KR101806170B1 - Dry scrubber - Google Patents

Dry scrubber Download PDF

Info

Publication number
KR101806170B1
KR101806170B1 KR1020160078350A KR20160078350A KR101806170B1 KR 101806170 B1 KR101806170 B1 KR 101806170B1 KR 1020160078350 A KR1020160078350 A KR 1020160078350A KR 20160078350 A KR20160078350 A KR 20160078350A KR 101806170 B1 KR101806170 B1 KR 101806170B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
space
process gas
flow
pipe
distribution
Prior art date
Application number
KR1020160078350A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
오윤학
이근수
훈 정
차용선
노명철
진현석
김진욱
이진솔
Original Assignee
유니셈(주)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 유니셈(주) filed Critical 유니셈(주)
Priority to KR1020160078350A priority Critical patent/KR101806170B1/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101806170B1 publication Critical patent/KR101806170B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • B01D53/0407—Constructional details of adsorbing systems
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67046—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly scrubbing means, e.g. brushes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2258/00—Sources of waste gases
    • B01D2258/02—Other waste gases
    • B01D2258/0216—Other waste gases from CVD treatment or semi-conductor manufacturing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)

Abstract

Disclosed is a dry scrubber for treating an exhaust gas of a semiconductor manufacturing process. According to an aspect of the present invention, the dry scrubber comprises: a main canister filled with an adsorbent; a stirring unit arranged on the lower part of the main canister; a feeding line for guiding a processing gas to the stirring unit; and a discharge line connected to the upper part of the main canister to guide the processing gas to the outside of the device. The stirring unit comprises: a distribution pipe having a distribution hole, extended in a predetermined degree in a vertical direction, and formed to be able to rotate by using the vertical direction as an axis; a driving motor for rotating the distribution pipe; and a distribution pipe extended in a predetermined degree from one side of the distribution pipe in a transverse direction to be rotated along with the distribution pipe, and having a plurality of distribution holes arranged to be separated along a length direction.

Description

건식 스크러버 {DRY SCRUBBER}Dry scrubber {DRY SCRUBBER}

본 발명은 건식 스크러버에 관한 것으로, 보다 상세하게는 흡착제를 이용 처리가스 중의 유해성분을 제거하는 건식 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a dry scrubber, and more particularly to a dry scrubber for removing harmful components in a process gas using an adsorbent.

화학 증기 증착, 플라즈마 에칭 등 반도체 제조공정에서는 실란, 디클로롤실란, 암모니아, 산화질소, 아르신, 포르핀, 디포린 등 유독성 가스가 사용되고 있다. 따라서 제조공정에서 발생되는 배기가스에는 BCl3, Cl2, HCl, HF 등 유해성분이 함유될 수 있으며, 이들 배기가스는 소정의 정화처리를 거쳐 외기로 방출되게 된다. 스크러버(scrubber)는 이와 같이 유해성분을 함유한 배기가스(처리가스)를 정화처리하기 위해 사용되고 있다.In semiconductor manufacturing processes such as chemical vapor deposition and plasma etching, toxic gases such as silane, dichlorosilane, ammonia, nitric oxide, arsine, porphine, and dipole are used. Therefore, the exhaust gas generated in the manufacturing process may contain harmful components such as BCl 3, Cl 2, HCl, and HF, and these exhaust gases are discharged to the outside air through a predetermined purification treatment. The scrubber is used to purify the exhaust gas (process gas) containing the harmful components as described above.

스크러버가 처리가스를 정화처리하는 방법으로는 크게 건식 처리법과 습식 처리법에 사용되고 있으며, 건식 처리법은 다시 연소식과 흡착식으로 구분될 수 있다.The scrubber purifies the process gas mainly by the dry process and the wet process, and the dry process can be divided into the combustion process and the adsorption process.

연소식 처리법은 건식 처리법의 일종으로, 버닝챔버(burning chamber)로 불리는 연소통 내에서 처리가스를 연소시켜 유해성분을 열분해시키는 방식이다. 이와 같은 연소식 처리법은 히터를 이용한 간접가열방식과, LPG 등의 연료가스를 직접 연소시키는 직접가열방식으로 구분되기도 한다. 연소식 처리법은 고농도의 처리가스를 취급하는데 적합한 것으로 알려져 있으나, 열분해를 위해 고온의 환경이 요구되므로, 안전상의 문제점 및 경제성이 단점으로 지적된다.The combustion process is a type of dry process which pyrolyzes the harmful components by burning the process gas in a combustion chamber called a burning chamber. Such a combustion treatment method may be divided into an indirect heating method using a heater and a direct heating method of directly burning a fuel gas such as LPG. The combustion process is known to be suitable for handling a high concentration of process gas, but since it requires a high temperature environment for pyrolysis, safety problems and economical problems are pointed out as disadvantages.

습식 처리법은 처리가스를 물이나 알칼리성 수용액에 기액 접촉시켜 유해성분을 중화시키거나 흡수 처리하는 방식이다. 분사노즐을 통해 물 또는 알칼리성 수용액을 분사하고, 분사영역에 처리가스를 통과시키는 구조가 대표적이다. 다만, 습식 처리법은 처리과정에서 발생되는 고체 부산물이 막힘 현상을 일으켜 처리효율이 저하되거나 처리수가 역류될 수 있는 문제점이 있다.The wet treatment method is a method in which a harmful component is neutralized or absorbed by gas-liquid contact of the treatment gas with water or an alkaline aqueous solution. A structure in which water or an alkaline aqueous solution is injected through an injection nozzle and a processing gas is passed through the injection region is typical. However, the wet treatment method has a problem that the solid byproducts generated in the treatment process are clogged and the treatment efficiency may be lowered or the treatment water may flow backward.

흡착식 처리법은 건식 처리법의 일종으로 흡착제를 이용하는 방식이다. 이 방식은 스크러버 내 흡착제를 충진하고 그 내부로 처리가스를 통과시킴으로써, 유해성분과 흡착제 간 반응에 의해 유해성분이 흡착 제거되게 된다. 다른 처리법에 비해 비교적 시스템 구성이 간소하며, 사용 및 취급이 용이한 이점이 있다. 흡착제로는 알루미나, 소석회, 알루미나 실리케이트, 제올라이드 등의 무기 흡착제, 활성탄, 무기 흡착제를 담체로 알칼리 화합물이나 산성 화합물을 처리한 첨착 무기 흡착제, 흡착 기능이 있는 레진 종류, 활성탄에 화학물질을 처리한 첨착 활성탄 등 다양한 종류가 사용될 수 있으며, 필요에 따라 2종 이상의 흡착제가 사용되기도 한다.The adsorption treatment method is a method of using an adsorbent as a kind of dry treatment. In this method, the adsorbent in the scrubber is filled and the process gas is passed through the scrubber, whereby the harmful component is adsorbed and removed by the reaction between the harmful component and the adsorbent. Compared to other treatment methods, the system configuration is relatively simple, and there is an advantage that it is easy to use and handle. Examples of the adsorbent include an inorganic adsorbent such as alumina, slaked lime, alumina silicate, and zeolite, an impregnated inorganic adsorbent containing an activated carbon or an inorganic adsorbent as a carrier and an alkali compound or an acidic compound, a resin having an adsorption function, And impregnated activated carbon may be used. If necessary, two or more adsorbents may be used.

도 1은 종래 건식 스크러버에서 처리가스의 흐름을 보여주는 개략도이다. 도 1의 (a)는 측면에서 바라본 처리가스의 흐름을 나타낸 것이며, 도 1의 (b)는 상부에서 내려다본 처리가스의 흐름, 도 1의 (c)는 스크러버 하부측의 처리가스 흐름을 확대 도시한 것임을 알려둔다.1 is a schematic diagram showing the flow of process gas in a conventional dry scrubber. Fig. 1 (a) shows the flow of the process gas as viewed from the side, Fig. 1 (b) shows the flow of the process gas viewed from above, and Fig. 1 Please note that it is shown.

도 1을 참조하면, 종래 흡착제를 사용한 건식 스크러버는 내부에 흡착제가 충진되는 원통 형상의 캐니스터(10)를 구비하고, 하부로 유입된 처리가스가 상부로 유동되는 구조로 형성되고 있다. 하부로 유입된 처리가스는 다공판 형태의 분배판(20)을 거쳐 캐니스터(10) 내부로 유입되는데, 이는 처리가스가 캐니스터(10) 전체에 걸쳐 고르게 유동될 수 있도록 하여, 캐니스터(10) 내 흡착제가 유해성분와 충분히 반응할 수 있도록 하기 위함이다.Referring to FIG. 1, a conventional scrubber using an adsorbent has a cylindrical canister 10 filled with an adsorbent therein, and has a structure in which a process gas flowing downward flows upward. The process gas introduced into the lower portion of the canister 10 flows into the canister 10 through the partition plate 20 in the form of a sintered plate so that the process gas can flow uniformly throughout the canister 10, So that the adsorbent can sufficiently react with harmful components.

