KR101807501B1 - A nitriding furnace - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 질화로에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 질소가스 및 공정가스가 열처리로 내부에서 용이하게 순환될 수 있는 질소 순환 냉각 방식의 질화로에 관한 것이다.The present invention relates to a nitriding furnace, and more particularly, to a nitriding furnace in which a nitrogen gas and a process gas can be easily circulated within a heat treatment furnace.
질화(nitriding)란, 활성화 질소를 강 중에 확산시켜 강 표면에 고경도 질화층을 얻는 표면처리 기술이다.Nitriding is a surface treatment technique in which activated nitrogen is diffused into a steel to obtain a hardened nitrided layer on a steel surface.
이러한 질화를 강에 행할 경우 내마모성, 내피로성, 고온 강도 및 내식성을 향상시키며 변태점 이하의 저온에서 처리가 가능하여 열변형이 적어 정밀 부품, 자동차 부품, 금형 등에 널리 사용되고 있다. When such nitriding is carried out in steel, it is widely used for precision parts, automobile parts, and molds because it can be treated at low temperature below the transformation point, improving wear resistance, fatigue resistance, high temperature strength and corrosion resistance.
또한, 질화는 코팅층의 밀착력을 향상시키며 하지층 경화에 우수한 성질을 보여 복합처리에 적용이 증대되고 있는 실정이다.In addition, nitriding improves the adhesion of the coating layer and is excellent in hardening of the undercoat layer, and thus application to the complex treatment is increasing.
한편, 질화는 침탄과 비교할 시에 적용 강종의 범위가 넓고, 처리온도 역시 침탄의 경우 850~950℃에서 이루어지나 질화는 460~600℃ 범위에서 이루어지며, 추가 열처리 및 후처리도 필요하지 않다.On the other hand, nitriding has a wide range of applied steel in comparison with carburizing, and the treatment temperature is also in the range of 850 to 950 ° C for carburizing, but in the range of 460 to 600 ° C for nitriding, and further heat treatment and post treatment are not necessary.
그리고 경화 깊이는 침탄의 경우 0.4~1.5mm로 깊으나, 질화는 0.01~0.03mm로 얇다는 특징이 있고, 내충격성(인성) 역시 침탄은 취약하나 질화는 보통이다.And the depth of hardening is 0.4 ~ 1.5mm deep in carburizing, but it is characterized by thinness of 0.01 ~ 0.03mm in nitriding. Impact resistance (toughness) is also poor in carburizing but nitriding is common.
특히 변형은 침탄이 큰 반면에 질화는 저온공정으로 인해 극소이며, 내식성은 침탄의 경우 높은 탄소 함유로 스트레스 코로이젼 크랙킹(stress corrosion cracking) 유발로 보통이지만, 저탄소강의 내식성 향상으로 우수하며, 내마모성 역시 침탄에 비해 우수하다.Particularly, while the deformation is largely carburized, the nitriding is very small due to the low-temperature process, and the corrosion resistance is the high carbon content in the case of carburizing, which is usually caused by stress corrosion cracking. However, the corrosion resistance is improved by improving the corrosion resistance of the low carbon steel, It is also better than carburizing.
질화는 크게 가스질화, 염욕질화, 이온질화로 나누어진다.Nitriding is largely divided into gas nitriding, salt bath nitriding, and ion nitriding.
상기 가스질화의 경우 높은 경도, 내마모성, 피로강도, 대용량 가능, 형상의 제약이 적은 장점이 있으나, 암모니아(독성가스) 사용제어의 어려움 및 장시간 소요, 전용 강종이 필요하다는 단점이 있다.The above-mentioned gas nitriding has advantages of high hardness, abrasion resistance, fatigue strength, large capacity, and restriction of shape, but it is disadvantageous in that it is difficult to control the use of ammonia (toxic gas), takes a long time, and requires exclusive steel.
상기 염욕질화는 단시간, 내소착성, 피로강도, 강종 제한이 없고 설비비적음, 어떤 형상도 적용이 가능한 장점이 있지만, 배수처리에서 CN-제거 대책, 환경오염과 백색층에 포러스(Porous) 층이 과잉한 문제, 반복 질화 시 소재 경도가 저하되는 문제점이 있다.The salt bathing is advantageous in that it can be applied to any shape in a short period of time, with no squeeze resistance, no fatigue strength, no restriction on the type of steel, and a low equipment cost. However, And there is a problem that the hardness of the material during the repeated nitriding is lowered.
상기 이온질화는 질화성 양호, 공정 제어 및 상 제어의 용이성, N2 가스를 사용하는 장점이 있지만, 제품(질화 대상물) 상호간 전계 영향, 온도 균일도 문제, 아크 발생, 미세 홀(hole)에 질화가 어려운 단점이 있다.Although the above nitriding is advantageous in that nitriding property, process control, easiness of phase control, and N 2 gas are used, there is a problem in that it is difficult to nitride the products (nitriding objects) There are disadvantages.
기존에도 제품을 질화 열처리로를 사용하여 질화를 행하고 있으나, 종래의 질화 열처리로는 질화열처리 전에 포트내에 잔존하는 공기를 외부로 쉽게 배출하지 못하면서 질화처리 대상물에 산화가 발생될 수 있는 문제점이 있다.Conventional nitriding heat treatment furnaces are used for nitriding products, but conventional nitriding heat treatment furnaces can not easily discharge the air remaining in the ports to the outside before nitriding heat treatment, thereby causing oxidation of the nitriding object.
