 이를 자외선 또는 열 경화하는 방식으로 형성될 수 있다. The resin material 230 may be filled in the cavity and may include the fluorescent material 240. The resin material 230 may be formed of transparent silicone, epoxy, or other resin material, and may be filled in the cavity and then formed in a manner of ultraviolet ray or thermal curing.

형광체(240)는 발광소자(220)에서 방출되는 광의 파장에 따라 종류가 선택되어 발광소자패키지(200)가 백색광을 구현하도록 할 수 있다.The phosphor 240 may be selected according to the wavelength of the light emitted from the light emitting device 220 so that the light emitting device package 200 can realize white light.

수지물(230)에 포함되어 있는 형광체(240)는 발광소자(220)에서 방출되는 광의 파장에 따라 청색 발광 형광체, 청록색 발광 형광체, 녹색 발광 형광체, 황녹색 발광 형광체, 황색 발광 형광체, 황적색 발광 형광체, 오렌지색 발광 형광체, 및 적색 발광 형광체중 하나가 적용될 수 있다. The phosphor 240 included in the resin material 230 may be a blue light emitting phosphor, a blue light emitting phosphor, a green light emitting phosphor, a yellow light emitting phosphor, a yellow light emitting phosphor, , An orange light-emitting fluorescent substance, and a red light-emitting fluorescent substance may be applied.

즉, 형광체(240)는 발광소자(220)에서 방출되는 제1 빛을 가지는 광에 의해 여기 되어 제2 빛을 생성할 수 있다. 예를 들어, 발광소자(220)가 청색 발광 다이오드이고 형광체(240)가 황색 형광체인 경우, 황색 형광체는 청색 빛에 의해 여기되어 황색 빛을 방출할 수 있으며, 청색 발광 다이오드에서 발생한 청색 빛 및 청색 빛에 의해 여기 되어 발생한 황색 빛이 혼색됨에 따라 발광소자 패키지(200)는 백색 빛을 제공할 수 있다. That is, the phosphor 240 is excited by the light having the first light emitted from the light emitting device 220 to generate the second light. For example, when the light emitting element 220 is a blue light emitting diode and the phosphor 240 is a yellow phosphor, the yellow phosphor may be excited by blue light to emit yellow light, and blue light emitted from the blue light emitting diode and blue light The light emitting device package 200 can provide white light as yellow light generated by excitation by light is mixed.

이와 유사하게, 발광소자(220)가 녹색 발광 다이오드인 경우는 magenta 형광체 또는 청색과 적색의 형광체(240)를 혼용하는 경우, 발광소자(220)가 적색 발광 다이오드인 경우는 Cyan형광체 또는 청색과 녹색 형광체를 혼용하는 경우를 예로 들 수 있다.Similarly, when the light emitting element 220 is a green light emitting diode, the magenta phosphor or the blue and red phosphors 240 are mixed. When the light emitting element 220 is a red light emitting diode, A case where a phosphor is used in combination is exemplified.

이러한 형광체(240)는 YAG계, TAG계, 황화물계, 실리케이트계, 알루미네이트계, 질화물계, 카바이드계, 니트리도실리케이트계, 붕산염계, 불화물계, 인산염계 등의 공지된 것일 수 있다.The fluorescent material 240 may be a known material such as YAG, TAG, sulfide, silicate, aluminate, nitride, carbide, nitridosilicate, borate, fluoride or phosphate.

도 5는 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 조명 장치를 나타낸 사시도이며, 도 6은 도 5의 조명장치의 A-A' 단면을 나타낸 단면도이다.FIG. 5 is a perspective view showing a lighting device including a light emitting device according to an embodiment, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of the lighting device of FIG.

이하에서는, 실시 예에 따른 조명장치(300)의 형상을 보다 상세히 설명하기 위해, 조명장치(300)의 길이방향(Z)과, 길이방향(Z)과 수직인 수평방향(Y), 그리고 길이방향(Z) 및 수평방향(Y)과 수직인 높이방향(X)으로 설명하기로 한다.In order to describe the shape of the illumination device 300 according to the embodiment in detail, the longitudinal direction Z of the illumination device 300, the horizontal direction Y perpendicular to the longitudinal direction Z, The direction Z and the horizontal direction Y and the vertical direction X perpendicular to the horizontal direction Y will be described.