그러나, 도 1에서 볼 수 있듯이, 종래의 건식 스크러버는 처리가스의 유동 흐름이 캐니스터(10) 내 고르게 분포하지 못하고, 특정 영역에 치우친 유동 흐름을 형성하게 된다. 즉, 처리가스는 분배판(20)의 각 홀을 중심으로만 유동되며, 분배판(20)을 거치고 난 후에는 단순히 하부에서 상부를 향하는 직선 경로를 따라 유동하기 때문에, 캐니스터(10) 내부에 충진된 흡착제가 처리가스와 충분히 접촉 및 반응되지 못하게 된다. 따라서 처리가스와 활발히 접촉되는 일부 영역의 흡착제는 수명이 단축되는데 반해, 처리가스의 유동 흐름이 미치지 않는 다른 영역의 흡착제는 유해성분 제거에 활용되지 못하는 문제점이 생기게 된다. 결과적으로 이는 스크러버의 처리효율을 저하시키고, 일부 흡착제의 수명 단축으로 인해 흡착제의 교체시기를 앞당기는 문제들을 야기하고 있다.However, as can be seen in FIG. 1, conventional dry scrubbers are unable to evenly distribute the flow of process gas through the canister 10, creating a flow stream that is biased toward a particular area. That is, since the process gas flows only around each hole of the distribution plate 20 and flows along a straight path from the lower part to the upper part after passing through the distribution plate 20, The filled adsorbent can not sufficiently contact and react with the process gas. Therefore, the adsorbent in a certain region that is in active contact with the process gas is shortened in service life, while the adsorbent in another region where the flow of the process gas does not flow can not be used for removing harmful components. As a result, this results in problems of lowering the treatment efficiency of the scrubber and shortening the life span of some adsorbents, thereby leading to a problem of advancing the timing of replacement of the adsorbent.

본 발명의 실시예들은 처리가스의 유동 흐름을 개선할 수 있는 건식 스크러버를 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention seek to provide a dry scrubber that can improve the flow of process gas.

또한, 본 발명의 실시예들은 전체 흡착제가 처리가스와 충분히 접촉 및 반응되어 장치의 처리효율을 향상시킬 수 있는 건식 스크러버를 제공하고자 한다.Embodiments of the present invention also seek to provide a dry scrubber in which the entire adsorbent can sufficiently contact and react with the process gas to improve the treatment efficiency of the device.

또한, 본 발명의 실시예들은 전체 영역의 흡착제가 고르게 수명을 다하여 바람직한 흡착제의 교체시기를 연장할 수 있는 건식 스크러버를 제공하고자 한다.In addition, embodiments of the present invention are intended to provide a dry scrubber in which the entire area of the adsorbent can have an even lifetime to extend the period of replacement of the desired adsorbent.

본 발명의 일 측면에 따르면, 흡착제가 충진되는 메인 캐니스터; 상기 메인 캐니스터 하부에 배치되는 교반 유닛; 상기 교반 유닛으로 처리가스를 안내하는 유입라인; 및 상기 메인 캐니스터 상부에 연결되어 처리가스를 장치 외부로 안내하는 배출라인;을 포함하며, 상기 교반 유닛은, 유통홀을 구비하고, 상하방향으로 소정정도 연장 형성되며, 상하방향을 축으로 회전 가능하도록 형성된 유통관; 상기 유통관을 회전시키는 구동모터; 상기 유통관 일측에서 횡방향으로 소정정도 연장 형성되어 상기 유통관과 함께 회전되며, 길이방향을 따라 이격 배치된 복수의 분배홀을 구비하는 분배관;을 포함하는 건식 스크러버가 제공될 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided an adsorber comprising: a main canister filled with an adsorbent; A stirring unit disposed under the main canister; An inflow line for guiding the process gas to the stirring unit; And a discharge line connected to an upper portion of the main canister for guiding the process gas to the outside of the apparatus, wherein the agitating unit includes a flow-through hole, and is extended in the vertical direction by a predetermined length, And A drive motor for rotating the flow tube; And a distribution pipe having a plurality of distribution holes extending in a lateral direction at a predetermined distance from the one side of the circulation pipe and rotated together with the circulation pipe and spaced apart from each other in the longitudinal direction.

본 발명의 실시예들에 따른 건식 스크러버는, 메인 캐니스터 하측의 교반 유닛을 통해 처리가스에 나선형의 유동 흐름을 조성하여 메인 캐니스터로 제공하게 된다. 따라서 처리가스가 메인 캐니스터의 전면적에 걸쳐 고르게 유동될 수 있으며, 전체 흡착제와 고르게 반응될 수 있다. 이로 인해, 본 발명의 실시예들에 따른 건식 스크러버는 장치의 처리효율을 향상시킬 수 있으며, 전체 흡착제가 고르게 반응됨에 따라 흡착제의 바람직한 교체시기 또한 연장할 수 있게 된다.The dry scrubber according to embodiments of the present invention provides a spiral flow flow to the process gas through the agitating unit on the lower side of the main canister and provides the flow to the main canister. Thus, the process gas can flow evenly over the entire area of the main canister and can be evenly reacted with the entire adsorbent. Accordingly, the dry scrubber according to the embodiments of the present invention can improve the treatment efficiency of the apparatus, and it is possible to extend the preferable replacement period of the adsorbent as the entire adsorbent is evenly reacted.

도 1은 종래 건식 스크러버에서 처리가스의 흐름을 보여주는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 스크러버를 보여주는 외형도이다.
도 3은 도 2에 도시된 건식 스크러버의 종방향 단면 사시도이다.
도 4는 도 3에 도시된 교반 유닛의 내부를 보여주는 확대도이다.
도 5는 도 4에 도시된 믹싱 디스크 등을 상부에서 내려다본 모습을 도시한 사시도이다.
도 6은 도 4에 도시된 믹싱 디스크 등을 하부에서 올려다본 모습을 도시한 사시도이다.
도 7은 도 5 및 6에 도시된 믹싱 디스크 등의 다른 실시예를 보여주는 사시도이다.
도 8은 도 7에 도시된 믹싱 디스크 등을 하부에서 올려다본 모습을 도시한 사시도이다.1 is a schematic diagram showing the flow of process gas in a conventional dry scrubber.
2 is an external view showing a dry scrubber according to an embodiment of the present invention.
3 is a longitudinal cross-sectional perspective view of the dry scrubber shown in Fig.
Fig. 4 is an enlarged view showing the inside of the stirring unit shown in Fig. 3;
FIG. 5 is a perspective view showing the mixing disc shown in FIG. 4 as viewed from above.
FIG. 6 is a perspective view showing the mixing disc shown in FIG. 4 as viewed from below.
7 is a perspective view showing another embodiment such as the mixing disk shown in Figs. 5 and 6. Fig.
FIG. 8 is a perspective view showing the mixing disc or the like shown in FIG. 7 as viewed from below.

이하, 본 발명의 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 설명하도록 한다. 다만, 이하의 실시예들은 본 발명의 이해를 돕기 위해 제공되는 것이며, 본 발명의 범위가 이하의 실시예들에 한정되는 것은 아님을 알려둔다. 또한, 이하의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것으로, 불필요하게 본 발명의 기술적 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 공지의 구성에 대해서는 상세한 기술을 생략하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. It is to be understood, however, that the following examples are provided to facilitate understanding of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples. In addition, the following embodiments are provided to explain the present invention more fully to those skilled in the art. Those skilled in the art will appreciate that those skilled in the art, Will be omitted.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 건식 스크러버(100)를 보여주는 외형도이다.2 is an external view showing a dry scrubber 100 according to an embodiment of the present invention.

도 2를 참고하면, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 메인 캐니스터(110)를 포함할 수 있다.Referring to FIG. 2, the dry scrubber 100 according to the present embodiment may include a main canister 110.