또한, 포트 내에서 데워진 질소가 냉각되어 재유입되는 과정에서 공기가 유입되면서 질화처리 대상물에 산화가 발생될 수 있는 문제점이 있다.Also, there is a problem in that oxidation may be generated in the nitriding object due to the inflow of air during the process of cooling and re-flowing the heated nitrogen in the port.
또한, 질화열처리에서 사용되는 질소가스 및 공정가스가 상기 열처리로 내부에서 용이하게 순환되지 않는 문제점이 있다.Further, there is a problem that the nitrogen gas and the process gas used in the nitriding heat treatment are not easily circulated in the heat treatment furnace.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 질화열처리에서 사용되는 질소가스 및 공정가스가 열처리로 내부에서 용이하게 순환될 수 있는 질소 순환 냉각 방식의 질화로를 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a nitriding furnace in which a nitrogen gas and a process gas used in a nitriding heat treatment can be easily circulated in a heat treatment furnace.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적으로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects not mentioned can be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상기 지적된 문제점을 해결하기 위해서 본 발명은 아웃케이싱부; 상기 아웃케이싱부 내측에 위치하는 포트; 및 상기 아웃케이싱부의 하부에 위치하는 순환팬부를 포함하고, 상기 아웃케이싱부는, 상부가 개구되는 아웃케이싱 및 상기 개구된 상기 아웃케이싱의 상부를 개폐하는 뚜껑을 포함하는 질화로를 제공한다.In order to solve the above-mentioned problems, A port located inside the out casing portion; And a circulation fan unit disposed at a lower portion of the outcasing unit. The outcasing unit includes an outer casing having an upper opening and a lid opening and closing an upper portion of the opened outer casing.
또한, 본 발명은 상기 포트의 내측에 위치하는 인케이싱부를 더 포함하고, 상기 인케이싱부는, 상부 및 하부가 개구되어 상기 포트의 내부와 연통되고, 내측으로 질화처리 대상물이 수용되는 인케이싱 및 상기 뚜껑에 연결되며, 상기 인케이싱의 상부를 개폐하는 보조뚜껑을 포함하고, 상기 순환팬부는 상기 포트의 내부 하측에 위치하는 순환팬 및 상기 아웃케이싱부의 외부에 위치하고, 상기 순환팬을 구동시키기 위한 모터부를 포함하는 질화로를 제공한다.Further, the present invention may further include an ingaking portion located inside the port, wherein the ingning portion includes an ingress portion having an upper portion and a lower portion opened and communicating with the interior of the port, And an auxiliary lid connected to the lid for opening and closing the upper portion of the intake. The circulating fan unit includes a circulation fan located inside the port and a motor for driving the circulation fan, To provide a nitride furnace.
또한, 본 발명은 상기 포트에 질소를 공급하기 위한 질소가스 공급부; 및 상기 포트에 공정가스를 공급하기 위한 공정가스 공급부를 더 포함하고, 상기 질소가스 공급부는 일측 단부가 상기 포트의 내부에 위치하는 질소가스 공급관을 포함하고, 상기 공정가스 공급부는 일측 단부가 상기 포트의 내부에 위치하는 공정가스 공급관을 포함하며, 상기 질소가스 공급관의 일측 단부 및 상기 공정가스 공급관의 일측 단부는 상기 순환팬의 하부에 위치하는 질화로를 제공한다.In addition, the present invention provides a nitrogen gas purifier comprising: a nitrogen gas supply unit for supplying nitrogen to the port; And a process gas supply unit for supplying a process gas to the port, wherein the nitrogen gas supply unit includes a nitrogen gas supply pipe having one end located inside the port, Wherein one end of the nitrogen gas supply pipe and one end of the process gas supply pipe provide a nitriding path located at a lower portion of the circulation fan.
또한, 본 발명은 상기 포트에서 가열된 질소를 냉각하여 상기 포트로 재공급하기 위한 냉각부를 더 포함하고, 상기 냉각부는, 일단부가 상기 아웃케이싱을 관통하여 상기 포트의 내부와 연통되는 제1냉각관; 상기 제1냉각관의 타단부에 연결되는 진공식 송풍기; 상기 제1냉각관의 양단부 사이에 연결되는 열교환기; 및 일단부가 상기 진공식 송풍기에 연결되고 타단부가 상기 배기관과 연통되도록 연결되는 제2냉각관을 포함하는 질화로를 제공한다.Further, the present invention further includes a cooling section for cooling the heated nitrogen in the port and supplying the cooled nitrogen to the port, wherein the cooling section has a first cooling pipe, one end of which passes through the out casing and communicates with the inside of the port, ; A quadrature blower connected to the other end of the first cooling pipe; A heat exchanger connected between both ends of the first cooling pipe; And a second cooling pipe connected at one end to the vacuum blower and at the other end to communicate with the exhaust pipe.
또한, 본 발명은 상기 질소가스 공급부로는 N2 또는 N2+CO2의 가스가 공급되고, 상기 공정가스 공급부로는 NH3 가스가 투입되는 질화로를 제공한다.In addition, the present invention provides a nitriding furnace in which N 2 or N 2 + CO 2 gas is supplied to the nitrogen gas supply unit, and NH 3 gas is introduced into the process gas supply unit.