즉, 도 6은 도 5의 조명장치(300)를 길이방향(Z)과 높이방향(X)의 면으로 자르고, 수평방향(Y)으로 바라본 단면도이다.6 is a cross-sectional view of the lighting apparatus 300 of FIG. 5 cut in the longitudinal direction Z and the height direction X and viewed in the horizontal direction Y. FIG.

도 5 및 도 6을 참조하면, 조명장치(300)는 몸체(310), 몸체(310)와 체결되는 커버(330) 및 몸체(310)의 양단에 위치하는 마감캡(350)을 포함할 수 있다.5 and 6, the lighting device 300 may include a body 310, a cover 330 coupled to the body 310, and a finishing cap 350 positioned at opposite ends of the body 310 have.

몸체(310)의 하부면에는 발광소자모듈(340)이 체결되며, 몸체(310)는 발광소자모듈(340)에서 발생된 열이 몸체(310)의 상부면을 통해 외부로 방출할 수 있도록 전도성 및 열발산 효과가 우수한 금속재질로 형성될 수 있다.The light emitting device module 340 is coupled to the lower surface of the body 310. The body 310 is electrically conductive so that heat generated from the light emitting device module 340 can be emitted to the outside through the upper surface of the body 310. [ And a metal material having an excellent heat dissipation effect.

발광소자모듈(340)은 PCB기판(342)과 발광소자(미도시)를 포함하는 발광소자패키지(344)를 포함하며, 발광소자패키지(344)는 PCB기판(342) 상에 다색, 다열로 실장될 수 있어 어레이를 이룰 수 있고, 동일한 간격으로 실장되거나 또는 필요에 따라 다양한 이격 거리를 가지고 실장되어 밝기 등을 조절할 수 있다. 이러한 PCB기판(342)으로는 MCPCB(Metal Core PCB) 또는 FR4 재질의 PCB 등을 사용할 수 있다.The light emitting device module 340 includes a light emitting device package 344 including a PCB substrate 342 and a light emitting device (not shown), and the light emitting device package 344 is mounted on the PCB substrate 342 in a multi- They can be mounted to form an array, can be mounted at equal intervals, or can be mounted with various spacing distances as needed to adjust brightness and the like. As the PCB substrate 342, MCPCB (Metal Core PCB) or FR4 material PCB can be used.

커버(330)는 몸체(310)의 하부면을 감싸도록 원형의 형태로 형성될 수 있으나, 이에 한정되지 않음은 물론이다.The cover 330 may be formed in a circular shape so as to surround the lower surface of the body 310, but is not limited thereto.

커버(330)는 내부의 발광소자모듈(340)을 외부의 이물질 등으로부터 보호한다. 또한, 커버(330)는 발광소자패키지(344)에서 발생한 광의 눈부심을 방지하고, 외부로 광을 균일하게 방출할 수 있도록 확산입자를 포함할 수 있으며, 또한 커버(330)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 프리즘 패턴 등이 형성될 수 있다. 또한 커버(330)의 내면 및 외면 중 적어도 어느 한 면에는 형광체가 도포될 수도 있다. The cover 330 protects the internal light emitting element module 340 from foreign substances or the like. In addition, the cover 330 may include diffusion particles to prevent glare of light generated in the light emitting device package 344 and uniformly emit light to the outside, and may include at least one of an inner surface and an outer surface of the cover 330 A prism pattern or the like may be formed on one side. Further, the phosphor may be coated on at least one of the inner surface and the outer surface of the cover 330.

한편, 발광소자패키지(344)에서 발생한 광은 커버(330)를 통해 외부로 방출되므로 커버(330)는 광투과율이 우수하여야하며, 발광소자패키지(344)에서 발생한 열에 견딜 수 있도록 충분한 내열성을 구비하고 있어야 하는바, 커버(330)는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(Polyethylen Terephthalate; PET), 폴리카보네이트(Polycarbonate; PC) 또는 폴리메틸 메타크릴레이트(Polymethyl Methacrylate; PMMA) 등을 포함하는 재질로 형성되는 것이 바람직하다.Meanwhile, since the light generated in the light emitting device package 344 is emitted to the outside through the cover 330, the cover 330 should have a high light transmittance and sufficient heat resistance to withstand the heat generated in the light emitting device package 344 The cover 330 is preferably formed of a material including polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), or polymethyl methacrylate (PMMA) .