메인 캐니스터(110)는 건식 스크러버(100)의 전체적 외관을 형성할 수 있으며, 소정의 내부 공간을 구비할 수 있다. 메인 캐니스터(110) 내부 공간에는 흡착제가 충진될 수 있다. 흡착제는 메인 캐니스터(110) 내로 유입되는 처리가스로부터 유해성분을 흡착 제거할 수 있다. 흡착제는 공지된 다양한 종류의 흡착수단을 포함할 수 있다. 예컨대, 흡착제는 무기 흡착제, 활성탄, 레진, 첨착 무기 흡착제, 첨착 활성탄 중 하나 이상을 포함할 수 있다.The main canister 110 may form an overall appearance of the dry scrubber 100 and may have a predetermined internal space. The inner space of the main canister 110 may be filled with an adsorbent. The adsorbent can adsorb and remove harmful components from the process gas flowing into the main canister 110. The adsorbent may comprise various known types of adsorption means. For example, the adsorbent can include at least one of an inorganic adsorbent, activated carbon, resin, impregnated inorganic adsorbent, and impregnated activated carbon.

한편, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 교반 유닛(120)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the dry scrubber 100 according to the present embodiment may include a stirring unit 120.

교반 유닛(120)은 메인 캐니스터(110) 하부에 배치될 수 있다. 교반 유닛(120)은 처리가스를 내부로 유입시키고, 이를 메인 캐니스터(110) 하부로 안내할 수 있다. 이때, 교반 유닛(120)은 처리가스가 메인 캐니스터(110) 내 전체 영역에 걸쳐 고르게 유동될 수 있도록 처리가스의 유동 흐름을 교반시켜 메인 캐니스터(110)로 제공하게 된다. 이를 위한 교반 유닛(120) 내부 구성에 대하여는 도 3 등을 참조하여 후술하기로 한다.The agitating unit 120 may be disposed below the main canister 110. The agitating unit 120 can introduce the process gas into the interior and guide it to the lower portion of the main canister 110. At this time, the agitating unit 120 stirs the flow of the process gas into the main canister 110 so that the process gas can flow evenly over the entire area of the main canister 110. The internal construction of the stirring unit 120 for this purpose will be described later with reference to FIG. 3 and the like.

한편, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 유입라인(130) 및 배출라인(140)을 포함할 수 있다.Meanwhile, the dry scrubber 100 according to the present embodiment may include an inlet line 130 and a discharge line 140.

유입라인(130)은 처리가스를 장치 내 유동 안내하기 위한 것으로, 일단의 유입구(131)로부터 교반 유닛(120) 하부측으로 연장 형성되어, 교반 유닛(120) 하부측으로 처리가스를 유입시킬 수 있다. 배출라인(140)은 처리가스를 장치 외부로 유동 안내하기 위한 것으로, 메인 캐니스터(110) 상부에 배치될 수 있다. 배출라인(140)은 일단이 메인 캐니스터(110) 상부에 연결될 수 있으며, 타단의 배출구(141)까지 연장 형성될 수 있다.The inlet line 130 is for guiding the process gas into the apparatus and is extended from the inlet 131 at one end to the lower side of the stirring unit 120 so as to introduce the processing gas into the lower side of the stirring unit 120. The discharge line 140 is for directing the process gas to the outside of the apparatus, and may be disposed above the main canister 110. One end of the discharge line 140 may be connected to the upper portion of the main canister 110 and may extend to the discharge port 141 of the other end.

또한, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 바이패스라인(150)을 포함할 수 있다.In addition, the dry scrubber 100 according to the present embodiment may include a bypass line 150.

바이패스라인(150)은 유입라인(130) 일측에서 분지되어 배출라인(140) 일측에 연결될 수 있다. 바이패스라인(150)의 분지점에서는 처리가스의 유동방향을 제어하기 위한 3-웨이밸브(151)가 마련될 수 있다. 바이패스라인(150)은 메인 캐니스터(110) 교체 등의 경우에 처리가스를 우회시킬 수 있도록 하여, 부품 교체에 따른 공정 지연 등을 최소화할 수 있게 한다.The bypass line 150 may be branched from one side of the inflow line 130 and connected to one side of the discharge line 140. A three-way valve 151 for controlling the flow direction of the process gas may be provided at the branch point of the bypass line 150. The bypass line 150 allows the process gas to be bypassed in the case of replacing the main canister 110, thereby minimizing the process delay due to the replacement of parts.

또한, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 전처리 필터(132) 및 서브 캐니스터(152)를 포함할 수 있다.In addition, the dry scrubber 100 according to the present embodiment may include a pre-treatment filter 132 and a sub-canister 152.

전처리 필터(132)는 유입라인(130)에 설치될 수 있다. 보다 바람직하게, 전처리 필터(132)는 바이패스라인(150)의 분지점 후단에 위치하도록 유입라인(130)에 설치될 수 있다. 이와 같은 전처리 필터(132)는 처리가스가 교반 유닛(120) 내로 유입되기 전, 처리가스 중의 이물질, 파우더 등을 제거하게 된다. 한편, 서브 캐니스터(152)는 바이패스라인(150)에 설치될 수 있으며, 처리가스를 우회시킬 경우, 처리가스로부터 유해성분을 소정정도 제거 가능하도록 형성될 수 있다. 보다 바람직하게, 서브 캐니스터(152)는 내부에 흡착제를 구비하고, 우회되는 처리가스로부터 유해성분을 소정정도 흡착 제거할 수 있다. 이러한 서브 캐니스터(152)는 부품 교체 등의 경우에도 처리가스가 미처리된 상태로 배출되는 것을 방지하게 된다.The preprocessing filter 132 may be installed in the inflow line 130. More preferably, the preprocessing filter 132 may be installed in the inflow line 130 so as to be positioned at the downstream end of the bypass line 150. The pretreatment filter 132 removes foreign matter, powder, and the like from the process gas before the process gas flows into the agitation unit 120. On the other hand, the sub-canister 152 may be installed in the bypass line 150, and when the process gas is bypassed, the sub-canister 152 may be formed to remove harmful components from the process gas to a predetermined degree. More preferably, the sub-canister 152 is provided with an adsorbent therein and can adsorb and remove harmful components from the process gas being bypassed to a predetermined extent. Such a sub-canister 152 prevents the process gas from being discharged in an untreated state even in the case of part replacement or the like.

이상과 같은 건식 스크러버(100)의 개략적인 작동은 다음과 같다. 먼저, 유입라인(130)을 통해 교반 유닛(120) 하부로 처리가스가 유입된다. 이 과정에서 처리가스는 전처리 필터(132)를 거치며 파우더 등이 여과되게 된다. 교반 유닛(120)으로 유입된 처리가스는 교반 유닛(120) 내에서 소정의 유동경로를 따라 이동되어 메인 캐니스터(110) 하부측으로 공급되게 된다. 또한, 처리가스는 메인 캐니스터(110) 내에서 상방으로 유동되면서 흡착제와 반응되어 유해성분이 흡착 제거되게 된다. 메인 캐니스터(110)를 거친 처리가스는 상부의 배출라인(140)으로 유입되어 배출구(141)를 통해 장치 외부로 배출될 수 있다.The schematic operation of the dry scrubber 100 as described above is as follows. First, the process gas flows into the lower portion of the stirring unit 120 through the inlet line 130. In this process, the process gas is filtered through the pretreatment filter 132 and the powder or the like. The process gas introduced into the agitation unit 120 is moved along the predetermined flow path in the agitation unit 120 and supplied to the lower side of the main canister 110. In addition, the process gas flows upward in the main canister 110 and reacts with the adsorbent to adsorb and remove harmful components. The process gas passing through the main canister 110 may flow into the upper discharge line 140 and be discharged to the outside of the apparatus through the discharge port 141.

이하, 도면을 참조하여 교반 유닛(120)을 비롯한 건식 스크러버(100)의 내부 구성에 대해 보다 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, the internal construction of the dry scrubber 100 including the agitation unit 120 will be described in more detail with reference to the drawings.

도 3은 도 2에 도시된 건식 스크러버(100)의 종방향 단면 사시도이다. 도시 편의를 위해, 유입라인(130), 배출라인(140), 바이패스라인(150) 등을 일부 생략하고 도시하였음을 알려둔다.3 is a longitudinal cross-sectional perspective view of the dry scrubber 100 shown in FIG. It is noted that for convenience of illustration, the inflow line 130, the discharge line 140, the bypass line 150, and the like are partially omitted.

도 3을 참조하면, 건식 스크러버(100) 내부는 메인 캐니스터(110) 및 교반 유닛(120)에 의해 크게 2개의 공간으로 구획될 수 있다. 상부는 메인 캐니스터(110) 내부 공간으로 흡착제를 통한 유해성분의 흡착 제거가 이뤄질 수 있으며, 하부는 교반 유닛(120)의 내부로 처리가스의 교반이 이뤄질 수 있다.Referring to FIG. 3, the inside of the dry scrubber 100 can be divided into two spaces by the main canister 110 and the agitation unit 120. The upper part of the main canister 110 can be adsorbed and removed through the adsorbent to the inner space of the main canister 110, and the lower part can stir the process gas into the agitation unit 120.