또한, 본 발명은 상기 뚜껑은, 상기 뚜껑의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑의 외곽영역에 위치하는 가스 유입부; 및 상기 뚜껑의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑의 중심영역에 위치하는 가스 배출부를 포함하며, 상기 가스는, 상기 가스 유입부가 위치하는 상기 뚜껑의 외곽영역으로 유입되어, 상기 가스 배출부가 위치하는 상기 뚜껑의 중심영역으로 배출되는 질화로를 제공한다.Further, the present invention is characterized in that the lid includes: a gas inflow portion located on a lower surface of the lid and located in an outer region of the lid; And a gas outlet located at a bottom surface of the lid and located in a central region of the lid, the gas entering the outer area of the lid where the gas inlet is located, and the gas outlet of the lid To provide a nitrided furnace exhausted to the central region.
또한, 본 발명은 상기 가스 유입부는 복수개의 가스 유입구 및 상기 복수개의 가스 유입구를 구획하는 가스 유입구 구획판을 포함하고,Further, the present invention is characterized in that the gas inlet includes a plurality of gas inlets and a gas inlet partition defining the plurality of gas inlets,
상기 가스 배출부는 복수개의 가스 배출구 및 상기 복수개의 가스 배출구를 구획하는 가스 배출구 구획판을 포함하는 질화로를 제공한다.The gas discharge portion includes a plurality of gas discharge ports and a gas discharge port partition for partitioning the plurality of gas discharge ports.
상기한 바와 같은 본 발명에 따르면, 질화열처리에서 사용되는 질소가스 및 공정가스가 상기 열처리로 내부에서 용이하게 순환될 수 있다.According to the present invention as described above, the nitrogen gas and the process gas used in the nitridation heat treatment can be easily circulated within the heat treatment furnace.
또한, 본 발명은 질화처리 대상물이 수용된 포트 내로의 공기 침투를 차단하여 그 질화처리 대상물의 산화를 방지하는 한편, 그 질화처리 대상물의 냉각이 빠르게 이루어질 수 있도록 하기 위한 질소 순환 냉각 방식의 질화로를 제공할 수 있다.The present invention also provides a nitrification furnace of a nitrogen circulation cooling system for preventing the oxidation of an object to be nitrided by blocking air infiltration into a port in which the object to be nitrided is contained and for rapidly cooling the object to be nitrided can do.
도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 질화로를 도시하는 개략적인 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 질화로의 뚜껑을 도시하는 개략적인 저면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 질화로의 뚜껑을 도시하는 개략적인 단면도이며, 도 5는 도 4의 단면도의 뚜껑에서의 가스의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 and 2 are schematic cross-sectional views showing a nitride furnace according to the present invention.
Fig. 3 is a schematic bottom view showing a lid of a nitriding furnace according to the present invention, Fig. 4 is a schematic sectional view showing a lid of a nitriding furnace according to the present invention, Fig. 5 is a cross- 1 is a schematic view for explaining a flow.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The advantages and features of the present invention and the manner of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described in detail below with reference to the accompanying drawings. The present invention may, however, be embodied in many different forms and should not be construed as being limited to the embodiments set forth herein. Rather, these embodiments are provided so that this disclosure will be thorough and complete, and will fully convey the scope of the invention to those skilled in the art. Is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the invention is only defined by the scope of the claims.
아래 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시를 위한 구체적인 내용을 상세히 설명한다. 도면에 관계없이 동일한 부재번호는 동일한 구성요소를 지칭하며, "및/또는"은 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. &Quot; and / or "include each and every combination of one or more of the mentioned items. ≪ RTI ID = 0.0 >
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.Although the first, second, etc. are used to describe various components, it goes without saying that these components are not limited by these terms. These terms are used only to distinguish one component from another. Therefore, it goes without saying that the first component mentioned below may be the second component within the technical scope of the present invention.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.The terminology used herein is for the purpose of illustrating embodiments and is not intended to be limiting of the present invention. In the present specification, the singular form includes plural forms unless otherwise specified in the specification. The terms " comprises "and / or" comprising "used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements in addition to the stated element.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.Unless defined otherwise, all terms (including technical and scientific terms) used herein may be used in a sense commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Also, commonly used predefined terms are not ideally or excessively interpreted unless explicitly defined otherwise.