마감캡(350)은 몸체(310)의 양단에 위치하며 전원장치(미도시)를 밀폐하는 용도로 사용될 수 있다. 또한 마감캡(350)에는 전원핀(352)이 형성되어 있어, 실시예에 따른 조명장치(300)는 기존의 형광등을 제거한 단자에 별도의 장치 없이 곧바로 사용할 수 있게 된다.The finishing cap 350 is located at both ends of the body 310 and can be used for sealing the power supply unit (not shown). In addition, the finishing cap 350 is provided with the power pin 352, so that the lighting device 300 according to the embodiment can be used immediately without a separate device on the terminal from which the conventional fluorescent lamp is removed.

도 7은 제1 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다.7 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including the light emitting device according to the first embodiment.

도 7은 에지-라이트 방식으로, 액정표시장치(400)는 액정표시패널(410)과 액정표시패널(410)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(470)을 포함할 수 있다.7, the liquid crystal display device 400 may include a liquid crystal display panel 410 and a backlight unit 470 for providing light to the liquid crystal display panel 410 in an edge-light manner.

액정표시패널(410)은 백라이트 유닛(470)으로부터 제공되는 광을 이용하여 화상을 표시할 수 있다. 액정표시패널(410)은 액정을 사이에 두고 서로 대향하는 컬러 필터 기판(412) 및 박막 트랜지스터 기판(414)을 포함할 수 있다.The liquid crystal display panel 410 can display an image using the light provided from the backlight unit 470. The liquid crystal display panel 410 may include a color filter substrate 412 and a thin film transistor substrate 414 facing each other with a liquid crystal therebetween.

컬러 필터 기판(412)은 액정표시패널(410)을 통해 디스플레이되는 화상의 색을 구현할 수 있다.The color filter substrate 412 can realize the color of the image to be displayed through the liquid crystal display panel 410.

박막 트랜지스터 기판(414)은 구동 필름(417)을 통해 다수의 회로부품이 실장되는 인쇄회로기판(418)과 전기적으로 접속되어 있다. 박막 트랜지스터 기판(414)은 인쇄회로기판(418)으로부터 제공되는 구동 신호에 응답하여 인쇄회로기판(418)으로부터 제공되는 구동 전압을 액정에 인가할 수 있다.The thin film transistor substrate 414 is electrically connected to a printed circuit board 418 on which a plurality of circuit components are mounted through a driving film 417. The thin film transistor substrate 414 may apply a driving voltage provided from the printed circuit board 418 to the liquid crystal in response to a driving signal provided from the printed circuit board 418.

박막 트랜지스터 기판(414)은 유리나 플라스틱 등과 같은 투명한 재질의 다른 기판상에 박막으로 형성된 박막 트랜지스터 및 화소 전극을 포함할 수 있다. The thin film transistor substrate 414 may include a thin film transistor and a pixel electrode formed as a thin film on another substrate of a transparent material such as glass or plastic.

백라이트 유닛(470)은 빛을 출력하는 발광소자모듈(420), 발광소자모듈(420)로부터 제공되는 빛을 면광원 형태로 변경시켜 액정표시패널(410)로 제공하는 도광판(430), 도광판(430)으로부터 제공된 빛의 휘도 분포를 균일하게 하고 수직 입사성을 향상시키는 다수의 필름(450, 466, 464) 및 도광판(430)의 후방으로 방출되는 빛을 도광판(430)으로 반사시키는 반사 시트(440)로 구성된다.The backlight unit 470 includes a light emitting device module 420 that outputs light, a light guide plate 430 that changes the light provided from the light emitting device module 420 into a surface light source to provide the light to the liquid crystal display panel 410, A plurality of films 450, 466 and 464 for uniforming the luminance distribution of the light provided from the light guide plate 430 and improving the vertical incidence property and a reflective sheet 430 for reflecting the light emitted to the rear of the light guide plate 430 to the light guide plate 430 440).