좀 더 구체적으로, 메인 캐니스터(110)의 내부 공간에는 흡착제가 충진될 수 있다. 이때, 필요에 따라, 흡착제는 2종 이상이 다층 구조로 적층될 수 있다. 예컨대, 도시된 바와 같이 메인 캐니스터(110) 내부는 3개의 공간(S1,S2,S3)으로 구분될 수 있으며, 각 공간(S1,S2,S3)에 상이한 종류의 흡착제가 충진될 수 있다. 즉, 메인 캐니스터(110) 내부를 상부측부터 제1 내지 3공간(S1,S2,S3)으로 지칭하면, 제1 내지 3공간(S1,S2,S3)에는 각각 제1 내지 3 흡착제가 충진될 수 있으며, 제1 내지 3흡착제는 처리가스의 종류나 성분비율 등에 따라 각각 상이한 종류로 구성될 수 있다.More specifically, the inner space of the main canister 110 may be filled with an adsorbent. At this time, two or more kinds of adsorbents may be laminated in a multi-layered structure if necessary. For example, as shown in the figure, the main canister 110 may be divided into three spaces S1, S2, and S3, and the different types of adsorbents may be filled in the spaces S1, S2, and S3. That is, when the inside of the main canister 110 is referred to as first to third spaces S1, S2, and S3 from the upper side, the first to third spaces S1, S2, and S3 are filled with the first to third adsorbents, respectively. And the first to third adsorbents may be composed of different kinds depending on the type and composition ratio of the processing gas and the like.

한편, 교반 유닛(120)은 메인 캐니스터(110) 하부에 배치될 수 있으며, 내부가 제1 내지 3공간(P1,P2,P3)으로 구획될 수 있다. 즉, 교반 유닛(120)의 내부는 하부측의 제1공간(P1)과 상부측의 제3공간(P3), 제1 및 3공간(P1,P3) 사이의 제2공간(P2)으로 구획될 수 있다. 각 공간(P1,P2,P3)에 대하여는 아래에서 도 4를 참조하여 부연키로 한다.The agitating unit 120 may be disposed below the main canister 110 and may be divided into first to third spaces P1, P2, and P3. That is, the inside of the stirring unit 120 is partitioned into the first space P1 on the lower side, the third space P3 on the upper side, and the second space P2 between the first and third spaces P1 and P3. . The spaces P1, P2, and P3 are denoted by the appendices below with reference to FIG.

도 4는 도 3에 도시된 교반 유닛(120)의 내부를 보여주는 확대도이다.4 is an enlarged view showing the inside of the stirring unit 120 shown in Fig.

도 4를 참조하면, 하부측의 제1공간(P1)에는 유입라인(130)이 연결될 수 있다. 따라서 처리가스는 교반 유닛(120)의 제1공간(P1)으로 유입될 수 있다. 제2공간(P2)은 폐쇄된 구조의 격벽(121)에 의해 제1공간(P1)과 구획될 수 있다. 따라서 제1공간(P1)으로 유입된 처리가스는 제1공간(P1) 중앙의 유통관(122)을 통해 제2공간(P2)으로 유동될 수 있게 된다. 유통관(122)에 대하여는 후술한다.Referring to FIG. 4, the inflow line 130 may be connected to the first space P1 on the lower side. Thus, the process gas can flow into the first space Pl of the stirring unit 120. [ The second space P2 can be partitioned from the first space P1 by the barrier 121 of the closed structure. The process gas flowing into the first space P1 can flow into the second space P2 through the flow pipe 122 at the center of the first space P1. The flow pipe 122 will be described later.

제2공간(P2)은 제1공간(P1)과 제3공간(P3) 사이에 배치될 수 있으며, 격벽(121)에 의해 하부측의 제1공간(P1)과 구획되고, 믹싱 디스크(123)에 의해 상부측의 제3공간(P3)과 구획될 수 있다. 제2공간(P2)에는 유통관(122)을 거쳐 나온 처리가스가 유동될 수 있으며, 처리가스의 유동 흐름을 교반시키기 위한 분배관(124)이 배치될 수 있다. 믹싱 디스크(123) 및 분배관(124)에 대하여는 후술하기로 한다.The second space P2 can be disposed between the first space P1 and the third space P3 and is partitioned by the partition wall 121 into the first space P1 on the lower side, To the third space P3 on the upper side. In the second space P2, a process gas flowing through the flow pipe 122 can flow, and a distribution pipe 124 for stirring the flow of the process gas can be disposed. The mixing disk 123 and the distribution pipe 124 will be described later.

제3공간(P3)은 교반 유닛(120) 내 최상부에 배치될 수 있으며, 믹싱 디스크(123)에 의해 하부측의 제2공간(P2)과 구획되고, 분배판(125)에 의해 상부측의 메인 캐니스터(110)와 구획될 수 있다. 제3공간(P3)에는 믹싱 디스크(123)를 거쳐 나온 처리가스가 유동될 수 있으며, 이 처리가스가 분배판(125)을 통해 메인 캐니스터(110)로 안내되게 된다. 분배판(125)은 메인 캐니스터(110)와 교반 유닛(120)의 제3공간(P3) 사이에 배치되어 처리가스를 메인 캐니스터(110) 내로 안내하는 것으로, 전면적에 걸쳐 다수의 홀이 형성된 다공판으로 형성될 수 있다.The third space P3 can be disposed at the uppermost position in the stirring unit 120 and is partitioned by the mixing disk 123 from the second space P2 on the lower side, And can be partitioned with the main canister 110. The process gas flowing through the mixing disk 123 may flow into the third space P3 and the process gas may be guided to the main canister 110 through the distribution plate 125. [ The distribution plate 125 is disposed between the main canister 110 and the third space P3 of the agitation unit 120 to guide the process gas into the main canister 110. A plurality of holes are formed over the entire surface of the main canister 110 And may be formed as a sintered plate.

한편, 본 실시예에 따른 교반 유닛(120)은 유통관(122), 분배관(124) 및 믹싱 디스크(123)를 포함할 수 있다.Meanwhile, the stirring unit 120 according to the present embodiment may include a circulation pipe 122, a distribution pipe 124, and a mixing disk 123.

유통관(122)은 제1공간(P1)과 제2공간(P2) 간에 처리가스의 유동 경로를 제공할 수 있으며, 상하로 소정길이 연장되어 격벽(121) 중앙에 관통 설치될 수 있다. 또한, 유통관(122)은 내부에 상하방향의 유로를 구비할 수 있으며, 이와 같은 유로로 처리가스를 유입시키기 위한 유통홀(122a)을 구비할 수 있다. 유통홀(122a)은 제1공간(P1)에 배치될 수 있으며, 따라서 제1공간(P1)의 처리가스는 유통홀(122a)을 통해 유통관(122) 내부로 유입되어 유통관(122)을 따라 제2공간(P2)으로 유동될 수 있다. 제2공간(P2)으로 유동된 처리가스는 후술할 분배관(124)에 의해 제2공간(P2) 내에서 배출되게 된다.The flow pipe 122 may provide a flow path of the process gas between the first space P1 and the second space P2 and may extend through a predetermined length and penetrate the center of the partition 121. In addition, the flow pipe 122 may include a vertical flow passage therein, and may include a flow-through hole 122a for introducing the process gas into the flow passage. The process gas in the first space P1 flows into the flow pipe 122 through the flow hole 122a and flows along the flow pipe 122 And can flow into the second space P2. The process gas flowing into the second space P2 is discharged in the second space P2 by the distribution pipe 124 to be described later.

또한, 유통관(122)은 길이방향 또는 상하방향을 축으로 회전 가능하도록 형성될 수 있다. 즉, 유통관(122)은 길이방향 또는 상하방향을 중심으로 격벽(121)에 대해 회전 가능하도록 격벽(121)에 관통 설치될 수 있다. 또한, 유통관(122) 하단은 유통관(122)을 회전 구동시키는 구동모터(126)와 연결될 수 있다. 즉, 유통관(122) 하단은 제1공간(P1)의 저면을 관통하여 교반 유닛(120) 외측에 구비된 구동모터(126)와 연결될 수 있으며, 구동모터(126)에 의해 유통관(122)은 길이방향 또는 상하방향을 축으로 회전 구동될 수 있다.Further, the flow pipe 122 may be formed to be rotatable about the longitudinal direction or the vertical direction. That is, the flow pipe 122 may be installed through the partition 121 so as to be rotatable about the partition 121 in the longitudinal direction or the vertical direction. The lower end of the flow pipe 122 may be connected to a drive motor 126 for rotating the flow pipe 122. That is, the lower end of the circulation pipe 122 may be connected to the driving motor 126 provided outside the stirring unit 120 through the bottom of the first space P1, and the flow pipe 122 may be connected to the driving motor 126 by the driving motor 126 And can be rotationally driven about the longitudinal direction or the vertical direction.