공간적으로 상대적인 용어인 "아래(below)", "아래(beneath)", "하부(lower)", "위(above)", "상부(upper)" 등은 도면에 도시되어 있는 바와 같이 하나의 구성 요소와 다른 구성 요소들과의 상관관계를 용이하게 기술하기 위해 사용될 수 있다. 공간적으로 상대적인 용어는 도면에 도시되어 있는 방향에 더하여 사용시 또는 동작시 구성요소들의 서로 다른 방향을 포함하는 용어로 이해되어야 한다. 예를 들면, 도면에 도시되어 있는 구성요소를 뒤집을 경우, 다른 구성요소의 "아래(below)" 또는 "아래(beneath)"로 기술된 구성요소는 다른 구성요소의 "위(above)"에 놓여질 수 있다. 따라서, 예시적인 용어인 "아래"는 아래와 위의 방향을 모두 포함할 수 있다. 구성요소는 다른 방향으로도 배향될 수 있고, 이에 따라 공간적으로 상대적인 용어들은 배향에 따라 해석될 수 있다. The terms spatially relative, "below", "beneath", "lower", "above", "upper" And can be used to easily describe a correlation between an element and other elements. Spatially relative terms should be understood in terms of the directions shown in the drawings, including the different directions of components at the time of use or operation. For example, when inverting an element shown in the figures, an element described as "below" or "beneath" of another element may be placed "above" another element . Thus, the exemplary term "below" can include both downward and upward directions. The components can also be oriented in different directions, so that spatially relative terms can be interpreted according to orientation.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 및 도 2는 본 발명에 따른 질화로를 도시하는 개략적인 단면도이다.1 and 2 are schematic cross-sectional views showing a nitride furnace according to the present invention.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는 아웃케이싱부(10); 상기 아웃케이싱부(10) 내측에 위치하는 포트(20); 및 상기 포트(20)의 내측에 위치하는 인케이싱부(30)를 포함한다.1 and 2, a
상기 아웃케이싱부(10)는 상부가 개구되는 아웃케이싱(11), 상기 개구된 상기 아웃케이싱(11)의 상부를 개폐하는 뚜껑(12)을 포함한다.The
또한, 상기 포트(20)는, 상기 아웃케이싱(11)의 내측에 위치되어, 상기 아웃케이싱(11)과의 사이로 공간부(21)를 형성한다.The
또한, 상기 포트(20)는, 상부가 개구되어 있고, 상기 개구된 상기 포트의 상부는 상기 아웃 케이싱부(10)의 뚜껑에 의해 개폐될 수 있다.The upper portion of the
상기 인케이싱부(30)는, 상부 및 하부가 개구되어 상기 포트(20)의 내부와 연통되고, 내측으로 질화처리 대상물(100)이 수용되는 인케이싱(31) 및 상기 뚜껑(12)에 연결되며, 상기 인케이싱(31)의 상부를 개폐하는 보조뚜껑(32)을 포함한다.The
다만, 본 발명에서 상기 인케이싱부(30)의 유무를 제한하는 것은 아니다.However, the present invention does not limit the presence or absence of the
한편, 상기 질화처리 대상물(100)은 질소를 침투시켜 표면을 경화시키기 위한 금속재로 이해될 수 있으며, 질화처리전에 세척된 상태를 유지하는 것이 바람직하다. On the other hand, the
여기서, 상기 질화처리 대상물(100)은 상기 포트(20)의 내부 바닥면에 안착되면서 상기 인케이싱(31)의 내부에 위치되는 것으로 이해되는 것이 바람직하다.It is understood that the
다만, 본 발명에서 상기 인케이싱부(30)가 제외되는 경우, 상기 질화처리 대상물(100)은 상기 포트(20)의 내부 바닥면에 안착되면서, 상기 포트(20)의 내부에 위치되는 것으로 이해되는 것이 바람직하다.It should be understood that the
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 아웃케이싱부(10)의 하부에 위치하는 순환팬부(13)를 포함하며, 상기 순환팬부(13)는 상기 포트(20)의 내부 하측에 위치하는 순환팬(13a) 및 상기 아웃케이싱부(10)의 외부에 위치하고, 상기 순환팬(13a)를 구동시키기 위한 모터부(13b)를 포함한다.1 and 2, the
또한, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 포트(20)에 질소를 공급하기 위한 질소가스 공급부(16)를 포함하며, 상기 질소가스 공급부(16)는 일측 단부가 상기 포트(20)의 내부에 위치하는 질소가스 공급관(16a) 및 상기 질소 가스 공급관(16a)에 공급되는 질소를 제어하기 위한 질소가스 공급 제어밸브(16b)를 포함한다.The
또한, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 포트(20)에 공정가스를 공급하기 위한 공정가스 공급부(17)를 포함하며, 상기 공정가스 공급부(16)는 일측 단부가 상기 포트(20)의 내부에 위치하는 공정가스 공급관(17a) 및 상기 공정가스 공급관(17a)에 공급되는 공정가스를 제어하기 위한 공정가스 공급 제어밸브(17b)를 포함한다.The
이때, 상기 질소가스 공급부(16)로는 N2, N2+CO2의 질소가스가 공급될 수 있으며, 상기 공정가스 공급부(17)로는 NH3 등의 가스가 투입될 수 있다.At this time, nitrogen gas of N 2 , N 2 + CO 2 may be supplied to the nitrogen
한편, 도면에 도시된 바와 같이, 상기 질소가스 공급관(16a)의 일측 단부 및 상기 공정가스 공급관(17a)의 일측 단부는 상기 순환팬(13a)의 하부에 위치하는 것이 바람직하며, 이를 통해, 상기 질소가스 공급관(16a)을 통해 공급되는 질소가스와 상기 공정가스 공급관(17a)을 통해 공급되는 공정가스가 상기 순환팬(13a)에 의해 용이하게 순환될 수 있다.Meanwhile, as shown in the drawing, one end of the nitrogen
즉, 상기 순환팬부(13)는 상기 질소가스 및 상기 공정가스가 상기 공간부(21)에서 대류작용에 의해 구석구석 균일하게 분포되면서 상기 질화처리 대상물(100)과의 접촉이 원활하게 이루어질 수 있도록 한다. 이로 인해, 상기 질화처리 대상물(100)의 표면경도 향상을 기대할 수 있음은 물론이다.That is, the circulating
도 3은 본 발명에 따른 질화로의 뚜껑을 도시하는 개략적인 저면도이고, 도 4는 본 발명에 따른 질화로의 뚜껑을 도시하는 개략적인 단면도이며, 도 5는 도 4의 단면도의 뚜껑에서의 가스의 흐름을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.Fig. 3 is a schematic bottom view showing a lid of a nitriding furnace according to the present invention, Fig. 4 is a schematic sectional view showing a lid of a nitriding furnace according to the present invention, Fig. 5 is a cross- 1 is a schematic view for explaining a flow.