발광소자모듈(420)은 복수의 발광소자패키지(424)와 복수의 발광소자패키지(424)가 실장되어 어레이를 이룰 수 있도록 PCB기판(322)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 420 may include a PCB substrate 322 for mounting a plurality of light emitting device packages 424 and a plurality of light emitting device packages 424 to form an array.

한편, 발광소자패키지(424)에 포함되는 발광소자는 도 1에서 상술한바 생략한다.Meanwhile, the light emitting device included in the light emitting device package 424 is omitted from FIG. 1.

한편, 백라이트유닛(470)은 도광판(430)으로부터 입사되는 빛을 액정 표시 패널(410) 방향으로 확산시키는 확산필름(466)과, 확산된 빛을 집광하여 수직 입사성을 향상시키는 프리즘필름(450)으로 구성될 수 있으며, 프리즘필름(450)를 보호하기 위한 보호필름(464)을 포함할 수 있다.The backlight unit 470 includes a diffusion film 466 for diffusing light incident from the light guide plate 430 toward the liquid crystal display panel 410 and a prism film 450 for enhancing vertical incidence by condensing the diffused light. And may include a protective film 464 for protecting the prism film 450.

도 8은 제2 실시 예에 따른 발광소자를 포함하는 액정표시장치의 분해 사시도이다. 8 is an exploded perspective view of a liquid crystal display device including a light emitting device according to the second embodiment.

다만, 도 7에서 도시하고 설명한 부분에 대해서는 반복하여 상세히 설명하지 않는다.However, the parts shown and described in Fig. 7 are not repeatedly described in detail.

도 8은 직하 방식으로, 액정표시장치(500)는 액정표시패널(510)과 액정표시패널(510)로 빛을 제공하기 위한 백라이트 유닛(570)을 포함할 수 있다.8, the liquid crystal display device 500 may include a liquid crystal display panel 510 and a backlight unit 570 for providing light to the liquid crystal display panel 510 in a direct-down manner.

액정표시패널(510)은 도 7에서 설명한 바와 동일하므로, 상세한 설명은 생략한다.Since the liquid crystal display panel 510 is the same as that described with reference to FIG. 7, detailed description is omitted.

백라이트 유닛(570)은 복수의 발광소자모듈(523), 반사시트(524), 발광소자모듈(523)과 반사시트(524)가 수납되는 하부 섀시(530), 발광소자모듈(523)의 상부에 배치되는 확산판(540) 및 다수의 광학필름(560)을 포함할 수 있다.The backlight unit 570 includes a plurality of light emitting element modules 523, a reflective sheet 524, a lower chassis 530 housing the light emitting element module 523 and the reflective sheet 524, A plurality of optical films 560, and a diffuser plate 540 disposed on the diffuser plate 540. [

발광소자모듈(523) 복수의 발광소자패키지(522)와 복수의 발광소자패키지(522)가 실장되어 어레이를 이룰 수 있도록 PCB기판(521)을 포함할 수 있다.The light emitting device module 523 may include a PCB substrate 521 to which a plurality of light emitting device packages 522 and a plurality of light emitting device packages 522 are mounted to form an array.

반사 시트(524)는 발광소자패키지(522)에서 발생한 빛을 액정표시패널(510)이 위치한 방향으로 반사시켜 빛의 이용 효율을 향상시킨다.The reflection sheet 524 reflects light generated from the light emitting device package 522 in a direction in which the liquid crystal display panel 510 is positioned, thereby improving light utilization efficiency.

한편, 발광소자모듈(523)에서 발생한 빛은 확산판(540)에 입사하며, 확산판(540)의 상부에는 광학 필름(560)이 배치된다. 광학 필름(560)은 확산 필름(566), 프리즘필름(550) 및 보호필름(564)를 포함하여 구성될 수 있다.The light generated from the light emitting device module 523 is incident on the diffusion plate 540 and the optical film 560 is disposed on the diffusion plate 540. The optical film 560 may include a diffusion film 566, a prism film 550, and a protective film 564.