한편, 분배관(124)은 유통관(122) 내로 유입된 처리가스를 제2공간(P2)으로 배출시키기 위한 것으로, 유통관(122) 일측에서 연장되어 제2공간(P2)에 배치될 수 있다. 또한, 믹싱 디스크(123)는 제2공간(P2)의 처리가스가 제3공간(P3)으로 유동될 수 있도록 하는 한편, 제3공간(P3) 내에서 필터제 또는 흡착제를 혼합 교반시키게 된다. 분배관(124) 및 믹싱 디스크(123)에 대하여는 아래의 도 5 내지 8을 참조하여 부연키로 한다.The distribution pipe 124 is for discharging the process gas introduced into the flow pipe 122 into the second space P2 and may extend from one side of the flow pipe 122 and be disposed in the second space P2. In addition, the mixing disk 123 allows the process gas in the second space P2 to flow into the third space P3 while mixing the filter agent or the adsorbent in the third space P3. The distribution pipe 124 and the mixing disk 123 will be described in detail with reference to FIGS. 5 to 8 below.

도 5는 도 4에 도시된 믹싱 디스크(123) 등을 상부에서 내려다본 모습을 도시한 사시도이다. 도 6은 도 4에 도시된 믹싱 디스크(123) 등을 하부에서 올려다본 모습을 도시한 사시도이다.FIG. 5 is a perspective view showing the mixing disc 123 and the like shown in FIG. 4 as viewed from above. 6 is a perspective view showing the mixing disc 123 and the like shown in FIG.

도 5 및 6을 참조하면, 분배관(124)은 유통관(122) 일측에서 횡방향으로 소정정도 연장 형성될 수 있다. 바람직하게, 분배관(124)은 유통관(122)의 회전축에 대해 반경방향으로 연장 형성될 수 있다. 전술한 바와 같이, 이와 같은 분배관(124)은 제2공간(P2)에 배치될 수 있다.Referring to FIGS. 5 and 6, the distribution pipe 124 may extend in the lateral direction of the flow pipe 122 by a predetermined length. Preferably, the distributor tube 124 may extend radially relative to the axis of rotation of the flow tube 122. As described above, such a distribution pipe 124 can be disposed in the second space P2.

또한, 분배관(124)은 일단이 유통관(122)에 연결 설치될 수 있으며, 타단은 자유단으로 형성될 수 있다. 따라서 분배관(124)은 유통관(122)이 구동모터(126)에 의해 회전됨에 따라, 유통관(122)과 함께 제2공간(P2) 내에서 회전 구동될 수 있다.Also, one end of the distribution pipe 124 may be connected to the flow pipe 122, and the other end may be formed as a free end. The distribution pipe 124 can be rotationally driven in the second space P2 together with the flow pipe 122 as the flow pipe 122 is rotated by the drive motor 126. [

한편, 분배관(124) 내부는 처리가스의 유동을 위한 유로가 마련될 수 있다. 분배관(124)의 내부 유로는 유통관(122)에 연결된 일단에서 유통관(122)의 내부 유도로 연통될 수 있다. 다만, 자유단으로 이뤄진 분배관(124) 타단은 막힌 구조(폐쇄단)로 형성될 수 있다. 따라서 유통관(122)을 따라 상측으로 유동된 처리가스는 분배관(124)의 내부 유로를 따라 횡방향으로 유동될 수 있으며, 후술할 분배홀(124a)을 통해 제2공간(P2) 내에 배출되게 된다.Meanwhile, the inside of the distribution pipe 124 may be provided with a flow path for the flow of the process gas. The internal flow path of the distribution pipe 124 may communicate with the internal guide of the flow pipe 122 at one end connected to the flow pipe 122. However, the other end of the distribution pipe 124 having a free end may be formed as a closed structure (closed end). Therefore, the process gas flowing upward along the flow pipe 122 can flow in the lateral direction along the internal flow path of the distribution pipe 124 and can be discharged into the second space P2 through the distribution hole 124a to be described later do.

또한, 분배관(124)은 하나 이상의 분배홀(124a)을 구비할 수 있다. 바람직하게, 분배홀(124a)은 복수개가 구비될 수 있으며, 복수개의 분배홀(124a)은 분배관(124)의 길이방향을 따라 이격 배치될 수 있다. 또한, 복수개의 분배홀(124a)은 분배관(124) 하부측에 배치되어 하방으로 처리가스를 배출하도록 형성될 수 있다. 이는 제한된 공간 내에서 처리가스의 유동경로를 길게 하고, 충분한 체류시간을 확보하기 위함이다. 한편, 필요에 따라 각 분배홀(124a)은 크기가 상이하게 형성될 수 있다. 바람직하게, 각 분배홀(124a)의 크기는 분배관(124)이 연결 설치된 유통관(122)에서 멀어질수록 크게 형성될 수 있다. 또는, 각 분배홀(124a)의 크기는 유통관(122)의 회전축을 중심으로 반경 외측으로 갈수록 크게 형성될 수 있다. 이는 분배관(124)을 통해 제2공간(P2)으로 배출되는 처리가스가 중심부에 집중되지 않고, 제2공간(P2) 전체에 고르게 배출되도록 하기 위함이다.In addition, the distribution pipe 124 may have one or more distribution holes 124a. A plurality of distribution holes 124a may be provided, and a plurality of distribution holes 124a may be spaced apart along the longitudinal direction of the distribution pipe 124. [ Further, the plurality of distribution holes 124a may be disposed on the lower side of the distribution pipe 124 to discharge the process gas downward. This is to lengthen the flow path of the process gas within a limited space and ensure a sufficient residence time. On the other hand, the distribution holes 124a may be formed to have different sizes, if necessary. Preferably, the size of each distribution hole 124a may be larger as the distance from the distribution pipe 122 to which the distribution pipe 124 is connected is larger. Alternatively, the size of each distribution hole 124a may be increased toward the outside of the radius around the rotation axis of the flow pipe 122. This is for the purpose of uniformly discharging the process gas discharged into the second space P2 through the distribution pipe 124 to the entire second space P2 without being concentrated at the center.

필요에 따라, 분배관(124)은 복수개가 구비될 수 있다. 바람직하게, 복수개의 분배관(124)은 중앙의 유통관(122)을 중심으로 방사형 배치될 수 있다. 본 실시예의 경우, 2개의 분배관(124)이 유통관(122)을 중심으로 대략 180도 간격으로 배치된 경우를 예시하고 있다. 단, 분배관(124)의 개수는 필요에 따라 3개 이상의 복수개로 구성될 수 있음은 물론이다.If necessary, a plurality of distribution pipes 124 may be provided. Preferably, the plurality of distribution pipes 124 may be radially arranged around the central flow pipe 122. In this embodiment, two distribution pipes 124 are arranged at intervals of about 180 degrees with respect to the flow pipe 122. However, it is needless to say that the number of the distribution pipes 124 may be three or more.

한편, 믹싱 디스크(123)는 분배관(124) 상측에 배치되도록 유통관(122) 상부에 장착될 수 있다. 믹싱 디스크(123)는 교반 유닛(120) 내 제2공간(P2)과 제3공간(P3)을 구획할 수 있으며, 대략 원판형으로 형성되어 중심부가 유통관(122)에 체결될 수 있다. 또한, 믹싱 디스크(123)는 유통관(122)과 함께 회전될 수 있다. 즉, 구동모터(126)가 유통관(122)을 회전시키면, 유통관(122)에 장착된 분배관(124)될 수 있다. 따라서 구동모터(126)가 유통관(122)을 회전시키게 되면, 유통관(122)에 장착된 분배관(124) 및 믹싱 디스크(123)는 유통관(122)과 함께 회전될 수 있다.Meanwhile, the mixing disc 123 may be mounted on the upper portion of the distribution pipe 124 so as to be disposed above the distribution pipe 124. The mixing disk 123 can divide the second space P2 and the third space P3 in the stirring unit 120 and is formed in a substantially disk shape so that the center portion can be fastened to the circulation pipe 122. [ In addition, the mixing disk 123 may be rotated together with the flow pipe 122. That is, when the drive motor 126 rotates the flow pipe 122, it can be the distribution pipe 124 mounted on the flow pipe 122. Therefore, when the driving motor 126 rotates the circulation pipe 122, the distribution pipe 124 and the mixing disk 123 mounted on the circulation pipe 122 can be rotated together with the circulation pipe 122.