먼저, 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 질화로의 뚜껑(12)은, 상기 뚜껑(12)의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑(12)의 외곽영역에 위치하는 가스 유입부(83)를 포함하고, 또한, 상기 뚜껑(12)의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑(12)의 중심영역에 위치하는 가스 배출부(86)를 포함한다.3, the
이때, 상기 가스 유입부(83)는 복수개의 가스 유입구(81a, 81b)를 포함하며, 상기 복수개의 가스 유입구(81a, 81b)를 구획하는 가스 유입구 구획판(82)을 포함한다.The
또한, 상기 가스 배출부(86)는 복수개의 가스 배출구(84a, 84b)를 포함하며, 상기 복수개의 가스 배출구(84a, 84b)를 구획하는 가스 배출구 구획판(85)을 포함한다.The
즉, 도 3을 참조하면, 상기 가스 유입부(83)는 상기 가스 유입구 구획판(82)에 의해 구획되어, 복수개의 가스 유입구(81a, 81b)가 형성되고, 상기 가스 배출부(86)는 상기 가스 배출구 구획판(85)에 의해 구획되어, 복수개의 가스 배출구(84a, 84b)가 형성된다.3, the
이때, 도 4 및 도 5를 참조하면, 상기 가스 유입부(83)로 유입된 가스가 순환되어, 상기 가스 배출부(86)로 배출되며, 보다 구체적으로, 상기 복수개의 가스 유입구(81a, 81b)로 유입된 가스가 순환되어, 상기 복수개의 가스 배출구(84a, 84b)로 배출될 수 있다.4 and 5, the gas introduced into the
한편, 상술한 바와 같이, 본 발명에서는, 상기 가스 유입부(83)는 상기 뚜껑(12)의 외곽영역에 위치하고, 또한, 상기 가스 배출부(86)은 상기 뚜껑(12)의 중심영역에 위치하기 때문에, 상술한 도 4 및 도 5에서 도시한 바와 같이, 상기 가스는 상기 가스 유입부(83)가 위치하는 상기 뚜껑(12)의 외곽영역으로 유입되어, 상기 가스 배출부(86)가 위치하는 상기 뚜껑(12)의 중심영역으로 배출된다.As described above, in the present invention, the
즉, 본 발명에서의 질화로의 방식은 하부 가스 주입 방식, 하부 순환팬 배치 방식 및 상부 뚜껑배치 방식으로 정의될 수 있다.That is, the nitriding method in the present invention can be defined as a lower gas injection system, a lower circulation fan arrangement system, and an upper lid arrangement system.
이와 같은 본 발명의 방식에서는, 도 2에 도시된 가스의 흐름에서와 같이, 질화처리 대상물(100)의 외곽 영역을 따라 가스가 상부로 상승한 이후에, 상기 뚜껑에 의해, 다시 상기 질화처리 대상물(100)의 중심 영역을 따라 가스가 하부로 하강하는 방식의 순환이 이루어지며, 이러한 순환방식은 상기 질화처리 대상물(100)의 외곽 영역과 중심 영역의 질화가 균일하게 이루어질 수 있도록 하여, 질화층의 두께 편차가 발생하지 않는다.2, after the gas has risen upward along the outer region of the object to be nitrided 100, the object to be nitrided (also referred to as " 100, and the gas flows downward along the central region of the
하지만, 이러한 본원발명과 대비되는, 상부 가스 주입 방식, 상부 순환팬 배치 방식 및 상부 뚜껑배치 방식의 경우, 가스의 순환이 용이하지 않아, 상기 질화처리 대상물(100)의 중심 영역으로 가스가 순환되는 것이 어려우며, 따라서, 상기 질화처리 대상물(100)의 외곽 영역과 중심 영역의 질화가 균일하게 이루어지 않아, 질화층의 두께 편차가 발생하게 된다.However, in the case of the upper gas injection system, the upper circulation fan arrangement system, and the upper lid arrangement system, which is contrary to the present invention, the circulation of the gas is not easy and the gas is circulated to the central region of the
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 뚜껑(12)을 개폐하는 개폐장치(15)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, the
즉, 상기 질화로(1)는 상기 개폐장치(15)를 조작하여 상기 뚜껑(12)을 열수 있으며, 또한, 상기 뚜껑(12)을 열면서, 이와 동시에 상기 보조뚜껑(32)이 열수 있다.That is, the
따라서, 상기 뚜껑(12)과 상기 보조뚜껑(32)을 연 후에, 상기 포트(20) 내의 상기 인케이싱(31) 안에 상기 질화처리 대상물(100)을 수용할 수 있다.Accordingly, after the
이후, 상기 질화처리 대상물(100)이 상기 인케이싱(31) 내에 수용되면 상기 개폐장치(15)를 조작하여 상기 보조또껑(32) 및 상기 뚜껑(12)을 닫을 수 있다.Thereafter, when the
이러한, 상기 개폐장치(15) 및 상기 질화로(1)에서의 질화열처리 순서는 당업계에서 자명한 사항이므로, 이하 구체적인 설명은 생략하기로 한다.The nitriding heat treatment procedure in the opening and
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는 질화 열처리 작업 전에 상기 포트(20) 내에 잔존하는 공기를 흡입하여 외부로 배출하기 위한 공기배기부(40)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, the
상기 공기배기부(40)는 일단부가 상기 아웃케이싱(11)을 관통하여 상기 포트(20)와 연통되도록 연결되는 배기관(41) 및 상기 배기관(41)의 타단부에 연결되는 진공펌프(42)를 포함한다.The