이상에서 실시예들에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의해 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.The features, structures, effects and the like described in the embodiments are included in at least one embodiment of the present invention and are not necessarily limited to only one embodiment. Furthermore, the features, structures, effects and the like illustrated in the embodiments can be combined and modified by other persons skilled in the art to which the embodiments belong. Therefore, it should be understood that the present invention is not limited to these combinations and modifications.

또한, 이상에서 실시예를 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부된 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, it is clearly understood that the same is by way of illustration and example only and is not to be taken by way of illustration, It will be appreciated that various modifications and applications are possible without departing from the scope of the present invention. For example, each component specifically shown in the embodiments can be modified and implemented. It is to be understood that all changes and modifications that come within the meaning and range of equivalency of the claims are therefore intended to be embraced therein.

Claims (8)

기판;
상기 기판 상에 순차적으로 배치된 제1 반도체층, 활성층 및 제2 반도체층을 포함하는 발광구조물;
상기 기판과 상기 제1 반도체층 사이에서 상기 기판과 상기 제1 반도체층에 접촉되게 배치되는 버퍼층;
상기 제1 반도체층은 일부 상면이 노출되며, 상기 제1 반도체층의 노출된 상기 일부 상면에 배치된 제1 전극;
상기 제1 전극과 상기 제1 반도체층 사이에 배치되며, 복수의 홀이 형성되거나 격자 패턴이 형성된 제1 투광성전극층;
상기 제2 반도체층과 접촉되게 상기 제2 반도체층 상에 배치되며, 원기둥 형상의 홀이 형성된 제2 투광성전극층; 및
상기 제2 투광성전극층의 일부 상면에 배치된 제2 전극;을 포함하고,
상기 기판의 윗면은 돌출되어 형성된 요철패턴을 포함하고,
상기 요철패턴은,
측면이 라운드져 있고, 윗면은 상기 측면이 만나 꼭지점을 이루고 있고,
상기 요철패턴의 라운딩된 측면의 높이는, 하기의 [수학식]에 의해 산출되는 발광소자;
[수학식] Rise(B)=R(Radius)ⅹ(1-cos[(C(Chord)/2)/R(Radius)])
(R; 라운딩된 원의 반지름, C; 라운딩된 측면의 길이, B; 라운딩된 측면의 높이).
Board;
A light emitting structure including a first semiconductor layer, an active layer, and a second semiconductor layer sequentially disposed on the substrate;
A buffer layer disposed between the substrate and the first semiconductor layer in contact with the substrate and the first semiconductor layer;
A first electrode disposed on the exposed upper surface of the first semiconductor layer;
A first transparent electrode layer disposed between the first electrode and the first semiconductor layer and having a plurality of holes or a lattice pattern;
A second transparent electrode layer disposed on the second semiconductor layer so as to be in contact with the second semiconductor layer and having a columnar hole; And
And a second electrode disposed on a part of the upper surface of the second transparent electrode layer,
Wherein the upper surface of the substrate includes a protruding and protruding pattern,
The concavo-
The side surface is rounded, the upper surface is the vertex of the side surface,
The height of the rounded side face of the concavo-convex pattern is calculated by the following formula:
Rise (B) = R (Radius) (1-cos [(C (Chord) / 2) / R (Radius)
(R is the radius of the rounded circle, C is the length of the rounded side, and B is the height of the rounded side).
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 원기둥 형상의 홀은 상기 요철패턴의 상기 꼭지점에 대응하는 위치에 배치되는 발광소자.
The method according to claim 1,
And the cylindrical hole is disposed at a position corresponding to the vertex of the concavo-convex pattern.
제 3 항에 있어서, 상기 원기둥 형상의 홀의 폭은,
상기 요철패턴의 폭보다 작은 발광소자.
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein the width of the columnar hole
And the width of the concave-convex pattern is smaller than the width of the concave-convex pattern
삭제delete 제 3 항에 있어서, 상기 원기둥 형상의 홀의 중앙에는,
상기 꼭지점이 배치된 발광소자.
4. The semiconductor device according to claim 3, wherein at the center of the columnar hole,
And the vertexes are disposed.
삭제delete 삭제delete
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