믹싱 디스크(123)의 상면에는 하나 이상의 블레이드(123b)가 구비될 수 있다. 바람직하게, 블레이드(123b)는 복수개가 구비될 수 있으며, 복수개의 블레이드(123b)는 중앙의 유통관(122)을 중심으로 방사형 배치될 수 있다. 본 실시예의 경우, 2개의 블레이드(123b)가 대략 180도 간격으로 배치된 경우를 예시하고 있다. 단, 블레이드(123b) 개수는 필요에 따라 3개 이상의 복수개로 구성될 수 있음은 물론이다.At least one blade 123b may be provided on the upper surface of the mixing disk 123. [ Preferably, the plurality of blades 123b may be provided, and the plurality of blades 123b may be radially arranged around the central flow pipe 122. [ In the case of this embodiment, two blades 123b are arranged at intervals of about 180 degrees. However, it is needless to say that the number of the blades 123b may be three or more.

블레이드(123b)는 믹싱 디스크(123)의 중심부로부터 반경방향으로 소정길이 연장 형성될 수 있다. 이러한 블레이드(123b)는 믹싱 디스크(123)의 상면으로부터 돌출 형성될 수 있다. 보다 바람직하게, 블레이드(123b)는 대략 'ㄱ'자로 꺾은선 형태의 횡단면을 가지고, 믹싱 디스크(123)의 반경방향을 따라 연장 형성될 수 있다. 이와 같은 블레이드(123b)는 믹싱 디스크(123)가 회전됨에 따라, 제3공간(P3) 내에서 처리가스와 흡착제 또는 필터제를 혼합 교반시키게 된다. 부연하면, 제3공간(P3)에는 필요에 따라 처리가스 중의 파우더 등 이물질을 제거하기 위해 흡착제 또는 필터제가 충진될 수 있으며, 이와 같은 파우더 등이 고착되어 막힘 현상이 발생될 수 있다. 따라서 본 실시예의 경우, 블레이드(123b)를 통해 이를 혼합 교반시킴으로써, 막힘 현상 등을 방지하게 된다.The blade 123b may be formed by extending a predetermined length in the radial direction from the center of the mixing disk 123. [ The blades 123b may protrude from the upper surface of the mixing disk 123. [ More preferably, the blade 123b may have a cross-sectional shape substantially in the shape of a "? &Quot; and may extend along the radial direction of the mixing disk 123. [ As the mixing disk 123 is rotated, the blade 123b mixes and agitates the process gas and the adsorbent or filter agent in the third space P3. In addition, an adsorbent or a filter may be filled in the third space P3 in order to remove foreign substances such as powder in the process gas as needed, and the powder or the like may be adhered to the third space P3 to cause clogging. Therefore, in the case of the present embodiment, it is mixed and stirred through the blade 123b to prevent clogging.

한편, 믹싱 디스크(123)에는 복수의 미세홀(123a)이 형성될 수 있다. 미세홀(123a)은 처리가스의 유동을 위한 것으로, 분배관(124)을 통해 제2공간(P2)으로 배출된 처리가스는 복수의 미세홀(123a)을 통해 제3공간(P3)으로 유입되게 된다.On the other hand, a plurality of fine holes 123a may be formed in the mixing disk 123. The fine holes 123a are for the flow of the process gas and the process gas discharged into the second space P2 through the distribution pipe 124 flows into the third space P3 through the plurality of fine holes 123a .

또한, 믹싱 디스크(123)는 필요에 따라 탈착 가능하도록 형성될 수 있다. 즉, 믹싱 디스크(123)는 유통관(122)으로부터 분리 및 결합 가능하게 유통관(122)과 체결될 수 있다. 이는 제3공간(P3)에 흡착제나 필터제의 충진이 필요 없는 경우, 믹싱 디스크(123)를 분리하고, 유통관(122) 및 분배관(124)을 통해서만 처리가스를 메인 캐니스터(110)로 공급할 수 있도록 하기 위함이다.Further, the mixing disc 123 may be formed to be detachable as required. That is, the mixing disk 123 can be coupled to the flow pipe 122 so as to be detachable from and coupled to the flow pipe 122. This is because if the third space P3 does not require filling of the adsorbent or the filter agent, the mixing disk 123 is separated and the process gas is supplied to the main canister 110 only through the flow pipe 122 and the distribution pipe 124 In order to make it possible.

도 7은 도 5 및 6에 도시된 믹싱 디스크(123) 등의 다른 실시예를 보여주는 사시도이다. 도 8은 도 7에 도시된 믹싱 디스크(123-1) 등을 하부에서 올려다본 모습을 도시한 사시도이다.7 is a perspective view showing another embodiment such as the mixing disk 123 shown in Figs. 5 and 6. Fig. FIG. 8 is a perspective view illustrating the mixing disc 123-1 and the like shown in FIG. 7 as viewed from below.

도 7 및 8은 전술한 믹싱 디스크(123)의 다른 실시예를 도시하고 있다. 이를 참고하면, 본 실시예에 따른 믹싱 디스크(123-1)는 원판형으로 형성되어 유통관(122-1) 상단에 체결될 수 있다. 이는 전술한 믹싱 디스크(123)와 유사하다.Figures 7 and 8 illustrate another embodiment of the mixing disc 123 described above. Referring to this, the mixing disc 123-1 according to the present embodiment may be formed in a disc shape and may be fastened to the upper end of the flow pipe 122-1. This is similar to the mixing disc 123 described above.

또한, 본 실시예에 따른 믹싱 디스크(123-1)는 복수의 미세홀(123a-1)을 구비할 수 있다. 이때, 복수의 미세홀(123a-1)은 믹싱 디스크(123-1)의 반경 방향으로 배치될 수 있다. 보다 바람직하게, 복수의 미세홀(123a-1)은 믹싱 디스크(123-1) 하측에 배치된 분배관(124-1)의 길이방향에 대응되도록 배치될 수 있다. 예컨대, 도시된 바와 같이, 각각 반경방향으로 연장 형성된 2개의 분배관(124-1)이 대략 180도 간격으로 배치된 경우, 믹싱 디스크(123-1)에 마련된 복수의 미세홀(123a-1)은 2개의 분배관(124-1) 위치에 대응되도록 믹싱 디스크(123-1)의 직경 방향을 따라 배치될 수 있다. 이는 처리가스의 상당수가 분배관(124-1) 인근에 배치된 미세홀(123a-1)을 통해 유동되는 점을 감안한 것이다. 또한, 이와 같이 믹싱 디스크(123-1) 전체가 아닌 반경 방향에 걸쳐 복수의 미세홀(123a-1)이 분포됨으로써, 후술할 나선형의 유동 흐름이 좀 더 잘 조성되는 이점도 가지게 된다.Also, the mixing disk 123-1 according to the present embodiment may have a plurality of fine holes 123a-1. At this time, the plurality of fine holes 123a-1 may be arranged in the radial direction of the mixing disk 123-1. More preferably, the plurality of fine holes 123a-1 may be arranged to correspond to the longitudinal direction of the distribution pipe 124-1 disposed below the mixing disk 123-1. For example, as shown in the drawing, when two distribution tubes 124-1 extending in the radial direction are arranged at intervals of about 180 degrees, a plurality of fine holes 123a-1 provided in the mixing disk 123-1, May be disposed along the radial direction of the mixing disk 123-1 so as to correspond to the positions of the two distribution pipes 124-1. This is because a considerable number of process gases flow through the fine holes 123a-1 disposed near the distribution pipe 124-1. In addition, since the plurality of fine holes 123a-1 are distributed in the radial direction rather than the entire mixing disk 123-1, the spiral flow flow described later is further improved.

한편, 본 실시예에 따른 믹싱 디스크(123-1) 또는 하나 이상의 블레이드(123b-1)를 구비할 수 있다. 단, 본 실시예의 경우, 전술한 실시예와 비교하여 블레이드(123b-1)의 형상이 상이하게 형성될 수 있다. 즉, 본 실시예에 따른 블레이드(123b-1)는 대략 'V'자 형상의 횡단면을 가지고, 믹싱 디스크(123-1) 상면으로부터 상측으로 소정길이 연장 형성될 수 있다. 한편, 이와 같은 경우에도 블레이드(123b-1)는 복수개가 구비될 수 있으며, 본 실시예의 경우, 총 4개의 블레이드(123b-1)가 구비된 경우를 예시하고 있다. 단, 블레이드(123b-1)의 개수나 위치는 필요에 따라 변경될 수 있음은 물론이다.Meanwhile, the mixing disk 123-1 or one or more blades 123b-1 according to the present embodiment may be provided. However, in the case of this embodiment, the shape of the blade 123b-1 may be different from that of the above-described embodiment. That is, the blade 123b-1 according to the present embodiment has a substantially V-shaped cross section and may be formed by extending a predetermined length upward from the upper surface of the mixing disk 123-1. In this case, a plurality of blades 123b-1 may be provided. In this embodiment, a total of four blades 123b-1 are provided. However, it goes without saying that the number and position of the blades 123b-1 may be changed as needed.