상기 진공펌프(42)는 외부로부터 전원을 공급받아 구동되는 일반적인 형태를 이룬다.The
상기 공기배기부(40)는 상기 진공펌프(42)를 구동하여 상기 포트(20) 내에 잔존하는 공기를 흡입하여 외부로 배출한다.The
예를 들면, 상기 공기배기부(40)는 상기 진공펌프(42)를 10분 내지 15분 정도 구동하여 상기 포트(20)에 잔존하는 공기를 제거한다.For example, the
이때, 상기 공기배기부(40)는 상기 보조뚜껑(32)이 상기 인케이싱(31)을 개방한 상태에서 구동되면서 상기 포트(20) 및 상기 인케이싱(31)의 내부에 잔존하는 공기를 흡입하여 외부로 배출할 수 있다.At this time, the
또한, 상기 질화로(1)는 상기 포트(20)에 잔존하는 공기를 제거한 후, 그 내부에 질소를 일정 압력으로 채운 후, 질화 열처리를 시작할 수 있다.Also, after the air remaining in the
한편, 상기 공기배기부(40)는 상기 진공펌프(42)에 의하여, 상기 포트(20)에 잔존하는 공기를 제거하는 것을 제어하기 위한 릴리즈 밸브(43)를 더 포함할 수 있다.The
이로 인해, 상기 포트(20)는 공기가 잔존하지 않는 진공상태를 유지하게 됨으로 인해 상기 열처리 대상물(100)의 가열 상승시 산화를 방지할 수 있다.Accordingly, the
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는, 상기 포트(20) 내의 압력을 일정하게 유지하기 위한 가압방출부(50)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, the
이때, 상기 가압방출부(50)는, 일단부가 상기 뚜껑(12)을 관통하여 상기 포트(20)와 연통되는 가압방출관(51) 및 상기 가압방출관(51)의 일정영역에 연결되는 가압방출밸브(52)를 포함한다.The
상기 가압방출밸브(52)는 상기 포트(20) 내의 압력을 일정하게 유지하고, 그 포트(20) 내에서 발생되는 미분해 가스를 외부로 빠르게 배출한다.The
다시 말하면, 상기 가압방출밸브(52)는 질화열처리시 상기 포트(20) 내로의 공기 침투를 막아야 하므로 초기부터 작업 종료까지 상기 포트(20) 내의 압력을 일정하게 유지하고, 그 포트(20) 내에서 발생되는 미분해가스를 외부로 빠르게 배출하여 적정 압력이 유지되도록 한다.In other words, since the
이로 인해, 상기 질화로(1)는 상기 포트(20)로의 공기의 유입을 방지할 수 있는 것은 물론, 상기 질화처리 대상물(100)에 대한 질화처리 시간 등을 단축할 수 있다.Therefore, the
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는, 상기 포트(20)에서 가열된 질소를 냉각하여 상기 포트(20)로 재공급하기 위한 냉각부(60)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, a
상기 냉각부(60)는 상기 포트(20)에서 열처리시 가열된 질소를 냉각하여 그 포트(20)로 재공급함으로써 상기 질화처리 대상물(100)의 빠른 냉각효과를 기대할 수 있다.The cooling
상기 냉각부(60)는, 일단부가 상기 아웃케이싱(11)을 관통하여 상기 포트(20)의 내부와 연통되는 제1냉각관(61), 상기 제1냉각관(61)의 타단부에 연결되는 진공식 송풍기(62), 상기 제1냉각관(61)의 양단부 사이에 연결되는 열교환기(63) 및 양단부를 가지며 일단부가 상기 진공식 송풍기(62)에 연결되고 타단부가 상기 배기관(41)과 연통되도록 연결되는 제2냉각관(64)을 포함한다.The cooling
상기 진공식 송풍기(62)는 외부로부터 전원을 공급받아 구동되는 일반적인 형태를 이루며, 상기 포트(20) 내에 수용되는 질소를 흡입하여 상기 제1냉각관(61), 상기 열교환기(63) 및 상기 제2냉각관(64) 그리고, 다시 상기 포트(20)로의 순환이 순차적으로 이루어질 수 있도록 한다.The
또한, 상기 열교환기(63)는 공랭식 또는 수냉식으로 이루어질 수 있는 것으로, 본 발명에서 상기 열교환기의 종류를 제한하는 것은 아니다.The
이때, 상기 열교환기(63)는 제1열교환기(63a) 및 제2열교환기(63b)로 구성될 수 있으며, 다만, 본 발명에서 상기 열교환기(63)의 개수를 제한하는 것은 아니다.The
또한, 상기 냉각부(60)는, 상기 열교환기(63)와 상기 진공식 송풍기(62) 사이에 위치되며, 상기 제1냉각관(61)에 연결되는 제1유량조절밸브(65) 및 상기 제2냉각관(64)과 상기 배기관(41)의 사이에 연결되는 제2유량조절밸브(66)를 더 포함할 수 있다.The cooling
상기 제1유량조절밸브(65) 및 제2유량조절밸브(66)는 각각 상기 진공식 송풍기(62) 및 상기 포트(20)로 재유입되는 질소의 양을 조절하여 그 흐름의 속도를 적절하게 제어하는 것으로 이해될 수 있다.The first
즉, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 진공식 송풍기(62)의 구동에 따라 상기 포트(20)에서 가열된 질소가 상기 열교환기(63)를 통과하면서 냉각되어 다시 상기 포트(20)로 재공급될 수 있음으로써 상기 질화처리 대상물(100)의 빠른 냉각효과를 기대할 수 있다.That is, in the
또한, 상기 질소의 순환이 진공상태에 이루어짐으로써 공기의 유입에 의한 상기 질화처리 대상물(100)의 산화를 방지할 수 있다.In addition, since the nitrogen is circulated in the vacuum state, oxidation of the
계속해서, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 질화로(1)는, 외부로부터 공기를 공급받아 상기 질화처리 대상물(100)을 냉각하기 위한 공기공급부(70)를 더 포함할 수 있다.1 and 2, the
상기 공기공급부(70)는 상기 공간부(21)로 외부공기를 공급하기 위한 냉각팬(미도시)을 포함할 수 있으며, 또한, 상기 냉각팬(미도시)과 연결되어 외부공기를 공급하기 위한 공급관(71), 상기 공간부(21)로 공급된 공기를 외부로 배출하기 위한 배출관(72)을 포함할 수 있다.The
이때, 본 발명에서 상기 공급관(71)은 상기 공간부(21)와 연통되도록 상기 아웃케이싱(11)의 하부에 연결되고, 상기 배출관(72)은 상기 공간부(21)와 연통되도록 상기 아웃케이싱(11)의 상부에 연결되는 것이 바람직하다.In the present invention, the
따라서, 본 발명에서는 외부공기가 상기 아웃케이싱(11)의 하부측으로 공급되어, 상기 아웃케이싱(11)의 상부측으로 배출될 수 있으며, 이러한 과정에서 질화열처리된 상기 질화처리 대상물(100)을 냉각시킬 수 있다.Therefore, in the present invention, the outside air is supplied to the lower side of the
즉, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 인케이싱부(30)에서 질화열처리된 상기 질화처리 대상물(100)을 냉각하기 위해 상기 냉각팬(미도시)을 구동시키면, 외부로부터 찬 외부공기가 상기 아웃케이싱(11)의 하부측으로부터 상기 공간부(21)로 유입된다.That is, in the
상기 공간부(21)로 유입되는 공기는 상기 공간부(21)를 따라 선회하여 통과되면서 상기 포트(20) 및 상기 아웃케이싱(11)을 냉각시킨다.The air flowing into the space part (21) circulates along the space part (21) to cool the port (20) and the out casing (11).
따라서, 상기 인케이싱부(30)의 내부에 수용되는 상기 질화처리 대상물(100)은 상기 포트(20) 및 상기 아웃케이싱(11)이 냉각됨에 따라 자연스럽게 냉각이 이루어지며, 상기 포트(20) 및 상기 아웃케이싱부(10)를 냉각시킨 공기는 열을 흡수한 고온공기 상태로 상기 아웃케이싱(11)의 상부에 연결된 상기 배출관(72)을 통해 외부로 배출된다.Accordingly, the
이상과 같이, 본 발명에 따른 질화로(1)는 아웃케이싱부(10); 상기 아웃케이싱부(10) 내측에 위치하는 포트(20); 및 상기 포트(20)의 내측에 위치하는 인케이싱부(30)를 포함한다.As described above, the nitriding furnace (1) according to the present invention comprises an outcasing portion (10); A
이때, 상기 아웃케이싱부(10)는 상부가 개구되는 아웃케이싱(11), 상기 개구된 상기 아웃케이싱(11)의 상부를 개폐하는 뚜껑(12)을 포함하며, 또한, 상기 아웃케이싱부(10)의 하부에 위치하는 순환팬부(14)를 포함한다.The
또한, 상기 순환팬부(13)는 상기 포트(20)의 내부 하측에 위치하는 순환팬(13a) 및 상기 아웃케이싱부(10)의 외부에 위치하고, 상기 순환팬(13a)를 구동시키기 위한 모터부(13b)를 포함한다.The circulating
또한, 본 발명에 따른 질화로(1)는 상기 포트(20)에 질소를 공급하기 위한 질소가스 공급부(16)를 포함하며, 상기 질소가스 공급부(16)는 일측 단부가 상기 포트(20)의 내부에 위치하는 질소가스 공급관(16a)을 포함하고, 또한, 상기 포트(20)에 공정가스를 공급하기 위한 공정가스 공급부(17)를 포함하며, 상기 공정가스 공급부(16)는 일측 단부가 상기 포트(20)의 내부에 위치하는 공정가스 공급관(17a)을 포함한다.The
이때, 상기 질소가스 공급관(16a)의 일측 단부 및 상기 공정가스 공급관(17a)의 일측 단부는 상기 순환팬(13a)의 하부에 위치하는 것이 바람직하며, 따라서, 본 발명에서는 상기 질소가스 공급관(16a)을 통해 공급되는 질소가스와 상기 공정가스 공급관(17a)을 통해 공급되는 공정가스가 상기 순환팬(13a)에 의해 용이하게 순환될 수 있다.At this time, it is preferable that one end of the nitrogen
이상과 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.
Claims (7)
상기 아웃케이싱부 내측에 위치하는 포트; 및
상기 아웃케이싱부의 하부에 위치하는 순환팬부를 포함하고,
상기 아웃케이싱부는, 상부가 개구되는 아웃케이싱 및 상기 개구된 상기 아웃케이싱의 상부를 개폐하는 뚜껑을 포함하고,
상기 뚜껑은,
상기 뚜껑의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑의 외곽영역에 위치하는 가스 유입부; 및 상기 뚜껑의 하면에 위치하고, 상기 뚜껑의 중심영역에 위치하는 가스 배출부를 포함하며,
상기 가스 유입부로 유입된 가스가 순환되어, 상기 가스 배출부로 배출되고,
상기 가스는, 상기 가스 유입부가 위치하는 상기 뚜껑의 외곽영역으로 유입되어, 상기 가스 배출부가 위치하는 상기 뚜껑의 중심영역으로 배출되는 질화로.Out casing unit;
A port located inside the out casing portion; And
And a circulation fan unit positioned below the out casing unit,
Wherein the outcasing portion includes an outcasing having an upper opening and a lid opening and closing an upper portion of the opened outcasing,
The lid,
A gas inlet located on a lower surface of the lid and located in an outer region of the lid; And a gas discharging portion located on a lower surface of the lid and located in a central region of the lid,
The gas introduced into the gas inlet portion is circulated and discharged to the gas outlet portion,
Wherein the gas flows into an outer region of the lid where the gas inlet is located and is discharged to a central region of the lid where the gas outlet is located.