한편, 본 실시예에 있어서, 유통관(122-1) 및 분배관(124-1)은 전술한 실시예의 유통관(122) 및 분배관(124)과 유사하게 형성될 수 있으므로, 이에 대한 상세한 설명은 생략키로 한다.In the present embodiment, the flow pipe 122-1 and the distribution pipe 124-1 can be formed similarly to the flow pipe 122 and the distribution pipe 124 of the embodiment described above, It is assumed to be omitted key.

이상과 같은 건식 스크러버(100)의 개략적인 작동에 대해 설명하면 다음과 같다.The schematic operation of the dry scrubber 100 as described above will be described as follows.

먼저, 처리가스가 유입라인(130)을 따라 교반 유닛(120) 하부의 제1공간(P1)으로 유입된다. 또한, 제1공간(P1)의 처리가스는 유통홀(122a)을 통해 유통관(122)으로 유입된다. 이때, 유통관(122), 분배관(124) 및 믹싱 디스크(123)는 구동모터(126)에 의해 유통관(122)을 축으로 회전될 수 있다. 따라서 유통홀(122a)은 유통관(122)이 회전됨에 따라 제1공간(P1)의 각 방향에서 처리가스를 유입시키게 된다.First, the process gas flows into the first space P1 below the agitation unit 120 along the inflow line 130. At this time, In addition, the process gas in the first space P1 flows into the flow pipe 122 through the flow hole 122a. At this time, the flow pipe 122, the distribution pipe 124, and the mixing disk 123 can be rotated around the flow pipe 122 by the drive motor 126. Accordingly, the flow-through hole 122a flows the process gas in each direction of the first space P1 as the flow-through pipe 122 rotates.

유통관(122)으로 유입된 처리가스는 유통관(122)을 따라 제2공간(P2)으로 유동될 수 있으며, 분배관(124)으로 유입된 후, 각 분배홀(124a)을 통해 제2공간(P2) 내 배출되게 된다. 이때, 분배관(124)은 반경 방향으로 연장되어, 유통관(122)을 중심으로 회전되고 있는 상태로 처리가스를 배출할 수 있으며, 복수의 분배홀(124a)이 분배관(124)의 길이방향을 따라 배치되어, 길이방향의 각 위치에서 처리가스가 배출되게 된다. 따라서 처리가스는 제2공간(P2) 전체에 걸쳐 고르게 배출될 수 있다.The process gas introduced into the distribution pipe 122 can flow into the second space P2 along the distribution pipe 122 and flows into the distribution pipe 124 and then flows through the distribution holes 124a into the second space P2 P2. At this time, the distribution pipe 124 extends in the radial direction to discharge the process gas while being rotated around the flow pipe 122, and a plurality of distribution holes 124a are formed in the longitudinal direction of the distribution pipe 124 So that the process gas is discharged at each position in the longitudinal direction. Therefore, the process gas can be evenly discharged throughout the second space P2.

또한, 상기와 같이 분배관(124)이 회전되는 상태로 처리가스가 배출됨에 따라, 처리가스는 일종의 나선형 유동 흐름을 형성할 수 있다. 즉, 분배관(124)을 통해 배출된 처리가스는 상측으로 올라가면서 회전 관성에 의해 대략 나선형의 유동 경로를 형성할 수 있다. 이는 처리가스의 유동 경로를 길게 하여 메인 캐니스터(110) 등에서 충분한 체류시간을 가질 수 있게 하는 이점이 있다. 또한, 처리가스가 나선형 유동됨으로 인해, 메인 캐니스터(110) 등의 전체 면적에 걸쳐 고른 유동 흐름이 조성될 수 있으며, 이로 인해, 충진된 전체 흡착제가 고르게 처리가스와 반응하여 처리 효율이 개선될 수 있다.Further, as the processing gas is discharged in a state in which the distribution pipe 124 is rotated as described above, the processing gas can form a kind of spiral flow flow. In other words, the process gas discharged through the distribution pipe 124 can form a substantially helical flow path by the rotation inertia while moving upward. This is advantageous in that the flow path of the process gas is lengthened so that a sufficient residence time can be obtained in the main canister 110 or the like. In addition, due to the spiral flow of the process gas, a uniform flow flow over the entire area of the main canister 110, etc. can be created, thereby allowing the entire filled adsorbent to evenly react with the process gas, have.

한편, 분배관(124)을 통해 제2공간(P2)의 배출된 처리가스는 믹싱 디스크(123)의 미세홀(123a)을 거쳐 제3공간(P3)으로 유동된다. 또한, 처리가스는 제3공간(P3) 내에서 흡착제에 의해 전처리되거나 필터제에 의해 파우더 등의 이물질이 제거된 후, 분배판(125)을 통해 메인 캐니스터(110)로 유입되게 된다. 메인 캐니스터(110) 내에서는 충진된 흡착제와 처리가스가 반응하여 유해성분이 흡착 제거될 수 있으며, 흡착 처리가 완료된 처리가스는 메인 캐니스터(110) 상단에서 배출라인(140)을 통해 외부로 배출되게 된다. 이와 같은 과정에서 처리가스는 하부의 교반 유닛(120)에 의해 상측을 향해 나선형의 경로를 그리며 유동하게 됨은 전술한 바와 같다.The process gas discharged from the second space P2 through the distribution pipe 124 flows into the third space P3 through the fine holes 123a of the mixing disk 123. [ In addition, the process gas is pre-treated in the third space P3 by the adsorbent, or foreign substances such as powder are removed by the filter agent, and then flows into the main canister 110 through the distribution plate 125. [ In the main canister 110, the charged adsorbent reacts with the process gas to adsorb and remove harmful components, and the process gas, which has been adsorbed, is discharged from the upper end of the main canister 110 through the discharge line 140 . In this process, the processing gas flows along the path of the spiral toward the upper side by the lower stirring unit 120 as described above.

이상에서 설명한 바, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 메인 캐니스터(110) 하측의 교반 유닛(120)을 통해 처리가스에 나선형의 유동 흐름을 조성하여 메인 캐니스터(110)로 제공하게 된다. 따라서 처리가스가 메인 캐니스터(110)의 전면적에 걸쳐 고르게 유동될 수 있으며, 전체 흡착제와 고르게 반응될 수 있다. 이로 인해, 본 실시예에 따른 건식 스크러버(100)는 장치의 처리효율을 향상시킬 수 있으며, 전체 흡착제가 고르게 반응됨에 따라 흡착제의 바람직한 교체시기 또한 연장할 수 있게 된다.As described above, the dry scrubber 100 according to the present embodiment forms a spiral flow flow in the process gas through the agitating unit 120 under the main canister 110 and provides the spiral flow to the main canister 110. Thus, the process gas can flow evenly over the entire area of the main canister 110 and can be evenly reacted with the entire adsorbent. As a result, the dry scrubber 100 according to the present embodiment can improve the treatment efficiency of the apparatus, and the desired period of replacement of the adsorbent can be extended as the entire adsorbent is evenly reacted.

이상, 본 발명의 실시예들에 대하여 설명하였으나, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서, 구성 요소의 부가, 변경, 삭제 또는 추가 등에 의해 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있을 것이며, 이 또한 본 발명의 권리범위 내에 포함된다고 할 것이다.While the present invention has been particularly shown and described with reference to exemplary embodiments thereof, many modifications and changes may be made by those skilled in the art without departing from the spirit and scope of the invention as defined in the appended claims. The present invention can be variously modified and changed by those skilled in the art, and it is also within the scope of the present invention.