상기 포트의 내측에 위치하는 인케이싱부를 더 포함하고,
상기 인케이싱부는, 상부 및 하부가 개구되어 상기 포트의 내부와 연통되고, 내측으로 질화처리 대상물이 수용되는 인케이싱 및 상기 뚜껑에 연결되며, 상기 인케이싱의 상부를 개폐하는 보조뚜껑을 포함하고,
상기 순환팬부는 상기 포트의 내부 하측에 위치하는 순환팬 및 상기 아웃케이싱부의 외부에 위치하고, 상기 순환팬을 구동시키기 위한 모터부를 포함하는 질화로.The method according to claim 1,
Further comprising an ingaking portion located inside the port,
Wherein the enceasing portion includes an enceasing portion having an upper portion and a lower portion opened and communicating with the inside of the port and containing an object to be nitrided inwardly and an auxiliary lid connected to the lid and opening and closing the upper portion of the enceasing portion,
Wherein the circulation fan unit includes a circulation fan located inside the port and a motor unit located outside the outflow casing to drive the circulation fan.
상기 포트에 질소를 공급하기 위한 질소가스 공급부; 및
상기 포트에 공정가스를 공급하기 위한 공정가스 공급부를 더 포함하고,
상기 질소가스 공급부는 일측 단부가 상기 포트의 내부에 위치하는 질소가스 공급관을 포함하고, 상기 공정가스 공급부는 일측 단부가 상기 포트의 내부에 위치하는 공정가스 공급관을 포함하며,
상기 질소가스 공급관의 일측 단부 및 상기 공정가스 공급관의 일측 단부는 상기 순환팬의 하부에 위치하는 질화로.3. The method of claim 2,
A nitrogen gas supply unit for supplying nitrogen to the port; And
Further comprising a process gas supply unit for supplying a process gas to the port,
Wherein the nitrogen gas supply unit includes a nitrogen gas supply pipe having one end located inside the port and the process gas supply unit includes a process gas supply pipe having one end located inside the port,
Wherein one end of the nitrogen gas supply pipe and one end of the process gas supply pipe are located at a lower portion of the circulation fan.
상기 질화로는, 상기 포트 내에 잔존하는 공기를 흡입하여 외부로 배출하기 위한 공기배기부를 더 포함하고,
상기 공기배기부는, 일단부가 상기 아웃케이싱을 관통하여 상기 포트와 연통되도록 연결되는 배기관 및 상기 배기관의 타단부에 연결되는 진공펌프를 포함하고,
상기 질화로는, 상기 포트에서 가열된 질소를 냉각하여 상기 포트로 재공급하기 위한 냉각부를 더 포함하고,
상기 냉각부는, 일단부가 상기 아웃케이싱을 관통하여 상기 포트의 내부와 연통되는 제1냉각관; 상기 제1냉각관의 타단부에 연결되는 진공식 송풍기; 상기 제1냉각관의 양단부 사이에 연결되는 열교환기; 및 일단부가 상기 진공식 송풍기에 연결되고 타단부가 상기 배기관과 연통되도록 연결되는 제2냉각관을 포함하는 질화로.The method of claim 3,
The nitrification furnace further includes an air exhausting portion for sucking the air remaining in the port and discharging the air to the outside,
Wherein the air exhausting portion includes an exhaust pipe having one end portion communicating with the port through the out casing and a vacuum pump connected to the other end portion of the exhaust pipe,
The nitriding furnace further includes a cooling unit for cooling the heated nitrogen from the port and supplying the cooled nitrogen to the port,
Wherein the cooling section includes: a first cooling pipe, one end of which passes through the out casing and communicates with the inside of the port; A quadrature blower connected to the other end of the first cooling pipe; A heat exchanger connected between both ends of the first cooling pipe; And a second cooling pipe connected at one end to the vacuum blower and at the other end to communicate with the exhaust pipe.
상기 질소가스 공급부로는 N2 또는 N2+CO2의 가스가 공급되고, 상기 공정가스 공급부로는 NH3 가스가 투입되는 질화로.The method of claim 3,
N 2 or N 2 + CO 2 gas is supplied to the nitrogen gas supply unit, and NH 3 gas is supplied to the process gas supply unit.
상기 가스 유입부는 복수개의 가스 유입구 및 상기 복수개의 가스 유입구를 구획하는 가스 유입구 구획판을 포함하고,
상기 가스 배출부는 복수개의 가스 배출구 및 상기 복수개의 가스 배출구를 구획하는 가스 배출구 구획판을 포함하는 질화로.The method according to claim 1,
Wherein the gas inlet comprises a plurality of gas inlets and a gas inlet compartment defining the plurality of gas inlets,
Wherein the gas discharge portion includes a plurality of gas discharge ports and a gas discharge port partition for partitioning the plurality of gas discharge ports.
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- 2017-03-09 KR KR1020170029948A patent/KR101807501B1/en active IP Right Grant
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