100: 건식 스크러버 110: 메인 캐니스터
120: 교반 유닛 130: 유입라인
140: 배출라인 150: 바이패스라인100: dry scrubber 110: main canister
120: stirring unit 130: inflow line
140: discharge line 150: bypass line

Claims (5)

흡착제가 충진되는 메인 캐니스터(110);
상기 메인 캐니스터(110) 하부에 배치되는 교반 유닛(120);
상기 교반 유닛(120)으로 처리가스를 안내하는 유입라인(130); 및
상기 메인 캐니스터(110) 상부에 연결되어 처리가스를 장치 외부로 안내하는 배출라인(140);을 포함하며,
상기 교반 유닛(120)은,
유통홀(122a)을 구비하고, 상하방향으로 소정정도 연장 형성되며, 상하방향을 축으로 회전 가능하도록 형성된 유통관(122);
상기 유통관(122)을 회전시키는 구동모터(126); 및
상기 유통관(122) 일측에서 횡방향으로 소정정도 연장 형성되어 상기 유통관(122)과 함께 회전되며, 길이방향을 따라 이격 배치된 복수의 분배홀(124a)을 구비하는 분배관(124);을 포함하는 건식 스크러버.A main canister (110) filled with an adsorbent;
A stirring unit 120 disposed under the main canister 110;
An inlet line (130) for guiding the process gas to the stirring unit (120); And
And a discharge line (140) connected to an upper portion of the main canister (110) to guide the process gas to the outside of the apparatus,
The stirring unit (120)
A flow pipe 122 provided with a flow-through hole 122a, extending in the vertical direction by a predetermined length and formed to be rotatable about the vertical direction;
A drive motor 126 for rotating the circulation pipe 122; And
And a distribution pipe 124 extending from the one side of the flow pipe 122 to a predetermined length in the lateral direction and rotating together with the flow pipe 122 and having a plurality of distribution holes 124a spaced apart from each other in the longitudinal direction Dry scrubber. 청구항 1에 있어서,
상기 교반 유닛(120)은,
처리가스가 유입되는 제1공간(P1); 및
상기 제1공간(P1) 상측에 배치되어 격벽(121)에 의해 상기 제1공간(P1)과 구획되는 제2공간(P2);을 포함하며,
상기 유통관(122)은, 상기 유통홀(122a)이 상기 제1공간(P1)에 배치되도록 상기 격벽(121)에 관통 설치되고,
상기 분배관(124)은, 상기 제2공간(P2)에 배치되며,
상기 분배관(124)을 통해 배출된 처리가스는, 상측을 향해 나선형의 유동 경로를 형성하는 건식 스크러버.The method according to claim 1,
The stirring unit (120)
A first space (P1) into which the process gas flows; And
And a second space (P2) disposed above the first space (P1) and partitioned from the first space (P1) by a partition wall (121)
The flow pipe 122 is installed through the partition 121 so that the flow hole 122a is disposed in the first space P1,
The distribution pipe 124 is disposed in the second space P2,
Wherein the process gas discharged through the distribution pipe (124) forms a spiral flow path toward the upper side. 청구항 1에 있어서,
상기 교반 유닛(120)은,
상기 분배관(124) 상측에 배치되도록 상기 유통관(122) 상부에 체결되며, 상기 유통관(122)과 함께 회전되는 믹싱 디스크(123, 123-1);를 더 포함하며,
상기 믹싱 디스크(123, 123-1)는,
처리가스의 유동 경로를 제공하는 복수의 미세홀(123a, 123a-1); 및
상면에 구비되는 하나 이상의 블레이드(123b, 123b-1);를 포함하는 건식 스크러버.The method according to claim 1,
The stirring unit (120)
And a mixing disc 123 and 123-1 fastened to the upper portion of the distribution pipe 122 and rotated together with the distribution pipe 122 so as to be disposed above the distribution pipe 124,
The mixing discs 123 and 123 -
A plurality of fine holes (123a, 123a-1) for providing a flow path of the process gas; And
And at least one blade (123b, 123b-1) provided on the upper surface. 청구항 3에 있어서,
상기 교반 유닛(120)은,
처리가스가 유입되는 제1공간(P1);
상기 제1공간(P1) 상측에 배치되어 격벽(121)에 의해 상기 제1공간(P1)과 구획되며, 상기 분배관(124)이 배치되는 제2공간(P2); 및
상기 제2공간(P2) 상측에 배치되어 상기 믹싱 디스크(123, 123-1)에 의해 상기 제2공간(P2)과 구획되는 제3공간(P3);를 포함하며,
상기 복수의 미세홀(123a-1)은, 상기 분배관(124)의 길이방향에 대응되도록 상기 믹싱 디스크(123-1)의 반경방향을 따라 배치되는 건식 스크러버.The method of claim 3,
The stirring unit (120)
A first space (P1) into which the process gas flows;
A second space P2 disposed above the first space P1 and partitioned by the partition 121 from the first space P1 and in which the distribution tube 124 is disposed; And
And a third space (P3) disposed above the second space (P2) and partitioned from the second space (P2) by the mixing disc (123, 123-1)
The plurality of fine holes 123a-1 are disposed along the radial direction of the mixing disk 123-1 so as to correspond to the longitudinal direction of the distribution pipe 124. [ 청구항 1에 있어서,
상기 분배관(124)은, 복수개를 포함하되,
상기 복수개의 분배관(124)은 상기 유통관(122)을 중심으로 방사형 배치되며,
상기 복수의 분배홀(124a)은, 상기 유통관(122)에서 멀어질수록 크기가 크게 형성되는 건식 스크러버.
The method according to claim 1,
The distribution pipe (124) includes a plurality of pipes,
The plurality of distribution pipes 124 are radially arranged around the flow pipe 122,
Wherein the plurality of distribution holes (124a) are formed to be larger in size as the distance from the flow pipe (122) increases.
KR1020160078350A 2016-06-23 2016-06-23 Dry scrubber KR101806170B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160078350A KR101806170B1 (en) 2016-06-23 2016-06-23 Dry scrubber

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020160078350A KR101806170B1 (en) 2016-06-23 2016-06-23 Dry scrubber

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101806170B1 true KR101806170B1 (en) 2017-12-07

Family

ID=60920502

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160078350A KR101806170B1 (en) 2016-06-23 2016-06-23 Dry scrubber

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101806170B1 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200065288A (en) 2018-11-30 2020-06-09 (주)에프테크 Exhaust gas measuring system and apparatus based on monitoring of operating state about processing of exhaust gas
KR102190214B1 (en) 2020-09-24 2020-12-11 씨에스케이(주) Apparatus for collecting powder in exhaust gas having increased capacity of powder collection and exhaust gas treatment equipment with the same
KR102208983B1 (en) 2020-09-24 2021-01-27 씨에스케이(주) Apparatus for collecting powder in exhaust gas having filter dust removal function and exhaust gas treatment equipment with the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200065288A (en) 2018-11-30 2020-06-09 (주)에프테크 Exhaust gas measuring system and apparatus based on monitoring of operating state about processing of exhaust gas
KR102190214B1 (en) 2020-09-24 2020-12-11 씨에스케이(주) Apparatus for collecting powder in exhaust gas having increased capacity of powder collection and exhaust gas treatment equipment with the same
KR102208983B1 (en) 2020-09-24 2021-01-27 씨에스케이(주) Apparatus for collecting powder in exhaust gas having filter dust removal function and exhaust gas treatment equipment with the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101806170B1 (en) Dry scrubber
ES2628621T3 (en) Method to remove contaminants from exhaust gases by adding ozone
JP4907005B2 (en) Method for purifying exhaust gas by photocatalysis and plant for carrying out said method
US20160339388A1 (en) Volatile Organic Compound Removal System Using Microwaves
CN102451610B (en) Treatment method for nitrogen oxide tail gas discharged from industrial production furnace, and apparatus thereof
CN105771600B (en) The method and device that plant ash slurries remove multi-pollutant integration in tail gas
KR101591849B1 (en) Washer type deodorizing apparatus
CN105688634A (en) Desulfuration device based on spiral gas-liquid mixing and rotational flow gas-liquid separating principle
KR101997185B1 (en) Liquid Cleaning Deodorant Device Using Catalyst Oxidation Water
KR20180041352A (en) Multi-cyclone scrubber
JP2019531881A (en) Flue gas denitration method
JP3020948B1 (en) Adsorption type gas scrubber for treating gas generated during semiconductor manufacturing
EP3656455A1 (en) System for removing vocs using gas distribution plate
HU223032B1 (en) Smoke gas purification device
KR20170002870A (en) Selective Catalytic Reduction Device Using Regenerative Heat Recovery System
KR20140073280A (en) Exhausy gas purifying apparatus for a ship
CN110685828A (en) Evaporated fuel treatment device
KR100484256B1 (en) Gas and liquid mixing apparatus using jet loop reaction
JP2012040479A (en) Wastewater treatment system
CN113856390B (en) Multiple treatment purifier for organic waste gas of chemical plant
CN109069981B (en) Adsorption treatment device
CN108543403B (en) Activated carbon adsorption tower system and SOx/NOx control system
CN115029163A (en) Blast furnace gas sulfur recovery device and system
KR100456911B1 (en) Apparatus for Removal with Hazardous Gas for Semi-Dry Scrubber
KR101766733B1 (en) Scrubber

Legal Events

Date Code Title Description
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant